JP2003248704A - Semiconductor integrated circuit design verification method and layout tool - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハレベルのバ
ーンイン検査(WLBI)における制約を検証すること
ができる半導体集積回路の設計検証方法およびレイアウ
トツールに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit design verification method and layout tool capable of verifying constraints in a wafer level burn-in test (WLBI).
【0002】[0002]
【従来の技術】ウェハレベルのバーンイン検査は、大規
模化する半導体集積回路(LSI)のテストコストの削
減要求と、マルチチップモジュールやチップオンボード
等に用いるベアチップに対する信頼性保証の要求に応え
るものとして採用され、今後の適用拡大が期待されてい
る。2. Description of the Related Art A wafer-level burn-in test responds to a demand for reducing the test cost of a semiconductor integrated circuit (LSI), which is increasing in scale, and a demand for reliability guarantee for a bare chip used in a multi-chip module or a chip-on-board. Has been adopted as a product and is expected to be expanded in the future.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウェハ
レベルのバーンイン検査を行うために、LSIチップの
入出力端子配置に対して、ウェハ上でチップが隣接する
ことによる制約が加わることがある。従来、このような
制約検証は、フロアプランを決定する段階で設計者が自
ら座標を抽出して行わなければならなかった。However, in order to perform the burn-in inspection at the wafer level, the layout of the input / output terminals of the LSI chip may be restricted by the adjoining chips on the wafer. In the past, such constraint verification had to be performed by the designer himself by extracting the coordinates at the stage of determining the floor plan.
【0004】ウェハレベルのバーンイン検査を行うため
の開発時の課題として、プロセスによる入出力端子ピッ
チやフィラーセルの使用などにより、ウェハレベルバー
ンイン検査の制約(WLBI制約)を満たす入出力端子
配置の複雑化が挙げられる。そのため、チップ単体のレ
イアウトを注意しているだけではWLBI制約に違反す
る可能性が高く、開発の後工程でミスが見つかった場合
には開発遅延を招く恐れがある。As a problem at the time of development for performing a wafer-level burn-in inspection, a complicated input / output terminal arrangement that satisfies the wafer-level burn-in inspection constraint (WLBI constraint) due to the use of input / output terminal pitch and filler cells in the process. It can be mentioned. Therefore, there is a high possibility that the WLBI constraint will be violated only by paying attention to the layout of the chip itself, and if a mistake is found in the post-process of development, there is a risk of delaying development.
【0005】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、ウェハレベルのバーンイン検査を行うためのWLB
I制約を、単体チップの設計段階で容易に検証すること
を可能にする半導体集積回路の設計検証方法およびレイ
アウトツールを提供することを目的とする。The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and WLB for performing a wafer level burn-in inspection.
An object of the present invention is to provide a design verification method and a layout tool for a semiconductor integrated circuit, which makes it possible to easily verify the I constraint at the design stage of a single chip.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明の請求項1に係る半導体集積回路の設計検証
方法は、レイアウトツールを用いた半導体集積回路の設
計検証方法であって、フロアプランを行う工程(10
0)と、被検証チップのレイアウトと同一のレイアウト
を被検証チップのレイアウトの上下左右にそれぞれ隣接
させて配置する工程(101)と、ウェハレベルバーン
イン検査の制約によるデザインルールを読み込む工程
(103)と、前記デザインルールを検証する工程(1
04)とを含むものである。In order to solve this problem, a semiconductor integrated circuit design verification method according to a first aspect of the present invention is a semiconductor integrated circuit design verification method using a layout tool. Floorplanning process (10
0), a step of arranging the same layout as the layout of the chip to be verified so as to be adjacent to the layout of the chip to be verified vertically and horizontally (101), and a step (103) of reading the design rule due to the constraint of the wafer level burn-in inspection. And the step of verifying the design rule (1
04) and are included.
【0007】上記構成によれば、レイアウトツールを使
用して被検証チップがウェハ上に配置された状態を再現
させることができ、デザインルールとしてWLBI制約
のデザインルールを読み込ませることで、レイアウトツ
ールのデザインルールチェックを利用することができる
ので、ウェハレベルバーンイン検査の制約によるデザイ
ンルールを単体チップの設計段階で容易に検証すること
ができる。According to the above configuration, it is possible to reproduce the state in which the chips to be verified are arranged on the wafer by using the layout tool, and by reading the design rule of the WLBI constraint as the design rule, the layout tool Since the design rule check can be used, the design rule due to the restriction of the wafer level burn-in inspection can be easily verified at the design stage of a single chip.
【0008】本発明の請求項2に係る半導体集積回路の
設計検証方法は、請求項1記載の半導体集積回路の設計
検証方法において、被検証チップのレイアウトから入出
力端子部形状の座標情報を抽出する工程(1002)を
含むものである。A semiconductor integrated circuit design verification method according to a second aspect of the present invention is the semiconductor integrated circuit design verification method according to the first aspect, wherein the coordinate information of the input / output terminal portion shape is extracted from the layout of the chip to be verified. This includes the step (1002) of performing.
【0009】上記構成によれば、被検証チップのレイア
ウトから抽出した入出力端子部形状の座標情報を使用し
てデザインルールをチェックできるので、被検証チップ
のレイアウトから自動的にウェハレベルバーンイン検査
の制約によるデザインルールを検証することができる。According to the above configuration, since the design rule can be checked by using the coordinate information of the input / output terminal portion shape extracted from the layout of the chip to be verified, the wafer level burn-in inspection is automatically performed from the layout of the chip to be verified. It is possible to verify design rules based on constraints.
【0010】本発明の請求項3に係る半導体集積回路の
設計検証方法は、請求項1または2記載の半導体集積回
路の設計検証方法において、ウェハレベルバーンイン検
査におけるパッド部に関する複数の制約に応じてパッド
部のパターンレイヤを任意に追加または変更する工程
(802)を含むものである。A semiconductor integrated circuit design verifying method according to a third aspect of the present invention is the semiconductor integrated circuit design verifying method according to the first or the second aspect, in accordance with a plurality of restrictions on a pad portion in a wafer level burn-in test. This includes a step (802) of arbitrarily adding or changing the pattern layer of the pad portion.
【0011】上記構成によれば、複数の制約に応じて複
数のパターンレイヤを使用することにより、ウェハレベ
ルバーンイン検査を行う被検証チップのレイアウトに対
して、WLBI制約のデザインルール以外の制約も含め
て複数の制約によるデザインルールを単体チップの設計
段階で容易に検証することができる。According to the above configuration, by using a plurality of pattern layers according to a plurality of constraints, the layout of the chip to be verified for performing the wafer level burn-in inspection includes a constraint other than the design rule of the WLBI constraint. It is possible to easily verify design rules based on multiple constraints at the design stage of a single chip.
【0012】本発明の請求項4に係る半導体集積回路の
レイアウトツールは、フロアプランを行う手段と、被検
証チップのレイアウトと同一のレイアウトを被検証チッ
プのレイアウトの上下左右にそれぞれ隣接させて配置す
る手段と、ウェハレベルバーンイン検査の制約によるデ
ザインルールを読み込む手段と、被検証チップのレイア
ウトから入出力端子部形状の座標情報を抽出する手段
と、前記デザインルールを検証する手段と、を備えるも
のである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a layout tool for a semiconductor integrated circuit, wherein a floorplanning means and a layout which is the same as the layout of the chip to be verified are arranged adjacent to each other vertically and horizontally to the layout of the chip to be verified. Means, a means for reading the design rule due to the restriction of the wafer level burn-in inspection, a means for extracting coordinate information of the shape of the input / output terminal portion from the layout of the chip to be verified, and a means for verifying the design rule. Is.
【0013】上記構成によれば、被検証チップがウェハ
上に配置された状態を再現させることができ、デザイン
ルールとしてWLBI制約のデザインルールを読み込ま
せることで、被検証チップのレイアウトから抽出した入
出力端子部形状の座標情報を使用してデザインルールを
チェックできるので、ウェハレベルバーンイン検査の制
約によるデザインルールを単体チップの設計段階で容易
に検証することができる。According to the above configuration, the state in which the chip to be verified is placed on the wafer can be reproduced, and the design rule of the WLBI constraint is read as the design rule, so that the input extracted from the layout of the chip to be verified is read. Since the design rule can be checked by using the coordinate information of the shape of the output terminal portion, the design rule due to the constraint of the wafer level burn-in inspection can be easily verified at the design stage of a single chip.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)図1は本発明の実施の形態1に係る半
導体集積回路の設計検証方法を示すフローチャートであ
る。本実施の形態では、レイアウトツールを使用して図
1に示す設計検証方法を実行することにより、被検証チ
ップのレイアウトに対して、ウェハレベルバーンイン検
査の制約によるデザインルール(WLBI制約用デザイ
ンルール)を検証する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 is a flowchart showing a method of design verification of a semiconductor integrated circuit according to Embodiment 1 of the present invention. In the present embodiment, by executing the design verification method shown in FIG. 1 using a layout tool, the design rule by the constraint of the wafer level burn-in test (the design rule for the WLBI constraint) is applied to the layout of the chip to be verified. To verify.
【0015】図1のフローチャートにおいて、はじめに
工程100で被検証チップのフロアプランを実施する。
また、工程102でWLBI制約用デザインルールを準
備する。次に、工程101で被検証チップのレイアウト
と同一のレイアウトを被検証チップのレイアウトの上下
左右にそれぞれ隣接させて配置する。これにより、被検
証チップはウェハ上に配置されたときと同一条件にな
る。そして、工程103でWLBI制約用デザインルー
ルを読み込み、工程104でWLBI制約に対する検証
を実施する。In the flowchart of FIG. 1, first, in step 100, a floor plan of the chip to be verified is implemented.
In step 102, a WLBI constraint design rule is prepared. Next, in step 101, the same layout as the layout of the chip to be verified is arranged adjacent to the top, bottom, left and right of the layout of the chip to be verified. As a result, the chips to be verified have the same conditions as when they are placed on the wafer. Then, in step 103, the design rule for WLBI constraint is read, and in step 104, verification for the WLBI constraint is performed.
【0016】次に、工程101における被検証チップの
レイアウトと同一のレイアウトを被検証チップのレイア
ウトの上下左右にそれぞれ隣接させて配置する方法を、
図2から図4を用いて説明する。Next, a method of arranging the same layout as the layout of the chip to be verified in step 101 adjacent to the layout of the chip to be verified in the vertical and horizontal directions, respectively,
This will be described with reference to FIGS. 2 to 4.
【0017】図2は被検証チップのレイアウト図であ
る。図2において、チップバウンダリ200は通常スク
ライブレーンレイヤに相当する。チップコアの周囲には
入出力端子領域203が設けられ、この領域に入出力端
子が配置される。入出力端子にはWLBI対象入出力端
子201が存在し、ウェハ上でチップ間の入出力端子制
約の対象となる。FIG. 2 is a layout diagram of the chip to be verified. In FIG. 2, the chip boundary 200 corresponds to a normal scribe lane layer. An input / output terminal area 203 is provided around the chip core, and input / output terminals are arranged in this area. The WLBI target input / output terminal 201 exists in the input / output terminal, and is subject to the input / output terminal restriction between chips on the wafer.
【0018】図3はウェハ上にチップが配置されたとき
のレイアウト図である。このLSIの製造時には、図3
のようにウェハ300上にチップ301が並ぶ。本発明
では、レイアウトツールで作成した図2のチップについ
て、図3のようにウェハ上に配置された状態を再現させ
てWLBI制約を検証する。FIG. 3 is a layout diagram when the chips are arranged on the wafer. When manufacturing this LSI,
As described above, the chips 301 are arranged on the wafer 300. In the present invention, for the chip of FIG. 2 created by the layout tool, the state of being placed on the wafer as shown in FIG. 3 is reproduced to verify the WLBI constraint.
【0019】図4は、実際にレイアウトツールを用い
て、図2のチップと同一のレイアウトを図2のチップの
レイアウトの上下左右にそれぞれ隣接させて配置させた
結果である。これを行うには、図4に示す横軸のX座標
および縦軸のY座標を用いて、被検証チップのレイアウ
ト400について、チップバウンダリの左下の頂点を原
点座標(0,0)として、まず、チップサイズを示す右
上の頂点のチップサイズ座標(X,Y)を抽出する。FIG. 4 shows the result of actually arranging the same layout as the chip of FIG. 2 adjacent to the layout of the chip of FIG. To do this, using the X coordinate on the horizontal axis and the Y coordinate on the vertical axis shown in FIG. 4, the lower left vertex of the chip boundary is set as the origin coordinate (0, 0) for the layout 400 of the chip to be verified, and , The chip size coordinate (X, Y) of the upper right vertex indicating the chip size is extracted.
【0020】次に、抽出されたチップサイズ座標(X、
Y)のX成分を用いて、被検証チップのレイアウト40
0を(−X,0)だけ平行移動させ、被検証チップの左
側に隣接する再現チップのレイアウト401を得る。同
様に、チップサイズ座標(X、Y)のY成分を用いて、
被検証チップのレイアウト400を(0,−Y)だけ平
行移動させ、下側に隣接する再現チップのレイアウト4
02を得る。Next, the extracted chip size coordinates (X,
The layout 40 of the chip to be verified is calculated using the X component of Y).
0 is translated in parallel by (−X, 0) to obtain the layout 401 of the reproduced chip adjacent to the left side of the verification target chip. Similarly, using the Y component of the chip size coordinate (X, Y),
The layout 400 of the chip to be verified is moved in parallel by (0, −Y), and the layout 4 of the reproduced chip adjacent to the lower side is arranged.
Get 02.
【0021】以下、同様にして、被検証チップのレイア
ウト400を(X,0)だけ平行移動させ、右側に隣接
する再現チップのレイアウト403を得、被検証チップ
のレイアウト400を(0,Y)だけ平行移動させ、上
側に隣接する再現チップのレイアウト404を得る。In the same manner, the layout 400 of the chip to be verified is moved in parallel by (X, 0) to obtain the layout 403 of the reproduction chip adjacent to the right side, and the layout 400 of the chip to be verified is (0, Y). By parallel translation to obtain the layout 404 of the reproduction chip adjacent to the upper side.
【0022】このようにして、被検証チップ400につ
いて、実際にウェハ上に配置されたときと同じ状態を再
現することができる。ここで、被検証チップのレイアウ
ト400の入出力端子領域と、上下左右にそれぞれ隣接
して配置された再現チップの入出力端子領域とが接する
領域405がWLBI制約を検証する対象箇所となる。In this way, the chip 400 to be verified can be reproduced in the same state as when it was actually placed on the wafer. Here, an area 405 where the input / output terminal area of the layout 400 of the verification target chip and the input / output terminal area of the reproduction chip arranged adjacent to each other in the upper, lower, left and right directions is a target portion for verifying the WLBI constraint.
【0023】図5は、ウェハ上でチップ間の入出力端子
制約の対象となるWLBI対象入出力端子201の拡大
図であり、入出力端子501の中には、パッド部500
が存在する。パッド部500の中心座標をパッド部中心
座標502とする。WLBI制約でデザインルールを設
定する方法はさまざまであるが、ここでは、このパッド
部中心座標を用いてWLBI制約を検証するものとす
る。FIG. 5 is an enlarged view of a WLBI target input / output terminal 201 which is a target of input / output terminal restriction between chips on a wafer. In the input / output terminal 501, a pad section 500 is provided.
Exists. The center coordinates of the pad section 500 are referred to as pad section center coordinates 502. There are various methods for setting the design rule by the WLBI constraint, but here, it is assumed that the WLBI constraint is verified by using the center coordinates of the pad portion.
【0024】図6は、上記パッド部中心座標を抽出する
処理手順を示すフローチャートである。事前にパッド部
のレイアウトデータを抽出しておく。図6のフローチャ
ートにおいて、工程600で入出力端子領域を抽出す
る。この入出力端子領域は、図2における入出力端子領
域203である。次に、工程601でパッド部領域を抽
出する。このパッド部領域は、図5におけるパッド部5
00である。FIG. 6 is a flow chart showing a processing procedure for extracting the pad center coordinates. The layout data of the pad section is extracted in advance. In the flowchart of FIG. 6, an input / output terminal area is extracted in step 600. This input / output terminal area is the input / output terminal area 203 in FIG. Next, in step 601, the pad area is extracted. This pad area is the pad area 5 in FIG.
00.
【0025】次に、工程602でパッド部の頂点座標を
抽出し、工程603ではX、Yがともに最大および最小
となる座標を抽出する。この値を用いて、工程604で
は抽出した座標の中点を計算する。工程605でこの中
点をWLBIの中点座標として格納する。Next, in step 602, the vertex coordinates of the pad portion are extracted, and in step 603, the coordinates where both X and Y are maximum and minimum are extracted. Using this value, in step 604 the midpoint of the extracted coordinates is calculated. In step 605, this midpoint is stored as the WLBI midpoint coordinate.
【0026】図7は、図6の工程602から工程605
までのパッド部中心座標を抽出する処理を説明する座標
図である。図7において、700は探索座標(X,
Y)、701はパッド部領域である。工程602におい
て、座標(左下)702、座標(右下)703、座標
(右上)704、座標(左上)705が抽出される。FIG. 7 shows steps 602 to 605 of FIG.
FIG. 7 is a coordinate diagram illustrating a process of extracting the center coordinates of the pad portion up to. In FIG. 7, 700 is a search coordinate (X,
Y) and 701 are pad area. In step 602, coordinates (lower left) 702, coordinates (lower right) 703, coordinates (upper right) 704, coordinates (upper left) 705 are extracted.
【0027】抽出された座標について、X、Yがともに
最大および最小となる座標を抽出する。図7の場合に
は、最小座標は座標(左下)702、最大座標は座標
(右上)704である。この両者の座標から座標の中点
を計算する。その結果、得られた座標がパッド部の中点
座標となり、WLBIの中点座標として格納する。With respect to the extracted coordinates, the coordinates in which both X and Y are maximum and minimum are extracted. In the case of FIG. 7, the minimum coordinates are coordinates (lower left) 702 and the maximum coordinates are coordinates (upper right) 704. The midpoint of the coordinates is calculated from these two coordinates. As a result, the obtained coordinates become the midpoint coordinates of the pad portion and are stored as the midpoint coordinates of WLBI.
【0028】以上の結果、図4に示すWLBI制約検証
箇所405に対して、図6のパッド部中心座標を抽出す
る処理で格納したWLBIの中点座標を用いて、WLB
I対象パッド間の距離を計算する。その計算値をWLB
I制約と比較することによりWLBI制約違反の有無を
検証する。以上のように本実施の形態によれば、レイア
ウトツールを利用してWLBI制約を検証することが可
能になる。As a result, for the WLBI constraint verification location 405 shown in FIG. 4, the WLB midpoint coordinates stored in the process of extracting the pad center coordinates in FIG.
I Calculate the distance between the target pads. The calculated value is WLB
The presence or absence of the WLBI constraint violation is verified by comparing with the I constraint. As described above, according to the present embodiment, it is possible to verify the WLBI constraint using the layout tool.
【0029】(実施の形態2)LSIのパッド配置の制
約には、WLBI制約以外に組み立てルール等の制約も
あり、配置には一般に複数の制約がある。そのため、パ
ッド配置がWLBI制約を満足していても、例えば、組
み立てルール制約を満足していない場合には、配置検討
を再度実施することになる。(Embodiment 2) In addition to the WLBI constraint, there are constraints such as an assembly rule as a constraint of the pad layout of the LSI, and generally there are a plurality of constraints in the layout. Therefore, even if the pad layout satisfies the WLBI constraint, for example, if the assembly rule constraint is not satisfied, the layout study is performed again.
【0030】図8は、このような複数の制約を検証する
ために考案された、本発明の実施の形態2に係る半導体
集積回路の設計検証方法を示すフローチャートである。
本実施の形態では、レイアウトツールを使用して図8に
示す設計検証方法を実行することにより、ウェハレベル
バーンイン検査を行う被検証チップのレイアウトに対し
て、WLBI制約のデザインルール以外の制約も含めて
複数の制約によるデザインルールを検証する。FIG. 8 is a flow chart showing a method for verifying the design of a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention, which is devised for verifying such a plurality of constraints.
In the present embodiment, by executing the design verification method shown in FIG. 8 using the layout tool, the layout of the chip to be verified to be subjected to the wafer level burn-in inspection includes constraints other than the WLBI constraint design rule. And verify the design rule with multiple constraints.
【0031】図8のフローチャートにおいて、はじめに
工程800で被検証チップのフロアプランを実施する。
次に、工程801で、実施の形態1における図4と同様
に、被検証チップのレイアウトと同一のレイアウトを被
検証チップのレイアウトの上下左右にそれぞれ隣接させ
て配置する。これにより、被検証チップはウェハ上に配
置されたときと同一条件になる。In the flowchart of FIG. 8, first, in step 800, the floor plan of the chip to be verified is implemented.
Next, in step 801, similarly to FIG. 4 in the first embodiment, the same layout as the layout of the chip to be verified is arranged adjacent to each other vertically and horizontally to the layout of the chip to be verified. As a result, the chips to be verified have the same conditions as when they are placed on the wafer.
【0032】次に、工程802において、工程801で
配置した左右上下のチップにおいて、パッドに対して被
検証チップのパッド距離を抽出する。また、工程803
で制約検証用のデザインルールの変更を行い、検証すべ
き複数の制約によるデザインルールをパッド配置制約も
含めて検証する。Next, in step 802, the pad distance of the chip to be verified is extracted with respect to the pads in the left, right, top, and bottom chips arranged in step 801. Also, step 803
The design rule for constraint verification is changed in, and the design rule including multiple pad constraints to be verified is verified.
【0033】図9は、工程802により複数のパッドレ
イヤが追加されたレイアウト例を示す図である。図9に
おいて、901は制約1に対して検証するパッドレイヤ
のパッドであり、902は制約2に対して検証するパッ
ドレイヤのパッドである。901と902は異なるレイ
ヤであるが、図9では重ねて表示している。FIG. 9 is a diagram showing a layout example in which a plurality of pad layers are added in the step 802. In FIG. 9, reference numeral 901 denotes a pad layer pad that is verified for constraint 1, and 902 is a pad layer pad that is verified for constraint 2. Although 901 and 902 are different layers, they are displayed in an overlapping manner in FIG. 9.
【0034】このように、複数のパッド制約に対応して
それぞれ異なるレイヤを割り当てて準備しておく。そし
て、工程804において、各レイヤに対してそれぞれの
パッド制約のデザインルールに従った制約検証を行うこ
とにより、複数のデザインルールによるパッド制約検証
を一度に実施することができる。以上のように本実施の
形態によれば、レイアウトツールを利用してWLBI制
約を含む複数の制約を検証することが可能である。In this way, different layers are allocated and prepared corresponding to a plurality of pad constraints. Then, in step 804, the pad constraint verification according to a plurality of design rules can be performed at once by performing the constraint verification according to the design rule of each pad constraint for each layer. As described above, according to the present embodiment, it is possible to verify a plurality of constraints including the WLBI constraint using the layout tool.
【0035】(実施の形態3)図10は本発明の実施の
形態3に係る半導体集積回路のレイアウトツールの処理
工程を示すフローチャートである。図10のフローチャ
ートに沿って本レイアウトツールの処理を以下に説明す
る。(Third Embodiment) FIG. 10 is a flowchart showing the processing steps of a layout tool for a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention. The processing of this layout tool will be described below with reference to the flowchart of FIG.
【0036】工程1000では、フロアプランを行う手
段により被検証チップのフロアプランを実施し、工程1
001では、被検証チップのレイアウトと同一のレイア
ウトを被検証チップのレイアウトの上下左右にそれぞれ
隣接させて配置する手段により、被検証チップがウェハ
上に配置されたときと同一条件を実現する。In step 1000, the floor plan of the chip to be verified is implemented by means of the floor plan, and step 1
In 001, the same condition as that when the chip to be verified is arranged on the wafer is realized by the means for arranging the same layout as the layout of the chip to be verified adjacent to the layout of the chip to be verified vertically and horizontally.
【0037】工程1002では、被検証チップのレイア
ウトから入出力端子部形状の座標情報を抽出する手段に
より、WLBI制約で検証するパッド座標情報を抽出
し、工程1003では、ウェハレベルバーンイン検査の
制約によるデザインルールを読み込む手段により、WL
BI制約用デザインルールを準備し、工程1004で、
デザインルールを検証する手段により、WLBI制約の
検証を行う。In step 1002, the pad coordinate information to be verified by the WLBI constraint is extracted by the means for extracting the coordinate information of the shape of the input / output terminal portion from the layout of the chip to be verified, and in step 1003, it is determined by the wafer level burn-in inspection constraint. By means of reading design rules, WL
Prepare a BI constraint design rule, and in step 1004,
The WLBI constraint is verified by the means for verifying the design rule.
【0038】通常、レイアウトツールの使用において
は、レイアウト前にプロセスごとのデザインルールを読
み込み、このデザインルールを満たすようにレイアウト
を行う。さらに、レイアウト完了後にレイアウトツール
のデザインルールチェックを実施することにより、レイ
アウトがデザインルールを満たしているかどうか検証し
ている。これに対して、本発明では、フロアプラン実施
後にデザインルールとしてWLBI制約用デザインルー
ルを読み込ませ、レイアウトツールのデザインルールチ
ェックを利用することにより、WLBI制約を検証する
方法を実現している。Usually, in using the layout tool, the design rule for each process is read before the layout, and the layout is performed so as to satisfy this design rule. Furthermore, by checking the design rule of the layout tool after the layout is completed, it is verified whether the layout satisfies the design rule. On the other hand, the present invention realizes a method for verifying the WLBI constraint by loading the design rule for WLBI constraint as a design rule after the floor plan is implemented and using the design rule check of the layout tool.
【0039】[0039]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
レイアウトツールを使用して被検証チップがウェハ上に
配置された状態を再現させることができ、レイアウトツ
ールのデザインルールチェックを利用してWLBI制約
のデザインルールをチェックすることができるので、ウ
ェハレベルバーンイン検査の制約によるデザインルール
を単体チップの設計段階で容易に検証することが可能に
なるという優れた効果を得ることができる。As described above, according to the present invention,
The layout tool can be used to reproduce the state in which the chip to be verified is placed on the wafer, and the design rule check of the layout tool can be used to check the design rule of the WLBI constraint. It is possible to obtain an excellent effect that it becomes possible to easily verify the design rule due to the inspection constraint at the design stage of the single chip.
【0040】さらに、本発明によれば、複数の制約に応
じて複数のパターンレイヤを使用することにより、ウェ
ハレベルバーンイン検査を行う被検証チップのレイアウ
トに対して、WLBI制約のデザインルール以外の制約
も含めて複数の制約によるデザインルールを単体チップ
の設計段階で容易に検証することが可能になるという優
れた効果を得ることができる。Furthermore, according to the present invention, by using a plurality of pattern layers according to a plurality of constraints, the layout of the chip to be verified for performing the wafer level burn-in inspection is restricted other than the design rule of the WLBI constraint. It is possible to obtain an excellent effect that it becomes possible to easily verify a design rule including a plurality of constraints at the design stage of a single chip including the above.
【図1】本発明の実施の形態1に係る半導体集積回路の
設計検証方法を示すフローチャートである。FIG. 1 is a flowchart showing a design verification method for a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.
【図2】被検証チップのレイアウト図である。FIG. 2 is a layout diagram of a verification target chip.
【図3】ウェハ上にチップが配置されたときのレイアウ
ト図である。FIG. 3 is a layout diagram when chips are arranged on a wafer.
【図4】被検証チップのレイアウトの上下左右に隣接さ
せて同一のレイアウトを配置させたレイアウト図であ
る。FIG. 4 is a layout diagram in which the same layout is arranged vertically and horizontally adjacent to the layout of the chip to be verified.
【図5】WLBI制約の対象となる入出力端子の図であ
る。FIG. 5 is a diagram of input / output terminals subject to WLBI constraints.
【図6】パッド部中心座標を抽出する処理手順を示すフ
ローチャートである。FIG. 6 is a flowchart showing a processing procedure for extracting pad center coordinates.
【図7】パッド部中心座標を抽出する処理を説明する座
標図である。FIG. 7 is a coordinate diagram illustrating a process of extracting pad unit center coordinates.
【図8】本発明の実施の形態2に係る半導体集積回路の
設計検証方法を示すフローチャートである。FIG. 8 is a flowchart showing a semiconductor integrated circuit design verification method according to a second embodiment of the present invention.
【図9】複数のパッドレイヤが追加されたレイアウト例
を示すレイアウト図である。FIG. 9 is a layout diagram showing a layout example in which a plurality of pad layers are added.
【図10】本発明の実施の形態3に係る半導体集積回路
のレイアウトツールの処理工程を示すフローチャートで
ある。FIG. 10 is a flowchart showing processing steps of a layout tool for a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention.
100 フロアプラン工程 101 配置工程 102 ルール準備工程 103 ルール読み込み工程 104 ルール検証工程 200 チップバウンダリ 201 WLBI対象入出力端子 202 チップコア 203 入出力端子領域 300 ウェハ 301 チップ 400 被検証チップ 401、402、403、404 再現チップ 405 WLBI制約検証箇所 500 パッド部 501 入出力端子 502 パッド部中心座標 600 入出力端子領域抽出工程 601 パッド部領域抽出工程 602 頂点座標抽出工程 603 最大/最小座標抽出工程 604 中点計算工程 605 座標格納工程 700 探索座標(X,Y) 701 パッド部領域 702、703、704、705 座標 800 フロアプラン工程 801 配置工程 802 制約別のパッドレイヤ追加工程 803 制約用デザインルール変更工程 804 制約検証工程 901 制約1の検証対象パッド 902 制約2の検証対象パッド 1000 フロアプラン工程 1001 配置工程 1002 WLBI対象座標抽出工程 1003 ルール読み込み工程 1004 デザインルールチェック工程 100 floor plan process 101 placement process 102 rule preparation process 103 Rule reading process 104 Rule verification process 200 chip boundary 201 WLBI target input / output terminal 202 chip core 203 Input / output terminal area 300 wafers 301 chips 400 Chip to be verified 401, 402, 403, 404 Reproduction chip 405 WLBI constraint verification points 500 pad section 501 input / output terminal 502 Pad center coordinates 600 Input / output terminal area extraction process 601 Pad area extraction process 602 vertex coordinate extraction process 603 Maximum / minimum coordinate extraction process 604 Midpoint calculation process 605 Coordinate storage process 700 Search coordinates (X, Y) 701 pad area 702, 703, 704, 705 coordinates 800 floor plan process 801 placement process 802 Pad layer addition process for each constraint 803 Constraint design rule change process 804 Constraint verification process 901 Constraint 1 verification target pad 902 Constraint 2 verification target pad 1000 floor plan process 1001 placement process 1002 WLBI target coordinate extraction step 1003 Rule reading process 1004 Design rule check process
Claims (4)
路の設計検証方法であって、 フロアプランを行う工程と、 被検証チップのレイアウトと同一のレイアウトを前記被
検証チップのレイアウトの上下左右にそれぞれ隣接させ
て配置する工程と、 ウェハレベルバーンイン検査の制約によるデザインルー
ルを読み込む工程と、 前記デザインルールを検証する工程と、を含むことを特
徴とする半導体集積回路の設計検証方法。1. A method for verifying the design of a semiconductor integrated circuit using a layout tool, comprising: a step of performing a floor plan; A method for verifying the design of a semiconductor integrated circuit, comprising: a step of arranging the semiconductor integrated circuit and a step of reading a design rule due to a constraint of a wafer level burn-in inspection;
力端子部形状の座標情報を抽出する工程を含むことを特
徴とする請求項1記載の半導体集積回路の設計検証方
法。2. The method of design verification of a semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a step of extracting coordinate information of an input / output terminal portion shape from the layout of the chip to be verified.
ッド部に関する複数の制約に応じてパッド部のパターン
レイヤを任意に追加または変更する工程を含むことを特
徴とする請求項1または2記載の半導体集積回路の設計
検証方法。3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising a step of arbitrarily adding or changing a pattern layer of the pad portion in accordance with a plurality of constraints on the pad portion in the wafer level burn-in inspection. Design verification method.
検証チップのレイアウトの上下左右にそれぞれ隣接させ
て配置する手段と、 ウェハレベルバーンイン検査の制約によるデザインルー
ルを読み込む手段と、 前記被検証チップのレイアウトから入出力端子部形状の
座標情報を抽出する手段と、 前記デザインルールを検証する手段と、を備えることを
特徴とする半導体集積回路のレイアウトツール。4. A means for performing a floor plan, a means for arranging the same layout as the layout of the chip to be verified adjacent on the top, bottom, left and right of the layout of the chip to be verified, and a design rule due to the restriction of the wafer level burn-in inspection. A layout tool for a semiconductor integrated circuit, comprising: a reading unit, a unit for extracting coordinate information of input / output terminal portion shape from the layout of the chip to be verified, and a unit for verifying the design rule.
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|---|---|---|---|
| JP2002049852A JP2003248704A (en) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | Semiconductor integrated circuit design verification method and layout tool |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006011292A1 (en) * | 2004-07-28 | 2006-02-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor device |
-
2002
- 2002-02-26 JP JP2002049852A patent/JP2003248704A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPWO2006011292A1 (en) * | 2004-07-28 | 2008-05-01 | 松下電器産業株式会社 | Semiconductor device |
| US8035188B2 (en) | 2004-07-28 | 2011-10-11 | Panasonic Corporation | Semiconductor device |
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