JP2003248974A - Optical recording medium and recording / reproducing method thereof - Google Patents
Optical recording medium and recording / reproducing method thereofInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は情報記録媒体に関す
るものであって、特に光ビームを照射することにより、
記録材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じさ
せ、情報の記録、再生を行ない、かつ追記が可能な光記
録媒体及びその記録再生方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium, in particular by irradiating a light beam,
The present invention relates to an optical recording medium capable of recording and reproducing information and additionally recording by causing optical changes such as transmittance and reflectance of a recording material, and a recording / reproducing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】基板上に反射層を有する光記録媒体であ
るCD規格、DVD規格に対応した記録可能なCD−
R、DVD−Rが商品化されている。今後このような光
記録媒体において、更なる記録容量と小型化が望まれて
おり、記録密度の更なる向上が求められている。現行シ
ステムでの記録容量の向上の要素技術は、記録ピットの
微小化技術、MPEG2に代表される画像圧縮技術があ
る。記録ピットの微小化技術には、記録再生光の短波長
化や回折限界の向上を図るために光学系の開口数NAの
増大化が検討されているが、その回折限界を越える記録
再生が不可能である。2. Description of the Related Art A recordable CD-compatible with the CD and DVD standards, which is an optical recording medium having a reflective layer on a substrate.
R and DVD-R have been commercialized. In the future, in such an optical recording medium, further recording capacity and miniaturization are desired, and further improvement of recording density is required. The elemental technology for improving the recording capacity in the current system includes a recording pit miniaturization technology and an image compression technology typified by MPEG2. In the technology of miniaturizing recording pits, it is considered to increase the numerical aperture NA of the optical system in order to shorten the wavelength of the recording / reproducing light and improve the diffraction limit. It is possible.
【0003】そこで回折限界を越える記録再生が可能な
超解像を利用した記録媒体が有力な手段として注目され
てきた。Therefore, a recording medium utilizing super-resolution capable of recording / reproducing exceeding the diffraction limit has attracted attention as an effective means.
【0004】超解像とは、物点に照射光の回折限界より
も小さな開口を設けることにより、照射光のスポット径
を回折限界よりも小さくして解像力を向上させる技術で
ある。The super-resolution is a technique for improving the resolution by making the spot diameter of the irradiation light smaller than the diffraction limit by providing an aperture at the object point that is smaller than the diffraction limit of the irradiation light.
【0005】その技術を利用した光記録媒体の従来技術
例が先に示されている。超解像マスク材料としては、
1)フォトクロミック材料、2)サーモクロミック材
料、3)過飽和吸収色素、4)光反応材料等が考案され
ている。この内、1)フォトクロミック材料及び2)サ
ーモクロミック材料は、それぞれ光、熱による反応によ
りその吸収特性が変化することを利用するものである
が、記録及び再生時の安定性に問題がある。特に再生に
は100万回以上が望まれ、材料の繰り返し安定性に問
題がある。さらにサーモクロミック材料ではその応答速
度は数十Mbpsが限界とされ、今後必要とされる10
0Mbps以上の転送速度に対応できない可能性があ
る。4)の光反応材料も光反応による吸収特性変化を利
用するものであるが、同様な応答速度に限界がある。A prior art example of an optical recording medium utilizing the technique has been shown above. As super-resolution mask material,
1) Photochromic materials, 2) Thermochromic materials, 3) Supersaturated absorption dyes, 4) Photoreactive materials, etc. have been devised. Among these, 1) photochromic material and 2) thermochromic material utilize the fact that their absorption characteristics change due to reaction by light and heat respectively, but there is a problem in stability during recording and reproduction. Particularly, one million times or more is desired for reproduction, and there is a problem in the repeated stability of the material. Furthermore, the response speed of thermochromic materials is limited to several tens of Mbps, which will be required in the future.
There is a possibility that the transfer rate of 0 Mbps or higher cannot be supported. The photoreactive material of 4) also utilizes the change in absorption characteristics due to photoreaction, but has a similar response speed.
【0006】3)の過飽和吸収色素とは透過率が照射光
強度に非線形に依存する材料で、その現象をレーザスポ
ットの強度分布に利用して超解像マスクとして利用す
る。過飽和吸収色素の特徴としては、その応答速度が速
いこと(フェムト秒で起こる)と高耐久性にある。しか
しながら従来考案されてきた材料(先の先行技術例)
は、フタロシアニン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、
シアニン色素、キノン色素等いずれも550nm以上の
長波長レーザに対応するもので、次世代光記録媒体の主
流となると考えられる青色レーザには対応出来ない材料
であった。The supersaturated absorption dye of 3) is a material whose transmittance depends non-linearly on the intensity of irradiation light, and its phenomenon is used for the intensity distribution of a laser spot to be used as a super-resolution mask. The characteristics of supersaturated absorption dyes are high response speed (which occurs in femtoseconds) and high durability. However, materials conventionally devised (previous prior art examples)
Is a phthalocyanine derivative, a naphthalocyanine derivative,
Both cyanine dyes and quinone dyes are compatible with long-wavelength lasers having a wavelength of 550 nm or more, and cannot be used with blue lasers which are considered to be the mainstream of next-generation optical recording media.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】従来の光ディスクでは
実現不可能なピックアップレンズの回折限界を越えた記
録密度で記録再生可能な光記録媒体を提供する。
1)青色レーザ対応の超解像マスク光記録媒体を提供す
る。
2)青色レーザ波長域に過飽和吸収特性を示す超解像マ
スク材料を提供する。An optical recording medium capable of recording / reproducing at a recording density exceeding the diffraction limit of a pickup lens, which cannot be realized by a conventional optical disk, is provided. 1) To provide a super resolution mask optical recording medium compatible with a blue laser. 2) To provide a super-resolution mask material that exhibits supersaturated absorption characteristics in the blue laser wavelength range.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者等は検討の結
果、特定の構造の化合物を主成分とするマスク層が上記
特性を有することを見出し、発振波長400〜550n
mの半導体レーザを用い、その回折限界を越える記録密
度で記録再生可能で高転送速度な光記録媒体を得るに至
った。As a result of studies, the present inventors have found that a mask layer containing a compound having a specific structure as a main component has the above-mentioned characteristics, and have an oscillation wavelength of 400 to 550 n.
Using a semiconductor laser of m, it has been possible to obtain an optical recording medium capable of recording and reproducing at a recording density exceeding the diffraction limit and having a high transfer rate.
【0009】即ち、請求項1は本発明の化合物を用いた
高密度光記録媒体としての基本構造及び材料構成であ
り、請求項2〜6は上記化合物としてのポルフィリン異
性体の最適化構造構成を提供し、請求項7及び8は超解
像高密度光記録媒体としての基本構成を提供する。請求
項9及び10は超解像マスク層の好ましい材料構成を提
供する。請求項11は超解像マスク層に用いる好ましい
光学特性を与え、請求項12〜15はより良好な超解像
マスク特性を与える化合物の具体的な化学構造を提供す
る。請求項16は青色レーザ波長に限定した超解像マス
ク記録再生方法を提供する。That is, claim 1 is a basic structure and material composition as a high density optical recording medium using the compound of the present invention, and claims 2 to 6 are optimized structure composition of porphyrin isomers as the compound. Provided, claims 7 and 8 provide a basic configuration as a super-resolution high-density optical recording medium. Claims 9 and 10 provide preferred material configurations for the super-resolution mask layer. Claim 11 provides preferred optical properties for use in the super-resolution mask layer, and claims 12 to 15 provide specific chemical structures of compounds that provide better super-resolution mask properties. Claim 16 provides a super-resolution mask recording / reproducing method limited to a blue laser wavelength.
【0010】[0010]
【発明の実施の形態】本発明の光記録媒体は、図1
(a)(b)(c)に示すように、基板1上に、上又は
/及び下に本発明の化合物(以下ポルフィリン異性体と
も言う)の分散層を設けた記録層2を有する構成からな
る。ポルフィリン誘導体の分散材は、超解像マスクとし
て作用し、ポルフィリン異性体の分散層は超解像再生層
2又は/及び超解像記録層5として機能する。図1
(a)及び(b)では記録層3の下側に超解像再生層2
が備えられており、又、図1(b)では記録層3の上側
に反射層4を備えている。図1(c)では記録層3の下
側に超解像再生層2を備え、又記録層3の上側には超解
像記録層5を備えている。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The optical recording medium of the present invention is shown in FIG.
As shown in (a), (b) and (c), a recording layer 2 having a dispersion layer of a compound of the present invention (hereinafter, also referred to as a porphyrin isomer) on or under a substrate 1 is provided. Become. The dispersion material of the porphyrin derivative functions as a super-resolution mask, and the dispersion layer of the porphyrin isomer functions as the super-resolution reproducing layer 2 and / or the super-resolution recording layer 5. Figure 1
In (a) and (b), the super-resolution reproducing layer 2 is provided below the recording layer 3.
In addition, in FIG. 1B, the reflective layer 4 is provided on the upper side of the recording layer 3. In FIG. 1C, the super-resolution reproducing layer 2 is provided below the recording layer 3, and the super-resolution recording layer 5 is provided above the recording layer 3.
【0011】超解像マスク層として良好な特性を得るに
は、2つの観点がある。一つは、記録体構成層としての
特性であり、他の一つは、超解像特性を得る材料特性で
ある。記録体構成層としては、記録再生時に変化(特に
変形)しないことが必須である。超解像記録層として機
能する時は、変形することによりジッタ特性等の記録信
号特性が劣化し、超解像再生層として機能する時は、変
形することにより再生信号が除々に変化し安定した再生
信号が得られない。そのため本発明では、超解像マスク
層をバインダーに分散させ固定し変形を低減させること
が好ましい。紫外線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂で強固
に固定することが特に好ましい。マスク材料物性として
は、青色レーザの発信波長域に強い吸収を示すポルフィ
リン異性体が好ましい。マスク材料として好ましい光学
特性は、大きな吸収係数を持ち、励起状態の緩和時間が
長い程、過飽和現象は大きくなる。但し緩和時間が長す
ぎると元に戻る時間が長くなるため繰り返し再生時に支
障をきたす。そのため、吸収係数は10万以上が、緩和
時間(τ)は、1ns≦τ≦100nsとなることが好
ましい。緩和時間を長くする方法として、ポルフィリン
誘導体に重原子を導入し、スピン−軌道相互作用を大き
くすることが有効である。そのためポルフィリン異性体
の構造としては、金属が中心に配位した金属ポルフィリ
ン異性体や、重原子で置換されたポルフィリン誘導体が
有用である。置換基として充分なスピン−軌道相互作用
を大きくするには、原子量が30以上ある原子が好まし
く、特にハロゲン原子が、さらには、Br、Iが特に好
ましい。There are two viewpoints for obtaining good characteristics as a super-resolution mask layer. One is the characteristic of the recording material constituting layer, and the other is the material characteristic of obtaining the super-resolution characteristic. It is essential that the recording medium constituent layer does not change (especially deform) during recording and reproduction. When it functions as a super-resolution recording layer, the recording signal characteristics such as jitter characteristics deteriorate due to deformation, and when it functions as a super-resolution reproduction layer, the reproduction signal gradually changes and becomes stable due to deformation. No playback signal can be obtained. Therefore, in the present invention, it is preferable that the super-resolution mask layer is dispersed and fixed in a binder to reduce deformation. It is particularly preferable to firmly fix with an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin. As a physical property of the mask material, a porphyrin isomer showing strong absorption in the emission wavelength range of a blue laser is preferable. The optical characteristics preferable as a mask material have a large absorption coefficient, and the longer the relaxation time of the excited state, the greater the supersaturation phenomenon. However, if the relaxation time is too long, it takes a long time to return to the original state, which causes trouble during repeated reproduction. Therefore, it is preferable that the absorption coefficient is 100,000 or more and the relaxation time (τ) is 1 ns ≦ τ ≦ 100 ns. As a method of lengthening the relaxation time, it is effective to introduce a heavy atom into the porphyrin derivative to increase the spin-orbit interaction. Therefore, as the structure of the porphyrin isomer, a metal porphyrin isomer in which a metal is coordinated in the center or a porphyrin derivative substituted with a heavy atom is useful. In order to increase the spin-orbit interaction sufficient as a substituent, an atom having an atomic weight of 30 or more is preferable, a halogen atom is particularly preferable, and Br and I are particularly preferable.
【0012】本発明のポルフィリン異性体の合成方法は
例えばAngew.Chem.Int.Ed.Eng
l.1993,32,No.11,pp.1600−1
604に記載の方法を用いることができる。The method for synthesizing the porphyrin isomer of the present invention is described, for example, in Angew. Chem. Int. Ed. Eng
l. 1993, 32, No. 11, pp. 1600-1
The method described in 604 can be used.
【0013】この様にして得たポルフィリン異性体の分
散層の超解像マスク膜は、図2に示すように、ポルフィ
リン異性の過飽和吸収により、照射光のスポット径より
も小さな光学開口を形成する。基底状態にある分子が励
起状態に遷移し、その緩和時間が長いため基底状態にあ
る分子が減少し、吸収量が現象し、透過率が上がる。こ
の変化は照射光が強いほど大きいため、レーザビームを
照射した際、その強度分布(ガウス分布)に応じた透過
率変化となる。レーザ波長が過飽和吸収色素の吸収波長
と一致する場合は、レーザ照射当初はほとんど光は透過
せず、その後光強度の強いビーム中心に光学開口が開く
事になる(図2参照)。As shown in FIG. 2, the super-resolution mask film of the dispersion layer of the porphyrin isomer thus obtained forms an optical aperture smaller than the spot diameter of the irradiation light due to the supersaturated absorption of the porphyrin isomer. . Molecules in the ground state transition to the excited state, and the relaxation time is long, so the number of molecules in the ground state decreases, the absorption amount phenomenon occurs, and the transmittance increases. Since this change is larger as the irradiation light is stronger, when the laser beam is irradiated, the transmittance changes according to its intensity distribution (Gaussian distribution). When the laser wavelength coincides with the absorption wavelength of the supersaturated absorption dye, almost no light is transmitted at the beginning of laser irradiation, and then the optical aperture is opened at the center of the beam with high light intensity (see FIG. 2).
【0014】本発明の提案したポルフィリン異性体は、
その最大吸収波長が400〜550nmにあり、青色レ
ーザの発振波長に合致する。そのため本発明の超解像マ
スク膜は、青色レーザに適した超解像マスク膜であり、
より高密度の記録再生が可能となる。The porphyrin isomers proposed by the present invention are
Its maximum absorption wavelength is 400 to 550 nm, which matches the oscillation wavelength of the blue laser. Therefore, the super-resolution mask film of the present invention is a super-resolution mask film suitable for a blue laser,
Higher density recording / reproducing becomes possible.
【0015】《記録媒体構成》本発明の記録媒体の構成
としては追記型光ディスクの構造(基板上に記録層を設
けたものを2枚貼り合わせたいわゆるエアーサンドイッ
チ構造)としてもよく、CD−R構造(基板上に記録
層、反射層、保護層)としてもよく、CD−R構造を貼
り合わせた構造でも良い。<Recording Medium Structure> The recording medium of the present invention may have a structure of a write-once optical disc (a so-called air sandwich structure in which two recording layers are provided on a substrate are bonded together), and a CD-R. It may have a structure (a recording layer, a reflective layer, a protective layer on a substrate) or a structure in which a CD-R structure is attached.
【0016】《基板》用いる基板としては基板側より記
録再生を行なう場合のみ使用レーザに対して透明でなけ
ればならず、記録層側から記録、再生を行なう場合基板
は透明である必要はない。基板材料としては例えば、ポ
リエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネ
ート樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリイミド等のプラスチック又は、ガラス、
セラミックあるいは、金属等を用いることができる。
尚、基板の表面にトラッキング用の案内溝や、案内ピッ
ト、さらにアドレス信号等のプリフォーマット等が形成
されていても良い。<Substrate> The substrate used must be transparent to the laser used only when recording / reproducing is performed from the substrate side, and the substrate need not be transparent when recording / reproducing is performed from the recording layer side. As the substrate material, for example, polyester, acrylic resin, polyamide, polycarbonate resin, polyolefin resin, phenol resin, epoxy resin, plastic such as polyimide, or glass,
Ceramic or metal can be used.
A guide groove for tracking, a guide pit, a preformat such as an address signal, or the like may be formed on the surface of the substrate.
【0017】《記録層》記録層はレーザ光の照射により
何らかの光学的変化を生じさせ、その変化により情報を
記録するものであって、この記録層には、相変化材料や
記録用色素が用いられる。<< Recording Layer >> The recording layer causes some kind of optical change by irradiation of laser light and records information by the change, and a phase change material or a recording dye is used for this recording layer. To be
【0018】色素としては、例えばポリメチン色素、ス
クアリリウム系、ピリリウム系、ポルフィリン系、ポル
フィラジン系、アゾ系、アゾメチン系、キ染料等、及び
その金属錯体化合物、紫外線吸収材等が挙げられ、上記
の染料を単独で用いてもよいし、2種以上の組合わせに
してもよい。また上記染料中に金属、金属化合物、例え
ばIn、Te、Bi、Al、Be、TeO2、SnO、
As、Cd等を分散混合、あるいは積層の形態で用いる
こともできる。さらに、上記染料中に高分子材料、例え
ばアイオノマー樹脂、ポリアミド系樹脂、ビニル系樹
脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の材
料、もしくはシランカップリング剤等を分散混合して用
いてもよいし、あるいは特性改良の目的で、安定剤(例
えば遷移金属錯体)、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止
剤、界面活性剤、可塑剤等と一緒に用いることができ
る。Examples of the dyes include polymethine dyes, squarylium dyes, pyrylium dyes, porphyrin dyes, porphyrazine dyes, azo dyes, azomethine dyes, dyes and the like, metal complex compounds thereof, and ultraviolet absorbers. The dyes may be used alone or in combination of two or more. Further, in the above dye, a metal or a metal compound such as In, Te, Bi, Al, Be, TeO 2 , SnO,
As, Cd, etc. can also be used in the form of dispersion mixing or lamination. Further, various materials such as polymer materials such as ionomer resin, polyamide resin, vinyl resin, natural polymer, silicone, liquid rubber, or silane coupling agent may be dispersed and mixed in the dye. For the purpose of improving properties, it may be used together with a stabilizer (for example, a transition metal complex), a dispersant, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, a surfactant, a plasticizer and the like.
【0019】塗布法を用いる場合には、上記染料等を有
機溶媒に溶解させて、スプレー、ローラーコーティン
グ、ディッピング及び、スピンコーティング等の慣用の
コーティング法によって行われるが、本発明の性格上ス
ピンコーティングが最も好ましい。When the coating method is used, it is carried out by dissolving the dye or the like in an organic solvent and then using a conventional coating method such as spraying, roller coating, dipping, and spin coating. Is most preferred.
【0020】有機溶媒としては、一般にメタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等の
スルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステ
ル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、
四塩化炭素、トリクロロエタン等の脂肪族ハロゲン化炭
素類、あるいは、ベンゼン、キシレン、モノクロロベン
ゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族類、メトキシエタノ
ール、エトキシエタノール等のセルソルブ類、ヘキサ
ン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン
等の炭化水素類等を用いることができる。As the organic solvent, generally, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, amides such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide and the like. Sulfoxides, tetrahydrofuran, dioxane, diethyl ether, ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, chloroform, methylene chloride, dichloroethane,
Aliphatic halogenated carbons such as carbon tetrachloride and trichloroethane, aromatics such as benzene, xylene, monochlorobenzene and dichlorobenzene, cellosolves such as methoxyethanol and ethoxyethanol, hexane, pentane, cyclohexane and methylcyclohexane. Hydrocarbons and the like can be used.
【0021】記録層の膜厚は、100Å〜1μm、好ま
しくは200Å〜1000Åが適当である。A suitable film thickness of the recording layer is 100Å to 1 μm, preferably 200Å to 1000Å.
【0022】《超解像マスク層》超解像とは、物点に照
射光の回折限界よりも小さな開口(図2)を設けること
により、照射光のスポット径を回折限界よりも小さくし
て解像力を向上させる技術で、図3に示すように、超解
像マスク層は透過率が照射光強度に非線形に依存する特
性を有し、その現象を超解像として利用する。超解像マ
スク材料には、下記一般式(6)〜(10)で示される
ポルフィリン異性体である過飽和吸収色素の分散層を使
用し、その化学構造として重原子を導入し、スピン−軌
道相互作用を大きくする重原子を導入した構造が好まし
い。そのため構造としては、金属が中心に配位した金属
ポルフィリン構造や、重原子で置換されたポルフィリン
異性体が有用で、特に置換基として原子量が30以上あ
る原子で置換されるのが好ましく、特にハロゲン原子
が、さらには、Br、Iが特に好ましい。<< Super-Resolution Mask Layer >> Super-resolution means that the spot diameter of the irradiation light is made smaller than the diffraction limit by providing an aperture (FIG. 2) smaller than the diffraction limit of the irradiation light at the object point. As shown in FIG. 3, the super-resolution mask layer is a technique for improving the resolving power, and the super-resolution mask layer has a characteristic that the transmittance non-linearly depends on the irradiation light intensity, and this phenomenon is utilized as the super-resolution. As the super-resolution mask material, a dispersion layer of a supersaturated absorption dye, which is a porphyrin isomer represented by the following general formulas (6) to (10), is used. A structure in which a heavy atom that increases the action is introduced is preferable. Therefore, as the structure, a metal porphyrin structure in which a metal is coordinated to the center or a porphyrin isomer substituted with a heavy atom is useful, and it is particularly preferable that the substituent is an atom having an atomic weight of 30 or more, particularly a halogen atom. Atoms, especially Br, I are particularly preferred.
【化6】 [Chemical 6]
【化7】 [Chemical 7]
【化8】 [Chemical 8]
【化9】 [Chemical 9]
【化10】 [Chemical 10]
【0023】上記ハロゲン原子の具体例は、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素等が挙げられるが、特に重原子効果の
大きな臭素、ヨウ素が好ましい。Specific examples of the above halogen atom include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like, with bromine and iodine having a large heavy atom effect being particularly preferable.
【0024】R1〜R8及びX1〜X4はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、
カルボキシル基、置換もしくは未置換のアルキル基、置
換もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換
のアリール基、置換もしくは未置換のアミノ基、置換も
しくは未置換のアシル基を表す。R 1 to R 8 and X 1 to X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group,
It represents a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, or a substituted or unsubstituted acyl group.
【0025】未置換のアルキル基、及び未置換のアルコ
キシ基中のアルキル基としては、直鎖状もしくは分岐鎖
状のアルキル基が挙げられ、置換アルキル基、及び置換
アルコキシ基中の置換アルキル基としては、2−ヒドロ
キシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、4−ヒドロ
キシブチル基、2−ヒドロキシプロピル基等のヒドロキ
シ置換アルキル基;カルボキシメチル基、2−カルボキ
シエチル基、3−カルボキシプロピル基等のカルボキシ
置換アルキル基;2−シアノエチル基、シアノメチル基
等のシアノ置換アルキル基;2−アミノエチル基等のア
ミノ置換アルキル基;2−クロロエチル基、3−クロロ
プロピル基、2−クロロプロピル基、2,2,2−トリ
フルオロエチル基等のハロゲン原子置換アルキル基;ベ
ンジル基、p−クロロベンジル基、2−フェニルエチル
基等のフェニル置換アルキル基;2−メトキシエチル
基、2−エトキシエチル基、2−(n)プロポキシエチ
ル基、2−(iso)プロポキシエチル基、2−(n)
ブトキシエチル基、2−(iso)ブトキシエチル基、
2−(2−エチルヘキシルオキシ)エチル基、3−メト
キシプロピル基、4−メトキシブチル基、2−メトキシ
プロピル基等のアルコキシ置換アルキル基;2−(2−
メトキシエトキシ)エチル基、2−(2−エトキシエト
キシ)エチル基、2−(2−(n)プロポキシエトキ
シ)エチル基、2−(2−(iso)プロポキシエトキ
シ)エチル基、2−(2−(n)ブトキシエトキシ)エ
チル基、2−(2−(iso)ブトキシエトキシ)エチ
ル基、2−{2−(2−エチルヘキシルオキシ)エトキ
シ}エチル基等のアルコキシアルコキシ置換アルキル
基;アリールオキシエチル基、2−フェノキシエチル
基、2−ベンジルオキシエチル基等の置換アルキル基;
2−アセチルオキシエチル基、2−プロピオニルオキシ
エチル基、2−(n)ブチリルオキシエチル基、2−
(iso)ブチリルオキシエチル基、2−トリフルオロ
アセチルオキシエチル基等のアシルオキシ置換アルキル
基;メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、(n)プロポキシカルボニルメチル基、(i
so)プロポキシカルボニルメチル基、(n)ブトキシ
カルボニルメチル基、(iso)ブトキシカルボニルメ
チル基、2−エチルヘキシルオキシカルボニルメチル
基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、フルフリルオ
キシカルボニルメチル基、テトラヒドロフルフリルオキ
シカルボニルメチル基、2−メトキシカルボニルエチル
基、2−エトキシカルボニルエチル基、2−(n)プロ
ポキシカルボニルエチル基、2−(iso)プロポキシ
カルボニルエチル基、2−(n)ブトキシカルボニルエ
チル基、2−(iso)ブトキシカルボニルエチル基、
2−(2−エチルヘキシルオキシカルボニル)エチル
基、2−ベンジルオキシカルボニルエチル基、2−フル
フリルオキシカルボニルエチル基等の置換もしくは非置
換のアルコキシカルボニル置換アルキル基;2−メトキ
シカルボニルオキシエチル基、2−エトキシカルボニル
オキシエチル基、2−(n)プロポキシカルボニルオキ
シエチル基、2−(iso)プロポキシカルボニルオキ
シエチル基、2−(n)ブトキシカルボニルオキシエチ
ル基、2−(iso)ブトキシカルボニルオキシエチル
基、2−(2−エチルヘキシルオキシカルボニルオキ
シ)エチル基、2−ベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル基、2−フルフリルオキシカルボニルオキシエチル
基等の置換もしくは非置換のアルコキシカルボニルオキ
シ置換アルキル基;フルフリル基、テトラヒドロフルフ
リル基等のヘテロ環置換アルキル基等が挙げられる。Examples of the unsubstituted alkyl group and the alkyl group in the unsubstituted alkoxy group include a linear or branched alkyl group. As the substituted alkyl group and the substituted alkyl group in the substituted alkoxy group, Is a hydroxy-substituted alkyl group such as 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, 4-hydroxybutyl group and 2-hydroxypropyl group; carboxy such as carboxymethyl group, 2-carboxyethyl group and 3-carboxypropyl group Substituted alkyl group; cyano-substituted alkyl group such as 2-cyanoethyl group, cyanomethyl group; amino-substituted alkyl group such as 2-aminoethyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloropropyl group, 2-chloropropyl group, 2,2 , A halogen atom-substituted alkyl group such as 2-trifluoroethyl group; benzyl group, p-quat Robenjiru group, a phenyl-substituted alkyl group such as a 2-phenylethyl group; a 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl, 2- (n) propoxyethyl group, 2- (iso) propoxy ethyl group, 2- (n)
Butoxyethyl group, 2- (iso) butoxyethyl group,
Alkoxy-substituted alkyl groups such as 2- (2-ethylhexyloxy) ethyl group, 3-methoxypropyl group, 4-methoxybutyl group, 2-methoxypropyl group; 2- (2-
Methoxyethoxy) ethyl group, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl group, 2- (2- (n) propoxyethoxy) ethyl group, 2- (2- (iso) propoxyethoxy) ethyl group, 2- (2- (N) Butoxyethoxy) ethyl group, 2- (2- (iso) butoxyethoxy) ethyl group, 2- {2- (2-ethylhexyloxy) ethoxy} ethyl group and other alkoxyalkoxy-substituted alkyl groups; aryloxyethyl groups A substituted alkyl group such as a 2-phenoxyethyl group and a 2-benzyloxyethyl group;
2-acetyloxyethyl group, 2-propionyloxyethyl group, 2- (n) butyryloxyethyl group, 2-
(Iso) butyryloxyethyl group, 2-trifluoroacetyloxyethyl group or other acyloxy-substituted alkyl group; methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, (n) propoxycarbonylmethyl group, (i
so) propoxycarbonylmethyl group, (n) butoxycarbonylmethyl group, (iso) butoxycarbonylmethyl group, 2-ethylhexyloxycarbonylmethyl group, benzyloxycarbonylmethyl group, furfuryloxycarbonylmethyl group, tetrahydrofurfuryloxycarbonylmethyl group Group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2- (n) propoxycarbonylethyl group, 2- (iso) propoxycarbonylethyl group, 2- (n) butoxycarbonylethyl group, 2- (iso ) Butoxycarbonylethyl group,
Substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl-substituted alkyl groups such as 2- (2-ethylhexyloxycarbonyl) ethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-furfuryloxycarbonylethyl group; 2-methoxycarbonyloxyethyl group, 2 -Ethoxycarbonyloxyethyl group, 2- (n) propoxycarbonyloxyethyl group, 2- (iso) propoxycarbonyloxyethyl group, 2- (n) butoxycarbonyloxyethyl group, 2- (iso) butoxycarbonyloxyethyl group A substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy-substituted alkyl group such as a 2- (2-ethylhexyloxycarbonyloxy) ethyl group, a 2-benzyloxycarbonyloxyethyl group, a 2-furfuryloxycarbonyloxyethyl group; Furyl, such as heterocyclic-substituted alkyl group such as tetrahydrofurfuryl group.
【0026】また、シクロアルキル基としては、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。Examples of the cycloalkyl group include cyclopentyl group and cyclohexyl group.
【0027】アルキル基及びアルコキシ基中のアルキル
基はいかなるアルキル基でも良く、例えば炭素数1〜3
0のものであって良い。アルキル基の具体例としては、
例えば、次のものが挙げられる。なお、これらのアルキ
ル基は、ハロゲン原子等の置換基で置換されていてもよ
い。メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル
基、イソブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、
イソアミル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、
2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メ
チルペンチル基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル
基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4
−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2−エチ
ルペンチル基、3−エチルペンチル基、n−オクチル
基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4
−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、2−エチ
ルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、n−ノニル基、
n−デシル基、n−ドデシル基等の一級アルキル基;イ
ソプロピル基、sec−ブチル基、1−エチルプロピル
基、1−メチルブチル基、1,2−ジメチルプロピル
基、1−メチルヘプチル基、1−エチルブチル基、1,
3−ジメチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、1
−エチル−2−メチルプロピル基、1−メチルヘキシル
基、1−エチルヘプチル基、1−プロピルブチル基、1
−イソプロピル−2−メチルプロピル基、1−エチル−
2−メチルブチル基、1−プロピル−2−メチルプロピ
ル基、1−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、
1−プロピルペンチル基、1−イソプロピルぺンチル
基、1−イソプロピル−2−メチルブチル基、1−イソ
プロピル−3−メチルブチル基、1−メチルオクチル
基、1−エチルヘプチル基、1−プロピルヘキシル基、
1−イソブチル−3−メチルブチル基等の二級アルキル
基;tert−ブチル基、tert−ヘキシル基、te
rt−アミル基、tert−オクチル基等の三級アルキ
ル基;シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル
基、4−エチルシクロヘキシル基、4−tert−ブチ
ルシクロヘキシル基、4−(2−エチルヘキシル)シク
ロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニル基、アダマン
タン基等のシクロアルキル基等が挙げられる。The alkyl group in the alkyl group and the alkoxy group may be any alkyl group, for example, having 1 to 3 carbon atoms.
It may be 0. Specific examples of the alkyl group include:
For example: In addition, these alkyl groups may be substituted with a substituent such as a halogen atom. Methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, n-pentyl group, neopentyl group,
Isoamyl group, 2-methylbutyl group, n-hexyl group,
2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4-methylpentyl group, 2-ethylbutyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4
-Methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2-ethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, n-octyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4
-Methylheptyl group, 5-methylheptyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, n-nonyl group,
Primary alkyl groups such as n-decyl group and n-dodecyl group; isopropyl group, sec-butyl group, 1-ethylpropyl group, 1-methylbutyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-methylheptyl group, 1- Ethylbutyl group, 1,
3-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1
-Ethyl-2-methylpropyl group, 1-methylhexyl group, 1-ethylheptyl group, 1-propylbutyl group, 1
-Isopropyl-2-methylpropyl group, 1-ethyl-
2-methylbutyl group, 1-propyl-2-methylpropyl group, 1-methylheptyl group, 1-ethylhexyl group,
1-propylpentyl group, 1-isopropylpentyl group, 1-isopropyl-2-methylbutyl group, 1-isopropyl-3-methylbutyl group, 1-methyloctyl group, 1-ethylheptyl group, 1-propylhexyl group,
Secondary alkyl group such as 1-isobutyl-3-methylbutyl group; tert-butyl group, tert-hexyl group, te
Tertiary alkyl groups such as rt-amyl group and tert-octyl group; cyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 4-ethylcyclohexyl group, 4-tert-butylcyclohexyl group, 4- (2-ethylhexyl) cyclohexyl group, bornyl And cycloalkyl groups such as an isobornyl group and an adamantane group.
【0028】またアリール基としてはフェニル基、メチ
ルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニ
ル基、エチルフェニル基、tert−ブチルフェニル
基、ジ(tert−ブチル)フェニル基、ブチルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、ト
リメトキシフェニル基、ブトキシフェニル基等が挙げら
れ、またこれらのアリール基はハロゲン等の置換基で置
換されていてもよい。As the aryl group, phenyl group, methylphenyl group, dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, ethylphenyl group, tert-butylphenyl group, di (tert-butyl) phenyl group, butylphenyl group, methoxyphenyl group, Examples thereof include a dimethoxyphenyl group, a trimethoxyphenyl group and a butoxyphenyl group, and these aryl groups may be substituted with a substituent such as halogen.
【0029】一般式(1)〜(5)中、Mは2個の水素
原子、又は酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、
もしくは4価の金属原子、又は(OR9)p、(OSi
R10R11R12)q、(OPOR13R14)r、(OCOR
15)sを有してもよい金属原子を表す。R9〜R15は独
立に水素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭
化水素基を表し、p、q、r、sは0〜2の整数を表
す。In the general formulas (1) to (5), M is divalent or trivalent, which may have two hydrogen atoms, or oxygen or halogen,
Alternatively, a tetravalent metal atom, or (OR 9 ) p, (OSi
R 10 R 11 R 12 ) q, (OPOR 13 R 14 ) r, (OCOR
15 ) represents a metal atom which may have s. R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and p, q, r and s each represent an integer of 0 to 2.
【0030】具体的にMとしては、Ib族、IIa族、
IIb族、IIIa族、IVa族、IVb族、Vb族、
VIb族、VIIb族、VIII族の金属、これらの金
属の酸化物、これらの金属のハロゲン化物又はこれらの
金属の水酸化物等があり、さらに、上記金属で置換基を
有するものがある。Specifically, as M, Ib group, IIa group,
IIb group, IIIa group, IVa group, IVb group, Vb group,
There are VIb group, VIIb group and VIII group metals, oxides of these metals, halides of these metals, hydroxides of these metals, and the like, and further, the above metals have substituents.
【0031】上記の金属としては、Cu、Zn、Mg、
Al、Ge、Ti、Sn、Pb、Cr、Mo、Mn、F
e、Co、Ni、In、Pt、Pd等があり、酸化物と
しては、TiO、VO等があり、ハロゲン化物として
は、AlCl、GeCl2、SiCl2、FeCl、Sn
Cl2、InCl等があり、水酸化物としてはAl(O
H)、Si(OH)2、Ge(OH)2、Sn(OH)2
等がある。The above metals include Cu, Zn, Mg,
Al, Ge, Ti, Sn, Pb, Cr, Mo, Mn, F
e, Co, Ni, In, Pt, Pd and the like, oxides such as TiO and VO, and halides such as AlCl, GeCl 2 , SiCl 2 , FeCl and Sn.
There are Cl 2 , InCl, etc., and Al (O
H), Si (OH) 2 , Ge (OH) 2 , Sn (OH) 2
Etc.
【0032】さらに、金属が置換基を有する場合に、金
属としては、Al、Ti、Si、Ge、Sn等があり、
置換基としては、アリールオキシル基、アルコキシル
基、トリアルキルシロキシル基、トリアリールシロキシ
ル基、トリアルコキシシロキシル基、トリアリールオキ
シシロキシル基、トリチルオキシル基又はアシロキシル
基等がある。Further, when the metal has a substituent, the metal includes Al, Ti, Si, Ge, Sn and the like.
Examples of the substituent include an aryloxyl group, an alkoxyl group, a trialkylsiloxyl group, a triarylsiloxyl group, a trialkoxysiloxyl group, a triaryloxysiloxyl group, a trityloxyl group or an acyloxyl group.
【0033】上記ポルフィリン異性体を結着剤中に分散
させて超解像膜を形成する。膜形成法として、湿式塗布
によりポルフィリン異性体と結着剤を溶解させ塗布し形
成しても良く、乾式成膜法によりポルフィリン異性体と
結着剤を共蒸着当により形成しても良い。いずれの場合
も記録再生時に変化(特に変形)しないことが好まし
く、結着剤としては三次元的に架橋し強固な膜が形成さ
れる紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が好ましい。The porphyrin isomer is dispersed in a binder to form a super-resolution film. As the film forming method, the porphyrin isomer and the binder may be dissolved and applied by wet coating, or the porphyrin isomer and the binder may be formed by co-evaporation by a dry film forming method. In either case, it is preferable that it does not change (especially deform) during recording and reproduction, and as the binder, an ultraviolet curable adhesive or a thermosetting adhesive that three-dimensionally crosslinks to form a strong film is preferable.
【0034】ポルフィリン異性体と結着剤の組成は、1
/90〜90/10(重量比)で、結着剤が多すぎると
超解像効果は小さく、少なすぎると超解像マスク膜の機
械的な強度が損なわれ、好ましくは、30/70〜70
/30(重量比)である。The composition of the porphyrin isomer and the binder is 1
/ 90 to 90/10 (weight ratio), if the binder is too much, the super-resolution effect is small, and if it is too small, the mechanical strength of the super-resolution mask film is impaired. 70
/ 30 (weight ratio).
【0035】紫外線硬化型接着剤は、紫外線照射によっ
てラジカル重合が開始して硬化する接着剤である。その
組成は、一般的に(1)アクリル系オリゴマー、(2)
アクリル系モノマー、(3)光重合開始剤、(4)重合
禁止剤からなるもので、オリゴマーはポリエステル系、
ポリウレタン系、エポキシ系アクリル酸エステル等で、
光重合開始剤はベンゾフェノン、ベンゾインエーテル等
が使用できる。The UV-curable adhesive is an adhesive which is cured by the initiation of radical polymerization upon irradiation with UV rays. Its composition is generally (1) acrylic oligomer, (2)
An acrylic monomer, (3) a photopolymerization initiator, and (4) a polymerization inhibitor. The oligomer is a polyester,
Polyurethane type, epoxy type acrylic ester, etc.
As the photopolymerization initiator, benzophenone, benzoin ether or the like can be used.
【0036】熱硬化型接着剤、加熱により架橋し硬化す
る接着剤である。その具体的な材料例としては、エポキ
シ樹脂、オリゴエステルアクリレート、フェノール樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド、ポリウレタ
ン、メラミン樹脂、ユリア樹脂等が使用出来る。Thermosetting adhesives are adhesives that crosslink and cure when heated. Specific examples of the material include epoxy resin, oligoester acrylate, phenol resin, unsaturated polyester resin, polyimide, polyurethane, melamine resin and urea resin.
【0037】《下引き層》下引き層は接着性の向上、
水又はガス等のバリアー、記録層の保存安定性の向
上、反射率の向上溶剤からの基板の保護、案内
溝、案内ピット、プレフォーマットの形成等を目的とし
て使用される。の目的に対しては高分子材料例えば、
アイオノマー樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル樹脂、天然
樹脂、天然高分子、シリコーン、液状ゴム等の種々の高
分子化合物及び、シランカップリング剤等を用いること
ができ、及びの目的に対しては上記高分子材料以外
に無機化合物、例えば、SiO、MgF、SiO2、T
iO、ZnO、TiN、SiN等があり、さらに金属又
は半金属例えば、Zn、Cu、Ni、Cr、Ge、S
e、Au、Ag、Al等を用いることができる。又、
の目的に対しては金属、例えば、Al、Au、Ag等
や、金属光沢を有する有機薄膜、例えば、メチン染料、
キサンテン系染料等を挙げることができ、、の目的
に対しては紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性
樹脂等を用いることができる。下引き層の膜厚としては
0.01〜30μm、好ましくは0.05〜10μmが
適当である。<< Undercoat Layer >> The undercoat layer has improved adhesiveness,
It is used for the purpose of barrier of water or gas, improvement of storage stability of recording layer, improvement of reflectance, protection of substrate from solvent, formation of guide groove, guide pit, preformat and the like. For the purpose of
Various polymer compounds such as ionomer resins, polyamide resins, vinyl resins, natural resins, natural polymers, silicones, liquid rubbers, and silane coupling agents can be used. In addition to materials, inorganic compounds such as SiO, MgF, SiO 2 , T
iO, ZnO, TiN, SiN, etc., and further metal or metalloid such as Zn, Cu, Ni, Cr, Ge, S
e, Au, Ag, Al, etc. can be used. or,
For the purpose of, a metal such as Al, Au, Ag or the like, an organic thin film having a metallic luster such as a methine dye,
Examples thereof include xanthene-based dyes. For the purpose, an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like can be used. The film thickness of the undercoat layer is 0.01 to 30 μm, preferably 0.05 to 10 μm.
【0038】《金属反射層》金属反射層は単体で高反射
率の得られる腐食されにくい金属、半金属等が挙げら
れ、材料例としてはAu、Ag、Cr、Ni、Al、F
e、Sn等が挙げられるが、反射率、生産性の点からA
u、Ag、Alが最も好ましく、これらの金属、半金属
は単独で使用しても良く、2種の合金としても良い。膜
形成法としては蒸着、スッパタリング等が挙げられ、膜
厚としては50〜5000Å、好ましくは100〜30
00Åである。<< Metal Reflective Layer >> The metal reflective layer may be made of a metal or a semi-metal which does not easily corrode and which has a high reflectance, and examples of the material include Au, Ag, Cr, Ni, Al and F.
e, Sn, etc., but in terms of reflectance and productivity, A
u, Ag, and Al are most preferable, and these metals and semimetals may be used alone or as an alloy of two kinds. Examples of the film forming method include vapor deposition and spattering, and the film thickness is 50 to 5000 Å, preferably 100 to 30.
It is 00Å.
【0039】《保護層、基板面ハードコート層》保護層
及び基板面ハードコート層は記録層(反射吸収層)を
傷、ホコリ、汚れ等から保護する、記録層(反射吸収
層)の保存安定性の向上、反射率の向上等を目的とし
て使用される。これらの目的に対しては、前記下引き層
に示した材料を用いることができる。又、無機材料とし
て、SiO、SiO2等も用いることができ、有機材料
としてポリメチルアクリレート、ポリカーボネート、エ
ポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル樹脂、ビニル
樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、天然ゴム、ス
チレンブタジエン樹脂、クロロプレンゴム、ワックス、
アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱軟化性、熱溶融
性樹脂も用いることができる。上記材料のうち最も好ま
しい例としては生産性に優れた紫外線硬化型樹脂であ
る。保護層又は基板面ハードコート層の膜厚は0.01
〜30μm、好ましくは0.05〜10μmが適当であ
る。本発明において、前記下引き層、保護層、及び、基
板面ハードコート層には記録層の場合と同様に、安定
剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、
可塑剤等を含有させることができる。<< Protective Layer, Substrate-side Hard Coat Layer >> The protective layer and the substrate-side hard coat layer protect the recording layer (reflective / absorptive layer) from scratches, dust, dirt, etc., and storage stability of the recording layer (reflective / absorptive layer). It is used for the purpose of improving the property and the reflectance. For these purposes, the materials shown for the undercoat layer can be used. Further, SiO, SiO 2 or the like can be used as the inorganic material, and polymethyl acrylate, polycarbonate, epoxy resin, polystyrene, polyester resin, vinyl resin, cellulose, aliphatic hydrocarbon resin, natural rubber, styrene butadiene can be used as the organic material. Resin, chloroprene rubber, wax,
A heat-softening and heat-melting resin such as an alkyd resin, a drying oil and a rosin can also be used. The most preferable example of the above materials is an ultraviolet curable resin having excellent productivity. The thickness of the protective layer or the hard coat layer on the substrate surface is 0.01
-30 μm, preferably 0.05-10 μm is suitable. In the present invention, the undercoat layer, the protective layer, and the substrate surface hard coat layer, as in the case of the recording layer, a stabilizer, a dispersant, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, a surfactant,
A plasticizer or the like can be included.
【0040】次に、ポルフィリン異性体の化合物例につ
いて具体的に説明する。Next, a specific example of the porphyrin isomer will be described.
【0041】ポルフィリン異性体例 ―その1―Examples of Porphyrin Isomers-Part 1-
【化11】 [Chemical 11]
【0042】[0042]
【表1】 [Table 1]
【0043】ポルフィリン異性体例 ―その2―Example of Porphyrin Isomers-Part 2-
【化12】 [Chemical 12]
【0044】[0044]
【表2】 [Table 2]
【0045】ポルフィリン異性体例 ―その3―Examples of Porphyrin Isomers—Part 3—
【化13】 [Chemical 13]
【0046】[0046]
【表3】 [Table 3]
【0047】ポルフィリン異性体例 ―その4―Examples of Porphyrin Isomers—Part 4—
【化14】 [Chemical 14]
【0048】[0048]
【表4】 [Table 4]
【0049】ポルフィリン異性体例 ―その5―Examples of Porphyrin Isomers—Part 5—
【化15】 [Chemical 15]
【0050】[0050]
【表5】 [Table 5]
【0051】《実施例1、2》厚さ1.0mmの石英板
上に、それぞれ化合物例No.4及びNo.14とアク
リル系フォトポリマー(60/40重量%)のクロロホ
ルム溶液をスピンコート塗布した後、紫外線を照射し硬
化させ超解像マスク膜とした。膜厚は、硬化後のポルフ
ィリン異性体の最大吸収波長での吸光度が〜1となるよ
うスピンコート条件を設定した。<< Examples 1 and 2 >> Compound Examples Nos. 1 and 2 were placed on a quartz plate having a thickness of 1.0 mm. 4 and No. 14 and a chloroform solution of acrylic photopolymer (60/40% by weight) were spin-coated and then irradiated with ultraviolet rays to be cured to obtain a super-resolution mask film. For the film thickness, spin coating conditions were set so that the absorbance of the cured porphyrin isomer at the maximum absorption wavelength was ˜1.
【0052】《実施例3、4、5》実施例1で化合物N
o.4、14の替わりにそれぞれ、化合物No.21、
31、37をさらにフォトポリマーの替わりにエポキシ
系熱硬化接着剤を用いた。<< Examples 3, 4, and 5 >> Compound N in Example 1
o. Instead of Compound Nos. 4 and 14, Compound No. 21,
Further, in Nos. 31 and 37, an epoxy thermosetting adhesive was used instead of the photopolymer.
【0053】《比較例1》実施例1で、化合物例No.
4の替わりに一般式(1)の無置換無金属のポルフィリ
ン異性体とポリスチレンの共蒸着膜を用いた。Comparative Example 1 In Example 1, the compound No.
Instead of 4, a co-deposited film of polystyrene with an unsubstituted metal-free porphyrin isomer of the general formula (1) was used.
【0054】〈記録条件〉このポルフィリン分散膜に発
振波長405nmの半導体レーザ光を照射し、平衡に達
した時の透過率を測定し、そのレーザ光強度と透過率の
関係を調べた。<Recording Conditions> This porphyrin-dispersed film was irradiated with a semiconductor laser beam having an oscillation wavelength of 405 nm, the transmittance when equilibrium was reached was measured, and the relationship between the laser light intensity and the transmittance was investigated.
【0055】[0055]
【表6】
いずれの膜も青色レーザ光強度に対し、その透過率に非
線形性が見られ超解像マスク膜として機能することが確
認できた。又、無金属無置換のポルフィリンに比較し、
金属配位ポルフィリン及び重原子置換ポルフィリンの方
がより非線形性が強く現れた。[Table 6] It was confirmed that any of the films had a nonlinearity in the transmittance with respect to the intensity of the blue laser light and could function as a super-resolution mask film. In addition, in comparison with porphyrins without metal substitution,
The non-linearity was stronger in the metal-coordinated porphyrin and the heavy atom-substituted porphyrin.
【0056】[0056]
【発明の効果】上記の通り本発明により、青色レーザ波
長域に高速応答な過飽和吸収特性を示す超解像マスク材
料及びそれを用いた青色レーザ対応の高転送速度を有す
る超解像マスク光記録媒体を提供でき、従来の光ディス
クでは実現不可能なピックアップレンズの回折限界を越
えた記録密度で、記録再生可能で高転送速度を有する光
記録媒体が提供できる。As described above, according to the present invention, a super-resolution mask material exhibiting a supersaturated absorption characteristic with a high-speed response in a blue laser wavelength range and a super-resolution mask optical recording having a high transfer rate corresponding to a blue laser using the same. A medium can be provided, and an optical recording medium capable of recording / reproducing and having a high transfer rate can be provided with a recording density exceeding the diffraction limit of a pickup lens, which cannot be realized by a conventional optical disc.
【0057】請求項1〜8により400〜550nmの
波長域のレーザ光で回折限界以上の高密度記録、再生が
可能な超解像マスク光情報記録媒体が提供でき、請求項
9、10では超解像マスク層の好ましい材料構成が提供
できる。請求項11により超解像マスク層に用いるポル
フィリン異性体体の好ましい光学特性が提供でき、請求
項12〜15はより良好な超解像マスク特性を与えるポ
ルフィリン誘導体の具体的な化学構造が提供できる。請
求項16は青色レーザ波長に限定した超解像マスク記録
再生方法が提供できる。According to claims 1 to 8, it is possible to provide a super-resolution mask optical information recording medium capable of high-density recording and reproduction with a laser beam in the wavelength range of 400 to 550 nm, which is higher than the diffraction limit. A preferable material constitution of the resolution mask layer can be provided. According to claim 11, preferred optical properties of the porphyrin isomer used in the super-resolution mask layer can be provided, and claims 12 to 15 can provide a specific chemical structure of the porphyrin derivative giving better super-resolution mask properties. . The sixteenth aspect can provide a super-resolution mask recording / reproducing method limited to the blue laser wavelength.
【図1】(a)(b)(c)は本発明の光記録媒体の層
構成の例を示す説明図である。1A, 1B, and 1C are explanatory views showing an example of a layer structure of an optical recording medium of the present invention.
【図2】超解像マスク膜による光学開口の形成を示す説
明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing formation of an optical aperture by a super-resolution mask film.
【図3】超解像マスク膜の入射光強度と透過率の関係を
示す線図である。FIG. 3 is a diagram showing the relationship between incident light intensity and transmittance of a super-resolution mask film.
1 基板 2 超解像再生層 3 記録層 5 超解像記録層 1 substrate 2 Super-resolution reproduction layer 3 recording layers 5 Super-resolution recording layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 植野 泰伸 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 野口 宗 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 5D029 JB47 MA02 MA03 MA04 5D090 AA01 BB03 CC01 CC04 CC14 CC16 DD01 FF11 KK06 LL01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page (72) Inventor Yasunobu Ueno 1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Stocks Company Ricoh (72) Inventor Noguchi Mune 1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo Stocks Company Ricoh F-term (reference) 5D029 JB47 MA02 MA03 MA04 5D090 AA01 BB03 CC01 CC04 CC14 CC16 DD01 FF11 KK06 LL01
Claims (16)
記記録層の上又は/及び下に、置換基を有してもよい4
つのピロール環が置換基を有してもよい炭素原子を介し
て、又は直接結合した構造を有する化合物であり、該4
つのピロール環を結ぶ置換基を有してもよい炭素原子の
合計数が4つで、かつ少なくとも一個所はピロール環が
炭素原子を介さず直接結合した化合物からなる分散層を
設けたことを特徴とする光記録媒体。1. An optical recording medium provided with a substrate and a recording layer may have a substituent on or under the recording layer.
A compound having a structure in which two pyrrole rings are directly bonded via a carbon atom which may have a substituent,
The total number of carbon atoms which may have a substituent linking two pyrrole rings is four, and at least one place is provided with a dispersion layer made of a compound in which the pyrrole rings are directly bonded without interposing carbon atoms. And an optical recording medium.
(1)で示されるポルフィリン異性体であることを特徴
とする光記録媒体。 【化1】 [但し、式中R1〜R8、X1〜X4はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、
カルボキシル基、置換もしくは未置換のアルキル基、置
換もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換
のアリール基、置換もしくは未置換のアミノ基、置換も
しくは未置換のアシル基を表す。Mは2個の水素原子、
又は酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしく
は4価の金属原子、又は(OR9)p、(OSiR10R
11R12)q、(OPOR13R14)r、(OCOR15)s
を有してもよい金属原子を表す。R9〜R15は独立に水
素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素
基を表し、p、q、r、sは0〜2の整数を表す。]2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the compound is a porphyrin isomer represented by the general formula (1). [Chemical 1] [Wherein R 1 to R 8 and X 1 to X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group,
It represents a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, or a substituted or unsubstituted acyl group. M is two hydrogen atoms,
Or a divalent, trivalent, or tetravalent metal atom which may have oxygen or halogen, or (OR 9 ) p, (OSiR 10 R
11 R 12 ) q, (OPOR 13 R 14 ) r, (OCOR 15 ) s
Represents a metal atom which may have. R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and p, q, r and s each represent an integer of 0 to 2. ]
(2)で示されるポルフィリン異性体であることを特徴
とする光記録媒体。 【化2】 [但し、式中R1〜R8、X1〜X4はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カ
ルボキシル基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換
もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換の
アリール基、置換もしくは未置換のアミノ基、置換もし
くは未置換のアシル基を表す。Mは2個の水素原子、又
は酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは
4価の金属原子、又は(OR9)p、(OSiR10R11
R12)q、(OPOR13R14)r、(OCOR15)sを
有してもよい金属原子を表す。R9〜R15は独立に水素
原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基
を表し、p、q、r、sは0〜2の整数を表す。]3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the compound is a porphyrin isomer represented by the general formula (2). [Chemical 2] [Wherein R 1 to R 8 and X 1 to X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted It represents an alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, or a substituted or unsubstituted acyl group. M is two hydrogen atoms, or a divalent, trivalent, or tetravalent metal atom which may have oxygen or halogen, or (OR 9 ) p, (OSiR 10 R 11
R 12 ) q, (OPOR 13 R 14 ) r, and (OCOR 15 ) s represent a metal atom which may have. R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and p, q, r and s each represent an integer of 0 to 2. ]
(3)で示されるポルフィリン異性体であることを特徴
とする光記録媒体。 【化3】 [但し、式中R1〜R8、X1〜X4はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カ
ルボキシル基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換
もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換の
アリール基、置換もしくは未置換のアミノ基、置換もし
くは未置換のアシル基を表す。Mは2個の水素原子、又
は酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは
4価の金属原子、又は(OR9)p、(OSiR10R11
R12)q、(OPOR13R14)r、(OCOR15)sを
有してもよい金属原子を表す。R9〜R15は独立に水素
原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基
を表し、p、q、r、sは0〜2の整数を表す。]4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the compound is a porphyrin isomer represented by the general formula (3). [Chemical 3] [Wherein R 1 to R 8 and X 1 to X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted It represents an alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, or a substituted or unsubstituted acyl group. M is two hydrogen atoms, or a divalent, trivalent, or tetravalent metal atom which may have oxygen or halogen, or (OR 9 ) p, (OSiR 10 R 11
R 12 ) q, (OPOR 13 R 14 ) r, and (OCOR 15 ) s represent a metal atom which may have. R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and p, q, r and s each represent an integer of 0 to 2. ]
(4)で示されるポルフィリン異性体であることを特徴
とする光記録媒体。 【化4】 [但し、式中R1〜R8、X1〜X4はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カ
ルボキシル基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換
もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換の
アリール基、置換もしくは未置換のアミノ基、置換もし
くは未置換のアシル基を表す。Mは2個の水素原子、又
は酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは
4価の金属原子、又は(OR9)p、(OSiR10R11
R12)q、(OPOR13R14)r、(OCOR15)sを
有してもよい金属原子を表す。R9〜R115は独立に水
素原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素
基を表し、p、q、r、sは0〜2の整数を表す。]5. The optical recording medium according to claim 1, wherein the compound is a porphyrin isomer represented by the general formula (4). [Chemical 4] [Wherein R 1 to R 8 and X 1 to X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted It represents an alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, or a substituted or unsubstituted acyl group. M is two hydrogen atoms, or a divalent, trivalent, or tetravalent metal atom which may have oxygen or halogen, or (OR 9 ) p, (OSiR 10 R 11
R 12 ) q, (OPOR 13 R 14 ) r, and (OCOR 15 ) s represent a metal atom which may have. R 9 ~R1 15 is independently a hydrogen atom, an aliphatic substituted or unsubstituted, an aromatic hydrocarbon group, p, q, r, s represents an integer of 0 to 2. ]
(5)で示されるポルフィリン異性体であることを特徴
とする光記録媒体。 【化5】 [但し、式中R1〜R8、X1〜X4はそれぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カ
ルボキシル基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換
もしくは未置換のアルコキシ基、置換もしくは未置換の
アリール基、置換もしくは未置換のアミノ基、置換もし
くは未置換のアシル基を表す。Mは2個の水素原子、又
は酸素、ハロゲンを有してもよい2価、3価、もしくは
4価の金属原子、又は(OR9)p、(OSiR10R11
R12)q、(OPOR13R14)r、(OCOR15)sを
有してもよい金属原子を表す。R9〜R15は独立に水素
原子、置換もしくは未置換の脂肪族、芳香族炭化水素基
を表し、p、q、r、sは0〜2の整数を表す。]6. The optical recording medium according to claim 1, wherein the compound is a porphyrin isomer represented by the general formula (5). [Chemical 5] [Wherein R 1 to R 8 and X 1 to X 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted It represents an alkoxy group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, or a substituted or unsubstituted acyl group. M is two hydrogen atoms, or a divalent, trivalent, or tetravalent metal atom which may have oxygen or halogen, or (OR 9 ) p, (OSiR 10 R 11
R 12 ) q, (OPOR 13 R 14 ) r, and (OCOR 15 ) s represent a metal atom which may have. R 9 to R 15 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted aliphatic or aromatic hydrocarbon group, and p, q, r and s each represent an integer of 0 to 2. ]
けた超解像再生層であることを特徴とする請求項1〜6
のいずれかに記載の光記録媒体。7. The super-resolution reproducing layer provided above or below the recording layer, wherein the dispersion layer is a super-resolution reproducing layer.
The optical recording medium according to any one of 1.
方に設けた超解像記録層であることを特徴とする請求項
1〜6のいずれかに記載の光記録媒体。8. The optical recording medium according to claim 1, wherein the dispersion layer is a super-resolution recording layer provided both above and below the recording layer.
線硬化型樹脂からなる請求項1〜8のいずれかに記載の
光記録媒体。9. The optical recording medium according to claim 1, wherein the dispersion layer comprises a porphyrin isomer and an ultraviolet curable resin.
硬化型樹脂からなる請求項1〜8のいずれかに記載の光
記録媒体。10. The optical recording medium according to claim 1, wherein the dispersion layer comprises a porphyrin isomer and a thermosetting resin.
子吸光係数が100000以上で、緩和時間τが1ns
≦τ≦100nsである請求項1〜10のいずれかに、
記載の光記録媒体。11. The molecular extinction coefficient of the compound at a recording / reproducing wavelength is 100,000 or more, and the relaxation time τ is 1 ns.
≦ τ ≦ 100 ns, in any one of claims 1 to 10,
The optical recording medium described.
である請求項1〜11のいずれかに記載の光記録媒体。12. The optical recording medium according to claim 1, wherein the compound is a metalloporphyrin isomer.
で置換されている請求項1〜12のいずれかに記載の光
記録媒体。13. The optical recording medium according to claim 1, wherein the compound is substituted with a heavy atom having an atomic weight of 30 or more.
項13記載の光記録媒体。14. The optical recording medium according to claim 13, wherein the substituent is a halogen atom.
14記載の光記録媒体。15. The optical recording medium according to claim 14, wherein the substituent is Br or I.
光を用い、前記分散層のレーザビーム中心部分の透過率
を高めて記録再生する請求項1〜15のいずれか記載の
光記録媒体の記録再生方法。16. The recording / reproducing method for an optical recording medium according to claim 1, wherein recording / reproducing is performed by using a laser beam having a wavelength of 400 nm to 550 nm to increase the transmittance of the central portion of the laser beam of the dispersion layer.
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|---|---|---|---|
| JP2002044775A JP2003248974A (en) | 2002-02-21 | 2002-02-21 | Optical recording medium and recording / reproducing method thereof |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008163184A (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Ricoh Co Ltd | Two-photon absorption materials and their applications |
| JP2019137676A (en) * | 2018-02-08 | 2019-08-22 | 国立大学法人九州大学 | Manufacturing method of porphycene compound |
-
2002
- 2002-02-21 JP JP2002044775A patent/JP2003248974A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008163184A (en) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Ricoh Co Ltd | Two-photon absorption materials and their applications |
| JP2019137676A (en) * | 2018-02-08 | 2019-08-22 | 国立大学法人九州大学 | Manufacturing method of porphycene compound |
| JP7233645B2 (en) | 2018-02-08 | 2023-03-07 | 国立大学法人九州大学 | porphycene compounds |
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