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JP2003108994A - Image creation method and system - Google Patents

Image creation method and system

Info

Publication number
JP2003108994A
JP2003108994A JP2001299466A JP2001299466A JP2003108994A JP 2003108994 A JP2003108994 A JP 2003108994A JP 2001299466 A JP2001299466 A JP 2001299466A JP 2001299466 A JP2001299466 A JP 2001299466A JP 2003108994 A JP2003108994 A JP 2003108994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
image
pixel
reduced
created
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001299466A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naoki Kawai
直樹 河合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2001299466A priority Critical patent/JP2003108994A/en
Publication of JP2003108994A publication Critical patent/JP2003108994A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Processing Or Creating Images (AREA)
  • Image Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 モデル画像を縮小した縮小モデル画像を利用
して目標とする作成画像を作成する場合において、作成
画像上に塊のようなものを生じさせず、モデル画像上に
表現された特徴だけを再現した画像を作成することが可
能な画像作成方法およびシステムを提供する。 【解決手段】 モデル画像と作成画像の双方にマスクを
配置してその類似度に基づいて作成画像の画素を決定し
ていく手法を基本手法とし、このモデル画像と作成画像
の解像度をそれぞれ削減した縮小モデル画像と縮小作成
画像に対して上記基本手法を適用する場合において、上
位(解像度のより高い)の縮小作成画像の作成時に上記
基本手法と下位(解像度のより低い)の縮小作成画像の
画素からの復元との両方を利用し、これを繰り返すこと
により目的とする作成画像を得る。
(57) [Summary] [Problem] To create a target created image by using a reduced model image obtained by reducing a model image, a lump is not generated on the created image, Provided are an image creating method and system capable of creating an image reproducing only expressed features. SOLUTION: As a basic method, a method of arranging masks on both a model image and a created image and determining pixels of the created image based on the similarity thereof is used, and the resolutions of the model image and the created image are reduced. In the case where the above-described basic method is applied to the reduced model image and the reduced created image, the pixels of the above-described basic method and the lower (lower resolution) reduced created image are used when creating the upper (higher resolution) reduced created image. , And by repeating this process, an intended created image is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、模様を有するモデル画
像を用いて、同様の模様を有する画像であって、モデル
画像よりもサイズが大きい画像を作成する技術に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for using a model image having a pattern to create an image having a similar pattern and having a size larger than that of the model image.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、建材製品等の表面を装飾する
ものとして様々な模様画像が用いられている。このよう
な模様画像は、撮影した画像を修正して作成したり、コ
ンピュータの演算により人工的に作成したりすることに
より得られている。一般に、建材製品の表面は、そのサ
イズが大きいため、模様画像も大きなサイズのものを必
要とする。ところが、大きなサイズの模様画像を作成す
るのは、非常に困難であるため、小さな模様画像を作成
し、この模様画像を繰り返し上下・左右に並べることに
より大きな模様画像を作成していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, various pattern images have been used to decorate the surface of building materials and the like. Such a pattern image is obtained by correcting a photographed image and creating it or artificially creating it by a computer operation. Generally, since the surface of a building material product is large, the pattern image also needs to have a large size. However, since it is very difficult to create a large-sized pattern image, a small pattern image is created, and this pattern image is repeatedly arranged vertically and horizontally to create a large pattern image.

【0003】近年では、小さなサイズの模様画像をモデ
ル画像として用い、同様の模様を有する大きなサイズの
画像を作成する手法が用いられており、自分の気に入っ
た模様を基にして所望のサイズの画像が得られるように
なってきている。この手法は、所定の形状のマスクを用
意し、作成すべき画像の上、およびモデル画像の上に配
置し、マスクが存在する位置の画素の値を基に両者の類
似度を求め、類似度が高い場合のモデル画像上の画素
を、作成すべき画像上の画素とするものである。この手
法によりモデル画像上に表現されている模様と同様の模
様を有する画像が得られるようになっている。
In recent years, a method of using a pattern image of a small size as a model image to create a large size image having a similar pattern is used, and an image of a desired size is created based on a pattern that one likes. Is becoming available. This method prepares a mask of a predetermined shape, arranges it on the image to be created, and on the model image, finds the similarity between the two based on the pixel value at the position where the mask exists, and calculates the similarity. Pixels on the model image when is high are pixels on the image to be created. With this method, an image having a pattern similar to the pattern expressed on the model image can be obtained.

【0004】上記のようにモデル画像を用いて所望の画
像を作成する際、モデル画像上の大まかな特徴を再現す
るために、低周波成分を抽出する試みが行われている。
低周波成分を抽出するためには、モデル画像の解像度を
削減した縮小モデル画像を作成し、この縮小モデル画像
上の各画素を基に目標とする作成画像よりも解像度の低
い縮小作成画像を作成し、この縮小作成画像を目標とす
る作成画像のサイズに復元することにより目標とする作
成画像を作成する。これにより、モデル画像の大まかな
特徴が作成画像上に得られることになる。
When a desired image is created using the model image as described above, attempts have been made to extract low frequency components in order to reproduce the rough features on the model image.
To extract low-frequency components, create a reduced model image with reduced model image resolution, and create a reduced created image with a lower resolution than the target created image based on each pixel on this reduced model image. Then, a target created image is created by restoring this reduced created image to the size of the target created image. As a result, the rough features of the model image are obtained on the created image.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の画像作成手法では、縮小作成画像から解像度の大き
い作成画像を作成する際に、縮小作成画像の各画素に対
して、当該画素を作成する基になったモデル画像上の複
数の画素を割り当てを行う。このため、作成画像上には
塊のようなものが見える状態になってしまうことがあ
り、問題となっている。
However, in the above-described conventional image creating method, when creating a created image having a large resolution from the created reduced image, a pixel is created for each pixel of the created reduced image. Allocate a plurality of pixels on the changed model image. Therefore, a lump-like object may be visible on the created image, which is a problem.

【0006】上記のような点に鑑み、本発明は、モデル
画像を縮小した縮小モデル画像を利用して目標とする作
成画像を作成する場合であっても、作成画像上に塊のよ
うなものを生じさせず、モデル画像上に表現された特徴
だけを再現した画像を作成することが可能な画像作成方
法およびシステムを提供することを課題とする。
In view of the above points, according to the present invention, even when a target created image is created using a reduced model image obtained by reducing the model image, a lump or the like appears on the created image. An object of the present invention is to provide an image creating method and system capable of creating an image in which only the features expressed on a model image are reproduced without causing the above.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明では、所望の模様を有するモデル画像を利用
して新たな模様を有する画像を作成する方法として、モ
デル画像を入力する段階、前記入力されたモデル画像の
解像度を削減し、その削減率を異ならせて、それぞれ解
像度の異なる複数の縮小モデル画像を作成する段階、前
記解像度が最も低い最下位縮小モデル画像を利用して最
下位縮小作成画像を作成する段階、前記最下位縮小作成
画像より1段上位である上位縮小モデル画像を利用し
て、前記最下位縮小作成画像より1段上位である上位縮
小作成画像を作成する段階を有し、前記縮小モデル画像
を作成する段階は、当該縮小モデル画像の各画素の画素
値を、当該縮小モデル画像よりも解像度の高い上位縮小
モデル画像の所定数の画素値に基づいて決定すると共
に、当該縮小モデル画像の各画素について、当該画素の
画素値を決定する基になった前記上位縮小モデル画像の
各画素の位置を記録するものであり、前記最下位縮小作
成画像を作成する段階は、当該最下位縮小作成画像の各
画素の属性情報の決定を、前記最下位縮小作成画像の領
域上に所定の形状のマスクを配置し、当該マスクと同形
状のマスクを前記最下位縮小モデル画像上に配置し、前
記最下位縮小作成画像の領域上のマスクの位置は固定し
たまま、前記最下位縮小モデル画像上のマスクを1画素
分ずつ移動させながら、前記最下位縮小作成画像の領域
上でマスクされた領域と前記最下位縮小モデル画像上で
マスクされた領域の類似度を求め、当該類似度が最も高
いと判定される最下位縮小モデル画像上のマスクとの位
置関係が、前記最下位縮小作成画像の領域上におけるマ
スクと決定すべき画素との位置関係と同一となる位置関
係にある画素の属性情報を、前記最下位縮小作成画像領
域上の画素の属性情報として割り当てることにより行う
ものであり、前記上位縮小作成画像を作成する段階は、
作成すべき上位縮小作成画像を画素復元領域とマスク利
用領域に分類し、前記画素復元領域の画素については、
前記記録した縮小モデル画像の各画素と当該画素の画素
値を決定する基になった上位縮小モデル画像の各画素の
位置関係に基づいて、その属性情報を決定し、前記マス
ク利用領域の画素については、前記最下位縮小作成画像
を作成する段階と同様の処理により、その属性情報を決
定することにより行うものであり、前記上位作成画像を
作成する段階を繰り返し実行することにより、モデル画
像と同解像度の作成画像を作成するようにしたことを特
徴とする。
In order to solve the above problems, according to the present invention, as a method for creating an image having a new pattern using a model image having a desired pattern, a step of inputting a model image, The resolution of the input model image is reduced, the reduction rate is made different, and a plurality of reduced model images having different resolutions are created, respectively. A step of creating a reduced created image, and a step of creating an upper reduced created image that is one step higher than the lowest reduced created image by using an upper reduced model image that is one step higher than the lowest reduced created image. In the step of creating the reduced model image, the pixel value of each pixel of the reduced model image is set to a predetermined number of higher-order reduced model images having higher resolution than the reduced model image. While determining based on the prime value, for each pixel of the reduced model image, the position of each pixel of the upper reduced model image that is the basis for determining the pixel value of the pixel is recorded, In the step of creating the reduced created image, the attribute information of each pixel of the lowest reduced created image is determined by arranging a mask of a predetermined shape on the area of the lowest reduced created image, and setting the same shape as the mask. A mask is arranged on the lowest reduced model image, and while the position of the mask on the area of the lowest reduced created image is fixed, the mask on the lowest reduced model image is moved by one pixel, The similarity between the masked area on the area of the lowest reduced created image and the masked area on the lowest reduced model image is obtained, and the similarity is determined to be the highest on the lowest reduced model image. The attribute information of a pixel whose positional relationship with the mask is the same as the positional relationship between the mask and the pixel to be determined on the area of the lowest reduced created image, This is performed by assigning it as pixel attribute information, and the step of creating the upper reduced created image is
The upper reduced created image to be created is classified into a pixel restoration area and a mask utilization area, and the pixels of the pixel restoration area are
Based on the positional relationship between each pixel of the recorded reduced model image and each pixel of the upper reduced model image that is the basis for determining the pixel value of the pixel, the attribute information thereof is determined, and the pixel of the mask use area is determined. Is performed by determining the attribute information by the same processing as the step of creating the lowermost reduced created image, and by repeating the step of creating the upper created image, the same as the model image is obtained. It is characterized in that a resolution creation image is created.

【0008】本発明によれば、モデル画像と作成画像の
双方にマスクを配置してその類似度に基づいて作成画像
の画素を決定していく手法を基本手法とし、このモデル
画像と作成画像の解像度をそれぞれ削減した縮小モデル
画像と縮小作成画像に対して上記基本手法を適用する場
合において、上位の縮小作成画像の作成時に上記基本手
法と下位の縮小作成画像の画素からの復元との両方を利
用するようにしたので、作成画像上に塊のようなものを
生じさせず、モデル画像上に表現された特徴だけを再現
した画像を作成することが可能となる。
According to the present invention, the basic method is a method of arranging masks on both the model image and the created image and determining the pixels of the created image based on the degree of similarity between them. When applying the above basic method to the reduced model image and the reduced created image whose resolutions are respectively reduced, both the above basic method and the restoration from the pixels of the lower reduced created image are created when the upper reduced created image is created. Since it is used, it is possible to create an image in which only the features expressed on the model image are reproduced without causing lumps on the created image.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について詳細に説明する。図1は、本発明に係る
画像作成方法の概略を示すフローチャートである。ま
ず、モデルとする模様を有する画像(以下、モデル画像
という)を入力する(ステップS1)。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a flowchart showing an outline of the image creating method according to the present invention. First, an image having a pattern as a model (hereinafter referred to as a model image) is input (step S1).

【0010】次に、パラメータの設定を行う(ステップ
S2)。パラメータとしては、作成すべき画像である作
成画像のサイズ(画素数)を設定する。
Next, parameters are set (step S2). As the parameter, the size (number of pixels) of the created image, which is the image to be created, is set.

【0011】続いて、入力されたモデル画像を基に、あ
らかじめ設定された複数の解像度削減率により解像度を
落とした縮小モデル画像を複数作成する(ステップS
3)。縮小モデル画像は、解像度削減率をrとしたとき
に、モデル画像上の横r×縦r個の画素の平均値を、縮
小モデル画像の1画素の画素値として与えることにより
作成される。このとき、縮小モデル画像の各画素は与え
られた平均値をその画素値とすると共に、画素特定情報
としてその画素がモデル画像のどのr×r個の画素を基
に得られたものであるかを記録しておく。これは、後に
より解像度の高い画像に復元する際に利用される。縮小
モデル画像において、画素値と画素特定情報をまとめて
画素の属性情報と呼ぶことにする。何種類の縮小モデル
画像を作成するか、また各縮小モデル画像の、元のモデ
ル画像に対する解像度削減率をどの程度にするかについ
ては、あらかじめ設定しておく。縮小モデル画像のう
ち、より解像度の高い縮小モデル画像を上位の縮小モデ
ル画像と呼ぶことにする。なお、本実施形態では、モデ
ル画像Mに対して、3段階の縮小モデル画像M1・M2
・M3を作成するものとし、縮小モデル画像M1はr=
2としてモデル画像Mを基に作成したもの、縮小モデル
画像M2はr=2として縮小モデル画像M1を基に作成
したもの、縮小モデル画像M3はr=2として縮小モデ
ル画像M2を基に作成したものとする。本発明において
は、目的とする作成画像Gを得る過程において、縮小作
成画像G1・G2・G3を作成することになるが、これ
らの解像度はそれぞれ、縮小モデル画像M1・M2・M
3に対応したものとなっている。
Then, based on the input model image, a plurality of reduced model images with reduced resolution are created at a plurality of preset resolution reduction rates (step S).
3). The reduced model image is created by giving an average value of horizontal r × vertical r pixels on the model image as a pixel value of one pixel of the reduced model image, where r is the resolution reduction rate. At this time, each pixel of the reduced model image has the given average value as its pixel value, and which pixel r × r pixels of the model image the pixel is obtained as the pixel specifying information. Record. This is used later when restoring an image with higher resolution. In the reduced model image, the pixel value and the pixel specifying information will be collectively referred to as pixel attribute information. The number of kinds of reduced model images to be created and the resolution reduction rate of each reduced model image with respect to the original model image are set in advance. Among the reduced model images, the reduced model image having a higher resolution will be referred to as an upper reduced model image. It should be noted that in the present embodiment, with respect to the model image M, the three-stage reduced model images M1 and M2 are
-M3 is created, and the reduced model image M1 is r =
2, the reduced model image M2 was created based on the reduced model image M1 with r = 2, and the reduced model image M3 was created based on the reduced model image M2 with r = 2. I shall. In the present invention, the reduced created images G1, G2, and G3 are created in the process of obtaining the intended created image G, and these resolutions are respectively reduced model images M1, M2, and M.
It corresponds to 3.

【0012】続いて、最も解像度が低い最下位縮小モデ
ル画像に対応する最下位縮小作成画像の作成を行う。本
実施形態では、作成画像Gに比べて解像度削減率r=8
である縮小作成画像G3を作成することになる。縮小作
成画像G3の作成にあたって、まず、必要なサイズの画
像領域を画像メモリ内に確保する(ステップS4)。こ
こで、作成画像のサイズを横sx×縦syとし、上記解
像度削減率rを用いると、縮小作成画像領域の横方向r
x、縦方向ryは、以下の〔数式1〕により算出され
る。
Then, the lowest reduction model image corresponding to the lowest resolution model image having the lowest resolution is created. In this embodiment, the resolution reduction rate r = 8 as compared with the created image G.
The reduced created image G3 is created. When creating the reduced created image G3, first, an image area of a required size is secured in the image memory (step S4). Here, if the size of the created image is set to horizontal sx × vertical sy, and the resolution reduction ratio r is used, the horizontal direction r of the reduced created image area
The x and the vertical direction ry are calculated by the following [Formula 1].

【0013】〔数式1〕 rx = sx / r ry = sy / r[Formula 1] rx = sx / r ry = sy / r

【0014】ここで、上記のようにして画像メモリ内に
用意された最下位の縮小作成画像領域を図2(a)に示
す。この縮小作成画像領域内右端の2列、および下端の
2行に位置する画素に画素値を与える(ステップS
5)。具体的には、図2(b)において、網掛けで示し
た部分である画素付与部分に位置する画素に、乱数等に
より決定される画素値を与える。この画素付与部分に与
えた画素値は、図2(c)に網掛けで示した位置にある
ものとして、後に利用されることになる。本来は、図2
(c)に示すように縮小作成画像領域の外側に画素を発
生させるべきであるが、図2(b)に示したように縮小
作成画像領域の内側に発生させることにより、画像メモ
リの利用効率および演算処理の効率が高まる。つまり、
縮小作成画像領域の外側に画素を発生させると、縮小作
成画像領域以外に画像メモリの領域を割り当てなければ
ならなくなるためである。なお、画素付与部分について
は、その位置の画素値は、上書きされることになる。ま
た、画素付与部分を2画素分としたのは、後述する形状
のマスクを用いた類似度の計算に必要となるためであ
る。画像メモリの状態としては、現実には図2(b)に
示すような状態になっているが、コンピュータに搭載さ
れるプログラムは、図2(c)に示すような状態にある
ものとして処理を行う。そのため、以下の処理において
は、図2(c)に示す状態に基づいて説明していく。
Here, FIG. 2A shows the lowermost reduced image area prepared in the image memory as described above. Pixel values are given to the pixels located in the rightmost two columns and the lowermost two rows in this reduced created image area (step S
5). Specifically, in FIG. 2B, a pixel value determined by a random number or the like is given to the pixel located in the pixel addition portion, which is a shaded portion. The pixel value given to this pixel-added portion will be used later, assuming that the pixel value is in the position shown by hatching in FIG. Originally, Figure 2
Pixels should be generated outside the reduced created image area as shown in (c), but by generating pixels inside the reduced created image area as shown in FIG. And the efficiency of arithmetic processing is improved. That is,
This is because if pixels are generated outside the reduced created image area, an area of the image memory must be allocated in addition to the reduced created image area. Regarding the pixel-added portion, the pixel value at that position will be overwritten. Further, the reason why the pixel-added portion is set to two pixels is that it is necessary for the calculation of the degree of similarity using a mask having a shape described later. The state of the image memory is actually in a state as shown in FIG. 2B, but the program installed in the computer is assumed to be in a state as shown in FIG. To do. Therefore, the following processing will be described based on the state shown in FIG.

【0015】最下位の縮小作成画像領域の画素付与部分
の画素に画素値が与えられたら、次に、最下位の縮小作
成画像領域の各画素の値を決定していく(ステップS
6)。最下位縮小作成画像領域において画素を決定すべ
き順序としては、色々考えられるが、本実施形態では、
図3(a)に斜線の網掛けで示した左上端の画素から決
定していくことにする。左上端の画素を決定するために
は、そのさらに左上に示したような12個の画素に対応
するマスクを利用する。このようなマスクを縮小作成画
像領域の左上端の画素を決定するための位置に配置する
と、図3(a)のように縮小作成画像領域から上方向お
よび左方向に2画素分ずつ、はみ出すことになる。仮想
画素として、あらかじめ周囲に2画素分属性情報を付与
したのは、このためである。
When the pixel value is given to the pixel in the pixel-added portion of the lowermost reduced created image area, the value of each pixel in the lowest reduced created image area is then determined (step S).
6). There are various conceivable orders for determining pixels in the lowest reduced image area, but in the present embodiment,
It will be decided from the pixel at the upper left corner shown by hatching in FIG. To determine the pixel at the upper left corner, a mask corresponding to 12 pixels as shown in the upper left corner is used. When such a mask is arranged at a position for determining the upper left pixel of the reduced created image area, two pixels are projected upward and leftward from the reduced created image area by two pixels as shown in FIG. 3A. become. It is for this reason that the attribute information for two pixels has been previously added to the surroundings as virtual pixels.

【0016】図3(a)に斜線の網掛けで示した左上端
の画素について決定するために、具体的には、このマス
クと同形状のマスクを縮小モデル画像の全ての画素に対
応する位置に配置し、マスクされた領域の類似度を求め
る。そして、類似度が最も高いと判定された縮小モデル
画像上のマスクに対応する位置の画素を、図3(a)に
示した左上端の画素として決定し、その属性情報を記録
する。縮小モデル画像上のマスクとしては、まず図3
(b)に示す位置に配置し、そのマスクされた領域と図
3(a)に示したマスクされた領域との類似度を求め
る。次に、図3(c)に示すように1画素分マスクを右
側にずらして、そのマスクされた領域と図3(a)に示
したマスクされた領域との類似度を求める。同様にして
各画素位置について類似度を求める処理を行っていき、
マスクが縮小モデル画像上で右端に達したら、図3
(d)に示すようにマスクを1行下の左端に移動させ、
そのマスクされた領域と図3(a)に示したマスクされ
た領域との類似度を求める。このようにして、縮小モデ
ル画像上の全画素に対応する位置について、そのマスク
された領域と図3(a)に示したマスクされた領域との
類似度を求める。例えば、図3(e)に示すような位置
でマスクされた領域との類似度が最も高いと判定された
場合は、図3(e)に斜線の網掛けで示された画素が、
図3(a)に示した左上端の画素として割り当てられる
ことになる。すなわち、図3(e)に斜線の網掛けで示
した画素の属性情報を、図3(a)に示した左上端の画
素にコピーすることになる。
In order to determine the upper left pixel shown by hatching in FIG. 3 (a), specifically, a mask having the same shape as this mask is placed at positions corresponding to all the pixels of the reduced model image. And find the similarity of the masked area. Then, the pixel at the position corresponding to the mask on the reduced model image determined to have the highest degree of similarity is determined as the upper left pixel shown in FIG. 3A, and the attribute information is recorded. As a mask on the reduced model image, first, as shown in FIG.
It is arranged at the position shown in (b), and the degree of similarity between the masked area and the masked area shown in FIG. 3 (a) is obtained. Next, as shown in FIG. 3C, the mask for one pixel is shifted to the right, and the degree of similarity between the masked area and the masked area shown in FIG. 3A is obtained. In the same way, we perform processing to find the similarity for each pixel position,
When the mask reaches the right edge on the reduced model image,
Move the mask down one line to the left edge as shown in (d),
The degree of similarity between the masked area and the masked area shown in FIG. 3A is obtained. In this way, the degree of similarity between the masked area and the masked area shown in FIG. 3A is obtained for the positions corresponding to all the pixels on the reduced model image. For example, when it is determined that the similarity to the masked area at the position shown in FIG. 3E is the highest, the pixels shaded with diagonal lines in FIG.
The pixel is assigned as the upper left pixel shown in FIG. That is, the attribute information of the pixel shown by hatching in FIG. 3E is copied to the pixel at the upper left corner shown in FIG.

【0017】ここで、本発明において、縮小作成画像領
域でマスクされた領域と、縮小モデル画像上でマスクさ
れた領域の類似度を算出するための関数について説明す
る。この関数としては、縮小作成画像領域上のマスク位
置に存在する画素と縮小モデル画像上のマスク位置に存
在する画素との類似性を判定できるものであれば、どの
ようなものでも良いが、本実施形態では、以下の〔数式
2〕に示すものを利用している。
Here, in the present invention, a function for calculating the similarity between the masked area in the reduced created image area and the masked area in the reduced model image will be described. As this function, any function may be used as long as it can determine the similarity between the pixel existing at the mask position on the reduced created image area and the pixel existing at the mask position on the reduced model image. In the embodiment, the one shown in the following [Formula 2] is used.

【0018】〔数式2〕 V = Σi(Rs2+Gs2+Bs2) ただし、i=1〜12(画素数)[Formula 2] V = Σi (Rs 2 + Gs 2 + Bs 2 ) where i = 1 to 12 (number of pixels)

【0019】上記〔数式2〕において、Vは類似度を評
価するための評価値であり、Rs、Gs、Bsはそれぞ
れ、RGBのカラー画像を用いた場合の、縮小作成画像
領域上の画素と縮小モデル画像上の画素の各色成分の画
素値の差である。そのため、評価値Vの値が小さいほ
ど、値が近いということになり、類似度が高いと判定さ
れる。なお、上記の例ではi=1〜12としているが、
これは、図3に示したような標準的なマスクを使用した
場合であり、マスク形状により異なることになる。
In the above [Formula 2], V is an evaluation value for evaluating the degree of similarity, and Rs, Gs, and Bs are the pixels in the reduced image area when RGB color images are used. It is the difference between the pixel values of the respective color components of the pixels on the reduced model image. Therefore, the smaller the value of the evaluation value V, the closer the value is, and it is determined that the degree of similarity is high. Although i = 1 to 12 in the above example,
This is the case where a standard mask as shown in FIG. 3 is used, and it depends on the mask shape.

【0020】図3(a)に示したような左上端の画素が
決定したら、図4(a)に示すように、縮小作成画像領
域上のマスクを右側に1画素分ずらして同様の処理を行
う。このとき、マスクされた領域の類似度を求めるため
に利用される画素は、仮想画素である11画素と、既に
属性情報が決定した縮小作成画像領域の左上端の画素
(図4(a)において○印で示す)の値が利用される。
When the pixel at the upper left corner as shown in FIG. 3A is determined, as shown in FIG. 4A, the mask on the reduced image area is shifted to the right by one pixel and the same process is performed. To do. At this time, the pixels used to obtain the similarity of the masked area are 11 pixels that are virtual pixels and the pixel at the upper left end of the reduced created image area whose attribute information has already been determined (in FIG. 4A). The value of () is used.

【0021】同様にして、縮小作成画像領域の1行目の
画素を決定していく。図4(b)は、1行目の右端の画
素を決定する場合のマスクの位置を示している。図4
(b)においても、○印で示した画素は、既に値が決定
しているものである。1行目の右端の画素が決定した
ら、2行目については、左端からでなく、右端から画素
の決定を行う。この際、図4(c)に示すように、マス
クは1行目の画素決定に利用したものと左右が反転した
形状のものを使用する。なお、図4(c)においても○
印は、既に値が決定した画素を示している。図4(c)
に示したようなマスクを用いた場合、類似度を求めるた
めの縮小モデル画像上のマスクは、当然図4(c)に示
したものと同形状のものが用いられる。このようなマス
クを使用して、2行目の画素は右側から順次決定してい
く。縮小作成画像領域の3行目については、また図4
(a)に示したようなマスクを使用して左端の画素から
決定していく。すなわち、1行ごとに左右反転したマス
クを用いて左右反対方向に向かって画素を決定していく
ことになる。全ての行について、常に1方向から決定す
るようにしても良いが、その場合、作成された画像上に
斜め方向に意図していない流れのようなものが現れてし
まうという現象が生じることがある。そのような不具合
を解消するため、図4の例のようにジグザグに画素を決
定していくことが望ましい。
Similarly, the pixels in the first row of the reduced image area are determined. FIG. 4B shows the position of the mask when determining the rightmost pixel in the first row. Figure 4
Also in (b), the values of the pixels indicated by the circles have already been determined. When the rightmost pixel in the first row is determined, the pixels in the second row are determined from the right edge instead of the left edge. At this time, as shown in FIG. 4C, the mask used has a shape which is left-right inverted from that used for determining the pixels in the first row. In addition, also in FIG.
The mark indicates a pixel whose value has already been determined. Figure 4 (c)
When the mask as shown in FIG. 4 is used, the mask having the same shape as that shown in FIG. 4C is naturally used as the mask on the reduced model image for obtaining the similarity. Using such a mask, the pixels on the second row are sequentially determined from the right side. For the third line of the reduced image area, see FIG.
Using the mask as shown in (a), it is decided from the leftmost pixel. That is, the pixels are determined in the left-right opposite directions by using the mask that is horizontally inverted for each row. Although it is possible to determine all the rows from one direction at all times, in such a case, there may occur a phenomenon in which an unintended flow like a diagonal flow appears on the created image. . In order to eliminate such a problem, it is desirable to determine pixels in a zigzag manner as in the example of FIG.

【0022】縮小作成画像領域の全ての行について、図
3、図4に示したようなマスクを利用して作成すること
も可能であるが、本発明においては、縮小作成画像領域
の下2行分について、異なる形状のマスクを利用するこ
とによりシームレス化処理を行っている。上述のよう
に、本発明において作成される画像は建材製品の表面に
用いられることが多い。建材製品に使われる印刷物は輪
転機を用いて印刷されることが多く、このために原版と
する画像はその上下がシームレスになっている必要があ
る。上下がシームレスになっていない場合には輪転印刷
に用いる版シリンダの円周単位ごとに継ぎ目のある印刷
物ができてしまい、好ましくない。このような問題も同
時に解決するため、本実施形態では、縮小作成画像領域
の下2行分については、以下のような処理を行う。
Although it is possible to create all the rows of the reduced created image area by using the masks shown in FIGS. 3 and 4, in the present invention, the lower two rows of the reduced created image area are created. For the minute, seamless processing is performed by using masks of different shapes. As mentioned above, the images created in the present invention are often used on the surface of building material products. Printed materials used for building materials are often printed using rotary presses, and for this reason, the original image needs to be seamless above and below. If the upper and lower sides are not seamless, printed matter with a seam is produced for each circumferential unit of the plate cylinder used for rotary printing, which is not preferable. In order to solve such a problem at the same time, in the present embodiment, the following processing is performed for the lower two lines of the reduced created image area.

【0023】縮小作成画像領域の1行目〜下から3行目
までについては、図3、図4に示したような12個の画
素からなるマスクを利用して画素を決定するが、縮小作
成画像領域の下から2行分については、図5に示すよう
な異なった形状のマスクを用いる。なお、図5におい
て、斜線の網掛けで示したものが決定すべき画素、○印
を付したものが既に決定された画素である。下から2行
目の画素の決定には、図5(a)に示すようなマスクを
用いる。マスクを構成する17個の画素のうち、下の5
個については、この位置には実際には画素が存在しない
ため点線で示している。同一の作成画像を上下に繋げ合
わせる際には、作成画像の最上部が、作成画像の最下部
の下に位置することになるので、点線で示した部分の代
わりに、最上部に示した5つの画素を使用する。すなわ
ち、下から2行目の画素の決定に、一番上の行の画素の
値が反映されることになり、シームレス化が図られるこ
とになる。
For the first row to the third row from the bottom of the reduced created image area, the pixels are determined using a mask of 12 pixels as shown in FIGS. 3 and 4, but the reduced created For the two lines from the bottom of the image area, masks having different shapes as shown in FIG. 5 are used. In FIG. 5, the shaded areas are the pixels to be determined, and the circled ones are the already determined pixels. A mask as shown in FIG. 5A is used to determine the pixels in the second row from the bottom. Of the 17 pixels that make up the mask, the bottom 5
Individual pixels are shown by dotted lines because no pixel actually exists at this position. When the same created image is joined vertically, the uppermost part of the created image is located below the lowermost part of the created image. Therefore, instead of the part indicated by the dotted line, Uses one pixel. That is, the values of the pixels in the uppermost row are reflected in the determination of the pixels in the second row from the bottom, and the seamlessness is achieved.

【0024】1番下の行の画素を決定するには、図5
(b)に示すように、斜線の網掛けで示した左端の画素
を、22個の画素からなるマスクを用いて決定するよう
にする。マスクを構成する22個の画素のうち、下の2
行分10個については、この位置には実際には画素が存
在しないため点線で示している。上述のように、画像を
上下に繋ぎ合わせる際には、作成画像の最上部が、作成
画像の下に位置することになるので、点線で示した部分
の代わりに、縮小作成画像の1行目、2行目に示した1
0個の画素を使用する。これにより、下から1行目の画
素に、上から1行目と2行目の画素の値が反映されるこ
とになり、シームレス化が図られることになる。
To determine the bottom row of pixels, refer to FIG.
As shown in (b), the pixel at the left end, which is hatched with diagonal lines, is determined using a mask composed of 22 pixels. Of the 22 pixels that make up the mask, the lower 2
As for 10 rows, pixels are not actually present at this position, so that they are indicated by dotted lines. As described above, when the images are joined vertically, the uppermost part of the created image is located below the created image. Therefore, instead of the portion indicated by the dotted line, the first line of the reduced created image is displayed. 1 shown in the second line
Use 0 pixels. As a result, the values of the pixels in the first and second rows from the top are reflected in the pixels in the first row from the bottom, and the seamlessness is achieved.

【0025】図5(a)(b)に示したマスクとの類似
度を求めるためのモデル画像上のマスクは、当然のこと
ながら同形状としている。また、図5(a)(b)にお
いては、いずれも左側の画素から決定する場合について
説明したが、右側の画素から決定する場合は、図5
(a)(b)に示したマスクと左右対称の形状のマスク
が使用される。また、類似度の判定は、上記〔数式2〕
のような評価値を算出することにより行うことができ
る。ただし、〔数式2〕において、図5(a)に示した
マスクでは、i=1〜17となり、図5(b)に示した
マスクでは、i=1〜22となる。
As a matter of course, the masks on the model image for obtaining the similarity with the masks shown in FIGS. 5A and 5B have the same shape. In addition, in FIGS. 5A and 5B, the case of determining from the pixel on the left side has been described, but in the case of determining from the pixel on the right side, FIG.
A mask having a symmetrical shape with the masks shown in (a) and (b) is used. In addition, the determination of the similarity is performed by the above [Formula 2].
It can be performed by calculating an evaluation value such as. However, in [Equation 2], i = 1 to 17 in the mask shown in FIG. 5A, and i = 1 to 22 in the mask shown in FIG. 5B.

【0026】以上のようにして縮小作成画像が得られた
ら、これが、目的とする作成画像であるかどうかの判断
を行う(ステップS7)。具体的には、設定された段階
数(縮小モデル画像作成の段階数と同一)分の画像の作
成が行われたかどうかにより行う。作成画像が得られて
いなければ、ステップS4からステップS6の処理を繰
り返し行う。
When the reduced created image is obtained as described above, it is judged whether or not this is the intended created image (step S7). Specifically, it is determined whether or not the set number of steps (the same as the number of steps of creating the reduced model image) have been created. If the created image has not been obtained, the processes of steps S4 to S6 are repeated.

【0027】縮小作成画像領域の各画素を決定すること
により縮小作成画像G3が得られたら、まだ作成画像は
得られていないので、ステップS4からステップS6の
処理を繰り返すことにより、縮小作成画像G3より1段
解像度の高い縮小作成画像G2を作成する。縮小作成画
像G2の作成は、縮小作成画像G3、および縮小作成画
像G3を作成するのに用いた縮小モデル画像M3を利用
して行われる。具体的には、図6(a)に示すように縮
小作成画像G2を画素復元領域とマスク利用領域に分
け、それぞれ異なる手法で画素の属性情報を与えてい
く。
When the reduced created image G3 is obtained by deciding each pixel in the reduced created image area, the created image has not been obtained yet. Therefore, the steps S4 to S6 are repeated to reduce the created image G3. A reduced created image G2 having a higher resolution by one step is created. The reduced created image G2 is created using the reduced created image G3 and the reduced model image M3 used to create the reduced created image G3. Specifically, as shown in FIG. 6A, the reduced created image G2 is divided into a pixel restoration region and a mask use region, and pixel attribute information is given by different methods.

【0028】まず、画素復元領域について、縮小作成画
像G3の画素を利用して画素を復元する。例えば、図6
に示したように、縮小作成画像G3上の1画素を縮小作
成画像G2上の4画素に復元する場合、縮小作成画像G
3上の画素には、上記ステップS6で説明したように、
縮小モデル画像M3上のどの画素が割り当てられたもの
であるかが画素特定情報として記録されており、また、
縮小モデル画像M3上の当該画素には、上記ステップS
3で説明したように、縮小モデル画像M2上のどの4画
素に基づいて作成されたかが属性情報として記録されて
いるので、縮小モデル画像M2上の当該4画素を縮小作
成画像G2の対応する4画素に割り当てることにより、
図6(a)に示した縮小作成画像G2上の斜線の4画素
の属性情報が決定する。なお、図6(b)に示した縮小
作成画像G3のうち、「使用」と記された領域の画素は
画素の復元に使用され、「不使用」と記された領域の画
素は使用されないことになる。
First, in the pixel restoration area, pixels are restored using the pixels of the reduced created image G3. For example, in FIG.
As shown in, when one pixel on the reduced created image G3 is restored to 4 pixels on the reduced created image G2, the reduced created image G3
For the pixels above 3, as described in step S6 above,
Which pixel on the reduced model image M3 is assigned is recorded as pixel specifying information, and
For the pixel on the reduced model image M3, the above step S
As described in Section 3, since which 4 pixels on the reduced model image M2 were created based on the attribute information is recorded, the 4 pixels on the reduced model image M2 correspond to the 4 pixels on the reduced created image G2. By assigning
The attribute information of the four shaded pixels on the reduced created image G2 shown in FIG. 6A is determined. It should be noted that in the reduced created image G3 shown in FIG. 6B, the pixels in the area marked “used” are used for pixel restoration, and the pixels in the area marked “not used” are not used. become.

【0029】画素復元領域の画素が決定したら、マスク
利用領域の各画素の決定を行う。具体的には、縮小モデ
ル画像M2とマスク利用領域の双方に図3から図5に示
したようなマスクを配置し、上記ステップS6と同様の
処理により、縮小モデル画像M2上の画素を割り当てて
いく。
After the pixels of the pixel restoration area are determined, the pixels of the mask utilization area are determined. Specifically, the masks shown in FIGS. 3 to 5 are arranged in both the reduced model image M2 and the mask use area, and the pixels on the reduced model image M2 are allocated by the same processing as in step S6. Go.

【0030】この縮小作成画像G2の作成においても、
画像メモリに画像領域が確保され(ステップS4)、仮
想画素が発生される(ステップS5)。ただし、ステッ
プS5においては、マスク利用領域における画素の決定
時にマスクがはみ出す部分のうち、画素復元領域と隣接
する部分については、画素復元領域に与えられた画素が
利用できるので、画素復元領域と隣接しない部分につい
てだけ仮想画素を発生させれば良い。その後上述のよう
に画素復元領域、マスク領域に画素が割り当てられてい
くことになる(ステップS6)。
In creating the reduced created image G2,
An image area is secured in the image memory (step S4), and virtual pixels are generated (step S5). However, in step S5, of the portion that the mask protrudes when determining the pixels in the mask use area, the pixel provided in the pixel restoration area can be used in the portion that is adjacent to the pixel restoration area. It suffices to generate virtual pixels only for the non-existing portions. After that, pixels are allocated to the pixel restoration area and the mask area as described above (step S6).

【0031】上述のような処理により縮小作成画像G2
が得られたら、次に、この縮小作成画像G2、および縮
小モデル画像M1を利用して、縮小作成画像G2より1
段解像度の高い縮小作成画像G1を作成する。縮小作成
画像G1の作成は、縮小作成画像G2の作成と同様に、
画素復元領域とマスク利用領域に分け、それぞれ異なる
手法で画素の属性情報を与えていくことにより行われる
が、画素復元領域とマスク利用領域の位置関係は図7
(a)に示すようなものとなる。すなわち、縮小作成画
像G2の作成の際に、画素復元領域であった領域は、そ
のまま画素復元領域とし、マスク利用領域であった領域
をさらに、画素復元領域とマスク領域に分ける。これに
対応して縮小作成画像G2において使用される画素の領
域、使用されない画素の領域は図7(b)に示すように
なっている。
The reduced created image G2 is obtained by the above processing.
Is obtained, next, using the reduced created image G2 and the reduced model image M1, 1 is obtained from the reduced created image G2.
A reduced created image G1 having a high step resolution is created. The creation of the reduced created image G1 is similar to the creation of the reduced created image G2.
This is performed by dividing the pixel restoration area and the mask usage area and giving the attribute information of the pixels by different methods. The positional relationship between the pixel restoration area and the mask usage area is shown in FIG.
The result is as shown in (a). That is, when the reduced creation image G2 is created, the area that was the pixel restoration area is directly used as the pixel restoration area, and the area that was the mask utilization area is further divided into the pixel restoration area and the mask area. Corresponding to this, the area of pixels used and the area of pixels not used in the reduced created image G2 are as shown in FIG. 7B.

【0032】縮小作成画像G1の画素復元領域の画素に
ついては、縮小作成画像G2の画素の属性情報に基づい
て縮小モデル画像M2上の画素を特定し、縮小モデル画
像M2の画素の属性情報に基づいて縮小モデル画像M1
上の4画素を特定し、特定した4画素を割り当てること
により行われる。縮小作成画像G1のマスク利用領域に
ついては、縮小モデル画像M1とマスク利用領域の双方
に図3から図5に示したようなマスクを配置し、上記ス
テップS6と同様の処理により、縮小モデル画像M1上
の画素を割り当てていくことにより行われる。
Regarding the pixels in the pixel restoration area of the reduced created image G1, the pixels on the reduced model image M2 are specified based on the attribute information of the pixels of the reduced created image G2, and based on the attribute information of the pixels of the reduced model image M2. And reduced model image M1
This is performed by specifying the upper 4 pixels and assigning the specified 4 pixels. Regarding the mask use area of the reduced created image G1, the masks as shown in FIGS. 3 to 5 are arranged in both the reduced model image M1 and the mask use area, and the reduced model image M1 is processed by the same processing as in step S6. This is done by allocating the upper pixels.

【0033】縮小作成画像G1が得られたら、次に、こ
の縮小作成画像G1、およびモデル画像Mを利用して、
目的とする作成画像Gを作成する。作成画像Gの作成
は、縮小作成画像G2・G1の作成と同様に、画素復元
領域とマスク利用領域に分け、それぞれ異なる手法で画
素の属性情報を与えていくことにより行われるが、画素
復元領域とマスク利用領域の位置関係は図8(a)に示
すようなものとなる。すなわち、縮小作成画像G1の作
成の際に、画素復元領域であった領域は、そのまま画素
復元領域とし、マスク利用領域であった領域をさらに、
画素復元領域とマスク領域に分ける。これに対応して縮
小作成画像G1において使用される画素の領域、使用さ
れない画素の領域は図8(b)に示すようになってい
る。
After the reduced created image G1 is obtained, the reduced created image G1 and the model image M are used to
A target created image G is created. The creation of the created image G is performed by dividing it into a pixel restoration area and a mask use area and giving attribute information of pixels by different methods as in the creation of the reduced created images G2 and G1. The positional relationship between the mask utilization area and the mask utilization area is as shown in FIG. That is, when the reduced creation image G1 is created, the area that was the pixel restoration area is directly used as the pixel restoration area, and the area that was the mask utilization area is further added.
It is divided into a pixel restoration area and a mask area. Corresponding to this, the area of pixels used and the area of pixels not used in the reduced created image G1 are as shown in FIG. 8B.

【0034】作成画像Gの画素復元領域の画素について
は、縮小作成画像G1の画素の属性情報に基づいて縮小
モデル画像M1上の画素を特定し、縮小モデル画像M1
の画素の属性情報に基づいてモデル画像M上の4画素を
特定し、特定した4画素を割り当てることにより行われ
る。作成画像Gのマスク利用領域については、モデル画
像Mとマスク利用領域の双方に図3から図5に示したよ
うなマスクを配置し、上記ステップS6と同様の処理に
より、モデル画像M上の画素を割り当てていくことによ
り行われる。上記ステップS1からS7のようにして作
成画像Gが得られるが、得られた作成画像Gにおいて
は、左下および右上の最初から画素復元領域であった部
分は、8×8の64画素が縮小作成画像G3の1画素に
対応しており、64画素単位で配列されていることにな
るため、この64画素のまとまりに起因する筋のような
ものが見えてしまう場合がある。ただし、上記説明のよ
うに、作成画像G全体を縮小作成画像G3に基づく画素
復元領域としているのではないため、全体に渡って筋の
ようなものが生じるものではない。上記の例で作成画像
Gを作成した場合には、どの縮小作成画像に基づいて復
元を開始したかにしたがって、16画素単位の塊、4画
素単位の塊が配列される部分があり、最終的にマスク利
用領域であった部分については、塊で配列されない。す
なわち、本発明のような手法により作成画像を作成する
ことにより、画像全体に渡って同一サイズの塊が繰り返
されるのを防ぐことができ、全体に筋のようなものが発
生しずらくなる。
As for the pixels in the pixel restoration area of the created image G, the pixels on the reduced model image M1 are specified based on the attribute information of the pixels of the reduced created image G1, and the reduced model image M1 is selected.
This is performed by specifying 4 pixels on the model image M based on the attribute information of the pixels and assigning the specified 4 pixels. Regarding the mask use area of the created image G, the masks as shown in FIGS. 3 to 5 are arranged in both the model image M and the mask use area, and the pixels on the model image M are processed by the same processing as in step S6. It is done by assigning. The created image G is obtained as in steps S1 to S7. In the obtained created image G, 8 × 8 64 pixels are reduced and created in the portion that is the pixel restoration region from the beginning on the lower left and the upper right. Since it corresponds to one pixel of the image G3 and is arranged in units of 64 pixels, a streak-like object due to the unit of 64 pixels may be seen. However, as described above, since the entire created image G is not the pixel restoration area based on the reduced created image G3, no streaks occur throughout the entire image. When the created image G is created in the above example, depending on which reduced created image is used to start the restoration, there is a portion in which a lump of 16 pixel units and a lump of 4 pixel units are arranged. The portion that was the mask utilization area is not arranged in a lump. That is, by creating a created image by the method according to the present invention, it is possible to prevent repetition of a lump of the same size over the entire image, and it becomes difficult for streaks to occur in the entire image.

【0035】以上、本発明に係る画像作成方法の基本的
な処理について説明したが、本発明においては、モデル
画像の特徴を忠実に再現可能にするために、多くの工夫
を凝らしている。以下では、そのような工夫を凝らした
効果的な応用例について説明する。
The basic processing of the image creating method according to the present invention has been described above. However, in the present invention, many contrivances are made in order to faithfully reproduce the characteristics of the model image. In the following, an effective application example that makes such ingenuity will be described.

【0036】(画素復元についての応用例)上記ステッ
プS6の処理では、下位の縮小作成画像から上位の縮小
作成画像の画素復元領域の画素を得る際に、下位の縮小
作成画像から下位の縮小モデル画像を介して上位の縮小
モデル画像上の対応画素を求め、それをそのまま、上位
の縮小作成画像上に割り当てるようにしたが、この際、
解像度削減率が小さい(r=2〜3程度)場合には、そ
れほど問題は生じないが、解像度削減率が大きい場合に
は、解像度削減率に対応する画素数ごとに、塊のような
ものが見えるような現象が生じてしまう。例えば、解像
度削減率r=40であるならば、40×40の画素から
なるブロックを上位の縮小作成画像上に並べていくこと
になる。このとき、40×40画素の継ぎ目にあたる部
分では、隣接する画素の配置に連続性が考慮されていな
いため、継ぎ目が目立ってしまう。その結果、上位の縮
小作成画像全体が、40×40画素のブロックの集合体
であるように見えてしまう。
(Application Example of Pixel Restoration) In the process of step S6, when the pixels of the pixel restoration area of the upper reduced created image are obtained from the lower reduced created image, the lower reduced model from the lower reduced created image is obtained. Through the image, the corresponding pixel on the upper reduced model image is obtained, and it is assigned as it is to the upper reduced created image. At this time,
When the resolution reduction rate is small (r = 2 to 3), there is not much problem, but when the resolution reduction rate is large, there is a lump like each pixel number corresponding to the resolution reduction rate. A visible phenomenon will occur. For example, if the resolution reduction rate r = 40, blocks consisting of 40 × 40 pixels are arranged on the upper reduced created image. At this time, in the portion corresponding to the joint of 40 × 40 pixels, the continuity is not taken into consideration in the arrangement of the adjacent pixels, so that the joint becomes conspicuous. As a result, the entire high-order reduced created image looks like an aggregate of blocks of 40 × 40 pixels.

【0037】そこで、解像度削減率rの値が大きい場合
には、ステップS6の処理において、以下のような処理
を行うことで上記問題点を解決している。解像度削減率
r=40であった場合、本来40×40画素を上位の縮
小作成画像上に割り当てるべきであるが、縮小モデル画
像上における46×46画素を縮小作成画像上に割り当
てるようにする。つまり、上下左右の3画素ずつを余分
に抽出し、割り当てることになる。この余分に抽出した
画素は、縮小作成画像上に割り当てられた他の画素と合
成する。このときの合成率は、46×46画素のブロッ
クの端に近付けば近付くほど、小さくなる値とし、さら
に、乱数を用いて合成率を変動させる。合成率α算出
は、以下の〔数式3〕により行う。
Therefore, when the value of the resolution reduction rate r is large, the above problem is solved by performing the following process in the process of step S6. When the resolution reduction ratio r = 40, originally, 40 × 40 pixels should be assigned to the higher reduced created image, but 46 × 46 pixels in the reduced model image are assigned to the reduced created image. In other words, the upper, lower, left, and right 3 pixels are extracted and allocated in excess. The extra extracted pixels are combined with other pixels assigned on the reduced created image. The synthesis rate at this time is set to a value that becomes smaller as it gets closer to the end of the block of 46 × 46 pixels, and the synthesis rate is changed using a random number. The synthesis rate α is calculated by the following [Formula 3].

【0038】〔数式3〕 α = DI(X)+RAND[Equation 3] α = DI (X) + RAND

【0039】上記〔数式3〕において、DI(X)は、
ブロックの端からの距離に応じて増加する関数であり、
0〜1の値をとる。また、RANDは、−0.5〜0.
5の値をとる乱数である。演算後、αは、0〜1の値に
なるように補正される。また、ここでは、上下左右に3
画素分を余分に抽出・割り当てするようにしたが、この
余分の画素数も解像度削減率rの値に応じて変化され
る。
In the above [Formula 3], DI (X) is
Is a function that increases with the distance from the edge of the block,
It takes a value from 0 to 1. Further, RAND is -0.5 to 0.
It is a random number that takes a value of 5. After the calculation, α is corrected to have a value of 0 to 1. In addition, here, 3
The extra pixels are extracted and assigned, but the number of extra pixels is also changed according to the value of the resolution reduction rate r.

【0040】(マスク利用の画素決定についての応用
例)上記ステップS7において説明したようなマスクを
利用した画素決定の手法をそのまま利用すると、縮小モ
デル画像全体の模様が、縮小作成画像(画素復元領域を
除く)上に現れるのではなく、縮小モデル画像のある一
部の模様が縮小作成画像上に繰り返し現れるという現象
が起こることがある。これは、縮小作成画像上の画素の
決定にあたって、利用される縮小モデル画像上の画素が
抽出される回数が画素によって偏りがあることに起因し
ている。すなわち、ある画素は何回も選ばれるが、ある
画素は1回も選ばれないということで、縮小モデル画像
全体の特徴が縮小作成画像上に反映されないことにな
る。
(Application Example of Pixel Determining Using Mask) If the pixel determining method using a mask as described in step S7 is used as it is, the pattern of the entire reduced model image becomes a reduced created image (pixel restoration region). However, the phenomenon that some patterns of the reduced model image repeatedly appear on the reduced created image may occur. This is because the number of times the pixels on the reduced model image to be used are extracted when determining the pixels on the reduced created image is biased depending on the pixels. That is, a certain pixel is selected many times, but a certain pixel is not selected once, so that the characteristics of the entire reduced model image are not reflected on the reduced created image.

【0041】そこで、このような不具合を解消するため
の工夫について説明する。このためには、縮小モデル画
像の各画素について、何回選択されたかをカウントして
おき、それが所定の回数以上とならないように制限すれ
ば良い。本発明では、この制限のために以下の〔数式
4〕を利用する。
Therefore, a device for solving such a problem will be described. For this purpose, it is sufficient to count how many times each pixel of the reduced model image has been selected, and limit the number of selection times so that it does not exceed a predetermined number of times. In the present invention, the following [Formula 4] is used for this limitation.

【0042】〔数式4〕 IC(x,y) < K × Count/(mx×my)+C[Formula 4] IC (x, y) <K × Count / (mx × my) + C

【0043】上記〔数式4〕において、IC(x,y)は、
縮小モデル画像上の座標(x,y)における画素がこれ
までに何回選ばれているかを示す変数であり、縮小作成
画像中の画素として決定される度に、1増加されてい
く。Kは定数であり、1より大きい値であることを必須
要件とする。できれば、Kは2未満の数値であることが
好ましい。Countは、その画素の決定時における縮小作
成画像領域でこれまでに決定された画素数を示す変数で
ある。mx×myは、縮小モデル画像の全画素数を示す
定数である。Cは外部より設定される定数である。上述
のように、縮小作成画像上でマスクされた領域と縮小モ
デル画像でマスクされた領域の比較により、その類似度
が最も高いときの縮小モデル画像上の画素が決定される
が、この画素がこれまでに選択された回数をIC(x,y)
として、上記の〔数式4〕を利用する。そして、この
〔数式4〕を満たした場合に限り、縮小作成画像上の画
素として選択するようにする。選択された場合は、この
画素の選択回数を示すIC(x,y )に、1だけ追加され
る。
In the above [Formula 4], IC (x, y) is
This is a variable indicating how many times the pixel at the coordinates (x, y) on the reduced model image has been selected so far, and is incremented by 1 each time it is determined as a pixel in the reduced created image. K is a constant, and an essential requirement is that it be a value greater than 1. If possible, K is preferably a numerical value less than 2. Count is a variable indicating the number of pixels that have been determined so far in the reduced created image area when the pixel is determined. mx × my is a constant indicating the total number of pixels of the reduced model image. C is a constant set from the outside. As described above, by comparing the masked area on the reduced created image with the masked area on the reduced model image, the pixel on the reduced model image when the similarity is highest is determined. IC (x, y) is the number of times selected so far
The above [Formula 4] is used as Then, only when this [Equation 4] is satisfied, the pixel is selected as a pixel on the reduced created image. When selected, only 1 is added to IC (x, y ) indicating the number of selections of this pixel.

【0044】上記〔数式4〕において、右辺のCount/
(mx×my)は、縮小作成画像領域において決定され
ている画素数が、縮小モデル画像の全画素数の何倍であ
るかを示すものであるため、変数IC(x,y)が、これよ
り小さい数となるように設定しておくことにより、縮小
モデル画像上で各画素が選ばれる回数が平均化されるこ
とになる。ただし、これだけだと、 Countを(mx×m
y)で除算したときの余りが0に近付くにつれて、選択
できる画素が著しく減ることになる。例えば、上記余り
が1のとき、選択の余地は1箇所しか現れない。このた
め、この際選択された画素は近傍との相関がないため、
不自然な質感となる。上記定数Kは、これを回避するた
めに用いられる。このようにすると、上記余りが小さく
なったとしても、選択できる画素が減ることがなくな
り、不自然な質感が現れなくなる。結果として、縮小モ
デル画像からほぼ平均的に画素を選出することが可能と
なる。また、上記〔数式4〕の右辺のCは、許容範囲を
設定するための定数であり、0以上の整数が設定され
る。定数Cの値が大きくなるほど、モデル画像上におけ
る各画素の選ばれる回数のばらつきが大きくなり、C=
0と設定された場合は、ほぼ均一に各画素が選ばれるこ
とになる。
In the above [Formula 4], Count / on the right side
Since (mx × my) indicates how many times the number of pixels determined in the reduced created image area is the total number of pixels of the reduced model image, the variable IC (x, y) is By setting the number to be smaller, the number of times each pixel is selected on the reduced model image is averaged. However, with this alone, Count is changed to (mx × m
As the remainder when divided by y) approaches 0, the number of selectable pixels will decrease significantly. For example, when the remainder is 1, there is only one room for selection. Therefore, the pixel selected at this time has no correlation with the neighborhood,
It has an unnatural texture. The constant K is used to avoid this. In this way, even if the above-mentioned surplus is reduced, the number of selectable pixels does not decrease, and an unnatural texture does not appear. As a result, it is possible to select pixels from the reduced model image almost on average. Further, C on the right side of the above [Formula 4] is a constant for setting an allowable range, and an integer of 0 or more is set. As the value of the constant C increases, the variation in the number of times each pixel is selected on the model image increases, and C =
When set to 0, each pixel is selected almost uniformly.

【0045】また、本発明においては、モデル画像の大
まかな特徴を再現するため、および演算量の削減のため
に、解像度を落とした縮小作成画像を作成した後で作成
画像を作成するようにしているが、これに起因して、図
9に示すような問題が生じる。図9(a)は、下位の縮
小作成画像の一部(3画素)拡大図であり、図9(b)
は、上位の縮小作成画像の一部拡大図である。なお、図
9は解像度削減率r=3とした場合を示している。 r
=3とした場合、下位の縮小作成画像上の1画素は、上
位の縮小作成画像上の9(3×3)画素に復元されるこ
とになるが、その場合、この9画素の配列は、縮小モデ
ル画像上と同じ状態で復元される。そのため、図9
(a)に示すように下位の縮小作成画像上の同一画素が
連続して3回選ばれた場合、復元した際に、上位の縮小
作成画像上の狭い範囲において模様の繰り返しが生じて
しまう。これは、図9(b)に網掛けで示した画素でわ
かるように、特定の画素が繰り返されてしまうからであ
る。
Further, in the present invention, in order to reproduce the rough characteristics of the model image and to reduce the amount of calculation, the reduced image having the reduced resolution is produced and then the produced image is produced. However, this causes a problem as shown in FIG. FIG. 9A is an enlarged view of a part (three pixels) of the lower reduced image, and FIG.
[Fig. 4] is a partially enlarged view of a high-order reduced created image. Note that FIG. 9 shows a case where the resolution reduction rate r = 3. r
= 3, one pixel on the lower reduced created image is restored to 9 (3 × 3) pixels on the upper reduced created image. In this case, the array of 9 pixels is It is restored in the same state as on the reduced model image. Therefore, FIG.
As shown in (a), when the same pixel on the lower reduced created image is selected three times in succession, when restored, the pattern repeats in a narrow range on the upper reduced created image. This is because a specific pixel is repeated, as can be seen from the pixel shaded in FIG. 9B.

【0046】そこで、本発明では、近傍の画素と同一の
画素を選択しないようにすることにより、上記のような
問題が生じないようにしている。図10は、下位の縮小
作成画像の一部拡大図である。特に、図10(a)は、
左から右方向に画素を決定していく場合、図10(b)
は、右から左方向に画素を決定していく場合を示してい
る。左から右方向へ画素を決定していく場合、図10
(a)の斜線の網掛けで示した画素を決定する際には、
○印で示した4つの画素と同一にならないようにする。
斜線の網掛けで示した画素を決定するにあたっては、上
記の例で説明したのと同様に、縮小作成画像上でマスク
された領域と、縮小モデル画像上でマスクされた領域と
の類似度を求め、類似度が最も高い場合の画素が選択さ
れるが、ここでは、選択された縮小モデル画像上の画素
を、そのまま斜線の網掛けで示した画素とするのではな
く、○印で示した4つの画素と同一でないかどうかを調
べるのである。これにより、近傍の画素と同一の画素を
選択することがなくなり、上述の問題が解決される。ま
た、右から左方向へ画素を決定していく場合は、図10
(b)に示すような位置関係、すなわち、図10(a)
の場合と左右対称の画素を対象として重複を防ぐ処理が
行われる。
Therefore, in the present invention, the above-mentioned problem does not occur by not selecting the same pixel as a neighboring pixel. FIG. 10 is a partially enlarged view of the lower reduced image. In particular, FIG.
When determining pixels from left to right, FIG.
Indicates a case where pixels are determined from right to left. When determining pixels from the left to the right, FIG.
When determining the pixels indicated by hatching in (a),
Make sure that it is not the same as the four pixels marked with a circle.
In determining pixels indicated by hatching, the similarity between the masked area on the reduced created image and the masked area on the reduced model image is determined in the same manner as described in the above example. The pixel having the highest degree of similarity is selected, but here, the pixel on the selected reduced model image is not indicated as a pixel shaded with diagonal lines but is indicated by a circle. It checks to see if it is not the same as the four pixels. As a result, the same pixel as a neighboring pixel is not selected, and the above problem is solved. In addition, in the case of determining pixels from right to left, FIG.
The positional relationship as shown in (b), that is, FIG. 10 (a)
A process for preventing overlapping is performed for pixels that are symmetrical with respect to the case.

【0047】次に、上記2つの工夫を図1のステップS
6における各画素の決定において具体的に適用した場合
について、図11に示すフローチャートを用いてさらに
詳細に説明する。まず、縮小モデル画像上のある画素に
ついて、その画素の選出回数IC(x,y)(ただし、x=
1〜mx、y=1〜my)を参照する。そして、この選
出回数IC(x,y)が上記〔数式4〕を満たしているかど
うかを判定する(ステップS11)。〔数式4〕の条件
を満たしていないと判定された場合には、その画素は選
出対象とはせず、次の画素の判定に移る(ステップS1
2)。〔数式4〕の条件を満たしていると判定された場
合には、その画素に対応するマスクを利用して評価値を
算出する(ステップS13)。評価値の算出は上記〔数
式2〕に示すようなものを用いる。算出された評価値
は、その縮小モデル画像上の画素の座標値(x,y)
{ただし、x=1〜mx、y=1〜my}と共に所定数
記録しておく。具体的には、重複抽出を禁止している近
傍の画素数+1個分だけ、評価値が小さいもの(類似度
が高いと考えられるもの)から記録するようにする。例
えば、図10に示したように近傍の画素として隣接する
4個の画素を重複抽出禁止対象とする場合には、評価値
を最小のものから5つ記録しておく。
Next, the above two measures are taken in step S of FIG.
A specific application in the determination of each pixel in 6 will be described in more detail with reference to the flowchart shown in FIG. First, for a certain pixel on the reduced model image, the number of selections of that pixel IC (x, y) (where x =
1-mx, y = 1-my). Then, it is determined whether or not the number of selections IC (x, y) satisfies the above [Formula 4] (step S11). When it is determined that the condition of [Formula 4] is not satisfied, the pixel is not selected and the process proceeds to the determination of the next pixel (step S1).
2). When it is determined that the condition of [Formula 4] is satisfied, the evaluation value is calculated using the mask corresponding to the pixel (step S13). For the calculation of the evaluation value, the one shown in the above [Formula 2] is used. The calculated evaluation value is the coordinate value (x, y) of the pixel on the reduced model image.
A predetermined number is recorded together with {however, x = 1 to mx, y = 1 to my}. Specifically, the number of pixels in the vicinity for which duplicate extraction is prohibited + 1 is recorded from the smallest evaluation value (those with a high similarity). For example, as shown in FIG. 10, when four adjacent pixels as adjacent pixels are to be subjected to duplicate extraction prohibition, five evaluation values are recorded from the smallest evaluation value.

【0048】上記ステップS11〜ステップS13の処
理を、縮小モデル画像上の全画素(mx×my個)に対
して行う(ステップS14・S15)ことにより、縮小
モデル画像上のmx×my個の画素のうちで評価値が小
さい5つの画素が得られる。次に、この5つの画素のう
ち、評価値が最小のものから順に、縮小作成画像上にお
ける既に近傍に選出された画素と同一の画素であるかど
うかを比較していく(ステップS16)。例えば、いま
縮小作成画像上の画素(10,10)に対応する縮小モ
デル画像の座標値を特定しようとしている場合を考えて
みる。この場合に、評価値が最小のものから5つに対応
する縮小モデル画像上の画素pm1・pm2・pm3・
pm4・pm5が記録されているものとする。縮小作成
画像上の決定しようとしている画素pg(10,10)
が左から決定される行である場合、決定しようとしてい
る画素pg(10,10)の左上の画素pg1(9,
9)、真上の画素pg2(10,9)、右上の画素pg
3(11,9)、左の画素pg4(9,10)が重複抽
出禁止対象となる。この場合、決定すべき画素pgと、
重複抽出禁止対象の各画素pg1〜 pg4との関係
は、図10(a)に示した斜線の網掛けで示した画素
と、○印を付した4つの画素との関係に対応する。
By performing the processes of steps S11 to S13 on all pixels (mx × my) on the reduced model image (steps S14 and S15), mx × my pixels on the reduced model image are obtained. Of these, five pixels having a small evaluation value are obtained. Next, among the five pixels, the pixels having the smallest evaluation value are compared in order from the smallest pixel to see whether or not the pixel is the same as the pixel already selected in the vicinity on the reduced created image (step S16). For example, consider a case where the coordinate value of the reduced model image corresponding to the pixel (10, 10) on the reduced created image is being specified. In this case, the pixels pm1, pm2, pm3.
It is assumed that pm4 and pm5 are recorded. Pixel pg (10,10) to be decided on the reduced created image
Is a row determined from the left, the pixel pg1 (9,9) at the upper left of the pixel pg (10,10) to be determined.
9), the pixel pg2 (10, 9) immediately above, and the pixel pg at the upper right
3 (11, 9) and the left pixel pg4 (9, 10) are subject to duplicate extraction prohibition. In this case, the pixel pg to be determined,
The relationship with each pixel pg1 to pg4 that is the object of prohibition of duplicate extraction corresponds to the relationship between the pixel shaded in FIG. 10A and the four pixels marked with a circle.

【0049】このような状況で、評価値が最小で、縮小
作成画像上の画素pgとして割り当てるべき第1の候補
である画素pm1が、既に縮小作成画像上の画素pg1
〜画素pg4に割り当てられているかどうかを確認す
る。画素pg1〜画素pg4に既に画素pm1が割り当
てられている場合には、画素pgとして選出する画素の
候補から画素pm1を除外する。同様にして、順に画素
pm2、 pm3…と調べていき、画素pg1〜画素p
g4のいずれにも割り当てられていないものがあった場
合は、その画素を作成画像上の画素Sに割り当てるべき
画素として決定する。画素Sに割り当てるべき画素の候
補としてpm1〜 pm5の5つの画素を記録している
ので、例え4つの画素pg1〜 pg4の全てに既に候
補画素pm1〜 pm4が割り当てられている場合であ
っても、画素pm5を画素pgに割り当てることが可能
となる。候補画素を重複抽出禁止対象画素より1つ多く
記録しておくのはこのためである。また、画素が決定さ
れると、選出された縮小モデル画像上の画素の選出回数
IC(x,y)には、1追加され、また、縮小作成画像上で
これまでに決定された画素数を示す変数Countにも、1
追加される。以上ステップS11〜ステップS16のよ
うにして図1のフローチャートにおけるステップS6の
画素決定が行われる。
In such a situation, the pixel pm1 having the smallest evaluation value and being the first candidate to be assigned as the pixel pg on the reduced created image is already the pixel pg1 on the reduced created image.
~ Check if it is assigned to pixel pg4. When the pixel pm1 is already assigned to the pixels pg1 to pg4, the pixel pm1 is excluded from the candidates of pixels to be selected as the pixel pg. Similarly, the pixels pm2, pm3, ...
If there is a pixel that is not assigned to any of g4, the pixel is determined as a pixel to be assigned to the pixel S on the created image. Since five pixels pm1 to pm5 are recorded as the candidates of the pixels to be assigned to the pixel S, even if the candidate pixels pm1 to pm4 are already assigned to all the four pixels pg1 to pg4, The pixel pm5 can be assigned to the pixel pg. This is the reason why one more candidate pixel is recorded than the overlap extraction prohibition target pixel. When the pixel is determined, 1 is added to the number of selections IC (x, y) of the pixel on the selected reduced model image, and the number of pixels determined so far on the reduced created image is added. Also for the variable Count that is shown, 1
Is added. The pixels are determined in step S6 in the flowchart of FIG. 1 as in steps S11 to S16.

【0050】(システム構成)次に、上記画像作成方法
を実行するためのシステム構成について説明する。図1
2は、本発明による画像作成システムの一実施形態を示
す構成図である。図12において、画像入力手段1は、
図1のステップS1の処理を実行するためのものであ
り、デジタルデータとしてモデル画像を入力する機能を
有する。モデル画像入力手段1としては、モデル画像が
デジタルデータとして既に用意されている場合は、その
デジタルデータを記録した電子記録媒体を読取り可能な
読取り装置で実現でき、モデル画像が紙媒体で用意され
ている場合は、スキャナ等の光学的読取り装置で実現で
きる。
(System Configuration) Next, a system configuration for executing the above-described image creating method will be described. Figure 1
FIG. 2 is a configuration diagram showing an embodiment of an image creating system according to the present invention. In FIG. 12, the image input means 1 is
It is for executing the process of step S1 in FIG. 1, and has a function of inputting a model image as digital data. As the model image input means 1, when the model image is already prepared as digital data, it can be realized by a reading device capable of reading an electronic recording medium recording the digital data, and the model image is prepared as a paper medium. If so, it can be realized by an optical reading device such as a scanner.

【0051】パラメータ設定手段2は、図1のステップ
S2の処理、具体的には作成画像のサイズの設定、何段
階の解像度削減を行うか、各段階の解像度削減率rの設
定処理を実行するためのものであり、マウスやキーボー
ド等で実現できる。また、パラメータ設定手段2は、乱
数の設定等、必要な種々のパラメータを設定するために
も利用される。
The parameter setting means 2 executes the processing of step S2 of FIG. 1, specifically, the setting of the size of the created image, the number of steps of resolution reduction, and the processing of setting the resolution reduction rate r of each step. It is for the purpose and can be realized with a mouse, a keyboard, or the like. The parameter setting means 2 is also used to set various necessary parameters such as setting random numbers.

【0052】マスク形状記憶手段3は、上記図1のステ
ップS6および上記図11のステップS13で説明した
ような、画素決定のために縮小作成画像(あるいは作成
画像)と縮小モデル画像(あるいはモデル画像)の両方
に配置するためのマスクの形状を記憶するためのもので
ある。
The mask shape storage means 3 stores the reduced created image (or created image) and the reduced model image (or model image) for pixel determination as described in step S6 of FIG. 1 and step S13 of FIG. ) Is to store the shape of the mask to be placed on both sides.

【0053】演算制御装置4は、本発明に係る画像作成
システムの中心的な役割を果たすものであり、画素決定
手段4a、解像度変換手段4bを有している。画素決定
手段4aは、図1のステップS4〜ステップS6の処理
を実行する機能を有しており、画像メモリ5上に縮小作
成画像の作成領域を確保し、画素を決定していく。解像
度変換手段4bは、図1のステップS3の処理を実行す
る機能を有しており、設定された解像度削減率にしたが
ってモデル画像からより下位の縮小モデル画像を作成す
る。演算制御装置4はコンピュータのCPU、メモリで
実現され、具体的な機能である画素決定手段4a、解像
度変換手段4bは、コンピュータに搭載された専用のソ
フトウェアプログラムにより実現される。
The arithmetic and control unit 4 plays a central role in the image forming system according to the present invention, and has a pixel determining unit 4a and a resolution converting unit 4b. The pixel determining unit 4a has a function of executing the processes of steps S4 to S6 of FIG. 1, and secures an area for creating a reduced created image on the image memory 5 to determine pixels. The resolution conversion unit 4b has a function of executing the process of step S3 in FIG. 1, and creates a lower-order reduced model image from the model image according to the set resolution reduction rate. The arithmetic and control unit 4 is realized by a CPU and a memory of a computer, and the pixel determining means 4a and the resolution converting means 4b which are specific functions are realized by a dedicated software program installed in the computer.

【0054】画像メモリ5は、縮小作成画像を作成する
ための記憶領域であり、パラメータ設定手段2により設
定された画像サイズ分の領域が確保され、画素決定手段
4aにより決定された画素の属性情報を記録していく。
The image memory 5 is a storage area for creating a reduced created image, an area for the image size set by the parameter setting means 2 is secured, and the attribute information of the pixel determined by the pixel determining means 4a. Will be recorded.

【0055】以上、本発明の好適な実施形態について説
明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、種々の
変形が可能である。例えば、上記実施形態では、縮小モ
デル画像をM1〜M3の3個作成し、それに伴って縮小
作成画像G1〜G3の3個を介して作成画像を得るよう
にしたが、これらは、最低2個ずつ以上であれば、いく
つでも可能である。異なる縮小画像を多く介するように
すればするほど、演算量は大きくなるが、復元時の塊の
大きさにばらつきがでるため、作成画像上に段差のよう
なものが目立たなくなる。
Although the preferred embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to the above embodiment and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, three reduced model images M1 to M3 are created and the created images are obtained through the three reduced created images G1 to G3, but at least two of these are created. Any number is possible as long as it is above each. As the number of different reduced images is increased, the amount of calculation increases, but the size of the cluster at the time of restoration varies, so that a step such as a step is less noticeable on the created image.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
モデル画像と作成画像の双方にマスクを配置してその類
似度に基づいて作成画像の画素を決定していく手法を基
本手法とし、このモデル画像と作成画像の解像度をそれ
ぞれ削減した縮小モデル画像と縮小作成画像に対して上
記基本手法を適用する場合において、上位の縮小作成画
像の作成時に上記基本手法と下位の縮小作成画像の画素
からの復元との両方を利用するようにしたので、作成画
像上に塊のようなものを生じさせず、モデル画像上に表
現された特徴だけを再現した画像を作成することが可能
となるという効果を奏する。
As described above, according to the present invention,
A basic method is to place a mask on both the model image and the created image and determine the pixels of the created image based on the similarity between them, and a reduced model image in which the resolutions of the model image and the created image are reduced. When applying the above-mentioned basic method to the reduced created image, both the basic method and the restoration from the pixel of the lower reduced created image are used when creating the upper reduced created image. This has the effect of making it possible to create an image that reproduces only the features expressed on the model image without producing lumps on the top.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る画像作成方法のフローチャートで
ある。
FIG. 1 is a flowchart of an image creating method according to the present invention.

【図2】画像メモリ上に確保される縮小作成画像領域を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a reduced created image area secured on an image memory.

【図3】縮小作成画像領域および縮小モデル画像と、そ
の上に配置されるマスクの関係を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a reduced created image area and a reduced model image, and a mask arranged thereon.

【図4】左右交互に画素決定の順序を変える場合の縮小
作成画像領域とマスクの関係を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a reduced created image area and a mask when the order of pixel determination is changed left and right alternately.

【図5】縮小作成画像領域の下側部分のシームレス化処
理を行う場合の、縮小作成画像領域とマスクの関係を示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between a reduced created image area and a mask when performing a seamless process of a lower portion of the reduced created image area.

【図6】縮小作成画像G2と(最下位)縮小作成画像G
3の関係を示す図である。
FIG. 6 is a reduced created image G2 and a (bottom) reduced created image G.
It is a figure which shows the relationship of 3.

【図7】縮小作成画像G1と縮小作成画像G2の関係を
示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a relationship between a reduced created image G1 and a reduced created image G2.

【図8】作成画像Gと縮小作成画像G1の関係を示す図
である。
FIG. 8 is a diagram showing a relationship between a created image G and a reduced created image G1.

【図9】縮小作成画像上で同一の画素が連続して選ばれ
た場合の、画素の関係を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a pixel relationship when the same pixel is continuously selected on the reduced created image.

【図10】決定すべき画素と、重複を禁止すべき画素と
の位置関係を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a positional relationship between a pixel to be determined and a pixel whose duplication is prohibited.

【図11】縮小作成画像領域の各画素の決定における応
用例を示すフローチャートである。
FIG. 11 is a flowchart showing an application example in determining each pixel in the reduced created image area.

【図12】本発明による画像作成システムの一実施形態
を示す構成図である。
FIG. 12 is a configuration diagram showing an embodiment of an image creating system according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・画像入力手段 2・・・パラメータ設定手段 3・・・マスク形状記憶手段 4・・・演算制御装置 4a・・・画素決定手段 4b・・・解像度変換手段 5・・・画像メモリ 1. Image input means 2. Parameter setting means 3 ... Mask shape storage means 4 ... Arithmetic control device 4a ... Pixel determining means 4b ... Resolution conversion means 5 ... Image memory

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】所望の模様を有するモデル画像を利用し
て、新たな模様を有する画像を作成する方法であって、 モデル画像を入力する段階と、 前記入力されたモデル画像の解像度を削減し、その削減
率を異ならせて、それぞれ解像度の異なる複数の縮小モ
デル画像を作成する段階と、 前記解像度が最も低い最下位縮小モデル画像を利用して
最下位縮小作成画像を作成する段階と、 前記最下位縮小作成画像より1段上位である上位縮小モ
デル画像を利用して、前記最下位縮小作成画像より1段
上位である上位縮小作成画像を作成する段階と、を有
し、 前記縮小モデル画像を作成する段階は、当該縮小モデル
画像の各画素の画素値を、当該縮小モデル画像よりも解
像度の高い上位縮小モデル画像の所定数の画素値に基づ
いて決定すると共に、当該縮小モデル画像の各画素につ
いて、当該画素の画素値を決定する基になった前記上位
縮小モデル画像の各画素の位置を記録するものであり、 前記最下位縮小作成画像を作成する段階は、当該最下位
縮小作成画像の各画素の属性情報の決定を、前記最下位
縮小作成画像の領域上に所定の形状のマスクを配置し、
当該マスクと同形状のマスクを前記最下位縮小モデル画
像上に配置し、前記最下位縮小作成画像の領域上のマス
クの位置は固定したまま、前記最下位縮小モデル画像上
のマスクを1画素分ずつ移動させながら、前記最下位縮
小作成画像の領域上でマスクされた領域と前記最下位縮
小モデル画像上でマスクされた領域の類似度を求め、当
該類似度が最も高いと判定される最下位縮小モデル画像
上のマスクとの位置関係が、前記最下位縮小作成画像の
領域上におけるマスクと決定すべき画素との位置関係と
同一となる位置関係にある画素の属性情報を、前記最下
位縮小作成画像領域上の画素の属性情報として割り当て
ることにより行うものであり、 前記上位縮小作成画像を作成する段階は、作成すべき上
位縮小作成画像を画素復元領域とマスク利用領域に分類
し、前記画素復元領域の画素については、前記記録した
縮小モデル画像の各画素と当該画素の画素値を決定する
基になった上位縮小モデル画像の各画素の位置関係に基
づいて、その属性情報を決定し、前記マスク利用領域の
画素については、前記最下位縮小作成画像を作成する段
階と同様の処理により、その属性情報を決定することに
より行うものであり、 前記上位作成画像を作成する段階を繰り返し実行するこ
とにより、モデル画像と同解像度の作成画像を作成する
ことを特徴とする画像作成方法。
1. A method of creating an image having a new pattern by using a model image having a desired pattern, comprising the steps of inputting a model image and reducing the resolution of the input model image. A step of creating a plurality of reduced model images having different resolutions with different reduction rates, a step of creating a lowest reduced created image using the lowest reduced model image having the lowest resolution, Using an upper reduced model image that is one step higher than the lowest reduced created image to create an upper reduced created image that is one step higher than the lowest reduced created image. In the step of creating, the pixel value of each pixel of the reduced model image is determined based on a predetermined number of pixel values of the higher-order reduced model image having higher resolution than the reduced model image. For each pixel of the reduced model image, the position of each pixel of the upper reduced model image that is the basis for determining the pixel value of the pixel is recorded, and the step of creating the lowest reduced created image is Determining the attribute information of each pixel of the lowest reduced created image, placing a mask of a predetermined shape on the area of the lowest reduced created image,
A mask having the same shape as the mask is arranged on the lowest reduction model image, and the mask on the lowest reduction model image is fixed by one pixel while the position of the mask on the area of the lowest reduction creation image is fixed. While moving each of them, the similarity between the masked area on the area of the lowest reduced image and the masked area on the lowest reduced model image is obtained, and the lowest rank determined to have the highest similarity is calculated. The attribute information of a pixel whose positional relationship with the mask on the reduced model image is the same as the positional relationship between the mask and the pixel to be determined on the area of the lowest reduction created image is set to the lowest reduction. This is performed by assigning it as attribute information of pixels in the created image area. In the step of creating the upper reduced created image, the upper reduced created image to be created is set in the pixel restoration area and the mask region. For the pixels of the pixel restoration region, the pixels of the pixel restoration region are classified based on the positional relationship between each pixel of the recorded reduced model image and each pixel of the upper reduced model image that is the basis for determining the pixel value of the pixel. , The attribute information is determined, and for the pixels of the mask use area, the attribute information is determined by the same processing as the step of creating the lowest reduced created image. An image creating method characterized in that a created image having the same resolution as the model image is created by repeatedly executing the step of creating.
【請求項2】所望の模様を有するモデル画像を入力する
画像入力手段と、 作成すべき画像である作成画像のサイズを設定する設定
手段と、 あらかじめ設定された解像度に従って、前記モデル画像
の解像度を削減した複数の縮小モデル画像を作成する解
像度変換手段と、 前記作成画像の画素を割り当てるための作成画像領域を
用意し、当該作成画像領域上の各画素の決定を行う画素
決定手段と、を有し、 前記画素決定手段における各画素の決定は、前記作成画
像領域において、画素復元領域およびマスク利用領域を
定義し、前記画素復元領域の各画素については、前記作
成された下位縮小モデル画像の各画素と上位縮小モデル
画像の各画素の位置関係に基づいて、その属性情報を決
定することにより行い、前記マスク利用領域の各画素に
ついては、前記マスク利用領域上に所定の形状のマスク
を配置し、当該マスクと同形状のマスクを前記モデル画
像上に配置し、前記マスク利用領域上のマスクの位置は
固定したまま、前記モデル画像上のマスクを1画素分ず
つ移動させながら、前記マスク利用領域上でマスクされ
た領域と前記モデル画像上でマスクされた領域の類似度
を求め、当該類似度が最も高いと判定されるモデル画像
上のマスクとの位置関係が、前記マスク利用領域上にお
けるマスクと決定すべき画素との位置関係と同一となる
位置関係にある画素の属性情報を、前記マスク利用領域
上の画素の属性情報として割り当てることにより行うも
のであることを特徴とする画像作成システム。
2. An image input means for inputting a model image having a desired pattern, a setting means for setting a size of a created image which is an image to be created, and a resolution of the model image according to a preset resolution. A resolution conversion unit that creates a plurality of reduced model images and a pixel determination unit that prepares a created image region for allocating pixels of the created image and determines each pixel on the created image region are provided. Then, the determination of each pixel by the pixel determining means defines a pixel restoration region and a mask use region in the created image region, and each pixel of the pixel restored region is defined in each of the created lower reduced model image. The attribute information is determined based on the positional relationship between the pixel and each pixel of the upper reduced model image. A mask having a predetermined shape is placed on the mask use area, a mask having the same shape as the mask is placed on the model image, and the position of the mask on the mask use area is fixed, and the model is changed. While moving the mask on the image pixel by pixel, the similarity between the masked area on the mask utilization area and the masked area on the model image is calculated, and the model determined to have the highest similarity. The attribute information of a pixel having a positional relationship with the mask on the image that is the same as the positional relationship between the mask on the mask use area and the pixel to be determined is attribute information of the pixel on the mask use area. An image creating system characterized by being assigned as
【請求項3】コンピュータに、モデル画像の解像度を削
減し、その削減率を異ならせて、それぞれ解像度の異な
る複数の縮小モデル画像を作成する段階、前記解像度が
最も低い最下位縮小モデル画像を利用して最下位縮小作
成画像を作成する段階、前記最下位縮小作成画像より1
段上位である上位縮小モデル画像を利用して、前記最下
位縮小作成画像より1段上位である上位縮小作成画像を
作成する段階、を実行させ、前記上位作成画像を作成す
る段階を繰り返し実行することにより、モデル画像と同
解像度の作成画像を作成するためのプログラム。
3. A step of creating a plurality of reduced model images having different resolutions by reducing the resolution of the model image and making the reduction rate different, and using the lowest reduced model image having the lowest resolution. And creating the lowest reduced created image, 1 from the lowest reduced created image
A step of creating an upper reduced created image that is one step higher than the lowest reduced created image using the upper reduced model image that is the upper order, and the step of creating the upper created image is repeated. By doing so, a program for creating a created image with the same resolution as the model image.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN110023987A (en) * 2016-12-01 2019-07-16 韩华泰科株式会社 Image processing apparatus and method

Cited By (2)

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CN110023987A (en) * 2016-12-01 2019-07-16 韩华泰科株式会社 Image processing apparatus and method
CN110023987B (en) * 2016-12-01 2022-11-18 韩华泰科株式会社 Image processing apparatus and method

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