JP2003266034A - 噴射形超音波洗浄装置 - Google Patents
噴射形超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JP2003266034A JP2003266034A JP2002070072A JP2002070072A JP2003266034A JP 2003266034 A JP2003266034 A JP 2003266034A JP 2002070072 A JP2002070072 A JP 2002070072A JP 2002070072 A JP2002070072 A JP 2002070072A JP 2003266034 A JP2003266034 A JP 2003266034A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning liquid
- ultrasonic
- cleaning
- liquid reservoir
- reservoir
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 238000002347 injection Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000007924 injection Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 101
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 99
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 23
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Special Spraying Apparatus (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
き、比較的形状が自由に設計できる噴射形超音波洗浄装
置を提供する。 【解決手段】洗浄液を溜めて該洗浄液を噴出させる噴出
口を有する洗浄液溜と、該洗浄液溜に該洗浄液を供給す
るための洗浄液供給装置と、該洗浄液溜内に溜められた
洗浄液中に超音波を発出するための振動板と、該振動板
を超音波駆動する超音波振動素子とを備え、洗浄液溜内
の該洗浄液中で該超音波が集束された洗浄液を噴出口か
ら噴出させるために、超音波振動素子の直径を(2
d)、振動板から噴射口までの距離を(L)、該洗浄液
中を伝搬する超音波の波長を(λ)としたとき、L=
0.1×(d2 /λ)〜2.0×(d2 /λ)なる範囲
に設定されている。さらに、洗浄液溜の内壁面を凹凸の
ある面に構成することができる。
Description
関し、特に、超音波振動を加えた洗浄液を被洗浄物に吹
き付けて洗浄を行う噴射形超音波洗浄装置に関するもの
である。
ス,ハードディスク等の微細加工品の精密洗浄には、高
周波の超音波洗浄装置が用いられており、特に、汚れの
再付着の少ない噴射形超音波洗浄装置が用いられてい
る。
2に示す。給液口から入った洗浄液2は管体11内に入
る。管体11の一端には振動板6が取り付けられてお
り、管体11の内部に満たされた洗浄液2に超音波7が
伝達され、他端の噴出口4より噴射される。このような
従来の構造では、超音波振動板6より発生した超音波7
は、噴出口4付近で収束するように、ノズル状の管路の
形状は計算され、決められた円錐台状または外側に湾曲
した形状となっている。
管体11内における洗浄液2の通路となるノズル状の管
路10内で反射した超音波は、反射する位置によって、
行程が違うため、幾何学的に収束する位置では、位相が
まちまちとなり、半波長ずれた超音波同士で打ち消し合
う現象も生ずるので、強勢な超音波を得ることは困難で
ある。また、設計上、超音波を収束させることが第一優
先となるため、管路10の形状はほぼ限られてしまい、
例えば、「水流を考慮した設計がしにくい」、「デザイ
ンに自由が効かない」といった弊害がある。
消して、効率よく超音波を洗浄液に伝達することがで
き、比較的形状が自由に設計できる噴射形超音波洗浄装
置を提供することを目的とする。
に、本発明による噴射形超音波洗浄装置は、洗浄液を溜
めて該洗浄液を噴出させる噴出口を有する洗浄液溜と、
該洗浄液溜に該洗浄液を供給するための洗浄液供給装置
と、該洗浄液溜内に溜められた前記洗浄液中に超音波を
発出するための振動板と、該振動板を超音波駆動する超
音波振動素子とを備え、前記洗浄液溜内の該洗浄液中で
該超音波が集束された洗浄液を前記噴出口から噴出させ
るために、前記超音波振動素子の直径を(2d)、前記
振動板から前記噴射口までの距離を(L)、該洗浄液中
を伝搬する超音波の波長を(λ)としたとき、L=0.
1×(d2 /λ)〜2.0×(d2 /λ)なる範囲に設
定されていることを特徴とする構成を有している。前記
洗浄液溜は円筒管状であるように構成することができ
る。また、前記洗浄液溜は内側に湾曲した円錐状である
ように構成することができる。さらに、前記洗浄液溜の
内壁面で反射する前記超音波の分散成分が、拡散・減衰
され、前記噴射口から噴出された洗浄液内の超音波音圧
の低下が軽減されるように、前記洗浄液溜の内壁面を凹
凸のある面に構成することができる。
ものであり、1は給液口3から供給される洗浄液2を溜
める洗浄液溜であり、その底面の中央部には洗浄液2を
噴出させる噴出口4が設けられている。洗浄液2の上表
面に配置された振動板5内には振動素子6が配置されて
おり、振動素子6は所望の周波数で超音波駆動され、洗
浄液2中に超音波7を発生する。従って、噴出口4から
は超音波7が与えられた洗浄液2が噴出して被洗浄物8
に吹き付けられ、効果的にその洗浄を行うことができ
る。
子6は円形である。この円の直径を(2d)、洗浄液2
中の超音波7の波長を(λ)、振動板5から噴出口4ま
での距離を(L)としたとき、L=0.1×(d2 /
λ)〜2.0×(d2 /λ)の範囲、すなわち図2に示
す近距離音場S1の範囲において、周期的に超音波7の
集束が行われる。
る軸上音圧分布を示す特性図であり、横軸は(d2 /
λ)の係数、縦軸は音圧である。この特性図から(d2
/λ)の係数が0.1〜2.0である近距離音場S1に
おいては、高い軸上音圧が得られることがわかる。
動素子6の直径(2d)と、洗浄液2中の超音波7の波
長(λ)が決まれば、図4に示すように振動板5と噴出
口4との間の距離(L)は、(d2 /λ)の係数を0.
1〜2.0の間から適当な値を選べば良い。このよう
に、設計した管路10を形成することにより、超音波7
を噴射口4付近までの洗浄溜1内で集束させることがで
きる。
0を形成する管体11の内壁面での超音波7の反射によ
り、集束した超音波7を乱す場合がある。このとき、そ
の反射波を拡散,減衰させることができれば、洗浄液2
に超音波7を効率よく伝達することができる。このため
に、後述のように管路10を形成する洗浄液溜すなわち
管体11の内壁面を凹凸を有する面とする構成が挙げら
れる。この内壁面に衝突した超音波7は拡散あるいは吸
収されて減衰する。
説明する。 (例1)図5は管路10をほぼ同一の横断面を有するス
トレート形状に形成したものである。
1の内壁面が内側に湾曲したものである。
1の内壁面を数段に亘って絞ったものである。
状の管体11の内壁面に円周方向に横溝12を付けたも
のである。この溝12は、前述の反射波を拡散、減衰さ
せる目的で付けたものである。横溝12は水流が乱れな
いように、また、横溝12の中にゴミが溜まり難いよう
に、横溝12の幅や深さを決めている。噴射形超音波洗
浄装置では、メガヘルツ帯が多く用いられ、水中での波
長はおよそ1mm以下となる。例えば、その横溝12の
深さが0.5mm程度であっても十分な効果がある。
状の管体11の内壁面に軸方向に縦溝13を付けたもの
である。
び深さは、液中での超音波の波長の1/10〜10倍で
効果が認められる。また、これらの溝の形状は、実施例
の形状に限定されるものではなく、例えば、その断面形
状が正弦波形状もしくは三角形状等でも同様の効果が得
られる。さらに、管路10を形成するノズル状の管体1
1の内壁面に螺旋状に設けられた溝によっても、同様の
効果を実現することができる。
重要な要素は、超音波振動素子6の直径(2d)、洗浄
液2中の超音波の波長(λ)、振動面と噴射口4の距離
(L)だけであり、それ以外は自由に設計することがで
きる。そのため、管路10の形状は、例えば、生産効率
を考えて加工のしやすい構造、洗浄液が乱れずスムーズ
に流れる構造とすればよい。
定した。これを図11に示す。図12の従来の構造と図
8の本発明による構造の2つの超音波洗浄装置を、図1
0で示される構成によりそれぞれ音圧を測定し、比較し
たものである。ここで、14は本発明による噴出形超音
波洗浄装置、15は本発明装置14内に供給される給
水、16は本発明装置14から噴出される水中を伝搬す
る超音波の音圧を測定する超音波音圧センサーである。
この例では本発明による構造により、従来の構造に比較
して平均35%程度の音圧の上昇が確認された。超音波
の強い弱いは、超音波の音圧によって決まる。洗浄効果
は超音波が強い方がよい。
施することにより、従来の構造に比較して、効率よく、
安定して、超音波を集束し、洗浄液に伝達させることが
できる。また、従来の構造例のように、液溜め側面での
超音波の反射による効果を利用しないので、液溜の形状
を自由に設定し得るという特殊の効果がある。
原理を説明するための縦断面図である。
らの超音波の集束状態を示す特性図である。
ための縦断面図である。
る。
る。
る。
る。
置の構成を示す外観図である。
性図である。
20)
原理を説明するための縦断面図である。
らの超音波の集束状態を示す特性図である。
ための縦断面図である。
る。
る。
る。
る。
置の構成を示す外観図である。
性図である。
縦断面図である。
21)
管体11内における洗浄液2の通路となるノズル状の管
路10内で反射した超音波は、反射する位置によって行
程が違うため、幾何学的に収束させようとする位置で位
相がまちまちとなり、半波長ずれた超音波同士で打ち消
し合う現象も生ずるので、常に強勢な超音波を得ること
は困難である。また、設計上、超音波を収束させること
が第一優先となるため、管路10の形状はほぼ限られて
しまい、例えば、「水流を考慮した設計がしにくい」、
「デザインに自由が効かない」といった弊害がある。
に、本発明による噴射形超音波洗浄装置は、洗浄液を溜
めて該洗浄液を噴出させる噴出口を有する洗浄液溜と、
該洗浄液溜に該洗浄液を供給するための洗浄液供給装置
と、該洗浄液溜内に溜められた前記洗浄液中に超音波を
発出するための振動板と、該振動板を超音波駆動する超
音波振動素子とを備え、前記洗浄液溜内の該洗浄液中で
該超音波が集束された洗浄液を前記噴出口から噴出させ
るために、前記超音波振動素子の直径を(2d)、前記
振動板から前記噴射口までの距離を(L)、該洗浄液中
を伝搬する超音波の波長を(λ)としたとき、L=0.
1×(d2 /λ)〜2.0×(d2 /λ)なる範囲に設
定されていることを特徴とする構成を有している。前記
洗浄液溜は円筒管状であるように構成することができ
る。また、前記洗浄液溜は内側に湾曲した円錐状である
ように構成することができる。さらに、前記洗浄液溜の
内壁面で反射する前記超音波の分散成分が、拡散・減衰
され、前記噴射口から噴出された洗浄液内の超音波音圧
の低下が軽減されるように、前記洗浄液溜の内壁面を凹
凸のある面に構成することができる。また、前記洗浄液
溜を円錐形状とし、前記洗浄液溜の内壁面で反射する前
記超音波の分散成分が、拡散・減衰され、前記噴射口か
ら噴出された洗浄液内の超音波音圧の低下が軽減される
ように、前記洗浄液溜の内壁面を凹凸のある面に構成す
ることができる。
子6は円形である。この円の直径を(2d)、洗浄液2
中の超音波7の波長を(λ)、振動板5から噴出口4ま
での距離を(L)としたとき、L=0.1×(d2 /
λ)〜2.0×(d2 /λ)の範囲、すなわち図2に示
す近距離音場S1の範囲において、超音波7の集束が行
われる。
0を形成する管体11の内壁面での超音波7の反射によ
る分散成分により、集束した超音波7を乱す場合があ
る。このとき、その反射波を拡散,減衰させることがで
きれば、洗浄液2に超音波7を効率よく伝達することが
できる。このために、後述のように管路10を形成する
洗浄液溜すなわち管体11の内壁面を凹凸を有する面と
する構成が挙げられる。この内壁面に衝突した超音波7
の分散成分は拡散あるいは吸収されて減衰する。
状の管体11の内壁面に円周方向に横溝12を付けたも
のである。この溝12は、前述の反射波を拡散、減衰さ
せる目的で付けたものである。横溝12は水流が乱れな
いように、また、横溝12の中にゴミが溜まり難いよう
に、横溝12の幅や深さを決めている。噴射形超音波洗
浄装置では、メガヘルツ帯が多く用いられ、水中での波
長はおよそ1mm以下となる。例えば、その横溝12の
深さが0.5mm程度であっても十分な効果がある。図
8には、管路10を形成するノズル状の管体11の内壁
面が円錐形状である場合を示している。
状の管体11の内壁面に軸方向に縦溝13を付けたもの
である。図9には、管路10を形成するノズル状の管体
11の内壁面が円錐形状である場合を示している。
定した。これを図11に示す。図12の従来、即ち、管
体11の内壁面に溝を付けていない構造と図8の本発
明、即ち、管体11の内壁面に円周方向に横溝12を付
けた構造の2つの超音波洗浄装置を、図10で示される
構成によりそれぞれ音圧を測定し、比較したものであ
る。ここで、14は本発明による噴出形超音波洗浄装
置、15は本発明装置14内に供給される給水、16は
本発明装置14から噴出される水中を伝搬する超音波の
音圧を測定する超音波音圧センサーである。この例では
本発明による構造により、従来の構造に比較して平均3
5%程度の音圧の上昇が確認された。超音波の強い弱い
は、超音波の音圧によって決まる。洗浄効果は超音波が
強い方がよい。
Claims (4)
- 【請求項1】 洗浄液を溜め該洗浄液を噴出させる噴出
口を有する洗浄液溜と、該洗浄液溜に該洗浄液を供給す
るための洗浄液供給装置と、該洗浄液溜内に溜められた
前記洗浄液中に超音波を発出するための振動板と、該振
動板を超音波駆動する超音波振動素子とを備え、前記洗
浄液溜内の該洗浄液中で該超音波が集束された洗浄液を
前記噴出口から噴出させるために、前記超音波振動素子
の直径を(2d)、前記振動板から前記噴射口までの距
離を(L)、該洗浄液中を伝搬する超音波の波長を
(λ)としたとき、L=0.1×(d2 /λ)〜2.0
×(d2 /λ)なる範囲に設定されていることを特徴と
する超音波洗浄装置。 - 【請求項2】 前記洗浄液溜が円筒管状であることを特
徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装置。 - 【請求項3】 前記洗浄液溜が内側に湾曲した円錐状で
あることを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装
置。 - 【請求項4】 前記洗浄液溜の内壁面で反射する前記超
音波の分散成分が、拡散・減衰され、前記噴射口から噴
出された洗浄液内の超音波音圧の低下が軽減されるよう
に、前記洗浄液溜の内壁面が凹凸を有する面に構成され
ていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれ
かに記載の超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002070072A JP2003266034A (ja) | 2002-03-14 | 2002-03-14 | 噴射形超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002070072A JP2003266034A (ja) | 2002-03-14 | 2002-03-14 | 噴射形超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003266034A true JP2003266034A (ja) | 2003-09-24 |
Family
ID=29200742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002070072A Pending JP2003266034A (ja) | 2002-03-14 | 2002-03-14 | 噴射形超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003266034A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7934703B2 (en) | 2005-03-11 | 2011-05-03 | Akira Tomono | Mist generator and mist emission rendering apparatus |
| JP2014508633A (ja) * | 2010-12-08 | 2014-04-10 | コミシリア ア レネルジ アトミック エ オ エナジーズ オルタネティヴズ | 粒径の可変スペクトルにわたり液滴を生成するための方法および装置 |
| CN103831733A (zh) * | 2014-02-21 | 2014-06-04 | 山东大学 | 超声振动辅助流化微细磨料供给装置 |
| JP7088461B1 (ja) * | 2021-04-16 | 2022-06-21 | 守 笹川 | 超音波洗浄装置 |
-
2002
- 2002-03-14 JP JP2002070072A patent/JP2003266034A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7934703B2 (en) | 2005-03-11 | 2011-05-03 | Akira Tomono | Mist generator and mist emission rendering apparatus |
| JP2014508633A (ja) * | 2010-12-08 | 2014-04-10 | コミシリア ア レネルジ アトミック エ オ エナジーズ オルタネティヴズ | 粒径の可変スペクトルにわたり液滴を生成するための方法および装置 |
| US9943874B2 (en) | 2010-12-08 | 2018-04-17 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Method and device for generating droplets over a variable spectrum of particle sizes |
| CN103831733A (zh) * | 2014-02-21 | 2014-06-04 | 山东大学 | 超声振动辅助流化微细磨料供给装置 |
| JP7088461B1 (ja) * | 2021-04-16 | 2022-06-21 | 守 笹川 | 超音波洗浄装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5346109B2 (ja) | 液体を超音波処理する装置 | |
| US20070175502A1 (en) | Apparatus and method for delivering acoustic energy through a liquid stream to a target object for disruptive surface cleaning or treating effects | |
| JP2012058077A (ja) | 管端部の超音波探傷装置 | |
| KR20140077121A (ko) | 초음파 트랜스듀서 그리고 초음파를 발생 및/또는 흡수시키기 위한 방법 | |
| US20170307425A1 (en) | Arrangement for transmitting and/or receiving an ultrasonic, wanted signal and ultrasonic, flow measuring device | |
| TW201313342A (zh) | 改良之超音波清洗方法與設備 | |
| JP2005538822A5 (ja) | ||
| US9724721B2 (en) | Pneumoacoustic bar atomizer | |
| JP3751523B2 (ja) | 液滴吐出装置 | |
| JP2003266034A (ja) | 噴射形超音波洗浄装置 | |
| US7712680B2 (en) | Ultrasonic atomizing nozzle and method | |
| JP5585867B2 (ja) | 管端部の超音波探傷装置及び探触子ホルダーの初期位置設定方法 | |
| JP4602524B2 (ja) | 噴射形超音波洗浄装置 | |
| KR100333341B1 (ko) | 실또는띠형상의물품특히와이어를세정하는방법 | |
| TWI773008B (zh) | 超音波霧化裝置 | |
| US20140012302A1 (en) | Fluid ejection device and medical device | |
| JP2020015941A (ja) | 超音波処理装置及びファインバブルの供給方法 | |
| JP4247150B2 (ja) | 超音波殺菌分解装置 | |
| CN104438215B (zh) | 陶瓷基板超声波清洗装置 | |
| JP2014085254A (ja) | 超音波流量計及びこれを備える流体制御装置 | |
| JPH0420546Y2 (ja) | ||
| JP2004167377A (ja) | 超音波洗浄機 | |
| JP2005058804A (ja) | 超音波振動装置 | |
| JP2007319748A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP3783174B2 (ja) | 流水式超音波洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050311 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20050727 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20050929 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20071122 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20071204 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080204 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080204 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080204 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080410 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20081031 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081202 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20081226 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090204 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20090306 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 |