JP2003262671A - シンチレータパネルおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属反射膜のシンチレータ成分による劣化を
さらに効果的に抑制することが可能なシンチレータパネ
ルおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 基板１０上に設けられた金属反射膜１１
を覆い、さらに基板１０の側壁を覆って少なくとも裏面
の縁にまで達している保護有機膜１２を設け、その上の
金属反射膜１１部分にシンチレータ１３を蒸着により選
択的に形成した後に、耐湿保護膜１４でシンチレータ１
３と選択領域外に付着したシンチレータ成分ごと覆う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、医療用、工業用の
Ｘ線撮影等に用いられるシンチレータパネルとその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、医療、工業用のＸ線撮影では、Ｘ
線感光フィルムが用いられてきたが、利便性や撮影結果
の保存性の面から放射線検出器を用いた放射線イメージ
ングシステムが普及してきている。このような放射線イ
メージングシステムにおいては、放射線検出器により２
次元の放射線による画素データを電気信号として取得
し、この信号を処理装置により処理してモニタ上に表示
している。

【０００３】代表的な放射線検出器としては、アルミニ
ウム、ガラス、溶融石英等の基板上にシンチレータを形
成してシンチレータパネルを形成し、これと撮像素子と
を貼り合わせた構造を有する放射線検出器が存在する。
この種の放射線検出器においては、基板側から入射する
放射線をシンチレータで光に変換して撮像素子で検出し
ている（特公平７−２１５６０号公報参照）。

【０００４】さらに、シンチレータパネルの光出力を増
大させるために、図１０に示されるように、シンチレー
タ１３の光出力面と反対の面（ここでは、基板１０側）
に金属反射膜１１を設け、この金属反射膜１１がシンチ
レータ１３と接触することでシンチレータ１３成分によ
る変質を防止するために、金属反射膜１１を保護膜１２
で覆った構造のシンチレータパネル１ｘがある（特許第
３１２６７１５号）。そして、シンチレータ１３の防湿
のため防湿膜１４でシンチレータ１３が被覆されてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、この構
造で大画面のシンチレータパネル１ｘを作成した際に、
まれに金属反射膜１１の劣化が発生することから、この
劣化を効果的に抑制する手法を検討した結果、本発明に
至った。すなわち、本発明は、金属反射膜のシンチレー
タ成分による劣化をさらに効果的に抑制することが可能
なシンチレータパネルおよびその製造方法を提供するこ
とを課題としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは金属反射膜
の劣化が発生したシンチレータパネルを詳細に調べた結
果、以下の知見を得た。シンチレータ１３を蒸着によっ
て形成する際に、保護膜１２で覆われている金属反射膜
１１部分上にのみシンチレータ１３が形成されるように
マスク等を用いたとしても、マスクを回り込むなどして
シンチレータ成分が保護膜１２で覆われていない基板１
０の側壁等へと付着することがある。付着したシンチレ
ータ成分は、保護膜１２と基板１０との間へ浸透して内
部の金属反射膜１１へと達し、金属反射膜１１を腐食さ
せてしまう。

【０００７】そこで、このような蒸着時に付着しうるシ
ンチレータ成分の金属反射膜への到達を確実に抑制する
ため、本発明に係るシンチレータパネルは、放射線透過
性の基板と、この基板の一方の表面上に形成された金属
反射膜と、この金属反射膜を覆うとともに、基板の少な
くとも側壁まで覆っている保護有機膜と、金属反射膜上
の保護有機膜上に蒸着によって多数の針状結晶として形
成されたアルカリハライド系のシンチレータと、このシ
ンチレータを覆う防湿有機膜と、を備えており、保護有
機膜は、シンチレータ蒸着時におけるシンチレータ成分
の基板および金属反射膜への付着を防止し、防湿有機膜
は、保護有機膜上に付着したシンチレータ成分を含めて
覆っていることを特徴とする。

【０００８】一方、本発明に係るシンチレータパネルの
製造方法は、放射線透過性の基板の一方の表面上に金属
反射膜を形成する工程と、この金属反射膜を含めて基板
の少なくとも一方の表面からその側壁までを覆う保護有
機膜を形成する工程と、保護有機膜により、金属反射膜
および基板へのシンチレータ成分の付着を防止しつつ、
実質的に金属反射膜上の保護有機膜表面の所定部分のみ
にアルカリハライド系のシンチレータ成分を蒸着するこ
とで多数の針状結晶として成長させてシンチレータを形
成する工程と、シンチレータおよび所定部分外に付着し
たシンチレータ成分を含めて覆う防湿有機膜を形成する
工程と、を備えることを特徴とする。

【０００９】このように、金属反射膜を覆う保護有機膜
が基板の金属反射膜形成面から基板側壁までを覆ってい
ることで、保護有機膜が基板により確実に密着し、基板
と保護有機膜との間にシンチレータ成分が浸透しうる隙
間の形成を確実に抑制できる。そして、シンチレータパ
ネルを大型化するとともに、有効画像面積を大型化し
て、金属反射膜が基板の一方の表面のほぼ全面に形成さ
れているような場合でも保護有機膜が側壁で基板に密着
することで、保護有機膜の周縁部からのはがれを確実に
防止できる。有機膜を用いることで基板表面から側壁に
かけて均一な膜の形成が容易である。蒸着時にマスク等
を回り込むシンチレータ成分も基板の裏面（シンチレー
タ形成面とは反対の面）まで達することはなく、付着す
るとしても保護有機膜上にとどまる。そして、防湿有機
膜により、シンチレータおよび保護有機膜上に付着した
シンチレータ成分を被覆することで保護有機膜上に付着
したシンチレータ成分が他へ移動することがない。この
ため、金属反射膜へのシンチレータ成分の浸透を確実に
防止できる。

【００１０】この保護有機膜は、基板の他方の表面（裏
面）までを実質的に覆っていることが好ましい。このよ
うにすると、保護有機膜のはがれを防止することができ
るとともに、シンチレータ成分や水分の保護有機膜と基
板との隙間への浸透をさらに確実に防止できる。

【００１１】また、保護有機膜は、気相成長により形成
される有機膜であることが好ましい。気相成長を用いて
有機膜を形成することで、金属反射膜上から基板の側壁
に達する均一な膜を容易かつ安定して製造することがで
きる。

【００１２】あるいは、保護有機膜は、金属反射膜側の
第１の保護有機膜と、基板側の第２の保護有機膜からな
り、第１の保護有機膜の周縁部が第２の保護有機膜と金
属反射膜の周縁部かその外側で積層されていてもよい。

【００１３】このような保護有機膜は、（１）金属反射
膜上を覆うとともに、基板のその周囲に露出している表
面まで少なくとも覆う第１の保護有機膜を形成してか
ら、この第１の保護有機膜の周縁部から基板の側壁まで
を覆う枠状の第２の保護有機膜を形成するか、（２）基
板の側壁から金属反射膜の周縁部までを覆う枠状の第２
の保護有機膜を形成してから、金属反射膜上を覆い、金
属反射膜の周縁部で第２の保護有機膜と積層される第１
の保護有機膜を形成する、ことで形成することができ
る。

【００１４】このように基板の表面側で金属反射膜を主
に覆う第１の保護有機膜と、主に基板の側壁部を覆う第
２の保護有機膜を設け、金属反射膜の周縁部またはその
外側でこれらの保護有機膜を積層することで塗布等によ
って有機膜を形成する場合に、金属反射膜から基板側壁
までの遮蔽性を確実なものとすることができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の好適な実施の形態について詳細に説明する。説明の理
解を容易にするため、各図面において同一の構成要素に
対しては可能な限り同一の参照番号を附し、重複する説
明は省略する。なお、各図面は説明の理解を容易にする
ため、誇張ないし省略している部分がありその寸法比は
必ずしも実際のそれとは一致しない。

【００１６】図１は、本発明に係るシンチレータパネル
の第１の実施形態を示す断面構成図である。このシンチ
レータパネル１は、放射線透過性の基板１０（ガラス、
アモルファスカーボンその他の炭素を主成分とする材料
からなる）の一方の表面上に、金属反射膜１１が形成さ
れている。この金属反射膜１１はＡｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ中の材料からなる。この金
属反射膜１１上から基板１０を包み込むような形で保護
有機膜１２が形成されている。この保護有機膜１２は、
例えば、ポリパラキシリレンからなる。金属反射膜１１
と保護有機膜１２の積層された部分の表面上には、基板
１０を透過して入射した放射線を可視光へと変換するシ
ンチレータ１３が形成されている。この、シンチレータ
１３には、例えば、ＴｌドープのＣｓＩが用いられてい
る。ＣｓＩは多数の針状結晶が林立した構造を有してい
る。このシンチレータ１３は、基板１０と共にポリパラ
キシリレンからなる防湿有機膜１４で覆われている。

【００１７】次に、このシンチレータパネル１の製造工
程について図１〜図３を参照して説明する。まず、矩形
又は円形の基板１０（厚さ１ｍｍ）を用意し（図２
（ａ）参照）、表面に真空蒸着法により金属反射膜１１
を１５０ｎｍの厚さで形成する（図２（ｂ）参照）。

【００１８】次に、金属反射膜１１上にＣＶＤ法により
ポリパラキシリレンからなる保護有機膜１２を形成す
る。すなわち、金属反射膜１１が蒸着された基板１０を
ＣＶＤ装置に入れ、防湿有機膜１２を１０μｍの厚さで
基板１０の表面全体に成膜する。これにより金属反射膜
１１を覆うととともに、基板１０の基板反射膜１１の周
囲から側壁、さらには裏面までの全体を実質的に覆うポ
リパラキシリレン製の保護有機膜１２が形成される（図
２（ｃ）参照）。この有機膜の製造方法についてはWO99
/66351号国際公開公報に詳述されている。

【００１９】次に、金属反射膜１１上の保護有機膜１２
表面の所定の領域にＴｌをドープしたＣｓＩの針状結晶
を多数、蒸着法によって成長（堆積）させてシンチレー
タ１３を２５０μｍの厚さで形成する（図２（ｄ）、図
３参照）。この蒸着に際しては、保護有機膜１２で覆わ
れた基板１０を蒸着ホルダー２のキャビティ部２０に載
置し、蒸着ホルダー２に設けられた開口２１により蒸着
室４側にシンチレータ１３を形成したい部分（上記所定
の領域）のみを露出させることで、シンチレータ１３を
実質的に所定の領域に選択的に形成することができる。
開口２１を通過したシンチレータ成分、つまり、ＣｓＩ
成分の一部が保護有機膜１２とキャビティ部２０床面と
の隙間を通過して基板１０の側壁上の保護有機膜１２に
付着することが考えられるが、基板１０の裏面側の保護
有機膜１２上まで達することはほとんどない。基板１０
の裏面側にカバープレート３を配置して、基板１０の裏
面を覆うと、この裏面への付着は完全に予防できるので
カバープレート３を配置するとより好ましい。

【００２０】このシンチレータ１３を形成しているＣｓ
Ｉは、吸湿性が高く露出したままにしておくと空気中の
水蒸気を吸湿して潮解してしまうため、これを防止する
ためにさらにポリパラキシリレンからなる防湿有機膜１
４（厚さ１０μｍ）でシンチレータ１３を覆い、図１に
示されるシンチレータパネル１を完成させる。この防湿
有機膜１４は、保護有機膜１２と同じ製法で形成するこ
とが可能である。

【００２１】本実施形態のシンチレータパネル１では、
金属反射膜１１を覆う保護有機膜１２が金属反射膜１１
の表面のみならず、基板１０の金属反射膜１１の周囲か
らその側壁部分、さらには裏面までを覆っているため、
たとえ、開口２１を通過したシンチレータ成分が保護有
機膜１２上に付着した場合でも、このシンチレータ成分
が保護有機膜１２と基板１０の間に浸透して金属反射膜
１１へと到達するのを確実に抑制することができる。こ
のため、金属反射膜１１を劣化を抑制して、その耐久性
を向上させることが可能である。さらに、保護有機膜１
２のはがれを確実に防止できる。

【００２２】このシンチレータパネル１は、図１に示さ
れるように放射線入射側と反対の側にシンチレータ１３
を向けて配置され、シンチレータ１３側に撮像素子、テ
レビカメラ等を配置して使用される。放射線は矢印Ａ方
向からシンチレータパネル１に入射し、耐湿保護膜１
４、保護有機膜１２、基板１０、金属反射膜１１、保護
有機膜１２の順で透過して、シンチレータ１３に到達
し、ここでシンチレータ１３に吸収されて、可視光が発
せられる。発せられた可視光のうち基板１０側へ向かっ
た光は透明な保護有機膜１２を通過した後に金属反射膜
１１で反射されて、シンチレータ１３側へと戻される。
この結果、シンチレータ１３から発せられた光の大部分
が耐湿保護膜１４を通過して矢印Ｂ方向へ射出される。
図示していない撮像素子、テレビカメラでこの光画像を
撮像することにより、放射線画像に相当する画像信号を
得ることができる。

【００２３】この保護有機膜１２は、裏面全体まで覆っ
ている必要はなく、図４に示される第２の実施形態の保
護有機膜１２ａのように側壁部分を覆い、裏面側の縁ま
で達していれば足りる。この場合、シンチレータ１３の
蒸着時に露出している基板１０の裏面部分にシンチレー
タ成分が付着したとしても、保護有機膜１２ａが基板１
０の側壁に密着しているため、保護有機膜１２ａと基板
１０との間を浸透することは難しく、また、シンチレー
タ成分は、その後の工程で耐湿有機膜１４によって覆わ
れて封入されるため、その後は移動することはないた
め、金属反射膜１１の劣化を抑制できる。

【００２４】図５（ａ）（ｂ）は、本発明に係るシンチ
レータパネルの第３の実施形態とその変形例をそれぞれ
示す断面図である。これらの実施形態では、保護有機膜
１２ｂ、１２ｂ’としてポリイミドからなる膜を用いて
いる点が第１、第２の実施形態と相違する。

【００２５】このポリイミドからなる保護有機膜１２
ｂ、１２ｂ’は、図２（ｂ）に示される金属反射膜１１
の製造工程の後で、金属反射膜１１上から基板１０の側
壁にかけて、ポリイミド樹脂を一定の厚さ（１０μｍ）
で塗布し、硬化させることで製造することができる。

【００２６】ポリイミド樹脂により保護有機膜を形成す
る場合も、図５（ａ）に示されるように、基板１０の側
壁の裏面との縁まで達して保護有機膜１２ｂを形成する
必要があり、図５（ｂ）に示されるように保護有機膜１
２ｂ’を裏面にかかる形で形成することがより好まし
い。

【００２７】図６は、本発明に係るシンチレータパネル
の第４の実施形態を示す断面図である。この実施形態も
第３の実施形態と同様に、ポリイミド製の保護有機膜１
２ｃを用いているが、保護有機膜１２ｃが基板１０の側
壁を主に覆う額縁（枠）状の第２の保護有機膜１２１
と、金属反射膜１１を主に覆う略平面状の第１の保護有
機膜１２０の二つの部分からなることが相違する。

【００２８】ここで、第２の保護有機膜１２１は、金属
反射膜１１の周縁部から基板１０の側壁にかけて形成さ
れており、図６（ａ）に示されるように、基板１０の裏
面まで達していると好ましいが、図６（ｂ）に示される
ように、基板１０の裏面の縁まで達していればよい。

【００２９】次に、このシンチレータパネル１ｃの製造
方法を図２、図６、図７を参照して説明する。金属反射
膜１１を製造するまでは、図２（ａ）、（ｂ）に示され
るシンチレータパネル１の製造工程と同一である。この
後で、基板１０の側壁およびその近傍の基板表面に金属
反射膜１１の周縁部にかかる形でポリイミド樹脂を塗布
して硬化させることにより、枠状の第２の保護有機膜１
２１を形成する（図７（ａ）参照）。樹脂を塗布するの
ではなく、テープ状、フィルム状に成形した樹脂を張り
付けることで第２の保護有機膜１２１を形成してもよ
い。

【００３０】次に、金属反射膜１１上およびその周囲の
第２の保護有機膜１２１上にポリイミド樹脂を塗布して
硬化させることにより、金属反射膜１１を覆う平面状の
第１の保護有機膜１２０を形成する（図７（ｂ）参
照）。その後に、図２（ｄ）の工程と同様に、金属反射
膜１１上の保護有機膜１２ｃ（実際には、第１の保護有
機膜１２０）の表面の所定の領域にＴｌをドープしたＣ
ｓＩの針状結晶を多数、蒸着法によって成長（堆積）さ
せてシンチレータ１３を形成し（図７（ｃ）参照）、ポ
リパラキシリレンからなる防湿有機膜１４でシンチレー
タ１３を覆うことで、図６（ａ）に示されるシンチレー
タパネル１ｃを完成させる。

【００３１】このように保護有機膜１２ｃを二段階で形
成することで、側壁部と金属反射膜上で形成する樹脂の
性質または製法を異ならせて、それぞれが好適な性能を
有するよう組み合わせることが可能となる。また、塗布
等によって形成する場合には、一体化して形成するより
も形成が容易でありつ、遮蔽性を確実なものとすること
ができる。

【００３２】図８は、本発明に係るシンチレータパネル
の第５の実施形態を示す断面図である。この実施形態
は、第４の実施形態と、第１の保護有機膜１２２と第２
の保護有機膜１２３の積層部の順序を異ならせたもので
ある。すなわち、この実施形態では、第２の保護有機膜
１２３が第１の保護有機膜１２２の周縁部を覆ってい
る。

【００３３】ここで、第２の保護有機膜１２３は、図８
（ａ）に示されるように、基板１０の裏面の縁まで達し
ていればよいが、図８（ｂ）に示されるように、基板１
０の裏面まで達しているとより好ましい。一方、第１の
保護有機膜１２２は、図８（ｃ）に示されるように基板
１０の側壁にまで達していてもよい。また、第２の保護
有機膜１２３は、図８（ｄ）に示されるように金属反射
膜１１の周縁部まで達していてもよい。

【００３４】次に、このシンチレータパネル１ｄの製造
方法を図２、図８、図９を参照して説明する。金属反射
膜１１を製造するまでは、図２（ａ）、（ｂ）に示され
るシンチレータパネル１の製造工程と同一である。この
後で、まず、金属反射膜１１上およびその周囲の基板１
０表面上にポリイミド樹脂を塗布して硬化させることに
より、金属反射膜１１を覆う平面状の第１の保護有機膜
１２２を形成する（図９（ａ）参照）。

【００３５】次に、基板１０の側壁およびその近傍の基
板表面に第１の保護有機膜１２２の周縁部にかかる形で
ポリイミド樹脂を塗布して硬化させることにより、枠状
の第２の保護有機膜１２３を形成する（図９（ｂ）参
照）。樹脂を塗布するのではなく、テープ状、フィルム
状に成形した樹脂を張り付けることで第２の保護有機膜
１２３を形成してもよい。

【００３６】次に、図２（ｄ）の工程と同様に、金属反
射膜１１上の保護有機膜１２ｄ（実際には、第１の保護
有機膜１２２）の表面の所定の領域にＴｌをドープした
ＣｓＩの針状結晶を多数、蒸着法によって成長（堆積）
させてシンチレータ１３を形成し（図９（ｃ）参照）、
ポリパラキシリレンからなる防湿有機膜１４でシンチレ
ータ１３を覆うことで、図８（ａ）に示されるシンチレ
ータパネル１ｄを完成させる。

【００３７】この実施形態でも、保護有機膜１２ｄを二
段階で形成することで、第４の実施形態と同様の効果が
得られる。

【００３８】以上の説明では、耐湿保護膜として、ポリ
パラキシリレン膜を用いたが、このほかにポリモノクロ
ロパラキシリレン、ポリジクロロパラキシリレン、ポリ
テトラクロロパラキシリレン、ポリフルオロパラキシリ
レン、ポリジメチルパラキシリレン、ポリジエチルパラ
キシリレン等のキシリレン系の有機膜を用いることが可
能である。これらのキシリレン系有機膜によれば、シン
チレータの林立している針状結晶の隙間に入り込んだ耐
湿有機膜を形成することができ、また、均一で薄い膜を
形成することができるので、シンチレータパネルの出力
解像度を劣化させることがなく、明るい出力画像を得る
ことができる。

【００３９】また、保護有機膜としては、耐湿保護膜の
場合と同様に、キシリレン系の有機膜やその他の有機樹
脂を用いることができる。この種の有機膜を用いると、
金属反射膜１１上から基板１０の側壁にかけて容易かつ
確実に均一な膜を形成することができる。もちろん、複
数の工程によって膜を形成してもよい。

【００４０】また、シンチレータ１３としては、ＣｓＩ
（Ｔｌ）に代えてＣｓＩ（Ｎａ）、ＮａＩ（Ｔｌ）、Ｌ
ｉＩ（Ｅｕ）、ＫＩ（Ｔｌ）等のアルカリハライド系の
シンチレータが放射線の光変換効率が高く、好適であ
る。一方で、この種のアルカリハライド系のシンチレー
タ成分は金属反射膜１１を腐食させる可能性があるた
め、本発明におけるような保護膜の配置が重要となる。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、金
属反射膜を覆い、さらに基板の側壁を覆って少なくとも
裏面の縁にまで達している保護有機膜を設けることで、
シンチレータの蒸着形成時にシンチレータ成分が直接、
基板の側壁や金属反射膜の周囲に付着することを防止す
る。この後で耐湿保護膜１４でシンチレータと、シンチ
レータ成分が付着しうる部分を覆うことで、たとえシン
チレータ成分が耐湿保護膜上や基板の裏面に付着したと
しても付着成分が耐湿保護膜に封入されるため、基板と
保護有機膜との間を浸透して、金属反射膜へ到達するの
を確実に予防できる。これにより金属反射膜の劣化を抑
制して、耐久性を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るシンチレータパネルの第１の実施
形態を示す断面構成図である。

【図２】図１のシンチレータパネルの製造工程を示す図
である

【図３】図２の製造工程のうちシンチレータの蒸着工程
を詳細に説明する図である。

【図４】本発明に係るシンチレータパネルの第２の実施
形態を示す断面構成図である。

【図５】本発明に係るシンチレータパネルの第３の実施
形態およびその変形例を示す断面構成図である。

【図６】本発明に係るシンチレータパネルの第４の実施
形態およびその変形例を示す断面構成図である。

【図７】図６（ａ）に示されるシンチレータパネルの製
造工程を説明する図である。

【図８】本発明に係るシンチレータパネルの第５の実施
形態およびその変形例を示す断面構成図である。

【図９】図８（ａ）に示されるシンチレータパネルの製
造工程を説明する図である。

【図１０】従来のシンチレータパネルの構成を示す断面
図である。

【符号の説明】

１…シンチレータパネル、２…蒸着ホルダー、３…カバ
ープレート、１０…基板、１１…金属反射膜、１２…保
護膜、１３…シンチレータ、１４…防湿膜、１２１、１
２３…第１の保護有機膜、１２２、１２４…第２の保護
有機膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 孝治 静岡県浜松市市野町1126番地の１ 浜松ホ トニクス株式会社内 Ｆターム(参考） 2G083 AA04 AA08 BB01 CC01 CC03 CC04 CC05 CC08 DD01 DD02 EE08 2G088 EE01 FF02 GG10 GG16 GG19 GG20 JJ05 JJ37 LL30 5C024 AX11 AX16 CY47 EX21

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 放射線透過性の基板と、 前記基板の一方の表面上に形成された金属反射膜と、 前記金属反射膜を覆うとともに、前記基板の少なくとも
   側壁まで覆っている保護有機膜と、 前記金属反射膜上の前記保護有機膜上に蒸着によって多
   数の針状結晶として形成されたアルカリハライド系のシ
   ンチレータと、 前記シンチレータを覆う防湿有機膜と、を備えており、 前記保護有機膜は、前記シンチレータ蒸着時におけるシ
   ンチレータ成分の前記基板および前記金属反射膜への付
   着を防止し、前記防湿有機膜は、前記保護有機膜上に付
   着したシンチレータ成分を含めて覆っていることを特徴
   とするシンチレータパネル。
2. 【請求項２】 前記保護有機膜は、前記基板の他方の表
   面までを実質的に覆っていることを特徴とする請求項１
   記載のシンチレータパネル。
3. 【請求項３】 前記保護有機膜は、気相成長により形成
   される有機膜であることを特徴とする請求項１または２
   に記載のシンチレータパネル。
4. 【請求項４】 前記保護有機膜は、前記金属反射膜側の
   第１の保護有機膜と、前記基板側の第２の保護有機膜か
   らなり、前記第１の保護有機膜の周縁部が前記第２の保
   護有機膜と前記金属反射膜の周縁部かその外側で積層さ
   れていることを特徴とする請求項１または２に記載のシ
   ンチレータパネル。
5. 【請求項５】 放射線透過性の基板の一方の表面上に金
   属反射膜を形成する工程と、 前記金属反射膜を含めて前記基板の少なくとも一方の表
   面からその側壁までを覆う保護有機膜を形成する工程
   と、 前記保護有機膜により、前記金属反射膜および前記基板
   へのシンチレータ成分の付着を防止しつつ、実質的に前
   記金属反射膜上の前記保護有機膜表面の所定部分のみに
   アルカリハライド系のシンチレータ成分を蒸着すること
   で多数の針状結晶として成長させてシンチレータを形成
   する工程と、 前記シンチレータおよび前記所定部分外に付着したシン
   チレータ成分を含めて覆う防湿有機膜を形成する工程
   と、 を備えるシンチレータパネルの製造方法。
6. 【請求項６】 前記保護有機膜を形成する工程は、気相
   成長を用いて形成を行うことを特徴とする請求項５記載
   のシンチレータパネルの製造方法。
7. 【請求項７】 前記保護有機膜を形成する工程は、 前記金属反射膜上を覆うとともに、前記基板のその周囲
   に露出している表面まで少なくとも覆う第１の保護有機
   膜を形成する工程と、 前記第１の保護有機膜の周縁部から前記基板の側壁まで
   を覆う枠状の第２の保護有機膜を形成する工程と、 からなることを特徴とする請求項５記載のシンチレータ
   パネルの製造方法。
8. 【請求項８】 前記保護有機膜を形成する工程は、 前記基板の側壁から前記金属反射膜の周縁部までを覆う
   枠状の第２の保護有機膜を形成する工程と、 前記金属反射膜上を覆い、前記金属反射膜の周縁部で前
   記第２の保護有機膜と積層される第１の保護有機膜を形
   成する工程と、 からなることを特徴とする請求項５記載のシンチレータ
   パネルの製造方法。