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JP2003322859A - Method for manufacturing substrate with alignment film, liquid crystal device, projection display device - Google Patents

Method for manufacturing substrate with alignment film, liquid crystal device, projection display device

Info

Publication number
JP2003322859A
JP2003322859A JP2002129909A JP2002129909A JP2003322859A JP 2003322859 A JP2003322859 A JP 2003322859A JP 2002129909 A JP2002129909 A JP 2002129909A JP 2002129909 A JP2002129909 A JP 2002129909A JP 2003322859 A JP2003322859 A JP 2003322859A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
alignment film
light
crystal device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002129909A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuhei Yamada
周平 山田
Hiroaki Usui
博明 臼井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2002129909A priority Critical patent/JP2003322859A/en
Publication of JP2003322859A publication Critical patent/JP2003322859A/en
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐久性に優れた配向膜付き基板の製造方法を
提供する。 【解決手段】 本発明の配向膜付き基板の製造方法は、
イオン化蒸着装置100を用いて行われ、所定の基材設
置部200に設置されたプレ基板202の表面に、波長
250nm〜400nm(例えば350nm)の偏光性
紫外線を照射させつつ、蒸着材料容器102を蒸発源と
して光反応性重合基を備える液晶性モノマーを、イオン
化部103を介して蒸着させることを特徴とする。
(57) [Problem] To provide a method of manufacturing a substrate with an alignment film having excellent durability. SOLUTION: The method for producing a substrate with an alignment film of the present invention comprises:
This is performed using the ionization vapor deposition apparatus 100, and while irradiating the surface of the pre-substrate 202 installed on the predetermined base material installation section 200 with polarized ultraviolet light having a wavelength of 250 nm to 400 nm (for example, 350 nm), the deposition material container 102 is removed. A liquid crystal monomer having a photoreactive polymer group as an evaporation source is deposited via the ionization unit 103.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、配向膜付き基板の
製造方法、液晶装置、並びに投射型表示装置に関し、特
に、耐久性に優れた配向膜を備える基板の製造方法等に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a substrate with an alignment film, a liquid crystal device, and a projection type display device, and more particularly to a method of manufacturing a substrate having an alignment film having excellent durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶プロジェクタ等の投射型表示装置に
搭載される光変調手段や、携帯電話等に搭載される直視
型表示装置として用いられる液晶装置としては、例えば
互いに対向配置された一対の基板間に液晶層が挟持され
た構成を具備し、これら基板の液晶層側にはその液晶層
に電圧を印加するための電極が形成されている。このよ
うな液晶装置においては、一対の基板の液晶層側最表面
に、電圧無印加時における液晶分子の配列を制御するた
めの配向膜が形成されており、電圧無印加時、電圧印加
時における液晶分子の配列変化に基づいて表示が行われ
る構成となっている。このような配向膜としては、ポリ
イミド等からなる有機膜の表面を、布等により所定の方
向にラビングしたものが、液晶配向能力に優れることか
ら広く用いられている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal device used as a light modulating means mounted in a projection type display device such as a liquid crystal projector or a direct view type display device mounted in a mobile phone or the like is, for example, a pair of substrates arranged to face each other. A liquid crystal layer is sandwiched therebetween, and electrodes for applying a voltage to the liquid crystal layer are formed on the liquid crystal layer side of these substrates. In such a liquid crystal device, an alignment film for controlling the alignment of liquid crystal molecules when no voltage is applied is formed on the outermost surface of the pair of substrates on the liquid crystal layer side. The display is performed based on the change in the alignment of the liquid crystal molecules. As such an alignment film, a film obtained by rubbing the surface of an organic film made of polyimide or the like with a cloth or the like in a predetermined direction is widely used because of its excellent liquid crystal alignment ability.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ポリイ
ミドのラビング配向膜は液晶配向能力に優れるものの、
ラビング処理の際に、ラビングスジの発生、配向膜剥が
れ、ラビング処理の際の静電気による素子破壊等の問題
が生じる場合があり、それらに起因する表示品質低下の
改善が望まれている。また、当該配向膜を例えば光束密
度が2〜10lm/mm2程度の光強度の強い光が照射
される投射型表示装置等に搭載する場合には、光や熱に
より次第に分解され、長期使用後に、電圧無印加時の液
晶分子を所望のプレチルト角に配列することができない
など、液晶配向能力が低下し、表示品質が低下すること
があった。このような問題は、ポリイミドのラビング配
向膜が、光や熱により分解されやすいイミド結合を有す
るためであることが知られている。
However, although the rubbing alignment film of polyimide has excellent liquid crystal alignment ability,
In the rubbing process, problems such as rubbing streaks, peeling of the alignment film, and element destruction due to static electricity in the rubbing process may occur, and improvement of display quality deterioration due to these problems is desired. Further, when the alignment film is mounted on a projection type display device or the like which is irradiated with light having a light flux density of about 2 to 10 lm / mm 2 , the alignment film is gradually decomposed by light or heat, and after long-term use. In some cases, the liquid crystal molecules cannot be aligned at a desired pretilt angle when no voltage is applied, and thus the liquid crystal alignment ability is deteriorated and the display quality is sometimes deteriorated. It is known that such a problem is because the rubbing alignment film of polyimide has an imide bond that is easily decomposed by light or heat.

【0004】本発明の課題は、高い配向性を備えるとと
もに、耐久性に優れた配向膜付き基板の製造方法を提供
することにあり、さらには液晶装置、並びに該液晶装置
を備えた投射型表示装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a substrate with an alignment film, which has high alignment properties and excellent durability, and further, a liquid crystal device and a projection type display equipped with the liquid crystal device. To provide a device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の配向膜付き基板の製造方法は、対象分子を
配向させることが可能な配向膜付き基板の製造方法であ
って、基材の表面に250nm〜400nmの偏光性紫
外線を照射させつつ、光反応性重合基を備える液晶性モ
ノマーを前記基材に蒸着させることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the method for producing a substrate with an alignment film of the present invention is a method for producing a substrate with an alignment film capable of orienting target molecules, the method comprising the steps of: A liquid crystalline monomer having a photoreactive polymerizing group is vapor-deposited on the base material while irradiating the surface of the material with polarized ultraviolet light having a wavelength of 250 to 400 nm.

【0006】このような製造方法によると、光反応性重
合基を備える液晶性モノマーは、上記偏光性紫外線によ
り重合し、高分子配向膜として上記基材上に形成される
こととなる。そして、本発明では上記のような比較的長
波長の偏光性紫外線を照射するものとしたために、液晶
性モノマーの重合開始効率が比較的低くなり、一旦基材
に蒸着した液晶性モノマーがマイグレーション効果によ
り基材表面を所定の配向方向に移動しつつ重合が行われ
ることとなる。すなわち、光重合基が偏光性紫外線を最
も吸収し易い方向に配向した分子から重合を開始し、ま
た、基材上を移動していた分子が、重合により固定され
た分子(重合分子)との相互作用により引き付けられて
配向し、その状態で重合を開始するため、その偏光性紫
外線の方向に沿う配向を備えた高分子配向膜が得られる
のである。
According to such a manufacturing method, the liquid crystalline monomer having a photoreactive polymerizing group is polymerized by the above-mentioned polarizing ultraviolet light to be formed as a polymer alignment film on the above substrate. Further, in the present invention, since the irradiation of the polarizing ultraviolet ray having a relatively long wavelength as described above is performed, the polymerization initiation efficiency of the liquid crystalline monomer becomes relatively low, and the liquid crystalline monomer once deposited on the substrate has a migration effect. Thus, the polymerization is carried out while moving the surface of the base material in a predetermined orientation direction. That is, the photopolymerizable group starts polymerization from a molecule oriented in the direction most easily absorbing polarized ultraviolet light, and a molecule that has moved on the substrate is a molecule fixed by the polymerization (polymerized molecule). The polymer is oriented by being attracted by the interaction, and polymerization is initiated in that state, so that a polymer alignment film having an alignment along the direction of the polarized ultraviolet light can be obtained.

【0007】一方、従来、光反応性重合基を備えるモノ
マーの重合開始効率を高めるために、例えば200nm
程度のレーザー光等を照射することが知られているが、
このような重合条件では、高い重合効率が得られるもの
の、配向乱れが生じやすく、また光照射による膜の劣化
が無視できないものとなる。そこで、本発明では液晶性
モノマーのマイグレーション効果に注目し、重合条件と
しては効率が低く当業者の間では到底選択し得ない長波
長(250nm〜400nm)の偏光性紫外線を照射し
て、従来よりも高い配向能力を備え、劣化の少ない(実
質的に劣化が起こらない)配向膜付き基板を得ることが
できたのである。さらに、本発明の方法では、重合開始
効率が低く、重合速度が比較的遅いものであるため、重
合層が2層、3層と重なっていくにつれ分子配向が一層
整うものとなり、配向膜としての特性をさらに向上させ
ることができた。
On the other hand, conventionally, in order to increase the polymerization initiation efficiency of a monomer having a photoreactive polymerization group, for example, 200 nm
It is known to irradiate laser light of a certain degree,
Under such polymerization conditions, although high polymerization efficiency can be obtained, orientation disorder easily occurs, and deterioration of the film due to light irradiation cannot be ignored. Therefore, in the present invention, attention is paid to the migration effect of the liquid crystalline monomer, and irradiation with a polarized ultraviolet ray having a long wavelength (250 nm to 400 nm), which is low in efficiency as a polymerization condition and cannot be selected by those skilled in the art, is performed. In addition, it was possible to obtain a substrate with an alignment film, which has a high alignment ability and has little deterioration (substantially no deterioration occurs). Furthermore, in the method of the present invention, since the polymerization initiation efficiency is low and the polymerization rate is relatively slow, the molecular orientation becomes more uniform as the number of polymerized layers overlaps with two or three layers, which results in an oriented film. The characteristics could be further improved.

【0008】したがって、本発明の配向膜付き基板の製
造方法により、従来のようなポリイミドのラビング配向
膜に比して、ラビング処理を行わないために上述したよ
うなラビングスジ等の発生による表示品質低下を伴い難
く、また光や熱に対する安定性も優れたものとなり、偏
光性紫外線照射の条件も温和なため、信頼性の高い配向
膜付き基板を提供することが可能となる。
Therefore, according to the method of manufacturing a substrate with an alignment film of the present invention, compared with the conventional rubbing alignment film of polyimide, since the rubbing process is not performed, the display quality is deteriorated due to the occurrence of the rubbing streaks as described above. In addition, the stability against light and heat becomes excellent, and the conditions for irradiation of polarized ultraviolet light are mild, so that it is possible to provide a highly reliable substrate with an alignment film.

【0009】なお、上記製造方法では、基材の表面に偏
光性紫外線を照射するものとしたが、例えばイオンビー
ムを照射させることによっても、上記のようなマイグレ
ーション効果による液晶性モノマーの移動を伴ないつ
つ、該モノマーを重合させることができ、高い配向性を
備える高分子配向膜を得ることが可能となる。イオンビ
ームとしては、例えばアルゴン、キセノン等の不活性ガ
スイオンや、フッ素、塩素等のイオンを用いることがで
きるが、重合開始効率を考慮すると温和な条件となるア
ルゴン、キセノン等の不活性ガスイオンを用いるのが好
ましい。また、蒸着材料そのものを一部イオン化したも
のを用いることもできる。
In the above manufacturing method, the surface of the base material is irradiated with polarized ultraviolet rays. However, irradiation of an ion beam, for example, also causes movement of the liquid crystalline monomer due to the migration effect as described above. It is possible to polymerize the monomer while not being present, and to obtain a polymer alignment film having a high alignment property. As the ion beam, for example, an inert gas ion such as argon or xenon, or an ion such as fluorine or chlorine can be used, but an inert gas ion such as argon or xenon, which is a mild condition considering the polymerization initiation efficiency. Is preferably used. Further, it is also possible to use a partially ionized deposition material itself.

【0010】本発明に用いる液晶性モノマーは、それ自
身が液晶相を取り得るもの、あるいはそれ自身は液晶相
をとらないが、液晶相内に混入した際に混合物の液晶状
態を失わさせることのないもの、あるいは液晶相の配向
を誘起するものを意味している。具体的に、液晶性モノ
マーは、下記一般式(1)、(2)、(3)のいずれか
で表される1種若しくは複数種の化合物を主体として構
成されるものを用いることができる。
The liquid crystalline monomer used in the present invention may have a liquid crystal phase by itself, or may not have a liquid crystal phase by itself, but may lose the liquid crystal state of the mixture when mixed in the liquid crystal phase. It means one that does not exist, or one that induces the alignment of the liquid crystal phase. Specifically, as the liquid crystal monomer, one composed mainly of one or more compounds represented by any one of the following general formulas (1), (2) and (3) can be used.

【0011】[0011]

【化4】 [Chemical 4]

【0012】[0012]

【化5】 [Chemical 5]

【0013】[0013]

【化6】 [Chemical 6]

【0014】上記一般式(1)、(2)、(3)で表さ
れる化合物はいずれも棒状の分子構造を有し、それ自身
が液晶相を形成する液晶性モノマーまたは液晶分子に類
似した性質を有するモノマーである。また、基材上に偏
光性紫外線を照射させつつこれらのモノマーを蒸着する
と、重合反応が進行し、その重合体が上述のように高い
配向性を備えた高分子配向膜となる。また、上記各液晶
性モノマーは光学的異方性を備えるため、その異方性に
沿って自身が配向することによっても、形成される高分
子配向膜の配向性が高いものとなる。
The compounds represented by the above general formulas (1), (2) and (3) all have a rod-shaped molecular structure and are similar to liquid crystal monomers or liquid crystal molecules which themselves form a liquid crystal phase. It is a monomer having properties. Further, when these monomers are vapor-deposited on the substrate while irradiating the substrate with polarized ultraviolet light, the polymerization reaction proceeds, and the polymer becomes a polymer alignment film having high orientation as described above. Further, since each of the above liquid crystalline monomers has optical anisotropy, the orientation of the polymer alignment film to be formed also becomes high by orienting itself along the anisotropy.

【0015】なお、液晶性モノマーの蒸着はイオン化蒸
着を伴うものとすることができる。この場合、液晶性モ
ノマーの一部がイオン化された状態で基材に蒸着され、
本発明の特徴であるマイグレーション効果を発現可能な
範囲で、その重合開始効率をある程度高めることが可能
となる。また、イオン化蒸着では基板にバイアス電圧
(イオン加速電圧)を印加するため、イオンの電荷とバ
イアス電圧によって誘起される電界により成膜分子の配
向が促進される。
The vapor deposition of the liquid crystalline monomer may be accompanied by ionization vapor deposition. In this case, part of the liquid crystalline monomer is vaporized on the substrate in an ionized state,
The polymerization initiation efficiency can be increased to some extent within a range where the migration effect, which is a feature of the present invention, can be exhibited. In addition, since a bias voltage (ion acceleration voltage) is applied to the substrate in the ionization deposition, the orientation of film-forming molecules is promoted by the electric charge of the ions and the electric field induced by the bias voltage.

【0016】上記のような本発明の方法により製造した
配向膜付き基板を液晶装置に具備させることができる。
すなわち、本発明の液晶装置は、互いに対向する一対の
基板間に液晶層が挟持された構成を備え、一対の基板の
うち、少なくとも一方の基板を上記製造方法により製造
された配向膜付き基板を用いたことを特徴とする。この
場合、基板の液晶層側最表面に上述のような液晶性モノ
マー由来の配向膜を備える構成となるため、光や熱に対
する安定性に優れ、液晶配向能力の高い液晶装置を提供
可能となる。
A liquid crystal device can be provided with a substrate with an alignment film manufactured by the method of the present invention as described above.
That is, the liquid crystal device of the present invention has a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates facing each other, and at least one of the pair of substrates is a substrate with an alignment film manufactured by the above manufacturing method. It is characterized by being used. In this case, since the alignment film derived from the liquid crystalline monomer as described above is provided on the outermost surface of the substrate on the liquid crystal layer side, it is possible to provide a liquid crystal device having excellent stability against light and heat and having high liquid crystal alignment ability. .

【0017】次に、このような液晶装置を備えることに
より、以下の本発明の投射型表示装置を提供することが
できる。すなわち、本発明の投射型表示装置は、光源
と、その光源からの光を変調する本発明の液晶装置から
なる光変調手段と、光変調手段により変調された光を投
射する投射手段とを備えたことを特徴とする。このよう
な投射型表示装置は、本発明の液晶装置を備えたもので
あるので、光や熱による配向膜の劣化に基づく表示不良
が生じにくく、表示品質を長期に渡って維持することが
でき、耐久性に優れたものとなる。
Next, by providing such a liquid crystal device, the following projection type display device of the present invention can be provided. That is, the projection type display device of the present invention includes a light source, a light modulation unit including the liquid crystal device of the present invention that modulates the light from the light source, and a projection unit that projects the light modulated by the light modulation unit. It is characterized by that. Since such a projection type display device is provided with the liquid crystal device of the present invention, a display defect due to deterioration of the alignment film due to light or heat is unlikely to occur, and display quality can be maintained for a long time. It will be excellent in durability.

【0018】なお、本明細書において、「主体とする」
成分とは、構成成分のうち最も含有量の多い成分のこと
を言うものとする。
In the present specification, "mainly"
The component means the component with the highest content among the constituent components.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】[配向膜付き基板の製造方法]以
下、本発明の配向膜付き基板の製造方法について、その
一実施例を説明する。図1は、本発明の配向膜付き基板
の製造方法において用いるイオン化蒸着装置の一例を示
す説明図である。図1に示すイオン化蒸着装置100
は、所定の基材設置部200に設置されたプレ基板(基
材)202の表面に、波長250nm〜400nm(例
えば350nm)の偏光性紫外線を照射させつつ、蒸着
材料容器102を蒸発源として以下に述べる光反応性重
合基を備える液晶性モノマーを蒸着させるものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [Method for Manufacturing Substrate with Alignment Film] An embodiment of the method for manufacturing a substrate with an alignment film of the present invention will be described below. FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example of an ionization vapor deposition apparatus used in the method for producing a substrate with an alignment film of the present invention. Ionization deposition apparatus 100 shown in FIG.
Is irradiated with polarized ultraviolet light having a wavelength of 250 nm to 400 nm (for example, 350 nm) on the surface of the pre-substrate (base material) 202 installed in the predetermined base material installation unit 200, and the following is used with the vapor deposition material container 102 as an evaporation source. The liquid crystal monomer having a photoreactive polymerizing group described in 1) is vapor-deposited.

【0020】また、具体的な構成として、図示しない真
空ポンプに接続され、内部を減圧状態(真空状態)とす
ることができる蒸着室101を備え、この蒸着室101
内の下方に、下記に示す化7〜化9に示した一般式
(1)〜(3)で表される光反応性重合基を備える液晶
性モノマー(蒸着材料)201を入れる蒸着材料容器1
02が蒸発源として備えている。また、蒸着材料容器1
02の上方にプレ基板202を設置するための基材設置
部200を備え、蒸着材料容器102と基材設置部20
0との間には、蒸着材料201をイオン化させることが
可能なイオン化部103が備えられており、さらに、基
材設置部200の側方(基板法線方向から20〜70°
の方向(例えば45°))には設置したプレ基板202
の表面に偏光性紫外線を照射することが可能な光源を具
備してなる偏光性紫外線照射部205が備えられてい
る。なお、この偏光性紫外線照射部205は、例えばブ
ラックライト等から構成され、250nm〜400nm
の比較的長波長の紫外線を発光可能な光源を備えるもの
とすることができる。
Further, as a concrete structure, it is provided with a vapor deposition chamber 101 which is connected to a vacuum pump (not shown) and can bring the inside into a depressurized state (vacuum state).
A vapor deposition material container 1 in which a liquid crystalline monomer (vapor deposition material) 201 having a photoreactive polymerization group represented by the general formulas (1) to (3) shown in Chemical formulas 7 to 9 shown below is placed inside
02 is provided as an evaporation source. Also, the vapor deposition material container 1
02 is provided with a base material installation part 200 for installing the pre-substrate 202, and the vapor deposition material container 102 and the base material installation part 20 are provided.
0 is provided with an ionization part 103 capable of ionizing the vapor deposition material 201, and further to the side of the base material installation part 200 (20 to 70 ° from the substrate normal direction).
The pre-substrate 202 installed in the direction of (for example, 45 °)
A polarized UV irradiation unit 205 including a light source capable of irradiating the surface of the polarized UV with the polarized UV is provided. The polarizing ultraviolet ray irradiator 205 is composed of, for example, a black light and has a wavelength of 250 nm to 400 nm.
Can be provided with a light source capable of emitting ultraviolet rays having a relatively long wavelength.

【0021】[0021]

【化7】 [Chemical 7]

【0022】[0022]

【化8】 [Chemical 8]

【0023】[0023]

【化9】 [Chemical 9]

【0024】一方、イオン化蒸着装置100の作動機構
は以下のようなものである。まず、蒸着材料容器102
内の蒸着材料201は加熱されて蒸発し、蒸発した蒸着
材料201は図示上方のプレ基板202側に導かれ、イ
オン化部103を通過する際に蒸着材料201の一部が
イオン化される。また、イオン化部103とプレ基板2
02との間には電界がかけられており、イオン化された
蒸着材料201は電界により加速されてプレ基板202
に蒸着されるように構成されている。なお、イオン化部
103では、蒸着材料201に電子を照射することによ
り、蒸着材料201をイオン化することができるように
なっている。
On the other hand, the operating mechanism of the ionization vapor deposition apparatus 100 is as follows. First, the vapor deposition material container 102
The vapor deposition material 201 therein is heated and evaporated, the vaporized vapor deposition material 201 is guided to the pre-substrate 202 side in the upper part of the drawing, and when passing through the ionization section 103, a portion of the vapor deposition material 201 is ionized. In addition, the ionization unit 103 and the pre-substrate 2
An electric field is applied between the pre-substrate 202 and the ionized vapor deposition material 201.
It is configured to be vapor-deposited on. In the ionization unit 103, the vapor deposition material 201 can be ionized by irradiating the vapor deposition material 201 with electrons.

【0025】すなわち、イオン化蒸着法は、蒸着材料2
01を蒸発させた後、一部イオン化し、イオン化された
蒸着材料201を加速させて、プレ基板202に蒸着す
る方法である。この方法によれば、イオン化部103で
のイオン化条件や、イオン化された蒸着材料201の加
速条件を制御することにより、蒸着材料201のプレ基
板202への蒸着速度を制御することができるため、他
の蒸着法に比較して、蒸着材料201のプレ基板202
への蒸着条件を制御し易くなる。また、イオンの電荷と
基板に印加した電圧によって誘起される電界により成膜
分子の配向が促進される。
That is, the ionization vapor deposition method uses the vapor deposition material 2
This is a method of vaporizing 01 and then partially ionizing it to accelerate the ionized vapor deposition material 201 to deposit it on the pre-substrate 202. According to this method, it is possible to control the vapor deposition rate of the vapor deposition material 201 onto the pre-substrate 202 by controlling the ionization conditions in the ionization section 103 and the acceleration conditions of the ionized vapor deposition material 201. The pre-substrate 202 of the vapor deposition material 201 as compared with the vapor deposition method of
It becomes easy to control the vapor deposition conditions. Moreover, the orientation of the film-forming molecules is promoted by the electric field induced by the charge of the ions and the voltage applied to the substrate.

【0026】また、偏光性紫外線照射部205により、
プレ基板202の表面には偏光性紫外線が照射され、該
プレ基板202に蒸着した蒸着材料201が重合を開始
する。上記化7〜化9に示した通り、蒸着材料201は
光反応性重合基を備え、所定波長の紫外線照射により重
合を開始するが、本実施例では、250nm〜400n
m(例えば350nm)の比較的長波長の偏光性紫外線
を照射しているため、重合開始効率が低く、その重合速
度も比較的遅いものとなる。したがって、プレ基板20
2に蒸着した蒸着材料201は、マイグレーション効果
によりプレ基板202の表面を所定方向に移動しつつ重
合が行われることとなる。すなわち、光重合基が偏光性
紫外線を最も吸収し易い方向に配向した分子から重合を
開始し、また、プレ基板202上を移動していた分子
が、重合により固定された分子(重合分子)との相互作
用により引き付けられて配向し、その状態で重合を開始
するため、形成される高分子配向膜は偏光性紫外線の照
射方向に沿った配向膜となる。
Further, by the polarized ultraviolet ray irradiation unit 205,
The surface of the pre-substrate 202 is irradiated with polarized ultraviolet light, and the vapor deposition material 201 vapor-deposited on the pre-substrate 202 starts polymerization. As shown in Chemical Formulas 7 to 9 above, the vapor deposition material 201 has a photoreactive polymerizing group, and polymerization is initiated by irradiation with ultraviolet rays of a predetermined wavelength. In this embodiment, however, 250 nm to 400 n
Since the polarized ultraviolet light having a relatively long wavelength of m (for example, 350 nm) is irradiated, the polymerization initiation efficiency is low and the polymerization rate is also relatively slow. Therefore, the pre-substrate 20
The vapor deposition material 201 vapor-deposited on 2 is polymerized while moving in the predetermined direction on the surface of the pre-substrate 202 due to the migration effect. That is, the photopolymerization group starts polymerization from a molecule oriented in a direction most likely to absorb polarized ultraviolet light, and a molecule that has moved on the pre-substrate 202 is a molecule fixed by polymerization (polymerized molecule). Are attracted and aligned by the interaction of the above, and polymerization is started in that state, so that the polymer alignment film formed becomes an alignment film along the irradiation direction of the polarized ultraviolet light.

【0027】また、上記化7〜化9に示した一般式
(1)〜(3)で表される液晶性モノマーは、自身が液
晶相を示すモノマー、若しくは液晶相への添加により液
晶状態を失わせないモノマーとされている。上記化7に
示した一般式(1)で表される化合物としては、具体的
には、表1又は表2に示す化合物M1〜M25(大日本
インキ化学工業株式会社のUVキュアラブル液晶)等を
例示することができる。また、上記化8に示した一般式
(2)で表される化合物としては、具体的には、表3又
は表5に示す化合物M26〜M33、M38〜M45等
を例示することができる。上記化9に示した一般式
(3)で表される化合物としては、具体的には、表4又
は表6に示す化合物M34〜M37、M46〜M51等
を例示することができる。
The liquid crystalline monomers represented by the general formulas (1) to (3) shown in Chemical formulas 7 to 9 above exhibit a liquid crystal phase by themselves or are added to the liquid crystal phase to change the liquid crystal state. It is considered as a monomer that cannot be lost. Specific examples of the compound represented by the general formula (1) shown in Chemical Formula 7 include compounds M1 to M25 (UV cureable liquid crystal of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) shown in Table 1 or Table 2. It can be illustrated. Specific examples of the compound represented by the general formula (2) shown in Chemical Formula 8 include compounds M26 to M33 and M38 to M45 shown in Table 3 or Table 5. Specific examples of the compound represented by the general formula (3) shown in Chemical formula 9 above include compounds M34 to M37 and M46 to M51 shown in Table 4 or Table 6.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【表2】 [Table 2]

【0030】[0030]

【表3】 [Table 3]

【0031】[0031]

【表4】 [Table 4]

【0032】[0032]

【表5】 [Table 5]

【0033】[0033]

【表6】 [Table 6]

【0034】以上説明したような方法により得られた配
向膜付き基板を、X線回折法にてその分子配向性を示し
たところ、液晶装置の配向膜等として適用可能な配向性
を備えていることが分かった。なお、本実施例では、比
較的長波長の偏光性紫外線を照射しつつ蒸着を行うもの
としているが、例えばイオンビームを照射することによ
り重合を開始させ、高い配向性能を備えた高分子配向膜
を形成することも可能である。
When the substrate with an alignment film obtained by the above-described method was shown to have a molecular alignment by an X-ray diffraction method, it has an alignment that can be applied as an alignment film for liquid crystal devices. I found out. In this example, the vapor deposition is performed while irradiating the polarized ultraviolet light having a relatively long wavelength, but for example, the polymer alignment film having a high alignment performance is initiated by irradiating the ion beam to start the polymerization. Can also be formed.

【0035】[液晶装置]以下に示す本実施形態の液晶
装置は、スイッチング素子としてTFT(Thin-Film Tr
ansistor)素子を用いたアクティブマトリクス型の透過
型液晶装置である。また、本実施形態の液晶装置は、上
述の製造方法により製造された配向膜付き基板を備えた
ものである。
[Liquid Crystal Device] In the liquid crystal device of the present embodiment shown below, a TFT (Thin-Film Trn) is used as a switching element.
is an active matrix transmissive liquid crystal device using an ansistor element. Further, the liquid crystal device of this embodiment includes the substrate with an alignment film manufactured by the manufacturing method described above.

【0036】図2は、本実施形態の透過型液晶装置の断
面構造を示しており、TFTアレイ基板10と、これに
対向配置される対向基板20との間に液晶層50が挟持
された構成を具備している。なお、図2において、図示
上側が光入射側、図示下側が視認側(観察者側)である
場合について図示している。また、各層や各部材は図面
上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材
毎にその縮尺を異ならせてある。
FIG. 2 shows a cross-sectional structure of the transmissive liquid crystal device of this embodiment, in which a liquid crystal layer 50 is sandwiched between a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 arranged to face the TFT array substrate 10. It is equipped with. In FIG. 2, the upper side in the figure is the light incident side, and the lower side in the figure is the viewing side (observer side). Further, in order to make each layer and each member recognizable in the drawings, the scale of each layer and each member is made different.

【0037】本実施形態の透過型液晶装置において、T
FTアレイ基板10は、石英等の透光性材料からなる基
板本体10Aとその液晶層50側表面に形成されたTF
T素子30、画素電極9、配向膜40を主体として構成
されており、対向基板20はガラスや石英等の透光性材
料からなる基板本体20Aとその液晶層50側表面に形
成された共通電極21と配向膜60とを主体として構成
されている。
In the transmissive liquid crystal device of this embodiment, T
The FT array substrate 10 includes a substrate body 10A made of a translucent material such as quartz and a TF formed on the liquid crystal layer 50 side surface thereof.
The T-element 30, the pixel electrode 9, and the alignment film 40 are mainly constituted, and the counter substrate 20 is a common electrode formed on a substrate body 20A made of a translucent material such as glass or quartz and a liquid crystal layer 50 side surface thereof. 21 and the alignment film 60 as main components.

【0038】TFTアレイ基板10において、基板本体
10Aの液晶層50側表面には画素電極9が設けられ、
各画素電極9に隣接する位置に、各画素電極9をスイッ
チング制御する画素スイッチング用TFT素子30が設
けられている。画素スイッチング用TFT素子30は、
LDD(Lightly Doped Drain)構造を有しており、走
査線3a、当該走査線3aからの電界によりチャネルが
形成される半導体層1aのチャネル領域1a’、走査線
3aと半導体層1aとを絶縁するゲート絶縁膜2、デー
タ線6a、半導体層1aの低濃度ソース領域1b及び低
濃度ドレイン領域1c、半導体層1aの高濃度ソース領
域1d及び高濃度ドレイン領域1eを備えている。
In the TFT array substrate 10, the pixel electrode 9 is provided on the surface of the substrate body 10A on the liquid crystal layer 50 side.
A pixel switching TFT element 30 that controls switching of each pixel electrode 9 is provided at a position adjacent to each pixel electrode 9. The pixel switching TFT element 30 is
It has an LDD (Lightly Doped Drain) structure and insulates the scanning line 3a, the channel region 1a ′ of the semiconductor layer 1a in which a channel is formed by the electric field from the scanning line 3a, the scanning line 3a and the semiconductor layer 1a. The gate insulating film 2, the data line 6a, the low concentration source region 1b and the low concentration drain region 1c of the semiconductor layer 1a, the high concentration source region 1d and the high concentration drain region 1e of the semiconductor layer 1a are provided.

【0039】また、上記走査線3a上、ゲート絶縁膜2
上を含む基板本体10A上には、高濃度ソース領域1d
へ通じるコンタクトホール5、及び高濃度ドレイン領域
1eへ通じるコンタクトホール8が開孔した第2層間絶
縁膜4が形成されている。つまり、データ線6aは、第
2層間絶縁膜4を貫通するコンタクトホール5を介して
高濃度ソース領域1dに電気的に接続されている。さら
に、データ線6a上及び第2層間絶縁膜4上には、高濃
度ドレイン領域1eへ通じるコンタクトホール8が開孔
した第3層間絶縁膜7が形成されている。つまり、高濃
度ドレイン領域1eは、第2層間絶縁膜4及び第3層間
絶縁膜7を貫通するコンタクトホール8を介して画素電
極9に電気的に接続されている。
The gate insulating film 2 is formed on the scanning line 3a.
The high-concentration source region 1d is formed on the substrate body 10A including the upper part.
A second interlayer insulating film 4 is formed in which a contact hole 5 leading to the high concentration drain region 1e and a contact hole 8 leading to the high-concentration drain region 1e are opened. That is, the data line 6a is electrically connected to the high-concentration source region 1d through the contact hole 5 penetrating the second interlayer insulating film 4. Further, on the data line 6a and the second interlayer insulating film 4, a third interlayer insulating film 7 having a contact hole 8 leading to the high concentration drain region 1e is formed. That is, the high-concentration drain region 1e is electrically connected to the pixel electrode 9 through the contact hole 8 penetrating the second interlayer insulating film 4 and the third interlayer insulating film 7.

【0040】さらに、TFTアレイ基板10の液晶層5
0側最表面、すなわち、画素電極9及び第3層間絶縁膜
7上には、電圧無印加時における液晶層50内の液晶分
子の配向を制御する配向膜40が形成されている。
Further, the liquid crystal layer 5 of the TFT array substrate 10
An alignment film 40 that controls the alignment of liquid crystal molecules in the liquid crystal layer 50 when no voltage is applied is formed on the 0-side outermost surface, that is, on the pixel electrode 9 and the third interlayer insulating film 7.

【0041】他方、対向基板20には、基板本体20A
の液晶層50側表面であって、データ線6a、走査線3
a、画素スイッチング用TFT素子30の形成領域に対
向する領域、すなわち各画素部の開口領域以外の領域
に、入射光が画素スイッチング用TFT素子30の半導
体層1aのチャネル領域1a’や低濃度ソース領域1
b、低濃度ドレイン領域1cに侵入することを防止する
ための第2遮光膜23が設けられている。さらに、第2
遮光膜23が形成された基板本体20Aの液晶層50側
には、そのほぼ全面に渡って、ITO等からなる共通電
極21が形成され、その液晶層50側には、電圧無印加
時における液晶層50内の液晶分子の配向を制御する配
向膜60が形成されている。
On the other hand, the counter substrate 20 has a substrate body 20A.
On the liquid crystal layer 50 side of the data line 6a and the scanning line 3
a, in a region facing the formation region of the pixel switching TFT element 30, that is, in a region other than the opening region of each pixel portion, the incident light has a channel region 1a ′ of the semiconductor layer 1a of the pixel switching TFT device 30 or a low concentration source. Area 1
b, the second light-shielding film 23 is provided to prevent the light-shielding drain region 1c from penetrating. Furthermore, the second
On the liquid crystal layer 50 side of the substrate body 20A on which the light shielding film 23 is formed, a common electrode 21 made of ITO or the like is formed over almost the entire surface thereof, and on the liquid crystal layer 50 side, the liquid crystal when no voltage is applied. An alignment film 60 that controls the alignment of the liquid crystal molecules in the layer 50 is formed.

【0042】上述したように、本実施形態の透過型液晶
装置においては、TFTアレイ基板10、及び対向基板
20が上記実施例の製造方法にて製造された配向膜付き
基板を用いてなり、すなわち従来のようなポリイミドの
ラビング配向膜とは異なる配向膜を具備してなる。した
がって、イミド結合による耐光性低下の問題、ラビング
処理による表示品質低下(ラビングスジ、静電気による
素子破壊の発生)の問題が生じ難くなり、さらに長波長
の紫外線照射により高い配向性を具備させることができ
たため、光劣化による膜の信頼性低下も少ない極めて信
頼性の高い配向膜を具備した液晶装置を実現することが
できた。
As described above, in the transmissive liquid crystal device of this embodiment, the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are the substrates with the alignment film manufactured by the manufacturing method of the above embodiment, that is, An alignment film different from a conventional rubbing alignment film of polyimide is provided. Therefore, the problem of deterioration of light resistance due to imide bond and the problem of deterioration of display quality due to rubbing treatment (occurrence of rubbing streak and element destruction due to static electricity) are less likely to occur, and further high alignment can be provided by irradiation with long wavelength ultraviolet light. Therefore, it was possible to realize a liquid crystal device provided with an extremely highly reliable alignment film in which the reliability of the film is not deteriorated due to photodegradation.

【0043】なお、本実施形態では、TFTアレイ基板
10と対向基板20の双方の配向膜40、60を上述の
製造方法による配向膜付き基板を用いる構成としたが、
本発明はこれに限定されるものではなく、少なくとも一
方の基板の配向膜を上述の構成とすることにより、耐久
性に優れた液晶装置を提供することができる。但し、双
方の基板の配向膜を上述の構成とすることにより、より
耐久性に優れた液晶装置を提供することができることは
言うまでもない。
In the present embodiment, the alignment films 40 and 60 of both the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are the substrates with the alignment film formed by the above manufacturing method.
The present invention is not limited to this, and by providing the alignment film of at least one of the substrates with the above-described configuration, it is possible to provide a liquid crystal device having excellent durability. However, it goes without saying that a liquid crystal device having more excellent durability can be provided by making the alignment films of both substrates have the above-described configurations.

【0044】また、本実施形態では、TFT素子を用い
たアクティブマトリクス型液晶装置についてのみ説明し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、TFD
(Thin-Film Diode)素子を用いたアクティブマトリク
ス型液晶装置やパッシブマトリクス型液晶装置等にも適
用可能である。また、本実施形態では、透過型液晶装置
についてのみ説明したが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、反射型や半透過反射型の液晶装置にも適用
可能である。
Further, in the present embodiment, only the active matrix type liquid crystal device using the TFT element has been described, but the present invention is not limited to this, and the TFD is used.
It is also applicable to an active matrix type liquid crystal device using a (Thin-Film Diode) element, a passive matrix type liquid crystal device, and the like. Further, although only the transmissive liquid crystal device has been described in the present embodiment, the present invention is not limited to this, and is applicable to a reflective liquid crystal device or a transflective liquid crystal device.

【0045】[投射型表示装置]次に、上記実施形態の
液晶装置を光変調手段として備えた投射型表示装置の構
成について、図3を参照して説明する。図3は、図2に
示した実施形態の液晶装置を光変調装置として用いた投
射型表示装置の要部を示す概略構成図である。図3にお
いて、810は光源、813、814はダイクロイック
ミラー、815、816、817は反射ミラー、818
は入射レンズ、819はリレーレンズ、820は出射レ
ンズ、822、823、824は液晶光変調装置、82
5はクロスダイクロイックプリズム、826は投写レン
ズを示す。
[Projection Display Device] Next, the configuration of a projection display device equipped with the liquid crystal device of the above embodiment as a light modulating means will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a main part of a projection type display device using the liquid crystal device of the embodiment shown in FIG. 2 as a light modulation device. In FIG. 3, 810 is a light source, 813 and 814 are dichroic mirrors, 815, 816 and 817 are reflection mirrors, and 818.
Is an entrance lens, 819 is a relay lens, 820 is an exit lens, 822, 823 and 824 are liquid crystal light modulators, 82
Reference numeral 5 represents a cross dichroic prism, and 826 represents a projection lens.

【0046】光源810はメタルハライド等のランプ8
11とランプの光を反射するリフレクタ812とからな
る。青色光、緑色光反射のダイクロイックミラー813
は、光源810からの光束のうちの赤色光を透過させる
とともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色
光は反射ミラー817で反射されて、上述の液晶装置を
備えた赤色光用液晶光変調装置822に入射される。一
方、ダイクロイックミラー813で反射された色光のう
ち緑色光は緑色光反射のダイクロイックミラー814に
よって反射され、上述の液晶装置を備えた緑色光用液晶
光変調装置823に入射される。なお、青色光は第2の
ダイクロイックミラー814も透過する。青色光に対し
ては、光路長が緑色光、赤色光と異なるのを補償するた
めに、入射レンズ818、リレーレンズ819、出射レ
ンズ820を含むリレーレンズ系からなる導光手段82
1が設けられ、これを介して青色光が上述の液晶装置を
備えた青色光用液晶光変調装置824に入射される。な
お、各色用液晶光変調装置822、823、824は、
それぞれさらに入射側偏光手段822a、823a、8
24aと、出射側偏光手段822b、823b、824
bと、これらの間に配置された液晶装置とからなる液晶
ライトバルブである。
The light source 810 is a lamp 8 such as a metal halide.
11 and a reflector 812 that reflects the light of the lamp. Dichroic mirror 813 that reflects blue light and green light
Transmits the red light of the light flux from the light source 810 and reflects the blue light and the green light. The transmitted red light is reflected by the reflection mirror 817 and is incident on the red light liquid crystal light modulator 822 including the above-described liquid crystal device. On the other hand, of the color light reflected by the dichroic mirror 813, the green light is reflected by the green light reflecting dichroic mirror 814 and is incident on the liquid crystal light modulator for green light 823 including the above-mentioned liquid crystal device. The blue light also passes through the second dichroic mirror 814. For blue light, in order to compensate for the fact that the optical path length is different from green light and red light, a light guide means 82 including a relay lens system including an entrance lens 818, a relay lens 819, and an exit lens 820.
1 is provided, and blue light is incident on the blue light liquid crystal light modulator 824 including the above-described liquid crystal device. The liquid crystal light modulators 822, 823, and 824 for each color are
Incident side polarization means 822a, 823a, 8
24a and output side polarization means 822b, 823b, 824
b is a liquid crystal light valve including a liquid crystal device arranged between them.

【0047】各光変調装置により変調された3つの色光
はクロスダイクロイックプリズム825に入射する。こ
のプリズムは4つの直角プリズムが貼り合わされ、その
内面に赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘
電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電
体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像
を表す光が形成される。合成された光は、投写光学系で
ある投写レンズ826によってスクリーン827上に投
写され、画像が拡大されて表示される。
The three color lights modulated by the respective light modulators enter the cross dichroic prism 825. This prism is formed by laminating four right-angled prisms, and a dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in a cross shape on the inner surface thereof. Three color lights are combined by these dielectric multilayer films to form light representing a color image. The combined light is projected on the screen 827 by the projection lens 826 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

【0048】上記構造を有する投射型表示装置は、上述
の本発明の一例たる液晶装置を備えたものであるので、
光や熱に対する耐久性に優れ信頼性の高い表示装置とな
る。
The projection type display device having the above structure is provided with the above-mentioned liquid crystal device as an example of the present invention.
The display device has excellent durability against light and heat and has high reliability.

【0049】[0049]

【実施例】次に、本発明に係る実施例、及び比較例につ
いて説明する。 (実施例1)まず、電極やTFT素子等の配向膜以外の
必要な要素を形成したガラス基板(プレ基板)、及び対
向基板上に、それぞれ図1に示すイオン化蒸着装置10
0を用い、350nmの偏光性紫外線を基板法線方向か
ら45°傾いた方向から照射させつつ、蒸着材料として
上記表4のM34に示したビフェニル−4,4’−ジメ
タクリレートを用いてイオン化蒸着法により蒸着を行
い、膜厚約50nmのポリマー化した高分子配向膜を備
える配向膜付き基板を作製した。
EXAMPLES Next, examples according to the present invention and comparative examples will be described. (Example 1) First, an ionization vapor deposition apparatus 10 shown in FIG. 1 is provided on a glass substrate (pre-substrate) on which necessary elements other than an alignment film such as electrodes and TFT elements are formed, and a counter substrate.
No. 0, the polarized ultraviolet light having a wavelength of 350 nm was irradiated from a direction inclined by 45 ° from the substrate normal direction, and the biphenyl-4,4′-dimethacrylate shown in M34 of Table 4 was used as the deposition material for ionization deposition. By the vapor deposition by the method, a substrate with an alignment film having a polymerized polymer alignment film with a film thickness of about 50 nm was prepared.

【0050】このように形成した2枚の基板をセルギャ
ップ5μmとして貼着した後、基板間にフッ素系の液晶
を注入して封止し、本発明のアクティブマトリクス型の
透過型液晶装置を作製した。なお、2枚の基板は、それ
ぞれ形成された配向膜の配向方向について各々90°ず
らして貼着し、TN(Twisted Nematic)モードの液晶
表示装置を作製した。
The two substrates thus formed are adhered to each other with a cell gap of 5 μm, and then a fluorine-based liquid crystal is injected between the substrates to seal the substrates, and an active matrix type transmissive liquid crystal device of the present invention is manufactured. did. The two substrates were attached by shifting the alignment directions of the respective formed alignment films by 90 ° to manufacture a TN (Twisted Nematic) mode liquid crystal display device.

【0051】(比較例)実施例1と同様に、電極やTF
T素子等の配向膜以外の必要な要素を形成したガラス基
板(プレ基板)、及び対向基板上に、溶剤に溶かしたポ
リイミドをスピンコートにより塗布し、プレベーク(8
0℃、10min)で溶剤を揮発させた後、180℃で
1時間焼成し、膜厚約50nmのポリイミド膜を成膜し
た。さらに得られたポリイミド膜に対してラビング処理
を施し、ポリイミドのラビング配向膜を備える配向膜付
き基板を作製した。このようにして得られた各基板を用
いて、実施例1と同様にしてTNモードの液晶表示装置
を作製した。
(Comparative Example) Similar to Example 1, electrodes and TF were used.
A glass substrate (pre-substrate) on which necessary elements other than an alignment film such as a T element are formed, and a counter substrate are coated with polyimide dissolved in a solvent by spin coating, and pre-baked (8
After evaporating the solvent at 0 ° C. for 10 min), the solvent was baked at 180 ° C. for 1 hour to form a polyimide film having a film thickness of about 50 nm. Further, the obtained polyimide film was subjected to rubbing treatment to produce a substrate with an alignment film, which was provided with a rubbing alignment film of polyimide. Using each of the substrates thus obtained, a TN mode liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 1.

【0052】(耐久性試験)以下のようにして、各実施
例、比較例において作製した液晶装置の耐久性試験を行
った。各実施例、比較例の液晶装置を60℃の温度下
で、40lm/mm2の光束密度の可視光を照射した時
の、印加電圧(V)と光透過率(T)との間の関係、す
なわちV/T曲線を経時的に測定し、印加電圧が低い時
の光透過率が大きく変動し、V/T曲線が大きく変動す
るまでの耐久時間を測定した。
(Durability Test) Durability tests of the liquid crystal devices produced in the respective examples and comparative examples were conducted as follows. The relationship between the applied voltage (V) and the light transmittance (T) when the liquid crystal devices of Examples and Comparative Examples were irradiated with visible light having a luminous flux density of 40 lm / mm 2 at a temperature of 60 ° C. That is, the V / T curve was measured over time, and the endurance time until the light transmittance greatly fluctuates when the applied voltage was low and the V / T curve fluctuated significantly was measured.

【0053】(評価結果)実施例の液晶装置の耐久時間
は、比較例の液晶装置の耐久時間に比較して約2倍であ
り、本発明の製造方法によれば、配向膜の耐久性を大幅
に向上できることが判明した。また、実施例において得
られた液晶装置の表示特性は、比較例において得られた
液晶装置に比べ表示ムラがなく、コントラストの向上が
確認され、本実施例の配向膜(配向膜付き基板)が十分
な液晶配向能力を具備していることが判明した。
(Evaluation Results) The durability time of the liquid crystal device of the example is about twice as long as that of the liquid crystal device of the comparative example, and according to the manufacturing method of the present invention, the durability of the alignment film is improved. It turns out that it can be greatly improved. In addition, the display characteristics of the liquid crystal device obtained in the example have no display unevenness as compared with the liquid crystal device obtained in the comparative example, and it is confirmed that the contrast is improved, and the alignment film of this example (the substrate with the alignment film) is It was found to have a sufficient liquid crystal alignment ability.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、耐久性に優れ、しかも液晶分子等の対象分子に対
する配向能力が高い配向膜付き基板を、光劣化を生じる
ことのない温和な条件で製造することが可能となる。ま
た、本発明により製造された配向膜付き基板を備えるこ
とにより、耐久性に優れ、液晶の配向不良が生じ難い液
晶装置を提供することができる。また、本発明の液晶装
置を備えることにより、耐久性及び表示特性に優れた投
射型表示装置を提供することができる。
As described in detail above, according to the present invention, a substrate with an alignment film, which is excellent in durability and has a high alignment ability with respect to target molecules such as liquid crystal molecules, can be mildly treated without causing photodegradation. It is possible to manufacture under various conditions. Further, by providing the substrate with an alignment film manufactured according to the present invention, it is possible to provide a liquid crystal device which is excellent in durability and is less likely to cause liquid crystal alignment defects. Further, by providing the liquid crystal device of the present invention, it is possible to provide a projection display device having excellent durability and display characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 イオン化蒸着装置の構成を模式的に示す図。FIG. 1 is a diagram schematically showing the configuration of an ionization vapor deposition device.

【図2】 本発明の一実施形態たる液晶装置についてそ
の要部の構造を示す断面図。
FIG. 2 is a sectional view showing a structure of a main part of a liquid crystal device according to an embodiment of the present invention.

【図3】 図2の液晶装置を備えた投射型表示装置の一
例を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a projection type display device including the liquid crystal device of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 TFTアレイ基板 20 対向基板 50 液晶層 40、60 配向膜 100 イオン化蒸着装置 102 蒸着材料容器(蒸発源) 202 プレ基板(基材) 205 偏光性紫外線照射部 10 TFT array substrate 20 Counter substrate 50 liquid crystal layer 40,60 Alignment film 100 Ionization vapor deposition equipment 102 evaporation material container (evaporation source) 202 Pre substrate (base material) 205 Polarizing UV irradiation part

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Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対象分子を配向させることが可能な配向
膜付き基板の製造方法であって、基材の表面に250n
m〜400nmの偏光性紫外線を照射させつつ、光反応
性重合基を備える液晶性モノマーを前記基材に蒸着させ
ることを特徴とする配向膜付き基板の製造方法。
1. A method for producing a substrate with an alignment film capable of orienting target molecules, comprising 250 n on a surface of a base material.
A method for producing a substrate with an alignment film, which comprises depositing a liquid crystalline monomer having a photoreactive polymerizing group on the base material while irradiating it with polarized ultraviolet light of m to 400 nm.
【請求項2】 対象分子を配向させることが可能な配向
膜付き基板の製造方法であって、基材の表面にイオンビ
ームを照射させつつ、光反応性重合基を備える液晶性モ
ノマーを前記基材に蒸着させることを特徴とする配向膜
付き基板の製造方法。
2. A method for producing a substrate with an alignment film capable of orienting target molecules, comprising irradiating an ion beam on the surface of a base material and adding a liquid crystalline monomer having a photoreactive polymerizing group to the group. A method for producing a substrate with an alignment film, which comprises vapor-depositing a material.
【請求項3】 前記液晶性モノマーが、下記一般式
(1)、(2)、(3)のいずれかで表される1種若し
くは複数種の化合物を主体として構成されていることを
特徴とする請求項1又は2に記載の配向膜付き基板の製
造方法。 【化1】 【化2】 【化3】
3. The liquid crystal monomer is mainly composed of one or more compounds represented by any one of the following general formulas (1), (2) and (3). The method for producing a substrate with an alignment film according to claim 1 or 2. [Chemical 1] [Chemical 2] [Chemical 3]
【請求項4】 前記基材に対する液晶性モノマーの蒸着
は、イオン化蒸着を伴うことを特徴とする請求項1ない
し3のいずれか1項に記載の配向膜付き基板の製造方
法。
4. The method of manufacturing a substrate with an alignment film according to claim 1, wherein the vapor deposition of the liquid crystalline monomer on the base material is accompanied by ionization vapor deposition.
【請求項5】 互いに対向する一対の基板間に液晶層が
挟持された構成を備える液晶装置において、前記一対の
基板のうち、少なくとも一方の基板を請求項1ないし4
のいずれか1項に記載の方法により製造された配向膜付
き基板を用いたことを特徴とする液晶装置。
5. A liquid crystal device having a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates facing each other, and at least one of the pair of substrates is at least one substrate.
A liquid crystal device using the substrate with an alignment film manufactured by the method described in any one of 1.
【請求項6】 光源と、前記光源からの光を変調する請
求項5に記載の液晶装置からなる光変調手段と、前記光
変調手段により変調された光を投射する投射手段とを備
えたことを特徴とする投射型表示装置。
6. A light source, a light modulating means comprising the liquid crystal device according to claim 5 for modulating the light from said light source, and a projection means for projecting the light modulated by said light modulating means. A projection type display device characterized by.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2007111092A1 (en) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
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