JP2003262958A - 画像記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録時のレーザー走査におけるアブレーショ
ンが抑制され、非画像部の汚れのない高画質の画像形成
が可能で、形成された画像部の強度が高く、耐刷性に優
れた平版印刷版を形成しうるヒートモード対応ネガ型の
画像記録材料を提供する。 【解決手段】 （Ａ）下記一般式（１）、（２）、
（３）で表される構造単位のうち少なくとも１種を、
０．１モル％以上、３０モル％未満含み、水又はアルカ
リ性水溶液に可溶或いは膨潤する高分子化合物と、
（Ｂ）光熱変換剤と、（Ｃ）（Ｂ）光熱変換剤が吸収す
る事のできる波長の露光によりラジカルを生成する化合
物と、を含有し、ヒートモード露光により画像形成可能
なことを特徴とする。下記式中、Ａ¹、Ａ²、Ａ³は酸素
原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ²¹）−を表し、Ｒ²¹はアルキ
ル基を表す。Ｇ¹、Ｇ²、Ｇ³は、２価の有機基を表す。
Ｘ、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、などを表す。Ｙは、酸
素原子、硫黄原子、フェニレン基などを表す。Ｒ¹〜Ｒ
²⁰は、１価の有機基を表す。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線レーザを用
いたヒートモード露光により画像形成することができる
ヒートモード対応ネガ型画像記録材料に関し、詳しく
は、記録層の画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版
印刷版を形成し得るネガ型の画像記録材料に関する。 【０００２】 【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。前述の赤外線領域に発光領
域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤
外線レーザ用ネガ型平版印刷版材料は、赤外線吸収剤
と、光又は熱によりラジカルを発生するラジカル開始剤
と、重合性化合物とを含む記録層を有する平版印刷版材
料である。 【０００３】通常、このようなネガ型の画像記録材料
は、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重
合反応を生起させ、露光部の記録層を硬化させて画像部
を形成する記録方式を利用している。このようなネガ型
の画像形成材料は、赤外線レーザ照射のエネルギーによ
り記録層の可溶化を起こさせるポジ型に比較して画像形
成性が低く、重合による硬化反応を促進させて強固な画
像部を形成するため、現像工程前に加熱処理を行うのが
一般的である。このような光又は熱による重合系の記録
層を有する印刷版としては、特開平８−１０８６２１
号、特開平９−３４１１０号の各公報に記載されるよう
な光重合性或いは熱重合性組成物を記録層として用いる
技術が知られている。これらの記録層は高感度画像形成
性に優れているものの、支持体として、親水化処理され
た基板を用いた場合、記録層と支持体との界面における
密着性が低く、耐刷性に劣るという問題があった。ま
た、感度を向上させるため、高出力の赤外線レーザを用
いることも検討されているが、レーザー走査時に記録層
のアブレーションが発生し光学系を汚染する懸念がある
といった問題もあった。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
考慮してなされたものであり、本発明の目的は、記録時
のレーザー走査におけるアブレーションが抑制され、非
画像部の汚れのない高画質の画像形成が可能で、形成さ
れた画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を
形成しうるネガ型の画像記録材料を提供することにあ
る。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、水又はアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物と
して、特定の構造単位を高分子組成中、０．１モル％以
上、３０モル％未満含む樹脂を用いることにより、画像
部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を形成し得
ることを見出し本発明を完成した。即ち、本発明の画像
記録材料は、（Ａ）下記一般式（１）、（２）、（３）
で表される構造単位のうち少なくとも１種を、０．１モ
ル％以上、３０モル％未満含むことを特徴とする、水又
はアルカリ性水溶液に可溶或いは膨潤する高分子化合物
と、（Ｂ）光熱変換剤と、（Ｃ）（Ｂ）光熱変換剤が吸
収する事のできる波長の光のヒートモード露光によりラ
ジカルを生成する化合物と、を含有し、ヒートモード露
光により画像形成可能なことを特徴とする。さらに、前
記ヒートモード対応ネガ型画像記録材料は、（Ｄ）ラジ
カル重合性化合物を含有していてもよい。 【０００６】 【化２】 【０００７】（式中、Ａ¹、Ａ²、Ａ³はそれぞれ独立に
酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ²¹）−を表し、Ｒ²¹は置
換基を有しても良いアルキル基を表す。Ｇ¹、Ｇ²、Ｇ³
は、それぞれ独立に２価の有機基を表す。Ｘ、Ｚは、そ
れぞれ独立に酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ²²）−を表
し、Ｒ²²は置換基を有しても良いアルキル基を表す。Ｙ
は、酸素原子、硫黄原子、置換基を有しても良いフェニ
レン基、−Ｎ（Ｒ²³）−を表し、Ｒ²³は置換基を有して
も良いアルキル基を表す。Ｒ¹〜Ｒ²⁰は、それぞれ独立
に１価の有機基を表す。） 【０００８】本発明の画像記録材料においては、バイン
ダーの機能を果たす高分子化合物として、一般式
（１）、（２）、（３）で表される構成単位の少なくと
も１種以上を、高分子組成のうち０．１モル％以上、３
０モル％未満含むものを用いている。以下、明確ではな
いが、その効果について説明する。特に、このバインダ
ーを用いた画像記録材料をヒートモード対応平版印刷版
原版の記録層に使用した場合における効果について説明
する。一般式（１）、（２）、（３）で表される構造単
位は、ラジカル反応性の高い官能基を有するものである
ため、赤外線レーザ走査露光時によりラジカルが発生し
た後に速やかに高分子バインダー間で架橋反応を起こ
す。このような構造単位を高分子組成中に含有すること
で、硬化膜形成すなわち現像液や有機溶剤に対する不溶
化が非常に速く起きる。通常、ラジカル重合を利用した
硬化膜形成において多くの場合、充分な強度の硬化膜を
得るために外部酸素によるラジカル重合阻害を抑制し、
充分に反応を進行させる目的で記録層の上層に酸素遮断
層（保護層）を設けるが、本発明のバインダーを用いた
場合、酸素による重合阻害の影響を実質ほとんど受けな
い。そのため、酸素遮断層を設ける必要がなくなるとい
うメリットを有する。 【０００９】しかし、この構造単位の含有量が３０モル
％を上回る場合、硬化膜形成すなわち現像液や有機溶剤
に対する不溶化がより早く起こるものの、キズ残膜が発
生しやすいという問題を抱えていた。ここでいうキズ残
膜とは、爪先や針先などで記録層面を機械的に引っ掻い
たとき、その部分が現像処理しても膜として残るという
現象であり、このようなことが起きると、非画像部であ
るにも関わらず画像として印刷物に転写されてしまうと
いうものである。このようにキズ残膜が発生しやすいヒ
ートモード対応平版印刷版原版を使用すると、刷版搬送
時の取り扱いに注意を要したり、露光装置であるプレー
トセッターの刷版くわえ部分に残膜が出るなど、ハンド
リング性の悪い刷版となる。そこで、一般式（１）、
（２）、（３）で表される構造単位のうち少なくとも１
種を０．１モル以上、３０モル％未満含有し、ラジカル
開始剤としてオニウム塩化合物を用いることで、硬化性
を損なうことなく、上記キズ残膜に係る問題を解決する
ことできた。さらに、赤外線レーザ走査露光時によりラ
ジカルが発生した後に速やかに架橋反応を起こし、架橋
密度の高い硬化膜を形成するため、記録層の他の低分子
成分、例えば、光熱変換剤などがアブレーションを起こ
し、記録層から放出されることが抑制され、光学系の汚
染が抑制されるという効果を奏するものと考えられる。 【００１０】また、このような構造単位を有すること
で、バインダーポリマーと画像記録材料を構成する他の
成分、例えばラジカルを生成する化合物との相溶性が改
善されるため、組成物の経時的な相分離の発生が抑制さ
れ、保存安定性に優れるものと考えられる。 【００１１】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。以下、本発明におけるヒートモード露光
の定義について詳述する。Ｈａｎｓ−Ｊｏａｃｈｉｍ
Ｔｉｍｐｅ，ＩＳ＆Ｔｓ ＮＩＰ １５：１９９９ Ｉ
ｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ｏ
ｎ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏ
ｌｏｇｉｅｓ．Ｐ．２０９に記載されているように、感
光体材料において光吸収物質（例えば色素）を光励起さ
せ、化学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するそ
の光吸収物質の光励起から化学的或いは物理的変化まで
のプロセスには大きく分けて二つのモードが存在するこ
とが知られている。１つは光励起された光吸収物質が感
光材料中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用
（例えば、エネルギー移動、電子移動）をすることで失
活し、その結果として活性化した反応物質が上述の画像
形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆ
るフォトンモードであり、もう１つは光励起された光吸
収物質が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質
が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き
起こすいわゆるヒートモードである。その他、物質が局
所的に集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散る
アブレーションや１分子が多数の光子を一度に吸収する
多光子吸収など特殊なモードもあるがここでは省略す
る。 【００１２】上述の各モードを利用した露光プロセスを
フォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォ
トンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目
的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子
のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。
例えばｎ個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考
える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用
しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要
請により１光子のエネルギーを足し併せて使用すること
ができない。つまり、何らかの反応を起こすためには
「１光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係
が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に
熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエ
ネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「ｎ個
の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が
あれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱
拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部
分（反応点）から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光
励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄
積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次
の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つ
まり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量で
あっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と
低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果
が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。 【００１３】無論、フォトンモード露光では後続反応種
の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本
的には、このようなことは起こらない。即ち、感光材料
の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー
密度（Ｗ／ｃｍ²）（＝単位時間当たりのエネルギー密
度）に対し感光材料の固有感度（画像形成に必要な反応
のためのエネルギー量）は一定となるが、ヒートモード
では露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇す
ることになる。従って、実際に画像記録材料として実用
上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定す
ると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光で
は通常は約０．１ｍＪ／ｃｍ²程度の高感度化が達成で
きるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、
未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対
し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でない
と反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係か
ら通常は５０ｍＪ／ｃｍ²程度が必要となるが、低露光
カブリの問題が回避される。 【００１４】そして、事実上ヒートモード露光では感光
材料の版面での露光パワー密度が５０００Ｗ／ｃｍ²以
上必要であり、好ましくは１００００Ｗ／ｃｍ²以上必
要となる。但し、ここでは詳しく述べなかったが５．０
×１０⁵Ｗ／ｃｍ²以上の高パワー密度レーザを利用する
とアブレーションが起こり、光源を汚す等の問題から好
ましくない。 【００１５】 【発明の実施の形態】以下、本発明の画像記録材料につ
いて詳細に説明する。本発明の画像記録材料は、（Ａ）
一般式（１）、（２）、（３）で表される構造単位のう
ち、少なくとも１種を、０．１モル％以上、３０モル％
未満含む、水又はアルカリ水溶液に可溶或いは膨潤する
高分子化合物（以下、適宜、特定アルカリ可溶性高分子
と称する）、（Ｂ）光熱変換剤、及び、（Ｃ）（Ｂ）光
熱変換剤が吸収することのできる波長の光のヒートモー
ド露光によりラジカルを生成する化合物を含有すること
を特徴とする。さらに、前記ヒートモード対応ネガ型画
像記録材料は、（Ｄ）ラジカル重合性化合物を含有する
ことができる。以下に、本発明の画像記録材料に使用し
うる各化合物について順次説明する。 【００１６】〔（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子〕本発
明で画像記録材料にバインダー成分として使用する高分
子化合物は、一般式（１）、（２）、（３）で表される
構造単位のうち少なくとも１種を、０．１モル％以上、
３０モル％未満含有する、水又はアルカリ水溶液に可溶
或いは膨潤する高分子化合物である。 【００１７】 【化３】 【００１８】前記一般式（１）において、Ｒ¹〜Ｒ³はそ
れぞれ独立に、１価の有機基を表すが、水素原子、置換
基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかで
も、Ｒ ¹、Ｒ²は水素原子が好ましく、Ｒ³は水素原子、
メチル基が好ましい。Ｒ⁴〜Ｒ⁶はそれぞれ独立に、１価
の有機基を表すが、Ｒ⁴としては、水素原子または置換
基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかで
も、水素原子、メチル基、エチル基が好ましい。また、
Ｒ⁵、Ｒ⁶は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有
してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキ
シ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基
を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有して
もよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかで
も、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有しもよいアリール基が
好ましい。ここで、導入しうる置換基としては、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオ
キシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等
が挙げられる。 【００１９】Ａ¹、Ｘは、それぞれ独立して、酸素原
子、硫黄原子、又は、−Ｎ（Ｒ²¹）−を表し、ここで、
Ｒ²¹としては、水素原子、置換基を有してもよいアルキ
ル基などが挙げられる。Ｇ¹は、２価の有機基を表す
が、置換基を有してもよいアルキル基が好ましい。より
好ましくは、炭素数１〜２０の置換基を有してもよいア
ルキル基、炭素数３〜２０の置換基を有してもよいシク
ロアルキル基、炭素数６〜２０の置換基を有してもよい
芳香族基などが挙げられ、なかでも、置換基を有しても
よい炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐アルキル基、
炭素数３〜１０の置換基を有してもよいシクロアルキル
基、炭素数６〜１２の置換基を有してもよい芳香族基が
強度、現像性等の性能上、好ましい。 【００２０】ここで、Ｇ¹における置換基としては、水
素原子がヘテロ原子に結合した基、例えば、水酸基、ア
ミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まないものが
好ましい。このような水素原子がヘテロ原子に結合した
基を連結基部分に有したものと、後述する開始剤として
オニウム塩化合物を併用すると保存安定性が劣化する。 【００２１】 【化４】 【００２２】前記一般式（２）において、Ｒ⁷〜Ｒ⁹はそ
れぞれ独立に、１価の有機基を表すが、水素原子、置換
基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかで
も、Ｒ ⁷、Ｒ⁸は水素原子が好ましく、Ｒ⁹は水素原子、
メチル基が好ましい。Ｒ¹⁰〜Ｒ¹²は、それぞれ独立に１
価の有機基を表すが、この有機基としては、具体的には
例えば、水素原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ
基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有
してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキ
シ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基
を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有して
もよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかで
も、水素原子、アルコキシカルボニル基、置換基を有し
てもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基
が好ましい。ここで、導入可能な置換基としては、一般
式（１）において挙げたものが同様に例示される。 【００２３】Ａ²は、それぞれ独立して、酸素原子、硫
黄原子、又は、−Ｎ（Ｒ²¹）−を表し、ここで、Ｒ²¹と
しては、水素原子、置換基を有してもよいアルキル基な
どが挙げられる。Ｇ²は、２価の有機基を表すが、置換
基を有してもよいアルキル基が好ましい。好ましくは、
炭素数１〜２０の置換基を有してもよいアルキル基、炭
素数３〜２０の置換基を有してもよいシクロアルキル
基、炭素数６〜２０の置換基を有してもよい芳香族基な
どが挙げられ、なかでも、置換基を有してもよい炭素数
１〜１０の直鎖状あるいは分岐アルキル基、炭素数３〜
１０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数
６〜１２の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像
性等の性能上、好ましい。ここで、Ｇ²における置換基
としては、水素原子がヘテロ原子に結合した基、例え
ば、水酸基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を
含まないものが好ましい。このような水素原子がヘテロ
原子に結合した基を連結基部分に有したものと、後述す
る開始剤としてオニウム塩化合物を併用すると保存安定
性が劣化する。Ｙは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ
（Ｒ²³）−または置換基を有してもよいフェニレン基を
表す。ここで、Ｒ²³としては、水素原子、置換基を有し
てもよいアルキル基などが挙げられる。 【００２４】 【化５】 【００２５】前記一般式（３）において、Ｒ¹³〜Ｒ¹⁵は
それぞれ独立に、１価の有機基を表すが、水素原子、置
換基を有してもよいアルキル基などが挙げられ、なかで
も、Ｒ¹³、Ｒ¹⁵は水素原子が好ましく、Ｒ¹⁵は水素原
子、メチル基が好ましい。Ｒ¹⁶〜Ｒ²⁰は、それぞれ独立
に１価の有機基を表すが、Ｒ¹⁶〜Ｒ²⁰は、例えば、水素
原子、ハロゲン原子、ジアルキルアミノ基、アルコキシ
カルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基
を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリ
ール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を
有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよい
アルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリール
スルホニル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、ア
ルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル
基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。導入
しうる置換基としては、一般式（１）においてあげたも
のが例示される。Ａ³、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、又
は−Ｎ（Ｒ²¹）−を表す。Ｒ²¹としては、一般式（１）
におけるのと同様のものが挙げられる。 【００２６】Ｇ³は、２価の有機基を表すが、置換基を
有してもよいアルキル基が好ましい。好ましくは、炭素
数１〜２０の置換基を有してもよいアルキル基、炭素数
３〜２０の置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭
素数６〜２０の置換基を有してもよい芳香族基などが挙
げられ、なかでも、置換基を有してもよい炭素数１〜１
０の直鎖状あるいは分岐アルキル基、炭素数３〜１０の
置換基を有してもよいシクロアルキル基、炭素数６〜１
２の置換基を有してもよい芳香族基が強度、現像性等の
性能上、好ましい。ここで、Ｇ³における置換基として
は、水素原子がヘテロ原子に結合した基、例えば、水酸
基、アミノ基、チオール基、カルボキシル基を含まない
ものが好ましい。このような水素原子がヘテロ原子に結
合した基を連結基部分に有したものと、後述する開始剤
としてオニウム塩化合物を併用すると保存安定性が劣化
する。 【００２７】本発明のヒートモード対応ネガ型画像記録
材料に必須成分として使用される（Ａ）特定アルカリ可
溶性高分子は、下記に示す合成方法１）〜３）の少なく
とも１つにより製造することできる。 【００２８】合成方法１）下記一般式（４）で表される
ラジカル重合性化合物１種以上を０．１モル％以上、３
０モル％未満と、下記一般式（４）で表される構造単位
を有さない他のラジカル重合性化合物を１種以上と、を
通常のラジカル重合法によって共重合させ、所望の高分
子化合物の前駆体を合成した後に、塩基を用いて、プロ
トンを引き抜きＬを脱離させ、前記一般式（１）で表さ
れる構造を有する所望の高分子化合物を得る方法。この
とき、高分子化合物前駆体の製造には、一般に公知の懸
濁重合法あるいは溶液重合法などを適用することができ
る。その共重合体の構成としては、ブロック共重合体、
ランダム共重合体、グラフト共重合体等のいずれであっ
てもよい。 【００２９】 【化６】 【００３０】式中、Ｌは、アニオン性脱離基を表す。好
ましくは、ハロゲン原子、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。Ｒ³〜Ｒ⁶、Ａ¹及びＧ¹、Ｘについては前記一般
式（１）で挙げたものと同様のものを用いることができ
る。また、脱離反応を生起させるために用いる塩基とし
ては、無機化合物、有機化合物のどちらを使用しても良
い。好ましい無機化合物塩基としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、
有機化合物塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのような金
属アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソ
プロピルエチルアミンのような有機アミン化合物等が挙
げられる。一般式（４）で表されるラジカル重合性化合
物としては、下記の化合物（Ｍ−１）〜（Ｍ−１２）を
例として挙げることできるがこれらに限定されるもので
はない。 【００３１】 【化７】 【００３２】 【化８】【００３３】これら、ラジカル重合性化合物は、市販品
として、あるいは、本発明者らが先に提案した特願２０
００−２４９５６９号明細書に記載の合成法により容易
に入手できる。 【００３４】合成方法２）以下に詳述するような特定の
官能基を有するラジカル重合性化合物１種以上を０．１
モル％以上、３０モル％未満と、特定の官能基を有さな
い他のラジカル重合性化合物を１種以上と、を通常のラ
ジカル重合法によって共重合し、幹高分子化合物を合成
した後に、側鎖の該官能基と、下記一般式（５）または
（６）、（７）で表される構造を有する化合物と、を反
応させ、前記一般式（１）または（２）、（３）で表さ
れる構造を有する所望の高分子化合物を得る方法。幹高
分子化合物の製造には、一般的に公知の懸濁重合法ある
いは溶液重合法などを適用することができる。その共重
合体の構成としては、ブロック共重合体、ランダム共重
合体、グラフト共重合体等のいずれであってもよい。 【００３５】 【化９】 【００３６】一般式（５）中、Ｒ⁴〜Ｒ⁶は、前記一般式
（１）で挙げたものと同様のものを用いることができ
る。一般式（５）で表される基を有する低分子化合物の
例としては、２−ヒドロキシルエチルアクリレート、２
−ヒドロキシルエチルメタクリレート、４−ヒドロキシ
ブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレ
ート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロリ
ド、メタクリル酸クロリド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−ア
ミノエチルメタクリレート、２−クロロエチルメタクリ
レート、２−イソシアン酸エチルメタクリレート、３−
イソシアン酸プロピルメタクリレート、グリシジルアク
リレート、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチルアクリレート、３，４−エポキ
シシクロヘキシルメチルメタクリレート、２−ブロモエ
チルメタクリレート、３−ブロモプロピルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、４−ヒド
ロキシブチルメタクリルアミド、イタコン酸等が挙げら
れる。 【００３７】一般式（６）中、Ｒ¹⁰〜Ｒ¹²は、前記一般
式（２）で挙げたものと同様のものを用いることができ
る。一般式（６）で表される基を有する低分子化合物の
例としては、エチレングリコールモノビニルエーテル、
プロピレングリコールモノビニルエーテル、ブチレング
リコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノビニルエーテル、１−クロロエチルビニルエーテル、
１−アミノエチルビニルエーテル、４−クロロメチルス
チレン、ｐ−スチレンカルボン酸等が例として挙げられ
る。 【００３８】一般式（７）中、Ｒ¹⁶〜Ｒ²⁰は、前記一般
式（３）で挙げたものと同様のものを用いることができ
る。一般式（７）で表される構造を有する化合物として
は、アリルアルコール、アリルアミン、ジアリルアミ
ン、２−アリロキシエチルアルコール、２−クロロ−１
−ブテン、アリルイソシアネート等が例として挙げられ
る。 【００３９】また、特定の官能基の例としては、水酸
基、カルボキシル基、カルボン酸ハライド基、カルボン
酸無水物基、アミノ基、ハロゲン化アルキル基、イソシ
アネート基、エポキシ基等が挙げられる。これら官能基
を有するラジカル重合性化合物としては、２−ヒドロキ
シルエチルアクリレート、２−ヒドロキシルエチルメタ
クリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−
ヒドロキシブチルメタクリレート、アクリル酸、メタク
リル酸、アクリル酸クロリド、メタクリル酸クロリド、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−アミノエチルメタクリレート、
２−クロロエチルメタクリレート、２−イソシアン酸エ
チルメタクリレート、３−イソシアン酸プロピルメタク
リレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタク
リレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアク
リレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタ
クリレート、２−ブロモエチルメタクリレート、３−ブ
ロモプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメ
タクリルアミド、４−ヒドロキシブチルメタクリルアミ
ド、イタコン酸等が挙げられる。 【００４０】さらに、特定の官能基を有さない他のラジ
カル重合性化合物の例としては、例えば、アクリル酸エ
ステル類、メタクリル酸エステル類、Ｎ，Ｎ−２置換ア
クリルアミド類、Ｎ，Ｎ−２置換メタクリルアミド類、
スチレン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル
類などから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられ
る。 【００４１】具体的には、例えば、アルキルアクリレー
ト（該アルキル基の炭素原子数は１〜２０のものが好ま
しい）等のアクリル酸エステル類、（具体的には、例え
ば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸
プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アク
リル酸エチルへキシル、アクリル酸オクチル、アクリル
酸−ｔ−オクチル、クロルエチルアクリレート、２，２
−ジメチルヒドロキシプロピルアクリレート、５−ヒド
ロキシペンチルアクリレート、トリメチロールプロパン
モノアクリレート、ペンタエリスリトールモノアクリレ
ート、グリシジルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリ
レート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど）、
アリールアクリレート（例えば、フェニルアクリレート
など）、 【００４２】アルキルメタクリレート（該アルキル基の
炭素原子は１〜２０のものが好ましい）等のメタクリル
酸エステル類（例えば、メチルメタクリレート、エチル
メタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピ
ルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメ
タクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、クロルベンジルメタクリレート、オ
クチルメタクリレー卜、４−ヒドロキシブチルメタクリ
レート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、２，
２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ペン
タエリスリトールモノメタクリレート、グリシジルメタ
クリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルメタクリレートなど）、アリールメタクリレ
ート（例えば、フェニルメタクリレート、クレジルメタ
クリレート、ナフチルメタクリレートなど）、 【００４３】スチレン、アルキルスチレン等のスチレン
類、（例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、ト
リメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレ
ン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシル
スチレン、シクロへキシルスチレン、デシルスチレン、
ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオ
ルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキ
シメチルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えば
メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレ
ン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン（例
えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルス
チレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレ
ン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレ
ン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブ
ロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル
−３−トリフルオルメチルスチレンなど）、アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらを
１種あるいは２種以上用いることができる。 【００４４】合成方法３）前記一般式（６）または
（７）で表される不飽和基と、該不飽和基よりもさらに
付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジ
カル重合性化合物の１種以上とを共重合させ、前記一般
式（２）または（３）で表される構造を有する所望の高
分子化合物を得るか（但し、一般式（６）または（７）
で表される不飽和基を有する構造単位の含有量が高分子
化合物中、０．１モル％以上、３０モル％未満であるよ
うに仕込み量を調整する）、あるいは、前記一般式
（６）または（７）で表される不飽和基と該不飽和基よ
りもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを
有するラジカル重合性化合物１種以上を０．１モル％以
上、３０モル％未満と、前記のような基を有さない他の
ラジカル重合性化合物を１種以上と、を通常のラジカル
重合法によって共重合し、前記一般式（２）または
（３）で表される構造を有する所望の高分子化合物を得
る方法。高分子化合物の製造には、一般的に公知の懸濁
重合法あるいは溶液重合法などを適用することができ
る。その共重合体の構成としては、ブロック共重合体、
ランダム共重合体、グラフト共重合体等のいずれであっ
てもよい。 【００４５】一般式（６）で表される不飽和基と該不飽
和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和
基とを有するラジカル重合性化合物としては、ビニルア
クリレート、ビニルメタクリレート、２−フェニルビニ
ルアクリレート、２−フェニルビニルメタクリレート、
１−プロペニルアクリレート、１−プロペニルメタクリ
レート、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミ
ド等が例として挙げられる。 【００４６】一般式（７）で表される不飽和基と、該不
飽和基よりも更に付加重合性に富んだエチレン性不飽和
基とを有するラジカル重合性化合物としては、アリルア
クリレート、アリルメタクリレート、２−アリロキシエ
チルアクリレート、２−アリロキシエチルメタクリレー
ト、プロパルギルアクリレート、プロパルギルメタクリ
レート、Ｎ−アリルアクリレート、Ｎ−アリルメタクリ
レート、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジア
リルメタクリレート、アリルアクリルアミド、アリルメ
タクリルアミド等が例として挙げられる。 【００４７】これら製造方法（合成方法）は、いずれか
ひとつを行うか、または、それぞれ組み合わせて（Ａ）
特定アルカリ可溶性高分子を得てもよい。一般式
（１）、（２）、（３）で表される構造単位の含有量
は、０．１モル％以上、３０モル％未満の範囲であるこ
とを要し、より好ましい範囲は、１０〜２５モル％であ
る。この範囲において硬化性と耐刷性、更にはキズ残膜
の抑制が良好となる傾向にある。 【００４８】本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子化
合物には、非画像部除去性などの諸性能を向上させるた
めに、酸基を有するラジカル重合性化合物を共重合させ
てもよい。このようなラジカル重合性が有する酸基とし
ては、例えば、カルボン酸、スルホン酸、リン酸基など
があり、特に好ましいものは、カルボン酸である。カル
ボン酸を含有するラジカル重合性化合物としては、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、インクロトン酸、マレイン酸、ｐ−カルボキシルス
チレンなどがあり、特に好ましいものは、アクリル酸、
メタクリル酸、ｐ−カルボキシルスチレンである。これ
らを１種あるいは１種以上用いることができ、これら共
重合成分の好適に使用される含有量は、０〜５０モル％
であり、特に好ましくは、アルカリ水現像による画像強
度ダメージ抑制という観点から、０〜３０モル％であ
る。３０モル％を越えるとアルカリ水現像による画像強
度ダメージを受けやすくなる。 【００４９】このような高分子化合物を合成する際に用
いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−
２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル
などが挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは２種以
上混合してもよい。 【００５０】本発明の（Ａ）特定アルカリ水可溶性化合
物は、質量平均分子量で、好ましくは４０，０００以上
であり、さらに好ましくは、８万〜１８万の範囲であ
る。８万を下回ると硬化膜強度が不足し、１８万を越え
ると現像性が低下する。また、本発明に係る（Ａ）特定
高分子化合物中には、未反応の単量体を含んでいてもよ
い。この場合、単量体の高分子化合物中に占める割合
は、１５質量％以下が望ましい。 【００５１】本発明に係る高分子化合物は単独で用いて
も、２種以上を混合して用いてもよい。また、一般式
（１）、（２）、（３）で表される基を有しない他の高
分子化合物を混合して用いてもよい。この場合、他の高
分子化合物は、高分子化合物中で５０質量％以下で、更
に好ましくは１０質量％以下である。本発明の画像記録
材料中に含まれる（Ａ）特定高分子化合物の含有量は固
形分で約５〜９５質量％であり、好ましくは、約４０〜
９０質量％である。含有量が少なすぎる場合には、記録
層の強度が不足し、耐刷性が低下する傾向があり、多す
ぎると画像形成性に影響を与え、画質が低下する可能性
があり、いずれ好ましくない。 【００５２】以下に、本発明に係る（Ａ）特定アルカリ
可溶性高分子の代表的な合成例と具体的な高分子化合物
を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。 （合成例） １）高分子化合物（１）の合成（合成例１） コンデンサー、撹拌機を取り付けた５００ｍｌ三口フラ
スコに、１−メトキシ−２−プロパノール２４０ｍｌを
入れ、７０℃に加熱した。窒素気流下、前記例示化合物
（Ｍ−４）３０．９ｇ、ベンジルメタクリレート７４．
０ｇ，メタクリル酸１２．１ｇ、Ｖ−６５（和光純薬
製）０．８７０ｇの１−メトキシ−２−プロパノール２
４０ｍｌ溶液を２時間半かけて滴下させた。さらに、７
０℃で２時間反応させた。反応混液を０℃に冷却した
後、撹拌しながら、トリエチルアミン５６．７ｇを滴下
し、徐々に室温まで昇温させながら、１２時間反応させ
た。反応混液を０℃に冷却した後、撹拌しながら、５Ｍ
ＨＣｌを反応混液のｐＨが６以下になるまで滴下し
た。反応液を水５Ｌ中に投じ、重合体を析出させた。こ
れを、濾取、洗浄、乾燥し、高分子化合物（１）を得
た。ＮＭＲスペクトルより、（Ｍ−４）由来の基がすべ
てアクリル基に変換されたことが確認された。ポリスチ
レンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー法（ＧＰＣ）により、質量平均分子量を測定し
た結果、９７，０００であった。 【００５３】２）幹高分子化合物（１）の合成 コンデンサー、撹拌機を取り付けた１０００ｍｌ三口フ
ラスコに、１−メトキシ−２−プロパノール１７５ｇを
入れ、７０℃に加熱した。窒素気流下、メタクリル酸６
９．７ｇ、ｔ−ブチルメタクリレート６９．７ｇ、Ｖ−
５９（和光純薬製）０．６７３ｇの１−メトキシ−２−
プロパノール１７５ｇ溶液を２時間半かけて滴下させ
た。さらに、７０℃で２時間反応させた。室温まで冷却
した後に、水３Ｌ中に投じ、重合体を析出させた。これ
を、濾取、洗浄、乾燥し、幹高分子化合物（１）を８
３．０ｇ得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパー
ミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、
質量平均分子量を測定した結果、１２１，０００であっ
た。また、滴定により測定した酸価は２．３０ｍｅｑ／
ｇであった。 【００５４】３）高分子化合物（２）の合成（合成例
２） コンデンサー、撹拌機を取り付けた１０００ｍｌ三口フ
ラスコに、前記幹高分子化合物（１）８０ｇ、及び、ｐ
−メトキシフェノール１ｇを入れ、ジメチルスホキシド
３２０ｇに溶解したのち、滴下ロートを用いて、１，８
−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン４
８．０ｇを滴下した。室温で３０分撹拌した後に、３−
ブロモエチルメタクリレート１９．５ｇを滴下し、６０
℃で８時間撹拌した。室温まで冷却した後に、水３Ｌ中
に投じ、重合体を析出させた。これを、濾取、洗浄、乾
燥し、高分子化合物（２）を７２ｇ得た。ポリスチレン
を標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー法（ＧＰＣ）により、質量平均分子量を測定した結
果、１２８，０００であった。また、滴定により測定し
た酸価は１．０１ｍｅｑ／ｇであった。幹高分子化合物
（１）の酸価と高分子化合物（２）の酸価の差およびＨ
ＮＭＲより下記表１に示す構造であることが確認され
た。 【００５５】４）高分子化合物（３）の合成（合成例
３） コンデンサー、撹拌機を取り付けた１０００ｍｌ三口フ
ラスコに、前記幹高分子化合物（１）８０ｇ、ｐ−メト
キシフェノール１ｇを入れ、ジメチルスホキシド３２０
ｇに溶解したのち、滴下ロートを用いて、１，８−ジア
ザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン４８．０ｇ
を滴下した。室温で３０分撹拌した後に、ｐ−クロロメ
チルスチレン１６．０ｇを滴下し、６０℃で８時間撹拌
した。室温まで冷却した後に、水３Ｌ中に投じ、重合体
を析出させた。これを、濾取、洗浄、乾燥し、高分子化
合物（３）を８１．２ｇ得た。ポリスチレンを標準物質
としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（Ｇ
ＰＣ）により、質量平均分子量を測定した結果、１３
５，０００であった。また、滴定により測定した酸価は
１．０２ｍｅｑ／ｇであった。幹高分子化合物（１）の
酸価と高分子化合物（３）の酸価の差およびＨ ＮＭＲ
より表１に示す構造であることが確認された。 【００５６】５）高分子化合物（４）の合成（合成例
４） コンデンサー、撹拌機を取り付けた２０００ｍｌ三口フ
ラスコに、１−メトキシ−２−プロパノール７５０ｇを
入れ、７０℃に加熱した。窒素気流下、アリルメタクリ
レート８８．３ｇ，メタクリル酸９．０ｇ、ベンジルメ
タクリレート７４．０ｇ、Ｖ−５９（和光純薬製）０．
６７９ｇの１−メトキシ−２−プロパノール７５０ｇ溶
液を２時間半かけて滴下させた。さらに、７０℃で２時
間反応させた。室温まで冷却した後に、水３Ｌ中に投
じ、重合体を析出させた。これを、濾取、洗浄、乾燥
し、高分子化合物（４）を１５０．０ｇ得た。ポリスチ
レンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグ
ラフィー法（ＧＰＣ）により、質量平均分子量を測定し
た結果、１３２，０００であった。また、滴定により測
定した酸価は１．００ｍｅｑ／ｇであった。 【００５７】（合成例５〜１７）合成例１〜４と同様に
して仕込みモノマー種、組成比を変えて、以下に示す高
分子化合物（５）〜（１７）を合成した。これらの重合
体の質量平均分子量を、合成例１〜４と同じ方法で測定
した。上記合成法により得られた（Ａ）特定アルカリ可
溶性樹脂を、下記表１〜４に、その構成単位の構造、重
合モル比で示し、さらに測定した質量平均分子量を併記
する（高分子化合物１〜高分子化合物１７）。 【００５８】 【表１】【００５９】 【表２】【００６０】 【表３】【００６１】 【表４】 【００６２】〔（Ｂ）光熱変換剤〕本発明の画像記録材
料は、ヒートモード露光、代表的には、赤外線を発する
レーザにより記録を行うことから、光熱変換剤を用いる
ことが必須である。光熱変換剤は、所定の波長の光を吸
収し、熱に変換する機能を有している。この際発生した
熱により、後述する（Ｃ）成分、即ちこの（Ｂ）光熱変
換剤が吸収し得る波長の光のヒートモード露光によりラ
ジカルを生成する化合物が分解し、ラジカルを発生す
る。 【００６３】本発明において使用される光熱変換剤とし
ては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱
を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用
いることができる。本発明において使用される好ましい
光熱変換剤は、入手容易な高出力レーザーへの適合性の
観点から波長７６０ｎｍ〜１２００ｎｍに吸収極大を有
する赤外線吸収性染料又は顔料である。 【００６４】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。 【００６５】好ましい染料としては、例えば、特開昭５
８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開
昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等
に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６
９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１
９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５
８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特
開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、
特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１
１２７９２号等に記載されているスクアリリウム色素、
英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。 【００６６】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。 【００６７】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、
（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。 【００６８】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式（ａ）〜一般式（ｅ）で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
（ａ）で示されるシアニン色素は、本発明の重合性組成
中で使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定
性、経済性に優れるため最も好ましい。 【００６９】 【化１０】 【００７０】一般式（ａ）中、Ｘ¹は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−ＮＰｈ₂、Ｘ²−Ｌ¹または以下に示す基を
表す。ここで、Ｘ²は酸素原子または、硫黄原子を示
し、Ｌ¹は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ
原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１
〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子と
は、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを示す。 【００７１】 【化１１】 【００７２】Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、炭素原
子数１〜１２の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存
安定性から、Ｒ¹およびＲ²は、炭素原子数２個以上の炭
化水素基であることが好ましく、さらに、Ｒ¹とＲ²とは
互いに結合し、５員環または６員環を形成していること
が特に好ましい。 【００７３】Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Ｙ¹、Ｙ²は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数１２個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷およびＲ⁸は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Ｚａ^-は、対アニオンを示す。ただし、Ｒ¹〜Ｒ⁸の
いずれかにスルホ基が置換されている場合は、Ｚａ^-は
必要ない。好ましいＺａ^-は、記録層塗布液の保存安定
性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフル
オロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオ
ン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、
過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオ
ン、およびアリールスルホン酸イオンである。 【００７４】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ａ）で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特願平１１−３１０６２
３号明細書の段落番号［００１７］〜［００１９］、特
願２０００−２２４０３１号明細書の段落番号［００１
２］〜［００３８］、特願２０００−２１１１４７号明
細書の段落番号［００１２］〜［００２３］に記載され
たものを挙げることができる。 【００７５】 【化１２】 【００７６】 【化１３】【００７７】 【化１４】 【００７８】 【化１５】【００７９】前記一般式（ｂ）中、Ｌは共役炭素原子数
７以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有して
いてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。Ｚｂ⁺は対カチオンを示す。好ましい対カ
チオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホ
ニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カ
チオン（Ｎｉ⁺、Ｋ⁺、Ｌｉ⁺）などが挙げられる。Ｒ⁹〜
Ｒ¹⁴及びＲ¹⁵〜Ｒ²⁰は互いに独立に水素原子又はハロゲ
ン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選
択される置換基、或いは、これらを２つ若しくは３つ組
合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。ここで、前記一般式（ｂ）中、Ｌが共役炭
素原子数７のメチン鎖を表すもの、及び、Ｒ⁹〜Ｒ¹⁴及
びＲ¹⁵〜Ｒ²⁰がすべて水素原子を表すものが入手の容易
性と効果の観点から好ましい。 【００８０】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｂ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【００８１】 【化１６】 【００８２】 【化１７】 【００８３】前記一般式（ｃ）中、Ｙ³及びＹ⁴は、それ
ぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原
子を表す。Ｍは、共役炭素数５以上のメチン鎖を表す。
Ｒ²¹〜Ｒ²⁴及びＲ²⁵〜Ｒ²⁸は、それぞれ同じであっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Ｚ
ａ^-は対アニオンを表し、前記一般式（ａ）におけるＺ
ａ^-と同義である。 【００８４】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｃ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【００８５】 【化１８】【００８６】 【化１９】 【００８７】前記一般式（ｄ）中、Ｒ²⁹ないしＲ³¹は各
々独立に、水素原子、アルキル基、またはアリール基を
示す。Ｒ³³およびＲ³⁴は各々独立に、アルキル基、置換
オキシ基、またはハロゲン原子を示す。ｎおよびｍは各
々独立に０ないし４の整数を示す。Ｒ²⁹とＲ³⁰、または
Ｒ³¹とＲ³²はそれぞれ結合して環を形成してもよく、ま
たＲ²⁹および／またはＲ³⁰はＲ³³と、またＲ³¹および／
またはＲ³²はＲ³⁴と結合して環を形成しても良く、さら
に、Ｒ³³或いはＲ³⁴が複数存在する場合に、Ｒ ³³同士あ
るいはＲ³⁴同士は互いに結合して環を形成してもよい。
Ｘ²およびＸ³は各々独立に、水素原子、アルキル基、ま
たはアリール基であり、Ｘ²およびＸ³の少なくとも一方
は水素原子またはアルキル基を示す。Ｑは置換基を有し
ていてもよいトリメチン基またはペンタメチン基であ
り、２価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Ｚ
ｃ^-は対アニオンを示し、前記一般式（ａ）におけるＺ
ａ^-と同義である。 【００８８】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｄ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【００８９】 【化２０】 【００９０】 【化２１】 【００９１】前記一般式（ｅ）中、Ｒ³⁵〜Ｒ⁵⁰はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。Ｍは２つの水素原子若しくは金属
原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに
含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、IIＡ、II
IＢ、IVＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、
ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウ
ム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナ
ジウムが好ましい。 【００９２】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｅ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【００９３】 【化２２】 【００９４】本発明において光熱変換剤として使用され
る顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協
会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ
出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出
版、１９８４年刊）に記載されている顔料が挙げられ
る。 【００９５】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。 【００９６】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。 【００９７】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。 【００９８】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１
９８６年刊）に記載されている。 【００９９】本発明においては、これらの光熱変換剤は
１種のみを用いてもよく、２種以上を併用することもで
きるが、感度の観点から、一般式（ａ）で示される色素
が最も好ましく、なかでも、ジアリールアミノ基を有す
るシアニン色素が最も好ましい。 【０１００】これらの光熱変換剤は、記録層組成物中
に、全固形分の０．１〜２０質量％添加されることが好
ましい。この範囲より少なすぎる場合には露光による特
性変化の感度が低くなり、感光性が充分に得られない傾
向があり、多すぎる場合には膜の均一性や強度が低下す
る傾向にあるため、いずれも好ましくない。これらの光
熱変換剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、
別の層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型画像形成
材料を作成した際に、記録層の波長７６０ｎｍ〜１２０
０ｎｍの範囲における吸収極大での光学濃度が、０．１
〜３．０の間にあることが好ましい。この範囲をはずれ
た場合、感度が低くなる傾向がある。光学濃度は前記光
熱変換剤の添加量と記録層の厚みとにより決定されるた
め、所定の光学濃度は両者の条件を制御することにより
得られる。記録層の光学濃度は常法により測定すること
ができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白
色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必
要な範囲において適宜決定された厚みの記録層を形成
し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム
等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測
定する方法等が挙げられる。 【０１０１】〔（Ｃ）ヒートモード露光によりラジカル
を生成する化合物〕ヒートモード露光によりラジカルを
生成する化合物（以下、適宜、ラジカル開始剤と称す
る）は、前記（Ｂ）光熱変換剤と組み合わせて用い、光
熱変換剤が吸収し得る波長の光、例えば、赤外線レーザ
を照射した際にその光又は熱或いはその双方のエネルギ
ーによりラジカルを発生し、（Ａ）特定アルカリ可溶性
高分子、及び、所望により併用される後述する（Ｄ）重
合性の不飽和基を有するラジカル重合性化合物の重合を
開始、促進させる化合物を指す。ここで、「ヒートモー
ド露光」とは、前述した本発明における定義に従うもの
とする。 【０１０２】ラジカル開始剤としては、公知の光重合開
始剤、熱重合開始剤などを選択して使用することがで
き、例えば、オニウム塩、トリハロメチル基を有するト
リアジン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド
化合物、キノンジアジドなどが挙げられるが、オニウム
塩が高感度であり、好ましい。 【０１０３】本発明において好適に用いられるラジカル
を発生する化合物としては、オニウム塩が挙げられ、具
体的には、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニ
ウム塩である。これらのオニウム塩は酸発生剤としての
機能も有するが、後述するラジカル重合性化合物と併用
する際には、ラジカル重合の開始剤として機能する。本
発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般
式（Ｉ）〜（III）で表されるオニウム塩である。 【０１０４】 【化２３】 【０１０５】式（Ｉ）中、Ａｒ¹¹とＡｒ¹²は、それぞれ
独立に、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以
下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有す
る場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニト
ロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数
１２個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下
のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ^11-はハロゲンイ
オン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフル
オロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオ
ン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対
イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフ
ルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸
イオンである。 【０１０６】式（II）中、Ａｒ²¹は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下
のアルコキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数１
２個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数１２個以
下のジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ^21-はＺ^11-と
同義の対イオンを表す。 【０１０７】式（III）中、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³は、そ
れぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有してい
ても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下
のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Ｚ^31-はＺ^11-と同義の対イオン
を表す。 【０１０８】本発明において、好適に用いることのでき
るオニウム塩の具体例としては、本願出願人が先に提案
した特願平１１−３１０６２３号明細書の段落番号［０
０３０］〜［００３３］に記載されたものや特願２００
０−１６０３２３号明細書の段落番号［００１５］〜
［００４６］に記載されたものを挙げることができる。 【０１０９】本発明において用いられるオニウム塩は、
極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、
さらに３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版
原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。 【０１１０】これらのオニウム塩は、記録層塗布液の全
固形分に対し０．１〜５０質量％、好ましくは０．５〜
３０質量％、特に好ましくは１〜２０質量％の割合で記
録層塗布液中に添加することができる。添加量が０．１
質量％未満であると感度が低くなり、また５０質量％を
越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらのオ
ニウム塩は、１種のみを用いても良いし、２種以上を併
用しても良い。また、これらのオニウム塩は他の成分と
同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加
してもよい。 【０１１１】〔（Ｄ）ラジカル重合性化合物〕本発明の
画像記録材料には、感度、画像形成性を向上させる目的
で、ラジカル重合性化合物を併用することができる。こ
こで、併用可能なラジカル重合性化合物は、少なくとも
一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合
性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくと
も１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれ
る。このような化合物群は当該産業分野において広く知
られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定
なく用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プ
レポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、
又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化
学的形態をもつ。 【０１１２】モノマー及びその共重合体の例としては、
不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸など）や、そのエステル類、アミド類があげられ、
好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキ
シル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を
有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能も
しくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反
応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮
合反応物等も好適に使用される。 【０１１３】また、イソシアナート基やエポキシ基等の
親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又は
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類及びチオール類との付加反応物、さらに、ハロゲ
ン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多
官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との置換
反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽
和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン
等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。 【０１１４】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体
例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テ
トラメチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシ
プロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ
（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリ
エステルアクリレートオリゴマー等がある。 【０１１５】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。 【０１１６】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。 【０１１７】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。 【０１１８】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。 【０１１９】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。 【０１２０】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開
昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４
１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。 【０１２１】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。 【０１２２】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。 【０１２３】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式（IV）で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。 【０１２４】 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ³⁴）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ³⁵）ＯＨ 一般式（IV） 【０１２５】一般式（IV）中、Ｒ³⁴及びＲ³⁵は、それぞ
れ独立に水素原子又はメチル基を示す。 【０１２６】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチ
レンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適
である。 【０１２７】さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特
開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。 【０１２８】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１
９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹
介されているものも使用することができる。 【０１２９】ラジカル重合性化合物は単独で用いても２
種以上併用してもよい。これらのラジカル重合性化合物
について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか
併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細
は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設
定できる。 【０１３０】画像記録材料中のラジカル重合性化合物の
配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多
すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、画像
記録層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、記録
層成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液か
らの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点か
ら、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの
場合、組成物全成分に対して５〜８０質量％、好ましく
は２０〜７５質量％である。 【０１３１】本発明において、前記（Ａ）特定アルカリ
可溶性高分子と、（Ｄ）ラジカル重合性化合物とを併用
する場合、（Ａ）成分と（Ｄ）成分の比率は、質量比
で、１：０．０５〜１：３の範囲で併用され、好ましく
は１：０．１〜１：２の範囲、さらに好ましくは１：
０．３〜１：１．５の範囲である。 【０１３２】ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に
対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変
化、表面接着性等の観点から、適切な構造、配合、添加
量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上
塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。 【０１３３】〔その他の成分〕本発明の画像記録材料に
は、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添
加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染
料を画像の着色剤として使用することができる。具体的
には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０
３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイ
ルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラッ
クＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０
５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、
マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブル
ー（ＣＩ５２０１５）等、及び特開昭６２−２９３２４
７号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。 【０１３４】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、記録層塗布液全固形分に対し、
０．０１〜１０質量％の割合である。 【０１３５】また、本発明においては、画像記録材料の
調製中あるいは保存中においてラジカル重合性化合物の
不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添
加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハ
イドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビ
ス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニ
トロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム
塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物
の質量に対して約０．０１質量％〜約５質量％が好まし
い。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止する
ためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘
導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で記録層の表面
に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全
組成物の約０．１質量％〜約１０質量％が好ましい。 【０１３６】また、本発明における画像記録材料は、主
として平版印刷版原版の画像記録層を形成するために用
いられるが、そのような画像記録層の現像条件に対する
処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０
号や特開平３−２０８５１４号に記載されているような
非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号、特
開平４−１３１４９号に記載されているような両性界面
活性剤を添加することができる。 【０１３７】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。 【０１３８】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録
層塗布液中に占める割合は、０．０５〜１５質量％が好
ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。 【０１３９】さらに、本発明に係る記録層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。 【０１４０】本発明の画像記録材料を使用して平版印刷
版原版を製造するには、通常、画像記録材料の構成成分
を塗布液に必要な各成分とともにを溶媒に溶かして、適
当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メ
トキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテ
ート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメト
キシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テト
ラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエ
ン、水等を挙げることができるがこれに限定されるもの
ではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用され
る。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度
は、好ましくは１〜５０質量％である。 【０１４１】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記
録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、平
版印刷版原版についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ
／ｍ ²が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見か
けの感度は大になるが、画像記録層の皮膜特性は低下す
る。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。 【０１４２】本発明に係る記録層塗布液には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７
０９５０号に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、全記録層
の材料固形分中０．０１〜１質量％、さらに好ましくは
０．０５〜０．５質量％である。 【０１４３】本発明の画像記録材料は、主として、平版
印刷版原版の記録層として使用される。前記平版印刷版
原版は、少なくとも、支持体と、記録層とを有し、必要
に応じて、更に保護層を有する。以下、前記平版印刷版
原版の構成要素である支持体及び保護層について説明す
る。 【０１４４】〔支持体〕本発明の画像記録材料を用いて
平版印刷版原版を形成する場合に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、
例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた
紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プ
ラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等）等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板
などの単一成分のシートであっても、２以上の材料の積
層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミ
ネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィル
ム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が
含まれる。 【０１４５】前記支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。前記アルミニウム板の厚みは、
およそ０．１〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５〜
０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２〜０．３ｍｍであ
る。 【０１４６】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理
が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることがで
きる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝
酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。ま
た、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているよ
うに両者を組み合わせた方法も利用することができる。 【０１４７】このように粗面化されたアルミニウム板
は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を
経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化
処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処
理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成
する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リ
ン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。 【０１４８】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解
時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は１．０ｇ／ｍ²以上が好適であるが、より好
ましくは２．０〜６．０ｇ／ｍ²の範囲である。陽極酸
化被膜が１．０ｇ／ｍ²未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は
平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電
気力線の裏回りにより、裏面にも０．０１〜３ｇ／ｍ²
の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。 【０１４９】支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化
処理の後に施されるものであり、従来より知られている
処理法が用いられる。このような親水化処理としては、
米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４
６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７
３４号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩
（例えば、珪酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法
においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理
されるか、又は電解処理される。他に特公昭３６−２２
０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５
３，４６１号、同第４，６８９，２７２号公報に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等
が用いられる。これらの中で、本発明において特に好ま
しい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理につい
て、以下に説明する。 【０１５０】上述の如き処理を施したアルミニウム板の
陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が０．１〜３０質
量％、好ましくは０．５〜１０質量％であり、２５℃で
のｐＨが１０〜１３である水溶液に、例えば１５〜８０
℃で０．５〜１２０秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水
溶液のｐＨが１０より低いと液はゲル化し１３．０より
高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられ
るアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金
属珪酸塩水溶液のｐＨを高くするために使用される水酸
化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ
土類金属塩もしくは第ＩＶＢ族金属塩を配合してもよ
い。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝
酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムの
ような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚
酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVＢ
族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化
チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四
ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニ
ウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムな
どを挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしく
は、第IVＢ族金属塩は単独又は２以上組み合わせて使用
することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は
０．０１〜１０質量％であり、更に好ましい範囲は０．
０５〜５．０質量％である。珪酸塩処理により、アルミ
ニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の
際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が
向上する。 【０１５１】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開
平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特
開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合
物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物から
なる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のう
ち、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（Ｏ
Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄などの珪素のアルコキシ
化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化
物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。 【０１５２】〔保護層〕本発明の画像記録材料を平版印
刷版原版に用いる場合は、通常、露光を大気中で行うた
め、光重合性組成物を含む画像記録層の上に、さらに、
保護層を設ける事が好ましく、この様な保護層に望まれ
る特性としては、酸素等の低分子化合物の透過性が低
く、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着
性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる
ことであり、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リアクリル酸などのような比較的結晶性に優れた水溶性
高分子化合物を用いることが一般的である。 【０１５３】本発明の画像記録材料においては、皮膜形
成樹脂として、塗膜形成後の膜中溶存酸素量が低く、更
に外部からの酸素遮断性が高い前記特定のポリウレタン
樹脂を用いているため、酸素などの重合阻害による画像
形成性の低下を抑制し得るという利点を有するため、必
ずしもこのような保護層を備えなくてもよいが、さらに
外部からの酸素遮断性を高め、画像形成性、特に、画像
強度を高める目的で上記保護層を備えてもよい。 【０１５４】〔平版印刷版原版による印刷〕上述された
支持体表面に、本発明の画像記録材料を記録層として作
製した平版印刷版原版は、赤外線レーザで記録すること
ができる。また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる
熱的な記録も可能である。本発明においては、波長７６
０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザ
及び半導体レーザにより画像露光されることが好まし
い。 【０１５５】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液
にて現像される。 【０１５６】現像液として、アルカリ性水溶液を用いる
場合、本発明の画像記録材料の現像液及び補充液として
は、従来公知のアルカリ性水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が
挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を組み合わ
せて用いられる。 【０１５７】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じもの又は、現像液よりもアルカリ強
度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによっ
て、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、
多量の平版印刷版原版を処理できることが知られてい
る。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用され
る。 【０１５８】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。 【０１５９】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水
素酸のナトリウム塩及びカリウム塩等の無機塩系還元
剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加え
ることもできる。 【０１６０】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。 【０１６１】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。 【０１６２】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１
−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３
１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。 【０１６３】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ²
（乾燥質量）が適当である。整面液が塗布された平版印
刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッ
サー（例えば、富士写真フイルム（株）より販売されて
いるバーニングプロセッサー：ＢＰ−１３００）等で高
温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像
を形成している成分の種類にもよるが、１８０〜３００
℃の範囲で１〜２０分の範囲が好ましい。 【０１６４】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。 【０１６５】このような処理によって、本発明の画像記
録材料より得られた平版印刷版はオフセット印刷機等に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。 【０１６６】 【実施例】以下、本発明を合成例、実施例及び比較例に
よって更に詳細に説明するが、本発明はこれらによって
制限されるものではない。 【０１６７】〔実施例１〜６、比較例１〜３〕 （支持体の作成）９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆ
ｅ ０．３０％、Ｓｉ ０．１０％、Ｔｉ ０．０２
％、Ｃｕ ０．０１３％を含むＪＩＳ Ａ１０５０合金
の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理に
は、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱
ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこな
った。鋳造法はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５０
０ｍｍの鋳塊を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物
が粗大化してしまわないように５５０℃で１０時間均質
化処理を行った。次いで、４００℃で熱間圧延し、連続
焼鈍炉中で５００℃、６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延
を行って、板圧０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とし
た。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延
後の中心線平均表面粗さＲａを０．２μｍに制御した。
その後、平面性を向上させるためにテンションレベラー
にかけた。 【０１６８】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒
間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間
中和、スマット除去処理を行った。 【０１６９】次いで、支持体と記録層の密着性を良好に
し、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。１％
の硝酸と０．５％の硝酸アルミを含有する水溶液を４５
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度２０Ａ／ｄｍ²、デューティー
比１：１の交番波形でアノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ
²を与えることで電解砂目立てを行った。その後１０％
アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間エッチング処
理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、ス
マット除去処理を行った。 【０１７０】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより１４Ａ／ｄｍ²の直流で電解処理を行うこと
で２．５ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作成した。 【０１７１】その後、印刷版非画像部としての親水性を
確保するため、シリケート処理を行った。処理は３号珪
酸ソーダ１．５％水溶液を７０℃に保ちアルミウェブの
接触時間が１５秒となるよう通搬し、さらに水洗した。
Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ ²であった。以上により作
成した支持体のＲａ（中心線表面粗さ）は０．２５μｍ
であった。 【０１７２】（記録層の形成）下記記録層塗布液１を調
製し、上記のようにして得られたアルミニウム支持体に
ワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１
５℃で４５秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原
版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ²の
範囲内であった。 【０１７３】 ＜記録層塗布液１＞ ・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表５に記載の化合物、表５に記載の量 ） ・赤外線吸収剤「ＩＲ−１」：（Ｂ）成分 ０．１０ｇ ・ラジカル開始剤「Ｓ−１」：（Ｃ）成分 ０．４５ｇ ・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表５に記載の化合物、表５に記載の量 ） ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０ｌｇ （メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製） ・ｐ−メトキシフェノール ０．００１ｇ ・メチルエチルケトン ９．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ 【０１７４】 【表５】 【０１７５】なお、本発明における実施例に使用するア
ルカリ可溶性高分子は、前記合成例により得られた
（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子であり、本発明におけ
る比較例に使用したアルカリ可溶性高分子の構成単位に
ついては下記に示す。 【０１７６】 【化２４】【０１７７】同様に、本発明における実施例および比較
例に使用した（Ｂ）赤外線吸収剤の具体例を以下に示
す。 【０１７８】 【化２５】 【０１７９】同様に、本発明における実施例および比較
例に使用した（Ｃ）ラジカル開始剤の具体例を以下に示
す。 【０１８０】 【化２６】 【０１８１】同様に、本発明における実施例および比較
例に使用した（Ｄ）ラジカル重合性化合物の具体例を以
下に示す。 【０１８２】 【化２７】 【０１８３】（露光）得られた前期各平版印刷版原版
を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅ
ｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出
力６．５Ｗ、外面ドラム回転数８１ｒｐｍ、版面エネル
ギー１８８ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐｉの条件
で露光した。 【０１８４】（現像処理）露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処
理した。現像液は、下記（Ｄ−１）を仕込み液、下記
（Ｄ−２）を補充液に用いた。現像欲浴の温度は３０
℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自
動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となる
ように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシ
ャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水
希釈液を用いた。 ＜現像液（Ｄ−１）＞ ・水酸化カリウム ３ｇ ・炭酸水素カリウム １ｇ ・炭酸カリウム ２ｇ ・亜硫酸ナトリウム １ｇ ・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル １５０ｇ ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 ５０ｇ ・エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩 ８ｇ ・水 ７８５ｇ 【０１８５】 ＜現像液（Ｄ−２）＞ ・水酸化カリウム ６ｇ ・炭酸カリウム ２ｇ ・亜硫酸ナトリウム １ｇ ・ポリエチレングリコールモノナフテルエーテル １５０ｇ ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 ５０ｇ ・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム塩 ４ｇ ・シリコンＴＳＡ−７３１ ０．１ｇ （東芝シリコーン社（株）製） ・水 ７８６．９ｇ 【０１８６】〔耐刷性の評価〕次に、小森コーポレーシ
ョン（株）製印刷機リスロンを用いて印刷した。この
際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷で
きるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前
記表５に併記する。 【０１８７】〔耐キズ性の評価〕上記記録層を塗布した
平版印刷版原版の耐キズ性についての評価を行った。機
器としては、ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ
ＴＥＳＴＥＲ ＨＥＩＤＯＮ−１４を用い、引っ掻き針
として０．４ｍｍＲダイヤ針を用い、針上の荷重を変化
させながら、４００ｍｍ／ｍｉｎの速さで記録層表面を
引っ掻いた。引っ掻いた後の原版を上述の現像処理を行
い、残膜が目視で観測された荷重の大きさを評価した。
荷重が大きいほど、キズ残膜が生じにくく、耐キズ性に
優れることになる。結果を前記表５に併記する。以上、
表５に明らかな様に、本発明の画像記録材料を記録層と
して用いた実施例１〜６の平版印刷版原版は、本発明の
範囲外の公知のアルカリ可溶性高分子を用いた比較例１
〜３に比べ、優れた耐刷性および耐キズ性を達成してい
ることがわかる。また、いずれの試料にも、露光時のア
ブレーションは見られなかった。 【０１８８】〔実施例７〜１０、比較例４〜５〕実施例
１〜６及び比較例１〜３で用いたのと同様のアルミニウ
ム支持体上に、下記に示す下塗り層用塗布液を塗布し、
８０℃雰囲気下で３０秒間乾燥した。乾燥塗布量は、１
０ｍｇ／ｍ²であった。 （下塗り層用塗布液） 下記組成の化合物を混合し、下塗り層用塗布液を調製した。 ・２−アミノエチルホスホン酸 ０．５ｇ ・メタノール ４０ｇ ・純水 ６０ｇ 【０１８９】（記録層の形成）下記に示す記録層塗布液
２を前記下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバ
ーで塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾
燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、１．
２〜１．３ｇ／ｍ²の範囲内であった。 【０１９０】 ＜記録層塗布液２＞ ・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表６に記載の化合物、表６に記載の量 ） ・赤外線吸収剤「ＩＲ−２」：（Ｂ）成分 ０．０８ｇ ・ラジカル開始剤「Ｓ−２」：（Ｃ）成分 ０．３０ｇ ・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表６に記載の化合物、表６に記載の量 ） ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製） ・Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム０．００１ｇ ・メチルエチルケトン ９．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ 【０１９１】 【表６】【０１９２】（露光）得られた平版印刷版原版を、水冷
式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔ
ｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力６．５
Ｗ、外面ドラム回転数８１ｒｐｍ、版面エネルギー１８
８ｍＪ／ｃｍ²、解像度、解像度２４００ｄｐｉの条件
で露光した。 【０１９３】（現像処理）露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処
理した。現像液は、仕込み液、補充液共に富士写真フイ
ルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液を用いた。現像
欲浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。こ
の際、補充液は自動現像機の現像浴中の現像液の電気伝
導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。
また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製Ｆ
Ｎ−６の１：１水希釈液を用いた。 【０１９４】〔耐刷性および汚れ性の評価〕得られた平
版印刷版原版を、それぞれ６０℃で３日間保存、及び、
４５℃、湿度７５％ＲＨで３日間保存して強制経時させ
た後、前記実施例１〜６および前記比較例１〜３と同様
の印刷を行い、耐刷性及び汚れ性を評価した。。結果を
前記表６に併記する。表６に明らかな様に、本発明の画
像記録材料を記録層として用いた実施例７〜１０の平版
印刷版原版は、本発明の範囲外の公知のアルカリ可溶性
高分子を用いた比較例４〜５に比べ、非画像部の汚れも
なく、耐刷性に優れ、また、高温、高湿環境下で保存し
た後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安
定性に優れていることがわかった。 【０１９５】〔実施例１１〜１５、比較例６〜７〕実施
例１〜６及び比較例１〜３で用いたのと同様のアルミニ
ウム支持体上に、下記記録層塗布液３を調製し、上記ア
ルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風
式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平版印刷版
原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ²
の範囲内であった。 ＜記録層塗布液３＞ ・高分子化合物 （表７に記載の化合物、表７に記載の量） ・赤外線吸収剤「ＩＲ−３」 ０．１０ｇ ・ラジカル開始剤「Ｓ−１」 ０．５０ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ９．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ 【０１９６】 【表７】【０１９７】（露光）得られた平版印刷版原版を、水冷
式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔ
ｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、
外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面エネルギー１００
ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光し
た。 【０１９８】（現像処理）露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイ
ルム（株）製ＤＮ−３Ｃの１：１水希釈液を用いた。現
像欲浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャー
は、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈
液を用いた。 【０１９９】〔耐刷性および耐キズ性の評価〕次に、ハ
イデルベルクＳＯＲ−ＫＺ印刷機を用いて印刷した。こ
の際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷
できるかを計測し、耐刷性を評価した。また、実施例１
〜６及び比較例１〜３と同様に耐キズ性について評価を
行った。以上、表７に明らかな様に、本発明の画像記録
材料を記録層として用いた実施例１１〜１５の平版印刷
版原版は、本発明の範囲外の公知のアルカリ可溶性高分
子を用いた比較例６〜７に比べ、優れた耐刷性および耐
キズ性を達成していることがわかる。 【０２００】 【発明の効果】本発明によれば、赤外線を放射する固体
レーザおよび半導体レーザを用いて記録することによ
り、コンピューター等のデジタルデータから直接可能で
あり、平版印刷版原版用の記録層に用いた場合、アブレ
ーションを起こすことなく、高強度で高画質の画像を形
成することができ、優れた耐刷性を達成し得るネガ型画
像記録材料を提供することができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 （Ａ）下記一般式（１）、（２）、
   （３）で表される構造単位のうち少なくとも１種を、
   ０．１モル％以上、３０モル％未満含むことを特徴とす
   る、水又はアルカリ性水溶液に可溶或いは膨潤する高分
   子化合物と、（Ｂ）光熱変換剤と、 （Ｃ）（Ｂ）光熱変換剤が吸収する事のできる波長の光
   のヒートモード露光によりラジカルを生成する化合物
   と、 を含有し、ヒートモード露光により画像形成可能なこと
   を特徴とするヒートモード対応ネガ型画像記録材料。 【化１】 （式中、Ａ¹、Ａ²、Ａ³はそれぞれ独立に酸素原子、硫
   黄原子、−Ｎ（Ｒ²¹）−を表し、Ｒ²¹は置換基を有して
   も良いアルキル基を表す。Ｇ¹、Ｇ²、Ｇ³は、それぞれ
   独立に２価の有機基を表す。Ｘ、Ｚは、それぞれ独立に
   酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ²²）−を表し、Ｒ²²は置
   換基を有しても良いアルキル基を表す。Ｙは、酸素原
   子、硫黄原子、置換基を有しても良いフェニレン基、−
   Ｎ（Ｒ²³）−を表し、Ｒ²³は置換基を有しても良いアル
   キル基を表す。Ｒ¹〜Ｒ²⁰は、それぞれ独立に１価の有
   機基を表す。）