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JP2003305791A - Transparent conductive film - Google Patents

Transparent conductive film

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Publication number
JP2003305791A
JP2003305791A JP2002111740A JP2002111740A JP2003305791A JP 2003305791 A JP2003305791 A JP 2003305791A JP 2002111740 A JP2002111740 A JP 2002111740A JP 2002111740 A JP2002111740 A JP 2002111740A JP 2003305791 A JP2003305791 A JP 2003305791A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
transparent conductive
conductive film
refractive index
layer
Prior art date
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Granted
Application number
JP2002111740A
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Japanese (ja)
Other versions
JP4068872B2 (en
Inventor
Toru Hanada
亨 花田
Isao Shiraishi
功 白石
Noriaki Saito
徳顕 齋藤
Toshiaki Yatabe
俊明 谷田部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
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Publication of JP2003305791A publication Critical patent/JP2003305791A/en
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Publication of JP4068872B2 publication Critical patent/JP4068872B2/en
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2219/00Aspects relating to the form of the liquid crystal [LC] material, or by the technical area in which LC material are used
    • C09K2219/03Aspects relating to the form of the liquid crystal [LC] material, or by the technical area in which LC material are used in the form of films, e.g. films after polymerisation of LC precursor

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent film for a display which is excellent in optical isotropy, heat resistance, and scratch resistance and in which a dimensional change after being heated at a high temperature is reduced, color nonuniformity is controlled, and the reflection of external light is enough prevented. <P>SOLUTION: In the transparent conductive film, coating films are formed on both surfaces (surface A and surface B) of a polymer film F, and a transparent conductive layer in which the average center line roughness [Ra(A)] of the outside surface of the coating film (A1) on the surface A side is 30 nm-1 μm, and the average center line roughness [Ra(B)] of the outside surface on the surface B side is 30 nm or below is formed. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種表示体として
好適な透明導電性フィルムに関する。さらに詳しくは、
液晶表示素子、エレクトロルミネッセンス(EL)表示
素子、電気泳動型、サーマルリライタブル型、PDLC
方式、カイラルネマチック液晶、エレクトロクロミック
方式、ツイストボール型、トナー表示方式などを利用し
た各種表示体に使用される透明性の高い透明導電性フィ
ルムに関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent conductive film suitable as various display bodies. For more details,
Liquid crystal display device, electroluminescence (EL) display device, electrophoresis type, thermal rewritable type, PDLC
And a chiral nematic liquid crystal, an electrochromic system, a twist ball type, a toner display system, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示素子や有機EL表示素
子、デジタルペーパー等の各種表示体について、耐破損
性の向上、軽量化、薄型化の要望から、プラスチックフ
ィルム上に、酸化インジウム、酸化錫、或いは錫−イン
ジウム合金の酸化物等の半導体膜、金、銀、パラジウム
合金の酸化膜等の金属膜、該半導体膜と該金属膜とを組
み合わせて形成された膜を透明導電層として設けた透明
導電性フィルムを表示体の電極基板として用いる検討が
続けられている。しかしながら、ガラス基板の替わりに
プラスチックフィルムを使用する場合、成型時の歪みに
起因する光学的等方性、耐熱性、寸法安定性、耐薬品
性、ガスバリア性等を補う必要がある。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display elements, organic EL display elements, digital paper, and various other types of displays have been demanded to have improved damage resistance, reduced weight, and reduced thickness. Alternatively, a semiconductor film such as an oxide of a tin-indium alloy, a metal film such as an oxide film of gold, silver, or a palladium alloy, or a film formed by combining the semiconductor film and the metal film is provided as a transparent conductive layer. Investigations using a transparent conductive film as an electrode substrate of a display body are ongoing. However, when a plastic film is used instead of the glass substrate, it is necessary to supplement optical isotropy, heat resistance, dimensional stability, chemical resistance, gas barrier property, etc. due to distortion during molding.

【0003】従って、例えば液晶表示素子用途では、特
開昭59−158015号公報、特開平7−24666
1号公報に記載されているように、光学等方性、耐熱
性、寸法安定性に優れるプラスチックフィルムを支持体
として、これに、耐薬品性に優れるコーティング膜、気
体透過性が小さいコーティング膜、そして透明導電層を
積層したものが用いられている。
Therefore, for example, in liquid crystal display device applications, JP-A-59-158015 and JP-A-7-24666.
As described in Japanese Patent Publication No. 1, a plastic film having excellent optical isotropy, heat resistance and dimensional stability is used as a support, and a coating film having excellent chemical resistance, a coating film having low gas permeability, And what laminated | stacked the transparent conductive layer is used.

【0004】しかしながら、このような従来のプラスチ
ックフィルム(高分子フィルムともいう)で作成した表
示体は、コーティング層の膜厚斑に起因する色むらがあ
ったり、また外光の反射によるコントラスト低下や像の
映り込みを生じるため、十分な表示品位が十分得られて
いなかったのが現状である。
However, a display body made of such a conventional plastic film (also referred to as a polymer film) has color unevenness due to unevenness in the thickness of the coating layer, and a reduction in contrast due to reflection of external light. At present, a sufficient display quality has not been obtained because an image is reflected.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑みなされたもので、優れた光学等方性と耐熱性を有
し、高温加熱後の寸法変化が極めて少なく、色むらが少
なく、外光の映り込みが十分に防止され、耐傷性にも優
れた高品質な透明導電性フィルムを提供することを主要
な目的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, has excellent optical isotropy and heat resistance, has very little dimensional change after high temperature heating, and has little color unevenness. The main object of the invention is to provide a high-quality transparent conductive film in which reflection of external light is sufficiently prevented and which is also excellent in scratch resistance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、支持体としての高分
子フィルムとして特定の分子構造を有する高分子を高精
度な成膜技術により三次元屈折率を制御することで得ら
れる、耐熱性、光学等方性、高温加熱後の寸法変化が極
めて少ないプラスチックフィルムを用い、該フィルムの
一方の最外層に該フィルムよりも屈折率が小さく表面粗
さRaが30nmよりも大きく耐傷性に優れるコーティ
ング膜を形成し、他方の面には屈折率が該フィルムとほ
ぼ等しい耐薬品性に優れるコーティング膜を形成したフ
ィルムが、表示品位に極めて優れることを見出した。ま
たコーティング膜と支持体である高分子フィルムとの屈
折率差およびコーティング層の膜厚斑が表示品質特に色
むらを生じるために、外光の反射によるコントラスト低
下や像の映り込みを生じることを突き止めた。本発明は
これらの知見に基づいてなされたものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that a polymer having a specific molecular structure as a polymer film as a support can be formed by a highly accurate film forming technique. Using a plastic film obtained by controlling the three-dimensional refractive index, which has extremely low heat resistance, optical isotropy, and dimensional change after heating at high temperature, one of the outermost layers of the film has a smaller refractive index than the film. A film having a coating film having a surface roughness Ra of more than 30 nm and excellent in scratch resistance, and a coating film having excellent chemical resistance on the other surface and having a refractive index substantially equal to that of the film is excellent in display quality. I found that. In addition, since the difference in the refractive index between the coating film and the polymer film that is the support and the unevenness of the film thickness of the coating layer cause the display quality, especially the color unevenness, the contrast reduction and the image reflection due to the reflection of external light may occur. I found it. The present invention has been made based on these findings.

【0007】即ち本発明は、次のとおりである。 1. 高分子フィルム(F)の両面(A面及びB面)に
それぞれ少なくとも一層のコーティング膜(A1)及び
(B1)を形成し、B面側の最表面に透明導電層(E)
を形成した透明導電性フィルムであって、A面側の最表
面は中心線平均粗さ(Ra(A))が30nm〜1μm
であり、B面側の最表面は中心線平均粗さ(Ra
(B))が30nm以下であって、コーティング膜(A
1)の屈折率をnA1、高分子フィルムのnF、コーテ
ィング膜(B1)の屈折率をnB1としたとき、下記式
(1)及び(2)を満足することを特徴とする透明導電
性フィルム。 nA1<nF かつ nA1<nB1 ・・・(1) nF−0.02<nB1<nF+0.02 ・・・(2)
That is, the present invention is as follows. 1. At least one coating film (A1) and (B1) is formed on both surfaces (A surface and B surface) of the polymer film (F), and the transparent conductive layer (E) is formed on the outermost surface of the B surface.
Of the transparent conductive film having a center line average roughness (Ra (A)) of 30 nm to 1 μm.
And the outermost surface on the B side is the center line average roughness (Ra
(B) is 30 nm or less, and the coating film (A
A transparent conductive film satisfying the following formulas (1) and (2), where nA1 is the refractive index of 1), nF is the polymer film, and nB1 is the refractive index of the coating film (B1). nA1 <nF and nA1 <nB1 (1) nF-0.02 <nB1 <nF + 0.02 (2)

【0008】2. 波長400nmから780nmの光
に対するA面の5°正反射率の最小値(a)が7%以下
で、波長400nmから780nmの光に対するB面の
5°正反射率の最小値(b)よりも小さく、かつ(a)
を与える光の波長から−40nmの範囲の光に対するA
面の5°正反射率の標準偏差σ(a)が0.5%よりも
小さいことを特徴とする上記1の透明導電性フィルム。
2. The minimum value of the 5 ° regular reflectance (a) of the A surface for light with a wavelength of 400 nm to 780 nm is 7% or less, and is smaller than the minimum value of the 5 ° regular reflectance of the B surface for light with a wavelength of 400 nm to 780 nm (b). Small and (a)
From the wavelength of the light that gives
The standard deviation σ (a) of 5 ° regular reflectance of the surface is smaller than 0.5%.

【0009】3. 該高分子フィルム(F)がポリカー
ボネートまたはポリエステルまたはこれらの混合物から
なる上記1または2の透明導電性フィルム。
3. The transparent conductive film according to 1 or 2 above, wherein the polymer film (F) is made of polycarbonate, polyester, or a mixture thereof.

【0010】4. 該高分子フィルムが、フルオレン骨
格を有する繰り返し単位を含む高分子からなるか、又は
該繰り返し単位を共重合成分として含む高分子からなる
上記1〜3の透明導電性フィルム。
4. The transparent conductive film according to any one of 1 to 3 above, wherein the polymer film comprises a polymer containing a repeating unit having a fluorene skeleton, or a polymer containing the repeating unit as a copolymerization component.

【0011】5. 該高分子フィルムが、下記式(5)5. The polymer film has the following formula (5)

【0012】[0012]

【化3】 [Chemical 3]

【0013】[上記式(5)において、R1〜R8はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6
の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種の基であ
る。]で表される繰り返し単位と、下記式(6)
[In the above formula (5), R 1 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom and a carbon number of 1 to 6]
Is at least one group selected from the following hydrocarbon groups. ] The repeating unit represented by the following formula (6)

【0014】[0014]

【化4】 [Chemical 4]

【0015】[上記式(6)において、R9〜R16はそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜
6の炭化水素基から選ばれる少なくとも一種の基であ
り、Xは炭素数1〜15の炭化水素基である。]で表さ
れる繰り返し単位を含む共重合ポリカーボネートから主
としてなり、かつ上記式(5)で表される繰り返し単位
が全体の10〜90モル%である上記1〜4の透明導電
性フィルム。
[In the above formula (6), R 9 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom and a carbon number of 1 to 1.
6 is at least one group selected from the hydrocarbon groups having 6 and X is a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. ] The transparent conductive film of the above-mentioned 1 to 4 which consists mainly of a copolycarbonate containing a repeating unit represented by the above, and whose repeating unit represented by the above formula (5) is 10 to 90 mol% of the whole.

【0016】6. コーティング膜(A1)がシロキサ
ン系樹脂およびシリコーン樹脂微粒子を主成分とするこ
とを特徴とする上記1〜5の透明導電性フィルム。
6. The coating film (A1) contains siloxane-based resin and silicone resin fine particles as main components, wherein the transparent conductive film according to any one of 1 to 5 above.

【0017】7. コーティング膜(B1)がフルオレ
ン骨格を有する架橋樹脂を主成分とすることを特徴とす
る上記1〜6の透明導電性フィルム。
7. The coating film (B1) contains a crosslinked resin having a fluorene skeleton as a main component, and the transparent conductive film according to any one of 1 to 6 above.

【0018】8. 該高分子フィルム(F)の一方の面
(A面)のコーティング膜(A1)が、微粒子含有層
(P)、高屈折率層(H)、低屈折率層(L)の順番で
複数積層されてなり、(P)と(H)、及び(H)と
(L)が接し、(H)ならびに(L)の屈折率をnH、
nLとし膜厚をdH、dLとした場合、下記式(7)〜
(10)を同時に満足することを特徴とする上記1〜7
の透明導電性フィルム。 nL<1.5 ・・・(7) nH≧1.5 ・・・(8) 90(nm)<nLdL<180(nm)・・・(9) 90(nm)<nHdH<360(nm)・・・(10)
8. A coating film (A1) on one surface (A surface) of the polymer film (F) is laminated in the order of a fine particle containing layer (P), a high refractive index layer (H) and a low refractive index layer (L). (P) and (H), and (H) and (L) are in contact, and the refractive indices of (H) and (L) are nH,
When nL and the film thickness are dH and dL, the following equations (7)-
The above items 1 to 7 characterized in that (10) is simultaneously satisfied.
Transparent conductive film. nL <1.5 (7) nH ≧ 1.5 (8) 90 (nm) <nLdL <180 (nm) (9) 90 (nm) <nHdH <360 (nm) ... (10)

【0019】9. 該高屈折率層(H)がTi、Zr、
及びInから選ばれる少なくともひとつの酸化物を主成
分とするコーティング層であり、該低屈折率層(L)が
珪素と酸素を主成分とするコーティング層であることを
特徴とする上記8の透明導電性フィルム。
9. The high refractive index layer (H) is made of Ti, Zr,
And a transparent coating layer having at least one oxide selected from In as a main component, wherein the low refractive index layer (L) is a coating layer having silicon and oxygen as main components. Conductive film.

【0020】10. Si、Al、Ti、Mg、Ta、
Ce、InおよびZrから選ばれた少なくとも1種の金
属あるいは2種以上の金属混合物の酸化物、フッ化物、
窒化物あるいは酸窒化物の無機材料を主成分とするガス
バリア層が少なくとも一層形成されている上記1〜9の
透明導電性フィルム。
10. Si, Al, Ti, Mg, Ta,
Oxides and fluorides of at least one metal or a mixture of two or more metals selected from Ce, In and Zr,
The transparent conductive film according to any one of 1 to 9 above, wherein at least one gas barrier layer containing an inorganic material such as a nitride or an oxynitride as a main component is formed.

【0021】11. 該ガスバリア層がコーティング膜
(A1)と高分子フィルム(F)の間、及び/又はコー
ティング膜(B)と透明導電層(E)の間に存在する上
記1〜10の透明導電性フィルム。
11. The transparent conductive film according to 1 to 10 above, wherein the gas barrier layer is present between the coating film (A1) and the polymer film (F) and / or between the coating film (B) and the transparent conductive layer (E).

【0022】12. 透明導電層(E)とコーティング
膜(B)の間にカラーフィルター層が形成されている上
記の透明導電性フィルム。
12. The transparent conductive film as described above, wherein a color filter layer is formed between the transparent conductive layer (E) and the coating film (B).

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明に用いる高分子フィルム
(F)は、透明性及び耐熱性に優れ、低吸水性、水蒸気
バリア性及び優れた光学等方性を兼備するだけでなく、
高温加熱後の寸法変化が極めて少ないものが好ましく用
いられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The polymer film (F) used in the present invention has not only excellent transparency and heat resistance but also low water absorption, water vapor barrier property and excellent optical isotropy.
Those having extremely little dimensional change after high temperature heating are preferably used.

【0024】耐熱性は、170℃以上、好ましくは19
0℃以上のガラス転移温度を持ち、光学特性が良好で、
溶液製膜ができるものがより好ましい。低吸水性は、表
示体の高温高湿環境下での耐久性を確保する点で重要で
ある。ここで低吸水性とは、ASTM D570に準拠
した方法で測定した水中24時間後の吸水率が0.4%
以下、好ましくは0.2%以下である。
The heat resistance is 170 ° C. or higher, preferably 19
It has a glass transition temperature of 0 ° C or higher, good optical properties,
Those capable of solution film formation are more preferable. Low water absorption is important for ensuring the durability of the display under high temperature and high humidity environment. Here, low water absorption means a water absorption rate of 0.4% after 24 hours in water measured by a method according to ASTM D570.
The following is preferably 0.2% or less.

【0025】また上記高分子フィルムは、水蒸気バリア
性に優れていることが重要であり、40℃90%RHに
おける水蒸気透過係数が50g・100μm/m2/d
ay以下、好ましくは35g・100μm/m2/da
y以下であるようなものを選択する。このような高い水
蒸気バリア性を有することにより、液晶パネルや有機E
Lパネル等の基板として用いた際に、水の影響による素
子の劣化を抑制することができる。
Further, it is important that the above-mentioned polymer film has excellent water vapor barrier properties, and the water vapor permeability coefficient at 40 ° C. and 90% RH is 50 g · 100 μm / m 2 / d.
ay or less, preferably 35 g · 100 μm / m 2 / da
Choose something that is less than or equal to y. By having such a high water vapor barrier property, liquid crystal panels and organic E
When used as a substrate for an L panel or the like, deterioration of the element due to the influence of water can be suppressed.

【0026】さらに、光学等方性については、用途にも
よるが、下記式(i)及び(ii) |R(550)|≦20(nm) (i) K=|[nz−(nx+ny)/2]×d|≦100(nm) (ii) を満たすことが好ましい。上記式(i)において、R
(550)は波長550nmの光に対する高分子フィル
ムの面内リターデーション値であり、上記式(B)にお
いて、nx、ny、nzは高分子フィルムの厚み方向を
z軸としたx軸、y軸、z軸方向の波長550nmの光
に対する三次元屈折率であり、dは高分子フィルムの厚
さである。
Regarding optical isotropy, depending on the use, the following formulas (i) and (ii) | R (550) | ≤20 (nm) (i) K = | [nz- (nx + ny) / 2] × d | ≦ 100 (nm) (ii) is preferably satisfied. In the above formula (i), R
(550) is an in-plane retardation value of the polymer film with respect to light having a wavelength of 550 nm, and in the formula (B), nx, ny, and nz are x-axis and y-axis with the thickness direction of the polymer film as the z-axis. , Is the three-dimensional refractive index for light with a wavelength of 550 nm in the z-axis direction, and d is the thickness of the polymer film.

【0027】また、該高分子フィルムのリターデーショ
ン値は、光が厚さdのフィルムを透過したときフィルム
の配向方向とそれに垂直な方向の屈折率の差△nとフィ
ルムの厚さdの積△n・d(nm)で表される。なお、
この位相差は角度でも表現でき、角度で表現した位相差
R1とnmを単位とした位相差R2の換算式はR1
(度)=(R2(nm)/λ)×360で表される(λ
は位相差の測定波長)。
The retardation value of the polymer film is the product of the film thickness d and the difference Δn in the refractive index between the orientation direction of the film and the direction perpendicular thereto when light passes through the film having the thickness d. It is represented by Δn · d (nm). In addition,
This phase difference can be expressed by an angle, and the conversion formula of the phase difference R1 expressed by the angle and the phase difference R2 in nm is R1.
(Degree) = (R2 (nm) / λ) × 360 (λ
Is the measurement wavelength of the phase difference).

【0028】本発明の透明高分子フィルムは、非常に高
い耐熱性を有し、高温加熱後の寸法変化が極めて少な
く、150℃2時間熱処理した後の透明高分子フィルム
の寸法変化率が0.05%以下であり、表示品位に優れ
る表示体を提供するものである。寸法変化率は、流れ方
向における180℃2時間熱処理した後の寸法変化率が
0.1%以下であることがより好ましい。
The transparent polymer film of the present invention has very high heat resistance, has very little dimensional change after high temperature heating, and has a dimensional change rate of 0. 2 after heat treatment at 150 ° C. for 2 hours. It is less than 05% and provides a display body having excellent display quality. As for the dimensional change rate, the dimensional change rate after heat treatment at 180 ° C. for 2 hours in the flow direction is more preferably 0.1% or less.

【0029】上記高分子フィルムを与える材料としては
熱可塑性ポリマーが好適である。該熱可塑性ポリマーと
しては特に制限はないが、耐熱性、溶液流延法による製
膜性、透明性、取り扱い性、ガスバリア性、機械特性等
のバランスが良好であるポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリエステルカーボネートが好ましいものとして挙
げられる。
A thermoplastic polymer is suitable as a material for providing the polymer film. The thermoplastic polymer is not particularly limited, but is preferably polycarbonate, polyester or polyester carbonate, which has a good balance of heat resistance, film-forming property by solution casting method, transparency, handleability, gas barrier property, mechanical properties and the like. It is mentioned as a thing.

【0030】これらのポリマーは、下記式(X)These polymers have the following formula (X)

【0031】[0031]

【化5】 [Chemical 5]

【0032】で表されるフルオレン骨格を有する構成単
位を主成分または共重合成分とするものが、特に上記特
性が良好で、特にガスバリア性に優れる。これらの構成
単位は2種類以上含まれていてもよい。上記式におい
て、R1〜R8はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原
子、メチル基、エチル基等の炭素数1〜6のアルキル
基、フェニル基等のアリール基などの炭化水素基から選
ばれる少なくとも一種の基である。
Those containing a structural unit having a fluorene skeleton represented by the following as a main component or a copolymerization component are particularly excellent in the above properties and particularly excellent in gas barrier properties. Two or more kinds of these structural units may be contained. In the above formula, R 1 to R 8 are each independently selected from at least a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, and a hydrocarbon group such as an aryl group such as a phenyl group. It is a kind of group.

【0033】ここで、上記式Xで表される構成単位を該
高分子中に導入するために用いるモノマーの具体的な例
として、例えば、フルオレン9,9−ジ(4−フェノー
ル)、フルオレン9,9−ジ(3−メチル−4−フェノ
ール)が挙げられる。これらは共重合成分としてポリマ
ー全体の10〜90モル%であることが好ましく、さら
に好ましくは30〜80モル%である。10モル%より
も少ない場合は、後述の十分な優れた等方性、耐熱性が
得られず、高温加熱前後の寸法変化も大きくなり、90
モル%よりも多いと光線透過率が低下しフィルムが脆く
なるので好ましくない。
Specific examples of the monomer used for introducing the structural unit represented by the above formula X into the polymer include, for example, fluorene 9,9-di (4-phenol) and fluorene 9 , 9-di (3-methyl-4-phenol). These are preferably 10 to 90 mol% and more preferably 30 to 80 mol% of the whole polymer as a copolymerization component. If it is less than 10 mol%, the sufficiently excellent isotropicity and heat resistance described later cannot be obtained, and the dimensional change before and after high temperature heating becomes large.
If it is more than mol%, the light transmittance is lowered and the film becomes brittle, which is not preferable.

【0034】さらに、本発明の透明高分子フィルムを構
成するポリマー材料として、下記式(5)
Further, as a polymer material constituting the transparent polymer film of the present invention, the following formula (5) is used.

【0035】[0035]

【化6】 [Chemical 6]

【0036】で表される繰り返し単位と、下記式(6)A repeating unit represented by the following formula (6)

【0037】[0037]

【化7】 [Chemical 7]

【0038】で表される繰り返し単位を共重合成分とし
て有し、上記式(1)で表される繰り返し単位が繰り返
し単位全体の10〜90モル%であるポリカーボネート
がより好ましい。
A polycarbonate having a repeating unit represented by the formula (1) as a copolymerization component, and the repeating unit represented by the formula (1) is 10 to 90 mol% of the entire repeating unit is more preferable.

【0039】上記式(5)において、R1〜R8はそれぞ
れ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の
炭化水素基から選ばれる少なくとも一種である。炭素数
1〜6の炭化水素基としては、メチル基、エチル基等の
1価のアルキル基、フェニル基等のアリール基が挙げら
れる。
In the above formula (5), R 1 to R 8 are each independently at least one selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include monovalent alkyl groups such as methyl group and ethyl group, and aryl groups such as phenyl group.

【0040】上記式(6)において、R9〜R16はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6
の炭化水素基から選ばれ、Xは炭素数1〜15のアルキ
レン基等の炭化水素基である。Xの具体例としては、例
えば、メチレン、1,1−エチレン、2,2−プロピレ
ン、2,2−ブチレン、2,2−(4−メチル)ペンチ
レン、1,1−シクロへキシレン、1,1−(3,3,
5−トリメチル)シクロへキシレン、ノルボルナン−
2,2−ジイル、トリシクロ[5.2.1.02,6]
デカン−8,8’−ジイル、フェニルメチレン、ジフェ
ニルメチレン、1,1−(1−フェニル)エチレン、
2,2−ヘキサフルオロプロピレン、2,2−(1,
1,3,3−テトラフルオロ−1,3−ジクロロ)プロ
ピレン等が挙げられる。
In the above formula (6), R 9 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom and a carbon number of 1 to 6.
X is a hydrocarbon group such as an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms. Specific examples of X include, for example, methylene, 1,1-ethylene, 2,2-propylene, 2,2-butylene, 2,2- (4-methyl) pentylene, 1,1-cyclohexylene, 1, 1- (3,3,
5-trimethyl) cyclohexylene, norbornane-
2,2-diyl, tricyclo [5.2.1.02,6]
Decane-8,8'-diyl, phenylmethylene, diphenylmethylene, 1,1- (1-phenyl) ethylene,
2,2-hexafluoropropylene, 2,2- (1,
1,3,3-tetrafluoro-1,3-dichloro) propylene and the like can be mentioned.

【0041】特に好ましいポリカーボネートとしては、
フルオレン9,9−ジ(3−メチル−4−フェノール)
から誘導された上記式(5)で表される繰り返し単位
(上記式(5)において、R1〜R8は水素原子(ただ
し、R2とR3の一方がメチル基であり、R5とR8の一方
がメチル基)であるものに対応)と、Xが2,2−プロ
ピレンであり、R9〜R16がすべて水素原子である上記
式(6)で表される繰り返し単位とを共重合成分とする
ポリカーボネートである。ここで、上記式(5)で表さ
れる繰り返し単位は全体の10〜90モル%が好まし
く、さらには30〜80モル%が好ましく、さらには4
0〜60モル%がより好ましい。上記式(6)で表され
る繰り返し単位を10モル%以上にすることで、ガラス
転移温度が170℃以上となり優れた耐熱性が得られ、
吸水率ならびに水蒸気透過度が小さい。また、鉛筆硬度
等で評価できる表面硬度も格段に向上し、特に高温加熱
後の寸法変化が極めて少なくなるため表示体用基板とし
て好ましい特性を示すようになる。さらに、上記式
(5)で表される繰り返し単位の含有量が多くなるにつ
れて、高分子フィルムの光学等方性が高くなり、30モ
ル%よりも大きいポリカーボネートを用いた場合、前記
のリターデーション値R(550)が10nm以下のも
のが得られる。さらに、上記式(5)で表される繰り返
し単位を50モル%以上含むポリカーボネートを用いて
フィルムを成形した場合、後述する溶液流延法でフィル
ムを成形すると、上記式(i)ならびに(ii)を同時に
満足することができ、さらに180℃2時間熱処理した
後のフィルム寸法変化率が極めて少ない高分子フィルム
が得られる。
Particularly preferred polycarbonates include
Fluorene 9,9-di (3-methyl-4-phenol)
The repeating unit represented by the above formula (5) derived from (in the above formula (5), R 1 to R 8 are hydrogen atoms (provided that one of R 2 and R 3 is a methyl group, and R 5 and Corresponding to the case where one of R 8 is a methyl group) and a repeating unit represented by the above formula (6) in which X is 2,2-propylene and R 9 to R 16 are all hydrogen atoms. Polycarbonate as a copolymerization component. Here, the repeating unit represented by the above formula (5) is preferably 10 to 90 mol%, more preferably 30 to 80 mol%, further 4
0-60 mol% is more preferable. By setting the repeating unit represented by the formula (6) to 10 mol% or more, the glass transition temperature becomes 170 ° C. or more, and excellent heat resistance can be obtained.
Low water absorption and water vapor permeability. In addition, the surface hardness that can be evaluated by pencil hardness and the like is remarkably improved, and the dimensional change after heating at a high temperature is extremely reduced, so that the substrate exhibits favorable characteristics as a display substrate. Furthermore, as the content of the repeating unit represented by the above formula (5) increases, the optical isotropy of the polymer film increases, and when a polycarbonate of more than 30 mol% is used, the above retardation value is used. An R (550) of 10 nm or less is obtained. Furthermore, when a film is formed using a polycarbonate containing 50 mol% or more of the repeating unit represented by the above formula (5), the film is formed by the solution casting method described below, and the above formulas (i) and (ii) Can be simultaneously satisfied, and a polymer film having an extremely small rate of dimensional change of the film after heat treatment at 180 ° C. for 2 hours can be obtained.

【0042】また、本発明に用いる高分子フィルムを構
成するポリマー材料としては、前記ポリカーボネートの
他、例えばポリエステル、ポリエステルカーボネートが
含まれる。該ポリエステル、ポリエステルカーボネート
における酸成分としては、炭酸、脂肪族ジカルボン酸、
芳香族ジカルボン酸を用いることができる。芳香族ジカ
ルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸が好ま
しい。
In addition to the above-mentioned polycarbonate, examples of the polymer material constituting the polymer film used in the present invention include polyester and polyester carbonate. As the acid component in the polyester or polyester carbonate, carbonic acid, aliphatic dicarboxylic acid,
Aromatic dicarboxylic acids can be used. As the aromatic dicarboxylic acid, terephthalic acid and isophthalic acid are preferable.

【0043】なお、上記ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリエステルカーボネートは二種類以上混合して用
いてもよい。
The polycarbonate, polyester and polyester carbonate may be used as a mixture of two or more kinds.

【0044】これら上記のポリカーボネート、ポリエス
テル、ポリエステルカーボネートの分子量は、数平均分
子量で30,000〜300,000が好ましい。分子
量が大きなポリマーほど機械特性ならびに耐熱性が向上
するが、大きすぎると成形が難しくなる。
The number average molecular weight of these polycarbonates, polyesters and polyester carbonates is preferably 30,000 to 300,000. A polymer having a larger molecular weight has improved mechanical properties and heat resistance, but if it is too large, molding becomes difficult.

【0045】一般に、フィルムの成形方法には、溶融押
出し製膜法と溶液流延製膜法が挙げられるが、上記式
(i)及び(ii)を満足するような光学等方性に優れた
上記高分子フィルムを得るのに好適な成形方法は、溶液
流延法である。溶液流延法は生産性においては溶融押出
し法に劣るが、ダイライン、ゲル化物、フィッシュアイ
等の欠点が少なく表面平滑性も溶融押出し法に比較し遥
かに優れている。また、溶液流延法では溶融押出しでは
溶融粘度が高すぎたり着色しやすかったり成形が不可能
な高分子量の樹脂でも、用いる溶媒に可溶であれば成形
が可能であることから、機械特性ならびに耐熱性に優れ
たフィルムが得られる。また、溶液流延法では、ダイの
特性、キャスティングベルトの状況、乾燥条件およびフ
ィルム張力と搬送条件等を調整することにより、フィル
ムの三次元屈折率を制御できる。上記式(A)ならびに
(B)を満足させるためには、成形工程内のフィルムが
含有する溶媒量と乾燥温度ならびにフィルムに加わる張
力の調整が特に重要である。フィルムが含有する溶媒量
によりフィルムの見かけ上とTgが決まるが、乾燥温度
は見かけ上のTg以下に設定することが好ましい。ま
た、フィルムに加わる張力は、例えばロール巻き取り方
式により成形を行う場合は、フィルム搬送方向の張力が
大きくなる傾向があるが、フィルム搬送方向と垂直方向
にも張力を加えることができる装置を用い、両張力に出
来るだけ差が生じない条件でかつ張力を出来る限り抑え
て成形することも有効である。
Generally, the film forming method includes a melt extrusion film forming method and a solution casting film forming method, and it has excellent optical isotropy satisfying the above formulas (i) and (ii). The preferred casting method for obtaining the polymer film is a solution casting method. Although the solution casting method is inferior in productivity to the melt extrusion method, it has few defects such as die line, gelation product and fish eye, and has much better surface smoothness than the melt extrusion method. Further, in the solution casting method, even in the case of a high molecular weight resin whose melt viscosity is too high or easy to be colored or cannot be molded by melt extrusion in the case of being soluble in the solvent used, it is possible to mold, A film having excellent heat resistance can be obtained. Further, in the solution casting method, the three-dimensional refractive index of the film can be controlled by adjusting the characteristics of the die, the condition of the casting belt, the drying conditions, the film tension and the transport conditions, and the like. In order to satisfy the above formulas (A) and (B), it is particularly important to adjust the amount of solvent contained in the film in the molding step, the drying temperature, and the tension applied to the film. The apparent amount and Tg of the film are determined by the amount of the solvent contained in the film, but the drying temperature is preferably set to the apparent Tg or lower. The tension applied to the film tends to increase in the film transport direction when the film is formed by, for example, a roll winding method, but a device that can apply the tension in the direction perpendicular to the film transport direction is used. It is also effective to perform molding under the condition that the difference between the two tensions does not occur as much as possible and the tension is suppressed as much as possible.

【0046】溶液流延法では、高分子フィルム中に製膜
に使用した溶媒が残存する場合がある。残留溶媒は該フ
ィルムを可塑化させ、ガラス転移温度の低下および機械
特性の低下などをもたらす。このため本発明における高
分子フィルムにおいては、残留溶媒は完全に除去するこ
とが好ましく、1重量%以下、より好ましくは0.5重
量%以下にすることが好ましい。なお、該フィルムに可
塑化剤または界面活性剤等を添加する場合は、これらの
残存量は溶媒残存量に含めない。
In the solution casting method, the solvent used for film formation may remain in the polymer film. Residual solvent plasticizes the film, resulting in a decrease in glass transition temperature and a decrease in mechanical properties. Therefore, in the polymer film of the present invention, it is preferable to completely remove the residual solvent, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less. When a plasticizer, a surfactant or the like is added to the film, the residual amount of these is not included in the residual amount of solvent.

【0047】上記高分子フィルムの厚さは、各種表示体
に加工された時の表示品位と、基板を成形する工程での
取り扱いやすさと、表示体組立て工程での取り扱いやす
さ、さらには溶液流延製膜時の製膜効率の観点から、2
0〜500μm、好ましくは50〜400μm、さらに
は好ましくは70〜300μmである。
The thickness of the above-mentioned polymer film depends on the display quality when processed into various display bodies, the ease of handling in the step of molding the substrate, the ease of handling in the step of assembling the display body, and the solution flow. 2 from the viewpoint of film forming efficiency during film forming
The thickness is 0 to 500 μm, preferably 50 to 400 μm, and more preferably 70 to 300 μm.

【0048】また、上記高分子フィルムのB面の最外層
に透明導電層を設けて液晶表示体用電極として使用する
場合、液晶セルのギャップ斑が表示品位を劣化させるた
め、該高分子フィルムの厚み斑を±5%以下にすること
が好ましく、さらには±2.5%以下にするのが好まし
い。
When a transparent conductive layer is provided as the outermost layer on the B side of the polymer film to be used as an electrode for a liquid crystal display, the unevenness in the gap of the liquid crystal cell deteriorates the display quality. The thickness unevenness is preferably ± 5% or less, more preferably ± 2.5% or less.

【0049】本発明においては、上記の高分子フィルム
(F)のA,B両面にコーティング膜(A1)及び(B
1)をそれぞれ形成し、さらに、B面側の最外層に透明
導電層(E)を有する透明導電性フィルムが提供され
る。ここで、一方の面(A面)の最外層(最表面)は中
心線平均粗さ(Ra(A))が30nm〜1μmであ
り、かつ、コーティング膜(A1)の屈折率をnA1、
該高分子フィルムの屈折率をnF、該コーティング膜
(B1)の屈折率をnB1とすると、F,A1,及びB
1は下記式(1) nA1<nF かつ nA1<nB1 (1) の関係を満たすので、これにより、例えば5°正反射率
で評価した場合の、外光の反射によるコントラスト低下
や像の映り込みを小さくすることができる。かかる中心
線平均粗さ(Ra(A))は、好ましくは30nm〜
0.3μmである。30nmよりも小さいと像の映り込
みを十分に抑えることが難しく、0.3μmよりも大き
いとディスプレイの解像度が低下するので好ましくな
い。
In the present invention, the coating films (A1) and (B) are formed on both sides A and B of the polymer film (F).
1), and a transparent conductive film having a transparent conductive layer (E) as the outermost layer on the B side is provided. Here, the center line average roughness (Ra (A)) of the outermost layer (outermost surface) of one surface (A surface) is 30 nm to 1 μm, and the refractive index of the coating film (A1) is nA1,
When the refractive index of the polymer film is nF and the refractive index of the coating film (B1) is nB1, F, A1, and B
1 satisfies the following equations (1) nA1 <nF and nA1 <nB1 (1), so that, for example, when the 5 ° specular reflectance is evaluated, the contrast is reduced due to the reflection of external light and the image is reflected. Can be made smaller. The center line average roughness (Ra (A)) is preferably 30 nm to
It is 0.3 μm. If it is smaller than 30 nm, it is difficult to sufficiently suppress the reflection of an image, and if it is larger than 0.3 μm, the resolution of the display is lowered, which is not preferable.

【0050】ここで、コーティング膜(A1)は、表示
体パネル組立て時の溶剤や化学薬品に対する耐久性を十
分に有するものであり、種々の架橋樹脂、例えばポリシ
ロキサン系樹脂の架橋構造体、アクリル系樹脂の架橋構
造体、エポキシ系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、
アルキド樹脂等の架橋構造体から主として構成され、か
つ、該コーティング層中には微粒子を含有する。該微粒
子としては、例えば、シリコーン、アクリル、スチレ
ン、メラミン等を主成分とする樹脂微粒子が好ましく用
いられる。該微粒子の平均粒径は1〜10μmが好まし
く、さらには1〜5μmがより好ましい。粒径が小さい
と、像の映り込みを抑えるのに十分な粗さの表面が形成
しにくくなり、粒径が大きすぎると粒子形状が目立ち外
観が悪くなる。微粒子の含有量は、前述の架橋構造体1
00重量部に対して1〜50重量部添加するのが好まし
い。含有量が少ないと、十分な粗さの表面が形成しにく
くなり、多すぎるとコーティング膜が不連続になりやす
い。
Here, the coating film (A1) has sufficient durability against solvents and chemicals when the display panel is assembled, and includes various crosslinked resins, for example, crosslinked structures of polysiloxane-based resin, and acrylic. Crosslinked structure of epoxy resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin,
It is mainly composed of a crosslinked structure such as an alkyd resin, and contains fine particles in the coating layer. As the fine particles, for example, resin fine particles containing silicone, acryl, styrene, melamine or the like as a main component are preferably used. The average particle size of the fine particles is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 1 to 5 μm. If the particle size is small, it is difficult to form a surface having a roughness sufficient to suppress the reflection of an image, and if the particle size is too large, the particle shape becomes conspicuous and the appearance becomes poor. The content of the fine particles is the same as the above-mentioned crosslinked structure 1
It is preferable to add 1 to 50 parts by weight to 00 parts by weight. When the content is low, it becomes difficult to form a surface having sufficient roughness, and when the content is too high, the coating film tends to be discontinuous.

【0051】特に好ましいコーティング膜(A1)は、
ポリシロキサン系樹脂の架橋構造体とシリコーン樹脂微
粒子を主成分とするもので、夫々の成分の屈折率が1.
55以下、さらに好ましくは1.45以下のものであ
る。コーティング膜(A1)の膜厚は、含有する微粒子
の平均粒径より薄くかつ1〜10μmの範囲で形成され
る。
A particularly preferred coating film (A1) is
The main component is a crosslinked structure of polysiloxane resin and fine particles of silicone resin, and the refractive index of each component is 1.
It is 55 or less, more preferably 1.45 or less. The film thickness of the coating film (A1) is smaller than the average particle size of the contained fine particles and is in the range of 1 to 10 μm.

【0052】次に、高分子フィルム(F)の上記コーテ
ィング膜(A1)が形成された面とは反対の面(B)の
最表面は中心線平均粗さRa(B)が30nm以下であ
って、屈折率が高分子フィルム(F)とほぼ等しいコー
ティング膜(B1)を形成する。これにより、各種コー
ティング膜と支持体である高分子フィルムとの屈折率差
およびコーティング層(B1)の膜厚斑に起因する色むら
を抑制できる。かかる中心線平均粗さRa(B)は、好
ましくは20nm以下である。特に液晶ディスプレイ用
途に本発明の透明導電性フィルムを用いる場合、Ra
(B)を20nm以下にするとセルギャップの均一性が
保たれ、表示特性に優れるディスプレイが得られる。こ
こで、「ほぼ等しい」とは、高分子フィルム(F)の屈
折率をnFとし、コーティング層(B1)の屈折率をn
B1としたとき下記式(2)の条件を満足するB1が色
むらを抑制するという点で好ましい。
Next, the center line average roughness Ra (B) of the outermost surface of the polymer film (F) opposite to the surface on which the coating film (A1) is formed has a center line average roughness Ra (B) of 30 nm or less. Thus, a coating film (B1) having a refractive index almost equal to that of the polymer film (F) is formed. As a result, it is possible to suppress color unevenness due to the difference in refractive index between the various coating films and the polymer film as the support and the unevenness in the thickness of the coating layer (B1). The center line average roughness Ra (B) is preferably 20 nm or less. In particular, when the transparent conductive film of the present invention is used for liquid crystal display applications, Ra
When (B) is 20 nm or less, the uniformity of the cell gap is maintained, and a display having excellent display characteristics can be obtained. Here, “substantially equal” means that the refractive index of the polymer film (F) is nF and the refractive index of the coating layer (B1) is n.
When B1 is set, B1 satisfying the condition of the following formula (2) is preferable in terms of suppressing color unevenness.

【0053】 nF−0.02<nB1<nF+0.02 ・・・(2) ここで、コーティング層(B1)としては、表示体パネ
ル組立て時の溶剤や化学薬品に対する耐久性を十分に有
する、架橋樹脂、例えばポリシロキサン系樹脂の架橋構
造体、アクリル系樹脂の架橋構造体、エポキシ系樹脂、
メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂等の架橋構
造体から構成されることが好ましい。これらの架橋構造
体は、紫外線や電子線等の放射線を照射することにより
硬化が進行する樹脂からなるもので、具体的には分子あ
るいは単体構造内にアクリロイル基、メタクリロイル
基、ビニル基等の不飽和二重結合を含む樹脂が好まし
く、中でも反応性の点でアクリロイル基を含むアクリル
系樹脂が好ましい。これらの樹脂は単独でも、数種の樹
脂を混合して用いてもかまわないが、耐溶剤性の観点か
ら分子あるいは単位構造内に2個以上のアクリロイル基
を有するアクリル系樹脂を用いることが好ましい。こう
した多官能アクリレート樹脂としては、例えばウレタン
アクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシア
クリレート、シリコーンアクリレート等が挙げられる
が、これらに限定されるのではない。特に好ましいコー
ティング膜(B1)を構成する樹脂としては、前記式
(X)で表されるフルオレン骨格を有するアクリレート
系樹脂が好ましい。該フルオレン骨格を有するアクリレ
ート系樹脂は、耐熱性が良好で屈折率が高く、表面粗さ
が小さい耐傷性の良好なコーティング膜を形成しやすい
という特徴があり、本発明の透明導電性フィルムに好適
である。この場合、特に上記式(5)および(6)で表
される繰り返し単位からなるポリカーボネートフィルム
とを組み合わせて用いるのが特に好適である。
NF-0.02 <nB1 <nF + 0.02 (2) Here, the coating layer (B1) is a cross-link having sufficient durability against solvents and chemicals when the display panel is assembled. Resin, for example, polysiloxane resin crosslinked structure, acrylic resin crosslinked structure, epoxy resin,
It is preferably composed of a crosslinked structure such as a melamine resin, a urethane resin and an alkyd resin. These crosslinked structures are made of a resin that is cured by irradiation with radiation such as ultraviolet rays and electron beams. Specifically, the crosslinked structure does not contain acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, etc. A resin containing a saturated double bond is preferable, and an acrylic resin containing an acryloyl group is particularly preferable from the viewpoint of reactivity. These resins may be used alone or as a mixture of several kinds, but from the viewpoint of solvent resistance, it is preferable to use an acrylic resin having two or more acryloyl groups in the molecule or unit structure. . Examples of such polyfunctional acrylate resins include, but are not limited to, urethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, silicone acrylate, and the like. As the resin forming the particularly preferable coating film (B1), an acrylate resin having a fluorene skeleton represented by the formula (X) is preferable. The acrylate-based resin having the fluorene skeleton is characterized in that it has good heat resistance, a high refractive index, and a surface roughness that makes it easy to form a coating film with good scratch resistance, and is suitable for the transparent conductive film of the present invention. Is. In this case, it is particularly preferable to use in combination with a polycarbonate film composed of the repeating units represented by the above formulas (5) and (6).

【0054】また、コーティング膜(B1)は、微粒子
を実質的に含有しなくてもよいが、上記式(2)の条件
を満足させる目的で、無機微粒子を含有してもよい。こ
こで、無機微粒子は、Si、Al、Ti、Mg、Ta、
Ce、InおよびZr等から選ばれた少なくとも1種の
金属あるいは2種以上の金属混合物の酸化物、フッ化
物、窒化物、あるいは酸窒化物からなる粒径が100n
m以下の無機微粒子が好ましい。無機微粒子の粒径が大
きすぎると、無機微粒子による光散乱が架橋構造体10
0重量部に対して70重量部以下で添加するのが好まし
い。該微粒子の添加量が多すぎると強度的に脆い膜とな
り、コーティング膜が不連続になる傾向がある。さらに
表面粗さも顕著になり好ましくない。
The coating film (B1) may contain substantially no fine particles, but may contain inorganic fine particles for the purpose of satisfying the condition of the above formula (2). Here, the inorganic fine particles are Si, Al, Ti, Mg, Ta,
The particle size of the oxide, fluoride, nitride or oxynitride of at least one metal or a mixture of two or more metals selected from Ce, In and Zr is 100 n.
Inorganic fine particles of m or less are preferable. If the particle size of the inorganic fine particles is too large, light scattering by the inorganic fine particles causes cross-linking structure 10.
It is preferable to add 70 parts by weight or less with respect to 0 parts by weight. When the amount of the fine particles added is too large, the film becomes brittle in strength and the coating film tends to be discontinuous. Further, the surface roughness becomes remarkable, which is not preferable.

【0055】コーティング膜(B1)の好ましい膜厚は
1〜10μmの範囲であり、より好ましくは1〜5μm
の範囲である。
The thickness of the coating film (B1) is preferably in the range of 1 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.
Is the range.

【0056】なお、コーティング膜(A1)ならびに
(B1)の形成方法としては、公知の塗工法および硬化
法を用いることができる。
As the method for forming the coating films (A1) and (B1), known coating methods and curing methods can be used.

【0057】以上のように、高分子フィルム(F)の一
方の面にコーティング膜(A1)を形成し、他方の面に
コーティング膜(B1)を形成することにより、(A)
の波長400nmから780nmの光に対する5°正反
射率の最小値(a)が、7%以下でかつ(B)の波長4
00nmから780nmの光に対する5°正反射率の最
小値(b)よりも小さくなり、さらには(a)に対応す
る光の波長から−40nmの範囲の光に対する5°正反
射率の標準偏差σ(a)が0.5%よりも小さくなり、
色むらが少なくて外光の映り込みが十分に防止され耐傷
性にも優れた透明導電性フィルムを与える。
As described above, the coating film (A1) is formed on one surface of the polymer film (F) and the coating film (B1) is formed on the other surface of the polymer film (F).
The minimum value (a) of the 5 ° regular reflectance for light having a wavelength of 400 nm to 780 nm is 7% or less and the wavelength of (B) is 4
It is smaller than the minimum value (b) of 5 ° regular reflectance for light of 00 nm to 780 nm, and further, the standard deviation σ of 5 ° regular reflectance for light in the range of −40 nm from the wavelength of the light corresponding to (a). (A) becomes smaller than 0.5%,
A transparent conductive film having little color unevenness, sufficient prevention of reflection of external light, and excellent scratch resistance.

【0058】ここで、本発明において耐傷性とは、市販
の微小硬度計で硬さや塑性変形率を測定することにより
評価できる。例えば、(株)エリオニクス社製のENT
−1100においては、測定条件は最大荷重0.49m
N、データ取り込みステップ1.96μN、データ取り
込み間隔40msec、最大荷重到達時荷重保持時間1
sec、使用圧子は先端素材がダイヤモンドである三角
錐(115°)、各荷重につき5回連続測定を行なった
時の平均値にて、本発明の表示体用透明高分子フィルム
の硬さと塑性変形率を測定した場合、下記式[I]で与
えられる硬さが18以上であり、塑性変形率は、下記式
[II]で与えられる塑性変形率は50%以下である。 硬さ=3.7926×10-2×最大荷重/(最大変位量)2 [I] (硬さ:kg/mm2、最大荷重:mg、最大変位量:μm) 塑性変形率=除荷後変位量/最大変位量×100 [II] (塑性変形率:%、除荷後変位量:μm、最大変位量:μm)
The scratch resistance in the present invention can be evaluated by measuring the hardness and the plastic deformation rate with a commercially available micro hardness meter. For example, ENT manufactured by Elionix Co., Ltd.
-1100, the measurement condition is the maximum load 0.49m
N, data loading step 1.96 μN, data loading interval 40 msec, load holding time when maximum load is reached 1
sec, the indenter used is a triangular pyramid (115 °) whose tip material is diamond, and the hardness and plastic deformation of the transparent polymer film for a display of the present invention, which is an average value when 5 measurements are continuously performed for each load. When the rate is measured, the hardness given by the following formula [I] is 18 or more, and the plastic deformation rate is 50% or less as given by the following formula [II]. Hardness = 3.7926 × 10 -2 × maximum load / (maximum displacement amount) 2 [I] (hardness: kg / mm 2 , maximum load: mg, maximum displacement amount: μm) Plastic deformation rate = after unloading Displacement / Maximum displacement x 100 [II] (Plastic deformation rate:%, Displacement after unloading: μm, Maximum displacement: μm)

【0059】さらに、本発明の好ましい態様として、本
発明の表示体用透明フィルムは前記高分子フィルム
(F)のA面側に、微粒子含有層(P)、高屈折率層
(H)、低屈折率層(L)の順番でコーティング膜を積
層するものを含む。この場合、A1の最表面は低屈折率
層(L)となる。このような構成により、A面の最表面
(L)の5°正反射率がいっそう低く、外光の映り込み
が十分に防止された透明導電性フィルムを得ることがで
きる。ここで、高屈折率層(H)ならびに低屈折率層
(L)の屈折率をnH、nLとし膜厚をdH、dLとし
た場合、下記式(7)〜(10)を同時に満足されるよ
うに(H)ならびに(L)を形成する。 nL<1.5 ・・・(7) nH≧1.5 ・・・(8) 90(nm)<nLdL<180(nm)・・・(9) 90(nm)<nHdH<360(nm)・・・(10)
Further, as a preferred embodiment of the present invention, the transparent film for display of the present invention has a fine particle-containing layer (P), a high refractive index layer (H) and a low refractive index layer on the A side of the polymer film (F). It includes one in which the coating films are laminated in the order of the refractive index layer (L). In this case, the outermost surface of A1 becomes the low refractive index layer (L). With such a configuration, it is possible to obtain a transparent conductive film in which the outermost surface (L) of surface A has a further lower 5 ° regular reflectance and the reflection of external light is sufficiently prevented. Here, when the refractive indexes of the high refractive index layer (H) and the low refractive index layer (L) are nH and nL and the film thicknesses are dH and dL, the following expressions (7) to (10) are simultaneously satisfied. To form (H) and (L). nL <1.5 (7) nH ≧ 1.5 (8) 90 (nm) <nLdL <180 (nm) (9) 90 (nm) <nHdH <360 (nm) ... (10)

【0060】微粒子含有層(P)としては前記のコーテ
ィング層(A1)で述べたものと同じものが好適である
が、この場合(P)の屈折率は1.5以上でnHよりも
低いコーティング層を形成すると外光の映り込みをいっ
そう小さくできるので好ましい。高屈折率層(H)とし
ては、Ti、Ce、Zr、In、Al及びSiから選ば
れる少なくともひとつの酸化物を主成分とするコーティ
ング層が好ましく、特にTi、Zr、またはInの酸化
物がより好ましい。これらは2種以上併用してもよい。
低屈折率層(L)としては、珪素と酸素が主成分である
コーティング層が好ましく、さらにはフッ素またはフッ
化マグネシウムを含むシロキサン系樹脂を主成分とする
コーティング層が好ましい。
As the fine particle-containing layer (P), the same ones as described in the above coating layer (A1) are suitable, but in this case, the coating (P) has a refractive index of 1.5 or more and lower than nH. It is preferable to form a layer because the reflection of external light can be further reduced. The high refractive index layer (H) is preferably a coating layer containing at least one oxide selected from Ti, Ce, Zr, In, Al and Si as a main component, and particularly an oxide of Ti, Zr or In. More preferable. You may use these 2 or more types together.
As the low refractive index layer (L), a coating layer containing silicon and oxygen as main components is preferable, and a coating layer containing siloxane resin containing fluorine or magnesium fluoride as main components is preferable.

【0061】本発明における透明導電層としては、公知
の金属膜、金属酸化物膜等が適用できるが、中でも、透
明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好
ましい。例えば、不純物としてスズ、テルル、カドミウ
ム、モリブテン、タングステン、フッ素、亜鉛、ゲルマ
ニウム等を添加した酸化インジウム、酸化カドミウム及
び酸化スズ、不純物としてアルミニウムを添加した酸化
亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物膜が挙げられる。なか
でも、インジウム酸化物を主成分とし、酸化錫及び酸化
亜鉛からなる群から選ばれた1種以上の酸化物を含むこ
とを特徴とし、酸化錫が2〜20重量%及び/または酸
化亜鉛が2〜20重量%含有する透明導電層が透明性、
導電性が優れており好ましく用いられる。また、本発明
のフィルムを有機ELに用いる場合、透明導電層の仕事
関数を制御して発光効率を向上させる目的で、インジウ
ム酸化物を主成分とし、酸化錫及び酸化亜鉛からなる群
から選ばれた1種以上の酸化物を含む膜に、さらに錫、
亜鉛以外の元素を添加してもよい。
As the transparent conductive layer in the present invention, known metal films, metal oxide films and the like can be applied, but among them, the metal oxide film is preferable from the viewpoint of transparency, conductivity and mechanical properties. For example, metal oxide films such as indium oxide added with tin, tellurium, cadmium, molybdenum, tungsten, fluorine, zinc and germanium as impurities, cadmium oxide and tin oxide, zinc oxide added with aluminum as impurities, titanium oxide, etc. Can be mentioned. Among them, indium oxide as a main component and one or more kinds of oxides selected from the group consisting of tin oxide and zinc oxide are included, and 2 to 20% by weight of tin oxide and / or zinc oxide is contained. The transparent conductive layer containing 2 to 20% by weight is transparent,
It has excellent conductivity and is preferably used. When the film of the present invention is used in an organic EL, it is selected from the group consisting of tin oxide and zinc oxide containing indium oxide as a main component for the purpose of controlling the work function of the transparent conductive layer and improving the luminous efficiency. A film containing one or more oxides, tin,
Elements other than zinc may be added.

【0062】透明導電層を形成する方法は、主にスパッ
タリング法が使用され、直流スパッタリング法、高周波
マグネトロンスパッタリング法、イオンビームスパッタ
リング法などが適用できるが、生産性の観点から、マグ
ネトロンスパッタ法が好ましい。透明導電層の膜厚は、
十分な導電性を得るために、10〜1000nmである
ことが好ましい。本発明の表示体用透明高分子フィルム
は、可視光領域に対する全光線透過率が80%以上であ
ることが好ましく、さらには85%以上が好ましい。8
0%未満では、視認性の低下を招く等の問題が生じるこ
とがある。
As a method for forming the transparent conductive layer, a sputtering method is mainly used, and a direct current sputtering method, a high frequency magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method and the like can be applied. From the viewpoint of productivity, the magnetron sputtering method is preferable. . The thickness of the transparent conductive layer is
The thickness is preferably 10 to 1000 nm in order to obtain sufficient conductivity. The transparent polymer film for a display of the present invention preferably has a total light transmittance in the visible light region of 80% or more, more preferably 85% or more. 8
If it is less than 0%, problems such as deterioration of visibility may occur.

【0063】該透明導電層は前記のコーティング層(B
1)が形成された側の面に形成され、(B1)の上に接
して設けられる。
The transparent conductive layer is the above-mentioned coating layer (B
It is formed on the surface on which (1) is formed and is provided in contact with (B1).

【0064】本発明の透明導電性フィルムは、水蒸気透
過係数が小さく高い水蒸気バリア性を有するが、必要に
応じて、ガスバリア層を有したり、透明導電層等を形成
することができる。ガスバリア層、透明導電層は、いず
れも該高分子フィルムとコーティング膜(A1),(B
1)との間にあってもよく、(A1),(B1)の外層
(つまり最表面)にあってもよい。
The transparent conductive film of the present invention has a small water vapor transmission coefficient and a high water vapor barrier property, but it may have a gas barrier layer, or a transparent conductive layer or the like, if necessary. The gas barrier layer and the transparent conductive layer are both formed of the polymer film and the coating films (A1), (B
1) and may be on the outer layer (that is, the outermost surface) of (A1) and (B1).

【0065】かかるガスバリア層の例としては、ポリビ
ニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体
等のポリビニルアルコール系重合体、ポリアクリロニト
リル、スチレン−アクリロニトリル共重合体等のポリア
クリロニトリル系共重合体、あるいはポリビニリデンク
ロリド等の公知の高分子コーティング材料と、Si、A
l、Ti、MgおよびZr等から選ばれた少なくとも1
種の金属あるいは2種以上の金属混合物の酸化物、フッ
化物、窒化物あるいは酸窒化物の無機材料が挙げられ
る。なかでも、Siの酸化物、窒化物、酸窒化物を主成
分とする無機材料が透明性とガスバリア性に優れ好まし
い。また、珪素と酸素が主成分である酸化ケイ素、ある
いは珪素と酸素が主成分であり、少なくともフッ素、マ
グネシウムを含有し、かつ珪素とフッ素が化学結合して
いる薄膜が、ガスバリア性、透明性、表面平滑性、膜応
力が少ないという点で好ましい。ここで、珪素原子に対
する酸素原子の割合は1.5以上2未満が好ましい。こ
の割合により薄膜の透明性とガスバリア性が二律背反性
の関係で変化し、1.5未満では表示体用途で要求され
る透明性が得られないことがある。さらに、フッ素原子
は珪素ならびにマグネシウムと化学結合しており、フッ
素原子と珪素原子の結合(A)とフッ素原子とマグネシ
ウムの結合(B)の割合が(A)>(B)であることが
好ましく、かつガスバリア層中に含まれるマグネシウム
の比率は、共存する珪素に対し元素比で2.5〜20a
tom%の範囲が好ましい。このような割合にすること
で、良好なガスバリア性、透明性は勿論のこと、特に膜
応力を小さくできると推定され、したがって、ガスバリ
ア層の膜厚を厚くしても表示体用透明高分子フィルムの
変形が少なくできる。ガスバリア膜中に存在するフッ素
元素の化学結合状態は、例えばX線光電子分光法により
分析、決定される。X線光電子分光法において、X線源
にAlのKα線を用い、中性炭素C1sの284.6e
Vで横軸を補正した際、フッ素の化学結合状態は、68
7eV近傍に観測されるフッ素と珪素の結合に由来する
F1sピーク(A)とこれより約1.5eV低結合エネ
ルギー側に観測されるフッ素とマグネシウムの結合に由
来するF1sピーク(B)の存在ならびに、これらの強
度比により決定される。
Examples of such gas barrier layers include polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol polymers such as ethylene-vinyl alcohol copolymers, polyacrylonitrile, polyacrylonitrile copolymers such as styrene-acrylonitrile copolymers, or polyvinylidene. Known polymer coating materials such as chloride and Si, A
1, at least 1 selected from Ti, Mg, Zr, etc.
Inorganic materials such as oxides, fluorides, nitrides or oxynitrides of one kind of metal or a mixture of two or more kinds of metals can be mentioned. Among them, an inorganic material containing Si oxide, nitride, or oxynitride as a main component is preferable because of excellent transparency and gas barrier property. In addition, a silicon oxide containing silicon and oxygen as main components, or a thin film containing silicon and oxygen as main components and containing at least fluorine and magnesium and chemically bonding silicon and fluorine has a gas barrier property, transparency, It is preferable in terms of surface smoothness and low film stress. Here, the ratio of oxygen atoms to silicon atoms is preferably 1.5 or more and less than 2. Due to this ratio, the transparency and gas barrier property of the thin film change in a trade-off relationship, and if it is less than 1.5, the transparency required for display applications may not be obtained. Further, the fluorine atom is chemically bonded to silicon and magnesium, and the ratio of the bond (A) between the fluorine atom and the silicon atom and the bond (B) between the fluorine atom and the magnesium is preferably (A)> (B). In addition, the ratio of magnesium contained in the gas barrier layer is 2.5 to 20 a in terms of element ratio with respect to coexisting silicon.
The range of tom% is preferable. It is presumed that such a ratio can reduce not only good gas barrier properties and transparency but also particularly film stress. Therefore, even if the film thickness of the gas barrier layer is increased, the transparent polymer film for display body is increased. The deformation of can be reduced. The chemical bonding state of elemental fluorine existing in the gas barrier film is analyzed and determined by, for example, X-ray photoelectron spectroscopy. In X-ray photoelectron spectroscopy, Kα ray of Al was used as an X-ray source, and 284.6e of neutral carbon C1s was used.
When the horizontal axis is corrected with V, the chemical bond state of fluorine is 68
The presence of the F1s peak (A) derived from the bond between fluorine and silicon observed near 7 eV and the F1s peak (B) derived from the bond between fluorine and magnesium observed at a low bond energy side of about 1.5 eV from this, and , Determined by their intensity ratio.

【0066】ガスバリア層の作成方法としては、例えば
スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プ
ラズマCVD法等の気相中より材料を堆積させて膜形成
する気相堆積法が挙げられる。これらのガスバリア層は
単独あるいは二種類以上組み合わせて、目標とする性能
が発現できる厚さに設定して用いる。特に、無機薄膜材
料をガスバリア層として用いる場合の膜厚は、2nm〜
1μmの範囲が好ましい。ガスバリア層の厚みが2nm
未満では均一に膜を形成することは困難であり、膜が形
成されない部分が発生するため気体透過度が大きくな
る。一方、1μmよりも厚くなると透明性を欠くだけで
なく、基板を屈曲させた際に、ガスバリア層にクラック
が発生して気体透過度が上昇する。
Examples of the method of forming the gas barrier layer include a vapor phase deposition method such as a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, an ion plating method and a plasma CVD method for forming a film by depositing a material in the vapor phase. These gas barrier layers are used singly or in combination of two or more, and are set to a thickness capable of expressing the target performance. Particularly, when the inorganic thin film material is used as the gas barrier layer, the film thickness is 2 nm to
The range of 1 μm is preferable. Gas barrier layer thickness is 2 nm
If it is less than the above, it is difficult to form a film uniformly, and a gas permeability is increased because a part where the film is not formed is generated. On the other hand, when the thickness is more than 1 μm, not only the transparency is deteriorated, but also when the substrate is bent, cracks are generated in the gas barrier layer to increase the gas permeability.

【0067】これらのガスバリア層は単独あるいは二種
類以上組み合わせて、目標とする性能が発現できる厚さ
に設定して用いる。
These gas barrier layers are used singly or in combination of two or more kinds so as to have a thickness capable of exhibiting target performance.

【0068】また、ガスバリア層は前記のコーティング
膜(A1)と高分子フィルム(F)との間、コーティン
グ膜(B1)と高分子フィルム(F)との間もしくはコ
ーティング層(B1)の上に形成される。
The gas barrier layer is provided between the coating film (A1) and the polymer film (F), between the coating film (B1) and the polymer film (F), or on the coating layer (B1). It is formed.

【0069】更に、本発明の透明導電性フィルムには、
例えばこれを用いて作成した液晶表示素子にカラー表示
機能を付与する目的で、カラーフィルター層を設けても
よい。カラーフィルターは、染色法、顔料分散法、電着
法、印刷法等の公知の技術で形成できる。該カラーフィ
ルター層は、透明導電性フィルムの透明導電層(E)と
コーティング膜(B)の層間に形成するのが好ましい。
Furthermore, in the transparent conductive film of the present invention,
For example, a color filter layer may be provided for the purpose of imparting a color display function to a liquid crystal display element produced using this. The color filter can be formed by a known technique such as a dyeing method, a pigment dispersion method, an electrodeposition method or a printing method. The color filter layer is preferably formed between the transparent conductive layer (E) and the coating film (B) of the transparent conductive film.

【0070】本発明の透明導電性フィルムは、上記のよ
うに良好な耐傷性を有することから、例えばHSC(ヒ
ートシールコネクター)やACF(異方導電性フィル
ム)を用いてプリント配線基板と接続した際に、極めて
良好な接続信頼性を確保することができる。また、特に
本発明の透明導電性フィルムを液晶表示体用に応用した
際には、液晶パネル内部に配したスペーサーに基板が変
形する量がすくなくなり、斑の少ない均一な表示特性の
液晶パネルを得ることが可能となる。
Since the transparent conductive film of the present invention has good scratch resistance as described above, it is connected to the printed wiring board using, for example, HSC (heat seal connector) or ACF (anisotropic conductive film). At that time, extremely good connection reliability can be secured. In addition, particularly when the transparent conductive film of the present invention is applied to a liquid crystal display body, the amount of the substrate deformed by the spacer arranged inside the liquid crystal panel becomes small, and a liquid crystal panel having uniform display characteristics with few spots is obtained. It becomes possible to obtain.

【0071】[0071]

【発明の効果】本発明によれば、支持体として特定の分
子構造を有する高分子フィルムを用い、該フィルムの一
方の面上にフィルムよりも屈折率が小さく表面粗さRa
が30nm〜1μmであり耐傷性に優れるコーティング
膜を形成し、他方の面上に屈折率が該フィルムとほぼ等
しい耐薬品性に優れるコーティング膜を形成し、さらに
このコーティング膜上に特定の表面粗さを有する透明導
電層を形成することにより、優れた光学等方性と耐熱性
を有し、高温加熱後の寸法変化が極めて少なく耐傷性に
も優れ、さらには色むらが少なく外光の映り込みが十分
に防止された表示体用の透明導電性フィルムを提供する
ことができる。
According to the present invention, a polymer film having a specific molecular structure is used as a support, and one surface of the film has a smaller refractive index than the film and a surface roughness Ra.
Of 30 nm to 1 μm and having excellent scratch resistance, a coating film having excellent chemical resistance with a refractive index almost equal to that of the film is formed on the other surface, and a specific surface roughness is formed on the coating film. It has excellent optical isotropy and heat resistance by forming a transparent conductive layer, and has very little dimensional change after high temperature heating and excellent scratch resistance. It is possible to provide a transparent conductive film for a display body in which entrapment is sufficiently prevented.

【0072】かかる透明導電性フィルムは、例えば、液
晶表示素子、エレクトロルミネッセンス(EL)表示素
子、電気泳動型、サーマルリライタブル型、PDLC方
式、カイラルネマチック液晶、エレクトロクロミック方
式、ツイストボール型、トナー表示方式などを利用した
表示体用の透明電極基板として好適である。
The transparent conductive film is, for example, a liquid crystal display device, an electroluminescence (EL) display device, an electrophoretic type, a thermal rewritable type, a PDLC system, a chiral nematic liquid crystal, an electrochromic system, a twist ball type, a toner display system. It is suitable as a transparent electrode substrate for a display using the above.

【0073】[0073]

【実施例】以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は、かかる実施例に限定されるも
のではない。なお、実施例中、部および%は、特に断ら
ない限り重量基準である。また、実施例中における各種
の測定は、下記のとおり行った。 (1)粗さRa:日本真空技術(株)製 表面粗さ計 D
EKTAK3を用いて測定を行った。 (2)5°正反射率:(株)日立製作所製 U−4000
形分光光度計を用いて測定を行った。 (3)屈折率:(株)アタゴ製 屈折計 2−Tを用い
て測定を行った。測定時における温度は25℃、光源は
ナトリウムランプのD線589nmを用いて行った。コ
ート層はガラス上にコーティングを行い、剥離したもの
を用いて測定した。 (4)硬さ測定:(株)エリオニクス社製の超微小硬度
測定装置、ENT−1100を用いて薄膜の硬さを測定
した。測定条件は最大荷重0.49mN、データ取り込
みステップ1.96μN、データ取り込み間隔40ms
ec、最大荷重到達時荷重保持時間1sec、使用圧子
は先端部がダイヤモンドからなる三角錐(115°)、
各荷重につき5回連続測定を行なった時の平均であり、
硬さは、下記式[I]で与えられる値である。 硬さ=3.7926×10-2×最大荷重/(最大変位量)2 [I] (硬さ:kg/mm2、最大荷重:mg、最大変位量:μm) 塑性変形率測定:塑性変形率は上記硬さ測定と同一、同
様の測定によって得られる除荷後変位量と、最大変位量
から下記式[II]で与えられる値である。 塑性変形率=除荷後変位量/最大変位量×100 [II] (塑性変形率:%、除荷後変位量:μm、最大変位量:μm)
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, parts and% are based on weight unless otherwise specified. Further, various measurements in the examples were performed as follows. (1) Roughness Ra: Surface roughness meter D manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.
The measurement was performed using EKTAK3. (2) 5 ° regular reflectance: U-4000 manufactured by Hitachi, Ltd.
The measurement was performed using a spectrophotometer. (3) Refractive index: Measurement was performed using a refractometer 2-T manufactured by Atago Co., Ltd. The temperature at the time of measurement was 25 ° C., and the light source was D line 589 nm of a sodium lamp. The coat layer was obtained by coating glass and peeling it off. (4) Hardness measurement: The hardness of the thin film was measured using ENT-1100, an ultrafine hardness measuring device manufactured by Elionix Co., Ltd. Measurement conditions are maximum load 0.49mN, data acquisition step 1.96μN, data acquisition interval 40ms
ec, a load holding time of 1 sec when the maximum load is reached, the indenter used is a triangular pyramid (115 °) with a diamond tip at the tip,
It is the average of 5 consecutive measurements for each load,
The hardness is a value given by the following formula [I]. Hardness = 3.7926 × 10 -2 × maximum load / (maximum displacement amount) 2 [I] (hardness: kg / mm 2 , maximum load: mg, maximum displacement amount: μm) Plastic deformation rate measurement: plastic deformation The rate is the same as the above hardness measurement, and is a value given by the following formula [II] from the displacement after unloading obtained by the same measurement and the maximum displacement. Plastic deformation rate = displacement after unloading / maximum displacement x 100 [II] (Plastic deformation rate:%, displacement after unloading: μm, maximum displacement: μm)

【0074】なお、後掲の化合物名は以下の略号を用い
た。 BisA:2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン BCF:9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフ
ェニル)フルオレン IP:3,3,5−トリメチル−1,1−ジ(4−フェ
ノール)シクロヘキシリデン ITO:インジウム−スズ酸化物 ECHETMOS:2−(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)エチルトリメトキシシラン APTMOS:3−アミノプロピルトリメトキシシラン EVOH:エチレンビニルアルコール共重合体 BPEFA:ビスフェノキシエタノールフルオレンジア
クリレート DCPA:ジメチロールトリシクロデカンジアクリレー
ト(共栄社化学社製「ライトアクリレートDCP−
A」) UA:ウレタンアクリレート(新中村化学製「NKオリ
ゴU−15HA」)
The following abbreviations were used for the compound names shown below. BisA: 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane BCF: 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene IP: 3,3,5-trimethyl-1,1-di (4- Phenol) Cyclohexylidene ITO: Indium-tin oxide ECHETMOS: 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane APTMOS: 3-Aminopropyltrimethoxysilane EVOH: Ethylene vinyl alcohol copolymer BPEFA: Bisphenoxyethanol full Orange acrylate DCPA: dimethylol tricyclodecane diacrylate (Kyoeisha Chemical Co., Ltd. "light acrylate DCP-
A ") UA: Urethane acrylate (" NK Oligo U-15HA "manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.)

【0075】[実施例1]ビスフェノール成分がBis
A/BCF=50/50(モル比)からなる平均分子量
37,000でTgが211℃のポリカーボネート樹脂
をメチレンクロライドに20重量%になるように溶解し
た。そしてこの溶液をダイコーティング法により厚さ1
75μmのポリエステルフィルム上に流延した。次い
で、乾燥炉で残留溶媒濃度が13重量%になるまで乾燥
し、ポリエステルフィルムから剥離した。そして、得ら
れたポリカーボネートフィルムを温度180℃の乾燥炉
で縦横の張力にできるだけ差が生じないように、かつフ
ィルムを保持しうる最小限の張力でバランスさせなが
ら、該フィルム中の残留溶媒濃度が0.3重量%になる
まで乾燥させ厚み120μmの透明高分子フィルム
(F)を得た。こうして得られた透明高分子フィルム
は、R(550)が5nm、180℃2hr熱処理後の
寸法変化率が0.03%、屈折率は1.62であった。
Example 1 Bisphenol component is Bis
A polycarbonate resin having A / BCF = 50/50 (molar ratio) and an average molecular weight of 37,000 and a Tg of 211 ° C. was dissolved in methylene chloride so as to be 20% by weight. Then, this solution is applied to a thickness of 1 by a die coating method.
Cast on a 75 μm polyester film. Then, it was dried in a drying oven until the residual solvent concentration reached 13% by weight, and peeled from the polyester film. Then, while keeping the obtained polycarbonate film in a drying oven at a temperature of 180 ° C. so that the vertical and horizontal tensions do not differ as much as possible and the film is balanced with a minimum tension that can hold the film, the residual solvent concentration in the film is The transparent polymer film (F) having a thickness of 120 μm was obtained by drying until it became 0.3% by weight. The transparent polymer film thus obtained had an R (550) of 5 nm, a dimensional change rate of 0.03% after heat treatment at 180 ° C. for 2 hours, and a refractive index of 1.62.

【0076】次に、攪拌機、加温ジャケット、コンデン
サーおよび温度計を取付けたフラスコ中に、エタノール
70部、メチルトリメトキシシラン68部、水9部およ
び1%塩酸水溶液1.8部を投入し、攪拌しながら65
℃の温度で約5時間かけて部分加水分解反応を行い、冷
却後、粒径3μmで屈折率1.43のシリコーン微粒子
を4重量部とトルエン20部を加えることによりコーテ
ィング液(AC1)を得た。この(AC1)を前述のポ
リカーボネートフィルムの片面上にコーティングし、1
30℃3分熱処理を行い、厚みが1.8μmのコーティ
ング膜(A1)を形成した。(A1)の屈折率は1.4
3であり、中心線平均粗さ(Ra(A))が100nm
であった。
Next, 70 parts of ethanol, 68 parts of methyltrimethoxysilane, 9 parts of water and 1.8 parts of a 1% hydrochloric acid aqueous solution were put into a flask equipped with a stirrer, a heating jacket, a condenser and a thermometer. 65 with stirring
A partial hydrolysis reaction is performed at a temperature of ℃ for about 5 hours, and after cooling, 4 parts by weight of silicone fine particles having a particle size of 3 μm and a refractive index of 1.43 and 20 parts of toluene are added to obtain a coating solution (AC1). It was This (AC1) is coated on one side of the above-mentioned polycarbonate film, and 1
A heat treatment was performed at 30 ° C. for 3 minutes to form a coating film (A1) having a thickness of 1.8 μm. The refractive index of (A1) is 1.4
3 and the center line average roughness (Ra (A)) is 100 nm.
Met.

【0077】さらに、BPEF−Aを460重量部、U
Aを40重量部、希釈溶剤としてトルエンを1150重
量部、光開始剤としてチバガイギー社製イルガキュア1
84を15重量部、レベリング剤として東レ・ダウコー
ニング社製SH28PAを0.18重量部混合し、コー
ティング液(BC1)を得た。この(BC1)を前記ポ
リカーボネートフィルムの(A1)を形成した側と反対
の面上にコーティングし、60℃30秒乾燥後、強度1
60wの高圧水銀ランプで積算光量700mJ/cm2
の紫外線を照射し、厚みが4μmのコーティング膜(B
1)を形成した。(B1)の屈折率は1.62であり、
中心線平均粗さ(Ra(B))は10nmであった。さ
らに、該フィルムのコーティング膜(B1)の上に、イ
ンジウム-錫酸化物薄膜層をスパッタリング法により、
厚さ120nmで形成することにより透明導電性フィル
ムを得た。
Further, 460 parts by weight of BPEF-A, U
40 parts by weight of A, 1150 parts by weight of toluene as a diluting solvent, and Irgacure 1 manufactured by Ciba-Geigy as a photoinitiator.
15 parts by weight of 84 and 0.18 parts by weight of SH28PA manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd. as a leveling agent were mixed to obtain a coating solution (BC1). This (BC1) was coated on the surface of the polycarbonate film opposite to the side on which (A1) was formed, dried at 60 ° C. for 30 seconds, and then strength 1
Accumulated light amount of 700 mJ / cm 2 with a high pressure mercury lamp of 60 w
Of the coating film (B
1) was formed. The refractive index of (B1) is 1.62,
The center line average roughness (Ra (B)) was 10 nm. Furthermore, an indium-tin oxide thin film layer is formed on the coating film (B1) of the film by a sputtering method.
A transparent conductive film was obtained by forming it with a thickness of 120 nm.

【0078】得られた透明導電性フィルムの評価結果は
表1に示すように良好であった。すなわち、(A1)の
屈折率は高分子フィルムF及び(B1)より小さく、R
a(A)>30nm>Ra(B)なので外光の反射によ
るコントラスト低下や像の映り込みがすくない透明フィ
ルムが得られた。また、(B1)の屈折率が高分子フィ
ルムFと等しく、正反射率の標準偏差σ(a)<0.3
であり、コーティング層の膜厚斑に起因する色むらがな
かった。さらに表面硬度、塑性変形率についてもそれぞ
れ23kg/mm2以上、41%以下であり優れてい
た。
The evaluation results of the obtained transparent conductive film were good as shown in Table 1. That is, the refractive index of (A1) is smaller than that of the polymer films F and (B1), and R
Since a (A)> 30 nm> Ra (B), a transparent film was obtained in which contrast reduction due to reflection of external light and reflection of an image were small. Further, the refractive index of (B1) is equal to that of the polymer film F, and the standard deviation of regular reflectance σ (a) <0.3.
There was no color unevenness due to the unevenness of the coating layer thickness. Further, the surface hardness and the plastic deformation rate were 23 kg / mm 2 or more and 41% or less, respectively, which were excellent.

【0079】[実施例2]EVOH100部を、水72
0部、n−プロパノール1080部の混合溶媒に加熱溶
解させ、均一溶液を得た。この溶液にレベリング剤(東
レダウコーニング社製「SH30PA」)を0.1部、
酢酸39部加えた後、ECHETMOS211部を加え
10分間撹拌した。更にこの溶液にAPTMOS77部
を加えて3時間撹拌した後、粒径3μmで屈折率1.4
3のシリコーン微粒子を12重量部加え、さらに1時間
撹拌することによりコーティング液(PC1)を得た。
この(PC1)を、実施例1と同じポリカーボネートフ
ィルムの片面上にコーティングし、130℃3分熱処理
を行い、厚みが1.8μmの微粒子(粒径3μm)含有
層(P)を形成した。(P)の屈折率は1.52であ
り、中心線平均粗さ(Ra(A))が120nmであっ
た。
Example 2 100 parts of EVOH was added to 72 parts of water.
It was dissolved by heating in a mixed solvent of 0 parts and 1080 parts of n-propanol to obtain a uniform solution. To this solution, 0.1 part of a leveling agent (“SH30PA” manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.),
After adding 39 parts of acetic acid, 211 parts of ECHETMOS was added and stirred for 10 minutes. Further, 77 parts of APTMOS was added to this solution and stirred for 3 hours, then, the particle size was 3 μm and the refractive index was 1.4.
The coating liquid (PC1) was obtained by adding 12 parts by weight of the silicone fine particles of 3 and further stirring for 1 hour.
This (PC1) was coated on one surface of the same polycarbonate film as in Example 1 and heat-treated at 130 ° C. for 3 minutes to form a fine particle (particle diameter 3 μm) -containing layer (P) having a thickness of 1.8 μm. The refractive index of (P) was 1.52, and the center line average roughness (Ra (A)) was 120 nm.

【0080】次いで、テトラブトキシチタネートを1
部、オクタンを12部、2−ブタノールを12部、2−
プロパノールを12部混合してコーティング液(HC
1)を得た。この(HC1)を、上記(P)の面上にコ
ーティングし130℃3分熱処理を行い、厚みが78n
mの高屈折率層(H)を形成した。(H)の屈折率は
1.78であった。
Next, 1 part of tetrabutoxy titanate was added.
Parts, octane 12 parts, 2-butanol 12 parts, 2-
Mix 12 parts of propanol to obtain coating liquid (HC
1) was obtained. This (HC1) is coated on the surface of (P) and heat-treated at 130 ° C. for 3 minutes to give a thickness of 78 n.
m high refractive index layer (H) was formed. The refractive index of (H) was 1.78.

【0081】さらに、攪拌機、加温ジャケット、コンデ
ンサーおよび温度計を取付けたフラスコ中に、エタノー
ル70部、メチルトリメトキシシラン68部、水9部お
よび1%塩酸水溶液1.8部を投入し、攪拌しながら6
5℃の温度で約5時間かけて部分加水分解反応を行い、
冷却後、トルエン20部を加えることによりコーティン
グ液(LC1)を得た。この(LC1)を上記(H)の
面上にコーティングし130℃3分熱処理を行い、厚み
が97nmの低屈折率層(L)を形成した。(L)の屈
折率は1.42であった。
Further, 70 parts of ethanol, 68 parts of methyltrimethoxysilane, 9 parts of water and 1.8 parts of a 1% hydrochloric acid aqueous solution were put into a flask equipped with a stirrer, a heating jacket, a condenser and a thermometer and stirred. While 6
Partial hydrolysis reaction is carried out at a temperature of 5 ° C for about 5 hours,
After cooling, 20 parts of toluene was added to obtain a coating liquid (LC1). This (LC1) was coated on the surface of (H) and heat-treated at 130 ° C. for 3 minutes to form a low refractive index layer (L) having a thickness of 97 nm. The refractive index of (L) was 1.42.

【0082】つづいて、実施例1と同様にして、これら
(P)、(H)および(L)を形成した側と反対の面上
に(B1)を形成した。
Then, in the same manner as in Example 1, (B1) was formed on the surface opposite to the side on which these (P), (H) and (L) were formed.

【0083】こうして得られた、表示体用透明フィルム
の評価結果は表1にしめすように良好であった。
The evaluation results of the thus obtained transparent film for a display were good as shown in Table 1.

【0084】[実施例3]高分子フィルム(F)とコー
ティング膜(A1)の間に、スパッタリング法により、
厚さ450オングストロームの酸化珪素を主成分とする
ガスバリア層を形成した以外は実施例1と同様にして透
明導電性フィルムを得た。得られたフィルムの評価結果
は表1に示すように良好であった。
[Example 3] Between the polymer film (F) and the coating film (A1) by a sputtering method,
A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a gas barrier layer having a thickness of 450 Å and containing silicon oxide as a main component was formed. The evaluation results of the obtained film were good as shown in Table 1.

【0085】[比較例1]コーティング液(A1)に粒
径3μmのシリコーン微粒子を用いない以外は、実施例
1と同様にして透明導電性フィルムを得た。得られたフ
ィルムは、表2に示すように、(A)面側の中心線平均
粗さ(Ra)が12nmであり、像の映り込みが激しか
った。
Comparative Example 1 A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid (A1) did not contain silicone fine particles having a particle size of 3 μm. As shown in Table 2, the obtained film had a center line average roughness (Ra) on the (A) surface side of 12 nm, and the reflection of the image was severe.

【0086】[比較例2]コーティング液(BC1)に
替えて、DCPAを20重量部、UAを10重量部、1
−メトキシ−2−プロパノールを30重量部、開始剤と
して1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを2
重量部を混合して得たコーティング組成物(BC2)を
用いてコーティング膜(B2)を形成した以外は、実施
例1と同様にして透明導電性フィルムを得た。得られた
フィルムは、表2に示すように、(B2)の屈折率は、
1.54で、中心線平均粗さは15nmであり、色むら
が激しかった。
Comparative Example 2 In place of the coating liquid (BC1), 20 parts by weight of DCPA, 10 parts by weight of UA, 1
-Methoxy-2-propanol (30 parts by weight) and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (2) as an initiator
A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating film (B2) was formed by using the coating composition (BC2) obtained by mixing parts by weight. The obtained film has a refractive index of (B2) as shown in Table 2.
At 1.54, the center line average roughness was 15 nm, and the color unevenness was severe.

【0087】[0087]

【表1】 [Table 1]

【0088】※(a)は波長400nm〜780nmの
光に対する面(A)の5°正反射率の最小値、(b)は
波長400nm〜780nmの光に対する面(B)の5
°正反射率の最小値、σ(a)は(a)を与える光の波
長から−40nmの範囲の光に対する5°正反射率の標
準偏差。
* (A) is the minimum value of the 5 ° specular reflectance of the surface (A) with respect to light having a wavelength of 400 nm to 780 nm, and (b) is 5 with respect to light having a wavelength of 400 nm to 780 nm (B)
The minimum value of the regular reflectance, σ (a) is the standard deviation of the regular reflectance of 5 ° with respect to the light in the range of −40 nm from the wavelength of the light that gives (a).

【0089】[0089]

【表2】 [Table 2]

【0090】※(a)は波長400nm〜780nmの
光に対する面(A)の5°正反射率の最小値、(b)は
波長400nm〜780nmの光に対する面(B)の5
°正反射率の最小値、σ(a)は(a)を与える光の波
長から−40nmの範囲の光に対する5°正反射率の標
準偏差。
* (A) is the minimum value of the 5 ° regular reflectance of the surface (A) with respect to light having a wavelength of 400 nm to 780 nm, and (b) is 5 with respect to light having a wavelength of 400 nm to 780 nm (B).
The minimum value of the regular reflectance, σ (a) is the standard deviation of the regular reflectance of 5 ° with respect to the light in the range of −40 nm from the wavelength of the light that gives (a).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1333 500 G02F 1/1335 505 5G307 1/1335 505 H01B 5/14 A H01B 5/14 C08L 69:00 // C08L 69:00 G02B 1/10 A (72)発明者 齋藤 徳顕 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 (72)発明者 谷田部 俊明 東京都日野市旭が丘4丁目3番2号 帝人 株式会社東京研究センター内 Fターム(参考) 2H090 JA09 JB02 JB03 JB12 JB13 LA01 LA02 LA05 LA06 LA17 LA20 2H091 FA02Y FA11X FA11Z FA14Y FA14Z FA44Y FC02 FC03 FC12 GA01 GA02 GA08 KA01 KA02 KA04 LA11 LA16 LA17 2K009 AA04 AA05 BB24 CC03 CC09 CC22 CC42 EE03 FF02 4F071 AA45 AA50 AF30 AF37 AH12 AH16 BB02 BB06 BC01 BC08 BC12 BC16 4F100 AA17E AA21E AA27E AB10A AB10B AB10C AB10D AB10E AB11A AB11B AB11C AB11D AB11E AB12A AB12B AB12C AB12D AB12E AB17A AB17B AB17C AB17D AB17E AB19E AK01A AK41A AK45A AK52D AK79D AL05D BA04 BA05 BA07 BA10C BA10D BA25 DE01D DE01E EH46 EH462 EH66 EH662 EJ86 EJ862 GB41 JG01C JJ03 JK14 JK14D JL04 JM02B JM02D JN01C JN18B JN18D JN18E YY00D 5G307 FA02 FC02 FC06 FC10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02F 1/1333 500 G02F 1/1335 505 5G307 1/1335 505 H01B 5/14 A H01B 5/14 C08L 69: 00 // C08L 69:00 G02B 1/10 A (72) Inventor Tokuaki Saito 4-3-2 Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo Inside the Tokyo Research Center, Teijin Limited (72) Toshiaki Yatabe Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo 4-3-2 Teijin Limited Tokyo Research Center F-term (reference) 2H090 JA09 JB02 JB03 JB12 JB13 LA01 LA02 LA05 LA06 LA17 LA20 2H091 FA02Y FA11X FA11Z FA14Y FA14Z FA44Y FC02 FC03 FC12 GA01 GA02 GA08 KA01 KA02 LA17 2K09 LA0 2 AA04 AA05 BB24 CC03 CC09 CC22 CC42 EE03 FF02 4F071 AA45 AA50 AF30 AF37 AH12 AH16 BB02 BB06 BC01 BC08 BC12 B C16 4F100 AA17E AA21E AA27E AB10A AB10B AB10C AB10D AB10E AB11A AB11B AB11C AB11D AB11E AB12A AB12B AB12C AB12D AB12E AB17A AB17B AB17C AB17D AB17E AB19E AK01A AK41A AK45A AK52D AK79D AL05D BA04 BA05 BA07 BA10C BA10D BA25 DE01D DE01E EH46 EH462 EH66 EH662 EJ86 EJ862 GB41 JG01C JJ03 JK14 JK14D JL04 JM02B JM02D JN01C JN18B JN18D JN18E YY00D 5G307 FA02 FC02 FC06 FC10

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子フィルム(F)の両面(A面及び
B面)にそれぞれ少なくとも一層のコーティング膜(A
1)及び(B1)を形成し、B面側の最表面に透明導電
層(E)を形成した透明導電性フィルムであって、A面
側の最表面は中心線平均粗さ(Ra(A))が30nm
〜1μmであり、B面側の最表面は中心線平均粗さ(R
a(B))が30nm以下であって、コーティング膜
(A1)の屈折率をnA1、高分子フィルムのnF、コ
ーティング膜(B1)の屈折率をnB1としたとき、下
記式(1)及び(2)を満足することを特徴とする透明
導電性フィルム。 nA1<nF かつ nA1<nB1 ・・・(1) nF−0.02<nB1<nF+0.02 ・・・(2)
1. At least one coating film (A) on each side (A side and B side) of the polymer film (F).
1) and (B1) are formed, and the transparent conductive film (E) is formed on the outermost surface of the B side, and the outermost surface of the A side is the center line average roughness (Ra (A )) Is 30 nm
˜1 μm, and the outermost surface on the B side has a center line average roughness (R
When a (B) is 30 nm or less and the refractive index of the coating film (A1) is nA1, the refractive index of the polymer film is nF, and the refractive index of the coating film (B1) is nB1, the following formulas (1) and ( A transparent conductive film satisfying 2). nA1 <nF and nA1 <nB1 (1) nF-0.02 <nB1 <nF + 0.02 (2)
【請求項2】 波長400nmから780nmの光に対
するA面の5°正反射率の最小値(a)が7%以下で、
波長400nmから780nmの光に対するB面の5°
正反射率の最小値(b)よりも小さく、かつ(a)を与
える光の波長から−40nmの範囲の光に対するA面の
5°正反射率の標準偏差σ(a)が0.5%よりも小さ
いことを特徴とする請求項1記載の透明導電性フィル
ム。
2. The minimum value (a) of the 5 ° regular reflectance of the A surface with respect to light having a wavelength of 400 nm to 780 nm is 7% or less,
5 ° of B side for light of wavelength 400 nm to 780 nm
The standard deviation σ (a) of the 5 ° regular reflectance of the A surface with respect to the light in the range of −40 nm from the wavelength of the light giving (a) is smaller than the minimum value (b) of the regular reflectance is 0.5%. The transparent conductive film according to claim 1, which is smaller than the above.
【請求項3】 該高分子フィルム(F)がポリカーボネ
ートまたはポリエステルまたはこれらの混合物からなる
請求項1または2記載の透明導電性フィルム。
3. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the polymer film (F) is made of polycarbonate, polyester or a mixture thereof.
【請求項4】 該高分子フィルムが、フルオレン骨格を
有する繰り返し単位を含む高分子からなるか、又は該繰
り返し単位を共重合成分として含む高分子からなる請求
項1〜3のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
4. The polymer film according to claim 1, wherein the polymer film comprises a polymer containing a repeating unit having a fluorene skeleton, or a polymer containing the repeating unit as a copolymerization component. Transparent conductive film.
【請求項5】 該高分子フィルムが、下記式(5) 【化1】 [上記式(5)において、R1〜R8はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素基
から選ばれる少なくとも一種の基である。]で表される
繰り返し単位と、下記式(6) 【化2】 [上記式(6)において、R9〜R16はそれぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子および炭素数1〜6の炭化水素
基から選ばれる少なくとも一種の基であり、Xは炭素数
1〜15の炭化水素基である。]で表される繰り返し単
位を含む共重合ポリカーボネートから主としてなり、か
つ上記式(5)で表される繰り返し単位が全体の10〜
90モル%である請求項1〜4のいずれかに記載の透明
導電性フィルム。
5. The polymer film has the following formula (5): [In the above formula (5), R 1 to R 8 are each independently at least one group selected from a hydrogen atom, a halogen atom, and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. ] And the following formula (6): [In the above formula (6), R 9 to R 16 are each independently at least one group selected from a hydrogen atom, a halogen atom and a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and X is 1 to 15 carbon atoms. It is a hydrocarbon group. ] Mainly composed of a copolycarbonate containing a repeating unit represented by the above formula, and the repeating unit represented by the above formula (5) is 10 to 10% of the whole.
It is 90 mol%, The transparent conductive film in any one of Claims 1-4.
【請求項6】 コーティング膜(A1)がシロキサン系
樹脂およびシリコーン樹脂微粒子を主成分とすることを
特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電性
フィルム。
6. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the coating film (A1) contains siloxane-based resin and silicone resin fine particles as main components.
【請求項7】 コーティング膜(B1)がフルオレン骨
格を有する架橋樹脂を主成分とすることを特徴とする請
求項1〜6のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
7. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the coating film (B1) contains a crosslinked resin having a fluorene skeleton as a main component.
【請求項8】 該高分子フィルム(F)の一方の面(A
面)のコーティング膜(A1)が、微粒子含有層
(P)、高屈折率層(H)、低屈折率層(L)の順番で
複数積層されてなり、(P)と(H)、及び(H)と
(L)が接し、(H)ならびに(L)の屈折率をnH、
nLとし膜厚をdH、dLとした場合、下記式(7)〜
(10)を同時に満足することを特徴とする請求項1〜
7のいずれかに記載の透明導電性フィルム。 nL<1.5 ・・・(7) nH≧1.5 ・・・(8) 90(nm)<nLdL<180(nm)・・・(9) 90(nm)<nHdH<360(nm)・・・(10)
8. The one surface (A) of the polymer film (F).
A coating film (A1) on the surface) is laminated in the order of a fine particle-containing layer (P), a high refractive index layer (H) and a low refractive index layer (L), and (P) and (H), and (H) and (L) are in contact, and the refractive indexes of (H) and (L) are nH,
When nL and the film thickness are dH and dL, the following equations (7)-
The conditions (10) are simultaneously satisfied.
7. The transparent conductive film according to any one of 7. nL <1.5 ... (7) nH ≧ 1.5 ... (8) 90 (nm) <nLdL <180 (nm) ... (9) 90 (nm) <nHdH <360 (nm) ... (10)
【請求項9】 該高屈折率層(H)がTi、Zr、及び
Inから選ばれる少なくともひとつの酸化物を主成分と
するコーティング層であり、該低屈折率層(L)が珪素
と酸素を主成分とするコーティング層であることを特徴
とする請求項8記載の透明導電性フィルム。
9. The high refractive index layer (H) is a coating layer containing at least one oxide selected from Ti, Zr, and In as a main component, and the low refractive index layer (L) is silicon and oxygen. The transparent conductive film according to claim 8, which is a coating layer containing as a main component.
【請求項10】 Si、Al、Ti、Mg、Ta、C
e、InおよびZrから選ばれた少なくとも1種の金属
あるいは2種以上の金属混合物の酸化物、フッ化物、窒
化物あるいは酸窒化物の無機材料を主成分とするガスバ
リア層が少なくとも一層形成されている請求項1〜9の
いずれかに記載の透明導電性フィルム。
10. Si, Al, Ti, Mg, Ta, C
At least one gas barrier layer containing an inorganic material such as oxide, fluoride, nitride or oxynitride of at least one metal selected from e, In and Zr or a mixture of two or more metals is formed. The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 9.
【請求項11】 該ガスバリア層がコーティング膜(A
1)と高分子フィルム(F)の間、及び/又はコーティ
ング膜(B)と透明導電層(E)の間に存在する請求項
1〜10のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
11. The gas barrier layer is a coating film (A
The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 10, which is present between 1) and the polymer film (F) and / or between the coating film (B) and the transparent conductive layer (E).
【請求項12】 透明導電層(E)とコーティング膜
(B)の間にカラーフィルター層が形成されている請求
項1〜11のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
12. The transparent conductive film according to claim 1, wherein a color filter layer is formed between the transparent conductive layer (E) and the coating film (B).
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