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JP2003160554A - Ｃｏｘ−２阻害剤のプロドラッグとしての置換ベンゼンスルホンアミド誘導体 - Google Patents

Ｃｏｘ−２阻害剤のプロドラッグとしての置換ベンゼンスルホンアミド誘導体

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JP2003160554A
JP2003160554A JP2002258955A JP2002258955A JP2003160554A JP 2003160554 A JP2003160554 A JP 2003160554A JP 2002258955 A JP2002258955 A JP 2002258955A JP 2002258955 A JP2002258955 A JP 2002258955A JP 2003160554 A JP2003160554 A JP 2003160554A
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JP
Japan
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phenyl
sulfonyl
methyl
alkyl
phenylisoxazol
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Application number
JP2002258955A
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English (en)
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JP4049307B2 (ja
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John J Talley
ジョン，ジェイ．タリイ
James W Malecha
ジェームズ，ダブリュ．メールチャ
Stephen Bertenshaw
スチーブン・バーテンショー
Matthew J Graneto
マシュー，ジェイ．グレナト
Jeffery S Carter
ジェフリー，エス．カーター
Jinglin Li
ジングリン・リー
Srinivasan Nagarajan
スリニバサン・ナガラジャン
David L Brown
デビッド，エル．ブラウン
Jr Donald J Rogier
ドナルド，ジェイ．ロジャー，ジュニア．
Thomas D Penning
トマス，ディ．ペニング
Ish K Khanna
イシュ，ケイ．クハンナ
Xiangdong Xu
クシアンドン・イクス
Richard M Weier
リチャード，エム．ウエイアー
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Original Assignee
GD Searle LLC
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 ヒトの治療に有用であるだけでなく、獣医学
的治療に対しても有用である、シクロオキシゲナーゼ−
２（ＣＯＸ−２）を選択的に阻害する抗炎症性組成物に
適したプロドラッグとして有用な化合物を提供する。 【解決手段】 プロドラッグとして有用な、式Ｉにより
定義される一群の置換スルホンアミド化合物あるいはそ
の製薬上容認しうる塩を提供すること。さらに、この本
発明の化合物は他の従来的な抗炎症剤に代って共同療法
で使用することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、抗炎症性医薬製剤
の分野にあり、更に詳しく言えば、シクロオキシゲナー
ゼ−２を選択的に阻害する化合物のプロドラッグに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】非ステロイド系抗炎症薬剤（ＮＳＡＩ
Ｄ）を、炎症に関連した痛みおよび腫脹の治療に使用す
ることは、生命に危険をもたらす潰瘍を含めて重篤な副
作用を生み出す。炎症と関連する誘導酵素（「プロスタ
グランジンＧ／ＨシンターゼII」あるいは「シクロオキ
シゲナーゼ−２（ＣＯＸ−２）」）についての最近の発
見は、炎症を一層効果的に軽減し、激しい副作用を殆ど
生じない実行可能な酵素阻害の目標を提供している。
【０００３】シクロオキシゲナーゼ−２を選択的に阻害
する化合物が記述されている。米国特許第５，３８０，
７３８号明細書は、シクロオキシゲナーゼ−２を選択的
に阻害するオキサゾール類を記載している。米国特許第
５，３４４，９９１号明細書は、シクロオキシゲナーゼ
−２を選択的に阻害するシクロペンテン類を記載してい
る。米国特許第５，３９３，７９０号明細書は、シクロ
オキシゲナーゼ−２を選択的に阻害するスピロ化合物を
記載している。ＷＯ９４／１５９３２は、シクロオキシ
ゲナーゼ−２を選択的に阻害するチオフェンおよびフラ
ン誘導体を記載している。ＷＯ９４／２７９８０は、シ
クロオキシゲナーゼ−２を選択的に阻害するオキサゾー
ル類を記載している。ＷＯ９４／１３６３５は、シクロ
オキシゲナーゼ−２を選択的に阻害する化合物を記載し
ている。ＷＯ９４／２０４８０は、シクロオキシゲナー
ゼ−２を選択的に阻害する化合物を記載している。ＷＯ
９５／１５３１６は、シクロオキシゲナーゼ−２を選択
的に阻害するピラゾリルスルホンアミド誘導体を記載し
ている。しかし、ある環境においては、特にプロドラッ
グの水溶性が勝れているか、あるいは作用の出現が遅い
場合には、抗炎症性化合物のプロドラッグが有利であ
る。
【０００４】置換スルホンアミド類が記述されている。
ピラゾリル−スルホニルウレア類は、可能な血糖低下活
性を有するとして記載されている［H．Faid-Allah and
H．Mokhtar，Ind．J．Chem.２７，２４５（１９８
８）］。ＪＰ１，０４５，３７４は、還元性物質の定量
についての検定に有用な水溶性テトラゾリウム化合物を
記載している。D．Mukerjee等［Acta Pharma．Jugos
l.，３１，１５１（１９８１）］は、抗ウイルス剤とし
てのテトラゾリウムスルホンアミド類を記載している。
ＪＰ４，２７７，７２４は、非線形光学物質としてのト
リフェニルピラゾリン類を記載している。ＪＰ５，３２
３，５２２は、黒白写真材料における複素環化合物の使
用法を記載している。米国特許第５，３８９，６３５号
明細書は、アンギオテンシンII拮抗物質としての置換イ
ミダゾール類を記載している。米国特許第５，３８７，
５９２号明細書は、アンギオテンシンII拮抗物質として
の置換ベンゾイミダゾール誘導体を記載している。G．D
orofeenko等［Khim．Farm．Zh.，１６，９２０（１９８
２）］は、抗ウイルス剤としてピリジニウム塩を記載し
ている。米国特許第５，３３８，７４９号明細書は、抗
関節炎剤としてジアリール置換ヘテロシクリル化合物を
記載している。ＷＯ９４／２６７３１は、シクロオキシ
ゲナーゼ−２を選択的に阻害するチオフェン化合物を記
載している。ＷＯ９５／００５０１は、シクロオキシゲ
ナーゼ−２を選択的に阻害する化合物を記載しており、
更に詳しく言えば、３−（４−（トリフルオロアセチル
アミノスルホニル）フェニル）−２−（４−フルオロフ
ェニル）チオフェンを記載している。T．Ivanov［Mh．C
hem.，９７，１４９９（１９６６）］は、可能な指示薬
としてのジアリールインドン誘導体の製造法を記載して
おり、更に詳しく言えば、２−（４−（Ｎ−メチルアミ
ノスルホニル）フェニル）−３−フェニルインドンが記
載されている。
【０００５】J．Larsen and H．Bundgaard［Int．J．Ph
armaceutics，３７，８７（１９８７）］は、潜在的プ
ロドラッグ誘導体として、Ｎ−アシルスルホンアミドの
評価を記載している。J．Larsen等［Int．J．Pharmaceu
tics，４７，１０３（１９８８）］は、潜在的プロドラ
ッグ誘導体として、Ｎ−メチルスルホンアミド類の評価
を記載している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】注射可能な抗炎症性組
成物に適した化合物に対して現在要望がある。本発明化
合物は、プロドラッグとしての有用性を示すことが判明
した。
【０００７】
【課題を解決するための手段】プロドラッグとして有用
な一群の置換スルホンアミド化合物は式Ｉ：
【化１５】 式中、Ａは部分的に不飽和なヘテロシクリル、ヘテロア
リール、シクロアルケニルおよびアリールから選ばれる
環置換基であり、そしてＡは、置換可能な位置で、アル
キルカルボニル、ホルミル、ハロ、アルキル、ハロアル
キル、オキソ、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルコ
キシ、アミノカルボニル、アルコキシカルボニル、カル
ボキシアルキル、シアノアルキル、ヒドロキシアルキ
ル、ハロアルキルスルホニルオキシ、アルコキシアルキ
ルオキシアルキル、カルボキシアルコキシアルキル、シ
クロアルキルアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテ
ロシクリルオキシ、アルキルチオ、シクロアルキル、ア
リール、ヘテロシクリル、シクロアルケニル、アルアル
キル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルチオアルキ
ル、アリールカルボニル、アルアルキルカルボニル、ア
ルアルケニル、アルコキシアルキル、アリールチオアル
キル、アリールオキシアルキル、アルアルキルチオアル
キル、アルアルコキシアルキル、アルコキシカルボニル
アルキル、アミノカルボニルアルキル、アルキルアミノ
カルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ−アル
キル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、アルキルアミノ
カルボニルアルキル、アルキルアミノ、Ｎ−アリールア
ミノ、Ｎ−アルアルキルアミノ、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルアルキルアミノ、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミ
ノ、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、Ｎ−ア
リールアミノアルキル、Ｎ−アルアルキルアミノアルキ
ル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルアルキルアミノアルキル、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノアルキル、アリール
オキシ、アルアルコキシ、アリールチオ、アルアルキル
チオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ア
ミノスルホニル、アルキルアミノスルホニル、Ｎ−アリ
ールアミノスルホニル、アリールスルホニル、およびＮ
−アルキル−Ｎ−アリールアミノスルホニルから選ばれ
る１個以上の基で任意に置換され；Ｒ１はヘテロシクリ
ル、シクロアルキル、シクロアルケニルおよびアリール
から選ばれ、そしてＲ１は、置換可能な位置で、アルキ
ル、ハロアルキル、シアノ、カルボキシル、アルコキシ
カルボニル、ヒドロキシル、ヒドロキシアルキル、ハロ
アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミ
ノ、ニトロ、アルコキシアルキル、アルキルスルフィニ
ル、ハロ、アルコキシおよびアルキルチオから選ばれる
１個以上の基で任意に置換され；Ｒ２はヒドリドおよび
アルコキシカルボニルアルキルから選ばれ；そしてＲ３
は、アルキル、カルボキシアルキル、アシル、アルコキ
シカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルコキシ
カルボニルアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル
カルボニル、アミノ酸残基、およびアルキルカルボニル
アミノアルキルカルボニルから選ばれるが、ただしＡは
テトラゾリウム、またはピリジニウムではないことを条
件とし、またＲ３がアルキルまたはカルボキシアルキル
であるときには、Ａはインダノンではないことを更に条
件とする、により定義される化合物あるいはその製薬上
容認しうる塩である。
【０００８】
【発明の実施の形態】式Ｉを有する化合物は、患者にお
ける炎症の治療に、また他のシクロオキシゲナーゼ−２
媒介疾患の治療に、痛みおよび頭痛の処置の際の鎮痛剤
として、あるいは発熱の処置に対する解熱剤として有用
であるが、これらに限らない。例えば、本発明化合物は
関節炎、例えば慢性関節リウマチ、背椎関節障害、痛風
性関節炎、骨関節症、全身性紅斑性狼瘡、および若年性
関節炎の治療に有用であるが、これらに限定されない。
このような本発明化合物は、喘息、気管支炎、月経性け
いれん、早産、腱炎、滑液包炎、皮膚に関する症状、例
えば乾癬、湿疹、火傷および皮膚炎の治療に、また眼科
外科手術、例えば白内障の手術および難治症外科手術を
含めて術後の炎症の治療に有用な筈である。本発明化合
物はまた胃腸系症状、例えば炎症性腸疾患、クローン
病、胃炎、過敏腸管症候群および潰瘍性大腸炎の治療に
も有用であろう。本発明化合物は、癌、例えば結腸・直
腸癌および乳癌、肺癌、前立腺癌、膀胱癌、子宮頚癌お
よび皮膚癌の防止あるいは治療に有用であろう。本発明
化合物は、例えば血管の疾患、片頭痛、結節性動脈周囲
炎、甲状腺炎、再生不良性貧血、ホジキン病、スクレロ
ドーマ（sclerodoma）、リウマチ熱、Ｉ型糖尿病、神経
筋接合部の病気、例えば重症筋無力症、白質疾患、例え
ば多発性硬化症、サルコイド−シス、ネフローゼ性症候
群、ベーチェット症候群、多発性筋炎、歯肉炎、腎炎、
過敏症、傷害後に起こる腫脹、心筋虚血症などの治療に
有用であろう。本発明化合物は、眼病、例えば網膜炎、
網膜障害、ぶどう膜炎、しゅう明の治療に、また眼組織
に対する急性傷害の治療に有用である。本化合物はまた
肺型炎症、例えばウイルス感染症およびのう胞性線維症
と関連する炎症の治療に有用である。本化合物はまたあ
る種の中枢神経系障害、例えば皮質性痴呆、例えばアル
ツハイマー病、および卒中、虚血および外傷から起こる
中枢神経系損傷の治療にも有用である。本発明化合物
は、抗炎症剤として、例えば関節炎の治療に有用であ
り、副作用は重要な意味をもつ程有害でないという利点
がつけ加わっている。これら化合物はまたアレルギー性
鼻炎、呼吸困難症候群、内毒素ショック症候群、および
アテローム性動脈硬化症の治療にも有用である。本化合
物はまた痛みの治療にも有用であるが、術後の痛み、歯
痛、筋肉痛および癌から起こる痛みに限定されない。本
化合物は痴呆、例えばアルツハイマー病の防止に有用で
ある。
【０００９】これら化合物は、ヒトの治療に有用である
だけでなく、コンパニオン動物、外来動物および農場動
物、例えば哺乳動物、齧歯動物などの獣医学的治療に対
しても有用である。一層適当な動物の例としてウマ、イ
ヌ、およびネコが挙げられる。
【００１０】本発明化合物は、部分的にあるいは完全
に、他の従来の抗炎症剤に代って、例えばステロイド、
ＮＳＡＩＤ、５−リポキシゲナーゼ阻害剤、ＬＴＢ４拮
抗剤およびＬＴＡ４ヒドロラーゼ阻害剤と一緒に、共同
療法で使用できる。適当なＬＴＢ４阻害剤の例として、
とりわけ、エブセレン、Bayer Bay-x−１００５，Ciba
Geigy化合物ＣＧＳ−２５０１９Ｃ，Leo Denmark化合物
ＥＴＨ−６１５，Lilly化合物ＬＹ−２９３１１１，Ono
化合物ＯＮＯ−４０５７，Terumo化合物ＴＭＫ−６８
８，Lilly化合物ＬＹ−２１３０２４，２６４０８６お
よび２９２７２８，ＯＮＯ化合物ＯＮＯ−ＬＢ４５７，
Searle化合物ＳＣ−５３２２８，カルシトロール，Lill
y化合物ＬＹ−２１００７３，ＬＹ２２３９８２，ＬＹ
２３３４６９，およびＬＹ２５５２８３，ＯＮＯ化合物
ＯＮＯ−ＬＢ−４４８,Searle化合物ＳＣ−４１９３
０，ＳＣ−５０６０５およびＳＣ−５１１４６，および
ＳＫ＆Ｆ化合物ＳＫＦ−１０４４９３が挙げられる。な
るべくは、ＬＴＢ ４阻害剤を、エブセレン、Bayer Bay-
x-１００５，Ciba Geigy化合物ＣＧＳ−２５０１９Ｃ，
Leo Denmark化合物ＥＴＨ−６１５，Lilly化合物ＬＹ−
２９３１１１，Ono化合物ＯＮＯ−４０５７，およびTer
umo化合物ＴＭＫ−６８８から選ぶのがよい。
【００１１】適当な５−ＬＯ阻害剤として、とりわけマ
ソプロコール、テニダップ、ジロイトン、プランルカス
ト、テポキサリン、リロピロクス、フレゼラスチン塩酸
塩、エナザドレムリン酸塩、およびブナプロラストが挙
げられる。
【００１２】本発明化合物は、コンビネーション療法に
おいて、モルヒネ様物質および他の鎮痛剤、例えばモル
ヒネ、メペリジンまたはコデインと共に使用できる。
【００１３】用語「シクロオキシゲナーゼ−２阻害剤」
は、シクロオキシゲナーゼ−２をシクロオキシゲナーゼ
−１以上に選択的に阻害する化合物を包含する。なるべ
くこれら化合物は、約０．５μＭ未満のシクロオキシゲ
ナーゼ−２ ＩＣ５０を有するのがよく、そしてまたシ
クロオキシゲナーゼ−１阻害以上にシクロオキシゲナー
ゼ−２を阻害する選択性比が少なくとも５０、そして一
層好ましくは少なくとも１００であるのがよい。これら
化合物は約１μＭより大きい、更に好ましくは２０μＭ
より大きい、シクロオキシゲナーゼ−１ ＩＣ５０を有
することが尚一層好ましい。このような好ましい選択性
は、普通のＮＳＡＩＤ誘導副作用の発生を減少させる能
力を示すものである。
【００１４】「治療上有効な」という語句は、コンビネ
ーション療法において、各薬剤自身による治療以上に、
重篤さおよび発生頻度を改善するという目標を達成する
と同時に、別の療法に典型的に付随する有害な副作用を
回避する各薬剤の使用量を規定しようとするものであ
る。
【００１５】シクロオキシゲナーゼ−２阻害剤および他
の薬剤の使用を定義する上で、「コンビネーション療
法」（あるいは「共同−療法」）という語句は、薬物コ
ンビネーションの有益な効果を与える投与計画におい
て、各薬剤を順次に投与する方法を包含しようとするも
のであり、またこれら薬剤を実質的に同時に、例えばこ
れら活性薬剤を一定の割合で含む１個のカプセルとし
て、あるいは各薬剤に対し多数の別個のカプセルに入れ
て同時投与する方法を包含しようとするものである。
【００１６】「プロドラッグ」という用語は、患者に投
与されその後吸収された後に、なんらかの過程、例えば
代謝過程、を経て生体内で活性種に変換される薬剤前駆
物質である化合物を指す。この変換過程からの他の生成
物は身体によって容易に処理される。一層好ましいプロ
ドラッグは、この変換過程から一般に安全であると受け
入れられている生成物を生ずる。
【００１７】シクロオキシゲナーゼ−２を阻害する特に
適当な一群の化合物は、Ａが部分的に不飽和なヘテロシ
クリル、５員または６員ヘテロアリール、低級シクロア
ルケニルおよびフェニルから選ばれ、そしてＡは、置換
可能な位置で、ホルミル、低級アルキルカルボニル、ハ
ロ、低級アルキル、低級ハロアルキル、オキソ、シア
ノ、ニトロ、カルボキシル、低級アルコキシ、アミノカ
ルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級カルボキシ
アルキル、低級シアノアルキル、低級ヒドロキシアルキ
ル、低級ハロアルキルスルホニルオキシ、低級アルコキ
シアルキルオキシアルキル、低級カルボキシアルコキシ
アルキル、低級シクロアルキルアルキル、低級アルケニ
ル、低級アルキニル、ヘテロシクリルオキシ、低級アル
キルチオ、低級シクロアルキル、フェニル、５−６員ヘ
テロシクリル、低級シクロアルケニル、低級フェニルア
ルキル、５−６員ヘテロシクリルアルキル、低級アルキ
ルチオアルキル、フェニルカルボニル、低級フェニルア
ルキルカルボニル、低級フェニルアルケニル、低級アル
コキシアルキル、低級フェニルチオアルキル、低級フェ
ニルオキシアルキル、低級フェニルアルキルチオアルキ
ル、低級フェニルアルコキシアルキル、低級アルコキシ
カルボニルアルキル、低級アミノカルボニルアルキル、
低級アルキルミノカルボニル、Ｎ−フェニルアミノカル
ボニル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−フェニルアミノカルボ
ニル、低級アルキルアミノカルボニルアルキル、低級ア
ルキルアミノ、Ｎ−フェニルアミノ、低級Ｎ−フェニル
アルキルアミノ、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−フェナルキル
アミノ、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−フェニルアミノ、低級
アミノアルキル、低級アルキルアミノアルキル、低級Ｎ
−フェニルアミノアルキル、低級Ｎ−フェナルキルアミ
ノアルキル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−フェナルキルアミ
ノアルキル、低級Ｎ−アルキル−Ｎ−フェニルアミノア
ルキル、フェニルオキシ、低級フェニルアルコキシ、低
級フェニルチオ、低級フェナルキルチオ、低級アルキル
スルフィニル、低級アルキルスルホニル、アミノスルホ
ニル、低級アルキルアミノスルホニル、Ｎ−フェニルア
ミノスルホニル、フェニルスルホニル、および低級Ｎ−
アルキル−Ｎ−フェニルアミノスルホニルから選ばれる
１個以上の基で任意に置換され；Ｒ１は５員または６員
ヘテロシクリル、低級シクロアルキル、低級シクロアル
ケニルおよびフェニルから選ばれ、そしてＲ１は、置換
可能な位置で、低級アルキル、低級ハロアルキル、シア
ノ、カルボキシル、低級アルコキシカルボニル、ヒドロ
キシル、低級ヒドロキシアルキル、低級ハロアルコキ
シ、アミノ、低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、ニ
トロ、低級アルコキシアルキル、低級アルキルスルフィ
ニル、ハロ、低級アルコキシおよび低級アルキルチオか
ら選ばれる１個以上の基で任意に置換され；Ｒ２はヒド
リド、および低級アルコキシカルボニルアルキルから選
ばれ；そしてＲ３は低級アルキル、低級カルボキシアル
キル、アルカノイル、アロイル、アミノ酸残基、低級ア
ルコキシカルボニル、低級アルコキシアルキルカルボニ
ル、（５−６員ヘテロアリール）カルボニル、低級アル
コキシカルボニルアルキルカルボニル、低級アルコキシ
カルボニルカルボニル、および低級アルキルカルボニル
アミノアルキルカルボニルから選ばれる式Ｉの化合物、
あるいはその製薬上容認しうる塩からなる。
【００１８】シクロオキシゲナーゼ−２を阻害する更に
好ましい一群の化合物は、Ａがチエニル、オキサゾリ
ル、フリル、ピロリル、チアゾリル、イミダゾリル、ベ
ンゾフリル、インデニル、ベンゾチエニル、イソオキサ
ゾリル、ピラゾリル、シクロペンテニル、シクロペンタ
ジエニル、ベンゾインダゾリル、ベンゾピラノピラゾリ
ル、フェニル、およびピリジルから選ばれる基であり、
そしてＡは、置換可能な位置で、ホルミル、メチルカル
ボニル、フルオロ、クロロ、ブロモ、メチル、トリフル
オロメチル、ジフルオロメチル、オキソ、シアノ、カル
ボキシル、メトキシ、アミノカルボニル、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、カルボキシプロピル、ヒ
ドロキシメチル、シアノメチル、フェニル、フェニルメ
チル、メトキシカルボニル、フェニルカルボニル、メト
キシメチル、フェニルオキシメチル、アミノカルボニル
メチル、カルボキシメチル、およびフェニルオキシから
選ばれる１個以上の基で任意に置換され；Ｒ１はチエニ
ル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、フリル、チアゾ
リル、ピリジル、およびフェニルから選ばれ、そしてＲ
１は、置換可能な位置で、メチル、トリフルオロメチ
ル、ヒドロキシル、ヒドロキシメチル、トリフルオロメ
トキシ、ニトロ、メトキシメチル、フルオロ、クロロ、
ブロモ、メトキシ、およびメチルチオから選ばれる１個
以上の基で任意に置換され；Ｒ２はヒドリドまたはエト
キシカルボニルメチルであり；Ｒ３はメチル、カルボキ
シメチル、ホルミル、メチルカルボニル、エチルカルボ
ニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、
ブチルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、ペン
チルカルボニル、ヒドロキシエチルカルボニル、ベンジ
ルカルボニル、フェニル（ヒドロキシル）メチルカルボ
ニル、メトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル、メトキシエチルカルボニル、フェニルカルボニ
ル、エトキシメチルカルボニル、メトキシメチルカルボ
ニル、カルボキシエチルカルボニル、カルボキシメチル
カルボニル、カルボキシ（１，２−ビス（ヒドロキシ）
エチル）カルボニル、メトキシカルボニルメチルカルボ
ニル、アミノメチルカルボニル、メトキシカルボニルエ
チルカルボニル、メトキシカルボニルカルボニル、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニル、お
よびメチルカルボニルアミノメチルカルボニルから選ば
れる式Ｉの化合物、あるいはその製薬上容認しうる塩か
らなる。
【００１９】式II：
【化１６】 により表わされ、高い関心をもたれる化合物、あるいは
その製薬上容認しうる塩、の亜群が式Ｉの中に含まれ
る。
【００２０】上記式II中、Ａは部分的に不飽和なヘテロ
シクリル、５員または６員ヘテロアリール、低級シクロ
アルケニルおよびフェニルから選ばれる環置換基であ
り；そしてＡは、置換可能な位置で、アシル、ハロ、ヒ
ドロキシ、低級アルキル、低級ハロアルキル、オキソ、
シアノ、ニトロ、カルボキシル、低級アルコキシ、アミ
ノカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低級カルボ
キシアルキル、低級シアノアルキル、低級ヒドロキシア
ルキル、低級アルキルカルボニルオキシアルキル、およ
びフェニルから選ばれる１個以上の基で任意に置換さ
れ；式中、Ｒ４はヘテロシクリル、シクロアルキル、シ
クロアルケニル、およびフェニルから選ばれ、そしてＲ
4は、置換可能な位置で、低級アルキル、低級ハロアル
キル、シアノ、カルボキシル、低級アルコキシカルボニ
ル、ヒドロキシル、低級ヒドロキシアルキル、低級ハロ
アルコキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、フェニルア
ミノ、ニトロ、低級アルコキシアルキル、低級アルキル
フルフィニル、ハロ、低級アルコキシおよび低級アルキ
ルチオから選ばれる１個以上の基で任意に置換され；そ
して式中、Ｒ５はヒドリド、低級アルキル、低級アルコ
キシ、低級アルコキシアルキル、フェニル、低級カルボ
キシアルキル、低級アルコキシカルボニルアルキル、低
級アルコキシカルボニル、低級アミノアルキル、低級ア
ルコキシカルボニルアミノアルキル、および低級アルキ
ルカルボニルアミノアルキルから選ばれる。特に適当な
一群の化合物、あるいはその製薬上容認しうる塩は、式
IIの化合物からなる。前記式中、Ａはチエニル、オキサ
ゾリル、フリル、ピロリル、チアゾリル、イミダゾリ
ル、ベンゾフリル、インデニル、ベンゾチエニル、イソ
オキサゾリル、ピラゾリル、シクロペンテニル、シクロ
ペンタジエニル、ベンゾインダゾリル、ベンゾピラノピ
ラゾリル、フェニル、およびピリジルから選ばれる環置
換基であり、そしてＡは、置換可能な位置で、アシル、
ハロ、ヒドロキシ、低級アルキル、低級ハロアルキル、
オキソ、シアノ、ニトロ、カルボキシル、低級アルコキ
シ、アミノカルボニル、低級アルコキシカルボニル、低
級カルボキシアルキル、低級シアノアルキル、低級アル
キルカルボニルオキシアルキル、フェニル、および低級
ヒドロキシアルキルから選ばれる１個以上の基で任意に
置換され；Ｒ４は５−６員ヘテロアリールおよびフェニ
ルから選ばれ、そしてＲ４は、置換可能な位置で、低級
アルキル、低級ハロアルキル、シアノ、カルボキシル、
低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、低級ヒドロ
キシアルキル、低級ハロアルコキシ、アミノ、低級アル
キルアミノ、フェニルアミノ、ニトロ、低級アルコキシ
アルキル、低級アルキルスルフィニル、ハロ、低級アル
コキシおよび低級アルキルチオから選ばれる１個以上の
基で任意に置換され；Ｒ５はヒドリド、低級アルキル、
低級アルコキシ、低級アルコキシアルキル、フェニル、
低級アルコキシカルボニルアルキル、低級アルコキシカ
ルボニル、低級アミノアルキル、低級アルコキシカルボ
ニルアミノアルキル、および低級アルキルカルボニルア
ミノアルキルから選ばれる。
【００２１】特に関心をもたれる一群の化合物、あるい
はその製薬上容認しうる塩は式IIの化合物からなり、式
中のＡはチエニル、オキサゾリル、フリル、ピロリル、
チアゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、イソオキ
サゾリル、ピラゾリル、シクロペンテニル、シクロペン
タジエニル、ベンゾインダゾリル、ベンゾピラノピラゾ
リル、フェニルおよびピリジルから選ばれる環置換基で
あり、そしてＡは、置換可能な位置で、ホルミル、フル
オロ、クロロ、ブロモ、メチル、トリフルオロメチル、
オキソ、シアノ、カルボキシル、メトキシ、アミノカル
ボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、カ
ルボキシメチル、カルボキシプロピル、メチルカルボニ
ルオキシメチル、およびヒドロキシメチルから選ばれる
１個以上の基で任意に置換され；Ｒ４はチエニル、ピリ
ジルおよびフェニルから選ばれ、そしてＲ４は、置換可
能な位置で、メチル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ
ル、ヒドロキシメチル、トリフルオロメトキシ、ニト
ロ、メトキシメチル、フルオロ、クロロ、ブロモ、メト
キシおよびメチルチオから選ばれる１個以上の基で任意
に置換され；Ｒ５はヒドリド、メチル、エチル、イソプ
ロピル、プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ブチル、ペンチ
ル、メトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メトキシエチル、
エトキシメチル、メトキシメチル、フェニル、カルボキ
シエチル、メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボ
ニルエチル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチ
ル、メトキシカルボニル、アミノメチル、およびメチル
カルボニルアミノメチルから選ばれる。式Ｉの中に式II
I：
【化１７】 により表わされ高い関心をもたれる一亜群の化合物ある
いはその製薬上容認しうる塩がある。
【００２２】式III中、Ｒ６はヒドロキシル、低級アル
キル、カルボキシル、ハロ、低級カルボキシアルキル、
低級アルコキシカルボニルアルキル、低級アルアルキ
ル、低級アルコキシアルキル、低級アルコキシアルキル
オキシアルキル、低級アルアルコキシアルキル、低級ハ
ロアルキル、低級ヒドロキシアルキル、低級アリール
（ヒドロキシアルキル）、低級ハロアルキルスルホニル
オキシ、低級アルコキシアルキルオキシアルキル、低級
カルボキシアルコキシアルキル、低級シクロアルキルア
ルキルおよび低級シクロアルキルから選ばれ；Ｒ７はヒ
ドリド、低級アルキル、低級ハロアルキル、シアノ、カ
ルボキシル、低級アルコキシカルボニル、ヒドロキシ
ル、低級ヒドロキシアルキル、低級ハロアルコキシ、ア
ミノ、低級アルキルアミノ、フェニルアミノ、ニトロ、
低級アルコキシアルキル、低級アルキルスルフィニル、
ハロ、低級アルコキシおよび低級アルキルチオから選ば
れる１個以上の基であり；Ｒ８はヒドリド、低級アルキ
ル、低級アルコキシ、低級アルコキシアルキル、フェニ
ル、低級カルボキシアルキル、低級アルコキシカルボニ
ルアルキル、低級アルコキシカルボニル、低級アミノア
ルキル、低級アルコキシカルボニルアミノアルキル、お
よび低級アルキルカルボニルアミノアルキルから選ばれ
る。
【００２３】特に適当な一群の化合物あるいはその製薬
上容認しうる塩は、式III（式中、Ｒ６は低級アルキ
ル、低級ハロアルキル、および低級ヒドロキシアルキル
から選ばれ；Ｒ７はヒドリド、低級アルキル、ハロおよ
び低級アルコキシから選ばれる１個以上の基であり；Ｒ
８は低級アルキル、フェニル、および低級アミノアルキ
ルから選ばれる）を有する化合物からなる。
【００２４】一層好ましい一群の化合物は、式III（式
中、Ｒ６はメチル、ジフルオロメチル、およびヒドロキ
シメチルから選ばれ；Ｒ７はヒドリド、メチル、フルオ
ロ、クロロ、ブロモ、およびメトキシから選ばれる１個
以上の基であり；Ｒ８はメチル、エチル、イソプロピ
ル、プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ブチル、ペンチル、
フェニル、およびアミノメチルから選ばれる）を有する
化合物あるいはその製薬上容認しうる塩からなる。
【００２５】式Ｉ−IIIの中に包含され、特に関心をも
たれる一群の特定の化合物は、下記の化合物およびその
製薬上容認しうる塩からなる：Ｎ−［［４−［２−（２
−メチルピリジン−６−イル）−４−（トリフルオロメ
チル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］ス
ルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［２−（２−メ
チルピリジン−６−イル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−［２−（２−メ
チルチアゾール−４−イル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［２−（２−メチ
ルチアゾール−４−イル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−［２−（４−メ
チルチアゾール−２−イル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［２−（４−メチ
ルチアゾール−２−イル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−［２−（２−メ
チルピリジン−３−イル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［２−（２−メチ
ルピリジン−３−イル）−４−（トリフルオロメチル）
−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［２−（３−ピリジニ
ル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾー
ル−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；
Ｎ−［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）−４
−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−
イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−４
−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−
イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−
［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）−４
−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−
イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−
［［４−［２−（３−クロロ−５−メチルフェニル）−
４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１
−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
［［４−［３−（ジフルオロメチル）−５−（３−フル
オロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−１
−イル］フェニル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−
［［４−［３−（ジフルオロメチル）−５−（３−フル
オロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−１
−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−
［［４−［１，５−ジメチル）−３−フェニル−１Ｈ−
ピラゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセト
アミド；２−ヒドロキシ−３−［［［４−（５−メチル
−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
ル］スルホニル］アミノ］−３−オキソプロパン酸；２
−ヒドロキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］プロパンアミド；α−ヒドロキシ−Ｎ−［［４−
（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
ル）フェニル］スルホニル］ベンゼンエタンアミド；Ｎ
−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾー
ル−４−イル）フェニル］スルホニル］ベンゼンエタン
アミド；Ｎ−［［４−［３−（３−フルオロフェニル）
−５−メチルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］
スルホニル］アセトアミド；２−メチル−Ｎ−［［４−
（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
ル）フェニル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−
［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパンアミド；
Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ベンズアミ
ド；２，２−ジメチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３
−フェニルオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
ニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−３
−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］ス
ルホニル］ブタンアミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
スルホニル］ペンタンアミド；Ｎ−［［４−（５−メチ
ル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
ル］スルホニル］ヘキサンアミド；３−メトキシ−Ｎ−
［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパンアミド；
２−エトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［５−メチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホ
ニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［５−（４−クロロ
フェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラ
ゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］プロパンア
ミド；Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３
−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イ
ル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−［［４
−［５−（４−クロロフェニル）−３−（トリフルオロ
メチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニル］ス
ルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［３−（ジフル
オロメチル）−６−フルオロ−１，５−ジヒドロ−７−
メトキシ−［２］ベンゾチオピラノ［４，３−ｃ］ピラ
ゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
ド；Ｎ−［［４−［６−フルオロ−１，５−ジヒドロ−
７−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）−［２］ベ
ンゾチオピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］
フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−
［３−（ジフルオロメチル）−５−（３−フルオロ−４
−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］
フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−
（２−メチル−４−フェニルオキサゾール−５−イル）
フェニル］スルホニル］アセトアミド；メチル［［［４
−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−
イル）フェニル］スルホニル］アミノ］オキオアセテー
ト；２−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
ニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロ
メチル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］
フェニル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−
［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニルイソオキサ
ゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミ
ド；４−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミ
ノ］−４−オキソブタン酸；Ｎ−［［４−（５−メチル
−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
ル］スルホニル］ホルムアミド；１，１−ジメチルエチ
ル Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキ
サゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］カルバメ
ート；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］グリシ
ン；２−アミノ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェ
ニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド；２−（アセチルアミノ）−Ｎ−
［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
−４−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド；メ
チル ４−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソ
オキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミ
ノ］−４−オキソブタノエート；Ｎ−［［４−（５−メ
チル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェ
ニル］スルホニル］カルバメート；Ｎ−アセチル−Ｎ−
［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
−４−イル）フェニル］スルホニル］グリシン，エチル
エステル；４−［［［４−（５−メチル−３−フェニル
イソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］
アミノ］−４−オキソブタン酸；Ｎ−［［４−［５−
（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）
−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド；メチル ３−［［［４−（５−メチ
ル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
ル］スルホニル］アミノ］−３−オキソプロパノエー
ト；４−［５−（３−ブロモ−５−フルオロ−４−メト
キシフェニル）−２−（トリフルオロメチル）オキサゾ
ール−４−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミ
ド；Ｎ−（１，１−ジメチルエチル）−４−（５−メチ
ル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）ベンゼ
ンスルホンアミド；４−［５−（４−フルオロフェニ
ル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール
−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド；Ｎ
−メチル−４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサ
ゾール−４−イル）ベンゼンスルホンアミド；Ｎ−
［［４−［５−（ヒドロキシメチル）−３−フェニルイ
ソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］ア
セトアミド；Ｎ−［［４−［５−（アセトキシメチル）
−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミド；１，１−ジメチルエチ
ル−Ｎ−［２−［［［４−（５−メチル−３−フェニル
イソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］
アミノ］−２−オキソエチル］カルバメート；Ｎ−
［［４−［２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）
シクロペンテン−１−イル）フェニル］スルホニル］ア
セトアミド；４−［２−（４−フルオロフェニル）−１
Ｈ−ピロール−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホ
ンアミド；４−［２−（４−フルオロフェニル）シクロ
ペンテン−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホンア
ミド；Ｎ−［［４−［３−（４−フルオロフェニル）−
２，３−ジヒドロ−２−オキソフラン−４−イル］フェ
ニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−(３−
フェニル−２，３−ジヒドロ−２−オキソフラン−４−
イル)フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
［［４−［３，４−ジメチル−１−フェニル−１Ｈ−ピ
ラゾール−５−イル］フェニル］スルホニル］プロパン
アミド；Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３
−イル）−４−トリフルオロメチルイミダゾール−１−
イル］フェニル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−
［［４−［３−（４−フルオロフェニル）−２，３−ジ
ヒドロ−２−オキソフラン−４−イル］フェニル］スル
ホニル］プロパンアミド；およびＮ−［［４−(３−フ
ェニル−２，３−ジヒドロ−２−オキソフラン−４−イ
ル)フェニル］スルホニル］プロパンアミド。
【００２６】式Ｉ−IIIの中に包含され、特別に関心を
もたれる好ましい一群の特定の化合物は下記の化合物か
らなる：Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−６
−イル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダ
ゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
ド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピ
リジン−６−イル）−４−（トリフルオロメチル）−１
Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］
プロパンアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［２−
（２−メチルチアゾール−４−イル）−４−（トリフル
オロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ−
［［４−［２−（２−メチルチアゾール−４−イル）−
４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１
−イル］フェニル］スルホニル］プロパンアミド，ナト
リウム塩；Ｎ−［［４−［２−（４−メチルチアゾール
−２−イル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イ
ミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセト
アミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［２−（２−メチ
ルチアゾール−２−イル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］プロパンアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−
［２−（３−ピリジニル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−
［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−４−（トリ
フルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ
−［［４−［２−（２−メチルピリジン）−４−（トリ
フルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ
−［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−
４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１
−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド，ナトリ
ウム塩；Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３
−イル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダ
ゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミ
ド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ−
５−メチルフェニル）−４−（トリフルオロメチル）−
１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［３−
（ジフルオロメチル）−５−（３−フルオロ−４−メト
キシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］プロパンアミド，ナトリウム塩；Ｎ−
［［４−［３−（ジフルオロメチル）−５−（３−フル
オロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−１
−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド，ナトリ
ウム塩；Ｎ−［［４−［１，５−ジメチル）−３−フェ
ニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］フェニル］スルホ
ニル］アセトアミド，ナトリウム塩；２−ヒドロキシ−
３−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサ
ゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］−
３−オキソプロパノエート，ナトリウム塩；２−ヒドロ
キシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパ
ンアミド，ナトリウム塩；α−ヒドロキシ−Ｎ−［［４
−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−
イル）フェニル］スルホニル］ベンゼンエタンアミド，
ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］ベンゼンエタンアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４
−［３−（３−フルオロフェニル）−５−メチルイソオ
キサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセト
アミド，ナトリウム塩；２−メチル−Ｎ−［［４−（５
−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）
フェニル］スルホニル］プロパンアミド，ナトリウム
塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキ
サゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパン
アミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３
−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］ス
ルホニル］ベンズアミド，ナトリウム塩；２，２−ジメ
チル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパ
ンアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
スルホニル］ブタンアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４
−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−
イル）フェニル］スルホニル］ペンタンアミド，ナトリ
ウム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソ
オキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ヘキ
サンアミド，ナトリウム塩；３−メトキシ−Ｎ−［［４
−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−
イル）フェニル］スルホニル］プロパンアミド，ナトリ
ウム塩；２−エトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３
−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］ス
ルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−
［５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
ル］フェニル］スルホニル］アセトアミド，カリウム
塩；Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−
（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イ
ル］フェニル］スルホニル］プロパンアミド，ナトリウ
ム塩；Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３
−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イ
ル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド，ナトリウム
塩；Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−
（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イ
ル］フェニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム
塩；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−６−フ
ルオロ−１，５−ジヒドロ−−メトキシ−［２］ベンゾ
チオピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フェ
ニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ−
［［４−［６−フルオロ−１，５−ジヒドロ−７−メト
キシ−３−（トリフルオロメチル）−［２］ベンゾチオ
ピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ−
［［４−［３−（ジフルオロメチル）−５−（３−フル
オロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−１
−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリ
ウム塩；Ｎ−［［４−（２−メチル−４−フェニルオキ
サゾール−５−イル）フェニル］スルホニル］アセトア
ミド，ナトリウム塩；メチル［［［４−（５−メチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
スルホニル］アミノ］オキソアセテート，ナトリウム
塩；２−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
ニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［５
−（ジフルオロメチル）−３−フェニルイソオキサゾー
ル−４−イル］フェニル］スルホニル］プロパンアミ
ド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメ
チル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フ
ェニル］スルホニル］ブタンアミド，ナトリウム塩；４
−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］−４
−オキソブタン酸，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−
メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フ
ェニル］スルホニル］ホルムアミド，ナトリウム塩；
１，１−ジメチルエチル Ｎ−［［４−（５−メチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
スルホニル］カルバメート，ナトリウム塩；Ｎ−［［４
−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−
イル）フェニル］スルホニル］グリシン，ナトリウム
塩；２−アミノ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェ
ニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド，ナトリウム塩；２−（アセチルアミ
ノ）−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アセト
アミド，ナトリウム塩；メチル４−［［［４−（５−メ
チル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェ
ニル］スルホニル］アミノ］−４−オキソブタノエー
ト，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
ニル］カルバメート，ナトリウム塩；４−［［［４−
（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
ル）フェニル］スルホニル］アミノ］−４−オキソブタ
ン酸，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［５−（４−メチル
フェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラ
ゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
ド，ナトリウム塩；メチル３−［［［４−（５−メチル
−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
ル］スルホニル］アミノ］−３−オキソプロパノエー
ト，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［５−（ヒドロキシメ
チル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フ
ェニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ
−［［４−［５−（アセトキシメチル）−３−フェニル
イソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］
アセトアミド，ナトリウム塩；１，１−ジメチルエチル
−Ｎ−［２−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイ
ソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ア
ミノ］−２−オキソエチル］カルバメート，ナトリウム
塩；Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ−４−フルオロフ
ェニル）シクロペンテン−１−イル］フェニル］スルホ
ニル］アセトアミド，ナトリウム塩；およびＮ−［［４
−［３−（４−フルオロフェニル）−２，３−ジヒドロ
−２−オキソフラン−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（３−
フェニル−２，３−ジヒドロ−２−オキソフラン−４−
イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウ
ム塩；Ｎ−［［４−［３，４−ジメチル−１−フェニル
−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェニル］スルホニ
ル］プロパンアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［２
−（２−メチルピリジン−３−イル）−４−トリフルオ
ロメチルイミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］プロパンアミド，ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［３
−（４−フルオロフェニル）−２，３−ジヒドロ−２−
オキソフラン−４−イル］フェニル］スルホニル］プロ
パンアミド，ナトリウム塩；およびＮ−［［４−（３−
フェニル−２，３−ジヒドロ−２−オキソフラン−４−
イル）フェニル］スルホニル］プロパンアミド，ナトリ
ウム塩。
【００２７】用語「ヒドリド」は、１個の水素原子
（Ｈ）を指す。このヒドリド基は、例えば酸素原子に付
くとヒドロキシル基を形成し、あるいは２個のヒドリド
基が炭素原子に付くとメチレン（−ＣＨ２−）基を形成
できる。用語「アルキル」は、単独または他の用語の中
で、例えば「ハロアルキル」、「アルキルスルホニ
ル」、「アルコキシアルキル」および「ヒドロキシアル
キル」のように使用される場合、この語は１から約２０
炭素原子、あるいはなるべくは１から約１２炭素原子を
有する直鎖または分枝基を包含する。一層好ましいアル
キル基は１から約１０炭素原子を有する「低級アルキ
ル」基である。１から約６炭素原子を有する低級アルキ
ル基が最も好ましい。このような基の例として、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、
ペンチル、イソ−アミル、ヘキシルなどが挙げられる。
用語「アルケニル」は、少なくとも１個の炭素−炭素二
重結合を有する２から約２０炭素原子の、あるいはなる
べくは２から約１２炭素原子の直鎖または分枝基を含
む。一層好ましいアルケニル基は２から約６炭素原子を
有する「低級アルケニル」基である。アルケニル基の例
として、エテニル、プロペニル、アリル、プロペニル、
ブテニル、および４−メチルブテニルが挙げられる。
「アルキニル」という用語は、少なくとも１個の炭素−
炭素三重結合を有し、そして２から約２０炭素原子、あ
るいはなるべくは、２から約１２炭素原子を有する直鎖
または分枝基を指す。一層好ましいアルキニル基は２か
ら約１０炭素原子を有する「低級アルキニル」基であ
る。２から約６炭素原子を有する低級アルキニル基が最
も好ましい。このような基の例としてプロパルギル、ブ
チニルなどが挙げられる。用語「アルケニル」および
「低級アルケニル」は、「cis」および「trans」配向、
あるいは別の表示として「Ｅ」および「Ｚ」配向を有す
る基を包含する。用語「シクロアルキル」は、３から約
１２炭素原子を有する飽和炭素環式基を包含する。一層
好ましいシクロアルキル基は、３から約８炭素原子を有
する「低級シクロアルキル」基である。このような基の
例として、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペン
チルおよびシクロヘキシルが挙げられる。用語「シクロ
アルケニル」は３から１２炭素原子を有する部分的に不
飽和な炭素環式基を包含する。一層好ましいシクロアル
ケニル基は、４から約８炭素原子を有する「低級シクロ
アルケニル」基である。このような基の例として、シク
ロブテニル、シクロペンテニルおよびシクロヘキセニル
が挙げられる。用語「ハロ」は、ハロゲン、例えばフッ
素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。用語「ハロア
ルキル」は、アルキル炭素原子のいずれか１個またはそ
れ以上が上に定義されたハロで置換された基を包含す
る。更に詳しく言えば、モノハロアルキル、ジハロアル
キルおよびポリハロアルキル基が包含される。モノハロ
アルキル基は、一例として、その基の中に、ヨード、ブ
ロモ、クロロまたはフルオロ原子のいずれかを有しう
る。ジハロおよびポリハロアルキル基は、２個以上の同
じハロ原子または異なるハロ基の組み合わせをもつこと
ができる。「低級ハロアルキル」は、１から６炭素原子
を有する基を包含する。ハロアルキル基の例としてフル
オロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、
クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ト
リクロロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオ
ロプロピル、ジフルオロクロロメチル、ジクロロフルオ
ロメチル、ジフルオロエチル、ジフルオロプロピル、ジ
クロロエチルおよびジクロロプロピルが挙げられる。用
語「ヒドロキシアルキル」は１から約１０炭素原子を有
し、そのいずれか一つが１個以上のヒドロキシル基で置
換された直鎖または分枝アルキル基を包含する。一層好
ましいヒドロキシアルキル基は、１から６炭素原子およ
び１個以上のヒドロキシル基を有する「低級ヒドロキシ
アルキル」基である。このような基の例として、ヒドロ
キシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、
ヒドロキシブチル、およびヒドロキシヘキシルが挙げら
れる。用語「アルコキシ」および「アルキルオキシ」
は、各々が１から約１０炭素原子のアルキル部分を有す
る直鎖または分枝オキシ含有基を包含する。一層好まし
いアルコキシ基は、１から６炭素原子を有する「低級ア
ルコキシ」基である。このような基の例として、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシおよびｔｅｒｔ−
ブトキシが挙げられる。用語「アルコキシアルキル」
は、アルキル基に付いた１個以上のアルコキシ基を有す
る、即ちモノアルコキシアルキルおよびジアルコキシア
ルキル基を形成するアルキル基を包含する。この「アル
コキシ」基は１個以上のハロ原子、例えばフルオロ、ク
ロロ、またはブロモで更に置換されハロアルコキシ基と
することができる。一層好ましいハロアルコキシ基は、
１から６炭素原子と１個以上のハロ基を有する「低級ハ
ロアルコキシ」基である。このような基の例としてフル
オロメトキシ、クロロメトキシ、トリフルオロメトキ
シ、トリフルオロエトキシ、フルオロエトキシ、および
フルオロプロポキシが挙げられる。用語「アリール」
は、単独または複合語として、１個、２個または３個の
環を含む炭素環式芳香族系を意味し、その場合このよう
な環はつり下がるように互に付くこともあれば、縮合す
ることもある。用語「アリール」は、芳香族基、例えば
フェニル、ナフチル、テトラヒドロナフチル、インダン
およびビフェニルを包含する。アリール部分は、置換可
能な位置で、アルキル、アルコキシアルキル、アルキル
アミノアルキル、カルボキシアルキル、アルコキシカル
ボニルアルキル、アミノカルボニルアルキル、アルコキ
シ、アルアルコキシ、ヒドロキシル、アミノ、ハロ、ニ
トロ、アルキルアミノ、アシル、シアノ、カルボキシ、
アミノカルボニル、アルコキシカルボニルおよびアルア
ルコキシカルボニルから独立的に選ばれる１個以上の置
換基で置換されることもある。用語「ヘテロシクリル」
は、飽和、部分的に不飽和および不飽和な、ヘテロ原子
含有環状基を包含し、この場合ヘテロ原子は窒素、硫黄
および酸素から選ばれる。飽和ヘテロシクリル基の例と
して、１から４窒素原子を含む３員から６員ヘテロ単環
基（例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリ
ジノ、ピペラジニルなど）；１から２酸素原子と１から
３窒素原子を含む飽和３員から６員ヘテロ単環基（例え
ば、モルホリニルなど）；１から２硫黄原子と１から３
窒素原子を含む飽和３員から６員ヘテロ単環基（例え
ば、チアゾリジニルなど）が挙げられる。部分的に不飽
和なヘテロシクリル基の例として、ジヒドロチオフェ
ン、ジヒドロピラン、ジヒドロフランおよびジヒドロチ
アゾールが挙げられる。ヘテロシクリル基は５価の窒
素、例えばテトラゾリウムおよびピリジニウム基におけ
るような窒素を含むことができる。用語「ヘテロアリー
ル」は不飽和なヘテロシクリル基を包含する。ヘテロア
リール基の例として、１から４窒素原子を含む不飽和な
３員から６員ヘテロ単環基、例えばピロリル、ピロリニ
ル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリミジ
ル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル（例え
ば、４Ｈ−１，２，４−トリアゾリル、１Ｈ−１，２，
３−トリアゾリル、２Ｈ−１，２，３−トリアゾリル、
など）、テトラゾリル（例えば、１Ｈ−テトラゾリル、
２Ｈ−テトラゾリル、など）など；１から５窒素原子を
含む不飽和縮合ヘテロシクリル基、例えばインドリル、
イソインドリル、インドリジニル、ベンゾイミダゾリ
ル、キノリル、イソキノリル、インダゾリル、ベンゾト
リアゾリル、テトラゾロピリダジニル（例えば、テトラ
ゾロ［１，５−ｂ］ピリダジニル、など）など；１個の
酸素原子を含む不飽和３員から６員ヘテロ単環基、例え
ばピラニル、フリルなど；１個の硫黄原子を含む不飽和
３員から６員ヘテロ単環基、例えばチエニル、など；１
から２酸素原子と１から３窒素原子を含む不飽和３員か
ら６員ヘテロ単環基、例えばオキサゾリル、イソオキサ
ゾリル、オキサジアゾリル（例えば、１，２，４−オキ
サジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、１，
２，５−オキサジアゾリル、など）など；１から２酸素
原子と１から３窒素原子を含む不飽和縮合ヘテロシクリ
ル基（例えば、ベンゾオキサゾリル、ベンゾオキサジア
ゾリル、など）；１から２硫黄原子と１から３窒素原子
を含む不飽和３員から６員ヘテロ単環基、例えばチアゾ
リル、チアジアゾリル（例えば、１，２，４−チアジア
ゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，２，５−チ
アジアゾリル、など）など；１から２硫黄原子と１から
３窒素原子とを含む不飽和縮合ヘテロシクリル基（例え
ば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、など）
などが挙げられる。用語「ヘテロアリール」はまたヘテ
ロシクリル基がアリール基と縮合した基も包含する。こ
のような縮合二環式基の例として、ベンゾフラン、ベン
ゾチオフェンなどが挙げられる。前記「ヘテロシクリル
基」は、１から３個の置換基、例えばアルキル、ヒドロ
キシル、ハロ、アルコキシ、オキソ、アミノおよびアル
キルアミノ、をもつことができる。用語「アルキルチ
オ」は２価の硫黄原子に付いた１から約１０炭素原子の
直鎖または分枝アルキル基を含む基を包含する。一層好
ましいアルキルチオ基は、１から６炭素原子のアルキル
基を有する「低級アルキルチオ」基である。このような
低級アルキルチオ基の例は、メチルチオ、エチルチオ、
プロピルチオ、ブチルチオおよびヘキシルチオである。
用語「アルキルチオアルキル」は、２価の硫黄原子を経
て１から約１０炭素原子のアルキル基へ付いたアルキル
チオ基を含む基を包含する。一層好ましいアルキルチオ
アルキル基は１から６炭素原子のアルキル基を有する
「低級アルキルチオアルキル」基である。このような低
級アルキルチオアルキル基の例としてメチルチオメチル
が挙げられる。用語「アルキルスルフィニル」は、２価
の−Ｓ（＝Ｏ）−基に付いた１から約１０炭素原子の直
鎖または分枝アルキル基を含む基を包含する。一層好ま
しいアルキルスルフィニル基は、１から６炭素原子のア
ルキル基を有する「低級アルキルスルフィニル」基であ
る。このような低級アルキルスルフィニル基の例として
メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ブチルスル
フィニルおよびヘキシルスルフィニルが挙げられる。用
語「スルホニル」は、それが単独で使われようが、ある
いは「アルキルスルホニル」のように他の語につないで
使われようが、２価の基−ＳＯ２−を指す。「アルキル
スルホニル」は、スルホニル基に付いたアルキル基（ア
ルキルは上で定義した通りである）を包含する。一層好
ましいアルキルスルホニル基は、１から６炭素原子を有
する「低級アルキルスルホニル」基である。このような
低級アルキルスルホニル基の例としてメチルスルホニ
ル、エチルスルホニルおよびプロピルスルホニルが挙げ
られる。この「アルキルスルホニル」基は、１個以上の
ハロ原子、例えばフルオロ、クロロまたはブロモ、で更
に置換することによりハロアルキルスルホニル基を得る
ことができる。用語「スルファミル」、「アミノスルホ
ニル」および「スルホンアミジル」は、ＮＨ２Ｏ２Ｓ−
を指す。用語「アシル」は、有機酸からヒドロキシルを
除いた後の残基により与えられる基を指す。このような
アシル基の例としてアルカノイルおよびアロイル基が挙
げられる。このようなアルカノイル基の例として、ホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイ
ル、および次の酸、コハク酸、グリコール酸、グルコン
酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アスコルビン
酸、グルキュロン酸、マレイン酸、フマル酸、ピルビン
酸、マンデル酸、パントテン酸、β−ヒドロキシ酪酸、
ガラクタール酸およびガラクツロン酸、から生成する基
が挙げられる。用語「アロイル」は、下に定義するよう
に、カルボニル基をもつアリール基を包含する。アロイ
ルの例として、ベンゾイル、ナフトイル、フェニルアセ
チルなどが挙げられて、そして前記アロイル中のアリー
ルは、例えばｐ−ヒドロキシベンゾイル、およびサリチ
リルのように更に置換されることがある。用語「カルボ
ニル」は、それが単独で使われようが、または例えば
「アルコキシカルボニル」のように、他の語と共に使わ
れようが、−（Ｃ＝Ｏ）−を指す。用語「カルボキシ」
または「カルボキシル」は、それが単独で使われよう
が、または「カルボキシアルキル」のように他の語と共
に使われようが、−ＣＯ２Ｈを指す。用語「カルボキシ
アルキル」はカルボキシ基で置換されたアルキル基を包
含する。上で定義した低級アルキル基を含む「低級カル
ボキシアルキル」が一層好ましく、そしてアルキル基上
を更にハロで置換することができる。このような低級カ
ルボキシアルキル基の例として、カルボキシメチル、カ
ルボキシエチルおよびカルボキシプロピルが挙げられ
る。用語「アルコキシカルボニル」は、酸素原子を経て
カルボニル基に付いたアルコキシ基（前に定義）を含む
基を意味する。１から６炭素を有するアルキル部分をも
つ「低級アルコキシカルボニル」基が一層好ましい。こ
のような低級アルコキシカルボニル（エステル）基の例
として、置換または非置換メトキシカルボニル、エトキ
シカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニルおよびヘキシルオキシカルボニルが挙げられる。用
語「アルキルカルボニル」、「アリールカルボニル」お
よび「アルアルキルカルボニル」は、カルボニル基に付
いたアルキル、ヒドロキシアルキル、アリール、アリー
ルアルキルおよびアリール−ヒドロキシアルキル基（本
明細書中で定義）を有する基を包含する。このような基
の例として、置換または非置換メチルカルボニル、エチ
ルカルボニル、プロピルカルボニル、ブチルカルボニ
ル、ペンチルカルボニル、ヒドロキシメチルカルボニ
ル、ヒドロキシエチルカルボニル、フェニルカルボニ
ル、ベンジルカルボニル、およびフェニル（ヒドロキシ
メチル）カルボニルが挙げられる。用語「カルボキシア
ルキルカルボニル」は、カルボキシ基で置換されたアル
キルカルボニル基を包含する。上で定義した低級アルキ
ル基を含む「低級カルボキシアルキルカルボニル」が一
層好ましく、そしてアルキル基上をヒドロキシルで更に
置換することができる。このような低級カルボキシアル
キルカルボニル基の例として、カルボキシメチルカルボ
ニル、カルボキシエチルカルボニル、カルボキシプロピ
ルカルボニル、ＨＯ２Ｃ（ＣＨＯＨ）４Ｃ（Ｏ）−、Ｈ
Ｏ２Ｃ（ＣＨＯＨ）２Ｃ（Ｏ）−、ＨＯ２Ｃ（ＣＨ２）
（ＣＨＯＨ）Ｃ（Ｏ）−、およびＨＯ２ＣＣＨ２Ｃ（Ｏ
Ｈ）（ＣＯ２Ｈ）Ｃ（Ｏ）−が挙げられる。用語「カル
ボキシアルケニルカルボニル」は、マレイン酸およびフ
マル酸の誘導体を包含する。このようなカルボキシアル
ケニルカルボニル基の例として、（Ｚ）−カルボキシエ
テニルカルボニルおよび（Ｅ）−カルボキシエテニルカ
ルボニルが挙げられる。用語「アルアルキル」は、アリ
ール置換アルキル基、例えばベンジル、ジフェニルメチ
ル、トリフェニルメチル、フェニルエチル、およびジフ
ェニルエチルを包含する。前記アルアルキル基中のアリ
ールは、ハロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキルお
よびハロアルコキシで更に置換されることがある。用語
ベンジルおよびフェニルメチルは互換性がある。用語
「ヘテロシクリルアルキル」は、飽和および部分的に不
飽和なヘテロシクリル−置換アルキル基、例えばピロリ
ジニルメチル、およびヘテロアリール置換アルキル基、
例えばピリジルメチル、キノリルメチル、チエニルメチ
ル、フリルエチル、およびキノリルエチルを包含する。
前記ヘテロアルアルキル中のヘテロアリールは、ハロ、
アルキル、アルコキシ、ハロアルキルおよびハロアルコ
キシで更に置換されることがある。用語「アリールオキ
シ」は、酸素原子を経て他の基に付いたアリール基を包
含する。用語「アリールチオ」は、硫黄原子に付くアリ
ール基を包含する。用語「アルアルコキシ」は、酸素原
子を経て他の基に付いたアルアルキル基を包含する。用
語「ヘテロシクリルオキシ」は、酸素原子を経て他の基
に付いたヘテロシクリル基を包含する。用語「アルアル
コキシアルキル」は、酸素原子を経てアルキル基に付い
たアルアルコキシ基を包含する。用語「アルアルキルチ
オ」は、硫黄原子に付いたアルアルキル基を包含する。
用語「アルアルキルチオアルキル」は、硫黄原子を経て
アルキル基に付いたアルアルキルチオ基を包含する。用
語「アミノアルキル」は、アミノ基で置換されたアルキ
ル基を包含する。「低級アミノアルキル」基が一層好ま
しい。このような基の例としてアミノメチル、アミノエ
チルなどが挙げられる。用語「アルキルアミノ」は１個
か２個のアルキル基で置換されたアミノ基を指す。１か
ら６炭素原子を有するアルキル部分をもつ「低級アルキ
ルアミノ」基が特に適当である。適当な低級アルキルア
ミノは一置換Ｎ−アルキルアミノまたは二置換Ｎ，Ｎ−
アルキルアミノ、例えばＮ−メチルアミノ、Ｎ−エチル
アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ミノなどである。用語「アリールアミノ」は、１個か２
個のアリール基で置換されたアミノ基、例えばＮ−フェ
ニルアミノを指す。「アリールアミノ」基は、この基の
アリール環部分に更に置換基をとることができる。用語
「アルアルキルアミノ」は、１個か２個のアルアルキル
基で置換されたアミノ基を包含する。用語「Ｎ−アリー
ルアミノアルキル」および「Ｎ−アリール−Ｎ−アルキ
ル−アミノアルキル」は、１個のアリール基で、あるい
は１個のアリール基と１個のアルキル基でそれぞれ置換
されたアミノアルキル基を指す。このような基の例とし
てＮ−フェニルアミノメチルおよびＮ−フェニル−Ｎ−
メチルアミノメチルが挙げられる。用語「アミノカルボ
ニル」は式−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２のアミド基を指す。用語
「アルキルアミノカルボニル」は、アミノ窒素原子上を
１個か２個のアルキル基で置換したアミノカルボニル基
を指す。「Ｎ−アルキルアミノカルボニル」および
「Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノカルボニル」基が好まし
い。前に定義された低級アルキル部分をもつ「低級Ｎ−
アルキルアミノカルボニル」および「低級Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルアミノカルボニル」基が一層好ましい。用語「ア
ルキルアミノアルキル」は、アミノアルキル基に付いた
１個以上のアルキル基を有する基を包含する。用語「ア
リールオキシアルキル」は、２価の酸素原子を経てアル
キル基に付いたアリール基を有する基を包含する。用語
「アリールチオアルキル」は２価の硫黄原子を経てアル
キル基に付いたアリール基を有する基を包含する。「ア
ミノ酸残基」は天然に存在するアルファ−、ベータ−お
よびガンマ−アミノカルボン酸のいずれも意味し、そし
てこれらのＤおよびＬ光学異性体およびそのラセミ混合
物、合成アミノ酸、ならびにこれら天然および合成アミ
ノ酸の誘導体を包含する。アミノ酸残基は、アミノ酸の
アミノ基または酸官能基のいずれかを介して結合する。
本発明にとり入れることのできる天然アミノ酸には、ア
ラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、
システイン、グルタミン酸、グルタミン、グリシン、ヒ
スチジン、イソロイシン、ロイシン、リジン、メチオニ
ン、オルニチン、フェニルアラニン、プロリン、セリ
ン、トレオニン、シクロヘキシルアラニン、トリプトフ
ァン、チロシン、バリン、β−アラニン、およびγ−ア
ミノ酪酸が含まれるが、これらに限定されない。本発明
にとり入れることのできるアミノ酸誘導体には、保護お
よび修飾されたカルボン酸を有するアミノ酸、例えば酸
エステルおよびアミド、保護アミン、および置換フェニ
ル環を有するアミノ酸（アルキル、アルコキシおよびハ
ロ置換チロシンおよびフェニルアラニンを含むが、これ
らに限定されない）を包含するが、これらに限定されな
い。
【００２８】本発明は、治療上有効な量の式Ｉの化合物
を、少なくとも一種の製薬上容認しうる担体、補助剤ま
たは希釈剤と共に含有してなる医薬品組成物を包含す
る。
【００２９】本発明はまた患者の炎症または炎症に関連
する疾患の治療法からなり、そして本法は、このような
炎症または炎症関連疾患をもつ患者あるいはこのような
疾患に罹りやすい患者を式Ｉ’：
【化１８】 式中、Ａは部分的に不飽和なヘテロシクリル、ヘテロア
リール、シクロアルケニルおよびアリールから選ばれる
環置換基であり、そしてＡは、置換可能な位置で、アル
キルカルボニル、ホルミル、ハロ、アルキル、ハロアル
キル、オキソ、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルコ
キシ、アミノカルボニル、アルコキシカルボニル、カル
ボキシアルキル、シアノアルキル、ヒドロキシアルキ
ル、ハロアルキルスルホニルオキシ、アルコキシアルキ
ルオキシアルキル、カルボキシアルコキシアルキル、シ
クロアルキルアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテ
ロシクリルオキシ、アルキルチオ、シクロアルキル、ア
リール、ヘテロシクリル、シクロアルケニル、アルアル
キル、ヘテロシクリルアルキル、アルキルチオアルキ
ル、アリールカルボニル、アルアルキルカルボニル、ア
ルアルケニル、アルコキシアルキル、アリールチオアル
キル、アリールオキシアルキル、アルアルキルチオアル
キル、アルアルコキシアルキル、アルコキシカルボニル
アルキル、アミノカルボニルアルキル、アルキルアミノ
カルボニル、Ｎ−アリールアミノカルボニル、Ｎ−アル
キル−Ｎ−アリールアミノカルボニル、アルキルアミノ
カルボニルアルキル、アルキルアミノ、Ｎ−アリールア
ミノ、Ｎ−アルアルキルアミノ、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルアルキルアミノ、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミ
ノ、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、Ｎ−ア
リールアミノアルキル、Ｎ−アルアルキルアミノアルキ
ル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルアルキルアミノアルキル、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノアルキル、アリール
オキシ、アルアルコキシ、アリールチオ、アルアルキル
チオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、ア
ミノスルホニル、アルキルアミノスルホニル、Ｎ−アリ
ールアミノスルホニル、アリールスルホニル、およびＮ
−アルキル−Ｎ−アリールアミノスルホニルから選ばれ
る１個以上の基で任意に置換され；Ｒ１はヘテロシクリ
ル、シクロアルキル、シクロアルケニルおよびアリール
から選ばれ、そしてＲ１は、置換可能な位置で、アルキ
ル、ハロアルキル、シアノ、カルボキシル、アルコキシ
カルボニル、ヒドロキシル、ヒドロキシアルキル、ハロ
アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アリールアミ
ノ、ニトロ、アルコキシアルキル、アルキルスルフィニ
ル、ハロ、アルコキシ、およびアルキルチオから選ばれ
る１個以上の基で任意に置換され；Ｒ２はヒドリドおよ
びアルコキシカルボニルアルキルから選ばれ；Ｒ ３はア
ルキル、カルボキシアルキル、アシル、アルコキシカル
ボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルコキシカルボ
ニルアルキルカルボニル、アルコキシカルボニルカルボ
ニル、アミノ酸残基、およびアルキルカルボニルアミノ
アルキルカルボニルから選ばれる、を有する化合物、あ
るいはその製薬上容認しうる塩で処置することからな
る。
【００３０】本発明方法は予防処置も包含する。本発明
に係る特に適当な方法は、式Ｉ−IIIの水溶性化合物を
注射により投与することからなる。
【００３１】式Ｉを有する一群の化合物にはその立体異
性体も包含される。本発明化合物は１個以上の不斉炭素
原子を有することができ、従って光学異性体の形で、な
らびにそのラセミまたは非ラセミ混合物の形で存在しう
る。従って、本発明化合物のあるものはラセミ混合物と
して存在することがあり、このものも本発明に包含され
る。光学異性体は、常法に従い、例えば光学活性な酸ま
たは塩基での処理によりジアステレオ異性体塩を形成さ
せてラセミ混合物を分割することにより得ることができ
る。適当な酸の例は酒石酸、ジアセチル酒石酸、ジベン
ゾイル酒石酸、ジトルオイル酒石酸およびショウノウス
ルホン酸であり、次に結晶化によりジアステレオ異性体
混合物を分離し、次いでこれら塩から光学活性塩基を遊
離させる。光学異性体を分離する一つの異なる方法は、
鏡像体の分離を最大にするように最適に選ばれたキラル
クロマトグラフィーの使用である。尚もう一つの利用で
きる方法は、式Ｉの化合物に対する前駆物質のアミン官
能基を、光学的に純粋な酸の活性化形あるいは光学的に
純粋なイソシアネートと反応させることによって、共有
結合ジアステレオ異性体分子を合成することである。別
法として、ジアステレオマー誘導体は、式Ｉの化合物に
対する前駆物質のカルボキシル官能基を光学的に純粋な
アミン塩基と反応させることにより調製できる。合成さ
れたジアステレオ異性体は、通常の手段、例えばクロマ
トグラフィー、蒸留、結晶化または昇華により分けるこ
とができ、次に加水分解して鏡像体的に純粋な化合物を
得ることができる。式Ｉの光学活性化合物は、同様に、
光学活性出発原料を利用することにより得ることができ
る。これら異性体は遊離酸、遊離塩基、エステルまたは
塩の形をとりうる。
【００３２】式Ｉの化合物群の中に、その製薬上容認し
うる塩も含まれる。用語「製薬上容認しうる塩」は、ア
ルカリ金属塩をつくるために、また遊離酸あるいは遊離
塩基の付加塩をつくるために常用される塩を包含する。
塩の性質は、それが製薬上容認しうる限り特に制限がな
い。式Ｉの化合物の製薬上容認しうる適当な酸付加塩
は、無機酸から、あるいは有機酸からつくることができ
る。このような無機酸の例は、塩酸、臭化水素酸、ヨウ
化水素酸、硝酸、炭酸、硫酸およびリン酸である。適当
な有機酸は脂肪族、環状脂肪族、芳香族、芳香脂肪族、
ヘテロシクリル、カルボン酸およびスルホン酸群の有機
酸から選ぶことができ、その例はギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、コハク酸、グリコール酸、グルコン酸、乳酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、クエン酸、アスコルビン酸、グルキュ
ロン酸、マレイン酸、フマル酸、ピルビン酸、アスパラ
ギン酸、グルタミン酸、安息香酸、アントラニル酸、メ
シル酸、ステアリン酸、サリチル酸、ｐ−ヒドロキシ安
息香酸、フェニル酢酸、マンデル酸、エムボン（パモ
ン）酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、パントテン酸、トルエンスルホン酸、２
−ヒドロキシエタンスルホン酸、スルファニル酸、シク
ロヘキシルアミノスルホン酸、アルギン酸、β−ヒドロ
キシ酪酸、ガラクタール酸およびガラクツロン酸であ
る。式Ｉの化合物の製薬上容認しうる適当な塩基付加塩
には金属塩および有機塩が含まれる。一層好ましい金属
塩の例として、適当なアルカリ金属（第Ｉａ族）塩、ア
ルカリ土類金属（IIａ族）塩および他の生理学上容認し
うる塩が挙げられる。このような塩は、アルミニウム、
カルシウム、リチウム、マグネシウム、カリウム、ナト
リウムおよび亜鉛からつくることができる。特に適当な
有機塩基は、一部としてトロメタミン、ジエチルアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン、クロロプ
ロカイン、コリン、ジエタノールアミン、エチレンジア
ミン、メグルミン（Ｎ−メチルグルカミン）およびプロ
カインを含めて、第三級アミンおよび第四級アンモニウ
ム塩からつくられる。これら塩のすべては、常套手段に
より式Ｉ−IIIの対応する化合物から、例えば適当な酸
または塩基を式Ｉ−IIIの化合物と反応させることによ
り調製できる。
【００３３】一般合成手順 本発明に係るシクロオキシゲナーゼ−２阻害剤プロドラ
ッグは、下記のスキームＩ−XVIIの手順に従い合成でき
る。式中、Ｒ１−Ｒ８置換基は、更に注釈を付けない限
り、前記式Ｉ−IIIに対して定義した通りである。
【化１９】 合成スキームＩは、ＷＯ９５／１５３１６（参考として
取り入れている）に記載のように、シクロオキシゲナー
ゼ−２阻害剤化合物の製造を示す。工程１においては、
ケトン１を塩基、なるべくはＮａＯＭｅまたはＮａＨ、
およびエステル、またはエステルと同等のもの、で処理
して中間体ジケトン２（エノール形）をつくり、これを
それ以上精製せずに使用する。工程２においては、ジケ
トン２を、無水プロトン性溶媒、例えば無水エタノール
または酢酸、中置換ヒドラジンの塩酸塩または遊離塩基
で、還流状態で処理することにより、ピラゾール３と４
の混合物を得る。再結晶またはクロマトグラフィーによ
り通常３を固体として得る。同様なピラゾールは、米国
特許第５，４０１，７６５号、第５，４３４，１７８
号、第４，１４６，７２１号、第５，０５１，５１８
号、第５，１３４，１４２号、および第４，９１４，１
２１号明細書（これも参考として取り入れている）に記
載の方法により製造できる。
【００３４】
【化２０】 スキームIIは、米国特許第５，４８６，５３４号明細書
に記載のようにケトン５からシクロオキシゲナーゼ−２
阻害剤ピラゾール８をつくる４段階法を示す（式中、Ｒ
ａはヒドリドまたはアルキルである）。工程１において
は、ケトン５を塩基、例えばリチウムビス（トリメチル
シリル）アミドまたはリチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ）と反応させて陰イオンをつくる。工程２にお
いては、この陰イオンをアセチル化剤と反応させてジケ
トン６を得る。工程３においては、ジケトン６をヒドラ
ジンまたは置換ヒドラジンと反応させてピラゾール７を
得る。工程４においては、ピラゾール７を酸化剤、例え
ばOxone（登録商標）（ペルオキシモノ硫酸カリウ
ム）、３−クロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）または過酸
化水素、で酸化して求める３−（アルキルスルホニル）
フェニル−ピラゾール８と５−（アルキルスルホニル）
フェニル−ピラゾール異性体との混合物を得る。スルホ
ンアミド類９は、例えばHuang法［Tet．Lett.，３５，
７２０１−０４（１９９４）］により調製できる。
【００３５】別法として、ジケトン６はケトン５から、
溶媒、例えばジメチルホルムアミド、中水素化ナトリウ
ムのような塩基で処理し、更にニトリルと反応させてア
ミノケトンをつくることにより生成される。このアミノ
ケトンを酸で処理するとジケトン６を生ずる。同様なピ
ラゾールは米国特許第３，９８４，４３１号明細書（参
考として取り入れている）記載の方法により製造でき
る。
【００３６】
【化２１】 シクロオキシゲナーゼ−２阻害剤ジアリール／ヘテロア
リールチオフェン（ＴはＳであり、Ｒｂはアルキルであ
る）は、米国特許第４，４２７，６９３号、第４，３０
２，４６１号、第４，３８１，３１１号、第４，５９
０，２０５号、および第４，８２０，８２７号、および
ＰＣＴ文書ＷＯ９５／００５０１およびＷＯ９４／１５
９３２（これらは参考として取り入れている）記載の方
法により製造できる。同様なピロール類（ＴはＮであ
る）、フラノンおよびフラン（ＴはＯである）はＰＣＴ
文書ＷＯ９５／００５０１およびＷＯ９４／１５９３２
に記載の方法により製造できる。
【００３７】
【化２２】 シクロオキシゲナーゼ−２阻害剤ジアリール／ヘテロア
リールオキサゾール類は、米国特許第５，３８０，７３
８号、第３，７４３，６５６号、第３，６４４，４９９
号および第３，６４７，８５８号明細書、およびＰＣＴ
文書ＷＯ９５／００５０１およびＷＯ９４／２７９８０
（参考として取り入れている）に記載の方法により製造
できる。
【００３８】
【化２３】 シクロオキシゲナーゼ−２阻害剤ジアリール／ヘテロア
リールイソオキサゾール類は、ＰＣＴアプリケーション
連続番号ＵＳ９６／０１８６９、ＰＣＴ文書ＷＯ９２／
０５１６２、およびＷＯ９２／１９６０４、ならびに欧
州発行ＥＰ２６９２８（参考として取り入れている）に
記載の方法により製造できる。スルホンアミド類２７
は、水和イソオキサゾール２６から２段階法でつくられ
る。最初に、水和イソオキサゾール２６を、約０℃で、
２または３当量のクロロスルホン酸で処理して対応する
塩化スルホニルをつくる。工程２では、このようにして
つくられた塩化スルホニルを濃アンモニアで処理してス
ルホンアミド誘導体２７を得る。
【００３９】
【化２４】 スキームVIは、シクロオキシゲナーゼ−２阻害剤イミダ
ゾール類３３の３段階製造法を示す。工程１において
は、トルエン、ベンゼン、およびキシレンといった不活
性溶媒の存在下、アルキルアルミニウム試薬、例えばト
リメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ジメ
チルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロ
リドの存在下に、置換ニトリル（Ｒ１ＣＮ）２８を第一
級フェニルアミン２９と反応させてアミジン３０を得
る。工程２においては、塩基、例えば重炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムま
たは立体障害をもつ第三級アミン、例えばＮ，Ｎ’−ジ
イソプロピルエチルアミン、の存在下で、アミジン３０
を２−ハロケトン（ＸはＢｒまたはＣｌ）と反応させて
４，５−ジヒドロイミダゾール３１（Ｒｂはアルキル）
を得る。この反応に適した溶媒の若干をあげると、イソ
プロパノール、アセトンおよびジメチルホルムアミドが
ある。反応は約２０℃から約９０℃の温度で実施でき
る。工程３においては、４，５−ジヒドロイミダゾール
３１を酸触媒、例えば４−トルエンスルホン酸または鉱
酸、の存在下で脱水し本発明に係る１，２−二置換イミ
ダゾール３２をつくる。この脱水工程に適した溶媒は、
例えばトルエン、キシレンおよびベンゼンである。この
脱水工程に対し溶媒および触媒としてトリフルオロ酢酸
を使用できる。スルホンアミド３３は、例えばHuang法
［Tet．Lett.，３５，７２０１−０４（１９９４）］に
より製造できる。
【００４０】ある場合には（例えば、Ｒ＝メチルまたは
フェニルの場合）、中間体３１が容易に単離できないか
もしれない。上記の条件下で、この反応は目標とするイ
ミダゾールを生ずるまで直接進行する。
【００４１】同様に、スルホニルフェニル基が２位に、
そしてＲ１が１位の窒素原子にイミダゾールをつくるこ
とができる。ジアリール／ヘテロアリールイミダゾール
は、米国特許第４，８２２，８０５号明細書ならびにＰ
ＣＴ文書ＷＯ９３／１４０８２およびＷＯ９６／０３３
８８（参考として取り入れている）に記載の方法により
製造できる。
【００４２】
【化２５】 イミダゾールシクロオキシゲナーゼ−２阻害剤化合物４
１はスキームVIIに概略を示した順序に従って合成でき
る。アルデヒド３４は、触媒、例えばヨウ化亜鉛（Ｚｎ
Ｉ２）またはシアン化カリウム（ＫＣＮ）、の存在下、
トリメチルシリルシアニド（ＴＭＳＣＮ）のようなトリ
アルキルシリルシアニドとの反応により保護シアノヒド
リン３５に変換できる。シアノヒドリン３５と強塩基と
の反応、それに続くベンズアルデヒド３６による処理、
および仕上げ処理時に酸処理および塩基処理をこの順序
で用いることによりベンゾイン３７を得る。この反応に
適した強塩基の例は、リチウムジイソプロピルアミド
（ＬＤＡ）およびリチウムヘキサメキサメチルジシラザ
ンである。ベンゾイン３７は、適当な酸化剤、例えば酸
化ビスマスまたは二酸化マンガンとの反応により、ある
いはジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）と無水トリフル
オロ酢酸を用いるSwern酸化によりベンジル３８に変換
される。ベンジル３８は、シアノヒドリン３５の陰イオ
ンと置換安息香酸ハロゲン化物との反応により直接得る
ことができる。化合物３７および３８のいずれも当業者
により知られる、そしてM．R．Grimmettにより「Advanc
es in Imidazole Chemistry」，Advances in Heterocyc
lic Chemistry，１２，１０４（１９７０）に記述され
た化学手順に従い、イミダゾール３９へ変換するための
中間体として使用できる。３８からイミダゾール３９へ
の変換は、酢酸中酢酸アンモニウムおよび適当なアルデ
ヒド（ＲＣＨＯ）との反応により行なわれる。ベンゾイ
ン３７は、ホルムアミドとの反応によりイミダゾール３
９へ変換できる。更にまた、ベンゾイン３７は、先ず適
当なアシル基（ＲＣＯ−）でアシル化し、次に水酸化ア
ンモニウムで処理することによりイミダゾールヘ変換で
きる。当業者は、スルフィドからスルホンへの酸化を、
イミダゾール３９の酸化も含めて化合物３６で始まる経
路に沿ったどの点においても、例えば酢酸中過酸化水
素、ｍ−クロロペルオキシ安息香酸（ＭＣＰＢＡ）およ
びペルオキシモノ硫酸カリウム（ＯＸＯＮＥ（登録商
標））といった試薬を用いて実施しうることを認識する
であろう。スルホンアミド４１は、例えばHuang法［Te
t．Lett.，３５，７２０１−０４（１９９４）］により
調製できる。
【００４３】ジアリール／ヘテロアリールイミダゾール
は、米国特許第３，７０７，４７５号、第４，６８６，
２３１号、第４，５０３，０６５号、第４，４７２，４
２２号、第４，３７２，９６４号、第４，５７６，９５
８号、第３，９０１，９０８号、ＰＣＴアプリケーショ
ン連続第ＵＳ９５／０９５０５号、欧州発行ＥＰ３７
２，４４５号、およびＰＣＴ文書ＷＯ９５／００５０１
（参考として取り入れている）に記載の方法により製造
できる。
【００４４】
【化２６】 ジアリール／ヘテロアリールシクロペンテンシクロオキ
シゲナーゼ−２阻害剤は、米国特許第５，３４４，９９
１号およびＰＣＴ文書ＷＯ９５／００５０１（参考とし
て取り入れている）に記載の方法により製造できる。
【００４５】
【化２７】 同様に、合成スキームIXは、２−ブロモ−ビフェニル中
間体４９（合成スキームVIIIに記載のものと同様に調
製）および適当な置換フェニルボロン酸からの、１，２
−ジアリールベンゼン シクロオキシゲナーゼ−２阻害
剤５１の製造手順を示す。Suzuki等［Synth．Commun，
１１，５１３（１９８１）］により開発された方法と同
様のカップリング手順を用いることにより、中間体４９
をトルエン／エタノール中還流状態で、Ｐｄ０触媒、例
えばテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
（Ｏ）、および２Ｍ炭酸ナトリウムの存在下にボロン酸
（boronic acid）と反応させて対応する本発明１，２−
ジアリールベンゼン抗炎症剤５０を得る。スルホンアミ
ド５１は、例えばHuang法［Tet．Lett.，３５，７２０
１−０４（１９９４）］により調製できる。このような
ターフェニル化合物は、米国特許願連続第０８／３４
６，４３３号（参考として取り入れている）に記載の方
法により調製できる。
【００４６】
【化２８】 ジアリール／ヘテロアリールチアゾールシクロオキシゲ
ナーゼ−２阻害剤は、米国特許第４，０５１，２５０
号、第４，６３２，９３０号、欧州特許ＥＰ５９２，６
６４号、およびＰＣＴ文書ＷＯ９６／０３３９２、およ
びＷＯ９５／００５０１（参考として取り入れている）
に記載の方法により調製できる。イソチアゾール類はＰ
ＣＴ文書ＷＯ９５／００５０１に記載のように調製でき
る。
【００４７】ジアリール／ヘテロアリールピリジン シ
クロオキシゲナーゼ−２阻害剤は、米国特許第５，１６
９，８５７号、第４，０１１，３２８号、第４，５３
３，６６６号、ＰＣＴアプリケーション連続第ＵＳ９６
／０１１１０号およびＰＣＴアプリケーション連続第Ｕ
Ｓ９６／０１１１１号（参考として取り入れている）に
記載の方法により製造できる。
【００４８】
【化２９】 合成スキームXIは、アシル化したスルホンアミド５７の
製造法を例示するものである。この方法は、非置換スル
ホンアミド５６を、塩基および適当な溶媒、例えばテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）の存在下、適当なアシル化
剤、例えば無水物、酸塩化物、アシルイミダゾール、ま
たは活性エステルで処理してアシル化スルホンアミド５
７を得るものである。次にこの生成物５７をクロマトグ
ラフィーによりまたは結晶化により単離できる。
【００４９】
【化３０】 合成スキームXIIは、５７の対応する塩形の製造法を示
す。５７を適当な強塩基、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化カルシウムなどで処理すると、対
応する塩形５８を生ずる。加えた強塩基と反応しない限
り、多種多様な溶媒を使用でき、エタノールおよびテト
ラヒドロフランのような溶媒が特によい。
【００５０】
【化３１】 合成スキームXIIIは、置換スルホンアミド６０の製造に
用いる方法を示す。この工程は、適当な塩化スルホニル
５９をアミンで処理して置換スルホンアミド５９をつく
る方法である。アミンは第一級アミン（Ｒ３ＮＨ２）か
第二級アミン（Ｒ３Ｒ２ＮＨ）のいずれでもよい。この
反応は一般に添加された塩基の存在下で行なう。この反
応は過剰のアミンの存在下でも行なわれる。過剰のアミ
ンの条件下では、アミンは求核試薬および塩基両方とし
て働く。
【００５１】
【化３２】 合成スキームXIVは、Ｎ−置換アシルスルホンアミド６
１の合成に用いられる方法を示す。この手順は、アシル
化したスルホンアミド５８の塩をハロゲン化アルキル
（Ｒ２−Ｘ）で処理して対応するＮ−アルキル化アシル
スルホンアミド６１をつくる方法である。この方法は、
多種多様な溶媒中広範囲の求電子試薬を用いて行なわれ
る。
【００５２】
【化３３】 合成スキームXVは、いくつかのＮ−アシル化スルホンア
ミド５７の合成に用いられる方法を例示するものであ
る。この手順は、第三級アミン塩基の存在下に、スルホ
ンアミド５６を過剰の無水物、酸塩化物またはカルバミ
ルクロリドで処理して対応するビス（Ｎ−アシル化）ス
ルホンアミド６２を得る方法である。次にこのビス（Ｎ
−アシル化）スルホンアミド６２を、２当量の強塩基、
例えば水酸化ナトリウムで処理してナトリウム塩５８を
得る。
【００５３】
【化３４】 合成スキームXVIは、ある種のＮ−アルキル化ピロール
スルホンアミドの合成に用いられる方法を例示するもの
である。アルコール６５は、文献の手順（J．Org．Che
m.５７，２１９５，１９９２）に従うことにより合成さ
れる。このアルコール６５は、適当な溶媒、例えば塩化
メチレンまたはＤＭＳＯ、中塩化オキサリル処理により
酸化される。例えば、Grignard試薬による付加はアルコ
ール６７を生ずる。クロロクロム酸ピリジニウムによる
酸化はケトン６８を生ずる。ｐ−トルエンスルホン酸存
在下、［（Ｎ−置換アミノ）スルホニル］ベンゼンアミ
ンとの縮合により置換ピロールスルホンアミド６９を得
る。
【００５４】
【化３５】 合成スキームXVIIは、アシル化したイソオキサゾールス
ルホンアミド７１の製造法を例示するものである。この
工程は非置換スルホンアミド７０を適当なアシル化剤、
例えば無水物、酸塩化物、アシルイミダゾール、あるい
は活性エステルで処理してアシル化スルホンアミド７１
を得る方法である。生成物７１はクロマトグラフィーに
より、または結晶化により単離できる。
【００５５】
【実施例】下記の例は、式Ｉ−IIIの化合物の製造法の
詳細な説明である。これら詳細な説明は、本発明の範囲
内にあり、本発明の一部をなす上記一般合成手順の例示
に役立つ。これら詳細な説明は例示目的にのみ提出する
のであって、本発明の範囲に対する制限とする意図はな
い。特に断らない限り、すべての部数は重量部であり、
温度は摂氏度で表わしてある。すべての化合物は、それ
らに帰属された構造と一致するＮＭＲスペクトルを示し
た。
【００５６】下記の略号を使用する： ＨＣｌ −塩酸 ＤＭＳＯ −ジメチルスルホキシド ＤＭＳＯｄ６−重水素化ジメチルスルホキシド ＣＤＣｌ３ −重水素化クロロホルム ＭｇＳＯ４−硫酸マグネシウム ＮａＨＣＯ３−重炭酸ナトリウム ＫＨＳＯ４−硫酸水素カリウム ＤＭＦ −ジメチルホルムアミド ＮａＯＨ −水酸化ナトリウム ＢＯＣ −ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル ＣＤ３ＯＤ −重水素化メタノール ＥｔＯＨ −エタノール ＬｉＯＨ −水酸化リチウム ＣＨ２Ｃｌ２−塩化メチレン ｈ−時間 ｈｒ−時間 ｍｉｎ−分 ＴＨＦ −テトラヒドロフラン ＴＬＣ −薄層クロマトグラフィー Ｅｔ３Ｎ −トリエチルアミン ＤＢＵ −１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウン
デセ−７−エン ＤＭＡＰ −４−ジメチルアミノピリジン。
【００５７】例 １
【化３６】 Ｎ−［［４−［２−（３−ピリジニル）−４−（トリフ
ルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェ
ニル］スルホニル］アセトアミド ４−［２−（ピリジ
ン−３−イル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−
イミダゾール−１−イル］ベンゼンスルホンアミド
（０．５ｇ，１．３６ミリモル）、無水酢酸（０．４２
ｇ，４．１ミリモル）、４−ジメチルアミノピリジン
（ＤＭＡＰ）（０．０８３ｇ，０．６８ミリモル）およ
びトリエチルアミン（０．１７ｇ，１．６ミリモル）か
らなる混合物を室温で１６時間かきまぜた。反応混合物
を水５０mlで希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾
過した。濾液を真空下で濃縮し、残留物を酢酸エチルと
ヘキサンから再結晶して０．５ｇ（９０％）のＮ−
［［４−［２−（３−ピリジニル）−４−（トリフルオ
ロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミドを無色固体：mp（ＤＳ
Ｃ）：２４４−２４６℃、として得た。分析：Ｃ１７Ｈ
１３Ｆ３Ｎ４Ｏ３Ｓに対する計算値：Ｃ，４９．７６；
Ｈ，３．１９；Ｎ，１３．６５；Ｓ，７．８１。実測
値：Ｃ，４９．６６；Ｈ，３．０６；Ｎ，１３．５３；
Ｓ，８．１１。
【００５８】例 ２
【化３７】 Ｎ−［［４−［２−（３−ピリジニル）−４−（トリフ
ルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェ
ニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩 無水エタノール１０ml中Ｎ−［［４−［２−（３−ピリ
ジニル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダ
ゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
ド（例１）（０．４１ｇ，１．０ミリモル）の懸濁液
へ、エタノール０．４ml中水酸化ナトリウム（０．０４
ｇ，１．０ミリモル）の溶液を加えた。混合物を室温で
１０分間かきまぜた。溶媒を真空で蒸発させ、残留物を
高真空で乾燥させることにより、０．３３ｇ（７６％）
のＮ−［［４−［２−（３−ピリジニル）−４−（トリ
フルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩を白
色粉末：mp（ＤＳＣ）：２９１℃（分解）、として得
た。分析：Ｃ１７Ｈ１２Ｆ３Ｎ４Ｏ３ＳＮａ・０．５Ｈ
２Ｏに対する計算値：Ｃ，４６．２６；Ｈ，２．９７；
Ｎ，１２．６９；Ｓ，７．２６。実測値：Ｃ，４５．８
８；Ｈ，３．０２；Ｎ，１１．６９；Ｓ，７．１３。
【００５９】例 ３
【化３８】 Ｎ−［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド ４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−４−
（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イ
ル］ベンゼンスルホンアミド（０．５ｇ，１．３ミリモ
ル）、無水酢酸（０．４０ｇ，３．９ミリモル）、ＤＭ
ＡＰ（０．０９ｇ，０．７ミリモル）およびトリエチル
アミン（０．１６ｇ，１．６ミリモル）からなる混合物
を室温で１６時間かきまぜた。反応混合物を水５０mlで
希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。濾液
を真空下で濃縮し、残留物を酢酸エチルとヘキサンから
再結晶して０．４ｇ（７２％）のＮ−［［４−［２−
（５−メチルピリジン−３−イル）−４−（トリフルオ
ロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミドで無色固体：mp（ＤＳ
Ｃ）２６８−２７０℃、として得た。分析：Ｃ１８Ｈ
１５Ｆ３Ｎ４Ｏ３Ｓに対する計算値：Ｃ，５０．９４；
Ｈ，３．５６；Ｎ，１３．２０；Ｓ，７．５６。実測
値：Ｃ，５０．６８；Ｈ，３．４７；Ｎ，１２．５３；
Ｓ，７．４３。
【００６０】例 ４
【化３９】 Ｎ−［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド，ナト
リウム塩 無水エタノール５ml中Ｎ−［［４−［２−（５−メチル
ピリジン−３−イル）−４−（トリフルオロメチル）−
１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド（例３）（０．２５ｇ，０．６ミリモ
ル）の懸濁液へ、エタノール０．４ml中水酸化ナトリウ
ム（０．０２４ｇ，０．６ミリモル）の溶液を加えた。
混合物を室温で１０分かきまぜた。溶媒を真空で蒸発さ
せ、残留物を高真空で乾燥することにより０．２５ｇ
（９５％）のＮ−［［４−［２−（５−メチルピリジン
−３−イル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イ
ミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセト
アミド，ナトリウム塩を白色粉末：mp（ＤＳＣ）２７８
−２８１℃、として得た。分析：Ｃ１８Ｈ１４Ｆ３Ｎ４
Ｏ３ＳＮａ・１．０Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ，４６．
５５；Ｈ，３．４７；Ｎ，１２．０６；Ｓ，６．９０。
実測値：Ｃ，４６．３５；Ｈ，３．１９；Ｎ，１１．７
９；Ｓ，６．５２。
【００６１】例 ５
【化４０】 Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド ４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）−４−
（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イ
ル］ベンゼンスルホンアミド（０．５ｇ，１．３ミリモ
ル）、無水酢酸（０．４０ｇ，３．９ミリモル）、ＤＭ
ＡＰ（０．０９ｇ，０．７ミリモル）およびトリエチル
アミン（０．１６ｇ，１．６ミリモル）からなる混合物
を室温で１６時間かきまぜた。反応混合物を水５０mlで
希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、食塩水で
洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。濾液
を真空下で濃縮し、残留物を酢酸エチルとヘキサンから
再結晶して０．５５ｇ（９９％）のＮ−［［４−［２−
(２−メチルピリジン−３−イル)−４−（トリフルオロ
メチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］
スルホニル］アセトアミドを白色固体：mp（ＤＳＣ）２
４３−２４５℃、として得た。分析：Ｃ１８Ｈ１５Ｆ３
Ｎ４Ｏ３Ｓに対する計算値：Ｃ，５０．９４；Ｈ，３．
５６；Ｎ，１３．２０；Ｓ，７．５６。実測値：Ｃ，５
０．６４；Ｈ，３．４３；Ｎ，１２．６４；Ｓ，７．３
７。
【００６２】例 ６
【化４１】 Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド，ナト
リウム塩 無水エタノール７．５ml中、Ｎ−［［４−［２−（２−
メチルピリジン−３−イル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］アセトアミド（例５）（０．３５ｇ，０．８３
ミリモル）の懸濁液へ、エタノール０．８３ml中水酸化
ナトリウム（０．０３３ｇ，０．８３ミリモル）の溶液
を加えた。混合物を室温で１０分間かきまぜた。溶媒を
真空で蒸発させ、残留物を高真空で乾燥させることによ
り、０．３７ｇ（９９％）のＮ−［［４−［２−（２−
メチルピリジン−３−イル）−４−(トリフルオロメチ
ル)−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］アセトアミド，ナトリウム塩を白色粉末：mp
（ＤＳＣ）３１３℃（分解）として得た。分析：Ｃ１８
Ｈ１４Ｆ３Ｎ４Ｏ３ＳＮａ・０．７５Ｈ２Ｏに対する計
算値：Ｃ，４７．０１；Ｈ，３．４０；Ｎ，１２．１
８；Ｓ，６．９７。実測値：Ｃ，４７．５１；Ｈ，３．
７１；Ｎ，１１．７０；Ｓ，６．５１。
【００６３】例 ７
【化４２】 Ｎ−［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド ４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−４−
（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イ
ル］ベンゼンスルホンアミド（０．５ｇ，１．３ミリモ
ル）、酪酸無水物（０．６２ｇ，３．９ミリモル）、Ｄ
ＭＡＰ（０．０９ｇ，０．７ミリモル）およびトリエチ
ルアミン（０．１６ｇ，１．６ミリモル）からなる混合
物を室温で１６時間かきまぜた。反応混合物を水５０ml
で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。濾
液を真空で濃縮し、残留物を酢酸エチルとヘキサンから
再結晶することにより０．５０ｇ（８５％）のＮ−
［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−４
−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−
イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミドを無色固
体：mp（ＤＳＣ）２０３−２０４℃として得た。分析：
Ｃ２０Ｈ１９Ｆ３Ｎ４Ｏ３Ｓに対する計算値：Ｃ，５
３．０９；Ｈ，４．２３；Ｎ，１２．３８；Ｓ，７．０
９。実測値：Ｃ，５２．７３；Ｈ，４．２１；Ｎ，１
１．７９；Ｓ，７．００。
【００６４】例 ８
【化４３】 Ｎ−［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド，ナト
リウム塩 無水エタノール５ml中、Ｎ−［［４−［２−(５−メチ
ルピリジン−３−イル)−４−（トリフルオロメチル）
−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］ブタンアミド（例７）（０．３１ｇ，０．６８ミリ
モル）の懸濁液へ、エタノール０．６８ml中水酸化ナト
リウム（０．０２８ｇ，０．６８ミリモル）の溶液を加
えた。混合物を室温で１０分間かきまぜた。溶媒を真空
で蒸発させ、残留物を高真空で乾燥させることにより
０．２８ｇ（８７％）のＮ−［［４−［２−（５−メチ
ルピリジン−３−イル）−４−（トリフルオロメチル）
−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］ブタンアミド，ナトリウム塩を白色粉末：mp（ＤＳ
Ｃ）３０３℃（分解）として得た。分析：Ｃ２０Ｈ１８
Ｆ３Ｎ４Ｏ３ＳＮａ・１．０Ｈ２Ｏに対する計算値：
Ｃ，４８．７８；Ｈ，４．０９；Ｎ，１１．３８；Ｓ，
６．５１。実測値：Ｃ，４７．９０；Ｈ，３．６７；
Ｎ，１１．３８；Ｓ，６．０６。
【００６５】例 ９
【化４４】 Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド ４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）−４−
（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イ
ル］ベンゼンスルホンアミド（０．５ｇ，１．３ミリモ
ル）、酪酸無水物（０．６２ｇ，３．９ミリモル）、Ｄ
ＭＡＰ（０．０９ｇ，０．７ミリモル）およびトリエチ
ルアミン（０．１６ｇ，１．６ミリモル）からなる混合
物を室温で１６時間かきまぜた。反応混合物を水５０ml
で希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。濾
液を真空下で濃縮し、残留物を酢酸エチルとヘキサンか
ら再結晶して０．４９ｇ（８４％）のＮ−［［４−［２
−（２−メチルピリジン−３−イル）−４−（トリフル
オロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］ブタンアミドを無色固体：mp（ＤＳ
Ｃ）２５０−２５２℃、として得た。分析：Ｃ２０Ｈ
１９Ｆ３Ｎ４Ｏ３Ｓに対する計算値：Ｃ，５３．０９；
Ｈ，４．２３；Ｎ，１２．３８；Ｓ，７．０９。実測
値：Ｃ，５２．９７；Ｈ，４．２１；Ｎ，１１．０７；
Ｓ，７．１１。
【００６６】例１０
【化４５】 Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）
−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
１−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド，ナト
リウム塩 無水エタノール５ml中、Ｎ−［［４−［２−(２−メチ
ルピリジン−３−イル)−４−（トリフルオロメチル）
−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］ブタンアミド（例９）（０．３ｇ，０．６６ミリモ
ル）の懸濁液へ、エタノール０．６６ml中水酸化ナトリ
ウム（０．０２７ｇ，０．６６ミリモル）の溶液を加え
た。混合物を室温で１０分間かきまぜた。溶媒を真空で
蒸発させ、残留物を高真空で乾燥させることにより、
０．２６ｇ（８３％）のＮ−［［４−［２−（２−メチ
ルピリジン−３−イル）−４−（トリフルオロメチル）
−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］ブタンアミド，ナトリウム塩を白色粉末：mp（ＤＳ
Ｃ）３２０℃（分解）、として得た。分析：Ｃ２０Ｈ１
８Ｆ３Ｎ４Ｏ３ＳＮａに対する計算値：Ｃ，５０．６
３；Ｈ，３．８２；Ｎ，１１．８１；Ｓ，６．７６。実
測値：Ｃ，４９．８５；Ｈ，３．７８；Ｎ，１１．５
１；Ｓ，６．３２。
【００６７】例１１
【化４６】 Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ−５−メチルフェニ
ル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾー
ル−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド 酢酸１．５ml中、４−［２−（３−クロロ−５−メチル
フェニル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミ
ダゾール−１−イル］ベンゼンスルホンアミド（０．３
０ｇ，０．７２ミリモル）の懸濁液へ、塩化アセチル
１．５mlを室温で加えた。混合物を５時間還流加熱し
た。冷却後、反応混合物を真空下で濃縮し、残留物をエ
ーテルで処理することにより、０．２３ｇ（７０％）の
Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ−５−メチルフェニ
ル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾー
ル−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミドを
白色固体：mp（ＤＳＣ）２３２−２３５℃、として得
た。分析：Ｃ１９Ｈ１５ＣｌＦ３Ｎ ３Ｏ３Ｓに対する計
算値：Ｃ，４９．８４；Ｈ，３．３０；Ｎ，９．１８；
Ｓ，７．００。実測値：Ｃ，４９．７２；Ｈ，３．４
８；Ｎ，８．８１；Ｓ，７．１８。
【００６８】例１２
【化４７】 Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ−５−メチルフェニ
ル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾー
ル−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド，
ナトリウム塩 無水エタノール３ml中、Ｎ−［［４−［２−（３−クロ
ロ−５−メチルフェニル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］アセトアミド（例１１）（０．１ｇ，０．２２
ミリモル）の懸濁液へ、エタノール２ml中水酸化ナトリ
ウム（０．００８８ｇ，０．２２ミリモル）の溶液を加
えた。混合物を室温で１０分間かきまぜた。溶媒を真空
で蒸発させ、残留物を高真空で乾燥させることにより、
０．０９ｇ（８５％）のＮ−［［４−［２−（３−クロ
ロ−５−メチルフェニル）−４−（トリフルオロメチ
ル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スル
ホニル］アセトアミド，ナトリウム塩を白色粉末：mp
（ＤＳＣ）３２０℃（分解）、として得た。分析：Ｃ
１９Ｈ１４ＣｌＦ３Ｎ３Ｏ３ＳＮａに対する計算値：
Ｃ，４７．５６；Ｈ，２．９４；Ｎ，８．７６；Ｓ，
６．６８。実測値：Ｃ，４６．８９；Ｈ，３．０２；
Ｎ，８．２７；Ｓ，６．０３。
【００６９】例１３
【化４８】 Ｎ−［［４−［３−（３−フルオロフェニル）−５−メ
チルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド 乾燥テトラヒドロフラン中、４−［５−メチル−３−
(３−フルオロフェニル)イソオキサゾール−４−イル］
ベンゼンスルホンアミド（１．１０ｇ，３．３１ミリモ
ル）およびＮ，Ｎ−ジメチルピリジン（０．２０２ｇ）
の溶液へ、無水酢酸（１．０１ｇ，９．３９ミリモル）
およびトリエチルアミン（０．４０１ｇ，３．９７ミリ
モル）を加えた。室温で１８時間かきまぜた後、反応混
合物を濃縮した。残留物を酢酸エチルに溶かし、１Ｎ塩
酸と食塩水で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ４上で乾燥し、
濃縮することにより、１．０ｇ（８１％）の求める生成
物を結晶性生成物：mp１４４−１４５℃として得た。１
Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）８．００（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
７．３Hz），７．３０−７．２７（ｍ，４Ｈ），７．１
０−７．０６（ｍ，３Ｈ），２．４６（ｓ，３Ｈ），
１．９９（ｓ，３Ｈ）。分析：Ｃ１８Ｈ１５ＦＮ２Ｏ４
Ｓに対する計算値：Ｃ，５７．７５；Ｈ，４．０４；
Ｎ，７．４８。実測値：Ｃ，５７．８４；Ｈ，４．０
６；Ｎ，７．４９。
【００７０】例１４
【化４９】 Ｎ−［［４−［３−（３−フルオロフェニル）−５−メ
チルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド，ナトリウム塩 エタノール中Ｎ−［［４−［３−（３−フルオロフェニ
ル）−５−メチルイソオキサゾール−４−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミド（例１３）（０．３１２
ｇ，０．８３ミリモル）および水酸化ナトリウム(０．
３３ml，２．５Ｎ)の混合物を濃縮乾固した。残留物を
エタノールで希釈し、再び濃縮した。残留物を真空で乾
燥して０．３２ｇ（９７％）の結晶性生成物を得た。mp
１１２−１３１℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３００MHz）
７．６４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Hz），７．２１−６．
９１（ｍ，６Ｈ），２．２７（ｓ，３Ｈ），１．７８
(ｓ，３Ｈ)。分析：Ｃ１８Ｈ１４ＦＮ２Ｏ４ＳＮａ・
０．５Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ，５３．２８；Ｈ，
３．７３；Ｎ，６．８０。実測値：Ｃ，５３．５７；
Ｈ，３．７３；Ｎ，６．８０。
【００７１】例１３−例１４に例示された方法と同様の
手順に従い、ただし適当なスルホンアミドおよび無水物
に置き換えて、下記の化合物（例１５−例１６）を得
た。
【００７２】例１５
【化５０】 ２−メチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニル
イソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］
プロパンアミド mp１１５．０−１１５．６℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）８．４３(brs，１Ｈ)，８．０４（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．４０−７．３１（ｍ，７
Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．４５（sept，１Ｈ，
Ｊ＝６．９Hz），１．１２（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．９H
z）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ３８５（Ｍ＋Ｈ）。Ｆ
ＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ３８５．１２２２（Ｍ＋Ｈ，Ｃ
２０Ｈ２１Ｎ２Ｏ ４Ｓ計算値３８５．１２４５）。分
析：Ｃ２０Ｈ２０Ｎ２Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，６
２．４８；Ｈ，５．２４；Ｎ，７．２９。実測値：Ｃ，
６２．５５；Ｈ，５．２４；Ｎ，７．２１。
【００７３】例１６
【化５１】 ２−メチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニル
イソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］
プロパンアミド，ナトリウム塩 mp＞３００℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６／３００M
Hz）７．７１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Hz），７．４３−
７．２４（ｍ，５Ｈ），７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．
１Hz），２．４４（ｓ，３Ｈ），２．１５(sept，１
Ｈ，Ｊ＝６．９Hz)，０．８９（ｄ，６Ｈ，Ｊ＝６．９H
z）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４０７（Ｍ ＋Ｈ）。Ｆ
ＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４０７．１０５３（Ｍ＋Ｈ，Ｃ
２０Ｈ２１Ｎ ２Ｏ４ＳＮａ計算値４０７．１０４１）。
分析：Ｃ２０Ｈ１９Ｎ２Ｏ４ＳＮａに対する計算値：
Ｃ，５９．１０；Ｈ，４．７１；Ｎ，６．８９。実測
値：Ｃ，５８．９８；Ｈ，４．６８；Ｎ，６．９４。
【００７４】例１７
【化５２】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパンアミ
ド mp１４８．９−１５１．０℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）８．６０（brs，１Ｈ），８．０４
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．３８−７．３１
（ｍ，７Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｑ，
２Ｈ，Ｊ＝７．２Hz），１．１０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．
２Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ３７１（Ｍ＋Ｈ）。
ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ３７１．１０４９（Ｍ
＋Ｈ），計算値３７１．１０６６。分析：Ｃ１９Ｈ１８
Ｎ２Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，６１．６１；Ｈ，４．
９０；Ｎ，７．５６。実測値：Ｃ，６１．５２；Ｈ，
４．９２；Ｎ，７．５３。
【００７５】例１８
【化５３】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパンアミ
ド，ナトリウム塩 mp２７１．５−２７２．７℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／
３００MHz）７．５７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），
７．３０−６．９０（ｍ，７Ｈ），２．１２（ｓ，３
Ｈ），２．００（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．８Hz），０．８３
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．８Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ
３９３（Ｍ＋Ｈ）。分析：Ｃ１９Ｈ１７Ｎ２Ｏ４ＳＮ
ａに対する計算値：Ｃ，５８．６１；Ｈ，４．３７；
Ｎ，７．１４。実測値：Ｃ，５７．９２；Ｈ，４．５
３；Ｎ，６．９５。
【００７６】例１９
【化５４】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ベンズアミド mp２０８．８−２１０．２℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）９．０５(brs，１Ｈ)，８．１４（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz），７．８２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．
５Hz），７．５９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．３，７．５H
z），７．４９−７．３０（ｍ，９Ｈ），２．５０
（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４１９（Ｍ＋
Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４１９．１０８３（Ｍ
＋Ｈ，計算値４１９．１０６６）。分析：Ｃ２３Ｈ１８
Ｎ２Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，６６．０２；Ｈ，４．
３４；Ｎ，６．６９。実測値：Ｃ，６５．９５；Ｈ，
４．４０；Ｎ，６．６９。
【００７７】例２０
【化５５】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ベンズアミ
ド，ナトリウム塩 mp２８８．２−２９１．２℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６／３００MHz）７．９０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１H
z），７．８３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．４４
−７．２３（ｍ，８Ｈ），７．２２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．４Hz），２．４４（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ
ｍ／ｚ ４４１（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳｍ／ｚ ４
４１．０８９８（Ｍ＋Ｈ，計算値４４１．０８８５）。
分析：Ｃ２ ３Ｈ１７Ｎ２Ｏ４ＳＮａに対する計算値：
Ｃ，６２．７２；Ｈ，３．８９；Ｎ，６．３６。実測
値：Ｃ，６２．５３；Ｈ，４．０６；Ｎ，６．１７。
【００７８】例２１
【化５６】 ２，２−ジメチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
ニル］プロパンアミド mp１９０．５−１９１．１℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）８．２０(brs，１Ｈ)，８．０４（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz），７．３９−７．３０（ｍ，７
Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ），１．１０（ｓ，９Ｈ）。
ＦＡＢＬＲＭＳｍ／ｚ ３９９（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲ
ＭＳ ｍ／ｚ ３９９．１３８８（Ｍ＋Ｈ，計算値３９
９．１３７９）。分析：Ｃ２１Ｈ２２Ｎ２Ｏ４Ｓに対す
る計算値：Ｃ，６３．３０；Ｈ，５．５６；Ｎ，７．０
３。実測値：Ｃ，６３．４５；Ｈ，５．５３；Ｎ，７．
０８。
【００７９】例２２
【化５７】 ２，２−ジメチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
ニル］プロパンアミド，ナトリウム塩 mp＞３００℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６／３００M
Hz）７．６８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Hz），７．４２−
７．３１（ｍ，５Ｈ），７．１８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．
１Hz），２．４４（ｓ，３Ｈ），０．９６（ｓ，９
Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４２１（Ｍ＋Ｈ）。Ｆ
ＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４２１．１１９６（Ｍ＋Ｈ，計
算値４２１．１１９８）。分析：Ｃ２１Ｈ２１Ｎ２Ｏ４
ＳＮａに対する計算値：Ｃ，５９．９９；Ｈ，５．０
３；Ｎ，６．６６。実測値：Ｃ，５９．８３；Ｈ，５．
０８；Ｎ，６．５８。
【００８０】例２３
【化５８】 メチル４−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソ
オキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］アミ
ノ］−４−オキソブタノエート mp１１４．９−１１７．７℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）８．７０(brs，１Ｈ)，８．０４（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．３８−７．２６（ｍ，７
Ｈ），３．６６（ｓ，３Ｈ），２．６７−２．５７
（ｍ，４Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），１．１０（ｓ，
９Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４２９（Ｍ ＋Ｈ）。
ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４２９．１１０２（Ｍ＋Ｈ，
計算値４２９．１１２０）。分析：Ｃ２１Ｈ２０Ｎ２Ｏ
６Ｓに対する計算値：Ｃ，５８．８７；Ｈ，４．７０；
Ｎ，６．５４。実測値：Ｃ，５８．６１；Ｈ，４．７
７；Ｎ，６．４４。
【００８１】例２４
【化５９】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ブタンアミド mp１７３．２℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３００MH
z）８．５５(brs，１Ｈ)，８．０５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．７Hz），７．４０−７．２９（ｍ，７Ｈ），２．５
０（ｓ，３Ｈ），２．８６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．２H
z），１．６１（sext，２Ｈ，Ｊ＝７．２Hz），０．８
８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／
ｚ ３９１（Ｍ＋Ｌｉ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ３
８５．１２２４（Ｍ＋Ｈ，計算値３８５．１２２２）。
分析：Ｃ２０Ｈ２０Ｎ２Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，６
２．４８；Ｈ，５．２４；Ｎ，７．２９。実測値：Ｃ，
６２．３７；Ｈ，５．２８；Ｎ，７．２２。
【００８２】例２５
【化６０】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ブタンアミ
ド，ナトリウム塩 mp２７３．５−２７７．７℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／
３００MHz）７．５４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），
７．１３−６．７３（ｍ，７Ｈ），２．０６（ｓ，３
Ｈ），１．９４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Hz），１．２７
（sext，２Ｈ，Ｊ＝７．２Hz），０．５５（ｔ，３Ｈ，
Ｊ＝７．２Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４０７（Ｍ
＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４０７．１０６５
（Ｍ＋Ｈ，計算値４０７．１０４１）。分析：Ｃ２０Ｈ
１９Ｎ２Ｏ４ＳＮａに対する計算値：Ｃ，５９．１０；
Ｈ，４．７１；Ｎ，６．８９。実測値：Ｃ，５８．９
１；Ｈ，４．７７；Ｎ，６．８０。
【００８３】例２６
【化６１】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ペンタンアミ
ド mp１３４．１−１３６．５℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）８．５８(brs，１Ｈ)，８．０４（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．６Hz），７．４０−７．３１（ｍ，７
Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．２８（ｔ，２Ｈ，Ｊ
＝７．５Hz），１．５６（pent，２Ｈ，Ｊ＝７．５H
z），１．２７(sext，２Ｈ，Ｊ＝７．５Hz)，０．８５
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ
３９９（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ３９
９．１２８６（Ｍ，計算値３９９．１３００）。分析：
Ｃ２１Ｈ２２Ｎ２Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，６３．３
０；Ｈ，５．５６；Ｎ，７．０３。実測値：Ｃ，６３．
２５；Ｈ，５．６３；Ｎ，９．６９。
【００８４】例２７
【化６２】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ペンタンアミ
ド，ナトリウム塩 mp２６４．７℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６／３０
０MHz）７．７１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１Hz），７．４
３−７．３２（ｍ，５Ｈ），７．１８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．１Hz），２．４３（ｓ，３Ｈ），１．９０（ｔ，２
Ｈ，Ｊ＝７．５Hz），１．３５（pent，２Ｈ，Ｊ＝７．
５Hz），１．１７(sext，２Ｈ，Ｊ＝７．５Hz)，０．７
８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／
ｚ ４２１（Ｍ＋Ｈ）。分析：Ｃ２１Ｈ２１Ｎ２Ｏ４Ｓ
Ｎａに対する計算値：Ｃ，５９．９９；Ｈ，５．０３；
Ｎ，６．６６。実測値：Ｃ，５９．８５；Ｈ，５．０
８；Ｎ，６．６２。
【００８５】例２８
【化６３】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ヘキサンアミ
ド１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３００MHz）８．５０(brs，
１Ｈ)，８．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．４
０−７．３０（ｍ，７Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），
２．２７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Hz），１．５８（pen
t，２Ｈ，Ｊ＝７．２Hz），１．２７−１．１９（ｍ，
４Ｈ），０．８４(ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．２Hz)。ＦＡＢＬ
ＲＭＳ ｍ／ｚ ４１３（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ
ｍ／ｚ ４１３．１５１７（Ｍ＋Ｈ，計算値４１３．１
５３５）。分析：Ｃ２２Ｈ２４Ｎ２Ｏ ４Ｓに対する計算
値：Ｃ，６４．０６；Ｈ，５．８６；Ｎ，６．７９。実
測値：Ｃ，６４．０４；Ｈ，５．８５；Ｎ，６．７０。
【００８６】例２９
【化６４】 ３−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］プロパンアミド mp１３９．７−１４０．９℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）９．３４(brs，１Ｈ)，８．０５（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz），７．３７(ｍ，７Ｈ)，３．６２
（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Hz），３．４３（ｓ，３Ｈ），
２．５４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝５．５Hz），２．５１（ｓ，
３Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４００．１０７１
（Ｍ＋，Ｃ２０Ｈ２０Ｎ２Ｏ５Ｓ計算値４００．１０９
３）。
【００８７】例３０
【化６５】 ３−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］プロパンアミド，ナトリウム塩 mp２４０．７−２４３．２℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／
３００MHz）７．６３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz），
７．３３（ｍ，１Ｈ），７．２０（ｍ，４Ｈ），７．１
６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz），３．４９（ｔ，２Ｈ，
Ｊ＝６．２Hz），３．１１（ｓ，３Ｈ），２．２９（ｓ
とｔ重なり合う，５Ｈ，Ｊ＝６．２Hz）。ＦＡＢＨＲＭ
Ｓ ｍ／ｚ ４２９．１０７４（Ｍ＋Ｌｉ），Ｃ２０Ｈ
１９Ｎ２Ｏ５ＳＮａＬｉ計算値４２９．１０７２）。
【００８８】例３１
【化６６】 ２−エトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド mp１３１．３−１３２．２℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）８．９８(brs，１Ｈ)，８．０８（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．３７(ｍ，７Ｈ)，３．９５
（ｓ，２Ｈ），３．５８（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Hz），
２．５１（ｓ，３Ｈ），１．２６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．
０Hz）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４００．１０９３
（Ｍ＋），Ｃ２０Ｈ２０Ｎ２Ｏ５Ｓ計算値４００．１０
７２）。
【００８９】例３２
【化６７】 ２−エトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド，ナトリウム塩 mp２０７．２−２１０．０℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／
３００MHz）７．６７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz），
７．３３（ｍ，１Ｈ），７．２６−７．１９（ｍ，６
Ｈ），３．８０（ｓ，２Ｈ），３．３６（ｑ，２Ｈ，Ｊ
＝７．１Hz），２．３３（ｓ，３Ｈ），１．００（ｔ，
３Ｈ，Ｊ＝７．１Hz）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４２
３．０９９２（Ｍ＋Ｈ，Ｃ２０Ｈ２０Ｎ２Ｏ５ＳＮａ計
算値４２３．０９９１）。
【００９０】例３３
【化６８】 Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−（ト
リフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］プロパンアミド mp７７．９−８５．１℃。分析：Ｃ１９Ｈ１５ＣｌＦ３
Ｎ３Ｏ３Ｓに対する計算値：Ｃ，４９．８４；Ｈ，３．
３０；Ｎ，９．１８。実測値：Ｃ，４９．８３；Ｈ，
３．３６；Ｎ，９．１０。
【００９１】例３４
【化６９】 Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−（ト
リフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］プロパンアミド，ナトリウム塩 mp＞３００℃。分析：Ｃ１９Ｈ１４ＣｌＦ３Ｎ３Ｏ３Ｓ
Ｎａに対する計算値：Ｃ，４７．５６；Ｈ，２．９４；
Ｎ，８．７６。実測値：Ｃ，４７．５１；Ｈ，３．０
２；Ｎ，８．７２。
【００９２】例３５
【化７０】 Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−（ト
リフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］ブタンアミド１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３００MHz）８．１（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．９４(brs，１Ｈ)，７．５
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．３７（ｄ，２Ｈ，Ｊ
＝８．４Hz），７．１７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），
６．７９（ｓ，１Ｈ），２．２４（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝７．
５Hz），１．６２（ｍ，２Ｈ），０．９（ｔ，３Ｈ，Ｊ
＝７．５Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ４９４（Ｍ+
Ｈ）。
【００９３】例３６
【化７１】 Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−（ト
リフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］ブタンアミド，ナトリウム塩 mp２８５．４−２８６．５℃。（ＣＤ３ＯＤ／３００MH
z）７．９５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．３７
（ｍ，４Ｈ），７．２７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Hz），
６．９６（ｓ，１Ｈ），２．１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９
Hz），１．５５（ｍ，２Ｈ），０．８４（ｔ，３Ｈ，Ｊ
＝７．２Hz）。
【００９４】例３７
【化７２】 Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−（ト
リフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］アセトアミド mp１６１．９−１６２．７℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）８．６(brs，１Ｈ)，８．０７（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝６．９Hz），７．５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．９H
z），７．３８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Hz），７．１８
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Hz），６．７９（ｓ，１Ｈ），
２．０７（ｓ，３Ｈ）。
【００９５】例３８
【化７３】 Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−（ト
リフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩 mp２６９．８−２７２℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３０
０MHz）７．７３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．３
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．２３（ｄ，２Ｈ，Ｊ
＝８．４Hz），７．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），
６．８７（ｓ，１Ｈ），１．８（ｓ，３Ｈ）。
【００９６】例３９
【化７４】 Ｎ−［［４−［５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド mp１６９．３−１７０．６℃。分析：Ｃ１８Ｈ１６Ｎ２
Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，６０．６６；Ｈ，４．５
３；Ｎ，７．８６。実測値：Ｃ，６０．５７；Ｈ，４．
５９；Ｎ，７．８１。
【００９７】例４０
【化７５】 Ｎ−［［４−［５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
ド，ナトリウム塩 mp２４５．６−２４７℃。分析：Ｃ１８Ｈ１５Ｎ２Ｏ４
ＳＮａ・Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ，５４．５４；Ｈ，
４．３２；Ｎ，７．０７。実測値：Ｃ，５４．４７；
Ｈ，４．３４；Ｎ，７．０７。
【００９８】例４１
【化７６】 Ｎ−［［４−［５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
ド，カリウム塩 mp２７９．７−２８３．７℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／
３００MHz）７．６２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），
７．２（ｍ，７Ｈ），２．２７（ｓ，３Ｈ），１．７７
（ｓ，３Ｈ）。
【００９９】参照例４２
【化７７】 Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−６−フルオ
ロ−１，５−ジヒドロ−７−メトキシ−［２］ベンゾチ
オピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミド１ Ｈ ＮＭＲ（３００MHz／ＣＤＣｌ３）８．１（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝６．９Hz），７．６１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．９
Hz），６．６９（ｍ，３Ｈ），４．０（ｓ，２Ｈ），
３．８２（ｓ，３Ｈ），１．９６（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢ
ＬＲＭＳ ｍ／ｚ４８４（Ｍ＋Ｈ）。
【０１００】参照例４３
【化７８】 Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−６−フルオ
ロ−１，５−ジヒドロ−７−メトキシ−［２］ベンゾチ
オピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩 mp＞３００℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ／３００MHz）
８．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．６Hz），７．６（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝６．６Hz），６．８２（ｍ，３Ｈ），４．０８
（ｓ，２Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），１．９０（ｓ，
３Ｈ）。
【０１０１】参照例４４
【化７９】 Ｎ−［［４−［６−フルオロ−１，５−ジヒドロ−７−
メトキシ−３−（トリフルオロメチル）−［２］ベンゾ
チオピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フェ
ニル］スルホニル］アセトアミド１ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３００MHz）８．０６(ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz)，７．６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４H
z），６．６８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），６．５０
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），３．９７（ｓ，２Ｈ），
３．７９(ｓ，３Ｈ)，１．９２（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬ
ＲＭＳ ｍ／ｚ５０２（Ｍ+Ｈ）。
【０１０２】参照例４５
【化８０】 Ｎ−［［４−［６−フルオロ−１，５−ジヒドロ−７−
メトキシ−３−（トリフルオロメチル）−［２］ベンゾ
チオピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フェ
ニル］スルホニル］アセトアミド，ナトリウム塩 mp１８３−１９１．１℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ／
３００MHz）８．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），
７．６２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），６．９（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），６．６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７H
z），４．１１（ｓ，２Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），
１．９０（ｓ，３Ｈ）。
【０１０３】例４６
【化８１】 Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−５−（３−
フルオロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール
−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド mp１７３−１７５℃。１Ｈ ＮＭＲ（アセトン−ｄ６／
３００MHz）８．１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Hz），７．
６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９Hz），７．２−６．８（ｍ，
６Ｈ），３．９（ｓ，３Ｈ）。分析：Ｃ１９Ｈ１６Ｎ３
Ｆ３Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，５１．９４；Ｈ，３．
６７；Ｎ，９．５６。実測値：Ｃ，５１．８０；Ｈ，
３．７２；Ｎ，９．４７。
【０１０４】例４７
【化８２】 Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−５−（３−
フルオロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール
−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド，ナ
トリウム塩 mp１４０．１−１４６．０℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／
３００MHz）７．７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．
２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），６．９−６．６（ｍ，
５Ｈ），３．７（ｓ，３Ｈ），１．８（ｓ，３Ｈ）。分
析：Ｃ１９Ｈ１５Ｎ３Ｆ３Ｏ４ＳＮａ＋３．０６％Ｈ２
Ｏに対する計算値：Ｃ，４７．９５；Ｈ，３．５２；
Ｎ，８．８３。実測値：Ｃ，４７．９４；Ｈ，３．４
２；Ｎ，８．７８。
【０１０５】例４８
【化８３】 Ｎ−［［４−（２−メチル−４−フェニルオキサゾール
−５−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド mp２２０．７−２２１．０℃。１Ｈ ＮＭＲ（アセトン
−ｄ６／３００MHz）８．０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７H
z），７．８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０Hz），７．６
（ｍ，２Ｈ），７．４（ｍ，３Ｈ），２．５（ｓ，３
Ｈ），２．０（ｓ，３Ｈ）。分析：Ｃ１８Ｈ１６Ｎ２Ｏ
４Ｓに対する計算値：Ｃ，６０．６６；Ｈ，４．５３；
Ｎ，７．８６。実測値：Ｃ，６０．５４；Ｈ，４．５
６；Ｎ，７．９０。
【０１０６】例４９
【化８４】 Ｎ−［［４−（２−メチル−４−フェニルオキサゾール
−５−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド，ナ
トリウム塩 mp２５９．９−２６０．０℃。1Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３
００MHz）７．６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．４
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．３（ｍ，５Ｈ），
２．３（ｓ，３Ｈ），１．８（ｓ，３Ｈ）。分析：Ｃ
１８Ｈ１５Ｎ２Ｏ４ＳＮａ＋５．９４％Ｈ２Ｏに対する
計算値：Ｃ，５３．７４；Ｈ，４．４２；Ｎ，６．９
６。実測値：Ｃ，５３．７３；Ｈ，４．２８；Ｎ，６．
９４。
【０１０７】例５０
【化８５】 メチル［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキ
サゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］
オキソアセテート mp１７１．１−１７２．３℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）９．４（ｂｓ，１Ｈ），８．１（ｄ，
２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．４−７．２（ｍ，７Ｈ），
７．６（ｍ，２Ｈ），３．９（ｓ，３Ｈ），２．５
（ｓ，３Ｈ）。分析：Ｃ１９Ｈ１６Ｎ２Ｏ６Ｓに対する
計算値：Ｃ，５６．９９；Ｈ，４．０３；Ｎ，７．０
０。実測値：Ｃ，５６．７４；Ｈ，３．９６；Ｎ，６．
９４。
【０１０８】例５１
【化８６】 メチル ［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミ
ノ］オキソアセテート，ナトリウム塩 mp１４６．０−１５１．８℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６／３００MHz）７．８−７．７（ｍ，２Ｈ），
７．５−７．２（ｍ，７Ｈ），３．５(ｓ，３Ｈ)，２．
５（ｓ，３Ｈ）。分析：Ｃ１９Ｈ１５Ｎ２Ｏ６ＳＮａ＋
３．２２％Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ，５２．２９；
Ｈ，３．８２；Ｎ，６．４２。実測値：Ｃ，５２．２
８；Ｈ，３．７７；Ｎ，６．４４。
【０１０９】例５２
【化８７】 ２−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド mp１２３．９−１２５．３℃。１Ｈ ＮＭＲ（アセトン
−ｄ６／３００MHz）８．０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７H
z），７．５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．５−
７．４（ｍ，５Ｈ），４．０（ｓ，２Ｈ），３．４
（ｓ，３Ｈ），２．５（ｓ，３Ｈ）。分析：Ｃ１９Ｈ
１８Ｎ２Ｏ５Ｓに対する計算値：Ｃ，５９．０６；Ｈ，
４．７０；Ｎ，７．２５。実測値：Ｃ，５９．１４；
Ｈ，４．７３；Ｎ，７．２５。
【０１１０】例５３
【化８８】 ２−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド，ナトリウム塩 mp２７６．９−２７７．９℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６／３００MHz）７．７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４H
z），７．５−７．３（ｍ，５Ｈ），７．２（ｄ,Ｊ＝
８．４Hz，２Ｈ），３．６（ｓ，２Ｈ），３．２（ｓ，
３Ｈ），２．４（ｓ,３Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ
４０９．０８４８（Ｍ＋Ｈ，計算値４０９．０８５
１）。
【０１１１】例５４
【化８９】 Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］プロパンアミド mp１３６．９−１４１．０℃。１Ｈ ＮＭＲ（アセトン
−ｄ６／３００MHz）１０．７（ｂｓ，１Ｈ），８．１
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．４Hz），７．６−７．４（ｍ，５Ｈ），７．２
（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５２．２Hz），２．４（ｔ，２Ｈ，Ｊ
＝７．５Hz），１．０（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Hz）。分
析：Ｃ１９Ｈ１６Ｆ２Ｎ２Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，
５６．１５；Ｈ，３．９７；Ｎ，６．８９。実測値：
Ｃ，５６．１０；Ｈ，３．９３；Ｎ，６．８１。
【０１１２】例５５
【化９０】 Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］プロパンアミド，ナトリウム塩 mp２８７．８−２９３．６℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６／３００MHz）７．７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１H
z），７．５−７．１（ｍ，８Ｈ），１．９（ｄｄ，２
Ｈ，Ｊ＝７．５Hz），０．８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５H
z）。分析：Ｃ１９Ｈ１５Ｎ２Ｆ２ＮａＯ４Ｓ＋２．０
４％Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ，５２．１７；Ｈ，３．
６３；Ｎ，６．４５。実測値：Ｃ，５２．１８；Ｈ，
３．６９；Ｎ，６．４１。
【０１１３】例５６
【化９１】 Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］ブタンアミド mp１５４．９−１５５．９℃。１Ｈ ＮＭＲ（アセトン
−ｄ６／３００MHz）１０．７（ｂｓ，１Ｈ），８．１
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz），７．６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．４Hz），７．６−７．４（ｍ，５Ｈ），７．２
（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５１．９Hz），２．３（ｄｄ，２Ｈ，
Ｊ＝７．２Hz），１．６（ｍ，２Ｈ），０．８（ｔ，３
Ｈ，Ｊ＝７．２Hz）。分析：Ｃ２０Ｈ１８Ｆ２Ｎ２Ｏ４
Ｓに対する計算値：Ｃ，５７．１４；Ｈ，４．３２；
Ｎ，６．６６。実測値：Ｃ，５７．１８；Ｈ，４．３
７；Ｎ，６．６５。
【０１１４】例５７
【化９２】 Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］ブタンアミド，ナトリウム塩 mp２８１．７−２８６．３℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄ６／３００MHz）７．７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１H
z），７．６−７．１（ｍ，８Ｈ），１．９（ｄｄ，２
Ｈ，Ｊ＝７．２Hz），１．４（ｍ，２Ｈ），０．７
（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．５Hz）。分析：Ｃ２０Ｈ１７Ｎ２
Ｆ２ＮａＯ４Ｓ＋２．２５％Ｈ２Ｏに対する計算値：
Ｃ，５３．０７；Ｈ，３．９６；Ｎ，６．１７。実測
値：Ｃ，５３．０８；Ｈ，４．０４；Ｎ，６．１９。
【０１１５】例５８
【化９３】 ４−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサ
ゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］−
４−オキソブタン酸 mp１５８．４−１６５．４℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３／３００MHz）８．０４（ｍ，２Ｈ，Ｊ＝８．７H
z），７．４５−７．２５（ｍ，７Ｈ），２．７５−
２．６５（ｍ，２Ｈ），２．６５−２．５３（ｍ，２
Ｈ），２．５１（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ
４１５（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ４１５．
０９５８（Ｍ＋Ｈ，計算値４１５．０９６４）。分析：
Ｃ２０Ｈ１８Ｎ ２Ｏ６Ｓに対する計算値：Ｃ，５７．９
６；Ｈ，４．３８；Ｎ，６．７６。実測値：Ｃ，５７．
７１；Ｈ，４．８１；Ｎ，６．６７。
【０１１６】例５９
【化９４】 ４−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサ
ゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］−
４−オキソブタン酸，二ナトリウム塩 mp＞３００℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３００MHz）
７．６８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz），７．３９−７．
２０（ｍ，７Ｈ），２．３４（ｓ，３Ｈ），２．３３−
２．１５（ｍ，４Ｈ）。分析：Ｃ２０Ｈ１６Ｎ２Ｏ６Ｓ
Ｎａ２・０．９５Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ，５０．５
３；Ｈ，３．７９；Ｎ，５．８９。実測値：Ｃ，５０．
５２；Ｈ，３．８２；Ｎ，５．８９。
【０１１７】例６０
【化９５】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ホルムアミド mp１１１−１２２℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３０
０MHz）８．６９（ｂｒ ｓ，１Ｈ），７．９２（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．５Hz），７．４８−７．３１（ｍ，７
Ｈ），２．５２（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ
３４３（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ３４
３．０７５３（Ｍ＋Ｈ，計算値３４３．０７５３）。分
析：Ｃ１７Ｈ１４Ｎ２Ｏ４Ｓに対する計算値：Ｃ，５
９．６４；Ｈ，４．１２；Ｎ，８．１８；実測値：Ｃ，
５９．５９；Ｈ，４．１７；Ｎ，８．０７。
【０１１８】例６１
【化９６】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ホルムアミ
ド，ナトリウム塩 mp１９８−２０４℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３００MH
z）８．５７（ｓ，１Ｈ），７．６４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．３Hz），７．３８−７．１３（ｍ，７Ｈ），２．３
１（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ３６５（Ｍ
＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ３６５．０５６５
（Ｍ＋Ｈ，計算値３６５．０５７２）。分析：Ｃ１７Ｈ
１３Ｎ２Ｏ４ＳＮａ・０．７３ＥｔＯＨ・０．５１Ｈ２
Ｏに対する計算値：Ｃ，５４．４６；Ｈ，４．５５；
Ｎ，６．８８；実測値：Ｃ，５４．４６；Ｈ，４．４
４；Ｎ，６．７４。
【０１１９】例６２
【化９７】 １，１−ジメチルエチル Ｎ−［［４−（５−メチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
スルホニル］カルバメート mp１６８−１７１℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３０
０MHz）８．０１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz），７．５
１（ｓ，１Ｈ），７．４６−７．３０(ｍ，７Ｈ)，２．
５０（ｓ，３Ｈ），１．４０（ｓ，９Ｈ）。ＦＡＢＬＲ
ＭＳ ｍ／ｚ４１５（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／
ｚ ４１５．１３３７（Ｍ＋Ｈ，計算値４１５．１３２
８）。分析：Ｃ２１Ｈ２２Ｎ２Ｏ５Ｓに対する計算値：
Ｃ，６０．８６；Ｈ，５．３５；Ｎ，６．７６；実測
値：Ｃ，６０．７９；Ｈ，５．４０；Ｎ，６．７５。
【０１２０】例６３
【化９８】 １，１−ジメチルエチル Ｎ−［［４−（５−メチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
スルホニル］カルバメート，ナトリウム塩 mp２４１−２４３℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３００MH
z）７．６７（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．３Hz），７．４２−
７．１７（ｍ，７Ｈ），２．３５（ｓ，３Ｈ），１．１
１（ｓ，９Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ（Ｍ＋Ｈ）ｍ／ｚ ４
３７。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４３７．１１７１（Ｍ
＋Ｈ，計算値４３７．１１４７）。分析：Ｃ２１Ｈ２１
Ｎ２Ｏ５ＳＮａ・０．９６Ｈ２Ｏに対する計算値：Ｃ，
５５．５２；Ｈ，５．１０；Ｎ，６．１７；実測値：
Ｃ，５５．５０；Ｈ，５．０６；Ｎ，６．２９。
【０１２１】例６４
【化９９】 ４−［２−（４−フルオロフェニル）シクロペンテン−
１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド mp１２１−１２２℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ
２．０８（ｐ，Ｊ＝９Hz，２Ｈ），２．６７（ｓ，３
Ｈ），２．９１（ｔ，Ｊ＝９Hz，４Ｈ），４．２４（ｂ
ｒ ｓ，１Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝９Hz，２Ｈ），
７．０７−７．１３（ｍ，２Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝
９Hz，２Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝９Hz，２Ｈ）。ＭＳ
（ＦＡＢ）ｍ／ｚ ３３２（Ｍ＋Ｈ）＋。分析：Ｃ１８
Ｈ１８ＮＯ２ＳＦに対する計算値：Ｃ，６５．２４；
Ｈ，５．４７；Ｎ，４．２３。実測値：Ｃ，６５．０
２；Ｈ，５．６９；Ｎ，４．２０。
【０１２２】例６５
【化１００】 Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ−４−フルオロフェニ
ル）シクロペンテン−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド mp１２７−１２９℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ
２．０３−２．１４（ｍ，５Ｈ），２．８４−２．９５
（ｍ，４Ｈ），６．９２−７．００（ｍ，２Ｈ），７．
１８（ｄｄ，Ｊ＝２，８Hz，１Ｈ），７．２９（ｄ，Ｊ
＝９Hz，２Ｈ），７．８８（ｄ，Ｊ＝９Hz，２Ｈ），
８．２０（ｂｒ ｓ，１Ｈ）。ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ ３
９４（Ｍ＋Ｈ）＋。ＨＲＭＳ（Ｍ＋Ｈ）に対する計算値
３９４．０６８０。実測値３９４．０６３０。分析：Ｃ
１９Ｈ１７ＮＣｌＦＯ３Ｓ＆０．４９Ｈ２Ｏに対する計
算値：Ｃ，５６．６８；Ｈ，４．５０；Ｎ，３．４８。
実測値：Ｃ，５６．６５；Ｈ，４．３９；Ｎ，３．７
４。
【０１２３】例６６
【化１０１】 Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ−４−フルオロフェニ
ル）シクロペンテン−１−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド，ナトリウム塩 mp＞１８０℃。１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）δ１．７７
（ｓ，３Ｈ），１．９０（ｐ，Ｊ＝８Hz，２Ｈ），２．
６７−２．７８（ｍ，４Ｈ），６．９４（ｄ，Ｊ＝８H
z，２Ｈ），７．１３（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｄ，Ｊ
＝８Hz，２Ｈ），７．５３（ｄ，Ｊ＝８Hz，２Ｈ）。分
析：（Ｃ１９Ｈ１６ＮＣｌＦＯ３ＳＮａ＆０．１５Ｎａ
ＯＨ＆０．８５Ｈ２Ｏ）に対する計算値：Ｃ，５２．２
１；Ｈ，４．１２；Ｎ，３．２０；Ｎａ，６．０３。実
測値：Ｃ，５２．２０；Ｈ，４．０２；Ｎ，３．２２；
Ｎａ，６．０２。
【０１２４】例６７
【化１０２】 ３−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサ
ゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］−
３−オキソプロパン酸メチル１ Ｈ ＮＭＲ（アセトン−ｄ６／３００MHz）８．０４
（ｄ，Ｊ＝８．５Hz，２Ｈ）、７．４９（ｄ，Ｊ＝８．
５Hz，２Ｈ）、７．４０−７．３９(ｍ，５Ｈ)、３．６
４（ｓ，３Ｈ）、３．４７（ｓ，２Ｈ）、２．５３
（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４１５（Ｍ＋
Ｈ）。
【０１２５】例６８
【化１０３】 Ｎ−［［４−[３，４−ジメチル−１−フェニル−１Ｈ
−ピラゾール−５−イル]フェニル］スルホニル］プロ
パンアミド 融点１８７．４〜１８８．７℃。１Ｈ ＮＭＲ（アセト
ン ｄ６／３００MHz）８．０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５H
z）、７．４３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz）、７．２３
（ｍ，５Ｈ）、２．２７（ｓ，３Ｈ）、２．０５（ｓ，
３Ｈ）。元素分析：Ｃ２０Ｈ２１Ｎ３Ｏ３Ｓの計算値：
Ｃ，６２．６４；Ｈ，５．５２；Ｎ，１０．９６。実測
値：Ｃ，６２．８３；Ｈ，５．６１；Ｎ，１０．９０。
【０１２６】例６９
【化１０４】 Ｎ−［［４−[３，４−ジメチル−１−フェニル−１Ｈ
−ピラゾール−５−イル]フェニル］スルホニル］プロ
パンアミド、ナトリウム塩 融点２６４．０〜２６７．６℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＤＭＳ
Ｏ ｄ６／３００MHz）７．６８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．
４Hz）、７．２５（ｍ，３Ｈ）、７．１１（ｍ，４
Ｈ）、２．１９（ｓ，３Ｈ）、１．９４（ｓ，３Ｈ）。
【０１２７】例７０
【化１０５】 Ｎ−［［４−［５−（４−メチルフェニル）−３−（ト
リフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］アセトアミド ４−［５−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオ
ロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］ベンゼンス
ルホンアミド（０．６０ｇ、１．５７mmol）は、２mLの
塩化アセチルと２mLの酢酸中で２時間加熱還流した。さ
らに２mLの塩化アセチルを加えて、混合物をさらに５時
間加熱還流した。混合物を冷却して濃縮した。エーテル
／ヘキサンから再結晶して、白色の固体として生成物を
得た：元素分析：Ｃ１９Ｈ１６Ｎ３Ｏ３ＳＦ３の計算
値：Ｃ，５３．９０；Ｈ，３．８１；Ｎ，９．９２；
Ｓ，７．５７。実測値：Ｃ，５４．０４；Ｈ，３．８
０；Ｎ，９．９３；Ｓ，７．６６。
【０１２８】例７１
【化１０６】 Ｎ−［［４−［５−（４−メチルフェニル）−３−（ト
リフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］アセトアミド、ナトリウム塩 ４mLのＥｔＯＨ中の３００mg（０．７１mmol）のＮ−
［［４−［５−（４−メチルフェニル）−３−（トリフ
ルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミド（例７０）に、４０μＬ
の５０％ＮａＯＨ（０．７６mmol）を加え、この混合物
を室温で１時間撹拌した。濃縮により、白色の固体とし
てナトリウム塩を得た。
【０１２９】例７２
【化１０７】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］カルバミン酸
メチル、ナトリウム塩 ４０mLのＴＨＦ中の４−［５−メチル−３−（フェニ
ル）イソオキサゾール−４−イル］ベンゼンスルホンア
ミド（１．９２０ｇ、６．１１mmol）の溶液を、クロロ
ギ酸メチル（１．１６mL、１．３８ｇ、１４．６０mmo
l）、次に１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウン
デカ−７−エン（ＤＢＵ）（２．８０mL、２．７９ｇ、
１８．３３mmol）で室温で処理した。４８時間後、生じ
た混合物を酢酸エチルとＫＨＳＯ４溶液に分配した。有
機相を食塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過して
真空下で濃縮し、淡黄色の清澄な油状物を得た。この油
状物を２回フラッシュクロマトグラフィーカラム（１回
目溶離液 １：１；ヘキサン：酢酸エチル；２回目溶離
液ＴＨＦを含むＣＨ２Ｃｌ２）に流して精製し、粗化合
物を得たが、これはさらに精製することなく使用に適し
ていた。この粗化合物を８mLのクロロホルムに溶解し
て、２mLの飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で処理した。生成物
は、結晶性固体として分離し、これを濾過により回収し
て、白色の針状物として純粋な塩を得た（０．６０７
ｇ、２５％）：融点２６７．４〜２７５．０℃。１Ｈ
ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３００MHz）７．６８（ｄ，２Ｈ，Ｊ
＝８．５Hz）、７．３９−７．１２（ｍ，７Ｈ）、３．
３７（ｓ，３Ｈ）、２．３４（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲ
ＭＳ ｍ／ｚ ４０１（Ｍ＋Ｌｉ）。ＦＡＢＨＲＭＳ
ｍ／ｚ３９５．０６７５（Ｍ＋Ｈ、計算値３９５．０６
７８）。 元素分析：Ｃ１８Ｈ １５Ｎ２Ｏ５ＳＮａ・
３．６６Ｈ２Ｏの計算値：Ｃ，４６．９６；Ｈ，４．８
９；Ｎ，６．０９；実測値：Ｃ，４６．９１；Ｈ，４．
４０；Ｎ，６．００。
【０１３０】例７３
【化１０８】 Ｎ−［［４−［５−アセトキシメチル−３−フェニルイ
ソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］ア
セトアミド ６０mLのジクロロメタン中の４−［５−ヒドロキシメチ
ル−３−（フェニル）イソオキサゾール−４−イル］ベ
ンゼンスルホンアミド（１．５１ｇ、４．５６mmol）の
懸濁液を無水酢酸（１．３０mL、１．４０ｇ、１３．６
９mmol）、トリエチルアミン（１．９０mL、１．４０
ｇ、１３．７０mmol）およびジメチルアミノピリジン
（０．０５６ｇ、０．４６mmol）で処理した。５分以内
に混合物は均質になり、撹拌を４０時間続けた。反応混
合物を酢酸エチルで希釈して、１ＮＫＨＳＯ４、食塩水
で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過して真空下で濃縮
し、Ｎ−［［４−［５−アセトキシメチル−３−フェニ
ルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］アセトアミド（１．６７ｇ、８８％）を得た：融点
１３７〜１３９℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３００M
Hz）８．５８（ｂｒｓ，１Ｈ）、８．０６（ｄ，２Ｈ，
Ｊ＝８．４７Hz）、７．４７−７．３４（ｍ，７Ｈ）、
５．１７（ｓ，２Ｈ）、２．１２（ｓ，３Ｈ）、２．１
０（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４２１（Ｍ
＋Ｌｉ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ４１５．０９５３
（Ｍ＋Ｈ、Ｃ２０Ｈ１９Ｎ２Ｏ６Ｓ計算値４１５．０９
６４）。
【０１３１】例７４
【化１０９】 Ｎ−［［４−［５−ヒドロキシメチル−３−フェニルイ
ソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］ア
セトアミド メタノール中のＮ−［［４−［５−アセトキシメチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］
スルホニル］アセトアミド（例７３）（０．８６７ｇ、
２．０９mmol）の溶液を水酸化ナトリウムで処理した。
反応物を真空下で濃縮し、水に溶解して、１Ｎ ＨＣｌ
でゆっくり酸性にして固体を得た。固体を酢酸エチルに
溶解し、食塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し
て真空下で濃縮し、Ｎ−［［４−［５−ヒドロキシメチ
ル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニ
ル］スルホニル］アセトアミドを、さらに精製すること
なく使用するのに適した純度の黄色の泡状物（０．５１
３ｇ、６６％）として得た：融点９４〜１０３℃。１Ｈ
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３００MHz）８．１８（ｂｒ
ｓ，１Ｈ）、７．０９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．０８H
z）、７．４７−７．３５（ｍ，７Ｈ）、４．７８
（ｓ，２Ｈ）、２．２３（ｂｒｓ，１Ｈ）、２．１１
（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ３７３（Ｍ＋
Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ ３７３．０８７６（Ｍ
＋Ｈ、計算値３７３．０８５８）。元素分析：Ｃ１ ８Ｈ
１６Ｎ２Ｏ５Ｓ１の計算値：Ｃ，５８．０６；Ｈ，４．
３３；Ｎ，７．５２。実測値：Ｃ，５７．７３；Ｈ，
４．７０；Ｎ，７．０７。
【０１３２】例７５
【化１１０】 Ｎ−［［４−［５−ヒドロキシメチル−３−フェニルイ
ソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］ア
セトアミド、ナトリウム塩 メタノール中のＮ−［［４−［５−ヒドロキシメチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］
スルホニル］アセトアミド（例７４）（０．４６８ｇ、
１．２６mmol）の溶液をＮａＯＨ溶液（０．５０mL、
２．５０Ｎ溶液、１．２６mmol）で処理した。５分後、
溶液を真空下で濃縮して、Ｎ−［［４−［５−ヒドロキ
シメチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］
フェニル］スルホニル］アセトアミド、ナトリウム塩
（０．４６２ｇ、９３％）を黄褐色の泡状物として得
た：１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３００MHz）７．６８
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４６Hz）、７．３９−７．２３
（ｍ，７Ｈ）、４．６０（ｓ，２Ｈ）、１．７９（ｓ，
３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ３９５（Ｍ＋Ｎ
ａ）。
【０１３３】例７６
【化１１１】 Ｎ−［［４−［５−ヒドロキシメチル−３−フェニルイ
ソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］プ
ロパンアミド、ナトリウム塩 工程１：Ｎ−［［４−［５−プロポキシメチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホ
ニル］プロパンアミドの調製 ＴＨＦ中の４−［５−ヒドロキシメチル−３−（フェニ
ル）イソオキサゾール−４−イル］ベンゼンスルホンア
ミド（０．３１４ｇ、０．９４７mmol）の懸濁液を、プ
ロピオン酸無水物（０．３６mL、０．３７ｇ、２．８４
６mmol）、トリエチルアミン（０．４０mL、０．２９
ｇ、２．８５mmol）およびジメチルアミノピリジン
（０．０２５ｇ、０．２０５mmol）で処理した。生じた
溶液を２４時間撹拌した。粗反応物を酢酸エチルで希釈
し、ＫＨＳＯ４、食塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥
し、濾過して真空下で濃縮した。生じた生成物は、溶離
液としてヘキサン／酢酸エチル（１：１）を使用してフ
ラッシュクロマトグラフィーにより精製した。適切な画
分を濃縮して、Ｎ−［［４−［５−プロポキシメチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］
スルホニル］プロパンアミド（０．３３ｇ、７９％）
を、次の工程に使用するのに適した純度の清澄な褐色の
油状物として得た。
【０１３４】工程２：Ｎ−［［４−［５−ヒドロキシメ
チル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェ
ニル］スルホニル］プロパンアミドの調製 Ｎ−［［４−［５−プロポキシメチル−３−フェニルイ
ソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］プ
ロパンアミド（工程１）をメタノールに溶解して、Ｎａ
ＯＨ溶液（２．５Ｎの０．８９mL、２．２４mmol）を撹
拌しながら加えた。１２時間後、反応物は１Ｎ ＨＣｌ
溶液で酸性にし、ジクロロメタンと酢酸エチルの混合物
で抽出した。合わせた有機相をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾
過して真空下で濃縮し、次の工程に使用するのに充分な
純度のＮ−［［４−［５−ヒドロキシメチル−３−フェ
ニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
ル］プロパンアミド（０．２３８ｇ、８３％）を得た。
【０１３５】工程３：Ｎ−［［４−［５−ヒドロキシメ
チル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェ
ニル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリウム塩の調
製 Ｎ−［［４−［５−ヒドロキシメチル−３−フェニルイ
ソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］プ
ロパンアミド（工程２）をメタノールに溶解して、Ｎａ
ＯＨ溶液（０．５０Ｎの１．２３mL、０．６２mmol）で
処理した。生じた溶液を真空下で濃縮した。生じた油状
物を水で希釈し、高真空下で濃縮して、Ｎ−［［４−
［５−ヒドロキシメチル−３−フェニルイソオキサゾー
ル−４−イル］フェニル］スルホニル］プロパンアミ
ド、ナトリウム塩（０．１９５mg、６４％）を黄褐色の
泡状物として得た：融点１５３．５〜１５７．１℃。１
Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ／３００MHz）７．６８（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．４６Hz）、７．３９−７．１５（ｍ，７
Ｈ）、４．５９（ｓ，２Ｈ）、２．０４（ｑ，２Ｈ，Ｊ
＝７．６６Hz）、０．８６（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．６６H
z）。
【０１３６】例７７
【化１１２】 ４−［５−（４−フルオロフェニル）−３−トリフルオ
ロメチル−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］−Ｎ−メチル
ベンゼンスルホンアミド ＤＭＳＯ（２mL）中の４−［５−（４−フルオロフェニ
ル）−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−１
−イル］ベンゼンスルホンアミド（１００mg、０．２６
mmol）の溶液に、水素化ナトリウム（６mg、０．２６mm
ol）を加えた。反応混合物を周囲温度で１．５時間撹拌
した。この混合物にヨウ化メチル（０．０２５mL、０．
４mmol）を加えた。混合物を室温で１６時間撹拌した。
混合物を酢酸エチル（１５mL）で希釈して水（３×１０
mL）で洗浄した。有機溶液を回収し、乾燥（Ｎａ２ＳＯ
４）して濃縮した。残渣をクロマトグラフィー（３：
１、ヘキサン：酢酸エチル）に付して、モノメチルスル
ホンアミド(２２mg、２１％)をゴム状物として得た。正
確な質量：Ｃ１７Ｈ１３Ｆ４Ｎ３Ｏ２Ｓの計算値：３９
９．０６６４。実測値：３９９．０６６２。
【０１３７】例７８
【化１１３】 ４−［２−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピロール
−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド 工程１：５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン−２−
プロパノールの調製 文献の方法により５，５−ジメチル−１，３−ジオキサ
ン−２−プロパノールを合成した（J．Org．Chem．５
７，２１９５，１９９２）。
【０１３８】工程２：５，５−ジメチル−１，３−ジオ
キサン−２−プロパナールの調製 ＤＭＳＯ(１０．２ml、０．１４mol)を、塩化メチレン
（２５ml）中の塩化オキサリル（５．５ml、６３．２mm
ol）の溶液に−７８℃で加えた。１５分間撹拌後、塩化
メチレン（１００ml）中の５，５−ジメチル−１，３−
ジオキサン−２−プロパノール（工程１）（１０ｇ、５
７．５mmol）の溶液を１０分間で加えた。反応物を１時
間撹拌し、トリエチルアミン(４０ml、０．２mol)を加
えた。−７０℃で１時間撹拌後、反応混合物を室温に加
温して２時間撹拌した。反応を水でクエンチして塩化メ
チレンで抽出した。有機画分を重炭酸ナトリウム水溶液
と食塩水で洗浄した。乾燥（Ｎａ２ＳＯ４）、濾過およ
び濃縮後、粗化合物をクロマトグラフィー（シリカゲ
ル、ヘキサン／酢酸エチル、７／３）に付して５，５−
ジメチル−１，３−ジオキサン−２−プロパナール
（６．１ｇ、６１％）を無色の液体として得た：元素分
析：Ｃ９Ｈ１６Ｏ３ ０．２Ｈ２Ｏの計算値：Ｃ，６
１．４８；Ｈ，９．４０。実測値：Ｃ，６１．４６；
Ｈ，９．２４。
【０１３９】工程３：Ｃ：α−（４−フルオロフェニ
ル）−５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン−２−プ
ロパノールの調製 臭化４−フルオロフェニルマグネシウム（８．７ml、エ
ーテル中２Ｍ溶液、１７．４４mmol）を、ＴＨＦ（５０
ml）中の５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン−２−
プロパナール（２ｇ、１１．６２mmol）（工程２）の溶
液に−７０℃で加えた。−７０℃で２時間撹拌後、反応
混合物を室温に加温して一晩撹拌した。反応を水でクエ
ンチして酢酸エチルで抽出した。有機画分を合わせて順
に水と食塩水で洗浄した。乾燥（ＭｇＳＯ４）、濾過お
よび濃縮後、粗化合物(３．５ｇ)をクロマトグラフィー
に付して、α−（４−フルオロフェニル）−５，５−ジ
メチル−１，３−ジオキサン−２−プロパノール（２．
７３ｇ）を白色の固体として得た：融点（ＤＳＣ）８４
℃。元素分析：Ｃ１５Ｈ２１ＦＯ３の計算値：Ｃ，６
７．１４；Ｈ，７．８９。実測値：Ｃ，６７．１８；
Ｈ，７．９８。
【０１４０】工程４：３−（５，５−ジメチル−１，３
−ジオキサン−２−イル）−１−（４−フルオロフェニ
ル）プロパン−１−オンの調製 塩化メチレン（１００ml）中のα−（４−フルオロフェ
ニル）−５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン−２−
プロパノール（工程３）（２．６ｇ、１０．７mmol）の
溶液に、クロロギ酸ピリジニウム（３．５ｇ、１６．０
５mmol）を加えた。室温で３時間撹拌後、反応混合物を
エーテルで希釈して、短いシリカゲルカラムにより濾過
した。カラムをエーテルで溶出して、３−（５，５−ジ
メチル−１，３−ジオキサン−２−イル）−１−（４−
フルオロフェニル）プロパン−１−オンを含有する画分
を合わせて濃縮した（２．２ｇ、８５％）：融点(ＤＳ
Ｃ)６５℃。元素分析：Ｃ１５Ｈ１９ＦＯ３の計算値：
Ｃ，６７．６５；Ｈ，７．１９。実測値：Ｃ，６７．２
１；Ｈ，７．４３。
【０１４１】工程５：Ｎ−メチル−４−ニトロベンゼン
スルホンアミドの調製 エーテル（２５０ml）中の４−ニトロベンゼンスルホニ
ルクロリド（５ｇ、２２．５６mmol）の懸濁液に、メチ
ルアミン(５ml、４０％水溶液、５６．４mmol)を加え
て、混合物を室温で撹拌した。１６時間後、反応混合物
を濃縮して溶媒を除去し、残渣を塩化メチレンに再懸濁
した。２Ｎ ＨＣｌと食塩水で洗浄後、有機画分を乾燥
（ＭｇＳＯ４）し、濾過して濃縮し、Ｎ−メチル−４−
ニトロベンゼンスルホンアミド（４．８ｇ、９８％）を
得た：融点（ＤＳＣ）１０９℃。元素分析：Ｃ７Ｈ８Ｎ
２Ｏ４Ｓの計算値：Ｃ，３８．８９；Ｈ，３．７３；
Ｎ，１２．９６。実測値：Ｃ，３８．８３；Ｈ，３．７
２；Ｎ，１２．９６。
【０１４２】工程６：４−［（Ｎ−メチルアミノ）スル
ホニル］アニリンの調製 パー（Parr）の瓶のメタノール（１００ml）中のＮ−メ
チル−４−ニトロベンゼンスルホンアミド（工程５）
（４．８ｇ、２２．２mmol）の溶液に、メタノール中の
ラネーニッケルを加えた。反応混合物を窒素と水素で数
回フラッシュして、５psiの送出圧力の水素下で維持し
た。２５℃で約２０時間撹拌後、反応物からガス抜きし
て窒素でパージした。反応の内容物を濾過して濃縮し、
溶媒を除去した。白色の固体（４．１ｇ、１００％）と
して得られた４−［（Ｎ−メチルアミノ）スルホニル］
アニリンをさらに精製することなく次の工程に使用し
た：融点（ＤＳＣ）１３８℃。元素分析：Ｃ７Ｈ１０Ｎ
２Ｏ２Ｓ０．２５Ｈ２Ｏの計算値：Ｃ，４４．０８；
Ｈ，５．５５；Ｎ，１４．６９。実測値：Ｃ，４３．８
３；Ｈ，５．３９；Ｎ，１４．８１。
【０１４３】工程７：４−［２−（４−フルオロフェニ
ル）−１Ｈ−ピロール−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼ
ンスルホンアミドの調製 トルエン（８０ml）中の３−（５，５−ジメチル−１，
３−ジオキサン−２−イル）−１−（４−フルオロフェ
ニル）プロパン−１−オン（工程４）（４００mg、１．
５mmol）、４−［（Ｎ−メチルアミノ）スルホニル］ア
ニリン(工程６)（３０８mg、１．６５mmol）およびｐ−
トルエンスルホン酸（４０mg）の混合物を４８時間加熱
還流した。反応混合物を冷却し、濾過して濃縮した。粗
生成物の帯黄色の固体（７６０mg）をクロマトグラフィ
ー（シリカゲル、ヘキサン／酢酸エチル、７／３）に付
して４−［２−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピロ
ール−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド
（１９８mg、４０％）を白色の固体として得た：融点
（ＤＳＣ）１７４℃。元素分析：Ｃ１７Ｈ１５Ｎ２ＦＯ
２Ｓ０．２５Ｈ２Ｏの計算値：Ｃ，６０．９７；Ｈ，
４．６７；Ｎ，８．３７。実測値：Ｃ，６０．８６；
Ｈ，４．５６；Ｎ，８．０１。
【０１４４】例７９
【化１１４】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］グリシン 工程１：Ｎ−アセチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３
−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］ス
ルホニル］グリシン、エチルエステルの調製 ジクロロメタン中のＮ−［［４−（５−メチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
ニル］アセトアミド（例３９）（０．６１２ｇ、１．７
２mmol）の撹拌溶液をブロモ酢酸エチル（０．２０mL、
０．２９ｇ、１．７２mmol）とＥｔ３Ｎ（０．２６mL、
０．１９ｇ、１．８９mmol）で処理した。７日後、ＴＬ
Ｃによると反応はまだ終了していなかった。さらにブロ
モ酢酸エチル（０．２０mL、０．２９ｇ、１．７２mmo
l）とＥｔ３Ｎ（０．２６mL、０．１９ｇ、１．８９mmo
l）を加えて、反応物をさらに６日間撹拌した。反応物
をジクロロメタンで希釈し、ＫＨＳＯ４溶液、ＮａＨＣ
Ｏ３溶液、および食塩水で洗浄して、ＭｇＳＯ４で乾燥
し、濾過して真空下で濃縮し、清澄な油状物を得た。こ
の油状物をフラッシュクロマトグラフィーにより精製し
て、Ｎ−アセチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フ
ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
ニル］グリシン、エチルエステル（０．２４３ｇ、３２
％）を、次の工程に使用するのに適した純度の清澄な無
色の油状物として得た：１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３
００MHz）８．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz）、７．
４７−７．２７（ｍ，９Ｈ）、４．６１（ｓ，２Ｈ）、
４．２１（ｑ，２Ｈ，Ｊ＝７．１Hz）、２．５１（ｓ，
３Ｈ）、２．３３（ｓ，３Ｈ）、１．２８（ｔ，３Ｈ，
Ｊ＝７．１Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４４３（Ｍ
＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳｍ／ｚ ４４２．１２０１（Ｍ
＋、Ｃ２２Ｈ２２Ｎ２Ｏ６Ｓの計算値４４２．１１９
９）。
【０１４５】工程２：Ｎ−［［４−(５−メチル−３−
フェニルイソオキサゾール−４−イル)フェニル］スル
ホニル］グリシンの調製 メタノール中のＮ−アセチル−Ｎ−［［４−（５−メチ
ル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
ル］スルホニル］グリシン、エチルエステル（工程１）
（０．２４ｇ、０．５４mmol）の撹拌溶液に、水中のＬ
ｉＯＨ・Ｈ２Ｏ（０．０６ｇ、１．３６mmol）を加え
た。５日後反応が終了したため、溶媒を真空下で除去し
た。生じた半固体を酢酸エチルと１Ｎ ＫＨＳＯ４溶液
に分配した。酢酸エチル相をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過
して真空下で濃縮し、Ｎ−［［４−（５−メチル−３−
フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スル
ホニル］グリシン（０．１３９ｇ、６９％）を白色の粉
末として得た：融点２４２〜２４８℃。１Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３／３００MHz、ＤＭＳＯ−ｄ６を伴う）
７．７６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Hz）、７．３３−７．
２２（ｍ，５Ｈ）、７．１９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５H
z）、６．３５（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．４Hz）、３．６３
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝５．４Hz）、２．３９（ｓ，３Ｈ）。
ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ３７３（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲ
ＭＳ ｍ／ｚ ３７２．０７８６（Ｍ＋、計算値３７
２．０７８０）。元素分析：Ｃ１８Ｈ１６Ｎ２Ｏ５Ｓの
計算値：Ｃ，５８．０６；Ｈ，４．３３；Ｎ，７．５
２。実測値：Ｃ，５８．０９；Ｈ，４．４４；Ｎ，７．
４５。
【０１４６】例８０
【化１１５】 Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
ール−４−イル）フェニル］スルホニル］グリシン、ナ
トリウム塩 ＥｔＯＨ中のＮ−［［４−（５−メチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
スルホニル］グリシン（例７９）（０．０９５ｇ、０．
２５５mmol）の溶液に、０．５０２２ＮＮａＯＨ（０．
５８mL、０．２９mmol）を加えた。溶液を真空下で濃縮
して、目的の塩（０．１００ｇ、１００％）を白色の粉
末として得た：融点２１６℃（分解）。１Ｈ ＮＭＲ
（Ｄ２Ｏ／３００MHz）７．６６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．
１Hz）、７．４２−７．１５（ｍ，７Ｈ）、３．３６
（ｓ，２Ｈ）、２．３２（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ
ｍ／ｚ ３９５（Ｍ＋Ｈ）。ＦＡＢＨＲＭＳ ｍ／ｚ
３９５．０７０７（Ｍ＋Ｈ、計算値３９５．０６７
８）。元素分析：Ｃ１８Ｈ １５Ｎ２Ｏ６ＳＮａ・１．５
５Ｈ２Ｏの計算値：Ｃ，５１．１９；Ｈ，４．３２；
Ｎ，６．６３。実測値：Ｃ，５１．１８；Ｈ，４．２
０；Ｎ，６．５６。
【０１４７】例８１
【化１１６】 ２−アミノ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニル
イソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］
アセトアミド 工程１：Ｎ−［２−［［［４−（５−メチル−３−フェ
ニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
ル］アミノ］−２−オキソエチル］カルバミン酸１，１
−ジメチルエチルの調製 ４−［５−メチル−３−（フェニル）イソオキサゾール
−４−イル］ベンゼンスルホンアミド（１５．０ｇ、４
７．７mmol）、Ｎ−ｔ−ｂｏｃ−グリシンＮ−ヒドロキ
シスクシンイミドエステル（１３．０ｇ、４７．７mmo
l）および１，８−ジアゾビシクロ［４．３．０］ウン
デカ−７−エン（１４．５ｇ、９５．４mmol）の混合物
をテトラヒドロフラン中で室温で１時間混合した。さら
にＮ−ｔ−ｂｏｃ−グリシンＮ−ヒドロキシスクシンイ
ミドエステル（１．３ｇ、４．７mmol）を加えて、溶液
をさらに２時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去して、残
渣を酢酸エチルにとった。酢酸エチルを１０％ＨＣｌ水
溶液、飽和ＮａＨＣＯ３水溶液で洗浄し、無水Ｎａ２Ｓ
Ｏ４で乾燥し、濾過して真空下で濃縮し、目的のアミド
を清澄なガラス状固体として得た（６．５ｇ、７５
％）：融点１６０．２〜１６２．０℃。１Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３／３００MHｚ）８．０４（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．４Hz）、７．４４−７．３３（ｍ，５Ｈ）、７．２
８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz）、５．２４（ｂｒｓ，１
Ｈ）、３．８５（ｍ，２Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）、
１．４３（ｓ，９Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４７
２（Ｍ＋Ｈ）。元素分析：Ｃ２３Ｈ２５Ｎ３Ｏ５Ｓ・
０．１８Ｈ２Ｏの計算値：Ｃ，５８．１９；Ｈ，５．３
８；Ｎ，８．８５。実測値：Ｃ，５８．２２；Ｈ，５．
７３；Ｎ，８．９２。
【０１４８】工程２：２−アミノ−Ｎ−［［４−（５−
メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フ
ェニル］スルホニル］アセトアミドの調製 工程１からのアミド（１６．２ｇ、３４．３mmol）をジ
クロロメタンに溶解した。室温で３０分間無水ＨＣｌを
溶液にバブリングした。溶液を１時間混合して、溶媒を
減圧下で除去した。生じた残渣を水に溶解すると、結晶
が形成し始めた。溶液を３時間撹拌して、真空濾過によ
り結晶を回収した。生成物は真空下で一定重量になるま
で乾燥した（１５mmHgで２５℃、４日間）（９．４ｇ、
７３％）：融点２３０．７〜２３４．７℃。1Ｈ ＮＭＲ
（ＤＭＳＯ−ｄ6／３００MHz）７．８４（ｄ，２Ｈ，Ｊ
＝８．４Hz）、７．７０−７．６０（ｂｒｓ，３Ｈ）、
７．４５−７．３０（ｍ，５Ｈ）、７．２３（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．４Hz）、３．２４（ｍ，２Ｈ）、２．４３
（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ３７２（Ｍ＋
Ｈ）。元素分析：Ｃ１８Ｈ１７Ｎ３Ｏ４Ｓ・０．３０Ｈ
２Ｏの計算値：Ｃ，５７．３７；Ｈ，４．７１；Ｎ，１
１．１５。実測値：Ｃ，５７．３７；Ｈ，４．７０；
Ｎ，１１．１２。
【０１４９】例８２
【化１１７】 ２−（アセチルアミノ）−Ｎ−［［４−（５−メチル−
３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
スルホニル］アセトアミド ２−アミノ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニル
イソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］
アセトアミド（例８１）（４．０８ｇ、１０．９mmol）
を室温でアセトニトリルに混合した。トリエチルアミン
（３．０３ｇ、３０．０mmol）と無水酢酸（１．２３
ｇ、１２．１mmol）を加えて、不均一な溶液を２時間撹
拌した。珪藻土のパッドにより溶液を真空濾過して、溶
媒を減圧下で除去した。水を加えて、溶液を３０分間撹
拌した。生成した白色の結晶を真空濾過により回収し、
乾燥して、目的生成物を白色の固体（３．２５ｇ、７８
％）として得た：融点２１８．２〜２１９．３℃。１Ｈ
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ／３００MHz）８．０１（ｄ，２
Ｈ，Ｊ＝８．２Hz）、７．４２−７．３６(ｍ，７Ｈ)、
３．８５（ｓ，２Ｈ）、２．５０（ｓ，３Ｈ）、１．９
５（ｓ，３Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ４１４（Ｍ
＋Ｈ）。元素分析：Ｃ２０Ｈ１９Ｎ３Ｏ５Ｓの計算値：
Ｃ，５８．１０；Ｈ，４．６３；Ｎ，１０．１６。実測
値：Ｃ，５８．１８；Ｈ，４．６６；Ｎ，１０．１４。
【０１５０】例８３
【化１１８】 Ｎ−［［４−(３−フェニル−２，３−ジヒドロ−２−
オキソフラン−４−イル)フェニル］スルホニル］プロ
パンアミド 工程１：３，４−ジフェニル−２−（５Ｈ）−フラノン
の調製 アセトニトリル中の臭化フェナシル（１６．５４０ｇ、
８３．１mmol）とフェニル酢酸（１１．６１２ｇ、８
５．３mmol）の溶液をトリエチルアミン（９．２３ｇ、
９１．４mmol）で処理して、溶液を室温で１時間撹拌し
た。溶液を１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウン
デカ−７−エン（ＤＢＵ）（３０mL、０．２３４mol）
で処理して、溶液を室温で１時間撹拌した。溶液を３Ｎ
ＨＣｌで希釈して酢酸エチルで抽出した。合わせた抽
出物を３Ｎ ＨＣｌ、食塩水で洗浄し、無水ＭｇＳＯ４
で乾燥し、濾過して真空下で濃縮し、固体を得た。この
固体をヘキサン／酢酸エチル（１：１）から結晶化して
フラノン（１１．６２７ｇ、５９％）を得た：融点１０
３．８〜１０４．９℃。１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／３
００MHz）７．４５−７．２５（ｍ，１０Ｈ）、５．１
８（ｓ，２Ｈ）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ２３７（Ｍ
＋Ｈ）。元素分析：Ｃ１６Ｈ１２Ｏ２・０．８３％Ｈ２
Ｏの計算値：Ｃ，８０．６６；Ｈ，５．１７。実測値：
Ｃ，８０．６７；Ｈ，５．２９。
【０１５１】工程２：３−［（４−アミノスルホニル）
フェニル］−４−フェニル−２−（５Ｈ）−フラノンの
調製 −５℃に冷却した２０mLの撹拌クロロスルホン酸に３，
４−ジフェニル−２−（５Ｈ）−フラノン（工程１）
（３．１６０ｇ、１３．４mmol）を少量ずつ３０分間で
加えた。溶液を室温に加温して、この温度で１６時間維
持した。反応混合物をジクロロメタンで希釈して氷水に
入れてクエンチした。相を分離し、水相をジクロロメタ
ンで抽出し、合わせたジクロロメタン抽出物を無水Ｍｇ
ＳＯ４で乾燥し、濾過して真空下で濃縮した。残渣をジ
クロロメタンで希釈して、過剰の濃ＮＨ４ＯＨに加え
た。混合物を１時間撹拌した。相を分離し、水相をジク
ロロメタンで抽出した。有機抽出物を無水ＭｇＳＯ４で
乾燥し、濾過して真空下で濃縮し、白色の固体を得た
が、これをエタノール水溶液から結晶化して、純粋な３
−［（４−アミノスルホニル）フェニル］−４−フェニ
ル−２−（５Ｈ）−フラノン（２．１１０ｇ、５０％）
を得た：融点２２５．５〜２２６．５℃。１Ｈ ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３／３００MHz）７．７９（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝
８．４Hz）、７．４１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．４Hz）、
６．３８（ｂｒｓ，２Ｈ）、５．０９（ｓ，２Ｈ）。Ｆ
ＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ３１６（ｍ＋Ｈ）。元素分析：
Ｃ１６Ｈ１３ＮＯ４Ｓの計算値：Ｃ，６０．９４；Ｈ，
４．１６：Ｎ，４．４４。実測値：Ｃ，６０．８６；
Ｈ，４．１８；Ｎ，４．４０。
【０１５２】工程３：Ｎ−［［４−（３−フェニル−
２，３−ジヒドロ−２−オキソフラン−４−イル）フェ
ニル］スルホニル］プロパンアミドの調製 ＴＨＦ中の３−［（４−アミノスルホニル）フェニル］
−４−フェニル−２−（５Ｈ）−フラノン（工程２）
（２０９mg、０．６６３mmol）、トリエチルアミン（１
３４mg、１．３３mmol）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン（５８mg、０．４７５mmol）の溶液を、室温で４５
分間プロピオン酸無水物（１２９mg、０．９９４mmol）
で処理した。溶液を３Ｎ ＨＣｌで希釈して、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル溶液を食塩水で洗浄して、無
水ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過して濃縮し、油状物を得
て、これを酢酸エチル／ヘキサンから結晶化して、アシ
ル化スルホンアミドを白色の固体（１７９mg、７３％）
として得た：融点１８２．３〜１８３．４℃。１Ｈ Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ３／３００MHz）８．５６（ｓ，１
Ｈ）、８．０６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz）、７．６２
（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．７Hz）、７．４４−７．２２
（ｍ，５Ｈ）、５．２３（ｓ，２Ｈ）、２．３０（ｑ，
２Ｈ，Ｊ＝７．５Hz）、１．０８（ｔ，３Ｈ，Ｊ＝７．
５Hz）。ＦＡＢＬＲＭＳ ｍ／ｚ ３７２（Ｍ＋Ｈ）。
元素分析：Ｃ１９Ｈ１７ＮＯ５Ｓの計算値：Ｃ，６１．
４４；Ｈ，４．６１；Ｎ，３．７７。実測値：Ｃ，６
１．２６；Ｈ，４．６４；Ｎ，３．７１。
【０１５３】例８４
【化１１９】 Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）
−４−トリフルオロメチルイミダゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］プロパンアミド ８０mLのＴＨＦ中の４−［２−（２−メチルピリジン−
３−イル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミ
ダゾール−１−イル］ベンゼンスルホンアミド（２．０
ｇ、５．２mmol）、プロピオン酸無水物（２．０３ｇ、
１５．６mmol）、ＤＭＡＰ（０．３８ｇ、２．６mmol）
およびトリエチルアミン（０．６５ｇ、６．４mmol）の
混合物を室温で１６時間撹拌した。反応混合物を２００
mLの水で希釈して、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、食塩水で洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥して濾過した。
濾液を真空下で濃縮し、残渣を酢酸エチルとヘキサンか
ら再結晶して、１．９５ｇの目的生成物を無色の固体
（８７％）として得た：融点（ＤＳＣ）：２１７〜２１
８℃。元素分析：Ｃ１９Ｈ１７Ｆ３Ｎ４Ｏ３Ｓの計算
値：Ｃ，５２．０５；Ｈ，３．９１；Ｎ，１２．９８；
Ｓ，７．３１。実測値：Ｃ，５１．８７；Ｈ，３．８
４；Ｎ，１２．６７；Ｓ，７．６３。
【０１５４】例８５
【化１２０】 Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）
−４−トリフルオロメチルイミダゾール−１−イル］フ
ェニル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリウム塩 ２０mLの無水エタノール中のＮ−［［４−［２−（２−
メチルピリジン−３−イル）−４−トリフルオロメチル
イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］プロ
パンアミド（例８４）（１．１ｇ、２．５mmol）の懸濁
液に、１．０mLのエタノール中の水酸化ナトリウム
（０．１ｇ、２．５mmol）の溶液を加えた。混合物を室
温で１０分間撹拌した。真空下で溶媒を留去して、残渣
を高真空で乾燥し、１．１５ｇの化合物を白色の粉末
（９９％）として得た：融点（ＤＳＣ）：２９８℃（分
解）。元素分析：Ｃ１９Ｈ１７Ｆ３Ｎ４Ｏ３ＳＮａ・
１．０Ｈ２Ｏの計算値：Ｃ，４７．７０；Ｈ，３．７
９；Ｎ，１１．７１；Ｓ，６．７０。実測値：Ｃ，４
７．３７；Ｈ，４．０３；Ｎ，１１．３２；Ｓ，６．３
２。
【０１５５】例８７ 下記の成分を有する組成物を調製する： Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル） フェニル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリウム塩 ４０mg リン酸緩衝液、ｐＨ７．５（１０mM） ２ml マンニトール ４０mg マンニトール（４０mg）をリン酸緩衝液（２ml）に加え
る。Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキ
サゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパン
アミド、ナトリウム塩を加えて、生じる溶液を凍結乾燥
する。生物学的評価ラットカラゲニン足蹠浮腫試験 基
本的にウィンター（Winter）ら（Proc．Soc．Exp．Bio
l．Med.，１１１，５４４（１９６２））に記載される
材料、試薬および方法により、カラゲニン足蹠浮腫試験
を実施した。オスのスプラーグードーレイ（Sprague-Da
wley）ラットを、平均体重ができるだけ近くなるよう各
群に選択した。試験前１６時間にわたり、水は自由に与
えながらラットを絶食させた。ラットに、０．５％メチ
ルセルロースと０．０２５％界面活性剤を含有する賦形
剤に懸濁した化合物、または賦形剤単独を経口投与（１
mL）した。１時間後、０．１mLの滅菌０．９％生理食塩
水中のカラゲニンの１％溶液を足底下注射により投与
し、デジタル表示の圧力変換器に接続した変位肢体容積
計で、注射した足の体積を測定した。カラゲニンの注射
の３時間後、足の体積を再度測定した。薬剤処理ラット
の群の平均足膨張をプラセボ処理ラット群と比較し、浮
腫の阻害百分率を求めた（オッターネス（Otterness）
とブリヴェン（Bliven）、ＮＳＡＩＤ試験のための実験
室モデル（Laboratory Models for Testing NSAIDs）、
非ステロイド性抗炎症薬（Non-steroidal Anti-Inflamm
atory Drugs）（ジェイ・ロンバルディーノ（J.Lombard
ino）編、１９８５年）中）。阻害％は、この方法で測
定される対照足蹠体積からの減少％を示し、本発明の選
択化合物に関するデータは表Ｉに要約される。
【０１５６】ラットカラゲニン誘導性痛覚脱失試験 基本的にハーグリーブス（Hargreaves）ら（Pain，３
２，７７，（１９８８））に記載される材料、試薬およ
び方法により、ラットカラゲニン痛覚脱失試験を実施し
た。カラゲニン足蹠浮腫試験について前述したように、
オスのスプレーグ・ドーリー（Sprague-Dawley）ラット
を処理した。カラゲニンの注射の３時間後、床の下に配
置可能な放射熱源として高輝度ランプを付けた透明床を
持つ特別なプレクシグラス容器にラットを入れた。最初
の２０分経過後、注射した足または反対側の注射してい
ない足のいずれかに熱刺激を開始した。足蹠の引っ込め
により光が遮られると、光電セルによりランプとタイマ
ーが切れた。次にラットが足を引っ込めるまでの時間を
測定した。引っ込めの潜伏期間（秒）を対照群と薬剤処
理群について求め、痛覚過敏の足の引っ込めの阻害パー
セントを求めた。結果は表Ｉに示す。
【表１】
【０１５７】プロドラッグのインビトロ変換 Ｓ９肝臓画分によるプロドラッグの変換を以下の方法に
より測定した。Ｓ９肝臓画分懸濁液（ＩＩＡＭ）を解凍
し、ボルテックスミキサーで懸濁液を撹拌した。懸濁液
を１２Ｍ尿素と１：７（ｖ：ｖ）で混合し（１０．５Ｍ
尿素の最終濃度になる）、さらにボルテックスミキサー
で撹拌した。Ｓ９懸濁液を、固相抽出（ヴァクエルート
（Vac-Elut）装置：Ｃ18カラム（ヴァリアン（Varian）
＃１２１０−２００１））によりアセトニトリルで溶出
して部分精製した。画分をボルテックスミキサーで混合
して、窒素下で乾固するまで濃縮した（非加熱）。画分
を１００μｌのアセトニトリル：リン酸緩衝液（８．３
mM、ｐＨ７．２）（２０：８０）に再懸濁した。
【０１５８】化合物を水(０．２ml、１０ug/ml)に溶解
して、精製Ｓ９画分(０．２ml、３mg/ml)と共に３７℃
でインキュベート（ｐＨ７．２、９０分）した。活性Ｃ
ＯＸ−２インヒビターへのプロドラッグの変換をＨＰＬ
Ｃ（ベックマン・システム・ゴールド（Beckmann Syste
m Gold）、ノバパック（Novapak）Ｃ１８カラム（３．
９×１５０mm）、アセトニトリル：リン酸緩衝液（８．
３mM、ｐＨ７．２）（２０：８０〜４０：６０）、ＵＶ
検出２４０nm）により追跡した。プロドラッグの変換の
定量は、積分ＨＰＬＣピーク面積の測定により求めた。
分析の結果は、表IIに含まれる：
【表２】
【０１５９】また本発明には、１つまたはそれ以上の非
毒性の薬剤学的に許容される担体および／または希釈剤
および／または補助剤（本明細書では集合的に「担体」
物質と呼ぶ）、および必要であれば他の活性成分と合わ
せた、本併用療法の活性化合物を含むある種の薬剤組成
物も包含される。本発明の活性化合物は、任意の適切な
経路により、好ましくはそのような経路に適合させた薬
剤組成物の剤型で、および意図した治療に有効な用量で
投与することができる。活性化合物および組成物は、例
えば、経口、血管内（ＩＶ）、腹腔内、皮下、筋肉内
（ＩＭ）または局所投与することができる。
【０１６０】経口投与には、薬剤組成物は、例えば、錠
剤、硬または軟カプセル剤、トローチ剤、調剤可能な粉
剤、懸濁剤または液剤の剤型であってよい。薬剤組成物
は、好ましくは特定量の活性成分を含有する投与単位の
剤型に製造される。このような投与単位の例は、錠剤ま
たはカプセル剤である。
【０１６１】また活性成分は、適切な担体として、例え
ば、生理食塩水、デキストロース、または水が使用され
る組成物として、注射（ＩＶ、ＩＭ、皮下またはジェッ
ト）により投与することができる。組成物のｐＨは、必
要であれば、適切な酸、塩基、または緩衝化剤により調
整することができる。マンニトールやＰＥＧ４００を含
む、適切な増量剤、分散剤、湿潤剤または懸濁剤もま
た、本組成物に含めてよい。適切な非経口組成物はま
た、注射バイアル中の、凍結乾燥粉末を含む無菌固体物
質として処方された化合物を含んでよい。注射の前に水
溶液を加えて化合物を溶解することができる。
【０１６２】投与される治療的に活性な化合物の量、お
よび本発明の化合物および／または組成物で疾患を治療
するための投薬法は、患者の年齢、体重、性別および症
状、炎症または炎症関連疾患の重篤度、投与の経路と頻
度、および使用される特定化合物を含む種々の因子に依
存し、そのため広く変化しうる。プロドラッグ組成物
は、親化合物と同程度の用量を含む。薬剤組成物は、約
０．１〜１０００mgの範囲、好ましくは約０．５〜２５
０mgの範囲、そして最も好ましくは約１と６０mgの間で
活性成分を含有してよい。約０．０１〜１００mg/kg体
重、好ましくは約０．０５と約２０mg/kg体重の間、そ
して最も好ましくは約０．１〜１０mg/kg体重の間の１
日用量が適切であろう。この１日用量は、１日に１〜４
回で投与することができる。
【０１６３】皮膚症状の場合には、本発明の化合物の局
所用調剤を１日２〜４回患部に適用するのが好ましい。
【０１６４】眼または他の外部組織（例えば、口や皮
膚）の疾患には、本処方は好ましくは、本活性成分を、
例えば、０．０７５〜３０％ｗ／ｗ、好ましくは０．２
〜２０％ｗ／ｗ、そして最も好ましくは０．４〜１５％
ｗ／ｗの総量で含有する、局所用ゲル、スプレー、軟膏
剤またはクリーム剤、または坐剤として適用される。軟
膏剤に処方されるとき、活性成分はパラフィン系または
水混和性軟膏基剤のいずれかと共に使用することができ
る。あるいは、活性成分は、水中油型クリーム基剤と共
にクリーム剤に処方することができる。必要であれば、
クリーム基剤の水相は、例えば、少なくとも３０％ｗ／
ｗの多価アルコール（例えば、プロピレングリコール、
ブタン−１，３−ジオール、マンニトール、ソルビトー
ル、グリセロール、ポリエチレングリコールおよびその
混合物）を含んでもよい。局所用処方は、望ましくは皮
膚または患部への活性成分の吸収または浸透を増強する
化合物を含む。このような皮膚浸透増強剤の例は、ジメ
チルスルホキシドおよび関連類似体を含む。本発明の化
合物はまた、経皮装置により投与することができる。好
ましくは局所投与は、リザーバーと多孔膜型の、または
固体マトリックスの組合せのいずれかのパッチを使用し
て行われる。いずれの場合にも、活性物質は、リザーバ
ーまたはマイクロカプセルから膜を通して活性物質透過
性接着剤（レシピエントの皮膚または粘膜に接触してい
る）中に連続的に送達される。活性物質が皮膚から吸収
されるならば、活性物質の制御された所定の流量がレシ
ピエントに投与される。マイクロカプセルの場合には、
カプセル化剤が膜としても機能しうる。経皮パッチは、
アクリル乳剤のような接着系を伴う適切な溶媒系中の化
合物、およびポリエステルパッチを含む。
【０１６５】本発明の乳剤の油相は、既知の成分から既
知の方法で構成することができる。この相は単に乳化剤
であってもよいが、脂肪または油、または脂肪と油の両
方との、少なくとも１つの乳化剤の混合物であってもよ
い。好ましくは、親水性乳化剤が、安定化剤として作用
する親油性乳化剤と共に含まれる。また、油と脂肪の両
方を含むのが好ましい。安定化剤を伴うかまたは伴わな
い乳化剤は一緒になって、いわゆる乳化ロウを構成し、
そして油と脂肪と一緒のこのロウは、いわゆる乳化軟膏
基剤を構成してクリーム剤処方の油性分散相を形成す
る。本発明の処方に使用するのに適した乳化剤と乳剤安
定化剤は、特に、ツイーン６０、スパン８０、セトステ
アリルアルコール、ミリスチルアルコール、モノステア
リン酸グリセリル、およびラウリル硫酸ナトリウムを含
む。
【０１６６】本処方に適した油または脂肪の選択は、薬
剤の乳剤処方に使用される多くの油への本活性化合物の
溶解度は非常に低いため、目的とする化粧品的特性の達
成に基づく。すなわち、クリーム剤は好ましくは、べと
べとせず、着色せず、チューブまたは他の容器からの漏
出を回避するため適切な粘稠度を有する洗浄可能な製品
である。直鎖または分岐鎖の、一塩基酸または二塩基酸
アルキルエステル、例えば、ジ−イソアジピン酸エステ
ル、ステアリン酸イソセチル、ココナツ脂肪酸のプロピ
レングリコールジエステル、ミリスチン酸イソプロピ
ル、オレイン酸デシル、パルミチン酸イソプロピル、ス
テアリン酸ブチル、パルミチン酸２−エチルヘキシルま
たは分岐鎖エステルの混合物を使用することができる。
これらは、必要とされる性質により、単独または組合せ
て使用することができる。あるいは、白色ワセリンおよ
び／または流動パラフィンのような高融点脂質、または
他の鉱物油を使用することができる。
【０１６７】眼への局所投与に適した処方はまた、活性
成分が適切な担体（特に活性成分用の水性溶媒）に溶解
または懸濁されている点眼薬を含む。抗炎症性活性成分
は、好ましくは０．５〜２０％、有利には０．５〜１０
％、そして特に約１．５％ｗ／ｗの濃度でこのような処
方中に存在する。
【０１６８】治療目的のために、本組合せ発明の活性化
合物は、普通は投与の所定の経路に適切な１つまたはそ
れ以上の補助剤と組合せられる。経口投与されるなら
ば、本化合物は、乳糖、ショ糖、デンプン粉末、アルカ
ン酸のセルロースエステル、セルロースアルキルエステ
ル、タルク、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウ
ム、酸化マグネシウム、リン酸および硫酸のナトリウム
およびカルシウム塩、ゼラチン、アラビアゴム、アルギ
ン酸ナトリウム、ポリビニルピロリドン、および／また
はポリビニルアルコールと混合し、次に投与が便利なよ
うに錠剤化またはカプセル化する。このようなカプセル
剤または錠剤は、ヒドロキシプロピルメチルセルロース
中に活性化合物を分散して提供するというように、放出
制御型処方を含有してもよい。非経口投与のための処方
は、水性または非水性の等張性無菌注射液剤または懸濁
剤の剤型であってよい。これらの液剤および懸濁剤は、
経口投与用の処方に使用するために言及された１つまた
はそれ以上の担体または希釈剤を含む、無菌粉末または
顆粒から調製することができる。本化合物は、水、ポリ
エチレングリコール、プロピレングリコール、エタノー
ル、トウモロコシ油、綿実油、落花生油、ゴマ油、ベン
ジルアルコール、塩化ナトリウム、および／または種々
の緩衝液に溶解することができる。他の補助剤および投
与の様式は、製剤分野において充分かつ広く知られてい
る。
【０１６９】本発明は具体的な実施態様に関して記載し
ているが、本発明がこれらの実施態様の詳細により限定
されるものではない。
【０１７０】
【発明の効果】炎症および炎症関連疾患の治療に有用
な、式（Ｉ）
【化１２１】 （式中、Ａは、部分的に不飽和のヘテロシクリル、ヘテ
ロアリール、シクロアルケニル、およびアリールから選
択される環置換基であり、Ａは、アルキルカルボニル、
ホルミル、ハロ、アルキル、ハロアルキル、オキシ、シ
アノ、ニトロ、カルボキシル、アルコキシ、アミノカル
ボニル、アルコキシカルボニル、カルボキシアルキル、
シアノアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルキルス
ルホニルオキシ、アルコキシアルキルオキシアルキル、
カルボキシアルコキシアルキル、シクロアルキルアルキ
ル、アルケニル、アルキニル、ヘテロシクリルオキシ、
アルキルチオ、シクロアルキル、アリール、ヘテロシク
リル、シクロアルケニル、アラルキル、ヘテロシクリル
アルキル、アルキルチオアルキル、アリールカルボニ
ル、アラルキルカルボニル、アラルケニル、アルコキシ
アルキル、アリールチオアルキル、アリールオキシアル
キル、アラルキルチオアルキル、アラルコキシアルキ
ル、アルコキシカルボニルアルキル、アミノカルボニル
アルキル、アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリールア
ミノカルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカ
ルボニル、アルキルアミノカルボニルアルキル、アルキ
ルアミノ、Ｎ−アリールアミノ、Ｎ−アラルキルアミ
ノ、Ｎ−アルキル−Ｎ−アラルキルアミノ、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリールアミノ、アミノアルキル、アルキルア
ミノアルキル、Ｎ−アリールアミノアルキル、Ｎ−アラ
ルキルアミノアルキル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アラルキル
アミノアルキル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノア
ルキル、アリールオキシ、アラルコキシ、アリールチ
オ、アラルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル
スルホニル、アミノスルホニル、アルキルアミノスルホ
ニル、Ｎ−アリールアミノスルホニル、アリールスルホ
ニル、およびＮ−アルキル−Ｎ−アリールアミノスルホ
ニルから選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可
能な位置で随時置換され；Ｒ１は、ヘテロシクリル、シ
クロアルキル、シクロアルケニル、およびアリールから
選択され、Ｒ１は、アルキル、ハロアルキル、シアノ、
カルボキシル、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、
ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、アルキ
ルアミノ、アリールアミノ、ニトロ、アルコキシアルキ
ル、アルキルスルフィニル、ハロ、アルコキシおよびア
ルキルチオから選択される１つまたはそれ以上の基で、
置換可能な位置で随時置換され；Ｒ２は、ヒドリドおよ
びアルコキシカルボニルアルキルから選択され；および
Ｒ３は、アルキル、カルボキシアルキル、アシル、アル
コキシカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルコ
キシカルボニルアルキルカルボニル、アルコキシカルボ
ニルカルボニル、アミノ酸残基、およびアルキルカルボ
ニルアミノアルキルカルボニルから選択され；ただし、
Ａは、テトラゾリウムでもピリジニウムでもなく；か
つ、さらにＲ３がアルキルまたはカルボキシアルキルの
時、Ａは、インダノンではない）；または、その薬剤学
的に許容される塩の、ＣＯＸ−２インヒビターのプロド
ラッグが得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/635 Ａ６１Ｋ 31/635 ４Ｃ０８６ Ａ６１Ｐ 1/02 Ａ６１Ｐ 1/02 ４Ｃ２０６ 1/04 1/04 ４Ｈ００６ 3/10 3/10 5/16 5/16 7/06 7/06 9/10 9/10 11/02 11/02 11/06 11/06 11/08 11/08 13/12 13/12 15/06 15/06 17/02 17/02 17/04 17/04 17/06 17/06 19/02 19/02 19/08 19/08 21/00 21/00 21/04 21/04 25/00 25/00 25/04 25/04 25/28 25/28 27/02 27/02 27/12 27/12 29/00 29/00 １０１ １０１ 29/02 29/02 31/12 31/12 35/00 35/00 37/00 37/00 43/00 １１１ 43/00 １１１ １２３ １２３ Ｃ０７Ｃ 311/51 Ｃ０７Ｃ 311/51 Ｃ０７Ｄ 207/33 Ｃ０７Ｄ 207/33 231/12 231/12 Ｃ 233/64 １０２ 233/64 １０２ 261/08 261/08 263/32 263/32 307/58 307/58 401/04 401/04 495/04 １１１ 495/04 １１１ (72)発明者 ジェームズ，ダブリュ．メールチャ アメリカ合衆国60048 イリノイ州リバテ ィビル，トレイシイ レーン 1121 (72)発明者 スチーブン・バーテンショー アメリカ合衆国63144 ミズーリ州ブレン トウッド，パイン アベニュー 8758 (72)発明者 マシュー，ジェイ．グレナト アメリカ合衆国63146 ミズーリ州セント ルイス，ボルテア ドライブ 1510 (72)発明者 ジェフリー，エス．カーター アメリカ合衆国63017 ミズーリ州チェス ターフィールド，グルナトリイ ドライブ 15321 (72)発明者 ジングリン・リー アメリカ合衆国63017 ミズーリ州チェス ターフィールド，リアルト ドライブ 14550 (72)発明者 スリニバサン・ナガラジャン アメリカ合衆国63005 ミズーリ州チェス ターフィールド，フォレスト メドウズ ドライブ 16209 (72)発明者 デビッド，エル．ブラウン アメリカ合衆国63017 ミズーリ州チェス ターフィールド，ツインゲート 15504 (72)発明者 ドナルド，ジェイ．ロジャー，ジュニア. アメリカ合衆国63017 ミズーリ州チェス ターフィールド，ウエストミード ドライ ブ 1828 (72)発明者 トマス，ディ．ペニング アメリカ合衆国60126 イリノイ州エルム ハースト，ラーチ 374 (72)発明者 イシュ，ケイ．クハンナ アメリカ合衆国60061 イリノイ州バーノ ン ヒルズ，トッピング イーステイト 12917 (72)発明者 クシアンドン・イクス アメリカ合衆国60202 イリノイ州エバン ストン，ヒンマン アベニュー 855，ア パートメント 715 (72)発明者 リチャード，エム．ウエイアー アメリカ合衆国60044 イリノイ州レイク ブラッフ，ヒッコリイ コート 240 Ｆターム(参考） 4C037 JA05 4C056 AA01 AB01 AC01 AC02 AD01 AE03 BA10 BB01 BC01 4C063 AA01 BB01 CC25 DD12 EE01 4C069 AC07 BB08 BB28 4C071 AA01 AA07 BB01 CC02 CC21 EE15 FF04 GG05 JJ01 LL01 4C086 AA01 AA02 AA03 BA03 BA17 BC05 BC36 BC38 BC67 BC69 CB29 DA20 GA08 MA01 MA65 NA14 NA15 ZA02 ZA08 ZA33 ZA34 ZA36 ZA45 ZA55 ZA59 ZA60 ZA66 ZA67 ZA68 ZA81 ZA89 ZA94 ZA96 ZB05 ZB11 ZB13 ZB15 ZB26 ZB33 ZC06 ZC20 ZC35 4C206 AA01 AA02 AA03 JA14 MA01 MA85 NA14 NA15 ZA02 ZA08 ZA16 ZA33 ZA34 ZA36 ZA45 ZA55 ZA59 ZA60 ZA66 ZA67 ZA68 ZA75 ZA81 ZA89 ZA94 ZA96 ZB05 ZB11 ZB13 ZB15 ZB26 ZB33 ZC06 ZC13 ZC20 ZC35 4H006 AA01 AA03 AB20 AB22

Claims (51)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式Ｉ 【化１】 （式中、Ａは、部分的に不飽和のヘテロシクリル、ヘテ
    ロアリール、シクロアルケニル、およびアリールから選
    択される環置換基であり、Ａは、アルキルカルボニル、
    ホルミル、ハロ、アルキル、ハロアルキル、オキソ、シ
    アノ、ニトロ、カルボキシル、アルコキシ、アミノカル
    ボニル、アルコキシカルボニル、カルボキシアルキル、
    シアノアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルキルス
    ルホニルオキシ、アルコキシアルキルオキシアルキル、
    カルボキシアルコキシアルキル、シクロアルキルアルキ
    ル、アルケニル、アルキニル、ヘテロシクリルオキシ、
    アルキルチオ、シクロアルキル、アリール、ヘテロシク
    リル、シクロアルケニル、アラルキル、ヘテロシクリル
    アルキル、アルキルチオアルキル、アリールカルボニ
    ル、アラルキルカルボニル、アラルケニル、アルコキシ
    アルキル、アリールチオアルキル、アリールオキシアル
    キル、アラルキルチオアルキル、アラルコキシアルキ
    ル、アルコキシカルボニルアルキル、アミノカルボニル
    アルキル、アルキルアミノカルボニル、Ｎ−アリールア
    ミノカルボニル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノカ
    ルボニル、アルキルアミノカルボニルアルキル、アルキ
    ルアミノ、Ｎ−アリールアミノ、Ｎ−アラルキルアミ
    ノ、Ｎ−アルキル−Ｎ−アラルキルアミノ、Ｎ−アルキ
    ル−Ｎ−アリールアミノ、アミノアルキル、アルキルア
    ミノアルキル、Ｎ−アリールアミノアルキル、Ｎ−アラ
    ルキルアミノアルキル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アラルキル
    アミノアルキル、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノア
    ルキル、アリールオキシ、アラルコキシ、アリールチ
    オ、アラルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキル
    スルホニル、アミノスルホニル、アルキルアミノスルホ
    ニル、Ｎ−アリールアミノスルホニル、アリールスルホ
    ニル、およびＮ−アルキル−Ｎ−アリールアミノスルホ
    ニルから選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可
    能な位置で随時置換され；Ｒ１は、ヘテロシクリル、シ
    クロアルキル、シクロアルケニル、およびアリールから
    選択され、Ｒ１は、アルキル、ハロアルキル、シアノ、
    カルボキシル、アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、
    ヒドロキシアルキル、ハロアルコキシ、アミノ、アルキ
    ルアミノ、アリールアミノ、ニトロ、アルコキシアルキ
    ル、アルキルスルフィニル、ハロ、アルコキシおよびア
    ルキルチオから選択される１つまたはそれ以上の基で、
    置換可能な位置で随時置換され；Ｒ２は、ヒドリドおよ
    びアルコキシカルボニルアルキルから選択され；および
    Ｒ３は、アルキル、カルボキシアルキル、アシル、アル
    コキシカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルコ
    キシカルボニルアルキルカルボニル、アルコキシカルボ
    ニルカルボニル、アミノ酸残基、およびアルキルカルボ
    ニルアミノアルキルカルボニルから選択され；ただし、
    Ａは、テトラゾリウムでもピリジニウムでもなく；か
    つ、さらにＲ３がアルキルまたはカルボキシアルキルの
    時、Ａは、インダノンではない；さらにただし、Ｒ１が
    ４−フルオロフェニルである時、Ｒ２がヒドリドである
    時、Ｒ３がメチルまたはアセチルである時、Ａはチエニ
    ルではない；ならびにＲ２およびＲ３のうちのいずれか
    １つがＨであり、他方がプロピオニルである時、Ａ−Ｒ
    １は３−フェニル−５−メチルイソキサゾール−４−イ
    ルではない）の化合物；または、その薬剤学的に許容さ
    れる塩。
  2. 【請求項２】 請求の範囲第１項に記載の化合物であっ
    て、Ａは、部分的に不飽和のヘテロシクリル、５−また
    は６−員環のヘテロアリール、Ｃ３−Ｃ８−シクロアル
    ケニルおよびフェニルから選択され、Ａは、ホルミル、
    Ｃ１−Ｃ１０−アルキルカルボニル、ハロ、Ｃ１−Ｃ
    １０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、オキソ、
    シアノ、ニトロ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキ
    シ、アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボ
    ニル、Ｃ１−Ｃ１０−カルボキシアルキル、Ｃ１−Ｃ
    １０−シアノアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ１
    −Ｃ１０−アルコキシアルキルオキシアルキル、カルボ
    キシ−Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシアルキル、Ｃ３−Ｃ ８
    −シクロアルキルアルキル、Ｃ２−Ｃ６−アルケニル、
    Ｃ２−Ｃ６−アルキニル、ヘテロシクリルオキシ、Ｃ１
    −Ｃ６−アルキルチオ、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキル、
    フェニル、５〜６員環ヘテロシクリル、Ｃ４−Ｃ８−シ
    クロアルケニル、フェニル−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、
    ５〜６員環ヘテロシクリルアルキル、Ｃ １−Ｃ６−アル
    キルチオアルキル、フェニルカルボニル、フェニル−Ｃ
    １−Ｃ１ ０−アルキルカルボニル、フェニル−Ｃ２−Ｃ
    ６−アルケニル、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシアルキル、
    フェニルチオ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、フェニルオキ
    シ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、フェニル−Ｃ１−Ｃ６−
    アルキルチオアルキル、フェニル−Ｃ１−Ｃ６−アルコ
    キシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアル
    キル、アミノカルボニル−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ
    １−Ｃ６−アルキルアミノカルボニル、Ｎ−フェニルア
    ミノカルボニル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル−Ｎ−フェ
    ニルアミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノカ
    ルボニルアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、Ｎ−
    フェニルアミノ、Ｎ−フェニル−Ｃ１−Ｃ６−アルキル
    アミノ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル−Ｎ−フェニルアル
    キルアミノ、Ｎ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル−Ｎ−フェニル
    アミノ、Ｃ１−Ｃ１０−アミノアルキル、Ｃ１−Ｃ６−
    アルキルアミノアルキル、Ｎ−フェニルアミノ−Ｃ１−
    Ｃ１０−アルキル、Ｎ−フェニル−Ｃ１−Ｃ６−アルキ
    ルアミノアルキル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル−Ｎ−フ
    ェニルアルキルアミノアルキル、Ｎ−Ｃ１−Ｃ６−アル
    キル−Ｎ−フェニルアミノアルキル、フェニルオキシ、
    フェニル−Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、フェニルチオ、フ
    ェニル−Ｃ１−Ｃ１０−アルキルチオ、Ｃ １−Ｃ６−ア
    ルキルスルフィニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルホニ
    ル、アミノスルホニル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノス
    ルホニル、Ｎ−フェニルアミノスルホニル、フェニルス
    ルホニル、およびＮ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル−Ｎ−フェ
    ニルアミノスルホニルから選択される１つまたはそれ以
    上の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ１は、５
    −または６−員環ヘテロシクリル、Ｃ３−Ｃ８−シクロ
    アルキル、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルケニル、およびフェ
    ニルから選択され、Ｒ１は、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、
    Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、シアノ、カルボキシル、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ヒドロキシル、Ｃ１
    −Ｃ６−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコ
    キシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、フェニル
    アミノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシアルキル、
    Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルフィニル、ハロ、Ｃ１−Ｃ６
    −アルコキシおよびＣ１−Ｃ６−アルキルチオから選択
    される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な位置で随
    時置換され；Ｒ２は、ヒドリドおよびＣ１−Ｃ６−アル
    コキシカルボニルアルキルから選択され；およびＲ
    ３は、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ
    １ ０−アルキル、アルカノイル、アロイル、アミノ酸残
    基、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ１０
    −アルコキシアルキルカルボニル、（５〜６員環ヘテロ
    アリール）カルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボ
    ニルアルキルカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカル
    ボニルカルボニル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカル
    ボニルアミノアルキルカルボニルから選択される、上記
    化合物；または、その薬剤学的に許容される塩。
  3. 【請求項３】 請求の範囲第２項に記載の化合物であっ
    て、Ａは、チエニル、オキサゾリル、フリル、ピロリ
    ル、チアゾリル、イミダゾリル、ベンゾフリル、インデ
    ニル、ベンゾチエニル、イソオキサゾリル、ピラゾリ
    ル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、ベンズ
    インダゾリル、ベンゾピラノピラゾリル、フェニル、お
    よびピリジルから選択される基であり、Ａは、ホルミ
    ル、メチルカルボニル、フルオロ、クロロ、ブロモ、メ
    チル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、オキ
    ソ、シアノ、カルボキシル、メトキシ、アミノカルボニ
    ル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、カルボ
    キシプロピル、ヒドロキシメチル、シアノメチル、フェ
    ニル、フェニルメチル、メトキシカルボニル、フェニル
    カルボニル、メトキシメチル、フェニルオキシメチル、
    アミノカルボニルメチル、カルボキシメチル、およびフ
    ェニルオキシから選択される１つまたはそれ以上の基
    で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ１は、チエニ
    ル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、フリル、チアゾ
    リル、ピリジル、およびフェニルから選択され、Ｒ
    １は、メチル、トリフルオロメチル、ヒドロキシル、ヒ
    ドロキシメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、メト
    キシメチル、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシおよ
    びメチルチオから選択される１つまたはそれ以上の基
    で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ２は、ヒドリド
    またはエトキシカルボニルメチルであり；およびＲ
    ３は、メチル、カルボキシメチル、ホルミル、メチルカ
    ルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イ
    ソプロピルカルボニル、ブチルカルボニル、ｔｅｒｔ−
    ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、ベンジルカル
    ボニル、フェニル（ヒドロキシル）メチルカルボニル、
    メトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、
    フェニルカルボニル、メトキシカルボニルメチルカルボ
    ニル、メトキシカルボニルエチルカルボニル、メトキシ
    カルボニルカルボニル、アミノメチルカルボニル、ｔｅ
    ｒｔ−ブトキシカルボニルアミノメチルカルボニル、お
    よびメチルカルボニルアミノメチルカルボニルから選択
    される、上記化合物；または、その薬剤学的に許容され
    る塩。
  4. 【請求項４】 以下の群の化合物およびその薬剤学的に
    許容される塩から選択される、請求の範囲第３項に記載
    の化合物：Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−
    ５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−
    ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］プロパ
    ンアミド；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−
    ５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−
    ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］ブタン
    アミド；Ｎ−［［４−［１，５−ジメチル）−３−フェ
    ニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］フェニル］スルホ
    ニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［２−（３−ピリジ
    ニル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾ
    ール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
    ド；Ｎ−［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イ
    ル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾー
    ル−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；
    Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）
    −４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
    １−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
    ［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−４
    −（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−
    イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−
    ［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）−４
    −（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−
    イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−
    ［［４−［２−（３−クロロ−５−メチルフェニル）−
    ４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１
    −イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
    ［［４−［３−（３−フルオロフェニル）−５−メチル
    イソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］
    アセトアミド；２−メチル−Ｎ−［［４−（５−メチル
    −３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−（５−
    メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フ
    ェニル］スルホニル］ベンズアミド；２，２−ジメチル
    −Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサ
    ゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパンア
    ミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
    キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ブタン
    アミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソ
    オキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ペン
    タンアミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニル
    イソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］
    ヘキサンアミド；３−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メ
    チル−３−フェニルイソキサゾール−４−イル）フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド；２−エトキシ−Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソキサゾール−
    ４−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソキサゾール−
    ４−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
    ［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−（トリフ
    ルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−［５−
    （４−クロロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）
    −１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
    ル］ブタンアミド；Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフ
    ェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾ
    ール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
    ド；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−６−フ
    ルオロ−１，５−ジヒドロ−７−メトキシ［２］ベンゾ
    チオピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フェ
    ニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［６−
    フルオロ−１，５−ジヒドロ−７−メトキシ−３−（ト
    リフルオロメチル）−［２］ベンゾチオピラノ［４，３
    −ｃ］ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］
    アセトアミド；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチ
    ル）−５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−
    １Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］
    アセトアミド；Ｎ−［［４−（２−メチル−４−フェニ
    ルオキサゾール−５−イル］フェニル］スルホニル］ア
    セトアミド；［［［４−（５−メチル−３−フェニルイ
    ソオキサゾール−４−イル」フェニル］スルホニル］ア
    ミノ］オキソ酢酸メチル；２−メトキシ−Ｎ−［［４−
    （５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
    ル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４
    −［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニルイソオキ
    サゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］プロパン
    アミド；Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメチル）−３
    −フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］ス
    ルホニル］ブタンアミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−
    ３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
    スルホニル］ホルムアミド；Ｎ−［［４−（５−メチル
    −３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
    ル］スルホニル］カルバミン酸１，１−ジメチルエチ
    ル；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキ
    サゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］グリシ
    ン；２−アミノ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェ
    ニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
    ル］アセトアミド；２−（アセチルアミノ）−Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
    −４−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド；４
    −［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
    ール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］−４
    −オキソブタン酸メチル；Ｎ−［［４−（５−メチル−
    ３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］
    スルホニル］カルバミン酸メチル；Ｎ−アセチル−Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
    −４−イル）フェニル］スルホニル］グリシン、エチル
    エステル；Ｎ−［［４−［５−（４−メチルフェニル）
    −３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１
    −イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；３−
    ［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾー
    ル−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］−３−
    オキソプロパン酸メチル；４−［５−（３−ブロモ−５
    −フルオロ−４−メトキシフェニル）−２−（トリフル
    オロメチル）オキサゾール−４−イル］−Ｎ−メチルベ
    ンゼンスルホンアミド；Ｎ−（１，１−ジメチルエチ
    ル）−４−（５−メチル−３−フェニルイソキサゾール
    −４−イル）ベンゼンスルホンアミド；４−［５−（４
    −フルオロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−
    １Ｈ−ピラゾール−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンス
    ルホンアミド；Ｎ−メチル−４−（５−メチル−３−フ
    ェニルイソオキサゾール−４−イル］ベンゼンスルホン
    アミド；Ｎ−［［４−［５−（ヒドロキシメチル）−３
    −フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］ス
    ルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［５−（アセト
    キシメチル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
    ル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４
    −［２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）シクロ
    ペンテン−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトア
    ミド；４−［２−（４−フルオロフェニル）−１Ｈ−ピ
    ロール−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミ
    ド；Ｎ−［［４−［３，４−ジメチル−１−フェニル−
    １Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェニル］スルホニル］
    プロパンアミド；Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリ
    ジン−３−イル）−４−トリフルオロメチルイミダゾー
    ル−１−イル］フェニル］スルホニル］プロパンアミ
    ド；４−［２−（４−フルオロフェニル）シクロペンテ
    ン−１−イル］−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド；
    およびＮ−［［４−（３−フェニル−２，３−ジヒドロ
    −２−オキソフラン−４−イル）フェニル］スルホニ
    ル］プロパンアミド。
  5. 【請求項５】 式ＩＩ 【化２】 （式中、Ａは、部分的に不飽和のヘテロシクリル、５−
    または６−員環のヘテロアリール、Ｃ４−Ｃ８−シクロ
    アルケニル、およびフェニルから選択される環置換基で
    あり；Ａは、アシル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ１０
    −アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、オキソ、シア
    ノ、ニトロ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、
    アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニ
    ル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ
    １０−シアノアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルオキシアルキ
    ル、およびフェニルから選択される１つまたはそれ以上
    の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ４は、ヘテ
    ロシクリル、シクロアルキル、シクロアルケニル、およ
    びフェニルから選択され、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、シアノ、カルボキシ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ヒドロキシ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハ
    ロアルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、
    フェニルアミノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルフィニル、ハロ、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシおよびＣ１−Ｃ６−アルキルチオ
    から選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な
    位置で随時置換され；およびＲ５は、ヒドリド、Ｃ１−
    Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシ、Ｃ １−
    Ｃ１０−アルコキシアルキル、フェニル、アリール−Ｃ
    １−Ｃ１０−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−ア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、
    Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ
    １０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルア
    ミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニ
    ルアミノアルキルから選択され；ただし、Ａは、テトラ
    ゾリウムでもピリジニウムでもなく；かつ、さらにただ
    し、Ｒ４が４−フルオロフェニルである時、およびＲ５
    がメチルである時、Ａはチエニルではない；ならびにＲ
    ５がエチルである時、Ａ−Ｒ４は３−フェニル−５−メ
    チルイソキサゾール−４−イルではない）の化合物；ま
    たは、その薬剤学的に許容される塩。
  6. 【請求項６】 請求の範囲第５項に記載の化合物であっ
    て、Ａは、チエニル、オキサゾリル、フリル、ピロリ
    ル、チアゾリル、イミダゾリル、ベンゾフリル、インデ
    ニル、ベンゾチエニル、イソオキサゾリル、ピラゾリ
    ル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、ベンズ
    インダゾリル、ベンゾピラノピラゾリル、フェニル、お
    よびピリジルから選択される環置換基であり、Ａは、ア
    シル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ
    １−Ｃ６−ハロアルキル、オキソ、シアノ、ニトロ、カ
    ルボキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、アミノカルボニ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、カルボキシ−
    Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ １−Ｃ１０−シアノアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ１０−アルキニルカルボニルオキシアルキ
    ル、フェニル、およびＣ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル
    から選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な
    位置で随時置換され；Ｒ４は、５〜６員環ヘテロアリー
    ルおよびフェニルから選択され、Ｒ４は、Ｃ １−Ｃ１０
    −アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、シアノ、カル
    ボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ヒドロキ
    シル、Ｃ１−Ｃ１０−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６
    −ハロアルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミ
    ノ、フェニルアミノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキ
    シアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルフィニル、ハ
    ロ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシおよびＣ１−Ｃ６−アルキ
    ルチオから選択される１つまたはそれ以上の基で、置換
    可能な位置で随時置換され；およびＲ５は、ヒドリド、
    Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ
    １−Ｃ１０−アルコキシアルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ
    ６−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アル
    コキシカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、
    Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアミノアルキル、お
    よびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルアミノアルキル
    から選択される、上記化合物；または、その薬剤学的に
    許容される塩。
  7. 【請求項７】 請求の範囲第６項に記載の化合物であっ
    て、Ａは、チエニル、オキサゾリル、フリル、ピロリ
    ル、チアゾリル、イミダゾリル、イソチアゾリル、イソ
    オキサゾリル、ピラゾリル、シクロペンテニル、シクロ
    ペンタジエニル、ベンズインダゾリル、ベンゾピラノピ
    ラゾリル、フェニル、およびピリジルから選択される環
    置換基であり；Ａは、ホルミル、フルオロ、クロロ、ブ
    ロモ、メチル、トリフルオロメチル、オキソ、シアノ、
    カルボキシル、メトキシ、アミノカルボニル、メトキシ
    カルボニル、エトキシカルボニル、カルボキシメチル、
    カルボキシプロピル、メチルカルボニルオキシメチル、
    およびヒドロキシメチルから選択される１つまたはそれ
    以上の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ４は、
    チエニル、ピリジル、およびフェニルから選択され、Ｒ
    ４は、メチル、トリフルオロメチル、ヒドロキシル、ヒ
    ドロキシメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、メト
    キシメチル、フルオロ、クロロ、ブロモ、メトキシおよ
    びメチルチオから選択される１つまたはそれ以上の基
    で、置換可能な位置で随時置換され；およびＲ５は、ヒ
    ドリド、メチル、エチル、イソプロピル、プロピル、ｔ
    ｅｒｔ−ブチル、ブチル、ペンチル、メトキシ、ｔｅｒ
    ｔ−ブトキシ、メトキシエチル、エトキシメチル、メト
    キシメチル、フェニル、カルボキシエチル、メトキシカ
    ルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、ｔｅｒｔ
    −ブトキシカルボニルアミノメチル、メトキシカルボニ
    ル、アミノメチル、およびメチルカルボニルアミノメチ
    ルから選択される、上記化合物；または、その薬剤学的
    に許容される塩。
  8. 【請求項８】 以下の群の化合物およびその薬剤学的に
    許容される塩から選択される、請求の範囲第７項に記載
    の化合物：Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−
    ５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−
    ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］プロパ
    ンアミド；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−
    ５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−
    ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］ブタン
    アミド；Ｎ−［［４−（１，５−ジメチル）−３−フェ
    ニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル］フェニル］スルホ
    ニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［２−（３−ピリジ
    ニル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾ
    ール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
    ド；Ｎ−［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イ
    ル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾー
    ル−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；
    Ｎ−［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）
    −４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−
    １−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
    ［［４−［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−４
    −（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−
    イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−
    ［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）−４
    −（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−
    イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−
    ［［４−［２−（３−クロロ−５−メチルフェニル）−
    ４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１
    −イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
    ［［４−［３−（３−フルオロフェニル）−５−メチル
    イソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］
    アセトアミド；２−メチル−Ｎ−［［４−（５−メチル
    −３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−（５−
    メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フ
    ェニル］スルホニル］ベンズアミド；２，２−ジメチル
    −Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサ
    ゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパンア
    ミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
    キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ブタン
    アミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソ
    オキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ペン
    タンアミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニル
    イソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］
    ヘキサンアミド；３−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メ
    チル−３−フェニルイソキサゾール−４−イル）フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド；２−エトキシ−Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソキサゾール−
    ４−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソキサゾール−
    ４−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−
    ［［４−［５−（４−クロロフェニル）−３−（トリフ
    ルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−［５−
    （４−クロロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）
    −１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
    ル］ブタンアミド；Ｎ−［［４−［５−（４−クロロフ
    ェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾ
    ール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
    ド；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−６−フ
    ルオロ−１，５−ジヒドロ−７−メトキシ−［２］ベン
    ゾチオピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フ
    ェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［６
    −フルオロ−１，５−ジヒドロ−７−メトキシ−３−
    （トリフルオロメチル）−［２］ベンゾチオピラノ
    ［４，３−ｃ］ピラゾール−１−イル］フェニル］スル
    ホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオ
    ロメチル）−５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニ
    ル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホ
    ニル］アセトアミド；Ｎ−［［４−（２−メチル−４−
    フェニルオキサゾール−５−イル］フェニル］スルホニ
    ル］アセトアミド；［［［４−（５−メチル−３−フェ
    ニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
    ル］アミノ］オキソ酢酸メチル；２−メトキシ−Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
    −４−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ
    −［［４−［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニル
    イソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］
    プロパンアミド；Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメチ
    ル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェ
    ニル］スルホニル］ブタンアミド；４−［［［４−（５
    −メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）
    フェニル］スルホニル］アミノ］−４−オキソブタン
    酸；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキ
    サゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ホルムア
    ミド；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
    キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］カルバ
    ミン酸１，１−ジメチルエチル；Ｎ−［［４−（５−メ
    チル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェ
    ニル］スルホニル］グリシン；２−アミノ−Ｎ−［［４
    −（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−
    イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド；２−（ア
    セチルアミノ）−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェ
    ニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
    ル］アセトアミド；４−［［［４−（５−メチル−３−
    フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スル
    ホニル］アミノ］−４−オキソブタン酸メチル；Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
    −４−イル）フェニル］スルホニル］カルバミン酸メチ
    ル；Ｎ−［［４−［５−（４−メチルフェニル）−３−
    （トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イ
    ル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；３−
    ［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾー
    ル−４−イル）フェニル］スルホニル］アミノ］−３−
    オキソプロパン酸メチル；Ｎ−［［４−［５−（ヒドロ
    キシメチル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
    ル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４
    −［５−（アセトキシメチル）−３−フェニルイソオキ
    サゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセトア
    ミド；１，１−ジメチルエチル−Ｎ−［２−［［［４−
    （５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
    ル）フェニル］スルホニル］アミノ］−２−オキソエチ
    ル］カルバメート；Ｎ−［［４−［３，４−ジメチル−
    １−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−［２−
    （２−メチルピリジン−３−イル）−４−トリフルオロ
    メチルイミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニ
    ル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ
    −４−フルオロフェニル）シクロペンテン−１−イル］
    フェニル］スルホニル］アセトアミド；およびＮ−
    ［［４−（３−フェニル−２，３−ジヒドロ−２−オキ
    ソフラン−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパン
    アミド。
  9. 【請求項９】 薬剤学的に許容される塩は金属塩であ
    る、請求の範囲第５項に記載の化合物。
  10. 【請求項１０】 薬剤学的に許容される塩は、アルカリ
    金属塩およびアルカリ土類金属塩から選択される、請求
    の範囲第９項に記載の化合物。
  11. 【請求項１１】 薬剤学的に許容される塩は、ナトリウ
    ム塩およびカリウム塩から選択される、請求の範囲第１
    ０項に記載の化合物。
  12. 【請求項１２】 以下の群の化合物およびその薬剤学的
    に許容される塩から選択される、請求の範囲第１１項に
    記載の化合物：Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチ
    ル）−５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−
    １Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］
    プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［３−
    （ジフルオロメチル）−５−（３−フルオロ−４−メト
    キシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−１−イル］フェニ
    ル］スルホニル］ブタンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−
    ［［４−［１，５−ジメチル）−３−フェニル−１Ｈ−
    ピラゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセト
    アミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［２−（３−ピリ
    ジニル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダ
    ゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
    ド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［２−（５−メチルピ
    リジン−３−イル）−４−（トリフルオロメチル）−１
    Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］
    アセトアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［２−（２
    −メチルピリジン−３−イル）−４−（トリフルオロメ
    チル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フェニル］ス
    ルホニル］アセトアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−
    ［２−（５−メチルピリジン−３−イル）−４−（トリ
    フルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１−イル］フ
    ェニル］スルホニル］ブタンアミド、ナトリウム塩；Ｎ
    −［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）−
    ４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミダゾール−１
    −イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド、ナトリ
    ウム塩；Ｎ−［［４−［２−（３−クロロ−５−メチル
    フェニル）−４−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−イミ
    ダゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトア
    ミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［３−（３−フルオ
    ロフェニル）−５−メチルイソオキサゾール−４−イ
    ル］フェニル］スルホニル］アセトアミド、ナトリウム
    塩；２−メチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェ
    ニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
    ル］プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５
    −メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）
    フェニル］スルホニル］ベンズアミド、ナトリウム塩；
    ２，２−ジメチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フ
    ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
    ニル］プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−
    （５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
    ル）フェニル］スルホニル］ブタンアミド、ナトリウム
    塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキ
    サゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ペンタン
    アミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３
    −フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］ス
    ルホニル］ヘキサンアミド、ナトリウム塩；３−メトキ
    シ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソキサ
    ゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］プロパンア
    ミド、ナトリウム塩；２−エトキシ−Ｎ−［［４−（５
    −メチル−３−フェニルイソキサゾール−４−イル）フ
    ェニル］スルホニル］アセトアミド、ナトリウム塩；Ｎ
    −［［４−［５−メチル−３−フェニルイソキサゾール
    −４−イル）フェニル］スルホニル］アセトアミド、ナ
    トリウム塩；Ｎ−［［４−［５−メチル−３−フェニル
    イソキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ア
    セトアミド、カリウム塩；Ｎ−［［４−［５−（４−ク
    ロロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−
    ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］プロパ
    ンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［５−（４−ク
    ロロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−
    ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］ブタン
    アミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［５−（４−クロ
    ロフェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピ
    ラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトア
    ミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロ
    メチル）−６−フルオロ−１，５−ジヒドロ−７−メト
    キシ−［２］ベンゾチオピラノ［４，３−ｃ］ピラゾー
    ル−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド、
    ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［６−フルオロ−１，５−
    ジヒドロ−７−メトキシ−３−（トリフルオロメチル）
    −［２］ベンゾチオピラノ［４，３−ｃ］ピラゾール−
    １−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド、ナト
    リウム塩；Ｎ−［［４−［３−（ジフルオロメチル）−
    ５−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−１Ｈ−
    ピラゾール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセト
    アミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（２−メチル−４
    −フェニルオキサゾール−５−イル］フェニル］スルホ
    ニル］アセトアミド、ナトリウム塩；［［［４−（５−
    メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フ
    ェニル］スルホニル］アミノ］オキソ酢酸メチル、ナト
    リウム塩；２−メトキシ−Ｎ−［［４−（５−メチル−
    ３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］
    スルホニル］アセトアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４
    −［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニルイソオキ
    サゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］プロパン
    アミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［５−（ジフルオ
    ロメチル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
    ル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド、ナトリウム
    塩；４−［［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
    キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］アミ
    ノ］−４−オキソブタン酸、ナトリウム塩；Ｎ−［［４
    −（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−
    イル）フェニル］スルホニル］ホルムアミド、ナトリウ
    ム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオ
    キサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］カルバ
    ミン酸１，１−ジメチルエチル、ナトリウム塩；Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
    −４−イル）フェニル］スルホニル］グリシン、ナトリ
    ウム塩；２−アミノ−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−
    フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スル
    ホニル］アセトアミド、ナトリウム塩；２−（アセチル
    アミノ）−Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイ
    ソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニル］ア
    セトアミド、ナトリウム塩；４−［［［４−（５−メチ
    ル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
    ル］スルホニル］アミノ］−４−オキソブタン酸メチ
    ル、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フ
    ェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホ
    ニル］カルバミン酸メチル、ナトリウム塩；Ｎ−［［４
    −［５−ヒドロキシメチル−３−フェニルイソオキサゾ
    ール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
    ド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［５−（４−メチルフ
    ェニル）−３−（トリフルオロメチル）−１Ｈ−ピラゾ
    ール−１−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミ
    ド、ナトリウム塩；３−［［［４−（５−メチル−３−
    フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スル
    ホニル］アミノ］−３−オキソプロパン酸メチル、ナト
    リウム塩；Ｎ−［［４−［５−（ヒドロキシメチル）−
    ３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］
    スルホニル］アセトアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４
    −［５−（アセトキシメチル）−３−フェニルイソオキ
    サゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］アセトア
    ミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−［３，４−ジメチル
    −１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル］フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−
    ［［４−［２−（２−メチルピリジン−３−イル）−４
    −トリフルオロメチルイミダゾール−１−イル］フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−
    ［［４−［２−（３−クロロ−４−フルオロフェニル）
    シクロペンテン−１−イル］フェニル］スルホニル］ア
    セトアミド、ナトリウム塩；およびＮ−［［４−（３−
    フェニル−２，３−ジヒドロ−２−オキソフラン−４−
    イル）フェニル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリ
    ウム塩。
  13. 【請求項１３】 式ＩＩＩ 【化３】 （式中、Ｒ６は、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ１０−アルキ
    ル、カルボキシル、ハロ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−
    アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキ
    ル、アリール−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ１０
    −アルコキシアルキル、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシアル
    キルオキシアルキル、アリール−Ｃ１−Ｃ１ ０−アルコ
    キシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、Ｃ１−Ｃ６
    −ヒドロキシルアルキル、アリール−Ｃ１−Ｃ６−（ヒ
    ドロキシルアルキル）、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキルスル
    ホニルオキシ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシ
    アルキル、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキルアルキル、およ
    びＣ３−Ｃ８−シクロアルキルから選択され；Ｒ７は、
    ヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロ
    アルキル、シアノ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルコ
    キシカルボニル、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキ
    シアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、アミノ、Ｃ
    １−Ｃ ６−アルキルアミノ、フェニルアミノ、ニトロ、
    Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アル
    キルスルフィニル、ハロ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、お
    よびＣ１−Ｃ６−アルキルチオから選択される１つまた
    はそれ以上の基であり；Ｒ８は、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ
    １０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ
    １０−アルコキシアルキル、フェニル、カルボキシ−Ｃ
    １−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボ
    ニルアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ア
    ミノ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキ
    シカルボニルアミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−ア
    ルキルカルボニルアミノアルキルから選択され；ただ
    し、Ｒ７がヒドリドでありＲ８がエチルである時、Ｒ６
    はメチルではない）の化合物；または、その薬剤学的に
    許容される塩。
  14. 【請求項１４】 請求の範囲第１３項に記載の化合物で
    あって、Ｒ６は、Ｃ １−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６
    −ハロアルキル、およびＣ１−Ｃ６−ヒドロキシルアル
    キルから選択され；Ｒ７は、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−
    アルキル、ハロ、およびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選
    択される１つまたはそれ以上の基であり；および、Ｒ８
    は、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、フェニル、およびアミノ
    −Ｃ１−Ｃ１０−アルキルから選択される、上記化合
    物；または、その薬剤学的に許容される塩。
  15. 【請求項１５】 請求の範囲第１４項に記載の化合物で
    あって、Ｒ６は、メチル、ジフルオロメチル、およびヒ
    ドロキシメチルから選択され；Ｒ７は、ヒドリド、メチ
    ル、フルオロ、クロロ、ブロモ、およびメトキシから選
    択される１つまたはそれ以上の基であり；Ｒ８は、メチ
    ル、エチル、イソプロピル、プロピル、ｔｅｒｔ−ブチ
    ル、ブチル、ペンチル、フェニル、およびアミノメチル
    から選択される、上記化合物；または、その薬剤学的に
    許容される塩。
  16. 【請求項１６】 以下の群の化合物およびその薬剤学的
    に許容される塩から選択される、請求の範囲第１５項に
    記載の化合物：Ｎ−［［４−［３−（３−フルオロフェ
    ニル）−５−メチルイソオキサゾール−４−イル］フェ
    ニル］スルホニル］アセトアミド；２−メチル−Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
    −４−イル）フェニル］スルホニル］プロパンアミド；
    Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾ
    ール−４−イル）フェニル］スルホニル］ベンズアミ
    ド；２，２−ジメチル−Ｎ−［［４−（５−メチル−３
    −フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］ス
    ルホニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−（５−メチル
    −３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
    ル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−［［４−（５−メ
    チル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェ
    ニル］スルホニル］ペンタンアミド；Ｎ−［［４−（５
    −メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）
    フェニル］スルホニル］ヘキサンアミド；Ｎ−［［４−
    ［５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
    ル］フェニル］スルホニル］アセトアミド；Ｎ−［［４
    −（５−ヒドロキシメチル−３−フェニルイソオキサゾ
    ール−４−イル］フェニル］スルホニル］プロパンアミ
    ド；Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメチル）−３−フ
    ェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホ
    ニル］プロパンアミド；Ｎ−［［４−［５−（ジフルオ
    ロメチル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イ
    ル］フェニル］スルホニル］ブタンアミド；Ｎ−［［４
    −（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−
    イル）フェニル］スルホニル］グリシン；およびＮ−
    ［［４−［５−（ヒドロキシメチル）−３−フェニルイ
    ソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］ア
    セトアミド。
  17. 【請求項１７】 薬剤学的に許容される塩は、アルカリ
    金属塩およびアルカリ土類金属塩から選択される、請求
    の範囲第１３項に記載の化合物。
  18. 【請求項１８】 薬剤学的に許容される塩は、ナトリウ
    ム塩およびカリウム塩から選択される、請求の範囲第１
    ７項に記載の化合物。
  19. 【請求項１９】 以下の群の化合物およびその薬剤学的
    に許容される塩から選択される、請求の範囲第１８項に
    記載の化合物：Ｎ−［［４−［５−メチル−３−フェニ
    ルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホニ
    ル］アセトアミド、カリウム塩；Ｎ−［［４−［３−
    （３−フルオロフェニル）−５−メチルイソオキサゾー
    ル−４−イル］フェニル］スルホニル］アセトアミド、
    ナトリウム塩；２−メチル−Ｎ−［［４−（５−メチル
    −３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
    −４−イル）フェニル］スルホニル］ベンズアミド、ナ
    トリウム塩；２，２−ジメチル−Ｎ−［［４−（５−メ
    チル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）フェ
    ニル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ
    −［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾー
    ル−４−イル）フェニル］スルホニル］ブタンアミド、
    ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−メチル−３−フェニ
    ルイソオキサゾール−４−イル）フェニル］スルホニ
    ル］ペンタンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５
    −メチル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル）
    フェニル］スルホニル］ヘキサンアミド、ナトリウム
    塩；Ｎ−［［４−［５−（ジフルオロメチル）−３−フ
    ェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニル］スルホ
    ニル］プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−
    ［５−（ジフルオロメチル）−３−フェニルイソオキサ
    ゾール−４−イル］フェニル］スルホニル］ブタンアミ
    ド、ナトリウム塩；Ｎ−［［４−（５−ヒドロキシメチ
    ル−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェニ
    ル］スルホニル］プロパンアミド、ナトリウム塩；Ｎ−
    ［［４−（５−メチル−３−フェニルイソオキサゾール
    −４−イル）フェニル］スルホニル］グリシン、ナトリ
    ウム塩；およびＮ−［［４−［５−（ヒドロキシメチ
    ル）−３−フェニルイソオキサゾール−４−イル］フェ
    ニル］スルホニル］アセトアミド、ナトリウム塩。
  20. 【請求項２０】 治療上有効量の化合物を含んでなる薬
    剤組成物であって、化合物は請求の範囲第１項に記載の
    化合物（Ｒ３がアルキルまたはシクロアルキルである
    時、Ａはテトラゾリウムであるかまたはインダンである
    ものを含む）の群から選択されるか；または、請求の範
    囲第２〜１９項のいずれか１項に記載の化合物から選択
    される、上記組成物。
  21. 【請求項２１】 式ＩＩ 【化４】 （式中、Ａは、部分的に不飽和のヘテロシクリル、５−
    または６−員環のヘテロアリール、Ｃ３−Ｃ８−シクロ
    アルケニル、およびフェニルから選択される環置換基で
    あり；Ａは、アシル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ１０
    −アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、オキソ、シア
    ノ、ニトロ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、
    アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニ
    ル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ
    １０−シアノアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルオキシアルキ
    ル、およびフェニルから選択される１つまたはそれ以上
    の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ４は、ヘテ
    ロシクリル、シクロアルキル、シクロアルケニル、およ
    びフェニルから選択され、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、シアノ、カルボキシ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ヒドロキシ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハ
    ロアルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、
    フェニルアミノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルフィニル、ハロ、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシおよびＣ１−Ｃ６−アルキルチオ
    から選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な
    位置で随時置換され；およびＲ５は、ヒドリド、Ｃ１−
    Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ
    １０−アルコキシアルキル、フェニル、アリール−Ｃ１
    −Ｃ１０−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ
    １０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルア
    ミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニ
    ルアミノアルキルから選択され；さらにただし、Ｒ４が
    ４−フルオロフェニルである時、およびＲ５がメチルで
    ある時、Ａはチエニルではない；ならびにＲ５がエチル
    である時、Ａ−Ｒ４は３−フェニル−５−メチルイソキ
    サゾール−４−イルではない）の化合物；または、その
    薬剤学的に許容される塩の製造方法であって、 塩基および溶媒の存在下で非置換スルホンアミドをアシ
    ル化剤で処理することを特徴とする、上記方法。
  22. 【請求項２２】 アシル化剤は、無水物、酸塩化物、ア
    シル、イミダゾール、および活性エステルから選択され
    る、請求の範囲第２１項に記載の方法。
  23. 【請求項２３】 アシル化剤は、無水酢酸、無水プロピ
    オン酸、および無水酪酸から選択される、請求の範囲第
    ２２項に記載の方法。
  24. 【請求項２４】 溶媒はテトラヒドロフランである、請
    求の範囲第２１項に記載の方法。
  25. 【請求項２５】 式III 【化５】 （式中、Ｒ６は、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ１０−アルキ
    ル、カルボキシル、ハロ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−
    アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキ
    ル、アリール−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ１０
    −アルコキシアルキル、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシアル
    キルオキシアルキル、アリール−Ｃ１−Ｃ１ ０−アルコ
    キシアルキル、ハロ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−
    Ｃ６−ヒドロキシルアルキル、アリール−Ｃ１−Ｃ６−
    （ヒドロキシルアルキル）、Ｃ１−Ｃ ６−ハロアルキル
    スルホニルオキシ、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アルコ
    キシアルキル、Ｃ３−Ｃ８−シクロアルキルアルキル、
    およびＣ３−Ｃ８−シクロアルキルから選択され；Ｒ７
    は、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−
    ハロアルキル、シアノ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ６−ア
    ルコキシカルボニル、ヒドロキシル、Ｃ１−Ｃ６−ヒド
    ロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルコキシ、アミ
    ノ、Ｃ１−Ｃ ６−アルキルアミノ、フェニルアミノ、ニ
    トロ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６
    −アルキルスルフィニル、ハロ、Ｃ１−Ｃ６−アルコキ
    シ、およびＣ１−Ｃ６−アルキルチオから選択される１
    つまたはそれ以上の基であり；Ｒ８は、ヒドリド、Ｃ１
    −Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−
    Ｃ１０−アルコキシアルキル、フェニル、カルボキシ−
    Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカル
    ボニルアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、
    アミノ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコ
    キシカルボニルアミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−
    アルキルカルボニルアミノアルキルから選択され；ただ
    し、Ｒ７がヒドリドでありＲ８がエチルである時、Ｒ６
    はメチルではない）の化合物；または、その薬剤学的に
    許容される塩、の製造方法であって、塩基および溶媒の
    存在下で非置換イソオキサゾリルベンゼンスルホンアミ
    ドをアシル化剤で処理することを特徴とする、上記方
    法。
  26. 【請求項２６】 式II 【化６】 （式中、Ａは、部分的に不飽和のヘテロシクリル、５−
    または６−員環のヘテロアリール、Ｃ４−Ｃ８−シクロ
    アルケニル、およびフェニルから選択される環置換基で
    あり；Ａは、アシル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ１０
    −アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、オキソ、シア
    ノ、ニトロ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、
    アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニ
    ル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ
    １０−シアノアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルオキシアルキ
    ル、およびフェニルから選択される１つまたはそれ以上
    の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ４は、ヘテ
    ロシクリル、シクロアルキル、シクロアルケニル、およ
    びフェニルから選択され、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、シアノ、カルボキシ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ヒドロキシ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハ
    ロアルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、
    フェニルアミノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルフィニル、ハロ、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシおよびＣ１−Ｃ６−アルキルチオ
    から選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な
    位置で随時置換され；およびＲ５は、ヒドリド、Ｃ１−
    Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ
    １０−アルコキシアルキル、フェニル、アリール−Ｃ１
    −Ｃ１０−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ
    １０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルア
    ミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニ
    ルアミノアルキルから選択され；ただし、Ｒ５がエチル
    である時、Ａ−Ｒ４は３−フェニル−５−メチルイソキ
    サゾール−４−イルではない）の化合物の薬剤学的に許
    容される塩の製造方法であって、３級アミン塩基の存在
    下で、非置換スルホンアミドを過剰の無水物、酸塩化物
    または塩化カルバミルで処理して、ビス（Ｎ−アシル
    化）スルホンアミドを形成させ、このビス（Ｎ−アシル
    化）スルホンアミドを約２当量の強塩基で処理して塩を
    得ることを特徴とする、上記方法。
  27. 【請求項２７】 式 【化７】 （式中、Ａは、部分的に不飽和のヘテロシクリル、５−
    または６−員環のヘテロアリール、Ｃ４−Ｃ８−シクロ
    アルケニル、およびフェニルから選択される環置換基で
    あり；Ａは、アシル、ハロ、ヒドロキシ、Ｃ１−Ｃ１０
    −アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、オキソ、シア
    ノ、ニトロ、カルボキシル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、
    アミノカルボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニ
    ル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ
    １０−シアノアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルオキシアルキ
    ル、およびフェニルから選択される１つまたはそれ以上
    の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ４は、ヘテ
    ロシクリル、シクロアルキル、シクロアルケニル、およ
    びフェニルから選択され、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、シアノ、カルボキシ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、ヒドロキシ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハ
    ロアルコキシ、アミノ、Ｃ１−Ｃ６−アルキルアミノ、
    フェニルアミノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルキルスルフィニル、ハロ、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシおよびＣ１−Ｃ６−アルキルチオ
    から選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な
    位置で随時置換され；およびＲ５は、ヒドリド、Ｃ１−
    Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ
    １０−アルコキシアルキル、フェニル、アリール−Ｃ１
    −Ｃ１０−アルキル、カルボキシ−Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシカルボニル、アミノ−Ｃ１−Ｃ
    １０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルア
    ミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニ
    ルアミノアルキルから選択される；さらにただし、Ｒ４
    が４−フルオロフェニルであり、Ｒ５がメチルである
    時、Ａはチエニルではない；ならびにＲ５がエチルであ
    る時、Ａ−Ｒ４は３−フェニル−５−メチルイソキサゾ
    ール−４−イルではない）の化合物；または、その薬剤
    学的に許容される塩の製造方法であって、酸の存在下
    で、非置換スルホンアミドをアシル化剤で処理すること
    を特徴とする、上記方法。
  28. 【請求項２８】 アシル化剤は、無水物と酸塩化物から
    選択される、請求の範囲第２７項に記載の方法。
  29. 【請求項２９】 アシル化剤は、塩化アセチル、無水酢
    酸、無水プロピオン酸および無水酪酸から選択される、
    請求の範囲第２８項に記載の方法。
  30. 【請求項３０】 Ａは、オキサゾリル、フリル、チアゾ
    リル、イミダゾリル、ベンゾフリル、インデニル、ベン
    ゾチエニル、イソオキサゾリル、ピラゾリル、シクロペ
    ンテニル、シクロペンタジエニル、ベンズインダゾリ
    ル、ベンゾピラノピラゾリル、フェニル、およびピリジ
    ルから選択される、請求の範囲第２７項に記載の方法。
  31. 【請求項３１】 Ａは、イミダゾリル、イソオキサゾリ
    ル、およびピラゾリルから選択される、請求の範囲第３
    ０項に記載の方法。
  32. 【請求項３２】 炎症または炎症関連疾患の治療用の薬
    剤を製造するための、Ａはテトラゾリウムであるかまた
    はピリジニウムであるもの；またはＲ３がアルキルもし
    くはカルボキシアルキルである時、インダノンであるも
    のを含む請求の範囲第１項に記載の化合物；または請求
    の範囲第１〜１９項までのいずれか１項に記載の化合物
    の使用。
  33. 【請求項３３】 症状は炎症である、請求の範囲第３２
    項に記載の使用。
  34. 【請求項３４】 症状は炎症関連疾患である、請求の範
    囲第３２項に記載の使用。
  35. 【請求項３５】 炎症関連疾患は疼痛である、請求の範
    囲第３４項に記載の使用。
  36. 【請求項３６】 疼痛は癌が関係している、請求の範囲
    第３５項に記載の使用。
  37. 【請求項３７】 疼痛は歯痛である、請求の範囲第３５
    項に記載の使用。
  38. 【請求項３８】 化合物は静脈内投与される、請求の範
    囲第３５項に記載の使用。
  39. 【請求項３９】 化合物は筋肉内投与される、請求の範
    囲第３５項に記載の使用。
  40. 【請求項４０】 式Ｉ 【化８】 （式中、Ａは、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルケニル、フリ
    ル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、
    ピラゾリルおよびピロリルから選択される環置換基であ
    り；Ａは、アルキル、ハロアルキル、オキソおよびヒド
    ロキシアルキルから選択される１つまたはそれ以上の基
    で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ1は、ピリジル
    およびフェニルから選択される基であり、Ｒ1は、アル
    キル、ハロおよびアルコキシから選択される１つまたは
    それ以上の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ2
    は、ヒドリドであり；およびＲ3は、アルキル、カルボ
    キシアルキル、アシル、アルコキシカルボニル、アルコ
    キシカルボニルアルキルカルボニル、アルコキシカルボ
    ニルカルボニル、アミノ酸残基、およびアルキルカルボ
    ニルアミノアルキルカルボニルから選択される基であ
    る；ただし、Ｒ２およびＲ３のうちのいずれか１つがＨ
    であり、他方がプロピオニルである時、Ａ−Ｒ１は３−
    フェニル−５−メチルイソキサゾール−４−イルではな
    い）の化合物；または、その薬剤学的に許容される塩。
  41. 【請求項４１】 請求の範囲第４０項に記載の化合物で
    あって、Ａは、シクロペンテニル、フリル、イミダゾリ
    ル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、ピラゾリル、お
    よびピロリルから選択される環置換基であり、Ａは、Ｃ
    １−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロアルキル、オ
    キソ、およびＣ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキルから選択
    される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な位置で随
    時置換され；Ｒ１は、ピリジルおよびフェニルから選択
    される基であり、Ｒ１は、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、ハ
    ロ、およびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選択される１つ
    またはそれ以上の基で、置換可能な位置で随時置換さ
    れ；Ｒ２はヒドリドであり；Ｒ３は、Ｃ１−Ｃ１０−ア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ１０−カルボキシアルキル、ホルミ
    ル、Ｃ１−Ｃ１０−アルキルカルボニル、フェニルカル
    ボニル、アミノ酸残基、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボ
    ニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキルカル
    ボニル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルカルボニ
    ル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルアミノア
    ルキルカルボニルから選択される基である、上記化合
    物；または、その薬剤学的に許容される塩。
  42. 【請求項４２】 請求の範囲第４１項に記載の化合物で
    あって、Ａは、シクロペンテニル、フリル、イミダゾリ
    ル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、ピラゾリル、お
    よびピロリルから選択される環置換基であり、Ａは、メ
    チル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、オキ
    ソ、およびヒドロキシメチルから選択される１つまたは
    それ以上の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ１
    は、ピリジルおよびフェニルから選択される基であり、
    Ｒ1は、メチル、フルオロ、クロロ、およびメトキシか
    ら選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な位
    置で随時置換され；Ｒ２はヒドリドであり；Ｒ３は、メ
    チル、カルボキシメチル、ホルミル、メチルカルボニ
    ル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロ
    ピルカルボニル、ブチルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチル
    カルボニル、ペンチルカルボニル、フェニルカルボニ
    ル、メトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニ
    ル、メトキシカルボニルメチルカルボニル、メトキシカ
    ルボニルエチルカルボニル、メトキシカルボニルカルボ
    ニル、およびメチルカルボニルアミノメチルカルボニル
    から選択される基である、上記化合物；または、その薬
    剤学的に許容される塩。
  43. 【請求項４３】 式II 【化９】 （式中、Ａは、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルケニル、フリ
    ル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、
    ピラゾリルおよびピロリルから選択される環置換基であ
    り；Ａは、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロ
    アルキル、オキソ、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、
    およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルオキシアルキ
    ルから選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能
    な位置で随時置換され；Ｒ４は、ピリジルおよびフェニ
    ルから選択される基であり、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ １０−ア
    ルキル、ハロおよびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選択さ
    れる１つまたはそれ以上の基で、置換可能な位置で随時
    置換され；およびＲ５は、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−ア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ１０−アル
    コキシアルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ１０−カルボキシ
    アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ１０
    −アミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカル
    ボニルアミノアルキルから選択される基である；ただ
    し、Ｒ５がエチルである時、Ａ−Ｒ４は３−フェニル−
    ５−メチルイソキサゾール−４−イルではない）の化合
    物；または、その薬剤学的に許容される塩。
  44. 【請求項４４】 請求の範囲第４３項に記載の化合物で
    あって、Ａは、シクロペンテニル、フリル、イミダゾリ
    ル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、ピラゾリル、お
    よびピロリルから選択される環置換基であり、Ａは、Ｃ
    １−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル、オキ
    ソ、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、およびＣ１−Ｃ
    １０−アルキルカルボニルオキシアルキルから選択され
    る１つまたはそれ以上の基で、置換可能な位置で随時置
    換され；Ｒ４は、ピリジルおよびフェニルから選択され
    る基であり、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、ハロ、
    およびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選択される１つ以上
    の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ５はヒドリ
    ド、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキ
    シ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシアルキル、フェニル、Ｃ
    １−Ｃ１０−カルボキシアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコ
    キシカルボニルアルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカル
    ボニル、Ｃ１−Ｃ１０−アミノアルキル、およびＣ１−
    Ｃ１０−アルキルカルボニルアミノアルキルから選択さ
    れる基である、上記化合物；または、その薬剤学的に許
    容される塩。
  45. 【請求項４５】 請求の範囲第４４項に記載の化合物で
    あって、Ａは、シクロペンテニル、フリル、イミダゾリ
    ル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、ピラゾリル、お
    よびピロリルから選択される環置換基であり、Ａは、メ
    チル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、オキ
    ソ、ヒドロキシメチル、およびメチルカルボニルオキシ
    メチルから選択される１つまたはそれ以上の基で、置換
    可能な位置で随時置換され；Ｒ４は、ピリジルおよびフ
    ェニルから選択される基であり、Ｒ４は、メチル、フル
    オロ、クロロ、およびメトキシから選択される１つ以上
    の基で、置換可能な位置で随時置換され；Ｒ５はヒドリ
    ド、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒ
    ｔ−ブチル、ペンチル、メトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキ
    シ、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチ
    ル、フェニル、カルボキシエチル、メトキシカルボニル
    メチル、メトキシカルボニルエチル、メトキシカルボニ
    ル、アミノメチル、およびメチルカルボニルアミノメチ
    ルから選択される基である、上記化合物；または、その
    薬剤学的に許容される塩。
  46. 【請求項４６】 式III 【化１０】 （式中、Ｒ６は、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６
    −ハロアルキル、およびＣ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキ
    ルから選択される基であり；Ｒ７は、Ｃ１−Ｃ１０−ア
    ルキル、ハロおよびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選択さ
    れる基であり；Ｒ８は、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコ
    キシアルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ１０−カルボキシア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、
    Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ１０−ア
    ミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニ
    ルアミノアルキルから選択される基である；ただし、Ｒ
    ７がヒドリドでありＲ８がエチルである時、Ｒ６はメチ
    ルではない）の化合物；または、その薬剤学的に許容さ
    れる塩。
  47. 【請求項４７】 請求の範囲第４６項に記載の化合物で
    あって、Ｒ６は、メチル、ジフルオロメチル、トリフル
    オロメチル、およびヒドロキシメチルから選択される基
    であり；Ｒ７は、フルオロおよびクロロから選択される
    基であり；Ｒ ８は、ヒドリド、メチル、エチル、プロピ
    ル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチ
    ル、メトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、メトキシメチル、
    メトキシエチル、エトキシメチル、フェニル、カルボキ
    シエチル、メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボ
    ニルエチル、メトキシカルボニル、アミノメチル、およ
    びメチルカルボニルアミノメチルから選択される基であ
    る、上記化合物；または、その薬剤学的に許容される
    塩。
  48. 【請求項４８】 式II 【化１１】 （式中、Ａは、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルケニル、フリ
    ル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、
    ピラゾリルおよびピロリルから選択される環置換基であ
    り；Ａは、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロ
    アルキル、オキソ、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、
    およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルオキシアルキ
    ルから選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能
    な位置で随時置換され；Ｒ４は、ピリジルおよびフェニ
    ルから選択される基であり、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ １０−ア
    ルキル、ハロ、およびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選択
    される１つまたはそれ以上の基で、置換可能な位置で随
    時置換され；Ｒ５はヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−アルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキ
    シアルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ１０−カルボキシアル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ
    １−Ｃ６−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ１０−アミ
    ノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニル
    アミノアルキルから選択される基である；ただし、Ｒ５
    がエチルである時、Ａ−Ｒ４は３−フェニル−５−メチ
    ルイソキサゾール−４−イルではない）の化合物；また
    は、その薬剤学的に許容される塩の製造方法であって；
    塩基および溶媒の存在下で、非置換スルホンアミドをア
    シル化剤で処理することを特徴とする、上記方法。
  49. 【請求項４９】 式III 【化１２】 （式中、Ｒ６は、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６
    −ハロアルキル、およびＣ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキ
    ルから選択される基であり；Ｒ７は、Ｃ１−Ｃ１０−ア
    ルキル、ハロおよびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選択さ
    れる基であり；Ｒ８は、ヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−アル
    キル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコ
    キシアルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ１０−カルボキシア
    ルキル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、
    Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ１０−ア
    ミノアルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニ
    ルアミノアルキルから選択される基である）の化合物；
    または、その薬剤学的に許容される塩の製造方法であっ
    て；塩基および溶媒の存在下で、非置換イソオキサゾリ
    ルベンゼンスルホンアミドをアシル化剤で処理すること
    を特徴とする、上記方法。
  50. 【請求項５０】 式II 【化１３】 （式中、Ａは、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルケニル、フリ
    ル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、
    ピラゾリルおよびピロリルから選択される環置換基であ
    り、Ａは、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロ
    アルキル、オキソ、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、
    およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルオキシアルキ
    ルから選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能
    な位置で随時置換され；Ｒ４は、ピリジルおよびフェニ
    ルから選択される基であり、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ １０−ア
    ルキル、ハロ、およびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選択
    される１つ以上の基で、置換可能な位置で随時置換さ
    れ；およびＲ５はヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、
    Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシア
    ルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ１０−カルボキシアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ１
    −Ｃ６−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ１０−アミノ
    アルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルア
    ミノアルキルから選択される基である；ただし、Ｒ５が
    エチルである時、Ａ−Ｒ４は３−フェニル−５−メチル
    イソキサゾール−４−イルではない）の化合物；また
    は、その薬剤学的に許容される塩の製造方法であって；
    ３級アミン塩基の存在下で、非置換スルホンアミドを過
    剰の無水物、酸塩化物または塩化カルバミルで処理し
    て、ビス（Ｎ−アシル化）スルホンアミドを形成させ、
    このビス（Ｎ−アシル化）スルホンアミドを約２当量の
    強塩基で処理して塩を得ることを特徴とする、上記方
    法。
  51. 【請求項５１】 式II 【化１４】 （式中、Ａは、Ｃ４−Ｃ８−シクロアルケニル、フリ
    ル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、
    ピラゾリルおよびピロリルから選択される環置換基であ
    り、Ａは、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、Ｃ１−Ｃ６−ハロ
    アルキル、オキソ、Ｃ１−Ｃ６−ヒドロキシアルキル、
    およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルオキシアルキ
    ルから選択される１つまたはそれ以上の基で、置換可能
    な位置で随時置換され；Ｒ４は、ピリジルおよびフェニ
    ルから選択される基であり、Ｒ４は、Ｃ１−Ｃ １０−ア
    ルキル、ハロ、およびＣ１−Ｃ６−アルコキシから選択
    される１つ以上の基で、置換可能な位置で随時置換さ
    れ；およびＲ５はヒドリド、Ｃ１−Ｃ１０−アルキル、
    Ｃ１−Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１−Ｃ１０−アルコキシア
    ルキル、フェニル、Ｃ１−Ｃ１０−カルボキシアルキ
    ル、Ｃ１−Ｃ６−アルコキシカルボニルアルキル、Ｃ１
    −Ｃ６−アルコキシカルボニル、Ｃ１−Ｃ１０−アミノ
    アルキル、およびＣ１−Ｃ１０−アルキルカルボニルア
    ミノアルキルから選択される基である；ただし、Ｒ５が
    エチルである時、Ａ−Ｒ４は３−フェニル−５−メチル
    イソキサゾール−４−イルではない）の化合物；また
    は、その薬剤学的に許容される塩の製造方法であって、 酸の存在下で、非置換スルホンアミドをアシル化剤で処
    理することを特徴とする、上記方法。
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UA (1) UA47475C2 (ja)
WO (1) WO1997038986A1 (ja)
ZA (1) ZA973146B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010195745A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Toray Ind Inc γ−ケトアセタール化合物及びピロール誘導体の製造方法

Families Citing this family (284)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996038418A1 (en) 1995-06-02 1996-12-05 G.D. Searle & Co. Heterocyclo substituted hydroxamic acid derivatives as cyclooxygenase-2 and 5-lipoxygenase inhibitors
US5908858A (en) 1996-04-05 1999-06-01 Sankyo Company, Limited 1,2-diphenylpyrrole derivatives, their preparation and their therapeutic uses
DK0892791T3 (da) * 1996-04-12 2003-06-23 Searle & Co N-[[4-(5-methyl-3-phenylisoxazol-4-yl]-phenyl]-sulfonylpropylamid og dets natriumsalt som prodrugs for COX-2-inhibitorer
US6586458B1 (en) 1996-08-16 2003-07-01 Pozen Inc. Methods of treating headaches using 5-HT agonists in combination with long-acting NSAIDs
US8022095B2 (en) 1996-08-16 2011-09-20 Pozen, Inc. Methods of treating headaches using 5-HT agonists in combination with long-acting NSAIDs
ES2185154T3 (es) * 1997-04-03 2003-04-16 Searle & Co Metodo de uso de inhibidores de la ciclooxigenasa-2 en el tratamiento y prevencion de la demencia.
US20040072889A1 (en) * 1997-04-21 2004-04-15 Pharmacia Corporation Method of using a COX-2 inhibitor and an alkylating-type antineoplastic agent as a combination therapy in the treatment of neoplasia
RS49982B (sr) 1997-09-17 2008-09-29 Euro-Celtique S.A., Sinergistička analgetička kombinacija analgetičkog opijata i inhibitora ciklooksigenaze-2
US6887893B1 (en) 1997-12-24 2005-05-03 Sankyo Company, Limited Methods and compositions for treatment and prevention of tumors, tumor-related disorders and cachexia
CA2322824A1 (en) * 1998-03-13 1999-09-16 Merck & Co., Inc. Combination therapy and composition for acute coronary ischemic syndrome and related conditions
US6136804A (en) * 1998-03-13 2000-10-24 Merck & Co., Inc. Combination therapy for treating, preventing, or reducing the risks associated with acute coronary ischemic syndrome and related conditions
AU4428899A (en) 1998-06-08 1999-12-30 Advanced Medicine, Inc. Multibinding inhibitors of cyclooxygenase-2
AR024222A1 (es) * 1998-10-16 2002-09-25 Palau Pharma Sa Imidazoles con actividad antiinflamatoria un procedimiento para su preparacion y composiciones farmaceuticas que lo contienen
DE69922688T2 (de) * 1998-11-02 2005-12-01 Merck & Co. Inc. Zusammensetzungen aus einem 5ht1b/1d agonisten und einem selektiven cox-2 hemmer zur behandlung von migräne
AU1398899A (en) * 1998-11-12 2000-06-05 Algos Pharmaceutical Corporation Cox-2 inhibitors in combination with centrally acting analgesics
US20040122011A1 (en) * 1998-12-23 2004-06-24 Pharmacia Corporation Method of using a COX-2 inhibitor and a TACE inhibitors as a combination therapy
US6649645B1 (en) 1998-12-23 2003-11-18 Pharmacia Corporation Combination therapy of radiation and a COX-2 inhibitor for treatment of neoplasia
US20030013739A1 (en) * 1998-12-23 2003-01-16 Pharmacia Corporation Methods of using a combination of cyclooxygenase-2 selective inhibitors and thalidomide for the treatment of neoplasia
US20030119895A1 (en) * 1998-12-23 2003-06-26 Pharmacia Corporation Methods using a combination of a 3-heteroaryl-2-indolinone and a cyclooxygenase-2 inhibitor for the treatment of neoplasia
AU3596500A (en) * 1999-02-19 2000-09-04 Pozen, Inc. Formulation of 5-ht agonists with cox-2 inhibitors
US20010024664A1 (en) * 1999-03-19 2001-09-27 Obukowicz Mark G. Selective COX-2 inhibition from edible plant extracts
AU8026200A (en) 1999-10-19 2001-04-30 Board Of Regents, The University Of Texas System Treatment of heart disease with cox-2 inhibitors
EP1175214B1 (en) * 1999-12-08 2004-11-24 Pharmacia Corporation Cyclooxygenase-2 inhibitor compositions having rapid onset of therapeutic effect
US7220434B2 (en) * 1999-12-22 2007-05-22 Pharmacia Corporation (Of Pfizer, Inc.) Dual-release compositions of a cyclooxygenase-2 inhibitor
IL150368A0 (en) * 1999-12-23 2002-12-01 Nitromed Inc Nitrosated and nitrosylated cyclooxygenase-2-inhibitors, compositions and methods of use
IL151299A0 (en) 2000-02-16 2003-04-10 Brigham & Womens Hospital Aspirin-triggered lipid mediators
AU2001232175B2 (en) 2000-03-03 2005-07-07 Pfizer Products Inc. Pyrazole ether derivatives as anti-inflammatory/analgesic agents
US20070072861A1 (en) * 2000-03-27 2007-03-29 Barbara Roniker Method of using cyclooxygenase-2 inhibitors in the prevention of cardiovascular disorders
JP2003531201A (ja) * 2000-04-25 2003-10-21 ファルマシア・コーポレーション 炎症を治療するための２−フルオロベンゼンスルホニル化合物
ES2166710B1 (es) * 2000-04-25 2004-10-16 J. URIACH & CIA, S.A. Nuevos compuestos heterociclicos con actividad antiinflamatoria.
JP2004503601A (ja) * 2000-07-13 2004-02-05 ファルマシア・コーポレーション 眼のｃｏｘ−２媒介疾患の処置及び予防におけるｃｏｘ−２阻害剤の使用法
NZ524252A (en) 2000-07-20 2004-03-26 Lauras As Cox-2 inhibitors for treating HIV and AIDS
US20030219461A1 (en) * 2000-09-12 2003-11-27 Britten Nancy J. Parenteral combination therapy for infective conditions
AU2001295038A1 (en) * 2000-09-18 2002-03-26 Merck & Co., Inc. Treatment of inflammation with a combination of a cyclooxygenase-2 inhibitor and an integrin alpha-V antagonist
EP1578341A4 (en) * 2000-10-11 2005-09-28 Tularik Inc MODULATION OF THE CCR4 FUNCTION
US20020136784A1 (en) * 2000-12-15 2002-09-26 Pharmacia Corporation Selective COX-2 inhibition from plant extracts
JP2004517838A (ja) * 2000-12-15 2004-06-17 ファルマシア・コーポレーション 非食用植物抽出物による選択的ｃｏｘ−２阻害
US6706724B2 (en) 2000-12-21 2004-03-16 Nitromed, Inc. Substituted aryl compounds as novel cyclooxygenase-2 selective inhibitors, compositions and methods of use
US7115565B2 (en) * 2001-01-18 2006-10-03 Pharmacia & Upjohn Company Chemotherapeutic microemulsion compositions of paclitaxel with improved oral bioavailability
US20050143360A1 (en) * 2001-02-02 2005-06-30 Joel Krasnow Method of using a cyclooxygenase-2 inhibitor and sex steroids as a combination therapy for the treatment and prevention of dismenorrhea
AU2002306868A1 (en) * 2001-03-28 2002-10-15 Pharmacia Corporation Therapeutic combinations for cardiovascular and inflammatory indications
PE20021017A1 (es) * 2001-04-03 2002-11-24 Pharmacia Corp Composicion parenteral reconstituible
ITMI20010733A1 (it) 2001-04-05 2002-10-05 Recordati Chem Pharm Uso di inibitori dell'isoenzina cox-2 per il trattamento dell'incontinenza urinaria
US20030105144A1 (en) 2001-04-17 2003-06-05 Ping Gao Stabilized oral pharmaceutical composition
US6673818B2 (en) * 2001-04-20 2004-01-06 Pharmacia Corporation Fluoro-substituted benzenesulfonyl compounds for the treatment of inflammation
US7144903B2 (en) * 2001-05-23 2006-12-05 Amgen Inc. CCR4 antagonists
US20030153801A1 (en) * 2001-05-29 2003-08-14 Pharmacia Corporation Compositions of cyclooxygenase-2 selective inhibitors and radiation for inhibition or prevention of cardiovascular disease
JP2004532871A (ja) * 2001-05-31 2004-10-28 ファルマシア・コーポレーション 皮膚浸透性シクロオキシゲナーゼ−２選択的阻害組成物
US20060167074A1 (en) * 2001-06-19 2006-07-27 Norbert Muller Methods and compositions for the treatment of psychiatric disorders
DE10129320A1 (de) * 2001-06-19 2003-04-10 Norbert Mueller Verwendung von COX-2 Inhibitoren zur Behandlung von Schizophrenie, wahnhaften Störungen, affektiven Störungen oder Ticstörungen
UA80682C2 (en) * 2001-08-06 2007-10-25 Pharmacia Corp Orally deliverable stabilized oral suspension formulation and process for the incresaing physical stability of thixotropic pharmaceutical composition
US20040067992A1 (en) * 2001-08-10 2004-04-08 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a carbonic anhydrase inhibitor for the treatment of neoplasia
JP2005501083A (ja) * 2001-08-10 2005-01-13 ファルマシア・コーポレーション 炭酸脱水酵素阻害剤
US20030114416A1 (en) * 2001-08-14 2003-06-19 Pharmacia Corporation Method and compositions for the treatment and prevention of pain and inflammation with a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and chondroitin sulfate
US20050101563A1 (en) * 2001-08-14 2005-05-12 Pharmacia Corporation Method and compositions for the treatment and prevention of pain and inflammation
AR038957A1 (es) 2001-08-15 2005-02-02 Pharmacia Corp Terapia de combinacion para el tratamiento del cancer
US6777417B2 (en) * 2001-09-10 2004-08-17 Sugen, Inc. 3-(4,5,6,7-tetrahydroindol-2-ylmethylidiene-2-indolinone derivatives as kinase inhibitors
JP2005508320A (ja) * 2001-09-18 2005-03-31 オンコノバ・セラピューティックス・インコーポレーテッド １，５−ジアリール−３−置換ピラゾールの調製方法
AU2002330042A1 (en) 2001-09-18 2003-04-01 Onconova Therapeutics, Inc. Process for the preparation of 1,5-diarylpyrazoles
US20030236308A1 (en) * 2001-09-18 2003-12-25 Pharmacia Corporation Compositions of cyclooxygenase-2 selective inhibitors and acetaminophen for treatment and prevention of inflammation, inflammation-mediated disorders and pain
US20030114483A1 (en) * 2001-09-18 2003-06-19 Pharmacia Corporation Compositions of chromene cyclooxygenase-2 selective inhibitors and acetaminophen for treatment and prevention of inflammation, inflammation-mediated disorders and pain
CA2460939C (en) * 2001-09-19 2008-07-29 Pharmacia Corporation Substituted pyrazolyl compounds for the treatment of inflammation
IL161086A0 (en) * 2001-10-02 2004-08-31 Pharmacia Corp Method for preparing benzenesulfonyl compounds
AR037097A1 (es) 2001-10-05 2004-10-20 Novartis Ag Compuestos acilsulfonamidas, composiciones farmaceuticas y el uso de dichos compuestos para la preparacion de un medicamento
JP2005510479A (ja) * 2001-10-12 2005-04-21 オンコノバ・セラピューティックス・インコーポレーテッド 置換イソオキサゾールおよび置換２−イソオキサゾリンを調製する方法
US20030162824A1 (en) * 2001-11-12 2003-08-28 Krul Elaine S. Methods of treating or preventing a cardiovascular condition using a cyclooxygenase-1 inhibitor
JP2005509002A (ja) * 2001-11-13 2005-04-07 ファルマシア コーポレイション スルホンアミドプロドラックの経口剤形
ATE424388T1 (de) 2001-12-06 2009-03-15 Merck & Co Inc Mitotische kinesinhemmer
AU2002353147A1 (en) * 2001-12-13 2003-06-30 Abbott Laboratories 3-(phenyl-alkoxy)-5-(phenyl)-pyridine derivatives and related compounds as kinase inhibitors for the treatment of cancer
US20040126438A1 (en) * 2001-12-13 2004-07-01 Obukowicz Mark G. Selective cox-2 inhibition from plant extracts
US20040062823A1 (en) * 2001-12-13 2004-04-01 Obukowicz Mark G. Selective cox-2 inhibition from non-edible plant extracts
AU2003201811A1 (en) * 2002-01-10 2003-07-30 Pharmacia & Upjohn Company Use of cox-2 inhibitors in combination with antiviral agents for the treatment of papilloma virus infections
US20030212138A1 (en) * 2002-01-14 2003-11-13 Pharmacia Corporation Combinations of peroxisome proliferator-activated receptor-alpha agonists and cyclooxygenase-2 selective inhibitors and therapeutic uses therefor
US20030220374A1 (en) * 2002-01-14 2003-11-27 Pharmacia Corporation Compositions and methods of treatment involving peroxisome proliferator-activated receptor-gamma agonists and cyclooxygenase-2 selective inhibitors
TW200403072A (en) * 2002-01-23 2004-03-01 Upjohn Co Combination therapy for the treatment of bacterial infections
US7927613B2 (en) * 2002-02-15 2011-04-19 University Of South Florida Pharmaceutical co-crystal compositions
US7790905B2 (en) * 2002-02-15 2010-09-07 Mcneil-Ppc, Inc. Pharmaceutical propylene glycol solvate compositions
US20100311701A1 (en) * 2002-02-15 2010-12-09 Transform Pharmaceuticals, Inc Pharmaceutical Co-Crystal Compositions
EP1915992A1 (en) 2002-02-19 2008-04-30 Pharmacia Corporation Use of cyclooxygenase inhibitors and antimuscarinic agents for the treatment of incontinence
AU2003213719A1 (en) 2002-03-01 2003-09-16 Regents Of The University Of Michigan Multiple-component solid phases containing at least one active pharmaceutical ingredient
CN1642926A (zh) 2002-03-15 2005-07-20 法玛西雅公司 结晶帕瑞考昔钠
US7902257B2 (en) 2002-04-01 2011-03-08 University Of Southern California Trihydroxy polyunsaturated eicosanoid
US8481772B2 (en) 2002-04-01 2013-07-09 University Of Southern California Trihydroxy polyunsaturated eicosanoid derivatives
US7232821B2 (en) 2002-04-08 2007-06-19 Glaxo Group Limited (2-((2-alkoxy)-phenyl) -cyclopent-1enyl) aromatic carbo and heterocyclic acid and derivatives
MXPA04009352A (es) * 2002-04-18 2005-01-25 Pharmacia Corp Terapia de combinacion para el tratamiento de la enfermedad de parkinson con inhibidores de ciclooxigenasa-2 (cox2).
MXPA04010186A (es) * 2002-04-18 2005-02-03 Pharmacia Corp Monoterapia para el tratamiento de la enfermedad de parkinson con inhibidor (es) de la ciclooxigenasa-2 (cox 2).
WO2003095623A2 (en) * 2002-05-10 2003-11-20 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Genetically engineered cell lines and systems for propagating varicella zoster virus and methods of use thereof
MXPA05000232A (es) * 2002-06-21 2005-06-17 Transform Pharmaceuticals Inc Composiciones farmaceuticas con disolucion mejorada.
JP2005535644A (ja) * 2002-06-26 2005-11-24 ファルマシア コーポレイション 安定な非経口パレコキシブ液体製剤
WO2004002409A2 (en) 2002-06-27 2004-01-08 Nitromed, Inc. Cyclooxygenase-2 selective inhibitors, compositions and methods of use
AU2003279622A1 (en) 2002-06-28 2004-01-19 Nitromed, Inc. Oxime and/or hydrazone containing nitrosated and/or nitrosylated cyclooxigenase-2 selective inhibitors, compositions and methods of use
CA2491479A1 (en) * 2002-07-02 2004-01-15 Pharmacia Corporation Use of cyclooxygenase-2 selective inhibitors and thrombolytic agents for the treatment or prevention of a vaso-occlusive event
WO2004014835A2 (en) * 2002-08-12 2004-02-19 Brigham And Women's Hospital Resolvins: biotemplates for therapeutic interventions
US7759395B2 (en) * 2002-08-12 2010-07-20 The Brigham And Women's Hospital, Inc. Use of docosatrienes, resolvins and their stable analogs in the treatment of airway diseases and asthma
UY27939A1 (es) 2002-08-21 2004-03-31 Glaxo Group Ltd Compuestos
AU2003267231A1 (en) * 2002-09-20 2004-04-08 Transform Pharmaceuticals, Inc. Pharmaceutical compositions with improved dissolution
KR100484525B1 (ko) * 2002-10-15 2005-04-20 씨제이 주식회사 이소티아졸 유도체, 그 제조방법 및 약제학적 조성물
US20040082543A1 (en) * 2002-10-29 2004-04-29 Pharmacia Corporation Compositions of cyclooxygenase-2 selective inhibitors and NMDA receptor antagonists for the treatment or prevention of neuropathic pain
GB0225548D0 (en) 2002-11-01 2002-12-11 Glaxo Group Ltd Compounds
US20040092566A1 (en) * 2002-11-12 2004-05-13 Graneto Matthew J. Celecoxib prodrug
US20040147581A1 (en) * 2002-11-18 2004-07-29 Pharmacia Corporation Method of using a Cox-2 inhibitor and a 5-HT1A receptor modulator as a combination therapy
US20050020658A1 (en) * 2002-11-21 2005-01-27 Katsuyuki Inoo Selective cyclooxygenase-2 inhibitor patch
US20040127531A1 (en) * 2002-11-21 2004-07-01 Lu Guang Wei Adhesive coated sheet for dermal delivery of a selective cyclooxygenase-2 inhibitor
US20040126415A1 (en) * 2002-11-21 2004-07-01 Lu Guang Wei Dermal delivery of a water-soluble selective cyclooxygenase-2 inhibitor
PT1572173E (pt) 2002-12-13 2010-05-10 Warner Lambert Co Ligando alfa-2-delta para tratar sintomas do tracto urinário inferior
US20040235925A1 (en) * 2002-12-17 2004-11-25 Pharmacia Corporation Method for the treatment, prevention, or inhibition of a CNS disorder and/or pain and inflammation using a combination of duloxetine, venlafaxine or atomoxetine and a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and compositions thereof
US20040204411A1 (en) * 2002-12-17 2004-10-14 Pharmacia Corporation Method for the treatment, prevention, or inhibition of a CNS disorder and/or pain and inflammation using a combination of reboxetine and a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and compositions thereof
US20080153894A1 (en) * 2002-12-19 2008-06-26 Pharmacia Corporation Cyclooxygenase-2 inhibitor and antibacterial agent combination for intramammary treatment of mastitis
US20040157848A1 (en) * 2002-12-19 2004-08-12 Pharmacia Corporation Methods and compositions for the treatment of herpes virus infections using cyclooxygenase-2 selective inhibitors or cyclooxygenase-2 inhibitors in combination with antiviral agents
AU2003300264A1 (en) * 2002-12-20 2004-07-22 Pharmacia Corporation Compositions of cyclooxygenase-2 selective inhibitors and selective serotonin reuptake inhibitors for the treatment or prevention of a vaso-occlusive event
ES2215474B1 (es) * 2002-12-24 2005-12-16 J. URIACH & CIA S.A. Nuevos derivados de fosforamida.
WO2004060355A1 (en) 2002-12-26 2004-07-22 Pozen Inc. Multilayer Dosage Forms Containing NSAIDs and Triptans
US8183290B2 (en) 2002-12-30 2012-05-22 Mcneil-Ppc, Inc. Pharmaceutically acceptable propylene glycol solvate of naproxen
WO2004060367A1 (en) * 2002-12-30 2004-07-22 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Imidazole and triazole derivatives useful as selective cox-1 inhibitors
US20050026902A1 (en) * 2003-01-31 2005-02-03 Timothy Maziasz Methods and compositions for the treatment or prevention of human immunodeficiency virus and related conditions using cyclooxygenase-2 selective inhibitors and antiviral agents
US20040176378A1 (en) * 2003-02-12 2004-09-09 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and an amphetamine for the treatment of reduced blood flow to the central nervous system
WO2004078143A2 (en) * 2003-03-05 2004-09-16 The Brigham And Women's Hospital Inc. Methods for identification and uses of anti-inflammatory receptors for eicosapentaenoic acid analogs
US20050004098A1 (en) * 2003-03-20 2005-01-06 Britten Nancy Jean Dispersible formulation of an anti-inflammatory agent
US20040214753A1 (en) * 2003-03-20 2004-10-28 Britten Nancy Jean Dispersible pharmaceutical composition for treatment of mastitis and otic disorders
DK1608407T3 (da) * 2003-03-20 2006-12-04 Pharmacia Corp Dispergébar formulering af et antiinflammatorisk middel
US20050009931A1 (en) * 2003-03-20 2005-01-13 Britten Nancy Jean Dispersible pharmaceutical composition for treatment of mastitis and otic disorders
US20040214861A1 (en) * 2003-03-28 2004-10-28 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitors and 5-HT1B1D antagonists for the treatment and prevention of migraine
US20040220155A1 (en) * 2003-03-28 2004-11-04 Pharmacia Corporation Method of providing a steroid-sparing benefit with a cyclooxygenase-2 inhibitor and compositions therewith
AU2003238669A1 (en) * 2003-04-04 2004-10-25 Hetero Drugs Limited Novel crystalline forms of parecoxib sodium
CN1794989A (zh) * 2003-04-14 2006-06-28 药物研发有限责任公司 用于治疗糖尿病的n－(((((1,3－噻唑－2－基)氨基)羰基)苯基)磺酰基)苯丙氨酸衍生物及相关化合物
WO2004093816A2 (en) * 2003-04-22 2004-11-04 Pharmacia Corporation Compositions comprising a selective cox-2 inhibitor and a calcium modulating agent
WO2004093813A2 (en) * 2003-04-22 2004-11-04 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a calcium modulating agent for the treatment of pain, inflammation or inflammation mediated disorders
WO2004093896A1 (en) * 2003-04-22 2004-11-04 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a potassium ion channel modulator for the treatment of central nervous system damage
WO2004093895A1 (en) * 2003-04-22 2004-11-04 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a potassium ion channel modulator for the treatment of pain, inflammation or inflammation mediated disorders
WO2004093811A2 (en) * 2003-04-22 2004-11-04 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a sodium ion channel blocker for the treatment of central nervous system damage
WO2004093814A2 (en) * 2003-04-22 2004-11-04 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a sodium channel blocker
CN1812977A (zh) 2003-04-30 2006-08-02 药物研发有限责任公司 取代羧酸
US20040220167A1 (en) * 2003-05-02 2004-11-04 Nasrollah Samiy Methods of treating neuralgic pain
PL2266585T3 (pl) 2003-05-07 2013-10-31 Osteologix As Rozpuszczalne w wodzie sole stronktu do stosowania w leczeniu chorób chrząstki i/lub kości
WO2004100895A2 (en) * 2003-05-13 2004-11-25 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a peroxisome proliferator activated receptor agonist for the treatment of ischemic mediated central nervous system disorders
BRPI0410305A (pt) * 2003-05-14 2006-05-23 Pharmacia Corp composições de um inibidor seletivo de ciclooxigenase-2 á base de benzenossulfonamida ou metilsulfonilbenzeno e um agente colinérgico para o tratamento de redução de fluxo sangüìneo ou traumatismo do sistema nervoso central
JP2006528245A (ja) * 2003-05-14 2006-12-14 ファルマシア コーポレイション 中枢神経系への減少した血流又は外傷の治療のためのフェニル酢酸シクロオキシゲナーゼ−２選択的阻害剤及びコリン作動性剤の組成物
WO2004103286A2 (en) * 2003-05-14 2004-12-02 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a cholimergic agent
WO2004103283A2 (en) * 2003-05-14 2004-12-02 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a central nervous system stimulant for the treatment of central nervous system damage
US20050113376A1 (en) * 2003-05-27 2005-05-26 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor, a xanthine compound and an alcohol for the treatment of ischemic mediated central nervous system disorders or injury
US20060160776A1 (en) * 2003-05-28 2006-07-20 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a cannabinoid agent for the treatment of central nervous system damage
CN1812983A (zh) 2003-05-30 2006-08-02 兰贝克赛实验室有限公司 取代的吡咯衍生物及其作为hmg－co抑制剂的用途
US20050054646A1 (en) * 2003-06-09 2005-03-10 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and an antioxidant agent for the treatment of central nervous system disorders
US20050065154A1 (en) * 2003-06-24 2005-03-24 Pharmacia Corporation Treatment of migraine accompanied by nausea with a combination of cyclooxygenase-2 selective inhibitors and anti-nausea agents
US20050080083A1 (en) * 2003-07-10 2005-04-14 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and an angiotensin II receptor antagonist for the treatment of central nervous system damage
US20050101597A1 (en) * 2003-07-10 2005-05-12 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitior and a non-NMDA glutamate modulator for the treatment of central nervous system damage
US20050080084A1 (en) * 2003-07-11 2005-04-14 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a serotonin-modulating agent for the treatment of central nervous system damage
WO2005016249A2 (en) * 2003-07-11 2005-02-24 Pharmacia Corporation Compositions of a chromene or phenyl acetic acid cyclooxygenase-2 selective inhibitor and an ace inhibitor for the treatment of central nervous system damage
WO2005009342A2 (en) * 2003-07-16 2005-02-03 Pharmacia Corporation Method for the treatment or prevention of dermatological disorders with a cyclooxygenase-2 inhibitor alone and in combination with a dermatological treatment agent and compositions therewith
US20050075341A1 (en) * 2003-07-17 2005-04-07 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and an IKK inhibitor for the treatment of ischemic mediated central nervous system disorders or injury
WO2005012268A1 (ja) * 2003-07-30 2005-02-10 Shionogi & Co., Ltd. イソオキサゾール環を有するスルホンアミド誘導体
JP2007502831A (ja) * 2003-08-20 2007-02-15 ニトロメッド インコーポレーティッド ニトロソ化およびニトロシル化心血管化合物、組成物、ならびに使用方法
US20050119262A1 (en) * 2003-08-21 2005-06-02 Pharmacia Corporation Method for preventing or treating an optic neuropathy with a cox-2 inhibitor and an intraocular pressure reducing agent
CA2536340A1 (en) * 2003-08-22 2005-03-03 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a serotonin modulating agent for the treatment of neoplasia
WO2005018564A2 (en) * 2003-08-22 2005-03-03 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a low-molecular-weight heparin for the treatment of central nervous system damage
US20050130971A1 (en) * 2003-08-22 2005-06-16 Pharmacia Corporation Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and phosphodiesterase inhibitor for the treatment of ischemic mediated central nervous system disorders or injury
US20050107350A1 (en) * 2003-08-22 2005-05-19 Pharmacia Corporation Method for the treatment or prevention of bone disorders with a cyclooxygenase-2 inhibitor alone and in combination with a bone disorder treatment agent and compositions therewith
WO2005020910A2 (en) * 2003-08-27 2005-03-10 Pharmacia Corporation Cyclooxygenase-2 selective inhibitor and corticotropin releasing factor antagonist compositions for treating ischemic mediated cns disorders or injuries
EP1667643A4 (en) * 2003-08-28 2008-03-05 Nitromed Inc NITROSIS AND NITROSYL CARDIOVASCULAR COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF
US20050187278A1 (en) * 2003-08-28 2005-08-25 Pharmacia Corporation Treatment or prevention of vascular disorders with Cox-2 inhibitors in combination with cyclic AMP-specific phosphodiesterase inhibitors
WO2005023189A2 (en) * 2003-09-03 2005-03-17 Pharmacia Corporation Method of cox-2 selective inhibitor and nitric oxide-donating agent
JP2007511468A (ja) * 2003-10-03 2007-05-10 ファルマシア コーポレイション 虚血仲介中枢神経系障害又は損傷の治療のための低体温状態下で投与されるシクロオキシゲナーゼ−２選択的阻害剤の組成物
CA2545731A1 (en) * 2003-11-12 2005-05-26 Pharmacia & Upjohn Company Compositions of a cyclooxygenase-2 selective inhibitor and a neurotrophic factor-modulating agent for the treatment of central nervous system mediated disorders
CA2551523A1 (en) * 2003-12-24 2005-07-21 Pharmacia Corporation Metal salts of parecoxib as prodrugs of the cox-2 inhibitor valdecoxib for the treatment of inflammation, pain and/or fever
WO2005079808A1 (en) 2004-01-22 2005-09-01 Pfizer Limited Triazole derivatives which inhibit vasopressin antagonistic activity
EP1755537A4 (en) * 2004-04-14 2009-12-09 Univ Boston METHOD AND COMPOSITIONS FOR PREVENTING OR TREATING PERIODONTOPATHIA
EP1742932A1 (en) * 2004-04-28 2007-01-17 Pfizer Limited 3-heterocyclyl-4-phenyl-triazole derivatives as inhibitors of the vasopressin v1a receptor
US7632833B2 (en) 2004-07-01 2009-12-15 Merck & Co., Inc. Mitotic kinesin inhibitors
ES2257929B1 (es) * 2004-07-16 2007-05-01 Laboratorios Del Dr. Esteve, S.A. Derivados de pirazolina, procedimiento para su obtencion y utilizacion de los mismos como agentes terapeuticos.
EP1773396A1 (en) * 2004-07-22 2007-04-18 Pharmacia Corporation Compositions for treatment of inflammation and pain using a combination of a cox-2 selective inhibitor and a ltb4 receptor antagonist
WO2006041855A2 (en) 2004-10-04 2006-04-20 Nitromed, Inc. Compositions and methods using apocynin compounds and nitric oxide donors
EP1814535A4 (en) * 2004-11-08 2008-06-04 Nitromed Inc NITROSED AND NITROSYLATED COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND METHODS OF TREATING EYE DISEASES
DE602005013116D1 (de) 2004-12-23 2009-04-16 Glaxo Group Ltd Pyridin-verbindungen für die behandlung von prostaglandin-vermittelten krankheiten
CA2595579A1 (en) * 2005-01-21 2006-07-27 Nitromed, Inc. Cardiovascular compounds comprising heterocyclic nitric oxide donor group compositions and methods of use
CA2597422A1 (en) * 2005-02-16 2007-08-02 Nitromed, Inc. Organic nitric oxide donor salts of antimicrobial compounds, compositions and methods of use
US7521435B2 (en) 2005-02-18 2009-04-21 Pharma Diagnostics, N.V. Silicon containing compounds having selective COX-2 inhibitory activity and methods of making and using the same
CA2597463A1 (en) * 2005-02-28 2006-09-08 Nitromed, Inc. Cardiovascular compounds comprising nitric oxide enhancing groups, compositions and methods of use
EP2444421A1 (en) 2005-04-26 2012-04-25 Pfizer Inc. P-Cadherin antibodies
CA2607913C (en) * 2005-05-05 2014-03-18 Cook Biotech Incorporated Implantable materials and methods for inhibiting tissue adhesion formation
EP1888050B1 (en) 2005-05-17 2012-03-21 Merck Sharp & Dohme Ltd. cis-4-[(4-chlorophenyl)sulfonyl]-4-(2,5-difluorophenyl)cyclohexanepropanoic acid for the treatment of cancer
CA2608718A1 (en) * 2005-05-18 2006-11-23 Pfizer Limited 1, 2, 4-triazole derivatives as vasopressin antagonists
WO2006127591A2 (en) * 2005-05-23 2006-11-30 Nitromed, Inc. Organic nitric oxide enhancing salts of nonsteroidal antiinflammatory compounds, compositions and methods of use
HUP0500730A2 (en) * 2005-07-29 2007-02-28 Richter Gedeon Vegyuszeti Gyar 1,2-diaryl-heterocyclic compounds, their preparation, pharmaceutical compositions comprising thereof and their use
EP1915157A4 (en) * 2005-08-02 2010-09-01 Nicox Sa NICKEL OXYGENIZING ANTIMICROBIAL COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND USE PROCESSES
PE20070427A1 (es) 2005-08-30 2007-04-21 Novartis Ag Compuestos derivados de benzimidazoles sustituidos como inhibidores de tirosina quinasas
CN101517068B (zh) 2005-09-07 2017-02-08 安进弗里蒙特公司 活化素受体样激酶‑1的人单克隆抗体
WO2007041440A2 (en) 2005-10-03 2007-04-12 The Brigham And Women's Hospital, Inc. Anti-inflammatory actions of neuroprotectin d1/protectin d1 and its natural stereoisomers
WO2007041681A2 (en) * 2005-10-04 2007-04-12 Nitromed, Inc. Methods for treating respiratory disorders
SG166829A1 (en) 2005-11-08 2010-12-29 Ranbaxy Lab Ltd Process for (3r, 5r)-7-[2-(4-fluorophenyl)-5-isopropyl-3-phenyl-4- [(4-hydroxy methyl phenyl amino) carbonyl]-pyrrol-1-yl]-3, 5-dihydroxy-heptanoic acid hemi calcium salt
EP1954685A4 (en) * 2005-11-16 2009-11-11 Nitromed Inc FUROXANE COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND METHODS OF USE
JP2009515991A (ja) 2005-11-18 2009-04-16 トラスティーズ オブ ボストン ユニバーシティ レゾルビンを使用する骨喪失の処置および防止
WO2007075541A2 (en) * 2005-12-20 2007-07-05 Nitromed, Inc. Nitric oxide enhancing glutamic acid compounds, compositions and methods of use
NL2000351C2 (nl) 2005-12-22 2007-09-11 Pfizer Prod Inc Estrogeen-modulatoren.
WO2007075542A2 (en) * 2005-12-22 2007-07-05 Nitromed, Inc. Nitric oxide enhancing pyruvate compounds, compositions and methods of use
WO2007087246A2 (en) 2006-01-24 2007-08-02 Merck & Co., Inc. Jak2 tyrosine kinase inhibition
GB0603041D0 (en) 2006-02-15 2006-03-29 Angeletti P Ist Richerche Bio Therapeutic compounds
CA2647859C (en) * 2006-03-29 2016-01-05 Nitromed, Inc. Nitric oxide enhancing prostaglandin compounds, compositions and methods of use
SI2010528T1 (en) 2006-04-19 2018-02-28 Novartis Ag 6-O-substituted benzoxazole and benzothiazole compounds and procedures for inhibiting CSF-1R signaling
AU2007254179B2 (en) 2006-05-18 2013-03-21 Pharmacyclics Llc Intracellular kinase inhibitors
WO2008033931A1 (en) * 2006-09-13 2008-03-20 The Institutes For Pharmaceutical Discovery, Llc Para-xylylene carboxylic acids and isothiazolones useful as protein tyrosine phosphatases (ptps) in particular ptp-ib
EP2698157B1 (en) 2006-09-22 2015-05-20 Merck Sharp & Dohme Corp. Method of treatment using fatty acid synthesis inhibitors
US20110218176A1 (en) 2006-11-01 2011-09-08 Barbara Brooke Jennings-Spring Compounds, methods, and treatments for abnormal signaling pathways for prenatal and postnatal development
CN101600458A (zh) 2006-12-22 2009-12-09 瑞蔻达蒂爱尔兰有限公司 采用α2δ配体和NSAID的下泌尿道疾病的联合治疗
EP2109608B1 (en) 2007-01-10 2011-03-23 Istituto di Richerche di Biologia Molecolare P. Angeletti S.p.A. Amide substituted indazoles as poly(adp-ribose)polymerase (parp) inhibitors
KR100843351B1 (ko) * 2007-01-30 2008-07-03 한국과학기술연구원 중추신경계 질환 치료제로 유효한ｎ-벤질-ｎ-(2-디메틸아미노-에틸)-벤젠술폰아미드 화합물
AU2008221263B2 (en) 2007-03-01 2012-02-23 Novartis Ag Pim kinase inhibitors and methods of their use
GB0704407D0 (en) 2007-03-07 2007-04-18 Glaxo Group Ltd Compounds
ES2452349T3 (es) 2007-05-21 2014-04-01 Novartis Ag Inhibidores de CSF-1R, composiciones, y métodos de uso
US8389553B2 (en) 2007-06-27 2013-03-05 Merck Sharp & Dohme Corp. 4-carboxybenzylamino derivatives as histone deacetylase inhibitors
US8247423B2 (en) 2007-07-12 2012-08-21 Tragara Pharmaceuticals, Inc. Methods and compositions for the treatment of cancer, tumors, and tumor-related disorders
US7943658B2 (en) 2007-07-23 2011-05-17 Bristol-Myers Squibb Company Indole indane amide compounds useful as CB2 agonists and method
US8263641B2 (en) 2007-09-10 2012-09-11 Calcimedica, Inc. Compounds that modulate intracellular calcium
US8598184B2 (en) 2008-03-03 2013-12-03 Tiger Pharmatech Protein kinase inhibitors
GB0813142D0 (en) 2008-07-17 2008-08-27 Glaxo Group Ltd Novel compounds
GB0813144D0 (en) 2008-07-17 2008-08-27 Glaxo Group Ltd Novel compounds
EP2321303B1 (en) 2008-08-27 2019-11-27 Calcimedica, Inc. Compounds that modulate intracellular calcium
EP2177215A1 (en) 2008-10-17 2010-04-21 Laboratorios Del. Dr. Esteve, S.A. Co-crystals of tramadol and NSAIDs
GB0903493D0 (en) 2009-02-27 2009-04-08 Vantia Ltd New compounds
KR101069175B1 (ko) 2009-04-19 2011-09-30 중앙대학교 산학협력단 신규 아미노설포닐아릴이소옥사졸계 화합물 및 이를 포함하는 다약제내성 억제용 약제학적 조성물
WO2011012622A1 (en) 2009-07-30 2011-02-03 Glaxo Group Limited Benzoxazinone derivatives for the treatment of glytl mediated disorders
WO2011023753A1 (en) 2009-08-27 2011-03-03 Glaxo Group Limited Benzoxazine derivatives as glycine transport inhibitors
BR112012008849A2 (pt) 2009-10-14 2015-09-22 Schering Corp composto, composição farmacêutica, e, uso de um composto
GB201000685D0 (en) 2010-01-15 2010-03-03 Glaxo Group Ltd Novel compounds
CN101805290A (zh) * 2010-04-01 2010-08-18 中国人民解放军第四军医大学 氨基磺酰吡唑类化合物及其用途
JP2013525448A (ja) 2010-04-27 2013-06-20 カルシメディカ，インク． 細胞内カルシウムを調節する化合物
DK2563776T3 (en) 2010-04-27 2016-09-19 Calcimedica Inc Relations that modulate intracellular calcium
GB201007789D0 (en) 2010-05-10 2010-06-23 Glaxo Group Ltd Novel Compound
GB201007791D0 (en) 2010-05-10 2010-06-23 Glaxo Group Ltd Novel compounds
EP2571860A1 (en) 2010-05-21 2013-03-27 Pfizer Inc 2-phenyl benzoylamides
WO2011163330A1 (en) 2010-06-24 2011-12-29 Merck Sharp & Dohme Corp. Novel heterocyclic compounds as erk inhibitors
US9115132B2 (en) 2010-07-09 2015-08-25 Convergence Pharmaceuticals Limited Tetrazole compounds as calcium channel blockers
EP2601293B1 (en) 2010-08-02 2017-12-06 Sirna Therapeutics, Inc. RNA INTERFERENCE MEDIATED INHIBITION OF CATENIN (CADHERIN-ASSOCIATED PROTEIN), BETA 1 (CTNNB1) GENE EXPRESSION USING SHORT INTERFERING NUCLEIC ACID (siNA)
JP2013537423A (ja) 2010-08-17 2013-10-03 メルク・シャープ・エンド・ドーム・コーポレイション 低分子干渉核酸（ｓｉＮＡ）を用いたＢ型肝炎ウイルス（ＨＢＶ）遺伝子発現のＲＮＡ干渉媒介性阻害
US8653118B2 (en) * 2010-08-20 2014-02-18 Allergan, Inc. Compounds act at multiple prostaglandin receptors giving a general anti-inflammatory response
EP2608669B1 (en) 2010-08-23 2016-06-22 Merck Sharp & Dohme Corp. NOVEL PYRAZOLO[1,5-a]PYRIMIDINE DERIVATIVES AS mTOR INHIBITORS
WO2012027710A2 (en) 2010-08-27 2012-03-01 Calcimedica Inc. Compounds that modulate intracellular calcium
WO2012030685A2 (en) 2010-09-01 2012-03-08 Schering Corporation Indazole derivatives useful as erk inhibitors
US9242981B2 (en) 2010-09-16 2016-01-26 Merck Sharp & Dohme Corp. Fused pyrazole derivatives as novel ERK inhibitors
WO2012058210A1 (en) 2010-10-29 2012-05-03 Merck Sharp & Dohme Corp. RNA INTERFERENCE MEDIATED INHIBITION OF GENE EXPRESSION USING SHORT INTERFERING NUCLEIC ACIDS (siNA)
WO2012087772A1 (en) 2010-12-21 2012-06-28 Schering Corporation Indazole derivatives useful as erk inhibitors
ES2541416T3 (es) 2011-01-19 2015-07-20 Convergence Pharmaceuticals Limited Derivados de piperazina como bloqueadores de los canales de calcio Cav2.2
US20130345392A1 (en) 2011-03-04 2013-12-26 Pfizer Inc Edn3-like peptides and uses thereof
CN103732592A (zh) 2011-04-21 2014-04-16 默沙东公司 胰岛素样生长因子-1受体抑制剂
US9023865B2 (en) 2011-10-27 2015-05-05 Merck Sharp & Dohme Corp. Compounds that are ERK inhibitors
WO2013066729A1 (en) 2011-10-31 2013-05-10 Merck Sharp & Dohme Corp. Aminopyrimidinones as interleukin receptor-associated kinase inhibitors
WO2013074988A1 (en) * 2011-11-17 2013-05-23 The Regents Of The University Of Colorado, A Body Corporate Methods and compositions for enhanced drug delivery to the eye and extended delivery formulations
GB201122113D0 (en) 2011-12-22 2012-02-01 Convergence Pharmaceuticals Novel compounds
US20150299696A1 (en) 2012-05-02 2015-10-22 Sirna Therapeutics, Inc. SHORT INTERFERING NUCLEIC ACID (siNA) COMPOSITIONS
EP2900241B1 (en) 2012-09-28 2018-08-08 Merck Sharp & Dohme Corp. Novel compounds that are erk inhibitors
WO2014059333A1 (en) 2012-10-12 2014-04-17 Calcimedica, Inc. Compounds that modulate intracellular calcium
AU2013352568B2 (en) 2012-11-28 2019-09-19 Merck Sharp & Dohme Llc Compositions and methods for treating cancer
TW201429969A (zh) 2012-12-20 2014-08-01 Merck Sharp & Dohme 作爲ｈｄｍ２抑制劑之經取代咪唑吡啶
EP2951180B1 (en) 2013-01-30 2018-05-02 Merck Sharp & Dohme Corp. 2,6,7,8 substituted purines as hdm2 inhibitors
US9732074B2 (en) * 2013-03-15 2017-08-15 University Of Southern California Methods, compounds, and compositions for the treatment of angiotensin-related diseases
EP3019171B1 (en) 2013-07-11 2018-09-05 Merck Sharp & Dohme Corp. Substituted amidopyrazole inhibitors of interleukin receptor-associated kinases (irak-4)
EP3041938A1 (en) 2013-09-03 2016-07-13 Moderna Therapeutics, Inc. Circular polynucleotides
CN104418818B (zh) * 2013-09-04 2017-01-11 天津汉瑞药业有限公司 帕瑞昔布钠无水化合物
US9611263B2 (en) 2013-10-08 2017-04-04 Calcimedica, Inc. Compounds that modulate intracellular calcium
CN105085425B (zh) * 2014-05-23 2018-01-30 昆药集团股份有限公司 一种制备帕瑞昔布的方法
JO3589B1 (ar) 2014-08-06 2020-07-05 Novartis Ag مثبطات كيناز البروتين c وطرق استخداماتها
GB201417499D0 (en) 2014-10-03 2014-11-19 Convergence Pharmaceuticals Novel use
GB201417500D0 (en) 2014-10-03 2014-11-19 Convergence Pharmaceuticals Novel use
GB201417497D0 (en) 2014-10-03 2014-11-19 Convergence Pharmaceuticals Novel use
CN104557754A (zh) * 2015-01-04 2015-04-29 成都克莱蒙医药科技有限公司 一种帕瑞昔布钠杂质的合成方法
US10155765B2 (en) 2015-03-12 2018-12-18 Merck Sharp & Dohme Corp. Carboxamide inhibitors of IRAK4 activity
EP3268003B1 (en) 2015-03-12 2020-07-29 Merck Sharp & Dohme Corp. Thienopyrazine inhibitors of irak4 activity
WO2016144846A1 (en) 2015-03-12 2016-09-15 Merck Sharp & Dohme Corp. Pyrazolopyrimidine inhibitors of irak4 activity
CA2994258C (en) * 2015-07-31 2024-09-10 The Johns Hopkins University PROMEDICAMENTS OF GLUTAMINE ANALOGUES
US9598361B1 (en) * 2016-04-12 2017-03-21 King Saud University Amino substituted acetamide derivative
JP7096598B2 (ja) 2016-09-07 2022-07-06 トラスティーズ オブ タフツ カレッジ イムノｄａｓｈ阻害剤及びｐｇｅ２アンタゴニストを用いた併用療法
US10975084B2 (en) 2016-10-12 2021-04-13 Merck Sharp & Dohme Corp. KDM5 inhibitors
EP3706742B1 (en) 2017-11-08 2023-03-15 Merck Sharp & Dohme LLC Prmt5 inhibitors
WO2019094312A1 (en) 2017-11-08 2019-05-16 Merck Sharp & Dohme Corp. Prmt5 inhibitors
CN108299331A (zh) * 2018-03-02 2018-07-20 成都新恒创药业有限公司 一种帕瑞昔布钠光降解杂质及其制备、检测方法和应用
CN108164521B (zh) * 2018-03-02 2020-11-13 成都新恒创药业有限公司 一种帕瑞昔布钠降解杂质及其制备、检测方法和应用
WO2020033282A1 (en) 2018-08-07 2020-02-13 Merck Sharp & Dohme Corp. Prmt5 inhibitors
WO2020033284A1 (en) 2018-08-07 2020-02-13 Merck Sharp & Dohme Corp. Prmt5 inhibitors
BR112021002267A8 (pt) 2018-08-07 2023-02-07 Merck Sharp & Dohme Inibidores de prmt5
CN110305071A (zh) * 2019-07-23 2019-10-08 成都通德药业有限公司 一种帕瑞昔布钠中间体帕瑞昔布的合成方法
EP4076460B1 (en) 2019-12-17 2026-01-21 Merck Sharp & Dohme LLC 1,4-dihydro-2h-spiro[isoquinoline-3,4'-piperidine derivatives as prmt5 inhibitors for the treatment of cancer
EP4077282A4 (en) 2019-12-17 2023-11-08 Merck Sharp & Dohme LLC Prmt5 inhibitors
WO2021126728A1 (en) 2019-12-17 2021-06-24 Merck Sharp & Dohme Corp. Prmt5 inhibitors
CA3209491A1 (en) 2021-03-15 2022-09-22 Saul Yedgar Hyaluronic acid-conjugated dipalmitoyl phosphatidyl ethanolamine in combination with non-steroidal anti-inflammatory drugs (nsaids) for treating or alleviating inflammatory disease
CN115784991B (zh) * 2022-11-22 2025-01-24 合肥医工医药股份有限公司 N-(苯磺酰基)酰胺衍生物及其制备方法和用途

Family Cites Families (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US538738A (en) 1895-05-07 Measuring-faucet
GB911204A (en) 1960-07-28 1962-11-21 Unilever Ltd Bleaching compositions
US4146721A (en) 1969-09-12 1979-03-27 Byk Gulden Lomberg Chemische Fabrik Gmbh Pyrazol-4-acetic acid compounds
US3984431A (en) 1972-03-15 1976-10-05 Claude Gueremy Derivatives of pyrazole-5-acetic acid
DE3321082C2 (de) 1982-06-10 1996-08-22 Kao Corp Bleich-Reinigungsmittel
JPS59145300A (ja) 1983-02-07 1984-08-20 日本パ−オキサイド株式会社 漂白洗剤
JPS6015500A (ja) 1983-07-08 1985-01-26 ライオン株式会社 高嵩密度洗剤組成物
JPS60118606A (ja) 1983-11-28 1985-06-26 Mitsubishi Gas Chem Co Inc 安定化された過炭酸ナトリウム粒状物
US5051518A (en) 1987-05-29 1991-09-24 Ortho Pharmaceutical Corporation Pharmacologically active 2- and 3-substituted (1',5'-diaryl-3-pyrazolyl)-N-hydroxypropanamides
JP2590124B2 (ja) * 1987-08-12 1997-03-12 国際試薬株式会社 水溶性テトラゾリウム化合物およびその化合物を用いる還元性物質の測定方法
JPS6445374U (ja) 1987-09-10 1989-03-20
DE3903993A1 (de) * 1989-02-10 1990-08-16 Basf Ag Diarylsubstituierte heterocyclische verbindungen, ihre herstellung und arzneimittel daraus
JPH04277724A (ja) * 1991-03-06 1992-10-02 Sumitomo Electric Ind Ltd 有機非線形光学材料
GB9113628D0 (en) * 1991-06-25 1991-08-14 Ici Plc Heterocyclic derivatives
US5219856A (en) * 1992-04-06 1993-06-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Angiotensin-II receptor blocking, heterocycle substituted imidazoles
US5334991A (en) 1992-05-15 1994-08-02 Reflection Technology Dual image head-mounted display
JPH05323522A (ja) * 1992-05-20 1993-12-07 Fuji Photo Film Co Ltd 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法
US5604260A (en) * 1992-12-11 1997-02-18 Merck Frosst Canada Inc. 5-methanesulfonamido-1-indanones as an inhibitor of cyclooxygenase-2
EP0759432A1 (en) * 1993-01-15 1997-02-26 G.D. Searle & Co. Use of medicaments containing 3,4-diaryl furans and analogs thereof for treating a skin-related condition
US5409944A (en) * 1993-03-12 1995-04-25 Merck Frosst Canada, Inc. Alkanesulfonamido-1-indanone derivatives as inhibitors of cyclooxygenase
WO1994026731A1 (en) * 1993-05-13 1994-11-24 Merck Frosst Canada Inc. 2-substituted-3,4-diarylthiophene derivatives as inhibitors of cyclooxygenase
US5380738A (en) 1993-05-21 1995-01-10 Monsanto Company 2-substituted oxazoles further substituted by 4-fluorophenyl and 4-methylsulfonylphenyl as antiinflammatory agents
US5474995A (en) * 1993-06-24 1995-12-12 Merck Frosst Canada, Inc. Phenyl heterocycles as cox-2 inhibitors
US5344991A (en) * 1993-10-29 1994-09-06 G.D. Searle & Co. 1,2 diarylcyclopentenyl compounds for the treatment of inflammation
US5434178A (en) 1993-11-30 1995-07-18 G.D. Searle & Co. 1,3,5 trisubstituted pyrazole compounds for treatment of inflammation
CZ294630B6 (cs) * 1993-11-30 2005-02-16 G. D. Searle & Co. Substituované pyrazolylbenzensulfonamidy pro léčení zánětů
US5401765A (en) 1993-11-30 1995-03-28 G. D. Searle 1,4,5-triphenyl pyrazolyl compounds for the treatment of inflammation and inflammation-related disorders
US5393790A (en) * 1994-02-10 1995-02-28 G.D. Searle & Co. Substituted spiro compounds for the treatment of inflammation
CA2182950A1 (en) * 1994-02-10 1995-08-17 David B. Reitz Substituted spiro compounds for the treatment of inflammation
US5486534A (en) 1994-07-21 1996-01-23 G. D. Searle & Co. 3,4-substituted pyrazoles for the treatment of inflammation
US5556019A (en) * 1994-07-25 1996-09-17 Sealed Air Corporation Bag separator and dispenser
US5616601A (en) * 1994-07-28 1997-04-01 Gd Searle & Co 1,2-aryl and heteroaryl substituted imidazolyl compounds for the treatment of inflammation
JP2636819B2 (ja) * 1994-12-20 1997-07-30 日本たばこ産業株式会社 オキサゾール系複素環式芳香族化合物
JP3181190B2 (ja) * 1994-12-20 2001-07-03 日本たばこ産業株式会社 オキサゾール誘導体
US5633272A (en) * 1995-02-13 1997-05-27 Talley; John J. Substituted isoxazoles for the treatment of inflammation
US5908858A (en) * 1996-04-05 1999-06-01 Sankyo Company, Limited 1,2-diphenylpyrrole derivatives, their preparation and their therapeutic uses
DK0892791T3 (da) * 1996-04-12 2003-06-23 Searle & Co N-[[4-(5-methyl-3-phenylisoxazol-4-yl]-phenyl]-sulfonylpropylamid og dets natriumsalt som prodrugs for COX-2-inhibitorer
JPH1045374A (ja) 1996-08-01 1998-02-17 Nittetsu Mining Co Ltd ドラム缶吊り上げ装置
US20030105144A1 (en) * 2001-04-17 2003-06-05 Ping Gao Stabilized oral pharmaceutical composition

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010195745A (ja) * 2009-02-27 2010-09-09 Toray Ind Inc γ−ケトアセタール化合物及びピロール誘導体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20000005395A (ko) 2000-01-25
NO984727L (no) 1998-12-14
SK124298A3 (en) 1999-04-13
ATE233743T1 (de) 2003-03-15
AP9801355A0 (en) 1998-12-31
CZ297430B6 (cs) 2006-12-13
YU44398A (sh) 1999-12-27
AP1009A (en) 2001-09-21
IS7292A (is) 2004-06-02
ES2194195T3 (es) 2003-11-16
LV12239A (lv) 1999-03-20
OA11015A (en) 2003-03-12
ME00768B (me) 2011-10-10
AU734275C (en) 2006-09-14
BG109057A (bg) 2005-10-31
CZ271098A3 (cs) 1999-01-13
SI22713A (sl) 2009-08-31
CU23116A3 (es) 2006-03-29
NO984727D0 (no) 1998-10-09
IL125849A (en) 2003-10-31
LT98142A (en) 1999-07-26
KR100387658B1 (ko) 2003-08-19
US7420061B2 (en) 2008-09-02
AU734275B2 (en) 2001-06-07
TR199802049T2 (xx) 1999-01-18
UA47475C2 (uk) 2002-07-15
EP1288206A1 (en) 2003-03-05
ES2311571T3 (es) 2009-02-16
PT892791E (pt) 2003-06-30
CA2249009A1 (en) 1997-10-23
SK285353B6 (sk) 2006-11-03
EE9800351A (et) 1999-04-15
BR1100403A (pt) 2000-07-25
CA2249009C (en) 2003-09-16
PT1288206E (pt) 2008-11-14
NZ331542A (en) 1999-07-29
BR9708574A (pt) 1999-08-03
JP3382624B2 (ja) 2003-03-04
SI9720035B (sl) 2009-10-31
EP1288206B1 (en) 2008-09-17
US6815460B2 (en) 2004-11-09
RS50019B (sr) 2008-09-29
EA003319B1 (ru) 2003-04-24
GEP20032998B (en) 2003-06-25
NO314184B1 (no) 2003-02-10
BG64531B1 (bg) 2005-06-30
HK1019741A1 (en) 2000-02-25
WO1997038986A1 (en) 1997-10-23
EA199800919A1 (ru) 1999-04-29
ATE408607T1 (de) 2008-10-15
AU2722797A (en) 1997-11-07
SI9720035A (sl) 1999-06-30
US20030069287A1 (en) 2003-04-10
DK1288206T3 (da) 2008-11-24
HUP9901807A3 (en) 2000-08-28
LV12239B (en) 1999-08-20
IS4863A (is) 1998-10-09
RO121338B1 (ro) 2007-03-30
BG102916A (en) 1999-08-31
IS2156B (is) 2006-11-15
JP4049307B2 (ja) 2008-02-20
LT4586B (lt) 1999-12-27
PL329276A1 (en) 1999-03-15
DE69719496T2 (de) 2004-04-08
US5932598A (en) 1999-08-03
ZA973146B (en) 1998-04-14
CN1098256C (zh) 2003-01-08
DE69739003D1 (de) 2008-10-30
IL125849A0 (en) 1999-04-11
HUP9901807A2 (hu) 1999-09-28
SI22713B (sl) 2009-12-31
JP2000509029A (ja) 2000-07-18
CN1216043A (zh) 1999-05-05
TW585857B (en) 2004-05-01
HU225473B1 (en) 2006-12-28
EP0892791B1 (en) 2003-03-05
DE69719496D1 (de) 2003-04-10
EP0892791A1 (en) 1999-01-27
IL153738A0 (en) 2003-07-06
IL153738A (en) 2007-10-31
US20050032851A1 (en) 2005-02-10
US6436967B1 (en) 2002-08-20
PL195955B1 (pl) 2007-11-30
DK0892791T3 (da) 2003-06-23
EE03685B1 (et) 2002-04-15

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