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JP2003138100A - Epoxy resin composition for flip chip mounting and semiconductor device - Google Patents

Epoxy resin composition for flip chip mounting and semiconductor device

Info

Publication number
JP2003138100A
JP2003138100A JP2001339610A JP2001339610A JP2003138100A JP 2003138100 A JP2003138100 A JP 2003138100A JP 2001339610 A JP2001339610 A JP 2001339610A JP 2001339610 A JP2001339610 A JP 2001339610A JP 2003138100 A JP2003138100 A JP 2003138100A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
flip
weight
semiconductor element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001339610A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Ichida
健 市田
Hiroyuki Takahashi
浩之 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co Ltd filed Critical Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority to JP2001339610A priority Critical patent/JP2003138100A/en
Publication of JP2003138100A publication Critical patent/JP2003138100A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • H10W72/0711
    • H10W72/072
    • H10W72/073
    • H10W74/15
    • H10W90/724
    • H10W90/734

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 配線基板と半導体素子を接合させるフリップ
チップ実装における接着、充填用のエポキシ樹脂組成物
と温度変化に対する信頼性や耐湿信頼性が良好な半導体
装置を提供する。 【解決手段】 常温で液状であるエポキシ樹脂、平均粒
子径が1〜6μmで、最大粒子径が20μm以下の球状無機
充填材とを加熱混練して得られるチクソ比が1.5未満で
ある有機‐無機配合物(A)、潜在性硬化触媒(B)、密
着力付与剤(C)を主成分として含有し、上記エポキシ
樹脂100重量部に対して、密着力付与剤が0.02〜4重量部
の範囲で含有されているフリップチップ実装用エポキシ
樹脂組成物。フリップチップ半導体装置5は、このエポ
キシ樹脂組成物2で基板1と半導体素子4が接着されて
なる。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition for bonding and filling in flip-chip mounting for bonding a wiring board and a semiconductor element, and to provide a semiconductor device having good reliability against temperature change and humidity resistance. SOLUTION: An epoxy resin which is liquid at normal temperature, an organic-inorganic material having an average particle diameter of 1 to 6 μm and a thixotropic ratio obtained by heating and kneading with a spherical inorganic filler having a maximum particle diameter of 20 μm or less is less than 1.5. It contains a compound (A), a latent curing catalyst (B), and an adhesion promoter (C) as main components, and the adhesion promoter is in a range of 0.02 to 4 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. An epoxy resin composition for flip chip mounting, which is contained in the above. The flip chip semiconductor device 5 is formed by bonding the substrate 1 and the semiconductor element 4 with the epoxy resin composition 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フリップチップ実
装用エポキシ樹脂組成物に関し、特に、半導体素子を基
板に圧接する際に用いられるフリップチップ実装用エポ
キシ樹脂組成物及びこれを用いて製造された半導体装置
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for flip-chip mounting, and more particularly, to an epoxy resin composition for flip-chip mounting used when a semiconductor element is pressed against a substrate, and manufactured using the same. The present invention relates to a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の電子部品の実装方式であるチップ
オンボードより更なる高密度実装の要求に対する解決方
法の一つとしてフリップチップ実装がある。このフリッ
プチップ実装には、予め金属接合を形成させた後、樹
脂封止を行う方法(C4、SBB等)や樹脂による一括接
合方法(圧接工法等)などがある。
2. Description of the Related Art Flip-chip mounting is one of the solutions to the demand for higher density mounting than the conventional chip-on-board which is a mounting method for electronic components. This flip-chip mounting includes a method of forming a metal bond in advance and then sealing with a resin (C4, SBB, etc.), and a collective bonding method with a resin (pressure welding method, etc.).

【0003】特に、上記法においては、工法自体が単
純であるため、低コスト化を図りやすい利点がある。ま
た、上記法の場合と異なり、樹脂を低粘度化する必要
がないため、樹脂設計の幅が広がるといった特徴があ
る。しかしながら、これまで、高い信頼性と良好な実装
性とを両立させたエポキシ樹脂組成物がなかったため、
低コスト化工法としての検討がこれまで殆ど進んでいな
かった。
In particular, in the above method, since the construction method itself is simple, there is an advantage that the cost can be easily reduced. Further, unlike the case of the above-mentioned method, there is no need to reduce the viscosity of the resin, so that the range of resin design is widened. However, until now, there has been no epoxy resin composition that achieves both high reliability and good mountability,
The study as a low cost construction method has hardly progressed so far.

【0004】一方、これまで半導体装置の封止用途や半
導体素子の接合等に使用されるエポキシ樹脂組成物につ
いて、温度サイクル試験で評価される温度変化に対する
信頼特性を改善するために、エポキシ樹脂の線膨張係数
を低減させる試みがされてきた。そして、一般的には、
エポキシ樹脂中に球状無機充填材等を配合させる手法が
行われている。しかし、この方法のみでは、(1)半導
体素子や基板との密着力が低下して、その界面において
剥離を生じるなどの問題が発生し、(2)エポキシ樹脂
と球状無機充填材との界面での密着力不足による硬化物
の機械的強度の低下や吸水率の増加等の問題を発生させ
ていた。この(1)並びに(2)の両問題を解決しよう
とする手法には、添加剤(シランカップリング材)を使
用する方法(特開2001−187836号公報)等が
あるが、密着力改善に必要とされる添加剤の量が多いた
め、吸水率が増加し、耐湿信頼試験において逆に問題を
発生させることが多かった。一方、このエポキシ樹脂と
球状無機充填材との界面での密着力を改善する手法とし
て、有機−無機ハイブリッド化物を用いる方法(特開平
10−95901号公報)などが提案されているが、こ
の方法のみでは、半導体素子や基板に対する密着力が不
足するという問題点があった。また、この有機−無機ハ
イブリッド化物は通常メカノケミカルと呼ばれる機械的
方法で作製されるため、製造上の制約から、一般的な手
法よりも球状無機充填材の配合量を多くすることができ
ないという問題もあった。
On the other hand, in order to improve the reliability characteristics of epoxy resin compositions used for sealing semiconductor devices, bonding semiconductor elements, etc., against temperature changes evaluated in a temperature cycle test, epoxy resin compositions have been used. Attempts have been made to reduce the linear expansion coefficient. And, in general,
A method of incorporating a spherical inorganic filler or the like into an epoxy resin is used. However, with this method alone, (1) the adhesiveness between the semiconductor element and the substrate is reduced, and problems such as peeling occur at the interface, and (2) at the interface between the epoxy resin and the spherical inorganic filler. Due to the lack of adhesion, the cured product had problems such as reduced mechanical strength and increased water absorption. Methods for solving both the problems (1) and (2) include a method using an additive (silane coupling material) (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-187836) and the like. Due to the large amount of additive required, the water absorption rate increased, which often caused problems in the moisture resistance reliability test. On the other hand, as a method for improving the adhesion at the interface between the epoxy resin and the spherical inorganic filler, a method using an organic-inorganic hybrid compound (Japanese Patent Laid-Open No. 10-95901) has been proposed. However, there is a problem in that the adhesion strength to the semiconductor element or the substrate is insufficient only by the above. In addition, since this organic-inorganic hybrid compound is usually produced by a mechanical method called mechanochemical, there is a problem that the compounding amount of the spherical inorganic filler cannot be increased as compared with a general method due to manufacturing restrictions. There was also.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の事情を鑑みてなされたもので、フリップチップ実装時
における半導体素子と基板間の充填性、すなわち実装性
を損なうことなく、耐湿密着力を向上させたフリップチ
ップ実装用エポキシ樹脂組成物とそれを用いた半導体装
置を提供することにある。また、本発明の他の目的は、
上記法に適したフリップチップ実装用エポキシ樹脂組
成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention was made in view of the above-mentioned circumstances, and moisture-proof adhesion without impairing the filling property between the semiconductor element and the substrate during flip-chip mounting, that is, the mountability. An object of the present invention is to provide a flip chip mounting epoxy resin composition having improved power and a semiconductor device using the same. Further, another object of the present invention is to
An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition for flip chip mounting suitable for the above method.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決するために検討を重ねた結果、フリップチップ実装
用エポキシ樹脂組成物(以下、単に樹脂組成物と略する
場合もある。)において、チクソ比が1.5未満である有
機-無機配合物を使用し、更に密着力付与剤を樹脂組成
物中に適量配合することで上記課題を解決し得ることを
見出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventors have found that an epoxy resin composition for flip chip mounting (hereinafter sometimes simply referred to as a resin composition). In, the thixo ratio is less than 1.5 using an organic-inorganic blend, further found that the above problem can be solved by blending an appropriate amount of an adhesion promoter in the resin composition, to complete the present invention. I arrived.

【0007】すなわち、本発明は、主成分として下記
(A)〜(C)成分を含有し、エポキシ樹脂(E)100重量部に対
して、密着力付与剤(B)が0.02〜4重量部の範囲で含有さ
れていることを特徴とするフリップチップ実装用エポキ
シ樹脂組成物である。 (A) 常温で液状であるエポキシ樹脂(E)と、平均粒子
径が1〜6μmで、20μm以上の粒子径を有する大粒子の
含有量が1%以下の球状無機充填材(B)とを混合して得ら
れるチクソ比が1.5未満である有機‐無機配合物 (C) 潜在性硬化触媒 (D) 密着力付与剤 ここで、(D)成分と(E)成分の合計の含有量が80〜98重量
%であり、(E)成分と(D)成分の配合割合(重量比)が20
〜50:80〜50であり、(B)成分の配合量が(E)成分100重
量部に対し5〜30重量部であり、性状がペースト状であ
ることは好ましい実施の態様の一つである。
That is, the present invention has the following main components:
Flip containing (A) ~ (C) component, the epoxy resin (E) 100 parts by weight, the adhesion promoter (B) is contained in the range of 0.02 to 4 parts by weight. It is an epoxy resin composition for chip mounting. (A) An epoxy resin (E) that is liquid at room temperature and a spherical inorganic filler (B) having an average particle size of 1 to 6 μm and a content of large particles having a particle size of 20 μm or more of 1% or less. An organic-inorganic compound (C) having a thixo ratio of less than 1.5 obtained by mixing (C) a latent curing catalyst (D) an adhesion promoter, wherein the total content of (D) component and (E) component is 80 ~ 98% by weight, and the mixing ratio (weight ratio) of component (E) and component (D) is 20.
It is one of the preferred embodiments that the content of the component (B) is 5 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the component (E), and that the property is a paste. is there.

【0008】また、本発明は、配線基板と半導体素子と
をエポキシ樹脂組成物を介して接合する半導体装置の製
造方法において、配線基板の一部に前記のフリップチッ
プ用エポキシ樹脂組成物を塗布し、当該樹脂組成物塗布
部分にバンプを有する半導体素子を搭載し配線基板上の
導体部と半導体素子のバンプとを接合すると同時に又は
その後に樹脂組成物を硬化させることを特徴とする半導
体装置の製造方法である。
Further, the present invention is a method for manufacturing a semiconductor device in which a wiring board and a semiconductor element are bonded to each other via an epoxy resin composition, wherein the wiring board is partially coated with the flip-chip epoxy resin composition. Manufacturing a semiconductor device, characterized in that a semiconductor element having bumps is mounted on a portion coated with the resin composition, and the resin composition is cured at the same time as or after the conductor portion on the wiring board and the bumps of the semiconductor element are bonded. Is the way.

【0009】更に、本発明は、前記のフリップチップ実
装用エポキシ樹脂組成物により配線基板と半導体素子が
接合されたフリップチップ半導体装置である。また、本
発明は、配線基板と半導体素子との間隙の少なくとも一
部に前記のフリップチップ用エポキシ樹脂組成物の硬化
物が充填されているフリップチップ半導体装置である。
Further, the present invention is a flip chip semiconductor device in which a wiring board and a semiconductor element are bonded by the above flip chip mounting epoxy resin composition. Further, the present invention is a flip chip semiconductor device in which at least a part of a gap between a wiring board and a semiconductor element is filled with a cured product of the above flip chip epoxy resin composition.

【0010】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
フリップチップ実装用エポキシ樹脂組成物は、エポキシ
樹脂(E)と球状無機充填材(D)を混合して得られる有機‐
無機配合物(A)、潜在性硬化触媒(B)及び密着力付与剤
(C)を主成分として含有する。したがって、本発明のエ
ポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂(E)、球状無機充填
材(D)、潜在性硬化触媒(B)及び密着力付与剤(C)を主成
分として含有することになる。本明細書中では、上記
(A)有機‐無機配合物、(B)潜在性硬化触媒、(C)密着力
付与剤、(D)球状無機充填材及び(E)エポキシ樹脂を、そ
れぞれ(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分及び(E)成
分ともいう。この樹脂組成物の性状としては、ペースト
状であることが望ましく、この場合の好ましい粘度範囲
は80〜5000Pa・s(25℃)である。また、チクソ比が1.5
未満であることも好ましい。なお、上記法に使用する
ためには、粘度範囲は数十Pa・s以下とすることが好まし
い。
The present invention will be described in detail below. The flip-chip mounting epoxy resin composition of the present invention is an organic resin obtained by mixing an epoxy resin (E) and a spherical inorganic filler (D).
Inorganic compound (A), latent curing catalyst (B) and adhesion promoter
Contains (C) as a main component. Therefore, the epoxy resin composition of the present invention contains the epoxy resin (E), the spherical inorganic filler (D), the latent curing catalyst (B) and the adhesion promoter (C) as main components. In the present specification,
(A) organic-inorganic blend, (B) latent curing catalyst, (C) adhesion promoter, (D) spherical inorganic filler and (E) epoxy resin, respectively (A) component, (B) component , (C) component, (D) component and (E) component. The resin composition is preferably in the form of paste, and the preferable viscosity range in this case is 80 to 5000 Pa · s (25 ° C.). Also, the thixo ratio is 1.5
It is also preferably less than. For use in the above method, the viscosity range is preferably several tens Pa · s or less.

【0011】(E)エポキシ樹脂としては、常温(25℃)で
液状のエポキシ樹脂が使用される。このようなエポキシ
樹脂としては、具体的には、ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキ
シ樹脂、カルボン酸グリシジルエステル型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ウレタン変
性ビスフェノールA型エポキシ樹脂等が例示され、これ
らを1種又は2種以上を使用することができる。エポキ
シ樹脂が、2種以上のエポキシ樹脂の混合物である場
合、混合した状態で常温で液状を示せばよい。ここで、
液状とは流動性を有するものを意味し、融点又はガラス
転移点が常温以上であっても、常温では十分に固形化
(結晶化)しない難結晶性を示すものは包含される。ま
た、エポキシ樹脂は、加水分解性塩素含有量が600ppm以
下であることが好ましい。
As the epoxy resin (E), a liquid epoxy resin at room temperature (25 ° C.) is used. Specific examples of such epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, carboxylic acid glycidyl ester type epoxy resin, and phenol novolac type. Examples thereof include epoxy resin and urethane-modified bisphenol A type epoxy resin, and one or more of them can be used. When the epoxy resin is a mixture of two or more epoxy resins, it may be liquid at room temperature in the mixed state. here,
The liquid means a material having fluidity, and includes a material exhibiting poor crystallinity that does not sufficiently solidify (crystallize) at room temperature even if the melting point or the glass transition point is room temperature or higher. Further, the epoxy resin preferably has a hydrolyzable chlorine content of 600 ppm or less.

【0012】(D)球状無機充填材の種類としては、シリ
カ、アルミナ等の酸化物、硝子ビーズ等の珪酸塩、窒化
アルミ、窒化珪素等の窒化物などが挙げられるが、これ
らに限定されない。また、これらを1種又は2種以上併用
することもできる。その平均粒子径は、1〜6μmの範囲
にあることを要する。また、最大粒子径が20μm以下又
は20μm以上の粒子径を有する大粒子の含有量が1%以
下であることを要する。好ましくは、平均粒子径が1〜5
μm、最大粒子径が15μm以下の範囲にあることがよ
い。この要件を充足することによって、半導体素子と基
板間への充填性、即ち実装性を向上させることが出来
る。平均粒子径が1μmに満たないと、予め有機−無機
配合物を調製する際、球状無機充填剤を高充填すること
が難しくなり、また平均粒子径が6μmを超えると、最大
粒子径で20μmを超える粒子が多くなり、分級などが必
要となる。また分級などの操作により、粗粒子側の粒度
分布が変化して、有機−無機配合物調製の際、高充填化
することが難しくなる。また、最大粒子径が20μmを超
える粗粒子を含む球状無機充填剤で調製された有機−無
機配合物は、フリップチップ実装時に半導体素子の配線
部分の傷つきや断線などを引き起こし、半導体素子と基
板間の電気的接続が取れなくなる場合がある。球状無機
充填材における球状とは、例えば、無機充填材を溶融さ
せたときに表面張力で丸くなった状態のまま固化したよ
うな形状のことをいう。本発明においては、球状無機充
填材の中でも、上記平均粒子径と最大粒子径の要件を満
たす球状シリカを使用することが好ましい。
Examples of the type of the spherical inorganic filler (D) include, but are not limited to, oxides such as silica and alumina, silicates such as glass beads, and nitrides such as aluminum nitride and silicon nitride. Further, these may be used alone or in combination of two or more. The average particle size needs to be in the range of 1 to 6 μm. Further, the content of large particles having a maximum particle size of 20 μm or less or a particle size of 20 μm or more is required to be 1% or less. Preferably, the average particle size is 1 to 5
It is preferable that the particle size is μm and the maximum particle size is 15 μm or less. By satisfying this requirement, the filling property between the semiconductor element and the substrate, that is, the mountability can be improved. If the average particle size is less than 1 μm, it becomes difficult to highly fill the spherical inorganic filler when preparing the organic-inorganic mixture in advance, and if the average particle size exceeds 6 μm, the maximum particle size is 20 μm. The number of particles to be exceeded increases, and classification etc. is required. In addition, the particle size distribution on the coarse particle side is changed by an operation such as classification, which makes it difficult to achieve high packing when preparing an organic-inorganic compound. In addition, the organic-inorganic compound prepared with a spherical inorganic filler containing coarse particles having a maximum particle size of more than 20 μm causes scratches or disconnection of the wiring part of the semiconductor element during flip chip mounting, and causes a gap between the semiconductor element and the substrate. The electrical connection of may not be able to be established. The spherical shape in the spherical inorganic filler refers to, for example, a shape in which the inorganic filler is solidified in a rounded state due to surface tension when melted. In the present invention, among the spherical inorganic fillers, it is preferable to use spherical silica that satisfies the requirements for the average particle diameter and the maximum particle diameter.

【0013】本発明では、(E)エポキシ樹脂と(D)球状無
機充填材を予め混合し、チクソ比が1.5未満、好ましく
は0.9〜1.1であるエポキシ樹脂と球状無機充填材からな
る有機‐無機配合物を用意し、これに(B)成分及び(C)成
分を配合して樹脂組成物とする。
In the present invention, (E) an epoxy resin and (D) a spherical inorganic filler are premixed, and an organic-inorganic consisting of an epoxy resin and a spherical inorganic filler having a thixo ratio of less than 1.5, preferably 0.9 to 1.1. A blend is prepared, and the component (B) and the component (C) are blended with this to obtain a resin composition.

【0014】(A)有機‐無機配合物は、球状無機充填材
と常温で液状であるエポキシ樹脂とからなるが、好まし
くは、球状無機充填材と常温で液状であるエポキシ樹脂
との部分反応物を含有してなるものである。有機−無機
配合物は、前記球状無機充填材と常温で液状であるエポ
キシ樹脂との100〜160℃での加熱攪拌により得ることが
好ましい。本発明において、チクソ比とは、コーンプレ
ート型レオメータを使用して、3°×24mmφのコーンに
て、0.5(x)rpmで、25℃、2分経過後の粘度、及び5.0(y)
rpmで、25℃、2分経過後の粘度を測定し、前者の値を後
者の値で割った値で示す。なお、チクソ比は、SVI(Str
uctural Viscosity Index)値と称されることもあ
る。但し、上記5.0rpmで測定が出来ない場合には、x/
y=1/10の比であれば任意の回転数を選択してもよい。
球状無機充填材に含まれる微粒子の存在により発生する
チキソ値の上昇を低減し、チクソ比を1.5未満とするこ
とにより、球状無機充填材をより高充填化することがで
きる。
The (A) organic-inorganic blend comprises a spherical inorganic filler and an epoxy resin which is liquid at room temperature, preferably a partial reaction product of the spherical inorganic filler and an epoxy resin which is liquid at room temperature. It contains. The organic-inorganic blend is preferably obtained by heating and stirring the spherical inorganic filler and an epoxy resin which is liquid at room temperature at 100 to 160 ° C. In the present invention, the thixotropic ratio, using a cone plate type rheometer, in a cone of 3 ° × 24 mm φ, 0.5 (x) rpm, 25 ° C., viscosity after 2 minutes, and 5.0 (y).
The viscosity was measured at 25 ° C for 2 minutes at rpm, and the former value is divided by the latter value. The thixo ratio is SVI (Str
uctural Viscosity Index) value is sometimes called. However, if you cannot measure at the above 5.0 rpm, x /
Any rotation speed may be selected as long as the ratio is y = 1/10.
By increasing the thixo value caused by the presence of fine particles contained in the spherical inorganic filler and setting the thixo ratio to be less than 1.5, the spherical inorganic filler can be highly filled.

【0015】本発明で使用する(B)潜在性硬化触媒は、
エポキシ樹脂組成物の安定性を保持し、封止工程におけ
る作業性を損なうことなく、実装性を改良することに有
効である。本発明でいう潜在性硬化触媒は、特定の温度
以上になると急速にエポキシ樹脂硬化触媒として機能す
る性質を有する。使用可能な潜在性硬化触媒には、マイ
クロカプセル型、アミンアダクト型等が挙げられ、本発
明においては、実装性や安定性の点からマイクロカプセ
ル型の潜在性硬化触媒が好ましく用いられる。また、信
頼性と硬化性を両立させることができる範囲で、数種類
の潜在性硬化触媒を組合せて使用してもよい。なお、潜
在性硬化触媒は、作業性向上等のためにマスターバッチ
化されることがあるが、本発明でいう潜在性硬化触媒は
その中の有効成分として機能するものを指す。
The (B) latent curing catalyst used in the present invention is
It is effective in maintaining the stability of the epoxy resin composition and improving the mountability without impairing the workability in the sealing step. The latent curing catalyst according to the present invention has the property of rapidly functioning as an epoxy resin curing catalyst at a specific temperature or higher. Examples of the latent curing catalyst that can be used include a microcapsule type and an amine adduct type. In the present invention, a microcapsule type latent curing catalyst is preferably used from the viewpoint of mountability and stability. In addition, several types of latent curing catalysts may be used in combination as long as both reliability and curability are compatible with each other. The latent curing catalyst may be masterbatched in order to improve workability, etc., but the latent curing catalyst in the present invention refers to one that functions as an active ingredient therein.

【0016】本発明で用いられる(C)密着力付与剤は、
樹脂組成物と半導体素子や配線基板との耐湿密着力を向
上させることができ、耐湿信頼性の向上に有効である。
密着力付与剤としては、具体的には、アミノ基、エポキ
シ基、イミダゾール基等を有するシランカップリング剤
などが利用される。なお、密着力付与剤も、分散性等を
考慮し他の成分と混合される場合があるが、本発明でい
う密着力付与剤はその中の有効成分として機能するもの
を指す。
The adhesion promoter (C) used in the present invention is
It is possible to improve the moisture-resistant adhesion between the resin composition and the semiconductor element or the wiring board, which is effective in improving the moisture-resistant reliability.
As the adhesion-imparting agent, specifically, a silane coupling agent having an amino group, an epoxy group, an imidazole group, or the like is used. Note that the adhesion-imparting agent may be mixed with other components in consideration of dispersibility and the like, but the adhesion-imparting agent in the present invention refers to one that functions as an active ingredient therein.

【0017】本発明のエポキシ樹脂組成物は、前記(A)
成分、(B)成分及び(C)成分を主成分とする。言いかえれ
ば(B)〜(E)成分を主成分とする。ここで、(E)成分と(D)
成分の配合割合(重量比)は、(E)/(D)=20/80〜50
/50、好ましくは25/75〜40/60の範囲とすることがよ
い。また、(D)成分は、30wt%以上、好ましくは35〜70w
t%含有されていることがよく、(E)成分と(D)成分の合
計の含有量が80〜98重量%であることが好ましい。ま
た、(B)成分の潜在性硬化触媒の使用量は、実装プロセ
スにより異なるが、少ないと硬化性が悪くなり、フリッ
プチップ実装の際に長時間を要するなどの問題が発生す
るので、通常樹脂組成物中のエポキシ樹脂100重量部に
対して、5〜30重量部の範囲で選択される。(C)成分は、
(E)成分であるエポキシ樹脂100重量部に対して0.02〜4
重量部の範囲で用いることが必要であり、0.1〜2重量部
の範囲で使用することが特に好ましい。(C)成分の使用
量が、0.02重量部に満たないと耐湿密着力の発現が十分
でなく、また4重量部を超えると耐湿信頼性が低下し、
また、エポキシ樹脂組成物としての保存安定性が急速に
悪くなる等の問題が発生する。
The epoxy resin composition of the present invention has the above-mentioned (A)
The main components are the component, the component (B) and the component (C). In other words, the components (B) to (E) are the main components. Where (E) component and (D)
The blending ratio (weight ratio) of the components is (E) / (D) = 20 / 80-50
/ 50, preferably 25/75 to 40/60. The component (D) is 30 wt% or more, preferably 35 to 70 w.
The content of the component (E) and the component (D) is preferably 80 to 98% by weight. The amount of the latent curing catalyst used as the component (B) varies depending on the mounting process, but if the amount is small, the curability deteriorates and problems such as long time required for flip-chip mounting occur. It is selected in the range of 5 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin in the composition. Component (C) is
0.02 to 4 relative to 100 parts by weight of the epoxy resin which is the component (E)
It is necessary to use in the range of parts by weight, and it is particularly preferable to use in the range of 0.1 to 2 parts by weight. If the amount of the component (C) used is less than 0.02 parts by weight, the moisture-resistant adhesive strength is not sufficiently expressed, and if it exceeds 4 parts by weight, the moisture resistance reliability decreases.
In addition, the storage stability of the epoxy resin composition rapidly deteriorates.

【0018】本発明のエポキシ樹脂組成物は、(B)成分
及び(C)成分の他に本発明の効果を妨げない範囲で少量
の界面活性剤、着色剤、改質剤、硬化促進剤、その他の
フィラー、樹脂等の添加剤を配合することが可能である
が、15重量%以下にとどめることが好ましい。また、
(A)成分には、(D)成分及び(E)成分の他に本発明の効果
を妨げない範囲で少量の界面活性剤、着色剤、改質剤、
その他のフィラー、樹脂等の添加剤を配合することが可
能であるが、15重量%以下にとどめることが好ましい。
更に、球状無機充填材及びエポキシ樹脂の全部が(A)成
分を構成する(D)成分及び(E)成分でなくてもよく、一部
はその他のフィラー、樹脂等の添加剤として配合されて
もよい。
The epoxy resin composition of the present invention comprises, in addition to the components (B) and (C), a small amount of a surfactant, a colorant, a modifier, a curing accelerator, within a range that does not impair the effects of the present invention. Other additives such as fillers and resins can be blended, but it is preferable to keep it to 15% by weight or less. Also,
The component (A), in addition to the components (D) and (E), a small amount of a surfactant, a colorant, a modifier within a range that does not impair the effects of the present invention,
Other additives such as fillers and resins can be blended, but it is preferable to keep it to 15% by weight or less.
Furthermore, all of the spherical inorganic filler and the epoxy resin may not be the component (D) and the component (E) constituting the component (A), and some of them may be blended as an additive such as other fillers and resins. Good.

【0019】本発明の半導体装置は、上記フリップチッ
プ用エポキシ樹脂組成物を用いて製造される。半導体装
置の好ましい製造方法としては、配線基板の一部にフリ
ップチップ用エポキシ樹脂組成物を塗布し、この塗布部
分にバンプを有する半導体素子を搭載し、配線基板上の
導体部と半導体素子のバンプとを接合すると同時に又は
その後に樹脂組成物を硬化させる製造方法である。得ら
れた半導体素子と配線基板間には、上記樹脂組成物又は
その硬化物が存在し、両者を接合すると共に、両者の間
隙の少なくとも一部を充填している。なお、電気的接合
部分間には樹脂組成物又はその硬化物が存在しないよう
にする。
The semiconductor device of the present invention is manufactured using the above-mentioned epoxy resin composition for flip chips. As a preferable method for manufacturing a semiconductor device, a flip chip epoxy resin composition is applied to a part of a wiring board, a semiconductor element having bumps is mounted on the applied part, and a conductor portion on the wiring board and a bump of the semiconductor element are mounted. It is a manufacturing method in which the resin composition is cured at the same time as or after joining and. The above resin composition or a cured product thereof exists between the obtained semiconductor element and the wiring board, and both are bonded and at least a part of the gap between them is filled. It should be noted that the resin composition or its cured product does not exist between the electrically connected portions.

【0020】本発明の樹脂組成物を用いた半導体装置の
好ましい製造例を、その製造工程の一例を示す図1を参
照して説明する。まず、配線基板1上の一部にエポキシ
樹脂組成物2をディスペンサー3等で塗布することによ
り配置し(a)、その樹脂組成物塗布部分(配置部分)の
上部からバンプを有する半導体素子4を配線基板上の導
体部と半導体素子のバンプとを接合させるに十分な圧力
で加圧して搭載する(b)(c)。そして、その接合と同時に
又はその後にエポキシ樹脂組成物を硬化して、半導体素
子と基板が樹脂を介して固着された半導体装置5を得る
(d)。加圧、硬化の際には樹脂に対して熱がかかるよう
に、半導体素子側から加熱する方法が一般的である。
A preferred example of manufacturing a semiconductor device using the resin composition of the present invention will be described with reference to FIG. 1 showing an example of the manufacturing process. First, the epoxy resin composition 2 is applied to a part of the wiring board 1 by applying it with a dispenser 3 or the like (a), and the semiconductor element 4 having bumps is provided from the upper part of the resin composition application part (placement part). Mounting is performed by applying a pressure sufficient to bond the conductor portion on the wiring board and the bump of the semiconductor element (b) (c). Then, simultaneously with or after the bonding, the epoxy resin composition is cured to obtain the semiconductor device 5 in which the semiconductor element and the substrate are fixed via the resin.
(d). Generally, the semiconductor element side is heated so that the resin is heated during pressurization and curing.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。実施
例及び比較例で使用した原料を下記に示す。シリカ A:平均粒子径1μm、最大粒子径7μmシリカ B:平均粒子径5μm、最大粒子径10μmシリカ C:平均粒子径3μm、最大粒子径12μmシリカ D:平均粒子径6μm、最大粒子径30μm 硬化触媒A:アミキュアPN-23(味の素ファインテクノ) 硬化触媒B:ノハ゛キュアHX-3921HP(旭化成エポキシ)有効触
媒成分35% 密着力付与剤:イミダゾールシランIA-100F(ジャパン
エナジー)有効成分70%
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. The raw materials used in Examples and Comparative Examples are shown below. Silica A: average particle size 1 μm, maximum particle size 7 μm Silica B: average particle size 5 μm, maximum particle size 10 μm Silica C: average particle size 3 μm, maximum particle size 12 μm Silica D: average particle size 6 μm, maximum particle size 30 μm Curing catalyst A: Amicure PN-23 (Ajinomoto Fine Techno) Curing catalyst B: Novacure HX-3921HP (Asahi Kasei Epoxy) active catalyst component 35% Adhesion enhancer: Imidazolesilane IA-100F (Japan Energy) active component 70%

【0022】各評価項目の判定基準を下記に示す。 [実装性]硬化性、ボイドフリー、フィレット形状を目
視にて判断 ◎:全ての項目で良好 ○:2つの項目が良好 △:1つの項目が良好 ×:全ての項目で不良
The judgment criteria for each evaluation item are shown below. [Mountability] Curable, void-free, visually evaluate fillet shape ◎: Good for all items ○: Good for two items △: Good for one item ×: Poor for all items

【0023】[TCT]温度サイクル試験(-55℃〜1
25℃)での接続不良発生時期 ○:1000サイクル超 △:500〜1000サイクル ×:500サイクル未満[PCT]耐湿試験(121℃・
2atm)での接続不良発生時期 ○:100時間超 △:50〜100時間 ×:50時間未満
[TCT] Temperature cycle test (-55 ° C to 1
Timing of connection failure at 25 ° C ○: More than 1000 cycles △: 500 to 1000 cycles ×: Less than 500 cycles [PCT] Moisture resistance test (121 ° C ・
Connection failure occurrence time at 2 atm) ○: More than 100 hours △: 50 to 100 hours ×: Less than 50 hours

【0024】実施例1 エポキシ当量170g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂
(液状)50重量部とエポキシ当量160g/eqのビスフェノ
ールF型エポキシ樹脂(液状)50重量部に対して、球状
無機充填材(平均粒子径5μm、最大粒子径10μm)200
重量部を加え、150℃の加熱状態下でチクソ比が1.5未満
となるまで攪拌して、有機‐無機配合物を得た。この有
機‐無機配合物に、イミダゾールシランIA-100F(密着
力付与剤)をエポキシ樹脂100重量部に対して0.5重量部
となるように配合し、その後、上記硬化触媒A(潜在性
硬化触媒)を25重量部混合配合し、エポキシ樹脂組成物
とした。得られたエポキシ樹脂組成物を用いて、実装
性、半導体装置を作成した場合の温度サイクル試験(T
CT)と耐湿試験(PCT)を評価した。
Example 1 50 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (liquid) having an epoxy equivalent of 170 g / eq (liquid) and 50 parts by weight of a bisphenol F type epoxy resin (liquid) having an epoxy equivalent of 160 g / eq were added to a spherical inorganic filler ( Average particle size 5μm, maximum particle size 10μm) 200
Parts by weight were added, and the mixture was stirred under heating at 150 ° C. until the thixo ratio became less than 1.5 to obtain an organic-inorganic blend. To this organic-inorganic mixture, imidazole silane IA-100F (adhesiveness imparting agent) was added to the epoxy resin in an amount of 0.5 parts by weight, and then the above curing catalyst A (latent curing catalyst). Was mixed and mixed to prepare an epoxy resin composition. Using the epoxy resin composition obtained, mountability, a temperature cycle test (T
CT) and humidity resistance test (PCT) were evaluated.

【0025】実施例中の半導体装置は、岩下エンジニア
リング製ディスペンサーを用いて配線基板上にエポキシ
樹脂組成物を塗布し、その後、松下電器産業製FCB-IIM
を用いて基板上の樹脂組成物に半導体素子を加圧し、基
板上の配線部分と半導体素子のバンプとの接合を行い、
接合と共に樹脂組成物を硬化させフリップチップ接続さ
れた半導体装置を作製した。なお、硬化は半導体素子側
から加熱(280℃)して進行させた。
In the semiconductor device of the example, an epoxy resin composition was applied onto a wiring board by using a dispenser manufactured by Iwashita Engineering Co., Ltd., and then FCB-IIM manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
The semiconductor element is pressed to the resin composition on the substrate using, and the wiring portion on the substrate and the bump of the semiconductor element are joined,
The resin composition was cured at the same time as the bonding to produce a flip-chip connected semiconductor device. The curing was advanced by heating (280 ° C.) from the semiconductor element side.

【0026】実施例2〜4及び比較例1〜3 エポキシ樹脂組成物の組成を表1に示したように変化さ
せたこと以外は、実施例1と同様に行った。
Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 Example 1 was repeated except that the composition of the epoxy resin composition was changed as shown in Table 1.

【0027】エポキシ樹脂組成物の配合組成及びそれを
使用した半導体装置の評価結果をまとめて表1に示す。
なお、配合組成において、数値は重量部である。
Table 1 shows the compounding composition of the epoxy resin composition and the evaluation result of the semiconductor device using the same.
In addition, in the composition, the numerical values are parts by weight.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、特定の
チクソ比を有する有機‐無機配合物を使用していること
から球状無機充填材の充填量を高めることができ、これ
により耐湿性及び耐熱性又は低熱膨張性の発現に有効で
ある。また、実装性にも優れ、配線基板と半導体素子を
接合させるフリップチップ実装における半導体装置の製
造に用いられる。特に、樹脂を介して一括して接合を行
う圧接工法に適する。これを用いて製造された半導体装
置は、樹脂の有する耐湿密着力の良好性から温度変化に
対する信頼性や耐湿信頼性が良好であり、その工業的価
値は極めて高いものである。
Since the epoxy resin composition of the present invention uses the organic-inorganic compound having a specific thixo ratio, it is possible to increase the filling amount of the spherical inorganic filler, which results in moisture resistance and It is effective in developing heat resistance or low thermal expansion. Further, it has excellent mountability and is used for manufacturing a semiconductor device in flip-chip mounting in which a wiring board and a semiconductor element are bonded to each other. In particular, it is suitable for a pressure welding method in which bonding is performed at once through a resin. A semiconductor device manufactured using this has excellent moisture-resistant adhesive strength of the resin and good reliability against temperature changes and moisture resistance, and its industrial value is extremely high.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 半導体装置の製造工程図FIG. 1 is a manufacturing process diagram of a semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 エポキシ樹脂組成物 3 ディスペンサー 4 半導体素子 5 半導体装置 1 substrate 2 Epoxy resin composition 3 dispensers 4 Semiconductor element 5 Semiconductor device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J002 CD021 CD051 CD061 CD081 CD201 DE146 DF016 DJ006 DJ016 DL006 EX007 FA086 FD016 FD347 GQ05 5F044 KK02 LL11 QQ01    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4J002 CD021 CD051 CD061 CD081                       CD201 DE146 DF016 DJ006                       DJ016 DL006 EX007 FA086                       FD016 FD347 GQ05                 5F044 KK02 LL11 QQ01

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記(A)〜(C)成分を主成分として含有
し、エポキシ樹脂(E)100重量部に対して、密着力付与剤
(C)が0.02〜4重量部の範囲で含有されていることを特徴
とするフリップチップ実装用エポキシ樹脂組成物。 (A) 常温で液状であるエポキシ樹脂(E)と、平均粒子
径が1〜6μmで、20μm以上の粒子径を有する大粒子の
含有量が1%以下の球状無機充填材(D)とを混合して得ら
れるチクソ比が1.5未満である有機‐無機配合物 (B) 潜在性硬化触媒 (C) 密着力付与剤
1. An adhesiveness-imparting agent containing the following components (A) to (C) as main components and 100 parts by weight of an epoxy resin (E).
An epoxy resin composition for flip-chip mounting, comprising (C) in an amount of 0.02 to 4 parts by weight. (A) An epoxy resin (E) which is liquid at room temperature, and a spherical inorganic filler (D) having an average particle size of 1 to 6 μm and a content of large particles having a particle size of 20 μm or more of 1% or less. Organic-inorganic compound with mixed thixo ratio less than 1.5 (B) Latent curing catalyst (C) Adhesion enhancer
【請求項2】 エポキシ樹脂(E)と球状無機充填材(D)の
合計の含有量が80〜98重量%であり、エポキシ樹脂(E)
成分と球状無機充填材(D)の配合割合(重量比)が20〜5
0:80〜50であり、潜在性硬化触媒(B)の配合量がエポキ
シ樹脂(E)100重量部に対し5〜30重量部であり、性状が
ペースト状である請求項1に記載のフリップチップ実装
用エポキシ樹脂組成物。
2. The total content of the epoxy resin (E) and the spherical inorganic filler (D) is 80 to 98% by weight, and the epoxy resin (E)
The compounding ratio (weight ratio) of the component and the spherical inorganic filler (D) is 20 to 5
The flip according to claim 1, which is 0:80 to 50, the compounding amount of the latent curing catalyst (B) is 5 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin (E), and the property is a paste. Epoxy resin composition for chip mounting.
【請求項3】 請求項1又は2記載のフリップチップ実
装用エポキシ樹脂組成物により配線基板と半導体素子が
接合されたフリップチップ半導体装置。
3. A flip chip semiconductor device in which a wiring board and a semiconductor element are bonded by the epoxy resin composition for flip chip mounting according to claim 1.
【請求項4】 配線基板と半導体素子とをエポキシ樹脂
組成物を介して接合する半導体装置の製造方法におい
て、配線基板の一部に請求項1又は2記載のフリップチ
ップ実装用エポキシ樹脂組成物を塗布し、当該樹脂組成
物塗布部分にバンプを有する半導体素子を搭載し配線基
板上の導体部と半導体素子のバンプとを接合すると同時
に又はその後に樹脂組成物を硬化させることを特徴とす
る半導体装置の製造方法。
4. A method for manufacturing a semiconductor device, which comprises bonding a wiring board and a semiconductor element via an epoxy resin composition, wherein the epoxy resin composition for flip-chip mounting according to claim 1 or 2 is provided on a part of the wiring board. A semiconductor device characterized in that the resin composition is applied and a semiconductor element having bumps is mounted on the resin composition application portion, and the resin composition is cured at the same time as or after the conductor portion on the wiring board and the bump of the semiconductor element are bonded. Manufacturing method.
【請求項5】 配線基板と半導体素子との間隙の少なく
とも一部に請求項1又は2記載のフリップチップ実装用
エポキシ樹脂組成物の硬化物が充填されていることを特
徴とするフリップチップ半導体装置。
5. A flip-chip semiconductor device, wherein at least a part of a gap between a wiring board and a semiconductor element is filled with a cured product of the epoxy resin composition for flip-chip mounting according to claim 1. .
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