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JP2003322869A - Liquid crystal display of ultra-high aperture ratio and wide visual field angle - Google Patents

Liquid crystal display of ultra-high aperture ratio and wide visual field angle

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Publication number
JP2003322869A
JP2003322869A JP2002179226A JP2002179226A JP2003322869A JP 2003322869 A JP2003322869 A JP 2003322869A JP 2002179226 A JP2002179226 A JP 2002179226A JP 2002179226 A JP2002179226 A JP 2002179226A JP 2003322869 A JP2003322869 A JP 2003322869A
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JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
side substrate
film transistor
thin film
slit
Prior art date
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Application number
JP2002179226A
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Japanese (ja)
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JP4373052B2 (en
Inventor
Naoto Hirota
直人 広田
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OOBAYASHI SEIKO KK
Original Assignee
OOBAYASHI SEIKO KK
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Publication date
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Application filed by OOBAYASHI SEIKO KK filed Critical OOBAYASHI SEIKO KK
Priority to JP2002179226A priority Critical patent/JP4373052B2/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active matrix liquid crystal display actualizing high- quality images which are free of color shifting and gradation inversion, are high in bright contrast and hardly give rise to after images. <P>SOLUTION: The active matrix liquid crystal display device is formed by boring slender slit holes in pixel electrodes on an active matrix substrate side, in which the intersection angle of the alignment direction of negative dielectric constant anisotropic liquid crystals and the major axis direction of the holes of the slits exists in the relation of 60°≤θ<90° (where θ is a range of 0°≤θ<90°). The negative dielectric constant anisotropic liquid crystals are held by the pixel electrodes bored with a plurality of the holes of the slits and color filter layers formed with a transparent conductive film over the entire surface. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、低コストで広視野角、
高画質、高信頼性、高歩留りを実現できるアクティブマ
トリックス型液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has a low cost and a wide viewing angle.
The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device capable of realizing high image quality, high reliability and high yield.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のアクティブマトリックス型液晶表
示装置の一方の基板上に形成した櫛歯状電極対を用いて
液晶組成物層に横方向から基板に水平な方向に電界を印
加する方式(IPS方式)が、特開平7−36058号
や特開平7−159786号公報により提案されてい
る。図32がIPS方式(インプレーン スイッチング
方式)の櫛歯状電極対の断面図である電極対が互いにシ
ョートしないように形成する層を変えており絶縁膜によ
り層分離されている。一般的には、走査線と映像信号配
線を形成する時にそれぞれ異なる櫛歯状電極を同時に形
成することで製造工程数を大幅に削減している。そのた
め櫛歯状電極は光の透過しない金属が用いられている。
走査線は抵抗を低減するために膜厚が厚く櫛歯状電極の
膜厚も同様に厚く形成されていた。
2. Description of the Related Art A method of applying an electric field from a lateral direction to a liquid crystal composition layer in a horizontal direction to a substrate by using a comb-teeth-shaped electrode pair formed on one substrate of a conventional active matrix type liquid crystal display device (IPS). Method) has been proposed in JP-A-7-36058 and JP-A-7-159786. FIG. 32 is a cross-sectional view of an IPS (in-plane switching) comb-teeth-shaped electrode pair. Layers formed so that the electrode pairs are not short-circuited are changed and separated by an insulating film. Generally, the number of manufacturing steps is significantly reduced by simultaneously forming different comb-teeth electrodes when forming the scanning lines and the video signal wirings. Therefore, a metal that does not transmit light is used for the comb-shaped electrodes.
The scanning line had a large film thickness in order to reduce the resistance, and the comb-teeth-shaped electrode had a large film thickness as well.

【0003】IPS方式とは異なるフリンジフィールド
駆動方式が特開2000−089255や特開2000
−347220や特開2001−056476により提
案されている。図1と図3がフリンジフィールド駆動方
式液晶パネルの平面図と断面図である。図3の断面図に
あるように透明導電体からなる共通電極の上に絶縁層を
かいして液晶駆動電極が形成されている。光の透過率を
向上させるには、液晶駆動電極も透明導電体で形成しな
ければならない。アクティブマトリックス基板に対向す
るカラーフィルター基板の液晶層と接する面にはIPS
方式と同様に透明導電膜はない。外部電界に対するシー
ルド効果を持たせるためにカラーフィルター基板の裏面
に透明導電膜を形成している。
A fringe field driving method different from the IPS method is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-089255 and Japanese Patent Laid-Open No. 2000-89255.
-347220 and Japanese Patent Laid-Open No. 2001-056476. 1 and 3 are a plan view and a sectional view of a fringe field driving type liquid crystal panel. As shown in the sectional view of FIG. 3, a liquid crystal driving electrode is formed on a common electrode made of a transparent conductor with an insulating layer interposed therebetween. In order to improve the light transmittance, the liquid crystal driving electrode should also be formed of a transparent conductor. The surface of the color filter substrate facing the active matrix substrate, which is in contact with the liquid crystal layer, has an IPS
As in the method, there is no transparent conductive film. A transparent conductive film is formed on the back surface of the color filter substrate to have a shield effect against an external electric field.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来のIPS型液晶表
示装置では図32にあるように櫛歯電極の厚みが厚く従
来のラビング布を用いるラビング配向処理では均一なラ
ビング処理をおこなうことが難かしく表示ムラや光ぬけ
が生じやすく歩留りが非常に悪るかった。さらに櫛歯電
極が非透明であるため、光の透過率が低く、明るい表示
画面を得るためには、バックライトのパワーを大きくし
て輝度をかせがなければならずシステム全体の消費電力
が増大してしまうという問題をかかえていた。
In the conventional IPS type liquid crystal display device, as shown in FIG. 32, it is difficult to perform uniform rubbing treatment in the conventional rubbing alignment treatment using a rubbing cloth because the comb-teeth electrodes are thick. Display unevenness and light leakage were likely to occur, and the yield was very poor. Furthermore, since the comb-teeth electrodes are non-transparent, the light transmittance is low, and in order to obtain a bright display screen, the power of the backlight must be increased to increase the brightness, increasing the power consumption of the entire system. I had the problem of doing it.

【0005】従来のフリンジフィールド駆動方式液晶表
示装置では、図3にあるように上下の画素電極に透明導
電体を用いることで、透過率を向上できるが、薄膜トラ
ンジスタ製造工程が複雑になり歩留りが低下してしまい
大幅なコストアップになってしまうという問題があっ
た。
In the conventional fringe field driving type liquid crystal display device, by using transparent conductors for the upper and lower pixel electrodes as shown in FIG. 3, the transmittance can be improved, but the thin film transistor manufacturing process becomes complicated and the yield is reduced. However, there was a problem that the cost was significantly increased.

【0006】さらに従来のフリンジフィールド駆動方式
では、図30にあるようにBの領域の電界を利用して液
晶分子を駆動するために図31にあるように駆動電圧が
IPS方式とくらべて増大してしまう欠点があった。
Further, in the conventional fringe field driving method, the driving voltage is increased as compared with the IPS method as shown in FIG. 31 in order to drive the liquid crystal molecules by utilizing the electric field in the region B as shown in FIG. There was a drawback that

【0007】本発明は、上記の問題を解決するものであ
り、従来のTNモードの液晶パネルとほぼ同じ構造と電
極材料を用いることができるため、対向側基板及び薄膜
トランジスタ側基板の画素電極を透明導電体で形成し透
過率を向上させることができると共に、横電界方式の液
晶表示装置と同一の動作をすることができる液晶表示装
置を安価に歩留り良く製造することを目的とする。
The present invention solves the above-mentioned problems, and since it can use almost the same structure and electrode material as the conventional TN mode liquid crystal panel, the pixel electrodes of the counter side substrate and the thin film transistor side substrate are transparent. An object of the present invention is to manufacture a liquid crystal display device which can be formed of a conductor to improve the transmittance and can perform the same operation as that of a horizontal electric field type liquid crystal display device at low cost with high yield.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決し上記目
的を達成するために、本発明は、下記の手段を用いる。
In order to solve the above problems and achieve the above object, the present invention uses the following means.

【0009】〔手段1〕薄膜トランジスタ側基板と、こ
の薄膜トランジスタ側基板に対向する対向側基板と、前
記対向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持
された負の誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板
の薄膜トランジスタ側基板との対向面には透明な導電体
電極が形成され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側
基板との対向面には、複数本のスリット状のパターンが
形成された透明な画素電極があり、前記スリットパター
ンの長軸方向と、負の誘電率異方性液晶の配向方向の交
差角が90度をのぞく60度から90度の範囲(ただし
交差角θは0度≦θ≦90度に限定する)にあるように
配置した。
[Means 1] A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate. Then, a transparent conductor electrode is formed on the surface of the counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a plurality of slit-shaped patterns are formed on the surface of the thin film transistor side substrate facing the counter side substrate. Transparent pixel electrodes, and the crossing angle between the major axis direction of the slit pattern and the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is in the range of 60 degrees to 90 degrees (where crossing angle θ is 0 Angle is limited to θ ≦ 90 °).

【0010】〔手段2〕手段1において、負の誘電率異
方性液晶の配向方向が、薄膜トランジスタ基板の映像信
号配線と、ほぼ平行になるようにした。
[Means 2] In the means 1, the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is set to be substantially parallel to the video signal wiring of the thin film transistor substrate.

【0011】〔手段3〕手段1において、負の誘電率異
方性液晶の配向方向が、薄膜トランジスタ基板の走査線
と、ほぼ平行になるようにした。
[Means 3] In means 1, the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is set to be substantially parallel to the scanning line of the thin film transistor substrate.

【0012】〔手段4〕薄膜トランジスタ側基板と、こ
の薄膜トランジスタ側基板に対向する対向側基板と、前
記対向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持
された負の誘電率異方性液晶とを有し、前記薄膜トラン
ジスタ側基板の対向側基板との対向面には、透明な画素
電極が形成され、前記対向側基板の薄膜トランジスタ側
基板の透明画素電極と対向する面には、複数本のスリッ
ト状のパターンが形成された透明な共通電極があり、前
記共通電極のスリットパターンの長軸方向と、負の誘電
率異方性液晶の配向方向の交差角が90度をのぞく60
度から90度の範囲にあるようにした。
[Means 4] A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate. Then, a transparent pixel electrode is formed on a surface of the thin film transistor side substrate facing the opposite side substrate, and a plurality of slit-shaped is formed on a surface of the counter side substrate facing the transparent pixel electrode of the thin film transistor side substrate. There is a transparent common electrode on which a pattern is formed, and the crossing angle between the major axis direction of the slit pattern of the common electrode and the alignment direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is 90 degrees except 60.
The range is from 90 degrees to 90 degrees.

【0013】〔手段5〕手段4において、負の誘電率異
方性液晶の配向方向が映像信号配線と、ほぼ平行になる
ようにした。
[Means 5] In means 4, the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is set to be substantially parallel to the video signal wiring.

【0014】〔手段6〕手段4において、負の誘電率異
方性液晶の配向方向が走査線とほぼ平行になるようにし
た。
[Means 6] In the means 4, the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is set to be substantially parallel to the scanning line.

【0015】〔手段7〕薄膜トランジスタ側基板と、こ
の薄膜トランジスタ側基板に対向する対向側基板と、前
記対向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持
された負の誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板
の薄膜トランジスタ側基板との対向面には透明な導電体
電極が形成され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側
基板との対向面には、複数本の直線状スリットパターン
が形成された透明な画素電極があり、前記スリットパタ
ーンの長軸方向と、負の誘電率異方性液晶の配向方向と
の交差角が90度をのぞく60度から90度の範囲にあ
り、かつ1画素内で負の誘電率異方性液晶分子の回転運
動方向が左回り右回りの異なる2方向の回転運動が可能
で、異なる回転運動するそれぞれの領域の面積が1画素
内でほぼ等しくなるようにした。
[Means 7] A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate. Then, a transparent conductor electrode is formed on a surface of the counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a plurality of linear slit patterns are formed on a surface of the thin film transistor side substrate facing the counter side substrate. Transparent pixel electrodes, the crossing angle between the major axis direction of the slit pattern and the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is in the range of 60 to 90 degrees except 90 degrees, and one pixel The liquid crystal molecules with negative dielectric anisotropy can rotate in two different directions, that is, the direction of rotation of the liquid crystal molecule is counterclockwise and the direction of rotation is different. It was so.

【0016】〔手段8〕薄膜トランジスタ側基板とこの
薄膜トランジスタ側基板に対向する対向側基板と前記対
向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持され
た負の誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板の薄
膜トランジスタ側基板との対向面には透明な導電体電極
が形成され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側基板
との対向面には、複数本の屈曲したスリット状のパター
ンが形成された透明な画素電極があり、前記スリットパ
ターンの長軸方向と負の誘電率異方性液晶の配向方向と
の交差角が90度をのぞく60度から90度の範囲にあ
り、かつ1画素内でスリットパターンが、1回以上屈曲
している構造を用いる。
[Means 8] A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent conductor electrode is formed on a surface of the counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a plurality of bent slit patterns are formed on a surface of the thin film transistor side substrate facing the counter side substrate. Transparent pixel electrodes, the crossing angle between the long axis direction of the slit pattern and the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is in the range of 60 to 90 degrees except 90 degrees, and within one pixel. The structure in which the slit pattern is bent once or more is used.

【0017】〔手段9〕薄膜トランジスタ側基板と、こ
の薄膜トランジスタ側基板に対向する対向基板と前記対
向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持され
た負の誘電率異方性液晶とを有し前記薄膜トランジスタ
側基板の対向側基板との対向面には、透明な画素電極が
形成され、前記対向側基板の薄膜トランジスタ側基板の
透明画素電極と対向する面には、複数本のスリット状の
パターンが形成された透明な共通電極があり、前記スリ
ット状のパターンの長軸方向と、負の誘電率異方性液晶
の配向方向の交差角が90度をのぞく60度から90度
の範囲にあり、かつ薄膜トランジスタ側基板の1画素内
で負の誘電率異方性液晶分子の回転運動方向が、左回
り、右回りの異なる2方向の回転運動が可能で、異なる
回転運動するそれぞれの領域の面積が、1画素内でほぼ
等しくなるようにした。
[Means 9] A thin film transistor side substrate, a counter substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate. A transparent pixel electrode is formed on the surface of the thin film transistor side substrate facing the opposite side substrate, and a plurality of slit-like patterns are formed on the surface of the opposite side substrate facing the transparent pixel electrode of the thin film transistor side substrate. And the crossing angle between the major axis direction of the slit-shaped pattern and the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is in the range of 60 degrees to 90 degrees except 90 degrees, and In one pixel of the substrate on the thin film transistor side, the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules can rotate in two different rotational directions, counterclockwise and clockwise. Area of the region of, and to be approximately equal in one pixel.

【0018】〔手段10〕薄膜トランジスタ側基板と、
この薄膜トランジスタ側基板に対向する対向側基板と、
前記対向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟
持された負の誘電率異方性液晶とを有し、前記薄膜トラ
ンジスタ側基板の対向側基板との対向面には、透明な画
素電極が形成され、前記対向側基板の薄膜トランジスタ
側基板の透明画素電極と対向する面には、複数本の屈曲
したスリット状のパターンが形成された透明な共通電極
があり、前記スリット状のパターンの長軸方向と、負の
誘電率異方性液晶の配向方向の交差角が90度をのぞく
60度から90度の範囲にあり、かつ薄膜トランジスタ
側基板の1画素に対応する対向側基板の共通電極内のス
リット状パターンが、1回以上屈曲している構造とし
た。
[Means 10] Substrate on the thin film transistor side,
An opposite side substrate facing the thin film transistor side substrate,
A negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, and a transparent pixel electrode is formed on a surface of the thin film transistor side substrate facing the counter side substrate. The surface of the opposite substrate facing the transparent pixel electrode of the thin film transistor side substrate has a transparent common electrode formed with a plurality of bent slit-shaped patterns, and a long axis direction of the slit-shaped patterns. , The crossing angle of the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is in the range of 60 degrees to 90 degrees except 90 degrees, and the slit shape in the common electrode of the opposite side substrate corresponding to one pixel of the thin film transistor side substrate The structure is such that the pattern is bent once or more.

【0019】〔手段11〕手段7,8,9,10に関し
て、負の誘電率異方性液晶の配向方向が、薄膜トランジ
スタ側基板に形成された映像信号配線とほぼ平行になる
ようにした。
[Means 11] With respect to the means 7, 8, 9 and 10, the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is set to be substantially parallel to the video signal wiring formed on the thin film transistor side substrate.

【0020】〔手段12〕手段7,8,9,10に関し
て、負の誘電率異方性液晶の配向方向が、薄膜トランジ
スタ側基板に形成された走査線と、ほぼ平行になるよう
にした。
[Means 12] With respect to the means 7, 8, 9 and 10, the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is set to be substantially parallel to the scanning line formed on the thin film transistor side substrate.

【0021】〔手段13〕手段8,10,12に関し
て、1画素内で1回以上屈曲しているスリット状パター
ンと、ほぼ同じ角度で映像信号配線と色フィルターと色
フィルターのブラックマスク(遮光膜)が1画素内で1
回以上屈曲している構造とした。
[Means 13] With respect to the means 8, 10 and 12, the slit pattern which is bent once or more in one pixel and the black mask (light-shielding film) of the video signal wiring, the color filter and the color filter at substantially the same angle. ) Is 1 in 1 pixel
The structure has been bent more than once.

【0022】〔手段14〕手段8,10,11に関し
て、1画素内で、1回以上屈曲しているスリット状パタ
ーンとほぼ同じ角度で、走査線と色フィルターと、色フ
ィルターのブラックマスク(遮光膜)が1画素内で1回
以上屈曲している構造とした。
[Means 14] With respect to the means 8, 10, and 11, the scanning line, the color filter, and the black mask (light-shielding) of the color filter are formed at substantially the same angle as the slit pattern bent once or more in one pixel. The film has a structure in which one film is bent once or more within one pixel.

【0023】〔手段15〕手段1,2,3,7,8,1
1,12,13,14に関して、薄膜トランジスタ側基
板に形成された複数本のスリット状パターンを有する透
明な画素電極の下層に比誘電率の大きな透明金属酸化物
絶縁層または、透明金属酸窒化物絶縁層を形成した。
[Means 15] Means 1, 2, 3, 7, 8, 1
Regarding 1, 12, 13, and 14, a transparent metal oxide insulating layer having a large relative dielectric constant or a transparent metal oxynitride insulating layer is formed under a transparent pixel electrode having a plurality of slit-shaped patterns formed on a thin film transistor side substrate. Layers were formed.

【0024】〔手段16〕手段4,5,6,9,10,
11,12,13,14に関して、薄膜トランジスタ側
基板に対向する対向基板に形成された複数本のスリット
状パターンを有する透明な共通電極下層に、比誘電率の
大きな透明金属酸化物絶縁層または透明金属酸窒化物絶
縁層を形成した。
[Means 16] Means 4, 5, 6, 9, 10,
Regarding 11, 12, 13, and 14, the transparent common electrode lower layer having a plurality of slit-shaped patterns formed on the counter substrate facing the thin film transistor side substrate has a transparent metal oxide insulating layer or a transparent metal having a large relative dielectric constant. An oxynitride insulating layer was formed.

【0025】〔手段17〕手段1から16に関して、ス
リットの電極幅をWスリットの電極間スペースをS,液
晶セルギャップをd,負の誘電率異方性液晶の屈折率異
方性をΔnとしたとき、W≦d かつ d≦S<4×d
かつ 1、0μm<d<5、0μmかつ200nm≦
Δn×d≦460nmの条件を満足するようにした。
[Means 17] With respect to the means 1 to 16, the slit electrode width is W, the inter-electrode space of the slit is S, the liquid crystal cell gap is d, and the refractive index anisotropy of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is Δn. Then W ≦ d and d ≦ S <4 × d
And 1, 0 μm <d <5, 0 μm and 200 nm ≦
The condition of Δn × d ≦ 460 nm is satisfied.

【0026】〔手段18〕薄膜トランジスタ側基板と、
この薄膜トランジスタ側基板に対向する対向側基板と、
前記対向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟
持された負の誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基
板の薄膜トランジスタ側基板との対向面には、複数本の
スリット状のパターンが形成された透明な導電体電極
(共通電極)が形成され、前記薄膜トランジスタ側基板
の対向側基板との対向面にも、同様に複数本のスリット
状のパターンが形成された透明な画素電極があり、これ
ら上下基板に形成された複数本のスリット状パターン
は、お互いにほぼ平行に配置され、対向側基板に形成さ
れたスリット電極の電極間スペースの中央部に対応する
位置に、薄膜トランジスタ側基板の画素電極のスリット
電極の電極部が負の誘電率異方性液晶をかいして配置さ
れ、前記お互いに平行に対向しているスリット状パター
ンの長軸方向と、負の誘電率異方性液晶の配向方向の交
差角が90度をのぞく60度から90度の範囲にあるよ
うにした。
[Means 18] A thin film transistor side substrate,
An opposite side substrate facing the thin film transistor side substrate,
A negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, and a plurality of slit-shaped patterns on a surface of the counter side substrate facing the thin film transistor side substrate. Transparent conductor electrode (common electrode) is formed on the thin film transistor side substrate, the transparent pixel electrode having a plurality of slit-shaped patterns is also formed on the surface facing the opposite side substrate. The plurality of slit-shaped patterns formed on the upper and lower substrates are arranged substantially parallel to each other, and the thin film transistor side substrate is provided at a position corresponding to the central portion of the interelectrode space of the slit electrodes formed on the opposite side substrate. The electrode portion of the slit electrode of the pixel electrode of is disposed across the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal, and the long axis direction of the slit-shaped pattern facing in parallel to each other, Crossing angle of the orientation direction of the electric anisotropic liquid crystal is to be in the range of 90 degrees from 60 degrees except 90 degrees.

【0027】〔手段19〕薄膜トランジスタ側基板とこ
の薄膜トランジスタ側基板に対向する対向側基板と前記
対向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持さ
れた負の誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板の
薄膜トランジスタ側基板との対向面には、複数本のスリ
ット状のパターンが形成された透明な導電体電極(共通
電極)が形成され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向
側基板との対向面にも、同様に複数本のスリット状のパ
ターンが形成された透明な画素電極があり、これら上下
基板に形成された複数本のスリット状パターンは、お互
いにほぼ平行に配置され、対向側基板に形成されたスリ
ット電極の電極間スペースの中央部に対応する位置に、
薄膜トランジスタ側基板の画素電極のスリット電極の電
極部が、負の誘電率異方性液晶をかいして配置され、前
記お互いに平行に対向しているスリット状のパターンの
長軸方向と負の誘電率異方性液晶の配向方向の交差角が
90度をのぞく60度から90度の範囲にあり、かつ1
画素内での負の誘電率異方性液晶分子の回転運動方向が
左回り右回りの異なる2方向の回転運動が可能で、異な
る回転運動するそれぞれの領域の面積が、1画素内でほ
ぼ等しくなるようにした。
[Means 19] A thin film transistor side substrate, an opposite side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the opposite side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent conductor electrode (common electrode) having a plurality of slit-shaped patterns is formed on a surface of the counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and the transparent conductor electrode (common electrode) facing the counter side substrate of the thin film transistor side substrate. Similarly, the surface also has transparent pixel electrodes on which a plurality of slit-shaped patterns are formed.The plurality of slit-shaped patterns formed on the upper and lower substrates are arranged substantially parallel to each other, and the opposite substrate At the position corresponding to the central part of the inter-electrode space of the slit electrode formed in
The electrode portion of the slit electrode of the pixel electrode of the thin film transistor side substrate is arranged with a negative dielectric anisotropy liquid crystal interposed therebetween, and the long axis direction and the negative dielectric constant of the slit-shaped patterns facing each other in parallel with each other. The crossing angle of the orientation direction of the anisotropic liquid crystal is in the range of 60 to 90 degrees except 90 degrees, and 1
The rotational movement direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecules in the pixel can be two different rotational movements, counterclockwise and clockwise, and the areas of the regions that perform different rotational movements are almost equal in one pixel. I tried to be.

【0028】〔手段20〕薄膜トランジスタ側基板と、
この薄膜トランジスタ側基板に対向する対向側基板と、
前記対向側基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟
持された負の誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基
板の薄膜トランジスタ側基板との対向面には、複数本の
屈曲したスリット状のパターンが形成された透明な導電
体電極(共通電極)があり、前記薄膜トランジスタ側基
板の対向側基板との対向面にも、同様に複数本の屈曲し
たスリット状のパターンが形成された透明電極があり、
これら上下基板に形成された複数本の屈曲したスリット
状パターンは、お互いに、ほぼ平行に配置され、対向側
基板に形成されたスリット電極の電極間スペースの中央
部に対応する位置に、薄膜トランジスタ側基板の画素電
極のスリット電極の電極部が負の誘電率異方性液晶をか
いして配置され、前記お互いに平行に対向しているスリ
ット状のパターンの長軸方向と負の誘電率異方性液晶の
配向方向の交差角が90度をのぞく60度から90度の
範囲にあり、かつ1画素内でスリットパターンが1回以
上屈曲している構造を用いる。
[Means 20] A thin film transistor side substrate,
An opposite side substrate facing the thin film transistor side substrate,
A negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, and a plurality of bent slits are formed on a surface of the counter side substrate facing the thin film transistor side substrate. There is a transparent conductor electrode (common electrode) on which a pattern is formed, and a transparent electrode on which a plurality of bent slit-shaped patterns are similarly formed on the surface of the thin film transistor side substrate facing the opposite side substrate. There is
The plurality of bent slit-shaped patterns formed on the upper and lower substrates are arranged substantially parallel to each other, and at the position corresponding to the central portion of the inter-electrode space of the slit electrodes formed on the opposite substrate, the thin film transistor side. The electrode part of the slit electrode of the pixel electrode of the substrate is arranged with a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal interposed, and the long axis direction and the negative dielectric constant anisotropy of the slit-shaped patterns facing each other in parallel with each other. A structure is used in which the crossing angle of the alignment direction of the organic liquid crystal is in the range of 60 to 90 degrees except 90 degrees, and the slit pattern is bent once or more in one pixel.

【0029】〔手段21〕手段18,19,20に関し
て、負の誘電率異方性液晶の配向方向が、薄膜トランジ
スタ側基板に形成された映像信号配線とほぼ平行になる
ようにした。
[Means 21] With respect to the means 18, 19 and 20, the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is set to be substantially parallel to the video signal wiring formed on the thin film transistor side substrate.

【0030】〔手段22〕手段18,19,20に関し
て負の誘電率異方性液晶の配向方向が、薄膜トランジス
タ側基板に形成された走査線とほぼ平行になるようにし
た。
[Means 22] With respect to the means 18, 19 and 20, the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is set to be substantially parallel to the scanning line formed on the thin film transistor side substrate.

【0031】〔手段23〕手段20,22に関して、1
画素内で1回以上屈曲しているスリット状パターンとほ
ぼ同じ角度で映像信号配線と色フィルターと色フィルタ
ーのブラックマスク(遮光膜)が1画素内で1回以上屈
曲している構造とした。
[Means 23] Regarding the means 20 and 22, 1
The video signal wiring, the color filter, and the black mask (light-shielding film) of the color filter are bent once or more in one pixel at substantially the same angle as the slit-shaped pattern bent once or more in the pixel.

【0032】〔手段24〕手段20,21に関して、1
画素内で1回以上屈曲しているスリット状パターンとほ
ぼ同じ角度で、走査線と色フィルターと色フィルターの
ブラックマスク(遮光膜)が、1画素内で1回以上屈曲
している構造とした。
[Means 24] Regarding the means 20 and 21, 1
The scan line, the color filter, and the black mask (light-shielding film) of the color filter are bent at least once within one pixel at almost the same angle as the slit-shaped pattern that is bent once inside the pixel. .

【0033】〔手段25〕手段18から24に関して、
スリットの電極幅をW、スリットの電極間スペースを
S、液晶セルギャップをd,負の誘電率異方性液晶の屈
折率異方性をΔnとしたとき、W≦dかつ1/3×d≦
S<7×dかつ1.0μm<d<5.0μmかつ200
nm≦Δn×d≦460nmの条件を満足するようにし
た。
[Means 25] With respect to the means 18 to 24,
When the electrode width of the slit is W, the space between the electrodes of the slit is S, the liquid crystal cell gap is d, and the refractive index anisotropy of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is Δn, W ≦ d and 1/3 × d ≤
S <7 × d and 1.0 μm <d <5.0 μm and 200
The condition of nm ≦ Δn × d ≦ 460 nm is satisfied.

【0034】[0034]

【作用】アクティブマトリックス基板の透明画素電極
と、この画素電極に対向する対向基板側の透明共通電極
のどちらか一方に複数のスリット状パターンを形成し、
残されたもう一方の電極を平面電極としているため、上
下基板の位置あわせ精度が悪るくても、液晶セルの透過
率特性の変化が生じない。このため光学特性のバラツキ
が生じにくい。
[Function] A plurality of slit-shaped patterns are formed on either one of the transparent pixel electrode of the active matrix substrate and the transparent common electrode on the opposite substrate side facing the pixel electrode,
Since the other electrode left is a plane electrode, the transmittance characteristic of the liquid crystal cell does not change even if the alignment accuracy of the upper and lower substrates is poor. Therefore, variations in optical characteristics are unlikely to occur.

【0035】本発明の液晶表示方式では、画素電極と対
向基板の対向電極(共通電極)との間に電圧を印加した
場合、負の誘電率異方性液晶を用いているため、TN
(ツイストネマティック)方式のように、液晶分子が基
板面からはずれて立ち上がったりしない。基板に平行な
方向の電界成分により基板に平行な面内で回転運動をす
るので、IPS(インプレーンスイッチング)方式と同
じような横電界方式の液晶表示モードと同一の動作をす
ることができる。このために、どこから見ても階調反転
のない良好な画像を得ることができる。
In the liquid crystal display system of the present invention, when a voltage is applied between the pixel electrode and the counter electrode (common electrode) of the counter substrate, a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is used, and therefore TN
Unlike the (twisted nematic) method, the liquid crystal molecules do not come off from the surface of the substrate. Since the electric field component in the direction parallel to the substrate causes the rotational movement in the plane parallel to the substrate, the same operation as the liquid crystal display mode of the horizontal electric field system similar to the IPS (in-plane switching) system can be performed. For this reason, it is possible to obtain a good image without gradation inversion from any direction.

【0036】スリットを屈曲させた構造を採用すること
で負の誘電率異方性液晶分子の回転運動方向が図22に
あるように左回転と右回転の2通りの異なる方向への回
転運動が発生する。これにより見る方向による色彩の変
化(カラーシフト)がほとんど解決できる。
By adopting the structure in which the slits are bent, the rotational movement directions of the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules can be rotated in two different directions of left rotation and right rotation as shown in FIG. Occur. As a result, almost no color change (color shift) depending on the viewing direction can be solved.

【0037】図4,図5,図16,図24,図33にあ
るようにどのようなタイプでも本発明の場合には、画素
電極領域の凹凸は、透明導電体の膜厚によって決定され
る。アクティブマトリックス基板側にスリットを形成し
た場合、画素透明導電体の膜厚は300オングストロー
ムから500オングストローム程度で十分なので、50
0オングストロームから700オングストロームのポリ
イミド配向膜をスリット電極上に塗布するだけで画素領
域の平担化は十分にはかれる。従来のIPS方式とくら
べて、安定したラビング処理がおこなえるので、均一な
配向処理面を形成できる。ラビングムラがなくなるので
歩留りの高い安定した生産をおこなえるようになる。
In the case of the present invention of any type as shown in FIGS. 4, 5, 16, 24 and 33, the unevenness of the pixel electrode region is determined by the film thickness of the transparent conductor. . When the slit is formed on the active matrix substrate side, the film thickness of the pixel transparent conductor is about 300 angstroms to 500 angstroms.
The pixel area can be sufficiently flattened only by applying a polyimide alignment film of 0 angstrom to 700 angstrom on the slit electrode. Compared with the conventional IPS method, a stable rubbing treatment can be performed, so that a uniform alignment treated surface can be formed. Since the rubbing unevenness is eliminated, stable production with high yield can be performed.

【0038】アクティブマトリックス基板側の画素電極
にスリットを形成したタイプでは、アクティブマトリッ
クス基板の製造工程とカラーフィルターの製造工程なら
びに液晶セル工程が、使用する液晶材料と、ラビング方
向以外は、ほぼすべて従来のTN(ツイストネマティッ
ク)モードの製造工程と同じ工程を用いることができる
ので、TNモードから本発明の横電界液晶モードへの製
造ラインの変更がたやすくおこなえ、液晶モードの変更
にともなうトラブルの発生を最少におさえることができ
る。
In the type in which the slits are formed in the pixel electrode on the active matrix substrate side, the active matrix substrate manufacturing process, the color filter manufacturing process, and the liquid crystal cell process are almost all conventional except for the liquid crystal material used and the rubbing direction. Since the same manufacturing process as the TN (twisted nematic) mode can be used, the manufacturing line can be easily changed from the TN mode to the in-plane switching liquid crystal mode of the present invention, and troubles caused by the liquid crystal mode change Can be kept to a minimum.

【0039】本発明は、負の誘電率異方性液晶を上下か
ら透明導電体電極ではさみこみ、上下の2つの電極間に
電圧を印加して、すくなくとも一方の透明導電体電極に
形成された複数本のスリットのエッジ部分に発生する基
板に平行な横電界をもちいて、負の誘電率異方性液晶分
子を基板に平行な平面内で回転運動させる方式である。
上下の透明導電体電極はセルギャップの距離dだけはな
れているので従来のIPSモードや図1,図3にあるよ
うな従来のフリンジフィールド方式の横電界方式液晶表
示装置と異なり画素電極が共通電極とショートして欠陥
になる確率は非常に小さい。従来のTNモードとほぼ構
造が同じなために、従来のTNモードとほぼ同じ高い歩
留りを得ることができる。上下電極ともに従来のTNモ
ードと同じ透明導電体電極を用いているので、従来のT
Nモードと同等の明るい画像が得られる。
In the present invention, a negative dielectric anisotropy liquid crystal is sandwiched between transparent conductor electrodes from above and below, and a voltage is applied between the upper and lower electrodes to form a plurality of transparent conductor electrodes formed on at least one transparent conductor electrode. This is a method in which a lateral electric field parallel to the substrate generated at the edge of the slit of the book is used to rotate the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecules in a plane parallel to the substrate.
Since the upper and lower transparent conductor electrodes are separated by the cell gap distance d, the pixel electrode is a common electrode unlike the conventional IPS mode or the conventional fringe field type horizontal electric field type liquid crystal display device as shown in FIGS. The probability of short-circuiting and becoming defective is very small. Since the structure is almost the same as that of the conventional TN mode, the yield as high as that of the conventional TN mode can be obtained. Since the upper and lower electrodes use the same transparent conductor electrodes as in the conventional TN mode,
A bright image equivalent to the N mode can be obtained.

【0040】本発明のうち、映像信号配線に平行に負の
誘電率異方性液晶を配向させたタイプでは図29にある
ように映像信号配線と画素電極の間に平行に配向された
液晶分子は、映像信号配線と画素電極の間に電界が印加
されても回転運動が発生しないので、この領域からの光
もれは発生しない。本発明のこのタイプの構造を採用し
た場合、映像信号配線をおおうように対向基板に形成さ
れる遮光膜(BM…ブラックマスク)を省略することも
可能である。対向基板に遮光膜(BM)を形成した場合
でも上下基板の走査線方向の合着精度が悪るくても、光
ぬけが生じないので液晶セル工程での歩留りを大幅に向
上できる。
In the present invention, in the type in which the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is oriented in parallel with the video signal wiring, liquid crystal molecules oriented in parallel between the video signal wiring and the pixel electrode as shown in FIG. Since no rotational motion occurs even when an electric field is applied between the video signal wiring and the pixel electrode, light leakage from this area does not occur. When this type of structure of the present invention is adopted, it is possible to omit the light shielding film (BM ... Black mask) formed on the counter substrate so as to cover the video signal wiring. Even when the light-shielding film (BM) is formed on the counter substrate, light leakage does not occur even if the bonding accuracy of the upper and lower substrates in the scanning line direction is poor, so that the yield in the liquid crystal cell process can be greatly improved.

【0041】図24,図33にあるようにスリット電極
の下層に比誘電率の高い透明絶縁層を形成することで、
スリット電極のスペース部分に電界を集中させることが
できるので、スリット電極のエッジ部分の領域の横方向
電界を強く発生させることができる。わずかな電圧を印
加しただけで、負の誘電率異方性液晶を回転運動させる
ことができるので、液晶駆動用ICの出力電圧を低下さ
せることができる。
By forming a transparent insulating layer having a high relative dielectric constant below the slit electrode as shown in FIGS.
Since the electric field can be concentrated in the space portion of the slit electrode, the lateral electric field in the region of the edge portion of the slit electrode can be strongly generated. Since the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal can be rotated by applying a slight voltage, the output voltage of the liquid crystal driving IC can be reduced.

【0042】図34にあるようにスリットパターンの長
軸方向と負の誘電率異方性液晶の配向方向との交差角を
90度をのぞく60度から90度とすることで、低い駆
動電圧で液晶を回転運動させることが可能である。
As shown in FIG. 34, the crossing angle between the major axis direction of the slit pattern and the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is set to 60 to 90 degrees except 90 degrees, so that a low driving voltage can be obtained. It is possible to rotate the liquid crystal.

【0043】図35,図36,図40,図41,図4
2,図43にあるような互いに対向しあった2つの電極
にスリット状のパターンが形成されていて、スリットの
スペースSがセルギャップdよりも広く、かつ電極の幅
Wがセルギャップdよりも小さい場合、上下電極の縦電
界成分よりも横方向電界成分の方が大きくなるので正の
誘電率異方性液晶も用いることができるようになり、液
晶の材料の選択の自由度が広くなる。正の誘電率異方性
液晶の場合、低粘度で高誘電率液晶を採用することで、
高速応答を実実できる。
35, 36, 40, 41, 4
2, a slit-shaped pattern is formed in two electrodes facing each other as shown in FIG. 43, the space S of the slit is wider than the cell gap d, and the width W of the electrode is wider than the cell gap d. When it is small, the horizontal electric field component becomes larger than the vertical electric field component of the upper and lower electrodes, so that a positive dielectric anisotropy liquid crystal can be used, and the degree of freedom in selecting the liquid crystal material becomes wide. In the case of a positive dielectric constant anisotropic liquid crystal, by adopting a high dielectric constant liquid crystal with low viscosity,
Realizes high-speed response.

【0044】図23,図27や図40,図41のように
映像信号配線や走査線に平行に液晶分子を配向させるこ
とで偏光板の偏光軸は、図17や図18のような配置と
なり偏光板の有効利用効率が向上する。
As shown in FIGS. 23, 27, 40 and 41, by aligning the liquid crystal molecules in parallel with the video signal wirings and the scanning lines, the polarization axis of the polarizing plate is arranged as shown in FIGS. 17 and 18. The effective utilization efficiency of the polarizing plate is improved.

【0045】図12,図14,図15のように屈曲した
スリットパターンを形成した画素電極と、図20,図2
1のような屈曲した遮光膜(BM)とカラーフィルター
層を組みあわせることで開口率の高いカラーシフトのな
い高品質の画像が得られる。
Pixel electrodes having a slit pattern bent as shown in FIGS. 12, 14 and 15, and FIGS.
By combining a curved light-shielding film (BM) such as No. 1 and a color filter layer, a high-quality image with a high aperture ratio and no color shift can be obtained.

【0046】[0046]

【実施例】〔実施例1〕図2,図4は、薄膜トランジス
タ側基板の画素電極にスリット状のパターンが映像信号
配線とほぼ平行になるように形成された場合の単位画素
の平面図と断面図である。負の誘電率異方性液晶の配向
方向とスリットパターンの電極の長軸方向との交差角
は90度をのぞく60度から90度の範囲に設定して
ある。本発明の液晶セル内部での電界分布は図30にあ
るようにスリット電極のエッジ周辺に横電成分圧xが集
中して発生する特徴を有している。スリット電極とスリ
ット電極との間のスペースSがセルギャップdよりも広
くなると横電界成分圧xが大きくなり小さな電圧で液晶
分子を駆動できるようになる。従来の図1,図3にある
ようなフリンジフィールドスイッチングモードの液晶パ
ネルでは図30にあるBの領域での横電界成分圧xを利
用しているが、本発明の場合、Aの領域での横電界成分
圧xを利用している。スリットのスペースSがセルギャ
ップdよりも大きくなると図31にあるように従来のフ
リンジフィールドスイッチングモードでの駆動電圧より
も低い電圧で駆動できるようになる。
[Embodiment 1] FIGS. 2 and 4 are a plan view and a cross section of a unit pixel when a slit-shaped pattern is formed on a pixel electrode of a thin film transistor side substrate so as to be substantially parallel to a video signal wiring. It is a figure. The crossing angle between the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal and the major axis direction of the electrode of the slit pattern is set in the range of 60 to 90 degrees except 90 degrees. The electric field distribution inside the liquid crystal cell of the present invention is characterized in that the transverse electric component pressure x is concentrated around the edge of the slit electrode as shown in FIG. When the space S between the slit electrodes becomes wider than the cell gap d, the lateral electric field component pressure x increases and the liquid crystal molecules can be driven with a small voltage. In the conventional fringe field switching mode liquid crystal panel as shown in FIGS. 1 and 3, the lateral electric field component pressure x in the region B shown in FIG. 30 is used, but in the case of the present invention, in the region A. The horizontal electric field component pressure x is used. When the slit space S becomes larger than the cell gap d, it becomes possible to drive at a voltage lower than the drive voltage in the conventional fringe field switching mode as shown in FIG.

【0047】スリット電極の長軸方向と負の誘電率異方
性液晶の配向方向との交差角θが、図34にあるように
60度よりも小さくなると急激に駆動電圧が高くなって
しまう。最適値は75度±10度の範囲にある。従来の
フィールドスイッチングモードでは、図3にあるように
スリット画素電極と透明共通電極とが形成する結合
容量が、大きくなりすぎる問題が発生する。このため1
画素が大きなテレビ用液晶パネルには、従来のフィール
ドフィッチングモードを適用できない。本発明の場合に
は、図4にあるように1画素の面積が大きくなってもカ
ラーフィルター側基板に形成された透明共通電極と、薄
膜トランジスタ側基板のスリット画素電極とで形成する
結合容量は増しない。これにより1画素の面積が大きな
液晶テレビ用にも本発明は適用しやすい。薄膜トランジ
スタ素子とカラーフィルターの構造は従来のTNモード
と同じプロセスを用いることができるので生産ラインの
変更がたやすい。
If the crossing angle θ between the major axis direction of the slit electrode and the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal becomes smaller than 60 degrees as shown in FIG. 34, the driving voltage rapidly increases. The optimum value is in the range of 75 ° ± 10 °. In the conventional field switching mode, the coupling capacitance formed by the slit pixel electrode and the transparent common electrode becomes too large as shown in FIG. Therefore 1
The conventional field fitting mode cannot be applied to a television liquid crystal panel having a large number of pixels. In the case of the present invention, as shown in FIG. 4, even if the area of one pixel is increased, the coupling capacitance formed by the transparent common electrode formed on the color filter side substrate and the slit pixel electrode on the thin film transistor side substrate is increased. Absent. As a result, the present invention can be easily applied to a liquid crystal television having a large area of one pixel. Since the structure of the thin film transistor element and the color filter can use the same process as the conventional TN mode, it is easy to change the production line.

【0048】〔実施例2〕図6,図4は本発明の第2の
実施例の単位画素の平面図と断面図である。負の誘電率
異方性液晶分子の配向方向は映像信号配線とほぼ平
行な関係にある。本発明の場合、上下の偏光板の偏光軸
は図17のような配置となる。ラビング処理により負の
誘電率異方性液晶を配向する場合薄膜トランジスタ基板
のラビング処理方法は、図19にあるような方法とな
る。映像信号配線に平行に液晶分子を配向させた場合に
は図29にあるように画素電極と映像信号配線に電
界が発生しても、画素電極と映像信号配線のすき間▲2
7▼に存在する負の誘電率異方性液晶▲22▼は回転運
動することができない。この配向方向の場合には、カラ
ーフィルターの遮光膜がなくてもこのすきま▲27▼か
ら光がもれることはないので薄膜トランジスタ基板とカ
ラーフィルター基板との合着アライメント精度が良くな
くても歩留りは、低下しない。
[Embodiment 2] FIGS. 6 and 4 are a plan view and a sectional view of a unit pixel according to a second embodiment of the present invention. The orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules is substantially parallel to the video signal wiring. In the case of the present invention, the polarization axes of the upper and lower polarizing plates are arranged as shown in FIG. When Aligning Negative Dielectric Anisotropy Liquid Crystal by Rubbing Treatment The rubbing treatment method for the thin film transistor substrate is as shown in FIG. When the liquid crystal molecules are aligned in parallel with the video signal wiring, even if an electric field is generated between the pixel electrode and the video signal wiring as shown in FIG. 29, the gap between the pixel electrode and the video signal wiring is reduced (2).
The negative dielectric anisotropy liquid crystal (22) existing in (7) cannot rotate. In this alignment direction, light does not leak from this clearance (27) even if there is no light-shielding film for the color filter. Therefore, even if the alignment accuracy of the thin-film transistor substrate and the color filter substrate is not good, the yield is high. , Does not fall.

【0049】〔実施例3〕図7,図4は本発明の第3の
実施例の単位画素の平面図と断面図である。負の誘電率
異方性液晶分子の配向方向は、走査線と、ほぼ平行
な関係にある。本発明の場合、上下の偏光板の偏光軸は
図18のような配置となる。本発明の場合薄膜トランジ
スタ基板の映像信号配線の膜厚が、スリット画素電極よ
りもかなりあついのでラビング処理時に問題が発生しや
すい。この問題を解決するには、図5にあるように平担
化層▲19▼を形成した後にスリット画素電極を形成
すると良い。
[Embodiment 3] FIGS. 7 and 4 are a plan view and a sectional view of a unit pixel according to a third embodiment of the present invention. The alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules is substantially parallel to the scanning line. In the case of the present invention, the polarization axes of the upper and lower polarizing plates are arranged as shown in FIG. In the case of the present invention, the film thickness of the video signal wiring of the thin film transistor substrate is considerably thicker than that of the slit pixel electrode, so that a problem tends to occur during the rubbing process. To solve this problem, the slit pixel electrode may be formed after forming the flattening layer (19) as shown in FIG.

【0050】〔実施例4〕図8,図10,図12は、本
発明の第4の実施例の単位画素の平面図である。負の誘
電率異方性液晶分子の配向方向は、映像信号配線と
ほぼ平行な関係にある。本発明の場合、上下の偏光板の
偏光軸は図17のような配置となる。図27は本実施例
図10の斜視図である。本発明の場合、図22にあるよ
うに負の誘電率異方性液晶分子は、1画素内で左回りと
右回りの異なる2方向の回転運動をおこなう。この現象
によりどの方向から見ても色彩が変化しないのと、中間
調領域での階調反転が発生しないので最もすぐれた画像
を表現することができる。
[Embodiment 4] FIGS. 8, 10, and 12 are plan views of a unit pixel according to a fourth embodiment of the present invention. The orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules is substantially parallel to the video signal wiring. In the case of the present invention, the polarization axes of the upper and lower polarizing plates are arranged as shown in FIG. FIG. 27 is a perspective view of FIG. 10 of the present embodiment. In the case of the present invention, as shown in FIG. 22, the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules make rotational movements in two different directions, that is, counterclockwise rotation and clockwise rotation within one pixel. Due to this phenomenon, the color does not change when viewed from any direction and the gradation inversion does not occur in the halftone region, so that the best image can be expressed.

【0051】さらに、実施例4では、実施例2と同じよ
うにラビング処理が映像信号配線と平行な方向でおこな
われるために、映像信号配線の膜厚が厚い場合でも平担
化処理をおこなわなくても良好なラビング処理をおこな
える。カラーフィルター側基板も同様に、カラーフィル
ターの表面の凹凸の平担化処理をおこなわなくても、カ
ラーフィルターの溝と平行な方向に配向処理するため
に、良好なラビング処理がおこなえる。薄膜トランジス
タ基板に形成されるスリット画素電極は、膜厚が300
〜500オングストロームなので500〜800オング
ストロームのポリイミド配向膜を塗布するだけで、十分
な平担面がえられる。
Further, in the fourth embodiment, since the rubbing process is performed in the direction parallel to the video signal wiring as in the second embodiment, the flattening process is not performed even when the film thickness of the video signal wiring is thick. However, good rubbing treatment can be performed. Similarly, for the color filter side substrate, good rubbing treatment can be performed because alignment treatment is performed in a direction parallel to the grooves of the color filter without subjecting the unevenness of the surface of the color filter to flattening. The slit pixel electrode formed on the thin film transistor substrate has a film thickness of 300.
Since it is ˜500 Å, a sufficient flat surface can be obtained only by applying a polyimide alignment film of 500 to 800 Å.

【0052】図22,図30にあるように、本発明では
スリット電極のエッジ部分に発生する横電界圧xを利用
して負の誘電率異方性液晶分子を回転運動させている。
スリット電極の中央部やスリット電極とスリット電極
の間のスペースの中央部には横電界圧xは発生しないた
めこの領域の液晶分子は自分自身では回転運動をするこ
とができない。しかし印加電圧が大きくなり強い電界が
発生してくると電極のエッジ部分から回転運動をはじめ
た液晶分子の影響をうけて横電界圧xの発生していない
領域の液晶分子も回じ回転方向の運動をしてしまう。こ
の現象のため本発明の液晶表示装置は、従来のIPSモ
ードとくらべて画素電極と共通電極に透明導電体電極を
用いているので透過率の高い、明るい画像を低コストで
得ることができる。共通電極は対向側基板に設置してあ
るため、ショートの発生する確率もほとんどないので、
従来のフリンジフィールドスイッチング(FFS)モー
ドの液晶パネルとくらべて、高歩留りが得られ、プロセ
スが簡単なために低コストが実現できる。スリット電素
電極と共通電極との容量結合も小さいために1画素が大
きくなっても薄膜トランジスタ素子への負担は、急増し
ない。そのため従来のアモルファスシリコン薄膜トラン
ジスタ素子でも十分に、大型の液晶TVを実現できる。
As shown in FIGS. 22 and 30, in the present invention, the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecules are rotationally moved by utilizing the lateral electric field pressure x generated at the edge portion of the slit electrode.
Since the transverse electric field pressure x is not generated in the central part of the slit electrode or the central part of the space between the slit electrodes, the liquid crystal molecules in this region cannot rotate by themselves. However, when the applied voltage increases and a strong electric field is generated, the liquid crystal molecules in the region where the in-plane electric field pressure x is not generated are also affected by the liquid crystal molecules that start to rotate from the edge portion of the electrode and rotate in the rotating direction. I will exercise. Due to this phenomenon, the liquid crystal display device of the present invention uses a transparent conductor electrode for the pixel electrode and the common electrode as compared with the conventional IPS mode, and therefore a bright image with high transmittance can be obtained at low cost. Since the common electrode is installed on the opposite substrate, there is almost no chance of a short circuit, so
Compared with a conventional fringe field switching (FFS) mode liquid crystal panel, a high yield can be obtained, and a low cost can be realized because the process is simple. Since the capacitive coupling between the slit element electrode and the common electrode is also small, the load on the thin film transistor element does not increase sharply even if one pixel becomes large. Therefore, a large-sized liquid crystal TV can be realized with a conventional amorphous silicon thin film transistor element.

【0053】図12では、スリット画素電極の屈曲形状
にあわせて走査線も屈曲している。この薄膜トランジ
スタ基板に対向するカラーフィルター基板は、図21に
あるように走査線に対応する遮光層(BM)が同じよう
に屈曲している形状のものがよい。このようなカラーフ
ィルターを用いることで開口率を向上することができ
る。
In FIG. 12, the scanning line is also bent in accordance with the bent shape of the slit pixel electrode. The color filter substrate facing the thin film transistor substrate preferably has a shape in which the light-shielding layer (BM) corresponding to the scanning line is similarly bent as shown in FIG. The aperture ratio can be improved by using such a color filter.

【0054】〔実施例5〕図9,図11,図13,図1
4,図15,は本発明の第5の実施例の単位画素の平面
図である。負の誘電率異方性液晶分子の配向方向は、
走査線とほぼ平行な関係にある。本発明の場合、上下
の偏光板の偏光軸は図18のような配置となる。本発明
の場合、図22にあるように負の誘電率異方性液晶分子
は、1画素内で左回りと右回りの異なる2方向の回転運
動をおこなう。この現象によりどの方向から見ても色彩
が変化しないのと、中間調領域での階調反転が発生しな
いので最もすぐれた画像を表現することができる。
[Embodiment 5] FIGS. 9, 11, 13, and 1.
4, FIG. 15 is a plan view of a unit pixel according to the fifth embodiment of the present invention. The orientation direction of the liquid crystal molecules with negative dielectric anisotropy is
It is almost parallel to the scanning line. In the case of the present invention, the polarization axes of the upper and lower polarizing plates are arranged as shown in FIG. In the case of the present invention, as shown in FIG. 22, the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules make rotational movements in two different directions, that is, counterclockwise rotation and clockwise rotation within one pixel. Due to this phenomenon, the color does not change when viewed from any direction and the gradation inversion does not occur in the halftone region, so that the best image can be expressed.

【0055】本発明の場合実施例5と異なり、映像信号
配線とスリット画素電極の間の液晶分子は、映像信号
配線に平行に配向されていないために、電界が発生する
と回転運動をしてしまう。このためカラーフィルター側
の遮光膜(BM)と映像信号配線とのアライメント精度
が悪るいとこのすき間から光がもれてしまう。この問題
を解決するために図13では、映像信号配線とスリッ
ト画素電極のすき間に光の透過しない金属電極を配置
している。この光の透過しない金属電極▲20▼は、対
向基板側の共通電極と同じ電位に設定してある。この金
属電極は、走査線を形成する時に同時に形成することが
でき、図16にあるように、スリット画素電極とゲート
絶縁膜▲16▼とパッシベーション膜▲15▼をかいし
てオーバーラップしている。このオーバーラップにより
保持容量を形成している。
In the case of the present invention, unlike the fifth embodiment, the liquid crystal molecules between the video signal wiring and the slit pixel electrode are not oriented parallel to the video signal wiring, so that when the electric field is generated, the liquid crystal molecules rotate. . Therefore, if the alignment accuracy between the light-shielding film (BM) on the color filter side and the video signal wiring is poor, light leaks from this gap. In order to solve this problem, in FIG. 13, a metal electrode that does not transmit light is arranged between the video signal wiring and the slit pixel electrode. The metal electrode (20) which does not transmit light is set to the same potential as the common electrode on the counter substrate side. This metal electrode can be formed at the same time when the scanning line is formed, and as shown in FIG. 16, it overlaps with the slit pixel electrode, the gate insulating film (16) and the passivation film (15). . A storage capacitor is formed by this overlap.

【0056】図14,図15では、スリット画素電極の
屈曲形状にあわせて映像信号配線も屈曲している。こ
の薄膜トランジスタ基板に対向するカラーフィルター基
板は、図20にあるように映像信号配線に対応する遮光
層(BM)が同じように屈曲している形状のものが良
い。このようなカラーフィルターを用いることで開口率
を向上することができる。
In FIGS. 14 and 15, the video signal wiring is also bent in accordance with the bent shape of the slit pixel electrode. The color filter substrate facing the thin film transistor substrate preferably has a shape in which the light shielding layer (BM) corresponding to the video signal wiring is similarly bent as shown in FIG. The aperture ratio can be improved by using such a color filter.

【0057】実施例3と同様に実施例5では、薄膜トラ
ンジスタ基板の映像信号配線の膜厚が、スリット画素電
極の膜厚よりも厚いので、ラビング処理を用いて液晶分
子を配向させる場合、ラビング不良が多発しやすい。こ
の問題を解決するには、図5にあるように平担化層▲1
9▼を形成した後に、スリット画素電極を形成すると
良い。スリット画素電極の膜厚は、300〜500オ
ングストロームと薄いので、ポリイミド配向膜▲14▼
を500〜800オングストロームの膜厚で塗布するだ
けでスリット画素電極の平担化を十分におこなうことが
できる。
Similar to the third embodiment, in the fifth embodiment, since the film thickness of the video signal wiring of the thin film transistor substrate is thicker than the film thickness of the slit pixel electrode, when the liquid crystal molecules are aligned by the rubbing process, the rubbing failure occurs. Is easy to occur. To solve this problem, as shown in Fig. 5, the flattening layer-1
It is preferable to form the slit pixel electrode after forming 9). Since the film thickness of the slit pixel electrode is as thin as 300 to 500 Å, a polyimide alignment film (14)
It is possible to sufficiently flatten the slit pixel electrode simply by coating the film with a film thickness of 500 to 800 angstrom.

【0058】〔実施例6〕図25,図26,図28,図
24は、本発明の第6の実施例のカラーフィルター側基
板の単位画素の平面図と液晶セルの断面図である。図2
3は、第6の実施例の斜視図である。実施例4や実施例
5とは異なりスリット電極をカラーフィルター側基板に
形成して、薄膜トランジスタ側基板には、スリット状パ
ターンのない画素電極▲23▼を形成している。この構
造ではカラーフィルター側基板の透明導電膜にスリット
状パターンを形成するために、ホトリソグラフィー工程
をさらに1回追加しなければならないというという欠点
が発生するが、図25,図26,図28にあるように走
査線や映像信号配線に対応する領域の透明導電膜をエッ
チングしてとりのぞいてしまうことで走査線や映像信号
配線がカラーフィルター側基板の透明導電膜と形成する
結合容量を大幅に低減することができ、信号波形の遅延
と変形を大幅に改善することができる。30インチ以上
の大型液晶TV用パネルでは大きな効果をはっきするこ
とができる。
[Embodiment 6] FIGS. 25, 26, 28 and 24 are a plan view of a unit pixel of a color filter side substrate and a sectional view of a liquid crystal cell according to a sixth embodiment of the present invention. Figure 2
3 is a perspective view of the sixth embodiment. Unlike the fourth and fifth embodiments, the slit electrode is formed on the color filter side substrate, and the pixel electrode (23) having no slit pattern is formed on the thin film transistor side substrate. This structure has a drawback that a photolithography process must be added once more to form a slit-shaped pattern on the transparent conductive film of the color filter side substrate. However, in FIG. 25, FIG. 26, and FIG. By etching and removing the transparent conductive film in the area corresponding to the scanning line and the video signal wiring, the coupling capacitance formed by the scanning line and the video signal wiring with the transparent conductive film of the color filter side substrate is greatly increased. It can be reduced, and the delay and deformation of the signal waveform can be greatly improved. A large liquid crystal TV panel of 30 inches or more can have a great effect.

【0059】本実施例では、図30にあるようにBの領
域がカラーフィルター基板側となるため、画素電極から
の電界がカラーフィルター層の内部にまで作用する。そ
のため図24にあるように平担化層▲33▼によりカラ
ーフィルター層▲11▼からの不純物イオン性物質が液
晶層にまで溶出しないようにしなければ信頼性をかくほ
しにくい。
In this embodiment, since the region B is on the color filter substrate side as shown in FIG. 30, the electric field from the pixel electrode acts even inside the color filter layer. Therefore, as shown in FIG. 24, it is difficult to obtain reliability unless the ionic substance from the color filter layer (11) is eluted into the liquid crystal layer by the flattening layer (33).

【0060】実施例4や5と同様にスリット電極が負の
誘電率異方性液晶分子の配向方向に対して90度をのぞ
く60度から90度の範囲で交差しているために1画素
内で左回りと右回りの異なる方向への液晶分子の回転運
動が発生する。このため見る方向によって色けが変化す
るカラーシフトの現象や中間調領域での階調反転現象が
生じないので自然な画像を得ることができる。
In the same manner as in Examples 4 and 5, since the slit electrode intersects with the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules in the range of 60 to 90 degrees except 90 degrees, At this point, the rotational movement of the liquid crystal molecules occurs in different directions, counterclockwise and clockwise. Therefore, the phenomenon of color shift in which the color shifts depending on the viewing direction and the gradation inversion phenomenon in the halftone region do not occur, so that a natural image can be obtained.

【0061】図24,図33にあるように平担化膜に比
誘電率の大きな透明金属酸化物を用いることでスリット
電極のスペース領域Sに効率よく電界を集中することが
できるようになるので負の誘電率異方性液晶の駆動電圧
を低減することができる。TiOxやTaOxなどの金
属酸化物やTiOxNy,TaOxNyなどの金属酸窒
化物がコストも安く効果的である。
As shown in FIGS. 24 and 33, by using a transparent metal oxide having a large relative dielectric constant for the flattening film, the electric field can be efficiently concentrated in the space region S of the slit electrode. The driving voltage of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal can be reduced. Metal oxides such as TiOx and TaOx and metal oxynitrides such as TiOxNy and TaOxNy are low in cost and effective.

【0062】〔実施例7〕図35,図36,図37,図
38,図39,図40,図41,図42,図43は、本
発明の第7の実施例の液晶セルの断面図と斜視図と単位
画素の平面図である。本実施例は薄膜トランジスタ側基
板とカラーフィルター側基板の両方の互いに対向する透
明導電性電極に負の誘電率異方性液晶分子の配向方向に
対して90度をのぞく60度から90度の範囲で交差し
ているスリット状パターンを形成している。図35や図
36のようにスリットのスペースSがスリット電極の幅
Wの3倍以上大きい場合、正の誘電率異方性液晶を用い
ることが可能である。この場合には、スリット電極と正
の誘電率異方性液晶分子の配向方向との交差角は0度を
のぞく0度から30度の範囲が最も適している。図37
や図38,図39のように片側の電極のスリットのスペ
ースSがスリット電極の幅Wと同等かそれよりも狭まい
場合には、正の誘電率異方性液晶を用いるこはできな
い。横電界成分圧xよりも縦電界成分圧yの方が大きく
なってしまい正の誘電率異方性液晶では液晶分子が立ち
上がってしまい、視野角が小さくなってしまうからであ
る。図35,図36,図37の場合には、上下のスリッ
ト電極はほぼ同じスリットのスペースSとスリット電極
幅Wを用いることができるので上下基板のバランスをと
ることができるのでフリッカーや残像の問題の発生が少
ない。
[Embodiment 7] FIGS. 35, 36, 37, 38, 39, 40, 41, 42 and 43 are sectional views of a liquid crystal cell according to a seventh embodiment of the present invention. FIG. 3 is a perspective view and a plan view of a unit pixel. In this embodiment, the transparent conductive electrodes facing each other on both the thin film transistor side substrate and the color filter side substrate are in the range of 60 to 90 degrees except for 90 degrees with respect to the orientation direction of the liquid crystal molecules of negative dielectric anisotropy. A slit-shaped pattern that intersects is formed. When the space S of the slit is three times or more the width W of the slit electrode as shown in FIGS. 35 and 36, it is possible to use the positive dielectric constant anisotropic liquid crystal. In this case, the crossing angle between the slit electrode and the alignment direction of the positive dielectric anisotropy liquid crystal molecules is most suitable in the range of 0 to 30 degrees except 0 degree. FIG. 37
If the space S of the slit of the electrode on one side is equal to or narrower than the width W of the slit electrode as shown in FIGS. 38 and 39, the positive dielectric constant anisotropic liquid crystal cannot be used. This is because the vertical electric field component pressure y becomes larger than the horizontal electric field component pressure x, liquid crystal molecules rise in the positive dielectric constant anisotropic liquid crystal, and the viewing angle becomes small. In the case of FIGS. 35, 36, and 37, since the upper and lower slit electrodes can use substantially the same slit space S and slit electrode width W, the upper and lower substrates can be balanced, and the problem of flicker and afterimage is caused. Is less likely to occur.

【0063】図40,図42にあるような、スリットパ
ターンの場合、負の誘電率異方性液晶分子の配向方向
は、映像信号配線と平行な方向となる。図41,図43
にあるようなスリットパターンの場合、負の誘電率異方
性液晶分子の配向方向は、走査線と平行な方向となる。
実施例6と同様に実施例7ではカラーフィルター側基板
の透明導電膜にスリット状パターンを形成するために、
ホトリソグラフィー工程をされに1回追加しなければな
らないのでコストアップになる欠点があるが、図25,
図26,図28にあるように、走査線や映像信号配線に
対応する領域の透明導電膜をエッチングしてとりのぞい
てしまうことで、走査線や映像信号配線がカラーフィル
ター側基板の透明導電膜と形成する結合容量を大幅に低
減することができ、信号波形の遅延と変形を大幅に改善
することができる。本実施例は30インチ以上の大型液
晶TV用パネルでは、最もすぐれた画像を得ることがで
きる。
In the case of the slit pattern as shown in FIGS. 40 and 42, the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal molecules is parallel to the video signal wiring. 41 and 43
In the case of the slit pattern as described in (1), the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecules is parallel to the scanning line.
In the same manner as in Example 6, in Example 7, in order to form the slit-shaped pattern on the transparent conductive film of the color filter side substrate,
Since the photolithography process has to be added once, there is a drawback that the cost is increased.
As shown in FIGS. 26 and 28, the transparent conductive film in the region corresponding to the scanning line and the video signal wiring is removed by etching, so that the scanning line and the video signal wiring are transparent conductive films of the color filter side substrate. It is possible to greatly reduce the coupling capacitance formed by the above, and it is possible to greatly improve the delay and deformation of the signal waveform. In this embodiment, the best image can be obtained on a large LCD TV panel of 30 inches or more.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明により従来のIPSモードでは実
現することのできなかった明るい視野角の広いカラーシ
フトの生じない液晶パネルを従来のTNモードのプロセ
スをほとんど変更することなしに実現できる。負の誘電
率異方性液晶分子の配向方向を映像信号配線と平行にす
ることでカラーフィルター側基板と薄膜トランジスタ側
基板のアライメント精度が非常にゆるくても光もれの問
題が発生しないので液晶セルアセンブリ工程の歩留りが
向上する。
According to the present invention, it is possible to realize a liquid crystal panel having a wide viewing angle and a wide range of color shifts, which cannot be realized in the conventional IPS mode, with almost no change in the conventional TN mode process. By aligning the orientation of the liquid crystal molecules with the negative dielectric anisotropy in parallel with the video signal wiring, the problem of light leakage does not occur even if the alignment accuracy between the color filter side substrate and the thin film transistor side substrate is very loose. The yield of the assembly process is improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の横電界液晶駆動方式(フリンジフィール
ドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基板の
平面図
FIG. 1 is a plan view of a conventional horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate.

【図2】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィー
ルドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基板
の平面図
FIG. 2 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図3】従来の横電界液晶駆動方式(フリンジフィール
ドスイッチング方式)のアクティブマトリックス液晶表
示パネルの断面図
FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix liquid crystal display panel.

【図4】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィー
ルドスイッチング方式)のアクティブマトリックス液晶
表示パネルの断面図
FIG. 4 is a cross-sectional view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix liquid crystal display panel of the present invention.

【図5】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィー
ルドスイッチング方式)のアクティブマトリックス液晶
表示パネルの断面図
FIG. 5 is a sectional view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix liquid crystal display panel of the present invention.

【図6】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィー
ルドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基板
の平面図
FIG. 6 is a plan view of an in-plane switching liquid crystal driving method (fringe field switching method) active matrix substrate of the present invention.

【図7】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィー
ルドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基板
の平面図
FIG. 7 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図8】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィー
ルドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基板
の平面図
FIG. 8 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図9】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィー
ルドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基板
の平面図
FIG. 9 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図10】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基
板の平面図
FIG. 10 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図11】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基
板の平面図
FIG. 11 is a plan view of an in-plane switching liquid crystal driving method (fringe field switching method) active matrix substrate of the present invention.

【図12】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基
板の平面図
FIG. 12 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図13】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基
板の平面図
FIG. 13 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図14】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基
板の平面図
FIG. 14 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図15】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基
板の平面図
FIG. 15 is a plan view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図16】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス液
晶パネルの断面図
FIG. 16 is a cross-sectional view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix liquid crystal panel of the present invention.

【図17】本発明の偏光板の偏光軸と液晶パネルの関係
FIG. 17 is a diagram showing the relationship between the polarization axis of the polarizing plate of the present invention and the liquid crystal panel.

【図18】本発明の偏光板の偏光軸と液晶パネルの関係
FIG. 18 is a diagram showing the relationship between the polarization axis of the polarizing plate of the present invention and the liquid crystal panel.

【図19】本発明のラビング配向処理時のラビングロー
ルと基板の関係図
FIG. 19 is a diagram showing the relationship between the rubbing roll and the substrate during the rubbing orientation treatment of the present invention.

【図20】本発明で用いられるカラーフィルターの平面
FIG. 20 is a plan view of a color filter used in the present invention.

【図21】本発明で用いられるカラーフィルターの平面
FIG. 21 is a plan view of a color filter used in the present invention.

【図22】本発明の液晶セルの内部の電界ベクトルと負
の誘電率異方性液晶分子の動作方向を示す説明図
FIG. 22 is an explanatory view showing an electric field vector inside the liquid crystal cell of the present invention and an operation direction of negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecules.

【図23】本発明のアクティブマトリックス液晶パネル
の斜視図
FIG. 23 is a perspective view of an active matrix liquid crystal panel of the present invention.

【図24】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス液
晶パネルの断面図
FIG. 24 is a cross-sectional view of an in-plane switching liquid crystal driving method (fringe field switching method) active matrix liquid crystal panel of the present invention.

【図25】本発明で用いられるカラーフィルターの平面
FIG. 25 is a plan view of a color filter used in the present invention.

【図26】本発明で用いられるカラーフィルターの平面
FIG. 26 is a plan view of a color filter used in the present invention.

【図27】本発明のアクティブマトリックス液晶パネル
の斜視図
FIG. 27 is a perspective view of an active matrix liquid crystal panel of the present invention.

【図28】本発明で用いられるカラーフィルターの平面
FIG. 28 is a plan view of a color filter used in the present invention.

【図29】本発明の映像信号配線付近の負の誘電率異方
性液晶分子の動作方向を示す説明図
FIG. 29 is an explanatory view showing the operation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecules near the video signal wiring of the present invention.

【図30】フリンジフィールド電界ベクトルの説明図FIG. 30 is an explanatory diagram of a fringe field electric field vector.

【図31】横電界駆動方式液晶パネルの駆動電圧と透過
率の関係図
FIG. 31 is a relationship diagram between a driving voltage and a transmittance of a horizontal electric field driving type liquid crystal panel.

【図32】従来の横電界液晶駆動方式(IPS…インプ
レーンスイッチング方式)の駆動電極構造の断面図
FIG. 32 is a sectional view of a conventional in-plane switching liquid crystal drive system (IPS ... In-plane switching system) drive electrode structure.

【図33】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のアクティブマトリックス基
板の断面図
FIG. 33 is a cross-sectional view of a horizontal electric field liquid crystal drive system (fringe field switching system) active matrix substrate of the present invention.

【図34】本発明の横電界液晶駆動方式(フリンジフィ
ールドスイッチング方式)のスリット電極と液晶配向方
向との交差角と駆動電圧の関係
FIG. 34 is a relationship between a driving voltage and a crossing angle between a slit electrode and a liquid crystal alignment direction in a horizontal electric field liquid crystal driving method (fringe field switching method) of the present invention.

【図35】本発明の上下透明電極にスリットが形成して
ある時の電極の断面配置図
FIG. 35 is a cross-sectional layout view of electrodes when slits are formed in the upper and lower transparent electrodes of the present invention.

【図36】本発明の上下透明電極にスリットが形成して
あるタイプの画素電極の断面配置図
FIG. 36 is a cross-sectional layout view of a pixel electrode of a type in which slits are formed in the upper and lower transparent electrodes of the present invention.

【図37】本発明の上下透明電極にスリットが形成して
あるタイプの画素電極の断面配置図
FIG. 37 is a sectional layout view of a pixel electrode of a type in which a slit is formed in the upper and lower transparent electrodes of the present invention.

【図38】本発明の上下透明電極にスリットが形成して
あるタイプの画素電極の断面配置図
FIG. 38 is a sectional layout view of a pixel electrode of a type in which slits are formed in the upper and lower transparent electrodes of the present invention.

【図39】本発明の上下透明電極にスリットが形成して
あるタイプの画素電極の断面配置図
FIG. 39 is a sectional layout view of a pixel electrode of a type in which slits are formed in the upper and lower transparent electrodes of the present invention.

【図40】本発明のアクティブマトリックス液晶パネル
の斜視図
FIG. 40 is a perspective view of an active matrix liquid crystal panel of the present invention.

【図41】本発明のアクティブマトリックス液晶パネル
の斜視図
FIG. 41 is a perspective view of an active matrix liquid crystal panel of the present invention.

【図42】本発明の上下透明電極にスリットが形成して
あるタイプの上下電極をはりあわせた後の平面図
FIG. 42 is a plan view after the upper and lower electrodes of the type in which slits are formed in the upper and lower transparent electrodes of the present invention are bonded together.

【図43】本発明の上下透明電極にスリットが形成して
あるタイプの上下電極をはりあわせた後の平面図
FIG. 43 is a plan view after the upper and lower electrodes of the type in which the upper and lower transparent electrodes of the present invention are provided with slits are attached to each other;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1‥‥走査線 2‥‥映像信号配線 3‥‥薄膜トランジスタ素子 4‥‥薄膜トランジスタ側基板に形成された透明共通電
極 5‥‥スリット状パターンを有する透明画素電極 6‥‥負の誘電率異方性液晶分子の配向方向と偏光板の
偏光軸方向 7‥‥負の誘電率異方性液晶分子の配向方向とスリット
画素電極の交差角θ 8‥‥対向側基板(カラーフィルター側基板) 9‥‥静電気シールド用透明導電膜 10‥‥遮光膜(ブラックマスク) 11‥‥カラーフィルター層 12‥‥カラーフィルター側平担化層 13‥‥対向基板側配向膜 14‥‥薄膜トランジスタ基板側配向膜 15‥‥パッシベーション(保護膜) 16‥‥ゲート絶縁膜 17‥‥薄膜トランジスタ側基板 18‥‥対向側基板(カラーフィルター側基板)に形成
された透明共通電極 19‥‥薄膜トランジスタ基板側平担化層 20‥‥薄膜トランジスタ側共通電極 21‥‥偏光板の偏光軸方向 22‥‥負の誘電率異方性液晶分子 23‥‥薄膜トランジスタ側基板に形成された透明画素
電極 24‥‥対向側基板(カラーフィルター側基板)に形成
された透明スリット共通電極 25‥‥薄膜トランジスタ側基板の液晶分子の配向方向 26‥‥対向側基板(カラーフィルター側基板)の液晶
分子の配向方向 27‥‥映像信号配線と画素電極との間のスペース 28‥‥従来のIPSモード液晶パネルの光の透過率特
性 29‥‥従来のフリンジフィールドスイッチングモード
の液晶パネルの光の透過率特性 30‥‥本発明の横電界駆動方式液晶パネルの光の透過
率特性 31‥‥IPSモードの液晶駆動電極 32‥‥IPSモードの画素共通電極 33‥‥高誘電率オーバーコート平担化層
1 scanning line 2 video signal wiring 3 thin film transistor element 4 transparent common electrode 5 formed on the thin film transistor side substrate transparent pixel electrode 6 having a slit pattern negative dielectric anisotropy Alignment direction of liquid crystal molecules and polarization axis direction of polarizing plate 7 ... Negative dielectric constant anisotropy Alignment direction of liquid crystal molecules and slit pixel electrode crossing angle θ 8 ... Opposing side substrate (color filter side substrate) 9 ... Transparent conductive film 10 for static electricity shielding Light-shielding film (black mask) 11 Color filter layer 12 Flattening layer on color filter 13 Alignment film on counter substrate 14 Alignment film on thin film transistor substrate 15 Passivation (protective film) 16 ... Gate insulating film 17 ... Thin film transistor side substrate 18 ... Transparent common electrode 19 formed on opposite side substrate (color filter side substrate) Thin film transistor substrate side flattening layer 20 .. Thin film transistor side common electrode 21 .. Polarizing axis direction of polarizing plate 22 .. Negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecule 23 .. Transparent pixel electrode 24 formed on thin film transistor side substrate. ...... Transparent slit common electrode 25 formed on the opposite side substrate (color filter side substrate) ...... Orientation direction 26 of liquid crystal molecules on the thin film transistor side substrate ...... Orientation direction 27 of liquid crystal molecules on the opposite side substrate (color filter side substrate). Space between video signal line and pixel electrode 28. Light transmittance characteristic of conventional IPS mode liquid crystal panel 29. Light transmittance characteristic of conventional fringe field switching mode liquid crystal panel 30. Transmissivity characteristics of the horizontal electric field driving type liquid crystal panel 31 ... IPS mode liquid crystal driving electrode 32 ... IPS mode pixel common charge 33 ‥‥ high dielectric constant overcoat flattening layer

Claims (26)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】薄膜トランジスタ側基板と、この薄膜トラ
ンジスタ側基板に対向する対向側基板と、前記対向側基
板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負の
誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板の薄膜トラ
ンジスタ側基板との対向面には、透明な導電体電極が形
成され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側基板との
対向面には、複数本のスリット状のパターンが形成され
た透明な画素電極があり、前記スリットパターンの長軸
方向と負の誘電率異方性液晶の配向方向の交差角が90
度をのぞく60度から90度の範囲(ただし交差角θは
0度≦θ≦90度に限定する)にあることを特徴とす
る。横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶
表示装置
1. A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent conductor electrode is formed on a surface of the counter substrate facing the thin film transistor side substrate, and a plurality of slit-shaped patterns are formed on a surface of the thin film transistor side substrate facing the counter substrate. There is a transparent pixel electrode, and the crossing angle between the major axis direction of the slit pattern and the alignment direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is 90.
It is characterized in that it is in the range of 60 degrees to 90 degrees except for degrees (however, the crossing angle θ is limited to 0 degrees ≦ θ ≦ 90 degrees). In-field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal display device
【請求項2】請求項1において、薄膜トランジスタ側基
板の透明な画素電極に形成された複数本のスリットパタ
ーンの長軸方向と、薄膜トランジスタ側基盤に形成され
た映像信号配線の交差角が90度をのぞく60度から9
0度の範囲にあり、かつ負の誘電率異方性液晶の配向方
向が映像信号配線とほぼ平行であることを特徴とする横
電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶表示装
2. The crossing angle between the major axis direction of a plurality of slit patterns formed on the transparent pixel electrode of the thin film transistor side substrate and the video signal wiring formed on the thin film transistor side substrate is 90 degrees. Peek 60 degrees to 9
A horizontal electric field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal display device in which the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is in the range of 0 degree and is substantially parallel to the video signal wiring.
【請求項3】請求項1において、薄膜トランジスタ側基
板の透明な画素電極に形成された複数本のスリットパタ
ーンの長軸方向と、薄膜トランジスタ側基板に形成され
た走査線の交差角が90度をのぞく60度から90度の
範囲にあり、かつ負の誘電率異方性液晶の配向方向が走
査線とほぼ平行であることを特徴とする横電界液晶駆動
方式アクティブマトリックス型液晶表示装置
3. The crossing angle between the major axis direction of the plurality of slit patterns formed on the transparent pixel electrode of the thin film transistor side substrate and the scanning line formed on the thin film transistor side substrate is 90 degrees except for the above. A horizontal electric field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal display device in which the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is in the range of 60 to 90 degrees and is substantially parallel to the scanning line.
【請求項4】薄膜トランジスタ側基板と、この薄膜トラ
ンジスタ側基板に対向する対向側基板と、前記対向側基
板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負の
誘電率異方性液晶とを有し、前記薄膜トランジスタ側基
板の対向側基板との対向面には、透明な画素電極が形成
され、前記対向側基板の薄膜トランジスタ側基板の透明
画素電極と対向する面には、複数本のスリット状のパタ
ーンが形成された透明な共通電極があり、前記スリット
パターンの長軸方向と、負の誘電率異方性液晶の配向方
向の交差角が90度をのぞく60度から90度の範囲に
あることを特徴とする横電界液晶駆動方式アクティブマ
トリックス型液晶表示装置
4. A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent pixel electrode is formed on a surface of the thin film transistor side substrate facing the counter side substrate, and a plurality of slit-shaped patterns are formed on a surface of the counter side substrate facing the transparent pixel electrode of the thin film transistor side substrate. There is a transparent common electrode formed, and the crossing angle between the major axis direction of the slit pattern and the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is in the range of 60 degrees to 90 degrees except 90 degrees. In-field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal display device
【請求項5】請求項4において、薄膜トランジスタ側基
板に対向する対向側基板に形成された複数本のスリット
パターンの長軸方向と、薄膜トランジスタ側基板に形成
された映像信号配線の交差角が90度をのぞく60度か
ら90度の範囲にあり、かつ負の誘電率異方性液晶の配
向方向が映像信号配線とほぼ平行であることを特徴とす
る横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶表
示装置
5. The crossing angle between a major axis direction of a plurality of slit patterns formed on a substrate on the thin film transistor side and a video signal wiring formed on the substrate on the thin film transistor side is 90 degrees. Except in the range of 60 degrees to 90 degrees, and the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is substantially parallel to the video signal wiring, a horizontal electric field liquid crystal drive type active matrix type liquid crystal display device.
【請求項6】請求項4において、薄膜トランジスタ側基
板に対向する対向側基板に形成された複数本のスリット
パターンの長軸方向と薄膜トランジスタ側基板に形成さ
れた走査線の交差角が90度をのぞく60度から90度
の範囲にあり、かつ負の誘電率異方性液晶の配向方向が
走査線とほぼ平行であることを特徴とする横電界液晶駆
動方式アクティブマトリックス型液晶表示装置
6. The crossing angle between a major axis direction of a plurality of slit patterns formed on a counter substrate facing a thin film transistor side substrate and a scanning line formed on the thin film transistor side substrate except for 90 degrees. A horizontal electric field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal display device in which the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is in the range of 60 to 90 degrees and is substantially parallel to the scanning line.
【請求項7】薄膜トランジスタ側基板と、この薄膜トラ
ンジスタ側基板に対向する対向側基板と前記対向側基板
及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負の誘
電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板の薄膜トラン
ジスタ側基板との対向面には、透明な誘電体電極が形成
され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側基板との対
向面には複数本のスリット状のパターンが形成された透
明な画素電極があり、前記スリットパターンの長軸方向
と、負の誘電率異方性液晶の配向方向の交差角が90度
をのぞく60度から90度の範囲にあり、かつ1画素内
で負の誘電率異方性液晶分子の回転運動方向が左回り右
回りの異なる2方向の回転運動が可能で、異なる回転運
動するそれぞれの領域の面積が1画素内でほぼ等しいこ
とを特徴とする横電界駆動方式アクティブマトリックス
型液晶表示装置
7. A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent dielectric electrode is formed on the surface of the counter substrate facing the thin film transistor side substrate, and a transparent dielectric electrode having a plurality of slit patterns is formed on the surface of the thin film transistor side substrate facing the counter substrate. There is a pixel electrode, the intersection angle between the major axis direction of the slit pattern and the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is in the range of 60 degrees to 90 degrees except 90 degrees, and the negative angle within one pixel. The direction of rotation of the liquid crystal molecules with anisotropic dielectric constant can be two different directions, that is, the direction of rotation is counterclockwise and the direction of clockwise rotation is different. Field driving type active-matrix liquid crystal display device
【請求項8】薄膜トランジスタ側基板と、この薄膜トラ
ンジスタ側基板に対向する対向側基板と前記対向側基板
及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負の誘
電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板の薄膜トラン
ジスタ側基板との対向面には、透明な導電体電極が形成
され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側基板との対
向面には、複数本の屈曲したスリット状のパターンが形
成さた透明な画素電極があり前記スリットパターンの長
軸方向と、負の誘電率異方性液晶の配向方向の交差角が
90度をのぞく60度から90度の範囲にあり、かつ1
画素内でスリットパターンが1回以上屈曲している構造
を特徴とする横電界液晶駆動方式アクティグマドリック
ス型液晶表示装置
8. A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent conductor electrode is formed on the surface of the opposite substrate facing the thin film transistor side substrate, and a plurality of bent slit-shaped patterns are formed on the surface of the thin film transistor side substrate facing the opposite substrate. And the crossing angle between the major axis direction of the slit pattern and the alignment direction of the negative dielectric anisotropy anisotropic liquid crystal is in the range of 60 to 90 degrees except 90 degrees, and 1
In-Plane Liquid Crystal Drive Actig Madrix type liquid crystal display device characterized by a structure in which a slit pattern is bent once or more in a pixel
【請求項9】薄膜トランジスタ側基板と、この薄膜トラ
ンジスタ側基板に対向する対向基板と、前記対向側基板
及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負の誘
電率異方性液晶とを有し、前記薄膜トランジスタ側基板
の対向側基板との対向面には、透明な画素電極が形成さ
れ、前記対向側基板の薄膜トランジスタ側基板の透明画
素電極と対向する面には、複数本のスリット状のパター
ンが形成された透明な共通電極があり、前記スリット状
のパターンの長軸方向と、負の誘電率異方性液晶の配向
方向の交差角が90度をのぞく60度から90度の範囲
にあり、かつ薄膜トランジスタ側基板の1画素内で負の
誘電率異方性液晶分子の回転運動方向が、左回り、右回
りの異なる2方向の回転運動が可能で、異なる回転運動
するそれぞれの領域の面積が、1画素内でほぼ等しいこ
とを特徴とする横電界駆動方式アクティブマトリックス
型液晶表示装置
9. A thin film transistor side substrate, a counter substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent pixel electrode is formed on the surface of the thin film transistor side substrate facing the opposite side substrate, and a plurality of slit-like patterns are formed on the surface of the opposite side substrate facing the transparent pixel electrode of the thin film transistor side substrate. And the crossing angle between the major axis direction of the slit-shaped pattern and the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is in the range of 60 degrees to 90 degrees except 90 degrees, and In one pixel on the thin film transistor side substrate, the rotational movement direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecule can be two different rotational movements, counterclockwise rotation and clockwise rotation. Area of the lateral electric field drive system active matrix type liquid crystal display device, characterized in that approximately equal in one pixel
【請求項10】薄膜トランジスタ側基板と、この薄膜ト
ランジスタ側基板に対向する対向側基板と前記対向側基
板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負の
誘電率異方性液晶とを有し、前記薄膜トランジスタ側基
板の対向側基板との対向面には、透明な画素電極が形成
され、前記対向側基板の薄膜トランジスタ側基板の透明
画素電極と対向する面には、複数本の屈曲したスリット
状のパターンが形成された透明な共通電極があり、前記
スリット状のパターンの長軸方向と、負の誘電率異方性
液晶の配向方向の交差角が90度をのぞく60度から9
0度の範囲にあり、かつ薄膜トランジスタ側基板の1画
素に対応する対向側基板の共通電極内のスリット状パタ
ーンが1回以上屈曲している構造を特徴とする横電界液
晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶表示装置
10. A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent pixel electrode is formed on a surface of the thin film transistor side substrate facing the opposite side substrate, and a plurality of bent slit-shaped patterns are formed on a surface of the opposite side substrate facing the transparent pixel electrode of the thin film transistor side substrate. There is a transparent common electrode in which the crossing angle between the major axis direction of the slit pattern and the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is 90 degrees except 60 degrees to 9 degrees.
Lateral electric field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal having a structure in which the slit-shaped pattern in the common electrode of the opposite side substrate corresponding to one pixel of the thin film transistor side substrate is bent once or more in the range of 0 degree Display device
【請求項11】請求項7,8,9,10に関して、負の
誘電率異方性液晶の配向方向が薄膜トランジスタ側基板
に形成された映像信号配線とほぼ平行であることを特徴
とする横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液
晶表示装置
11. A transverse electric field according to claim 7, 8, 9 or 10, wherein the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is substantially parallel to the video signal wiring formed on the thin film transistor side substrate. Liquid crystal drive active matrix liquid crystal display
【請求項12】請求項7,8,9,10に関して、負の
誘電率異方性液晶の配向方向が、薄膜トランジスタ側基
板に形成された走査線とほぼ平行であることを特徴とす
る横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶表
示装置
12. A lateral electric field according to claim 7, 8, 9 or 10, wherein the alignment direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is substantially parallel to the scanning line formed on the thin film transistor side substrate. Liquid crystal drive active matrix liquid crystal display
【請求項13】請求項8,10,12に関して、1画素
内で1回以上屈曲しているスリット状パターンと、ほぼ
同じ角度で映像信号配線と色フィルターと色フィルター
のブラックマスク(遮光膜)が1画素内で1回以上屈曲
していることを特徴とする横電界液晶駆動方式アクティ
ブマトリックス型液晶表示装置
13. A black mask (light-shielding film) for a video signal wiring, a color filter and a color filter at substantially the same angle as a slit-shaped pattern bent once or more in one pixel. A horizontal electric field liquid crystal drive type active matrix type liquid crystal display device characterized in that each pixel is bent once or more
【請求項14】請求項8,10,11に関して、1画素
内で1回以上屈曲しているスリット状パターンとほぼ同
じ角度で、走査線と色フィルターと、色フィルターのブ
ラックマスク(遮光膜)が、1画素内で1回以上屈曲し
ていることを特徴とする横電界液晶駆動方式アクティブ
マトリックス型液晶表示装置
14. The scanning line, the color filter, and the black mask (light-shielding film) of the color filter at substantially the same angle as the slit pattern bent once or more in one pixel. Is bent once or more in one pixel, and an in-field liquid crystal drive type active matrix type liquid crystal display device is characterized.
【請求項15】請求項1,2,3,7,8,11,1
2,13,14に関して、薄膜トランジスタ側基板に形
成された複数本のスリット状パターンを有する透明な画
素電極の下層に比誘電率の大きな透明金属酸化物絶縁層
または透明金属酸窒化物絶縁層を形成したことを特徴と
する横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶
表示装置
15. Claims 1, 2, 3, 7, 8, 11, 1
Regarding Nos. 2, 13 and 14, a transparent metal oxide insulating layer or a transparent metal oxynitride insulating layer having a large relative dielectric constant is formed under a transparent pixel electrode having a plurality of slit-shaped patterns formed on a thin film transistor side substrate. In-field liquid crystal drive type active matrix type liquid crystal display device characterized in that
【請求項16】請求項4,5,6,9,10,11,1
2,13,14に関して、薄膜トランジスタ側基板に対
向する対向基板に形成された複数本のスリット状パター
ンを有する透明な共通電極の下層に、比誘電率の大きな
透明金属酸化物絶縁層または透明金属酸窒化物絶縁層を
形成したことを特徴とする横電界液晶駆動方式アクティ
ブマトリックス型液晶表示装置
16. The method according to claim 4, 5, 6, 9, 10, 11, 1.
Regarding Nos. 2, 13 and 14, a transparent metal oxide insulating layer or a transparent metal oxide layer having a large relative dielectric constant is formed below the transparent common electrode having a plurality of slit-shaped patterns formed on the counter substrate facing the thin film transistor side substrate. In-field liquid crystal driving type active matrix type liquid crystal display device characterized in that a nitride insulating layer is formed.
【請求項17】請求項1から16に関して、スリットの
電極幅をW,スリットの電極間スペースをS,液晶セル
ギャップをd,負の誘電率異方性液晶の屈折率異方性を
Δnとしたとき、W≦d かつ d≦S<4×d かつ
1、0μm<d<5、0μmかつ200nm≦Δn×
d≦460nmの条件を満足していることを特徴とする
横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶表示
装置
17. The electrode width of the slit is W, the space between the slit electrodes is S, the liquid crystal cell gap is d, and the refractive index anisotropy of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is Δn. Then, W ≦ d and d ≦ S <4 × d and 1, 0 μm <d <5, 0 μm and 200 nm ≦ Δn ×
In-plane switching liquid crystal drive type active matrix type liquid crystal display device characterized by satisfying a condition of d ≦ 460 nm
【請求項18】薄膜トランジスタ側基板と、この薄膜ト
ランジスタ側基板に対向する対向側基板と、前記対向側
基板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負
の誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板の薄膜ト
ランジスタ側基板との対向面には、複数本のスリット状
のパターンが形成された透明な誘電体電極(共通電極)
が形成され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側基板
との対向面にも、同様に複数本のスリット状のパターン
が形成された透明な画素電極があり、これら上下基板に
形成された複数本のスリット状パターンは、お互いにほ
ぼ平行に配置され、対向側基板に形成されたスリット電
極の電極間スペースの中央部に対応する位置に、薄膜ト
ランジスタ側基板の画素電極のスリット電極の電極部が
負の誘電率異方性液晶をかいして配置され、前記お互い
に平行に対向しているスリット状パターンの長軸方向
と、負の誘電率異方性液晶の配向方向の交差角が90度
をのぞく60度から90度の範囲にあることを特徴とす
る、横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶
表示装置
18. A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent dielectric electrode (common electrode) in which a plurality of slit-shaped patterns are formed on the surface of the opposite substrate facing the thin film transistor side substrate.
And a transparent pixel electrode in which a plurality of slit-shaped patterns are similarly formed on the surface of the thin film transistor side substrate facing the opposite side substrate, and the plurality of slits formed on the upper and lower substrates are formed. The striped patterns are arranged substantially parallel to each other, and the electrode part of the slit electrode of the pixel electrode of the thin film transistor side substrate has a negative dielectric at a position corresponding to the center of the interelectrode space of the slit electrode formed on the opposite side substrate. The crossing angle between the major axis directions of the slit-shaped patterns arranged parallel to each other in parallel with the anisotropic liquid crystal and facing the alignment direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is 90 degrees. In the range of 90 degrees to 90 degrees, a horizontal electric field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal display device.
【請求項19】薄膜トランジスタ側基板とこの薄膜トラ
ンジスタ側基板に対向する対向側基板との前記対向側基
板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負の
誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板の薄膜トラ
ンジスタ側基板との対向面には、複数本のスリット状の
パターンが形成された透明な導電体電極(共通電極)が
形成され、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側基板と
の対向面にも、同様に複数本のスリット状のパターンが
形成された透明な画素電極があり、これら上下基板に形
成された複数本のスリット状パターンは、お互いにほぼ
平行に配置され、対向側基板に形成されたスリット電極
の電極間スペースの中央部に対応する位置に、薄膜トラ
ンジスタ側基板の画素電極のスリット電極の電極部が負
の誘電率異方性液晶をかいして配置され、前記お互いに
平行に対向しているスリット状のパターンの長軸方向と
負の誘電率異方性液晶の配向方向の交差角が、90度を
のぞく60度から90度の範囲にあり、かつ1画素内で
負の誘電率異方性液晶分子の回転運動方向が左回り右回
りの異なる2方向の回転運動が可能で、異なる回転運動
するそれぞれの領域の面積が1画素内でほぼ等しいこと
を特徴とする横電界駆動方式アクティブマトリックス型
液晶表示装置
19. A negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the thin film transistor side substrate and an opposite side substrate facing the thin film transistor side substrate, and the opposite side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent conductor electrode (common electrode) having a plurality of slit-shaped patterns is formed on the surface of the counter substrate facing the thin film transistor side, and the surface of the thin film transistor side substrate facing the counter substrate. Similarly, there is a transparent pixel electrode on which a plurality of slit-shaped patterns are similarly formed, and the plurality of slit-shaped patterns formed on these upper and lower substrates are arranged substantially parallel to each other and are formed on the opposite substrate. At the position corresponding to the center of the inter-electrode space of the formed slit electrode, the electrode part of the slit electrode of the pixel electrode of the thin film transistor side substrate has a negative dielectric constant anisotropic liquid. The crossing angle between the long axis direction of the slit-like patterns and the alignment direction of the negative dielectric anisotropy anisotropic liquid crystal arranged in parallel with each other is 60 ° to 90 ° except 90 °. Within one pixel range, and the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal molecules can rotate in two different rotational directions, counterclockwise and clockwise, and the area of each region that makes different rotational movements is 1 Horizontal electric field drive type active matrix type liquid crystal display device characterized by being almost equal in the pixel
【請求項20】薄膜トランジスタ側基板と、この薄膜ト
ランジスタ側基板に対向する対向側基板と前記対向側基
板及び薄膜トランジスタ側基板との間に挟持された負の
誘電率異方性液晶とを有し、前記対向側基板の薄膜トラ
ンジスタ側基板との対向面には、複数本の屈曲したスリ
ット状のパターンが形成された透明な導電体電極(共通
電極)があり、前記薄膜トランジスタ側基板の対向側基
板との対向面にも、同様に複数本の屈曲したスリット状
のパターンが形成され透明電極があり、これら上下基板
に形成された複数本の屈曲したスリット状パターンは、
お互いに、ほぼ平行に配置され、対向側基板に形成され
たスリット電極の電極間スペースの中央部に対応する位
置に、薄膜トランジスタ側基板の画素電極のスリット電
極の電極部が負の誘電率異方性液晶をかいして配置さ
れ、前記お互いに平行に対向しているスリット状のパタ
ーンの長軸方向と負の誘電率異方性液晶の配向方向の交
差角が90度をのぞく60度から90度の範囲にあり、
かつ1画素内でスリットパターンが、1回以上屈曲して
いる構造を特徴とする横電界液晶駆動方式アクティブマ
トリックス型液晶表示装置
20. A thin film transistor side substrate, a counter side substrate facing the thin film transistor side substrate, and a negative dielectric constant anisotropic liquid crystal sandwiched between the counter side substrate and the thin film transistor side substrate, A transparent conductor electrode (common electrode) having a plurality of bent slit-shaped patterns is formed on a surface of the counter-side substrate facing the thin-film transistor-side substrate, and the thin-film transistor-side substrate faces the counter-side substrate. On the surface, similarly, there are transparent electrodes formed with a plurality of bent slit-shaped patterns, and the plurality of bent slit-shaped patterns formed on these upper and lower substrates are
The electrode parts of the slit electrodes of the pixel electrodes on the thin film transistor side substrate have a negative dielectric constant anisotropy at positions corresponding to the center of the interelectrode space of the slit electrodes formed on the opposite side substrate, which are arranged substantially parallel to each other. Crossing angle between the long axis direction of the slit-shaped patterns and the orientation direction of the negative dielectric anisotropy anisotropic liquid crystal, which are arranged to face each other in parallel with each other, is 90 to 60 degrees except 90 degrees. Is in the range of degrees,
Further, a horizontal electric field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal display device characterized by a structure in which a slit pattern is bent once or more in one pixel
【請求項21】請求項18,19,20に関して、負の
誘電率異方性液晶の配向方向が、薄膜トランジスタ側基
板に形成された映像信号配線とほぼ平行であることを特
徴とする横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型
液晶表示装置
21. A lateral electric field liquid crystal device according to claim 18, 19 or 20, wherein the orientation direction of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is substantially parallel to the video signal wiring formed on the thin film transistor side substrate. Drive system active matrix liquid crystal display device
【請求項22】請求項18,19,20に関して、負の
誘電率異方性液晶の配向方向が、薄膜トランジスタ側基
板に形成された走査線とほぼ平行であることを特徴とす
る横電界液晶駆動方式アクティブマトリックス型液晶表
示装置
22. A horizontal electric field liquid crystal drive according to claim 18, 19, or 20, wherein the orientation direction of the negative dielectric constant anisotropic liquid crystal is substantially parallel to the scanning line formed on the thin film transistor side substrate. Method Active matrix liquid crystal display device
【請求項23】請求項20,22に関して1画素内で1
回以上屈曲しているスリット状パターンとほぼ同じ角度
で映像信号配線と色フィルターと色フィルターのブラッ
クマスク(遮光膜)が1画素内で1回以上屈曲している
ことを特徴とする横電界液晶駆動方式アクティブマトリ
ックス型液晶表示装置
23. With respect to claims 20 and 22, 1 in 1 pixel
A horizontal electric field liquid crystal characterized in that the video signal wiring, the color filter, and the black mask (light-shielding film) of the color filter are bent once or more within one pixel at substantially the same angle as the slit-shaped pattern that is bent more than once. Drive system active matrix liquid crystal display device
【請求項24】請求項20,21に関して、1画素内で
1回以上屈曲しているスリット状パターンとほぼ同じ角
度で、走査線と、色フィルターと色フィルターのブラッ
クマスク(遮光膜)が、1画素内で1回以上屈曲してい
ることを特徴とする横電界液晶駆動方式アクティブマト
リックス型液晶表示装置
24. The scanning line, the color filter, and the black mask (light-shielding film) of the color filter are formed at substantially the same angle as the slit-shaped pattern bent once or more in one pixel. In-field liquid crystal drive type active matrix liquid crystal display device characterized by being bent once or more within one pixel
【請求項25】請求項18から24に関して、スリット
の電極幅をW,スリットの電極間スペースをS,液晶セ
ルギャップをd,負の誘電率異方性液晶の屈折率異方性
をΔnとしたとき、W≦d かつ 1/3×d≦S<7
×d かつ 1、0μm<d<5、0μmかつ 200
nm≦Δn×d≦460nmの条件を満足していること
を特徴とする横電界液晶駆動方式アクティブマトリック
ス型液晶表示装置
25. The electrode width of the slit is W, the space between the electrodes of the slit is S, the liquid crystal cell gap is d, and the refractive index anisotropy of the negative dielectric anisotropy liquid crystal is Δn. Then, W ≦ d and 1/3 × d ≦ S <7
Xd and 1.0 μm <d <5, 0 μm and 200
A lateral electric field liquid crystal drive type active matrix type liquid crystal display device characterized by satisfying a condition of nm ≦ Δn × d ≦ 460 nm
【請求項26】請求項8,10,20に関して、映像信
号配線や走査線が屈曲している角度とほぼ同じ角度で、
ブラックマスク(BM)とカラーフィルター層が1画素
内で1回以上屈曲していることを特徴とするカラーフィ
ルター基板
26. The angle according to claim 8, 10, or 20, which is substantially the same as the angle at which the video signal wiring or the scanning line is bent,
A color filter substrate characterized in that the black mask (BM) and the color filter layer are bent once or more within one pixel.
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