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JP2003115645A - Three-dimensional circuit board - Google Patents

Three-dimensional circuit board

Info

Publication number
JP2003115645A
JP2003115645A JP2001309526A JP2001309526A JP2003115645A JP 2003115645 A JP2003115645 A JP 2003115645A JP 2001309526 A JP2001309526 A JP 2001309526A JP 2001309526 A JP2001309526 A JP 2001309526A JP 2003115645 A JP2003115645 A JP 2003115645A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
mask
circuit board
conductor layer
dimensional circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001309526A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Minami
幸治 南
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Zeon Co Ltd filed Critical Nippon Zeon Co Ltd
Priority to JP2001309526A priority Critical patent/JP2003115645A/en
Priority to PCT/JP2002/010330 priority patent/WO2003032696A1/en
Publication of JP2003115645A publication Critical patent/JP2003115645A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/18Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material
    • H05K3/181Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating
    • H05K3/182Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method
    • H05K3/184Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using precipitation techniques to apply the conductive material by electroless plating characterised by the patterning method using masks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P11/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing waveguides or resonators, lines, or other devices of the waveguide type
    • H01P11/001Manufacturing waveguides or transmission lines of the waveguide type
    • H01P11/003Manufacturing lines with conductors on a substrate, e.g. strip lines, slot lines

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Waveguide Aerials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電圧定常波比(VSWR)が小さく、且つ温
度や湿度変化による反りや変形が少ない、携帯電話など
の移動体通信機器への組み込みにも適したアンテナ等の
立体回路基板を提供する。 【解決手段】 1kHz〜20GHzでの誘電正接が
0.01以下、IZOD衝撃強度が2kJ/m以上、且
つ18.6kgf加重における熱変形温度が110℃以
上である熱可塑性樹脂組成物を所定形状の基板に形成
し、この基板の表面のうち導体層が形成されるべき表面
部分を露出させて、これ以外の表面部分を覆うように前
記基板にマスクを形成し、マスク及びマスクから露出し
ている前記基板の表面をエッチング処理し、このエッチ
ングされた前記表面に無電解メッキに対する触媒を付与
し、前記基板からマスクを除去し、次いで前記基板の表
面に所定パターンの導体層を無電解メッキにより形成し
て立体回路基板を得る。
(57) [Problem] A three-dimensional circuit such as an antenna having a small voltage standing wave ratio (VSWR) and a small warpage or deformation due to a change in temperature or humidity and suitable for being incorporated into a mobile communication device such as a mobile phone. Provide a substrate. SOLUTION: A thermoplastic resin composition having a dielectric loss tangent of 0.01 or less at 1 kHz to 20 GHz, an IZOD impact strength of 2 kJ / m or more, and a heat deformation temperature of 110 ° C. or more under a load of 18.6 kgf is formed into a predetermined shape. A mask is formed on the substrate so that a surface portion of the surface of the substrate where the conductor layer is to be formed is exposed, and a mask is formed on the substrate so as to cover other surface portions, and the mask is exposed from the mask. Etching the surface of the substrate, applying a catalyst for electroless plating to the etched surface, removing the mask from the substrate, and then forming a conductor layer of a predetermined pattern on the surface of the substrate by electroless plating. To obtain a three-dimensional circuit board.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は立体回路基板に関
し、さらに詳細には、電圧定常波比(VSWR)が小さ
く、且つ温度や湿度の変化による反りや変形が少ない、
携帯電話などの移動体通信機器への組み込みにも適した
アンテナ等の立体回路基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a three-dimensional circuit board, and more particularly, it has a small voltage standing wave ratio (VSWR) and little warpage or deformation due to changes in temperature or humidity.
The present invention relates to a three-dimensional circuit board such as an antenna suitable for incorporation in mobile communication devices such as mobile phones.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯電話等の移動体通信機器やGPS
(Global Positioning System)装置などにおいて使用
される誘電体アンテナ等の立体回路基板は、その性格上
小型な形態であることが求められている。誘電体アンテ
ナ等の立体回路基板は、所定形状(例えば板状)の誘電
体材料からなる基板の両面に放射導体層と接地導体層と
を設けたものである。誘電体材料には従来セラミックス
が用いられてきた。セラミックスは任意形状への加工が
難しく、重く、廃棄し難いなどの問題があり、最近で
は、樹脂が用いられるようになってきている。
2. Description of the Related Art Mobile communication devices such as mobile phones and GPS
A three-dimensional circuit board such as a dielectric antenna used in a (Global Positioning System) device or the like is required to have a small size by its nature. A three-dimensional circuit board such as a dielectric antenna is one in which a radiation conductor layer and a ground conductor layer are provided on both surfaces of a substrate made of a dielectric material having a predetermined shape (for example, a plate shape). Conventionally, ceramics have been used as the dielectric material. Ceramics have problems that it is difficult to process them into arbitrary shapes, they are heavy, and they are difficult to dispose of. Recently, resins have been used.

【0003】立体回路基板に用いられる樹脂としては、
熱可塑性芳香族ポリエステル樹脂、ポリフェニレンサル
ファイド樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、
ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリエーテルイミド樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリ
サルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアミド
イミド樹脂、ポリアリレート樹脂、5−メチルペンテン
樹脂等の熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリエーテルエーテルケ
トン樹脂などの熱硬化性樹脂が提案されている。この中
で、10GHzにおける誘電正接が0.006以下で、
融点が240℃以上で、比重が1.5以下で、相対結晶
化度が50%以上のシンジオタクチックポリスチレンを
主体とする材料で形成された基板を用いた電子部品が提
案されている(特開2000−40421号公報)。ま
た、熱可塑性ノルボルネン系樹脂100重量部と軟質重
合体1〜40重量部とからなり1kHz〜20GHzで
の誘電正接が0.0015以下であり、IZOD衝撃強
度が5kg・cm/cm以上である成形材料を成形しマ
イクロストリップアンテナの絶縁板に用いることも提案
されている(特開平8−325440号公報)。しかし
ながら、これら従来の回路基板においては、2GHzと
いう高周波域でのVSWR値が低くなくピーク利得が十
分でない、また温度や湿度などの変化によるそりや変形
を起こしやすいため、共振周波数が環境変化に応じて大
きく変動してしまうということがあった。
As the resin used for the three-dimensional circuit board,
Thermoplastic aromatic polyester resin, polyphenylene sulfide resin, syndiotactic polystyrene resin,
Polyphenylene ether resin, polyetherimide resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyamideimide resin, polyarylate resin, thermoplastic resin such as 5-methylpentene resin, epoxy resin, phenol resin, Thermosetting resins such as unsaturated polyester resins and polyether ether ketone resins have been proposed. Among these, the dielectric loss tangent at 10 GHz is 0.006 or less,
An electronic component using a substrate formed of a material mainly composed of syndiotactic polystyrene having a melting point of 240 ° C. or higher, a specific gravity of 1.5 or lower, and a relative crystallinity of 50% or higher has been proposed (special feature: (Kai 2000-40421). Further, a molding comprising 100 parts by weight of a thermoplastic norbornene resin and 1 to 40 parts by weight of a soft polymer, having a dielectric loss tangent of 0.0015 or less at 1 kHz to 20 GHz and an IZOD impact strength of 5 kg · cm / cm or more. It has also been proposed to mold the material and use it as an insulating plate of a microstrip antenna (Japanese Patent Laid-Open No. 8-325440). However, in these conventional circuit boards, the VSWR value in the high frequency range of 2 GHz is not low, the peak gain is not sufficient, and warpage and deformation due to changes in temperature and humidity easily occur, so that the resonance frequency changes depending on environmental changes. There was a big change.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高周
波域においても電圧定常波比(VSWR)が小さく、且
つ温度や湿度変化による反りや変形が少ない、携帯電話
などの移動体通信機器への組み込みにも適したアンテナ
等の立体回路基板を提供することにある。
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結
果、特定値以下の誘電正接、特定値以下のIZOD衝撃
強度及び特定値以上の熱変形温度を有する熱可塑性樹脂
組成物で形成された基板の表面に導体層を設け、該導体
層の表面光沢度Gsを特定値以上にした立体回路基板を
用いることによって、本発明の目的を達成できることを
見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至っ
た。
DISCLOSURE OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a mobile communication device such as a mobile phone, which has a small voltage standing wave ratio (VSWR) even in a high frequency range and has little warpage or deformation due to temperature and humidity changes. Antenna suitable for installation
To provide a three-dimensional circuit board such as.
The present inventors have conducted extensive studies to achieve the above object, and as a result, formed of a thermoplastic resin composition having a dielectric loss tangent of a specific value or less, an IZOD impact strength of a specific value or less, and a heat distortion temperature of a specific value or more. It has been found that the object of the present invention can be achieved by providing a conductor layer on the surface of the substrate and using a three-dimensional circuit board in which the surface glossiness Gs of the conductor layer is a specific value or more, and the present invention has been completed based on this finding. Came to do.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】かくして、本発明によれ
ば、1kHz〜20GHzでの誘電正接が0.01以
下、IZOD衝撃強度が2kJ/m以上、且つ18.6
kgf加重における熱変形温度が110℃以上である熱
可塑性樹脂組成物で形成された基板の表面に導体層を設
け、該導体層の表面光沢度Gs(60度)が50以上で
ある立体回路基板が提供される。
According to the present invention, the dielectric loss tangent at 1 kHz to 20 GHz is 0.01 or less, the IZOD impact strength is 2 kJ / m or more, and 18.6.
A three-dimensional circuit board in which a conductor layer is provided on the surface of a substrate formed of a thermoplastic resin composition having a heat distortion temperature of 110 ° C. or more under a load of kgf, and the surface gloss Gs (60 degrees) of the conductor layer is 50 or more. Will be provided.

【0006】また、本発明によれば、1kHz〜20G
Hzでの誘電正接が0.01以下、IZOD衝撃強度が
2kJ/m以上、且つ18.6kgf加重における熱変
形温度が110℃以上である熱可塑性樹脂組成物を所定
形状の基板に形成する工程、この基板の表面のうち、導
体層が形成されるべき表面部分を露出させこれ以外の表
面部分を覆うように前記基板にマスクを形成する工程、
マスクの表面及びマスクから露出している前記基板の表
面をエッチング処理する工程、前記エッチングされた表
面に無電解メッキのための触媒を付与する工程、基板か
らマスクを除去する工程、前記マスクを除去した基板の
表面に所定パターンの導体層を無電解メッキにより形成
する工程を含む立体回路基板の製造方法が提供される。
Further, according to the present invention, 1 kHz to 20 G
A step of forming a thermoplastic resin composition having a dielectric loss tangent at 0.01 or less, an IZOD impact strength of 2 kJ / m or more, and a heat deformation temperature of 110 ° C. or more under a load of 18.6 kgf on a substrate having a predetermined shape, Forming a mask on the substrate so as to expose a surface portion on which a conductor layer is to be formed and cover the other surface portion of the surface of the substrate;
Etching the surface of the mask and the surface of the substrate exposed from the mask, applying a catalyst for electroless plating to the etched surface, removing the mask from the substrate, removing the mask There is provided a method for manufacturing a three-dimensional circuit board including a step of forming a conductor layer having a predetermined pattern on the surface of the board by electroless plating.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明の立体回路基板は、1kH
z〜20GHzでの誘電正接が0.01以下、IZOD
衝撃強度が2kJ/m以上、且つ18.6kgf加重に
おける熱変形温度が110℃以上である熱可塑性樹脂組
成物で形成された基板の表面に導体層を設け、該導体層
の表面光沢度Gs(60度)が50以上のものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The three-dimensional circuit board of the present invention is 1 kH.
Dielectric loss tangent at z to 20 GHz is 0.01 or less, IZOD
A conductor layer is provided on the surface of a substrate formed of a thermoplastic resin composition having an impact strength of 2 kJ / m or more and a heat deformation temperature of 110 ° C. or more under a load of 18.6 kgf, and the surface glossiness Gs ( 60 degrees) is 50 or more.

【0008】本発明で用いられる熱可塑性樹脂組成物
は、1kHz〜20GHzでの誘電正接が0.01以下
であり、IZOD衝撃強度が2kJ/m以上であり、且
つ18.6kgf加重における熱変形温度が110℃以
上のものである。
The thermoplastic resin composition used in the present invention has a dielectric loss tangent of 0.01 or less at 1 kHz to 20 GHz, an IZOD impact strength of 2 kJ / m or more, and a heat deformation temperature under a load of 18.6 kgf. Is 110 ° C. or higher.

【0009】熱可塑性樹脂組成物の誘電正接は、好まし
くは0.002以下、特に好ましくは0.001以下で
ある。ここで誘電正接は1kHz〜20GHzの周波数
領域全域で0.01以下になるということである。誘電
正接は、JIS K 6911に準拠して測定した値で
ある。誘電正接が大きくなると電気信号の損失が大きく
なるおそれがある。熱可塑性樹脂組成物のIZOD衝撃
強度は、好ましくは5kJ/m以上、特に好ましくは1
0kJ/m以上である。IZOD衝撃強度はJIS K
7110に準拠して測定された値である。また18.6
kgf加重における熱変形温度は、好ましくは120℃
以上、特に好ましくは130℃以上である。熱変形温度
はJIS K 7206に準拠して測定した値である。
The dielectric loss tangent of the thermoplastic resin composition is preferably 0.002 or less, and particularly preferably 0.001 or less. Here, the dielectric loss tangent is 0.01 or less in the entire frequency region of 1 kHz to 20 GHz. The dielectric loss tangent is a value measured according to JIS K 6911. If the dielectric loss tangent is large, the electric signal loss may be large. The IZOD impact strength of the thermoplastic resin composition is preferably 5 kJ / m or more, particularly preferably 1
It is 0 kJ / m or more. IZOD impact strength is JIS K
It is a value measured in accordance with 7110. See also 18.6
The heat distortion temperature under load of kgf is preferably 120 ° C.
Above, especially preferably above 130 ° C. The heat distortion temperature is a value measured according to JIS K 7206.

【0010】このような特性を有する熱可塑性樹脂組成
物としては、例えば、熱可塑性樹脂とゴム弾性体とから
なるものが挙げられる。好適な熱可塑性樹脂としては、
非晶性熱可塑性樹脂が挙げられ、その具体例としてノル
ボルネン系単量体とオレフィンとの付加重合体、ノルボ
ルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体の
開環重合体及びその水素化物、芳香族ビニル単量体の重
合体の芳香環部分を水素化したもの、芳香族ビニル単量
体と共役ジエン単量体とのランダム若しくはブロック共
重合体の芳香環部分を水素化したもの、脂環式ビニル単
量体の重合体などの公知の非晶性樹脂が挙げられる。な
お、ノルボルネン系単量体とは、シクロペンタジエンと
オレフィンとの付加反応等によって得られるノルボルネ
ン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン等の
多環不飽和炭化水素、及びそれのアルキル置換体や;カ
ルボキシル基、酸無水物基、エポキシ基、アミド基、エ
ステル基などの極性基置換体のごとき多環不飽和炭化水
素誘導体のことをいう。
Examples of the thermoplastic resin composition having such characteristics include those composed of a thermoplastic resin and a rubber elastic body. Suitable thermoplastic resins include
Amorphous thermoplastic resins are mentioned, and specific examples thereof include addition polymers of norbornene-based monomers and olefins, addition polymers of norbornene-based monomers, ring-opening polymers of norbornene-based monomers and hydrogens thereof. Hydrogenated aromatic ring portion of polymer of aromatic vinyl monomer, hydrogenated aromatic ring portion of random or block copolymer of aromatic vinyl monomer and conjugated diene monomer Examples of the known amorphous resin include polymers of alicyclic vinyl monomers. The norbornene-based monomer is a polycyclic unsaturated hydrocarbon such as norbornene, dicyclopentadiene or tetracyclododecene obtained by an addition reaction of cyclopentadiene and an olefin, and an alkyl-substituted product thereof; It refers to a polycyclic unsaturated hydrocarbon derivative such as a polar group-substituted product such as a group, an acid anhydride group, an epoxy group, an amide group, and an ester group.

【0011】ゴム弾性体の具体例としては、天然ゴム、
ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、
ネオプレン、ポリスルフィドゴム、チオコールゴム、ア
クリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロ
ロヒドリンゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合
体、水素添加スチレン−ブタジエンブロック共重合体
(SEB)、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック
共重合体(SBS)、水素添加スチレン−ブタジエン−
スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−イ
ソプレンブロック共重合体、水素添加スチレン−イソプ
レンブロック共重合体(SEP)、スチレン−イソプレ
ン−スチレンブロック共重合体(SIS)、水素添加ス
チレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体(SE
PS)、またはエチレンプロピレンゴム(EPM)、エ
チレンプロピレンジエンゴム(EPDM)、エチレン−
ブテン共重合体、エチレン−オクテン共重合体、直鎖状
低密度ポリエチレン系エラストマー等のオレフィン系ゴ
ム、あるいはブタジエン−アクリロニトリル−スチレン
−コアシェルゴム(ABS)、メチルメタクリレート−
ブタジエン−スチレン−コアシェルゴム(MBS)、メ
チルメタクリレート−ブチルアクリレート−スチレン−
コアシェルゴム(MAS)、オクチルアクリレート−ブ
タジエン−スチレン−コアシェルゴム(MABS)、ア
ルキルアクリレート−ブタジエン−アクリロニトリル−
スチレン−コアシェルゴム(AABS)、ブタジエン−
スチレン−コアシェルゴム、メチルメタクリレート−ブ
チルアクリレート−シロキサンのごときシロキサン含有
コアシェルゴム等のコアシェルタイプの粒子状弾性体、
またはこれらを変性したゴム等が挙げられる。これらの
ゴム弾性体の中でも、本発明においては、耐熱性及び誘
電特性の点からスチレン−エチレン−ブチレン−スチレ
ンブロック共重合体(SEBS)やスチレン−エチレン
−プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEPS)
が好ましい。
Specific examples of the rubber elastic body include natural rubber,
Polybutadiene, polyisoprene, polyisobutylene,
Neoprene, polysulfide rubber, thiochol rubber, acrylic rubber, urethane rubber, silicone rubber, epichlorohydrin rubber, styrene-butadiene block copolymer, hydrogenated styrene-butadiene block copolymer (SEB), styrene-butadiene-styrene block copolymer Combined (SBS), hydrogenated styrene-butadiene-
Styrene block copolymer (SEBS), styrene-isoprene block copolymer, hydrogenated styrene-isoprene block copolymer (SEP), styrene-isoprene-styrene block copolymer (SIS), hydrogenated styrene-isoprene-styrene Block copolymer (SE
PS), or ethylene propylene rubber (EPM), ethylene propylene diene rubber (EPDM), ethylene-
Butene copolymer, ethylene-octene copolymer, olefin rubber such as linear low-density polyethylene elastomer, or butadiene-acrylonitrile-styrene-core shell rubber (ABS), methyl methacrylate-
Butadiene-styrene-core shell rubber (MBS), methyl methacrylate-butyl acrylate-styrene-
Core shell rubber (MAS), octyl acrylate-butadiene-styrene-core shell rubber (MABS), alkyl acrylate-butadiene-acrylonitrile-
Styrene-core shell rubber (AABS), butadiene-
Core-shell type particulate elastic body such as styrene-core shell rubber, siloxane-containing core shell rubber such as methyl methacrylate-butyl acrylate-siloxane,
Alternatively, rubbers obtained by modifying these may be used. Among these rubber elastic materials, in the present invention, styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer (SEBS) and styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEPS) are used in view of heat resistance and dielectric properties.
Is preferred.

【0012】熱可塑性樹脂として前記のごとき非晶性熱
可塑性樹脂を用いた場合には、他の樹脂を樹脂組成物に
含有させることができる。樹脂組成物に含有させること
ができる他の樹脂としては、直鎖状高密度ポリエチレ
ン、直鎖状低密度ポリエチレン、高圧法低密度ポリエチ
レン、アイソタクチックポリプロピレン、シンジオタク
チックポリプロピレン、ブロックポリプロピレン、ラン
ダムポリプロピレン、ポリブテン、1,2−ポリブタジ
エン、4−メチルペンテン、環状ポリオレフィン及びこ
れらの共重合体に代表されるポリオレフィン系樹脂、ア
タクチックポリスチレン、アイソタクチックポリスチレ
ン、シンジオタクチックポリスチレン、HIPS、AB
S、AS、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン
−メタクリル酸アルキルエステル共重合体、スチレン−
メタクリル酸グリシジルエステル共重合体、スチレン−
アクリル酸共重合体、スチレン−アクリル酸アルキルエ
ステル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチ
レン−フマル酸共重合体に代表されるポリスチレン系樹
脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレートに代表されるポリエステル
系樹脂、ナイロン6、ナイロン6,6に代表されるポリ
アミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル、ポリアリーレ
ンスルフィド,ポリ−4−フッ化エチレン(PTFE)
等のフッ素化ポリエチレン系樹脂等が挙げられる。これ
らの中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオ
レフィン又はポリフェニレンエーテルが好ましい。
When the above-mentioned amorphous thermoplastic resin is used as the thermoplastic resin, another resin can be contained in the resin composition. Other resins that can be contained in the resin composition include linear high-density polyethylene, linear low-density polyethylene, high-pressure low-density polyethylene, isotactic polypropylene, syndiotactic polypropylene, block polypropylene, random polypropylene. , Polybutene, 1,2-polybutadiene, 4-methylpentene, cyclic polyolefins and polyolefin resins represented by copolymers thereof, atactic polystyrene, isotactic polystyrene, syndiotactic polystyrene, HIPS, AB
S, AS, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid alkyl ester copolymer, styrene-
Methacrylic acid glycidyl ester copolymer, styrene-
Acrylic acid copolymer, styrene-acrylic acid alkyl ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-polystyrene resin represented by fumaric acid copolymer, polycarbonate, polyethylene terephthalate,
Polyester resin typified by polybutylene terephthalate, polyamide resin typified by nylon 6, nylon 6,6, polyphenylene ether, polyarylene sulfide, poly-4-fluoroethylene (PTFE)
And other fluorinated polyethylene resins. Among these, polyolefins such as polyethylene and polypropylene or polyphenylene ethers are preferable.

【0013】樹脂組成物には誘電正接の小さい繊維状又
は粒子状の誘電体セラミックスを1種単独で又は2種以
上を組み合わせて含有させることができる。このような
誘電体セラミックスを含有させることによって基板の誘
電率を所望の値に調整することができる。樹脂組成物に
含有させることができる誘電体セラミックスとしては、
チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸
カルシウム、チタン酸バリウムストロンチウム、アモル
ファス酸化チタンとチタン酸アルカリ土類金属塩との複
合体、チタン酸ジルコン酸鉛;ワラストナイト、ゾノト
ライトなどのケイ酸カルシウム;ホウ酸マグネシウム、
ホウ酸アルミニウム、ケイ酸亜鉛などを挙げることがで
きる。
The resin composition may contain one kind or a combination of two or more kinds of fibrous or particulate dielectric ceramics having a small dielectric loss tangent. By including such a dielectric ceramic, the dielectric constant of the substrate can be adjusted to a desired value. The dielectric ceramics that can be contained in the resin composition,
Barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, barium strontium titanate, a complex of amorphous titanium oxide and an alkaline earth metal titanate, lead zirconate titanate; calcium silicate such as wollastonite and zonotolite; Magnesium borate,
Aluminum borate, zinc silicate, etc. can be mentioned.

【0014】強度等の機械物性の向上を図る目的で、無
機充填材を含んでいることが望ましい。無機充填材の形
状は特に限定されず、繊維状、粒状、粉状のものいずれ
も使用可能である。繊維状の充填材としては、例えば、
ガラス繊維、炭素繊維等が挙げられる。形状としてはク
ロス状、マット状、集束切断状、短繊維、フィラメント
状、ウイスカ−等が挙げられる。粒状若しくは粉状の充
填材としては、タルク、カ−ボンブラック、グラファイ
ト、二酸化チタン、シリカ、マイカ、炭酸カルシウム、
硫酸カルシウム、炭酸バリウム、炭酸マグネシウム、硫
酸マグネシウム、硫酸バリウム、オキシサルフェ−ト、
酸化スズ、アルミナ、カオリン、炭化ケイ素、金属粉
末、ガラスパウダ−、ガラスフレ−ク、ガラスビ−ズ等
が挙げられる。上記のような充填材の中でも、特にガラ
ス充填材、例えばガラスパウダ−、ガラスフレ−ク、ガ
ラスビ−ズ、ガラスフィラメント、ガラスファイバ−、
ガラスロビング、ガラスマットが好ましい。また、これ
らの充填材としては表面処理したものを用いてもよい。
表面処理に用いられるカップリング剤は、充填材と熱可
塑性樹脂との接着性を良好にするために用いられるもの
であり、いわゆるシラン系カップリング剤、チタン系カ
ップリング剤等、従来公知のものの中から任意のものを
選択して用いることができる。
For the purpose of improving mechanical properties such as strength, it is desirable to include an inorganic filler. The shape of the inorganic filler is not particularly limited, and any of fibrous, granular, and powder forms can be used. As the fibrous filler, for example,
Examples thereof include glass fiber and carbon fiber. Examples of the shape include a cloth shape, a mat shape, a bundle cutting shape, a short fiber, a filament shape, and a whisker. As the granular or powdery filler, talc, carbon black, graphite, titanium dioxide, silica, mica, calcium carbonate,
Calcium sulfate, barium carbonate, magnesium carbonate, magnesium sulfate, barium sulfate, oxysulfate,
Examples thereof include tin oxide, alumina, kaolin, silicon carbide, metal powder, glass powder, glass flakes and glass beads. Among the above fillers, particularly glass fillers such as glass powder, glass flakes, glass beads, glass filaments, glass fibers,
Glass lobing and glass mat are preferred. In addition, surface-treated materials may be used as these fillers.
The coupling agent used in the surface treatment is used to improve the adhesiveness between the filler and the thermoplastic resin, so-called silane coupling agents, titanium coupling agents, etc. Any one can be selected and used from the inside.

【0015】本発明に用いる樹脂組成物には、本発明の
目的を阻害しない限り、以下に例示する各種の添加剤を
配合することができる。添加剤としては、例えば、アン
チブロッキング剤、酸化防止剤、核剤、帯電防止剤、プ
ロセスオイル、可塑剤、離型剤、相溶化剤,難燃剤、難
燃助剤、顔料等を挙げることができる。
The resin composition used in the present invention may contain various additives exemplified below, as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the additives include anti-blocking agents, antioxidants, nucleating agents, antistatic agents, process oils, plasticizers, release agents, compatibilizers, flame retardants, flame retardant aids, pigments and the like. it can.

【0016】アンチブロッキング剤として無機粒子や有
機粒子が用いられる。無機粒子(注:前記誘電体セラミ
ックスや無機充填材と重複するものもある)としては、
弗化リチウム、ホウ砂(硼酸ナトリウム含水塩)等のI
A族元素化合物、炭酸マグネシウム、燐酸マグネシウ
ム、酸化マグネシウム(マグネシア)、塩化マグネシウ
ム、酢酸マグネシウム、弗化マグネシウム、チタン酸マ
グネシウム、珪酸マグネシウム、珪酸マグネシウム含水
塩(タルク)、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム、亜燐
酸カルシウム、硫酸カルシウム(石膏)、酢酸カルシウ
ム、テレフタル酸カルシウム、水酸化カルシウム、珪酸
カルシウム、弗化カルシウム、チタン酸カルシウム、チ
タン酸ストロンチウム、炭酸バリウム、燐酸バリウム、
硫酸バリウム、亜硫酸バリウム等のIIA族元素化合物、
二酸化チタン(チタニア)、一酸化チタン、窒化チタ
ン、二酸化ジルコニウム(ジルコニア)、一酸化ジルコ
ニウム等のIVA族元素化合物、二酸化モリブデン、三酸
化モリブデン、硫化モリブデン等のVIA族元素化合物、
塩化マンガン、酢酸マンガン等のVII A族元素化合物、
塩化コバルト、酢酸コバルト等のVIII族元素化合物、沃
化第一銅等のIB族元素化合物、酸化亜鉛、酢酸亜鉛等
のIIB族元素化合物、酸化アルミニウム(アルミナ)、
水酸化アルミニウム、弗化アルミニム、アルミナシリケ
ート(珪酸アルミナ、カオリン、カオリナイト)等のII
I B族元素化合物、酸化珪素(シリカ、シリカゲル)、
石墨、カーボン、グラファイト、ガラス等のIVB族元素
化合物、カーナル石、カイナイト、雲母(マイカ、キン
ウンモ)、バイロース鉱等の天然鉱物の粒子が挙げられ
る。有機粒子としては、フッ素化ポリエチレン系樹脂、
メラミン系樹脂、スチレン・ジビニルベンゼン共重合
体、アクリル系レジン及びそれらの架橋体が挙げられ
る。
Inorganic particles or organic particles are used as the anti-blocking agent. Inorganic particles (Note: some of them may overlap with the dielectric ceramics and inorganic filler)
I such as lithium fluoride, borax (sodium borate hydrate)
Group A element compounds, magnesium carbonate, magnesium phosphate, magnesium oxide (magnesia), magnesium chloride, magnesium acetate, magnesium fluoride, magnesium titanate, magnesium silicate, magnesium silicate hydrous salt (talc), calcium carbonate, calcium phosphate, phosphorous acid Calcium, calcium sulfate (gypsum), calcium acetate, calcium terephthalate, calcium hydroxide, calcium silicate, calcium fluoride, calcium titanate, strontium titanate, barium carbonate, barium phosphate,
Group IIA element compounds such as barium sulfate and barium sulfite,
Group IVA element compounds such as titanium dioxide (titania), titanium monoxide, titanium nitride, zirconium dioxide (zirconia), zirconium monoxide, etc., Group VIA element compounds such as molybdenum dioxide, molybdenum trioxide, molybdenum sulfide, etc.,
Group VIIA element compounds such as manganese chloride and manganese acetate,
Group VIII element compounds such as cobalt chloride and cobalt acetate, Group IB element compounds such as cuprous iodide, Group IIB element compounds such as zinc oxide and zinc acetate, aluminum oxide (alumina),
II such as aluminum hydroxide, aluminum fluoride, alumina silicate (alumina silicate, kaolin, kaolinite)
Group IB element compounds, silicon oxide (silica, silica gel),
Examples include IVB group element compounds such as graphite, carbon, graphite and glass, and particles of natural minerals such as carnal stone, kainite, mica (mica, quinnemo), and birose ore. As the organic particles, fluorinated polyethylene resin,
Examples thereof include melamine resins, styrene / divinylbenzene copolymers, acrylic resins and crosslinked products thereof.

【0017】酸化防止剤としてはリン系、フェノール
系、イオウ系等の公知の酸化防止剤から、好ましくはフ
ェノール系酸化防止剤から任意に選択して用いることが
できる。酸化防止剤を用いることによって表面光沢度が
高くなり、使用環境による形状変化が小さくなる。核剤
としてはアルミニウムジ(p−t−ブチルベンゾエー
ト)のごときカルボン酸の金属塩、メチレンビス(2,
4−ジ−t−ブチルフェノール)アシッドホスフェート
ナトリウムのごときリン酸の金属塩、タルク、フタロシ
アニン誘導体等が挙げられる。可塑剤としてはポリエチ
レングリコール、ポリアミドオリゴマー、エチレンビス
ステアロアマイド、フタル酸エステル、ポリスチレンオ
リゴマー、ポリエチレンワックス等公知のものから任意
に選択して用いることができる。
The antioxidant can be arbitrarily selected from known antioxidants such as phosphorus-based, phenol-based and sulfur-based antioxidants, preferably phenol-based antioxidants. By using the antioxidant, the surface glossiness is increased and the shape change due to the use environment is reduced. As a nucleating agent, a metal salt of carboxylic acid such as aluminum di (pt-butylbenzoate), methylenebis (2,2)
Examples thereof include metal salts of phosphoric acid such as sodium 4-di-t-butylphenol) acid phosphate, talc, and phthalocyanine derivatives. As the plasticizer, polyethylene glycol, polyamide oligomer, ethylenebisstearamide, phthalic acid ester, polystyrene oligomer, polyethylene wax and the like can be arbitrarily selected and used.

【0018】離型剤としてはポリエチレンワックス、シ
リコーンオイル、長鎖カルボン酸、長鎖カルボン酸金属
塩等公知のものから任意に選択して用いることができ
る。プロセスオイルは油種により、パラフィン系オイ
ル、ナフテン系オイル、アロマ系オイルに大別される
が、中でもパラフィン系オイルが好ましい。プロセスオ
イルの粘度としては、40℃での動粘度が15〜600
cStが好ましく、15〜500cStが更に好まし
い。相溶化剤は、熱可塑性樹脂とゴム弾性体等との間の
親和性を向上させ効果的に相溶化し、また、熱可塑性樹
脂と充填材との親和性を向上させるために配合すること
ができる。具体的には、熱可塑性樹脂との相溶性又は親
和性を有する重合体が挙げられる。
The release agent may be arbitrarily selected from known materials such as polyethylene wax, silicone oil, long-chain carboxylic acid, and long-chain carboxylic acid metal salt. Process oils are roughly classified into paraffin oils, naphthene oils, and aroma oils according to the type of oil, but paraffin oils are preferred. As the viscosity of the process oil, the kinematic viscosity at 40 ° C. is 15 to 600.
cSt is preferable, and 15 to 500 cSt is more preferable. The compatibilizer may be added in order to improve the affinity between the thermoplastic resin and the rubber elastic body or the like to effectively compatibilize it, and also to improve the affinity between the thermoplastic resin and the filler. it can. Specifically, a polymer having compatibility or affinity with a thermoplastic resin can be mentioned.

【0019】樹脂組成物中の各成分の割合は、熱可塑性
樹脂が好ましくは35〜98重量%、さらに好ましくは
50〜95重量%、特に好ましくは70〜90重量%で
あり、ゴム弾性体と他の樹脂と添加剤との合計が好まし
くは65〜2重量%、さらに好ましくは50〜5重量
%、特に好ましくは30〜10重量%である。
The proportion of each component in the resin composition is preferably 35 to 98% by weight of the thermoplastic resin, more preferably 50 to 95% by weight, and particularly preferably 70 to 90% by weight. The total amount of other resins and additives is preferably 65 to 2% by weight, more preferably 50 to 5% by weight, and particularly preferably 30 to 10% by weight.

【0020】本発明に用いる樹脂組成物は、上記各成分
を混合することによって得られる、混合方法として特に
限定はなく、例えば、熱可塑性樹脂の製造工程のいずれ
かの段階においてブレンドし溶融混練する方法や、組成
物を構成する各成分をブレンドし溶融混練する方法など
様々な方法で行なえばよい。
The resin composition used in the present invention is obtained by mixing the above-mentioned components, and the mixing method is not particularly limited. For example, the resin composition is blended and melt-kneaded at any stage of the thermoplastic resin production process. Various methods such as a method and a method of blending each component constituting the composition and melt-kneading may be used.

【0021】基板は前記樹脂組成物を成形することによ
って得られる。成形方法は特に限定されず、射出成形
法、プレス成形法、押出成形法、キャスト成形法などの
方法が挙げられる。基板は、シート状、板状、箱状、丸
棒状、角棒状など、立体回路基板の設置場所などに応じ
て種々の形状にすることができる。
The substrate is obtained by molding the resin composition. The molding method is not particularly limited, and examples thereof include an injection molding method, a press molding method, an extrusion molding method, and a cast molding method. The substrate may have various shapes such as a sheet shape, a plate shape, a box shape, a round bar shape, and a rectangular bar shape, depending on the installation location of the three-dimensional circuit board.

【0022】本発明に用いられる導体層は、金属などの
導電性物質の層により形成される。導電性物質として
は、銅、アルミニウム、銀、金などの導電性金属、IT
O(インジウム・ティン・オキサイド)などの導電性酸
化物などが挙げられる。これらのうち、金、銀、銅が好
ましい。本発明の立体回路基板では、導体層の表面光沢
度Gs(60度)が、50以上、好ましくは80以上、
特に好ましくは100以上である。表面光沢度が低いと
電圧定常波比の値が高くなりピーク利得が低くなる。立
体回路基板をアンテナとして用いる場合には導体層とし
て放射導体層と接地導体層とを設け、それらを通常短絡
させる。
The conductor layer used in the present invention is formed of a layer of a conductive material such as metal. Examples of the conductive material include conductive metals such as copper, aluminum, silver and gold, IT
Examples thereof include conductive oxides such as O (indium tin oxide). Of these, gold, silver and copper are preferable. In the three-dimensional circuit board of the present invention, the surface glossiness Gs (60 degrees) of the conductor layer is 50 or more, preferably 80 or more,
It is particularly preferably 100 or more. When the surface glossiness is low, the value of the voltage standing wave ratio is high and the peak gain is low. When the three-dimensional circuit board is used as an antenna, a radiation conductor layer and a ground conductor layer are provided as conductor layers, and they are usually short-circuited.

【0023】導体層を形成する方法として、前記樹脂組
成物を成形して得られた基板にメッキする方法や、樹脂
組成物を成形する際に金属板等を配して成形するいわゆ
るインサート成形方法が挙げられる。本発明の立体回路
基板の製造方法は、1kHz〜20GHzでの誘電正接
が0.01以下、IZOD衝撃強度が2kJ/m以上、
且つ18.6kgf加重における熱変形温度が110℃
以上である熱可塑性樹脂組成物を所定形状の基板に形成
する工程、この基板の表面のうち、導体層が形成される
べき表面部分を露出させこれ以外の表面部分を覆うよう
に前記基板にマスクを形成する工程、マスクの表面及び
マスクから露出している前記基板の表面をエッチング処
理する工程、前記エッチングされた表面に無電解メッキ
のための触媒を付与する工程、基板からマスクを除去す
る工程、前記マスクを除去した基板の表面に所定パター
ンの導体層を無電解メッキにより形成する工程を含むも
のである。この製造方法によって、前記のような高い表
面光沢度を有する導体層を形成することができる。
As a method of forming the conductor layer, a method of plating a substrate obtained by molding the resin composition, or a so-called insert molding method of arranging and molding a metal plate or the like when molding the resin composition Is mentioned. The method for manufacturing a three-dimensional circuit board according to the present invention has a dielectric loss tangent at 1 kHz to 20 GHz of 0.01 or less, an IZOD impact strength of 2 kJ / m or more,
And the heat distortion temperature under load of 18.6kgf is 110 ℃.
The step of forming the thermoplastic resin composition on a substrate having a predetermined shape as described above, and masking the substrate so as to expose the surface portion of the substrate on which the conductor layer is to be formed and cover the other surface portion. Forming the surface of the mask, etching the surface of the mask and the surface of the substrate exposed from the mask, applying a catalyst for electroless plating to the etched surface, and removing the mask from the substrate And a step of forming a conductor layer having a predetermined pattern on the surface of the substrate from which the mask has been removed by electroless plating. By this manufacturing method, it is possible to form the conductor layer having the high surface gloss as described above.

【0024】本発明の製造方法を具体的な実施態様を示
して説明する。先ず第一工程では、前記熱可塑性樹脂組
成物を射出成形機に仕込み、金型を閉じた状態でキャビ
ティ内に熱可塑性組成物を射出して成形する。射出成形
することにより所定形状の立方体の基板を形成する。次
に、第二工程は 基板の表面のうち、所定パターンの導
体層が形成されるべき表面部分を露出させて、これ以外
の表面部分を覆うように、前記基板にマスクを形成する
ものである。マスクの材料としては、好ましくは、常温
で弾性を示し容易に曲げることのできるエラストマー、
特に好ましくは、基板とマスクとの接触界面で弱相溶性
を示し、液が浸入してこない程度の密着強度が保たれる
ものである。具体的には、東レ・デュポン社製の「ハイ
トレル#SB704」(商品名)のごとき熱可塑性ポリ
エステル系エラストマーや、スチレン−イソプレン−ス
チレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチ
レンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン
−スチレンブロック共重合体などの熱可塑性ポリスチレ
ン系エラストマーなどが挙げられる。
The production method of the present invention will be described with reference to specific embodiments. First, in the first step, the thermoplastic resin composition is charged into an injection molding machine, and the thermoplastic composition is injected into the cavity with the mold closed to mold the composition. A cubic substrate having a predetermined shape is formed by injection molding. Next, the second step is to form a mask on the substrate so as to expose a surface portion of the surface of the substrate on which a conductor layer having a predetermined pattern is to be formed and cover the other surface portion. . The material for the mask is preferably an elastomer that exhibits elasticity at room temperature and can be easily bent,
Particularly preferably, it exhibits weak compatibility at the contact interface between the substrate and the mask, and maintains the adhesion strength to the extent that liquid does not enter. Specifically, a thermoplastic polyester elastomer such as "Hytrel # SB704" (trade name) manufactured by Toray DuPont, styrene-isoprene-styrene block copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene. Examples thereof include thermoplastic polystyrene-based elastomers such as ethylene-butylene-styrene block copolymer.

【0025】マスクは、例えば、基板表面を被覆するよ
うに射出成形することによって、あるいは、マスク材料
を溶媒に溶かし、その溶液を塗布、乾燥して得られる。
第三工程では、マスク及びこのマスクから露出している
基板の表面をエッチング処理するものである。このエッ
チング処理の例として、苛性ソーダ又は苛性カリを所定
濃度(例えば、45wt%)に溶解したアルカリ性水溶
液を所定温度(例えば50〜90℃)に加熱し、これに
マスクで被われた基板を所定時間(例えば30分)浸漬
して行う方法、または無水クロム酸と濃硫酸との混合液
(50〜90℃)にマスクで被われた基板を約3〜20
分間浸漬して行う方法が挙げられる。
The mask can be obtained, for example, by injection molding so as to cover the surface of the substrate, or by dissolving the mask material in a solvent, applying the solution, and drying.
In the third step, the mask and the surface of the substrate exposed from this mask are etched. As an example of this etching process, an alkaline aqueous solution in which caustic soda or caustic potash is dissolved in a predetermined concentration (for example, 45 wt%) is heated to a predetermined temperature (for example, 50 to 90 ° C.), and a substrate covered with a mask is heated for a predetermined time (for example). For example, a method of dipping the substrate for 30 minutes or a substrate covered with a mask in a mixed solution of chromic anhydride and concentrated sulfuric acid (50 to 90 ° C.) for about 3 to 20
A method of immersing for a minute may be used.

【0026】第四工程ではエッチングした処理面に無電
解メッキ触媒を付着させ触媒賦与面を形成する。例え
ば、錫、パラジウムを含む触媒溶液に、第三工程で得ら
れた基板を浸漬し、次いで塩酸、硫酸などの酸に浸漬し
て表面にパラジウムを析出させる。または、塩化第一錫
などの比較的強い還元剤を表面に吸着させ、次いで金な
どの貴金属イオンを含む触媒溶液に浸漬し、表面に金を
析出させる。触媒溶液の温度は15〜23℃で、浸漬時
間は5分間程度である。このようにしてエッチング処理
面に触媒が付与される。
In the fourth step, an electroless plating catalyst is attached to the etched surface to form a catalyst application surface. For example, the substrate obtained in the third step is dipped in a catalyst solution containing tin and palladium, and then dipped in an acid such as hydrochloric acid and sulfuric acid to deposit palladium on the surface. Alternatively, a relatively strong reducing agent such as stannous chloride is adsorbed on the surface and then immersed in a catalyst solution containing a noble metal ion such as gold to deposit gold on the surface. The temperature of the catalyst solution is 15 to 23 ° C., and the immersion time is about 5 minutes. In this way, the catalyst is applied to the etched surface.

【0027】第五工程では、触媒溶液に浸漬した基板を
乾燥させた後、この基板からマスクを除去する工程であ
る。これは手作業で行うことができるが、この除去作業
を容易にするため、マスク除去用の機器を使用してもよ
い。なお、マスクの材料を基板の材料と弱相溶性のもの
から選択することによって、このマスクの除去作業が容
易になる。最後に、第六工程では、基板に無電解メッキ
を施す。この工程により、メッキ層が前記触媒付与面の
みに形成され、立体回路基板が得られる。なお、第五工
程と第六工程とは順序を逆にしてもよい。すなわち、触
媒溶液に浸漬した基板を乾燥させた後、無電解メッキを
施し、マスクされていない部分にメッキ層を形成し、次
いでマスクを除去するのである。
The fifth step is a step of drying the substrate immersed in the catalyst solution and then removing the mask from the substrate. This can be done manually, but mask removal equipment may be used to facilitate this removal operation. It should be noted that by selecting the material of the mask from those having a weak compatibility with the material of the substrate, the work of removing the mask becomes easy. Finally, in the sixth step, the substrate is electroless plated. By this step, the plated layer is formed only on the catalyst application surface, and the three-dimensional circuit board is obtained. The order of the fifth step and the sixth step may be reversed. That is, after the substrate immersed in the catalyst solution is dried, electroless plating is performed to form a plating layer on the unmasked portion, and then the mask is removed.

【0028】本発明の立体回路基板は、様々な用途に用
いることができる。例えば回路基板、アンテナ、アンテ
ナ端子、同軸コネクター、コネクター等の高周波部品,
高周波を用いた電子レンジ等の加熱機器に用いることが
できる。これらのうちアンテナへの適用、特に携帯電
話、PHS、ブルートゥース(Blue Tooth)等の内蔵アン
テナへの適用が好適である。その他アンテナとして基地
局用の逆Fアンテナ、平面アンテナ、パッチアンテナ
等、衛星用のパラボラアンテナ、GPSアンテナ、衛生
通信用アンテナ、カセグレンアンテナ等、車載用のET
C用アンテナ、ITS用アンテナ等が挙げられる。更に
は電波の波面を球面波から平面波に変換する誘電体レン
ズ等にも適用できる。
The three-dimensional circuit board of the present invention can be used for various purposes. For example, circuit boards, antennas, antenna terminals, coaxial connectors, high-frequency components such as connectors,
It can be used for a heating device such as a microwave oven using a high frequency. Of these, application to an antenna, particularly application to a built-in antenna such as a mobile phone, PHS, and Bluetooth is suitable. Other antennas such as inverted F antennas for base stations, flat antennas, patch antennas, satellite parabola antennas, GPS antennas, satellites for sanitary communication, Cassegrain antennas, etc.
An antenna for C, an antenna for ITS, etc. are mentioned. Furthermore, it can be applied to a dielectric lens or the like that converts the wavefront of a radio wave from a spherical wave to a plane wave.

【0029】[0029]

【実施例】以下に、実施例、比較例を挙げて本発明を具
体的に説明する。なお、「部」は特に断りがない限り
「重量部」である。 [評価方法] 電圧定常波比:JIS C 5402の5.6に準拠し
て測定した。測定周波数は2GHzである。 形状変形率:アンテナを110℃で1時間加熱し、アン
テナの形状変化を観察し、加熱前後の寸法変化率を求め
た。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. In addition, "part" is "part by weight" unless otherwise specified. [Evaluation Method] Voltage standing wave ratio: Measured in accordance with JIS C 5402 5.6. The measurement frequency is 2 GHz. Shape deformation rate: The antenna was heated at 110 ° C. for 1 hour, the shape change of the antenna was observed, and the dimensional change rate before and after heating was obtained.

【0030】実施例1 熱可塑性ノルボルネン系樹脂(ZEONEX 480、
日本ゼオン株式会社製、ノルボルネン系開環重合体水
素添加物、Tg約140℃、水素添加率99.7%以
上、金属元素量1ppm以下)100部に対し、スチレ
ン−エチレン−プロピレン−スチレンブロック共重合体
エラストマー(セプトン 2023、クラレ株式会社、
数平均分子量約60,000、Tgは少なくとも40℃
以下に1点あり、金属元素量約15ppm)20部及び
フェノール系酸化防止剤0.5部を添加し、2軸混練押
出機を用いて220℃で混練して、熱可塑性樹脂組成物
のペレットを得た。このペレットを樹脂温度280℃で
射出成形して、JIS K7110の2号試験片を得、
IZOD衝撃強度を求めた。IZOD衝撃強度は38k
J/mであった。18.6kgf加重における熱変形温
度は133℃であった。
Example 1 Thermoplastic norbornene resin (ZEONEX 480,
Made by Nippon Zeon Co., Ltd., hydrogenated norbornene ring-opening polymer, Tg of about 140 ° C., hydrogenation rate of 99.7% or more, metal element amount of 1 ppm or less) 100 parts of styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer Polymer elastomer (Septon 2023, Kuraray Co., Ltd.,
Number average molecular weight of about 60,000, Tg of at least 40 ℃
There is one point below, 20 parts of metal element amount (about 15 ppm) and 0.5 parts of phenolic antioxidant are added, and the mixture is kneaded at 220 ° C. by using a twin-screw kneading extruder, and pellets of the thermoplastic resin composition. Got This pellet was injection molded at a resin temperature of 280 ° C. to obtain a JIS K7110 No. 2 test piece,
The IZOD impact strength was determined. IZOD impact strength is 38k
It was J / m. The heat distortion temperature under a load of 18.6 kgf was 133 ° C.

【0031】別に前記ペレットを用いて30mm×30
mm×0.5mmの基板を上記と同様の射出成形で得
た。この基板の誘電正接は1kHz〜20GHzの間で
0.0015以下であった。2GHzにおける比誘電率
は2.3、誘電正接は0.0004であった。また、吸
水率は0.008%であった。該基板表面に、耐メッキ
レジストインクをスクリーン印刷によって、放射導体
(天板)及び接地導体(基板側面の一部)のパターンを
形成するようにメッキ不要部分にマスクを被覆した。次
いで無水クロム酸/濃硫酸の混合液でエッチング処理し
た。次にパラジウムを含む触媒溶液に基板を浸漬し、さ
らに塩酸に浸漬して表面にパラジウムを析出させた。次
いでマスクを剥離した。そして無電解メッキで厚み12
μmの銅メッキ層を形成させ、その上に約5μmのニッ
ケル層を形成させた、更に約2μmの金メッキ層を形成
させて、基板の天板部分に放射導体層が側面の一部に接
地導体層が設けられたアンテナを得た。放射導体層及び
接地導体層の平滑性をJIS−Z8741に従い測定し
たところ、表面光沢度(60度)が120であった。ア
ンテナの電圧定常波比は2GHzで1.06であった。
また、110℃で1時間加熱し、アンテナ天板の形状変
化を観察した。その形状変化率は0.01%であった。
Separately, using the above pellets, 30 mm × 30
A mm × 0.5 mm substrate was obtained by the same injection molding as above. The dielectric loss tangent of this substrate was 0.0015 or less between 1 kHz and 20 GHz. The relative dielectric constant at 2 GHz was 2.3 and the dielectric loss tangent was 0.0004. The water absorption was 0.008%. A plating-resistant resist ink was screen-printed on the surface of the substrate, and a mask was coated on the portions not to be plated so as to form a pattern of the radiation conductor (top plate) and the ground conductor (a part of the side surface of the substrate). Then, etching treatment was performed with a mixed solution of chromic anhydride / concentrated sulfuric acid. Next, the substrate was dipped in a catalyst solution containing palladium and further dipped in hydrochloric acid to deposit palladium on the surface. Then, the mask was peeled off. And thickness 12 by electroless plating
A copper plating layer of μm is formed, a nickel layer of about 5 μm is formed thereon, and a gold plating layer of about 2 μm is further formed, and a radiation conductor layer is formed on the top plate of the substrate and a ground conductor is formed on a part of the side surface. An antenna provided with layers was obtained. When the smoothness of the radiation conductor layer and the ground conductor layer was measured according to JIS-Z8741, the surface glossiness (60 degrees) was 120. The voltage standing wave ratio of the antenna was 1.06 at 2 GHz.
Further, heating was performed at 110 ° C. for 1 hour, and the shape change of the antenna top plate was observed. The shape change rate was 0.01%.

【0032】実施例2 実施例1において用いたマスクに代えて、熱可塑性ポリ
エステル系エラストマー(東レ・デュポン社製の商品名
「ハイトレル#SB704」)を用いて、基板表面を被
覆するように射出成形して得たマスクを用いた他は実施
例1と同様にしてアンテナを得た。放射導体層及び接地
導体層の平滑性をJIS−Z8741に従い測定したと
ころ、表面光沢度(60度)が260であった。アンテ
ナの電圧定常波比は2GHzで1.05であり、形状変
化率はほぼ0%であった。
Example 2 Instead of the mask used in Example 1, a thermoplastic polyester elastomer (trade name "Hytrel # SB704" manufactured by Toray-Dupont Co., Ltd.) was used to perform injection molding so as to cover the surface of the substrate. An antenna was obtained in the same manner as in Example 1 except that the mask thus obtained was used. When the smoothness of the radiating conductor layer and the grounding conductor layer was measured according to JIS-Z8741, the surface glossiness (60 degrees) was 260. The voltage standing wave ratio of the antenna was 1.05 at 2 GHz, and the shape change rate was almost 0%.

【0033】比較例 実施例1において、熱可塑性樹脂としてシンジオタクチ
ックポリスチレンを用いた他は実施例1と同様にして樹
脂組成物を得た。この樹脂組成物を実施例1同様にして
評価した。IZOD衝撃強度(ノッチ付き)が19kJ
/mであり、1kHz〜20GHz間の誘電正接の最大
値が0.015であった。18.6kgf加重における
熱変形温度は95℃であった。また2GHzにおける誘
電率が3.3、誘電正接が0.002であり、吸水率が
0.05%であった。この樹脂組成物を用いて実施例1
と同様にしてアンテナを得た。導体層の表面光沢度は3
5であった。このアンテナの電圧定常波比は2GHzで
1.65で非常に高い値になった。また、110℃で1
時間加熱し、アンテナ天板の形状変化を観察した。その
形状変化率は約2.6%であった。このアンテナは形状
変化が大きいので、使用環境によって共振周波数が変動
してしまうと思われる。
Comparative Example A resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that syndiotactic polystyrene was used as the thermoplastic resin. This resin composition was evaluated in the same manner as in Example 1. IZOD impact strength (with notch) is 19kJ
/ M, and the maximum value of the dielectric loss tangent between 1 kHz and 20 GHz was 0.015. The heat distortion temperature under load of 18.6 kgf was 95 ° C. The dielectric constant at 2 GHz was 3.3, the dielectric loss tangent was 0.002, and the water absorption was 0.05%. Example 1 using this resin composition
An antenna was obtained in the same manner as. The surface gloss of the conductor layer is 3
It was 5. The voltage standing wave ratio of this antenna was 1.65 at 2 GHz, which was a very high value. Also, at 110 ℃ 1
After heating for an hour, the shape change of the antenna top plate was observed. The shape change rate was about 2.6%. Since this antenna has a large shape change, it is considered that the resonance frequency fluctuates depending on the usage environment.

【0034】[0034]

【発明の効果】一般に電圧定常波比は高周波になるほど
大きくなるが、本発明の立体回路基板は、電圧定常波比
が高周波域でも小さく、さらに高温下で放置していても
形状変化がないので、アンテナ等に適用した場合には、
ピーク利得が大きく、共振周波数が使用環境によって変
動することがないので、携帯電話などの移動体通信機器
において安定した通信が確保できる。
The voltage standing wave ratio generally increases as the frequency becomes higher. However, in the three-dimensional circuit board of the present invention, the voltage standing wave ratio is small even in the high frequency region, and the shape does not change even when left at high temperature. When applied to etc.,
Since the peak gain is large and the resonance frequency does not change depending on the usage environment, stable communication can be secured in mobile communication devices such as mobile phones.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/18 H05K 3/18 E 3/38 3/38 A Fターム(参考) 4J002 AA01W AC01X AC03X AC06X AC09X BB05X BB15X BG04X BK00W BN15X BN16X BP01X CE00W CH04X CK02X CN02X CP03X GQ00 5E338 AA05 AA16 BB63 BB75 CC01 CD01 EE11 EE21 5E343 AA01 AA12 AA36 AA38 BB24 BB62 BB71 CC71 DD33 ER04 GG02 GG20 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05K 3/18 H05K 3/18 E 3/38 3/38 AF term (reference) 4J002 AA01W AC01X AC03X AC06X AC09X BB05X BB15X BG04X BK00W BN15X BN16X BP01X CE00W CH04X CK02X CN02X CP03X GQ00 5E338 AA05 AA16 BB63 BB75 CC01 CD01 EE11 EE21 5E343 AA01 AA12 AA36 AA38 BB24 DD33 BB71 BB62 BB02 BB71 BB71

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1kHz〜20GHzでの誘電正接が
0.01以下、IZOD衝撃強度が2kJ/m以上、且
つ18.6kgf加重における熱変形温度が110℃以
上である熱可塑性樹脂組成物で形成された基板の表面に
導体層を設け、該導体層の表面光沢度Gs(60度)が
50以上である立体回路基板。
1. A thermoplastic resin composition having a dielectric loss tangent of 0.01 or less at 1 kHz to 20 GHz, an IZOD impact strength of 2 kJ / m or more, and a heat deformation temperature of 110 ° C. or more under a load of 18.6 kgf. A three-dimensional circuit board in which a conductor layer is provided on the surface of the substrate, and the surface gloss Gs (60 degrees) of the conductor layer is 50 or more.
【請求項2】 樹脂組成物が非晶性樹脂を含有するもの
である請求項1記載の立体回路基板。
2. The three-dimensional circuit board according to claim 1, wherein the resin composition contains an amorphous resin.
【請求項3】 非晶性樹脂がノルボルネン系樹脂である
請求項2記載の立体回路基板。
3. The three-dimensional circuit board according to claim 2, wherein the amorphous resin is a norbornene-based resin.
【請求項4】 樹脂組成物が軟質重合体を含有するもの
である請求項1記載の立体回路基板。
4. The three-dimensional circuit board according to claim 1, wherein the resin composition contains a soft polymer.
【請求項5】 1kHz〜20GHzでの誘電正接が
0.01以下、IZOD衝撃強度が2kJ/m以上、且
つ18.6kgf加重における熱変形温度が110℃以
上である熱可塑性樹脂組成物を所定形状の基板に形成す
る工程、この基板の表面のうち、導体層が形成されるべ
き表面部分を露出させこれ以外の表面部分を覆うように
前記基板にマスクを形成する工程、マスクの表面及びマ
スクから露出している前記基板の表面をエッチング処理
する工程、前記エッチングされた表面に無電解メッキの
ための触媒を付与する工程、基板からマスクを除去する
工程、前記マスクを除去した基板の表面に所定パターン
の導体層を無電解メッキにより形成する工程を含む立体
回路基板の製造方法。
5. A thermoplastic resin composition having a dielectric loss tangent of 0.01 or less at 1 kHz to 20 GHz, an IZOD impact strength of 2 kJ / m or more, and a heat deformation temperature of 110 ° C. or more under a load of 18.6 kgf, in a predetermined shape. The step of forming a mask on the substrate so as to expose the surface portion of the surface of the substrate on which the conductor layer is to be formed and cover the other surface portion of the surface of the substrate, the surface of the mask and the mask. A step of etching the exposed surface of the substrate, a step of applying a catalyst for electroless plating to the etched surface, a step of removing a mask from the substrate, a predetermined step on the surface of the substrate from which the mask has been removed A method for manufacturing a three-dimensional circuit board, comprising the step of forming a conductor layer of a pattern by electroless plating.
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