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JP2003168111A - テンプレート登録方法及びその装置 - Google Patents

テンプレート登録方法及びその装置

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JP2003168111A
JP2003168111A JP2001367768A JP2001367768A JP2003168111A JP 2003168111 A JP2003168111 A JP 2003168111A JP 2001367768 A JP2001367768 A JP 2001367768A JP 2001367768 A JP2001367768 A JP 2001367768A JP 2003168111 A JP2003168111 A JP 2003168111A
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JP
Japan
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image
unit
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JP2001367768A
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Shuji Akiyama
周次 秋山
Masahiro Abe
政弘 阿部
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Olympus Corp
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Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】高速にテンプレート画像の登録を行なうこと。 【解決手段】縮小参照画像データDssから最適なパター
ン特徴を抽出し、このパターン特徴の位置座標(xs,
ys)とテンプレートサイズ(Sizex、Sizey)とに基
づいて縮小する前の参照画像データDsからテンプレー
ト画像Dtを切り出して登録する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、テンプレートマッ
チングに用いるテンプレート画像の登録を高速化したテ
ンプレート登録方法及びその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば半導体ウエハ上の欠陥部を検出す
るには、半導体ウエハ上の欠陥部の無い領域を撮像して
参照画像データを取得し、これと共に半導体ウエハ上の
欠陥部を含む領域を撮像して欠陥画像データを取得し、
これら参照画像データと欠陥画像データとを比較して欠
陥部を検出する。
【0003】この場合、参照画像データと欠陥画像デー
タとの各パターンを一致させる必要がある。このパター
ンを一致させる方法として、参照画像データと欠陥画像
データとの各パターンのずれ量を計測し、このずれ量に
基づいて参照画像データと欠陥画像データとの各パター
ンを一致させている。
【0004】各パターンのずれ量の計測には、テンプレ
ートマッチングが用いられている。このテンプレートマ
ッチングを行なうには、テンプレート画像の登録が行わ
れる。
【0005】このテンプレート画像の登録は、半導体ウ
エハ上の欠陥部の無い領域を撮像して参照画像データを
取得し、この参照画像データの全体に対してパターンの
特徴量を解析してテンプレートとして最適なパターン特
徴量を決定し、この決定されたパターン特徴量を参照画
像データから切り出してテンプレート画像として登録し
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】参照画像データの全体
に対してパターン特徴量を解析し、この解析結果から参
照画像データからテンプレート画像を切り出して登録し
ているため、パターン特徴量の解析に時間が掛かってい
た。
【0007】そこで本発明は、高速にテンプレート画像
の登録ができるテンプレート登録方法及びその装置を提
供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、画像データを
取得するステップと、この画像データを縮小するステッ
プと、この縮小された画像データからテンプレートとし
て最適なパターン特徴を決定するステップと、この決定
されたパターン特徴の位置座標に基づいて縮小する前の
画像データからテンプレート画像を切り出して登録する
ステップとからなることを特徴とするテンプレート登録
方法である。
【0009】本発明は、比較対象となる画像データと基
準となる画像データとを取得するステップと、これら画
像データのうち基準となる画像データを縮小するステッ
プと、テンプレートのサイズを指定するステップと、縮
小された基準となる画像データからパターンの特徴を抽
出するステップと、この抽出されたパターン特徴からテ
ンプレートとして最適なパターン特徴を決定するステッ
プと、この決定されたパターン特徴の位置座標とテンプ
レートのサイズとに基づいて縮小する前の基準となる画
像データからテンプレート画像を切り出して登録するス
テップとからなることを特徴とするテンプレート登録方
法である。
【0010】本発明は、対象物を撮像する撮像手段と、
この撮像手段の撮像により取得された画像データを縮小
する縮小手段と、この縮小手段により縮小された画像デ
ータのパターン特徴を解析してテンプレートとして最適
なパターン特徴を決定するパターン特徴解析手段と、テ
ンプレート画像を記録するためのテンプレートメモリ
と、パターン特徴解析手段により決定されたパターン特
徴量の位置座標に基づいて縮小する前の画像データから
テンプレート画像を切り出してテンプレートメモリに登
録する登録手段とを具備したことを特徴とするテンプレ
ート登録装置である。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
【0012】図1はテンプレート登録装置を適用した欠
陥検査装置の全体構成図である。ステージ1は、ステー
ジ駆動部2の動作によってXY方向に移動可能になって
いる。このステージ1上には、半導体ウエハ3が載置さ
れている。この半導体ウエハ3は、前の工程でマクロ検
査が行われ、当該半導体ウエハ3の表面上に欠陥部があ
れば、その欠陥部の位置座標が予め取得されている。
【0013】半導体ウエハ3の上方には、顕微鏡4が設
けられている。この顕微鏡4には、カメラ5が取り付け
られている。このカメラ5は、顕微鏡4により拡大され
た半導体ウエハ3の像を撮像してその画像信号を出力す
る。このカメラ5は、テレビジョンカメラ又はCCDカ
メラのいずれであってもよい。
【0014】画像処理装置10は、CPU及びプログラ
ムメモリ等からなる主制御部11を有する。この主制御
部11には、入力部12と、出力部13と、ディスプレ
イ14と、画像メモリ15と、欠陥データメモリ16
と、テンプレートメモリ17とが接続されている。
【0015】入力部12は、カメラ5から出力された画
像信号を入力し、この画像信号がアナログであればデジ
タル化する機能を有する。この入力部12から入力され
た画像信号は、画像データとして画像メモリ15に記憶
される。
【0016】この画像メモリ15には、例えば半導体ウ
エハ3の表面上における傷や欠け、汚れ、ダストの付
着、むらなどの欠陥部を含む比較対象となる画像データ
(以下、欠陥画像データと称する)と、この欠陥画像デ
ータと対応する欠陥部の無い基準となる画像データ(以
下、参照画像データと称する)とが記憶される。
【0017】出力部13は、主制御部11から発せられ
たステージ駆動部2への駆動指令をステージ駆動部2に
送出する機能を有する。
【0018】欠陥データメモリ16には、前の工程のマ
クロ検査により取得された半導体ウエハ3上の欠陥部の
位置座標や欠陥の種類、工程名などの欠陥データが記憶
される。この欠陥データは、例えばマクロ検査装置ゆホ
ストコンピュータから送られてくる。
【0019】テンプレートメモリ17には、画像マッチ
ングに用いるテンプレート画像が記憶される。
【0020】又、主制御部11は、予め記憶されている
テンプレート画像登録のプログラムを実行することによ
り画像縮小部18と、サイズ指定部19と、パターン特
徴解析部20と、登録部21とを動作させる。
【0021】画像縮小部18は、画像メモリ15に記憶
されている参照画像データを読み出し、この参照画像デ
ータを所定の縮小率(例えば縦横比で50%)で縮小す
る機能を有する。
【0022】サイズ指定部19は、テンプレート画像の
サイズを指定するもので、このテンプレートサイズの指
定を促するための画面をディスプレイ14に表示出力
し、キーボード等の操作により入力されたテンプレート
サイズを受け取って当該サイズに決定する機能を有す
る。この場合、最初にディスプレイ14に表示されるテ
ンプレート画像のサイズは、予め設定された標準サイズ
が指定される。
【0023】パターン特徴解析部20は、パターン特徴
解析用のプログラムを起動することにより、画像縮小部
18により縮小された参照画像データに対してパターン
特徴の解析処理を行ない、参照画像データからパターン
特徴を抽出し、この抽出された複数のパターン特徴から
テンプレートとして最適なパターン特徴を決定する機能
を有する。最適なパターン特徴を決定する際には、欠陥
画像データ上の欠陥部と重ならないように、予め欠陥部
と対応する領域を除外する。
【0024】このパターン特徴の解析では、半導体ウエ
ハ3の表面上に形成された特徴的な形状が複数抽出さ
れ、これら形状の中からテンプレートとして最適な形
状、例えばパターンの方向性が明確な「T」形状又は
「+」形状が抽出される。
【0025】なお、抽出する特定の形状は、パターン特
徴解析用のプログラム中に組み込まれており、任意の形
状を抽出するには、その形状を指定することにより可能
である。
【0026】登録部21は、パターン特徴解析部20に
より決定されたパターン特徴の位置座標とテンプレート
画像のサイズとに基づいて縮小する前の参照画像データ
から高画質のテンプレート画像を切り出してテンプレー
トメモリ17に記憶することにより登録する機能を有す
る。専用のテンプレートが無くても、参照画像データ上
の配線パターンをテンプレートとして登録することがで
きる。
【0027】さらに、主制御部11は、予め記憶されて
いる欠陥検査のプログラムを実行することによりテンプ
レートマッチング部22と、位置ずれ演算部23と、ず
れ量補正部24と、画像保存部25と、検査部26とを
動作させる。
【0028】テンプレートマッチング部22は、登録部
21に登録されたテンプレート画像を用いて画像メモリ
15に記憶されている欠陥画像データをサーチし、欠陥
画像データ上においてテンプレート画像と同一形状の画
像を検索する機能を有する。
【0029】位置ずれ演算部23は、参照画像データ上
におけるテンプレート画像の座標位置と欠陥画像データ
上におけるテンプレート画像の座標位置とのずれ量を演
算し求める機能を有する。
【0030】ずれ量補正部24は、位置ずれ演算部23
により求められたずれ量に従って参照画像データと欠陥
画像データとの位置を一致させる機能を有するもので、
参照画像データに対してずれ量分(XY方向のずれ量及
び角度のずれ量)を補正して欠陥画像データに一致させ
る。
【0031】画像保存部25は、ずれ量補正部24によ
り互いに位置ずれ補正した参照画像データと欠陥画像デ
ータとを保存する機能を有する。
【0032】検査部26は、ずれ量補正部24により互
いに位置の一致した参照画像データと欠陥画像データと
を比較して欠陥画像データ上の欠陥部を検出する機能を
有する。
【0033】次に、上記の如く構成された装置の作用に
ついて図2に示すテンプレート画像登録及び欠陥検査の
フローチャートに従って説明する。
【0034】ステージ1上には、半導体ウエハ3が載置
される。この半導体ウエハ3は、前の工程でマクロ検査
が行われ、当該半導体ウエハ3の表面上に欠陥部があれ
ば、その欠陥部の位置座標が予め取得されている。例え
ば、図3に示すように各欠陥部G、G、Gの位置
座標G(x,y)、G(x,y)、G
(x,y)が欠陥データメモリ16に記憶され
る。
【0035】先ず、主制御部11は、ステップ#1及び
#2において、欠陥部G、G、Gをそれぞれ含む
欠陥画像データと欠陥部を含まない参照画像データとを
取得する。すなわち、主制御部11は、欠陥データメモ
リ16に記憶されている各欠陥部G、G、Gの位
置座標G(x,y)、G(x,y)、G
(x,y)を読み取り、先ずは位置座標G
(x,y)の欠陥部Gが顕微鏡4の対物レンズ
4aの視野内に入る移動指令をステージ駆動部2に発す
る。
【0036】図4は半導体ウエハ3の表面上の欠陥部G
が存在するダイQとその周囲の各ダイQ、Q
…、等を示す摸式図である。顕微鏡4の対物レンズ4a
の視野F内には、位置座標G(x,y)の欠陥部
が入る。
【0037】カメラ5は、顕微鏡4を通して図4に示す
ように欠陥部Gを視野F内に入れた画像を撮像し、そ
の画像信号を出力する。この画像信号は、入力部12を
通して画像メモリ15に欠陥画像データDとして記憶
される。
【0038】この欠陥画像データDの取得に限らず、
他の欠陥部G、Gの欠陥画像データD、Dを続
けて取得してもよいし、又、各欠陥部G、G、G
の欠陥検査が終了する毎にそれぞれ取得してもよい。
【0039】次に、主制御部11は、欠陥データメモリ
16に記憶されている各欠陥部G、G、Gの位置
座標G(x,y)、G(x,y)、G
(x,y)に基づいて欠陥部の無いダイ、例えば
図4に示すようにダイQの隣のダイQを求め、この
ダイQが顕微鏡4の対物レンズ4aの視野F内に入る
移動指令をステージ駆動部2に発する。
【0040】このとき、ダイQ上における対物レンズ
4aの視野Fは、ダイQ上における対物レンズ4aの
視野Fの位置座標と同一位置座標に位置決めされる。こ
のときカメラ5は、顕微鏡4を通してダイQ上の視野
F内の画像を撮像し、その画像信号を出力する。この画
像信号は、入力部12を通して画像メモリ15に参照画
像データDsとして記憶される。
【0041】これら欠陥画像データD及び参照画像デ
ータDsが取得されると、画像縮小部18は、ステップ
#3において、画像メモリ15に記憶されている参照画
像データDsを読み出し、この参照画像データDsを図
5に示すように任意の縮小率(例えば縦横比で50%)
に縮小する。この例では参照画像データDsのサイズ
(Sa×Sb)がサイズ(Sa/2)×(Sb/2)に
縮小されている。例えばサイズ640画素×480画素
の参照画像データDsであれば、サイズ320画素×2
40画素の参照画像データDssに縮小される。以下、縮
小された参照画像データDsを縮小参照画像データDss
と称する。
【0042】次に、サイズ指定部19は、ステップ#4
において、オペレータに対してテンプレートサイズの指
定を促するための画面をディスプレイ14に表示出力す
る。オペレータがキーボード等を操作して図6に示すよ
うにテンプレートサイズ(Sizex、Sizey)が入力され
ると、サイズ指定部19は、当該テンプレートサイズ
(Sizex、Sizey)を受け取ってそのサイズを決定す
る。
【0043】この場合、図5に示す縮小参照画像データ
Dss上に図6に示すテンプレートサイズを指定する画面
を重ねてディスプレイ14に表示するようにしてもよ
い。
【0044】次に、パターン特徴解析部20は、ステッ
プ#5において、パターン特徴解析用のプログラムを起
動し、画像縮小部18により縮小された縮小参照画像デ
ータDssに対してパターン特徴の解析処理を行ない、縮
小参照画像データDssから半導体ウエハ3の表面上に形
成された特徴的な形状を複数抽出する。図5には縮小参
照画像データDssから抽出された特徴的な形状の例を示
し、例えば「T」形状、傾斜形状、コーナ部分の形状な
どが抽出される。
【0045】パターン特徴解析部20は、ステップ#6
において、各特徴的な形状のうちテンプレートとして最
適なパターン特徴、例えば「T」形状を決定し、これと
共に当該パターン特徴の基準となる座標位置(xs,y
s)を求める。なお、この座標位置(xs,ys)は、
例えば「T」形状の画像データの中心座標とする。
【0046】また、最適なパターン特徴を決定する際に
は、欠陥画像データDの欠陥部G (x,y)と
重ならないパターン特徴を決定することが望ましい。
又、マッチングの精度を高めるために、少なくとも2点
のテンプレートを登録することも可能である。
【0047】次に、登録部21は、ステップ#7におい
て、パターン特徴解析部20により決定されたパターン
特徴の座標位置(xs,ys)とテンプレートサイズ
(Sizex、Sizey)とに基づいて縮小する前の参照画像
データDs上での位置座標(Xs,Ys)とテンプレー
トサイズ(SizeX、SizeY)とを求める。
【0048】次に、登録部21は、ステップ#8におい
て、縮小する前の参照画像データDsから位置座標(X
s,Ys)とテンプレートサイズ(SizeX、SizeY)と
に基づいて図7に示すようにテンプレート画像Dtを切
り出してテンプレートメモリ17に記憶し登録する。
【0049】次に、主制御部11は、欠陥検査のプログ
ラムを実行して欠陥検査を行なう。
【0050】先ず、テンプレートマッチング部22は、
ステップ#9において、登録部21に登録されたテンプ
レート画像Dtを読み出し、このテンプレート画像Dt
を用いて図8に示すように画像メモリ15に記憶されて
いる欠陥画像データD上をサーチし、欠陥画像データ
上においてテンプレート画像Dtと同じ形状のパタ
ーンを検索し、その位置座標(xa,ya)を求める。
【0051】次に、位置ずれ演算部23は、ステップ#
10において、参照画像データDs上におけるテンプレ
ート画像Dtの座標位置(xs,ys)と、欠陥画像デ
ータD上におけるテンプレート画像Dtとの座標位置
(xa,ya)とのずれ量H H=(xs−xa,ys−ta) を演算し求める。
【0052】次に、ずれ量補正部24は、ステップ#1
1において、位置ずれ演算部23により求められたずれ
量に従って参照画像データDsを移動させ、この参照画
像データDsを欠陥画像データDの位置に一致させ
る。
【0053】次に、画像保存部25は、ステップ#12
において、ずれ量補正部24により互いに位置の一致し
た参照画像データDsと欠陥画像データDとを画像メ
モリ15に保存する。
【0054】この後、検査部26は、図9に示すように
ずれ量補正部24により互いに位置の一致した参照画像
データDsと欠陥画像データDとを比較し、その差分
画像から欠陥画像データD上の欠陥部を検出する。
【0055】このように上記一実施の形態においては、
縮小参照画像データDssから最適なパターン特徴を抽出
し、このパターン特徴の位置座標(xs,ys)とテン
プレートサイズ(Sizex、Sizey)とに基づいて縮小す
る前の参照画像データDsからテンプレート画像Dtを
切り出して登録するので、縮小参照画像データDssに対
するパターン特徴の解析に要する時間を短縮でき、テン
プレート画像Dtの登録を高速で自動的にできる。
【0056】しかも、縮小する前の参照画像データDs
からテンプレート画像Dtを切り出して登録するので、
テンプレート画像Dtの品質を低下させることなく、テ
ンプレートマッチングの信頼性を確保できる。
【0057】なお、本発明は、上記一実施の形態に限定
されるものでなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない
範囲で種々に変形することが可能である。
【0058】さらに、上記実施形態には、種々の段階の
発明が含まれており、開示されている複数の構成要件に
おける適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出でき
る。例えば、実施形態に示されている全構成要件から幾
つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとす
る課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で
述べられている効果が得られる場合には、この構成要件
が削除された構成が発明として抽出できる。
【0059】例えば、本発明のテンプレート登録方法
は、半導体ウエハ3の欠陥検査装置のテンプレートマッ
チングに適用するだけでなく、テンプレート画像を登録
する全ての技術に適用できる。
【0060】又、参照画像データDsを縮小するのにか
ぎらず、参照画像データDsを所定の間隔の画素毎に間
引きした画像データを用いてもよい。
【0061】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、高
速にテンプレート画像の登録ができるテンプレート登録
方法及びその装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態を示す構成図。
【図2】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態におけるテンプレート画像登録及び欠陥検査のフ
ローチャート。
【図3】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態における欠陥部の位置座標を示す模式図。
【図4】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態における半導体ウエハ表面上の欠陥部が存在する
ダイとその周囲の各ダイを示す摸式図。
【図5】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態における参照画像データの縮小から特徴的な形状
の抽出までを示す図。
【図6】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態におけるテンプレートサイズを示す模式図。
【図7】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態におけるテンプレート画像の切り出しを示す図。
【図8】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態におけるテンプレートマッチング部のサーチを示
す図。
【図9】本発明に係わるテンプレート登録装置の一実施
の形態における検査部による参照画像データと欠陥画像
データとの比較を示す図。
【符号の説明】
1:ステージ 2:ステージ駆動部 3:半導体ウエハ 4:顕微鏡 5:カメラ 10:画像処理装置 11:主制御部 12:入力部 13:出力部 14:ディスプレイ 15:画像メモリ 16:欠陥データメモリ 17:テンプレートメモリ 18:画像縮小部 19:サイズ指定部 20:パターン特徴解析部 21:登録部 22:テンプレートマッチング部 23:位置ずれ演算部 24:ずれ量補正部 25:画像保存部 26:検査部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B057 CA08 CA12 CA16 CB08 CB12 CB16 CE09 DA07 DB02 DB09 DC32 DC39 5L096 EA03 HA07 JA09 KA15

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 画像データを取得するステップと、 この画像データを縮小するステップと、 この縮小された画像データからテンプレートとして最適
    なパターン特徴を決定するステップと、 この決定された前記パターン特徴の位置座標に基づいて
    前記縮小する前の前記画像データからテンプレート画像
    を切り出して登録するステップと、からなることを特徴
    とするテンプレート登録方法。
  2. 【請求項2】 比較対象となる画像データと基準となる
    画像データとを取得するステップと、 これら画像データのうち前記基準となる画像データを縮
    小するステップと、 テンプレートのサイズを指定するステップと、 前記縮小された前記基準となる画像データからパターン
    の特徴を抽出するステップと、 この抽出されたパターン特徴から前記テンプレートとし
    て最適な前記パターン特徴を決定するステップと、 この決定された前記パターン特徴の位置座標と前記テン
    プレートのサイズとに基づいて前記縮小する前の前記基
    準となる画像データからテンプレート画像を切り出して
    登録するステップと、からなることを特徴とするテンプ
    レート登録方法。
  3. 【請求項3】 比較対象となる画像データは欠陥部を拡
    大撮像した欠陥画像データであり、前記基準となる画像
    データは前記欠陥画像データと対応する欠陥の無い参照
    画像データであり、前記画像データを縮小するステップ
    では、前記参照画像データを縮小することを特徴とする
    請求項2記載のテンプレート登録方法。
  4. 【請求項4】 前記画像データを縮小するステップは、
    前記基準となる画像データを間引きすることを特徴とす
    る請求項2記載のテンプレート登録方法。
  5. 【請求項5】 対象物を撮像する撮像手段と、 この撮像手段の撮像により取得された画像データを縮小
    する縮小手段と、 この縮小手段により縮小された画像データのパターン特
    徴を解析してテンプレートとして最適なパターン特徴を
    決定するパターン特徴解析手段と、 テンプレート画像を記録するためのテンプレートメモリ
    と、 前記パターン特徴解析手段により決定された前記パター
    ン特徴量の位置座標に基づいて前記縮小する前の前記画
    像データからテンプレート画像を切り出して前記テンプ
    レートメモリに登録する登録手段と、を具備したことを
    特徴とするテンプレート登録装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2021090650A1 (ja) * 2019-11-06 2021-05-14 パナソニックIpマネジメント株式会社 工具システム、基準画像生成方法及びプログラム

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