JP2003342350A - High molecular weight epoxy resin, resin composition for electric laminate, and electric laminate - Google Patents
High molecular weight epoxy resin, resin composition for electric laminate, and electric laminateInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 可撓性、耐熱性、低吸水性、電気特性、成形
性に優れた高分子量エポキシ樹脂及び電気積層板用組成
物と電気積層板を提供する。
【構成】 本発明は、下記一般式(1)で表わされる重
量平均分子量が10,000〜200,000の高分子
量エポキシ樹脂。
一般式(1)
【化1】
(式中、Aは下記一般式(2)または(3)で表わされ
る化学構造であり、Aが一般式(3)
である割合が一般式(1)中の5モル%以上であり、B
は水素原子、または下記一般式(4)で表される基であ
り、nは平均値で25〜500の数である。)(57) [Object] To provide a high molecular weight epoxy resin excellent in flexibility, heat resistance, low water absorption, electric characteristics, and moldability, a composition for an electric laminate, and an electric laminate. The present invention provides a high-molecular-weight epoxy resin represented by the following general formula (1) and having a weight-average molecular weight of 10,000 to 200,000. General formula (1) (Wherein A is a chemical structure represented by the following general formula (2) or (3), and the proportion of A represented by the general formula (3) is 5 mol% or more in the general formula (1);
Is a hydrogen atom or a group represented by the following general formula (4), and n is a number of 25 to 500 on average. )
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ビスフェノールア
セトフェノン構造を必須成分として含有していることを
特徴とする高分子量エポキシ樹脂、該高分子量エポキシ
樹脂を配合してなる電気積層板用樹脂組成物及び電気積
層板に関する。本発明の高分子量エポキシ樹脂は、高可
撓性、ガラス転移温度が高く、低吸水率かつ低誘電率の
電気積層板用樹脂組成物を提供する。ここでいう電気積
層板とは、プリント配線板、ビルドアップ積層板やフレ
キシブル積層板などを含む、絶縁基板に用いられる積層
板のことである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a high molecular weight epoxy resin characterized by containing a bisphenolacetophenone structure as an essential component, a resin composition for electric laminates containing the high molecular weight epoxy resin, and The present invention relates to an electric laminate. The high molecular weight epoxy resin of the present invention provides a resin composition for electric laminates having high flexibility, high glass transition temperature, low water absorption and low dielectric constant. The electric laminated plate referred to here is a laminated plate used for an insulating substrate including a printed wiring board, a build-up laminated board, a flexible laminated board, and the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】エポキシ樹脂は、塗料、土木接着、電気
用途に広く利用されているが、特にビスフェノールA型
の高分子量タイプのエポキシ樹脂は、主に塗料用ワニス
のベース樹脂、フィルム成形用のベース樹脂、エポキシ
樹脂ワニスに添加される流動性調整剤あるいは硬化物の
靭性改良のための添加剤等として使用されており、また
臭素原子を含有する高分子量エポキシ樹脂は熱可塑性樹
脂に配合される難燃剤として使用されている。一方、電
気・電子機器に使用されるプリント配線板は、機器の小
型化、軽量化及び高機能化が進んでおり、特に多層プリ
ント配線板に対し、更なる高多層化、高密度化、薄型
化、軽量化、高信頼性及び成形加工性等が要求されてい
る。この要求に対して、ビルドアップ法等新しい多層プ
リント配線板の製造方法が開発されており、これらに適
した高性能のエポキシ樹脂が求められている。ビルドア
ップ配線板用の樹脂付き銅箔や、接着フィルム用樹脂と
しては製膜性に有利なことから高分子量エポキシ樹脂が
検討されている。この高分子量エポキシ樹脂に対して性
能要求として、最近の電気信号の伝送速度の高速化要求
に伴い、樹脂の低誘電率化及び低誘電損失化が強く求め
られている。また、信頼性向上の面から高耐熱性及び低
吸水性の要求もある。従来検討されている高分子量エポ
キシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、
ビスフェノールF型エポキシ樹脂及び臭素化エポキシ樹
脂等があり、又特開平11-269264号公報、特開平11-2792
60号公報、特開平11-302373号公報などにはフルオレン
骨格を導入した熱可塑性ポリヒドロキシポリエーテル樹
脂が記載されているが、これらの樹脂では先述の厳しい
高信頼性及び低誘電率化等の要求を同時に満たすことは
出来ない。2. Description of the Related Art Epoxy resins are widely used in paints, civil engineering adhesion, and electrical applications. In particular, bisphenol A type high molecular weight epoxy resins are mainly used as base resins for paint varnishes and film moldings. It is used as a fluidity modifier added to base resins and epoxy resin varnishes, or as an additive for improving the toughness of cured products, and high molecular weight epoxy resins containing bromine atoms are blended with thermoplastic resins. Used as a flame retardant. On the other hand, printed wiring boards used in electrical and electronic equipment are becoming smaller, lighter and more sophisticated, especially in comparison with multilayer printed wiring boards, where the number of layers is higher, the density is higher, and the thickness is thinner. There is a demand for higher efficiency, lighter weight, high reliability, and moldability. In response to this demand, a new method for manufacturing a multilayer printed wiring board such as a build-up method has been developed, and a high-performance epoxy resin suitable for these has been demanded. As a resin-coated copper foil for a build-up wiring board and a resin for an adhesive film, a high molecular weight epoxy resin has been studied because of its advantageous film forming property. As a performance requirement for this high molecular weight epoxy resin, it has been strongly demanded to lower the dielectric constant and lower the dielectric loss of the resin in accordance with the recent demand for higher transmission rate of electric signals. There is also a demand for high heat resistance and low water absorption from the viewpoint of improving reliability. As the high molecular weight epoxy resin which has been conventionally studied, bisphenol A type epoxy resin,
There are bisphenol F type epoxy resin, brominated epoxy resin, etc., and there are also JP-A-11-269264 and JP-A-11-2792.
No. 60, JP-A No. 11-302373, etc. describes thermoplastic polyhydroxypolyether resins having a fluorene skeleton introduced, but with these resins, strict high reliability and low dielectric constant as described above are obtained. It is not possible to meet the requirements at the same time.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】これまで知られている
高分子量エポキシ樹脂を電気積層板用樹脂組成物に使用
した場合、成形性、可撓性、耐衝撃性や接着性を良くす
る事ができるが、プリント配線板としたときの耐熱性、
低吸水性及び絶縁特性・誘電特性が悪くなる。本発明が
解決しようとする課題は、従来の高分子量エポキシ樹脂
の種々の問題点を解決して、可撓性、耐熱性、低吸水
性、電気的特性(特に、低誘電率・低誘電損失)、成形
性、耐衝撃性及び接着性に優れた電気積層板用樹脂組成
物を得るために必要な高分子量エポキシ樹脂及び電気積
層板用樹脂組成物を提供することにある。When a known high molecular weight epoxy resin is used in a resin composition for electric laminates, it is possible to improve moldability, flexibility, impact resistance and adhesiveness. Yes, but heat resistance when used as a printed wiring board,
Low water absorption and poor insulation and dielectric properties. The problem to be solved by the present invention is to solve various problems of conventional high molecular weight epoxy resins, and to provide flexibility, heat resistance, low water absorption, and electrical characteristics (especially, low dielectric constant and low dielectric loss). ), A high molecular weight epoxy resin and a resin composition for electric laminates necessary for obtaining a resin composition for electric laminates excellent in moldability, impact resistance and adhesiveness.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、
「1.下記一般式(1)で表わされる重量平均分子量が
10,000〜200,000の高分子量エポキシ樹
脂。一般式(1)MEANS FOR SOLVING THE PROBLEMS The present invention provides "1. High molecular weight epoxy resin represented by the following general formula (1) having a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000. General formula (1)
【0005】[0005]
【化5】 [Chemical 5]
【0006】(式中、Aは下記一般式(2)または
(3)で表わされる化学構造であり、Aが一般式(3)
である割合が一般式(1)中の5モル%以上であり、B
は水素原子、または下記一般式(4)で表される基であ
り、nは平均値で25〜500の数である。)
一般式(2)(In the formula, A is a chemical structure represented by the following general formula (2) or (3), and A is the general formula (3))
Is 5 mol% or more in the general formula (1), B
Is a hydrogen atom or a group represented by the following general formula (4), and n is an average value of 25 to 500. ) General formula (2)
【0007】[0007]
【化6】 [Chemical 6]
【0008】(式中、R1は互いに同一であっても異な
っていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基
又はハロゲン元素から選ばれる基であり、Xは単結合、
炭素数1〜7の2価の炭化水素基、-O-、-S-、-SO2-、
又は-CO-から選ばれる基である。)
一般式(3)(In the formula, R 1 s may be the same or different from each other and are a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, X is a single bond,
A divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, -O-, -S-, -SO 2- ,
Alternatively, it is a group selected from -CO-. ) General formula (3)
【0009】[0009]
【化7】 [Chemical 7]
【0010】(式中、R1'は互いに同一であっても異な
っていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基
又はハロゲン元素から選ばれる基であり、R2は水素原
子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素から
選ばれる基であり、R3は水素原子又は炭素数1〜10
の炭化水素基でありmは0〜5の整数である。)〕
一般式(4)(In the formula, R 1 'may be the same or different from each other and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, R 2 is a hydrogen atom, It is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, and R 3 is a hydrogen atom or 1 to 10 carbon atoms.
And m is an integer of 0-5. )] General formula (4)
【0011】[0011]
【化8】 [Chemical 8]
【0012】2. 高分子量エポキシ樹脂のエポキシ当
量が、5,000g/当量以上であることを特徴とする、
1項に記載された高分子量エポキシ樹脂。
3. 高分子量エポキシ樹脂中に含有されるLi、Na
及びKの合計量が5ppm以下であり、かつ燐の含有量
が150ppm以下であることを特徴とする、1項又は
2項に記載された高分子量エポキシ樹脂。
4. 一般式(2)または(3)の化学構造を含有する
2価フェノール化合物と、エピハロヒドリンをアルカリ
存在下で反応させることを特徴とする、1ないし3項の
いずれか1項に記載された高分子量エポキシ樹脂の製造
方法。
5. 一般式(2)または(3)の化学構造を含有する
2官能エポキシ樹脂と、一般式(2)または(3)の化
学構造を含有する2価フェノール化合物を触媒の存在下
で反応させることを特徴とする、1ないし3項のいずれ
か1項に記載された高分子量エポキシ樹脂の製造方法。
6. 反応温度を50℃〜230℃の範囲とした、5項
に記載された高分子量エポキシ樹脂の製造方法。
7. 1ないし3項のいずれか1項に記載された高分子
量エポキシ樹脂を配合してなる電気積層板用樹脂組成
物。
8. 1ないし3項のいずれか1項に記載された高分子
量エポキシ樹脂、熱硬化性樹脂、硬化剤および硬化促進
剤を必須成分とする、7項に記載された電気積層板用樹
脂組成物。
9. 熱硬化性樹脂が1〜3項のいずれか1項に記載の
当該高分子量エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂である電
気積層板用樹脂組成物。
10. 7ないし9項のいずれか1項に記載された電気
積層板用樹脂組成物から得られる電気積層板。」に関す
る。2. The epoxy equivalent of the high molecular weight epoxy resin is 5,000 g / equivalent or more,
The high molecular weight epoxy resin described in item 1. 3. Li and Na contained in high molecular weight epoxy resin
And the total amount of K is 5 ppm or less and the content of phosphorus is 150 ppm or less, the high molecular weight epoxy resin as described in the item 1 or 2. 4. The high molecular weight described in any one of 1 to 3 above, characterized by reacting a dihydric phenol compound having the chemical structure of the general formula (2) or (3) with epihalohydrin in the presence of an alkali. Method for producing epoxy resin. 5. A difunctional epoxy resin containing the chemical structure of general formula (2) or (3) is reacted with a dihydric phenol compound containing the chemical structure of general formula (2) or (3) in the presence of a catalyst. A method for producing the high molecular weight epoxy resin described in any one of 1 to 3 above. 6. The method for producing a high molecular weight epoxy resin according to item 5, wherein the reaction temperature is in the range of 50 ° C to 230 ° C. 7. A resin composition for an electric laminate, which comprises the high molecular weight epoxy resin described in any one of 1 to 3 above. 8. Item 7. The resin composition for electric laminates described in Item 7, which contains the high molecular weight epoxy resin described in any one of Items 1 to 3, a thermosetting resin, a curing agent, and a curing accelerator as essential components. 9. A resin composition for an electric laminate, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin other than the high molecular weight epoxy resin according to any one of items 1 to 3. 10. An electric laminate obtained from the resin composition for electric laminates according to any one of 7 to 9. Regarding
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】本発明の一般式(1)で表わされる
高分子量エポキシ樹脂の構成成分は一般式(2)または
一般式(3)で表わされる化学構造であり、Aが一般式
(3)である割合が一般式(1)中の5モル%以上が好
ましく、より好ましくは10モル%以上であり、更に好
ましくは15モル%以上である。一般式(3)で表わさ
れる化学構造の成分が5モル%より少ないと耐熱性及び
低吸水性が不十分となる。また、高分子量エポキシ樹脂
の重量平均分子量が10,000未満では耐熱性が不十
分であり、200,000を超えると樹脂が極めて高粘
度となり樹脂の取り扱いが困難になり、好ましくない。
耐熱性、樹脂の取り扱いの両面からみて、好ましくは、
高分子量エポキシ樹脂の重量平均分量は10,000〜
90,000であり、より好ましくは12,000〜8
0,000であり、更に好ましくは15,000〜7
0,000である。本発明における高分子量エポキシ樹
脂のエポキシ当量は5,000g/当量以上であればよ
い。尚、エポキシ基が含有されない場合はエポキシ当量
は無限大の値になる。5,000g/当量以下では耐熱性
が不十分となり、好ましくない。5,000g/当量以上
であれば耐熱性がよくなり、好適である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The constituent component of the high molecular weight epoxy resin represented by the general formula (1) of the present invention is the chemical structure represented by the general formula (2) or (3), and A is the general formula ( The ratio of 3) is preferably 5 mol% or more in the general formula (1), more preferably 10 mol% or more, and further preferably 15 mol% or more. When the content of the component having the chemical structure represented by the general formula (3) is less than 5 mol%, heat resistance and low water absorption become insufficient. Further, if the weight average molecular weight of the high molecular weight epoxy resin is less than 10,000, the heat resistance is insufficient, and if it exceeds 200,000, the resin becomes extremely high in viscosity and it becomes difficult to handle the resin, which is not preferable.
In terms of heat resistance and resin handling, preferably,
The weight average amount of the high molecular weight epoxy resin is 10,000 to
90,000, more preferably 12,000 to 8
10,000, more preferably 15,000 to 7
It is 10,000. The epoxy equivalent of the high molecular weight epoxy resin in the present invention may be 5,000 g / equivalent or more. Incidentally, when the epoxy group is not contained, the epoxy equivalent becomes an infinite value. If it is less than 5,000 g / equivalent, heat resistance becomes insufficient, which is not preferable. When it is 5,000 g / equivalent or more, heat resistance is improved, which is preferable.
【0014】本発明の高分子量エポキシ樹脂の製造方法
として、エピクロルヒドリンやエピブロムヒドリン等の
エピハロヒドリンと一般式(2)または(3)の化学構造を含
有する2価フェノール化合物をアルカリ存在下に反応さ
せて製造する一段法と、一般式(2)または(3)の化学構造
を含有する2官能エポキシ樹脂の少なくとも1種類と一
般式(2)または(3)の化学構造を含有する2価フェノール
化合物の少なくとも1種以上とを一般に触媒の存在下に
反応させて製造する二段法がある。前述の重量平均分子
量やエポキシ当量は、エピハロヒドリンと2価フェノー
ル化合物の仕込みモル比、あるいは2官能エポキシと2
価フェノール化合物の仕込みモル比を調整することで目
的の値のものを製造することができる。その二段法の原
料の2官能エポキシ樹脂として使用されるものは、一般
式(6)または(7)で表わされるエポキシ樹脂であるが、本
発明の目的を損なわない限りこれ以外のものでも分子内
に2個のエポキシ基を持つ化合物であれば併用して良
い。一般式(6)の2官能エポキシ樹脂としては、例え
ば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF
型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等の
ビスフェノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキ
シ樹脂などがあげられる。これらのエポキシ樹脂の中で
特に好ましいものは、ビスフェノールA、ビスフェノー
ルF、4,4'-ビフェノール及び3,3',5,5'-テトラメチル-
4,4'-ビフェノールのジグリシジルエーテルである。一
般式(7)の2官能エポキシ樹脂としてはビスフェノール
アセトフェノン型エポキシ樹脂があげられ、特にビスフ
ェノールアセトフェノンのジグリシジルエーテルが好ま
しい。また、これら以外の併用しても良い2官能エポキ
シ樹脂としては、脂環式エポキシ樹脂、カテコール、レ
ゾルシン、ハイドロキノンなどの単環2価フェノールの
ジグリシジルエーテル、ジヒドロキシナフタレンのジグ
リシジルエーテル、2価アルコールのジグリシジルエー
テル、フタル酸、イソフタル酸、テトラハイドロフタル
酸、ヘキサハイドロフタル酸などの2価カルボン酸のジ
グリシジルエステル等が挙げられる。これらのエポキシ
樹脂はアルキル基、アリール基、エーテル基、エステル
基などの悪影響のない置換基で置換されていても良い。
これらのエポキシ樹脂は複数種を併用して使用すること
もできる。一般式(6)As a method for producing the high molecular weight epoxy resin of the present invention, an epihalohydrin such as epichlorohydrin or epibromhydrin is reacted with a dihydric phenol compound containing the chemical structure of the general formula (2) or (3) in the presence of an alkali. And a one-step method of producing, and at least one kind of a bifunctional epoxy resin containing a chemical structure of general formula (2) or (3) and a dihydric phenol containing a chemical structure of general formula (2) or (3) There is a two-step process in which at least one compound is generally reacted in the presence of a catalyst to produce. The above-mentioned weight average molecular weight and epoxy equivalent are the charged molar ratio of epihalohydrin and dihydric phenol compound, or difunctional epoxy and difunctional epoxy compound.
By adjusting the charged molar ratio of the hydric phenol compound, it is possible to produce a compound having a desired value. The bifunctional epoxy resin used as the raw material for the two-step method is an epoxy resin represented by the general formula (6) or (7), but other resins may be used as long as they do not impair the object of the present invention. Any compound having two epoxy groups may be used together. Examples of the bifunctional epoxy resin represented by the general formula (6) include bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F.
Type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin and other bisphenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin and the like. Particularly preferred among these epoxy resins are bisphenol A, bisphenol F, 4,4'-biphenol and 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-
It is a diglycidyl ether of 4,4'-biphenol. Examples of the bifunctional epoxy resin represented by the general formula (7) include a bisphenolacetophenone type epoxy resin, and a diglycidyl ether of bisphenolacetophenone is particularly preferable. Other bifunctional epoxy resins that may be used in combination include alicyclic epoxy resins, diglycidyl ethers of monocyclic dihydric phenols such as catechol, resorcin, and hydroquinone, diglycidyl ethers of dihydroxynaphthalene, dihydric alcohols. And diglycidyl ester of divalent carboxylic acid such as phthalic acid, isophthalic acid, tetrahydrophthalic acid and hexahydrophthalic acid. These epoxy resins may be substituted with a substituent having no adverse effect such as an alkyl group, an aryl group, an ether group or an ester group.
These epoxy resins may be used in combination of plural kinds. General formula (6)
【0015】[0015]
【化9】 [Chemical 9]
【0016】(式中、R1は互いに同一であっても異な
っていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基
又はハロゲン元素から選ばれる基であり、Xは単結合、
炭素数1〜7の2価の炭化水素基、-O-、-S-、-SO2-、
又は-CO-から選ばれる基であり、nは0〜10の整数で
ある。)
一般式(7)(In the formula, R 1 s may be the same as or different from each other and are a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, X is a single bond,
A divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, -O-, -S-, -SO 2- ,
Or, it is a group selected from -CO-, and n is an integer of 0-10. ) General formula (7)
【0017】[0017]
【化10】 [Chemical 10]
【0018】(式中、R1'は互いに同一であっても異な
っていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基
又はハロゲン元素から選ばれる基であり、R2は、水素
原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素か
ら選ばれる基であり、R3は、水素原子又は炭素数1〜
10の炭化水素基であり、mは0〜5の整数であり、k
は0〜10の整数である。)(In the formula, R 1 'may be the same or different from each other and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, and R 2 is a hydrogen atom. , A group selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen element, and R 3 is a hydrogen atom or a group having 1 to 10 carbon atoms.
10 hydrocarbon groups, m is an integer from 0 to 5, k
Is an integer of 0 to 10. )
【0019】本発明の高分子量エポキシ樹脂の一段法及
び二段法の製造で使用される2価フェノール化合物とし
ては、一般式(8)または(9)で表わされる2価フェノール
化合物であるが、本発明の目的を損なわない限りこれ以
外の分子内に芳香族環に結合した水酸基を2個持つ化合
物を併用しても良い。一般式(8)の2価フェノール化合
物としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノー
ルF、ビスフェノールS、ビスフェノールB、ビスフェノ
ールAD、ビフェノール類などがあげられるが、特にビス
フェノールA、ビスフェノールF、4,4'-ビフェノー
ル、3,3',5,5'-テトラメチル-4,4'-ビフェノールが好ま
しい。一般式(9)の2価フェノール化合物としてはビス
フェノールアセトフェノン類があげられるが特にビスフ
ェノールアセトフェノンが好ましい。またこれら以外の
併用しても良い分子内に芳香族環に結合した水酸基を2
個持つ化合物としては、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン、ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。ま
た、これらはアルキル基、アリール基、エーテル基、エ
ステル基などの悪影響のない置換基で置換されていても
良い。これらの2価フェノール化合物は複数種を併用し
て使用することもできる。
一般式(8)The dihydric phenol compound used in the production of the one-step method and the two-step method of the high molecular weight epoxy resin of the present invention is a divalent phenol compound represented by the general formula (8) or (9), Compounds having two hydroxyl groups bonded to the aromatic ring in the other molecule may be used in combination unless the object of the present invention is impaired. Examples of the divalent phenol compound of the general formula (8) include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, bisphenol B, bisphenol AD, biphenols, and the like, and particularly bisphenol A, bisphenol F, 4,4′- Biphenol and 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-biphenol are preferred. Examples of the dihydric phenol compound of the general formula (9) include bisphenolacetophenones, but bisphenolacetophenone is particularly preferable. Other than these, it may be used in combination with two hydroxyl groups bonded to the aromatic ring in the molecule.
Examples of the individual compound include catechol, resorcin, hydroquinone, dihydroxynaphthalene and the like. Further, these may be substituted with a substituent having no adverse effect, such as an alkyl group, an aryl group, an ether group or an ester group. These dihydric phenol compounds can be used in combination of two or more kinds. General formula (8)
【0020】[0020]
【化11】 [Chemical 11]
【0021】(式中、R1は互いに同一であっても異な
っていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基
又はハロゲン元素から選ばれる基であり、Xは単結合、
炭素数1〜7の2価の炭化水素基、-O-、-S-、-SO2-、
又は-CO-から選ばれる基である。)
一般式(9)(In the formula, R 1 s may be the same or different from each other and are a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, X is a single bond,
A divalent hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms, -O-, -S-, -SO 2- ,
Alternatively, it is a group selected from -CO-. ) General formula (9)
【0022】[0022]
【化12】 [Chemical 12]
【0023】(式中、R1'は互いに同一であっても異な
っていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基
又はハロゲン元素から選ばれる基であり、R2は、水素
原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素か
ら選ばれる基であり、R3は、水素原子又は炭素数1〜
10の炭化水素基であり、mは0〜5の整数である。)(In the formula, R 1 'may be the same or different from each other and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, and R 2 is a hydrogen atom. , A group selected from a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen element, and R 3 is a hydrogen atom or a group having 1 to 10 carbon atoms.
10 is a hydrocarbon group and m is an integer of 0-5. )
【0024】本発明の高分子量エポキシ樹脂の二段法製
造においては、触媒を使用することができ、エポキシ基
とフェノール性水酸基、アルコール性水酸基やカルボキ
シル基との反応を進めるような触媒能を持つ化合物であ
ればどのようなものでもよい。例えば、アルカリ金属化
合物、有機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモニ
ウム塩、環状アミン類、イミダゾール類等があげられ
る。アルカリ金属化合物の具体例としては、水酸化ナト
リウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、等のアルカ
リ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、
塩化ナトリウム、塩化リチウム、塩化カリウム、等のア
ルカリ金属塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエト
キシド、等のアルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属
フェノキシド、水素化ナトリウム、水素化リチウム、
等、酢酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、等の有
機酸のアルカリ金属塩が挙げられる。有機リン化合物の
具体例としては、トリ−n−プロピルホスフィン、トリ
−n−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、テ
トラメチルホスフォニウムブロマイド、テトラメチルホ
スフォニウムアイオダイド、テトラメチルホスフォニウ
ムハイドロオキサイド、トリメチルシクロヘキシルホス
ホニウムクロライド、トリメチルシクロヘキシルホスホ
ニウムブロマイド、トリメチルベンジルホスホニウムク
ロライド、トリメチルベンジルホスホニウムブロマイ
ド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、トリフェ
ニルメチルホスホニウムブロマイド、トリフェニルメチ
ルホスホニウムアイオダイド、トリフェニルエチルホス
ホニウムクロライド、トリフェニルエチルホスホニウム
ブロマイド、トリフェニルエチルホスホニウムアイオダ
イド、トリフェニルベンジルホスホニウムクロライド、
トリフェニルベンジルホスホニウムブロマイド、などが
挙げられる。第3級アミンの具体例としては、トリエチ
ルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミン、ベンジルジメチルア
ミンなどが挙げられる。第4級アンモニウム塩の具体例
としては、テトラメチルアンモニウムクロライド、テト
ラメチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモ
ニウムハイドロオキサイド、トリエチルメチルアンモニ
ウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライ
ド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチ
ルアンモニウムアイオダイド、テトラプロピルアンモニ
ウムブロマイド、テトラプロピルアンモニウムハイドロ
オキサイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テ
トラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアン
モニウムアイオダイド、ベンジルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマ
イド、ベンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド、フ
ェニルトリメチルアンモニウムクロライド、などが挙げ
られる。イミダゾール類の具体例としては、2-メチルイ
ミダゾール、2-エチル-4-メチルイミダゾール、2-フェ
ニルイミダゾールなどが挙げられる。環状アミン類の具
体例としては、1,8-ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン-
7, 1,5-ジアザビシクロ(4,3,0)ノネン-5等が挙げられ
る。これらの触媒は併用することができる。通常、触媒
の使用量は反応固形分に対して0.001〜1重量%で
ある。触媒としてアルカリ金属化合物を使用する場合、
高分子量エポキシ樹脂中にアルカリ金属分が残留し、そ
れを使用したプリント配線板の絶縁特性を悪化させる
為、高分子エポキシ樹脂中のLi,Na及びKの含有量
の合計は好ましくは5ppm以下であり、より好ましく
は4ppm以下であり、更に好ましくは3ppm以下で
ある。5ppm以上では絶縁特性が悪くなり、好ましく
ない。また、有機リン化合物を触媒として使用した場合
も、高分子量エポキシ樹脂中に触媒残渣として残留し、
プリント配線板の絶縁特性を悪化させるので、高分子量
エポキシ樹脂中のリンの含有量は好ましくは150pp
m以下であり、より好ましくは140ppm以下であ
り、更に好ましくは100ppm以下である。150p
pm以上では絶縁特性が悪くなり、好ましくない。In the two-step process for producing the high molecular weight epoxy resin of the present invention, a catalyst can be used and has a catalytic ability to promote the reaction between the epoxy group and the phenolic hydroxyl group, alcoholic hydroxyl group or carboxyl group. Any compound may be used as long as it is a compound. Examples thereof include alkali metal compounds, organic phosphorus compounds, tertiary amines, quaternary ammonium salts, cyclic amines and imidazoles. Specific examples of the alkali metal compound include sodium hydroxide, lithium hydroxide, potassium hydroxide, alkali metal hydroxides such as sodium carbonate, sodium bicarbonate,
Alkali metal salts such as sodium chloride, lithium chloride, potassium chloride, etc., alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, etc., alkali metal phenoxides, sodium hydride, lithium hydride,
Etc., alkali metal salts of organic acids such as sodium acetate, sodium stearate and the like. Specific examples of the organic phosphorus compound include tri-n-propylphosphine, tri-n-butylphosphine, triphenylphosphine, tetramethylphosphonium bromide, tetramethylphosphonium iodide, tetramethylphosphonium hydroxide, Trimethylcyclohexylphosphonium chloride, trimethylcyclohexylphosphonium bromide, trimethylbenzylphosphonium bromide, trimethylbenzylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, triphenylmethylphosphonium bromide, triphenylmethylphosphonium iodide, triphenylethylphosphonium bromide, triphenylethylphosphonium bromide, Triphenylethylphosphonium iodide , Triphenyl benzyl phosphonium chloride,
And triphenylbenzylphosphonium bromide. Specific examples of the tertiary amine include triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triethanolamine, benzyldimethylamine and the like. Specific examples of the quaternary ammonium salt include tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium hydroxide, triethylmethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium iodide, tetrapropylammonium bromide, Tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium iodide, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium hydroxide, benzyltributylammonium chloride Id, phenyl trimethyl ammonium chloride, and the like. Specific examples of the imidazoles include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole and the like. Specific examples of cyclic amines include 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-
7,1,5-diazabicyclo (4,3,0) nonene-5 and the like can be mentioned. These catalysts can be used in combination. Usually, the amount of the catalyst used is 0.001 to 1% by weight based on the reaction solid content. When using an alkali metal compound as a catalyst,
The total content of Li, Na and K in the high molecular weight epoxy resin is preferably 5 ppm or less, since alkali metal remains in the high molecular weight epoxy resin and deteriorates the insulation characteristics of the printed wiring board using the same. Yes, more preferably 4 ppm or less, still more preferably 3 ppm or less. If it is 5 ppm or more, the insulating property is deteriorated, which is not preferable. Also, when an organic phosphorus compound is used as a catalyst, it remains as a catalyst residue in the high molecular weight epoxy resin,
The phosphorus content in the high molecular weight epoxy resin is preferably 150 pp because it deteriorates the insulation characteristics of the printed wiring board.
m or less, more preferably 140 ppm or less, still more preferably 100 ppm or less. 150p
When it is pm or more, the insulating property is deteriorated, which is not preferable.
【0025】本発明における高分子量エポキシ樹脂は、
その製造時の合成反応の工程において溶媒を用いても良
く、その溶媒としては高分子量エポキシ樹脂を溶解し、
反応に悪影響のないものであればどのようなものでも良
い。例えば、芳香族系炭化水素、ケトン類、アミド系溶
媒、グリコールエーテル類などが挙げられる。芳香族系
炭化水素の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レンなどが挙げられる。ケトン類としては、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘ
プタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、シクロヘ
キサノン、アセチルアセトン、ジオキサンなどが挙げら
れる。アミド系溶媒の具体例としては、ホルムアミド、
N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−
ジメチルアセトアミド、2−ピロリドン、N−メチルピ
ロリドンなどが挙げられる。グリコールエーテル類の具
体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、
ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ−
n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテートなどが挙げられる。これらの溶媒は
2種以上併用することができる。使用する溶媒の量は反
応条件に応じて適宜選択することが出来るが、例えば二
段法製造時の場合は固形分濃度が35%〜95%となる
ようにすることが好ましい。また、反応中に高粘性生成
物が生じる場合は反応途中で溶媒を添加して反応を続け
ることができる。反応終了後、溶媒は必要に応じて蒸留
等により除去することもできるし、更に追加することも
できる。本発明の高分子量エポキシ樹脂の二段法製造時
の反応温度は使用する触媒が分解しない程度の温度範囲
で行う。反応温度は、好ましくは50〜230℃、より
好ましくは120〜200℃である。アセトンやメチル
エチルケトンのような低沸点溶媒を使用する場合には、
オートクレーブを使用して高圧下で反応を行うことで反
応温度を確保することができる。The high molecular weight epoxy resin of the present invention is
A solvent may be used in the step of the synthetic reaction during the production, and a high molecular weight epoxy resin is dissolved as the solvent,
Any substance may be used as long as it does not adversely affect the reaction. Examples thereof include aromatic hydrocarbons, ketones, amide solvents, glycol ethers and the like. Specific examples of the aromatic hydrocarbon include benzene, toluene, xylene and the like. As the ketones, acetone,
Methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, 2-octanone, cyclohexanone, acetylacetone, dioxane and the like can be mentioned. Specific examples of the amide solvent include formamide,
N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-
Dimethylacetamide, 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidone and the like can be mentioned. Specific examples of glycol ethers include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether,
Diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono-
Examples include n-butyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate. Two or more of these solvents can be used in combination. The amount of the solvent used can be appropriately selected according to the reaction conditions, but for example, in the case of the two-step process, it is preferable that the solid content concentration is 35% to 95%. When a highly viscous product is produced during the reaction, the reaction can be continued by adding a solvent during the reaction. After the completion of the reaction, the solvent may be removed by distillation or the like, if necessary, and further added. The reaction temperature during the two-step process for producing the high molecular weight epoxy resin of the present invention is within a temperature range in which the catalyst used does not decompose. The reaction temperature is preferably 50 to 230 ° C, more preferably 120 to 200 ° C. When using a low boiling solvent such as acetone or methyl ethyl ketone,
The reaction temperature can be secured by carrying out the reaction under high pressure using an autoclave.
【0026】本発明の高分子量エポキシ樹脂を必須成分
とする電気積層板用樹脂組成物には、当該高分子量エポ
キシ樹脂以外のエポキシ樹脂、エポキシ樹脂以外の熱硬
化性樹脂、硬化剤、硬化促進剤、溶剤、無機充填剤、繊
維基材等種々の材料を併用することが出来る。併用する
ことが出来るエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェ
ノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ
樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェニル型
エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、
クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール類と
グリオキサールやヒドロキシベンズアルデヒドやクロト
ンアルデヒド等のアルデヒド類との縮合ノボラック類に
エピハロヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂な
どのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエ
ステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹
脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複
素環式エポキシ樹脂等の種々のエポキシ樹脂が挙げられ
る。エポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂としては、ポリイ
ミド樹脂、熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂、シア
ネートエステル樹脂などを使用することができる。硬化
剤としては、例えば、芳香族ポリアミン類、ジシアンジ
アミド、酸無水物類、各種フェノールノボラック樹脂等
が挙げられる。また、硬化促進剤としては、例えばベン
ジルジメチルアミン、各種のイミダゾール系化合物等の
アミン類、トリフェニルホスフィンなどの三級ホスフィ
ン類等が挙げられる。溶剤としては、例えばアセトン、
メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、メチルイソ
ブチルケトン、酢酸エチル、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド、メタノール、エタノールなど
が挙げられ、これらの溶剤は適宜2種又はそれ以上混合
して使用することが出来る。その他、保存安定性の為の
紫外線防止剤、可塑剤等、無機充填材として水酸化アル
ミニウム、アルミナ、炭酸カルシウム、シリカ等、カッ
プリング剤としてシランカップリング剤、チタネート系
カップリング剤なども使用可能である。繊維基材として
は例えばガラス布等の無機繊維布、ガラス繊維不織布、
有機繊維不織布等があげられる。また、難燃性を付与す
る為に、ハロゲン系、P系、N系、シリコン系等の難燃
剤等を添加しても良い。これらの樹脂組成物は従来の多
層電気積層板やビルドアップ法等の新しいプリント配線
板に使用できる。特に、ビルドアップ法プリント配線板
用材料として使用される樹脂付き銅箔、接着フィルム等
の形態での使用が好ましい。ビルドアップ法を説明す
る。ガラスプリプレグを積層した内層回路板上に、40〜
90μmのフィルム(絶縁層)あるいは、銅箔付きのフィル
ム(銅箔:9〜18μm)をビルドアップ層として積層してい
く方法であり、一般的に回路形成工程として、積層プレ
ス工程・穴あけ(レーザーorドリル)工程・デスミア/
メッキ工程となる。そして、従来の積層板に比べ同性能
のものなら、実装面積・重量ともに約1/4になる、小型
・軽量化のための優れた工法である。特に、本発明の高
分子量エポキシ樹脂は、フィルム化に適しておりビルド
アップ絶縁層として好適に使用することが出来る。The resin composition for electric laminates containing the high molecular weight epoxy resin of the present invention as an essential component includes an epoxy resin other than the high molecular weight epoxy resin, a thermosetting resin other than the epoxy resin, a curing agent, and a curing accelerator. Various materials such as a solvent, an inorganic filler, and a fiber base material can be used in combination. Examples of the epoxy resin that can be used in combination include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin,
Cresol novolac type epoxy resins, condensation of phenols with aldehydes such as glyoxal, hydroxybenzaldehyde, crotonaldehyde, etc. Glycidyl ether type epoxy resins such as epoxy resins obtained by reacting epihalohydrin with novolaks, glycidyl ester type epoxy resins, glycidyl Examples include various epoxy resins such as amine type epoxy resins, linear aliphatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and heterocyclic epoxy resins. As the thermosetting resin other than the epoxy resin, a polyimide resin, a thermosetting polyphenylene ether resin, a cyanate ester resin, or the like can be used. Examples of the curing agent include aromatic polyamines, dicyandiamide, acid anhydrides, various phenol novolac resins, and the like. Examples of the curing accelerator include benzyldimethylamine, amines such as various imidazole compounds, and tertiary phosphines such as triphenylphosphine. As the solvent, for example, acetone,
Methyl ethyl ketone, toluene, xylene, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N
-Dimethylacetamide, methanol, ethanol and the like can be mentioned, and these solvents can be used by appropriately mixing two or more kinds. In addition, UV inhibitors, plasticizers, etc. for storage stability, aluminum hydroxide, alumina, calcium carbonate, silica, etc. as inorganic fillers, silane coupling agents, titanate coupling agents, etc. can be used as coupling agents. Is. Examples of the fiber substrate include inorganic fiber cloth such as glass cloth, glass fiber non-woven fabric,
Examples include organic fiber nonwoven fabrics. Further, in order to impart flame retardancy, halogen-based, P-based, N-based, silicon-based, etc. flame retardants may be added. These resin compositions can be used for conventional multilayer electric laminates and new printed wiring boards such as build-up methods. In particular, it is preferably used in the form of a resin-coated copper foil, an adhesive film or the like used as a material for build-up method printed wiring boards. Explain the build-up method. 40 ~ on the inner layer circuit board laminated with glass prepreg
This is a method of stacking a 90 μm film (insulating layer) or a film with a copper foil (copper foil: 9 to 18 μm) as a build-up layer. or drill) process / desmear /
It becomes a plating process. And if it has the same performance as the conventional laminated board, the mounting area and weight are about 1/4, which is an excellent method for downsizing and weight reduction. In particular, the high molecular weight epoxy resin of the present invention is suitable for forming a film and can be preferably used as a build-up insulating layer.
【0027】[0027]
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて更に説明す
るが本発明はこれに限定されるものではない。実施例に
おいて、「部」は全て重量部を示す。
実施例1〜3、比較例1〜4
表1に示した配合で化合物(X)、化合物(Y)、触媒および
シクロヘキサノン55重量部を撹拌機付き耐圧反応容器
に入れ、窒素ガス雰囲気下180℃で5時間、反応を行
った。反応生成物から定法により溶剤を除去した後、得
られた樹脂の性状値分析を次の方法で行った。
重量平均分子量:ゲル浸透クロマトグラフィーによって
ポリスチレン換算値として測定。
エポキシ当量:電位差滴定法により測定し、樹脂固形分
としての値に換算。
Li,Na,K含有量:原子吸光法で測定し、樹脂固形
分としての値に換算。
リン含有量:蛍光X線装置で測定し、樹脂固形分として
の値に換算。
ε(1MHz):横川ヒューレットパッカード社製、HP4192A
を用いて測定。
tanδ(1MHz):横川ヒューレットパッカード社製、HP419
2Aを用いて測定。
吸水率:85℃/85%RHにて、168時間後の値を
測定。
高分子量樹脂フィルムの180度折り曲げ耐性:得られ
た高分子量フェノキシ樹脂をフィルム化して、180度
に折り曲げた時に、フィルムに亀裂が入り、割れるか、
割れないかを調べた。
ガラス転移温度:DSCにより、測定。
分析結果は、表1に示した。表1に示したように本発明
の高分子量エポキシ樹脂は低誘電率(ε)、低誘電損失(t
anδ)、低吸水性に優れている。EXAMPLES The present invention will be further described below based on examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, all "parts" indicate parts by weight. Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 Compound (X), compound (Y), catalyst and 55 parts by weight of cyclohexanone having the formulations shown in Table 1 were placed in a pressure resistant reaction vessel equipped with a stirrer and placed under a nitrogen gas atmosphere at 180 ° C. The reaction was carried out for 5 hours. After removing the solvent from the reaction product by a conventional method, the obtained resin was analyzed for its property value by the following method. Weight average molecular weight: Measured as a polystyrene conversion value by gel permeation chromatography. Epoxy equivalent: measured by potentiometric titration method and converted to a value as resin solid content. Li, Na, K content: measured by atomic absorption method and converted into a value as resin solid content. Phosphorus content: measured with a fluorescent X-ray apparatus and converted into a value as a resin solid content. ε (1MHz): Yokogawa Hewlett-Packard Company, HP4192A
Measured using. tanδ (1MHz): Yokogawa Hewlett Packard, HP419
Measured using 2A. Water absorption rate: Measured after 168 hours at 85 ° C./85% RH. 180 degree bending resistance of the high molecular weight resin film: When the obtained high molecular weight phenoxy resin is formed into a film and bent at 180 degrees, cracks are formed in the film, or cracking occurs.
I checked if it would break. Glass transition temperature: measured by DSC. The analysis results are shown in Table 1. As shown in Table 1, the high molecular weight epoxy resin of the present invention has a low dielectric constant (ε) and a low dielectric loss (t).
anδ), excellent in low water absorption.
【0028】[0028]
【表1】 [Table 1]
【0029】(註)
A: ビスフェノールA ジグリシジルエーテル(エポ
キシ当量:186g/eq、加水分解性塩素濃度:40wtppm、
αグリコール基濃度:40meq/kg、商品名:ジャパンエ
ポキシレジン株式会社製エピコート828)
B: ビスフェノールF ジグリシジルエーテル(エポ
キシ当量:168g/eq、加水分解性塩素濃度:50wtppm、
αグリコール基濃度:60meq/kg、商品名:ジャパンエ
ポキシレジン株式会社製エピコート806)
C: 3、3´、5、5´−テトラメチル−4、4´−ビフ
ェノールジグリシジルエーテル(エポキシ当量:185
g/eq、加水分解性塩素濃度:40wtppm、αグリコール基
濃度:50meq/kg、商品名:ジャパンエポキシレジン株
式会社製エピコートYX4000)
D: ビスフェノールA(フェノール性水酸基当量:114g
/eq)
E: ビスフェノールアセトフェノン(フェノール性
水酸基:145g/eq)
F: 50wt%テトラメチルアンモニウムクロライド水溶
液
G: 20wt%水酸化ナトリウム水溶液(Na含有量:11.
50wt%)
H: 29wt%テトラメチルアンモニウムハイドロオキサ
イド(窒素含有量:4.46wt%)
I: トリフェニルホスフィン(リン含有率:11.83wt
%)(Note) A: Bisphenol A diglycidyl ether (epoxy equivalent: 186 g / eq, hydrolyzable chlorine concentration: 40 wtppm,
α glycol group concentration: 40 meq / kg, product name: Epikote 828 manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. B: Bisphenol F diglycidyl ether (epoxy equivalent: 168 g / eq, hydrolyzable chlorine concentration: 50 wtppm,
α-glycol group concentration: 60 meq / kg, trade name: Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Epicoat 806) C: 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol diglycidyl ether (epoxy equivalent: 185)
g / eq, hydrolyzable chlorine concentration: 40 wtppm, α glycol group concentration: 50 meq / kg, trade name: Japan Epoxy Resin Co., Ltd. Epicoat YX4000) D: Bisphenol A (phenolic hydroxyl equivalent: 114 g
/ eq) E: Bisphenolacetophenone (phenolic hydroxyl group: 145 g / eq) F: 50 wt% tetramethylammonium chloride aqueous solution G: 20 wt% sodium hydroxide aqueous solution (Na content: 11.
50wt%) H: 29wt% tetramethylammonium hydroxide (nitrogen content: 4.46wt%) I: triphenylphosphine (phosphorus content: 11.83wt
%)
【0030】実施例4〜6、比較例5〜6
実施例1、2、3及び比較例3、4で得られた高分子量
エポキシ樹脂および市販のエポキシ樹脂を使用して表2
に示す配合割合でワニスを作成してガラス布(スタイル
7628、処理AS750、厚み0.180mm、旭シュエーベル
(株)製)に含浸させた後、150℃の乾燥室中でその
含浸布を8分間乾燥させ、Bステージ状のプリプレグを
得た。このプリプレグを切断して得たプリプレグ8枚と
銅箔(電解銅箔CF-T8、厚み35μm、福田金属箔粉工業
(株)製)1枚とを重ね、40kgf/cm2で加圧しながら
175℃で120分間加圧加熱して積層板とした。この
ようにして得られた積層板の物性を表2に示す。本発明
の高分子量エポキシ樹脂を用いた積層板は耐熱性(ガラ
ス転移温度)、耐沸騰水性および接着性に優れている。Examples 4-6, Comparative Examples 5-6 Using the high molecular weight epoxy resins obtained in Examples 1, 2, 3 and Comparative Examples 3, 4 and commercially available epoxy resins, Table 2
After making a varnish with the compounding ratio shown in (1) and impregnating it with a glass cloth (Style 7628, treated AS750, thickness 0.180 mm, manufactured by Asahi Schebel Co., Ltd.), the impregnated cloth is dried for 8 minutes in a drying chamber at 150 ° C. Then, a B-stage prepreg was obtained. Eight prepregs obtained by cutting this prepreg and one copper foil (electrolytic copper foil CF-T8, thickness 35 μm, manufactured by Fukuda Metal Foil & Powder Co., Ltd.) were stacked, and pressed at 40 kgf / cm 2 for 175. A laminated plate was obtained by heating under pressure at 120 ° C. for 120 minutes. Table 2 shows the physical properties of the thus obtained laminate. The laminate using the high molecular weight epoxy resin of the present invention is excellent in heat resistance (glass transition temperature), boiling water resistance and adhesiveness.
【0031】[0031]
【表2】 [Table 2]
【0032】(註)
(1)成形条件 :実施例及び比較例とも、175℃×120
分×40kgf/cm2
(2)ワニスの保存安定性評価…40℃×168時間後
の粘度上昇率を測定。粘度測定方法は、毛細管粘度計:
キャノンフェンスケ粘度計(25℃)により測定。
(3)硬化物性の試験方法及び評価方法
2−1:ガラス転移温度DSCにより測定
2−2:耐沸騰水性(耐水性の加速試験として実施)
円板状硬化物(直径50mm×厚さ3mm、
硬化条件80℃×10時間+120℃×2時間+175
℃×2時間)を98℃以上の沸騰水に4時間浸漬した
後、異常の有無を目視により判定し、下記の基準により
評価した。
A…異常なし
B…一部で白色に変色
C…全面で白色に変色
2−3:ピール強度
JIS C 6481
(4)使用した市販エポキシ樹脂、フェノール樹脂は下
記の通りである。
エピコート1001 :ジャパンエポキシレジン株式会
社商品名、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ
当量470(g/eq)、可鹸化塩素量150(ppm)
エピコート180S75 :ジャパンエポキシレジン株式会社
商品名、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキ
シ当量220(g/eq)、可鹸化塩素量70(ppm)
レジトップPSM4261 :群栄化学社商品名、フェノール
ノボラック樹脂、水酸基当量103(g/eq)、軟化点8
5(℃)(Note) (1) Molding conditions: 175 ° C. × 120 in both Examples and Comparative Examples
Min × 40 kgf / cm 2 (2) Evaluation of storage stability of varnish ... Viscosity increase rate after 40 ° C. × 168 hours was measured. Viscosity measurement method, capillary viscometer:
Measured with a Canon Fenske viscometer (25 ° C). (3) Test method and evaluation method of cured physical properties 2-1: Measured by glass transition temperature DSC 2-2: Boiling water resistance (performed as an accelerated water resistance test) Disc-shaped cured material (diameter 50 mm x thickness 3 mm, Curing conditions 80 ° C x 10 hours + 120 ° C x 2 hours +175
After being dipped in boiling water of 98 ° C. or higher for 4 hours, the presence or absence of abnormality was visually determined and evaluated according to the following criteria. A: No abnormality B: Partly changed to white C: Totally changed to white 2-3: Peel strength JIS C 6481 (4) Commercially available epoxy resin and phenol resin used are as follows. Epicoat 1001: Japan Epoxy Resin Co., Ltd. product name, bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 470 (g / eq), saponifiable chlorine amount 150 (ppm) Epicoat 180S75: Japan Epoxy Resin Co., Ltd. product name, cresol novolac type epoxy resin , Epoxy equivalent 220 (g / eq), Saponifiable chlorine amount 70 (ppm) REGITOP PSM4261: Trade name of Gunei Chemical Co., phenol novolac resin, hydroxyl equivalent 103 (g / eq), softening point 8
5 (℃)
【0033】[0033]
【発明の効果】本発明の高分子量エポキシ樹脂及び電気
積層板用樹脂組成物は、耐熱性(ガラス転移温度)、可
撓性、低誘電率(ε)、低誘電損失(tanδ)、低吸水率に
優れ、特に低誘電率特性を必要とする電気積層板用途に
おいて有用である。The high molecular weight epoxy resin and the resin composition for electric laminates of the present invention have heat resistance (glass transition temperature), flexibility, low dielectric constant (ε), low dielectric loss (tan δ) and low water absorption. It has a high dielectric constant, and is particularly useful for electrical laminate applications that require low dielectric constant characteristics.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J036 AA05 AA06 AD07 AD08 AD20 AF06 AF08 AG00 AH00 BA02 DB15 DC10 DC31 DC41 DD07 FB08 JA08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page F term (reference) 4J036 AA05 AA06 AD07 AD08 AD20 AF06 AF08 AG00 AH00 BA02 DB15 DC10 DC31 DC41 DD07 FB08 JA08
Claims (10)
均分子量が10,000〜200,000の高分子量エ
ポキシ樹脂。 一般式(1) 【化1】 (式中、Aは下記一般式(2)または(3)で表わされ
る化学構造であり、Aが一般式(3)である割合が一般
式(1)中の5モル%以上であり、Bは水素原子、また
は下記一般式(4)で表される基であり、nは平均値で
25〜500の数である。) 一般式(2) 【化2】 (式中、R1は互いに同一であっても異なっていてもよ
く水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン
元素から選ばれる基であり、Xは単結合、炭素数1〜7
の2価の炭化水素基、-O-、-S-、-SO2-、又は-CO-から
選ばれる基である。) 一般式(3) 【化3】 (式中、R1'は互いに同一であっても異なっていてもよ
く水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン
元素から選ばれる基であり、R2は、水素原子、炭素数
1〜10の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基
であり、R3は、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水
素基であり、mは0〜5の整数である。) 一般式(4) 【化4】 1. A high molecular weight epoxy resin represented by the following general formula (1) and having a weight average molecular weight of 10,000 to 200,000. General formula (1) (In the formula, A is a chemical structure represented by the following general formula (2) or (3), and the ratio of A being the general formula (3) is 5 mol% or more in the general formula (1), and B is Is a hydrogen atom or a group represented by the following general formula (4), and n is an average value of 25 to 500.) General formula (2) (In the formula, R 1 s may be the same or different from each other and are a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, and X is a single bond or 1 to 7 carbon atoms.
Is a divalent hydrocarbon group selected from -O-, -S-, -SO 2- , or -CO-. ) General formula (3) (In the formula, R 1 ′ may be the same or different from each other and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a group selected from halogen elements, and R 2 is a hydrogen atom or a carbon number. It is a hydrocarbon group of 1 to 10 or a group selected from halogen elements, R 3 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, and m is an integer of 0 to 5.) General formula ( 4) [Chemical 4]
が、5,000g/当量以上であることを特徴とする請求
項1に記載された高分子量エポキシ樹脂。2. The high molecular weight epoxy resin according to claim 1, wherein the epoxy equivalent of the high molecular weight epoxy resin is 5,000 g / equivalent or more.
i、Na及びKの合計量が5ppm以下であり、かつ燐
の含有量が150ppm以下であることを特徴とする請
求項1又は2に記載された高分子量エポキシ樹脂。3. L contained in a high molecular weight epoxy resin
The high molecular weight epoxy resin according to claim 1 or 2, wherein the total amount of i, Na and K is 5 ppm or less and the phosphorus content is 150 ppm or less.
含有する2価フェノール化合物と、エピハロヒドリンを
アルカリ存在下で反応させることを特徴とする、請求項
1ないし3のいずれか1項に記載された高分子量エポキ
シ樹脂の製造方法。4. The dihydric phenol compound containing the chemical structure of the general formula (2) or (3) and epihalohydrin are reacted in the presence of an alkali, and the dihydric phenol compound is reacted. The method for producing a high molecular weight epoxy resin described in 1.
含有する2官能エポキシ樹脂と、一般式(2)または
(3)の化学構造を含有する2価フェノール化合物を触
媒の存在下で反応させることを特徴とする、請求項1〜
3のいずれか1項に記載された高分子量エポキシ樹脂の
製造方法。5. A bifunctional epoxy resin containing the chemical structure of general formula (2) or (3) and a divalent phenol compound containing the chemical structure of general formula (2) or (3) in the presence of a catalyst. The reaction is carried out according to
The method for producing a high molecular weight epoxy resin according to any one of 3 above.
た、請求項5に記載された高分子量エポキシ樹脂の製造
方法。6. The method for producing a high molecular weight epoxy resin according to claim 5, wherein the reaction temperature is in the range of 50 ° C. to 230 ° C.
された高分子量エポキシ樹脂を配合してなる電気積層板
用樹脂組成物。7. A resin composition for an electric laminate, which is prepared by blending the high molecular weight epoxy resin according to any one of claims 1 to 3.
された高分子量エポキシ樹脂、熱硬化性樹脂、硬化剤お
よび硬化促進剤を必須成分とする電気積層板用樹脂組成
物。8. A resin composition for an electric laminate, which comprises, as essential components, the high molecular weight epoxy resin according to any one of claims 1 to 3, a thermosetting resin, a curing agent and a curing accelerator.
れか1項に記載された当該高分子量エポキシ樹脂以外の
エポキシ樹脂である、請求項8に記載された電気積層板
用樹脂組成物。9. The resin composition for electric laminates according to claim 8, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin other than the high molecular weight epoxy resin according to any one of claims 1 to 3. .
載された電気積層板用樹脂組成物から得られる電気積層
板。10. An electric laminate obtained from the resin composition for electric laminates according to claim 7.
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