JP2003222890A - Liquid crystal display - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 周囲光の状態によらず、光の利用効率が高
く、かつ高品位な表示が可能なアクティブマトリックス
型液晶表示装置を得る。
【解決手段】 スイッチング素子5は、第1および第2
のスイッチング素子5a・5bからなる。補助容量素子
は、反射用補助容量素子と透過用補助容量素子とを有す
る。第1および第2のゲート配線3a・3bとに入力さ
れる各ゲート信号の振幅と、上記第1および第2のスイ
ッチング素子5a・5bの各ゲート−ドレイン電極間の
寄生容量と、上記反射用画素電極2a部と透過用画素電
極2b部との各液晶層29の容量と、上記反射用補助容
量素子と透過用補助容量素子との各容量とを、スイッチ
ング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧
からの電圧シフト量と、透過用画素電極電位のソース信
号電圧からの電圧シフト量とが同じになるように設定す
る。
(57) [Problem] To provide an active matrix type liquid crystal display device having high light use efficiency and capable of high quality display regardless of the state of ambient light. A switching element includes first and second switching elements.
Switching elements 5a and 5b. The auxiliary capacitance element has a reflection auxiliary capacitance element and a transmission auxiliary capacitance element. The amplitude of each gate signal input to the first and second gate lines 3a and 3b, the parasitic capacitance between each gate-drain electrode of the first and second switching elements 5a and 5b, The capacitance of each liquid crystal layer 29 of the pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b and the capacitance of each of the reflection auxiliary capacitance element and the transmission auxiliary capacitance element are set to the reflection pixel electrode potential generated at the time of switching. The amount of voltage shift from the source signal voltage and the amount of voltage shift of the transmission pixel electrode potential from the source signal voltage are set to be the same.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射用画素電極と
透過用画素電極とを備えるアクティブマトリックス型の
液晶表示装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device having reflective pixel electrodes and transmissive pixel electrodes.
【0002】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置は、薄型で低消費電力であ
るという特徴を生かして、ワードプロセッサやパーソナ
ルコンピュータなどのOA機器や、電子手帳等の携帯情
報機器、あるいは、液晶モニターを備えたカメラ一体型
VTR等に広く用いられている。また、直視型の液晶表
示装置には、画素電極にITO(Indium Tin Oxide)等
の透明導電性薄膜を用いた透過型液晶表示装置と、画素
電極に金属などの反射電極を用いた反射型液晶表示装置
とがある。2. Description of the Related Art A liquid crystal display device is characterized by its thinness and low power consumption, and is utilized in office automation equipment such as word processors and personal computers, portable information equipment such as electronic notebooks, and camera devices equipped with a liquid crystal monitor. Widely used for body-shaped VTRs and the like. The direct-view liquid crystal display device includes a transmissive liquid crystal display device using a transparent conductive thin film such as ITO (Indium Tin Oxide) for a pixel electrode and a reflective liquid crystal display device using a reflective electrode such as a metal for the pixel electrode. There is a display device.
【0003】上記反射型表示装置に用いられる表示モー
ドには、現在透過型で広く用いられているTN(ツイス
テッドネマティック)モード、STN(スーパーツイス
テッドネマティック)モードといった偏光板を利用する
モードや、偏光板を用いないため明るい表示が実現でき
る相転移ゲストホストモードも近年盛んに開発が行われ
ている。The display modes used in the above-mentioned reflective display device include a mode using a polarizing plate such as a TN (twisted nematic) mode and an STN (super twisted nematic) mode which are widely used at present, and a polarizing plate. The phase transition guest-host mode, which can realize bright display because it does not use, has been actively developed in recent years.
【0004】また、上記液晶表示装置の液晶パネルは、
CRT(ブラウン管)やEL(エレクトロルミネッセン
ス)表示装置とは異なり、自らは発光しない。そこで、
透過型液晶表示装置の場合には、バックライトと呼ばれ
る蛍光管を備えた装置を背後に設置して、バックライト
からの光の透過により表示を行っている。また、反射型
液晶表示装置の場合には、周囲からの入射光を上記反射
電極により反射させることで表示を行っている。Further, the liquid crystal panel of the above liquid crystal display device is
Unlike CRT (cathode ray tube) and EL (electroluminescence) display devices, they do not emit light by themselves. Therefore,
In the case of a transmissive liquid crystal display device, a device provided with a fluorescent tube called a backlight is installed in the back, and a display is performed by transmitting light from the backlight. Further, in the case of a reflective liquid crystal display device, display is performed by reflecting incident light from the surroundings by the reflective electrode.
【0005】なお、上記透過型液晶表示装置は、上述し
たとおり、バックライトを用いて表示を行うために、周
囲の明るさにさほど影響されることなく、明るくてコン
トラストの高い表示を行うことができる。しかし、通
常、バックライトは透過型液晶表示装置の全消費電力の
うち50%以上を占めるため、バックライトを設けるこ
とにより消費電力が多くなってしまう。さらに、周囲光
が非常に明るい場合、例えば晴天下においては、周囲光
に比べて表示光が暗く見え、視認性が低下してしまうと
いう問題を有している。Since the transmissive liquid crystal display device performs display using a backlight as described above, it is possible to perform bright and high-contrast display without being significantly affected by ambient brightness. it can. However, since the backlight normally occupies 50% or more of the total power consumption of the transmissive liquid crystal display device, the power consumption is increased by providing the backlight. Further, when the ambient light is very bright, for example, in fine weather, the display light appears darker than the ambient light, and the visibility is deteriorated.
【0006】一方、上記反射型液晶表示装置は、バック
ライトを必要としないため消費電力を少なくすることが
できるが、周囲の明るさなどの使用環境等により表示の
明るさやコントラストが左右され、特に周囲光が暗い場
合には視認性が極端に低下するという問題点を有してい
る。On the other hand, the reflective liquid crystal display device does not require a backlight and thus can reduce power consumption, but the brightness and contrast of the display are influenced by the environment of use such as the ambient brightness, and in particular, When the ambient light is dark, there is a problem that visibility is extremely deteriorated.
【0007】そこで、上記の問題点を解消するために、
特開平7−333598号公報には、入射光をある反射
率と透過率とで反射および透過させる半透過反射膜を用
いることにより、透過型表示と反射型表示との両方の表
示を1つの液晶パネルで実現する構成が開示されてい
る。Therefore, in order to solve the above problems,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-333598 uses a semi-transmissive reflective film that reflects and transmits incident light with a certain reflectance and a certain transmittance so that both the transmissive display and the reflective display are displayed on a single liquid crystal display. A configuration realized by a panel is disclosed.
【0008】しかしながら、上記半透過反射膜を金属薄
膜により形成する場合には、吸収係数の大きな材料を用
いる必要があり、そのため入射光の内部吸収が大きくな
り、表示に利用されない散乱光が生じてしまうため、光
の利用効率が悪くなる。また、1画素の反射率と透過率
とを制御して半透明膜と同じ効果を得るために、上記金
属薄膜に微細な穴を形成する場合には、該金属薄膜の構
造があまりにも微細なために制御が難しく、均一な特性
を有する膜の生産が困難であるという問題点を有する。However, when the semi-transmissive reflective film is formed of a metal thin film, it is necessary to use a material having a large absorption coefficient, which increases the internal absorption of incident light and causes scattered light that is not used for display. As a result, the efficiency of light utilization deteriorates. Further, in the case where fine holes are formed in the metal thin film in order to control the reflectance and the transmittance of one pixel to obtain the same effect as the semitransparent film, the structure of the metal thin film is too fine. Therefore, it is difficult to control, and it is difficult to produce a film having uniform characteristics.
【0009】そこで、上記の問題点を解消するために、
特開平11−101992号公報には、図13に示すよ
うに、同一画素内に金属膜からなる反射領域26と透明
導電膜からなる透過領域28とを形成することにより光
を効率的に利用し、かつ生産性に優れた液晶表示装置が
開示されている。また、この液晶表示装置では、反射領
域と透過領域との液晶の厚みを変えることにより、反射
領域と透過領域との光路長を揃え、光の利用効率を高め
ている。Therefore, in order to solve the above problems,
In JP-A-11-101992, as shown in FIG. 13, light is efficiently utilized by forming a reflective region 26 made of a metal film and a transmissive region 28 made of a transparent conductive film in the same pixel. A liquid crystal display device which is excellent in productivity is disclosed. Further, in this liquid crystal display device, the optical path lengths of the reflective region and the transmissive region are made uniform by changing the thickness of the liquid crystal in the reflective region and the transmissive region, and the light utilization efficiency is improved.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の同一画素内に金属膜からなる反射領域 (反射用画素
電極)26と透明導電膜からなる透過領域 (透過用画素
電極)28とを形成した液晶表示装置では、後述するよ
うに、反射領域26の最適対向電圧と透過領域28の最
適対向電圧とが互いに異なるために、各々の最適対向電
圧からのずれ分だけ常に液晶層にDCバイアス電圧が印
加されることになる。なお、上記最適対向電圧とは、D
C電圧の印加による液晶の劣化を防止するために、液晶
層に印加されるプラス電位とマイナス電位との絶対値が
等しくなるように、対向電極の電圧を補正したときの対
向電極電圧をいう。ここで、上記最適対向電圧が互いに
異なる理由について説明する。However, a reflective region (reflective pixel electrode) 26 made of a metal film and a transmissive region (transmissive pixel electrode) 28 made of a transparent conductive film are formed in the same conventional pixel as described above. In the liquid crystal display device, since the optimum counter voltage of the reflective region 26 and the optimum counter voltage of the transmissive region 28 are different from each other, as will be described later, a DC bias voltage is always applied to the liquid crystal layer by a deviation from each optimum counter voltage. Will be applied. The optimum counter voltage is D
In order to prevent the deterioration of the liquid crystal due to the application of the C voltage, it is the counter electrode voltage when the voltage of the counter electrode is corrected so that the absolute values of the positive potential and the negative potential applied to the liquid crystal layer become equal. Here, the reason why the optimum opposing voltages are different from each other will be described.
【0011】上記各領域26・28の画素電極に印加さ
れるドレイン電圧は、ソース電圧とは一致せず、ゲート
を閉じた瞬間にソース電圧から、例えば、以下の式
(1)により求められるΔVdだけシフトする。The drain voltage applied to the pixel electrode in each of the regions 26 and 28 does not match the source voltage, and ΔVd obtained from the source voltage at the moment when the gate is closed, for example, by the following equation (1). Only shift.
【0012】
ΔVd=(ΔVg×Cgd/(Cgd+Clc+Ccs)) … (1)
なお、ゲート電極−ドレイン電極間の寄生容量をCg
d、液晶層の容量をClc、補助容量素子の容量 (補助
容量)をCcs、および、ゲート電位差をΔVgとす
る。ΔVd = (ΔVg × Cgd / (Cgd + Clc + Ccs)) (1) Note that the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode is Cg.
d, the capacitance of the liquid crystal layer is Clc, the capacitance of the auxiliary capacitance element (auxiliary capacitance) is Ccs, and the gate potential difference is ΔVg.
【0013】また、上記従来の液晶表示装置では、反射
領域と透過領域との液晶の厚みを異なるように変えてい
るため、液晶層の容量Clcは互いに異なる値となる。
また、上記液晶表示装置では、該液晶装置の構成上、ゲ
ート電極−ドレイン電極間の寄生容量Cgd、補助容量
Ccs、および、ゲート電位差ΔVgは、各領域26・
28とも同一である。したがって、反射領域26と透過
領域28とにおける各電圧のシフト値は相違する。それ
ゆえ、反射領域26の最適対向電圧と透過領域28の最
適対向電圧とは異なることになる。Further, in the above-mentioned conventional liquid crystal display device, since the thickness of the liquid crystal in the reflective region and the thickness in the transmissive region are different, the capacitance Clc of the liquid crystal layer has different values.
Further, in the above liquid crystal display device, the parasitic capacitance Cgd between the gate electrode and the drain electrode, the auxiliary capacitance Ccs, and the gate potential difference ΔVg are different in each region 26.
28 is the same. Therefore, the shift value of each voltage in the reflection area 26 and the transmission area 28 is different. Therefore, the optimum counter voltage of the reflective region 26 and the optimum counter voltage of the transmissive region 28 are different.
【0014】つまり、図14(a)〜(e)に示すよう
に、反射用画素電極26のゲート電位差ΔVg(r)と
透過用画素電極28のゲート電位差ΔVg(t)とが同
一となるゲート信号を入力しても、反射用画素電極電位
のソース信号電圧からの電圧シフト量(反射用画素電極
26のシフト量)ΔVd(r)と透過用画素電極電位の
該ソース信号電圧からの電圧シフト量 (透過用画素電極
28のシフト量)ΔVd(t)とが異なるために、反射
用画素電極26の最適対向電圧Vo(r)と透過用画素
電極28の最適対向電圧Vo(t)とが相違することと
なる。なお、各ゲート電位差ΔVg(r)・ΔVg
(t)は、それぞれ、各ゲート信号の高レベル電圧Vg
h(r)・Vgh(t)と各ゲート信号の低レベル電圧
Vgl(r)・Vgl(t)との差とする。That is, as shown in FIGS. 14A to 14E, the gate potential difference ΔVg (r) of the reflective pixel electrode 26 and the gate potential difference ΔVg (t) of the transmissive pixel electrode 28 are the same. Even if a signal is input, the voltage shift amount (shift amount of the reflection pixel electrode 26) ΔVd (r) of the reflection pixel electrode potential from the source signal voltage and the voltage shift of the transmission pixel electrode potential from the source signal voltage. Since the amount (shift amount of the transmissive pixel electrode 28) ΔVd (t) is different, the optimum counter voltage Vo (r) of the reflective pixel electrode 26 and the optimum counter voltage Vo (t) of the transmissive pixel electrode 28 are different from each other. It will be different. Note that each gate potential difference ΔVg (r) · ΔVg
(T) is the high level voltage Vg of each gate signal
The difference between h (r) · Vgh (t) and the low level voltage Vgl (r) · Vgl (t) of each gate signal.
【0015】一方、対向電極(図示せず)の電圧は部分
的に電位を変えることはできないため、対向電極の電圧
と、反射領域26の最適対向電圧と、透過領域28の最
適対向電圧との各電圧を同時に一致させることはできな
い。したがって、対向電極の電圧と反射領域26の最適
対向電圧とのずれ、および/または、対向電極の電圧と
透過領域28の最適対向電圧とのずれが、常に液晶層に
DCバイアス電圧として印加されることになる。On the other hand, since the voltage of the counter electrode (not shown) cannot be partially changed in potential, the voltage of the counter electrode, the optimum counter voltage of the reflective region 26 and the optimum counter voltage of the transmissive region 28 are the same. It is not possible to match each voltage at the same time. Therefore, the deviation between the voltage of the counter electrode and the optimum counter voltage of the reflection area 26 and / or the deviation of the voltage of the counter electrode and the optimum counter voltage of the transmission area 28 are always applied to the liquid crystal layer as a DC bias voltage. It will be.
【0016】このため、長期間使用した場合には、ムラ
やかすみといった表示不良の原因となる。また、特にモ
バイル表示用デバイスとして用いられる液晶表示装置で
は、消費電力を抑えるために低周波駆動する方法が提案
されているが、上記反射領域と透過領域との各最適対向
電圧からのずれがフリッカー(ちらつき)としてより認
知されやすくなり、表示品位を低下させる原因ともなっ
ている。Therefore, when it is used for a long period of time, it causes display defects such as unevenness and blurring. In addition, in a liquid crystal display device used especially as a mobile display device, a low frequency driving method has been proposed in order to suppress power consumption. However, a deviation from each optimum counter voltage between the reflective region and the transmissive region is flicker. It is more likely to be recognized as (flicker), which is also a cause of deterioration in display quality.
【0017】本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされ
たものであって、その目的は、周囲光の状態によらず、
光の利用効率が高く、かつ高品位な表示を可能とし得る
アクティブマトリックス基板を備える液晶表示装置を提
供することにある。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and its object is
It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device including an active matrix substrate which has high light utilization efficiency and enables high-quality display.
【0018】[0018]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、上記の課題を解決するために、反射表示を行うため
の反射用画素電極と透過表示を行うための透過用画素電
極とを有するマトリックス状に配された複数の画素電極
と、上記画素電極の電位を保持する補助容量素子と、ソ
ース信号を供給するソース配線と、ゲート信号を供給す
るゲート配線と、ソース電極とゲート電極とドレイン電
極とを備える、上記ゲート信号によって選択されてソー
ス信号を上記画素電極に与えるスイッチング素子とを有
するアクティブマトリックス基板と、上記反射用画素電
極と上記透過用画素電極とに対向する対向電極を有する
対向基板と、上記アクティブマトリックス基板と上記対
向基板との間に形成される液晶層とを備える液晶表示装
置において、上記スイッチング素子は、第1のスイッチ
ング素子と第2のスイッチング素子とからなり、上記反
射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介して第1
のゲート配線に接続され、上記透過用画素電極は、第2
のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続さ
れ、上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続さ
れる反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続
される透過用補助容量素子とを有し、第1のゲート配線
に入力されるゲート信号の振幅と、第2のゲート配線に
入力されるゲート信号の振幅と、上記第1のスイッチン
グ素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量
と、上記第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイ
ン電極との間の寄生容量と、上記反射用画素電極と上記
対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記透過用画素
電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記
反射用補助容量素子の容量と、上記透過用補助容量素子
の容量とが、上記スイッチング素子のスイッチング時に
生じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電
圧シフト量と、透過用画素電極電位のソース信号電圧か
らの電圧シフト量とが同じになるように設定されている
ことを特徴としている。In order to solve the above problems, a liquid crystal display device of the present invention has a reflective pixel electrode for performing a reflective display and a transmissive pixel electrode for performing a transmissive display. A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix, an auxiliary capacitance element that holds the potential of the pixel electrodes, a source wiring that supplies a source signal, a gate wiring that supplies a gate signal, a source electrode, a gate electrode, and a drain. An active matrix substrate having an electrode and a switching element which is selected by the gate signal and supplies a source signal to the pixel electrode, and an opposing electrode having an opposing electrode opposing the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode A liquid crystal display device comprising: a substrate; and a liquid crystal layer formed between the active matrix substrate and the counter substrate. Switching element comprises a first switching element and second switching element, the reflective pixel electrode, first through the first switching element 1
Is connected to the gate wiring of
Is connected to the second gate line via the switching element, and the auxiliary capacitance element is a reflection auxiliary capacitance element connected to the reflection pixel electrode, and a transmission auxiliary capacitance connected to the transmission pixel electrode. An amplitude of a gate signal input to the first gate wiring, an amplitude of a gate signal input to the second gate wiring, and a gate electrode and a drain electrode of the first switching element. Between them, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element, the capacitance of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode, and the transmission pixel. A reflective pixel in which the capacitance of the liquid crystal layer between the electrode and the counter electrode, the capacitance of the reflective auxiliary capacitance element, and the capacitance of the transmissive auxiliary capacitance element occur during switching of the switching element. Is characterized by the voltage shift from the source signal voltage electrode potential, the voltage shift from the source signal voltage of the transmissive pixel electrode potential is set to be the same.
【0019】上記の発明によれば、上記反射用画素電極
は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線
に接続されている。また、上記反射用画素電極には、反
射用補助容量素子が接続されている。一方、上記透過用
画素電極は、第2のスイッチング素子を介して第2のゲ
ート配線に接続されている。また、上記透過用画素電極
には、透過用補助容量素子が接続されている。According to the above invention, the reflection pixel electrode is connected to the first gate wiring via the first switching element. Further, a reflection auxiliary capacitance element is connected to the reflection pixel electrode. On the other hand, the transmissive pixel electrode is connected to the second gate wiring via the second switching element. Further, a transmissive auxiliary capacitance element is connected to the transmissive pixel electrode.
【0020】したがって、上記第1のゲート配線に入力
されるゲート信号の振幅と、上記第2のゲート配線に入
力されるゲート信号の振幅と、上記第1のスイッチング
素子のゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、
上記第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電
極との間の寄生容量と、上記反射用画素電極と上記対向
電極との間の上記液晶層の容量と、上記透過用画素電極
と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記反射
用補助容量素子の容量と、上記透過用補助容量素子の容
量とを、それぞれ個別に設定することが可能となる。Therefore, the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring, the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring, the gate electrode and the drain electrode of the first switching element, Parasitic capacitance between
The parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element, the capacitance of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode, the transmission pixel electrode and the counter electrode, It is possible to individually set the capacitance of the liquid crystal layer, the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element, and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element in between.
【0021】ここで、上記スイッチング素子のスイッチ
ング時、より詳しくはスイッチング素子がオフした瞬間
に、上記スイッチング素子のゲート電極とドレイン電極
との間の寄生容量と、画素電極と対向電極との間の液晶
層の容量と、上記補助容量素子の容量と、上記スイッチ
ング素子のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と
の関係で決まる電圧分だけ、上記画素電極に印加される
電圧は、上記ソース信号電圧からシフトする。つまり、
上記ソース配線に交流の矩形波を入力した際に、該矩形
波の振幅と位相とは同一のまま、該矩形波が電圧軸方向
にシフトする。Here, at the time of switching of the switching element, more specifically, at the moment when the switching element is turned off, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the switching element, and the parasitic capacitance between the pixel electrode and the counter electrode. The voltage applied to the pixel electrode by the voltage determined by the relationship between the capacitance of the liquid crystal layer, the capacitance of the auxiliary capacitance element, and the amplitude of the gate signal input to the gate wiring of the switching element is the source signal. Shift from voltage. That is,
When an AC rectangular wave is input to the source wiring, the rectangular wave shifts in the voltage axis direction while the amplitude and phase of the rectangular wave remain the same.
【0022】また、上記反射用画素電極と透過用画素電
極とでも、電圧のシフト量はそれぞれ異なる。上記電圧
のシフト量が異なる理由として以下の4つのが挙げられ
る。The amount of voltage shift is different between the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode. There are four reasons why the voltage shift amount is different.
【0023】第1の理由は、上記反射用画素電極と透過
用画素電極とでは、異なるゲート配線、つまり第1のゲ
ート配線と第2のゲート配線とを用いているために、必
ずしも各スイッチング素子のゲート配線に入力されるゲ
ート信号の振幅を一致させる必要がなく、この場合に
は、上記ゲート信号の振幅が異なるためである。The first reason is that the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode use different gate wirings, that is, the first gate wiring and the second gate wiring, and therefore each switching element is not always required. This is because it is not necessary to match the amplitudes of the gate signals input to the gate wirings, and in this case, the amplitudes of the gate signals are different.
【0024】第2の理由は、上記反射用画素電極と透過
用画素電極とでは、異なるスイッチング素子、つまり第
1のスイッチング素子と第2のスイッチング素子とを用
いているために、必ずしも各スイッチング素子のゲート
電極とドレイン電極との間の寄生容量が一致しないため
である。The second reason is that since the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode use different switching elements, that is, the first switching element and the second switching element, each switching element is not always required. This is because the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode does not match.
【0025】第3の理由は、上記反射用画素電極と上記
対向電極との間の液晶層と、上記透過用画素電極と上記
対向電極との間の液晶層とでは、各液晶層の厚さおよび
面積が相違し、各液晶層の容量が一致しないためであ
る。The third reason is that the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode and the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode have different thicknesses. And the areas are different, and the capacitances of the liquid crystal layers do not match.
【0026】第4の理由は、上記反射用補助容量素子の
容量と、上記透過用補助容量素子の容量とは、アクティ
ブマトリックスの構造上、必ずしも一致しないからであ
る。The fourth reason is that the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element do not always match due to the structure of the active matrix.
【0027】それゆえ、本発明では、上記電圧のシフト
量を決定する上記スイッチング素子のゲート電極とドレ
イン電極との間の寄生容量と、画素電極と対向電極との
間の液晶層の容量と、上記補助容量素子の容量と、上記
スイッチング素子のゲート配線に入力されるゲート信号
の振幅とを、上記反射用画素電極と上記透過用画素電極
とで、それぞれ別々に設定し、上記電圧のシフト量が該
反射用画素電極と該透過用画素電極とで同じとなるよう
にする。Therefore, in the present invention, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the switching element, which determines the shift amount of the voltage, and the capacitance of the liquid crystal layer between the pixel electrode and the counter electrode, The capacitance of the auxiliary capacitance element and the amplitude of the gate signal input to the gate wiring of the switching element are set separately for the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode, and the voltage shift amount is set. Are the same for the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode.
【0028】これにより、上記反射用画素電極と透過用
画素電極との電圧のシフト量が同じになり、上記反射用
画素電極と上記透過用画素電極とにおいて同一のシフト
量を有する波形の信号が得られる。As a result, the voltage shift amounts of the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode become the same, and the waveform signals having the same shift amount are generated in the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode. can get.
【0029】それゆえ、上記シフト後の上記反射用画素
電極と透過用画素電極とにおける、電圧波形についての
時間軸に沿った中心軸の電圧を、上記対向電極の電圧と
することができる。これにより、上記反射用画素電極の
電圧波形の中心軸の電圧と、上記透過用画素電極の電圧
波形の中心軸の電圧と、上記対向電極の電圧とを一致さ
せることが可能となる。Therefore, the voltage of the central axis along the time axis of the voltage waveform in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode after the shift can be used as the voltage of the counter electrode. This makes it possible to match the voltage on the central axis of the voltage waveform of the reflective pixel electrode, the voltage on the central axis of the voltage waveform of the transmissive pixel electrode, and the voltage of the counter electrode.
【0030】例えば、上記ソース配線に交流矩形波を入
力した場合には、上記対向電極に対する上記反射用画素
電極のプラス電位とマイナス電位との絶対値が等しくな
り、同時に、上記対向電極に対する上記透過用画素電極
のプラス電位とマイナス電位との絶対値も等しくなる。
なお、以下では、上記反射用画素電極と透過用画素電極
とに対するそれぞれの最適な対向電極の電圧、つまり、
上記の各電圧波形についての時間軸に沿った中心軸の電
圧を、それぞれ反射用最適対向電圧と透過用最適対向電
圧とする。よって、上記液晶表示装置では、電圧のシフ
ト量が同じであるため、上記反射用最適対向電圧と透過
用最適対向電圧とが一致している。For example, when an AC rectangular wave is input to the source wiring, the absolute value of the positive potential and the negative potential of the reflection pixel electrode with respect to the counter electrode becomes equal, and at the same time, the transmission with respect to the counter electrode is performed. The absolute values of the positive potential and the negative potential of the pixel electrode for use also become equal.
In the following, the respective optimum counter electrode voltages for the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, that is,
The voltage on the central axis along the time axis for each of the above voltage waveforms is taken as the optimum reflection opposing voltage and the optimum transmission opposing voltage. Therefore, in the liquid crystal display device, since the voltage shift amount is the same, the reflection optimum counter voltage and the transmission optimum counter voltage match each other.
【0031】以上により、本発明の液晶表示装置では、
上記対向電極の電圧が、上記反射用最適対向電圧および
透過用最適対向電圧となる。それゆえ、上記反射用最適
対向電圧と透過用最適対向電圧とが異なる場合には、必
ず対向電極との電圧のずれが生じるが、本発明の液晶表
示装置では、ずれが生じることがない。よって、上記反
射用および/または透過用最適対向電圧と上記対向電極
の電圧とのずれがDCバイアス電圧として、常に液晶層
に印加される現象が発生しない。As described above, in the liquid crystal display device of the present invention,
The voltage of the counter electrode becomes the optimum counter voltage for reflection and the optimum counter voltage for transmission. Therefore, when the optimum reflection counter voltage and the optimum transmission counter voltage are different, a voltage difference from the counter electrode is always generated, but the liquid crystal display device of the present invention does not. Therefore, a phenomenon in which the deviation between the optimum counter voltage for reflection and / or transmission and the voltage of the counter electrode is a DC bias voltage and is always applied to the liquid crystal layer does not occur.
【0032】したがって、本発明の液晶表示装置では、
液晶表示装置を長期間使用した場合に生じる、ムラやか
すみといった表示不良の発生を抑えることができる。さ
らに、フリッカーの発生も抑制することができる。一
方、上記反射用画素電極と透過用画素電極とを用いてい
るため、光の利用効率は上がっている。それゆえ、周囲
光の状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な
表示を可能とし得る液晶表示装置を提供することができ
る。Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention,
It is possible to suppress the occurrence of display defects such as unevenness and haze that occur when the liquid crystal display device is used for a long period of time. Further, the occurrence of flicker can be suppressed. On the other hand, since the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode are used, the light utilization efficiency is improved. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device that has high light utilization efficiency and enables high-quality display regardless of the state of ambient light.
【0033】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、第1のスイッチング素子のゲート
電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、
反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をCl
c(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をC
cs(r)とし、第2のスイッチング素子のゲート電極
とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過
用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc
(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCc
s(t)とし、上記第1のゲート配線に入力されるゲー
ト信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲー
ト配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)と
した場合に、ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd
(r)+Clc(r)+Ccs(r))=ΔVg(t)
×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Cc
s(t))なる関係を満たすことを特徴としている。In the liquid crystal display device of the present invention, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r),
The capacitance of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode is set to Cl.
c (r) and the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element are C
cs (r), the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t), and the capacitance of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is Clc.
(T), and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element is Cc
s (t), the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring is ΔVg (r), and the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring is ΔVg (t). ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd
(R) + Clc (r) + Ccs (r)) = ΔVg (t)
× Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Cc
It is characterized by satisfying the relation of s (t).
【0034】発明によれば、一般的な電圧のシフト量Δ
Vdをあらわす以下の関係式、ΔVd=ΔVg×Cgd
/(Cgd+Clc+Ccs)において、上記反射用画
素電極と上記透過用画素電極とにおける、それぞれの電
圧のシフト量ΔVdの値が等しくなる。According to the invention, a general voltage shift amount Δ
The following relational expression expressing Vd, ΔVd = ΔVg × Cgd
In / (Cgd + Clc + Ccs), the values of the shift amounts ΔVd of the respective voltages are equal in the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode.
【0035】したがって、上記液晶表示装置では、上記
反射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とを一致させ
ることが可能となる。Therefore, in the above-mentioned liquid crystal display device, it is possible to make the optimum reflection opposing voltage and the optimum transmission opposing voltage match.
【0036】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、第1のゲート配線と、第2のゲー
ト配線とに同一のゲート信号を入力することを特徴とし
ている。Further, the liquid crystal display device of the present invention is characterized in that, in the above-mentioned liquid crystal display device, the same gate signal is inputted to the first gate wiring and the second gate wiring.
【0037】上記の発明によれば、上記第1のゲート配
線と上記第2のゲート配線とに、同一ゲート信号を入力
している。According to the above invention, the same gate signal is input to the first gate wiring and the second gate wiring.
【0038】したがって、第1のゲート配線からのゲー
ト信号の位相と、第2のゲート配線からのゲート信号と
の位相とをずらす必要がなくなるため、位相をずらして
順次ゲート信号を入力する場合と比較して、ゲート信号
の周波数を半分にすることが可能となる。それゆえ、消
費電力を低減しつつ、高品位な表示を可能とし得る液晶
表示装置を提供することができる。Therefore, it is not necessary to shift the phase of the gate signal from the first gate wiring and the phase of the gate signal from the second gate wiring. By comparison, the frequency of the gate signal can be halved. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device capable of high-quality display while reducing power consumption.
【0039】本発明の液晶表示装置は、上記の課題を解
決するために、反射表示を行うための反射用画素電極と
透過表示を行うための透過用画素電極とを有するマトリ
ックス状に配された複数の画素電極と、上記画素電極の
電位を保持する補助容量素子と、ソース信号を供給する
ソース配線と、ゲート信号を供給するゲート配線と、ソ
ース電極とゲート電極とドレイン電極とを備える、上記
ゲート信号によって選択されてソース信号を上記画素電
極に与えるスイッチング素子とを有するアクティブマト
リックス基板と、上記反射用画素電極と上記透過用画素
電極とに対向する対向電極を有する対向基板と、上記ア
クティブマトリックス基板と上記対向基板との間に形成
される液晶層とを備える液晶表示装置において、上記ス
イッチング素子は、第1のスイッチング素子と第2のス
イッチング素子とからなり、上記反射用画素電極は、第
1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線に接続
され、上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子
を介して第2のゲート配線に接続され、上記補助容量素
子は、上記反射用画素電極に接続される反射用補助容量
素子と、上記透過用画素電極に接続される透過用補助容
量素子とを有し、上記第1のスイッチング素子および上
記第2のスイッチング素子のスイッチング時に生じる、
反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト
量と、透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧
シフト量とが同じになるように、上記反射用画素電極と
上記透過用画素電極とによるそれぞれの表示タイミング
にあわせて、第1のスイッチング素子を介して反射用画
素電極に印加されるソース信号電圧と、第2のスイッチ
ング素子を介して透過用画素電極に印加されるソース信
号電圧とを異ならせておくことを特徴としている。In order to solve the above problems, the liquid crystal display device of the present invention is arranged in a matrix having reflective pixel electrodes for performing reflective display and transmissive pixel electrodes for performing transmissive display. A plurality of pixel electrodes, an auxiliary capacitance element that holds the potential of the pixel electrodes, a source wiring that supplies a source signal, a gate wiring that supplies a gate signal, a source electrode, a gate electrode, and a drain electrode, An active matrix substrate having a switching element which is selected by a gate signal and supplies a source signal to the pixel electrode, an opposite substrate having an opposite electrode facing the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode, and the active matrix In a liquid crystal display device including a substrate and a liquid crystal layer formed between the counter substrate, the switching element is It is composed of a first switching element and a second switching element, the reflection pixel electrode is connected to a first gate line via the first switching element, and the transmission pixel electrode is a second switching element. An auxiliary capacitance element connected to the second gate line through an element, the auxiliary capacitance element being connected to the reflection pixel electrode, and the transmission auxiliary capacitance element being connected to the transmission pixel electrode. And occurs at the time of switching the first switching element and the second switching element,
The reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode are so arranged that the voltage shift amount of the reflection pixel electrode potential from the source signal voltage and the voltage shift amount of the transmission pixel electrode potential from the source signal voltage become the same. The source signal voltage applied to the reflective pixel electrode via the first switching element and the source signal voltage applied to the transmissive pixel electrode via the second switching element in accordance with each display timing of It is characterized by different.
【0040】上記の発明によれば、上記反射用画素電極
は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線
に接続されている。一方、上記透過用画素電極は、第2
のスイッチング素子を介して第2のゲート配線に接続さ
れている。よって、各スイッチング素子のスイッチング
のタイミングを異ならせることができる。また、上記反
射用画素電極の電圧シフト量と透過用画素電極の電圧シ
フト量とが同じになるように、それぞれの画素電極に接
続されたスイッチング素子がオンするときのソース信号
電圧を変化させている。According to the above invention, the reflection pixel electrode is connected to the first gate wiring via the first switching element. On the other hand, the transmissive pixel electrode has a second
Is connected to the second gate wiring via the switching element. Therefore, the switching timing of each switching element can be different. Also, the source signal voltage when the switching elements connected to the respective pixel electrodes are turned on is changed so that the voltage shift amount of the reflection pixel electrode and the voltage shift amount of the transmission pixel electrode become the same. There is.
【0041】ここで、上記スイッチング素子のスイッチ
ング時、より詳しくはスイッチング素子がオフした瞬間
に、上述したとおり、上記ソース信号電圧から電圧がシ
フトする。また、上記反射用画素電極と透過用画素電極
とでも、上記した4つの理由により、電圧のシフト量は
それぞれ異なる。Here, at the time of switching of the switching element, more specifically, at the moment when the switching element is turned off, the voltage shifts from the source signal voltage as described above. Also, the amount of voltage shift is different between the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode due to the above four reasons.
【0042】それゆえ、本発明では、あらかじめ、反射
用画素電極の電圧シフト量と透過用画素電極の電圧シフ
ト量との差を考慮して、ソース電圧の電圧を制御するこ
とにより、各電極のシフト量を同じにする。Therefore, in the present invention, the voltage of the source voltage is controlled in advance in consideration of the difference between the voltage shift amount of the reflection pixel electrode and the voltage shift amount of the transmission pixel electrode. Make the shift amount the same.
【0043】これにより、上記反射用画素電極と透過用
画素電極との電圧のシフト量が同じになり、上記反射用
画素電極と上記透過用画素電極とにおいて同一のシフト
量を有する波形の信号が得られる。As a result, the voltage shift amounts of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode become the same, and the waveform signals having the same shift amount are generated in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode. can get.
【0044】それゆえ、上記したとおり、上記反射用画
素電極の電圧波形の中心軸の電圧と、上記透過用画素電
極の電圧波形の中心軸の電圧と、上記対向電極の電圧と
を一致させることが可能となる。Therefore, as described above, the voltage on the central axis of the voltage waveform of the reflective pixel electrode, the voltage on the central axis of the voltage waveform of the transmissive pixel electrode, and the voltage of the counter electrode should be matched. Is possible.
【0045】以上により、本発明の液晶表示装置では、
上記対向電極の電圧を、上記反射用最適対向電圧および
透過用最適対向電圧とすることができる。それゆえ、本
発明の液晶表示装置では、対向電極との電圧のずれが生
じない。From the above, in the liquid crystal display device of the present invention,
The voltage of the counter electrode may be the optimum counter voltage for reflection and the optimum counter voltage for transmission. Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, a voltage difference from the counter electrode does not occur.
【0046】したがって、本発明の液晶表示装置では、
液晶表示装置を長期間使用した場合に生じる、ムラやか
すみといった表示不良の発生を抑えることができる。さ
らに、フリッカーの発生も抑制することができる。一
方、上記反射用画素電極と透過用画素電極とを用いてい
るため、光の利用効率は上がっている。それゆえ、周囲
光の状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な
表示を可能とし得る液晶表示装置を提供することができ
る。Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention,
It is possible to suppress the occurrence of display defects such as unevenness and haze that occur when the liquid crystal display device is used for a long period of time. Further, the occurrence of flicker can be suppressed. On the other hand, since the reflection pixel electrode and the transmission pixel electrode are used, the light utilization efficiency is improved. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device that has high light utilization efficiency and enables high-quality display regardless of the state of ambient light.
【0047】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、第1のスイッチング素子のゲート
電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、
反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をCl
c(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をC
cs(r)とし、第2のスイッチング素子のゲート電極
とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過
用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc
(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCc
s(t)とし、上記第1のゲート配線に入力されるゲー
ト信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲー
ト配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)と
した場合に、上記反射用画素電極に印加されるソース信
号電圧と、上記透過用画素電極に印加されるソース信号
電圧との差ΔVsは、ΔVs=ΔVg(r)×Cgd
(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs
(r))−ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd
(t)+Clc(t)+Ccs(t))なる関係を満た
すことを特徴としている。In the liquid crystal display device of the present invention, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r),
The capacitance of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode is set to Cl.
c (r) and the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element are C
cs (r), the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t), and the capacitance of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is Clc.
(T), and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element is Cc
s (t), the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring is ΔVg (r), and the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring is ΔVg (t). Further, the difference ΔVs between the source signal voltage applied to the reflection pixel electrode and the source signal voltage applied to the transmission pixel electrode is ΔVs = ΔVg (r) × Cgd
(R) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs
(R)) − ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd
It is characterized in that the relationship of (t) + Clc (t) + Ccs (t) is satisfied.
【0048】上記の発明によれば、反射用画素電極の電
圧のシフト量ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd
(r)+Clc(r)+Ccs(r))と、透過用画素
電極の電圧のシフト量ΔVg(t)×Cgd(t)/
(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t)との差だ
け、反射用画素電極に印加されるソース配線のの信号電
圧と透過用画素電極に印加されるソース信号電圧とが異
なっている。According to the above invention, the shift amount ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd of the voltage of the reflection pixel electrode is obtained.
(R) + Clc (r) + Ccs (r)) and the shift amount ΔVg (t) × Cgd (t) / of the voltage of the transmissive pixel electrode.
The signal voltage of the source line applied to the reflective pixel electrode and the source signal voltage applied to the transmissive pixel electrode differ by the difference of (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t).
【0049】したがって、反射用画素電極のシフト後の
電位と、透過用画素電極のシフト後の電位とが、上記の
ソース信号電圧の差ΔVsにより、一致することにな
る。それゆえ、上記液晶表示装置では、上記反射用最適
対向電圧と透過用最適対向電圧とを一致させることが可
能となる。Therefore, the potential of the reflective pixel electrode after the shift and the potential of the transmissive pixel electrode after the shift coincide with each other due to the difference ΔVs of the source signal voltage. Therefore, in the liquid crystal display device, it is possible to match the optimum reflection opposing voltage and the optimum transmission opposing voltage.
【0050】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、透過用画素電極と対向電極との間
の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の
液晶層の厚さよりも大きくすることを特徴としている。Further, the liquid crystal display device of the present invention is the same as the above liquid crystal display device, in which the thickness of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode. The feature is that the thickness is larger than the layer thickness.
【0051】上記の発明によれば、上記反射画素電極の
領域に対応する液晶層を往復して通過する周囲光の該液
晶層での光路長と、上記透過画素電極の領域に対応する
液晶層を通過する透過光の該液晶層での光路長とを近づ
けることができる。According to the above invention, the optical path length in the liquid crystal layer of ambient light passing back and forth through the liquid crystal layer corresponding to the area of the reflective pixel electrode, and the liquid crystal layer corresponding to the area of the transmissive pixel electrode. The optical path length of the transmitted light passing through the liquid crystal layer can be approximated.
【0052】したがって、上記反射画素電極の領域に対
応する液晶層と、上記透過画素電極の領域に対応する液
晶層とにおける光の特性の変化を揃えることができる。
それゆえ、光の利用効率をさらに高くすることが可能と
なる。Therefore, it is possible to make uniform the changes in the light characteristics of the liquid crystal layer corresponding to the area of the reflective pixel electrode and the liquid crystal layer corresponding to the area of the transmissive pixel electrode.
Therefore, it is possible to further increase the light utilization efficiency.
【0053】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、透過用画素電極と対向電極との間
の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の
液晶層の厚さの2倍とすることを特徴としている。Further, the liquid crystal display device of the present invention is the same as the above liquid crystal display device, in which the thickness of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is equal to the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode. It is characterized in that it is twice the thickness of the layer.
【0054】上記の発明によれば、上記反射画素電極の
領域に対応する液晶層を往復して通過する周囲光の該液
晶層での光路長と、上記透過画素電極の領域に対応する
液晶層を通過する透過光の該液晶層での光路長とを一致
させることができる。According to the above invention, the optical path length in the liquid crystal layer of ambient light passing back and forth through the liquid crystal layer corresponding to the region of the reflective pixel electrode, and the liquid crystal layer corresponding to the region of the transmissive pixel electrode. It is possible to match the optical path length of the transmitted light passing through the liquid crystal layer.
【0055】したがって、上記反射画素電極の領域に対
応する液晶層と、上記透過画素電極の領域に対応する液
晶層とにおける光の特性の変化を一致させることができ
る。それゆえ、光の利用効率をいっそう高くすることが
可能となる。Therefore, it is possible to make the changes in the light characteristics of the liquid crystal layer corresponding to the area of the reflective pixel electrode and the liquid crystal layer corresponding to the area of the transmissive pixel electrode coincide with each other. Therefore, it is possible to further increase the light use efficiency.
【0056】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、透過用画素電極の周辺部が、一層
以上の絶縁膜を介して、組をなす反射用画素電極により
重畳されていることを特徴としている。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, a peripheral portion of the transmissive pixel electrode is superposed by a pair of reflective pixel electrodes via one or more insulating films. It is characterized by that.
【0057】上記の発明によれば、組をなす反射用画素
電極が透過用画素電極に絶縁膜を介して重畳されている
ために、上記反射用画素電極の領域がさらに広がること
となり、結果として、上記反射用画素電極と透過用画素
電極とをあわせた領域の面積が増加する。According to the above-mentioned invention, since the reflective pixel electrode forming a set is superposed on the transmissive pixel electrode via the insulating film, the area of the reflective pixel electrode is further expanded. As a result, The area of the region including the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode is increased.
【0058】したがって、液晶表示装置全体での開口率
が高くなり、光の利用効率を上げることが可能となる。Therefore, the aperture ratio of the entire liquid crystal display device is increased, and the light utilization efficiency can be improved.
【0059】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、反射用補助容量素子は、反射用補
助容量配線と、反射用画素電極と電気的に接続された導
電膜とにより形成され、透過用補助容量素子は、透過用
補助容量配線と、透過用画素電極とにより形成され、上
記反射用補助容量配線と上記透過用補助容量配線とが、
組をなす反射用画素電極と透過用画素電極では同一配線
であり、上記補助容量配線は、反射用画素電極が重畳し
ていない透過用画素電極の領域とは重畳しないことを特
徴としている。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the reflection auxiliary capacitance element is formed by the reflection auxiliary capacitance wiring and the conductive film electrically connected to the reflection pixel electrode. The transparent auxiliary capacitance element is formed by a transparent auxiliary capacitance line and a transparent pixel electrode, and the reflection auxiliary capacitance line and the transparent auxiliary capacitance line are
The reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode forming a pair have the same wiring, and the auxiliary capacitance wiring does not overlap the area of the transmissive pixel electrode where the reflective pixel electrode does not overlap.
【0060】上記の発明によれば、反射用画素電極の補
助容量に用いられる補助容量配線と、透過用画素電極の
補助容量に用いられる補助容量配線とが共通の補助容量
配線となる。また、上記共通の補助容量配線は、液晶表
示に用いられる透過画素電極の領域とは重ならない。According to the above invention, the auxiliary capacitance line used for the auxiliary capacitance of the reflective pixel electrode and the auxiliary capacitance line used for the auxiliary capacitance of the transmissive pixel electrode serve as a common auxiliary capacitance line. Further, the common auxiliary capacitance line does not overlap the region of the transparent pixel electrode used for liquid crystal display.
【0061】したがって、上記透過用画素電極の液晶表
示に利用される実面積を、補助容量配線の面積分、さら
に増加させることが可能となる。それゆえ、液晶表示装
置全体での開口率をさらに高くすることができ、光の利
用効率をいっそう上げることが可能となる。Therefore, the actual area of the transmissive pixel electrode used for liquid crystal display can be further increased by the area of the auxiliary capacitance wiring. Therefore, the aperture ratio of the entire liquid crystal display device can be further increased, and the light utilization efficiency can be further improved.
【0062】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、第1のゲート配線と第2のゲート
配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極と
では同一配線であることを特徴としている。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the first gate wiring and the second gate wiring are the same wiring for the pair of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode. It is characterized by being.
【0063】上記の発明によれば、第1のゲート配線と
第2のゲート配線とが、組をなす反射用画素電極と透過
用画素電極とでは同一配線としているため、1組の反射
用画素電極と透過用画素電極とからなる画素電極に対す
るゲート配線の数を2本から1本に減らすことが可能と
なる。According to the above invention, the first gate wiring and the second gate wiring are the same wiring in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode forming a set, and therefore, one set of reflective pixel is formed. It is possible to reduce the number of gate wirings for the pixel electrode including the electrode and the transmissive pixel electrode from two to one.
【0064】したがって、上記画素の微細化を図ること
ができ、解像度の高い液晶表示装置が得られると同時
に、液晶表示装置の生産時の歩留まりを大幅に低減する
ことが可能となる。Therefore, the pixels can be miniaturized, a liquid crystal display device having a high resolution can be obtained, and at the same time, the production yield of the liquid crystal display device can be significantly reduced.
【0065】[0065]
【発明の実施の形態】〔実施の形態1〕本発明の実施の
一形態について図1ないし図6に基づいて説明すれば、
以下の通りである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [Embodiment 1] An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
It is as follows.
【0066】本実施の形態のアクティブマトリックス基
板1aは、図1に示すように、画素電極2がマトリクス
状に設けられている。また、上記画素電極2の周囲を通
り互いに直交するように、走査信号を供給するためのゲ
ート配線3と、表示信号を供給するためのソース配線4
とが設けられている。As shown in FIG. 1, the active matrix substrate 1a of this embodiment has pixel electrodes 2 arranged in a matrix. Further, a gate wiring 3 for supplying a scanning signal and a source wiring 4 for supplying a display signal so as to pass through the periphery of the pixel electrode 2 and be orthogonal to each other.
And are provided.
【0067】上記ゲート配線3とソース配線4とは金属
膜で形成されており、その一部が画素電極2の外周部分
とゲート絶縁膜11(図2、3参照)を介して重なって
いる。The gate wiring 3 and the source wiring 4 are formed of a metal film, and a part thereof overlaps the outer peripheral portion of the pixel electrode 2 with the gate insulating film 11 (see FIGS. 2 and 3) interposed therebetween.
【0068】また、上記ゲート配線3とソース配線4と
の交差部付近には、画素電極2に表示信号を供給するた
めのスイッチング素子としての薄膜トランジスタ(TF
T)5が設けられている。In the vicinity of the intersection of the gate line 3 and the source line 4, a thin film transistor (TF) as a switching element for supplying a display signal to the pixel electrode 2 is provided.
T) 5 is provided.
【0069】この薄膜トランジスタ(TFT)5のゲー
ト電極6には、ゲート配線3が接続され、該ゲート電極
6に入力される信号により薄膜トランジスタ(TFT)
5が駆動制御される。また、薄膜トランジスタ(TF
T)5のソース電極7には、ソース配線3が接続され、
該ソース電極7にデータ信号が入力される。The gate wiring 6 is connected to the gate electrode 6 of the thin film transistor (TFT) 5, and a thin film transistor (TFT) is supplied by a signal input to the gate electrode 6.
5 is drive-controlled. In addition, a thin film transistor (TF
The source wiring 3 is connected to the source electrode 7 of T) 5,
A data signal is input to the source electrode 7.
【0070】また、本実施の形態のアクティブマトリッ
クス基板1aの特徴として、画素電極2は、金属膜から
なる反射用画素電極2aと透明導電膜からなる透過用画
素電極2bとから構成されている。さらに、上記ゲート
配線3、薄膜トランジスタ(TFT)5、ゲート電極
6、ソース電極7、ドレイン電極8、および、補助容量
配線12は、上記反射用画素電極2aと透過用画素電極
2bとを、個別に制御するために、それぞれ個別に設け
られている。Further, as a feature of the active matrix substrate 1a of the present embodiment, the pixel electrode 2 is composed of a reflective pixel electrode 2a made of a metal film and a transmissive pixel electrode 2b made of a transparent conductive film. Further, the gate wiring 3, the thin film transistor (TFT) 5, the gate electrode 6, the source electrode 7, the drain electrode 8 and the auxiliary capacitance wiring 12 are provided separately from the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b. Each is individually provided for control.
【0071】すなわち、上記反射用画素電極2a用とし
て、反射用ゲート配線3a(第1のゲート配線)、反射
用薄膜トランジスタ(TFT)5a(第1のスイッチン
グ素子)、反射用ゲート電極6a、反射用ソース電極7
a、反射用ドレイン電極8a、および、反射用補助容量
配線12aが設けられている。また、上記透過用画素電
極2b用として、透過用ゲート配線3b(第2のゲート
配線)、透過用薄膜トランジスタ(TFT)5b(第2
のスイッチング素子)、透過用ゲート電極6b、透過用
ソース電極7b、透過用ドレイン電極8b、および、透
過用補助容量配線12bが設けられている。That is, for the reflective pixel electrode 2a, the reflective gate wiring 3a (first gate wiring), the reflective thin film transistor (TFT) 5a (first switching element), the reflective gate electrode 6a, and the reflective gate electrode 6a. Source electrode 7
a, a reflection drain electrode 8a, and a reflection auxiliary capacitance wiring 12a are provided. Further, for the transmissive pixel electrode 2b, a transmissive gate wiring 3b (second gate wiring) and a transmissive thin film transistor (TFT) 5b (second).
Switching element), a transmissive gate electrode 6b, a transmissive source electrode 7b, a transmissive drain electrode 8b, and a transmissive auxiliary capacitance line 12b.
【0072】次に、上記アクティブマトリックス基板1
aを用いた液晶表示装置の断面構造について説明する。Next, the above active matrix substrate 1
The sectional structure of the liquid crystal display device using a will be described.
【0073】上記アクティブマトリックス基板1aは、
図2(図1のA−A線矢視断面図)に示すとおり、上記
透明絶縁性基板15上に、反射用ゲート電極6aが設け
られており、該反射用ゲート電極6aはゲート絶縁膜1
1によって覆われている。そして、上記ゲート絶縁膜1
1上に、半導体層16とドーピングされた半導体層17
とが、この順で積層されている。さらに、上記ドーピン
グされた半導体層17を覆うように、ITO(Indium T
in Oxide)からなる透明導電膜と金属膜との2層で形成
される反射用ソース電極7aと反射用ドレイン電極8a
とが形成されている。The active matrix substrate 1a is
As shown in FIG. 2 (a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1), a reflective gate electrode 6 a is provided on the transparent insulating substrate 15, and the reflective gate electrode 6 a is the gate insulating film 1.
Covered by 1. Then, the gate insulating film 1
On top of the semiconductor layer 16 and the doped semiconductor layer 17
And are stacked in this order. Further, in order to cover the doped semiconductor layer 17, ITO (Indium T
in Oxide) and a reflective source electrode 7a and a reflective drain electrode 8a formed of two layers of a metal film and a transparent conductive film.
And are formed.
【0074】また、上記反射用ソース電極7aには、上
記透明導電膜と金属膜とからなるソース配線4が接続さ
れており、上記反射用ドレイン電極8aには、上記透明
導電膜と金属膜とからなる接続電極10が接続されてい
る。なお、上記接続電極10は、コンタクトトホール9
を介して反射用画素電極2aと接する箇所におていは、
2層構造となっているが、その他の箇所においては、上
記透明導電膜の1層で形成されている。The source wiring 4 composed of the transparent conductive film and the metal film is connected to the reflection source electrode 7a, and the transparent conductive film and the metal film are formed in the reflection drain electrode 8a. Is connected to the connection electrode 10. The connection electrode 10 is used as the contact hole 9
In the portion contacting the reflective pixel electrode 2a via
Although it has a two-layer structure, it is formed of one layer of the transparent conductive film in other portions.
【0075】さらに、上記電極7a・8aの上には、層
間絶縁膜18を介して、上記反射用画素電極2aが形成
されている。また、上記反射用画素電極2aと対向基板
13に形成された対向電極14との間には、液晶層29
が形成されている。Further, the reflective pixel electrode 2a is formed on the electrodes 7a and 8a with an interlayer insulating film 18 interposed therebetween. A liquid crystal layer 29 is provided between the reflective pixel electrode 2 a and the counter electrode 14 formed on the counter substrate 13.
Are formed.
【0076】また、上記透明絶縁性基板15上には、図
3(図1のB−B線矢視断面図)に示すとおり、反射用
補助容量配線12aが設けられている。そして、上記ゲ
ート絶縁膜11上には、上記透明導電膜で形成される透
過用画素電極2bが設けられている。ここで、接続電極
10および透過用画素電極2bは、それぞれ、上記ゲー
ト絶縁膜11を介して、上記反射用補助容量配線12a
・12b上に形成されている。Further, on the transparent insulating substrate 15, as shown in FIG. 3 (a sectional view taken along the line BB of FIG. 1), a reflection auxiliary capacitance wiring 12a is provided. A transparent pixel electrode 2b formed of the transparent conductive film is provided on the gate insulating film 11. Here, the connection electrode 10 and the transmissive pixel electrode 2b are respectively provided with the reflective auxiliary capacitance line 12a via the gate insulating film 11.
-It is formed on 12b.
【0077】さらに、上記透明絶縁性基板15上には、
図4(図1のC−C線矢視断面図)に示すとおり、透過
用ゲート電極6bが設けられており、該透過用ゲート電
極6bはゲート絶縁膜11によって覆われている。そし
て、上記ゲート絶縁膜11上に、半導体層16とドーピ
ングされた半導体層17とが、この順で積層されてい
る。さらに、上記ドーピングされた半導体層17を覆う
ように、上記透明導電膜と金属膜との2層で形成される
透過用ソース電極7bと透過用ドレイン電極8bとが形
成されている。Further, on the transparent insulating substrate 15,
As shown in FIG. 4 (a sectional view taken along the line C-C in FIG. 1), a transparent gate electrode 6b is provided, and the transparent gate electrode 6b is covered with a gate insulating film 11. Then, the semiconductor layer 16 and the doped semiconductor layer 17 are stacked in this order on the gate insulating film 11. Further, a transparent source electrode 7b and a transparent drain electrode 8b formed of two layers of the transparent conductive film and the metal film are formed so as to cover the doped semiconductor layer 17.
【0078】また、上記透過用ソース電極7bには、上
記透明導電膜と金属膜とからなるソース配線4が接続さ
れており、上記透過用ドレイン電極8bには、透過用画
素電極2bが接続されている。Further, the source wiring 4 made of the transparent conductive film and the metal film is connected to the transparent source electrode 7b, and the transparent pixel electrode 2b is connected to the transparent drain electrode 8b. ing.
【0079】以上の構成により、上記ドレイン電極8a
に電気的に接続されている接続電極10は、上記補助容
量配線12aとその間に介在するゲート絶縁膜11とに
よって、反射用補助容量素子を形成する。また、上記透
過用画素電極2bは、上記補助容量配線12bとその間
に介在するゲート絶縁膜11とによって、透過用補助容
量素子を形成する。With the above structure, the drain electrode 8a is formed.
The connection electrode 10 electrically connected to the above forms the reflection auxiliary capacitance element by the auxiliary capacitance wiring 12a and the gate insulating film 11 interposed therebetween. Further, the transparent pixel electrode 2b forms a transparent auxiliary capacitive element by the auxiliary capacitive wiring 12b and the gate insulating film 11 interposed therebetween.
【0080】さらに、上記透過用画素電極2bは、上述
したとおり、ゲート絶縁膜11上に形成されているため
直接透過用ドレイン電極8bに接続されており、反射用
画素電極2aと反射用ドレイン電極8aとを接続するコ
ンタクトホール9のような構成要素は不要となってい
る。Further, since the transmissive pixel electrode 2b is formed on the gate insulating film 11 as described above, it is directly connected to the transmissive drain electrode 8b, and the reflective pixel electrode 2a and the reflective drain electrode 2b. A component such as a contact hole 9 for connecting with 8a is unnecessary.
【0081】なお、上記補助容量配線12a・12bは
金属膜で形成され、図示しない配線により対向基板13
に形成された対向電極14に接続される。また、上記ソ
ース配線4を、上記透明導電膜と金属膜との2層構造と
しているのは、断線等の欠損に対する冗長性を持たせる
ためである。The auxiliary capacitance wirings 12a and 12b are formed of a metal film, and the counter substrate 13 is formed by wiring not shown.
Is connected to the counter electrode 14 formed on. Further, the source wiring 4 has a two-layer structure of the transparent conductive film and the metal film in order to provide redundancy for defects such as disconnection.
【0082】以上のように、アクティブマトリックス基
板1aが構成されるが、次に、該アクティブマトリック
ス基板1aの製造方法について説明する。The active matrix substrate 1a is constructed as described above. Next, a method of manufacturing the active matrix substrate 1a will be described.
【0083】まず、ガラス等の透明絶縁性基板15上に
反射用ゲート電極6aおよび透過用ゲート電極6bと、
反射用ゲート配線3aおよび透過用ゲート配線3bと、
反射用補助容量配線12aおよび透過用補助容量配線1
2bとをスパッタリング法等により成膜後、フォトリソ
グラフィー工程を経てパターニングを行う。First, a reflective gate electrode 6a and a transmissive gate electrode 6b are formed on a transparent insulating substrate 15 such as glass.
A reflection gate wiring 3a and a transmission gate wiring 3b,
Reflection auxiliary capacitance wiring 12a and transmission auxiliary capacitance wiring 1
After 2b and the film are formed by a sputtering method or the like, patterning is performed through a photolithography process.
【0084】次に、ゲート絶縁膜11、半導体層16、
ドーピングされた半導体層17をプラズマCVD法を用
いて成膜する。続いてITO(Indium Tin Oxide)から
なる透明電極膜をスパッタリング法で成膜し、フォトリ
ソグラフィー工程を経て、接続電極10および透過用画
素電極2bを形成する。さらに、金属膜をスパッタリン
グ法で成膜した後、パターニングを行い、ソース配線4
と、反射用ソース電極7aおよび透過用ソース電極7b
と、反射用ドレイン電極8aおよび透過用ドレイン電極
8bとを形成する。Next, the gate insulating film 11, the semiconductor layer 16,
The doped semiconductor layer 17 is formed by using the plasma CVD method. Subsequently, a transparent electrode film made of ITO (Indium Tin Oxide) is formed by a sputtering method, and a connection electrode 10 and a transmission pixel electrode 2b are formed through a photolithography process. Further, after forming a metal film by a sputtering method, patterning is performed to form the source wiring 4
And a reflection source electrode 7a and a transmission source electrode 7b
And a drain electrode 8a for reflection and a drain electrode 8b for transmission are formed.
【0085】その後、層間絶縁膜18として感光性のア
クリル樹脂をスピン塗布法により、3μmの膜厚で形成
する。さらに、上記アクリル樹脂に対して、パターン露
光を行い、アルカリ性の溶液によって現像処理する。こ
れにより、露光された部分のみが、アルカリ性の溶液に
よってエッチングされ、層間絶縁膜18を貫通するコン
タクトホール9を形成する。なお、上記コンタクトホー
ル9は、良好なテーパ形状を有するように形成する。After that, a photosensitive acrylic resin is formed as the interlayer insulating film 18 by a spin coating method to a film thickness of 3 μm. Further, the acrylic resin is subjected to pattern exposure and developed with an alkaline solution. As a result, only the exposed portion is etched by the alkaline solution to form the contact hole 9 penetrating the interlayer insulating film 18. The contact hole 9 is formed to have a good tapered shape.
【0086】このように、上記層間絶縁膜18として感
光性のアクリル樹脂を用いることにより、薄膜の形成を
スピン塗布法により行うことができる。したがって、数
μmという膜厚の薄膜を容易に形成することができる。
また、上記層間絶縁膜18のパターニングにはフォトレ
ジストの塗布工程が不要となる等、生産性の点で有利に
なる。As described above, by using the photosensitive acrylic resin as the interlayer insulating film 18, the thin film can be formed by the spin coating method. Therefore, a thin film having a thickness of several μm can be easily formed.
Further, the patterning of the interlayer insulating film 18 does not require a photoresist coating step, which is advantageous in terms of productivity.
【0087】また、本実施の形態における上記アクリル
樹脂は着色されており、パターニング後に全面を露光処
理することにより透明化することができる。なお、上記
アクリル樹脂の透明化は、化学的処理によっても行うこ
とができる。Further, the acrylic resin in the present embodiment is colored and can be made transparent by exposing the entire surface to light after patterning. The acrylic resin can be made transparent by chemical treatment.
【0088】次に、上記層間絶縁膜18上に反射用画素
電極2aを、反射用ゲート配線3aおよび透過用ゲート
配線3bと、ソース配線4と、反射用薄膜トランジスタ
(TFT)5aおよび透過用薄膜トランジスタ(TF
T)5bと、反射用補助容量配線12aとに重なるよう
に形成する。なお、本実施の形態においては、上記反射
用画素電極2aの形成に際し、アルミニウム(Al)を
スパッタリング法で成膜後、フォトリソグラフィー工程
によりパターニングを行っている。しかし、反射用画素
電極2aの材料としては、アルミニウム(Al)に限定
されることはなく、他の金属材料、例えば銀(Ag)、
または、AlSi(Siの含有量1パーセント程度)等
のアルミ系合金を用いてもよく、反射率の高い導電性を
有する膜であればよい。Next, the reflection pixel electrode 2a, the reflection gate wiring 3a and the transmission gate wiring 3b, the source wiring 4, the reflection thin film transistor (TFT) 5a, and the transmission thin film transistor (a) are formed on the interlayer insulating film 18. TF
T) 5b is formed so as to overlap the reflection auxiliary capacitance line 12a. In the present embodiment, when forming the reflective pixel electrode 2a, aluminum (Al) is deposited by a sputtering method and then patterned by a photolithography process. However, the material of the reflective pixel electrode 2a is not limited to aluminum (Al), and other metal materials such as silver (Ag),
Alternatively, an aluminum alloy such as AlSi (Si content of about 1%) may be used as long as it is a film having high reflectance and conductivity.
【0089】以上により、本実施の形態におけるアクテ
ィブマトリックス基板1aを製造することができる。As described above, the active matrix substrate 1a according to this embodiment can be manufactured.
【0090】さらに、配向塗布膜および対向基板13と
の貼り合せ、液晶材料の注入、偏光板の貼り合わせ等の
従来より知られている方法を用いて液晶セルを製造し、
背面にバックライトを設置することにより、上記アクテ
ィブマトリックス基板1aを用いた液晶表示装置が完成
する。Further, a liquid crystal cell is manufactured using a conventionally known method such as bonding the alignment coating film and the counter substrate 13, injecting a liquid crystal material, bonding a polarizing plate, and the like.
By installing a backlight on the back surface, a liquid crystal display device using the active matrix substrate 1a is completed.
【0091】また、上記アクティブマトリックス基板1
aは、層間絶縁膜18上に反射用画素電極2aを設けて
いるため、該層間絶縁膜18の表面にフォトリソグラフ
ィー工程等によって凹凸を形成しておくことにより、表
面に凹凸を有する反射用画素電極2aを得ることができ
る。したがって、この反射用画素電極2aの表面の凹凸
により、さまざまな入射角度の周囲光を利用することが
可能となり、より明るい液晶表示装置を実現することが
できる。Further, the active matrix substrate 1 described above
Since a has the reflective pixel electrode 2a provided on the interlayer insulating film 18, unevenness is formed on the surface of the interlayer insulating film 18 by a photolithography process or the like. The electrode 2a can be obtained. Therefore, the unevenness of the surface of the reflective pixel electrode 2a makes it possible to use ambient light with various incident angles, and a brighter liquid crystal display device can be realized.
【0092】なお、上記液晶装置においては、上記透過
用画素電極2bと上記対向電極14との間の上記液晶層
29の厚さを、上記反射用画素電極2aと上記対向電極
14との間の上記液晶層29の厚さよりも、厚くするこ
とが望ましい。これにより、反射用画素電極2aにより
反射される光の液晶層29での光路長と、透過用画素電
極2bを通過する光の液晶層29での光路長とを近づけ
ることができる。したがって、両液晶層29での光の特
性変化を揃えることができ、光の利用効率をあげること
が可能となる。In the liquid crystal device, the thickness of the liquid crystal layer 29 between the transmissive pixel electrode 2b and the counter electrode 14 is set to be between the reflective pixel electrode 2a and the counter electrode 14. It is desirable to make the thickness larger than the thickness of the liquid crystal layer 29. Thereby, the optical path length of the light reflected by the reflection pixel electrode 2a in the liquid crystal layer 29 and the optical path length of the light passing through the transmission pixel electrode 2b in the liquid crystal layer 29 can be made close to each other. Therefore, it is possible to make uniform the change in light characteristics in both liquid crystal layers 29, and it is possible to improve the light use efficiency.
【0093】さらには、上記透過用画素電極2bと上記
対向電極14との間の上記液晶層29の厚さを、上記反
射用画素電極2aと上記対向電極14との間の上記液晶
層29の厚さの2倍とすることがより好ましい。これに
より、反射用画素電極2aにより反射される光の液晶層
29での光路長と、透過用画素電極2bを通過する光の
液晶層29での光路長とを同じにすることができる。し
たがって、両液晶層29での光の特性変化を一致させる
ことができ、光の利用効率をさらにあげることが可能と
なる。Further, the thickness of the liquid crystal layer 29 between the transmissive pixel electrode 2b and the counter electrode 14 is set to be equal to that of the liquid crystal layer 29 between the reflective pixel electrode 2a and the counter electrode 14. More preferably, it is twice the thickness. Thereby, the optical path length of the light reflected by the reflection pixel electrode 2a in the liquid crystal layer 29 and the optical path length of the light passing through the transmission pixel electrode 2b in the liquid crystal layer 29 can be made the same. Therefore, it is possible to make the characteristic changes of light in both liquid crystal layers 29 coincide with each other, and it is possible to further improve the light utilization efficiency.
【0094】以上のように、本実施の形態におけるアク
ティブマトリックス基板1aは、反射型表示を行う反射
用画素電極2aと透過型表示を行う透過用画素電極2b
とが独立した構成となっているため、反射用画素電極2
aと透過用画素電極2bとの制御を個別のパラメータを
用いて行うことが可能となる。なお、本実施の形態にお
いては、上述したとおり、上記反射用画素電極2aおよ
び透過用画素電極2bは別画素として独立に制御される
が、画像の表示に関しては、あくまでも一組として用い
られる。As described above, the active matrix substrate 1a according to the present embodiment has the reflective pixel electrode 2a for reflective display and the transmissive pixel electrode 2b for transmissive display.
And the independent structure, the reflection pixel electrode 2
It is possible to control a and the transmissive pixel electrode 2b by using individual parameters. In the present embodiment, as described above, the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b are independently controlled as separate pixels, but they are used as one set for displaying an image.
【0095】ところで、従来の液晶表示装置において
は、図13に示すとおり、同一画素内に反射領域(反射
用画素電極)26と透過領域(透過用画素電極)28と
を形成し、かつ、反射領域と透過領域との液晶の厚みを
異なるように変えているため、液晶層の容量Clcは互
いに異なる値となる。また、上記液晶表示装置では、該
液晶装置の構成上、ゲート電極−ドレイン電極間の寄生
容量Cgd、補助容量素子の容量 (補助容量)Ccs、
および、ゲート電位差ΔVgは、各領域26・28とも
同一である。それゆえ、それぞれの最適対向電圧が異な
り、対向電極(図示せず)の電圧と反射領域26の最適
対向電圧とのずれ、および/または、対向電極の電圧と
透過領域28の最適対向電圧とのずれが、表示品位を低
下させる一因となっている。By the way, in the conventional liquid crystal display device, as shown in FIG. 13, a reflective region (reflective pixel electrode) 26 and a transmissive region (transmissive pixel electrode) 28 are formed and reflected in the same pixel. Since the liquid crystal thicknesses of the region and the transmissive region are changed so as to be different, the capacitance Clc of the liquid crystal layer has a different value. In the above liquid crystal display device, due to the structure of the liquid crystal device, the parasitic capacitance Cgd between the gate electrode and the drain electrode, the capacitance of the auxiliary capacitance element (auxiliary capacitance) Ccs,
Further, the gate potential difference ΔVg is the same in each of the regions 26 and 28. Therefore, the respective optimum counter voltages are different, and the difference between the voltage of the counter electrode (not shown) and the optimum counter voltage of the reflective region 26 and / or the difference between the voltage of the counter electrode and the optimum counter voltage of the transmissive region 28. The deviation is one of the causes for lowering the display quality.
【0096】一方、本実施の形態におけるアクティブマ
トリックス基板1aを用いた液晶表示装置は、反射用画
素電極2aと透過用画素電極2bとに対して、個別のパ
ラメータを用いて制御するために、後述するように、反
射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2b
の最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電
圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することにより、対
向電極14の電圧と反射用画素電極2aの最適対向電圧
とのずれ、および、対向電極14の電圧と透過用画素電
極2bの最適対向電圧とのずれをなくすことが可能とな
る。On the other hand, in the liquid crystal display device using the active matrix substrate 1a according to the present embodiment, the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b are controlled by using individual parameters, which will be described later. As described above, the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b
Of the counter electrode 14 and the voltage of the counter electrode 14 is set to the voltage value of the optimum counter voltage, whereby the difference between the voltage of the counter electrode 14 and the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a, and It is possible to eliminate the deviation between the voltage of the counter electrode 14 and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b.
【0097】したがって、光の利用効率の高い、高品位
な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装置が得られる。
また、消費電力を抑えるために低周波駆動させる場合に
おいても、フリッカー現象を抑制することが可能とな
る。Therefore, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal display device having high light utilization efficiency and capable of high-quality display.
Further, it is possible to suppress the flicker phenomenon even when driving at a low frequency in order to suppress power consumption.
【0098】以下に、上記反射用画素電極2aの最適対
向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致さ
せるためのパラメータによる制御方法について説明す
る。A control method using parameters for matching the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b will be described below.
【0099】上記各画素電極2a・2bに印加される電
圧は、上述したとおり、ソース電圧とは一致せず、ゲー
トを閉じた瞬間にソース電圧からシフトする。As described above, the voltage applied to each of the pixel electrodes 2a and 2b does not match the source voltage, and shifts from the source voltage at the moment when the gate is closed.
【0100】一方、上記電位のシフトを制御するパラメ
ータとしては、例えば、配線パターン、構造、および、
材料に起因する、上記ゲート電極−ドレイン電極間の寄
生容量Cgd、液晶層29の容量Clc、および、補助
容量素子の容量 (以下、補助容量という)Ccs等の各
種容量設計パラメータと、上記ゲート電位差ΔVg等の
入力信号によるパラメータとがある。On the other hand, the parameters for controlling the shift of the potential include, for example, the wiring pattern, the structure, and
Various capacitance design parameters such as the parasitic capacitance Cgd between the gate electrode and the drain electrode, the capacitance Clc of the liquid crystal layer 29, the capacitance of the auxiliary capacitance element (hereinafter, referred to as auxiliary capacitance) Ccs, and the gate potential difference due to the material. There are parameters depending on the input signal such as ΔVg.
【0101】そこで、反射用画素電極2aおよび透過用
画素電極2bに対して、上記各種容量設計パラメータを
個別に制御することにより、反射用画素電極2aの最適
対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一致
させる第1の方法について説明する。次に、反射用画素
電極2aおよび透過用画素電極2bに対して、入力信号
によるパラメータを個別に制御することにより、反射用
画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最
適対向電圧とを一致させる第2の方法について説明す
る。さらに、反射用画素電極2aおよび透過用画素電極
2bに対して、それぞれの上記各種容量設計パラメータ
および入力信号によるパラメータを個別に制御すること
により、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画
素電極2bの最適対向電圧とを一致させる第3の方法に
ついて説明する。最後に、ソース信号を制御することに
より、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素
電極2bの最適対向電圧とを一致させる第4の方法につ
いて説明する。Therefore, by controlling the various capacitance design parameters individually for the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b, the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum of the transmissive pixel electrode 2b are controlled. A first method of matching the counter voltage will be described. Next, for the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b, the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b are controlled by individually controlling the parameters according to the input signal. A second method for matching the will be described. Further, the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel are controlled by individually controlling the various capacitance design parameters and the parameters based on the input signal for the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b. A third method of matching the optimum counter voltage of the electrode 2b will be described. Finally, a fourth method will be described in which the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b are matched by controlling the source signal.
【0102】まず、各種容量設計パラメータを個別に制
御する第1の方法について説明する。なお、この方法で
は、上記反射用画素電極2aと透過用画素電極2bとに
同一振幅のゲート信号を入力することとする。First, a first method for individually controlling various capacitance design parameters will be described. In this method, gate signals having the same amplitude are input to the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b.
【0103】ここで、反射用画素電極電位のソース信号
電圧からの電圧シフト量(以下、反射用画素電極2aの
電圧シフト量という)をΔVd(r)、透過用画素電極
電位のソース信号電圧からの電圧シフト量 (以下、透過
用画素電極2bの電圧シフト量という)をΔVd(t)
とすると、前述した式(1)により、ΔVd(r)およ
びΔVd(t)は、それぞれ、以下の式(2)および
(3)により求められる。Here, the voltage shift amount from the source signal voltage of the reflection pixel electrode potential (hereinafter referred to as the voltage shift amount of the reflection pixel electrode 2a) is ΔVd (r), from the source signal voltage of the transmission pixel electrode potential. Of the voltage shift amount (hereinafter, referred to as the voltage shift amount of the transmissive pixel electrode 2b) of ΔVd (t)
Then, ΔVd (r) and ΔVd (t) are obtained from the above equation (1) by the following equations (2) and (3), respectively.
【0104】
ΔVd(r)=ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)
+Ccs(r)) … (2)
ΔVd(t)=ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)
+Ccs(t)) … (3)
なお、上記反射用画素電極2aのゲート電位差をΔVg
(r)、反射用ゲート電極6aと反射用ドレイン電極8
aとの間の寄生容量をCgd(r)、反射用画素電極2
aと対向電極14との間の液晶層29の容量をClc
(r)、反射用画素電極に接続された補助容量をCcs
(r)とする。また、透過用画素電極2bのゲート電位
差をΔVg(t)、上記透過用ゲート電極6bと透過用
ドレイン電極8bとの間の寄生容量をCgd(t)、透
過用画素電極2bと対向電極14との間の液晶層29の
容量をClc(t)、透過用画素電極に接続された補助
容量をCcs(t)とする。ここで、各ゲート電位差Δ
Vg(r)・ΔVg(t)はそれぞれ、各ゲート信号の
高レベル電圧Vgh(r)・Vgh(t)と各ゲート信
号の低レベル電圧Vgl(r)・Vgl(t)との差と
する。ΔVd (r) = ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) (2) ΔVd (t) = ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) (3) The gate potential difference of the reflection pixel electrode 2a is ΔVg.
(R), reflective gate electrode 6a and reflective drain electrode 8
Cgd (r) is the parasitic capacitance between a and the pixel electrode 2 for reflection.
The capacitance of the liquid crystal layer 29 between a and the counter electrode 14 is set to Clc.
(R), the auxiliary capacitance connected to the reflection pixel electrode is Ccs
(R). Further, the gate potential difference of the transmissive pixel electrode 2b is ΔVg (t), the parasitic capacitance between the transmissive gate electrode 6b and the transmissive drain electrode 8b is Cgd (t), the transmissive pixel electrode 2b and the counter electrode 14 are The capacitance of the liquid crystal layer 29 between them is Clc (t), and the auxiliary capacitance connected to the transmissive pixel electrode is Ccs (t). Where each gate potential difference Δ
Vg (r) · ΔVg (t) is the difference between the high level voltage Vgh (r) · Vgh (t) of each gate signal and the low level voltage Vgl (r) · Vgl (t) of each gate signal. .
【0105】一方、上記反射用画素電極2aのゲート信
号と透過用画素電極2bのゲート信号とは同一の振幅を
有するため、反射用画素電極2aのゲート電位差ΔVg
(r)と透過用画素電極2bのゲート電位差ΔVg
(t)とは同じ値となる。On the other hand, since the gate signal of the reflective pixel electrode 2a and the gate signal of the transmissive pixel electrode 2b have the same amplitude, the gate potential difference ΔVg of the reflective pixel electrode 2a.
(R) and the gate potential difference ΔVg between the transparent pixel electrode 2b
It has the same value as (t).
【0106】したがって、反射用画素電極2aの電圧シ
フト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト
量ΔVd(t)とを同じにするためには、以下の式
(4)を満たすように液晶表示装置を設計すればよい。Therefore, in order to make the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmission pixel electrode 2b the same, the following expression (4) should be satisfied. The liquid crystal display device may be designed as described above.
【0107】
Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))=Cgd(t
)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t)) … (4)
つまり、上記式(4)の関係を満たすように、各寄生容
量Cgd(r)・Cgd(t)、各液晶層29の容量C
lc(r)・Clc(t)、および、各補助容量Ccs
(r)・Ccs(t)を選択することにより、反射用画
素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電
極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とを同じにすること
が可能となる。Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) = Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) (4) That is, the above formula Each parasitic capacitance Cgd (r) · Cgd (t) and the capacitance C of each liquid crystal layer 29 so as to satisfy the relationship of (4).
lc (r) · Clc (t) and each auxiliary capacitance Ccs
By selecting (r) · Ccs (t), it is possible to make the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b the same. Become.
【0108】以上により、上記反射用画素電極2aの最
適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一
致させることが可能となる。As described above, it becomes possible to match the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b.
【0109】また、反射用ゲート配線3aと透過用ゲー
ト配線3bとを一組として、同一ゲート信号を入力して
もよい。この場合には、ゲート信号の周波数が、従来構
造のゲート信号の周波数の2倍になることを避けること
ができる。Further, the same gate signal may be input with the reflection gate wiring 3a and the transmission gate wiring 3b as a set. In this case, the frequency of the gate signal can be prevented from becoming twice as high as the frequency of the gate signal of the conventional structure.
【0110】すなわち、本実施の形態のアクティブマト
リックス基板1aでは、上述したとおり、画素電極2
は、金属膜からなる反射用画素電極2aと透明導電膜か
らなる透過用画素電極2bとから構成され、それぞれに
個別のゲート配線3a・3bが設けられている。このた
め、上記アクティブマトリックス基板1aでは、従来構
造のアクティブマトリックス基板に比べ、反射用画素電
極に接続されたゲート配線からのゲート信号の位相と透
過用画素電極に接続されたゲート配線からのゲート信号
の位相とが異なるため、2倍の周波数のゲート信号を入
力する必要がある。しかし、上述したように、反射用ゲ
ート配線3aと透過用ゲート配線3bとを一組として、
同一ゲート信号、つまり同一振幅かつ同一位相のゲート
信号を入力することにより、2倍の周波数のゲート信号
を入力する必要がなくなり、従来の液晶表示装置に使わ
れているアクティブマトリックス基板と同一の周波数の
ゲート信号の入力で表示が可能となる。That is, in the active matrix substrate 1a of this embodiment, as described above, the pixel electrode 2
Is composed of a reflective pixel electrode 2a made of a metal film and a transmissive pixel electrode 2b made of a transparent conductive film, and individual gate wirings 3a and 3b are provided in each. Therefore, in the active matrix substrate 1a, the phase of the gate signal from the gate wiring connected to the reflective pixel electrode and the gate signal from the gate wiring connected to the transmissive pixel electrode are different from those of the conventional active matrix substrate. It is necessary to input a gate signal having twice the frequency because the phase is different. However, as described above, the reflection gate wiring 3a and the transmission gate wiring 3b are combined as a set,
By inputting the same gate signal, that is, the gate signal having the same amplitude and the same phase, it is not necessary to input the gate signal having the double frequency, and the same frequency as that of the active matrix substrate used in the conventional liquid crystal display device. Display is possible by inputting the gate signal of.
【0111】次に、入力信号によるパラメータを個別に
制御する第2の方法について説明する。Next, the second method for individually controlling the parameters based on the input signal will be described.
【0112】従来の液晶表示装置に使われているアクテ
ィブマトリックス基板では、上述したとおり、反射領域
26と透過領域28との液晶の厚みが異なるため、液晶
層の容量Clcは互いに相違する。一方、ゲート電極−
ドレイン電極間の寄生容量Cgd、補助容量Ccs、お
よび、ゲート電位差ΔVgは、各領域26・28とも同
一である。それゆえ、Cgd/(Cgd+Clc+Cc
s)の値は、各領域26・28では異なっている。した
がって、上記の式(1)に示す、各領域26・28の電
圧シフト値ΔVdも異なる値となる。In the active matrix substrate used in the conventional liquid crystal display device, as described above, since the reflective region 26 and the transmissive region 28 have different liquid crystal thicknesses, the capacitance Clc of the liquid crystal layer is different from each other. On the other hand, the gate electrode
The parasitic capacitance Cgd between the drain electrodes, the auxiliary capacitance Ccs, and the gate potential difference ΔVg are the same in each of the regions 26 and 28. Therefore, Cgd / (Cgd + Clc + Cc
The value of s) is different in each area 26 and 28. Therefore, the voltage shift values ΔVd of the respective regions 26 and 28 shown in the above equation (1) are also different values.
【0113】そこで、本実施の形態においては、上記反
射用画素電極2aと透過用画素電極2bとのCgd/
(Cgd+Clc+Ccs)の値が異なる場合において
も、上記反射用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd
(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd
(t)とが同じなるように、反射用画素電極2aのゲー
ト電位差ΔVg(r)と透過用画素電極2bのゲート電
位差ΔVg(t)とを個別に制御する。Therefore, in the present embodiment, Cgd / between the reflection pixel electrode 2a and the transmission pixel electrode 2b.
Even when the value of (Cgd + Clc + Ccs) is different, the voltage shift amount ΔVd of the reflection pixel electrode 2a.
(R) and the voltage shift amount ΔVd of the transmissive pixel electrode 2b
The gate potential difference ΔVg (r) of the reflective pixel electrode 2a and the gate potential difference ΔVg (t) of the transmissive pixel electrode 2b are individually controlled so that (t) is the same.
【0114】つまり、上記反射用画素電極2aの電圧シ
フト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト
量ΔVd(t)とは、それぞれ、上記の式(2)および
式(3)で示されるため、以下の式(5)を満たすよう
に液晶表示装置を設計すればよい。That is, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmission pixel electrode 2b are expressed by the above equations (2) and (3), respectively. Therefore, the liquid crystal display device may be designed so as to satisfy the following expression (5).
【0115】
ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r)
)=ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t
)) … (5)
これにより、上記反射用画素電極2aのCgd(r)/
(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs(r))の値
と、透過用画素電極2bのCgd(t)/(Cgd
(t)+Clc(t)+Ccs(t))の値とが互いに
異なる場合であっても、反射用画素電極2aのゲート電
位差ΔVg(r)と透過用画素電極2bのゲート電位差
ΔVg(t)とを個別に制御することにより、上記反射
用画素電極2aの電圧シフト量ΔVd(r)と透過用画
素電極2bの電圧シフト量ΔVd(t)とを同じにする
ことが可能となる。ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) = ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t) )) (5) As a result, Cgd (r) / of the reflective pixel electrode 2a is
The value of (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) and Cgd (t) / (Cgd of the transmissive pixel electrode 2b).
Even when the values of (t) + Clc (t) + Ccs (t) are different from each other, the gate potential difference ΔVg (r) of the reflective pixel electrode 2a and the gate potential difference ΔVg (t) of the transmissive pixel electrode 2b are different from each other. It is possible to make the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b the same by individually controlling the above.
【0116】以下に、上記第2の方法を用いた制御につ
いて、図5(a)および図5(b)に基づいて、具体的
に説明する。The control using the second method will be specifically described below with reference to FIGS. 5 (a) and 5 (b).
【0117】従来においては、図14(a)〜(e)に
示すように、反射用画素電極26のゲート電位差ΔVg
(r)と透過用画素電極28のゲート電位差ΔVg
(t)とが同一となるゲート信号を入力しても、反射用
画素電極26のシフト量ΔVd(r)と透過用画素電極
28のシフト量ΔVd(t)とは異なる結果となる。そ
こで、本実施の形態においては、例えば、図5(a)に
示すように、透過用画素電極2bにおけるゲート信号の
高レベル電圧Vgh(t)を制御し、例えば、Vgh
(t)>Vgh(t)’なるVgh(t)’に補正する
こととする。Conventionally, as shown in FIGS. 14A to 14E, the gate potential difference ΔVg of the reflective pixel electrode 26 is set.
(R) and the gate potential difference ΔVg between the transparent pixel electrode 28 and
Even if a gate signal having the same value as (t) is input, the shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 26 and the shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 28 are different. Therefore, in the present embodiment, for example, as shown in FIG. 5A, the high level voltage Vgh (t) of the gate signal in the transmissive pixel electrode 2b is controlled to, for example, Vgh.
The correction is made to Vgh (t) 'such that (t)> Vgh (t)'.
【0118】一方、透過用画素電極2bに印加されるド
レイン電圧は、上記式(1)に従って、ゲート電位差Δ
Vg(ΔVg=Vgh×Vgl)に比例して変化する。
したがって、ゲート信号の高レベル電圧Vgh(t)を
Vgh(t)’に補正するこにより、図5(b)に示す
ように、透過用画素電極2bに印加されるドレイン電圧
のシフト量もΔVd(t)からΔVd(t)’へと変化
する。On the other hand, the drain voltage applied to the transmissive pixel electrode 2b is the gate potential difference Δ according to the above equation (1).
It changes in proportion to Vg (ΔVg = Vgh × Vgl).
Therefore, by correcting the high level voltage Vgh (t) of the gate signal to Vgh (t) ', the shift amount of the drain voltage applied to the transmissive pixel electrode 2b is also ΔVd as shown in FIG. 5B. It changes from (t) to ΔVd (t) '.
【0119】したがって、補正後の透過用画素電極2b
の電圧のシフト量ΔVd(t)’が、反射用画素電極2
aの電圧のシフト量ΔVd(r)と等しくなるように、
上記ゲート信号入力時の電圧Vgh(t)’の値を決定
すればよい。つまり、図5(a)に示すように、Vgh
(t)の値をより小さいVgh(t)’とし、電圧のシ
フト量を、ΔVd(t)とΔVd(r)との差ΔVsだ
け少なくすれば、反射用画素電極2aの電圧のシフト量
ΔVd(r)と補正後の透過用画素電極2bの電圧のシ
フト量ΔVd(t)’とが等しくなる。ただし、図14
(d)および図14(e)においては、便宜的にΔVd
(t)>ΔVd(r)としている。Therefore, the transmissive pixel electrode 2b after correction
The voltage shift amount ΔVd (t) ′ of the
In order to make it equal to the shift amount ΔVd (r) of the voltage of a,
The value of the voltage Vgh (t) ′ at the time of inputting the gate signal may be determined. That is, as shown in FIG. 5A, Vgh
If the value of (t) is set to a smaller Vgh (t) 'and the voltage shift amount is reduced by the difference ΔVs between ΔVd (t) and ΔVd (r), the voltage shift amount ΔVd of the reflection pixel electrode 2a is reduced. (R) becomes equal to the corrected shift amount ΔVd (t) ′ of the voltage of the transmissive pixel electrode 2b. However, in FIG.
In FIG. 14D and FIG. 14E, ΔVd is used for convenience.
(T)> ΔVd (r).
【0120】以上により、上記反射用画素電極2aの最
適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一
致させることが可能となる。As described above, it becomes possible to make the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b coincide with each other.
【0121】次に、各種容量設計パラメータおよび入力
信号によるパラメータを個別に制御する第3の方法につ
いて説明する。Next, a third method for individually controlling various capacitance design parameters and parameters by input signals will be described.
【0122】上記反射用画素電極2aの電圧シフト量Δ
Vd(r)と透過用画素電極2bの電圧シフト量ΔVd
(t)とは、それぞれ、上記の式(2)および式(3)
で示される。したがって、上記反射用画素電極2aと透
過用画素電極2bと入力されるゲート信号が同じであろ
うとなかろうと、また、上記反射用画素電極2aのCg
d(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs
(r))の値と、透過用画素電極2bのCgd(t)/
(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t))の値と
が互いに異なる場合であろうとなかろうと、上記の式
(5)を満たすように、上記反射用画素電極2aのゲー
ト電位差ΔVg(r)、反射用ゲート電極6aと反射用
ドレイン電極8aとの間の寄生容量Cgd(r)、反射
用画素電極2aと対向電極14との間の液晶層29の容
量Clc(r)、反射用画素電極に接続された補助容量
Ccs(r)、透過用画素電極2bのゲート電位差ΔV
g(t)、上記透過用ゲート電極6bと透過用ドレイン
電極8bとの間の寄生容量Cgd(t)、透過用画素電
極2bと対向電極14との間の液晶層29の容量Clc
(t)、および、透過用画素電極に接続された補助容量
Ccs(t)を選択すればよい。Voltage shift amount Δ of the reflection pixel electrode 2a
Vd (r) and voltage shift amount ΔVd of the transmissive pixel electrode 2b
(T) means the above equation (2) and equation (3), respectively.
Indicated by. Therefore, whether or not the gate signals input to the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b are the same, and the Cg of the reflective pixel electrode 2a is Cg.
d (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs
(R)) value and Cgd (t) / of the transmissive pixel electrode 2b
Whether or not the value of (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) is different from each other, the gate potential difference ΔVg (r of the reflection pixel electrode 2a is set to satisfy the above expression (5). ), The parasitic capacitance Cgd (r) between the reflection gate electrode 6a and the reflection drain electrode 8a, the capacitance Clc (r) of the liquid crystal layer 29 between the reflection pixel electrode 2a and the counter electrode 14, and the reflection pixel. Auxiliary capacitance Ccs (r) connected to the electrode, gate potential difference ΔV of the transmissive pixel electrode 2b
g (t), the parasitic capacitance Cgd (t) between the transparent gate electrode 6b and the transparent drain electrode 8b, and the capacitance Clc of the liquid crystal layer 29 between the transparent pixel electrode 2b and the counter electrode 14.
(T) and the auxiliary capacitance Ccs (t) connected to the transmissive pixel electrode may be selected.
【0123】これによっても、反射用画素電極2aの電
圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シ
フト量ΔVd(t)とを同じにすることが可能となる。This also makes it possible to make the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmission pixel electrode 2b the same.
【0124】以上により、上記反射用画素電極2aの最
適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一
致させることが可能となる。As described above, it becomes possible to make the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b coincide with each other.
【0125】次に、ソース信号を制御する第4の方法に
ついて説明する。Next, a fourth method for controlling the source signal will be described.
【0126】上述したとおり、反射用画素電極2aの電
圧シフト量ΔVd(r)と透過用画素電極2bの電圧シ
フト量ΔVd(t)とは、それぞれ、上記の式(2)お
よび式(3)で与えられる。したがって、ΔVd(t)
とΔVd(r)との差ΔVsは、以下の式(6)で示さ
れる。As described above, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflective pixel electrode 2a and the voltage shift amount ΔVd (t) of the transmissive pixel electrode 2b are expressed by the above equations (2) and (3), respectively. Given in. Therefore, ΔVd (t)
The difference ΔVs between ΔVd (r) and ΔVd (r) is expressed by the following equation (6).
【0127】
ΔVs=ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Cc
s(r))−ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+C
cs(t)) … (6)
そこで、本実施の形態においては、例えば、図6(a)
に示すように、あらかじめ、上記ΔVd(t)とΔVd
(r)との差ΔVsを透過用画素電極2bに印加される
ソース信号のみに加算する。これにより、図6(b)に
示すように、電圧のシフト量が、ΔVd(t)とΔVd
(r)との差ΔVsだけ少なくなる。したがって、2つ
目の制御方法と同様に、反射用画素電極2aの電圧のシ
フト量ΔVd(r)と補正後の透過用画素電極2bの電
圧のシフト量ΔVd(t)’とが等しくなる。ΔVs = ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs (r)) − ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + C cs (t)) (6) Therefore, in the present embodiment, for example, FIG.
As shown in, the above ΔVd (t) and ΔVd
The difference ΔVs from (r) is added only to the source signal applied to the transmissive pixel electrode 2b. As a result, as shown in FIG. 6B, the voltage shift amounts are ΔVd (t) and ΔVd.
The difference from (r) is reduced by ΔVs. Therefore, similarly to the second control method, the voltage shift amount ΔVd (r) of the reflection pixel electrode 2a and the corrected voltage shift amount ΔVd (t) ′ of the transmission pixel electrode 2b become equal.
【0128】以上により、上記反射用画素電極2aの最
適対向電圧と透過用画素電極2bの最適対向電圧とを一
致させることが可能となる。As described above, it becomes possible to match the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b.
【0129】したがって、上記アクティブマトリックス
基板1aを備える液晶表示層装置を用いて、上述した、
反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2
bの最適対向電圧とを一致させるためのパラメータによ
る制御を行うことにより、光の利用効率が高く、高品位
な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装置が得られる。
また、消費電力を抑えるために低周波駆動させる場合に
おいても、フリッカー現象を抑制することが可能とな
る。Therefore, by using the liquid crystal display layer device having the active matrix substrate 1a,
The optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2
By performing control using a parameter for matching the optimum counter voltage of b, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal display device having high light utilization efficiency and capable of high-quality display.
Further, it is possible to suppress the flicker phenomenon even when driving at a low frequency in order to suppress power consumption.
【0130】なお、本発明は、上記の実施の形態に限定
されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可
能である。The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made within the scope of the present invention.
【0131】〔実施の形態2〕本発明の他の実施の形態
について図7および図8に基づいて説明すれば、以下の
通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1
の図面に示した部材と同一の機能を有する部材について
は、同一の符号を付し、その説明を省略する。[Second Embodiment] The following will describe another embodiment of the present invention in reference to FIGS. 7 and 8. For convenience of explanation, the first embodiment
The members having the same functions as the members shown in the drawing are attached with the same notations and an explanation thereof will be omitted.
【0132】本実施の形態のアクティブマトリックス基
板1bは、図7に示すとおり、1画素に占める反射用画
素電極2aの割合を大きくしたものである。また、上記
反射用画素電極2aは、透過用画素電極2bの外周部に
沿った形状を有する開口部P1を有しており、該開口部
P1内においてのみ透過用画素電極2bによる表示を視
認することができる。As shown in FIG. 7, the active matrix substrate 1b of the present embodiment has a large proportion of the reflective pixel electrode 2a in one pixel. Further, the reflection pixel electrode 2a has an opening P1 having a shape along the outer peripheral portion of the transmission pixel electrode 2b, and the display by the transmission pixel electrode 2b is visually recognized only in the opening P1. be able to.
【0133】すなわち、図8に示すように、透過用画素
電極2bの周辺部の上に、層間絶縁膜18を介して、組
をなす反射用画素電極2aが重畳されている。That is, as shown in FIG. 8, a pair of reflective pixel electrodes 2a is superposed on the peripheral portion of the transmissive pixel electrode 2b via the interlayer insulating film 18.
【0134】より具体的には、上記反射用画素電極2a
は、組をなす透過用画素電極2bの周辺部と、隣り合う
ソース配線4の間における透過用ゲート配線3bと、透
過用ゲート電極6bと、透過用ソース電極7bと、透過
用ドレイン電極8bの一部とに、少なくとも一層以上の
層間絶縁膜18を介して重ねられている。More specifically, the reflective pixel electrode 2a is used.
Is a peripheral portion of the pair of transparent pixel electrodes 2b, a transparent gate wiring 3b between adjacent source wirings 4, a transparent gate electrode 6b, a transparent source electrode 7b, and a transparent drain electrode 8b. It is overlapped with a part thereof through at least one interlayer insulating film 18.
【0135】以上のように、本実施の形態のアクティブ
マトリックス基板1bでは、前記実施の形態1のアクテ
ィブマトリックス基板1aよりも、開口率を高くするこ
とができる。したがって、上記対向基板13側に遮光用
のブラックマトリックスを設けることなく、コントラス
トの低下を防止することができ、光の利用効率を高める
ことが可能となる。As described above, the active matrix substrate 1b of the present embodiment can have a higher aperture ratio than the active matrix substrate 1a of the first embodiment. Therefore, it is possible to prevent a decrease in contrast without providing a black matrix for light shielding on the counter substrate 13 side, and it is possible to improve light utilization efficiency.
【0136】一方、上記実施の形態1でも示したとお
り、フリッカーを防止し、高品位な表示をするために
は、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電
極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極1
4の電圧を該最適対向電圧とすることが望ましい。On the other hand, as shown in the first embodiment, in order to prevent flicker and display with high quality, the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b are set. And counter electrode 1
It is desirable that the voltage of 4 is the optimum counter voltage.
【0137】そこで、本実施の形態においても、上記実
施の形態1で示した、パラメータによる制御方法を用い
る。つまり、反射用画素電極2aと透過用画素電極2b
とに対して、個別のパラメータを用いて制御し、反射用
画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最
適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を
該最適対向電圧の電圧値に設定することにより、対向電
極14の電圧と反射用画素電極2aの最適対向電圧との
ずれ、および、対向電極14の電圧と透過用画素電極2
bの最適対向電圧とのずれをなくしている。Therefore, also in this embodiment, the parameter-based control method shown in the first embodiment is used. That is, the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b
With respect to and, by using individual parameters to match the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b, and the voltage of the counter electrode 14 to the optimum counter voltage. By setting the voltage value of the counter electrode 14 to the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a, and the voltage of the counter electrode 14 and the transmission pixel electrode 2
The deviation from the optimum counter voltage of b is eliminated.
【0138】上記のパラメータによる制御方法は、上記
実施の形態1で示した、4つの方法の何れかを利用する
ことにより実現できるため、記載を省略する。The control method based on the above parameters can be realized by using any one of the four methods shown in the above-mentioned first embodiment, and the description thereof will be omitted.
【0139】したがって、本実施の形態のアクティブマ
トリックス基板1bを用いることにより、光の利用効率
が高く、高品位な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装
置を得ることが可能となる。また、消費電力を抑えるた
めに低周波駆動させる場合においても、フリッカー現象
を抑制することが可能となる。Therefore, by using the active matrix substrate 1b of the present embodiment, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal display device having high light utilization efficiency and capable of high-quality display. Further, it is possible to suppress the flicker phenomenon even when driving at a low frequency in order to suppress power consumption.
【0140】なお、本発明は、上記の実施の形態に限定
されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可
能である。The present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications can be made within the scope of the present invention.
【0141】上記の実施の形態では、上記反射用画素電
極2aは、組をなす透過用画素電極2bの周辺部と、隣
り合うソース配線4の間における透過用ゲート配線3b
と、透過用ゲート電極6bと、透過用ソース電極7b
と、透過用ドレイン電極8bの一部とに、少なくとも一
層以上の層間絶縁膜18を介して重ねられている。しか
し、組をなす反射用画素電極2aにより重畳される領域
は、上記のように、特に限定されるものではなく、十分
な開口率が得られるだけの領域であればよい。In the above-described embodiment, the reflective pixel electrode 2a includes the transparent gate wiring 3b between the peripheral portion of the pair of transmissive pixel electrodes 2b and the adjacent source wiring 4.
, A transparent gate electrode 6b, and a transparent source electrode 7b
And a part of the transmissive drain electrode 8b with at least one interlayer insulating film 18 interposed therebetween. However, the region overlapped by the pair of reflective pixel electrodes 2a is not particularly limited as described above, and may be any region that can provide a sufficient aperture ratio.
【0142】〔実施の形態3〕本発明の他の実施の形態
について図9ないし図11に基づいて説明すれば、以下
の通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態
1の図面に示した部材と同一の機能を有する部材につい
ては、同一の符号を付し、その説明を省略する。[Third Embodiment] The following will describe another embodiment of the present invention with reference to FIGS. 9 to 11. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of the first embodiment will be designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
【0143】本実施の形態のアクティブマトリックス基
板1cは、図9に示すとおり、上記実施の形態2と同様
に、1画素に占める反射用画素電極2aの割合を大きく
したものである。また、上記反射用画素電極2aは、実
施の形態2と同様に、開口部P2を有しており、該開口
部P2内においてのみ透過用画素電極2bによる表示を
視認することができる。As shown in FIG. 9, the active matrix substrate 1c of this embodiment has a large proportion of the reflective pixel electrode 2a in one pixel, as in the second embodiment. Further, the reflective pixel electrode 2a has the opening P2 as in the second embodiment, and the display by the transmissive pixel electrode 2b can be visually recognized only in the opening P2.
【0144】すなわち、図10に示すように、透過用画
素電極2bの周辺部の上に、層間絶縁膜18を介して、
組をなす反射用画素電極2aが重畳されている。That is, as shown in FIG. 10, on the peripheral portion of the transmissive pixel electrode 2b, with the interlayer insulating film 18 interposed,
A pair of reflective pixel electrodes 2a is superposed.
【0145】より具体的には、上記反射用画素電極2a
は、組をなす透過用画素電極2bの周辺部と、隣り合う
ソース配線4の間における透過用ゲート配線3bと、透
過用ゲート電極6bと、透過用ソース電極7bと、透過
用ドレイン電極8bとに、少なくとも一層以上の層間絶
縁膜18を介して重ねられている。More specifically, the reflective pixel electrode 2a is used.
Is a peripheral portion of the pair of transmissive pixel electrodes 2b, a transmissive gate wiring 3b between adjacent source wirings 4, a transmissive gate electrode 6b, a transmissive source electrode 7b, and a transmissive drain electrode 8b. Overlying at least one interlayer insulating film 18.
【0146】また、一対の上記反射用画素電極2aと透
過用画素電極2bとに接続される補助容量配線20を共
通化している。さらに、上記共通の補助容量配線20
は、反射用画素電極2aに重畳される位置に配されてい
る。Further, the auxiliary capacitance line 20 connected to the pair of the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b is shared. Furthermore, the common auxiliary capacitance line 20
Are arranged at positions overlapping the reflection pixel electrode 2a.
【0147】また、上記透過用ゲート電極3bは、上記
反射用ゲート電極3aと補助容量配線20の間に配され
ている。The transmission gate electrode 3b is arranged between the reflection gate electrode 3a and the auxiliary capacitance wiring 20.
【0148】つまり、本実施の形態のアクティブマトリ
ックス基板1cは、図10および図11に示すように、
上記透過用画素電極2bによる表示を視認することがで
きる範囲を除いた透過用画素電極2bの部分が、反射用
画素電極2aと透明絶縁性基板15との間に配されてお
り、かつ、上記共通の補助容量配線20が、透過用画素
電極2bと透明絶縁性基板15との間に配される構造と
なっている。That is, as shown in FIGS. 10 and 11, the active matrix substrate 1c of this embodiment has the following structure.
The portion of the transmissive pixel electrode 2b excluding the range where the display by the transmissive pixel electrode 2b can be visually recognized is disposed between the reflective pixel electrode 2a and the transparent insulating substrate 15, and The common auxiliary capacitance line 20 is arranged between the transparent pixel electrode 2b and the transparent insulating substrate 15.
【0149】なお、上記透過用画素電極2bは、共通の
補助容量配線20とその間に介在するゲート絶縁膜11
とによって、透過用補助容量素子を形成する。The transparent pixel electrode 2b has the common auxiliary capacitance line 20 and the gate insulating film 11 interposed therebetween.
A transparent auxiliary capacitance element is formed by and.
【0150】以上のような構造をとることにより、上記
対向基板13側から視認できる透過用画素電極2bの領
域と補助容量配線20とが重ならないため、透過用画素
電極2bの対向基板13側から視認できる領域の面積を
広くすることができる。With the above structure, the area of the transmissive pixel electrode 2b visible from the counter substrate 13 side does not overlap with the auxiliary capacitance wiring 20, so that the transmissive pixel electrode 2b from the counter substrate 13 side. The area of the visible region can be increased.
【0151】したがって、上記アクティブマトリックス
基板1cでは、上記透過用画素電極2bによる表示を視
認することができる範囲を除いた透過用画素電極2bの
部分が反射用画素電極2aと透明絶縁性基板15との間
に配されることにより、開口率が高くなることに加え
て、上記補助容量配線20の配置位置により、開口率を
さらに高くすることが可能となる。Therefore, in the active matrix substrate 1c, the portion of the transmissive pixel electrode 2b excluding the area where the display by the transmissive pixel electrode 2b can be visually recognized is the reflective pixel electrode 2a and the transparent insulating substrate 15. In addition to increasing the aperture ratio, it is possible to further increase the aperture ratio by the arrangement position of the auxiliary capacitance wiring 20.
【0152】それゆえ、上記アクティブマトリックス基
板1cでは、上記実施の形態2よりも、さらに開口率を
高くすることが可能となり、上記対向基板13側に遮光
用のブラックマトリックスを設けることなく、コントラ
ストの低下を防止することができ、光の利用効率を高め
ることが可能となる。Therefore, in the active matrix substrate 1c, the aperture ratio can be made higher than that in the second embodiment, and the contrast of the contrast can be improved without providing the black matrix for light shielding on the counter substrate 13 side. It is possible to prevent the decrease, and it is possible to improve the light utilization efficiency.
【0153】一方、上記アクティブマトリックス基板1
cでは、反射画素電極2aの反射用補助容量素子は、図
11に示すように、上記実施の形態1で示した接続電極
10を介することなく、補助容量電極19をゲート絶縁
膜11を介して共通の補助容量配線20に重畳すること
により形成されている。また、従来どおりに接続電極1
0を用いて補助容量を形成した場合には、該接続電極1
0が透過用ゲート配線3bとゲート絶縁膜11とを介し
て重なり、かなり大きな寄生容量が発生することにな
る。そのため、上記アクティブマトリックス基板1cで
は、上記コンタクトホール9を介して、補助容量電極1
9を反射用画素電極2aに接続させ、さらに、反射用画
素電極2aと透過用ゲート配線3bとの間の層間絶縁膜
18に誘電率が低くて膜厚の厚いアクリル系樹脂を採用
することにより、上記寄生容量が大きくなることを抑え
ている。On the other hand, the above active matrix substrate 1
In c, the reflection auxiliary capacitance element of the reflective pixel electrode 2a does not have the connection electrode 10 shown in the first embodiment but the auxiliary capacitance electrode 19 with the gate insulating film 11 interposed therebetween, as shown in FIG. It is formed by overlapping the common auxiliary capacitance line 20. In addition, the connection electrode 1
When the auxiliary capacitance is formed by using 0, the connection electrode 1
Zeros are overlapped with each other through the transparent gate wiring 3b and the gate insulating film 11, so that a considerably large parasitic capacitance is generated. Therefore, in the active matrix substrate 1c, the auxiliary capacitance electrode 1 is formed through the contact hole 9.
9 is connected to the reflective pixel electrode 2a, and the interlayer insulating film 18 between the reflective pixel electrode 2a and the transparent gate wiring 3b is made of an acrylic resin having a low dielectric constant and a large film thickness. The increase in the parasitic capacitance is suppressed.
【0154】一方、上記実施の形態1でも示したとお
り、フリッカーを防止し、高品位な表示をするために
は、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電
極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極1
4の電圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することが望
ましい。On the other hand, as shown in the first embodiment, in order to prevent flicker and display with high quality, the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b are set. And counter electrode 1
It is desirable to set the voltage of 4 to the voltage value of the optimum counter voltage.
【0155】そこで、本実施の形態においても、上記実
施の形態1で示した、パラメータによる制御方法を用い
る。つまり、反射用画素電極2aと透過用画素電極2b
とに対して、個別のパラメータを用いて制御し、反射用
画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最
適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を
該最適対向電圧の電圧値に設定することにより、対向電
極14の電圧と反射用画素電極2aの最適対向電圧との
ずれ、および、対向電極14の電圧と透過用画素電極2
bの最適対向電圧とのずれをなくしている。Therefore, also in this embodiment, the parameter-based control method shown in the first embodiment is used. That is, the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b
With respect to and, by using individual parameters to match the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b, and the voltage of the counter electrode 14 to the optimum counter voltage. By setting the voltage value of the counter electrode 14 to the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a, and the voltage of the counter electrode 14 and the transmission pixel electrode 2
The deviation from the optimum counter voltage of b is eliminated.
【0156】上記のパラメータによる制御方法は、上記
実施の形態1で示した、4つの方法の何れかを利用する
ことにより実現できるため、記載を省略する。The control method using the above parameters can be realized by using any one of the four methods shown in the above-mentioned first embodiment, and therefore the description thereof will be omitted.
【0157】したがって、本実施の形態のアクティブマ
トリックス基板1cを用いることにより、光の利用効率
が高く、高品位な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装
置を得ることが可能となる。また、消費電力を抑えるた
めに低周波駆動させる場合においても、フリッカー現象
を抑制することが可能となる。Therefore, by using the active matrix substrate 1c of the present embodiment, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal display device having high light utilization efficiency and capable of high-quality display. Further, it is possible to suppress the flicker phenomenon even when driving at a low frequency in order to suppress power consumption.
【0158】なお、本発明は、上記の実施の形態に限定
されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可
能である。The present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications can be made within the scope of the present invention.
【0159】例えば、組をなす反射用画素電極2aの平
面形状は、上記のように補助容量配線20が反射用画素
電極2aに重畳される位置に配されている範囲内で、さ
まざまな形状としてもよい。For example, the planar shape of the pair of reflective pixel electrodes 2a is set to various shapes within the range in which the auxiliary capacitance wiring 20 is arranged at the position where it is superposed on the reflective pixel electrode 2a as described above. Good.
【0160】〔実施の形態4〕本発明の他の実施の形態
について図12に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。なお、説明の便宜上、前記の実施の形態1または実
施の形態3の図面に示した部材と同一の機能を有する部
材については、同一の符号を付し、その説明を省略す
る。[Fourth Embodiment] The following will describe another embodiment of the present invention in reference to FIG. For convenience of explanation, members having the same functions as those shown in the drawings of the first or third embodiment are designated by the same reference numerals and the description thereof will be omitted.
【0161】本実施の形態のアクティブマトリックス基
板1dは、図12に示すとおり、上記実施の形態3のア
クティブマトリックス基板1cの反射用ゲート配線3a
と透過用ゲート配線3bとを共通のゲート配線3とし、
それに伴い、アクティブマトリックス基板1cの反射用
ゲート電極6aと透過用ゲート電極6bとを共通のゲー
ト電極6としたものである。As shown in FIG. 12, the active matrix substrate 1d of the present embodiment has the reflective gate wiring 3a of the active matrix substrate 1c of the third embodiment.
And the transparent gate wiring 3b as a common gate wiring 3,
Accordingly, the common gate electrode 6 is used as the reflective gate electrode 6a and the transmissive gate electrode 6b of the active matrix substrate 1c.
【0162】したがって、上記アクティブマトリックス
基板1dのゲート配線数は、実施の形態3におけるアク
ティブマトリックス基板1cのゲート配線数の半分しか
必要としない。これにより、本実施の形態においては、
実施の形態3において得られる効果に加えて、1組の反
射用画素電極2aと透過用画素電極2bとからなる画素
の微細化を図ることができ、解像度の高い液晶表示装置
が得られる。さらに、上記アクティブマトリックス基板
1dの生産時の歩留まりを低減することができ、上記ア
クティブマトリックス基板1dを備える液晶表示装置の
生産効率をあげることが可能となる。Therefore, the number of gate wiring lines on the active matrix substrate 1d is only required to be half the number of gate wiring lines on the active matrix substrate 1c in the third embodiment. As a result, in the present embodiment,
In addition to the effect obtained in the third embodiment, it is possible to miniaturize the pixel including one set of the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b, and a liquid crystal display device with high resolution can be obtained. Further, the yield of the active matrix substrate 1d during production can be reduced, and the production efficiency of the liquid crystal display device including the active matrix substrate 1d can be increased.
【0163】一方、上記実施の形態1でも示したとお
り、フリッカーを防止し、高品位な表示をするために
は、反射用画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電
極2bの最適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極1
4の電圧を該最適対向電圧の電圧値に設定することが望
ましい。On the other hand, as shown in the first embodiment, in order to prevent flicker and display with high quality, the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmission pixel electrode 2b are set. And counter electrode 1
It is desirable to set the voltage of 4 to the voltage value of the optimum counter voltage.
【0164】そこで、本実施の形態においても、上記実
施の形態1で示した、パラメータによる制御方法を用い
る。つまり、反射用画素電極2aと透過用画素電極2b
とに対して、個別のパラメータを用いて制御し、反射用
画素電極2aの最適対向電圧と透過用画素電極2bの最
適対向電圧とを一致させ、かつ、対向電極14の電圧を
該最適対向電圧の電圧値に設定することにより、対向電
極14の電圧と反射用画素電極2aの最適対向電圧との
ずれ、および、対向電極14の電圧と透過用画素電極2
bの最適対向電圧とのずれをなくしている。Therefore, also in this embodiment, the control method based on the parameters shown in the above-mentioned first embodiment is used. That is, the reflective pixel electrode 2a and the transmissive pixel electrode 2b
With respect to and, by using individual parameters to match the optimum counter voltage of the reflective pixel electrode 2a and the optimum counter voltage of the transmissive pixel electrode 2b, and the voltage of the counter electrode 14 to the optimum counter voltage. By setting the voltage value of the counter electrode 14 to the optimum counter voltage of the reflection pixel electrode 2a, and the voltage of the counter electrode 14 and the transmission pixel electrode 2
The deviation from the optimum counter voltage of b is eliminated.
【0165】上記のパラメータによる制御方法は、上記
実施の形態1で示した、4つの方法の何れかを利用する
ことにより実現できるため、記載を省略する。The control method based on the above parameters can be realized by using any one of the four methods shown in the above-mentioned first embodiment, and therefore the description thereof will be omitted.
【0166】したがって、本実施の形態のアクティブマ
トリックス基板1dを用いることにより、光の利用効率
が高く、高品位な表示が可能な信頼性の高い液晶表示装
置を得ることが可能となる。また、消費電力を抑えるた
めに低周波駆動させる場合においても、フリッカー現象
を抑制することが可能となる。Therefore, by using the active matrix substrate 1d of the present embodiment, it is possible to obtain a highly reliable liquid crystal display device having high light utilization efficiency and capable of high-quality display. Further, it is possible to suppress the flicker phenomenon even when driving at a low frequency in order to suppress power consumption.
【0167】なお、本発明は、上記の実施の形態に限定
されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更が可
能である。The present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications can be made within the scope of the present invention.
【0168】例えば、実施の形態3にも示したとおり、
組をなす反射用画素電極2aの平面形状を、上記のよう
に補助容量配線20が反射用画素電極2aに重畳される
位置に配されている範囲内で、さまざまな形状としても
よい。For example, as shown in the third embodiment,
The planar shape of the pair of reflective pixel electrodes 2a may be various shapes within the range in which the auxiliary capacitance line 20 is arranged at the position where it is superposed on the reflective pixel electrode 2a as described above.
【0169】[0169]
【発明の効果】本発明の液晶表示装置は、以上のよう
に、上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子
と第2のスイッチング素子とからなり、上記反射用画素
電極は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート
配線に接続され、上記透過用画素電極は、第2のスイッ
チング素子を介して第2のゲート配線に接続され、上記
補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される反射
用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続される透
過用補助容量素子とを有し、第1のゲート配線に入力さ
れるゲート信号の振幅と、第2のゲート配線に入力され
るゲート信号の振幅と、上記第1のスイッチング素子の
ゲート電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記第
2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極との
間の寄生容量と、上記反射用画素電極と上記対向電極と
の間の上記液晶層の容量と、上記透過用画素電極と上記
対向電極との間の上記液晶層の容量と、上記反射用補助
容量素子の容量と、上記透過用補助容量素子の容量と
が、上記スイッチング素子のスイッチング時に生じる、
反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト
量と、透過用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧
シフト量とが同じになるように設定されているものであ
る。As described above, in the liquid crystal display device of the present invention, the switching element includes the first switching element and the second switching element, and the reflection pixel electrode is the first switching element. To the first gate line, the transparent pixel electrode is connected to the second gate line via the second switching element, and the auxiliary capacitance element is connected to the reflective pixel electrode. A reflection auxiliary capacitance element and a transmission auxiliary capacitance element connected to the transmission pixel electrode, and the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring and the second gate wiring are input. The amplitude of the gate signal, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element, and the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element. A capacitance of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode, a capacitance of the liquid crystal layer between the transmission pixel electrode and the counter electrode, a capacitance of the reflection auxiliary capacitance element, and The capacitance of the transmissive auxiliary capacitance element occurs at the time of switching of the switching element,
The voltage shift amount of the reflection pixel electrode potential from the source signal voltage and the voltage shift amount of the transmission pixel electrode potential from the source signal voltage are set to be the same.
【0170】それゆえ、本発明の液晶表示装置では、液
晶表示装置を長期間使用した場合に生じる、ムラやかす
みといった表示不良の発生を抑えることができる。さら
に、フリッカーの発生も抑制することができる。一方、
上記反射用画素電極と透過用画素電極とを用いているた
め、光の利用効率は上がっている。それゆえ、周囲光の
状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な表示
を可能とし得るという効果を奏する。Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of display defects such as unevenness and haze which occur when the liquid crystal display device is used for a long period of time. Further, the occurrence of flicker can be suppressed. on the other hand,
Since the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode are used, the light utilization efficiency is improved. Therefore, there is an effect that it is possible to realize high-quality display with high light utilization efficiency regardless of the state of ambient light.
【0171】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、第1のスイッチング素子のゲート
電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、
反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をCl
c(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をC
cs(r)とし、第2のスイッチング素子のゲート電極
とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過
用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc
(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCc
s(t)とし、上記第1のゲート配線に入力されるゲー
ト信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲー
ト配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)と
した場合に、ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd
(r)+Clc(r)+Ccs(r))=ΔVg(t)
×Cgd(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Cc
s(t))なる関係を満たすものである。In the liquid crystal display device of the present invention, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r),
The capacitance of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode is set to Cl.
c (r) and the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element are C
cs (r), the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t), and the capacitance of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is Clc.
(T), and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element is Cc
s (t), the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring is ΔVg (r), and the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring is ΔVg (t). ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd
(R) + Clc (r) + Ccs (r)) = ΔVg (t)
× Cgd (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Cc
It satisfies the relationship of s (t).
【0172】それゆえ、上記液晶表示装置では、上記反
射用最適対向電圧と透過用最適対向電圧とを一致させる
ことが可能となるという効果を奏する。Therefore, in the above liquid crystal display device, there is an effect that the optimum reflection opposing voltage and the optimum transmission opposing voltage can be matched.
【0173】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、第1のゲート配線と、第2のゲー
ト配線とに同一のゲート信号を入力するものである。Further, the liquid crystal display device of the present invention is the same as the above liquid crystal display device, in which the same gate signal is input to the first gate wiring and the second gate wiring.
【0174】それゆえ、反射用画素電極に接続されたゲ
ート配線からのゲート信号の位相と、透過用画素電極に
接続されたゲート配線からのゲート信号との位相とをず
らす必要がなくなるため、位相をずらして順次ゲート信
号を入力する場合と比較して、ゲート信号の周波数を半
分にすることが可能となる。それゆえ、消費電力を低減
しつつ、高品位な表示を可能とし得るという効果を奏す
る。Therefore, it is not necessary to shift the phase of the gate signal from the gate wiring connected to the reflection pixel electrode and the phase of the gate signal from the gate wiring connected to the transmission pixel electrode. It is possible to halve the frequency of the gate signal as compared with the case where the gate signals are sequentially input with the shift. Therefore, it is possible to achieve high-quality display while reducing power consumption.
【0175】本発明の液晶表示装置は、以上のように、
上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第
2のスイッチング素子とからなり、上記反射用画素電極
は、第1のスイッチング素子を介して第1のゲート配線
に接続され、上記透過用画素電極は、第2のスイッチン
グ素子を介して第2のゲート配線に接続され、上記補助
容量素子は、上記反射用画素電極に接続される反射用補
助容量素子と、上記透過用画素電極に接続される透過用
補助容量素子とを有し、上記第1のスイッチング素子お
よび上記第2のスイッチング素子のスイッチング時に生
じる、反射用画素電極電位のソース信号電圧からの電圧
シフト量と、透過用画素電極電位のソース信号電圧から
の電圧シフト量とが同じになるように、上記反射用画素
電極と上記透過用画素電極とによるそれぞれの表示タイ
ミングにあわせて、第1のスイッチング素子を介して反
射用画素電極に印加されるソース信号電圧と、第2のス
イッチング素子を介して透過用画素電極に印加されるソ
ース信号電圧とを異ならせておくものである。The liquid crystal display device of the present invention is, as described above,
The switching element includes a first switching element and a second switching element, the reflection pixel electrode is connected to a first gate line via the first switching element, and the transmission pixel electrode is , A second auxiliary wiring connected to the second gate wiring through a second switching element, the auxiliary capacitance element being connected to the reflection pixel electrode, and the reflection auxiliary capacitance element being connected to the transmission pixel electrode. And an auxiliary capacitance element for use in the transmission, and a voltage shift amount from the source signal voltage of the pixel electrode potential for reflection and the source of the pixel electrode potential for transmission, which occur when the first switching element and the second switching element are switched. In accordance with the display timing of each of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode so that the voltage shift amount from the signal voltage becomes the same. The source signal voltages applied to the first pixel electrode for reflecting through the switching element, is intended to be made different from the source signal voltages applied to the transmissive pixel electrode through the second switching element.
【0176】それゆえ、本発明の液晶表示装置では、液
晶表示装置を長期間使用した場合に生じる、ムラやかす
みといった表示不良の発生を抑えることができる。さら
に、フリッカーの発生も抑制することができる。一方、
上記反射用画素電極と透過用画素電極とを用いているた
め、光の利用効率は上がっている。それゆえ、周囲光の
状態によらず、光の利用効率が高く、かつ高品位な表示
を可能とし得るという効果を奏する。Therefore, in the liquid crystal display device of the present invention, it is possible to suppress the occurrence of display defects such as unevenness and blurring that occur when the liquid crystal display device is used for a long period of time. Further, the occurrence of flicker can be suppressed. on the other hand,
Since the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode are used, the light utilization efficiency is improved. Therefore, there is an effect that it is possible to realize high-quality display with high light utilization efficiency regardless of the state of ambient light.
【0177】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、第1のスイッチング素子のゲート
電極とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、
反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をCl
c(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をC
cs(r)とし、第2のスイッチング素子のゲート電極
とドレイン電極との間の寄生容量をCgd(t)、透過
用画素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc
(t)、および、上記透過用補助容量素子の容量をCc
s(t)とし、上記第1のゲート配線に入力されるゲー
ト信号の振幅をΔVg(r)、および、上記第2のゲー
ト配線に入力されるゲート信号の振幅をΔVg(t)と
した場合に、上記反射用画素電極に印加されるソース信
号電圧と、上記透過用画素電極に印加されるソース信号
電圧との差ΔVsは、ΔVs=ΔVg(r)×Cgd
(r)/(Cgd(r)+Clc(r)+Ccs
(r))−ΔVg(t)×Cgd(t)/(Cgd
(t)+Clc(t)+Ccs(t))なる関係を満た
すものである。In the liquid crystal display device of the present invention, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r),
The capacitance of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode is set to Cl.
c (r) and the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element are C
cs (r), the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t), and the capacitance of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is Clc.
(T), and the capacitance of the transmission auxiliary capacitance element is Cc
s (t), the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring is ΔVg (r), and the amplitude of the gate signal input to the second gate wiring is ΔVg (t). Further, the difference ΔVs between the source signal voltage applied to the reflection pixel electrode and the source signal voltage applied to the transmission pixel electrode is ΔVs = ΔVg (r) × Cgd
(R) / (Cgd (r) + Clc (r) + Ccs
(R)) − ΔVg (t) × Cgd (t) / (Cgd
It satisfies the relation of (t) + Clc (t) + Ccs (t)).
【0178】それゆえ、反射用画素電極のシフト後の電
位と、透過用画素電極のシフト後の電位とが、上記のソ
ース信号電圧の差ΔVsにより、一致することになる。
それゆえ、上記液晶表示装置では、上記反射用最適対向
電圧と透過用最適対向電圧とを一致させることが可能と
なるという効果を奏する。Therefore, the potential after the shift of the reflective pixel electrode and the potential after the shift of the transmissive pixel electrode coincide with each other due to the difference ΔVs of the source signal voltage.
Therefore, in the liquid crystal display device, it is possible to match the optimum reflection opposing voltage and the optimum transmission opposing voltage.
【0179】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、透過用画素電極と対向電極との間
の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の
液晶層の厚さよりも大きくするものである。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is set to the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode. It is made larger than the layer thickness.
【0180】それゆえ、上記反射画素電極の領域に対応
する液晶層と、上記透過画素電極の領域に対応する液晶
層とにおける光の特性の変化を揃えることができる。そ
れゆえ、光の利用効率をさらに高くすることが可能とな
るという効果を奏する。Therefore, changes in the light characteristics of the liquid crystal layer corresponding to the area of the reflective pixel electrode and the liquid crystal layer corresponding to the area of the transmissive pixel electrode can be made uniform. Therefore, there is an effect that it is possible to further increase the light utilization efficiency.
【0181】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、透過用画素電極と対向電極との間
の液晶層の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の
液晶層の厚さの2倍とするものである。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the thickness of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is set to the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode. It is twice the thickness of the layer.
【0182】それゆえ、上記反射画素電極の領域に対応
する液晶層と、上記透過画素電極の領域に対応する液晶
層とにおける光の特性の変化を一致させることができ
る。それゆえ、光の利用効率をいっそう高くすることが
可能となるという効果を奏する。Therefore, it is possible to make the changes in the light characteristics of the liquid crystal layer corresponding to the region of the reflective pixel electrode and the liquid crystal layer corresponding to the region of the transmissive pixel electrode coincide with each other. Therefore, there is an effect that it is possible to further increase the light use efficiency.
【0183】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、透過用画素電極の周辺部が、一層
以上の絶縁膜を介して、組をなす反射用画素電極により
重畳されているものである。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, a peripheral portion of the transmissive pixel electrode is superposed by a pair of reflective pixel electrodes via one or more insulating films. It is a thing.
【0184】それゆえ、液晶表示装置全体での開口率が
高くなり、光の利用効率を上げることが可能となるとい
う効果を奏する。Therefore, the aperture ratio of the entire liquid crystal display device is increased, and the light utilization efficiency can be improved.
【0185】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、反射用補助容量素子は、反射用補
助容量配線と、反射用画素電極と電気的に接続された導
電膜とにより形成され、透過用補助容量素子は、透過用
補助容量配線と、透過用画素電極とにより形成され、上
記反射用補助容量配線と上記透過用補助容量配線とが、
組をなす反射用画素電極と透過用画素電極では同一配線
であり、上記補助容量配線は、反射用画素電極が重畳し
ていない透過用画素電極の領域とは重畳しないものであ
る。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the reflection auxiliary capacitance element is formed by the reflection auxiliary capacitance wiring and the conductive film electrically connected to the reflection pixel electrode. The transparent auxiliary capacitance element is formed by a transparent auxiliary capacitance line and a transparent pixel electrode, and the reflection auxiliary capacitance line and the transparent auxiliary capacitance line are
The reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode forming a pair have the same wiring, and the auxiliary capacitance wiring does not overlap the area of the transmissive pixel electrode where the reflective pixel electrode does not overlap.
【0186】それゆえ、上記透過用画素電極の液晶表示
に利用される実面積を、補助容量配線の面積分、さらに
増加させることが可能となる。それゆえ、液晶表示装置
全体での開口率をさらに高くすることができ、光の利用
効率をいっそう上げることが可能となるという効果を奏
する。Therefore, it is possible to further increase the actual area used for the liquid crystal display of the transmissive pixel electrode by the area of the auxiliary capacitance wiring. Therefore, the aperture ratio of the entire liquid crystal display device can be further increased, and the light utilization efficiency can be further enhanced.
【0187】また、本発明の液晶表示装置は、上記の液
晶表示装置において、第1のゲート配線と第2のゲート
配線とが、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極と
では同一配線であるものである。Further, in the liquid crystal display device of the present invention, in the above liquid crystal display device, the first gate wiring and the second gate wiring are the same wiring in the pair of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode. Is what is.
【0188】したがって、上記画素の微細化を図ること
ができ、解像度の高い液晶表示装置が得られると同時
に、液晶表示装置の生産時の歩留まりを大幅に低減する
ことが可能となるという効果を奏する。Therefore, the pixels can be miniaturized, a liquid crystal display device having a high resolution can be obtained, and at the same time, the yield in the production of the liquid crystal display device can be significantly reduced. .
【図1】本発明におけるアクティブマトリックス基板の
実施の一形態を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of an active matrix substrate according to the present invention.
【図2】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装
置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のA
−A線矢視断面図である。FIG. 2 A of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
It is a sectional view taken along line A-A.
【図3】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装
置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のB
−B線矢視断面図である。FIG. 3B of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line B-arrow.
【図4】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装
置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のC
−C線矢視断面図である。FIG. 4 is a C of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
It is a C line arrow cross section.
【図5】(a)は上記アクティブマトリックス基板にお
ける透過用画素電極に接続される薄膜トランジスタ(T
FT)のゲート電極に入力される補正されたゲート信号
を示す波形図であり、(b)は上記アクティブマトリッ
クス基板における透過用画素電極に印加される補正され
たドレイン電圧を示す信号の波形図である。FIG. 5A is a thin film transistor (T) connected to a transmissive pixel electrode in the active matrix substrate.
FIG. 4B is a waveform diagram showing a corrected gate signal input to the gate electrode of FT), and FIG. 6B is a waveform diagram of a signal showing a corrected drain voltage applied to the transmissive pixel electrode on the active matrix substrate. is there.
【図6】(a)は上記アクティブマトリックス基板にお
けるソース電極に入力される補正されたソース信号の波
形図であり、(b)は上記アクティブマトリックス基板
における透過用画素電極に印加される補正されたドレイ
ン電圧を示す信号の波形図である。FIG. 6A is a waveform diagram of a corrected source signal input to a source electrode in the active matrix substrate, and FIG. 6B is a waveform diagram of a corrected source signal applied to a transmissive pixel electrode in the active matrix substrate. It is a wave form diagram of the signal which shows drain voltage.
【図7】本発明におけるアクティブマトリックス基板の
他の実施の一形態を示す平面図であるFIG. 7 is a plan view showing another embodiment of the active matrix substrate of the present invention.
【図8】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示装
置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板のD
−D線矢視断面図である。FIG. 8 is a view showing the D of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line D-arrow.
【図9】本発明におけるアクティブマトリックス基板の
さらに他の実施の一形態を示す平面図であるFIG. 9 is a plan view showing still another embodiment of the active matrix substrate of the present invention.
【図10】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示
装置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板の
E−E線矢視断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view taken along line EE of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
【図11】上記アクティブマトリックス基板を液晶表示
装置に用いた場合の上記アクティブマトリックス基板の
F−F線矢視断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line FF of the active matrix substrate when the active matrix substrate is used in a liquid crystal display device.
【図12】本発明におけるアクティブマトリックス基板
のさらに他の実施の一形態を示す平面図であるFIG. 12 is a plan view showing still another embodiment of the active matrix substrate according to the present invention.
【図13】従来のアクティブマトリックス基板を示す平
面図である。FIG. 13 is a plan view showing a conventional active matrix substrate.
【図14】(a)は上記従来のアクティブマトリックス
基板における反射用画素電極に接続される薄膜トランジ
スタ(TFT)のゲート電極に入力されるゲート信号を
示す波形図であり、(b)は上記従来のアクティブマト
リックス基板における透過用画素電極に接続される薄膜
トランジスタ(TFT)のゲート電極に入力されるゲー
ト信号の波形図であり、(c)は上記従来のアクティブ
マトリックス基板におけるソース電極に入力されるソー
ス信号を示す波形図であり、(d)は上記従来のアクテ
ィブマトリックス基板における反射用画素電極に印加さ
れるドレイン電圧を示す信号の波形図であり、(e)は
上記従来のアクティブマトリックス基板における透過用
画素電極に印加されるドレイン電圧を示す信号の波形図
である。14A is a waveform diagram showing a gate signal input to a gate electrode of a thin film transistor (TFT) connected to a reflective pixel electrode in the conventional active matrix substrate, and FIG. It is a wave form diagram of the gate signal input into the gate electrode of the thin film transistor (TFT) connected to the pixel electrode for transmission in an active matrix substrate, (c) is a source signal input into the source electrode in the said conventional active matrix substrate. FIG. 4D is a waveform diagram of a signal indicating a drain voltage applied to the reflective pixel electrode in the conventional active matrix substrate, and FIG. 6E is a waveform diagram for transmission in the conventional active matrix substrate. It is a wave form diagram of the signal which shows the drain voltage applied to a pixel electrode.
1a・1b・1c・1d アクティブマトリックス基板
2 画素電極
2a 反射用画素電極
2b 透過用画素電極
3 ゲート配線
3a 反射用ゲート配線 (第1のゲート配線)
3b 透過用ゲート配線(第2のゲート配線)
4 ソース配線
5 薄膜トランジスタ (スイッチング素子)
5a 反射用薄膜トランジスタ (第1のスイッチング素
子)
5b 透過用薄膜トランジスタ (第2のスイッチング素
子)
6 ゲート電極
6a 反射用ゲート電極
6b 透過用ゲート電極
7 ソース電極
7a 反射用ソース電極
7b 透過用ソース電極
8 ドレイン電極
8a 反射用ドレイン電極
8b 透過用ドレイン電極
9 コンタクトホール
10 接続電極
11 ゲート絶縁膜
12 補助容量配線
12a 反射用補助容量配線
12b 透過用補助容量配線
13 対向基板
14 対向電極
15 透明絶縁性基板
16 半導体層
17 ドーピングされた半導体層
18 層間絶縁膜 (絶縁膜)
19 補助容量電極(導電膜)
20 補助容量配線
21 ゲート配線
22 ソース配線
23 薄膜トランジスタ(TFT)
24 コンタクトホール
25 接続配線
26 反射領域・反射用画素電極
27 補助容量配線
28 透過領域・透過用画素電極
29 液晶層
P1・P2 開口部1a, 1b, 1c, 1d Active matrix substrate 2 Pixel electrode 2a Reflective pixel electrode 2b Transmissive pixel electrode 3 Gate wiring 3a Reflective gate wiring (first gate wiring) 3b Transparent gate wiring (second gate wiring) 4 source wiring 5 thin film transistor (switching element) 5a reflective thin film transistor (first switching element) 5b transmissive thin film transistor (second switching element) 6 gate electrode 6a reflective gate electrode 6b transmissive gate electrode 7 source electrode 7a reflective Source electrode 7b Transmission source electrode 8 Drain electrode 8a Reflection drain electrode 8b Transmission drain electrode 9 Contact hole 10 Connection electrode 11 Gate insulating film 12 Auxiliary capacitance wiring 12a Reflection auxiliary capacitance wiring 12b Transmission auxiliary capacitance wiring 13 Counter substrate 14 Counter electrode 15 transparent Substrate 16 semiconductor layer 17 doped semiconductor layer 18 interlayer insulating film (insulating film) 19 auxiliary capacitance electrode (conductive film) 20 auxiliary capacitance wiring 21 gate wiring 22 source wiring 23 thin film transistor (TFT) 24 contact hole 25 connection wiring 26 reflection Area / reflection pixel electrode 27 Auxiliary capacitance wiring 28 Transmission area / transmission pixel electrode 29 Liquid crystal layers P1 and P2 Opening
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 624 G09G 3/20 624B 3/36 3/36 H01L 21/336 H01L 29/78 612Z 29/786 Fターム(参考) 2H092 GA13 JA24 JB04 JB05 JB42 JB69 NA07 NA29 PA06 2H093 NA16 NC03 NC34 NC35 NC65 ND09 ND10 ND12 ND35 ND47 NH05 5C006 AC24 AF46 BB16 BB28 BC06 BC08 FA23 FA34 FA38 FA47 GA02 5C080 AA10 BB05 CC03 DD06 DD26 FF11 JJ04 JJ06 5F110 AA30 BB01 CC07 DD02 EE44 GG45 HK02 HK07 HK08 HK22 HK33 HK35 HL01 HL02 HL03 HL06 NN02 NN27 NN36 NN73─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09G 3/20 624 G09G 3/20 624B 3/36 3/36 H01L 21/336 H01L 29/78 612Z 29 / 786 F term (reference) 2H092 GA13 JA24 JB04 JB05 JB42 JB69 NA07 NA29 PA06 2H093 NA16 NC03 NC34 NC35 NC65 ND09 ND10 ND12 ND35 ND47 NH05 5C006 AC24 AF46 BB16 BB28 BC06 BC11 FA06 DD06BB06A11 AA30 BB01 CC07 DD02 EE44 GG45 HK02 HK07 HK08 HK22 HK33 HK35 HL01 HL02 HL03 HL06 NN02 NN27 NN36 NN73
Claims (10)
過表示を行うための透過用画素電極とを有するマトリッ
クス状に配された複数の画素電極と、上記画素電極の電
位を保持する補助容量素子と、ソース信号を供給するソ
ース配線と、ゲート信号を供給するゲート配線と、ソー
ス電極とゲート電極とドレイン電極とを備える、上記ゲ
ート信号によって選択されてソース信号を上記画素電極
に与えるスイッチング素子とを有するアクティブマトリ
ックス基板と、 上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とに対向する
対向電極を有する対向基板と、 上記アクティブマトリックス基板と上記対向基板との間
に形成される液晶層とを備える液晶表示装置において、 上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第
2のスイッチング素子とからなり、 上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介し
て第1のゲート配線に接続され、 上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介し
て第2のゲート配線に接続され、 上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される
反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続され
る透過用補助容量素子とを有し、 第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、第
2のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅と、上記
第1のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極と
の間の寄生容量と、上記第2のスイッチング素子のゲー
ト電極とドレイン電極との間の寄生容量と、上記反射用
画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層の容量と、
上記透過用画素電極と上記対向電極との間の上記液晶層
の容量と、上記反射用補助容量素子の容量と、上記透過
用補助容量素子の容量とが、上記スイッチング素子のス
イッチング時に生じる、反射用画素電極電位のソース信
号電圧からの電圧シフト量と、透過用画素電極電位のソ
ース信号電圧からの電圧シフト量とが同じになるように
設定されていることを特徴とする液晶表示装置。1. A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix having a reflective pixel electrode for performing reflective display and a transmissive pixel electrode for performing transmissive display, and an auxiliary for holding the potential of the pixel electrode. A switching element that includes a capacitor, a source wiring that supplies a source signal, a gate wiring that supplies a gate signal, a source electrode, a gate electrode, and a drain electrode, and that selects the source signal to supply the source signal to the pixel electrode. An active matrix substrate having an element, a counter substrate having a counter electrode facing the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, and a liquid crystal layer formed between the active matrix substrate and the counter substrate. In the liquid crystal display device including: the switching element includes a first switching element and a second switching element. The reflection pixel electrode is connected to the first gate line via the first switching element, and the transmission pixel electrode is connected to the second gate line via the second switching element. The auxiliary capacitance element has a reflection auxiliary capacitance element connected to the reflection pixel electrode and a transmission auxiliary capacitance element connected to the transmission pixel electrode, and is input to the first gate line. Amplitude of the gate signal input to the second gate wiring, the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element, and the gate of the second switching element. A parasitic capacitance between an electrode and a drain electrode, a capacitance of the liquid crystal layer between the reflection pixel electrode and the counter electrode,
The capacitance of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode, the capacitance of the reflective auxiliary capacitance element, and the capacitance of the transmissive auxiliary capacitance element are generated at the time of switching of the switching element. A liquid crystal display device, wherein the amount of voltage shift of the pixel electrode potential for use from the source signal voltage and the amount of voltage shift of the pixel electrode potential for transmission from the source signal voltage are set to be the same.
レイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、反射用画
素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc
(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をCc
s(r)とし、 第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極と
の間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極と対向
電極との間の液晶層の容量をClc(t)、および、上
記透過用補助容量素子の容量をCcs(t)とし、 上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅を
ΔVg(r)、および、上記第2のゲート配線に入力さ
れるゲート信号の振幅をΔVg(t)とした場合に、 ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)+Clc
(r)+Ccs(r))=ΔVg(t)×Cgd(t)
/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs(t)) なる関係を満たすことを特徴とする請求項1記載の液晶
表示装置。2. The parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r), and the capacitance of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode is Clc.
(R) and the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element are Cc
s (r), the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t), the capacitance of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is Clc (t), And the capacitance of the transmissive auxiliary capacitance element is Ccs (t), the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring is ΔVg (r), and the gate input to the second gate wiring is When the signal amplitude is ΔVg (t), ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r) + Clc
(R) + Ccs (r)) = ΔVg (t) × Cgd (t)
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a relationship of / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs (t)) is satisfied.
に同一のゲート信号を入力することを特徴とする請求項
1又は2に記載の液晶表示装置。3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the same gate signal is input to the first gate wiring and the second gate wiring.
過表示を行うための透過用画素電極とを有するマトリッ
クス状に配された複数の画素電極と、上記画素電極の電
位を保持する補助容量素子と、ソース信号を供給するソ
ース配線と、ゲート信号を供給するゲート配線と、ソー
ス電極とゲート電極とドレイン電極とを備える、上記ゲ
ート信号によって選択されてソース信号を上記画素電極
に与えるスイッチング素子とを有するアクティブマトリ
ックス基板と、 上記反射用画素電極と上記透過用画素電極とに対向する
対向電極を有する対向基板と、 上記アクティブマトリックス基板と上記対向基板との間
に形成される液晶層とを備える液晶表示装置において、 上記スイッチング素子は、第1のスイッチング素子と第
2のスイッチング素子とからなり、 上記反射用画素電極は、第1のスイッチング素子を介し
て第1のゲート配線に接続され、 上記透過用画素電極は、第2のスイッチング素子を介し
て第2のゲート配線に接続され、 上記補助容量素子は、上記反射用画素電極に接続される
反射用補助容量素子と、上記透過用画素電極に接続され
る透過用補助容量素子とを有し、 上記第1のスイッチング素子および上記第2のスイッチ
ング素子のスイッチング時に生じる、反射用画素電極電
位のソース信号電圧からの電圧シフト量と、透過用画素
電極電位のソース信号電圧からの電圧シフト量とが同じ
になるように、上記反射用画素電極と上記透過用画素電
極とによるそれぞれの表示タイミングにあわせて、第1
のスイッチング素子を介して反射用画素電極に印加され
るソース信号電圧と、第2のスイッチング素子を介して
透過用画素電極に印加されるソース信号電圧とを異なら
せておくことを特徴とする液晶表示装置。4. A plurality of pixel electrodes arranged in a matrix having a reflective pixel electrode for performing a reflective display and a transmissive pixel electrode for performing a transmissive display, and an auxiliary for holding the potential of the pixel electrode. A switching element that includes a capacitor, a source wiring that supplies a source signal, a gate wiring that supplies a gate signal, a source electrode, a gate electrode, and a drain electrode, and that selects the source signal to supply the source signal to the pixel electrode. An active matrix substrate having an element, a counter substrate having a counter electrode facing the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode, and a liquid crystal layer formed between the active matrix substrate and the counter substrate. In the liquid crystal display device including: the switching element includes a first switching element and a second switching element. The reflection pixel electrode is connected to the first gate line via the first switching element, and the transmission pixel electrode is connected to the second gate line via the second switching element. The auxiliary capacitance element has a reflection auxiliary capacitance element connected to the reflection pixel electrode and a transmission auxiliary capacitance element connected to the transmission pixel electrode, and the first switching element and the The reflection is performed so that the voltage shift amount of the reflection pixel electrode potential from the source signal voltage and the voltage shift amount of the transmission pixel electrode potential from the source signal voltage generated at the time of switching of the second switching element are the same. The first pixel in accordance with the respective display timings of the pixel electrode for display and the pixel electrode for transmission.
And a source signal voltage applied to the reflective pixel electrode via the second switching element and a source signal voltage applied to the transmissive pixel electrode via the second switching element. Display device.
レイン電極との間の寄生容量をCgd(r)、反射用画
素電極と対向電極との間の液晶層の容量をClc
(r)、および、上記反射用補助容量素子の容量をCc
s(r)とし、 第2のスイッチング素子のゲート電極とドレイン電極と
の間の寄生容量をCgd(t)、透過用画素電極と対向
電極との間の液晶層の容量をClc(t)、および、上
記透過用補助容量素子の容量をCcs(t)とし、 上記第1のゲート配線に入力されるゲート信号の振幅を
ΔVg(r)、および、上記第2のゲート配線に入力さ
れるゲート信号の振幅をΔVg(t)とした場合に、 上記反射用画素電極に印加されるソース信号電圧と、上
記透過用画素電極に印加されるソース信号電圧との差Δ
Vsは、 ΔVs=ΔVg(r)×Cgd(r)/(Cgd(r)
+Clc(r)+Ccs(r))−ΔVg(t)×Cg
d(t)/(Cgd(t)+Clc(t)+Ccs
(t)) なる関係を満たすことを特徴とする請求項4記載の液晶
表示装置。5. The parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the first switching element is Cgd (r), and the capacitance of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode is Clc.
(R) and the capacitance of the reflection auxiliary capacitance element are Cc
s (r), the parasitic capacitance between the gate electrode and the drain electrode of the second switching element is Cgd (t), the capacitance of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is Clc (t), And the capacitance of the transmissive auxiliary capacitance element is Ccs (t), the amplitude of the gate signal input to the first gate wiring is ΔVg (r), and the gate input to the second gate wiring is When the signal amplitude is ΔVg (t), the difference Δ between the source signal voltage applied to the reflective pixel electrode and the source signal voltage applied to the transmissive pixel electrode is Δ.
Vs is ΔVs = ΔVg (r) × Cgd (r) / (Cgd (r)
+ Clc (r) + Ccs (r)) − ΔVg (t) × Cg
d (t) / (Cgd (t) + Clc (t) + Ccs
The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the relationship (t) is satisfied.
の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の
厚さよりも大きくすることを特徴とする請求項1〜5の
いずれか1項に記載の液晶表示装置。6. The thickness of the liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is greater than the thickness of the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode. 6. The liquid crystal display device according to any one of items 5 to 5.
の厚さを、反射用画素電極と対向電極との間の液晶層の
厚さの2倍とすることを特徴とする請求項6記載の液晶
表示装置。7. The liquid crystal layer between the transmissive pixel electrode and the counter electrode is twice as thick as the liquid crystal layer between the reflective pixel electrode and the counter electrode. Item 7. A liquid crystal display device according to item 6.
縁膜を介して、組をなす反射用画素電極により重畳され
ていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に
記載の液晶表示装置。8. A peripheral portion of the transmissive pixel electrode is superposed by a pair of reflective pixel electrodes with one or more insulating films interposed therebetween. The liquid crystal display device according to item 1.
線と、反射用画素電極と電気的に接続された導電膜とに
より形成され、透過用補助容量素子は、透過用補助容量
配線と、透過用画素電極とにより形成され、上記反射用
補助容量配線と上記透過用補助容量配線とが、組をなす
反射用画素電極と透過用画素電極では同一配線であり、
上記補助容量配線は、反射用画素電極が重畳していない
透過用画素電極の領域とは重畳しないことを特徴とする
請求項1〜8のいずれか1項に記載の液晶表示装置。9. The reflection auxiliary capacitance element is formed of a reflection auxiliary capacitance wiring and a conductive film electrically connected to the reflection pixel electrode, and the transmission auxiliary capacitance element is formed of a transmission auxiliary capacitance wiring. Formed by a transmissive pixel electrode, the reflective auxiliary capacitance line and the transmissive auxiliary capacitance line are the same line in the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode forming a pair,
9. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the auxiliary capacitance line does not overlap a region of the transmissive pixel electrode where the reflective pixel electrode does not overlap.
が、組をなす反射用画素電極と透過用画素電極とでは同
一配線であることを特徴とする請求項9記載の液晶表示
装置。10. The liquid crystal display device according to claim 9, wherein the first gate wiring and the second gate wiring are the same wiring in the pair of the reflective pixel electrode and the transmissive pixel electrode. .
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