JP2003168354A - ディスプレイ用部材およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】輝度やコントラストの向上に寄与する隔壁を有
するディスプレイ用部材およびその製造方法を提供す
る。 【解決手段】隔壁の上部が黒色であって、平均粒子径
０．００５〜０．０８μｍのフィラーを含有し、かつ下
部が低融点ガラスを含有するディスプレイ用部材であ
る。また、低融点ガラス、平均粒子径が０．００５〜
０．０８μｍのフィラーを含有する２種類の感光性ペー
ストをフォトリソグラフィ法によって露光、現像し、得
られたパターンを焼成して隔壁を形成するディスプレイ
用部材の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、隔壁（障壁、リ
ブ、スペーサーともいう）を有するディスプレイとその
製造方法に関するものであり、プラズマディスプレイ
（ＰＤＰ）、プラズマアドレス液晶ディスプレイ（ＰＡ
ＬＣ）、電子放出素子（ＦＥＤ）または蛍光表示管（Ｖ
ＦＤ）を用いたディスプレイに適用されるディスプレイ
用部材およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】大きく重いブラウン管に代わる画像表示
装置として、軽い薄型のいわゆるフラットディスプレイ
が注目されている。フラットパネルディスプレイとして
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）が盛んに開発されている
が、これには画像が暗い、動画表示の際に残像が生じ
る、視野角が狭いといった短所がある。一方で、自発光
型の放電ディスプレイであるＰＤＰやＦＥＤ、ＶＦＤ
は、液晶ディスプレイに比べて明るい画像が得られると
ともに、視野角が広い、さらに大画面化、高精細化への
期待が大きいことから、盛んに開発が進められている。

【０００３】ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基
板との間に設けられた隔壁で仕切られた放電空間でアノ
ード電極およびカソード電極間にプラズマ放電を生じさ
せ、この空間内に封入されているガスから発生する紫外
線を放電空間内に塗布された蛍光体に当てることによっ
て行う。

【０００４】ＰＡＬＣは、ＴＦＴ−ＬＣＤの薄膜トラン
ジスタアレイ部分をプラズマチャンネルに置き換えたも
ので、プラズマ部分以外は基本的にＴＦＴ−ＬＣＤと同
じ構造である。また、プラズマ発生部分については、Ｐ
ＤＰの技術が適用されている。

【０００５】プラズマ発生部分は、高さ２００μｍ程
度、ピッチ５００μｍ程度の隔壁で区切られている。つ
まり上記のディスプレイは、いずれも隔壁を必要とす
る。以下、これら各種ディスプレイを代表してＰＤＰに
ついて記述する。

【０００６】ＰＤＰにおける隔壁は、従来、絶縁ガラス
ペーストをスクリーン印刷法でパターン状に印刷すると
いう工程を繰り返して所定の高さにした後、焼成して形
成していた。しかしながら通常のスクリーン印刷法で
は、特にパネルサイズが大型化した場合に、予め基板上
に形成されている放電電極と絶縁ガラスペーストとの位
置合わせが難しく、位置精度が得られないという欠点が
ある。しかも、所定の隔壁高さを得るため多数回の重ね
合わせ印刷を行うことによって、隔壁及びその側面のエ
ッジ部の波打ちや裾の乱れが生じ、高さ精度が得られな
いために表示品質が悪くなり、また、作業性が悪く歩留
まりが低いなどの問題がある。特にＰＤＰの高精細化、
大画面化に伴って、このようなスクリーン印刷法による
方法では、高アスペクト比で高精細の隔壁の製造が技術
的に困難となり、また、コスト的にも不利になってきて
いる。

【０００７】このような問題を改良する方法として、特
開平６−２９５６７６号公報などで、感光性ペーストを
用いてフォトリソグラフィ法で隔壁を製造する方法が提
案されている。しかし、ここに開示された技術では、感
光性ペーストの光感度や解像度が低く、高アスペクト比
で高精細の隔壁が得られないため、例えば、２００μｍ
の隔壁パターンを製造する場合、塗布、乾燥、露光、現
像の一連の工程を複数回行う必要があった。

【０００８】特開平８−５０８１１号公報では、隔壁を
一回の露光で形成する方法が開示されている。しかし、
この方法では、ピッチが２００μｍ以下、隔壁の線幅が
５０μｍ以下の高精細隔壁パターンを作製する際に、線
幅が太り、現像残膜が発生し、パターン形成性が悪いと
いう問題があった。また、焼成時に有機成分が消失しが
たく、隔壁パターンに断線や剥がれ、着色が生じるとい
う問題があった。

【０００９】一方、ＰＤＰの蛍光体層からの発光効率を
向上するために隔壁の反射率を高くしたいという要求が
ある。すなわち、隔壁の透過率が高いと、隔壁側面や隔
壁間の底面に塗布されている蛍光体層から発光される表
示光の反射が不足し、輝度の高いディスプレイが得られ
ない。これに対して、特開２０００−２９００４０号公
報では、平均粒子径が０．００５〜０．０８μｍの白色
フィラーを含む感光性ペーストを用いることによって、
高い反射率を示す隔壁を製造する方法が開示されてい
る。隔壁は蛍光体層から発せられる表示光を反射して輝
度を向上させるという役割以外に、表示品位においては
コントラストを高めることにも寄与しなければならな
い。これに対し、輝度とコントラストの向上をねらって
隔壁の上層を黒色にし、下層を白色にする構成が提案さ
れている。しかし、上記の方法では、隔壁上層の黒色層
が比較的厚い層となり輝度が低下するため、その優位性
にも関わらず、白色の単色での隔壁が主流である。さら
に、背面板と前面板を封着する際に密着性を良くして、
クロストークを防ぐために隔壁頂部が平滑であることが
要求されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこの従来技術
の問題点を解決するもので、輝度とコントラストの向上
を図り、頂部が平滑な隔壁を有するディスプレイ用部材
およびその製造方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、以下の構成を有する。すなわち、基板上
に隔壁を有するディスプレイ用部材において、隔壁の上
部が黒色であって、平均粒子径０．００５〜０．０８μ
ｍのフィラーＡを含有し、かつ下部が低融点ガラスＢを
含有することを特徴とするディスプレイ用部材である。

【００１２】また、低融点ガラスＢおよび平均粒子径が
０．００５〜０．０８μｍのフィラーＢと感光性有機成
分を含有する感光性ペーストＢを乾燥後の厚みが１５０
〜２２０μｍとなるように塗布・乾燥した後、さらに低
融点ガラスＡおよび平均粒子径が０．００５〜０．０８
μｍのフィラーＡと感光性有機成分を含有する感光性ペ
ーストＡを乾燥後の厚みが５〜５０μｍとなるように塗
布・乾燥し、フォトリソグラフィ法によって一括して露
光、現像し、得られたパターンを焼成して隔壁を形成す
ることを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法であ
る。

【００１３】また、低融点ガラスＢおよび平均粒子径が
０．００５〜０．０８μｍのフィラーＢと感光性有機成
分を含有する感光性ペーストＢを乾燥後の厚みが１５０
〜２２０μｍとなるように塗布・乾燥した後、フォトリ
ソグラフィー法によって露光し、さらに低融点ガラスＡ
および平均粒子径が０．００５〜０．０８μｍのフィラ
ーＡと感光性有機成分を含有する感光性ペーストＡを乾
燥後の厚みが５〜５０μｍとなるように塗布・乾燥し、
フォトリソグラフィ法によって再び露光した後に一括し
て現像し、得られたパターンを焼成して隔壁を形成する
ことを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法であ
る。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明をプラズマディスプレイ用
部材を例として説明するが、本発明は、プラズマアドレ
ス液晶ディスプレイならびに電子放出素子または蛍光表
示管を用いたディスプレイの部材およびその製造方法と
して好ましく適用できる。

【００１５】本発明のディスプレイ用部材は、隔壁の上
部が黒色であって、平均粒子径０．００５〜０．０８μ
ｍのフィラーＡを含有し、かつ隔壁下部が低融点ガラス
Ｂを含有する。このようなフィラーＡは、粒子径が微小
であるため熱膨張が小さいので、隔壁上部と隔壁下部を
同時に焼成した場合に、断線や亀裂等の欠陥を防ぐこと
ができる。また、焼結性に優れるので隔壁が強固にな
り、後工程での欠陥を防ぐことができる。なお、本発明
では形成された隔壁において、基板に近い方を下部、基
板から遠い方を上部とする。また、本発明は２層、３層
などの複数層からなる隔壁にも適用できるものであるこ
とは勿論、それ自体１層で形成される隔壁にも適用でき
るものである。

【００１６】本発明におけるフィラーＡの粒子径は、
０．００５〜０．０８μｍの範囲内であることが必要で
ある。より好ましくは０．００５〜０．０５μｍ、さら
に好ましくは０．００５〜０．０３μｍである。上記上
限値を越えると、フィラーＡと低融点ガラスとの熱膨張
差が大きくなり、焼成時に欠陥が発生しやすくなる。
０．００５μｍ未満では焼成後の隔壁下部との密着力が
弱くなるためである。

【００１７】また、本発明においては、フィラーＡが、
酸化クロム、酸化コバルト、酸化銅、酸化マンガン、酸
化ニッケル、酸化ルテニウムおよび酸化鉄からなる群か
ら選ばれた少なくとも１種を含むことが望ましい。この
ようなフィラーＡは、粒子径が微小であるため少量のフ
ィラーで効率良く隔壁上部の黒色化を達成できるので、
隔壁上部の厚みを従来より薄くして表面反射を低く抑え
ることができる。ここで、焼成後の隔壁上部の厚みは、
３〜２０μｍであることが好ましい。３μｍ未満では、
十分な黒色度を得ることができず、２０μｍを越えると
輝度が低下する。

【００１８】本発明のＰＤＰ用部材の隔壁は、隔壁の下
部に低融点ガラスＢを含有する。低融点ガラスを用いる
ことにより、焼成によって強固な隔壁を形成することが
できるためである。低融点ガラスＢは、ガラス転移点４
００〜５５０℃、荷重軟化点４５０〜６００℃であるこ
とが好ましい。荷重軟化点を４５０℃以上とすること
で、ディスプレイ形成の後工程において隔壁が変形しに
くく、荷重軟化点を６００℃以下とすることで、焼成時
に溶融しより強度の高い隔壁を得ることができる。隔壁
下部の形成材料に対する含有量としては、７０〜１００
重量％が好ましい。７０重量％未満では隔壁の強度が低
下する場合がある。

【００１９】また、低融点ガラスＢの平均屈折率は、後
述する感光性ペーストにおける感光性有機成分の平均屈
折率との整合をとり、露光光の散乱を抑えるために、
１．５〜１．６５の範囲内とすることが好ましい。この
ような特性を満たす低融点ガラスＢは、酸化物換算表記
で以下のような組成であることが好ましい。 酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウム ３〜１５重量部 酸化ケイ素 ５〜３０重量部 酸化ホウ素 ２０〜４５重量部 酸化バリウムまたは酸化ストロンチウム ２〜１５重量部 酸化アルミニウム １０〜２５重量部 酸化マグネシウムまたは酸化カルシウム ２〜１５重量部 アルカリ金属酸化物は、ガラスの荷重軟化点、熱膨張係
数のコントロールを容易にするのみならず、ガラスの屈
折率を低くすることができるため、感光性有機成分との
屈折率差を小さくすることが容易になる。アルカリ金属
酸化物の合計量が３重量部以上とすることでガラスの低
融点化の効果を得ることができ、１５重量部以下とする
ことでガラスの化学的安定性を維持すると共に熱膨張係
数を小さく抑えることができる。アルカリ金属として
は、酸化リチウム、酸化ナトリウムまたは酸化カリウム
のうち少なくとも１種を用い、その合計量が好ましくは
３〜１５重量部、さらに好ましくは３〜１０重量部であ
るのがよい。ガラスの屈折率を下げることやイオンのマ
イグレーションを防止するためには、酸化リチウムを選
択するのが好ましい。

【００２０】酸化ケイ素の配合量は５〜３０重量部が好
ましく、より好ましくは１０〜３０重量部である。酸化
ケイ素は、ガラスの緻密性、強度や安定性の向上に有効
であり、また、ガラスの低屈折率化にも効果がある。熱
膨張係数をコントロールしてガラス基板とのミスマッチ
による剥離などを防ぐこともできる。５重量部以上とす
ることで、熱膨張係数を小さく抑えガラス基板に焼き付
けた時にクラックを生じにくくなる。また、屈折率を低
く抑えることができる。３０重量部以下とすることで、
ガラス転移点、荷重軟化点をより低く抑え、ガラス基板
への焼き付け温度をより低くすることができる。

【００２１】酸化ホウ素は、鉛などの重金属を含有しな
いガラスにおいて低融点化のために必要な成分であり、
さらに低屈折率化にも有効であり、２０〜４５重量部、
さらには２０〜４０重量部の範囲で配合することが好ま
しい。２０重量部以上とすることで、ガラス転移点、荷
重軟化点を低く抑えガラス基板への焼き付けを容易にす
る。また、４５重量部以上とすることでガラスの化学的
安定性を維持することができる傾向がある。

【００２２】また、酸化バリウムおよび酸化ストロンチ
ウムのうち少なくとも１種を用い、その合計量が２〜１
５重量部、さらには２〜１０重量部であることが好まし
い。これらの成分は、ガラスの低融点化、熱膨張係数の
調整に有効であり、焼き付け温度の基板の耐熱性への適
用、電気絶縁性、形成される隔壁の安定性や緻密性の点
でも好ましい。２重量部以上とすることで低融点化の効
果を得ることができたり、結晶化による失透を防いだり
することができる傾向がある。また、１５重量部以下と
することにより、熱膨張係数を小さく抑え、屈折率も小
さく抑えやすくなることがある。またガラスの化学的安
定性もより維持できる。

【００２３】また、酸化アルミニウムはガラス化範囲を
広げてガラスを安定化する効果があり、ペーストのポッ
トライフ延長にも有効である。１０〜２５重量部の範囲
で配合することが好ましく、この範囲内とすることでガ
ラス転移点、荷重軟化点を低く保ち、ガラス基板上への
焼き付けをより容易とすることができる。

【００２４】さらに、酸化カルシウムおよび酸化マグネ
シウムは、ガラスを溶融しやすくすると共に熱膨張係数
を制御するために配合されることが好ましい。酸化カル
シウムおよび酸化マグネシウムは合計で２〜１５重量部
配合するのが好ましい。合計量が２重量部以上とするこ
とで結晶化によるガラスの失透を防ぎ、１５重量部以下
とすることでガラスの化学的安定性をより維持すること
ができる。

【００２５】また、上記の組成には表記されていない
が、酸化亜鉛はガラスの熱膨張係数を大きく変化させる
ことなく低融点化させる成分であり、配合されることが
好ましい。多く配合しすぎると屈折率が大きくなる傾向
にあるので、１〜２０重量部の範囲で配合するのが好ま
しい。

【００２６】低融点ガラスＢは、ペースト中に存在する
状態での充填性および分散性が良好で、ペーストを均一
な厚さで塗布するために、平均粒子径が１〜４μｍであ
り、最大粒子径が３５μｍ以下であることが好ましい。
このような粒度分布を有するガラスがペーストへの充填
性および分散性の点で優れているが、低融点ガラスの場
合は焼成工程でその殆どが溶融し一体化されるので、か
なり大きな粒子径の粉末も許容される。この範囲であれ
ば、充填性および分散性を満足させて、塗布性が優れた
ペーストを構成することができる。

【００２７】さらに、隔壁頂部を平滑にし、隔壁を強固
にするため、隔壁上部が低融点ガラスＡを含むことが好
ましい。低融点ガラスＡは、焼成による欠陥や残留応力
の発生を防ぐために、熱膨張係数やガラス転移点、加重
軟化点等の物性値が低融点ガラスＢと極力近いことが望
ましい。低融点ガラスＡを含有する場合は、低融点ガラ
スＡとフィラーＡが重量比で８０／２０〜９５／５の割
合で構成されることが好ましい。また、後述する感光性
ペーストにおける感光性有機成分の平均屈折率との整合
をとり、露光光の散乱を抑えるために、１．５〜１．６
５の範囲内とすることが好ましく、さらに低融点ガラス
Ｂと同じであることが好ましい。

【００２８】また、焼成による欠陥の発生を防ぎなが
ら、ディスプレイの輝度を向上させるディスプレイ用部
材とするために、隔壁下部に含まれるフィラーＢの平均
粒子径が０．００５〜０．０８μｍであることが好まし
く、より好ましくは０．００５〜０．０５μｍ、さらに
好ましくは０．００５〜０．０３μｍである。フィラー
Ｂの平均粒子経が０．０８μｍより大きいと、フィラー
Ｂと低融点ガラスとの熱膨張差が顕著になり、焼成時に
欠陥が発生しやすい。また、０．００５μｍ未満では、
焼成後の隔壁下部との密着力が弱くなる傾向がある。こ
のようなフィラーＢは、実際には焼成後の隔壁中で凝集
して粒子径０．３〜２μｍの凝集粒子を構成しており、
凝集粒子が隔壁の白色度を向上させ、蛍光体層からの発
光の効率を向上することができる。凝集粒子としてより
好ましいサイズは粒子径で０．５〜１．０μｍである。
ここでいう凝集粒子の粒子径とは、電子顕微鏡等による
凝集粒の観察写真を画像処理し、凝集粒子の見かけの面
積と同面積の円に換算した際の直径をいう。

【００２９】このようなフィラーＢとしては、ディスプ
レイの輝度を向上させるため、焼成後の隔壁下部を白色
化する目的で、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジ
ルコニウム、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化ケ
イ素、および酸化錫の群から選ばれた少なくとも１種の
酸化物を含有することが好ましい。これらの酸化物を用
いることにより、焼成により凝集した際に、高い白色度
を呈することができるためである。特に、酸化チタンを
少なくとも３０重量％以上含有する酸化チタン系粒子が
好ましく、酸化チタンに、酸化ケイ素、酸化錫、酸化ア
ルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムなど複合
化することが、ペースト中における酸化チタン系粒子の
過度の凝集を回避するのに効果がある場合があり、好ま
しい。

【００３０】隔壁下部の形成材料に対するフィラーＢの
含有量としては、３〜２０重量％、さらには１０〜２０
重量％が好ましい。３重量％未満では、添加による白色
化の効果を得られず、また、２０重量％以上では隔壁内
に気孔が多く存在して隔壁の強度が低下することがあ
る。

【００３１】本発明のディスプレイ用部材の隔壁下部に
は、平均粒子径が１．５〜５μｍのフィラーＣを含有し
ても良い。このフィラーＣを含むことにより、焼成後の
隔壁の強度を保持し、焼成収縮率を抑制し、形状保持性
を高める効果がある。さらに隔壁の誘電率を下げるのに
効果がある。平均粒子径を１．５μｍ以上とすることで
隔壁の強度向上や形状保持性の効果を得ることができ
る。また、フィラー成分は焼成工程で溶融することがな
いので、５μｍより大きすぎると、形成された隔壁の頂
部の凹凸が大きくなりクロストークの原因となるなどの
問題を生じる傾向にある。隔壁下部の形成材料に対する
フィラーＣの含有量としては、２０重量％未満が好まし
い。それ以上では、隔壁の強度が低下する傾向があり、
好ましくない。

【００３２】また、フィラーＣは、後述する感光性ペー
ストにおける感光性有機成分の平均屈折率との整合をと
り、露光光の散乱を抑えるために、屈折率が１．５〜
１．６５の範囲内にあることが好ましい。このフィラー
の平均屈折率を上記の範囲内とするために組成を調整し
た高融点ガラス、コーディエライト（２ＭｇＯ・２Ａｌ
₂Ｏ₃・５ＳｉＯ₂）、セルジアン（ＢａＯ・Ａｌ₂Ｏ₃・
ＳｉＯ₂）、アノーサイト（ＣａＯ・Ａｌ₂Ｏ₃・２Ｓｉ
Ｏ₂）、ステアタイト（ＭｇＯ−ＳｉＯ₂）、スポジュウ
メン（ＬｉＯ₂・Ａｌ₂Ｏ₃・４ＳｉＯ₂）およびフォルス
テライト（２ＭｇＯ・ＳｉＯ₂）からなる群より選ばれ
た少なくとも一種を用いることができる。高融点ガラス
としては、ガラス転移点５００〜１２００℃、荷重軟化
点５５０〜１２００℃を有するものが好ましく、このよ
うな高融点ガラスは、酸化ケイ素および酸化アルミニウ
ムをそれぞれ１５重量％以上含有する組成のものが好ま
しく、これらの含有量合計が５０重量％以上であること
が必要な熱特性を得るのに有効である。高融点ガラスの
組成はこれに限定されるものではないが、例えば以下の
ような酸化物換算組成のものを用いることができる。 酸化珪素 １５〜５０重量％ 酸化ホウ素 ５〜２０重量％ 酸化バリウム ２〜１０重量％ 酸化アルミニウム １５〜５０重量％。

【００３３】さらに具体的には、例えば、酸化珪素３８
重量％、酸化ホウ素１０重量％、酸化バリウム５重量
％、酸化アルミニウム３６重量％で、その他の成分とし
て酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウムを少量
ずつ含有するガラス転移点６２５℃、荷重軟化点７５０
℃の高融点ガラスの平均屈折率は１．５９であり、これ
は本発明で好ましく使用される低融点ガラスの平均屈折
率と同等である。

【００３４】次に、本発明のディスプレイ用部材の形成
方法について、プラズマディスプレイ部材について説明
するが、本発明は、プラズマアドレス液晶ディスプレイ
ならびに電子放出素子を用いたディスプレイ用の部材の
形成においても好ましく適用される。

【００３５】基板としては、ソーダガラスや旭硝子社製
“ＰＤ２００”などのＰＤＰ用ガラスが用いられる。基
板上に、導電性金属によりアドレス電極を形成する。導
電性金属としては、銀、銅、クロム、アルミニウム、ニ
ッケル、金などを用いることができる。アドレス電極は
幅２０〜１００μｍのストライプ状に形成される。次い
で電極を被覆するように誘電体層を形成するのが好まし
い。本発明のディスプレイ用部材の製造方法では、誘電
体層もしくは電極が形成された基板上に、 低融点ガラ
スＢおよび平均粒子径が０．００５〜０．０８μｍのフ
ィラーＢと感光性有機成分を含有する感光性ペーストＢ
を乾燥後の厚みが１５０〜２２０μｍとなるように塗布
・乾燥した後、続いて低融点ガラスＡおよび平均粒子径
が０．００５〜０．０８μｍのフィラーＡと感光性有機
成分を含有する感光性ペーストＡを乾燥後の厚みが５〜
５０μｍとなるように塗布して乾燥し、フォトリソグラ
フィ法によって一括して露光、現像し、得られたパター
ンを焼成して隔壁を形成することを特徴とする。

【００３６】また、誘電体もしくは電極が形成された基
板上に、低融点ガラスＢおよび平均粒子径が０．００５
〜０．０８μｍのフィラーＢと感光性有機成分を含有す
る感光性ペーストＢを乾燥後の厚みが１５０〜２２０μ
ｍとなるように塗布・乾燥した後、フォトリソグラフィ
ー法によって露光し、さらに低融点ガラスＡおよび平均
粒子径が０．００５〜０．０８μｍのフィラーＡと感光
性有機成分を含有する感光性ペーストＡを乾燥後の厚み
が５〜５０μｍとなるように塗布・乾燥し、フォトリソ
グラフィ法によって再び露光した後に一括して現像し、
得られたパターンを焼成して隔壁を形成することを特徴
とする。

【００３７】フィラーＡやフィラーＢを用いることによ
り、フォトリソグラフィ法によるパターニングにおいて
は良好な光の透過性を示し、焼成後の隔壁としてはそれ
ぞれ黒色や白色を示すという矛盾的に要求される特性を
両立して得ることができる。

【００３８】つまり、上記のようなフィラーＡおよびＢ
は、露光に用いる紫外線光の波長３５０〜４２０ｎｍよ
りも微細であり、また感光性ペーストおよびその塗布膜
内においては比較的均一に分散されているため、紫外線
光の透過性、すなわちパターニング性に影響を与えるこ
となく露光が可能である。

【００３９】上記のように、フォトリソグラフィ法にお
いて、フィラーＡおよびＢは露光光の透過を阻害しない
よう充分小さいことが重要であり、具体的には平均粒子
径が０．００５〜０．０８μｍであることが好ましく、
より好ましくは０．００５〜０．０５μｍ、さらに好ま
しくは０．００５〜０．０３μｍである。但し過度に小
さいと、感光性ペースト及びその塗布膜内においても凝
集し、露光光の透過を阻害することとなる。従って感光
性ペースト法によって形成される隔壁が含有するフィラ
ーＡおよびＢの平均粒子径は、０．００５μｍ以上とな
る。０．０８μｍを越えると露光光の透過を阻害するた
め所望のパターン形状が得られない。また、低融点ガラ
スＢが７５〜９２重量％、フィラーＢが５〜２０重量
％、フィラーＣが３〜２０重量％を含む感光性ペースト
Ｂを用いて隔壁を形成することも好ましい。

【００４０】感光性有機成分としては、これに限定され
るものではないが、露光光を吸収して重合および／また
は架橋反応などによって光硬化して溶剤に不溶になる型
の感光性有機成分を用いることが好ましい。すなわち、
感光性有機成分は、感光性モノマー、感光性または非感
光性オリゴマーもしくはポリマーを主成分とし、光重合
開始剤を含有するものが好ましく用いられる。感光性有
機成分には、必要に応じて紫外線吸収剤、重合禁止剤、
増感剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、その他
の添加剤を加えることもできる。

【００４１】感光性モノマーとしては、活性な炭素−炭
素二重結合を有する化合物が好ましく、官能基として、
ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート
基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合
物が使用できる。特に多官能アクリレート化合物および
／または多官能メタクリレート化合物を有機成分中に１
０〜８０重量％含有させたものが好ましい。多官能アク
リレート化合物および／または多官能メタクリレート化
合物には多くの種類の化合物が開発されているので、そ
れらから屈折率や反応性を考慮して選択する必要があ
る。

【００４２】感光性有機成分として、光反応で形成され
る硬化部分の物性やペーストの粘度を制御する成分とし
て、オリゴマーもしくはポリマーを加えることができ
る。

【００４３】これらのオリゴマーもしくはポリマーは、
炭素−炭素二重結合を有する化合物から選ばれた成分の
重合または共重合により得られた炭素連鎖の骨格を有す
るものである。特に、側鎖にカルボキシル基と不飽和二
重結合を有する重合平均分子量２０００〜６万、より好
ましくは３０００〜４万のオリゴマーもしくはポリマー
が用いられる。側鎖のカルボキシル基を有するので、露
光後に未露光部分をアルカリ水溶液で現像できる感光性
ペーストを与えることができる。このような側鎖にカル
ボキシル基などの酸基を有するオリゴマーもしくは、ポ
リマーの酸価は５０〜１５０、好ましくは７５〜１２５
の範囲になるように制御するのが良い。

【００４４】感光性オリゴマーもしくはポリマーを得る
ために、不飽和二重結合を導入するには、カルボキシル
基を有するオリゴマーもしくはポリマーに、グリシジル
基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物
やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまた
はアリルハライドを付加させると良い。

【００４５】さらに、上記のようにカルボキシル基を側
鎖に有するオリゴマーもしくはポリマーに不飽和二重結
合を導入して感光性を付与するには、カルボキシル基と
アミン系化合物との間で塩結合を形成させる方法を用い
ることもできる。例えば、ジアルキルアミノアクリレー
トやジアルキルアミノメタクリレートを反応させて塩結
合を形成してアクリレートまたはメタクリレート基を感
光性基とすることができる。エチレン性不飽和基数は、
反応条件により適宜選択できる。

【００４６】感光性モノマー、オリゴマーもしくはポリ
マーはいずれも露光光のエネルギー吸収能力が無いの
で、光反応を開始するためには、光重合開始剤が必要成
分であり、場合によっては光重合開始剤の効果を補助す
るために増感剤を加えることができる。光重合開始剤
は、１分子系直接開裂型、水素引き抜き型、２分子複合
系など機構が異なる種類から選択して用いられる。

【００４７】感光性ペーストの感光性有機成分と、低融
点ガラスやフィラーで構成される無機微粒子の配合比率
としては、６０／４０〜８５／１５（重量部）が好まし
い、さらに、６５／３５〜８０／２０（重量部）である
ことが焼成による収縮率の点から好ましい。

【００４８】感光性ペーストは、通常、低融点ガラスや
フィラーで構成される無機微粒子と感光性モノマー、感
光性または非感光性オリゴマーもしくはポリマー、光重
合開始剤を基本成分とし、必要に応じて紫外線吸収剤、
酸化防止剤、有機染料、分散剤、吸光剤、および溶媒な
どから構成される感光性有機成分を所定の組成となるよ
うに調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散
し作製する。

【００４９】感光性ペーストの粘度は、有機溶媒により
その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）
程度に調整して使用される。例えば、基板への塗布をス
ピンコート法で行う場合は、２０００〜５０００ｃｐｓ
が好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚１０
〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好まし
い。ブレードコーター法やダイコーター法などを用いる
場合は、１万〜５万ｃｐｓが好ましい。この時使用され
る有機溶媒としては、プロピレングリコール、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセ
ロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタ
ノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコー
ル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ
-ブチロラクトンなどやこれらのうちの1種以上を含有す
る有機溶媒混合物が挙げられる。

【００５０】感光性ペーストの塗布は、スクリーン印刷
法、バーコーター法、ロールコーター法、ドクターブレ
ード法、スリットダイコーター法などの一般的な方法で
行うことができる。塗布膜厚さは、所望の隔壁の高さと
ペーストの焼成による収縮率を考慮して決めることがで
きる。ガラス基板または誘電体層の上に、感光性ペース
トＢを乾燥後の厚みが１５０〜２２０μｍとなるように
塗布・乾燥した後、続いて感光性ペーストＡを乾燥後の
厚みが３〜５０μｍとなるように塗布して乾燥する。

【００５１】この感光性塗布膜に露光装置を用いて同時
に一括して露光を行う。露光の際、ペースト塗布膜面と
フォトマスクを密着して行う方法や、一定の間隔を開け
て行うプロキシミティ露光のいずれを用いても良い。ま
た、大面積の露光を行う場合は、基板上に感光性ペース
トを塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによっ
て、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光する
ことができる。露光用の光源としては、水銀灯やハロゲ
ンランプが適当であるが、超高圧水銀灯が一般的に使用
される。露光条件はペースト塗布膜の厚さによって異な
るが、通常５〜５０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯
を用いて２０〜６００秒間の露光を行う。

【００５２】露光後、露光部分と未露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して現像を行うが、この場合、浸
漬法やスプレー法、ブラシ法で行う。現像処理に用いる
現像液は、水を主成分とすることが好ましい。現像液に
は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機
溶媒を用いることができる。また、有機溶媒にその溶解
力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペー
スト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存
在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水
溶液としては水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸
化カルシウム水溶液などが使用できるが、有機アルカリ
水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやす
いので好ましい。

【００５３】有機アルカリとしては、一般的なアミン化
合物を用いることができる。具体的には、テトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアン
モニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミンなどが挙げられる。

【００５４】アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜５
重量％、より好ましくは０．１〜１重量％である。アル
カリ濃度が低すぎれば可溶部が除去されず、アルカリ濃
度が高すぎれば、パターン部を剥離させ、また非可溶部
を腐食させるおそれがあり良くない。また、現像時の現
像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好まし
い。

【００５５】次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や
温度は、ペーストや基板の種類によって異なるが、空気
中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成する。焼成炉とし
ては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用
いることができる。バッチ式の焼成を行うには、室温か
ら５００度程度まで数時間かけて昇温した後、５２０〜
８００℃まで２０〜１２０分間で昇温させて、１０〜４
０分間保持して焼成を行う。ガラス基板上に隔壁パター
ンを形成する場合は、ガラス基板のガラス転移点よりも
低い温度で焼成する必要がある。

【００５６】このようにして得られた隔壁に挟まれたセ
ル内に、赤、緑、青に発光する蛍光体ペーストを塗布し
てプラズマディスプレイ用の背面板が構成される。この
背面板と前面板とを張り合わせた後、封着、ガス封入し
てプラズマディスプレイが作製される。これらの技術は
プラズマアドレス液晶ディスプレイおよび電子放出素子
または蛍光表示管を用いたディスプレイにおいても好ま
しく適用される。

【００５７】

【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されない。なお実施例
中に記載された測定法の具体的な手法は以下に示すとお
りである。

【００５８】（測定方法） （１）粒度分布の測定 低融点ガラスやフィラーの粒度分布・平均粒子径は、平
均粒子径が５μｍを越える場合はレーザー回折散乱法を
利用した粒度分布計（マイクロトラックＨＲＡＭＯＤＥ
Ｌ Ｎｏ．９３２０−Ｘ１００）を用いて測定した。ま
た、平均粒子径が５μｍ以下の場合は、レーザードップ
ラー法を利用した粒度分布計（マイクロトラックＵＰＡ
ＭＯＤＥＬ Ｎｏ．９３４０）を用いて以下の条件で
測定した。 ・ＭＯＤＥＬ Ｎｏ．９３２０−Ｘ１００の測定条件 試料量：１ｇ 分散条件：精製水中で１分間超音波分散 粒子屈折率：無機粉末の種類によって変更した（リチウ
ム系ガラスでは１．６、ビスマス系ガラスでは１．８８
を使用した）。 溶媒の屈折率：１．３３ 測定回数：３回 ・ＭＯＤＥＬ Ｎｏ．９３４０の測定条件 試料量：３ｇ 測定時間：３００秒 溶媒の屈折率：１．４５ （２）輝度および明室コントラストの測定 ディスプレイの輝度および明室コントラストは、分光放
射輝度計ＣＳ−１０００（ミノルタ（株）製）を用いて
測定した。測定視野は２０ｍｍφとし、ディスプレイ上
の異なる５点の白色輝度を測定し、その平均値を算出し
た。前面板の維持放電電圧は１８０Ｖ、周波数は３０ｋ
Ｈｚで一定とした。

【００５９】（３）凝集粒子の粒子径の測定 イオンエッチング法で処理した試料を、透過型電子顕微
鏡（ＴＥＭ）を用いて２万倍に拡大して撮影し、その写
真の画像処理から凝集粒子を球（画像上は円）に近似
し、その直径を算出した。５０個の凝集粒子について観
察・画像処理を行い、それらの平均値を凝集粒子の粒子
径とした。

【００６０】（４）隔壁におけるフィラーの平均粒子径
の測定 上記（３）と同様にＴＥＭを用いて対応箇所を５０万倍
に拡大して撮影し、その写真の画像処理から平均粒子径
を算出した。

【００６１】（５）軟化点の測定 ここでいう軟化点とは、荷重軟化点を意味する。粒度を
調整したガラス粉末約５０ｍｇを白金セルに入れ、示差
熱分析装置（ＤＴＡ）を用いて、アルミナ粉末を標準試
料として、室温から２０Ｋ／ｍｉｎで昇温して得られた
ＤＴＡ曲線において、最初の吸熱ピークの温度を軟化点
とした。

【００６２】（６）気孔率の測定 連続自動粉体真密度測定器（（株）セイシン企業製、オ
ートトゥルーデンサーＭＡＴ−７０００）を用いて測定
した。気孔率Ｐ（％）は、焼成膜を粉砕した微粉末での
値を真密度ｄｔｈ、焼成膜の形態での値を嵩密度ｄｅｘ
とした時、Ｐ＝｛１−（ｄｅｘ／ｄｔｈ）｝×１００と
定義される。

【００６３】真密度は、塗布・焼成膜を乳鉢で指頭に感
じない程度の３２５メッシュ以下くらいまで粉砕して測
定する。一方、嵩密度は、塗布・焼成膜の一部を形状を
崩さないように削りとり、粉砕を行わないこと以外は真
密度の場合と同様にして計測した。

【００６４】（７）屈折率の測定方法 ガラス粉末を溶融して作製したブロックを用いて、Ｖブ
ロック法でｇ線（４３６ｎｍ）の屈折率を測定した。測
定には、ＫＰＲ−２００（カルニュー光学工業（株）
製）および石英製ブロックプリズムを用いた。

【００６５】ａ．低融点ガラスＡＩ 酸化物換算組成：酸化リチウム９重量％、酸化ケイ素２
０重量％、酸化ホウ素３２重量％、酸化バリウム４重量
％、酸化アルミニウム２２重量％、酸化マグネシウム６
重量％、酸化カルシウム５重量％、酸化亜鉛２重量％ 特性：ガラス転移点４７３℃、荷重軟化点５１３℃、熱
膨張係数８４×１０^-7／Ｋ、屈折率１．５７、平均粒子
径２．３μｍ、トップサイズ２５μｍ、誘電率８．１。

【００６６】ｂ．低融点ガラスＡII 酸化物換算組成：酸化リチウム７重量％、酸化ケイ素２
３重量％、酸化ホウ素３１重量％、酸化バリウム４重量
％、酸化アルミニウム１９重量％、酸化亜鉛３重量％、
酸化マグネシウム７重量％、酸化カルシウム６％ 特性：ガラス転移点４９７℃、荷重軟化点５３０℃、熱
膨張係数７５×１０^-7／Ｋ、屈折率１．５９、平均粒子
径２．６μｍ、トップサイズ２４μｍ、誘電率７．５。

【００６７】ｃ．低融点ガラスＡIII 酸化物換算組成：酸化リチウム８重量％、酸化ケイ素２
５重量％、酸化ホウ素２８重量％、酸化バリウム４重量
％、酸化アルミニウム２２重量％、酸化マグネシウム６
重量％、酸化カルシウム３重量％、酸化亜鉛４重量％ 特性：ガラス転移点４８０℃、荷重軟化点５２５℃、熱
膨張係数７２×１０^-7／Ｋ、屈折率１．５８、平均粒子
径２．４μｍ、トップサイズ２２μｍ、誘電率７．３。

【００６８】ｄ．低融点ガラスＢＩ 酸化物換算組成：酸化リチウム３重量％、酸化ケイ素２
５重量％、酸化ホウ素２８重量％、酸化バリウム４重量
％、酸化アルミニウム２４重量％、酸化マグネシウム６
重量％、酸化カルシウム５重量％、酸化亜鉛４重量％ 特性：ガラス転移点４７４℃、荷重軟化点５１５℃、熱
膨張係数７２×１０^-7／Ｋ、屈折率１．５８、平均粒子
径２．４μｍ、トップサイズ２２μｍ、誘電率７．３。

【００６９】ｅ．低融点ガラスＢII 酸化物換算組成：酸化リチウム７重量％、酸化ケイ素２
５重量％、酸化ホウ素２８重量％、酸化バリウム４重量
％、酸化アルミニウム２２重量％、酸化マグネシウム６
重量％、酸化カルシウム４重量％、酸化亜鉛４重量％ 特性：ガラス転移点４９０℃、荷重軟化点５２５℃、熱
膨張係数７２×１０^-7／Ｋ、屈折率１．５８、平均粒子
径２．４μｍ、トップサイズ２２μｍ、誘電率７．３。

【００７０】ｆ．フィラーＡＩ フィラーの組成：ＭｎＯ₂／ＣｏＯ＝１／１ 平均粒子径：０．００８μｍ ｇ．フィラーＡII フィラーの組成：Ｃｒ−Ｍｎ−Ｃｕ系酸化物 濃度：２０重量％ 分散媒：プロピレングリコール１００重量％ 平均粒子径：０．００５μｍ ｈ．フィラーＡIII フィラーの組成：ＣｏＯ／ＮｉＯ＝３／１ 濃度：２０重量％ 分散媒：プロピレングリコール４０重量％、γ−ブチロ
ラクトン４０重量％ 平均粒子径：０．０２μｍ ｉ．フィラーＡIV フィラーの組成：Ｃｒ₂Ｏ₃ 濃度：３０重量％ 分散媒：Ｎ−メチルピロリドン７０重量％ 平均粒子径：０．０８μｍ ｊ．フィラーＡＶ フィラーの組成：ＣｏＯ／Ｆｅ₂Ｏ₃／Ｃｒ₂Ｏ₃＝３／４
／３ 濃度：１５重量％ 分散媒：γ−ブチロラクトン８５重量％ 平均粒子径：０．０３μｍ ｋ．フィラーＡVI フィラーの組成：ＣｏＯ／Ｃｒ₂Ｏ₃／ＭｎＯ₂／Ｆｅ₂Ｏ
₃＝２０／３０／２５／ ２５ 濃度：２５重量％ 分散媒：ベンジルアルコール５０重量％、３−メチル−
３メトキシ−１−ブタノール２５重量％ 平均粒子径：０．０５μｍ ｌ．フィラーＡVII フィラーの組成：Ｆｅ₂Ｏ₃ 平均粒子径：０．００７μｍ ｍ．フィラーＡVIII フィラーの組成：ＲｕＯ₂ 平均粒子径：０．０７μｍ ｎ．フィラーIX フィラーの組成：ＭｎＯ₂ 平均粒子径：０．０１μｍ ｏ．フィラーＢＩ フィラーの酸化物換算組成：酸化チタン４２重量％、酸
化錫３７重量％、酸化ケイ素２ １重量％ 濃度：２０重量％ 分散媒：テルピネオール８０重量％ 平均粒子径：０．００５μｍ ｐ．フィラーＢII フィラーの組成：酸化チタン１００重量％ 濃度：２０重量％ 分散媒：プロピレングリコール４０重量％、γ−ブチロ
ラクトン４０重量％ 平均粒子径：０．００７μｍ ｑ. フィラーＢIII フィラーの酸化物換算組成：酸化チタン９０重量％、酸
化ケイ素１０重量％ 濃度：２０重量％ 分散媒：γ−ブチロラクトン 平均粒子径：０．０１μｍ ｒ. フィラーＢIV フィラーの組成：酸化チタン１００重量％ 濃度：２０重量％ 分散媒：ベンジルアルコール４０重量％、γ−ブチロラ
クトン４０重量％ 平均粒子径：０．０８μｍ ｓ．フィラーＢVI フィラーの組成：酸化ジルコニウム１００重量％ 濃度：１５重量％ 分散媒：３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノール８
５重量％ 平均粒子径：０．０３μｍ ｔ．フィラーＢＶ フィラーの組成：酸化ケイ素１００重量％ 濃度：１８重量％ 分散媒：γ−ブチロラクトン７０重量％、プロピレング
リコール１２重量％ 平均粒子径：０．０２５μｍ ｕ．フィラーＢVI フィラーの組成：酸化アルミニウム１００重量％ 濃度：１５重量％ 分散媒：ジプロピレングリコールモノメチルエーテル８
５重量％ 平均粒子径：０．０４μｍ ｖ．フィラーＣＩ 酸化物換算組成：酸化ケイ素３８重量％、酸化ホウ素重
量９％、酸化バリウム５重量％、酸化アルミニウム３５
重量％、酸化亜鉛３重量％、酸化マグネシウム５重量
％、酸化カルシウム５重量％ 特性：ガラス転移点６５２℃、荷重軟化点８００℃、屈
折率１．５８、平均粒子径２．７μｍ ｗ．フィラーＣII（住友化学製） アルミナ 平均粒子経２．８μｍ ｘ．ポリマーI メタクリル酸とメチルメタクリレートとの共重合体に
３，４−エポキシシクロヘキシルメタクリレートを付加
反応させたポリマー：重量平均分子量２５，０００、酸
価１２０ ｙ．ポリマーII スチレン／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合
体（重量組成比３０／３０／４０）１００重量部に対し
てグリシジルメタクリレートを４０重量部付加させたポ
リマー：重量平均分子量３５，０００、酸価１００ ｚ．ポリマーIII メタクリル酸とメチルメタクリレートとの共重合体：重
量平均分子量３０，０００ ａａ．モノマーI （ＲＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ₂）₂Ｎ−ＣＨ（ＣＨ₃）ＣＨ
₂（ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃））_5.6−Ｎ（ＣＨ₂ＣＨ（Ｏ
Ｈ）ＣＨ₂Ｒ）₂ （ただし、Ｒ＝−ＯＣＯＣ（ＣＨ₃）＝
ＣＨ₃） ａｂ．モノマーII ビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロ
ピル）ｎ−プロピルアミン ａｃ．モノマーIII ビス（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロ
ピル）イソプロピルアミン ａｄ．モノマーIV ＵＮ−３３０（根上工業（株））（分子量４９００） ａｅ．モノマーＶ ＵＦ−８０３ＴＮ（共栄社化学（株））（分子量８２０
０）。

【００７１】（実施例１） （感光性ペーストの調製）感光性ペーストＡに含まれる
各成分の量（重量部）は、フィラーＡＩが５０、感光性
ポリマーが１５、感光性モノマーが７、光重合開始剤が
３．５、増感剤１．５、溶媒が１７とした。感光性ポリ
マーは、ポリマーＩを用いた。室温のポリマーＩに、感
光性モノマーとしてモノマーＩとモノマーIV（モノマー
Ｉ／モノマーIV＝５０／５０）、光重合開始剤(ＩＣ−
３６９）および増感剤(２，４−ジエチルチオキサント
ン）を加えた後に、超音波攪拌器で３０分間ほど攪拌し
て均一な液の状態となるように溶解させた。その後、こ
の溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、
有機ビヒクルを作製した。この有機ビヒクルに、フィラ
ーＡＩをスパチュラーで混ぜ、３本ローラで混合・分散
して感光性ペーストＡを得た。感光性ペーストＢに含ま
れる各成分の量（重量部）は、低融点ガラスＢＩが５
０、感光性ポリマーが１５、感光性モノマーが７、光重
合開始剤が３．５、増感剤１．５、溶媒が５とした。上
述の有機ビヒクルに低融点ガラスＢＩをスパチュラーで
混ぜ、三本ローラで混合・分散して感光性ペーストＢを
得た。

【００７２】（ディスプレイ用部材の作製）１２５ｍｍ
角ガラス基板（旭硝子（株）製ＰＤ２００）上に、平均
粒子径が１．５μｍの球状銀粉末及び感光性有機成分を
含む感光性銀ペーストを用いて、フォトリソグラフィ法
によりピッチ１５０μｍ、線幅１５μｍのストライプ上
パターンを形成した。次に、空気中５８０℃、３５分間
焼成し、銀含有量９７．５％、ガラスフリット量２．５
％の電極層を形成した。この電極層の厚みは、３．８μ
ｍであった。

【００７３】次に、エチルセルロース５％のテルピネオ
ール溶液２４ｇ、平均粒子径０．２４μｍのルチル型酸
化チタン５ｇ、ガラス粉末（酸化物表記：酸化ビスマス
６７％、酸化ケイ素１０％、酸化ホウ素１２％、酸化ア
ルミニウム３％、酸化亜鉛３％、酸化ジルコニウム５
％）１４０ｇを混合した後、三本ローラーで混練して誘
電体ペーストを得た。この誘電体ペーストを、電極層を
形成したガラス基板上にスクリーン印刷法でメッシュ３
２５のスクリーンを用いて乾燥後の厚みが２３μｍにな
るように塗布した。続いて５７０℃で３０分間焼成して
厚み１３μｍの誘電体層を形成した。

【００７４】次に、本実施例の感光性ペーストＢを、上
記の誘電体層が形成されたガラス基板上に、スクリーン
印刷法でメッシュ３２５のスクリーンを用いて塗布、乾
燥した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するため
に塗布・乾燥を数回繰り返し行い、膜厚２１８μｍを得
た。続いてこの上に、感光性ペーストＡをスクリーン印
刷法でメッシュ３２５のスクリーンを用いて塗布、乾燥
し、膜厚７μｍとした。途中の乾燥は８０℃で５分行
い、最後に８０℃で９０分乾燥した。

【００７５】次いで、１５０μｍピッチ、線幅２０μｍ
のネガ用のクロムマスクを用いて、上面から２０ｍＷ／
ｃｍ²出力の超高圧水銀灯で露光量５００Ｊ／ｃｍ²のプ
ロキシミティ露光を施した。この時、フォトマスクの汚
染を防ぐため、マスクと塗膜面との間に１００μｍのギ
ャップを設けた。その後、３５℃に保持したモノエタノ
ールアミンの０．３重量％水溶液をシャワーで１８０秒
間かけることにより現像し、さらにシャワースプレーで
水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してガ
ラス基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。
このようにして得られた隔壁パターンを空気中、５７０
℃で３０分間焼成して隔壁を形成した。得られた隔壁の
断面を電子顕微鏡で観察し、形状が矩形または台形であ
ることを確認した。また、焼成後の隔壁上部のフィラー
ＡＩの平均粒子径は０．０５５μｍ、凝集粒子の粒子径
は０．７μｍであった。

【００７６】次に、隣り合う隔壁間に蛍光体を塗布し
た。蛍光体の塗布は、口径１３０μｍの穴が形成された
ノズル先端から蛍光体ペーストを吐出するディスペンサ
ー法を用いた。蛍光体は隔壁の側面に焼成後厚み２５μ
ｍ、誘電体層上に焼成後厚み２５μｍになるように塗布
した後、５００℃で１０分間の焼成を行って、背面ガラ
ス基板を作製した。

【００７７】（ディスプレイの作製）別途作製した前面
ガラス基板と背面ガラス基板を封着ガラスを用いて封着
し、排気した。さらに、キセノン５重量％含有のネオン
ガスを封入した。駆動回路を実装してＰＤＰを作製し
た。得られたＰＤＰは、平均輝度が４２０ｃｄ／ｍ²、
発光効率が１．０ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが５３：
１であり、良好な表示特性を得ることができた。

【００７８】（実施例２）フィラーＡとしてフィラーＡ
IIを用いた以外は、実施例１を繰り返した。焼成後の隔
壁上部のフィラーＡIIの平均粒子径は０．０１μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．５μｍであった。得られたＰＤＰ
は、平均輝度が４４０ｃｄ／ｍ²、発光効率が１．０５
ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが５８：１であり、良好な
表示特性を得ることができた。

【００７９】（実施例３）感光性ペーストＡに含まれる
各成分の量（重量部）を、低融点ガラスＡが４０、フィ
ラーＡが１０、感光性ポリマーが１５、感光性モノマー
が７、光重合開始剤が３．５、増感剤１．５、溶媒が１
７とし、低融点ガラスＡとして低融点ガラスＡII、フィ
ラーＡとしてフィラーＡIIIを用いた。感光性ポリマー
は、ポリマーIIを用いた。室温のポリマーIIに、感光性
モノマーとしてモノマーIIとモノマーＶ（モノマーII／
モノマーＶ＝５０／５０）、光重合開始剤(ＩＣ−３６
９）および増感剤(２，４−ジエチルチオキサントン）
を加えた後に、超音波攪拌器で３０分間ほど攪拌して均
一な液の状態となるように溶解させた。その後、この溶
液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機
ビヒクルを作製した。この有機ビヒクルに、低融点ガラ
スＡIIとフィラーＡIIIをスパチュラーで混ぜ、３本ロ
ーラで混合・分散して感光性ペーストＡを得た。また、
感光性ペーストＢに含まれる各成分の量（重量部）は、
低融点ガラスＢが４０、フィラーＢが１０、感光性ポリ
マーが１５、感光性モノマーが７、光重合開始剤が３．
５、増感剤１．５、溶媒が５とし、低融点ガラスＢとし
て低融点ガラスＢII、フィラーＢとしてフィラーＢＩを
用いた。上述の有機ビヒクルに低融点ガラスＢIIとフィ
ラーＢＩをスパチュラーで混ぜ、三本ローラで混合・分
散して感光性ペーストＢを得た。以下、ディスプレイ用
部材の作製およびディスプレイの作製は実施例１と同様
に行った。焼成後の隔壁上部のフィラーＡIIIの平均粒
子径は０．０４μｍ、凝集粒子の粒子径は０．８μｍで
あり、焼成後の隔壁下部のフィラーＢＩの平均粒子径は
０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．３５μｍであっ
た。得られたＰＤＰは、平均輝度が４３５ｃｄ／ｍ²、
発光効率が１．０ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが５７：
１であり、良好な表示特性を得ることができた。

【００８０】（実施例４）フィラーＡとしてフィラーＡ
IV、フィラーＢとしてフィラーＢIIを用いた以外は、実
施例１を繰り返した。焼成後の隔壁上部のフィラーＡIV
の平均粒子径は０．０５５μｍ、凝集粒子の粒子径は
０．７μｍであり、焼成後の隔壁下部のフィラーＢIIの
平均粒子径は０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．４
μｍであった。得られたＰＤＰは、平均輝度が４３５ｃ
ｄ／ｍ²、発光効率が１．０ｌｍ／Ｗ、明室コントラス
トが５７：１であり、良好な表示特性を得ることができ
た。

【００８１】（実施例５）フィラーＡとしてフィラーＡ
VII、フィラーＢとしてフィラーＢIVを用いた以外は、
実施例１を繰り返した。焼成後の隔壁上部層のフィラー
ＡVIIの平均粒子径は０．０８μｍ、凝集粒子の粒子径
は１．７μｍであり、焼成後の隔壁下部のフィラーＢII
の平均粒子径は０．０３５μｍ、凝集粒子の粒子径は
０．５５μｍであった。得られたＰＤＰは、平均輝度が
４３０ｃｄ／ｍ²、発光効率が１．１５ｌｍ／Ｗ、明室
コントラストが５９：１であり、良好な表示特性を得る
ことができた。

【００８２】（実施例６）フィラーＡとしてフィラーＡ
VIII、フィラーＢとしてフィラーＢVIを用いた以外は、
実施例１を繰り返した。焼成後の隔壁上部層のフィラー
ＡVIIIの平均粒子径は０．０８μｍ、凝集粒子の粒子径
は０．７５μｍであり、焼成後の隔壁下部のフィラーＢ
VIの平均粒子径は０．０５μｍ、凝集粒子の粒子径は
０．４μｍであった。得られたＰＤＰは、平均輝度が４
４０ｃｄ／ｍ²、発光効率が１．２ｌｍ／Ｗ、明室コン
トラストが５９：１であり、良好な表示特性を得ること
ができた。

【００８３】（実施例７）感光性ペーストＢの塗布・乾
燥後の膜厚を１５５μｍ、感光性ペーストＡの塗布・乾
燥後の膜厚を５０μｍとした以外は、実施例４を繰り返
した。焼成後の隔壁上部のフィラーＡIVの平均粒子径は
０．０５５μｍ、凝集粒子の粒子径は０．７μｍであ
り、焼成後の隔壁下部のフィラーＢIIの平均粒子径は
０．０２μｍ、凝集粒子の粒子径は０．４μｍであっ
た。得られたＰＤＰは、平均輝度が４４５ｃｄ／ｍ２、
発光効率が１．１ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが５９：
１であり、良好な表示特性を得ることができた。

【００８４】（実施例８）フィラーＡとしてフィラーＡ
Ｖ、フィラーＢとしてフィラーＢIIIを用いた以外は、
実施例１を繰り返した。焼成後の隔壁上部のフィラーＡ
Ｖの平均粒子径は０．０７５μｍ、凝集粒子の粒子径は
１．８μｍであり、焼成後の隔壁下部のフィラーＢIII
の平均粒子径は０．０３μｍ、凝集粒子の粒子径は１．
８μｍであった。得られたＰＤＰは、平均輝度が４４０
ｃｄ／ｍ²、発光効率が１．１ｌｍ／Ｗ、明室コントラ
ストが５８：１であり、良好な表示特性を得ることがで
きた。

【００８５】（実施例９）フィラーＡとしてフィラーＡ
VIを用い、感光性ペーストＢに含まれる各成分の量（重
量部）を、低融点ガラスＢが４０、フィラーＢが５、フ
ィラーＣが５、感光性ポリマーが１５、感光性モノマー
が７、光重合開始剤が３．５、増感剤１．５、溶媒が５
とし、低融点ガラスＢとして低融点ガラスＢII、フィラ
ーＢとしてフィラーＢＩを用いた。また、感光性ペース
トＢの膜厚を２００μｍ、感光性ペーストＡの膜厚を２
５μｍとした。これ以外のディスプレイ用部材の作製お
よびディスプレイの作製は実施例１と同様に行った。焼
成後の隔壁上部のフィラーＡVIの平均粒子径は０．０８
μｍ、凝集粒子の粒子径は１．５μｍであり、焼成後の
隔壁下部のフィラーＢＩの平均粒子径は０．０２５μ
ｍ、凝集粒子の粒子径は０．４５μｍであった。得られ
たＰＤＰは、平均輝度が４３８ｃｄ／ｍ²、発光効率が
１．０５ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが６０：１であ
り、良好な表示特性を得ることができた。

【００８６】（実施例１０）低融点ガラスＡとしてＡII
I、低融点ガラスＢとして低融点ガラスＢII、感光性ポ
リマーとしてポリマーIII、フィラーＣとしてフィラー
ＣIIを用いた以外は実施例６を繰り返した。焼成後の隔
壁上部のフィラーＡVIの平均粒子径は０．０７μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．８μｍであり、焼成後の隔壁下部
のフィラーＢＩの平均粒子径は０．０３μｍ、凝集粒子
の粒子径は０．３μｍであった。得られたＰＤＰは、平
均輝度が４３３ｃｄ／ｍ²、発光効率が１．０ｌｍ／
Ｗ、明室コントラストが５３：１であり、良好な表示特
性を得ることができた。

【００８７】（実施例１１）感光性モノマーとして、モ
ノマーIIIとモノマーIV（モノマーIII／モノマーIV＝６
０／４０）を用いた以外は実施例７を繰り返した。焼成
後の隔壁上部のフィラーＡVIの平均粒子径は０．０６μ
ｍ、凝集粒子の粒子径は１．０μｍであり、焼成後の隔
壁下部のフィラーＢＩの平均粒子径は０．０２μｍ、凝
集粒子の粒子径は０．５μｍであった。得られたＰＤＰ
は、平均輝度が４３２ｃｄ／ｍ²、発光効率が１．０５
ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが５３：１であり、良好な
表示特性を得ることができた。

【００８８】（実施例１２）感光性ペーストＡの膜厚を
１８０μｍ、感光性ペーストＢの膜厚を４５μｍとした
以外は、実施例８を繰り返した。焼成後の隔壁上部のフ
ィラーＡVIの平均粒子径は０．０６μｍ、焼成後の凝集
粒子の粒子径は１．１μｍであり、隔壁下部のフィラー
ＢＩの平均粒子径は０．０２５μｍ、凝集粒子の粒子径
は１．９５μｍであった。得られたＰＤＰは、平均輝度
が４３５ｃｄ／ｍ²、発光効率が１．０ｌｍ／Ｗ、明室
コントラストが５２：１であり、良好な表示特性を得る
ことができた。

【００８９】（実施例１３）フィラーＡとしてＡIX、Ｂ
としてＢＶを用いた以外は実施例１２を繰り返した。焼
成後の隔壁上部のフィラーＡIXの平均粒子径は０．０５
μｍ、凝集粒子の粒子径は１．５μｍであり、焼成後の
隔壁下部のフィラーＢＶの平均粒子径は０．０４μｍ、
凝集粒子の粒子径は１．８μｍであった。得られたＰＤ
Ｐは、平均輝度が４６０ｃｄ／ｍ２、発光効率が１．５
ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが６５：１であり、良好な
表示特性を得ることができた。

【００９０】（実施例１４）フィラーＢとしてフィラー
ＢIVを用いた以外は、実施例９を繰り返した。焼成後の
隔壁上部のフィラーＡVIの平均粒子径は０．０５５μ
ｍ、凝集粒子の粒子径は０．９μｍであり、焼成後の隔
壁下部のフィラーＢＩの平均粒子径は０．０１５μｍ、
凝集粒子の粒子径は１．８μｍであった。得られたＰＤ
Ｐは、平均輝度が４３４ｃｄ／ｍ２、発光効率が１．０
ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが５３：１であり、良好な
表示特性を得ることができた。

【００９１】（実施例１５）感光性ペーストＡ及び感光
性ペーストＢをスリットダイコーターで塗布したこと以
外は実施例１を繰り返した。得られた隔壁の断面を電子
顕微鏡で観察し、隔壁の断面の形状が台形であることを
確認した。また、焼成後の隔壁上部のフィラーＡＩの平
均粒径は０．０５５μｍ、凝集粒子の粒子径は０．７μ
ｍであった。得られたＰＤＰは、平均輝度が４２０ｃｄ
／ｃｍ²、発光効率１．０ｌｍ／Ｗ、明室コントラスト
が５３：１であり、良好な表示特性を得ることができ
た。

【００９２】（実施例１６）電極パターンと平行方向に
ピッチ２５０μｍ、線幅５０μｍのストライプパターン
を有し、それと垂直方向にも２５０μｍ、線幅７０μｍ
のストライプパターンを有する格子状であるネガ用クロ
ムマスクを用いて、上面から２０ｍＷ／ｃｍ ²出力の超
高圧水銀灯で露光量３００ｍＪ／ｃｍ²でプロキシミテ
ィ露光を施したこと以外は、実施例１を繰り返した。得
られた隔壁の断面を電子顕微鏡で観察し、アドレス電極
パターンと平行方向及び垂直方向の隔壁の断面の形状が
台形であることを確認した。また、焼成後の隔壁上部の
フィラーＡＩの平均粒径は０．０５５μｍ、凝集粒子の
粒子径は０．７μｍであった。得られたＰＤＰは、平均
輝度が５１０ｃｄ／ｃｍ²、発光効率１．１０ｌｍ／
Ｗ、明室コントラストが６１：１であり、良好な表示特
性を得ることができた。

【００９３】（実施例１７）実施例１における感光性ペ
ーストＢを、実施例１と同様の誘電体層が形成されたガ
ラス基板上にスリットダイコーターを用いて塗布、乾燥
を行い、膜厚１９５μｍにした。乾燥は、８０℃で９０
分行った。乾燥後、ピッチ２５０μｍ、線幅７０μｍの
ストライプパターンを有するネガ用クロムマスクを用い
て、アドレス電極と垂直方向に上面から２０ｍＷ／ｃｍ
²出力の超高圧水銀灯で露光量３００ｍＪ／ｃｍ²でプロ
キシミティ露光を施した。ギャップは１００μｍとし
た。続いてその上に、実施例１における感光性ペースト
Ａをスクリーン印刷によって塗布、乾燥を行い、膜厚２
５μｍにした。乾燥は、８０℃で９０分行った。乾燥
後、ピッチ２５０μｍ、線幅５０μｍのストライプパタ
ーンを有するネガ用クロムマスクを用いて、アドレス電
極と平行方向に上面から２０ｍＷ／ｃｍ²出力の超高圧
水銀灯で露光量３００ｍＪ／ｃｍ²でプロキシミティ露
光を施した。ギャップは１００μｍとした。それ以外は
実施例１を繰り返した。得られた隔壁の断面を電子顕微
鏡で観察し、電極パターンと平行方向及び垂直方向の隔
壁の断面の形状が台形であり、アドレス電極パターンと
垂直方向の隔壁の高さは、アドレス電極パターンと平行
方向の隔壁の高さより２０μｍより低いことを確認し
た。また、焼成後のアドレス電極と平行方向の隔壁上部
のフィラーＡＩの平均粒径は０．０５５μｍ、凝集粒子
の粒子径は０．７μｍであった。得られたＰＤＰは、平
均輝度が５１５ｃｄ／ｃｍ²、発光効率１．１０ｌｍ／
Ｗ、明室コントラストが６０：１であり、良好な表示特
性を得ることができた。

【００９４】（実施例１８）感光性ペーストＢ及び感光
性ペーストＡをスリットダイコーターで塗布したこと以
外は実施例１７を繰り返した。得られた隔壁の断面を電
子顕微鏡で観察し、電極パターンと平行方向及び垂直方
向の隔壁の断面の形状が台形であり、アドレス電極パタ
ーンと垂直方向の隔壁の高さは、アドレス電極パターン
と平行方向の隔壁の高さより２０μｍより低いことを確
認した。また、焼成後の隔壁上部のフィラーＡＩの平均
粒径は０．０５５μｍ、凝集粒子の粒子径は０．７μｍ
であった。得られたＰＤＰは、平均輝度が５１５ｃｄ／
ｃｍ²、発光効率１．１０ｌｍ／Ｗ、明室コントラスト
が６０：１であり、良好な表示特性を得ることができ
た。

【００９５】（比較例１）感光性ペーストＢに含まれる
各成分の量（重量部）は、低融点ガラスＢＩが５０、感
光性ポリマーが１５、感光性モノマーが７、光重合開始
剤が３．５、増感剤１．５、溶媒が５とした。

【００９６】感光性ポリマーは、ポリマーＩを用いた。
室温のポリマーＩに、感光性モノマーとしてモノマーＩ
とモノマーIV（モノマーＩ／モノマーIV＝５０／５
０）、光重合開始剤(ＩＣ−３６９）および増感剤(２，
４−ジエチルチオキサントン）を加えた後に、超音波攪
拌器で３０分間ほど攪拌して均一な液の状態となるよう
に溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフ
ィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。

【００９７】上述の有機ビヒクルに低融点ガラスＢＩを
スパチュラーで混ぜ、三本ローラで混合・分散して感光
性ペーストＢを得た。この感光性ペーストＢ単独で隔壁
パターンを形成した以外は、実施例１を繰り返した。得
られたＰＤＰは、平均輝度が３７０ｃｄ／ｍ²、発光効
率が０．９ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが３０：１であ
り、輝度およびコントラストが著しく低下した。

【００９８】（比較例２）感光性ペーストＢに含まれる
各成分の量（重量部）は、低融点ガラスＢIIが４０、フ
ィラーＢが１０、感光性ポリマーが１５、感光性モノマ
ーが７、光重合開始剤が３．５、増感剤１．５、溶媒が
５とした。

【００９９】感光性ポリマーは、ポリマーＩを用いた。
室温のポリマーＩに、感光性モノマーとしてモノマーＩ
とモノマーIV（モノマーＩ／モノマーIV＝５０／５
０）、光重合開始剤(ＩＣ−３６９）および増感剤(２，
４−ジエチルチオキサントン）を加えた後に、超音波攪
拌器で３０分間ほど攪拌して均一な液の状態となるよう
に溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフ
ィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。

【０１００】上述の有機ビヒクルに低融点ガラスＢIIと
フィラーＢIIをスパチュラーで混ぜ、三本ローラで混合
・分散して感光性ペーストＢを得た。この感光性ペース
トＢ単独で隔壁パターンを形成した以外は、実施例１を
繰り返した。焼成後の隔壁のフィラーＢIIの平均粒子径
は０．０２５μｍ、凝集粒子の粒子径は０．２μｍであ
った。得られたＰＤＰは、平均輝度が４１５ｃｄ／
ｍ²、発光効率が０．８ｌｍ／Ｗ、明室コントラストが
３０：１であり、コントラストが著しく低下した。

【０１０１】

【発明の効果】本発明のディスプレイ用部材は、隔壁上
部の黒色部分と隔壁下部が本発明の低融点ガラスを含む
構成としたので、隔壁の頂部が平滑で、発光輝度を高く
するとともに表面反射光を低くしたコントラストが高い
ＰＤＰなどのディスプレイ用部材を提供することができ
る。また、本発明のディスプレイ用部材の製造方法によ
れば、発光輝度を高くするとともに表面反射光を低くし
たディスプレイ用部材を容易に形成できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 29/87 Ｈ０１Ｊ 29/87 Ｆターム(参考） 4G062 AA09 BB05 CC08 DA03 DA04 DB04 DC04 DC05 DD01 DE01 DF01 EA01 EA02 EA03 EA04 EB01 EB02 EB03 EB04 EC01 EC02 EC03 EC04 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EG01 FA01 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM05 MM08 NN29 NN32 PP02 PP03 PP05 PP06 PP09 5C012 AA02 AA05 BB07 5C027 AA09 5C032 AA01 AA07 CC05 CC10 5C040 FA01 FA02 GF18 GF19 JA15 KA07 MA24 MA26

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に隔壁を有するディスプレイ用部材
   において、隔壁の上部が黒色であって、平均粒子径０．
   ００５〜０．０８μｍのフィラーＡを含有し、かつ隔壁
   の下部が低融点ガラスＢを含有することを特徴とするデ
   ィスプレイ用部材。
2. 【請求項２】低融点ガラスＢの平均屈折率が１．５〜
   １．６５であることを特徴とする請求項１に記載のディ
   スプレイ用部材。
3. 【請求項３】隔壁上部が低融点ガラスＡを含むことを特
   徴とする請求項１または２に記載のディスプレイ用部
   材。
4. 【請求項４】低融点ガラスＡの平均屈折率が１．５〜
   １．６５であることを特徴とする請求項３に記載のディ
   スプレイ用部材。
5. 【請求項５】隔壁下部が平均粒子径０．００５〜０．０
   ８μｍのフィラーＢを含有することを特徴とする請求項
   １〜４のいずれかに記載のディスプレイ用部材。
6. 【請求項６】隔壁下部がさらに平均粒子径１．５〜５μ
   ｍのフィラーＣを含有することを特徴とする請求項１〜
   ５のいずれかに記載のディスプレイ用部材。
7. 【請求項７】プラズマディスプレイ、プラズマアドレス
   液晶ディスプレイまたは電子放出素子を用いたディスプ
   レイに用いられることを特徴とする請求項１〜６のいず
   れかに記載のディスプレイ用部材。
8. 【請求項８】低融点ガラスＢおよび平均粒子径が０．０
   ０５〜０．０８μｍのフィラーＢと感光性有機成分を含
   有する感光性ペーストＢを乾燥後の厚みが１５０〜２２
   ０μｍとなるように塗布・乾燥した後、さらに低融点ガ
   ラスＡおよび平均粒子径が０．００５〜０．０８μｍの
   フィラーＡと感光性有機成分を含有する感光性ペースト
   Ａを乾燥後の厚みが５〜５０μｍとなるように塗布・乾
   燥し、フォトリソグラフィ法によって一括して露光、現
   像し、得られたパターンを焼成して隔壁を形成すること
   を特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。
9. 【請求項９】低融点ガラスＢおよび平均粒子径が０．０
   ０５〜０．０８μｍのフィラーＢと感光性有機成分を含
   有する感光性ペーストＢを乾燥後の厚みが１５０〜２２
   ０μｍとなるように塗布・乾燥した後、フォトリソグラ
   フィー法によって露光し、さらに低融点ガラスＡおよび
   平均粒子径が０．００５〜０．０８μｍのフィラーＡと
   感光性有機成分を含有する感光性ペーストＡを乾燥後の
   厚みが５〜５０μｍとなるように塗布・乾燥し、フォト
   リソグラフィ法によって再び露光した後に一括して現像
   し、得られたパターンを焼成して隔壁を形成することを
   特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。