JP2003218004A - スピン処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は基板を処理する二種類の処理液を
分離回収する際、パーティクルによる汚染を最小限に抑
制できるスピン処理装置を提供することにある。 【解決手段】 処理槽内を内側空間部３７と外側空間部
３８とに隔別した環状壁体１５と、処理槽の内側空間部
と外側空間部とにそれぞれ連通して設けられた内側排出
管５４及び外側排出管５５と、回転テーブル４６の周辺
部を覆う環状の上部カップ体１３と、処理槽内に上下動
可能に設けられ上端部を上部カップ体の上端がなす内周
縁よりも径方向外方に位置させるとともに下端側が環状
壁体に対向した下部カップ体１２と、下部カップ体を上
下駆動し上昇させることで基板から飛散する第１の処理
液あるいは第２の処理液のいずれか一方を内側空間部に
流入させ、下降させることで上記基板から飛散する他方
の処理液を外側空間部に流入させる第１のシリンダとを
具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は回転駆動される基
板を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理す
るスピン処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶表示装置や半導体装置の
製造過程においては、矩形状のガラス基板や半導体ウエ
ハなどの基板に回路パターンを形成するということが行
われている。回路パターンを形成する場合、上記基板に
対して現像処理、エッチング処理あるいはレジストの剥
離処理などが行われる。これらの処理を行う場合、ま
ず、基板に第１の処理液として現像液、エッチング液あ
るいは剥離液などを供給して所定の処理を行い、ついで
第２の処理液として純水などの洗浄液を供給して洗浄処
理するということが行われる。

【０００３】現像液、エッチング液あるいは剥離液など
の第１の処理液は高価であるため、循環使用するという
ことが行われている。第１の処理液を循環使用する場
合、第１の処理液と第２の処理液とを混合させずに回収
しなければならない。

【０００４】第１の処理液と第２の処理液との混合を避
けるためには、基板に供給された第１の処理液と第２の
処理液とをそれぞれ別々の経路で回収しなければならな
い。このような先行技術は特開平８−２６２７４１号公
報に示されている。

【０００５】上記公報に示された構成は、図８（ａ），
（ｂ）に示すように、第１の容器１０１内に基板Ｗを保
持する回転チャック（図示せず）が設けられ、この回転
チャックの下面側には上記第１の容器側に固定されてカ
バー１０２が設けられている。このカバー１０２の外形
寸法は上記回転チャックよりも大きく形成されている。

【０００６】上記第１の容器１０１内には上下駆動され
る第２の容器１０３が設けられている。この第２の容器
１０３が上昇した状態で、回転駆動される基板Ｗに第１
の処理液を供給すると、基板Ｗから飛散する第１の処理
液は第２の容器１０３の内周面に衝突するから、第２の
容器１０３内に回収される。

【０００７】上記第２の容器１０３を、その上端部の傾
斜部分が上記カバーの上面に接合するまで下降させれ
ば、基板Ｗに供給された第２の処理液は、回転する基板
の周囲から飛散して第１の容器１０１の内周面に衝突す
るから、この第１の容器１０１内に回収される。

【０００８】つまり、第２の容器１０３を上昇あるいは
下降させることで、第１の処理液と第２の処理液とを分
離回収することができるようになっている。

【０００９】各容器１０１，１０３の底部には、図示し
ないがそれぞれ排液配管が接続されている。各排液配管
には気液分離器を介して排気ファンに接続される。各排
液配管は基板に供給された処理液を排出するだけでな
く、基板Ｗの回転による遠心力で基板Ｗに付着した処理
液を除去する際に、上記排気ファンの吸引力によって各
容器１０１，１０３内に発生するミストを容器内の雰囲
気とともに吸引排出する。それによって、容器内に浮遊
するミストが減少するため、処理液の除去が行なわれた
基板にミストが付着し難くなり、基板の汚染を防止する
ことができる。

【００１０】各容器１０１，１０３内からミストを吸引
排出する場合、各容器の開口部の内周縁と、回転チャッ
クに保持されて回転する基板の外周縁とがなす間隔Ｇ
_１ 、Ｇ_２ が上記排気ファンの吸引力によって排出さ
れる雰囲気の流路１０４，１０５となる。そのため、こ
の流路間隔によって各容器内のミストの排出状態が大き
く左右されることになる。

【００１１】図７は回転チャックに保持されて回転駆動
される基板の外周縁と、容器の開口部内周縁との間隔を
変化させたときに、上記基板に付着するパーティクル数
を測定したグラフである。

【００１２】このグラフから分かるように、上記間隔が
所定値（最適値）Ｇのときに基板に付着するパーティク
ル数が最小になり、上記間隔が所定値Ｇよりも大きくな
ると、基板に付着するパーティクル数が増大する。これ
は、間隔が大きくなり、その流路を流れる気体の流速が
遅くなると、容器内からパーティクルが十分に排出され
ず、基板に付着し易くなると考えられる。

【００１３】上記間隔が所定値Ｇよりも小さくなると、
基板に付着するパーティクルは上記間隔が所定値Ｇのと
きよりも増大することがある。これは、その間隔が小さ
くなり、流路を流れる雰囲気の流速が速くなると、容器
の内面に気体に含まれるミストが液滴状になって付着し
易くなるため、その液滴が基板に付着することがあるた
めと考えられる。

【００１４】したがって、基板に付着するパーティクル
を最小にするためには、基板を第１、第２の処理液のい
ずれで処理する場合であっても、上記間隔が所定値Ｇに
維持されることが望ましい。

【００１５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記公報に
示された構成において、図８（ａ）に示すように、第２
の容器１０１をカバー１０２に接触するまで下降させ、
基板Ｗから飛散する処理液を同図に矢印で示すように第
１の容器１０３を通じて回収する場合には、上述したよ
うに第１の容器１０３の上端内周縁と基板Ｗの外周縁と
がなす間隔Ｇ_１によって第１の流路１０４が形成され
る。

【００１６】また、図８（ｂ）に示すように、第２の容
器１０１が上昇して基板Ｗから飛散する処理液を同図に
矢印で示すように第２の容器１０１を通じて回収する場
合には、上述したように第２の容器１０１の上端内周縁
と基板Ｗの外周縁との間隔Ｇ _２ によって第２の流路１
０５が形成される。

【００１７】上記第２の容器１０１は第１の容器１０３
内に収容されているため、これら容器の上端内周縁の内
径寸法は第１の容器１０３の方が第２の容器１０１より
も大きい。

【００１８】そのため、図８（ａ）に示すように、第２
の容器１０１が下降することで第１の容器１０３の上端
内周縁と基板Ｗの外周縁とで形成される第１の流路１０
４は、第２の容器１０１が上昇することで第２の容器１
０１の上端内周縁と基板Ｗの外周縁とで形成される第２
の流路１０５に比べて大きくなる。

【００１９】その結果、第２の容器１０１が下降するこ
とで、第１の流路１０４を通って第１の容器１０３から
排出される気体の流速は、第２の容器１０１が上昇する
ことで、第２の流路１０５を通って第２の容器１０１か
ら排出される気体の流速よりも遅くなる。

【００２０】そのため、このような流速の変化によって
上述したように基板Ｗに付着するパーティクルの数量が
異なる。つまり、基板Ｗを所定の清浄度で処理できない
ということがあった。

【００２１】この発明は、基板を第１の処理液と第２の
処理液とによって順次処理するとともにこれらの処理液
を分離回収する場合、どちらの処理液で基板を処理する
場合であっても、基板を所定の清浄度をほぼ一定に維持
できるようにしたスピン処理装置を提供することにあ
る。

【００２２】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、基板
を第１の処理液で処理してから第２の処理液で処理する
スピン処理装置において、処理槽と、この処理槽内に設
けられ上記基板を保持するとともに回転駆動される回転
テーブルと、上記処理槽内を内側空間部と外側空間部と
に隔別した環状壁体と、上記処理槽の上記内側空間部と
外側空間部とにそれぞれ連通して設けられた内側排出管
及び外側排出管と、上記処理槽内に設けられ上記回転テ
ーブルの周辺部を覆うとともにこの回転テーブルの径方
向内方に向かって高く傾斜した傾斜壁を有する環状をな
しこの傾斜壁の上端内周縁と上記回転テーブルに保持さ
れた基板の外周縁とで流路を形成する上部カップ体と、
上記処理槽内に上下動可能に設けられ上端部を上記上部
カップ体の傾斜壁の上端がなす内周縁よりも径方向外方
に位置させるとともに下端側が上記環状壁体に対向する
下部カップ体と、この下部カップ体を上下駆動し上昇さ
せることで上記基板から飛散する第１の処理液あるいは
第２の処理液のいずれか一方を上記内側空間部に流入さ
せ、下降させることで上記基板から飛散する他方の処理
液を上記外側空間部に流入させる第１の上下駆動手段と
を具備したことを特徴とするスピン処理装置にある。

【００２３】請求項２の発明は、上記上部カップ体の傾
斜壁の内面には、上記下部カップ体を上記第１の上下駆
動手段によって上昇させたときに、この下部カップ体の
上端部が接触して上記基板から飛散する処理液が上記外
側空間部に流入するのを阻止する遮蔽部材が設けられて
いることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装置に
ある。

【００２４】請求項３の発明は、上記内側空間部には第
１の吸引手段が接続され、上記外側空間部には第２の吸
引手段が接続されていることを特徴とする請求項１記載
のスピン処理装置にある。

【００２５】請求項４の発明は、上記第１の上下駆動手
段は、上記下カップ体を上端が上記回転テーブルに保持
される基板よりも下方になる位置まで下降させることを
特徴とする請求項１記載のスピン処理装置にある。

【００２６】請求項５の発明は、上記上部カップ体は、
第２の上下駆動手段によって上下駆動可能に設けられ、
上記傾斜壁の上端が上記回転テーブルに保持された基板
よりも下方になる位置まで上記下部カップ体とともに下
降させることが可能であって、上記処理槽には、上記回
転テーブルに保持される基板を出し入れするための出し
入れ口が形成されていることを特徴とする請求項１記載
のスピン処理装置にある。

【００２７】この発明によれば、下部カップ体を上下駆
動して第１の処理液と第２の処理液とを分離回収する構
成において、下部カップ体の上端部を上部カップ体の内
周縁よりも径方向外方に位置させたことで、上記下部カ
ップ体の上下動に係わりなく、基板の外周縁と上部カッ
プ体の内周縁とによって常に一定の間隔の排気用の流路
を形成することができる。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。

【００２９】図１乃至図６はこの発明の一実施の形態を
示し、図１に示すスピン処理装置は架台１を備えてい
る。この架台１の上面には枠体２が設けられ、この枠体
２内には処理槽３が設けられている。

【００３０】上記処理槽３は、内部にたとえば半導体ウ
エハなどの基板Ｗを処理するカップ体４が設けられ、一
側面に上記基板Ｗを出し入れするための出し入れ口５が
形成されている。

【００３１】上記処理槽３の上部壁にはクリーンルーム
内の清浄空気をさらに清浄化して処理槽３内に供給する
ファン・フィルタユニット６が設けられている。さら
に、処理槽３内には、この処理槽３の出し入れ口５が形
成された一側面の幅方向両端側にそれぞれ排気路７を形
成する仕切り壁体８が設けられている。

【００３２】一対の排気路７の上端にはそれぞれ排気ダ
クト９の下端が接続されている。各排気ダクト９の上端
には直管１１の下端が接続され、これら直管１１の上端
は図示しない排気ファン又は工場の排気ダクトに接続さ
れるようになっている。それによって、上記処理槽３内
の雰囲気を上記排気路７を通じて排出できるようになっ
ている。

【００３３】図３乃至図６に示すように、上記処理槽３
内に設けられたカップ体４は、それぞれ環状の下部カッ
プ体１２と上部カップ体１３を備えている。下部カップ
体１２は周壁が下端に開放した挿入溝１４を有する二重
壁構造になっていて、その周壁の上部には図４に示すよ
うに傾斜部１２ａを介して垂直部１２ｂが形成されてい
る。上記処理槽３の底部には環状壁体１５が設けられて
いる。この環状壁体１５は上記下部カップ体１３の挿入
溝１４に挿入されている。

【００３４】図３に示すように、上記下部カップ体１２
の外周面には複数（１つのみ図示）の第１の連結部材１
６の一端が固着されている。各連結部材１６の他端には
第１の連結ロッド１７の上端が連結されている。この第
１の連結ロッド１７は上記処理槽３の底部に貫通して設
けられた第１のシール管１８に挿通され、下端部が処理
槽３の外底部に突出している。

【００３５】上記第１の連結ロッド１７の上部には上記
第１のシール管１８の上端開口を覆う第１の外套管１９
が設けられている。それによって、上記処理槽３の内部
が上記第１のシール管１８によって外部と直接連通する
のを防止している。

【００３６】上記処理槽３の外底部に突出した第１の連
結ロッド１７の下端部は第１の可動部材２１に連結され
ている。この第１の可動部材２１には第１の上下用シリ
ンダ２２が連結されている。それによって、上記下部カ
ップ体１２は上記第１の上下用シリンダ２２によって上
記環状壁体１５に沿って上下駆動されるようになってい
る。

【００３７】上記上部カップ体１３は径方向内方に向か
って高く傾斜した傾斜壁１３ａ及びこの傾斜壁１３ａの
下端に設けられた垂直壁１３ｂを有する。上記傾斜壁１
３ａの内面（下面）の径方向中途部にはリング状の遮蔽
部材２６が設けられている。上記下部カップ体１２を上
昇させたときに、その垂直部１２ｂの上端部は上記遮蔽
部材２６の外周面に当接する。

【００３８】つまり、下部カップ体１２の垂直部１２ｂ
がなす開口部の内周縁は、上部カップ体１３の傾斜壁１
３ａの上端がなす開口部の内周縁よりも大径に形成され
ている。それによって、下部カップ体１２の上端縁は、
上部カップ体１３の内周縁よりも図４にＤで示す寸法だ
け径方向外方に位置している。

【００３９】上記上部カップ体１３の外周面には複数
（１つのみ図示）の第２の連結部材３１が一端を連結し
て設けられている。各連結部材３１の他端には第２の連
結ロッド３２の上端が連結されている。この第２の連結
ロッド３２は上記処理槽３の底部に貫通して設けられた
第２のシール管３３に挿通され、下端部が処理槽３の外
底部に突出している。

【００４０】上記第２の連結ロッド３２の上部には上記
第２のシール管３３の上端開口を覆う第２の外套管３４
が設けられている。それによって、上記処理槽３の内部
が上記第２のシール管３３によって外部と直接連通する
のを防止している。

【００４１】上記処理槽３の外底部に突出した第２の連
結ロッド３２の下端部は第２の可動部材３５に連結され
ている。この第２の可動部材３４には第２の上下用シリ
ンダ３６が連結されている。それによって、上記上部カ
ップ体１３は上記第２の上下用シリンダ３６によって上
下駆動されるようになっている。

【００４２】上記処理槽３の内部空間は、上記環状壁体
１５と上記下部カップ体１２とによって内側空間部３７
と外側空間部３８とに隔別されている。図４に示すよう
に、上記下部カップ体１２が上昇してその上端が遮蔽部
材２６に当接すると、上記内側空間部３７と外側空間部
３８とが遮断され、図５に示すように下降するとこれら
空間部が連通する。

【００４３】上記処理槽３の底部には開口部４１が形成
されている。この開口部４１には駆動モータ４２が設け
られている。この駆動モータ４２は筒状の固定子４３及
びこの固定子４３内に回転可能に設けられた筒状の回転
子４４とを有する。この回転子４４の上端には回転子４
４と一体に回転する筒状の連結体４５が設けられてい
る。

【００４４】上記連結体４５の上端には、上記上部カッ
プ体１３によって周辺部が囲まれる状態で回転テーブル
４６が取付けられている。この回転テーブル４６には周
方向に所定間隔で複数、たとえば５〜６の支持体４７が
回転駆動可能に設けられている。各支持体４７の上端の
回転中心から偏心した位置には傾斜面を有する支持ピン
４８が設けられている。

【００４５】図４に示すように、各支持体４７の回転テ
ーブル４６の下面側に突出した下端にはセクタ歯車４９
が設けられている。このセクタ歯車４９には親歯車５１
が噛合している。したがって、上記親歯車５１を回転さ
せれば、上記支持体４７とともに上記支持ピン４８が偏
心回転するようになっている。

【００４６】上記回転テーブル４６の上面及び外周面は
乱流防止カバー５２によって覆われている。この乱流防
止カバー５２の周壁の下端部内周面は、上記処理槽３の
上記開口部４１を形成した環状の立ち上り壁４１ａの外
周面に所定の間隔で対向している。それによって、処理
槽３内の雰囲気が上記開口部４１から外部に流出するの
を阻止している。

【００４７】上記支持体４７に設けられた支持ピン４８
は上記乱流防止カバー５２の上面側に突出し、これら支
持ピン４８の傾斜面には上記基板Ｗが供給載置される。
その状態で、上記支持ピン４８が偏心回転すると、これ
らの支持ピン４８によって上記基板Ｗが回転テーブル４
６に保持されるようになっている。

【００４８】上記処理槽３の底部には、この処理槽３内
の内側空間部３７に連通する各々４本の内側排出管５４
及び外側空間部３８に連通する外側排出管５５が接続さ
れている。

【００４９】４本の内側排出管５４は一対の内側気液分
離器５６にそれぞれ２本ずつ接続され、同じく４本の外
側排出管５５は一対の外側気液分離器５７にそれぞれ２
本ずつ接続されている。各気液分離器５６，５７には排
気管５８と排液管５９とが接続されている。第１の気液
分離器５６の排気管５８は第１の吸引手段としての第１
の排気ファン６０に接続され、第２の気液分離器５７の
排気管５８は第２の吸引手段としての第２の気液分離器
５７に接続されている。

【００５０】各排気ファン６０，６１が作動すると、上
記処理槽３の内側空間部３７と外側空間部３８との雰囲
気（気体）がそれぞれ第１、第２の気液分離器５６，５
７に吸引される。第１、第２の気液分離器５６，５７は
気体に含まれる処理液を分離する。

【００５１】処理液が分離された気体は排気管５８を通
じて第１、第２の排気ファン６０，６１によって排出さ
れ、処理液は排液管５９を通じて図示しない回収タンク
に回収される。この実施の形態では、第１の排気ファン
６０と第２の排気ファン６１は同じ排気能力となってい
る。

【００５２】図３に示すように、上記上部カップ体１３
の傾斜壁１３ａにはホルダ６２が設けられている。この
ホルダ６２には複数のノズル６３（１つのみ図示）が保
持されている。各ノズル６３からは上記回転テーブル４
６に保持された基板Ｗの上面に向けて異なる種類の処理
液を噴射できるようになっている。

【００５３】この実施の形態では、第１の処理液と第２
の処理液とが選択的に噴射されるようになっている。第
１の処理液としては現像液、エッチング液あるいは剥離
液などの薬液であって、第２の処理液としては純水など
の洗浄液が用いられる。

【００５４】上記基板Ｗの下面にはノズルヘッド６４が
配置されている。このノズルヘッド６４は上記駆動モー
タ４２の回転子４４及び連結体４５を通された固定軸６
５の上端に設けられている。ノズルヘッド６４には図示
しない複数のノズル孔が形成され、これらのノズル孔か
ら上記第１の処理液と第２の処理液とを基板Ｗの下面に
向けて選択的に噴射できるようになっている。

【００５５】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
て基板Ｗを第１の処理液と第２の処理液とによって順次
処理する場合について図４乃至図６を参照して説明す
る。

【００５６】まず、図６に示すように下部カップ体１２
と上部カップ体１３とをそれぞれ第１、第２の上下用シ
リンダ２２，３６によって下降させ、処理槽３に形成さ
れた出し入れ口５から回転テーブル４６に未処理の基板
Ｗを供給する。

【００５７】ついで、図４に示すように下部カップ体１
２と上部カップ体１３とをそれぞれ上昇させた後、第１
の排気ファン６０を作動させて処理槽３内の内側空間部
３７を吸引するとともに、駆動モータ４２を作動させて
回転テーブル４６を回転させる。

【００５８】回転テーブル４６を作動させたならば、基
板Ｗの上面と下面との、少なくとも上面に第１の処理液
を噴射し、基板Ｗを第１の処理液によって処理する。基
板Ｗに供給された第１の処理液は基板Ｗの周縁部から飛
散し、上昇した下部カップ体１２の内周面に衝突して内
側空間部３７に滴下し、この内側空間部３７に接続され
た内側排出管５４を通じて第１の排気ファン６０の吸引
力により処理槽３内の気体とともに第１の気液分離器５
６に吸引される。この第１の気液分離器５６では第１の
処理液と気体とが分離され、第１の処理液は図示しない
回収タンクに回収され、繰り返して使用されることにな
る。

【００５９】下部カップ体１２の上端は、上部カップ体
１３の傾斜壁１３ａの内面に設けられた遮蔽部材２６の
外周面に当接している。そのため、基板Ｗから飛散する
第１の処理液が下部カップ体１２と上部カップ体１３と
の接合部分から外側空間部３８に漏れ出るのを防止する
ことができるから、第１の処理液を確実に回収すること
ができる。

【００６０】基板Ｗを第１の処理液によって所定時間処
理したならば、第１の処理液の供給を停止して基板Ｗを
回転させることで、この基板Ｗに付着残留する第１の処
理液を除去し、回収する。

【００６１】上記第１の排気ファン６０の吸引力によっ
て生じる図４に矢印で示す気流は、回転する基板Ｗの周
縁と上部カップ体１３の上端内周縁とがなす流路７１の
間隔Ｘによって定まる流速で排出される。

【００６２】図７を参照して説明したように、基板Ｗに
パーティクルが最も付着し難い第１の排気ファン６０に
よって生じる気体の流速、つまり上記間隔Ｘには最適値
Ｇが存在する。

【００６３】したがって、上記間隔Ｘを最適値Ｇに設定
することで、基板Ｗから第１の処理液を除去する際に、
この基板Ｗがカップ体３内に浮遊するパーティクルによ
って汚染される度合を最小限に抑制することができる。
上記間隔Ｘの最適値Ｇは、実験的に求めることが可能で
ある。

【００６４】第１の処理液によって基板Ｗを処理したな
らば、図５に示すように下部カップ体１２をその垂直部
１２ｂの上端が基板Ｗよりも下方になる位置まで下降さ
せる。ついで、第２の排気ファン６１を作動させるとと
もに、回転する基板Ｗに第２の処理液を供給し、この基
板Ｗを第２の処理液によって処理する。

【００６５】回転する基板Ｗに供給された第２の処理液
は、この基板Ｗの周縁部から飛散し、上部カップ体１３
の傾斜壁１３ａや垂直壁１３ｂの内面に衝突して外側空
間部３８に滴下し、この外側空間部３８に発生する吸引
力によってカップ体４内の雰囲気とともに外側排気管５
５を通じて第２の気液分離器５７に排出され、ここで気
体と第２の処理液とに分離され、第２の処理液がたとえ
ば純水であれば廃棄され、薬液などであれば回収され、
必要に応じて再使用される。

【００６６】下部カップ体１２の垂直部１２ｂの上端は
基板Ｗよりも下方に位置しているから、基板Ｗから飛散
する第２の処理液が下部カップ体１２に衝突して内側空
間部３７に滴下することがない。つまり、第１の処理液
を回収する内側空間部３７に第２の処理液が流入するの
を防止することができる。

【００６７】第２の処理液による処理を所定時間行なっ
たならば、第２の処理液の供給を停止して基板Ｗを回転
させることで、この基板Ｗに付着残留した第２の処理液
を除去する。

【００６８】下部カップ体１２が下降した状態におい
て、第２の排気ファン６１の吸引力によって図５に矢印
で示すごとく生じる気流は、回転する基板Ｗの周縁と上
部カップ体１３の上端内周縁とがなす流路７１の間隔Ｘ
によって定まる流速で排出される。

【００６９】上記下部カップ体１２の垂直部１２ｂの上
端は、上部カップ体１３の傾斜壁１３ａの内周縁よりも
径方向外方に位置している。そのため、図５に示すよう
に下部カップ体１２を下降させても、カップ体４内から
排出される気体の流速を決定する流路７１の間隔Ｘが図
４に示すように下部カップ体１２を上昇させているとき
と変わることがない。

【００７０】つまり、上記間隔Ｘは下部カップ体１２を
下降させているときも、上昇させているときと同様、最
適値Ｇに維持されるから、このときも基板Ｗに付着する
パーティクル数を最小限にすることができる。

【００７１】このように、下部カップ体１２を上昇させ
て基板Ｗを第１の処理液で処理した後、下部カップ体１
２を下降させて第２の処理液で処理するとともに、第１
の処理液と第２の処理液とを分離回収する場合、下部カ
ップ体１２を上昇させたときも、下降させたときも、カ
ップ体４から排出される気体の流速を左右する流路７１
の間隔Ｘを一定にすることができる。

【００７２】そのため、上記間隔Ｘを図７に示すパーテ
ィクルが最も付着し難い最適値Ｇに設定しておけば、基
板Ｗを第１の処理液と第２の処理液とのどちらで処理す
る場合であっても、基板Ｗのパーティクルによる汚染を
最小限に抑制することができる。

【００７３】

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、基板を
処理する第１の処理液と第２の処理液とを分離回収する
場合、どちらの処理液によって基板を処理する場合であ
っても、カップ体内の雰囲気を一定の流速で排出するこ
とができるから、その流速によって変化する基板に付着
するパーティクル数を最小限に抑制することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態を示すスピン処理装置
の全体構成を示す斜視図。

【図２】枠体を取り除いたスピン処理装置の斜視図。

【図３】スピン処理装置の概略的構成を示す縦断面図。

【図４】下部カップ体を上昇させた状態を示す部分的拡
大断面図。

【図５】下部カップ体を下降させた状態を示す部分的拡
大断面図。

【図６】下部カップ体と上部カップ体とを下降させた状
態を示す部分的拡大断面図。

【図７】基板と容器の内周縁との間隔と基板に付着する
パーティクル数との関係を示すグラフ。

【図８】第１の処理液と第２の処理液とを分離回収する
ときの基板と容器の内周縁との間隔の変化の説明図。

【符号の説明】

３…処理槽 ４…カップ体 １２…下部カップ体 １５…環状壁体 ２３…上部カップ体 ３７…内側空間部 ３８…外側空間部 ４６…回転テーブル ５４…内側排出管 ５５…外側排出管 ５６…第１の気液分離器 ５７…第２の気液分離器 ６０…第１の排気ファン ６１…第２の排気ファン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H096 AA25 AA27 GA17 GA20 GA29 GA32 GA33 HA19 LA02 4F042 AA07 AB00 BA05 CC07 CC15 EB05 EB07 EB09 EB13 EB18 EB24 5F046 JA04 LA01 LA03 LA06 MA01 MA06 MA10

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を第１の処理液で処理してから第２
   の処理液で処理するスピン処理装置において、 処理槽と、 この処理槽内に設けられ上記基板を保持するとともに回
   転駆動される回転テーブルと、 上記処理槽内を内側空間部と外側空間部とに隔別した環
   状壁体と、 上記処理槽の上記内側空間部と外側空間部とにそれぞれ
   連通して設けられた内側排出管及び外側排出管と、 上記処理槽内に設けられ上記回転テーブルの周辺部を覆
   うとともにこの回転テーブルの径方向内方に向かって高
   く傾斜した傾斜壁を有する環状をなしこの傾斜壁の上端
   内周縁と上記回転テーブルに保持された基板の外周縁と
   で流路を形成する上部カップ体と、 上記処理槽内に上下動可能に設けられ上端部を上記上部
   カップ体の傾斜壁の上端がなす内周縁よりも径方向外方
   に位置させるとともに下端側が上記環状壁体に対向する
   下部カップ体と、 この下部カップ体を上下駆動し上昇させることで上記基
   板から飛散する第１の処理液あるいは第２の処理液のい
   ずれか一方を上記内側空間部に流入させ、下降させるこ
   とで上記基板から飛散する他方の処理液を上記外側空間
   部に流入させる第１の上下駆動手段とを具備したことを
   特徴とするスピン処理装置。
2. 【請求項２】 上記上部カップ体の傾斜壁の内面には、
   上記下部カップ体を上記第１の上下駆動手段によって上
   昇させたときに、この下部カップ体の上端部が接触して
   上記基板から飛散する処理液が上記外側空間部に流入す
   るのを阻止する遮蔽部材が設けられていることを特徴と
   する請求項１記載のスピン処理装置。
3. 【請求項３】 上記内側空間部には第１の吸引手段が接
   続され、上記外側空間部には第２の吸引手段が接続され
   ていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装
   置。
4. 【請求項４】 上記第１の上下駆動手段は、上記下カッ
   プ体を上端が上記回転テーブルに保持される基板よりも
   下方になる位置まで下降させることを特徴とする請求項
   １記載のスピン処理装置。
5. 【請求項５】 上記上部カップ体は、第２の上下駆動手
   段によって上下駆動可能に設けられ、上記傾斜壁の上端
   が上記回転テーブルに保持された基板よりも下方になる
   位置まで上記下部カップ体とともに下降させることが可
   能であって、上記処理槽には、上記回転テーブルに保持
   される基板を出し入れするための出し入れ口が形成され
   ていることを特徴とする請求項１記載のスピン処理装
   置。