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JP2003100781A - 半導体製造装置、半導体装置の製造方法及び半導体装置 - Google Patents

半導体製造装置、半導体装置の製造方法及び半導体装置

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Publication number
JP2003100781A
JP2003100781A JP2001290713A JP2001290713A JP2003100781A JP 2003100781 A JP2003100781 A JP 2003100781A JP 2001290713 A JP2001290713 A JP 2001290713A JP 2001290713 A JP2001290713 A JP 2001290713A JP 2003100781 A JP2003100781 A JP 2003100781A
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JP
Japan
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semiconductor chip
mounting
semiconductor
unit
mounting substrate
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JP2001290713A
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Shunichi Abe
俊一 阿部
Tetsuya Kamibayashi
哲也 上林
Tadao Izumi
直生 和泉
Akira Yamazaki
暁 山崎
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Priority to US10/159,123 priority patent/US7028397B2/en
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Publication of JP2003100781A5 publication Critical patent/JP2003100781A5/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体チップを半導体チップ搭載基板に接着
する際、半導体チップの反り返った部分を矯正して半導
体チップ全体が半導体チップ搭載基板に接着できるよう
にする。 【解決手段】 半導体チップを搭載する半導体装置の半
導体チップ搭載基板に接合剤を載せて、半導体チップ搭
載基板を載置する載置装置部側載置部に載置し、半導体
チップを保持して移送して、半導体チップを半導体チッ
プ搭載基板に加圧して載置した後、加圧した前記半導体
チップと前記半導体チップ搭載基板を載置する加圧装置
部側載置部に移送して載置し、半導体チップの表面から
圧力を加え、半導体チップの反りを矯正して、半導体チ
ップ全体を半導体チップ搭載基板に接着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製造装
置、半導体装置の製造方法及び半導体装置に関する。さ
らに具体的には、半導体チップを半導体チップ搭載部に
取り付けるダイボンディングの際に用いる半導体製造装
置の構造、使用等に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図6は、従来の方法により、半導体チッ
プを半導体チップ搭載基板に接着する方法を説明するた
めの図である。図6(a)に示すように、半導体ウェー
ハ12には、複数枚の半導体チップが14形成されてい
る。この半導体ウェーハ12をダイシングにより、個々
の半導体チップ14に切り分ける。コレット8は、切り
分けられた半導体チップ14をピックアップして、接着
用の半導体製造装置に移送する。
【0003】図6(b)に示すように、接着用の半導体
製造装置の載置部であるヒートブロック4の上には、フ
レーム16が載置されている。フレーム16の中央部に
は、半導体チップ搭載基板であるダイパッド18が形成
されている。ダイパッド18の表面には、半導体チップ
の貼り付けに用いるダイボンディング用の接合剤20が
載せられている。コレット8は、半導体チップ14をダ
イパッド18の上に軽く押し付けて載置し、半導体チッ
プ14とダイパッド18を接着する。このとき、ヒート
ブロック4によりダイパッド18、ダイボンディング用
接合剤20及び半導体チップ14には、接合剤20の性
質から接着に必要な熱が加えられるようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、半導
体装置全体の微細化に伴い、半導体ウェーハの厚さも薄
くなっている。このため、半導体ウェーハからダイシン
グにより切り分けられた各半導体チップにおいて、回路
面に発生する応力が顕在化し、夫々の半導体チップの外
側部分が反り返ってしまうことがある。しかし、反り返
ったままの半導体チップ14をダイパッド18に接着し
ても、外側の反っている部分まで接着することができな
い。特に、上述したような方法により接着する場合、図
6(b)に示すように、細い棒状のコレット8が半導体
チップ14をダイパッド18に押し付ける力は、コレッ
ト8が半導体チップ14を直接押す部分、即ち、半導体
チップ14の中央部に集中する。従って、図6(c)に
示すように、接着の際にかかる圧力の小さい半導体チッ
プ14の外周部分は、反り返った状態のまま残されてし
まい、ダイパッド18に接着することができない。
【0005】このように半導体チップの外側部分が浮き
上がっている状態では、半導体装置の電気的な接合が不
完全な状態となってしまうため問題である。従ってこの
発明は、半導体チップ全体が確実に半導体チップ搭載基
板に接着できるようにする装置及び方法を提案するもの
である。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明の半導体製造装
置は、半導体チップを半導体装置の半導体チップ搭載基
板に取り付ける半導体製造装置であって、前記半導体チ
ップ搭載基板に前記半導体チップを加圧して載置する載
置装置部と、加圧後の前記半導体チップ全体を加圧する
加圧装置部とを備え、前記載置装置部は、前記半導体チ
ップ搭載基板と前記半導体チップとを載置するための載
置装置部側載置部と、前記半導体チップを保持して移動
し、前記加圧前載置部に加圧して載置する保持部と、を
含み、前記加圧装置部は、前記載置装置部において前記
半導体チップの載置された前記半導体チップ搭載基板を
載置する加圧装置部側載置部と、前記半導体チップ搭載
基板と前記半導体チップとを加圧する加圧部と、を含む
ものである。
【0007】また、この発明の半導体製造装置は、前記
載置装置部側載置部及び/または前記加圧装置部側載置
部が、前記半導体チップ搭載基板と前記半導体チップと
を加熱するための載置部側加熱部を有するものである。
【0008】また、この発明の半導体製造装置は、前記
加圧部の前記半導体チップの表面に対向する面が、前記
半導体チップの表面より大きいものである。
【0009】また、この発明の半導体製造装置は、前記
加圧部を、複数備えるものである。
【0010】また、この発明の半導体製造装置は、前記
加圧部が、前記半導体チップを加熱するための加圧部側
加熱部を備えるものである。
【0011】次に、この発明の半導体装置の製造方法
は、半導体チップを半導体チップ搭載基板に載置するた
めに用いる半導体装置の載置装置部側載置部に、所定の
接合剤を載せた前記半導体チップ搭載基板を載置する載
置工程と、前記載置工程において載置された半導体チッ
プ搭載基板に、前記半導体チップを加圧して載置する加
圧載置工程と、前記加圧載置工程において加圧された前
記半導体チップと前記半導体チップ搭載基板とを載置部
に移送して載置する加圧後載置工程と、前記加圧後載置
工程において載置された前記半導体チップの表面全体を
加圧する加圧工程と、を含むものである。
【0012】また、この発明の半導体装置の製造方法
は、前記加圧工程を、前記半導体チップを加熱しながら
行うものである。
【0013】さらにまた、この発明の半導体装置は、こ
の発明の半導体装置の製造方法を用いて製造されたもの
である。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。なお、各図において、同一
または相当する部分には同一符号を付してその説明を簡
略化ないし省略する。
【0015】実施の形態1.図1は、この発明の実施の
形態1で使用される接着用の半導体製造装置の構成を示
す概念図である。図1において100は、接着用の半導
体製造装置を示す。
【0016】12は、半導体ウェーハを示し、14は、
半導体チップを示す。半導体ウェーハ12には、複数の
半導体チップ14が形成されている。個々の半導体チッ
プ14は、通常、半導体ウェーハ12をダイシングする
ことにより切り分けられる。
【0017】16は、フレームであり、18は、ダイパ
ッド、20は、接合剤である。フレーム16は、半導体
装置のパッケージ材料であり、ダイパッド18は、半導
体チップを搭載する部分である。フレーム16には、複
数のダイパッド18が設けられている。また、接合剤2
0は、半導体チップ14とダイパッド18との接着に用
いるダイボンディング用の接合剤であり、ダイパッド1
8の上に載せられている。
【0018】4は、ヒートブロックである。ヒートブロ
ック4は、半導体チップ14をダイパッド18に載置し
て接着する際に、これらを載置する部分である。ヒート
ブロック4の内部には、カートリッジヒーター(図示せ
ず)が備えられていて、接着の際にフレーム16と半導
体チップ14とを下方から加熱することができる。
【0019】8は、コレットである。コレット8は、半
導体ウェーハ12から切り離された半導体チップ14を
ピックアップして、ヒートブロック4に移送することが
できる。また、コレット8は、半導体チップ14とダイ
パッド18の接着の際、半導体チップ14を上から軽く
押さえて加圧し、半導体チップ14とダイパッド18と
を接着する役割をも果たす。
【0020】なお、ヒートブロック4と、コレット8と
を含んで半導体製造装置100の載置装置部110が構
成される。載置装置部110は、フレーム16のダイパ
ッド18に、半導体チップ14を加圧して載置すること
により接着する部分である。
【0021】6は、ヒートブロックである。ヒートブロ
ック6は、載置装置部110において接着された半導体
チップ14とダイパッド18とを載置する部分である。
また、2は、回転円盤を示し、3は、ゴムリングを示
す。ゴムリング3は、図1に示すように、ヒートブロッ
ク4及びヒートブロック6の上を通るようにして、回転
円盤2に張られている。回転円盤2を回転させることに
より、ゴムリング3を動かすことができ、これに伴っ
て、ヒートブロック4からヒートブロック6へ、フレー
ム16を移送することができる。また、ヒートブロック
6内部には、カートリッジヒーター(図示せず)が備え
られ、加圧の際にフレーム16と半導体チップ14とを
下方から加熱することができる。
【0022】10は、ヒートツールである。ヒートツー
ル10は、半導体チップ14を上から加圧するためのも
のである。ヒートツール10の表面の面積は、一度に半
導体チップ14全体を加圧できるように、半導体チップ
14の表面積よりも大きくなっている。ヒートツール1
0を用いて加圧することにより、半導体チップ14の反
り返った外側部分を含めて、半導体チップ14のダイパ
ッド18に接着する面全体をダイパッド18に接着する
ことができる。また、ヒートツール10内部には、カー
トリッジヒーター(図示せず)が備えられていて、加圧
の際には、半導体チップ14の表面からも熱を加えるこ
とができる。
【0023】なお、ヒートブロック6及びヒートツール
10を含んで、半導体製造装置100の加圧装置部12
0を構成する。加圧装置部120では、載置装置部11
0において、特に半導体チップ14の反り等の原因によ
り完全にダイパッドに接着できなかった部分を矯正し、
半導体チップ14全体をダイパッド18に接着すること
ができる。また、載置装置部110と加圧装置部120
を含んで半導体製造装置100が構成される。
【0024】次に、半導体製造装置100を用いて、ダ
イパッド18に半導体チップ14を接着する方法につい
て説明する。図2は、半導体製造装置100を用いた半
導体チップの取り付け方法を示すフロー図である。ま
た、図3から図5は、半導体チップを取り付ける方法を
説明するための概念図である。
【0025】まず、図2のステップS1に示すように、
半導体製造装置100にフレーム16の載置を行う。フ
レーム16の半導体チップ14を搭載する部分である各
ダイパッド18の上には、ダイボンディング用の接合剤
20が載せられている。この状態で、フレーム16は、
図1に示すように、半導体製造装置100の載置装置部
110のヒートブロック4上に載置される。
【0026】次にステップS2に示すように、半導体チ
ップ14の移送を行う。半導体チップ14は図3に示す
ように、半導体ウェーハ12に複数枚形成されている。
この半導体ウェーハ12は、ダイシングにより個々の半
導体チップ14に切り分けられている。このように切り
分けられた半導体チップ14をコレット8によりピック
アップして移送し、ヒートブロック4の上に備えられた
フレーム16のダイパッド18の上に移送する。
【0027】次にステップS3に示すように、半導体チ
ップ14とダイパッド18との接着を行う。ステップS
2において、ダイパッド18上に移送された半導体チッ
プ14は、図4(b)に示すように、そのままコレット
8により軽く押し付けられて載置され、ダイパッド18
に接着する。なお、このとき、ヒートブロック4がカー
トリッジヒーターに加熱されることにより、接合剤20
の性質上必要な熱が加えられるようになっている。
【0028】ここで接着される半導体チップ14は、半
導体ウェーハ12の厚みが薄くなっているため、各半導
体チップ14の回路面において発生する応力の影響が顕
在化し、外側部分が多少反り返った状態になっているこ
とがある。また、ステップS3では、細い棒状のコレッ
ト8で、半導体チップ14の中心部を押して加圧する。
従って、コレット8による圧力は主に半導体チップ14
の中央部分にかかるため、図4(b)に示すように、半
導体チップ14の外側は反り返った状態のまま、中央部
分だけが接着されている。
【0029】次にステップS4に示すように、ダイパッ
ド18に半導体チップ14の中央部分だけが接着された
状態のフレーム16を、載置装置部110から、加圧装
置部120のヒートブロック6まで移送する。ここで
は、載置装置部110のヒートブロック4と、加圧装置
部120のヒートブロック6とは、ゴムリング3により
繋げられている。従って、回転円盤2を回転させること
により、ゴムリング3を動かし、これに伴って、フレー
ム16を、そのまま流して移送すれば良い。
【0030】次に、ステップS5に示すように、加圧を
行う。ここでは、図5(a)及び(b)に示すように、ヒ
ートブロック6上に載置されたフレーム16上の半導体
チップ14の上から、ヒートツール10により、全体を
押さえ付けるように加圧する。また、このとき同時に、
接合剤20の性質等を考慮して、確実な接着が得られる
ように、ヒートブロック6とヒートツール10とをカー
トリッジヒーターによって加熱して、これにより必要な
熱を加える。このようにして、図5(c)に示すよう
に、半導体チップ14の外周部の反り返った部分を矯正
して、半導体チップ14全体をダイパッド18に取り付
けることができる。
【0031】以上説明したように、この実施の形態によ
れば、半導体チップを最初に接着した後、反り返った部
分を矯正して、半導体チップ14のダイパッド18に接
着する接着面全体をダイパッド18に接着することがで
きる。従って、チップの外側部分まで、全体に確実な接
合を得ることができる。
【0032】なお、この明細書において半導体チップ搭
載基板とは、半導体装置内部において半導体チップを搭
載するための基板を言い、半導体チップ搭載基板は、半
導体装置のパッケージの種類等により異なるものであ
る。この実施の形態では、半導体装置のパッケージ材料
としてフレーム16を用いたため、半導体チップ搭載基
板としてはダイパッド18を用いて説明した。しかし、
パッケージ材料も半導体チップ搭載基板もこれに限る物
ではない。
【0033】また、この発明の保持部には、例えばこの
実施の形態のコレット8が該当する。しかし、保持部は
これに限らず、半導体チップを移送し、載置部に載置で
きるものであればよい。
【0034】また、この発明の載置装置部側載置部に
は、例えばこの実施の形態の、ヒートブロック4が該当
し、加圧装置部側載置部には、ヒートブロック6が該当
する。しかし、載置装置部側載置部及び加圧装置部側載
置部はこれに限る物ではなく、半導体チップを貼り付け
る際に半導体チップを載置できるものであればよい。ま
た、この実施の形態では、ヒートブロック4とヒートブ
ロック6とは、ゴムリング3によって繋がれており、載
置装置部110において接着した半導体チップ14とフ
レーム16とをそのまま流して移送するベルト搬送をす
ることができる。しかし、これに限るものではなく、例
えば、載置装置部110と、加圧装置部120の役割を
果たす部分が、それぞれ、完全に分かれて設けられてい
るもの等であってもよい。また、例えば、金属爪によ
り、フレーム16の外周を掴み、ヒートブロック4とヒ
ートブロック6との間を搬送するクランプ搬送などを用
いても良い。さらに、この発明の載置部側加熱部には、
例えば、この実施の形態のヒートブロック4、ヒートブ
ロック6が備えるカートリッジヒーターが該当する。し
かし、載置部側加熱部はカートリッジヒーターに限ら
ず、他の手段により加熱できるものであっても良い。ま
た、この実施の形態では、ヒートブロック4及び6共に
装置部側加熱部を備えたものを使用したが、装置部側加
熱部を備えていないものであっても良い。
【0035】また、この発明の加圧部には、例えば、こ
の実施の形態のヒートツール10が該当する。この実施
の形態では、ヒートツール10は、半導体チップの外側
部分の反り返しを一度に矯正できるように、半導体チッ
プの表面積よりも大きな物を用いた。しかし、加圧部
は、このような形状に限らず、半導体チップの外側部分
の反り返りを抑えることができるものであればよい。ま
た、ここでは、半導体製造装置100は、ヒートツール
10を1つ備える。しかし、これに限る物ではなく、複
数のヒートツールを備え、一度に複数枚の半導体チップ
の反り返しを矯正できるものであっても良い。さらに、
この発明の加圧部側加熱部には、例えば、ヒートツール
10が内部に備えるカートリッジヒーターが該当する。
しかし、加圧部側加熱部は、カートリッジヒーターに限
る物ではない。また、この実施の形態では、ヒートツー
ル10は加圧部側加熱部を備える場合について説明した
が、必ずしも加圧部側加熱部を備える必要はない。
【0036】尚、この発明の載置工程は、例えば、この
実施の形態のステップS1を実行することにより行われ
る。また、この発明の加圧載置工程は、例えば、この実
施の形態のステップS2及びS3を実行することにより
行われる。また、この発明の加圧後載置工程は、例え
ば、この実施の形態のステップS4を実行することによ
り行われる。さらに、この発明の加圧工程は、この実施
の形態のステップS5を実行することにより行われる。
しかし、必ずしもこれらの方法に限る物ではない。ま
た、この実施の形態では、ステップS1の載置工程の
際、ダイパッド18に、既に接合材が載せられている場
合について説明した。しかし、これに限るものではな
く、載置工程においてリードフレーム16がヒートブロ
ック4に載置された後に、接合材を、ダイパッド18の
上に載せてもよい。また、ゴムリング3が貼られている
部分に、別のヒートブロックを設け、このヒートブロッ
ク上で接合材をダイパッド18の上に載せた後、フレー
ム16を、ゴムリング3により、ヒートブロック4に搬
送する場合なども考えられる。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、半導体チップを最初に接着した後、反り返った状態
を矯正して、半導体チップ全体を半導体チップ搭載用基
板に接着することができる。従って、チップの外側部分
まで、全体に確実な接合を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態で使用される接着用の
半導体製造装置の構成を示す概念図である。
【図2】 半導体製造装置100を用いた半導体チップ
の取り付け方法を示すフロー図である。
【図3】 半導体チップを取り付ける方法を説明するた
めの概念図である。
【図4】 半導体チップを取り付ける方法を説明するた
めの概念図である。
【図5】 半導体チップを取り付ける方法を説明するた
めの概念図である。
【図6】 従来の方法により、半導体チップを、半導体
チップ搭載基板に接着する方法を説明するための図であ
る。
【符号の説明】
100 半導体製造装置、 110 載置装置部、 1
20 加圧装置部、2 回転円盤、 3 ゴムリング、
4 ヒートブロック、 6 ヒートブロック、 8
コレッタ、 10 ヒートツール、 12 半導体ウェ
ーハ、 14半導体チップ、 16 フレーム、 18
ダイパッド、 20 ダイボンディング用の接合剤。
フロントページの続き (72)発明者 和泉 直生 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 山崎 暁 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 5F047 AA11 AA17 BA00 BB18 FA08 FA31 FA52

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップを半導体装置の半導体チッ
    プ搭載基板に取り付ける半導体製造装置であって、 前記半導体チップ搭載基板に前記半導体チップを加圧し
    て載置する載置装置部と、 加圧後の前記半導体チップ全体を加圧する加圧装置部と
    を備え、 前記載置装置部は、 前記半導体チップ搭載基板と前記半導体チップとを載置
    するための載置装置部側載置部と、 前記半導体チップを保持して移動し、前記加圧前載置部
    に加圧して載置する保持部と、を含み、 前記加圧装置部は、 前記載置装置部において前記半導体チップの載置された
    前記半導体チップ搭載基板を載置する加圧装置部側載置
    部と、 前記半導体チップ搭載基板と前記半導体チップとを加圧
    する加圧部と、を含むことを特徴とする半導体製造装
    置。
  2. 【請求項2】 前記載置装置部側載置部及び/または前
    記加圧装置部側載置部は、前記半導体チップ搭載基板と
    前記半導体チップとを加熱するための載置部側加熱部を
    有することを特徴とする請求項1に記載の半導体製造装
    置。
  3. 【請求項3】 前記加圧部の前記半導体チップの表面に
    対向する面は、前記半導体チップの表面より大きいこと
    を特徴とする請求項1または2に記載の半導体製造装
    置。
  4. 【請求項4】 前記加圧部を、複数備えることを特徴と
    する請求項1から3のいずれかに記載の半導体製造装
    置。
  5. 【請求項5】 前記加圧部は、前記半導体チップを加熱
    するための加圧部側加熱部を備えることを特徴とする請
    求項1から4のいずれかに記載の半導体製造装置。
  6. 【請求項6】 半導体チップを半導体チップ搭載基板に
    載置するために用いる半導体装置の載置装置部側載置部
    に、所定の接合剤を載せた前記半導体チップ搭載基板を
    載置する載置工程と、 前記載置工程において載置された前記半導体チップ搭載
    基板に、前記半導体チップを加圧して載置する加圧載置
    工程と、 前記加圧載置工程において加圧された前記半導体チップ
    と前記半導体チップ搭載基板とを載置部に移送して載置
    する加圧後載置工程と、 前記加圧後載置工程において載置された前記半導体チッ
    プの表面全体を加圧する加圧工程と、 を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記加圧工程は、前記半導体チップを加
    熱しながら行うことを特徴とする請求項6に記載の半導
    体装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項6または7に記載の半導体装置の
    製造方法を用いて製造された半導体装置。
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