JP2003313050A - Modification method of UV blocking glass - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線遮断ガラス
の改質方法および該方法により改質されたガラスの用途
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for modifying an ultraviolet blocking glass and a use of the glass modified by the method.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、画像表示装置などとして、液晶パ
ネルが広く利用されている。現在、画像表示装置には、
高画質であることと高照度であることが求められてお
り、そのため光源として高輝度ランプが使用されてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal panels have been widely used as image display devices. Currently, image display devices include
High image quality and high illuminance are required, and therefore high-intensity lamps are used as light sources.
【0003】高輝度ランプなどの光源は、強い紫外線を
発するので、部品の劣化の原因となる。特に、液晶は、
紫外線に対する耐久性が低いので、液晶を紫外線から保
護する手段が必要となる。A light source such as a high-intensity lamp emits strong ultraviolet rays, which causes deterioration of parts. In particular, the liquid crystal
Since the durability against ultraviolet rays is low, a means for protecting the liquid crystal from ultraviolet rays is required.
【0004】現在、ハロゲン化銅微粒子をガラス中また
はガラス表層に拡散させた紫外線ガラスが、ある任意の
波長以下の紫外線を遮断し、それ以上の波長の光を透過
させる透過特性を有することが知られている。例えば、
特許公報2518749号公報には、ハロゲン化銅を含む着色
ガラスが開示されている。At present, it is known that an ultraviolet glass in which copper halide fine particles are diffused in the glass or in the surface layer of the glass has a transmission characteristic of blocking ultraviolet rays having a wavelength of a given wavelength or less and transmitting light of a wavelength longer than that. Has been. For example,
Japanese Patent Publication No. 2518749 discloses a colored glass containing copper halide.
【0005】しかしながら、上記ガラスを液晶と直接接
触する液晶保護用ガラスとして使用すると、ガラスに含
まれているアルカリ成分によって、液晶が劣化してしま
うという問題点が生じる。However, when the above glass is used as a glass for protecting liquid crystal which is in direct contact with the liquid crystal, there arises a problem that the liquid crystal is deteriorated by an alkali component contained in the glass.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した従
来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その主な
目的は、紫外線遮断性能を有するガラスについて、特定
波長以下の紫外線のみをシャープに遮断する優れた透過
特性を維持した上で、アルカリ成分による悪影響を低減
し、更に、その他各種の優れた機能性を付与することが
できる新規な改質方法を提供することである。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and the main purpose of the present invention is to provide a glass having an ultraviolet ray blocking performance only for ultraviolet rays having a specific wavelength or less. It is an object of the present invention to provide a novel modification method capable of reducing the adverse effect of an alkali component and imparting various other excellent functionalities while maintaining excellent transmission characteristics of sharply blocking.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記した目
的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、SiO2を含有する
相を含む分相ガラス中に紫外線吸収成分としてのハロゲ
ン化銅が分散した紫外線遮断ガラスについて、その表面
を酸溶液に接触させることによって紫外線遮断ガラスの
表面にアルカリ成分などをほとんど含まない高ケイ酸層
を形成でき、処理後のガラスは、良好な紫外線遮断性能
を維持した上で優れた機能性を有するものとなることを
見出し、ここに本発明を完成するに至った。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that copper halide as an ultraviolet absorbing component is contained in a phase-separated glass containing a phase containing SiO 2. With respect to the dispersed ultraviolet blocking glass, a high silicic acid layer containing almost no alkali component can be formed on the surface of the ultraviolet blocking glass by contacting the surface with an acid solution, and the glass after the treatment has good ultraviolet blocking performance. The inventors have found that the composition has excellent functionality while maintaining it, and thus completed the present invention.
【0008】即ち、本発明は、下記の紫外線遮断ガラス
の改質方法及び該方法により改質されたガラスの用途に
係るものである。
1.ハロゲン化銅微粒子が全体又は一部に分散し且つS
iO2を含有する相を含む分相ガラスを、酸溶液に接触
させて該分相ガラス表面の少なくとも一部に高ケイ酸層
を形成することを特徴とする紫外線遮断ガラスの改質方
法。
2.高ケイ酸層が、SiO2を80重量%以上含む層で
ある上記項1に記載の紫外線遮断ガラスの改質方法。
3.酸溶液が、硝酸、硫酸、塩酸、リン酸、酢酸及び過
塩素酸からなる群から選択される少なくとも1種の酸を
含む水溶液である上記項1又は2に記載の紫外線遮断ガ
ラスの改質方法。
4.分相ガラスが、SiO2 20〜85重量%、B2O3 2〜75重
量%、Al2O3 15重量%以下、Li2O、Na2O、K2O、Rb2Oおよ
びCs2Oの少なくとも一種30重量%以下、MgO、CaO、ZnO、
BaO、SrOおよびPbOの少なくとも一種10重量%以下、Nb2O
5、ZrO2、La2O3、Y2O3、Ta2O3およびGd2O3の少なくとも
一種10重量%以下、及びハロゲン化銅0.01〜15重量%を
含むガラスである上記項1〜3のいずれかに記載の紫外
線遮断ガラスの改質方法。
5. 分相ガラスが、SiO2 20〜85重量%、B2O3 2〜75
重量%、Al2O315重量%以下、Li2O、Na2O、K2O、Rb2O
およびCs2Oの少なくとも一種30重量%以下、MgO、CaO、Z
nO、BaO、SrOおよびPbOの少なくとも一種10重量%以下、
Nb2O5、ZrO2、La2O3、Y2O3、Ta2O3およびGd2O3の少なく
とも一種10重量%以下、及びCl、Br及びIから選ばれた
少なくとも一種のハロゲン成分0.01〜15重量%を含むガ
ラスに、銅イオンを拡散させてハロゲン化銅微結晶を含
む層を形成させたガラスである上記項1〜3のいずれか
に記載の紫外線遮断ガラスの改質方法。
6. 上記項1〜5の何れかに記載の方法により改質さ
れた紫外線遮断ガラスからなる液晶保護用ガラス。That is, the present invention relates to the following method for modifying ultraviolet blocking glass and the use of the glass modified by the method. 1. Fine particles of copper halide are dispersed in whole or in part and S
A method for modifying ultraviolet-shielding glass, which comprises contacting a phase-separated glass containing a phase containing iO 2 with an acid solution to form a high silicic acid layer on at least a part of the surface of the phase-separated glass. 2. Item 2. The method for modifying an ultraviolet blocking glass according to Item 1, wherein the high silicic acid layer is a layer containing 80% by weight or more of SiO 2 . 3. Item 3. The method for modifying an ultraviolet-shielding glass according to Item 1 or 2, wherein the acid solution is an aqueous solution containing at least one acid selected from the group consisting of nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid and perchloric acid. . 4. The phase-separated glass contains SiO 2 20 to 85% by weight, B 2 O 3 2 to 75% by weight, Al 2 O 3 15% by weight or less, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, Rb 2 O and Cs 2 At least 30% by weight or less of O, MgO, CaO, ZnO,
At least one of BaO, SrO and PbO 10 wt% or less, Nb 2 O
5 , ZrO 2 , La 2 O 3 , Y 2 O 3 , at least one of Ta 2 O 3 and Gd 2 O 3 is 10% by weight or less, and a glass containing 0.01 to 15% by weight of copper halide. 4. The method for modifying the ultraviolet blocking glass according to any one of 3 above. 5. The phase-separated glass is composed of SiO 2 20 to 85% by weight, B 2 O 3 2 to 75
% By weight, Al 2 O 3 15% by weight or less, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, Rb 2 O
And at least 30% by weight of Cs 2 O, MgO, CaO, Z
nO, BaO, SrO and at least one of PbO 10 wt% or less,
Nb 2 O 5 , ZrO 2 , La 2 O 3 , Y 2 O 3 , at least 10% by weight or less of at least one of Ta 2 O 3 and Gd 2 O 3 , and at least one halogen component selected from Cl, Br and I Item 4. The method for modifying an ultraviolet-shielding glass according to any one of Items 1 to 3, which is a glass in which copper ions are diffused in a glass containing 0.01 to 15% by weight to form a layer containing copper halide microcrystals. 6. A glass for protecting liquid crystals, which comprises an ultraviolet blocking glass modified by the method according to any one of items 1 to 5 above.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】本発明において処理対象とするガ
ラスは、ハロゲン化銅が全体又は一部に分散し、且つSi
O2を含有する相を含む分相ガラスである。このような分
相ガラスとしては、SiO2を含有する相を含むホウケイ酸
ガラスを例示できる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The glass to be treated in the present invention has copper halide dispersed in whole or in part, and
It is a phase-separated glass containing a phase containing O 2 . Examples of such a phase-separated glass include borosilicate glass containing a phase containing SiO 2 .
【0010】該分相ガラスに含まれるハロゲン化銅とし
ては、例えば、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅等を例示で
き、これらの1種又は2種以上を混合して用いることが
できる。ハロゲン化銅は、微結晶として分相ガラス中に
分散されているのが好ましい。ハロゲン化銅結晶の大き
さは、直径0.1〜10nm程度であることが好まし
く、0.5〜5nm程度であることがより好ましい。As the copper halide contained in the phase-separated glass, for example, copper chloride, copper bromide, copper iodide and the like can be exemplified, and one kind or a mixture of two or more kinds thereof can be used. The copper halide is preferably dispersed in the phase-separated glass as fine crystals. The size of the copper halide crystal is preferably about 0.1 to 10 nm in diameter, and more preferably about 0.5 to 5 nm.
【0011】該分相ガラスにおけるハロゲン化銅の含有
量は、目的とする紫外線吸収能を有する範囲で適宜決め
ればよい。分相ガラス全体にハロゲン化銅が分散されて
いる場合には、分相ガラス全体に対するハロゲン化銅の
割合として、0.01〜15重量%程度であることが好
ましく、0.05〜5重量%程度であることがより好ま
しく、0.1〜2重量%程度であることが更に好まし
い。The content of copper halide in the phase-separated glass may be appropriately determined within a range having a desired ultraviolet absorbing ability. When the copper halide is dispersed in the entire phase-separating glass, the proportion of the copper halide in the whole phase-separating glass is preferably about 0.01 to 15% by weight, and 0.05 to 5% by weight. The amount is more preferably about 0.1 to 2% by weight, further preferably about 0.1 to 2% by weight.
【0012】また、分相ガラスの一部にハロゲン化銅を
分散させる場合には、例えばCl、Br、Iなどのハロゲン
成分を通常0.01〜15重量%程度、好ましくは0.
1〜2重量%程度含むガラスに銅イオンを拡散させるこ
とによって、銅イオンが拡散した部分において、銅イオ
ンとハロゲン成分とが反応し、ハロゲン化銅が分散した
紫外線吸収層を形成することができる。When the copper halide is dispersed in a part of the phase-separated glass, halogen components such as Cl, Br and I are usually added in an amount of 0.01 to 15% by weight, preferably 0.1% by weight.
By diffusing copper ions in a glass containing about 1 to 2% by weight, copper ions and halogen components react with each other in a portion where the copper ions have diffused to form an ultraviolet absorbing layer in which copper halide is dispersed. .
【0013】本発明方法では、上述した処理対象とする
分相ガラスを酸溶液に接触させることによって該分相ガ
ラスの改質を行う。これにより、分相ガラスの酸溶液と
の接触部分において、アルカリ成分などの可溶成分が溶
出して、該分相ガラスの表面に不溶成分であるSiO2を多
量に含有する高ケイ酸層が形成される。高ケイ酸層にお
けるSiO2量については、特に限定はなく、改質後のガラ
スの使用目的などに応じて適宜決めれば良いが、通常、
高ケイ酸層におけるSiO2量が80重量%程度以上である
ことが好ましく、85重量%程度以上であることがより
好ましい。In the method of the present invention, the phase-separated glass to be treated is brought into contact with an acid solution to modify the phase-separated glass. As a result, in the contact portion of the phase-separated glass with the acid solution, soluble components such as alkali components are eluted, and a high silicic acid layer containing a large amount of SiO 2 which is an insoluble component on the surface of the phase-separated glass. It is formed. The amount of SiO 2 in the high silicic acid layer is not particularly limited and may be appropriately determined depending on the purpose of use of the glass after modification, etc.
The amount of SiO 2 in the high silicic acid layer is preferably about 80% by weight or more, more preferably about 85% by weight or more.
【0014】酸溶液を接触させる方法については、特に
限定的ではなく、処理対象の分相ガラスと酸溶液とが十
分に接触できる方法であればよいが、通常は、酸溶液に
分相ガラスの一部又は全体を浸漬させる方法が一般的で
ある。The method of bringing the acid solution into contact is not particularly limited, and any method may be used as long as the phase-separated glass to be treated and the acid solution can be sufficiently brought into contact with each other. A method of dipping a part or the whole is common.
【0015】酸溶液を接触させる条件についても特に限
定的ではなく、使用する分相ガラスの組成、形状などに
応じて、目的とするケイ酸含有量の高ケイ酸層が形成さ
れ、且つ分相ガラスの少なくとも一部にハロゲン化銅が
残存する条件とすればよい。The conditions for contacting the acid solution are also not particularly limited, and a high silicic acid layer having a desired silicic acid content is formed and the phase separation is performed depending on the composition and shape of the phase-separated glass used. The conditions may be such that copper halide remains on at least part of the glass.
【0016】酸溶液として、例えば、硝酸、硫酸、塩
酸、リン酸、酢酸、過塩素酸等の酸を含有する水溶液を
用いることができる。これらの酸は一種単独又は二種以
上混合して用いることができる。As the acid solution, for example, an aqueous solution containing an acid such as nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid or perchloric acid can be used. These acids can be used alone or in combination of two or more.
【0017】酸溶液の濃度は、酸の種類などに応じて適
宜設定することができるが、通常、0.1規定〜10規
定程度、好ましくは0.5規定〜5規定程度とすればよ
い。The concentration of the acid solution can be appropriately set depending on the type of acid and the like, but it is usually about 0.1 normal to 10 normal, preferably 0.5 normal to 5 normal.
【0018】酸溶液の温度については、室温でも良い
が、処理効率を向上させるためには、50〜100℃程
度、好ましくは70℃〜100℃程度に加熱して用いれ
ばよい。The temperature of the acid solution may be room temperature, but in order to improve the treatment efficiency, it may be heated to about 50 to 100 ° C, preferably about 70 to 100 ° C.
【0019】分相ガラスを酸溶液に接触させる時間は、
通常3〜48時間程度、好ましくは6〜24時間程度、
より好ましくは12〜24時間程度とすればよい。酸溶
液に接触させた後は、水洗などにより、必要に応じて酸
溶液を除去すればよい。The time for contacting the phase-separated glass with the acid solution is
Usually about 3 to 48 hours, preferably about 6 to 24 hours,
More preferably, it may be about 12 to 24 hours. After contact with the acid solution, the acid solution may be removed as necessary by washing with water or the like.
【0020】酸溶液を接触させる部分については、分相
ガラスの種類、使用目的などに応じて適宜選択すればよ
く、例えば、(1)分相ガラス全体にハロゲン化銅を含有
する場合に、酸溶液を分相ガラスの両面の表層に接触さ
せて可溶成分を溶出させる方法、(2)分相ガラス全体に
ハロゲン化銅を含有する場合に、酸溶液を分相ガラスの
片面の表層に接触させて可溶成分を溶出させる方法、
(3)分相ガラス両面の表層のみにハロゲン化銅を含有す
る場合に、酸溶液を分相ガラスの片面の表層に接触させ
て可溶成分を溶出させる方法、(4)分相ガラスが片面の
表層のみにハロゲン化銅を含有する場合に、酸溶液を少
なくともハロゲン化銅を含有しない面の表層に接触させ
て可溶相を溶出させる方法、(5)分相ガラスが、ファイ
バー状であって、ガラス全体にハロゲン化銅を含有する
場合に、酸溶液をガラスの表層に接触させて可溶相を溶
出させる方法などを例示できる。また、酸処理後に分相
ガラスの一部にハロゲン化銅が所望量残存している限
り、ガラス全体を酸溶液に浸漬してもよい。The portion to be brought into contact with the acid solution may be appropriately selected according to the type of the phase-separating glass, the purpose of use, and the like. For example, (1) when the whole phase-separating glass contains copper halide, Method to elute soluble components by contacting the solution on both surfaces of the phase-separating glass, (2) When the whole phase-separating glass contains copper halide, contact the acid solution with the surface of one side of the phase-separating glass To dissolve the soluble components,
(3) When the copper halide is contained only in the surface layers on both surfaces of the phase-separating glass, the acid solution is contacted with the surface layer on one surface of the phase-separating glass to elute the soluble component, (4) the phase-separating glass is on one side. In the case of containing copper halide only in the surface layer of, the method of contacting the acid solution with the surface layer of the surface not containing at least copper halide to elute the soluble phase, (5) the phase-separated glass is fibrous. Then, when copper halide is contained in the entire glass, a method of bringing an acid solution into contact with the surface layer of the glass to elute the soluble phase can be exemplified. Further, as long as a desired amount of copper halide remains in a part of the phase-separated glass after the acid treatment, the entire glass may be immersed in the acid solution.
【0021】上記した方法の内で、例えば、(1)の方法
では、板状の分相ガラスの中心部に層状にハロゲン化銅
を残存させることができる。上記(2)及び(3)の方法で
は、例えば、分相ガラスの片面にハロゲン化銅を残存さ
せることができる。上記(4)の方法において、ハロゲン
化銅を含有しない面の表層のみに酸溶液を接触させる場
合には、酸溶液を接触させていない面において、ハロゲ
ン化銅を残存させることができる。上記(5)の方法で
は、例えば、ファイバーの中心部分にハロゲン化銅を残
存させることができる。Among the above-mentioned methods, for example, in the method (1), copper halide can be left in a layered form at the center of the plate-like phase-separating glass. In the above methods (2) and (3), for example, copper halide can be left on one surface of the phase-separated glass. In the above method (4), when the acid solution is brought into contact with only the surface layer of the surface not containing the copper halide, the copper halide can be left on the surface which is not brought into contact with the acid solution. In the above method (5), for example, copper halide can be left in the center of the fiber.
【0022】残存させるハロゲン化銅の量は、用途に応
じて適宜設定することができる。例えば、目的とする紫
外線吸収能を有する範囲で適宜設定することができる。The amount of copper halide to be left can be appropriately set depending on the application. For example, it can be appropriately set within a range having a desired ultraviolet absorbing ability.
【0023】酸溶液を接触させたくない箇所について
は、酸溶液に溶解せず且つ酸溶液と反応しない公知の被
覆材料を用いて分相ガラスにシールをしてから、分相ガ
ラスを酸溶液に接触させてもよい。例えば、真空蒸着法
や塗布法によってSiO2膜を形成する方法、樹脂シー
ト、塗料などを用いて被覆する方法などを適用できる。[0023] For a portion where the acid solution is not desired to be contacted, the phase-separating glass is sealed with a known coating material that does not dissolve in the acid solution and does not react with the acid solution, and then the phase-separating glass is changed to the acid solution. You may make it contact. For example, a method of forming a SiO 2 film by a vacuum vapor deposition method or a coating method, a method of coating with a resin sheet, a paint or the like can be applied.
【0024】本発明方法によれば、酸溶液と接触させて
改質された分相ガラスは、その表面が多孔質となってお
り、可視光線の透過率が低下する場合がある。この様な
場合には、酸溶液と接触させた後、熱処理を行うことに
よって高ケイ酸層を高密度化して可視光線の透過率を向
上させることができる。また、熱処理を行うことによっ
て、高ケイ酸層の下層からのアルカリ成分の浸透を抑制
して、液晶に対する汚染性を低下させることができ、更
に、紫外線遮断ガラスの耐薬品性を向上させることもで
きる。熱処理条件については、特に限定的ではないが、
加熱温度は、400〜900℃程度とすれば良く、70
0〜900℃程度とすることが好ましい。熱処理時間に
ついては、高ケイ酸層の厚さや熱処理温度に応じて、目
的とする高密度化が達成されるまでの時間とすれば良
く、通常、30分〜200時間程度とすればよい。熱処
理雰囲気については、通常、大気中などの含酸素雰囲気
とすればよい。According to the method of the present invention, the phase-separated glass which has been modified by bringing it into contact with an acid solution has a porous surface, which may reduce the transmittance of visible light. In such a case, the high silicic acid layer can be densified by contacting it with an acid solution and then performing heat treatment to improve the transmittance of visible light. Further, the heat treatment can suppress the permeation of the alkaline component from the lower layer of the high silicic acid layer to reduce the contamination property to the liquid crystal, and further improve the chemical resistance of the ultraviolet blocking glass. it can. The heat treatment conditions are not particularly limited,
The heating temperature may be about 400 to 900 ° C., and 70
It is preferable to set the temperature to about 0 to 900 ° C. The heat treatment time may be the time until the desired densification is achieved, depending on the thickness of the high silicic acid layer and the heat treatment temperature, and is usually about 30 minutes to 200 hours. The heat treatment atmosphere may be an oxygen-containing atmosphere such as the air.
【0025】分相ガラス
以下、本発明方法の処理対象とする分相ガラスについ
て、より詳細に説明する。 Phase- Separated Glass Hereinafter, the phase- separated glass to be treated by the method of the present invention will be described in more detail.
【0026】(1)ハロゲン化銅微粒子が均一に分散し
た分相ガラス
処理対象とする分相ガラスでは、ハロゲン化銅以外の各
成分は、従来からガラスにおいて使用されている各種の
成分から選択して使用することができる。(1) Phase-separated glass in which copper halide fine particles are uniformly dispersed In the phase-separated glass to be treated, each component other than copper halide is selected from various components conventionally used in glass. Can be used.
【0027】この様な分相ガラスの内で、ハロゲン化銅
微粒子が均一に分散した分相ガラスとしては、例えば、
SiO2 20〜85重量%程度、B2O3 2〜75重量%程度、Al2O3
15重量%程度以下、Li2O、Na2O、K2O、Rb2OおよびCs2O
の少なくとも一種30重量%程度以下、MgO、CaO、ZnO、Ba
O、SrOおよびPbOの少なくとも一種10重量%程度以下、Nb
2O5、ZrO2、La2O3、Y2O3、Ta2O3およびGd2O3の少なくと
も一種10重量%程度以下、及びハロゲン化銅0.01〜15重
量%程度を含むホウケイ酸ガラスを好適に用いることが
できる。Among the phase-separated glasses, examples of the phase-separated glass in which copper halide fine particles are uniformly dispersed include, for example,
SiO 2 20-85% by weight, B 2 O 3 2-75% by weight, Al 2 O 3
About 15% by weight or less, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, Rb 2 O and Cs 2 O
At least about 30% by weight or less of MgO, CaO, ZnO, Ba
At least one of O, SrO and PbO is about 10 wt% or less, Nb
Borosilicate glass containing at least about 10% by weight of at least one of 2 O 5 , ZrO 2 , La 2 O 3 , Y 2 O 3 , Ta 2 O 3 and Gd 2 O 3 and about 0.01 to 15% by weight of copper halide. Can be preferably used.
【0028】上記ホウケイ酸ガラスに含まれるSiO2の含
有量は、通常20〜85重量%程度、好ましくは30〜70重量
%程度、より好ましくは50〜65重量%程度である。The content of SiO 2 contained in the borosilicate glass is usually about 20 to 85% by weight, preferably about 30 to 70% by weight, more preferably about 50 to 65% by weight.
【0029】上記ホウケイ酸ガラスに含まれるB2O3の含
有量は、通常2〜75重量%程度、好ましくは10〜40重量
%程度、より好ましくは15〜35重量%程度である。The content of B 2 O 3 contained in the borosilicate glass is usually about 2 to 75% by weight, preferably about 10 to 40% by weight, more preferably about 15 to 35% by weight.
【0030】上記ホウケイ酸ガラスに含まれるLi2O、Na
2O、K2O、Rb2OおよびCs2Oからなる群から選択される少
なくとも一種の成分の含有量は、通常約30重量%以下、
好ましくは0.5〜20重量%程度、より好ましくは0.5〜1
0重量%、特に好ましくは0.5〜5重量%程度である。Li 2 O and Na contained in the above borosilicate glass
The content of at least one component selected from the group consisting of 2 O, K 2 O, Rb 2 O and Cs 2 O is usually about 30% by weight or less,
Preferably about 0.5 to 20% by weight, more preferably 0.5 to 1
It is 0% by weight, particularly preferably about 0.5 to 5% by weight.
【0031】上記ホウケイ酸ガラスに含まれるMgO、Ca
O、ZnO、BaO、SrOおよびPbOからなる群から選択される
少なくとも一種の成分の含有量は、通常約10重量%以
下、好ましくは0.5〜10重量%程度、より好ましくは0.5
〜5重量%程度である。MgO and Ca contained in the above borosilicate glass
O, ZnO, BaO, the content of at least one component selected from the group consisting of SrO and PbO is usually about 10 wt% or less, preferably about 0.5 to 10 wt%, more preferably 0.5.
It is about 5% by weight.
【0032】上記ホウケイ酸ガラスに含まれるAl2O3の
含有量は、通常15重量%程度以下、好ましくは1〜10重
量%程度である。The content of Al 2 O 3 contained in the borosilicate glass is usually about 15% by weight or less, preferably about 1 to 10% by weight.
【0033】上記ホウケイ酸ガラスに含まれるNb2O5、Zr
O2、La2O3、Y2O3、Ta2O3およびGd2O 3からなる群から選
択される少なくとも一種の成分の含有量は、通常10重量
%程度以下、好ましくは0.5〜5重量%程度である。Nb contained in the borosilicate glass2OFive, Zr
O2, La2O3, Y2O3, Ta2O3And Gd2O 3Selected from the group consisting of
The content of at least one component selected is usually 10 wt.
% Or less, preferably about 0.5 to 5% by weight.
【0034】上記ホウケイ酸ガラスにはAs2O3、Sb2O3及
びSnOからなる群から選択される少なくとも1種の成分
が含まれていても良く、その含有量は、通常1重量%程
度以下とすればよい。これらの成分は清澄剤として有用
である。The borosilicate glass may contain at least one component selected from the group consisting of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and SnO, and the content thereof is usually about 1% by weight. The following may be done. These ingredients are useful as fining agents.
【0035】上記ホウケイ酸ガラスは、Fe、Ni、Mn、C
o、V、Cr、Cu、Pd、Ce、希土類元素(Sc、Ti、Pr、Nd、
Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等)等の酸化物を
含んでいてもよい。これら酸化物は、1種単独でもよ
く、又は2種以上を含んでいてもよい。これらの酸化物
の含有量は、特に制限されないが、通常約15重量%以
下、好ましくは5〜10重量%程度、より好ましくは
0.1〜5重量%程度とすればよい。これらの酸化物を
含むガラスでは、一定波長以下の紫外線をほぼ完全に遮
断すると共に、それ以上の波長については、含まれる酸
化物の種類に応じた特有の吸収特性を示すものとなる。The above borosilicate glass is made of Fe, Ni, Mn, C.
o, V, Cr, Cu, Pd, Ce, rare earth elements (Sc, Ti, Pr, Nd,
Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, etc.) may be included. These oxides may be used alone or in combination of two or more. The content of these oxides is not particularly limited, but may be usually about 15% by weight or less, preferably about 5 to 10% by weight, more preferably about 0.1 to 5% by weight. Glasses containing these oxides almost completely block ultraviolet rays having a certain wavelength or less, and exhibit a specific absorption characteristic for wavelengths longer than that depending on the type of the oxide contained.
【0036】本発明において処理対象とする分相ガラス
は、公知の方法により製造することができる。例えば、
上述したホウケイ酸ガラスは、特許2518749号公報、特
許2645923号公報、特許2852462号公報などに開示されて
いる公知の方法により製造することができる。即ち、所
定の組成となるように原料を配合し、従来行われている
ガラス製造法に従って処理すればよい。より具体的に
は、所定の組成になるように原料を調合し、1200〜1500
℃程度の温度で溶融し、撹拌し、清澄し、型に流し込
み、冷却中又は冷却後、450〜700℃程度の温度で0.1〜5
時間程度熱処理を行い、切断、研磨などの加工をするこ
となどにより、所望の形態のガラス製品を得ることがで
きる。The phase-separated glass to be treated in the present invention can be manufactured by a known method. For example,
The above-mentioned borosilicate glass can be manufactured by a known method disclosed in Japanese Patent No. 2518749, Japanese Patent No. 2645923, Japanese Patent No. 2852462, or the like. That is, the raw materials may be blended so as to have a predetermined composition, and the glass may be treated according to a conventionally-used glass manufacturing method. More specifically, the raw materials are mixed so as to have a predetermined composition, and 1200 to 1500
Melt at a temperature of about ℃, stir, clarify, pour into a mold, during or after cooling, at a temperature of about 450 ~ 700 ℃ 0.1 ~ 5
A glass product having a desired shape can be obtained by performing heat treatment for about an hour and performing processing such as cutting and polishing.
【0037】上記の製造過程において、ガラス中にハロ
ゲン化銅の微粒子を混入させるには、ハロゲン化銅を、
或いはその原料となる銅源としての酸化銅、ハロゲン化
銅などの銅化合物と該銅源とともにハロゲン化銅をつく
り得るハロゲン源としてのハロゲン化リチウム、ハロゲ
ン化ナトリウム、ハロゲン化カリウム、ハロゲン化ルビ
ジウム、ハロゲン化セシウムなどのハロゲン化アルカリ
化合物とを、所定の組成となるように他の原料と配合す
ればよい。またハロゲン化銅以外の成分としては、結果
として所定の成分となり得る酸化物、炭酸塩、水酸化物
などの従来のガラス原料をそのまま使用することができ
る。In the above manufacturing process, in order to mix fine particles of copper halide into glass, copper halide is
Alternatively, copper oxide as a raw material thereof, copper oxide, a copper compound such as copper halide and lithium halide as a halogen source capable of forming copper halide together with the copper source, sodium halide, potassium halide, rubidium halide, An alkali halide compound such as cesium halide may be blended with another raw material so as to have a predetermined composition. As the components other than the copper halide, conventional glass raw materials such as oxides, carbonates, hydroxides, etc., which can eventually become the predetermined components, can be used as they are.
【0038】なお、上記の冷却過程は、ガラスに熱的歪
みが生じないように、10〜100℃/hr程度、好ましくは30
〜50℃hr程度、また加熱は、10〜300℃/hr程度、好まし
くは30〜100℃/hr程度のゆっくりとした速度で行うこ
とが望ましい。これらの加熱速度および加熱時間によっ
て、ハロゲン化銅の結晶の大きさが決定される。溶融工
程は、酸化雰囲気でも良いが、Cuイオンが、その間Cu-
となるように、中性又は還元雰囲気中で行うのが好まし
い。また、清澄工程において清澄剤としてAs2O 3、Sb
2O3、SnOなどを使用してもよい。In the cooling process, the glass is not thermally distorted.
10 to 100 ° C / hr, preferably 30
~ 50 ° C hr, heating is about 10-300 ° C / hr, preferred
Do it at a slow speed of 30 to 100 ° C / hr.
And is desirable. Depending on these heating rate and heating time
Thus, the size of the copper halide crystal is determined. Melter
However, an oxidizing atmosphere may be used, but Cu ions-
It is preferable to carry out in a neutral or reducing atmosphere so that
Yes. As a refining agent in the refining process2O 3, Sb
2O3, SnO, etc. may be used.
【0039】(2)ハロゲン化銅微粒子が一部に分散し
た分相ガラス
本発明方法の処理対象とする分相ガラスの内で、ハロゲ
ン化銅微粒子が一部に分散した分相ガラスとしては、ハ
ロゲンを含む母材ガラスに銅イオンを拡散させてハロゲ
ン化銅を生成させた分相ガラスを用いることができる。
このような方法において用いる母材ガラスとしては、Si
O2 20〜85重量%、B2O3 2〜75重量%、Al2O315重量%
以下、Li2O、Na2O、K2O、Rb2OおよびCs2Oの少なくとも
一種30重量%以下、MgO、CaO、ZnO、BaO、SrOおよびPbO
の少なくとも一種10重量%以下、Nb2O5、ZrO2、La2O3、Y2
O3、Ta2O3およびGd2O3の少なくとも一種10重量%以下、
及びCl、Br及びIから選ばれた少なくとも一種のハロゲ
ン成分0.01〜15重量%を含むガラスを例示できる。(2) Phase-Separated Glass Partially Dispersed with Copper Halide Fine Particles Among the phase-separated glasses to be treated by the method of the present invention, the phase-separated glass partially dispersed with copper halide fine particles is as follows: It is possible to use a phase-separated glass in which copper ions are generated by diffusing copper ions in a base glass containing halogen.
The base glass used in such a method is Si
O 2 20 to 85 wt%, B 2 O 3 2~75 wt%, Al 2 O 3 15 wt%
Below, at least 30% by weight of at least one of Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, Rb 2 O and Cs 2 O, MgO, CaO, ZnO, BaO, SrO and PbO.
10% by weight or less, Nb 2 O 5, ZrO 2 , La 2 O 3 , Y 2
10% by weight or less of at least one of O 3 , Ta 2 O 3 and Gd 2 O 3 ,
And glass containing 0.01 to 15% by weight of at least one halogen component selected from Cl, Br and I.
【0040】上記母材ガラスに含まれるSiO2の含有量
は、通常20〜85重量%程度、好ましくは30〜85重量%程
度、より好ましくは40〜82重量%程度である。The content of SiO 2 contained in the base glass is usually about 20 to 85% by weight, preferably about 30 to 85% by weight, more preferably about 40 to 82% by weight.
【0041】上記母材ガラスに含まれるB2O3の含有量
は、通常2〜75重量%程度、好ましくは12〜50重量%程
度である。The content of B 2 O 3 contained in the base glass is usually about 2 to 75% by weight, preferably about 12 to 50% by weight.
【0042】上記母材ガラス含まれるLi2O、Na2O、K
2O、Rb2OおよびCs2Oからなる群から選択される少なくと
も一種の成分の含有量は、通常約30重量%以下、好まし
くは2〜20重量%程度、より好ましくは5〜20重量%、特
に好ましくは15重量%程度である。Li 2 O, Na 2 O, K contained in the above-mentioned base glass
The content of at least one component selected from the group consisting of 2 O, Rb 2 O and Cs 2 O is usually about 30% by weight or less, preferably about 2 to 20% by weight, more preferably 5 to 20% by weight. Particularly preferably, it is about 15% by weight.
【0043】上記母材ガラスに含まれるMgO、CaO、Zn
O、BaO、SrOおよびPbOからなる群から選択される少なく
とも一種の成分の含有量は、通常10重量%以下、好まし
くは0.5〜10重量%程度である。MgO, CaO, Zn contained in the above-mentioned base glass
The content of at least one component selected from the group consisting of O, BaO, SrO and PbO is usually 10% by weight or less, preferably about 0.5 to 10% by weight.
【0044】上記母材ガラスに含まれるAl2O3の含有量
は、通常約15重量%程度以下、好ましくは1〜10重量%程
度である。The content of Al 2 O 3 contained in the base glass is usually about 15% by weight or less, preferably about 1 to 10% by weight.
【0045】上記母材ガラスに含まれるNb2O5、ZrO2、La
2O3、Y2O3、Ta2O3およびGd2O3からなる群から選択され
る少なくとも一種の成分の含有量は、通常10重量%程度
以下、好ましくは0.5〜10重量%程度である。Nb 2 O 5 , ZrO 2 , La contained in the above-mentioned matrix glass
The content of at least one component selected from the group consisting of 2 O 3 , Y 2 O 3 , Ta 2 O 3 and Gd 2 O 3 is usually about 10% by weight or less, preferably about 0.5 to 10% by weight. is there.
【0046】上記母材ガラスに含まれるCl、Br及びIか
ら選ばれた少なくとも一種のハロゲン成分の含有量は、
通常、0.01〜15重量%程度、好ましくは0.1〜2重量%程
度である。The content of at least one halogen component selected from Cl, Br and I contained in the above base glass is
Usually, it is about 0.01 to 15% by weight, preferably about 0.1 to 2% by weight.
【0047】上記母材ガラスにはAs2O3、Sb2O3及びSnO
からなる群から選択される少なくとも1種の成分が含ま
れていても良く、その含有量は、通常1重量%程度以下
とすればよい。これらの成分は清澄剤として有用であ
る。As the base glass, As 2 O 3 , Sb 2 O 3 and SnO were added.
At least one component selected from the group consisting of may be contained, and the content thereof may be usually about 1% by weight or less. These ingredients are useful as fining agents.
【0048】上記母材ガラスは、Fe、Ni、Mn、Co、V、C
r、Cu、Pd、Ce、希土類元素(Sc、Ti、Pr、Nd、Sm、E
u、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等)等の酸化物を含ん
でいてもよい。これら酸化物は、1種単独でもよく、又
は2種以上を含んでいてもよい。これらの酸化物の含有
量は、特に制限されないが、通常約15重量%以下、好
ましくは5〜10重量%程度、より好ましくは0.1〜
5重量%程度とすればよい。これらの酸化物を含むガラ
スでは、一定波長以下の紫外線をほぼ完全に遮断すると
共に、それ以上の波長については、含まれる酸化物の種
類に応じた特有の吸収特性を示すものとなる。The base glass is Fe, Ni, Mn, Co, V, C.
r, Cu, Pd, Ce, rare earth elements (Sc, Ti, Pr, Nd, Sm, E
u, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, etc.) may be included. These oxides may be used alone or in combination of two or more. The content of these oxides is not particularly limited, but is usually about 15% by weight or less, preferably about 5 to 10% by weight, more preferably 0.1 to
It may be about 5% by weight. Glasses containing these oxides almost completely block ultraviolet rays having a certain wavelength or less, and exhibit a specific absorption characteristic for wavelengths longer than that depending on the type of the oxide contained.
【0049】ハロゲンを含む母材ガラスに銅イオンを拡
散させてハロゲン化銅微粒子が一部に分散した分相ガラ
スを製造する方法としては、例えば、特許3049379号公
報などに開示されている公知の方法を適用することがで
きる。銅イオンを拡散させる方法は、特に限定されるも
のではなく、母材の表面に銅金属又は銅化合物を含有す
る皮膜を形成した後熱処理をする方法、銅塩の溶融槽に
母材を浸漬する方法等を例示することができる。As a method for producing a phase-separated glass in which copper halide fine particles are partially dispersed by diffusing copper ions in a base glass containing halogen, for example, there is a known method disclosed in Japanese Patent No. 3049379. The method can be applied. The method of diffusing copper ions is not particularly limited, and a method of heat treatment after forming a coating containing copper metal or a copper compound on the surface of the base material, immersing the base material in a molten bath of copper salt A method etc. can be illustrated.
【0050】母材の表面に銅金属又は銅化合物を含有す
る皮膜を形成する方法としては、例えば、銅化合物を含
有するペーストを塗布し乾燥する方法、銅アルコキシド
溶液を用いるゾルゲル法によって皮膜を形成する方法、
真空蒸着法、CVD法(化学気相堆積法)、イオン蒸着
法、スパッタリング法、溶射法等の方法で銅又は銅化合
物の皮膜を形成する方法等を挙げることができる。銅金
属又は銅化合物を含有する皮膜の厚さは、形成すべき紫
外線遮断ガラスの特性に応じて適宜決めればよいが、通
常0.1〜2mm程度の厚さとすればよい。皮膜を形成した後
の熱処理は、400〜900℃程度の温度で10分〜200時間程
度行えばよい。その後、水洗することによって、ハロゲ
ン化銅の微結晶層を形成した紫外線遮断機能を有する分
相ガラスを得ることができる。As a method of forming a film containing copper metal or a copper compound on the surface of the base material, for example, a method of applying a paste containing a copper compound and drying it, or a sol-gel method using a copper alkoxide solution is used to form the film. how to,
Examples thereof include a method of forming a film of copper or a copper compound by a method such as a vacuum vapor deposition method, a CVD method (chemical vapor deposition method), an ion vapor deposition method, a sputtering method and a thermal spraying method. The thickness of the coating containing copper metal or copper compound may be appropriately determined according to the characteristics of the ultraviolet blocking glass to be formed, but it is usually about 0.1 to 2 mm. The heat treatment after forming the film may be performed at a temperature of about 400 to 900 ° C. for about 10 minutes to 200 hours. Then, by washing with water, it is possible to obtain a phase-separated glass having a function of blocking ultraviolet rays, in which a copper halide microcrystal layer is formed.
【0051】これらの方法のなかで、銅化合物を含有す
るペーストを塗布し乾燥する方法について、より具体的
に説明する。銅化合物を含有するペーストとしては、特
に限定はなく、母材上に塗布し得る適度な粘度を有し、
熱処理により母材中に銅イオンを拡散させることのでき
る銅化合物を含有するペースト状物であればいずれも用
いることができる。この様な銅化合物としては、CuS
O4、CuCl、CuCl2、CuBr、CuBr2、Cu2O、CuO、Cu(NO3)・3
H2O、CuS等を挙げることができる。ペースト中における
銅化合物の含有量は、特に限定されないが、通常20〜70
重量%程度、好ましくは30〜60重量%程度とすればよい。
該ペーストには、通常、バインダー成分が含まれるが、
バインダー成分としては、熱処理工程において分解し
て、水洗により容易に除去される樹脂成分を用いること
が好ましい。この様なペーストとしては、通常、ガラス
の着色用ペーストとして市販されているものを用いるこ
とができ、その一例として、硫酸銅40〜60重量%、硫酸ソ
ーダ5〜15重量%程度、アルコールなどの溶剤15〜25重量%
程度、樹脂成分1〜5重量%程度からなるガラス着色用ペ
ースト等を挙げることができる。ペーストを塗布した後
の乾燥の条件は、特に限定はなく、溶剤成分が充分除去
される様に乾燥すればよく、通常150℃〜300℃程度で5
〜15分程度乾燥すれば、効率よく乾燥することができ
る。Among these methods, the method of applying a paste containing a copper compound and drying it will be described more specifically. The paste containing the copper compound is not particularly limited, and has a suitable viscosity that can be applied onto the base material,
Any paste-like material containing a copper compound capable of diffusing copper ions in the base material by heat treatment can be used. As such a copper compound, CuS
O 4 , CuCl, CuCl 2 , CuBr, CuBr 2 , Cu 2 O, CuO, Cu (NO 3 ) ・ 3
Examples thereof include H 2 O and CuS. The content of the copper compound in the paste is not particularly limited, usually 20 ~ 70
It may be about wt%, preferably about 30 to 60 wt%.
The paste usually contains a binder component,
As the binder component, it is preferable to use a resin component that decomposes in the heat treatment step and is easily removed by washing with water. As such a paste, it is usually possible to use a commercially available paste for coloring glass, for example, copper sulfate 40 to 60 wt%, sodium sulfate 5 to 15 wt%, alcohol, etc. Solvent 15-25% by weight
And a glass coloring paste composed of about 1 to 5% by weight of a resin component. The conditions for drying after applying the paste are not particularly limited, as long as it is dried so that the solvent component is sufficiently removed, and it is usually about 150 ° C. to 300 ° C.
If it is dried for about 15 minutes, it can be efficiently dried.
【0052】また、銅塩の溶融槽に母材を浸漬する方法
では、300〜700℃程度の温度であって母材の屈伏点以下
の温度に加熱した銅塩の溶融槽中に、母材を10分〜20時
間程度浸漬した後、溶融槽から引き上げて水洗すればよ
く、この様な方法によって、母材に銅イオンが拡散して
該母材の表面にハロゲン化銅の微結晶層を形成すること
ができる。溶融槽に浸漬する方法で用いる銅塩として
は、特に限定はなく、母材中に銅イオンが拡散が可能な
銅化合物であればよく、例えば、CuSO4、CuCl、CuCl2、
CuBr、CuBr2、Cu2O、CuO、Cu(NO3)・3H2O、CuS等を挙げ
ることができ、融点が上記した温度範囲を上回る化合物
の場合には、適宜組み合わせて融点を上記温度範囲とし
て用いればよい。また、銅塩以外の成分としてNaNO3、N
a2SO4、NaCl等を5〜50重量%程度含有する溶融塩を用い
ることによって、銅イオンの拡散を促進することも可能
である。In the method of immersing the base metal in the copper salt melting bath, the base metal is heated in a temperature of about 300 to 700 ° C. and below the sag point of the base metal. After immersing for about 10 minutes to 20 hours, it may be pulled out from the melting tank and washed with water, and by such a method, copper ions are diffused in the base material to form a copper halide microcrystalline layer on the surface of the base material. Can be formed. The copper salt used in the method of immersing in the melting tank is not particularly limited, as long as it is a copper compound capable of diffusing copper ions in the base material, for example, CuSO 4 , CuCl, CuCl 2 ,
CuBr, CuBr 2 , Cu 2 O, CuO, Cu (NO 3 ) .3H 2 O, CuS, and the like can be mentioned.In the case of a compound having a melting point higher than the above-mentioned temperature range, the melting point is set to the above-mentioned temperature by appropriately combining them. It may be used as a range. In addition, as components other than copper salt, NaNO 3 , N
It is also possible to promote the diffusion of copper ions by using a molten salt containing a 2 SO 4 , NaCl or the like in an amount of about 5 to 50% by weight.
【0053】上記した方法などにより、母材ガラスに銅
イオンを拡散させることによって、母材ガラス中のハロ
ゲンと結合して、母材ガラスの表面付近にハロゲン化銅
の微結晶層からなる紫外線吸収層が形成される。By diffusing copper ions in the base glass by the above-mentioned method or the like, the copper ions are combined with halogen in the base glass to absorb ultraviolet rays composed of a microcrystalline layer of copper halide near the surface of the base glass. A layer is formed.
【0054】このような方法で分相ガラスを製造する際
には、更に、銅イオンの交換反応を行った後、ガラスの
転移点以上の温度であって、屈伏点以下の温度で、0.5
〜10時間程度の熱処理を行うことによって、所期の吸収
波長以下の波長域の紫外線について若干の透過がある場
合に、これをほぼ完全に吸収することが可能になる。When the phase-separated glass is produced by such a method, after the copper ion exchange reaction is further performed, the temperature is not less than the transition point of the glass and not more than the sag point, and 0.5
By performing the heat treatment for about 10 hours, it is possible to almost completely absorb the ultraviolet rays in the wavelength range below the intended absorption wavelength, even if they are slightly transmitted.
【0055】また、該分相ガラスを製造する場合には、
母材の片面にのみ銅金属又は銅化合物を含有する皮膜を
形成して熱処理する方法や、ガラスの片面を溶融塩によ
って侵されない公知の被覆材料でシールドして溶融塩槽
に浸漬する方法などにより、簡単に母材の片面にのみハ
ロゲン化銅の微結晶層を形成することができる。When producing the phase-separated glass,
By a method of forming a coating containing a copper metal or a copper compound on only one surface of the base material and heat-treating it, or by a method of shielding one surface of the glass with a known coating material that is not attacked by molten salt and immersing it in a molten salt tank It is possible to easily form the copper halide microcrystal layer on only one surface of the base material.
【0056】改質ガラスの用途
本発明方法によって改質されたガラスは、優れた紫外線
遮断性能を有すると同時に、その表面の少なくとも一部
にアルカリ成分をほとんど含まない高ケイ酸層が形成さ
れている。このため、液晶と直接接触する液晶保護用ガ
ラスとして使用する場合に、ガラスに含まれているアル
カリ成分によって液晶が劣化することがなく、液晶保護
用ガラスとして好適に用いることができる。液晶保護用
ガラスとして使用する場合には、高ケイ酸層の厚みを0.
01mm以上程度とすることが好ましく、0.05mm以上程度
とするのがより好ましく、0.1mm〜0.6mm程度とするのが
最も好ましい。ハロゲン化銅が0.01〜15重量%程度
含まれる層の厚みは、光源から発せられる紫外線の強度
などに応じて適宜設定することができるが、約0.01
mm程度以上とすることが好ましく、0.1mm程度以
上とすることがより好ましい。液晶保護用ガラスとして
使用する場合には、少なくとも液晶と接触する面が、高
ケイ酸層となるよう設置すればよい。 Uses of Modified Glass The glass modified by the method of the present invention has excellent ultraviolet ray blocking performance, and at the same time, a high silicic acid layer containing almost no alkali component is formed on at least a part of its surface. There is. Therefore, when used as a glass for liquid crystal protection that is in direct contact with the liquid crystal, the liquid crystal is not deteriorated by the alkali component contained in the glass and can be suitably used as a glass for liquid crystal protection. When used as a glass for liquid crystal protection, the high silicic acid layer should have a thickness of 0.
It is preferably about 01 mm or more, more preferably about 0.05 mm or more, and most preferably about 0.1 mm to 0.6 mm. The thickness of the layer containing about 0.01 to 15% by weight of copper halide can be appropriately set according to the intensity of the ultraviolet rays emitted from the light source, but is about 0.01.
The thickness is preferably about mm or more, and more preferably about 0.1 mm or more. When used as a glass for protecting liquid crystal, at least the surface in contact with the liquid crystal may be provided with a high silicic acid layer.
【0057】更に、本発明の方法により改質されたガラ
スは、薬品類、アルコール類、各種飲料水などの容器用
ガラスとしても有用である。容器用ガラスとして使用す
る場合には、高ケイ酸層の厚みを0.01mm以上程度とす
ることが好ましく、0.05mm以上程度とするのがより好ま
しく、0.1mm〜0.6mm程度とするのが最も好ましい。ハロ
ゲン化銅が0.01〜15重量%程度含まれる層の厚み
は、内容物の紫外線に対する耐久性に応じて適宜設定す
ることができるが、0.01mm程度以上とすることが好
ましく、0.1mm程度以上とすることがより好ましい。
容器用ガラスとして用いる場合には、高ケイ酸層が、薬
品、アルコール、各種飲料などの内容物と接触するよう
に容器を製造することにより、内容物がアルカリ成分に
より変質することを防ぐことができる。Further, the glass modified by the method of the present invention is useful as a glass for containers of chemicals, alcohols, various drinking water and the like. When used as glass for containers, the thickness of the high silicic acid layer is preferably about 0.01 mm or more, more preferably about 0.05 mm or more, most preferably about 0.1 mm to 0.6 mm. . The thickness of the layer containing copper halide in an amount of about 0.01 to 15% by weight can be appropriately set according to the durability of the contents to ultraviolet light, but is preferably about 0.01 mm or more, More preferably, it is about 1 mm or more.
When used as a glass for a container, the high silicic acid layer, chemicals, alcohol, by manufacturing the container so as to come into contact with the contents such as various beverages, it is possible to prevent the contents from being deteriorated by alkaline components. it can.
【0058】更に、本発明の方法により改質されたガラ
スは、屈折率の異なる二つの部分を有するので、光ファ
イバ−、光導波路などとしても好適に用いることができ
る。例えば、ファイバー状などの形状とした分相ガラス
について、表層に酸溶液を接触させることにより可溶成
分を溶出させ、ファイバーの中心部にハロゲン化銅を残
存させたガラスは、光ファイバーとして好適に用いるこ
とができる。Furthermore, since the glass modified by the method of the present invention has two portions having different refractive indexes, it can be suitably used as an optical fiber or an optical waveguide. For example, regarding a phase-separated glass in the shape of a fiber, a glass in which a soluble component is eluted by bringing an acid solution into contact with the surface layer and copper halide is left in the center of the fiber is preferably used as an optical fiber. be able to.
【0059】光ファイバーとして使用する場合には、高
ケイ酸層の厚みが、約0.001mm以上であることが
好ましく、0.002〜0.1mm程度であることがよ
り好ましい。光ファイバーとして使用する場合には、中
心部にあるハロゲン化銅を含有する部分の直径は、約
0.001mm以上であることが好ましく、0.002〜
1mm程度であることがより好ましい。When used as an optical fiber, the thickness of the high silicic acid layer is preferably about 0.001 mm or more, more preferably about 0.002 to 0.1 mm. When used as an optical fiber, the diameter of the central portion containing copper halide is preferably about 0.001 mm or more,
More preferably, it is about 1 mm.
【0060】[0060]
【発明の効果】本発明の改質方法によれば、任意の波長
以下の紫外線のみをシャープに遮断する優れた透過特性
を維持した上で、アルカリ成分による悪影響を低減し、
更に、その他各種の優れた機能性を有する紫外線遮断ガ
ラスを得ることができる。According to the modification method of the present invention, while maintaining excellent transmission characteristics that sharply block only ultraviolet rays having an arbitrary wavelength or less, adverse effects due to alkali components are reduced,
Furthermore, it is possible to obtain an ultraviolet blocking glass having various other excellent functionalities.
【0061】[0061]
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。本発明は、以下の実施例に限定されるもので
はない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to the examples below.
【0062】実施例1
SiO2 55.3重量%、Na2B4O7 22.3重量%、H3BO3
10.2重量%、Al(OH)3 4.2重量%、K2CO3 1.
3重量%、ZnO 0.9重量%、NaBr 4.6重量%、Cu
2O 0.5重量%、SiZrO4 0.7重量%およびNb2O5
0.1重量%を混合することによって、ガラス原料を調
製した。ガラス原料を溶融し、成形および徐冷した後、
600℃において50分間熱処理することによって、ハ
ロゲン化銅微粒子がガラス全体に均一に分散したSiO2を
含有する相を含む分相ガラスを得た。その後、ひずみが
なくなるまで徐冷し、研磨加工することによって、15
mm×15mm×1.1mmの分相ガラスを三枚得た。得られ
た分相ガラスの組成を表1に、No.1として示す。表中の
数値の単位は、重量%である。また、図1に、分相ガラ
スの透過率測定の結果を示す。図1から明らかなよう
に、分相ガラスは、紫外線のみを遮断している。Example 1 55.3% by weight of SiO 2 , 22.3% by weight of Na 2 B 4 O 7 and H 3 BO 3
10.2% by weight, Al (OH) 3 4.2% by weight, K 2 CO 3 1.
3% by weight, ZnO 0.9% by weight, NaBr 4.6% by weight, Cu
0.5% by weight of 2 O, 0.7% by weight of SiZrO 4 and Nb 2 O 5
A glass raw material was prepared by mixing 0.1% by weight. After melting the glass raw material, molding and slow cooling,
A heat treatment was performed at 600 ° C. for 50 minutes to obtain a phase-separated glass containing a phase containing SiO 2 in which copper halide fine particles were uniformly dispersed throughout the glass. Then, slowly cool until the strain disappears, and polish to obtain 15
Three pieces of phase-separated glass having a size of 15 mm × 15 mm × 1.1 mm were obtained. The composition of the obtained phase-separated glass is shown in Table 1 as No. 1. The unit of numerical values in the table is% by weight. Moreover, the result of the transmittance measurement of the phase-separated glass is shown in FIG. As is clear from FIG. 1, the phase-separating glass blocks only ultraviolet rays.
【0063】次に、三枚の分相ガラスを一枚ずつガラス
容器に入れ、それぞれの容器を1規定、2規定または3
規定に調整した硝酸水溶液(原液の濃度:60%、比
重:1.38)で満たした。それぞれの容器をオイルバ
スを用いて加熱し、98℃において12時間酸処理を行
うことによって、分相ガラス表面に高ケイ酸層を形成さ
せた。酸処理後、ガラスを水洗し、乾燥した。Next, each of the three phase-separated glasses was placed in a glass container, and each container was defined as 1 normal, 2 normal or 3 normal.
It was filled with a nitric acid aqueous solution (concentration of undiluted solution: 60%, specific gravity: 1.38) adjusted to normal. Each container was heated using an oil bath and subjected to acid treatment at 98 ° C for 12 hours to form a high silicic acid layer on the surface of the phase-separated glass. After the acid treatment, the glass was washed with water and dried.
【0064】得られた3枚のガラスについて透過率の測
定を行った。結果を図2に示す。ガラス表面が多孔質と
なったために生じる光散乱と吸着した水分のために、可
視広域において透過率の低下が見られたが、紫外線遮断
特性に変化は見られなかった。The transmittance of the three obtained glasses was measured. The results are shown in Figure 2. Due to light scattering and water adsorbed due to the glass surface becoming porous, a decrease in transmittance was observed in the wide visible region, but no change was observed in the ultraviolet blocking property.
【0065】次に、1規定の硝酸水溶液を用いて酸処理
した高ケイ酸層を有する分相ガラスを、500℃において5
時間熱処理し、透過率を測定した。結果を図3に示す。
多孔質であった高ケイ酸層が、加熱処理によって高密度
となり、光散乱が抑制されたために、可視領域における
透過率は、酸処理前と同程度となった。また、紫外線遮
断特性に変化は見られなかった。Next, the phase-separated glass having a high silicic acid layer acid-treated with a 1N aqueous nitric acid solution was subjected to 5 ° C. at 500 ° C.
It was heat-treated for an hour and the transmittance was measured. The results are shown in Fig. 3.
The high silicic acid layer, which was porous, had a high density due to the heat treatment, and the light scattering was suppressed, so that the transmittance in the visible region was about the same as before the acid treatment. In addition, no change was observed in the ultraviolet blocking property.
【0066】さらに、得られたガラスについてエネルギ
ー分散型X線分光測定を行い、SiO2の濃度分布図を得
た。得られた結果を図4に示す。図4では、ガラス中の
SiO2が黒で示されている。図4から、酸処理によってSi
O2以外の成分が溶出し、ガラス表面に厚さ0.13mm程度の
高ケイ酸層が形成されていることが判る。Further, the obtained glass was subjected to energy dispersive X-ray spectroscopy measurement to obtain a SiO 2 concentration distribution chart. The obtained results are shown in FIG. In FIG. 4, in the glass
SiO 2 is shown in black. From Fig. 4, Si is treated by acid treatment.
It can be seen that components other than O 2 were eluted and a high silicic acid layer with a thickness of about 0.13 mm was formed on the glass surface.
【0067】実施例2
SiO2 44.2重量%、Na2B4O7 17.4重量%、H3BO3
9.4重量%、Al(OH)3 11.9重量%、K2CO3 1.
7重量%、Li2CO3 2.9重量%、ZnO 2.4重量%、N
aBr 9.2重量%およびSiZrO4 0.6重量%を混合す
ることによって、ガラス原料を調製した。ガラス原料を
溶融、成形および徐冷したのち、15mm×15mm×3mm
に研磨加工することによって、Brを含む母材ガラスを
得た。母材ガラスの組成を表1中に、No.2として示す。
表中の数値の単位は、重量%である。Example 2 44.2% by weight of SiO 2 , 17.4% by weight of Na 2 B 4 O 7 and H 3 BO 3
9.4% by weight, Al (OH) 3 11.9% by weight, K 2 CO 3 1.
7% by weight, Li 2 CO 3 2.9% by weight, ZnO 2.4% by weight, N
The glass raw material was prepared by mixing 9.2 wt% aBr and 0.6 wt% SiZrO 4 . 15mm × 15mm × 3mm after melting, shaping and slow cooling glass raw material
Then, the base glass containing Br was obtained by polishing. The composition of the base glass is shown as No. 2 in Table 1.
The unit of numerical values in the table is% by weight.
【0068】次に、CuSO4 55重量%、Na2SO4
10重量%、アクリル樹脂15重量%、セルロース樹脂
10重量%及び溶剤(ターピネオール)10重量%からな
るペーストを、研磨加工した母材ガラスの片面上に厚さ
1mmとなるように塗布し、200℃において30分乾
燥した。その後、510℃において48時間熱処理する
ことによって、銅イオンを拡散させてハロゲン化銅微結
晶を含む層を形成させた。その後、ひずみがなくなるま
で徐冷を行い、水洗し、乾燥した。得られた分相ガラス
の透過率を測定したところ、実施例1(図1)と同様の結
果が得られ、紫外線のみを遮断していることを確認し
た。Next, 55% by weight of CuSO 4 and Na 2 SO 4
A paste consisting of 10% by weight, 15% by weight of acrylic resin, 10% by weight of cellulose resin and 10% by weight of solvent (terpineol) was applied to one side of the base glass which had been polished so that the thickness was 1 mm, and the temperature was 200 ° C. Dried for 30 minutes. Then, by performing heat treatment at 510 ° C. for 48 hours, copper ions were diffused to form a layer containing copper halide microcrystals. Then, it was gradually cooled until the strain disappeared, washed with water, and dried. When the transmittance of the obtained phase-separated glass was measured, the same results as in Example 1 (FIG. 1) were obtained, and it was confirmed that only ultraviolet rays were blocked.
【0069】次に、分相ガラスをガラス容器に入れ、実
施例1と同様にして、1N、2Nまたは3Nに調整した
硝酸水溶液を用いて酸処理を行うことによって、分相ガ
ラス表面に高ケイ酸層を形成させ、水洗し、乾燥した。Next, the phase-separated glass was placed in a glass container and subjected to an acid treatment using an aqueous nitric acid solution adjusted to 1N, 2N or 3N in the same manner as in Example 1, whereby the surface of the phase-separated glass was treated with a high silica. An acid layer was formed, washed with water and dried.
【0070】得られた3種のガラスについて透過率の測
定を行ったところ、実施例1(図2)と同様の結果が得ら
れた。即ち、可視広域において透過率の低下が見られた
が、紫外線遮断特性に変化は見られなかった。When the transmittance of the three kinds of glass thus obtained was measured, the same results as in Example 1 (FIG. 2) were obtained. That is, although the transmittance was reduced in the wide visible range, no change was observed in the ultraviolet blocking property.
【0071】次に、1規定の硝酸水溶液を用いて酸処理
した高ケイ酸層を有する分相ガラスを、500℃において5
時間熱処理し、得られたガラスの透過率を測定した。得
られた結果は、実施例1(図3)と同様であった。即ち、
可視領域における透過率は、酸処理前と同程度であり、
紫外線遮断特性に変化は見られなかった。Next, the phase-separated glass having a high silicic acid layer acid-treated with a 1N aqueous nitric acid solution was treated at 500 ° C. for 5 hours.
The glass was heat treated for a period of time and the transmittance of the obtained glass was measured. The results obtained were similar to those of Example 1 (FIG. 3). That is,
The transmittance in the visible region is about the same as before acid treatment,
No change was seen in the UV blocking properties.
【0072】また、得られたガラスについてエネルギー
分散型X線分光測定を行ったところ、図4と同様のSiO2
の濃度分布図が得られた。即ち、酸処理によってSiO2以
外の成分が溶出し、ガラス表面に高ケイ酸層が形成され
ていることが判った。When the energy dispersive X-ray spectroscopy measurement was performed on the obtained glass, the same SiO 2 as in FIG. 4 was obtained.
A concentration distribution map was obtained. That is, it was found that components other than SiO 2 were eluted by the acid treatment and a high silicic acid layer was formed on the glass surface.
【0073】[0073]
【表1】 [Table 1]
【図1】実施例1において用いたハロゲン化銅微粒子が
分散し、SiO2を含有する相を含む分相ガラスの透過率を
示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the transmittance of a phase-separated glass containing a phase containing SiO 2 in which fine copper halide particles used in Example 1 are dispersed.
【図2】実施例1において、酸処理を施することにより
高ケイ酸層を形成させたガラスの透過率を示す図であ
る。FIG. 2 is a diagram showing the transmittance of glass having a high silicic acid layer formed by performing an acid treatment in Example 1.
【図3】実施例1において、得られたガラスの透過率を
示す図である。用いたガラスは、1Nの硝酸水溶液を用
いて酸処理を施し、更に加熱処理を施すことによって得
られたガラスである。FIG. 3 is a diagram showing the transmittance of the glass obtained in Example 1. The glass used is a glass obtained by performing an acid treatment using a 1N nitric acid aqueous solution and further performing a heat treatment.
【図4】実施例1において得られたガラス断面につい
て、SiO2濃度分布を示す図である。ガラスは、1Nの硝
酸水溶液を用いて酸処理を施し、更に加熱処理を施した
ガラスであり、測定は、エネルギー分散型X線分析装置
を用いて行った。FIG. 4 is a diagram showing a SiO 2 concentration distribution on a glass cross section obtained in Example 1. The glass is a glass that has been subjected to acid treatment using a 1N nitric acid aqueous solution and further subjected to heat treatment, and the measurement was performed using an energy dispersive X-ray analyzer.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C03C 3/074 C03C 3/074 3/11 3/11 G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 (72)発明者 垂水 孝至 大阪府大阪市西成区南津守6丁目3番地6 号 五鈴精工硝子株式会社内 (72)発明者 細川 孝治 大阪府大阪市西成区南津守6丁目3番地6 号 五鈴精工硝子株式会社内 (72)発明者 末次 竜也 大阪府大阪市西成区南津守6丁目3番地6 号 五鈴精工硝子株式会社内 (72)発明者 角野 広平 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 独立行 政法人産業技術総合研究所関西センター内 (72)発明者 矢澤 哲夫 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 独立行 政法人産業技術総合研究所関西センター内 Fターム(参考) 2H090 JB02 JB05 JC06 JD03 JD10 4G059 AA08 AA17 AC18 AC24 AC30 BB04 BB12 4G062 AA01 AA18 BB01 DA04 DA05 DA06 DA07 DB01 DB02 DB03 DB04 DC03 DC04 DC05 DC06 DC07 DD01 DE01 DE02 DE03 DF01 DF02 DF03 EA01 EA02 EA03 EA04 EA10 EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 EG03 FA01 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FG02 FG03 FH01 FH02 FH03 FJ01 FJ02 FJ03 FK01 FK02 FK03 FL01 GA01 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH02 HH04 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ06 JJ07 JJ08 JJ10 KK01 KK03 KK04 KK05 KK07 KK10 MM12 MM27 NN13 QQ18 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (51) Int.Cl. 7 Identification Code FI Theme Coat (Reference) C03C 3/074 C03C 3/074 3/11 3/11 G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 (72) Inventor Takashi Tarumi 6-3-3 Minamitsumori, Nishinari-ku, Osaka-shi, Osaka Within Isuzu Seiko Glass Co., Ltd. (72) Inventor, Koji Hosokawa 6-3-6 Minamitsumori, Nishinari-ku, Osaka, Osaka Isuzu Seiko Glass Co., Ltd. (72) Inventor Tatsuya Suetsugu 6-3-6 Minamitsumori, Nishinari-ku, Osaka-shi, Osaka Prefecture Isuzu Seiko Glass Co., Ltd. (72) Kohei Sumino 1-31 Midorigaoka, Ikeda-shi, Osaka Independent administrative corporation Kansai Center, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (72) Inventor Tetsuo Yazawa 1-831 Midorigaoka, Ikeda-shi, Osaka Independent administrative agency National Institute of Advanced Industrial Science and Technology Kansai F-term (reference) in the center EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 EG03 FA01 FB01 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FG02 FG03 FH01 FH02 FH03 FJ01 FJ02 FJ03 FK01 FK02 FK03 FL01 GA01 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH02 HH04 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ06 JJ07 JJ08 JJ10 KK01 KK03 KK04 KK05 KK07 KK10 MM12 MM27 NN13 QQ18
Claims (6)
し且つSiO2を含有する相を含む分相ガラスを酸溶液
に接触させて、該分相ガラス表面の少なくとも一部に高
ケイ酸層を形成させることを特徴とする紫外線遮断ガラ
スの改質方法。1. A phase-separated glass containing a phase in which copper halide fine particles are wholly or partly dispersed and which contains SiO 2 is brought into contact with an acid solution to form high silicic acid on at least a part of the surface of the phase-separated glass. A method for modifying an ultraviolet blocking glass, which comprises forming a layer.
含む層である請求項1に記載の紫外線遮断ガラスの改質
方法。2. The method for modifying an ultraviolet blocking glass according to claim 1, wherein the high silicic acid layer is a layer containing 80% by weight or more of SiO 2 .
酸及び過塩素酸からなる群から選択される少なくとも1
種の酸を含む水溶液である請求項1又は2に記載の紫外
線遮断ガラスの改質方法。3. The acid solution is at least one selected from the group consisting of nitric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid and perchloric acid.
The method for modifying an ultraviolet-blocking glass according to claim 1, which is an aqueous solution containing a specific acid.
2〜75重量%、Al2O315重量%以下、Li2O、Na2O、K2O、Rb
2OおよびCs2Oの少なくとも一種30重量%以下、MgO、Ca
O、ZnO、BaO、SrOおよびPbOの少なくとも一種10重量%以
下、Nb2O5、ZrO 2、La2O3、Y2O3、Ta2O3およびGd2O3の少
なくとも一種10重量%以下、及びハロゲン化銅0.01〜15
重量%を含むガラスである請求項1〜3のいずれかに記
載の紫外線遮断ガラスの改質方法。4. The phase-separated glass is SiO 2.2 20-85% by weight, B2O3
2-75% by weight, Al2O315% by weight or less, Li2O, Na2OK2O, Rb
2O and Cs2At least 30% by weight of O, MgO, Ca
At least one of O, ZnO, BaO, SrO and PbO 10 wt% or less
Below, Nb2OFive, ZrO 2, La2O3, Y2O3, Ta2O3And Gd2O3Small
10% by weight or less and copper halide 0.01-15
The glass according to any one of claims 1 to 3, which is a glass containing wt%.
Method for modifying the UV blocking glass described above.
2〜75重量%、Al2O315重量%以下、Li2O、Na2O、K2O、
Rb2OおよびCs2Oの少なくとも一種30重量%以下、MgO、Ca
O、ZnO、BaO、SrOおよびPbOの少なくとも一種10重量%以
下、Nb2O5、ZrO2、La2O3、Y2O3、Ta2O3およびGd2O3の少
なくとも一種10重量%以下、及びCl、Br及びIから選ば
れた少なくとも一種のハロゲン成分0.01〜15重量%を含
む母材ガラスに、銅イオンを拡散させてハロゲン化銅微
結晶を含む層を形成させたガラスである請求項1〜3の
いずれかに記載の紫外線遮断ガラスの改質方法。5. A phase-separated glass comprising 20 to 85% by weight of SiO 2 and B 2 O 3
2 to 75% by weight, Al 2 O 3 15% by weight or less, Li 2 O, Na 2 O, K 2 O,
30% by weight or less of at least one of Rb 2 O and Cs 2 O, MgO, Ca
10% by weight or less of at least one of O, ZnO, BaO, SrO and PbO, 10% by weight of at least one of Nb 2 O 5 , ZrO 2 , La 2 O 3 , Y 2 O 3 , Ta 2 O 3 and Gd 2 O 3. The following, and a glass that is a base material glass containing 0.01 to 15% by weight of at least one halogen component selected from Cl, Br and I, and having a layer containing copper halide microcrystals formed by diffusing copper ions. The method for modifying the ultraviolet blocking glass according to claim 1.
改質された紫外線遮断ガラスからなる液晶保護用ガラ
ス。6. A glass for protecting liquid crystals, which comprises an ultraviolet blocking glass modified by the method according to any one of claims 1 to 5.
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