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JP2003160679A - Method for producing composite polymer material - Google Patents

Method for producing composite polymer material

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Publication number
JP2003160679A
JP2003160679A JP2001359728A JP2001359728A JP2003160679A JP 2003160679 A JP2003160679 A JP 2003160679A JP 2001359728 A JP2001359728 A JP 2001359728A JP 2001359728 A JP2001359728 A JP 2001359728A JP 2003160679 A JP2003160679 A JP 2003160679A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer material
composite polymer
producing
hot water
radicals
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001359728A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomomi Kawai
智美 川井
Ichiro Oguma
一郎 小熊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Kasei Corp
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Kasei Corp filed Critical Asahi Kasei Corp
Priority to JP2001359728A priority Critical patent/JP2003160679A/en
Publication of JP2003160679A publication Critical patent/JP2003160679A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 残存するラジカルによる強度劣化や、残留す
るモノマーの溶出による悪影響のない複合高分子材料の
製造方法を提供すること。 【解決手段】 高分子材料にラジカルを生成させ、つづ
いてビニル化合物と接触させることによりグラフト鎖を
導入した後、TM−5℃≧T℃≧60℃(TMは高分子材
料の結晶融点を表す。)で表される温度(T℃)の熱水
処理工程を含む洗浄を行うことを特徴とする複合高分子
材料の製造方法。
(57) [Problem] To provide a method for producing a composite polymer material which is free from strength deterioration due to remaining radicals and no adverse effect due to elution of remaining monomers. SOLUTION: After a radical is generated in a polymer material and then a graft chain is introduced by contacting with a vinyl compound, T M -5 ° C. ≧ T ° C. ≧ 60 ° C. (T M is the crystal melting point of the polymer material. A cleaning method including a hot water treatment step at a temperature (T ° C.) represented by the following formula:

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、生体系との接触や
タンパクの分離精製などの医薬、医療、食品の用途や、
各種電子材料等の用途に用いられる高分子材料に、ラジ
カル生成反応にひき続きグラフト鎖を導入して得られる
複合高分子材料の製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to uses in medicine, medical care, food such as contact with biological systems and separation and purification of proteins, and
The present invention relates to a method for producing a composite polymer material obtained by introducing a graft chain following a radical-forming reaction into a polymer material used for various electronic materials and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、生成させたラジカルを開始点にし
てグラフト鎖を導入した膜や不織布などが濾過や吸着な
どの様々な用途で用いられている。プラズマによる処
理、または反応性ガスによる処理、または活性光線によ
る処理によってラジカルを生成させ、特定のモノマーを
グラフト重合することによって得られる複合高分子材料
においては、ラジカルやモノマーが残存していることに
よる影響が懸念される。例えば、グラフト重合反応を行
った材料を食品・医療分野に利用する場合、材料中に残
存しているラジカルや、残留しているモノマーが生体に
悪影響を及ぼすことが考えられる。また、残存ラジカル
による主鎖切断によって、強度が低下することが懸念さ
れる。さらに、エレクトロニクスやバイオなどクリーン
な環境下で用いられる材料においては、特に残存物の溶
出等による影響が懸念される。
2. Description of the Related Art In recent years, membranes and non-woven fabrics in which graft chains are introduced with the generated radicals as starting points have been used for various purposes such as filtration and adsorption. In the case of the composite polymer material obtained by generating radicals by the treatment with plasma, the treatment with the reactive gas, or the treatment with the actinic ray, and graft-polymerizing a specific monomer, the radicals and the monomers remain. There is concern about the impact. For example, when a material that has undergone a graft polymerization reaction is used in the fields of food and medical care, it is conceivable that the radicals remaining in the material and the remaining monomers may adversely affect the living body. Further, there is concern that the strength may be reduced due to the main chain breaking by the residual radicals. Furthermore, in the case of materials used in a clean environment such as electronics and biotechnology, there is a concern about the influence of elution of residual substances.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、残存するラ
ジカルによる強度劣化や、残留するモノマーの溶出によ
る悪影響のない複合高分子材料の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a method for producing a composite polymer material which is free from strength deterioration due to residual radicals and adverse effects due to elution of residual monomers.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、ラジカル生成
反応につづいてグラフト鎖を導入した後、高分子材料の
結晶融点より5℃以上低く、かつ60℃以上の熱水処理
工程を含む洗浄を行うことで、グラフト重合反応を行っ
た後の残存するモノマー等を充分に洗浄でき、かつラジ
カルによる強度劣化を防止することができることを見出
し、本発明をなすに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that after introducing a graft chain following a radical-forming reaction, the crystal melting point of the polymer material is 5 By carrying out washing including a hot water treatment step at a temperature lower than 60 ° C. and higher than 60 ° C., it is possible to sufficiently wash residual monomers and the like after the graft polymerization reaction and prevent deterioration of strength due to radicals. The present invention has been completed and the present invention has been completed.

【0005】即ち、本発明は、[1] 高分子材料にラ
ジカルを生成させ、つづいてビニル化合物と接触させる
ことによりグラフト鎖を導入した後、さらに下記式
(1)で表される温度(T℃)の熱水処理工程を含む洗
浄を行うことを特徴とする複合高分子材料の製造方法、 TM−5℃≧T℃≧60℃ (1) (式中、TMは高分子材料の結晶融点を表し、Tは熱水
処理温度を表す。) [2] 高分子材料に10kGy以上、500kGy以
下の電離性放射線を照射して高分子材料にラジカルを生
成させることを特徴とする[1]に記載の複合高分子材
料の製造方法、[3] 電離性放射線が、γ線又は電子
線であることを特徴とする[2]に記載の複合高分子材
料の製造方法、[4] 高分子材料が多孔性材料である
ことを特徴とする[1]、[2]または[3]に記載の
複合高分子材料の製造方法、[5] [1]、[2]、
[3]または[4]に記載の複合高分子材料の製造方法
によって得られる複合高分子材料、である。
That is, according to the present invention, [1] a radical is generated in a polymer material and then a graft chain is introduced by contacting with a vinyl compound, and then a temperature (T) represented by the following formula (1) ℃) hot water treatment step including washing, a method for producing a composite polymer material, T M −5 ° C. ≧ T ° C. ≧ 60 ° C. (1) (where T M is the polymer material) It represents a crystal melting point, and T represents a hot water treatment temperature.) [2] The polymer material is irradiated with ionizing radiation of 10 kGy or more and 500 kGy or less to generate radicals in the polymer material [1. [3] The method for producing a composite polymer material according to [2], [3] The method for producing a composite polymer material according to [2], wherein the ionizing radiation is a γ ray or an electron beam, [4] The molecular material is a porous material [1], [ Method for producing a composite polymeric material according to] or [3], [5] [1], [2],
A composite polymer material obtained by the method for producing a composite polymer material according to [3] or [4].

【0006】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
複合高分子材料の製造方法においては、高分子材料にラ
ジカルを生成させ、つづいてビニル化合物と接触させる
ことによりグラフト鎖を導入した後、60℃以上で、か
つ該高分子材料の結晶融点(TM℃)より5℃低い温度
以下の温度(T℃)で熱水処理を行う。本発明における
高分子材料に用いられる樹脂としては、ポリエチレン、
ポリプロピレン樹脂、ポリ4−メチル1−ペンテン樹脂
等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート
樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレン
ナフタレート樹脂、ポリブチレンナフタレート樹脂、ポ
リシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート樹脂等の
ポリエステル樹脂、ナイロン6、ナイロン66、ナイロ
ン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン1
2、ナイロン46等のポリアミド樹脂、ポリフッ化ビニ
リデン樹脂、エチレン/テトラフルオロエチレン樹脂、
ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂等のフッ素系樹
脂、ポリフェニレンエーテル樹脂およびポリアセタール
樹脂等の熱可塑性樹脂が挙げられる。
The present invention will be described in detail below. In the method for producing a composite polymer material of the present invention, a radical is generated in the polymer material, and then a graft chain is introduced by contacting with a vinyl compound, and then at 60 ° C. or higher and the crystal of the polymer material is used. The hot water treatment is carried out at a temperature (T ° C) lower than the melting point (T M ° C) by 5 ° C. As the resin used for the polymer material in the present invention, polyethylene,
Polypropylene resin, polyolefin resin such as poly 4-methyl 1-pentene resin, polyethylene terephthalate resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, polybutylene naphthalate resin, polyester resin such as polycyclohexylene dimethylene terephthalate resin, nylon 6 , Nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 11, nylon 1
2, polyamide resin such as nylon 46, polyvinylidene fluoride resin, ethylene / tetrafluoroethylene resin,
Examples thereof include fluororesins such as polychlorotrifluoroethylene resin, and thermoplastic resins such as polyphenylene ether resin and polyacetal resin.

【0007】本発明においては、一般的にグラフト重合
に適用されやすいポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
フッ化ビニリデンを高分子材料に使用することが好まし
い。高分子材料に生成させるラジカル量は、好ましくは
200×1015/g以上であり、さらに好ましくは、5
00×1015/g以上である。ラジカルを生成させる方
法としては、例えば、コロナ放電やグロー放電により発
生するプラズマによる処理、オゾンに代表されるような
活性ガスによる処理、水銀灯、蛍光灯、キセノン灯、金
属ハライド灯、タングステン灯、タングステン白熱灯、
紫外線、電離性放射線等の活性光線による処理が使用で
きる。中でも活性光線による処理が好ましく、活性光線
の中でも電離性放射線が好ましい。電離性放射線とは、
物質と作用して電離現象を起こすことのできる放射線で
あり、放射性崩壊によって放出されるα線、β線、γ
線、X線や、加速器により同程度以上のエネルギーが得
られる陽子線、電子線、π中間子、μ中間子、中性子線
のことである。本発明においては、工業的に大量生産に
向いているγ線か電子線を用いることがさらに好まし
く、特に均一にラジカルを生成できるγ線が好ましい。
In the present invention, it is preferable to use polyethylene, polypropylene, or polyvinylidene fluoride, which is generally applicable to graft polymerization, as the polymer material. The amount of radicals generated in the polymer material is preferably 200 × 10 15 / g or more, more preferably 5
It is not less than 00 × 10 15 / g. As a method for generating radicals, for example, treatment with plasma generated by corona discharge or glow discharge, treatment with active gas represented by ozone, mercury lamp, fluorescent lamp, xenon lamp, metal halide lamp, tungsten lamp, tungsten. Incandescent lamp,
Treatment with actinic rays such as ultraviolet rays and ionizing radiation can be used. Among them, the treatment with actinic rays is preferable, and among the actinic rays, ionizing radiation is preferable. What is ionizing radiation?
Radiation that is capable of causing ionization by interacting with substances, such as α rays, β rays, and γ emitted by radioactive decay.
Ray, X-ray, proton beam, electron beam, π-meson, μ-meson, and neutron beam that can obtain the same or higher energy by an accelerator. In the present invention, it is more preferable to use γ-rays or electron beams that are industrially suitable for mass production, and γ-rays that can generate radicals uniformly are particularly preferable.

【0008】本発明において電離性放射線の照射線量は
10kGy以上、500kGy以下が好ましく、20k
Gy以上、200kGy以下がより好ましい。10kG
y以上、500kGy以下の照射線量であれば、有効な
量のラジカルを生成することが出来、照射後の材料の強
度劣化も起こらないことから好ましい。また、多孔性材
料のような比表面積の大きなものほどこの効果はより顕
著である。本発明においては、高分子材料にラジカルを
生成させ、つづいてビニル化合物と接触させることによ
りグラフト重合を行う。グラフト重合の方法としては、
ラジカルを生成させた後にモノマーと接触させる前照射
法と、モノマーと接触させた状態でラジカルを生成させ
る同時照射法に大別され、ラジカルとモノマーの接触に
ついても気相と液相がある。本発明においては、いかな
る方法も適用しうるが、液相の前照射法が最も好ましい
方法である。
In the present invention, the irradiation dose of ionizing radiation is preferably 10 kGy or more and 500 kGy or less, and 20 kGy or less.
Gy or more and 200 kGy or less are more preferable. 10 kG
An irradiation dose of y or more and 500 kGy or less is preferable because an effective amount of radicals can be generated and the strength of the material after irradiation does not deteriorate. Further, this effect is more remarkable as the specific surface area of the porous material is larger. In the present invention, a radical is generated in the polymer material and then contacted with the vinyl compound to carry out the graft polymerization. As a method of graft polymerization,
The method is roughly divided into a pre-irradiation method in which radicals are generated and then brought into contact with a monomer, and a simultaneous irradiation method in which radicals are generated in a state in which the radicals are brought into contact with each other. In the present invention, any method can be applied, but the liquid phase pre-irradiation method is the most preferable method.

【0009】本発明において用いるビニル化合物として
は、ビニル基を有するモノマー、あるいはポリマーであ
り、ラジカルとの反応により開裂および重合しうる反応
基を有する有機化合物のことである。例えば以下のもの
が挙げられる。アクリル酸およびその誘導体、例えばア
クリルアミド、N,N,−ジメチルアクリルアミド、ア
クリロニトリル、メチルアクリレート、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、2−メトキシエチルアクリレート、2−エトキシ
エチルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレー
ト、および1,4−ブタンジオールジアクリレート;メ
タクリル酸、例えばメタクリル酸グリシジル、およびそ
れらの適切な誘導体;カルボン酸ビニル誘導体、例えば
ビニルアセテート、N−ビニルアセトアミド、およびN
−ビニルピロリドン;ビニルスルホン酸およびそれらの
アルカリ金属塩、例えばナトリウムビニルスルホン酸
塩;アルケニルアリールスルホン酸およびそれらのアル
カリ金属塩、例えばスチロールスルホン酸およびナトリ
ウムスチロールスルホン酸塩;ビニルエーテル、例えば
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニル
グリシジルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエ
ーテル、およびビニル−n−ブチルエーテル;ビニルケ
トン、例えばビニルメチルケトン、ビニルエチルケト
ン、およびビニル−n−プロピルケトン;ビニルアミ
ン、例えばN−ビニルピロリジン;末端にアリル基、ビ
ニル基、アクリル基、またはメタクリル基を有するポリ
アルキレン化合物、例えばエトキシテトラエトキシエチ
ルアクリレート、またはエトキシテトラエトキシエチル
メタクリレート、n−プロポキシドデカエチレンオキシ
エチルビニルエーテル、ポリエチレングリコールモノア
クリレート、ポリ(エチレン/プロピレン)グリコール
モノメタクリレート、およびアリルオキシオクタプロピ
レンオキシエタノール;糖誘導体、例えばビニル置換ア
ラビノースまたはアクリロイル化したヒドロキシプロピ
ルセルロース;官能基を有するポリアルキレングリコー
ル、例えばトリエチレングリコールジアクリレート、テ
トラエチレングリコールジアリルエーテルなどである。
その他、スチレンの誘導体としてスチレン、クロロメチ
ルスチレン、スチレンスルホン酸なども含まれる。水溶
性のビニル化合物を用いることが好ましい。
The vinyl compound used in the present invention is a monomer or polymer having a vinyl group, and an organic compound having a reactive group capable of being cleaved and polymerized by a reaction with a radical. For example: Acrylic acid and its derivatives such as acrylamide, N, N, -dimethylacrylamide, acrylonitrile, methyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, 4-hydroxybutyl. Acrylate, and 1,4-butanediol diacrylate; Methacrylic acid, such as glycidyl methacrylate, and suitable derivatives thereof; Vinyl carboxylate derivatives, such as vinyl acetate, N-vinyl acetamide, and N.
Vinylpyrrolidone; vinylsulphonic acids and their alkali metal salts, such as sodium vinylsulphonate; alkenylarylsulphonic acids and their alkali metal salts, such as styrene sulphonic acid and sodium styrenesulphonate; vinyl ethers such as vinyl methyl ether, Vinyl ethyl ether, vinyl glycidyl ether, diethylene glycol divinyl ether, and vinyl-n-butyl ether; vinyl ketone, such as vinyl methyl ketone, vinyl ethyl ketone, and vinyl-n-propyl ketone; vinyl amine, such as N-vinyl pyrrolidine; , A polyalkylene compound having a vinyl group, an acrylic group, or a methacrylic group, for example, ethoxytetraethoxyethyl acrylate, or Toxytetraethoxyethyl methacrylate, n-propoxide decaethyleneoxyethyl vinyl ether, polyethylene glycol monoacrylate, poly (ethylene / propylene) glycol monomethacrylate, and allyloxyoctapropyleneoxyethanol; sugar derivatives such as vinyl-substituted arabinose or acryloylated hydroxy. Propyl cellulose; polyalkylene glycol having a functional group, such as triethylene glycol diacrylate and tetraethylene glycol diallyl ether.
In addition, styrene, chloromethylstyrene, styrenesulfonic acid, etc. are also included as derivatives of styrene. It is preferable to use a water-soluble vinyl compound.

【0010】本発明においては、グラフト鎖の導入後、
熱水処理工程を含む洗浄を行う。該熱水処理工程とは、
M−5℃≧T℃≧60℃(ここで、TMは高分子材料
の結晶融点を表す。)を満足する温度(T℃)の熱水中
に高分子材料を浸漬することである。熱水温度(T℃)
は、 TM−10℃≧T℃≧80℃を満足する温度である
ことが好ましく、 TM−10℃≧T℃≧100℃を満足
する温度であることがさらに好ましい。60℃以上の温
度で熱水処理を行えば、ラジカルの失活や残存モノマー
の除去の効果を発揮することができ、高分子材料の融点
より5℃低い温度以下の温度、即ちT℃≦TM−5℃で
熱水処理を行えば、該高分子材料の形状の変化や物性の
変化を引き起こす恐れがない。熱水処理に用いる水の量
は、完全に高分子材料を浸漬することのできる量であ
り、高分子材料の重量の5倍以上が好ましく、より好ま
しくは10倍以上、特に好ましくは20倍以上である。
高分子材料の重量の5倍以上の熱水の量で洗浄を行え
ば、通常、高分子材料を完全に浸漬することができ、満
足できる洗浄効果を得ることができる。
In the present invention, after the introduction of the graft chain,
Cleaning including a hot water treatment step is performed. The hot water treatment step is
That is, the polymer material is immersed in hot water at a temperature (T ° C.) that satisfies T M −5 ° C. ≧ T ° C. ≧ 60 ° C. (where TM represents the crystal melting point of the polymer material). Hot water temperature (T ° C)
Is preferably a temperature satisfying T M −10 ° C. ≧ T ° C. ≧ 80 ° C., more preferably a temperature satisfying T M −10 ° C. ≧ T ° C. ≧ 100 ° C. If hot water treatment is performed at a temperature of 60 ° C. or higher, the effects of deactivating radicals and removing residual monomers can be exhibited, and the temperature is 5 ° C. or lower than the melting point of the polymer material, that is, T ° C. ≦ T. When hot water treatment is performed at M- 5 ° C, there is no risk of causing changes in the shape and physical properties of the polymer material. The amount of water used for the hot water treatment is such that the polymer material can be completely immersed, and is preferably 5 times or more, more preferably 10 times or more, and particularly preferably 20 times or more the weight of the polymer material. Is.
If the washing is performed with an amount of hot water that is 5 times or more the weight of the polymer material, the polymer material can usually be completely immersed, and a satisfactory washing effect can be obtained.

【0011】浸漬時間は1分以上であることが好まし
く、さらに好ましくは5分から1時間である。浸漬時間
が長すぎると高分子材料が劣化する場合があり、短すぎ
ると効果が充分でない。また、上記処理を複数回繰り返
すことは、高分子材料中のラジカルの失活、強度劣化の
防止、及びモノマーの洗浄においてより高い効果を得る
ことができ、好ましい実施態様である。熱水処理を複数
回繰返す場合は、合計した浸漬時間が1時間以下である
ことが好ましい。
The immersion time is preferably 1 minute or more, more preferably 5 minutes to 1 hour. If the immersion time is too long, the polymer material may deteriorate, and if it is too short, the effect is not sufficient. In addition, repeating the above-mentioned treatment a plurality of times is a preferable embodiment because it is possible to obtain higher effects in deactivating radicals in the polymer material, preventing strength deterioration, and washing the monomer. When the hot water treatment is repeated a plurality of times, the total immersion time is preferably 1 hour or less.

【0012】本発明は、高分子材料に対して一般に上記
処理方法が適用できるが、特に多孔性材料において、効
果は顕著である。多孔性材料とは、高分子材料中に体積
分率で10%以上の貫通した空隙を含む材料のことであ
り、多孔性材料の例として高分子の焼結体、発泡体、不
織布、濾過膜や透析膜等の各種高分子多孔性膜がある。
特に、高分子多孔性膜に本発明の方法を適用すること
は、溶出が問題となるエレクトロニクス分野における超
純水の製造や薬液の濾過において効果的であり、食品関
係や医療用途に使用する際には、有害物質の溶出を防ぐ
上で有効である。
In the present invention, the above treatment method can be generally applied to polymer materials, but the effect is remarkable especially in porous materials. The porous material is a material containing a penetrating void of 10% or more in volume in a polymer material, and examples of the porous material include a polymer sintered body, a foam, a nonwoven fabric, and a filtration membrane. There are various types of polymeric porous membranes such as dialysis membranes.
In particular, applying the method of the present invention to a polymer porous membrane is effective in the production of ultrapure water and the filtration of chemicals in the electronics field where elution is a problem, and when used in food-related or medical applications. Is effective in preventing elution of harmful substances.

【0013】特に、医薬医療用途、例えば透析膜や血漿
分画製剤の濾過に用いられる膜などにおいては、残留す
る溶出物の除去ばかりでなく、残存するラジカルを消滅
させ、ラジカルによる生体への影響を防止する上でも有
効である。さらにラジカルの消滅により、多孔性材料の
強度劣化を防ぐ効果も期待できる。
Particularly, in medical and medical applications such as dialysis membranes and membranes used for filtration of plasma fractionated preparations, not only the remaining eluate is removed, but also the remaining radicals are extinguished, and the influence of the radicals on the living body. It is also effective in preventing Furthermore, the effect of preventing the strength deterioration of the porous material due to the disappearance of radicals can be expected.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を詳細
に説明する。実施例において示される試験方法は次の通
りである。 (1)結晶融点の測定 示差走査熱量測定(以下、DSCと言う。)により行っ
た。示差走査熱量測定装置(セイコー電子製 SSC−
5000)を用い、温度範囲30〜300℃、昇温速度
10℃/分にて測定し、高分子材料の吸熱ピークのピー
クトップを求め、その温度を結晶融点(℃)とした。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below with reference to Examples. The test methods shown in the examples are as follows. (1) Measurement of Crystal Melting Point It was measured by differential scanning calorimetry (hereinafter referred to as DSC). Differential scanning calorimeter (Seiko Denshi SSC-
5,000) at a temperature range of 30 to 300 ° C. and a temperature rising rate of 10 ° C./min, the peak top of the endothermic peak of the polymer material was determined, and the temperature was defined as the crystal melting point (° C.).

【0015】(2)残存ラジカル量の測定 電子スピン共鳴(ESR)装置(日本電子(株)製 J
ES−FE2GX)を用いて、サンプル量約0.05g
をESR試料管に充填して複合高分子材料中に残存する
ラジカル量(スピン数/g)を測定した。 (3)引張破断強度、引張破断伸度 引っ張り試験機((株)島津製作所製 オートグラフA
G−A型)を用いて、試験片の長さ100mm、チャッ
ク間距離(標線距離)50mm、引張速度200mm/
分、測定温度23±2℃の試験条件で引張試験を行っ
た。使用した試料は作製後1ヶ月経過したものである。
破断荷重(N)、破断伸び(mm)および断面積
(m2)より次式の通りに、破断強度(N/m2 )およ
び破断伸度(%)を求めた。 引張破断強度(N/m2 )=破断荷重÷断面積 引張破断伸度(%)=破断伸び÷チャック間距離×10
0 (4)溶出物の定量 グラフト重合反応後、500mlのエタノールで1回洗
浄し、オートクレーブ(トミー工業(株)社製 BS−
235型)を用いて所定の温度で熱水処理を行った。続
いて、再び同装置を用いて121℃の熱水で洗浄を行
い、洗浄後の水を適宜希釈して塩酸を添加しpH2以下
に調整した後、窒素ガスを通気し無機体炭素成分を除去
した。この溶液を測定液として、高温燃焼酸化赤外線式
TOC分析法で東レエンジニアリング製 TOC計65
0形を用いて炭素量を求め、残留するモノマー量を分析
した。透析型人工腎臓装置承認基準に基づく溶出物試験
の基準値は100ppmである。
(2) Measurement of residual radical amount Electron spin resonance (ESR) device (JEOL Co., Ltd.)
ES-FE2GX), sample amount about 0.05g
Was filled in an ESR sample tube and the amount of radicals (spin number / g) remaining in the composite polymer material was measured. (3) Tensile breaking strength, tensile breaking elongation Tensile testing machine (Autograph A manufactured by Shimadzu Corporation)
G-A type), the length of the test piece is 100 mm, the distance between the chucks (mark line distance) is 50 mm, the pulling speed is 200 mm /
A tensile test was performed under the test conditions of a measurement temperature of 23 ± 2 ° C. The sample used is one month after the preparation.
The breaking strength (N / m 2 ) and the breaking elongation (%) were calculated from the breaking load (N), the breaking elongation (mm) and the cross-sectional area (m 2 ) according to the following equations. Tensile breaking strength (N / m 2 ) = breaking load / cross-sectional area tensile breaking elongation (%) = breaking elongation / distance between chucks × 10
0 (4) Quantification of eluate After graft polymerization reaction, it was washed once with 500 ml of ethanol and autoclaved (BS-manufactured by Tomy Industries Co., Ltd.).
Model 235) was used to perform hot water treatment at a predetermined temperature. Then, using the same apparatus again, washing with hot water at 121 ° C., washing water is appropriately diluted, hydrochloric acid is added to adjust the pH to 2 or less, and then nitrogen gas is aerated to remove inorganic carbon components. did. This solution is used as a measuring solution, and TOC Engineering TOC meter 65 manufactured by Toray Engineering Co.
The amount of carbon was determined using Form 0 and the amount of residual monomer was analyzed. The standard value of the eluate test based on the dialysis-type artificial kidney device approval standard is 100 ppm.

【0016】[0016]

【実施例1】ポリフッ化ビニリデン樹脂(SOLVAY
社製、SOLEF1012、結晶融点178℃)40w
t%、リン酸トリフェニル60wt%からなる組成物を
ヘンシェルミキサーを用いて70℃で攪拌混合した後、
冷却して粉体状としたものをホッパーより投入し、35
mm二軸押出機を用いて210℃で溶解混合した。続い
て、中空内部に120℃に加温したリン酸トリ(2−エ
チルヘキシル)を7mL/分の速度で流しつつ、内直径
0.8mm、外直径1.2mmの環状オリフィスからな
る紡口より中空糸状に押し出し、40℃に調温された水
浴中で冷却固化させてカセに巻き取った。その後、エタ
ノールでリン酸トリフェニルを抽出除去し、付着したエ
タノールを乾燥除去した後、定長固定状態で130℃の
熱処理を1時間施すことによって中空糸状の多孔性高分
子材料を得た。得られた高分子材料の膜厚は40μm、
最大孔径は36nm、空孔率は60%であった。この該
高分子材料を長さ25cmに切断し、400本に束ねた
ものに対し、放射線グラフト重合法による親水化処理を
行った。窒素雰囲気下でコバルト60を線源として照射
量100kGyのγ線を照射した。このときのラジカル
量をESRで測定した結果、2630×1015/gであ
った。
Example 1 Polyvinylidene fluoride resin (SOLVAY
Manufactured by SOLEF1012, crystal melting point 178 ° C) 40w
After stirring and mixing a composition consisting of t% and triphenyl phosphate 60 wt% at 70 ° C. with a Henschel mixer,
It is cooled and put into powder form from the hopper.
It melt-mixed at 210 degreeC using the mm twin screw extruder. Then, while flowing tri (2-ethylhexyl) phosphate heated at 120 ° C inside the hollow at a rate of 7 mL / min, it was hollow from the spinneret consisting of an annular orifice with an inner diameter of 0.8 mm and an outer diameter of 1.2 mm. It was extruded into a filament, cooled and solidified in a water bath adjusted to 40 ° C., and wound on a cassette. Then, triphenyl phosphate was extracted and removed with ethanol, and the attached ethanol was removed by drying, and then heat treatment was performed at 130 ° C. for 1 hour in a fixed length fixed state to obtain a hollow fiber-shaped porous polymer material. The thickness of the obtained polymer material is 40 μm,
The maximum pore size was 36 nm and the porosity was 60%. This polymer material was cut into a length of 25 cm and bundled into 400 pieces was subjected to a hydrophilic treatment by a radiation graft polymerization method. In a nitrogen atmosphere, γ-rays with a dose of 100 kGy were irradiated using cobalt 60 as a radiation source. The radical amount at this time was measured by ESR, and it was 2630 × 10 15 / g.

【0017】この膜を反応容器に充填後、反応容器内を
13Pa以下まで真空に引き、室温で15分静置した。
次に、0.78vol%のヒドロキシプロピルアクリレ
ート(東京化成(株)社製)、2.04vol%のポリ
エチレングリコールジメタクリレート(Aldrich
社製、数平均分子量875)、25vol%のt−ブチ
ルアルコール(純正化学(株)社製)、および72.1
8vol%の蒸留水を含むモノマー溶液を窒素バブリン
グし、モノマー溶液から溶存酸素を取り除いた。このグ
ラフト反応溶液を、脱気した反応容器に吸引導入し、反
応温度40℃で2時間反応させた。反応後、容器から取
り出し、500mlのエタノールで1回洗浄し、続けて
100mlの蒸留水中に浸漬し、オートクレーブ(トミ
ー工業(株)社製 BS−235型)で121℃の熱水
処理を20分間行った。その結果、表1に記載の通り、
得られた複合高分子材料はラジカルが検出下限以下まで
消滅し、1ヶ月経過した後の強度・伸度とも比較例に比
べて高く、洗浄後の材料中の残留モノマー量も15pp
mと低かった。
After filling this membrane in a reaction vessel, the inside of the reaction vessel was evacuated to 13 Pa or less and left at room temperature for 15 minutes.
Next, 0.78 vol% hydroxypropyl acrylate (manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) and 2.04 vol% polyethylene glycol dimethacrylate (Aldrich).
Co., Ltd., number average molecular weight 875), 25 vol% t-butyl alcohol (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.), and 72.1.
A monomer solution containing 8 vol% distilled water was bubbled with nitrogen to remove dissolved oxygen from the monomer solution. This graft reaction solution was suction-introduced into a degassed reaction vessel and reacted at a reaction temperature of 40 ° C. for 2 hours. After the reaction, the product was taken out of the container, washed once with 500 ml of ethanol, subsequently immersed in 100 ml of distilled water, and subjected to hot water treatment at 121 ° C. for 20 minutes in an autoclave (BS-235 type manufactured by Tomy Industries Co., Ltd.). went. As a result, as shown in Table 1,
In the obtained composite polymer material, the radicals disappeared below the detection limit, and the strength and elongation after 1 month were higher than those of the comparative examples, and the residual monomer amount in the material after washing was 15 pp.
It was as low as m.

【0018】[0018]

【実施例2】熱水処理温度を105℃とした以外は実施
例1と同様にして中空糸状多孔性高分子材料を得た。表
1に記載の通り、実施例1と同様にラジカル量が5×1
15/gまで消滅し、材料の強度と伸度も維持でき、洗
浄後の残留モノマー量も22ppmであった。
Example 2 A hollow fiber-shaped porous polymer material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hot water treatment temperature was 105 ° C. As shown in Table 1, the radical amount was 5 × 1 as in Example 1.
It disappeared to 0 15 / g, the strength and elongation of the material could be maintained, and the amount of residual monomer after washing was 22 ppm.

【0019】[0019]

【実施例3】熱水処理温度を80℃とした以外は実施例
1と同様にして中空糸状多孔性高分子材料を得た。表1
に記載の通りラジカル量が50×1015/gまで消滅
し、材料の強度と伸度は比較例と比べて高く、洗浄後の
残留モノマー量は32ppmであった。
Example 3 A hollow fiber-shaped porous polymer material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hot water treatment temperature was 80 ° C. Table 1
As described above, the radical amount disappeared to 50 × 10 15 / g, the strength and elongation of the material were higher than those of the comparative examples, and the residual monomer amount after washing was 32 ppm.

【0020】[0020]

【比較例1】熱水処理を、25℃の蒸留水とした以外は
実施例1と同様にして中空糸状多孔性高分子材料を得
た。破断強度・伸度の測定は試料作製後1ヶ月経過した
後に行った。その結果、表1に記載の通り、得られたグ
ラフト重合反応後の高分子材料にはラジカルが281×
1015/gも残存しており、強度・伸度ともに実施例と
比べて低い。さらに、洗浄後の残留モノマー量も実施例
1の約60倍の940ppmを示した。以上からラジカ
ルが大量に存在し、強度も劣化し、さらには洗浄も不十
分であることがわかった。
[Comparative Example 1] A hollow fiber-shaped porous polymer material was obtained in the same manner as in Example 1 except that distilled water at 25 ° C was used as the hot water treatment. The breaking strength and elongation were measured 1 month after the preparation of the sample. As a result, as shown in Table 1, the obtained polymer material after the graft polymerization reaction had 281 x radicals.
As much as 10 15 / g remains, both strength and elongation are lower than those of the examples. Further, the amount of residual monomer after washing was 940 ppm, which was about 60 times that in Example 1. From the above, it was found that a large amount of radicals are present, the strength is deteriorated, and the cleaning is insufficient.

【0021】[0021]

【表1】 [Table 1]

【0022】[0022]

【発明の効果】本発明によれば、ラジカル生成反応につ
づいてグラフト重合後の残存ラジカルを失活でき、強度
および伸度を保持し、さらにグラフト重合反応後の残留
モノマーも充分に除去でき、安全な複合高分子材料を提
供できる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, residual radicals after graft polymerization can be deactivated following a radical generation reaction, strength and elongation can be maintained, and residual monomers after graft polymerization reaction can be sufficiently removed. A safe composite polymer material can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4F073 AA05 BA06 BA07 BA08 BA15 BA23 BA24 BA27 BA29 BA34 CA41 EA11 FA01 FA03 4F074 AA17 AA24 AA26 AA38 AA57 AA66 AA71 AA77 AA97 CD11 CD17 DA44 DA59    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 4F073 AA05 BA06 BA07 BA08 BA15                       BA23 BA24 BA27 BA29 BA34                       CA41 EA11 FA01 FA03                 4F074 AA17 AA24 AA26 AA38 AA57                       AA66 AA71 AA77 AA97 CD11                       CD17 DA44 DA59

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 高分子材料にラジカルを生成させ、つづ
いてビニル化合物と接触させることによりグラフト鎖を
導入した後、さらに下記式(1)で表される温度(T
℃)の熱水処理工程を含む洗浄を行うことを特徴とする
複合高分子材料の製造方法。 TM−5℃≧T℃≧60℃ (1) (式中、TMは高分子材料の結晶融点を表し、Tは熱水
処理温度を表す。)
1. A radical is generated in a polymer material, and then a graft chain is introduced by contacting with a vinyl compound, and then a temperature (T) represented by the following formula (1)
C.) The method for producing a composite polymer material, which comprises performing washing including a hot water treatment step. T M −5 ° C. ≧ T ° C. ≧ 60 ° C. (1) (In the formula, T M represents the crystalline melting point of the polymer material, and T represents the hot water treatment temperature.)
【請求項2】 高分子材料に10kGy以上、500k
Gy以下の電離性放射線を照射して高分子材料にラジカ
ルを生成させることを特徴とする請求項1に記載の複合
高分子材料の製造方法。
2. Polymer material of 10 kGy or more, 500 k
The method for producing a composite polymer material according to claim 1, wherein the polymer material is irradiated with an ionizing radiation of Gy or less to generate radicals.
【請求項3】 電離性放射線が、γ線又は電子線である
ことを特徴とする請求項2に記載の複合高分子材料の製
造方法。
3. The method for producing a composite polymer material according to claim 2, wherein the ionizing radiation is γ ray or electron beam.
【請求項4】 高分子材料が多孔性材料であることを特
徴とする請求項1、2または3に記載の複合高分子材料
の製造方法。
4. The method for producing a composite polymer material according to claim 1, 2 or 3, wherein the polymer material is a porous material.
【請求項5】 請求項1、2、3または4に記載の複合
高分子材料の製造方法によって得られる複合高分子材
料。
5. A composite polymer material obtained by the method for producing a composite polymer material according to claim 1, 2.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009522404A (en) * 2005-12-30 2009-06-11 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Functionalized substrate

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