JP2003208126A - 表示装置および表示方法 - Google Patents
表示装置および表示方法Info
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- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
- Control Of El Displays (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
を1ライン毎に行う容易な制御方法により、各ビットの
表示期間の通算と各ビットの重みの比率とを厳密に一致
させる。 【解決手段】 TFTQ1によって取込まれた信号レベ
ルを保持するコンデンサC1と、コンデンサC1に関連
して、TFTQ1によって取込まれた信号レベルを保持
する画素メモリR1,R2と、その画素メモリR1,R
2に個別的に対応するTFTQ10と、TFTQ10を
選択駆動するビット選択線Sa,Sbとを備えており、
走査信号線Gが選択状態で、TFTQ1を介してコンデ
ンサC1に表示信号レベルが設定されるとともに、TF
TQ10が選択駆動されて画素メモリR1,R2にその
表示信号レベルが設定され、走査信号線Gが非選択状態
でTFTQ10が選択駆動されて画素メモリR1,R2
からの表示信号レベルに切換えられる。
Description
o Luminescence)素子やFED(Field EmissionDevic
e)素子等の電気光学素子をマトリックス状に配置して
構成される表示装置および表示方法に関する。
の自発光デバイスを用いた薄型表示装置の開発が活発に
行われている。これら自発光デバイスでは、素子の発光
輝度が素子を流れる電流密度に比例することが知られて
いる。そして、有機EL素子をアクティブ素子で駆動す
る場合、階調表示を実現する手法は、アナログ階調制御
とデジタル階調制御とに大別することができる。
る電流値を制御する方法である。しかし、このアクティ
ブ素子は閾値や移動度などの素子特性がバラツキ易いの
で、このバラツキを克服してアナログ階調を得る手段が
各種考案されている。
と時間分割階調とに区分することができ、画素分割階調
は1つの画素を複数の有機EL素子で構成し、各有機E
L素子を選択的にon/off駆動することで階調表示
を行う方法であり、時間分割階調は有機EL素子を流れ
る電流の時間を制御する方法である。前記画素分割階調
は、前記のように1つの画素を複数の有機EL素子で構
成するので、高精細な用途には適さない。このため、P
DP(Plasma Display Panel)等では、デジタル階調制
御として時間分割階調が用いられている。
特開昭63−226178号公報の駆動方法を使用する
例を図15に示す。同図は、その先行技術での駆動方法
を示す図である。この図15の例では、マトリクス型デ
ィスプレイの走査信号線はG1〜G15の15本で1つ
の単位と想定されており、各走査信号線G1〜G15の
選択状態を、図15(3)〜(17)でそれぞれ示して
いる。そして、各画素で16階調(4bit)の階調表
示を実現しており、各bitの重み1:2:4:8に比
例した時間だけ、各画素は対応した2値表示を行う。図
15(1)は単位時間を示し、1フレーム期間Tfは1
5の単位時間から構成されている。図15(2)は、前
記bitの重みを示す。
備えており、図15(3)〜(17)において、斜線は
走査信号線によって選択されていることを表し、次の斜
線まで、その状態を保持する。こうして、各bitの表
示期間の比率が、前記1:2:4:8となる。
て、異なる走査信号線にそれぞれ対応した複数の各画素
へ異なるデータを同時に書込むことは不可能なので、こ
の特開昭63−226178号では、図16(2)に部
分時間として示すように、図15(1)の各単位時間
を、さらにbitの数4で分割し、その各単位時間の第
1の部分時間では1bit目の書込みを行い、第2の部
分時間では2bit目の書込みを行い、第3の部分時間
では3bit目の書込みを行い、第4の部分時間では4
bit目の書込みを行うことで、図15で示すような時
間分割の階調制御を可能にしている。なお、図16
(1)の単位時間は図15(1)に、図16(3)のビ
ットの重みは図15(2)に、図16(4)〜(18)
の選択状態は図15(3)〜(17)に、それぞれ対応
している。また、図16(19)は、部分時間の通算の
表示である。
3−226178号公報に記載されている時間分割階調
の駆動方法では、図16に示すように、実際の部分表示
期間の通算は1:2:4:8の比率ではなく、5:9:
13:29となっている。すなわち、実際の部分表示期
間は、各bitの重み1:2:4:8に比例した時間に
はなっていない。このように、上記公報に記載の駆動方
法は表示期間の比率を厳密に調整して、各bitの重み
に対応した比率とすることが困難であるという問題点が
ある。
05に示すように、走査信号線G1を選択した後、走査
信号線G15、G13、G9、G2を順に選択すること
となる。すなわち、走査信号線を連続的に選択するので
はなく、離散的な選択を行うので、上記した問題点に加
えて、外部から入力される同期信号に応答して、各走査
信号線に選択信号を出力するコントロール回路(走査コ
ントローラ)の制御が複雑になるという問題点もある。
ットの重みとを厳密に一致させることができるととも
に、コントロール回路の制御を容易に行うことができる
表示装置および表示方法を提供することである。
互に交差する複数の第1および第2の信号線G,Dで区
画された各領域に電気光学素子Pを備え、その電気光学
素子Pが、それぞれ対応する第1のアクティブ素子Q1
によって、前記第1の信号線Gで選択されている間に、
第2の信号線Dに出力される信号レベルに対応した表示
を行うように駆動される表示装置において、前記電気光
学素子Pに対応して配置される1または複数の第2のア
クティブ素子Q10と、前記第2のアクティブ素子Q1
0によって取込まれた信号レベルを保持する画素メモリ
R1,R2と、前記第1のアクティブ素子Q1によって
取込まれた信号レベルを保持する電位保持手段C1と、
前記第2のアクティブ素子Q10を選択駆動するビット
選択線Sa,Sbとを備えており、前記第1の信号線G
が選択状態で、第1のアクティブ素子Q1を介して前記
電位保持手段C1に表示信号レベルが設定されるととも
に、前記第2のアクティブ素子Q10が選択駆動される
ことで前記画素メモリR1,R2にもその表示信号レベ
ルが設定され、前記第1の信号線Gの非選択状態で、前
記第2のアクティブ素子Q10が選択駆動されて、前記
電気光学素子Pの表示信号レベルが前記画素メモリR
1,R2に対応した表示信号レベルに切換えられること
を特徴とする。
号レベルは、前記第1のアクティブ素子Q1および第2
のアクティブ素子Q2とを介して設定される場合と、新
たな第6のアクティブ素子を介して設定される場合とが
ある。
査によって表示が行われるとともに、ビット選択線S
a,Sbを選択することで、そのビット選択線Sa,S
bに対応する画素メモリR1,R2に表示信号レベルを
書込んでおくことができる。そして、第1の信号線Gの
非選択状態でビット選択線Sa,Sbを選択すること
で、前記画素メモリR1,R2から表示信号レベルを読
出すことができる。
ィブ素子が選択されている間に画素メモリR1,R2に
表示信号レベルを書込んでおくことができる。そして、
第1の信号線Gの非選択状態でビット選択線Sa,Sb
を選択することで、前記画素メモリR1,R2から表示
信号レベルを読出すことができる。
てゆく1走査期間内で、下位のビットのデータを表示し
て残った時間を上位のビットのデータ表示に用いること
ができる。このため、各ビットの表示期間と各ビットの
重みとを厳密に一致させることができる。例えば、4b
itのデータ表示を行う場合に、各ビットの表示期間を
各ビットの重みに対応する1:2:4:8に厳密に一致
させることが可能となる。また、各ビットの選択期間を
隣り合う走査信号線Gで連続させることができるので、
外部から入力される同期信号に応答して、各走査信号線
Gに選択信号を出力するコントロール回路(走査コント
ローラ)の制御が容易となる。
手段C1に関連して、前記第1の信号線Gとは択一的に
選択出力が導出される第3の信号線Sからの選択出力に
応答し、前記第2の信号線Dとは独立した信号レベルを
前記電位保持手段C1に与える第3のアクティブ素子Q
3をさらに備え、前記第1のアクティブ素子Q1によっ
て表示信号レベルが設定され、前記第3のアクティブ素
子Q3によって消去信号レベルが設定されることを特徴
とする。
査により表示が開始された後、その走査が総ての第1の
信号線Gについて終了する以前に、第3の信号線Sの走
査によって、前記表示を消去してゆくことができる。す
なわち、単位表示時間を、走査期間よりも短くすること
ができる。
たって、下位のビットのデータにも、そのビットの重み
に対応した短時間の表示を正確に行わせることができ、
ビット数の多い細かな階調制御を行うことができる。
電位保持手段は、第4のアクティブ素子Q4とコンデン
サC1とから構成されることを特徴とする。
選択状態で、第2のアクティブ素子Q10が選択駆動さ
れたとき、前記第4のアクティブ素子Q4を非選択駆動
することで、画素メモリR1,R2に保持される表示信
号レベルが前記コンデンサC1の影響によって不必要に
書変わってしまうことを防止することができる。
くすることができるので、時間経過に伴う該コンデンサ
C1の電位変化を少なくでき、好適である。
リR1,R2の入出力端子間に第5のアクティブ素子Q
5が配置され、前記第5のアクティブ素子Q5が非選択
駆動されている間に、前記画素メモリR1,R2の表示
信号レベルが設定されることを特徴とする。
2として主に2つのインバータ回路INV1,INV2
の入出力端子間が相互に接続されたスタティックメモリ
の構成を想定すると、第1のインバータ回路INV1の
入力端子と第2のインバータ回路INV2の出力端子と
が直接接続される場合、第1のインバータ回路INV1
の入力に第2のインバータ回路INV2の出力が影響す
るので、第2のインバータ回路INV2の出力があって
も、第1のインバータ回路INV1の入力端子に前記第
2の信号線Dの信号が正しく入力されるように第2のイ
ンバータ回路INV2の出力インピーダンスを調整しな
ければならないのに対して、第1のインバータ回路IN
V1の入力端子と第2のインバータ回路INV2の出力
端子との間に第5のアクティブ素子Q5を配置すること
で、前記第1のインバータ回路INV1の入力端子に前
記第2の信号線Dの信号を入力するにあたって、該第5
のアクティブ素子Q5を非選択状態とすることで、前記
第2のインバータ回路INV2の出力が第1のインバー
タ回路INV1の入力端子に印加されることを防止し、
画素メモリR1,R2の表示信号レベルを設定すること
ができる。
で、前記第5のアクティブ素子Q5を選択状態とするこ
とで、前記画素メモリR1,R2の出力を入力端子へ印
加してスタティックメモリ回路を構成し、前記画素メモ
リR1,R2の表示信号レベルが保持される。
画素メモリR1,R2には、前記電気光学素子Pへ負荷
電流を供給する第1の電源線Eとは個別に設けた第2の
電源線Eaから電源供給を行うことを特徴とする。
子Q1が選択されている間に、第1の電源線Eの電位を
前記負荷電流が流れない電位、たとえばGND電位とす
ることで、表示を行うことなく、電位保持手段C1や画
素メモリR1,R2への信号レベルの書込みのみを行う
ことができる。また、電位保持手段C1や画素メモリR
1,R2に記憶されたデータに基づく電気光学素子Pの
表示期間を、第1のアクティブ素子Q1の走査期間とは
独立に制御可能となり、表示期間で時間分割階調表示を
実現することもできる。
の第1および第2の信号線G,Dで区画された各領域に
電気光学素子Pを備え、その電気光学素子Pが、それぞ
れ対応する第1のアクティブ素子Q1によって、前記第
1の信号線Gで選択されている間に、第2の信号線Dに
出力される信号レベルに対応した表示を行うように駆動
される表示方法において、前記第1の信号線Gが選択状
態である間に、第1のアクティブ素子Q1を介して前記
電位保持手段C1に表示信号レベルが設定されるととも
に、前記第2のアクティブ素子Q10が選択駆動され
て、前記画素メモリR1,R2にその表示信号レベルが
設定される表示信号レベル設定ステップと、前記第1の
信号線Gが非選択状態である間に、前記第2のアクティ
ブ素子Q10が選択駆動されて、前記電気光学素子Pの
表示信号レベルが前記画素メモリR1,R2に対応した
表示信号レベルに切換えられる表示信号切換ステップと
を含むことを特徴とする。
の表示装置と同様に、各ビットの表示期間とビットの重
みとを厳密に一致させることができる。また、各ビット
の選択期間を隣り合う走査信号線で連続させることがで
きるので、コントロール回路の制御が容易となる。
て、図1および図2に基づいて説明すれば、以下のとお
りである。
装置における素子回路Abの電気回路図である。この素
子回路Abは、有機ELディスプレイの素子回路であ
り、図1では、マトリクス状に配列される各素子回路の
内、任意の1つを示している。この素子回路Abは、画
素の等価回路であり、相互に交差する複数の第1および
第2の信号線G,D(この図1では、1つの素子回路に
対応したそれぞれ1本しか図示せず)で区画された各領
域に形成されており、走査信号線Gで選択されている間
に、対応するデータ信号線Dからデータ信号を取込むn
型のTFTQ1と、前記TFTQ1で取込まれたデータ
信号を保持するコンデンサC1と、有機EL素子Pと、
前記コンデンサC1の充電電圧に対応して、電源線Eか
ら有機EL素子Pに流れる電流を制御するp型のTFT
Q2と、複数(図1の例では2つ)の画素メモリR1,
R2とを備えて構成される。
第1のアクティブ素子Q1によって、前記第1の信号線
Gで選択されている間に、第2の信号線Dに出力される
信号レベルに対応した表示を行うように駆動される。ま
た、前記画素メモリR1,R2の記憶内容が、対応した
ビット選択線Sa,Sbの選択によって電位保持手段で
あるコンデンサC1にセットされることで、該コンデン
サC1の保持する信号レベルに対応した表示を行う。な
お、前記ビット選択線Sa,Sb等は図示しないコント
ローラにより制御される。前記ビット選択線Sa,Sb
は、有機ELパネル上で、前記素子回路Abを貫くよう
に、前記走査信号線Gと平行に配設されている。
く構成され、前記データ信号の書込み/読出しを制御す
る第2のアクティブ素子であるn型のTFTQ10と、
p型のTFTQ11およびn型のTFTQ12から成る
1段目のCMOSインバータINV1と、p型のTFT
Q13およびn型のTFTQ14から成る2段目のCM
OSインバータINV2とを備えて構成される。CMO
SインバータINV1,INV2の電源電圧は、前記電
源線Eと接地電位との間の電圧となり、1段目のCMO
SインバータINV1の出力が2段目のCMOSインバ
ータINV2の入力に与えられ、該2段目のCMOSイ
ンバータINV2の出力が1段目のCMOSインバータ
INV1の入力に帰還されて、自己保持、すなわちメモ
リ動作が行われる。画素メモリR1,R2のゲートに
は、それぞれ前記ビット選択線Sa,Sbが接続されて
いる。
の出力インピーダンスは、前記データ信号線Dと、TF
TQ1と、TFTQ10との出力インピーダンスを合計
した値よりも大きく選ばれる。このように設定すること
で、1段目のCMOSインバータINV1の入力に2段
目のCMOSインバータINV2の出力が印加されてい
ても、前記1段目のCMOSインバータINV1の入力
に、前記データ信号線Dの電位を正しく入力することが
できる。
ると、第1のアクティブ素子であるTFTQ1が導通し
て、データ信号線DからコンデンサC1にデータ信号が
書込まれる。この状態で、ビット選択線Sa,Sbが選
択されてTFTQ10が導通すると、画素メモリR1,
R2へも、前記データ信号線Dからのデータ信号が書込
まれる。
TFTQ1が遮断している状態で、ビット選択線Sa,
Sbが選択されてTFTQ10が導通すると、画素メモ
リR1,R2から前記データ信号が読出され、コンデン
サC1にセットされる。また、ビット選択線Sa,Sb
が非選択、すなわちTFTQ10が遮断している状態
で、走査信号線Gが選択され、すなわちTFTQ1が導
通すると、前記画素メモリR1,R2にデータ信号が書
込まれることなく、コンデンサC1にだけセットされ
る。
データ信号をコンデンサC1にセットするためには、コ
ンデンサC1に貯えられていた電荷によって、逆に画素
メモリR1,R2の記憶内容が書換えられてしまわない
ように、コンデンサC1の容量は、制御すべき最長の時
間に亘ってTFTQ2を制御することができる範囲で、
可能な限り小さな値に設定することが望ましい。
号レベルを設定するにあたって、前記TFTQ1,Q2
を用いるのではなく、各画素メモリR1,R2の2段目
のCMOSインバータINV2の入力(=1段目のCM
OSインバータINV1の出力)と前記データ信号線D
との間に、新たな第6のアクティブ素子を用いるように
してもよい。これによって、前記TFTQ1,Q2が共
に非選択状態でも、前記画素メモリR1,R2に表示信
号レベルを設定することができる。
ディスプレイを用いた本発明の表示方法である時間分割
階調での駆動方法(表示方法)の一例を示す図である。
この図2においては、有機ELパネルの走査信号線はG
1〜G15の15本で1つの単位と想定されており、各
走査信号線G1〜G15の選択状態を、図2(7)〜
(21)で示している。図2(1)は単位時間表示であ
り、図2(22)は通算の時間表示(単位時間数)であ
る。図2(3)はbit4のデータの通算表示時間を示
し、図2(5)はbit3のデータの通算表示時間を示
す。図2(6)は、ビットの重みを示す。
ト選択線Sa1(前記走査信号線G1〜G15に対応し
てSa1〜Sa15を記載すべきところ、図面の簡略化
のためにSa1のみとしている。以下のビット選択線S
bについても同様。)の選択走査および図2(4)に示
す前記ビット選択線Sb1の選択走査である。各ビット
選択線Sa,Sbは、特に記載しない限り、非選択状態
であり、前記図2(2),(4)では、ハイレベルHが
選択状態を表す。画素メモリR1,R2には、bit4
のデータおよびbit3のデータがそれぞれ記憶される
ものとする。各走査期間Ts1〜Ts4は、15単位時
間で構成される。
いて、走査信号線G1〜G15が順に選択されてbit
4のデータを表示させながら、ビット選択線Saが選択
されて該bit4のデータが画素メモリR1に書込まれ
てゆく。走査信号線G1〜G15の選択を終了するま
で、したがって15単位時間に亘って、該bit4のデ
ータが表示される。
の走査期間Ts2に入り、表示をbit4に対応したデ
ータからbit3のデータヘ切換えながら、ビット選択
線Sbが選択されて該bit3のデータが画素メモリR
2に書込まれてゆく。そして、この走査期間Ts2で該
bit3のデータを9単位時間に亘って表示した後、走
査信号線G1〜G15が選択されていない状態で、その
選択を追いかけるように、ビット選択線Saが選択され
てbit4のデータが画素メモリR1から読出され、残
りの6単位時間に亘って表示される。これによって、b
it4のデータの通算表示時間は21単位時間となる。
査期間Ts3では、表示をbit4に対応したデータか
らbit2のデータヘ切換え、8単位時間に亘って表示
した後、走査信号線G1〜G15が選択されていない状
態で、その選択を追いかけるように、ビット選択線Sb
が選択されてbit3のデータが画素メモリR2から読
出され、残りの7単位時間に亘って表示される。これに
よって、bit3のデータの通算表示時間は16単位時
間となる。
応したデータからbit1のデータヘ切換え、4単位時
間に亘って表示した後、ビット選択線Saが選択されて
bit4のデータが画素メモリR1から再び読出され、
残りの11単位時間に亘って表示される。これによっ
て、bit4のデータの通算表示時間は32単位時間と
なり、各bitの表示期間の比率が、厳密に前記1:
2:4:8となる。
走査信号線Gで選択されていないときに、ビット選択線
Sa,Sbを選択することで、任意のタイミングで上位
のビットのデータを読出し、表示を行うことができる。
これによって、下位のビットのデータでの表示が終了す
ると、そのビットの走査期間Ts内での残りの時間を上
位のビットのデータの表示に用いることができる。この
ため、複数の各ビットに対して等間隔の走査期間を設定
しても、表示期間Taの中で走査してない期間や発光に
使われていない時間を短縮することができる新規な時間
分割階調表示(表示方法)を実現することができる。な
お、図2に示した時間分割階調表示においては、発光期
間Td=表示期間Ta=フレーム期間Tfとなってい
る。
特開昭63−226178号の時間分割階調表示方法と
比べて、各ビットの表示期間が厳密に各ビットの重みに
なるという効果と、走査を1ライン毎に順番に行うの
で、制御が楽になるという効果を得ることができる。
る。この式1を満足する条件を、4bit階調表示につ
いて調ベた結果を表1に示す。
は走査信号線数、(c)は走査信号線数×bit数=時
間分割階調表示に必要な走査時間、(d)は1階調当り
の表示期間、(e)は発光に使用される階調表示期間で
ある。(f)は判定であり、「▲」とあるのは走査信号
線数×bit数>時間分割階調表示となって本構成では
階調表示ができない場合であり、「△」とあるのは走査
を不連続にすれば4bit階調表示が可能な場合であ
り、「○」とあるのが上記式1を満たし、階調表示可能
な場合である。
可能であるが、走査を不連続としない限り表示階調数が
制限される場合に、走査を連続にして表示可能な階調数
を(g)に示している。さらにまた、(h)は必要な画
素メモリの素子数であり、「○」の数だけ電位保持手段
が必要であることを表す。なお、この表1に示したの
は、必要メモリ数が2以下の場合だけである。
示の場合での実現可能性の判定結果を示し、(a)〜
(h)の内容は、それぞれ表1に対応している。
のとき、前記式1を満たすことが理解される。なお、こ
の表1に示したのは、必要メモリ数が1の場合だけであ
る。
示の場合での実現可能性の判定結果を示し、(a)〜
(h)の内容は、それぞれ前記の表1および表2に対応
している。
のとき、前記式1を満たすことが理解される。なお、表
3に示したのは、必要メモリ数が1の場合だけである。
〜図5に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
ELディスプレイにおける素子回路Acの電気回路図で
ある。この素子回路Acは、前述の図1で示す素子回路
Abに類似し、対応する部分には同一の参照符号を付し
て示し、その説明を省略する。注目すべきは、この素子
回路Acでは、1つの画素メモリR1を備えるととも
に、コンデンサC1(および画素メモリR1)を初期化
電位に接続することで、記憶されたデータを消去する第
3のアクティブ素子であるTFTQ3が設けられている
ことである。また、そのTFTQ3を駆動するために、
前記走査信号線Gと平行に、走査信号線Sが設けられて
いる。
(表示方法)は、図4に示すようになる。図4(1)は
走査期間Tsを8等分した部分時間を示し、図4(3)
はbit4のデータの通算表示時間を示し、図4(5)
はビットの重みを示し、図4(22)は通算の表示時間
を示す。図4(2)にはビット選択線Sa1の選択走査
を示し、図4(4)は走査信号線S1の選択走査を示
す。一方、この例では走査信号線はG1〜G16の16
本で1つの単位と想定されており、図4(6)〜(2
1)はそれぞれの選択状態を示す。
it4のデータを表示させながら、TFTQ10を介し
てそのデータを画素メモリR1に記憶させておく。走査
信号線G1〜G16まで選択を終了すると、連続して次
の走査期間Ts2に入り、表示をbit4に対応したデ
ータからbit3に対応したデータに切換える。このと
き、走査期間Tsをbit3に対応したデータの表示期
間より大き目に設定し、前述のようにbit3に対応し
たデータの表示期間が終了すると、その走査を追いかけ
るように、表示させるべきデータを、bit4に対応し
たデータに切換える走査を行ってもよい。しかしなが
ら、この図4の例では、走査期間Ts=bit3に対応
したデータ表示期間となっているので、そのような走査
は挿入されていない。
査を走査信号線G1〜G16まで終了すると、連続して
次の走査期間Ts3に入り、表示をbit2に対応した
データに切換える。この走査を追いかけるように、4部
分時間後からビット選択線Saの選択走査を開始し、T
FTQ10を介して前記画素メモリR1からデータを読
出して、再びbit4に対応したデータの表示を行う。
bit2に対応したデータをコンデンサC1に保持させ
る走査を走査信号線G1〜G16まで終了したら、連続
して次の走査期間Ts4に入り、表示をbit1に対応
したデータに切換える。この走査を追いかけるように、
2部分時間後に、画素メモリR1からデータを読出し
て、再びbit4に対応したデータの表示を行う。この
最後のbit4のデータに対応した表示までに、8+4
=12部分時間だけ表示しているので、この走査を追い
かけるように、4部分時間後に走査信号線Sを選択走査
し、コンデンサC1のデータを消去して、ブランク表示
を行う。
走査期間Ts4において、bit4に対応したデータの
表示(=総てのデータの表示)を終了した後、余分な時
間が残されていると、その時点で、走査信号線G1〜G
16やビット選択線Saとは独立した走査を行うことが
できる。これによって、前述の実施の形態では、nbi
t分の発光に使用される時間=nbit分の走査に必要
な時間でないと、余分な走査時間が必要であったり、表
示階調数が減ってしまう等の不具合があるのに対して、
本実施の形態では、走査信号線Sの選択走査によって消
去走査を行うことで、そのような不具合を解消すること
ができる。
たけれども、これは、 走査信号線数≧bit3の表示期間 …(2) 発光に使用される時間 ≧走査信号線数×(bit数4−1)+bit1の表示期間 …(3) 時間分割階調表示に必要な走査時間≧発光に使用される時間 …(4) の各条件を満たす走査信号線数から選ばれている。これ
らの式2〜4を満たす条件を、4bit階調表示につい
て調べた結果を表4に示す。
は走査信号線数、(c)は走査信号線数×bit数=時
間分割階調表示に必要な走査時間、(d)は1階調当り
の表示期間、(e)はbit3の表示期間、(f)は走
査信号線数×(bit数4−1)+bit1の表示期
間、(g)は発光に使用される階調表示期間である。
(h)は判定であり、「▲」とあるのは4bit階調で
表示可能であるけれども発光期間が不連続となる場合で
あり、「△」とあるのは4bit階調で表示可能で、か
つ発光期間が連続となる場合であり、「○」とあるのが
上記式2〜4を満足する場合である。
2,13,14,16本(以下続くが省略)の場合に、
上記式2〜4を満足することが理解される。前記図4で
は、走査信号線はG1〜G16の16本で、4bit階
調表示であり、実線で示すように表示走査が連続的に行
われており、この表4の結果に合致している。
示の場合での実現可能性の判定結果を示し、(a)〜
(h)の内容は、それぞれ表4に対応している。
4,5,6(以下続くが省略)の場合に、前記式2〜4
を満足することが理解される。
示の場合での実現可能性の判定結果を示し、(a)〜
(h)の内容は、それぞれ前記の表4および表5に対応
している。
6,7,8,9,10(以下続くが省略)の場合に、前
記式2〜4を満足することが理解される。
連続となる場合の駆動方法の一例を示す。この図5の例
は、前記表4(h)において「▲」である4bit階調
で表示可能であるけれども発光期間が不連続となる判定
例である走査信号線がG1〜G10の10本の場合を示
す。図5(1)〜(5),(16)は、図4(1)〜
(5),(22)にそれぞれ対応しており、前記走査信
号線G1〜G10の選択状態はそれぞれ図5(6)〜
(15)である。図5(1)では、走査期間Tsは、1
0等分されている。
it4のデータを表示させながら、TFTQ10を介し
てそのデータが画素メモリR1に記憶されるが、直ちに
その走査を追いかけるように、1部分時間後から走査信
号線Sを選択走査し、コンデンサC1のデータを消去し
て、ブランク表示が行われる。この走査によって、走査
信号線G1〜G10まで選択を終了すると、連続して次
の走査期間Ts2に入り、表示をbit4に対応したデ
ータからbit1に対応したデータに切換える。この走
査を追いかけるように、2部分時間後からビット選択線
Saを選択走査し、TFTQ10を介して前記画素メモ
リR1からデータを読出して、bit4に対応したデー
タの表示を行う。
査を走査信号線G1〜G10まで終了すると、連続して
次の走査期間Ts3に入り、表示をbit3に対応した
データに切換える。この走査を追いかけるように、8部
分時間後からビット選択線Saの選択走査を開始し、T
FTQ10を介して前記画素メモリR1からデータを読
出して、再びbit4に対応したデータの表示を行う。
bit3に対応したデータをコンデンサC1に保持させ
る走査を走査信号線G1〜G10まで終了したら、連続
して次の走査期間Ts4に入り、表示をbit2に対応
したデータに切換える。この走査を追いかけるように、
4部分時間後に、画素メモリR1からデータを読出し
て、再びbit4に対応したデータの表示を行う。この
最後のbit4のデータに対応した表示までに、1+8
+2=11部分時間だけ表示しているので、この走査を
追いかけるように、5部分時間後に走査信号線Sを選択
走査し、コンデンサC1のデータを消去するブランク表
示を行う。
る発光期間Tdが存在することを許容するのであれば、
前記図4の走査と同様に、nbit分の発光に使用され
る時間≠nbit分の走査に必要な時間での走査を実現
することができる。
および図7に基づいて説明すれば、以下のとおりであ
る。
ELディスプレイにおける素子回路Adの電気回路図で
ある。この素子回路Adは、前述の図3で示す素子回路
Acに類似し、対応する部分には同一の参照符号を付し
て示し、その説明を省略する。注目すべきは、この素子
回路Adでは、前記電源線Eとは独立したロジック用の
第2の電源線Eaを備えるとともに、コンデンサC1お
よび画素メモリR1は、その電源線Eaに接続されるこ
とである。
ることで、前記図5で示す走査を、図7のように変化す
ることができる。図7(1)〜(3),(5)〜(1
7)は、図5(1)〜(3),(4)〜(16)にそれ
ぞれ対応している。図7(4)は、前記電源線Eの電圧
を示し、この例では、VDD電位とGND電位との間で
変化可能となっている。
間Ts1では、電源線EをGND電位として、bit4
のデータが画素メモリR1に記憶されてゆく。この走査
を追いかけるように、1単位時間後に、ブランク表示と
され、コンデンサC1には非発光状態に対応した電位が
保持されてゆく。この走査期間Ts1では、電源線Eの
電位が前述のようにGND電位であるので、有機EL素
子Pは発光しない。
R1への書込みが走査信号線G1〜G10に対して順に
行われると、電源線EがVDD電位とされた後、次の走
査期間Ts2に入り、bit1に対応したデータが表示
される。そして、この走査を追いかけるように、2単位
時間後に、画素メモリR1のデータが読出されて、bi
t4のデータに対応した表示が始めて行われる。
たデータが表示され、この走査を追いかけるように、8
単位時間後に、画素メモリR1のデータが読出されて、
bit4のデータに対応した表示が再び行われる。走査
期間Ts4でも、bit2に対応したデータが表示され
た後、4単位時間後に、画素メモリR1のデータが読出
されて、bit4のデータに対応した表示が再び行われ
る。こうして、bit4に対応したデータは、8+2+
6=16単位時間表示される。
制御しながら画素メモリR1ヘデータを書込んでゆくこ
とで、表4の判定(h)で「▲」となっている走査信号
線数の総て(の同一1フレームの表示)を連続的に表示
可能にすることができ、前記走査信号線数の制限をなく
すことができる。
および図9に基づいて説明すれば、以下のとおりであ
る。
ELディスプレイにおける素子回路Aeの電気回路図で
ある。この素子回路Aeは、前述の図6で示す素子回路
Adに類似し、対応する部分には同一の参照符号を付し
て示し、その説明を省略する。注目すべきは、この素子
回路Aeでは、前記選択信号線Sおよびそれに対応した
TFTQ3が設けられていないことである。すなわち、
前述の素子回路Adのように、有機EL素子Pの電源線
Eと画素メモリR1の電源線Eaとを個別に制御してい
る場合、この素子回路Aeのように初期化用のTFTQ
3を持たない構成であっても、同等の表示を行うことが
できる。また、コンデンサC1は、TFTQ3を改めて
形成しなくても、TFTQ2のゲート浮遊容量等を用い
て電位を保持することもできる。
示方法)の一例を示す図である。図9(1)〜(4),
(5),(14)は、図7(1)〜(4),(6),
(17)にそれぞれ対応している。この例では、走査信
号線はG1〜G8の8本であり、その選択状態はそれぞ
れ図9(6)〜(13)で示される。図9(1)では、
走査期間Tsは、8等分されている。
間Ts1では、電源線EをGND電位として、bit4
のデータが画素メモリR1に記憶されてゆく。この走査
を追いかけるように、前述の素子回路Adでは1単位時
間後にブランク表示のデータがコンデンサC1にセット
されていたのに対して、この素子回路Aeではブランク
走査が行われないけれども、電源線Eの電位が前述のよ
うにGND電位であるので、有機EL素子Pは発光しな
い。
R1への書込みが走査信号線G1〜G8に対して順に行
われると、電源線EがVDD電位とされた後、次の走査
期間Ts2に入り、bit1に対応したデータが表示さ
れる。そして、この走査を追いかけるように、2単位時
間後に、画素メモリR1のデータが読出されて、bit
4のデータに対応した表示が始めて行われる。
たデータが該走査期間Ts3の8単位時間の全長に亘っ
て表示され、bit3のデータの表示が終了すると、次
の走査期間Ts4に入り、bit2に対応したデータが
表示された後、4単位時間後に、画素メモリR1のデー
タが読出されて、bit4のデータに対応した表示が再
び行われる。このbit4のデータの読出しが総ての走
査信号線G1〜G8に対して終了すると、該bit4に
対応したデータは、6+8=14単位時間表示されたこ
とになるので、さらに2単位時間後に、消去期間Tsa
となり、電源線Eの電位がGND電位とされる。
件は、 発光に使用される時間 ≧(走査信号線数×(bit数4−1)+bit1の表示期間)…(5) である。そこで、表1の判定(f)において「▲」を記
し、表示できないとした条件でも、上記式5は満足する
ので、この図9のように走査は不連続となるけれども、
設定された4bit階調での表示は可能となる。このよ
うに、本駆動方法を採用することによって、前述の走査
信号線数の制限の課題を緩和することができる。
0および図11に基づいて説明すれば、以下のとおりで
ある。
機ELディスプレイにおける素子回路Afの電気回路図
である。この素子回路Afは、前述の図6で示す素子回
路Adに類似し、対応する部分には同一の参照符号を付
して示し、その説明を省略する。注目すべきは、この素
子回路Afでは、2つの画素メモリR21,R22を備
えており、それらはコンデンサC21,C22と、それ
に直列に挿入されるn型のTFTQ21,Q22とによ
って構成されていることである。一方、前記コンデンサ
C1はn型のTFTQ20を介して電源線Eに接続さ
れ、前記TFTQ20は選択線Scによって制御され
る。
が、CMOSインバータINV1,INV2から成るス
タティックメモリ構成でデジタルデータをストアしてい
たのに対して、この画素メモリR21,R22は、コン
デンサC21,C22から成るダイナミックメモリ構成
でアナログデータをストアするので、前述のデジタル階
調制御と、電圧値によるアナログ階調制御とを併用する
ことができる。画素メモリR21,R22に要求される
記憶時間が、数Hz以上の1フレーム期間Tf以内であ
る場合には、このように画素メモリR21,R22がダ
イナミックメモリ構成であっても、コンデンサC1に直
列にアクティブ素子Q20を配置すれば、支障があまり
ない。また、コンデンサC21,C22を改めて形成し
なくとも、TFTQ20等のアクティブ素子や有機EL
素子Pに付随する浮遊容量を用いて電位を保持すること
もできる。
21,Q22の何れも非導通状態とされているときに、
前記選択線ScによってTFTQ20が導通され、コン
デンサC1へのデータの書込み・消去/読出しが行われ
る。このように構成することによって、有機EL素子P
の輝度補正を、前記のように、デジタル階調制御とアナ
ログ階調制御とを併用して行うことができる。
子回路Afに類似したものであり、有機EL素子Pの非
発光状態を、コンデンサC1へのデータの書込み・消去
/読出し状態の制御とを個別に実現するブランク表示を
行うものである。
2および図13に基づいて説明すれば、以下のとおりで
ある。
機ELディスプレイにおける素子回路Ahの電気回路図
である。この素子回路Ahは、前述の図1で示す素子回
路Abに類似し、対応する部分には同一の参照符号を付
して示し、その説明を省略する。この素子回路Ahで
は、前記素子回路Abにおける画素メモリR2が設けら
れておらず、画素メモリR1のみを備えている。この素
子回路Ahは、1つの画素メモリR1であっても、前記
の素子回路Aeのように走査を不連続とすることで、以
下に詳述するように、前記素子回路Abと同様に、4b
it階調表示が可能となっている。
(表示方法)の一例を示す図である。この図13では、
走査信号線はG1〜G14の14本で1つの単位と想定
されており、各走査信号線G1〜G14の選択状態を、
図13(5)〜(18)で示している。図13(1)は
単位時間表示であり、図13(19)は通算の時間表示
(単位時間数)である。図13(3)はbit4のデー
タの通算表示時間を示し、図13(4)は、ビットの重
みを示す。図13(2)は、ビット選択線Sa1の選択
走査を示す。
いて、走査信号線G1〜G14が順に選択されてbit
4のデータを表示させながら、ビット選択線Saが選択
されて該bit4のデータが画素メモリR1に書込まれ
てゆく。走査信号線G1〜G14の選択を終了するま
で、したがって14単位時間に亘って、該bit4のデ
ータが表示される。
の走査期間Ts2に入り、表示をbit4に対応したデ
ータからbit3のデータヘ切換えながら、該bit3
のデータを前記16単位時間に亘って表示する。ここ
で、走査期間Ts2は14単位時間であるので、走査信
号線G14が選択走査された後、2単位時間は休止期間
となる。
3では、表示をbit3に対応したデータからbit2
のデータヘ切換え、8単位時間に亘って表示した後、走
査信号線G1〜G14が選択されていない状態で、その
選択を追いかけるように、ビット選択線Saが選択され
てbit4のデータが画素メモリR1から読出され、残
りの6単位時間に亘って表示される。これによって、b
it4のデータの通算表示時間は20単位時間となる。
応したデータからbit1のデータヘ切換え、4単位時
間に亘って表示した後、ビット選択線Saが選択されて
bit4のデータが画素メモリR1から再び読出され、
残りの10単位時間に亘って表示される。そして、走査
期間Ts4の後の2単位時間の休止期間も、前記bit
4のデータは表示され続ける。これによって、該bit
4のデータの通算表示時間は32単位時間となり、各b
itの表示期間の比率が、厳密に前記1:2:4:8と
なる。
な走査を行うことで、1つの画素メモリR1であって
も、4bit階調表示を可能とすることができる。すな
わち、任意のbit数と走査信号線に対応することがで
きる。実際に走査に使用する時間は、前記図3の素子回
路Acのように消去用のTFTQ3を備える構成に比べ
て長くなる。その比率を表7に示す。
では4)、(b)は走査信号線数(図13では14)、
(c)は本来走査に必要な時間(図13では4×14=
56単位時間)、(d)は1階調当りの表示期間、
(e)は第2位のbitの表示期間(図13では16単
位時間)、(f)は本駆動方法に実際に使用する時間
(図13では60単位時間)、(h)は実際に使用する
時間/本来走査に必要な時間の比である。
bit数が4,5,6の場合をそれぞれ幾つか例示して
いる。この表7から、表示期間に占める走査時間の比率
が2割程度低下するけれども、前記の不連続な走査を行
うことで、前記消去用のTFTQ3およびその走査信号
線Sを追加することによるTFTおよび配線数の増加を
回避することができる。
では、図4で示すように非発光期間が存在するのに対し
て、図12で示す素子回路Ahでは、この図13で示す
ように非発光期間が存在しないので、その分好ましいと
言える。すなわち、非発光期間が存在しなければ、その
分、1フレーム期間Tfの平均輝度として必要な輝度を
得るための単位時間当りの輝度を下げることができる。
有機EL素子は、同じ発光輝度でも、瞬時発光輝度が低
い程寿命が長くなる傾向があるので、図13の駆動方法
(表示方法)の方が、図4の駆動方法(表示方法)よ
り、その点で有利と言える。
4に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
機ELディスプレイにおける素子回路Aiの電気回路図
である。この素子回路Aiは、前述の図1で示す素子回
路Abに類似し、対応する部分には同一の参照符号を付
して示し、その説明を省略する。注目すべきは、この素
子回路Aiでは、前記電位保持手段が、第4のアクティ
ブ素子であるTFTQ4と、それに直列に接続されるコ
ンデンサC1とから構成されることである。
素メモリR1,R2から読出したデータ信号をコンデン
サC1にセットするにあたって、コンデンサC1に貯え
られていた電荷によって画素メモリR1,R2の記憶内
容が書換えられてしまわないように、コンデンサC1の
容量が可能な限り小さな値に設定されている。
4を直列に接続することで、走査信号線Gの非選択状態
で、TFTQ10が選択駆動されたとき、該TFTQ4
を非選択駆動することで、画素メモリR1,R2に保持
される表示信号レベルが前記コンデンサC1の影響によ
って不必要に書変わってしまうことを防止することがで
きる。
ベルを書込む場合に、前記TFTQ4は選択駆動され
る。ただし、TFTQ1が選択駆動されて画素メモリR
1,R2に表示信号レベルが書込まれる際に、前記TF
TQ4も選択駆動され、コンデンサC1に表示信号レベ
ルが書込まれてもよい。
きくすることができるので、時間経過に伴う該コンデン
サC1の電位変化を少なくでき、好適である。
は、画素メモリR1,R2の入出力端子間に第5のアク
ティブ素子であるTFTQ5が配置されており、前記画
素メモリR1,R2の表示信号レベルが設定される前記
走査信号線Gの選択時には、該TFTQ5が非選択状態
となることである。
は、該TFTQ5が選択状態となり、2段目のCMOS
インバータINV2の出力が1段目のCMOSインバー
タINV1の入力に帰還される前記スタティックメモリ
の構成とする一方、該TFTQ5の非選択時には、2段
目のCMOSインバータINV2の出力が1段目のCM
OSインバータINV1の入力に影響しないようにする
ことができる。
バータINV2の出力インピーダンスを細かく調整する
必要がない。
は、たとえばガラス基板の上にITO等の透明な陽極を
形成し、その上に有機多層膜、さらにAl等の陰極を形
成した構成で実現することができる。また、前記有機多
層膜にも幾つかの構造があるけれども、たとえば、正孔
入層(または陽極バッファ層)としてCuPcを、正孔
輸送層としてTPDを、発光層としてDPVBi、Zn
(oxz)2、DCMをドーパントとしたAlq等を、
電子輸送層としてはAlq等を積層した構成が好まし
い。
するためのTFTは、電荷移動度の大きな多結晶シリコ
ンプロセスで製作されたTFTを用いる必要があり、た
とえば特開平10−301536号公報などで実現する
ことができる。上記の工程では、プロセスの最高温度
を、ゲート絶縁膜形成時の600℃程度に抑えることが
でき、高耐熱性ガラスを使用することができる。
トリクス状に配列された電気光学素子が第1のアクティ
ブ素子によって駆動される表示装置において、前記電気
光学素子に対応して配置された1または複数の第2のア
クティブ素子と、前記第2のアクティブ素子によって取
込まれた信号レベルを保持する画素メモリと、前記第1
のアクティブ素子によって取込まれた信号レベルを保持
する電位保持手段とを備えており、第1のアクティブ素
子の非選択状態で前記第2のアクティブ素子を選択駆動
して、前記電気光学素子の表示信号レベルを前記画素メ
モリに対応した表示信号レベルに切換える。
のデータを表示して残った時間を画素メモリに蓄えた上
位のビットのデータの表示に用いることができ、各ビッ
トの表示期間を厳密に各ビットの重みに合わせることが
できる時間分割階調表示を実現することができる。
に、前記電位保持手段に関連して第3のアクティブ素子
をさらに備え、前記第1のアクティブ素子によって表示
信号レベルを設定し、前記第3のアクティブ素子によっ
て消去信号レベルを設定する。
査によって表示が開始された後、その選択走査が総ての
第1のアクティブ素子について終了する以前に、第3の
アクティブ素子の選択走査によって前記表示を消去する
ことができ、単位表示時間を、走査期間よりも短くする
ことができる。これによって、デジタル階調制御を行う
にあたって、下位のビットのデータにも、そのビットの
重みに対応した短時間の表示を正確に行わせることがで
き、ビット数の多い細かな階調制御を行うことができ
る。
ように、前記電位保持手段を、第4のアクティブ素子と
コンデンサとから構成する。
状態で、第2のアクティブ素子が選択駆動されたとき、
前記第4のアクティブ素子を非選択駆動することで、画
素メモリに保持される表示信号レベルが前記コンデンサ
の影響によって不必要に書変わってしまうことを防止す
ることができる。これによって、コンデンサの容量を大
きくすることができるので、時間経過に伴う該コンデン
サの電位変化を少なくでき、好適である。
に、画素メモリの入出力端子間に第5のアクティブ素子
を配置し、該第5のアクティブ素子が非選択駆動されて
いる間に、前記画素メモリの表示信号レベルを設定す
る。
のインバータ回路を想定した場合、第1のインバータ回
路の入力端子に前記表示信号レベルを入力するにあたっ
て、該第5のアクティブ素子を非選択状態とすること
で、前記第2のインバータ回路の出力が第1のインバー
タ回路の入力端子に印加される表示信号レベルに影響を
与えることを防止することができる。
ように、前記画素メモリには、前記電気光学素子へ負荷
電流を供給する第1の電源線とは個別に設けた第2の電
源線から電源供給を行う。
れている間に、第1の電源線の電位を前記負荷電流が流
れない電位、たとえばGND電位とすることで、表示を
行うことなく、電位保持手段や画素メモリへの信号レベ
ルの書込みのみを行うことができる。また、電位保持手
段や画素メモリに記憶されたデータに基づく電気光学素
子の表示期間を、第1のアクティブ素子の走査期間とは
独立に制御可能となり、表示期間で時間分割階調表示を
実現することもできる。
の信号線が選択状態である間に、第1のアクティブ素子
を介して前記電位保持手段に表示信号レベルが設定され
るとともに、前記第2のアクティブ素子が選択駆動され
て、前記画素メモリにその表示信号レベルが設定される
表示信号レベル設定ステップと、前記第1の信号線が非
選択状態である間に、前記第2のアクティブ素子が選択
駆動されて、前記電気光学素子の表示信号レベルが前記
画素メモリに対応した表示信号レベルに切換えられる表
示信号切換ステップとを含む。
と同様に、各ビットの表示期間とビットの重みとを厳密
に一致させることができる。また、各ビットの選択期間
を隣り合う走査信号線で連続させることができるので、
コントロール回路の制御が容易になるという効果を奏す
る。
レイにおける素子回路の電気回路図である。
説明するための図である。
レイにおける素子回路の電気回路図である。
説明するための図である。
他の例を説明するための図である。
レイにおける素子回路の電気回路図である。
説明するための図である。
レイにおける素子回路の電気回路図である。
説明するための図である。
プレイにおける素子回路の電気回路図である。
回路図である。
プレイにおける素子回路の電気回路図である。
を説明するための図である。
プレイにおける素子回路の電気回路図である。
る。
である。
素子回路 C1 コンデンサ(電位保持手段) C21,C22 コンデンサ D データ信号線(第2の信号線) E 電源線(第1の電源線) Ea 電源線(第2の電源線) G 走査信号線(第1の信号線) INV1,INV2 CMOSインバータ P 有機EL素子 Q1 TFT(第1のアクティブ素子) Q2,Q11〜Q14,Q20〜Q22 TFT Q3 TFT(第3のアクティブ素子) Q4 TFT(第4のアクティブ素子) Q5 TFT(第5のアクティブ素子) Q10 TFT(第2のアクティブ素子) S 走査信号線(第3の信号線) Sa,Sb ビット選択線 Sc 選択線 R1,R2 画素メモリ
Claims (6)
- 【請求項1】相互に交差する複数の第1および第2の信
号線で区画された各領域に電気光学素子を備え、その電
気光学素子が、それぞれ対応する第1のアクティブ素子
によって、前記第1の信号線で選択されている間に、第
2の信号線に出力される信号レベルに対応した表示を行
うように駆動される表示装置において、 前記電気光学素子に対応して配置される1または複数の
第2のアクティブ素子と、 前記第2のアクティブ素子によって取込まれた信号レベ
ルを保持する画素メモリと、 前記第1のアクティブ素子によって取込まれた信号レベ
ルを保持する電位保持手段と、 前記第2のアクティブ素子を選択駆動するビット選択線
とを備えており、 前記第1の信号線が選択状態で、第1のアクティブ素子
を介して前記電位保持手段に表示信号レベルが設定され
るとともに、前記第2のアクティブ素子が選択駆動され
ることで前記画素メモリにもその表示信号レベルが設定
され、前記第1の信号線の非選択状態で、前記第2のア
クティブ素子が選択駆動されて、前記電気光学素子の表
示信号レベルが前記画素メモリに対応した表示信号レベ
ルに切換えられることを特徴とする表示装置。 - 【請求項2】前記電位保持手段に関連して、前記第1の
信号線とは択一的に選択出力が導出される第3の信号線
からの選択出力に応答し、前記第2の信号線とは独立し
た信号レベルを前記電位保持手段に与える第3のアクテ
ィブ素子をさらに備え、 前記第1のアクティブ素子によって表示信号レベルが設
定され、前記第3のアクティブ素子によって消去信号レ
ベルが設定されることを特徴とする請求項1記載の表示
装置。 - 【請求項3】前記電位保持手段は、第4のアクティブ素
子とコンデンサとから構成されることを特徴とする請求
項1または2記載の表示装置。 - 【請求項4】前記画素メモリの入出力端子間に第5のア
クティブ素子が配置され、前記第5のアクティブ素子が
非選択駆動されている間に、前記画素メモリの表示信号
レベルが設定されることを特徴とする請求項1〜3の何
れかに記載の表示装置。 - 【請求項5】前記画素メモリには、前記電気光学素子へ
負荷電流を供給する第1の電源線とは個別に設けた第2
の電源線から電源供給を行うことを特徴とする請求項1
〜4の何れかに記載の表示装置。 - 【請求項6】相互に交差する複数の第1および第2の信
号線で区画された各領域に電気光学素子を備え、その電
気光学素子が、それぞれ対応する第1のアクティブ素子
によって、前記第1の信号線で選択されている間に、第
2の信号線に出力される信号レベルに対応した表示を行
う表示方法において、 前記第1の信号線が選択状態である間に、第1のアクテ
ィブ素子を介して前記電位保持手段に表示信号レベルが
設定されるとともに、前記第2のアクティブ素子が選択
駆動されて、前記画素メモリにその表示信号レベルが設
定される表示信号レベル設定ステップと、 前記第1の信号線が非選択状態である間に、前記第2の
アクティブ素子が選択駆動されて、前記電気光学素子の
表示信号レベルが前記画素メモリに対応した表示信号レ
ベルに切換えられる表示信号切換ステップとを含むこと
を特徴とする表示方法。
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