JP2003248969A - 光ディスク、および光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ディスク面内のいずれの箇所でも一定の反射
率および変調度等を示す、安定したディスク特性を有す
る光ディスクを提供する。 【解決手段】 有機色素から成る記録層および金属の反
射層を有し、レーザー光による情報の記録および再生が
可能な光ディスクにおいて、記録層における有機色素
の成分比をディスクの半径方向で不均一とすること、
記録層のグルーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さ
の比をディスクの半径方向で不均一とすること、反射
層の厚さをディスクの半径方向で不均一とすること、ま
たは反射層における成分比をディスクの半径方向で不
均一とすることにより、通常の方法および材料で作製さ
れる基板において不可避的に生じる光学特性の不均一さ
を相殺し、全体のディスク特性を一定にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学的に情報の記
録・再生が可能な光ディスクに関するものであり、特に
レーザー光等の照射により記録層を変化させて記録する
光ディスクおよびその製造方法、ならびにその製造装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＣＤが普及しそれに伴ってＣＤ規
格に対応した記録可能な光ディスクが開発され使用され
るようになっている。ＣＤ−Ｒは、通常片面に螺旋状の
グルーブ（案内溝）を有する透明樹脂基板を用い、この
上に有機系色素溶液をスピンコート装置で塗布した後に
溶媒を乾燥させて記録層を形成し、更に、その上に金属
のスパッタリング等により形成した反射層、ならびに紫
外線硬化樹脂等をスピンコート装置等で塗布して硬化さ
せることにより形成した保護層を設けて構成される。

【０００３】最近は、情報の更なる高密度化の方向を目
指して、いわゆるＤＶＤが開発され、実用に供されてい
る。ＤＶＤは、ＣＤと同様に成形機で厚さ０．６ｍｍの
樹脂基板に、例えばトラックピッチ０．７４μｍ、最短
ピット長０．４０μｍのピットを形成し、その上に反射
層を設け、更にディスクとしての強度を確保するため
に、紫外線硬化樹脂などの接着剤を介して厚さ０．６ｍ
ｍの樹脂基板を積層して一体化することにより、製造さ
れる。そして、ＤＶＤについてもＣＤ−Ｒと同様に、ラ
イトワンス型のＤＶＤ−Ｒが市販されている。

【０００４】図１にＤＶＤ−Ｒの代表的な構成を模式的
に示す。図１に示すＤＶＤ−Ｒは、グルーブ１ａを有す
る透明の樹脂製基板１、有機色素を含む記録層２、反射
層３、接着層４および基板１と同じ厚さを有する樹脂製
基板５を含む構成となっている。なお、図１の光ディス
クは、理解の容易のため、各層の厚さの比率等は実際の
ものとは異なるように表されている。

【０００５】記録層２への記録は、所定の波長を有する
レーザー光を基板側から記録層へ照射することにより有
機色素等を変化、例えば分解させることにより、および
／またはそれによる記録層の干渉構造の変化を利用して
情報に応じたピットを形成することにより行なわれる。
この記録層２は、ＣＤ−Ｒと同様に有機系色素を適当な
溶媒に溶解した溶液をスピンコートする方法により形成
でき、あるいは、有機系色素等を真空蒸着させることに
よっても形成できる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ＣＤ−ＲまたはＤＶＤ
−Ｒに関して生じ得る問題として、ディスク特性、特に
反射率および変調度がディスクの内周と外周とで異なる
という問題がある。ここでいう反射率とは、光ディスク
の記録層に情報を記録再生する際に使用する光（例えば
レーザ光）、即ち記録再生波長の光を照射したときの反
射率である。以下の説明を含む本明細書において、単に
「反射率」というときは記録再生波長の光の反射率を指
す。

【０００７】上記の問題が生じる理由として、ＣＤ−Ｒ
またはＤＶＤ−Ｒを構成する樹脂製基板の複屈折および
／または基板に形成されるグルーブの深さが、基板の半
径方向において一定でないことが挙げられる。

【０００８】ディスク形状の基板は、樹脂を金型（スタ
ンパとも呼ばれる）の中央部から放射状に流す射出成形
によって形成される。スタンパには、基板に所望のグル
ーブが形成されるように凹凸が形成されている。基板の
複屈折は、一般に基板の内周において最も大きく、外周
へ向かうにつれて減少する傾向にある。これは、基板を
射出成形する際の圧力条件等により、基板の半径方向に
おいて均一な分子量分布が得られないこと等に起因する
と考えられる。また、基板に形成されるグルーブの深さ
は、中心から外周に向かうにつれて浅くなる傾向にあ
る。これは、射出成形によりグルーブを形成する際に、
外周部において、スタンパに形成された凹凸が十分に転
写されない、即ち転写率が低いことによると考えられ
る。

【０００９】複屈折が小さい部分およびグルーブの深さ
が浅い部分はともに、最終的に得られる光ディスクにお
いて反射率の大きい部分となる。したがって、光ディス
クは、一般に、内周から外周に向かうにつれて、その反
射率が大きくなる。またグルーブの深さが浅い部分は、
最終的に得られる光ディスクにおいて変調度の小さい部
分となる。

【００１０】複屈折に関する問題を解消するために、例
えば、基板を形成する材料の組成等を変更することが行
われている。しかし、射出成形後の基板において一定の
複屈折を実現するためには、特殊な材料を選択する必要
があり、そのような材料は一般に高価である。また、グ
ルーブの深さが一定でないという問題を解消するため
に、例えば、特殊なスタンパが使用されている。しか
し、特殊なスタンパの作製には熟練を要するため、特殊
なスタンパの使用は費用および時間の点において不利で
ある。

【００１１】ライトワンス（ｗｒｉｔｅ−ｏｎｃｅ）型
の光ディスクに対しては、一定のディスク特性を確保す
ることが要求される。したがって、１つの光ディスク
は、あらゆる箇所において所定の反射率および変調度等
を有する必要がある。所定の反射率および変調度等を有
しない光ディスクは、規格を満たさないものとみなさ
れ、製品となり得ない。

【００１２】このように、光ディスクのディスク特性
は、いずれの箇所においても一定範囲内の値をとるよう
に規格で定められている。現在市販されているＣＤ−Ｒ
およびＤＶＤ−Ｒは、内周および外周の反射率等に差を
有するものの、その差は規格上、許容される範囲内であ
る。しかし、光ディスクにはなお一層の改善が求められ
ており、全体にわたってより均一なディスク特性を有す
る光ディスクが常に要求されている。本発明はかかる実
情に鑑みてなされたものであり、特殊なスタンパおよび
射出成形技術を使用することなく製造された、通常の材
料から成る基板を使用した場合でも、反射率および変調
度等が全体にわたって一定した、優れたディスク特性を
有する光ディスクを提供することを課題とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、第１の光ディスクとして、有機色素から
成る記録層を有する光ディスクであって、記録層が２種
類以上の有機色素を構成成分として含み、記録層におけ
る成分比がディスクの半径方向において一定でない光デ
ィスクを提供する。

【００１４】第１の光ディスクは、記録層が２種類以上
の有機色素を構成成分として含み、記録層における成分
比がディスクの半径方向において一定でないことを特徴
とする。したがって、この第１の光ディスクの記録層に
おいて、成分比が同じである部分は同心円状に存在する
こととなる。成分比は、各有機色素が記録層に占める割
合（重量基準）で示される。成分比がディスクの半径方
向において一定でない場合には、１）記録層に含まれる
各有機色素の割合がいずれも、ディスクの半径方向にお
いて一定でない場合、および２）記録層に含まれる有機
色素が３種類であって、１種類の有機色素の割合はディ
スクの半径方向全体にわたって一定であり、残り２種類
の有機色素の割合がディスクの半径方向において変化す
る場合等が含まれる。

【００１５】記録層において成分比が変化すると、記録
層の光学特性、特に反射率が変化する。したがって、記
録層における成分比を、例えば、記録層の反射率がディ
スクの内周で大きくなり、外周で小さくなるようにディ
スクの半径方向で変化させれば、通常の光ディスク用基
板に由来するディスクの半径方向の光学特性の変化が相
殺される。このように、本発明の第１の光ディスクは、
記録層における成分比を所望のように変化させること
で、全体の光学特性をディスクの半径方向において一定
にし、ディスク面内で安定した記録再生特性を示すよう
にしたものである。

【００１６】上記課題を解決するため、本発明は、第２
の光ディスクとして、有機色素から成る記録層を有する
光ディスクであって、記録層のグルーブ部分の厚さに対
するランド部分の厚さの比が、ディスクの半径方向にお
いて一定でない光ディスクを提供する。

【００１７】第２の光ディスクは、基板のグルーブの上
に位置する記録層の厚さに対する、基板のランドの上に
位置する記録層の厚さの比が、ディスクの半径方向にお
いて一定でないことを特徴とする。したがって、この第
２の光ディスクの記録層において、記録層のグルーブ部
分の厚さに対するランド部分の厚さの比が同じである部
分は、略同心円状に存在することとなる。ここで、グル
ーブおよびランドは通常の意味において使用される。記
録層のグルーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さの
比は、あるグルーブ部分における記録層の厚さに対す
る、当該グルーブ部分における記録層の厚さの比であ
り、隣接するグルーブ部分とランド部分の記録層の段差
の大小として捉えることができる。記録層のグルーブ部
分の厚さに対するランド部分の厚さが大きいほど、２つ
の部分の間の段差は大きくなる。２つの部分の間の段差
の大小は、例えば、プッシュプル信号から知ることがで
きる。

【００１８】記録層のグルーブ部分の厚さに対するラン
ド部分の厚さの比が変化することによっても、記録層の
光学特性、特に反射率が変化する。一般に、記録層のグ
ルーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さの比が大き
いほど、即ち、２つの部分の間の段差が大きいほど、反
射率は低くなる傾向にある。したがって、記録層におけ
るグルーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さの比
を、外周側ほど大きくなるように変化させれば、通常の
光ディスク用基板に由来するディスクの半径方向の光学
特性の変化が相殺される。このように、本発明の第２の
光ディスクは、記録層のグルーブ部分の厚さに対するラ
ンド部分の厚さの比を所望のように変化させることで、
全体の光学特性をディスクの半径方向において一定に
し、ディスク面内で安定した記録再生特性を示すように
したものである。

【００１９】あるいは、第２の光ディスクは、記録層
が、基板の中心からの距離が異なる位置に配置された２
以上のノズルから、粘度がそれぞれ異なる有機色素溶液
を滴下して、スピンコートすることにより形成された層
である光ディスクとして特定される。そのように特定さ
れる光ディスクは、例えば同心円を形成するように、場
所によって粘度の異なる有機色素溶液を塗布することに
より、ディスクの半径方向において光学特性が一定でな
い記録層を有するものとなる。

【００２０】上記課題を解決するため、本発明は第３の
光ディスクとして、有機色素から成る記録層、および反
射層を有する光ディスクであって、反射層の厚さがディ
スクの半径方向において一定でない光ディスクを提供す
る。

【００２１】第３の光ディスクは、反射層の厚さがディ
スクの半径方向において一定でないことを特徴とする。
したがって、この第３の光ディスクの反射層において、
厚さが同じである部分は同心円状に存在することとな
る。

【００２２】反射層の厚さは、光ディスクの特性、特に
反射率および変調度に影響を及ぼす。一般に反射層の厚
さが大きいと、反射率は大きくなり、変調度は小さくな
る。反射層の厚さが小さいと、反射率は小さくなり、変
調度は大きくなる。したがって、例えば、反射層の厚さ
をディスクの内周で大きくし、外周で小さくすれば、通
常の光ディスク用基板に由来するディスクの半径方向の
光学特性の変化が相殺される。このように、本発明の第
３の光ディスクは、反射層の厚さを所望のように変化さ
せることで、全体の光学特性をディスクの半径方向にお
いて一定にし、ディスク面内で安定した記録再生特性を
示すようにしたものである。

【００２３】上記課題を解決するため、本発明は第４の
光ディスクとして、有機色素から成る記録層、および反
射層を有する光ディスクであって、反射層が２種類以上
の元素を構成成分として含み、反射層における成分比が
ディスクの半径方向において一定でない光ディスクを提
供する。

【００２４】第４の光ディスクは、反射層が２種類以上
の元素を構成成分として含み、反射層における成分比が
ディスクの半径方向において一定でないことを特徴とす
る。成分比は、各元素が反射層に占める割合（重量基
準）で示される。したがって、この第４の光ディスクの
反射層において、成分比が同じである部分は同心円状に
存在することとなる。成分比がディスクの半径方向にお
いて一定でない場合には、１）反射層に含まれる各元素
の割合がいずれもディスクの半径方向において一定でな
い場合、および２）反射層に含まれる元素が３種類であ
って、１種類の元素の割合はディスクの半径方向全体に
わたって一定であり、残り２種類の元素の割合がディス
クの半径方向において変化する場合等が含まれる。

【００２５】反射層における成分比は、光ディスクの光
学特性、特に反射率に影響を及ぼす。したがって、反射
層における成分比を、例えば、反射層の反射率がディス
クの内周で大きくなり、外周で小さくなるようにディス
クの半径方向で変化させれば、通常の光ディスク用基板
に由来するディスクの半径方向の光学特性の変化が相殺
される。このように、本発明の第４の光ディスクは、反
射層における成分比を所望のように変化させることで、
全体の光学特性をディスクの半径方向において一定に
し、ディスク面内で安定した記録再生特性を示すように
したものである。

【００２６】本発明の光ディスクは、通常の方法および
材料で作製される基板において不可避的に生じる光学特
性の不均一さを、記録層における成分比を不均一とす
ること、記録層のグルーブ部分の厚さに対するランド
部分の厚さの比を不均一とすること、反射層の厚さを
不均一とすること、または反射層における成分比を不
均一とすることにより相殺し、反射率および変調度をデ
ィスクの半径方向において実質的に一定にした光ディス
クである。〜を２以上組み合わせることもまた可能
であり、それによって、光ディスクの光学特性をより精
密に制御することができる。

【００２７】本発明はまた、上記第１の光ディスクを製
造する方法であって、記録層を有機色素溶液のスピンコ
ートにより形成することを含み、スピンコートを、基板
の中心からの距離が異なる位置に配置された２以上のノ
ズルから、有機色素の組成がそれぞれ異なる有機色素溶
液を滴下するとともに、各ノズルを基板の半径方向で往
復運動させながら実施することを特徴とする光ディスク
の製造方法を提供する。

【００２８】この製造方法は、有機色素の組成が異なる
有機色素溶液を２以上使用し、各有機色素溶液を、基板
の中心からの距離が異なる位置に配置された別々のノズ
ルから滴下してスピンコートすることにより記録層を形
成することを特徴とする。有機色素溶液の有機色素の組
成が異なるとは、溶液に含まれる有機色素の種類および
／または配合比が異なることをいう。この製造方法によ
れば、有機色素の組成の異なる有機色素溶液が、基板の
半径方向においてそれぞれ異なる領域に塗布される。そ
れにより、記録層における成分比がディスクの半径方向
において一定でない記録層を得ることができる。

【００２９】本発明はまた、上記第２の光ディスクを製
造する方法であって、記録層を有機色素溶液のスピンコ
ートにより形成することを含み、スピンコートを、基板
の中心からの距離が異なる位置に配置された２以上のノ
ズルから、粘度がそれぞれ異なる有機色素溶液を滴下す
るとともに、各ノズルを基板の半径方向で往復運動させ
ながら実施することを特徴とする光ディスクの製造方法
を提供する。粘度が異なる有機色素溶液は、好ましく
は、溶剤または溶剤組成が異なる有機色素溶液である。
溶剤が異なるとは、有機色素を溶解する溶剤の種類が異
なることをいう。溶剤組成が異なるとは、溶液に溶剤が
２種類以上含まれる場合に、溶剤の種類および／または
配合比が異なることをいう。記録層のグルーブ部分の厚
さに対するランド部分の厚さの比は、スピンコート時の
有機色素溶液の粘度によって変化する。したがって、こ
の製造方法によれば、記録層のグルーブ部分の厚さに対
するランド部分の厚さの比がディスクの半径方向におい
て一定でない記録層を得ることができる。

【００３０】本発明はまた、上記第３の光ディスクを製
造する方法であって、反射層をスパッタリングにより形
成することを含み、スパッタリングを、基板の一部を覆
う遮蔽板をターゲットと基板との間に配置して、基板を
自転させながら実施することを特徴とする光ディスクの
製造方法を提供する。ここで、スパッタリングされる基
板は、記録層が形成されたものである。以下の説明を含
む本明細書において、スパッタリングされる対象として
「基板」というときは、記録層が形成された基板を指
す。

【００３１】この製造方法においては、基板の一部を遮
蔽板で覆うとともに、基板を自転させながらスパッタリ
ングを実施する。遮蔽板で覆われている基板の部分には
ターゲット物質が付着しない。そのため、スパッタリン
グ中、所定部分が遮蔽板で他の部分よりも長く覆われる
と、その部分の厚さが小さくなる。遮蔽板に対して基板
が静止した状態でスパッタリングを実施すると、基板に
反射層が形成されない部分が生じるため、基板を自転さ
せる。また、遮蔽板の形状は、基板において、基板が１
回転する間中常に遮蔽板で覆われる部分が存在しないよ
うな形状にする必要がある。基板においてそのような部
分が存在すると、その部分にはターゲット物質が付着せ
ず、反射層が形成されない。

【００３２】このように、遮蔽板を使用すれば、反射層
が均一な厚さに形成されることが防止される。したがっ
て、遮蔽板の形状を適宜選択することにより、反射層の
厚さをディスクの半径方向において所望のように変化さ
せ得る。

【００３３】本発明はまた、上記第４の光ディスクを製
造する方法であって、反射層をスパッタリングにより形
成することを含み、スパッタリングを、組成の異なる複
数の独立したターゲットを用い、基板を移動させて各タ
ーゲットで順に実施し、少なくとも１つのターゲットで
スパッタリングするときに、ターゲットと基板との間に
位置して基板の一部を覆う遮蔽板を配置して、基板を自
転させることを特徴とする光ディスクの製造方法を提供
する。

【００３４】この製造方法においては、組成の異なる独
立した複数のターゲットを用いる。ターゲットが独立し
ているとは、当該ターゲットをスパッタして基板に薄膜
を形成しているときに、別のターゲットに由来する物質
が薄膜の形成に関与しないことを意味する。即ち、この
製造方法において、スパッタリングは実質的に常に１つ
のターゲットを用いて実施されることとなる。

【００３５】この製造方法においては、基板を移動させ
て各ターゲットで順にスパッタリングを実施することに
より、反射層を形成する。例えば、３つのターゲットＴ
１、Ｔ２、Ｔ３を使用する場合、基板を繰り返し順に移
動させて、Ｔ１〜Ｔ３でスパッタリングすることを繰り
返し、Ｔ１膜−Ｔ２膜−Ｔ３膜がこの順に繰り返し形成
されて成る多層構造の反射層を形成する。多層構造を有
するように反射層を形成すれば、各ターゲットに由来す
る膜が厚さ方向で偏在せず、厚さ方向における反射層の
成分比が比較的均一になる。

【００３６】また、この製造方法においては、少なくと
も１つのターゲットでスパッタリングするときに、ター
ゲットと基板との間に位置して基板の一部を覆う遮蔽板
を配置して、基板を自転させながらスパッタリングを行
う。遮蔽板の機能は、先に第２の光ディスクの製造方法
に関連して説明したとおりである。複数のターゲットを
使用するとともに、少なくとも１つの遮蔽板を用いるこ
とによって、ディスクの半径方向で成分比が異なる反射
層を形成することが可能となる。遮蔽板を全く配置しな
い場合、複数のターゲットを使用しても、形成される反
射層はディスク全体にわたって一定の成分比を有するこ
ととなる。

【００３７】本発明はまた、上記第４の光ディスクを製
造する方法であって、反射層をスパッタリングにより形
成することを含み、スパッタリングを組成が半径方向に
おいて一定でないターゲットを用いて実施することを特
徴とする光ディスクの製造方法を提供する。この製造方
法によれば、２種類以上の元素を含み、成分比がディス
クの半径方向において一定でない反射層を、単一のター
ゲットで形成することができる。

【００３８】本発明はまた、上記第１または第２の光デ
ィスクを製造する装置であって、スピンコート装置を含
み、スピンコート装置が、基板の中心からの距離が異な
る位置に配置された複数のノズル、および各ノズルを基
板の半径方向で往復運動させる機構を含むことを特徴と
する光ディスク製造装置を提供する。この製造装置は、
上記で説明した、第１または第２の光ディスクを製造す
る方法を実施するために用いられる。

【００３９】本発明はまた、上記第３の光ディスクを製
造する装置であって、スパッタリング装置を含み、スパ
ッタリング装置が、ターゲット、基板を配置させたとき
にターゲットと基板との間に位置して基板の一部を覆う
遮蔽板、および基板を自転させる機構を含むことを特徴
とする光ディスク製造装置を提供する。この製造装置
は、上記で説明した、第３の光ディスクを製造する方法
を実施するために用いられる。

【００４０】本発明はまた、上記第４の光ディスクを製
造する装置であって、スパッタリング装置を含み、スパ
ッタリング装置が、ａ）組成の異なる複数の独立したタ
ーゲット、ｂ）各ターゲットで順に基板をスパッタリン
グするように基板を移動させる機構、ｃ）少なくとも１
つのターゲットでスパッタリングするときに、ターゲッ
トと基板との間に位置して基板の一部を覆う遮蔽板、お
よびｄ）基板を自転させる機構を含むことを特徴とする
光ディスク製造装置を提供する。この製造装置は、上記
で説明した、第４の光ディスクを製造する方法を実施す
るために用いられる。

【００４１】

【発明の実施の形態】以下、上記本発明の第１〜第４の
光ディスクの具体的な形態を、その製造方法およびその
製造装置とともに説明する。

【００４２】本発明の第１の光ディスクは、記録層が２
種類以上の有機色素を構成成分として含み、記録層にお
ける成分比がディスクの半径方向において一定でないも
のである。有機色素は、光ディスクの記録層を構成する
有機色素として採用されているものから選択される。

【００４３】記録層を構成する２種類以上の有機色素
は、最大吸収波長（λmax）がそれぞれ異なる有機色素
である。ここで、λmaxは、成膜した状態にて測定され
る値である。１種類の有機色素のみで記録層を形成し、
これに記録再生波長の光を照射すると、記録層は有機色
素の膜のλmaxによって異なる光学特性（特に反射率）
を示す。また、膜のλmaxが異なる２種類以上の有機色
素で記録層を形成し、これに記録再生波長の光を照射す
ると、記録層は各有機色素が記録層に占める割合に応じ
て、１種類の有機色素で形成した記録層とは異なる光学
特性を示す。したがって、記録層における成分比がディ
スクの半径方向において一定でない記録層は、ディスク
の半径方向において、成分比に応じて異なる反射率を示
すこととなる。なお、記録再生波長は、ＣＤ−Ｒについ
ては７００〜８００nm、一般には７８０nmであり、ＤＶ
Ｄ−Ｒについては６３０〜６８０nm、一般には６５０nm
である。

【００４４】一般に、有機色素の膜のλmaxが大きいほ
ど（即ち、長波長側にあるほど）、その色素で記録層を
形成した光ディスクの反射率は低くなる。したがって、
記録層は、光ディスクの種類に応じて、膜のλmaxの小
さい有機色素と膜のλmaxの大きい有機色素を組み合わ
せて構成するとよい。例えば、ＣＤ−Ｒを作製する場合
には、膜のλmaxが７００〜７７０nmの範囲内にある色
素と、膜のλmaxが７５０〜７８０nmの範囲内にある色
素とを組み合わせて記録層を構成することが好ましい。
また、ＤＶＤ−Ｒを作製する場合には、膜のλmaxが５
５０〜６００nmの範囲内にある色素と、膜のλmaxが５
８０〜６３０nmの範囲内にある色素とを組み合わせて記
録層を構成することが好ましい。

【００４５】記録層は、好ましくは膜のλmaxが異なる
２〜５種類の有機色素で構成される。有機色素を５種類
より多くしても、ディスクの半径方向で記録層の光学特
性を変化させるという本発明の効果に変わりはない。

【００４６】また、記録層の主たる有機色素に着目した
ときに、当該主たる有機色素がディスクの内周部にて記
録層に占める割合に対して、当該主たる有機色素がディ
スクの外周部にて記録層に占める割合は１割以上異なっ
ていることが好ましい。即ち、外周部に占める主たる有
機色素の割合が、内周部に占める主たる有機色素の割合
よりも、１割以上多い又は少ないことが好ましい。主た
る有機色素の占める割合が、ディスクの内周部と外周部
とで１割以上異なっていない場合、光ディスクの反射率
はディスクの半径方向において有意に変化しない。記録
層において主たる有機色素が２種類以上存在する場合、
少なくとも１種類の主たる有機色素について、ディスク
の内周部にて記録層に占める割合に対して、ディスクの
外周部にて記録層に占める割合が１割以上異なっている
ことが好ましい。

【００４７】ここで、主たる有機色素とは、光ディスク
の種類に応じた波長のレーザー光を用いて信号を良好に
記録再生することを確保する有機色素である。信号を良
好に記録再生するとは、記録した信号を再生するとき
に、変調度およびジッタ特性が規格で定められた値を満
たすことをいう。主たる有機色素は、膜のλmaxが所定
範囲内にあり、かつ膜の反射率が所定値以上となる有機
色素であり、光ディスクの種類に応じて異なる。例え
ば、ＣＤ−Ｒを作製する場合、主たる有機色素は膜のλ
maxが７５０〜７８０nmの範囲内にある有機色素であ
り、ＤＶＤ−Ｒを作製する場合、主たる有機色素は膜の
λmaxが５８０〜６３０nmの範囲内にある有機色素であ
る。また、内周部とは、光ディスクの記録領域の内周か
ら半径の２／３までの領域をいい、外周部とは、光ディ
スクの記録領域の外周から半径の１／３までの領域をい
う。したがって、例えば直径１２０mmのＤＶＤ−Ｒの場
合、半径２０mm（記録領域の内周に相当）から半径４０
mmまでの領域が内周部に相当し、半径４０mmから半径６
０mmまでの領域が外周部に相当する。

【００４８】いずれの光ディスクを作製する場合におい
ても、記録層を構成する主たる有機色素は記録層の２０
〜８０ｗｔ％を占めることが好ましい。主たる有機色素
として機能する有機色素が２種類以上記録層に含まれる
場合、少なくとも１種類の主たる有機色素が記録層の２
０〜８０ｗｔ％を占めていれば、他の主たる有機色素の
割合は２０ｗｔ％未満であってよい。主たる有機色素の
占める割合が２０ｗｔ％未満である場合、光ディスクは
規格で定められた変調度およびジッタを満足することが
できない。主たる有機色素の占める割合が８０ｗｔ％を
越えると、他の有機色素の占める割合が小さくなり、光
ディスクの反射率をディスクの半径方向において有意に
変化させることが困難となる。主たる有機色素の占める
割合は、記録層のいずれの部分においても、その割合が
２０〜８０ｗｔ％の範囲内にあるように、ディスクの半
径方向において変化していることが好ましい。

【００４９】ディスクの半径方向の各位置に存在する有
機色素の種類および割合は、記録層の光学特性（具体的
には反射率）をディスクの半径方向においてどのように
変化させるかに応じて決定される。前述のように、通常
の光ディスク用基板を用いて構成した光ディスクの反射
率は、ディスクの外周側ほど大きくなる傾向にある。し
たがって、通常の光ディスク用基板を用いる場合、記録
層はその反射率が外周部よりも内周部で高くなるように
形成することが好ましい。

【００５０】記録層の反射率は、記録層において膜のλ
maxの小さい有機色素の占める割合が大きいほど高くな
る。したがって、膜のλmaxの小さい有機色素の占める
割合が、外周部よりも内周部で大きくなるように記録層
を形成すると、記録層の内周部の反射率は外周部の反射
率よりも高くなる。例えば、膜のλmaxの小さい有機色
素Ａおよび膜のλmaxの大きい有機色素Ｂの２種類の有
機色素で記録層を構成する場合、内周部におけるＡ：Ｂ
は重量比で４：１〜３：２であることが好ましく、外周
部におけるＡ：Ｂは重量比で１：４〜２：３であること
が好ましい。

【００５１】記録層を構成する有機色素はいずれも、−
ＯＨ、−ＣＨＯ、−ＣＯＲ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ、
−ＣＯＮＨ₂、−ＣＯＮＨＲ、−ＣＯＮＲ₂、−Ｒ、−Ｎ
Ｈ₂、−ＮＯ₂、−ＮＨＲ、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃Ｍ、−
Ｘ、−ＣＨ＝ＣＨ₂、−ＯＲ、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＣＯ
ＯＸ、−ＣＯＯＭ、−ＣＨ₂Ｘ、−ＮＨＳＯ₂Ｒ、および
−ＮＨＳＯ₂Ｒf（Ｒは炭素数１〜２２のアルキル基また
はアリール基、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金
属、Ｘはハロゲン、Ｒfはフルオロアルキル基を示す）
から成る群から選択される基を少なくとも１つ有する化
合物であることが好ましい。

【００５２】前記の群から選択される基を少なくとも１
つ有する化合物である有機色素のうち、少なくとも１種
類の有機色素は、アゾ系、シアニン系、フタロシアニン
系、キノン系、インジゴ系、アリールメタン系、ポルフ
ィン系、スクアリリウム系、スピロピラン系、ペリレン
系、およびフルギド系色素から成る群から選択される有
機色素であることが好ましい。また、この群から選択さ
れる有機色素は、１Ａ族元素（Ｒｂ、ＣｓおよびＦｒを
除く）、２Ａ族元素（ＳｒおよびＲａを除く）、３Ａ族
元素（Ａｃを除く）、４Ａ〜７Ａ族元素、８族元素、１
Ｂ族元素、２Ｂ族元素、３Ｂ族元素（Ｂを除く）、４Ｂ
族元素（Ｃを除く）、５Ｂ族元素（Ｎ、ＰおよびＢｉを
除く）、ランタノイド元素、ならびにアクチノイド元素
（Ｐｕ、Ｃｍ、Ｂｋ、Ｃｆ、Ｅｓ、Ｆｍ、Ｍｄ、Ｎｏお
よびＬｒを除く）から成る群から選択される少なくとも
１種類の金属と化合して成る化合物であることがより好
ましい。金属と化合して成る化合物は、例えば、アゾ系
化合物と金属との錯体、シアニン系化合物と金属との錯
体、およびフタロシアニン系化合物と金属との錯体であ
る。

【００５３】記録層は、スピンコートにより形成され
る。スピンコートは、有機色素を溶剤に溶解した溶液
（有機色素溶液とも呼ぶ）を、基板上にノズルから滴下
して付与し、基板の回転により有機色素溶液を流延させ
た後、溶剤を蒸発させて塗膜を形成する方法である。有
機色素溶液は、溶剤に有機色素をその濃度が０．１〜１
０wt％となるように溶解して調製する。溶剤は有機色素
の溶解性を考慮して選択する。一般に、溶剤は、アルコ
ール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、ピリジン
系溶剤、アニリン系溶剤、アミン系溶剤、ピペリジン系
溶剤、ピロリジン系溶剤、スルホキシド系溶剤、チオフ
ェン系溶剤および炭化水素系溶剤から選択される。溶剤
は混合溶剤であってよい。溶剤は、２５℃にて０．１〜
５０ｍPa・ｓ（０．１〜５０ｃＰ）の粘度を有するもの
であることが好ましい。

【００５４】本発明の第１の光ディスクの記録層を形成
するために、スピンコートは、具体的には、有機色素の
組成がそれぞれ異なる有機色素溶液を、基板の中心から
の距離が異なる位置に配置された２以上のノズルからそ
れぞれ滴下するとともに、各ノズルを基板の半径方向で
往復運動させながら実施する。

【００５５】そのようなスピンコートは、図２に示すよ
うなスピンコート装置により実施される。図２に示すス
ピンコート装置20は、基板１の中心からの位置が異なる
位置に配置された２つのノズル22ａおよび22ｂを有す
る。ノズル22ａおよび22ｂから有機色素溶液が吐出され
る。ノズル22ａおよび22ｂは互いに独立しており、その
位置は基板の半径方向において任意に変化させ得る。ま
た、ノズル22ａおよび22ｂはそれぞれ、スピンコートを
実施しているときに、基板の半径方向で往復運動するよ
うになっており、図示した装置はそのための機構（図示
せず）を有する。スピンコートを実施している間、基板
１は基板支持台24で保持される。基板支持台24は駆動装
置（図示せず）に接続されて、軸ｋのまわりを軸回転で
きるようになっている。基板支持台24の回転速度は、一
般に、５０〜８０００ｒｐｍの範囲内で制御される。図
２のスピンコート装置は、理解の容易のため、各部分の
大きさの比率等は実際のものとは異なるように表されて
いる。

【００５６】２つのノズル22ａおよび22ｂには、有機色
素の組成がそれぞれ異なる有機色素溶液が仕込まれる。
各ノズルから有機色素溶液を滴下してスピンコートを実
施すると、ノズル22ａから滴下された溶液は、ノズル22
ａの直下からノズル22ｂの直下までの領域の記録層を主
に形成し、ノズル22ｂから滴下された溶液は、ノズル22
ｂの直下から外周までの領域の記録層を主に形成する。
したがって、ノズル22ａおよび22ｂから滴下する有機色
素溶液に含まれる有機色素の組成を、それぞれの領域に
て得ようとする成分比に応じて選択し、かつノズル22ａ
および22ｂの基板の中心からの位置を選択することによ
って、所望の領域にて所望の成分比を有する記録層を形
成できる。

【００５７】例えば、半径６０mmの基板に記録層を形成
する場合において、ノズル22ａにλmaxの小さい有機色
素の配合比が大きい有機色素溶液を仕込み、ノズル22ｂ
にλmaxの大きい有機色素の配合比が大きい有機色素溶
液を仕込み、ノズル22ａを基板の内周に位置させ、ノズ
ル22ｂを基板の半径４０〜６０mmの場所に位置させれ
ば、反射率が内周部で高く、外周部で低い記録層が形成
される。

【００５８】スピンコートは、各ノズルを基板の半径方
向で往復運動させるとともに、基板を低速（５０〜５０
０ｒｐｍ）で回転させながら、各ノズルから所定量の有
機色素溶液を滴下し、それから滴下を止めて、基板を高
速（５００〜８０００ｒｐｍ）で回転させる手順で実施
することが好ましい。ノズルを半径方向で往復運動させ
ると、滴下される有機色素溶液は基板表面でスパイラル
状の軌跡を描く。このように有機色素溶液を滴下する
と、ノズルを静止した状態で有機色素溶液を滴下する場
合と比較して、薄い層をより均一に形成することができ
る。基板の高速回転は、基板上の有機色素溶液を、遠心
力の作用により均一に広げるとともに、余分な溶液を振
り切るために実施する。基板の高速回転は一般に１〜６
０秒程度実施される。

【００５９】各ノズルの往復運動は、各ノズルで塗布す
べき領域において、基板の半径方向のいずれの箇所の上
にもノズルが位置するように行うことが好ましい。例え
ば、ノズル22ａで塗布すべき領域が基板の内周から半径
ｒmmまでの領域である場合、ノズル22ａは基板の内周と
半径ｒmmの位置との間で往復運動させることが好まし
い。

【００６０】各ノズルから滴下する有機色素溶液の量
は、独立して調節し得ることが好ましい。各ノズルから
滴下する有機色素溶液の量は、各ノズルで塗布すべき領
域の面積、塗れ性、溶剤の粘度および揮発速度、ならび
に塗布環境の温湿度等に応じて選択される。図２に示す
ように２つのノズルを使用する場合には、内周側のノズ
ル22ａおよび外周側のノズル22ｂからは、それぞれ同じ
量の有機色素溶液を滴下することが好ましい。有機色素
溶液は、２つのノズルから、例えば０．０１〜０．５ｃ
ｃずつ滴下するとよい。また、滴下は、一般に１〜１０
秒程度かけて行われる。

【００６１】図示した装置は２つのノズルを有するもの
であるから、記録層は成分比の異なる２の領域を有する
こととなる。ノズルの数は３以上であってよい。ノズル
の数が多いほど、記録層において成分比の異なる領域の
数を多くすることができ、成分比を多段階で変化させる
ことが可能となる。ノズルの数の多少に拘らず、成分比
の異なる領域間の境界は明確でないことに留意すべきで
ある。内周側に位置するノズルから吐出された有機色素
溶液の一部が、基板の回転中に外周側にも広がるためで
ある。

【００６２】図示したスピンコート装置は、常套のスピ
ンコート装置に含まれる他の部材または装置を有してよ
い。他の部材または装置は、例えば、有機色素溶液の周
囲への飛散を防止する壁、および有機溶剤を蒸発させる
ために使用する乾燥装置である。

【００６３】次に本発明の第２の光ディスクについて説
明する。第２の光ディスクは、記録層のグルーブ部分の
厚さに対するランド部分の厚さの比がディスクの半径方
向において一定でないものである。第２の光ディスクに
おいては、記録層におけるグルーブ部分とランド部分と
の間の段差が反射率に及ぼす影響を利用して、記録層の
反射率をディスクの半径方向において変化させている。
したがって、第２の光ディスクにおいて、記録層は１種
類の有機色素から成ってよい。あるいは、記録層が２種
類以上の有機色素から成る場合でも、第１の光ディスク
のように成分比を半径方向において一定でないようにす
る必要はない。記録層を構成する有機色素は、第１の光
ディスクに関連して好ましい有機色素として列挙したも
のから、光ディスクの種類に応じて選択される。

【００６４】第２の光ディスクにおいて、記録層のグル
ーブ部分の厚さに対するランド部分の厚さの比は、所望
の反射率特性が得られるように、半径方向において変化
させる。記録層のグルーブ部分の厚さに対するランド部
分の厚さの比、即ち、記録層のランド部分の厚さｔ_Ｌ／
記録層のグルーブ部分の厚さｔ_Ｇは、記録層のいずれの
部分においても、０．１〜０．７の範囲内にあることが
好ましい。０．１よりも小さいと、反射率は高くなるも
のの、プッシュプル信号が小さくなり、トラッキングが
困難となるために、記録および再生の安定性に欠ける。
０．７よりも大きいと、プッシュプル信号は大きくな
り、記録および再生の安定性は良好となるものの、反射
率が低くなり、またグルーブ間の信号のクロストークが
大きくなるために、ジッター等の信号の品質が悪くな
る。

【００６５】本発明の第２の光ディスクにおいて、ディ
スクの内周部のｔ_Ｌ／ｔ_Ｇに対して、ディスクの外周部
のｔ_Ｌ／ｔ_Ｇは５〜３０％異なっていることが好まし
い。内周部および外周部の範囲は、先に第１の光ディス
クに関連して説明したとおりである。外周部のｔ_Ｌ／ｔ
_Ｇが、内周部のｔ_Ｌ／ｔ_Ｇに対して５％以上異なってい
ない場合、あるいは３０％を超えて異なっている場合、
ディスク面内で反射率を均一にすることが困難となる場
合がある。

【００６６】ディスクの半径方向の各位置におけるｔ_Ｌ
／ｔ_Ｇは、記録層の光学特性（具体的には反射率）をデ
ィスクの半径方向においてどのように変化させるかに応
じて決定される。前述のように、通常の光ディスク用基
板を用いて構成した光ディスクの反射率は、ディスクの
外周側ほど大きくなる傾向にある。したがって、通常の
光ディスク用基板を用いる場合、ｔ_Ｌ／ｔ_Ｇは、記録層
の反射率が外周部よりも内周部で高くなるように変化さ
せることが好ましい。

【００６７】前述のように、記録層の反射率は、ｔ_Ｌ／
ｔ_Ｇが大きいほど、即ち、グルーブ部分とランド部分と
の間の段差が大きいほど、小さくなる。したがって、ｔ
_Ｌ／ｔ_Ｇが、内周部よりも外周部で大きくなるように記
録層を形成すると、記録層の内周部の反射率は外周部の
反射率よりも高くなる。具体的には、外周部におけるｔ
_Ｌ／ｔ_Ｇは０．３５〜０．７とすることが好ましく、内
周部におけるｔ_Ｌ／ｔ _Ｇは０．１〜０．３５とすること
が好ましい。使用する有機色素の種類および組成が同じ
である場合、一般に、より粘度の高い有機色素溶液を使
用して形成した記録層においては、ｔ_Ｌ／ｔ_Ｇが小さく
なる傾向にある。前述のように、ｔ_Ｌ／ｔ_Ｇの大小はプ
ッシュプル信号で知ることができる。

【００６８】第２の光ディスクの記録層もまた、スピン
コートにより形成される。有機色素溶液を調製する際に
採用する濃度および溶剤は、第１の光ディスクに関連し
て説明したとおりであるから、ここではその詳細な説明
を省略する。

【００６９】本発明の第２の光ディスクの記録層を形成
するために、スピンコートは、具体的には、粘度がそれ
ぞれ異なる有機色素溶液を、基板の中心からの距離が異
なる位置に配置された２以上のノズルからそれぞれ滴下
することを含む。更に好ましくは、スピンコートは、各
ノズルを基板の半径方向で往復運動させながら実施す
る。

【００７０】そのようなスピンコートもまた、第１の光
ディスクと同様、図２に示すようなスピンコート装置20
を使用して実施される。第２の光ディスクを製造する場
合、２つのノズル22ａおよび22ｂには、粘度がそれぞれ
異なる有機色素溶液が仕込まれる。第１の光ディスクに
関連して説明したように、２つのノズル22ａおよび22ｂ
の基板の中心からの位置を選択することによって、所望
の領域にて所望のｔ_Ｌ／ｔ_Ｇを有する記録層を形成でき
る。

【００７１】有機色素溶液の粘度は、溶剤の種類を変え
ることによって、あるいは２種類以上の溶剤を混合した
混合溶剤を使用する場合には溶剤組成を変えることによ
って、変えることができる。各ノズルから滴下する有機
色素溶液の粘度は、乾燥後の記録層において所望のｔ_Ｌ
／ｔ_Ｇが得られるように選択する。

【００７２】いずれのノズルから滴下される有機色素溶
液も、溶液の調製に使用する溶剤（混合溶剤を含む）の
粘度は、２５℃において０．１〜５０ｍＰａ・ｓ（０．
１〜５０ｃＰ）の範囲内にあることが好ましい。一般
に、溶剤の粘度が低くなると沸点も低くなるので、溶剤
の粘度が０．１ｍＰａ・ｓ未満である場合には、記録層
の形成に使用できる時間が短い、即ち、有機色素溶液を
滴下してから溶剤が蒸発するまでの時間が短くなる。そ
のため、有機色素溶液が十分に流延する前に、溶剤の蒸
発が進行し、平滑な記録層を形成することが困難となる
場合がある。溶剤の粘度が５０ｍＰａ・ｓを越える場
合、溶剤の蒸発に長い時間を要する、即ち、記録層の形
成時間が長くなるために、光ディスクの製造時間全体が
長くなり、製造効率が低下する。

【００７３】図２に示すようなスピンコート装置を使用
する場合、ディスクの外周部にてスピンコートする有機
色素溶液に含まれる溶剤の粘度は、ディスクの内周部に
てスピンコートする有機色素溶液に含まれる溶剤の粘度
に対して、１割以上異なっていることが好ましい。そう
でない場合、記録層のｔ_Ｌ／ｔ_Ｇをディスクの半径方向
において有意に変化させることができず、したがって光
ディスクの反射率がディスクの半径方向において有意に
変化しない。

【００７４】一般に、同じ有機色素を使用する場合、溶
剤の粘度が大きいほど、即ち、有機色素溶液の粘度が大
きいほど、当該溶液で形成される記録層の反射率は高く
なる傾向にある。前述のように、光ディスク用基板は、
本来的に内周部で低い反射率を有し、外周部で高い反射
率を有する。基板の反射率の半径方向におけるこの変化
を相殺するためには、内周部に滴下する有機色素溶液に
含まれる溶剤の粘度を、外周部のそれよりも高くするこ
とが好ましい。具体的には、内周部に滴下する有機色素
溶液に含まれる溶剤の粘度は、外周部に滴下する有機色
素溶液に含まれる溶剤の粘度の１．２〜３倍であること
が好ましい。内周部に滴下する溶液に含まれる溶剤／外
周部に滴下する溶液に含まれる溶剤の組合せとして、具
体的には、オクタフルオロペンタノール（２４ｍＰａ・
ｓ）／テトラフルオロプロパノール（８ｍＰａ・ｓ）、
ドデカフルオロヘキサノール（４６ｍＰａ・ｓ）／オク
タフルオロペンタノール（２４ｍＰａ・ｓ）、オクタフ
ルオロペンタノール（２４ｍＰａ・ｓ）／ヘキサフルオ
ロブタノール（１０ｍＰａ・ｓ）等が挙げられる。

【００７５】有機色素溶液に含まれる溶剤は、粘度の異
なる２種以上の溶剤から成る混合溶剤であってよい。溶
剤が、混合溶剤である場合、各溶剤の配合比を変えるこ
とによって、溶剤の粘度、ひいては溶液の粘度を変える
ことができる。混合溶剤を使用する場合、好ましくは粘
度の異なる２〜５種類の溶剤の混合溶剤が使用される。
溶剤を５種類より多くしても、ディスクの半径方向で記
録層の光学特性を変化させるという本発明の効果に変わ
りはない。

【００７６】本発明の第２の光ディスクは、それぞれ粘
度の異なる有機色素溶液を使用するという点を除いて
は、本発明の第１の光ディスクと同様にして作製され
る。したがって、スピンコートの具体的な条件およびス
ピンコート装置の具体的な構成等は、第１の光ディスク
に関連して説明したとおりであるから、ここではその詳
細な説明を省略する。

【００７７】次に本発明の第３の光ディスクについて説
明する。第３の光ディスクは、反射層の厚さがディスク
の半径方向において一定でないものである。

【００７８】ディスクの半径方向の各位置における反射
層の厚さは、反射層の厚さが光ディスクの変調度に及ぼ
す影響を考慮するともに、反射層の反射率をディスクの
半径方向においてどのように変化させるかに応じて決定
される。前述のように、通常の光ディスク用基板を使用
した場合、光ディスクの反射率は外周に向かうにつれて
大きくなり、変調度は外周に向かうにつれて小さくなる
傾向にある。したがって、通常の光ディスク用基板を用
いる場合、反射層の厚さを内周から外周に向かって減少
させ、反射層の反射率を内周から外周に向かって小さく
するとともに、光ディスクの変調度を外周側で高くする
ことが好ましい。

【００７９】反射層において、最も薄い部分の厚さは、
最も厚い部分の厚さをを１としたときに０．７未満であ
ることが好ましい。反射層において最も厚い部分の厚さ
と、最も薄い部分の厚さとの比は、より好ましくは１：
０．７〜１：０．５である。最も厚い部分に対する最も
薄い部分の比が０．７を越えると、反射層の反射率はデ
ィスクの半径方向において有意に変化しない。最も厚い
部分に対する最も薄い部分の比が０．５未満であると、
ディスクの半径方向において反射率の変化が大きくなり
すぎて、最終的に得られる光ディスクにおいて反射率を
均一にすることができない。

【００８０】第３の光ディスクの反射層は、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、
Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ
ｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｔｅ、Ｐｂ、ＳｎおよびＢｉから成る群から選択
される元素で形成される。これらの元素は単独で、また
は２種類以上組み合わせて、例えば合金の形態で使用し
てよい。反射層を構成する元素は、最終的に得られる光
ディスクが規格で定められている反射率を有するように
選択される。例えば、ＣＤ−Ｒの場合、ディスク全体が
６５〜８５％の反射率を有し、ＤＶＤ−Ｒの場合、ディ
スク全体が４５〜８５％の反射率を有するように、反射
層は構成される。したがって、反射率を構成する元素と
して、通常、少なくとも１種類の金属元素が選択され
る。反射層は、好ましくは、Ａｇ、ＡｕもしくはＡｌを
主たる成分とする金属材料または合金で形成される。そ
のような金属材料または合金は、反射率および耐候性の
点から好ましく用いられる。中でも、銀または銀合金
は、反射率が高く、コスト的にも有利であることから特
に好ましい。

【００８１】反射層の厚さは、使用する金属の種類、記
録層の光学特性、および光ディスクの種類等に応じて、
最終的に得られる光ディスクが規格で定められているデ
ィスク特性（例えばジッタ等）を満たすように選択され
る。例えば、ＣＤ−Ｒの反射層は、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌま
たはこれらの合金を使用して、最も厚い部分の厚さが６
０〜２００nmとなるように形成することが好ましい。Ｃ
Ｄ−Ｒの反射層の厚さは、５０〜１７０nmの範囲内で
（即ち、最も薄い部分が５０mmより薄くならず、最も厚
い部分が１７０mmより厚くならないように）変化してい
ることがより好ましい。ＤＶＤ−Ｒの反射層は、Ａｕ、
Ａｇ、Ａｌまたはこれらの合金を使用して、最も薄い部
分の厚さが５０nm以上となるように形成することが好ま
しい。ＤＶＤ−Ｒの反射層の厚さは、７５〜１７０nmの
範囲内で変化していることがより好ましい。

【００８２】反射層は、基板に記録層を形成した後、記
録層の表面にスパッタリングにより形成する。スパッタ
リングは、光ディスクの反射層を形成する方法として一
般的に採用されている。第３の光ディスクの反射層の形
成に際しては、スパッタリングを、基板の一部を覆う遮
蔽板をターゲットと基板との間に配置して、基板を自転
させながら実施し、それにより反射層の厚さをディスク
の半径方向で一定でないようにする。

【００８３】遮蔽板で覆われている基板の部分には、タ
ーゲット物質が付着しない。そのため、スパッタリング
中、基板に反射層が形成されない部分が生じないよう
に、基板を回転させる必要がある。さらに、遮蔽板は、
基板において、基板が１回転する間中常に遮蔽板で覆わ
れる部分が存在しないような形状を有する必要がある。
即ち、遮蔽板は、基板が静止しているときに、反射層を
形成すべき領域において、基板の中心から等距離にある
箇所を結んだ線（即ち、円を描く線）の少なくとも一部
が遮蔽板で覆われないような形状を有する必要がある。
円を描く線の全部が遮蔽板で覆われると、基板を自転さ
せても、スパッタリングされない部分が生じるためであ
る。

【００８４】遮蔽板は、基板とターゲットとの間に位置
するように配置する。ターゲットおよび基板を、両者の
表面が対向するように配置する場合、遮蔽板は、基板表
面の近くに配置させることが好ましく、遮蔽板と基板表
面との間の距離は５cm程度までとするとよい。あるい
は、遮蔽板はターゲットの表面に配置してよい。また、
遮蔽板は、１００℃程度でも変形しない耐熱性材料（例
えば、アルミニウムもしくはＳＵＳ等の金属、またはポ
リカーボネート等のプラスチック）で形成し、その厚さ
は０．５〜２mm程度にするとよい。

【００８５】遮蔽板を使用するスパッタリングは、図３
に示すようなスパッタリング装置により実施される。図
３の（ａ）は、スパッタリング装置30に含まれるターゲ
ットＴ、遮蔽板Ｓ、および基板10の位置関係を模式的に
示す。図３の（ｂ）および（ｃ）はそれぞれ遮蔽板Ｓの
一例を示す平面図である。図示したスパッタリング装置
30において、ターゲットＴは、基板10と同じ直径を有す
る円盤形態であり、その表面が基板の表面と対向し、か
つ基板の表面と平行となるように配置されている。この
ターゲットＴと基板10との間に、遮蔽板Ｓが配置されて
いる。図３のスパッタリング装置は、理解の容易のた
め、各部分の大きさの比率等は実際のものとは異なるよ
うに表されている。

【００８６】図３の（ｂ）に示す遮蔽板Ｓは、基板と同
じ直径を有するディスク形状の板である。この遮蔽板に
は、２つの円形の開口部ｈ１およびｈ２が形成されてお
り、２つの開口部は、それぞれ基板の半径と同じ直径を
有し、２つの開口部の直径は遮蔽板の直径と一致する一
直線をなしている。図３の（ｂ）に示す遮蔽板Ｓを使用
すると、反射層は、その厚さが内周から外周に向かって
減少したものとなる。図３の（ｃ）に示す遮蔽板は、直
径が基板の半径と同じである２つのディスク形状の板ｄ
１およびｄ２から成る。２つの板の直径は基板の直径と
重なる一直線をなしている。図３の（ｃ）に示す遮蔽板
を使用すると、反射層は、その厚さが内周から外周に向
かって増加したものとなる。図示した遮蔽板は例示であ
り、遮蔽板の形状は、反射層の厚さをディスクの半径方
向において所望のように変化させ得る限りにおいて、別
の形状であってよい。

【００８７】その他の遮蔽板の例を図５の（ａ）〜
（ｅ）に示す。図５に示す遮蔽板Ｓはいずれも、開口部
ｈを有するものであり、基板とターゲットの間に位置さ
せてスパッタリングを実施すると、反射層の厚さは、開
口部ｈの形状寸法および数に応じてディスクの半径方向
において変化する。図５の（ａ）〜（ｄ）の遮蔽板を使
用すると、反射層の厚さは内周から外周に向かって減少
し、図５の（ｅ）の遮蔽板を使用すると、反射層の厚さ
は内周から外周に向かって増加する。図５の（ｃ）の遮
蔽板において、開口部ｈの中央部付近の膨らみが大きく
なるほど、内周における反射層の厚さと外周における反
射層の厚さとの差は大きくなる。図５に示すような開口
部を有する遮蔽板を使用する場合、開口部の形状および
数を、基板の中心から等距離にある箇所を結んだ線（即
ち、円を描く線）上に占める開口部の割合が内周から外
周に向かって変化するように適宜選択することによっ
て、反射層の厚さをディスクの半径方向で所望のように
変化させることができる。例えば、基板の中心から等距
離にある箇所を結んだ線上に占める開口部の割合が内周
から外周に向かって減少すれば、反射層の厚さは内周か
ら外周に向かって減少する。

【００８８】図示した装置を使用するスパッタリング
は、基板支持台32を駆動装置（図示せず）で軸ｎのまわ
りを軸回転させて基板10を自転させるとともに、ターゲ
ットＴの表面から金属をスパッタ蒸発させ、これを基板
10の表面に付着させることにより実施する。スパッタ蒸
発は常套の方法で実施され、例えば、ターゲットを陰極
とするグロー放電、またはイオンビームにより実施して
よい。スパッタリングの条件は、光ディスクの反射層を
形成するときに採用されている条件としてよい。

【００８９】図３は、第３の光ディスクの製造に適した
スパッタリング装置の一例の概略を示すものである。ス
パッタリング装置は、常套のスパッタリング装置が含む
他の部材または装置、例えば電源および排気装置等を含
んでよい。また、ターゲットは、基板と同じ直径を有し
ないものであってよい。

【００９０】次に本発明の第４の光ディスクについて説
明する。第４の光ディスクは、反射層が２種類以上の元
素を構成成分として含み、反射層における成分比がディ
スクの半径方向において一定でないものである。元素
は、光ディスクの反射層を構成する元素として採用され
ているものから選択され、例えば金属元素である。

【００９１】反射層を構成する元素は、反射率がそれぞ
れ異なる元素である。反射率がそれぞれ異なる元素は、
記録再生波長の光の吸収量がぞれぞれ異なる。反射率が
異なる２種類以上の元素で反射層を形成し、これに記録
再生波長の光を照射すると、各元素が反射層に占める割
合に応じて、１種類の元素で形成した反射層とは異なる
反射率を示す。したがって、反射層における成分比がデ
ィスクの半径方向において一定でない反射層は、ディス
クの半径方向において、成分比に応じて異なる反射率を
示すこととなる。

【００９２】反射層は、前述のように銀合金で形成する
ことが好ましい。第４の光ディスクの反射層を銀合金で
形成する場合、銀以外の成分は全体の０．５〜１０ｗｔ
％を占めることが好ましい。また、反射層における成分
比は、銀以外の成分の割合が反射層のいずれの部分にお
いても、この範囲内にあるように、ディスクの半径方向
において変化していることが好ましい。

【００９３】銀合金は、銀以外の成分として、Ａｕ、Ｃ
ｕ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍ
ｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、
Ｔｅ、Ｐｂ、ＳｎおよびＢｉから成る群から選択される
少なくとも１の元素を含むものであることが好ましく、
Ａｇ−Ａｕ−Ｎｄ合金、またはＡｇ−Ｐｄ−Ｃｕ合金で
あることがより好ましい。

【００９４】銀合金を使用する場合、ディスクの半径方
向の各位置にて銀以外の成分の占める割合は、反射層の
反射率をディスクの半径方向においてどのように変化さ
せるかに応じて決定される。銀合金の反射率は、銀以外
の成分の占める割合が高くなるほど、低くなる。前述の
ように、通常の光ディスク用基板を用いて構成した光デ
ィスクの反射率は、ディスクの外周側ほど大きくなる傾
向にある。したがって、通常の光ディスク用基板を用い
る場合、銀以外の成分の占める割合を内周から外周に向
かって増加させ、反射層の反射率を内周から外周に向か
って小さくすることが好ましい。

【００９５】銀以外の成分の占める割合を内周から外周
に向かって増加させる場合、ディスクの内周で銀以外の
成分の占める割合に対して、ディスクの外周で銀以外の
成分の占める割合は１割以上大きいことが好ましく、１
〜５割大きいことがより好ましい。したがって、例え
ば、ディスクの内周で銀以外の成分の占める割合が５ｗ
ｔ％である場合、ディスクの外周で銀以外の成分の占め
る割合は、好ましくは５．５ｗｔ％以上であり、より好
ましくは５．５〜７．５ｗｔ％である。ディスクの内周
と外周とで、銀以外の成分の占める割合が１割以上異な
っていない場合、光ディスクの反射率はディスクの半径
方向において有意に変化しない。

【００９６】第４の光ディスクの反射層は、銀合金以外
の材料で形成してよく、例えば、ＡｕまたはＡｌを主た
る成分とする合金で形成してよい。また、反射層は、２
種類以上の元素で構成される限りにおいて、任意の材料
で形成してよく、必ずしも合金で形成する必要はない。

【００９７】第４の光ディスクの反射層の厚さは、使用
する元素の種類、記録層の光学特性、および光ディスク
の種類等に応じて、最終的に得られる光ディスクが規格
で定められているディスク特性（例えばジッタ等）を満
たすように選択される。例えば、ＣＤ−Ｒの反射層を、
アルミニウムを主たる構成成分として形成する場合、そ
の厚さは７０〜１００nmとすることが好ましい。ＤＶＤ
−Ｒの反射層を、銀を主たる構成成分として形成する場
合、その厚さは５０nm以上とすることが好ましい。

【００９８】第４の光ディスクの反射層もまた、スパッ
タリングにより形成される。スパッタリングは、組成の
異なる複数の独立したターゲットを用い、基板を移動さ
せて各ターゲットで順に実施し、また、少なくとも１つ
のターゲットでスパッタリングするときに、ターゲット
と基板との間に位置して基板の一部を覆う遮蔽板を配置
して、基板を自転させる。このようにスパッタリングす
れば、反射層における成分比がディスクの半径方向にお
いて一定でなくなる。

【００９９】図４に、上記のスパッタリングを実施する
のに適したスパッタリング装置40を示す。図４の（ａ）
は、ターゲットＴａ〜Ｔｃ、遮蔽板ＳａおよびＳｂ、な
らびに基板10の位置関係を模式的に示す。図４の（ｂ）
は、基板側から見た各ターゲットＴａ〜Ｔｃならびに遮
蔽板ＳａおよびＳｂの位置関係を示す平面図である。図
４のスパッタリング装置は、理解の容易のため、各部分
の大きさの比率等は実際のものとは異なるように表され
ている。

【０１００】図示したスパッタリング装置においては、
組成がそれぞれ異なる３つのターゲットＴａ、Ｔｂおよ
びＴｃが配置されている。ターゲットはいずれも、基板
と同じ直径を有する円盤形態である。基板10は、回転可
能な基板支持台42に取り付けられ、基板支持台42は回転
台44に取り付けられ、回転台44は支持台46に固定されて
いる。回転台44は支持台46が軸ｎ１のまわりを軸回転す
ることにより回転し、それにより基板10が公転して、図
４の（ｂ）にて破線で示す軌跡を描く。基板10はまた、
基板支持台42が軸ｎ２のまわりを軸回転することにより
自転する。

【０１０１】基板10が公転している間に、基板10は各タ
ーゲットＴａ〜Ｔｃと対向する。基板10は各ターゲット
と対向しているときに、各ターゲットでスパッタリング
される。このとき、他のターゲットは薄膜形成に関与し
ない。図示した装置において、スパッタリングは、ター
ゲットＴａ、Ｔｂ、Ｔｃをこの順に使用して、繰り返し
実施される。その結果、反射層は、各ターゲットに由来
する薄膜が、Ｔａ膜−Ｔｂ膜−Ｔｃ膜の順に繰り返し形
成された構造を有することとなる。

【０１０２】基板10は、基板が各ターゲットと対向した
ときに、約５〜１０秒間静止するように公転させる。し
たがって、支持台46を回転させるための駆動装置は、基
板10がターゲットと対向したときに速やかに回転を停止
させる機能を有する必要がある。支持台46は、基板10を
１つのターゲットから次のターゲットへ移動させるとき
に回転させる。このとき、製造効率の点から、基板10の
移動時間はできるだけ短くすることが好ましく、支持台
46を大きい回転数で回転させて基板10を移動させること
が好ましい。但し、回転数を大きくしすぎると、基板10
をターゲットと対向する位置で直ちに停止させることが
難しくなる。支持台46の回転数は、具体的には２００ｒ
ｐｍ程度までとすることが好ましい。

【０１０３】図示したスパッタリング装置40において、
２つのターゲットＴａおよびＴｂの上方には、遮蔽板Ｓ
ａおよびＳｂが配置されている。遮蔽板Ｓａは、図３の
（ｃ）に示す遮蔽板と同じ形状を有している。したがっ
て、ターゲットＴａでスパッタリングすると、内周から
外周に向かって厚さが増加した膜が得られる。遮蔽板Ｓ
ｂは、図３の（ｂ）に示す遮蔽板と同じ形状を有してい
る。したがって、ターゲットＴｂでスパッタリングする
と、内周から外周に向かって厚さが減少した膜が得られ
る。また、遮蔽板Ｓｂに形成された開口部ｈｂ₁および
ｈｂ₂の形状および寸法は、遮蔽板Ｓａを構成するディ
スク形状の板ｄａ₁およびｄａ₂のそれらと同じである。
ターゲットＴｃの表面には遮蔽板が配置されていない。
したがって、ターゲットＴｃでスパッタリングすると、
厚さが均一な膜が得られる。

【０１０４】ターゲットＴａおよびＴｂでスパッタリン
グするとき、基板10を自転させる必要がある。基板は、
基板支持台42の軸回転によって自転させられる。基板10
は、例えば、回転数３０〜１００ｒｐｍで自転させる。
Ｔｃでスパッタリングするときは、遮蔽板がないため、
基板は自転させなくてもよい。

【０１０５】このスパッタリング装置を使用して、銀合
金から成り、銀以外の成分の割合が内周から外周にかけ
て減少している反射層は、次のようにして形成される。
ターゲットとして、銀以外の成分の占める割合がそれぞ
れ異なる３種類の銀合金を使用する。３つのターゲット
は、銀以外の成分の占める割合が最も大きいものをＴａ
とし、もっとも小さいものをＴｃとして、図４の（ｂ）
のように配置する。

【０１０６】まず、ターゲットＴａに基板を対向させ
て、スパッタリングを実施する。前述のとおり、ターゲ
ットＴａを用いたスパッタリングで形成される薄膜の厚
さは、ディスクの半径方向において内周から外周にかけ
て増加する。次に、ターゲットＴｂに基板を対向させ
て、スパッタリングを実施する。前述のとおり、ターゲ
ットＴｂを用いたスパッタリングで形成される薄膜の厚
さは、ディスクの半径方向において内周から外周にかけ
て減少する。次に、ターゲットＴｃに基板を対向させ
て、スパッタリングを実施する。ターゲットＴｃと基板
との間には遮蔽板が配置されていないから、ターゲット
Ｔｃを用いたスパッタリングにより形成される薄膜の厚
さは一定である。

【０１０７】遮蔽板Ｓｂの２つの開口部ｈｂ₁およびｈ
ｂ₂は、遮蔽板Ｓａを構成する２枚の板ｄａ₁およびｄａ
₂と同じ形状および寸法を有するから、ターゲットＴａ
およびＴｂのスパッタリングにより形成される薄膜の厚
さの変化は互いに相殺される。したがって、この装置で
形成される反射層は、全体として均一な厚さを有する膜
となる。また、この装置で形成される反射層は、Ｔｃに
由来する一定の厚さを有する膜の上に、ＴａおよびＴｂ
に由来する膜が形成されたものとみなし得る。そのよう
にみなし得る膜は、外周では厚さ方向においてターゲッ
トＴａに由来する膜の割合が多く、内周では厚さ方向に
おいてターゲットＴｂに由来する膜の割合が多いもので
ある。したがって、この反射層は、銀以外の成分の占め
る割合が、ディスクの半径方向において内周から外周に
向かって漸減した反射層となる。なお、実際に形成され
る反射層は、Ｔａ〜Ｔｃに由来する膜がこの順に積層さ
れた３層の積層体が繰り返し形成された多層構造を有す
る。

【０１０８】図示したスパッタリング装置は、本発明の
第４の光ディスクの反射層を形成する装置の一例の概略
を示したものであり、本発明の光ディスク製造装置に含
まれるスパッタリング装置はこれに限定されない。スパ
ッタリング装置は、例えば４つのターゲットを有するも
のであってよい。また、遮蔽板の形状は図示したものに
限定されず、他の形状であってよい。スパッタリング装
置は、常套のスパッタリング装置が含む他の部材または
装置、例えば電源および排気装置等を含んでよい。

【０１０９】図示したスパッタリング装置において、タ
ーゲットＴａ〜Ｔｃのうち２のみを使用することによっ
ても、ディスクの半径方向において成分比が一定でない
反射層を形成することができる。例えば、ターゲットＴ
ｂおよびＴｃのスパッタリングにより形成される反射層
は、Ｔｃに由来する膜の上に、Ｔｂに由来する膜が形成
されたものとみなし得る。前述のとおり、Ｔｃに由来す
る膜は一定の厚さを有し、Ｔｂに由来する膜は、その厚
さがディスクの半径方向において内周から外周に向かっ
て減少している膜である。よって、反射層全体の厚さは
半径方向において内周から外周に向かって減少する。ま
た、この反射層は、銀の割合の小さい銀合金が膜の厚さ
において占める割合が、ディスクの半径方向で内周から
外周にかけて小さくなっているものであるともいえる。
したがって、この反射層は、ディスクの半径方向におい
て、膜の厚さが内周から外周に向かって減少し、かつ銀
の占める割合が内周から外周に向かって減少しているも
のである。

【０１１０】図示したスパッタリング装置を用い、回転
台44を回転させることなくターゲットＴａまたはＴｂの
みでスパッタリングを実施すれば、成分比は一定で厚さ
が半径方向で変化した反射層が形成される。そのような
反射層を含む光ディスクは、前述の本発明の第３の光デ
ィスクに相当する。ターゲットＴｃのみでスパッタリン
グを実施すれば、成分比および厚さがともに一定の反射
層が形成される。

【０１１１】あるいは、第４の光ディスクの反射層は、
基板と同じ直径を有する円盤形態のターゲットであっ
て、組成が半径方向において一定でないターゲットを使
用することによっても製造される。そのようなターゲッ
トの一例を図６に示す。図６は、組成の異なる部分が同
心円状に３つの領域α、β、γに分かれているターゲッ
トＴｄである。例えば、ターゲットＴｄが銀合金から成
り、銀以外の成分の占める割合が領域αにおいて最も大
きく、領域γにおいて最も小さい場合には、銀以外の成
分の占める割合がディスクの内周から外周に向かって増
加している反射層が形成される。ターゲットＴｄは、例
えば、図４に示すスパッタリング装置において、ターゲ
ットＴｃに代えて配置することができる。その場合、回
転台44を回転させることなく、ターゲットＴｄのみでス
パッタリングを実施すれば、第４の光ディスクの反射層
を形成できる。

【０１１２】以上、本発明の第１〜第４の光ディスクの
特徴部分である記録層または反射層について詳述した。
本発明の光ディスクを構成する他の要素は、常套的に採
用されている材料および方法で構成でき、全体の構成は
従来のものと同様である。したがって、光ディスクが例
えばＤＶＤ−Ｒである場合、その構成は先に説明した図
１に示すようになる。

【０１１３】図１に示すＤＶＤ−Ｒは、従来の技術の欄
で説明したとおり、グルーブ１ａを有する透明のプラス
チック製基板１、記録層２、反射層３、接着剤層４およ
び基板１と同じ厚さを有するプラスチック製基板５を含
む構成となっている。

【０１１４】基板１は厚さが約０．６mmであり、トラッ
キング用のグルーブ１ａが螺旋状に形成された構造を有
する。基板１は、レーザ光を良好に透過させる透明の材
料から成るものであることが好ましい。そのような材料
としては、例えばポリカーボネート樹脂がある。グルー
ブ１ａは、その深さが１５０〜１８０nm、溝幅が０．２
３〜０．３７μｍとなるように形成され、そのトラック
ピッチは０．７４μｍである。

【０１１５】記録層２および反射層３は、先に説明した
とおりである。図示した態様において、反射層３の上に
は、接着剤層４を介して基板５が積層されている。基板
５は全体の強度を増すために設けられる。基板５は、基
板１と同じ厚さを有し、また、基板１と同じ材料から成
るものであることが好ましい。接着剤層４は、紫外線で
硬化するエポキシ樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル樹脂
またはシリコン系樹脂等を反射層３上に、スピンコート
もしくはスプレー等の方法で塗布することにより形成さ
れる。基板５に代えて、接着剤層４を層厚が０．５７〜
０．６３mm程度となるように塗布して保護層を形成し、
これにより全体の強度を向上させてもよい。

【０１１６】

【実施例】次に、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれにより限定されるものではない。

【０１１７】（有機色素の合成）記録層を構成する有機
色素として、下記の化学式（１）および（２）で示され
る２種類のアゾ系色素を用意した。

【０１１８】

【化１】

【０１１９】

【化２】

【０１２０】化学式（１）で示されるアゾ系色素は次の
手順に従って合成した。 １）２−（５−メチル−１，３，４−チアジアゾリル−
２−アゾ）−５−（ジエチルアミノ）−Ｎ−（トリフル
オロメタンスルホニル）アニリンの合成 反応容器に、酢酸７０ｍｌ、プロピオン酸３５ｍｌ、２
−アミノ−１，３，４−チアジアゾール８．０ｇ、およ
び６２％硫酸７ｍｌを仕込み、撹拌しながら０℃まで冷
却し、これに４４％ニトロシル硫酸２４．１ｇを１時間
かけて滴下した（Ａ液とする）。別の容器に３−（ジエ
チルアミノ）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）
アニリンのトリフルオロメタンスルホン酸塩３７．２
ｇ、メタノール２００ｍｌ、尿素２．９ｇ、および酢酸
ナトリウム２８ｇを仕込み、撹拌しながら０℃に冷却し
た。これに前記のＡ液を１時間かけて滴下した後、冷却
を止め徐々に室温に戻し、一晩撹拌した。反応液に水３
０ｍｌを滴下した後、反応液を濾過して結晶を得た。こ
れを温水およびメタノールで洗浄した後、乾燥してアゾ
化合物の結晶１１ｇを得た。

【０１２１】２）ビス［２−（５−メチル−１，３，４
−チアジアゾリル−２−アゾ）−５−（ジエチルアミ
ノ）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アニリナ
ト］ニッケルの合成 １）で得たアゾ化合物１１ｇとメタノール８５ｍｌとを
混合し、撹拌しながら５０℃に昇温した。この昇温した
混合物に、酢酸ニッケル四水和物３．５ｇを少しずつ加
えた。５０〜６０℃で３時間撹拌した後、放冷し、濾過
した。得られた結晶を、温水およびメタノールで順次洗
浄した後、乾燥して、化学式（１）で示される錯体１
１．４ｇを得た。

【０１２２】化学式（２）で示されるアゾ系色素は次の
手順に従って合成した。 １）２−（５−メチル−３−イソキサゾリルアゾ）−４
−エトキシ−５−（ジエチルアミノ）−Ｎ−（トリフル
オロメタンスルホニル）アニリンの合成 反応容器に、３−アミノ−５−メチルイソキサゾール
０．５ｇ、酢酸５．１ｍｌ、プロピオン酸２．６ｍｌ、
および６２％硫酸０．５ｍｌを仕込み、０℃に冷却し、
これに４４％ニトロシル硫酸１．８ｇを２０分かけて滴
下した（Ａ液とする）。別の容器に３−（ジエチルアミ
ノ）−４−エトキシ−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホ
ニル）アニリンのトリフルオロメタンスルホン酸塩２．
８ｇ、酢酸ナトリウム１．３ｇ、尿素０．１３ｇ、およ
びメタノール１５ｍｌを仕込み、撹拌しながら０℃に冷
却した。これに前記のＡ液を３０分かけて滴下し、さら
に２時間撹拌した後、少量の水を加え晶析し、濾過し
た。結晶を温水で洗浄した後、メタノールから再結晶し
てアゾ化合物０．８７ｇを得た。

【０１２３】２）ビス［２−（５−メチル−３−イソキ
サゾリルアゾ）−４−エトキシ−５−（ジエチルアミ
ノ）−Ｎ−（トリフルオロメタンスルホニル）アニリナ
ト］ニッケルの合成 １）で得たアゾ系化合物０．８７ｇとメタノール９ｍｌ
とを混合し、５０℃に昇温した。この昇温した混合物
に、酢酸ニッケル四水和物０．２４ｇを加えた。５０〜
６０℃で２時間撹拌した後、放冷して、反応液を濾過し
た。得られた結晶を熱水およびメタノールで順次洗浄し
た後、乾燥して、化学式（２）で示される錯体０．７５
ｇを得た。

【０１２４】化学式（１）で示されるアゾ系色素（「ア
ゾ系色素（１）」とも呼ぶ）は、膜のλmaxが６０５nm
であり、化学式（２）で示されるアゾ系色素（「アゾ系
色素（２）」とも呼ぶ）は、膜のλmaxが５９２nmであ
る。したがって、いずれのアゾ系色素も、それ単独でＤ
ＶＤ−Ｒの記録層を構成し得る。また、いずれのアゾ系
色素も、１００ｍｌのテトラフルオロプロパノールに５
ｇ以上溶解し得る。

【０１２５】（試料１）図１に示す構造のＤＶＤ−Ｒで
あって、記録層における成分比がディスクの半径方向に
おいて一定でないＤＶＤ−Ｒを以下の手順により作製し
た。基板１として、ポリカーボネート樹脂からなり、内
径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのドーナ
ツ形状のものを用意した。この基板は、一方の面にスパ
イラル状のグルーブ１ａを有し、溝深さは１６０〜１８
０nm、溝幅は０．２５μｍ、トラックピッチは０．７４
μｍであった。

【０１２６】基板１のグルーブ１ａが形成された面に、
記録層２を形成した。記録層２は、図２に示すスピンコ
ート装置を使用して形成した。ノズル22ａに仕込む有機
色素溶液は、アゾ系色素（１）およびアゾ系色素（２）
を重量比で２０：８０で混合し、これをテトラフルオロ
プロパノールに溶解して調製した。ノズル22ｂに仕込む
有機色素溶液は、アゾ系色素（１）およびアゾ系色素
（２）を重量比で８０：２０で混合し、これをテトラフ
ルオロプロパノールに溶解して調製した。いずれの有機
色素溶液も、色素の濃度は１ｗｔ％とした。また、有機
色素溶液は、ノズルに仕込む前に０．２μｍの濾紙でフ
ィルタリングした。

【０１２７】これらの有機色素溶液を、ノズル22ａおよ
びノズル22ｂから、それぞれ滴下して、基板１の表面に
付与した。このとき、ノズル22ａを、基板１の半径方向
において、基板１の内周から半径４０mmの位置までの間
で往復運動させ、ノズル22ｂを、基板１の半径方向にお
いて、半径４０mmの位置から外周までの間で往復運動さ
せた。各有機色素溶液は、ノズル22ａから０．０１５
ｇ、ノズル22ｂから０．０１５ｇ、１．５秒間かけて滴
下した。有機色素溶液の滴下中、基板１は２４０ｒｐｍ
で回転させた。滴下後、基板１の回転数を３５００ｒｐ
ｍまで徐々に増加させながら基板１を約１５秒間回転さ
せて、有機色素溶液を均一に流延させるとともに、余分
な溶液を振り切った。基板１の回転は、基板支持台24を
駆動装置（モータ）で軸回転させることにより行った。
最後に、有機色素溶液中の溶媒を蒸発させて、グルーブ
１ａ内の部分の厚さが約１２０ｎｍである記録層２を得
た。

【０１２８】この記録層２は、ディスクの内周から半径
４０mmまでの領域において、λmaxの小さい（即ち、反
射率の高い）有機色素の占める割合が大きく、半径４０
mmから外周までの領域において、λmaxの大きい（即
ち、反射率の低い）有機色素の占める割合が大きいもの
であった。

【０１２９】次いで、記録層２の上に反射層３をスパッ
タリングにより形成した。スパッタリングは、図４に示
すスパッタリング装置を使用し、ターゲットＴｃのみを
用いて実施した。したがって、反射層３は、基板全体に
わたって均一な厚さおよび成分比を有するように形成さ
れた。ターゲットＴｃとして、銀合金（Ａｇ９８ｗｔ％
以上）を使用した。反射層３の厚さは１２０nmとした。

【０１３０】次に、反射層３上に接着剤層４を介して基
板１と同形同寸の（但し、グルーブは形成されていな
い）ポリカーボネート樹脂製基板５を積層した。その手
順は次のとおりである。まず、基板５の一方の面に、接
着剤層４として、ＵＶ硬化型ポリウレタンアクリレート
樹脂（商品名；ＳＤ−３０１ 大日本インキ（株）製）
を厚さが４０〜６０μｍとなるように、スピンコートに
より塗布した。次に、接着剤層４と反射層３とが接触す
るように基板５を反射層３上に積層した。それから、紫
外線を照射して接着剤層４を硬化させることにより、基
板５を固定し、ＤＶＤ−Ｒを得た。

【０１３１】（試料２）図１に示す構造のＤＶＤ−Ｒで
あって、記録層のｔ_Ｌ／ｔ_Ｇがディスクの半径方向にお
いて一定でないＤＶＤ−Ｒを以下の手順により作製し
た。基板１として、試料１の作製に用いた基板と同じも
のを用意し、グルーブ１ａが形成された面に、記録層２
を形成した。記録層２は、図２に示すスピンコート装置
を使用して形成した。ノズル22ａに仕込む有機色素溶液
は、アゾ系色素（１）およびアゾ系色素（２）を重量比
で５０：５０で混合し、これをオクタフルオロペンタノ
ール（２５℃における粘度：２４ｍＰａ・ｓ）に溶解し
て調製した。色素の濃度は１．５ｗｔ％とした。ノズル
22ｂに仕込む有機色素溶液は、アゾ系色素（１）および
アゾ系色素（２）を重量比で５０：５０で混合し、これ
をテトラフルオロプロパノール（２５℃における粘度：
８ｍＰａ・ｓ）に溶解して調製した。色素の濃度は１．
０ｗｔ％とした。また、各色素溶液は、ノズルに仕込む
前に０．２μｍの濾紙でフィルタリングした。

【０１３２】これらの有機色素溶液を、試料１と同様に
して、ノズル22ａ、22ｂから滴下して、流延させた後、
溶媒を蒸発させて記録層２を得た。記録層２は、グルー
ブ１ａ内の部分の厚さが約１２０ｎｍであって、ランド
部分の厚さｔ_Ｌ／グルーブ部分の厚さｔ_Ｇが、内周部お
よび外周部にてそれぞれ、約０．３および約０．５であ
り、半径方向において変化しているものであった。

【０１３３】さらに、試料１と同様にして、反射層３を
形成した後、接着剤層４を介して基板５を積層した。接
着剤層４を硬化させて、基板５を固定して、ＤＶＤ−Ｒ
を得た。

【０１３４】（試料３）図１に示す構造のＤＶＤ−Ｒで
あって、反射層の厚さがディスクの半径方向において一
定でないＤＶＤ−Ｒを以下の手順により作製した。基板
１として、試料１の作製に用いた基板と同じものを用意
し、グルーブ１ａが形成された面に、記録層２を形成し
た。記録層２は、アゾ系色素（１）をテトラフルオロプ
ロパノールに溶解して調製した溶液（色素濃度１ｗｔ
％）を用いて、スピンコートにより形成した。試料３の
記録層２は、通常のスピンコート装置を使用して、１つ
のノズルから有機色素溶液を滴下して形成した。また、
記録層２は、グルーブ１ａ内の部分の厚さが約１２０nm
となるように形成した。

【０１３５】次いで、記録層２の上に反射層３をスパッ
タリングにより形成した。スパッタリングは、図４に示
すスパッタリング装置を使用し、ターゲットＴｂのみを
用いて実施した。したがって、反射層３は、ディスクの
半径方向において、成分比が一定であり、その厚さが内
周から外周に向かって減少するように形成された。ター
ゲットＴａとして、銀合金（Ａｇ９８ｗｔ％以上）を使
用した。反射層３の厚さは、内周において１６０nm、外
周において８０nmとした。

【０１３６】次に、試料１を作製したときと同様の手順
で、接着剤層４を介して基板５を積層し、ＤＶＤ−Ｒを
得た。

【０１３７】（試料４）図１に示す構造のＤＶＤ−Ｒで
あって、反射層における成分比がディスクの半径方向に
おいて一定でないＤＶＤ−Ｒを以下の手順により作製し
た。基板１として、試料１の作製に用いた基板と同じも
のを用意し、グルーブ１ａが形成された面に、記録層２
を形成した。記録層２は、試料３を作製したときと同様
の手順で形成した。

【０１３８】次いで、記録層２の上に反射層３をスパッ
タリングにより形成した。スパッタリングは、図４に示
すスパッタリング装置を使用し、ターゲットＴａ〜Ｔｃ
で順に繰り返しスパッタリングされるように実施した。
ターゲットＴａはＡｇ：Ａｕ：Ｎｄ＝８５：１０：５
（重量比）の銀合金とし、ターゲットＴｂはＡｇ：Ａ
ｕ：Ｎｄ＝９３：５：２（重量比）の銀合金とし、ター
ゲットＴｃはＡｇ＝９８ｗｔ％以上の銀合金とした。タ
ーゲットＴａおよびＴｂの表面には、それぞれ図４の
（ｂ）に示す遮蔽板ＳａおよびＳｂを配置した。スパッ
タリングは、各ターゲットと基板とが１０秒ずつ対向す
るように、基板支持台42を回転させて実施した。各ター
ゲット間で基板を移動させるに際し、基板支持台42は４
０ｒｐｍで回転させた。また、スパッタリング中、支持
台46を１０ｒｐｍで回転させて基板を自転させた。得ら
れた反射層３において、反射率の高い銀の割合は、内周
から外周に向かって漸減していた。反射層３の厚さは１
２０nmとした。

【０１３９】次に、試料１を作製したときと同様の手順
で、接着剤層４を介して基板５を積層し、ＤＶＤ−Ｒを
得た。

【０１４０】（試料５：比較試料）図１に示す構造のＤ
ＶＤ−Ｒであって、記録層における成分比、反射層の厚
さ、および反射層における成分比のいずれもがディスク
の半径方向において一定であるＤＶＤ−Ｒを次のように
して作製した。

【０１４１】基板１として、試料１の作製に用いた基板
と同じものを用意し、グルーブ１ａが形成された面に、
記録層２を形成した。記録層２は、試料３を作製したと
きと同様の手順で形成した。次いで、記録層２の上に、
反射層３を、試料１を作製したときと同様の手順で形成
した。さらに、反射層３の上に、試料１を作製したとき
と同様の手順で、接着剤層４を介して基板５を積層し、
ＤＶＤ−Ｒを得た。

【０１４２】作製した試料１〜５のディスクの構成を表
１にまとめる。

【０１４３】

【表１】

【０１４４】試料１〜５の反射率および変調度を測定
し、ディスク特性を評価した。反射率および変調度は、
光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００、パルステック
工業社製）で測定した。信号の記録再生は、波長６５０
ｎｍのレーザー光を使用して実施した。ディスク特性
は、半径２５ｍｍ、半径４０ｍｍ、および半径５５ｍｍ
の位置で反射率および変調度を測定して最大値および最
小値を求め、これら２つの値の差である変化量の大小で
評価した。評価結果を表２に示す。

【０１４５】

【表２】

【０１４６】表２より、記録層が１種類の有機色素から
成り、反射層の膜厚および反射層における成分比がディ
スクの半径方向において変化しない光ディスク（試料
５）は、反射率および変調度の変化量が大きかった。こ
れに対し、試料１〜４は、ディスクの半径方向における
反射率および変調度の変化量が小さく、安定したディス
ク特性を有するものであった。

【０１４７】

【発明の効果】本発明の光ディスクは、記録層におけ
る有機色素の成分比、記録層のグルーブ部分の厚さに
対するランド部分の厚さの比、反射層の厚さ、反射
層における成分比の少なくとも１つを、ディスクの半径
方向において一定でないようにしたことを特徴とする。
かかる特徴によれば、複屈折および／またはグルーブの
深さがディスクの半径方向において一定でない安価な基
板を用いた場合でも、ディスク面内で反射率および変調
度の変化量を小さくすることが可能となる。したがっ
て、本発明によれば、高品質の光ディスクを低コストで
製造することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は本発明の光ディスクの一例の模式的断
面図である。

【図２】 図２は本発明の光ディスク製造装置に含まれ
るスピンコート装置の模式図である。

【図３】 図３の（ａ）は本発明の光ディスク製造装置
に含まれるスパッタリング装置の模式図であり、（ｂ）
および（ｃ）は遮蔽板の平面図である。

【図４】 図４の（ａ）は本発明の光ディスク製造装置
に含まれるスパッタリング装置の模式図であり、（ｂ）
はターゲットおよび遮蔽板の平面図である。

【図５】 図５の（ａ）〜（ｅ）は本発明の光ディスク
製造装置に含まれるスパッタリング装置で使用される遮
蔽板の平面図である。

【図６】 図６は本発明の光ディスク製造装置に含まれ
るスパッタリング装置で使用されるターゲットの平面図
である。

【符号の説明】

１...基板、１ａ...グルーブ、２...記録層、３...反射
層、４...接着剤層、５...基板、１０...基板、２０...
スピンコート装置、２２ａ，２２ｂ...ノズル、２４...
基板支持台、３０，４０...スパッタリング装置、３
２，４２...基板支持台、４６...支持台、４４...回転
台、Ｔ，Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｃ，Ｔｄ...ターゲット、Ｓ，
Ｓａ，Ｓｂ...遮蔽板、ｈ１，ｈ２，ｈｂ₁，ｈｂ₂，
ｈ...開口部、ｄ１，ｄ２，ｄａ₁，ｄａ₂...ディスク形
状の板。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 7/26 ５３１ Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｙ (72)発明者 小田桐 優 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA37 FA01 FA12 FA23 FB42 FB43 FB45 FB46 FB48 GA02 GA07 5D029 JA04 JB36 JB37 MA13 MA14 5D121 AA01 AA05 EE03 EE09 EE11 EE20 EE22 EE24 EE30

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 有機色素から成る記録層を有する光ディ
   スクであって、記録層が２種類以上の有機色素を構成成
   分として含み、記録層における成分比がディスクの半径
   方向において一定でないことを特徴とする光ディスク。
2. 【請求項２】 ディスクの内周部で主たる有機色素の占
   める割合に対して、ディスクの外周部で当該主たる有機
   色素の占める割合が１割以上異なっている請求項１に記
   載の光ディスク。
3. 【請求項３】 有機色素から成る記録層を有する光ディ
   スクであって、記録層のグルーブ部分の厚さに対するラ
   ンド部分の厚さの比が、ディスクの半径方向において一
   定でないことを特徴とする光ディスク。
4. 【請求項４】 記録層のグルーブ部分の厚さに対するラ
   ンド部分の厚さの比が、ディスクの内周から外周に向っ
   て増加している請求項３に記載の光ディスク。
5. 【請求項５】 有機色素が、−ＯＨ、−ＣＨＯ、−ＣＯ
   Ｒ、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯＲ、−ＣＯＮＨ₂、−ＣＯＮ
   ＨＲ、−ＣＯＮＲ₂、−Ｒ、−ＮＨ₂、−ＮＯ₂、−ＮＨ
   Ｒ、−ＳＯ₃Ｈ、−ＳＯ₃Ｍ、−Ｘ、−ＣＨ＝ＣＨ₂、−
   ＯＲ、−ＣＮ、−ＳＨ、−ＣＯＯＸ、−ＣＯＯＭ、−Ｃ
   Ｈ₂Ｘ、−ＮＨＳＯ₂Ｒ、および−ＮＨＳＯ₂Ｒf（Ｒは炭
   素数１〜２２のアルキル基またはアリール基、Ｍはアル
   カリ金属またはアルカリ土類金属、Ｘはハロゲン、Ｒf
   はフルオロアルキル基を示す）から成る群から選択され
   る基を有する化合物である請求項１〜４のいずれか１項
   に記載の光ディスク。
6. 【請求項６】 前記の群から選択される基を有する化合
   物である有機色素のうち、少なくとも１種類の有機色素
   が、アゾ系、シアニン系、フタロシアニン系、キノン
   系、インジゴ系、アリールメタン系、ポルフィン系、ス
   クアリリウム系、スピロピラン系、ペリレン系、および
   フルギド系色素から成る群から選択される請求項５に記
   載の光ディスク。
7. 【請求項７】 前記の色素の群から選択される少なくと
   も１種類の有機色素が、１Ａ族元素（Ｒｂ、Ｃｓおよび
   Ｆｒを除く）、２Ａ族元素（ＳｒおよびＲａを除く）、
   ３Ａ族元素（Ａｃを除く）、４Ａ〜７Ａ族元素、８族元
   素、１Ｂ族元素、２Ｂ族元素、３Ｂ族元素（Ｂを除
   く）、４Ｂ族元素（Ｃを除く）、５Ｂ族元素（Ｎ、Ｐお
   よびＢｉを除く）、ランタノイド元素、ならびにアクチ
   ノイド元素（Ｐｕ、Ｃｍ、Ｂｋ、Ｃｆ、Ｅｓ、Ｆｍ、Ｍ
   ｄ、ＮｏおよびＬｒを除く）から成る群から選択される
   少なくとも１種類の金属と化合して成る化合物である請
   求項６に記載の光ディスク。
8. 【請求項８】 有機色素から成る記録層、および反射層
   を有する光ディスクであって、反射層の厚さがディスク
   の半径方向において一定でないことを特徴とする光ディ
   スク。
9. 【請求項９】 反射層の厚さがディスクの内周から外周
   に向かって減少している請求項８に記載の光ディスク。
10. 【請求項１０】 反射層において最も厚い部分の厚さ
    と、最も薄い部分の厚さとの比が１：０．７〜１：０．
    ５である請求項８または請求項９に記載の光ディスク。
11. 【請求項１１】 有機色素から成る記録層、および反射
    層を有する光ディスクであって、反射層が２種類以上の
    元素を構成成分として含み、反射層における成分比がデ
    ィスクの半径方向において一定でないことを特徴とする
    光ディスク。
12. 【請求項１２】 反射層が、銀以外の成分の占める割合
    が０．５〜１０ｗｔ％である銀合金から成る請求項１１
    に記載の光ディスク。
13. 【請求項１３】 銀以外の成分の占める割合が、ディス
    クの内周から外周に向かって増加している請求項１２に
    記載の光ディスク。
14. 【請求項１４】 ディスクの内周で銀以外の成分の占め
    る割合に対して、ディスクの外周で銀以外の成分の占め
    る割合が１割以上大きい請求項１２または請求項１３に
    記載の光ディスク。
15. 【請求項１５】 銀合金が、銀以外の成分として、Ａ
    ｕ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、
    Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｃ、Ｎ、Ｏ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ
    ｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、
    Ｒｈ、Ｔｅ、Ｐｂ、ＳｎおよびＢｉから成る群から選択
    される少なくとも１の元素を含む請求項１２〜１４のい
    ずれか１項に記載の光ディスク。
16. 【請求項１６】 請求項１に記載の光ディスクを製造す
    る方法であって、記録層を有機色素溶液のスピンコート
    により形成することを含み、 スピンコートを、基板の中心からの距離が異なる位置に
    配置された２以上のノズルから、有機色素の組成がそれ
    ぞれ異なる有機色素溶液を滴下するとともに、各ノズル
    を基板の半径方向で往復運動させながら実施することを
    特徴とする光ディスクの製造方法。
17. 【請求項１７】 請求項３に記載の光ディスクを製造す
    る方法であって、記録層を有機色素溶液のスピンコート
    により形成することを含み、 スピンコートを、基板の中心からの距離が異なる位置に
    配置された２以上のノズルから、粘度がそれぞれ異なる
    有機色素溶液を滴下するとともに、各ノズルを基板の半
    径方向で往復運動させながら実施することを特徴とする
    光ディスクの製造方法。
18. 【請求項１８】 粘度がそれぞれ異なる有機色素溶液
    が、溶剤または溶剤組成がそれぞれ異なる有機色素溶液
    である請求項１７に記載の光ディスクの製造方法。
19. 【請求項１９】 請求項８に記載の光ディスクを製造す
    る方法であって、反射層をスパッタリングにより形成す
    ることを含み、 スパッタリングを、基板の一部を覆う遮蔽板をターゲッ
    トと基板との間に配置して、基板を自転させながら実施
    することを特徴とする光ディスクの製造方法。
20. 【請求項２０】 請求項１１に記載の光ディスクを製造
    する方法であって、反射層をスパッタリングにより形成
    することを含み、 スパッタリングを、組成が半径方向において一定でない
    ターゲットを用いて実施することを特徴とする光ディス
    クの製造方法。
21. 【請求項２１】 有機色素から成る記録層を有する光デ
    ィスクであって、記録層が、基板の中心からの距離が異
    なる位置に配置された２以上のノズルから、粘度がそれ
    ぞれ異なる有機色素溶液を滴下して、スピンコートする
    ことにより形成された層であることを特徴とする光ディ
    スク。