JP2003222840A - 表示素子用プラスチック基板および液晶表示装置 - Google Patents
表示素子用プラスチック基板および液晶表示装置Info
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】表面平滑性が優れ、液晶表示素子用基板等の表
示素子用プラスチック基板として優れた特性を持ち、効
率よく連続生産可能な表示素子用プラスチック基板およ
びこれを用いた液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 アクリレートモノマーおよび高分子量ア
クリレートを主成分とする紫外線硬化性樹脂組成物をベ
ースフィルム上に積層させ、前記紫外線硬化性樹脂組成
物が軟化した状態で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍ
ａｘ≦０．１μの平滑面を密着させて紫外線を照射し、
平滑面を転写、成形し、かつ全光線透過率が８０％以上
であることを特徴とする表示素子用プラスチック基板。
示素子用プラスチック基板として優れた特性を持ち、効
率よく連続生産可能な表示素子用プラスチック基板およ
びこれを用いた液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 アクリレートモノマーおよび高分子量ア
クリレートを主成分とする紫外線硬化性樹脂組成物をベ
ースフィルム上に積層させ、前記紫外線硬化性樹脂組成
物が軟化した状態で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍ
ａｘ≦０．１μの平滑面を密着させて紫外線を照射し、
平滑面を転写、成形し、かつ全光線透過率が８０％以上
であることを特徴とする表示素子用プラスチック基板。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子用プラス
チック基板およびこれを用いた液晶表示装置に関する。
チック基板およびこれを用いた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示素子用透明電極基板には
ガラス基板が採用されてきたが、ガラス基板を用いた液
晶表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため液晶
表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しに
くいという欠点があり、更に耐衝撃性の点で問題があっ
た。このガラス基板液晶表示素子のもつ欠点を改善する
方法として、光学用高分子シートを用いて液晶表示素子
を作製することにより、軽量化、耐衝撃性の向上が検討
されている。例えば、特開昭５３−６８０９９号公報及
び特開昭５４−１２６５５９号公報には、ガラス基板の
代わりに導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエス
テルフィルムを用いて液晶表示素子を連続して製造する
ことが示されているが、研磨により極めて良好な平滑性
が得られるガラス基板と異なり、高分子シートの場合に
は表面の平滑性に優れているとは言い難いものであっ
た。特に、高精細な表示を得るためにＳＴＮ（Super Tw
isted Nematic）型液晶表示素子とした場合には、間隔
を0.1μm単位で制御された基板間の液晶の複屈折性を利
用して表示を行うために前記の高分子シートの表面平滑
性が極めて重大になっている。
ガラス基板が採用されてきたが、ガラス基板を用いた液
晶表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため液晶
表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しに
くいという欠点があり、更に耐衝撃性の点で問題があっ
た。このガラス基板液晶表示素子のもつ欠点を改善する
方法として、光学用高分子シートを用いて液晶表示素子
を作製することにより、軽量化、耐衝撃性の向上が検討
されている。例えば、特開昭５３−６８０９９号公報及
び特開昭５４−１２６５５９号公報には、ガラス基板の
代わりに導電性酸化金属物質を蒸着した長尺のポリエス
テルフィルムを用いて液晶表示素子を連続して製造する
ことが示されているが、研磨により極めて良好な平滑性
が得られるガラス基板と異なり、高分子シートの場合に
は表面の平滑性に優れているとは言い難いものであっ
た。特に、高精細な表示を得るためにＳＴＮ（Super Tw
isted Nematic）型液晶表示素子とした場合には、間隔
を0.1μm単位で制御された基板間の液晶の複屈折性を利
用して表示を行うために前記の高分子シートの表面平滑
性が極めて重大になっている。
【０００３】表面平滑性を解決する方法として、液状の
紫外線硬化性樹脂組成物または熱硬化性樹脂組成物を研
磨ガラス面上等に流し込み、これを硬化してシートを得
る方法が提案されている。しかし、本方法では、得られ
るシートが脆く取り扱い時に割れたり欠けるという問題
が起こっており、ガラス基板に対して高分子シートを用
いる優位性が十分発揮されていない。さらに、該方法は
生産性が低く、結果として基板が高価になってしまう。
また、表面を研磨した金属ロールやエンドレスベルトの
表面を連続的に転写する方法が提案されているが、金属
と紫外線硬化樹脂層の離型性が充分でなかったり、金属
との離型性が良好な紫外線硬化樹脂では、硬化後の耐熱
性が不足して液晶表示素子として使用すると、異方導電
フィルムによる接続信頼性が低下したり、表示品位が低
下する問題があった。
紫外線硬化性樹脂組成物または熱硬化性樹脂組成物を研
磨ガラス面上等に流し込み、これを硬化してシートを得
る方法が提案されている。しかし、本方法では、得られ
るシートが脆く取り扱い時に割れたり欠けるという問題
が起こっており、ガラス基板に対して高分子シートを用
いる優位性が十分発揮されていない。さらに、該方法は
生産性が低く、結果として基板が高価になってしまう。
また、表面を研磨した金属ロールやエンドレスベルトの
表面を連続的に転写する方法が提案されているが、金属
と紫外線硬化樹脂層の離型性が充分でなかったり、金属
との離型性が良好な紫外線硬化樹脂では、硬化後の耐熱
性が不足して液晶表示素子として使用すると、異方導電
フィルムによる接続信頼性が低下したり、表示品位が低
下する問題があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、表面平滑性が優れ、液晶表示素子用基板等の表
示素子用プラスチック基板として優れた特性を持ち、効
率よく連続生産可能な表示素子用プラスチック基板およ
びこれを用いた液晶表示装置を提供することにある。
ころは、表面平滑性が優れ、液晶表示素子用基板等の表
示素子用プラスチック基板として優れた特性を持ち、効
率よく連続生産可能な表示素子用プラスチック基板およ
びこれを用いた液晶表示装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は
（１）アクリレートモノマーおよび高分子量アクリレー
トを主成分とする紫外線硬化性樹脂組成物をベースフィ
ルム上に積層させ、前記紫外線硬化性樹脂組成物が軟化
した状態で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍａｘ≦
０．１μの平滑面を密着させて紫外線を照射して平滑面
を転写、成形し、かつ全光線透過率が８０％以上である
ことを特徴とする表示素子用プラスチック基板。 （２）前記高分子量アクリレートの分子量が２０００以
上である（１）の表示素子用プラスチック基板。 （３）前記アクリレートモノマーがイソシアヌール酸Ｅ
Ｏ変性トリアクリレートである（１）、（２）の表示素
子用プラスチック基板。 （４）前記紫外線硬化性樹脂組成物中の高分子量アクリ
レートの配合比が５％〜５０％である（１）〜（３）の
表示素子用プラスチック基板。 （５）前記紫外線硬化性樹脂組成物が、効果後、金属と
の優れた離型性を有することを特徴とする（１）〜
（４）の表示素子用プラスチック基板。 （６）２００℃以下の温度における前記紫外線硬化性樹
脂組成物の動的貯蔵弾性率が１０3ＭＰａ以上であるこ
とを特徴とする（１）〜（５）の表示素子用プラスチッ
ク基板。 （７）前記の平滑面を有する表面が液晶表示装置のセル
内面側に付与されることを特徴とする（１）〜（６）の
表示素子用プラスチック基板。 （８）前記ベースフィルムのガラス転移温度が１６０℃
以上である（１）〜（７）の表示素子用プラスチック基
板。 （９）（１）〜（８）記載の表示素子用プラスチック基
板を用いた液晶表示装置。 である。
トを主成分とする紫外線硬化性樹脂組成物をベースフィ
ルム上に積層させ、前記紫外線硬化性樹脂組成物が軟化
した状態で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍａｘ≦
０．１μの平滑面を密着させて紫外線を照射して平滑面
を転写、成形し、かつ全光線透過率が８０％以上である
ことを特徴とする表示素子用プラスチック基板。 （２）前記高分子量アクリレートの分子量が２０００以
上である（１）の表示素子用プラスチック基板。 （３）前記アクリレートモノマーがイソシアヌール酸Ｅ
Ｏ変性トリアクリレートである（１）、（２）の表示素
子用プラスチック基板。 （４）前記紫外線硬化性樹脂組成物中の高分子量アクリ
レートの配合比が５％〜５０％である（１）〜（３）の
表示素子用プラスチック基板。 （５）前記紫外線硬化性樹脂組成物が、効果後、金属と
の優れた離型性を有することを特徴とする（１）〜
（４）の表示素子用プラスチック基板。 （６）２００℃以下の温度における前記紫外線硬化性樹
脂組成物の動的貯蔵弾性率が１０3ＭＰａ以上であるこ
とを特徴とする（１）〜（５）の表示素子用プラスチッ
ク基板。 （７）前記の平滑面を有する表面が液晶表示装置のセル
内面側に付与されることを特徴とする（１）〜（６）の
表示素子用プラスチック基板。 （８）前記ベースフィルムのガラス転移温度が１６０℃
以上である（１）〜（７）の表示素子用プラスチック基
板。 （９）（１）〜（８）記載の表示素子用プラスチック基
板を用いた液晶表示装置。 である。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明は、従来問題となっていた
平滑面の転写後に金属ロールが容易に剥離しなかった
り、樹脂組成物がロール側に移行したりすることを防ぐ
ために、アクリレートモノマーに高分子量アクリレート
を配合して、ロール離型性を上げた表示素子用プラスチ
ック基板であり、これを用いた液晶表示装置である。
平滑面の転写後に金属ロールが容易に剥離しなかった
り、樹脂組成物がロール側に移行したりすることを防ぐ
ために、アクリレートモノマーに高分子量アクリレート
を配合して、ロール離型性を上げた表示素子用プラスチ
ック基板であり、これを用いた液晶表示装置である。
【０００７】本発明の表示素子用プラスチック基板に用
いるベースフィルムは、表示素子の製造環境温度に耐え
うる必要があり、そのガラス転移温度は１６０℃以上で
あることが望ましい。例として、ポリエステル、ポリカ
ーボネイト、ノルボルネン、ポリエーテルイミド、ポリ
アリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケ
トン、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチック
ポリスチレン、環状ポリオレフィン及びそのコポリマ
ー、イミド変性ポリメチルメタクリレート等のイミド変
性した高分子等によるフィルムシート等があげられる
が、特に限定はしない。また、本発明のベースフィルム
は各層の形成に先立ち、積層する各層との密着力を高め
るために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表
面処理が施されていてもよい。上記ベースフィルムは、
押出成形およびキャスティング等の方法でシート化する
ことができ、本発明の表示素子用プラスチック基板は、
成形したベースフィルムの上にキャスティング、コーテ
ィングあるいは各種印刷手法、積層手法等により、紫外
線硬化性樹脂組成物を積層した構造である。
いるベースフィルムは、表示素子の製造環境温度に耐え
うる必要があり、そのガラス転移温度は１６０℃以上で
あることが望ましい。例として、ポリエステル、ポリカ
ーボネイト、ノルボルネン、ポリエーテルイミド、ポリ
アリレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケ
トン、ポリフェニレンスルフィド、シンジオタクチック
ポリスチレン、環状ポリオレフィン及びそのコポリマ
ー、イミド変性ポリメチルメタクリレート等のイミド変
性した高分子等によるフィルムシート等があげられる
が、特に限定はしない。また、本発明のベースフィルム
は各層の形成に先立ち、積層する各層との密着力を高め
るために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表
面処理が施されていてもよい。上記ベースフィルムは、
押出成形およびキャスティング等の方法でシート化する
ことができ、本発明の表示素子用プラスチック基板は、
成形したベースフィルムの上にキャスティング、コーテ
ィングあるいは各種印刷手法、積層手法等により、紫外
線硬化性樹脂組成物を積層した構造である。
【０００８】本発明で用いられる紫外線硬化性樹脂組成
物はアクリレートモノマーと高分子量アクリレートの混
合物を主成分とする。アクリレートモノマーのみを積層
させ、軟化状態の樹脂にロールを密着させ、紫外線によ
り硬化させた後にフィルムをロールから剥離すると、樹
脂成分が一部ロールに移行して積層させた樹脂に平滑面
の形状が転写されない部分が出てくる。そこで、本発明
者らは、アクリレートモノマーに高分子量のアクリレー
トを混ぜた混合樹脂を積層させることで、フィルムは樹
脂組成物が移行せずにロールから簡単に剥離し、積層さ
せた樹脂表面に平滑面の形状が転写されることを見出し
た。ここで、高分子量アクリレートの配合比率は特に限
定はしないが、５〜５０％、より好ましくは５％〜３０
％の範囲が望ましい。上限値より多い場合には、シール
材密着時温度の動的貯蔵弾性率が１０3ＭＰａを下回り
要求特性を満たすことができない事がある。逆に少ない
場合は、樹脂成分のロールへの移行防止効果が少なくな
る。すなわち、本発明は熱時弾性率の観点から、アクリ
レートモノマーが、また金属表面との離型性の観点から
高分子量アクリレートが樹脂成分として必要であること
を見出したものであるまた、用いる高分子量アクリレー
トの分子量は２０００以上であることが望ましい。これ
より低いと樹脂成分のロールへの移行防止効果が少なく
なる。好ましい高分子量アクリレートの例としては、ウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエス
テルアクリレート、カルドポリエステルアクリレート、
アクリレート変性環状シクロオレフィン等を挙げる事が
できるがこれらに限定されるものではない。本発明のア
クリレートモノマーは特に限定はしないが、イソシアヌ
ール酸ＥＯ変性トリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート等を挙げる事ができる。これらの中では、イ
ソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレートが好ましい。
また、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物には、シリカ、
アルミナ、ポリスチレン、アクリル等のフィラー、シリ
コン系、フッ素系のレベリング材、シリコン系、チタネ
ート系のシランカップリング材等を添加しても良い。
物はアクリレートモノマーと高分子量アクリレートの混
合物を主成分とする。アクリレートモノマーのみを積層
させ、軟化状態の樹脂にロールを密着させ、紫外線によ
り硬化させた後にフィルムをロールから剥離すると、樹
脂成分が一部ロールに移行して積層させた樹脂に平滑面
の形状が転写されない部分が出てくる。そこで、本発明
者らは、アクリレートモノマーに高分子量のアクリレー
トを混ぜた混合樹脂を積層させることで、フィルムは樹
脂組成物が移行せずにロールから簡単に剥離し、積層さ
せた樹脂表面に平滑面の形状が転写されることを見出し
た。ここで、高分子量アクリレートの配合比率は特に限
定はしないが、５〜５０％、より好ましくは５％〜３０
％の範囲が望ましい。上限値より多い場合には、シール
材密着時温度の動的貯蔵弾性率が１０3ＭＰａを下回り
要求特性を満たすことができない事がある。逆に少ない
場合は、樹脂成分のロールへの移行防止効果が少なくな
る。すなわち、本発明は熱時弾性率の観点から、アクリ
レートモノマーが、また金属表面との離型性の観点から
高分子量アクリレートが樹脂成分として必要であること
を見出したものであるまた、用いる高分子量アクリレー
トの分子量は２０００以上であることが望ましい。これ
より低いと樹脂成分のロールへの移行防止効果が少なく
なる。好ましい高分子量アクリレートの例としては、ウ
レタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエス
テルアクリレート、カルドポリエステルアクリレート、
アクリレート変性環状シクロオレフィン等を挙げる事が
できるがこれらに限定されるものではない。本発明のア
クリレートモノマーは特に限定はしないが、イソシアヌ
ール酸ＥＯ変性トリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート等を挙げる事ができる。これらの中では、イ
ソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレートが好ましい。
また、本発明の紫外線硬化性樹脂組成物には、シリカ、
アルミナ、ポリスチレン、アクリル等のフィラー、シリ
コン系、フッ素系のレベリング材、シリコン系、チタネ
ート系のシランカップリング材等を添加しても良い。
【０００９】本発明で用いられる紫外線硬化性樹脂組成
物は塗布装置によりベースフィルム上に塗布し、溶剤を
含む場合には乾燥装置により溶剤を揮発させるが、この
紫外線硬化性樹脂組成物に平滑な面を有するロールを密
着させて平滑面の形状を転写させる際には、平滑面が十
分に紫外線硬化性樹脂組成物表面に転写されるよう、紫
外線硬化性樹脂組成物は軟化または液化していなければ
ならない。紫外線硬化性樹脂組成物には、溶剤を含まな
くても室温で軟化しているものや液状のものも有るが、
そうでない場合は密着する前にヒーター等により加熱を
行うか、ロールの温度を上げて密着と同時に軟化させる
ことが必要である。本発明における紫外線硬化性樹脂組
成物の弾性率は硬化後、液晶表示素子形成工程での温度
領域で充分高いことが望ましく、工程中で最も高い加工
温度（ＴＦＴのようなアクティブ素子の場合は２００
℃、ＳＴＮの場合は１５０℃）以下の温度範囲で動的貯
蔵弾性率は１０3ＭＰａ以上であることが好ましい。工
程中最も高い加工温度以下での動的貯蔵弾性率が１０3
ＭＰａ以下であると、シール材貼り合わせ後に、シール
材近傍で表示ムラが発生したり、異方導電フィルムによ
る外部端子との接続で接続信頼性が低下したりする恐れ
がある。
物は塗布装置によりベースフィルム上に塗布し、溶剤を
含む場合には乾燥装置により溶剤を揮発させるが、この
紫外線硬化性樹脂組成物に平滑な面を有するロールを密
着させて平滑面の形状を転写させる際には、平滑面が十
分に紫外線硬化性樹脂組成物表面に転写されるよう、紫
外線硬化性樹脂組成物は軟化または液化していなければ
ならない。紫外線硬化性樹脂組成物には、溶剤を含まな
くても室温で軟化しているものや液状のものも有るが、
そうでない場合は密着する前にヒーター等により加熱を
行うか、ロールの温度を上げて密着と同時に軟化させる
ことが必要である。本発明における紫外線硬化性樹脂組
成物の弾性率は硬化後、液晶表示素子形成工程での温度
領域で充分高いことが望ましく、工程中で最も高い加工
温度（ＴＦＴのようなアクティブ素子の場合は２００
℃、ＳＴＮの場合は１５０℃）以下の温度範囲で動的貯
蔵弾性率は１０3ＭＰａ以上であることが好ましい。工
程中最も高い加工温度以下での動的貯蔵弾性率が１０3
ＭＰａ以下であると、シール材貼り合わせ後に、シール
材近傍で表示ムラが発生したり、異方導電フィルムによ
る外部端子との接続で接続信頼性が低下したりする恐れ
がある。
【００１０】転写に使用する金属ロールやエンドレスベ
ルトの表面は、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍａｘ
≦０．１μｍの平滑面である必要がある。表面粗さが
０．１μｍよりも大きいと、液晶表示素子を形成した時
に、セルギャップが不均一であることに起因して表示ム
ラが発生してしまうためである。金属ロールやエンドレ
スベルトの表面は、研磨などの方法でＲｍａｘ≦０．１
μｍに加工することが可能である。
ルトの表面は、表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍａｘ
≦０．１μｍの平滑面である必要がある。表面粗さが
０．１μｍよりも大きいと、液晶表示素子を形成した時
に、セルギャップが不均一であることに起因して表示ム
ラが発生してしまうためである。金属ロールやエンドレ
スベルトの表面は、研磨などの方法でＲｍａｘ≦０．１
μｍに加工することが可能である。
【００１１】本発明の紫外線硬化性樹脂組成物を硬化さ
せるための紫外線照射に関しては、必要な波長の光を選
択的に照射してもよい。具体的には、照射部に選択透過
フィルターをもうけるか、フィルムの塗膜が形成される
側とは反対面から照射する方法などが挙げられる。また
大気中の酸素によって紫外線効果樹脂の硬化反応が阻害
させる場合には、窒素など不活性ガス雰囲気化で照射を
行っても良い。紫外線照射量は、３６５ｎｍまたは２５
４ｎｍの波長か、ある波長を選択的に照射する場合は、
紫外線領域で最大照射量となる波長域での照射量を、紫
外線照度計によって測定する。
せるための紫外線照射に関しては、必要な波長の光を選
択的に照射してもよい。具体的には、照射部に選択透過
フィルターをもうけるか、フィルムの塗膜が形成される
側とは反対面から照射する方法などが挙げられる。また
大気中の酸素によって紫外線効果樹脂の硬化反応が阻害
させる場合には、窒素など不活性ガス雰囲気化で照射を
行っても良い。紫外線照射量は、３６５ｎｍまたは２５
４ｎｍの波長か、ある波長を選択的に照射する場合は、
紫外線領域で最大照射量となる波長域での照射量を、紫
外線照度計によって測定する。
【００１２】
【実施例】以下本発明を実施例によって説明するが、本
発明は実施例により何ら限定されるものではない。ま
た、各種光学的物性は次の方法により測定した。 （１）シート厚み 接触式ダイヤルゲージでシートの幅方向に２０ｍｍ間隔
で測定した平均値。 （２）表面粗さの最大（Ｒｍａｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200）により、シートの幅方向に２ｍｍのスキャン幅
にて全幅を測定した凹凸の最大値。 （３）表面粗さの最大（Ｒｍａｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、ALPHA-ST
EP200）により、シートの幅方向に１ｍｍのスキャン幅
にて全幅を測定した凹凸の最大値。 ＜実施例１＞厚さ２００μｍ、表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ）が０．３μｍポリエーテルサルフォンをベースフィ
ルムとして用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾー
ン、ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する
製造装置を用いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化
性樹脂組成物として分子量：４００のイソシアヌール酸
ＥＯ変性トリアクリレート（東亞合成製 Ｍ−３１５）
８０重量部、分子量：１３０００のウレタンアクリレー
ト（日本化薬製 ＵＸ３２０４）２０重量部、酢酸ブチ
ル３００重量部，セロソルブアセテート１００重量部，
ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、
溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤ
ロールコーターで乾燥前膜厚５μｍ塗布し、加熱乾燥ゾ
ーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。溶媒
除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状の軟化状
態であった。続いて表面にＲｍａｘ＝０．０７μｍの金
属ロールを密着させて８０ｗ／ｃｍの紫外線を１０秒間
照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ剥離させた
ところ、紫外線硬化性樹脂組成物が高分子シートからロ
ールに移行することなく、平滑面を転写することができ
た。また、全光線透過率を測定したところ、８７％であ
った。さらに、シール材圧着温度での弾性率については
シール材貼り合せ前の液晶表示素子加工プロセスを想定
して１６０℃で２時間の加熱処理を行った試料を用い
て、動的粘弾性測定装置 ＤＭＳ２１０（セイコーイン
スルメンツ製）を使用して動的貯蔵弾性率Ｅ'の値を測
定した結果、動的貯蔵弾性率は温度が高くなるほど減少
して、１５０℃では１１００ＭＰａであった。
発明は実施例により何ら限定されるものではない。ま
た、各種光学的物性は次の方法により測定した。 （１）シート厚み 接触式ダイヤルゲージでシートの幅方向に２０ｍｍ間隔
で測定した平均値。 （２）表面粗さの最大（Ｒｍａｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、AlPHA-ST
EP200）により、シートの幅方向に２ｍｍのスキャン幅
にて全幅を測定した凹凸の最大値。 （３）表面粗さの最大（Ｒｍａｘ） 接触式の精密段差計（TENCOR INSTRUMENTS製、ALPHA-ST
EP200）により、シートの幅方向に１ｍｍのスキャン幅
にて全幅を測定した凹凸の最大値。 ＜実施例１＞厚さ２００μｍ、表面粗さの最大（Ｒｍａ
ｘ）が０．３μｍポリエーテルサルフォンをベースフィ
ルムとして用い、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾー
ン、ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取装置を有する
製造装置を用いて次の加工を行った。まず、紫外線硬化
性樹脂組成物として分子量：４００のイソシアヌール酸
ＥＯ変性トリアクリレート（東亞合成製 Ｍ−３１５）
８０重量部、分子量：１３０００のウレタンアクリレー
ト（日本化薬製 ＵＸ３２０４）２０重量部、酢酸ブチ
ル３００重量部，セロソルブアセテート１００重量部，
ベンゾインエチルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、
溶解して均一な溶液としたものをコーター部のグラビヤ
ロールコーターで乾燥前膜厚５μｍ塗布し、加熱乾燥ゾ
ーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去した。溶媒
除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状の軟化状
態であった。続いて表面にＲｍａｘ＝０．０７μｍの金
属ロールを密着させて８０ｗ／ｃｍの紫外線を１０秒間
照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ剥離させた
ところ、紫外線硬化性樹脂組成物が高分子シートからロ
ールに移行することなく、平滑面を転写することができ
た。また、全光線透過率を測定したところ、８７％であ
った。さらに、シール材圧着温度での弾性率については
シール材貼り合せ前の液晶表示素子加工プロセスを想定
して１６０℃で２時間の加熱処理を行った試料を用い
て、動的粘弾性測定装置 ＤＭＳ２１０（セイコーイン
スルメンツ製）を使用して動的貯蔵弾性率Ｅ'の値を測
定した結果、動的貯蔵弾性率は温度が高くなるほど減少
して、１５０℃では１１００ＭＰａであった。
【００１３】次に、この高分子シート上に、ＤＣマグネ
トロン法により、初期真空度３×１０−４Ｐａの状態か
ら酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入して３×１
０−１Ｐａの条件下においてスパッタリングを行い５０
０Å厚のＳｉＯ2を得た。続いて、透明導電膜として、
同じくＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０−
４Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを
導入して１×１０−１Ｐａの条件下においてスパッタリ
ングを行いＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８である
酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得
た。測定の結果、膜厚は１６００Å、比抵抗は４×１０
-4Ω−ｃｍであった。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布
して現像し、エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣｌ、
液温４０℃中でパターンエッチングし、対角長さ３イン
チ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍの表示パターンを形成し
た。パターン形成後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１５０
℃２ｈｒの焼成処理を行った後、２４０度ツイストの配
向となるようラビング処理を行った。ラビング処理後、
スペーサを散布し、シール剤を塗布し、１３０℃でシー
ル硬化させてセル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入し
た。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わ
せて液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を駆動
電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶の
セルギャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示
を示した。
トロン法により、初期真空度３×１０−４Ｐａの状態か
ら酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入して３×１
０−１Ｐａの条件下においてスパッタリングを行い５０
０Å厚のＳｉＯ2を得た。続いて、透明導電膜として、
同じくＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０−
４Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを
導入して１×１０−１Ｐａの条件下においてスパッタリ
ングを行いＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８である
酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得
た。測定の結果、膜厚は１６００Å、比抵抗は４×１０
-4Ω−ｃｍであった。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布
して現像し、エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣｌ、
液温４０℃中でパターンエッチングし、対角長さ３イン
チ、Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍの表示パターンを形成し
た。パターン形成後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１５０
℃２ｈｒの焼成処理を行った後、２４０度ツイストの配
向となるようラビング処理を行った。ラビング処理後、
スペーサを散布し、シール剤を塗布し、１３０℃でシー
ル硬化させてセル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入し
た。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わ
せて液晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を駆動
電圧０Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶の
セルギャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示
を示した。
【００１４】＜実施例２＞厚さ２００μｍ、表面粗さの
最大（Ｒｍａｘ）が０．０５μｍのポリエーテルサルフ
ォンを高分子シート原反として用い、巻出装置、コータ
ー部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧水銀
灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行っ
た。まず、紫外線硬化性樹脂組成物として分子量：４０
０のイソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート（東亞
合成製 Ｍ−３１５）８０重量部、分子量：４０００の
ウレタンアクリレート（根上工業製 ＵＮ９０００Ｈ）
２０重量部、酢酸ブチル３００重量部，セロソルブアセ
テート１００重量部，ベンゾインエチルエーテル２重量
部、一次粒径０．０８・高フシリカ１５重量部を５０℃
にて撹拌して均一な分散液としたものをコーター部のグ
ラビヤロールコーターで乾燥前膜厚５μｍに塗布し、加
熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去し
た。溶媒除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状
の軟化状態であった。続いて表面にＲｍａｘ＝０．０７
μｍの金属ロールを密着させて、８０ｗ／ｃｍの紫外線
を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ剥離させ
たところ、紫外線硬化性樹脂組成物が高分子シートから
ロールに移行することなく、平滑面を転写することがで
き、巻取装置で巻き取って高分子シートを連続的に得
た。紫外線の照射時間は１０秒間であった。また、全光
線透過率は８５％であった。さらに、実施例１と同様に
測定した１５０℃での動的貯蔵弾性率は１２６０ＭＰａ
であり、動的貯蔵弾性率の温度依存性も実施例１と同様
であった。次に、この高分子シート上に、ＤＣマグネト
ロン法により、初期真空度３×１０−４Ｐａの状態から
酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入して３×１０
−１Ｐａの条件下においてスパッタリングを行い５００
Å厚のＳｉＯ2を得た。続いて、透明導電膜として、同
じくＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０−４
Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを導
入して１×１０−１Ｐａの条件下においてスパッタリン
グを行いＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８である酸
化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得た。
測定の結果、膜厚は１６００Å、比抵抗は４×１０-4Ω
−ｃｍであった。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布して
現像し、エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣｌ、液温
４０℃中でパターンエッチングし、対角長さ３インチ、
Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍの表示パターンを形成した。
パターン形成後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１５０℃２
ｈｒの焼成処理を行った後、２４０度ツイストの配向と
なるようラビング処理を行った。ラビング処理後、スペ
ーサを散布し、シール剤を塗布し、１３０℃でシール硬
化させてセル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入した。偏
光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わせて液
晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を駆動電圧０
Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶のセルギ
ャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示を示し
た。
最大（Ｒｍａｘ）が０．０５μｍのポリエーテルサルフ
ォンを高分子シート原反として用い、巻出装置、コータ
ー部、加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧水銀
灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行っ
た。まず、紫外線硬化性樹脂組成物として分子量：４０
０のイソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート（東亞
合成製 Ｍ−３１５）８０重量部、分子量：４０００の
ウレタンアクリレート（根上工業製 ＵＮ９０００Ｈ）
２０重量部、酢酸ブチル３００重量部，セロソルブアセ
テート１００重量部，ベンゾインエチルエーテル２重量
部、一次粒径０．０８・高フシリカ１５重量部を５０℃
にて撹拌して均一な分散液としたものをコーター部のグ
ラビヤロールコーターで乾燥前膜厚５μｍに塗布し、加
熱乾燥ゾーン中１００℃で５分間加熱して溶媒を除去し
た。溶媒除去後の紫外線硬化性樹脂組成物はペースト状
の軟化状態であった。続いて表面にＲｍａｘ＝０．０７
μｍの金属ロールを密着させて、８０ｗ／ｃｍの紫外線
を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ剥離させ
たところ、紫外線硬化性樹脂組成物が高分子シートから
ロールに移行することなく、平滑面を転写することがで
き、巻取装置で巻き取って高分子シートを連続的に得
た。紫外線の照射時間は１０秒間であった。また、全光
線透過率は８５％であった。さらに、実施例１と同様に
測定した１５０℃での動的貯蔵弾性率は１２６０ＭＰａ
であり、動的貯蔵弾性率の温度依存性も実施例１と同様
であった。次に、この高分子シート上に、ＤＣマグネト
ロン法により、初期真空度３×１０−４Ｐａの状態から
酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入して３×１０
−１Ｐａの条件下においてスパッタリングを行い５００
Å厚のＳｉＯ2を得た。続いて、透明導電膜として、同
じくＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０−４
Ｐａの状態から酸素／アルゴンガス４％の混合ガスを導
入して１×１０−１Ｐａの条件下においてスパッタリン
グを行いＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．９８である酸
化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を得た。
測定の結果、膜厚は１６００Å、比抵抗は４×１０-4Ω
−ｃｍであった。ＩＴＯを成膜後、レジストを塗布して
現像し、エッチング液として１０ｖｏｌ％ＨＣｌ、液温
４０℃中でパターンエッチングし、対角長さ３インチ、
Ｌ／Ｓ＝１５０／５０μｍの表示パターンを形成した。
パターン形成後、ＳＴＮ用配向膜を塗布し、１５０℃２
ｈｒの焼成処理を行った後、２４０度ツイストの配向と
なるようラビング処理を行った。ラビング処理後、スペ
ーサを散布し、シール剤を塗布し、１３０℃でシール硬
化させてセル化し、ＳＴＮ用液晶組成物を注入した。偏
光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わせて液
晶表示素子を作製した。この液晶表示素子を駆動電圧０
Ｖから±５Ｖで点灯試験を行ったところ、液晶のセルギ
ャップ異常による表示ムラは見られず良好な表示を示し
た。
【００１５】＜比較例１＞厚さ２００μｍ表面粗さの最
大（Ｒｍａｘ）が０．０５μｍポリエーテルサルホンを
高分子シート原反として用い、巻出装置、コーター部、
加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取
装置を有する製造装置を用いて次の加工を行った。ま
ず、紫外線硬化性樹脂組成物として分子量：４００のイ
ソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート（東亞合成製
Ｍ−３１５）１００重量部、酢酸ブチル３００重量
部，セロソルブアセテート１００重量部，ベンゾインエ
チルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、溶解して均一
な溶液としたものをコーター部のグラビヤロールコータ
ーで乾燥前膜厚５μｍ塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００
℃で５分間加熱して溶媒を除去した。溶媒除去後の紫外
線硬化性樹脂組成物はペースト状の軟化状態であった。
続いて表面にＲｍａｘ＝０．０７μｍの金属ロールを密
着させて、８０ｗ／ｃｍの紫外線を照射して紫外線硬化
性樹脂組成物を硬化させ剥離させたところ、紫外線硬化
性樹脂組成物の一部が高分子シートからロールに移行し
て平滑面を正確に転写することができなかった。
大（Ｒｍａｘ）が０．０５μｍポリエーテルサルホンを
高分子シート原反として用い、巻出装置、コーター部、
加熱乾燥ゾーン、ラミネートロール、高圧水銀灯、巻取
装置を有する製造装置を用いて次の加工を行った。ま
ず、紫外線硬化性樹脂組成物として分子量：４００のイ
ソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート（東亞合成製
Ｍ−３１５）１００重量部、酢酸ブチル３００重量
部，セロソルブアセテート１００重量部，ベンゾインエ
チルエーテル２重量部を５０℃にて撹拌、溶解して均一
な溶液としたものをコーター部のグラビヤロールコータ
ーで乾燥前膜厚５μｍ塗布し、加熱乾燥ゾーン中１００
℃で５分間加熱して溶媒を除去した。溶媒除去後の紫外
線硬化性樹脂組成物はペースト状の軟化状態であった。
続いて表面にＲｍａｘ＝０．０７μｍの金属ロールを密
着させて、８０ｗ／ｃｍの紫外線を照射して紫外線硬化
性樹脂組成物を硬化させ剥離させたところ、紫外線硬化
性樹脂組成物の一部が高分子シートからロールに移行し
て平滑面を正確に転写することができなかった。
【００１６】＜比較例２＞紫外線硬化性樹脂組成物とし
て分子量：約４０００のウレタンアクリレート（根上工
業製 ＵＮ９０００Ｈ）１００重量部、酢酸ブチル３０
０重量部，セロソルブアセテート１００重量部、ベンゾ
インエチルエーテル２重量部を用いた他は比較例１と同
様に平滑面が設けられたロールを密着させて８０ｗ／ｃ
ｍの紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化さ
せ剥離させた。平滑面の転写には問題がなかったが、実
施例１と同様に液晶表示装置を作製したところ、セルギ
ャップ異常による表示ムラが発生した。
て分子量：約４０００のウレタンアクリレート（根上工
業製 ＵＮ９０００Ｈ）１００重量部、酢酸ブチル３０
０重量部，セロソルブアセテート１００重量部、ベンゾ
インエチルエーテル２重量部を用いた他は比較例１と同
様に平滑面が設けられたロールを密着させて８０ｗ／ｃ
ｍの紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化さ
せ剥離させた。平滑面の転写には問題がなかったが、実
施例１と同様に液晶表示装置を作製したところ、セルギ
ャップ異常による表示ムラが発生した。
【００１７】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の方法によれ
ば従来多数の工程が必要であった液晶表示装置等の表示
素子用基板を容易に作成することができる。しかも、従
来の金属ロールに樹脂が移行したり、基板の剛性が不足
してスペーサが基板に潜り込むといった問題を解決する
ことができ、電子産業上極めて有用である。
ば従来多数の工程が必要であった液晶表示装置等の表示
素子用基板を容易に作成することができる。しかも、従
来の金属ロールに樹脂が移行したり、基板の剛性が不足
してスペーサが基板に潜り込むといった問題を解決する
ことができ、電子産業上極めて有用である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０９Ｆ 9/30 ３１０ Ｇ０９Ｆ 9/30 ３１０
9/35 9/35
// Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｃ０８Ｌ 101:00
Ｆターム(参考） 2H090 JB03 JD14 KA08 MB01
4F073 AA10 AA14 BA06 BA19 BA23
BA26 BA31 BA32 BA34 BB01
CA01 CA45 FA03 GA03 GA11
4J027 AA08 AB01 AC06 AC09 AE01
AG01 AG25 AJ01 BA24 BA26
BA28 CA02 CA03 CA13 CA14
CA21 CA36 CB10 CC05 CD00
CD04
5C094 AA43 AA46 AA55 BA43 EB10
Claims (9)
- 【請求項１】 アクリレートモノマーおよび高分子量ア
クリレートを主成分とする紫外線硬化性樹脂組成物をベ
ースフィルム上に積層させ、前記紫外線硬化性樹脂組成
物が軟化した状態で表面粗さの最大（Ｒｍａｘ）がＲｍ
ａｘ≦０．１μの平滑面を密着させて紫外線を照射し、
平滑面を転写、成形し、かつ全光線透過率が８０％以上
であることを特徴とする表示素子用プラスチック基板。 - 【請求項２】 前記高分子量アクリレートの分子量が２
０００以上である請求項１記載の表示素子用プラスチッ
ク基板。 - 【請求項３】 前記アクリレートモノマーがイソシアヌ
ール酸ＥＯ変性トリアクリレートである請求項１または
２記載の表示素子用プラスチック基板。 - 【請求項４】 前記紫外線硬化性樹脂組成物中の高分子
量アクリレートの配合比が５％〜５０％である請求項１
〜３何れか一項記載の表示素子用プラスチック基板。 - 【請求項５】 前記紫外線硬化性樹脂組成物が、効果
後、金属との優れた離型性を有することを特徴とする請
求項１〜４何れか一項記載の表示素子用プラスチック基
板。 - 【請求項６】 ２００℃以下の温度における前記紫外線
硬化性樹脂組成物の動的貯蔵弾性率が１０3ＭＰａ以上
であることを特徴とする請求項１〜５何れか一項記載の
表示素子用プラスチック基板。 - 【請求項７】 前記の平滑面を有する表面が液晶表示装
置のセル内面側に付与されることを特徴とする請求項１
〜６何れか一項記載の表示素子用プラスチック基板。 - 【請求項８】 前記ベースフィルムのガラス転移温度が
１６０℃以上である請求項１〜７何れか一項記載の表示
素子用プラスチック基板。 - 【請求項９】 請求項１〜８何れか一項記載の表示素子
用プラスチック基板を用いた液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002020592A JP2003222840A (ja) | 2002-01-29 | 2002-01-29 | 表示素子用プラスチック基板および液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002020592A JP2003222840A (ja) | 2002-01-29 | 2002-01-29 | 表示素子用プラスチック基板および液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003222840A true JP2003222840A (ja) | 2003-08-08 |
Family
ID=27744051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002020592A Pending JP2003222840A (ja) | 2002-01-29 | 2002-01-29 | 表示素子用プラスチック基板および液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003222840A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006065102A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Yokohama National Univ | 導波路型偏光変換器 |
| CN102344704A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-08 | 中钞特种防伪科技有限公司 | 光固化组合物 |
| JP2015082015A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
-
2002
- 2002-01-29 JP JP2002020592A patent/JP2003222840A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006065102A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Yokohama National Univ | 導波路型偏光変換器 |
| CN102344704A (zh) * | 2010-07-28 | 2012-02-08 | 中钞特种防伪科技有限公司 | 光固化组合物 |
| JP2015082015A (ja) * | 2013-10-22 | 2015-04-27 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
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