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JP2003266034A - 噴射形超音波洗浄装置 - Google Patents

噴射形超音波洗浄装置

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Publication number
JP2003266034A
JP2003266034A JP2002070072A JP2002070072A JP2003266034A JP 2003266034 A JP2003266034 A JP 2003266034A JP 2002070072 A JP2002070072 A JP 2002070072A JP 2002070072 A JP2002070072 A JP 2002070072A JP 2003266034 A JP2003266034 A JP 2003266034A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning liquid
ultrasonic
cleaning
liquid reservoir
reservoir
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002070072A
Other languages
English (en)
Inventor
Maki Okawa
真樹 大川
Hajime Hatano
甫 羽田野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kokusai Denki Alpha Co Ltd
Original Assignee
Kokusai Denki Alpha Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kokusai Denki Alpha Co Ltd filed Critical Kokusai Denki Alpha Co Ltd
Priority to JP2002070072A priority Critical patent/JP2003266034A/ja
Publication of JP2003266034A publication Critical patent/JP2003266034A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Special Spraying Apparatus (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】効率よく超音波を洗浄液に伝達することがで
き、比較的形状が自由に設計できる噴射形超音波洗浄装
置を提供する。 【解決手段】洗浄液を溜めて該洗浄液を噴出させる噴出
口を有する洗浄液溜と、該洗浄液溜に該洗浄液を供給す
るための洗浄液供給装置と、該洗浄液溜内に溜められた
洗浄液中に超音波を発出するための振動板と、該振動板
を超音波駆動する超音波振動素子とを備え、洗浄液溜内
の該洗浄液中で該超音波が集束された洗浄液を噴出口か
ら噴出させるために、超音波振動素子の直径を(2
d)、振動板から噴射口までの距離を(L)、該洗浄液
中を伝搬する超音波の波長を(λ)としたとき、L=
0.1×(d2 /λ)〜2.0×(d2 /λ)なる範囲
に設定されている。さらに、洗浄液溜の内壁面を凹凸の
ある面に構成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、超音波洗浄装置に
関し、特に、超音波振動を加えた洗浄液を被洗浄物に吹
き付けて洗浄を行う噴射形超音波洗浄装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】半導体シリコンウェハー,液晶用のガラ
ス,ハードディスク等の微細加工品の精密洗浄には、高
周波の超音波洗浄装置が用いられており、特に、汚れの
再付着の少ない噴射形超音波洗浄装置が用いられてい
る。
【0003】従来の噴射形超音波洗浄装置の構造を図1
2に示す。給液口から入った洗浄液2は管体11内に入
る。管体11の一端には振動板6が取り付けられてお
り、管体11の内部に満たされた洗浄液2に超音波7が
伝達され、他端の噴出口4より噴射される。このような
従来の構造では、超音波振動板6より発生した超音波7
は、噴出口4付近で収束するように、ノズル状の管路の
形状は計算され、決められた円錐台状または外側に湾曲
した形状となっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】超音波は波動である。
管体11内における洗浄液2の通路となるノズル状の管
路10内で反射した超音波は、反射する位置によって、
行程が違うため、幾何学的に収束する位置では、位相が
まちまちとなり、半波長ずれた超音波同士で打ち消し合
う現象も生ずるので、強勢な超音波を得ることは困難で
ある。また、設計上、超音波を収束させることが第一優
先となるため、管路10の形状はほぼ限られてしまい、
例えば、「水流を考慮した設計がしにくい」、「デザイ
ンに自由が効かない」といった弊害がある。
【0005】本発明は、このような従来技術の欠点を解
消して、効率よく超音波を洗浄液に伝達することがで
き、比較的形状が自由に設計できる噴射形超音波洗浄装
置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明による噴射形超音波洗浄装置は、洗浄液を溜
めて該洗浄液を噴出させる噴出口を有する洗浄液溜と、
該洗浄液溜に該洗浄液を供給するための洗浄液供給装置
と、該洗浄液溜内に溜められた前記洗浄液中に超音波を
発出するための振動板と、該振動板を超音波駆動する超
音波振動素子とを備え、前記洗浄液溜内の該洗浄液中で
該超音波が集束された洗浄液を前記噴出口から噴出させ
るために、前記超音波振動素子の直径を(2d)、前記
振動板から前記噴射口までの距離を(L)、該洗浄液中
を伝搬する超音波の波長を(λ)としたとき、L=0.
1×(d2 /λ)〜2.0×(d2 /λ)なる範囲に設
定されていることを特徴とする構成を有している。前記
洗浄液溜は円筒管状であるように構成することができ
る。また、前記洗浄液溜は内側に湾曲した円錐状である
ように構成することができる。さらに、前記洗浄液溜の
内壁面で反射する前記超音波の分散成分が、拡散・減衰
され、前記噴射口から噴出された洗浄液内の超音波音圧
の低下が軽減されるように、前記洗浄液溜の内壁面を凹
凸のある面に構成することができる。
【0007】
【発明の実施の形態】図1は本発明装置の実施例を示す
ものであり、1は給液口3から供給される洗浄液2を溜
める洗浄液溜であり、その底面の中央部には洗浄液2を
噴出させる噴出口4が設けられている。洗浄液2の上表
面に配置された振動板5内には振動素子6が配置されて
おり、振動素子6は所望の周波数で超音波駆動され、洗
浄液2中に超音波7を発生する。従って、噴出口4から
は超音波7が与えられた洗浄液2が噴出して被洗浄物8
に吹き付けられ、効果的にその洗浄を行うことができ
る。
【0008】超音波7を発生させるための超音波振動素
子6は円形である。この円の直径を(2d)、洗浄液2
中の超音波7の波長を(λ)、振動板5から噴出口4ま
での距離を(L)としたとき、L=0.1×(d2
λ)〜2.0×(d2 /λ)の範囲、すなわち図2に示
す近距離音場S1の範囲において、周期的に超音波7の
集束が行われる。
【0009】すなわち、図3は円形超音波振動素子によ
る軸上音圧分布を示す特性図であり、横軸は(d2
λ)の係数、縦軸は音圧である。この特性図から(d2
/λ)の係数が0.1〜2.0である近距離音場S1に
おいては、高い軸上音圧が得られることがわかる。
【0010】超音波7を収束させるためには、超音波振
動素子6の直径(2d)と、洗浄液2中の超音波7の波
長(λ)が決まれば、図4に示すように振動板5と噴出
口4との間の距離(L)は、(d2 /λ)の係数を0.
1〜2.0の間から適当な値を選べば良い。このよう
に、設計した管路10を形成することにより、超音波7
を噴射口4付近までの洗浄溜1内で集束させることがで
きる。
【0011】洗浄液管路10の形状によっては、管路1
0を形成する管体11の内壁面での超音波7の反射によ
り、集束した超音波7を乱す場合がある。このとき、そ
の反射波を拡散,減衰させることができれば、洗浄液2
に超音波7を効率よく伝達することができる。このため
に、後述のように管路10を形成する洗浄液溜すなわち
管体11の内壁面を凹凸を有する面とする構成が挙げら
れる。この内壁面に衝突した超音波7は拡散あるいは吸
収されて減衰する。
【0012】以下、本発明装置の具体的実施例について
説明する。 (例1)図5は管路10をほぼ同一の横断面を有するス
トレート形状に形成したものである。
【0013】(例2)図6は管路10を形成する管体1
1の内壁面が内側に湾曲したものである。
【0014】(例3)図7は管路10を形成する管体1
1の内壁面を数段に亘って絞ったものである。
【0015】(例4)図8は管路10を形成するノズル
状の管体11の内壁面に円周方向に横溝12を付けたも
のである。この溝12は、前述の反射波を拡散、減衰さ
せる目的で付けたものである。横溝12は水流が乱れな
いように、また、横溝12の中にゴミが溜まり難いよう
に、横溝12の幅や深さを決めている。噴射形超音波洗
浄装置では、メガヘルツ帯が多く用いられ、水中での波
長はおよそ1mm以下となる。例えば、その横溝12の
深さが0.5mm程度であっても十分な効果がある。
【0016】(例5)図9は管路10を形成するノズル
状の管体11の内壁面に軸方向に縦溝13を付けたもの
である。
【0017】ここで、一般に横溝12,縦溝13の幅及
び深さは、液中での超音波の波長の1/10〜10倍で
効果が認められる。また、これらの溝の形状は、実施例
の形状に限定されるものではなく、例えば、その断面形
状が正弦波形状もしくは三角形状等でも同様の効果が得
られる。さらに、管路10を形成するノズル状の管体1
1の内壁面に螺旋状に設けられた溝によっても、同様の
効果を実現することができる。
【0018】本発明による噴射形超音波洗浄装置では、
重要な要素は、超音波振動素子6の直径(2d)、洗浄
液2中の超音波の波長(λ)、振動面と噴射口4の距離
(L)だけであり、それ以外は自由に設計することがで
きる。そのため、管路10の形状は、例えば、生産効率
を考えて加工のしやすい構造、洗浄液が乱れずスムーズ
に流れる構造とすればよい。
【0019】洗浄液2の噴射口4からの距離と音圧を測
定した。これを図11に示す。図12の従来の構造と図
8の本発明による構造の2つの超音波洗浄装置を、図1
0で示される構成によりそれぞれ音圧を測定し、比較し
たものである。ここで、14は本発明による噴出形超音
波洗浄装置、15は本発明装置14内に供給される給
水、16は本発明装置14から噴出される水中を伝搬す
る超音波の音圧を測定する超音波音圧センサーである。
この例では本発明による構造により、従来の構造に比較
して平均35%程度の音圧の上昇が確認された。超音波
の強い弱いは、超音波の音圧によって決まる。洗浄効果
は超音波が強い方がよい。
【0020】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明を実
施することにより、従来の構造に比較して、効率よく、
安定して、超音波を集束し、洗浄液に伝達させることが
できる。また、従来の構造例のように、液溜め側面での
超音波の反射による効果を利用しないので、液溜の形状
を自由に設定し得るという特殊の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明装置の構造例を示す縦断面図である。
【図2】本発明装置における円筒形管路内の超音波集束
原理を説明するための縦断面図である。
【図3】本発明装置に用いるられる円形超音波振動子か
らの超音波の集束状態を示す特性図である。
【図4】本発明装置における円筒集束の概要を説明する
ための縦断面図である。
【図5】本発明装置の1実施例を示す縦断面図である。
【図6】本発明装置の他の実施例を示す縦断面図であ
る。
【図7】本発明装置の他の実施例を示す縦断面図であ
る。
【図8】本発明装置の他の実施例を示す縦断面図であ
る。
【図9】本発明装置の他の実施例を示す縦断面図であ
る。
【図10】本発明装置における音圧測定に用いられた装
置の構成を示す外観図である。
【図11】本発明装置における音圧測定例を示す音圧特
性図である。
【符号の説明】
1 洗浄液溜 2 洗浄液 3 給液口 4 噴出口 5 振動板 6 振動素子 7 超音波 8 被洗浄物 10 管路 11 管体 12 横溝 13 縦溝 14 噴射形超音波洗浄装置 15 超音波音圧センサー 16 給水 S1 近距離音場 S2 遠距離音場
【手続補正書】
【提出日】平成14年11月20日(2002.11.
20)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明装置の構造例を示す縦断面図である。
【図2】本発明装置における円筒形管路内の超音波集束
原理を説明するための縦断面図である。
【図3】本発明装置に用いるられる円形超音波振動子か
らの超音波の集束状態を示す特性図である。
【図4】本発明装置における円筒集束の概要を説明する
ための縦断面図である。
【図5】本発明装置の1実施例を示す縦断面図である。
【図6】本発明装置の他の実施例を示す縦断面図であ
る。
【図7】本発明装置の他の実施例を示す縦断面図であ
る。
【図8】本発明装置の他の実施例を示す縦断面図であ
る。
【図9】本発明装置の他の実施例を示す縦断面図であ
る。
【図10】本発明装置における音圧測定に用いられた装
置の構成を示す外観図である。
【図11】本発明装置における音圧測定例を示す音圧特
性図である。
【図12】従来の噴射形超音波洗浄装置の構造例を示す
縦断面図である。
【手続補正2】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図12
【補正方法】追加
【補正内容】
【図12】 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成14年11月21日(2002.11.
21)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0004
【補正方法】変更
【補正内容】
【0004】
【発明が解決しようとする課題】超音波は波動である。
管体11内における洗浄液2の通路となるノズル状の管
路10内で反射した超音波は、反射する位置によって行
程が違うため、幾何学的に収束させようとする位置で位
相がまちまちとなり、半波長ずれた超音波同士で打ち消
し合う現象も生ずるので、常に強勢な超音波を得ること
は困難である。また、設計上、超音波を収束させること
が第一優先となるため、管路10の形状はほぼ限られて
しまい、例えば、「水流を考慮した設計がしにくい」、
「デザインに自由が効かない」といった弊害がある。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明による噴射形超音波洗浄装置は、洗浄液を溜
めて該洗浄液を噴出させる噴出口を有する洗浄液溜と、
該洗浄液溜に該洗浄液を供給するための洗浄液供給装置
と、該洗浄液溜内に溜められた前記洗浄液中に超音波を
発出するための振動板と、該振動板を超音波駆動する超
音波振動素子とを備え、前記洗浄液溜内の該洗浄液中で
該超音波が集束された洗浄液を前記噴出口から噴出させ
るために、前記超音波振動素子の直径を(2d)、前記
振動板から前記噴射口までの距離を(L)、該洗浄液中
を伝搬する超音波の波長を(λ)としたとき、L=0.
1×(d2 /λ)〜2.0×(d2 /λ)なる範囲に設
定されていることを特徴とする構成を有している。前記
洗浄液溜は円筒管状であるように構成することができ
る。また、前記洗浄液溜は内側に湾曲した円錐状である
ように構成することができる。さらに、前記洗浄液溜の
内壁面で反射する前記超音波の分散成分が、拡散・減衰
され、前記噴射口から噴出された洗浄液内の超音波音圧
の低下が軽減されるように、前記洗浄液溜の内壁面を凹
凸のある面に構成することができる。また、前記洗浄液
溜を円錐形状とし、前記洗浄液溜の内壁面で反射する前
記超音波の分散成分が、拡散・減衰され、前記噴射口か
ら噴出された洗浄液内の超音波音圧の低下が軽減される
ように、前記洗浄液溜の内壁面を凹凸のある面に構成す
ることができる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】超音波7を発生させるための超音波振動素
子6は円形である。この円の直径を(2d)、洗浄液2
中の超音波7の波長を(λ)、振動板5から噴出口4ま
での距離を(L)としたとき、L=0.1×(d2
λ)〜2.0×(d2 /λ)の範囲、すなわち図2に示
す近距離音場S1の範囲において、超音波7の集束が行
われる。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0011
【補正方法】変更
【補正内容】
【0011】洗浄液管路10の形状によっては、管路1
0を形成する管体11の内壁面での超音波7の反射によ
る分散成分により、集束した超音波7を乱す場合があ
る。このとき、その反射波を拡散,減衰させることがで
きれば、洗浄液2に超音波7を効率よく伝達することが
できる。このために、後述のように管路10を形成する
洗浄液溜すなわち管体11の内壁面を凹凸を有する面と
する構成が挙げられる。この内壁面に衝突した超音波7
の分散成分は拡散あるいは吸収されて減衰する。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】(例4)図8は管路10を形成するノズル
状の管体11の内壁面に円周方向に横溝12を付けたも
のである。この溝12は、前述の反射波を拡散、減衰さ
せる目的で付けたものである。横溝12は水流が乱れな
いように、また、横溝12の中にゴミが溜まり難いよう
に、横溝12の幅や深さを決めている。噴射形超音波洗
浄装置では、メガヘルツ帯が多く用いられ、水中での波
長はおよそ1mm以下となる。例えば、その横溝12の
深さが0.5mm程度であっても十分な効果がある。
8には、管路10を形成するノズル状の管体11の内壁
面が円錐形状である場合を示している。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】(例5)図9は管路10を形成するノズル
状の管体11の内壁面に軸方向に縦溝13を付けたもの
である。図9には、管路10を形成するノズル状の管体
11の内壁面が円錐形状である場合を示している。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】洗浄液2の噴射口4からの距離と音圧を測
定した。これを図11に示す。図12の従来、即ち、管
体11の内壁面に溝を付けていない構造と図8の本発
、即ち、管体11の内壁面に円周方向に横溝12を付
けた構造の2つの超音波洗浄装置を、図10で示される
構成によりそれぞれ音圧を測定し、比較したものであ
る。ここで、14は本発明による噴出形超音波洗浄装
置、15は本発明装置14内に供給される給水、16は
本発明装置14から噴出される水中を伝搬する超音波の
音圧を測定する超音波音圧センサーである。この例では
本発明による構造により、従来の構造に比較して平均3
5%程度の音圧の上昇が確認された。超音波の強い弱い
は、超音波の音圧によって決まる。洗浄効果は超音波が
強い方がよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 羽田野 甫 神奈川県藤沢市鵠沼松が岡5−11−16 Fターム(参考) 3B201 AA46 BB24 BB85 BB92 4D074 AA09 BB03 DD02 DD32

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄液を溜め該洗浄液を噴出させる噴出
    口を有する洗浄液溜と、該洗浄液溜に該洗浄液を供給す
    るための洗浄液供給装置と、該洗浄液溜内に溜められた
    前記洗浄液中に超音波を発出するための振動板と、該振
    動板を超音波駆動する超音波振動素子とを備え、前記洗
    浄液溜内の該洗浄液中で該超音波が集束された洗浄液を
    前記噴出口から噴出させるために、前記超音波振動素子
    の直径を(2d)、前記振動板から前記噴射口までの距
    離を(L)、該洗浄液中を伝搬する超音波の波長を
    (λ)としたとき、L=0.1×(d2 /λ)〜2.0
    ×(d2 /λ)なる範囲に設定されていることを特徴と
    する超音波洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記洗浄液溜が円筒管状であることを特
    徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記洗浄液溜が内側に湾曲した円錐状で
    あることを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装
    置。
  4. 【請求項4】 前記洗浄液溜の内壁面で反射する前記超
    音波の分散成分が、拡散・減衰され、前記噴射口から噴
    出された洗浄液内の超音波音圧の低下が軽減されるよう
    に、前記洗浄液溜の内壁面が凹凸を有する面に構成され
    ていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれ
    かに記載の超音波洗浄装置。
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