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JP2003039607A - Antistatic hard coat film and method for manufacturing the same - Google Patents

Antistatic hard coat film and method for manufacturing the same

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JP2003039607A
JP2003039607A JP2001228387A JP2001228387A JP2003039607A JP 2003039607 A JP2003039607 A JP 2003039607A JP 2001228387 A JP2001228387 A JP 2001228387A JP 2001228387 A JP2001228387 A JP 2001228387A JP 2003039607 A JP2003039607 A JP 2003039607A
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JP
Japan
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antistatic
hard coat
layer
ionizing radiation
coat film
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豊 小野沢
Satoru Shiyoji
悟 所司
Shigenobu Maruoka
重信 丸岡
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Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic hard coat film having a large total light transmissivity value, good in the visibility of a display image, excellent in the balance of antistatic properties and scratch resistance and easy to manufacture, and to provide a method for manufacturing the same. SOLUTION: The antistatic hard coat film is constituted by successively providing a hard coat layer (A) comprising an ionizing radiation curable resin, and an antistatic layer (B) with a thickness of 0.03-2 μm comprising the ionizing radiation curable resin containing antistatic particles with a mean particle size of 0.01-2 μm on a substrate film. The Taber abrasion hardness measured according to JIS K5400 of this hard coat film is not more than 25.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、帯電防止性と、耐
擦傷性とを兼ね備え、液晶表示装置等の表示機器(ディ
スプレイ)に用いられる帯電防止性ハードコートフィル
ム、およびその製造方法に関し、特に、インライン−プ
レイニングースイッチング(IPS)液晶表示装置に最
適な帯電防止性ハードコートフィルムおよびその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antistatic hard coat film which has both antistatic property and scratch resistance and is used for a display device (display) such as a liquid crystal display device, and a method for producing the same. The present invention relates to an antistatic hard coat film most suitable for an in-line-planing-switching (IPS) liquid crystal display device and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、CRT(ブラウン管)や、液晶表
示装置などのディスプレイにおいては、表面保護材とし
て、図6(A)に示すように、基材フィルム84上に、
耐擦傷性に優れたハードコート層82を設けてなるハー
ドコートフィルム80が使用されている。しかしなが
ら、かかるハードコートフィルムにおいては、ハードコ
ート層自体の表面抵抗が、通常1×1013Ω・cm以上
と大きいために、周囲に存在する帯電した埃や塵等が、
ハードコート層の表面に対して、電気的に付着しやすい
という問題が見られた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a display such as a CRT (CRT) or a liquid crystal display device, as a surface protective material, as shown in FIG.
A hard coat film 80 provided with a hard coat layer 82 having excellent scratch resistance is used. However, in such a hard coat film, since the surface resistance of the hard coat layer itself is usually as large as 1 × 10 13 Ω · cm or more, charged dust and the like existing in the surroundings are
There was a problem that the surface of the hard coat layer was easily electrically attached.

【0003】そこで、ハードコート層の表面抵抗を低下
させるために、図6(B)に示すように、基材フィルム
84上に設けたハードコート層88の中に、所定量のア
ンチモンドープ酸化錫(ATO)等の帯電防止性粒子8
6を添加したり、水性高分子を添加した構成の帯電防止
性ハードコートフィルム87が開示されている。しかし
ながら、かかる帯電防止性ハードコートフィルムは、ハ
ードコート層が比較的厚いために、所定の帯電防止効果
を得る上で、帯電防止性粒子や水性高分子を多量に添加
しなければならない一方、そのために、全光線透過率が
著しく低下したり、ハードコート性が低下したりすると
いう問題が見られた。
Therefore, in order to reduce the surface resistance of the hard coat layer, as shown in FIG. 6B, a predetermined amount of antimony-doped tin oxide is contained in the hard coat layer 88 provided on the base film 84. Antistatic particles 8 such as (ATO)
There is disclosed an antistatic hard coat film 87 in which 6 is added or an aqueous polymer is added. However, since such an antistatic hard coat film has a relatively thick hard coat layer, in order to obtain a predetermined antistatic effect, a large amount of antistatic particles or an aqueous polymer must be added. In addition, there were problems that the total light transmittance was remarkably lowered and the hard coat property was lowered.

【0004】また、特開平11−42729号公報等に
は、図6(C)に示すように、基材フィルム84と、ハ
ードコート層82との間に、帯電防止性粒子86を含有
したり、金属薄膜からなる帯電防止層88を設けた帯電
防止性ハードコートフィルム89が開示されている。し
かしながら、帯電防止層は、比較的厚いハードコート層
の下方に位置しており、表面から離れているため、表面
抵抗の値が未だ大きく、所定の帯電防止効果を得ること
が困難であった。また、開示された帯電防止性ハードコ
ートフィルムにおいては、帯電防止層が、それぞれ電気
絶縁性のハードコート層と、基材フィルムとにサンドイ
ッチされているために、帯電防止層のアースを取ること
が困難であるという問題も見られた。
Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 11-42729, etc., as shown in FIG. 6C, antistatic particles 86 are contained between the base film 84 and the hard coat layer 82. , An antistatic hard coat film 89 provided with an antistatic layer 88 made of a metal thin film is disclosed. However, since the antistatic layer is located below the relatively thick hard coat layer and is distant from the surface, the surface resistance value is still large and it is difficult to obtain a predetermined antistatic effect. Further, in the disclosed antistatic hard coat film, since the antistatic layer is sandwiched between the electrically insulating hard coat layer and the substrate film, the antistatic layer may be grounded. There was also the problem of difficulty.

【0005】そこで、帯電防止層が表面に存在するよう
に、基材フィルム上に、ハードコート層と、帯電防止層
とを順次に積層して構成した帯電防止性ハードコートフ
ィルムが提案されている。すなわち、ハードコートフィ
ルム上に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹
脂からなる帯電防止層を形成することが提案されてい
る。しかしながら、帯電防止層の厚さは、通常、数ミク
ロン以下であって、単純に電離放射線を照射しても、周
囲に存在する空気に起因した酸素阻害が生じるために硬
化不良が生じ、所定の表面抵抗や耐擦傷性を有する帯電
防止層を形成することが困難であった。
Therefore, an antistatic hard coat film has been proposed in which a hard coat layer and an antistatic layer are sequentially laminated on a substrate film so that the antistatic layer is present on the surface. . That is, it has been proposed to irradiate a hard coat film with ionizing radiation to form an antistatic layer made of an ionizing radiation curable resin. However, the thickness of the antistatic layer is usually several microns or less, and even if it is simply irradiated with ionizing radiation, oxygen is inhibited due to the air present in the surroundings, so that curing failure occurs and a predetermined amount is obtained. It was difficult to form an antistatic layer having surface resistance and scratch resistance.

【0006】一方、特開平8−112866号公報に
は、図7に示すように、基材93上に、紫外線硬化樹脂
92を塗布した後、予め工程紙94上に形成しておいた
帯電防止層91をラミネートし、次いで、帯電防止層9
1の側から、工程紙94を剥がした後、もしくは工程紙
を剥離しない状態のまま、当該帯電防止層91を介し
て、紫外線96を照射し、紫外線硬化樹脂92を硬化さ
せることを特徴とした帯電防止性ハードコートフィルム
の製造方法が開示されている。しかしながら、工程紙を
用いたとしても、帯電防止層と、塗布した紫外線硬化樹
脂とを、しわがよらずに、均一な厚さにラミネートする
ことは容易でなかった。特に、帯電防止層の厚さが一例
として、5μm以下の薄膜となったり、帯電防止層の幅
が10cm以上の広幅になったりすると、帯電防止層
と、塗布した紫外線硬化樹脂との積層圧力が不均一とな
り、実質的にラミネートが不可能になるという問題が見
られた。また、紫外線硬化樹脂を光硬化させると、大き
く硬化収縮するために、ますます帯電防止層と、紫外線
硬化樹脂からなるハードコート層との積層が困難になる
という問題が見られた。したがって、硬化前に、帯電防
止層と、塗布した紫外線硬化樹脂とを位置合わせして
も、硬化後に所定位置にこれらをラミネートすることは
容易でなかった。また、開示された製造方法では、帯電
防止層がすでに硬化形成されているため、帯電防止層
と、ハードコート層との界面で反応を生じさせることは
困難であった。したがって、帯電防止層と、ハードコー
ト層との密着力が低下して、帯電防止層が剥離したり、
所定の耐擦傷性が得られないなどの問題が見られた。さ
らに、開示された製造方法では、帯電防止層を、別の工
程で作成する必要があり、製造工程数が増えたり、製造
時間が長くなったり、あるいは工程紙が必要となるなど
の問題が見られた。
On the other hand, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-112866, as shown in FIG. 7, after a UV curable resin 92 is applied on a base material 93, an antistatic material is formed on a process paper 94 in advance. Laminate layer 91, then antistatic layer 9
After removing the process paper 94 from the side of 1 or in a state where the process paper is not peeled off, ultraviolet rays 96 are irradiated through the antistatic layer 91 to cure the ultraviolet curable resin 92. A method for producing an antistatic hard coat film is disclosed. However, even if the process paper is used, it is not easy to laminate the antistatic layer and the applied ultraviolet curable resin to a uniform thickness without wrinkles. In particular, when the thickness of the antistatic layer is, for example, a thin film of 5 μm or less, or the width of the antistatic layer is 10 cm or more, the laminating pressure between the antistatic layer and the applied ultraviolet curable resin is increased. There was a problem in that it became non-uniform and lamination was substantially impossible. Further, when the ultraviolet curable resin is photocured, the curing and contraction of the ultraviolet curable resin is greatly performed, so that it becomes more difficult to laminate the antistatic layer and the hard coat layer made of the ultraviolet curable resin. Therefore, even if the antistatic layer and the applied ultraviolet curable resin are aligned with each other before curing, it is not easy to laminate them at a predetermined position after curing. Further, in the disclosed manufacturing method, since the antistatic layer has already been cured and formed, it is difficult to cause a reaction at the interface between the antistatic layer and the hard coat layer. Therefore, the adhesion between the antistatic layer and the hard coat layer is reduced, and the antistatic layer peels off,
There were problems such as not being able to obtain a predetermined scratch resistance. Furthermore, in the disclosed manufacturing method, it is necessary to form the antistatic layer in a separate step, and there are problems such as an increase in the number of manufacturing steps, a long manufacturing time, and a need for process paper. Was given.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明の発明者らは、
上述した問題を鋭意考慮した結果、帯電防止層およびハ
ードコート層を、電離放射線硬化性樹脂から構成すると
ともに、帯電防止層の厚さと、帯電防止層に含まれる帯
電防止粒子の平均粒径と、JIS K5400に準拠し
て測定されるハードコートフィルムのテーバー磨耗硬度
と、をそれぞれ所定範囲の値に制限することにより、優
れた全光線透過率を維持したまま、所定の帯電防止性
(表面抵抗率)や耐擦傷性が得られることを見出し、本
発明を完成した。すなわち、本発明の目的は、容易に製
造することが可能であって、表示機器に使用した場合
に、優れた全光線透過率、帯電防止性、および耐擦傷性
等が得られる帯電防止性ハードコートフィルムを提供す
ることにある。また、本発明の別の目的は、優れた全光
線透過率、帯電防止性、および耐擦傷性等を有する帯電
防止性ハードコートフィルムが、効率的に得られる帯電
防止性ハードコートフィルムの製造方法を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION The inventors of the present invention have
As a result of diligent consideration of the above-mentioned problems, the antistatic layer and the hard coat layer are composed of an ionizing radiation curable resin, and the thickness of the antistatic layer and the average particle diameter of the antistatic particles contained in the antistatic layer, By limiting the Taber abrasion hardness of the hard coat film measured according to JIS K5400 to a value within a predetermined range, while maintaining excellent total light transmittance, a predetermined antistatic property (surface resistivity) can be obtained. ) And scratch resistance were obtained, and the present invention was completed. That is, the object of the present invention is an antistatic hard film that can be easily manufactured and that, when used in a display device, provides excellent total light transmittance, antistatic property, scratch resistance, and the like. To provide a coated film. Another object of the present invention is to provide an antistatic hard coat film having excellent total light transmittance, antistatic property, scratch resistance and the like, which is an efficient method for producing an antistatic hard coat film. To provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基材フ
ィルム上に、(A)電離放射線硬化性樹脂からなるハー
ドコート層と、(B)平均粒子径が0.01〜2μmの
帯電防止粒子を含む電離放射線硬化性樹脂からなる厚さ
0.03〜2μmの帯電防止層と、を順次に含む帯電防
止性ハードコートフィルムであって、JIS K540
0に準拠して測定されるテーバー磨耗硬度を25以下の
値とすることを特徴とする帯電防止性ハードコートフィ
ルムが提供され、上述した問題を解決することができ
る。このように構成すると、ハードコート層上に設けら
れた帯電防止層に含まれる帯電防止粒子の働きにより、
所定の帯電防止性を得ることができる。また、このよう
に構成すると、液晶表示機器等に使用した場合に、優れ
た全光線透過率や耐擦傷性を有する帯電防止性ハードコ
ートフィルムを容易に提供することができる。
According to the present invention, (A) a hard coat layer made of an ionizing radiation-curable resin and (B) a charge having an average particle size of 0.01 to 2 μm on a base film. An antistatic hard coat film, which sequentially comprises an antistatic layer having a thickness of 0.03 to 2 μm and made of an ionizing radiation-curable resin containing antistatic particles, according to JIS K540.
There is provided an antistatic hard coat film characterized in that the Taber abrasion hardness measured in accordance with 0 is 25 or less, and the above-mentioned problems can be solved. According to this structure, by the function of the antistatic particles contained in the antistatic layer provided on the hard coat layer,
A predetermined antistatic property can be obtained. Moreover, when comprised in this way, when used for a liquid crystal display device etc., the antistatic hard coat film which has the outstanding total light transmittance and abrasion resistance can be easily provided.

【0009】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、帯電防止粒子の平均粒子径
と、帯電防止層の厚さとを実質的に等しくすることが好
ましい。このように構成すると、帯電防止層において、
帯電防止粒子が実質的に単層として存在するため、帯電
防止粒子による光吸収を少なくすることができる。ま
た、このように構成すると、隣接する帯電防止粒子同士
が接触しやすいために、比較的少量の添加で所定の表面
抵抗率(単に、表面抵抗と称する場合がある。)を得る
ことができる。したがって、帯電防止性ハードコートフ
ィルムにおいて、より優れた全光線透過率および帯電防
止特性を得ることができる。
In forming the antistatic hard coat film of the present invention, it is preferable that the average particle diameter of the antistatic particles and the thickness of the antistatic layer are substantially equal. According to this structure, in the antistatic layer,
Since the antistatic particles substantially exist as a single layer, light absorption by the antistatic particles can be reduced. Further, with such a configuration, since adjacent antistatic particles are likely to come into contact with each other, it is possible to obtain a predetermined surface resistivity (sometimes referred to simply as surface resistance) with a relatively small amount of addition. Therefore, in the antistatic hard coat film, more excellent total light transmittance and antistatic properties can be obtained.

【0010】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、帯電防止粒子の添加量を、
帯電防止層の全体量に対して、50〜90重量%の範囲
内の値とすることが好ましい。このように構成すると、
帯電防止層において、所定の表面抵抗率が確実に得られ
る一方、全光線透過率を所定値以上の値に制御すること
ができる。
Further, in forming the antistatic hard coat film of the present invention, the amount of antistatic particles added is
The value is preferably in the range of 50 to 90% by weight with respect to the total amount of the antistatic layer. With this configuration,
In the antistatic layer, a predetermined surface resistivity can be reliably obtained, while the total light transmittance can be controlled to a value equal to or higher than a predetermined value.

【0011】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、帯電防止層が、パターニン
グしてあることが好ましい。このように構成すると、全
体面積に対する帯電防止層の面積が低下するため、帯電
防止層による光の吸収等が少なくなり、より優れた全光
線透過率を得ることができる。また、帯電防止層の面積
が低下した分、帯電防止粒子を多量に添加することがで
きるため、所定の表面抵抗値が確実に得ることができ
る。したがって、帯電防止性ハードコートフィルムにお
いて、より優れた全光線透過率や帯電防止特性を得るこ
とができる。
In forming the antistatic hard coat film of the present invention, the antistatic layer is preferably patterned. According to this structure, the area of the antistatic layer with respect to the entire area is reduced, so that light absorption by the antistatic layer is reduced and a more excellent total light transmittance can be obtained. Moreover, since a large amount of antistatic particles can be added in proportion to the decrease in the area of the antistatic layer, a predetermined surface resistance value can be reliably obtained. Therefore, in the antistatic hard coat film, more excellent total light transmittance and antistatic properties can be obtained.

【0012】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、ハードコート層と、帯電防
止層との界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹
脂が反応していることが好ましい。このように構成する
と、ハードコート層と、帯電防止層との間の密着力が高
まり、ハードコート層による帯電防止層の機械的拘束力
を高めることができる。したがって、帯電防止層の機械
的強度や耐擦傷性をより向上させることができるととも
に、帯電防止層の薄膜化が容易になる。
In forming the antistatic hard coat film of the present invention, it is preferable that each ionizing radiation curable resin reacts at the interface between the hard coat layer and the antistatic layer. According to this structure, the adhesion between the hard coat layer and the antistatic layer is enhanced, and the mechanical restraint of the antistatic layer by the hard coat layer can be enhanced. Therefore, the mechanical strength and scratch resistance of the antistatic layer can be further improved, and the antistatic layer can be easily thinned.

【0013】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、ハードコート層を、防眩ハ
ードコート層とすることが好ましい。このように構成す
ると、帯電防止性ハードコートフィルムに対して、防眩
性を付与し、外光に対する影響を効果的に排除すること
ができる。
In forming the antistatic hard coat film of the present invention, it is preferable that the hard coat layer is an antiglare hard coat layer. According to this structure, it is possible to impart antiglare properties to the antistatic hard coat film and effectively eliminate the influence on the external light.

【0014】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムを構成するにあたり、インライン−プレイニング
ースイッチング(IPS)液晶表示装置に使用する帯電
防止性ハードコートフィルムであることが好ましい。こ
のように構成すると、構造上静電気に対して弱く、1×
108Ω・cm程度の帯電防止性(導電性)が必要なI
PS液晶表示装置においても、帯電防止性ハードコート
フィルムによる帯電の影響を排除することができる。し
たがって、IPS液晶表示装置を駆動する際に、水平方
向に電圧を印加することにより、正確に液晶駆動するこ
とができる。
In forming the antistatic hard coat film of the present invention, the antistatic hard coat film used in an in-line-planing-switching (IPS) liquid crystal display device is preferable. With this structure, the structure is weak against static electricity, and 1 ×
I need antistatic property (conductivity) of about 10 8 Ω · cm
Also in the PS liquid crystal display device, it is possible to eliminate the influence of charging due to the antistatic hard coat film. Therefore, when driving the IPS liquid crystal display device, the liquid crystal can be accurately driven by applying a voltage in the horizontal direction.

【0015】また、本発明の別な態様は、(A)電離放
射線を照射し、電離放射線硬化性樹脂からなるハードコ
ート層を基材フィルム上に形成する第1の工程と、
(B)電離放射線を照射し、平均粒子径が0.01〜2
μmの帯電防止粒子を含む電離放射線硬化性樹脂からな
る厚さ0.03〜2μmの帯電防止層をハードコート層
上に形成し、JIS K5400に準拠して測定される
ハードコートフィルムのテーバー磨耗硬度を25以下の
値とする第2の工程と、を含むことを特徴とする帯電防
止性ハードコートフィルムの製造方法である。このよう
に実施すると、ハードコート層上に、正確かつ容易に、
所定の耐磨耗性を有する帯電防止層を積層することがで
きる。したがって、帯電防止層に含まれる帯電防止粒子
の働きにより、所定の帯電防止性を確実に得ることがで
きる。また、電離放射線を利用しているため、表示機器
に使用した場合に、優れた全光線透過率や耐擦傷性を有
する帯電防止性ハードコートフィルムを容易かつ迅速に
提供することができる。
Another embodiment of the present invention is (A) a first step of irradiating ionizing radiation to form a hard coat layer made of an ionizing radiation-curable resin on a base film.
(B) Irradiating with ionizing radiation, the average particle size is 0.01 to 2
A Taber abrasion hardness of a hard coat film, which is formed by forming an antistatic layer having a thickness of 0.03 to 2 μm, which is made of an ionizing radiation-curable resin containing μm antistatic particles on a hard coat layer and is measured according to JIS K5400. And a second step having a value of 25 or less, and a method for producing an antistatic hard coat film. By carrying out in this manner, it is possible to accurately and easily, on the hard coat layer,
An antistatic layer having a predetermined abrasion resistance can be laminated. Therefore, a predetermined antistatic property can be surely obtained by the action of the antistatic particles contained in the antistatic layer. Further, since ionizing radiation is used, an antistatic hard coat film having excellent total light transmittance and scratch resistance when used in a display device can be provided easily and quickly.

【0016】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法を実施するにあたり、第1の工程にお
いて、電離放射線の照射によりハードコート層を半硬化
の状態で形成し、第2の工程において、電離放射線の照
射により帯電防止層を硬化させて形成するとともに、ハ
ードコート層をさらに硬化させることが好ましい。この
ように実施すると、ハードコート層と、帯電防止層との
界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹脂とを反
応させることができる。したがって、帯電防止層の機械
的強度をより向上させることができるとともに、所定の
耐擦傷性を効果的に得ることができる。また、このよう
に実施すると、帯電防止層を硬化させる際に、周囲の酸
素による反応阻害が生じたとしても、ハードコート層内
に残留している開始剤を効果的に利用して、帯電防止層
を十分に硬化させることができる。
In carrying out the method for producing an antistatic hard coat film of the present invention, in the first step, the hard coat layer is formed in a semi-cured state by irradiation with ionizing radiation, and in the second step. It is preferable to harden the antistatic layer by irradiation with ionizing radiation and further harden the hard coat layer. By carrying out in this way, each ionizing radiation curable resin can be reacted at the interface between the hard coat layer and the antistatic layer. Therefore, the mechanical strength of the antistatic layer can be further improved, and a predetermined scratch resistance can be effectively obtained. Further, by carrying out in this way, even when the reaction inhibition due to the ambient oxygen occurs when the antistatic layer is cured, the initiator remaining in the hard coat layer is effectively utilized to prevent the antistatic The layer can be fully cured.

【0017】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法を実施するにあたり、第1の工程にお
ける電離放射線の照射量を100mJ/cm2未満の値
とするとともに、第2の工程における電離放射線の照射
量を500mJ/cm2以上の値とすることが好まし
い。このような照射量を採用することにより、第1の工
程において、表面タックが実質的に無い状態であって、
半硬化の状態に容易にすることができる。したがって、
液状の樹脂で無いことから、ハードコート層上に、均一
な厚さの帯電防止層を正確かつ容易に形成することがで
きる。また、ハードコート層は、一部硬化が進んでいる
状態であるため、その後、第2工程において、このよう
な照射量を採用して、硬化反応を進めたとしても、帯電
防止層およびハードコート層を十分に硬化できるととも
に、ハードコート層に発生する硬化収縮を低減すること
ができる。
In carrying out the method for producing an antistatic hard coat film of the present invention, the dose of ionizing radiation in the first step is set to a value of less than 100 mJ / cm 2 , and the ionization in the second step is performed. The irradiation dose of radiation is preferably 500 mJ / cm 2 or more. By adopting such an irradiation amount, in the first step, there is substantially no surface tack,
It can be easily made into a semi-cured state. Therefore,
Since it is not a liquid resin, an antistatic layer having a uniform thickness can be accurately and easily formed on the hard coat layer. Further, since the hard coat layer is partially cured, even if the curing reaction is promoted by adopting such an irradiation amount in the second step thereafter, the antistatic layer and the hard coat layer are also cured. The layer can be sufficiently cured and the curing shrinkage generated in the hard coat layer can be reduced.

【0018】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法を実施するにあたり、少なくとも第2
の工程を、窒素中において実施することが好ましい。こ
のように実施すると、電離放射線を照射して、帯電防止
層を硬化させる際の酸素阻害を、効果的に防止すること
ができる。
In carrying out the method for producing an antistatic hard coat film of the present invention, at least the second step is carried out.
It is preferable to carry out the step of in nitrogen. By carrying out in this way, it is possible to effectively prevent oxygen inhibition when the antistatic layer is cured by irradiation with ionizing radiation.

【0019】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法を実施するにあたり、第2の工程にお
いて、電離放射線をパターン露光することが好ましい。
このように実施すると、パターン化して、面積が低減し
た帯電防止層を容易に得ることができる。そのため、さ
らに優れた全光線透過率を有する帯電防止性ハードコー
トフィルムを提供することができる。
Further, in carrying out the method for producing an antistatic hard coat film of the present invention, it is preferable to perform pattern exposure with ionizing radiation in the second step.
By carrying out in this way, it is possible to easily obtain an antistatic layer having a reduced area by patterning. Therefore, it is possible to provide an antistatic hard coat film having further excellent total light transmittance.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】[第1の実施形態]第1の実施形
態は、図1(A)に示すように、基材フィルム18上
に、(A)電離放射線硬化性樹脂からなるハードコート
層16と、(B)平均粒子径が0.01〜2μmの帯電
防止粒子10を含む電離放射線硬化性樹脂11からなる
厚さ0.03〜2μmの帯電防止層14と、を順次に含
む帯電防止性ハードコートフィルムであって、JIS
K5400に準拠して測定されるテーバー磨耗硬度を2
5以下の値とした帯電防止性ハードコートフィルム20
である。以下、帯電防止性ハードコートフィルムを構成
要件ごとに分けて説明するとともに、適宜図面を参照し
ながら、具体的に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [First Embodiment] In the first embodiment, as shown in FIG. 1A, a hard coat made of (A) an ionizing radiation curable resin is formed on a base film 18. Charging sequentially including a layer 16 and (B) an antistatic layer 14 having a thickness of 0.03 to 2 μm and made of an ionizing radiation curable resin 11 containing the antistatic particles 10 having an average particle diameter of 0.01 to 2 μm. An anti-hard coat film, which is JIS
The Taber abrasion hardness measured according to K5400 is 2
Antistatic hard coat film 20 with a value of 5 or less
Is. Hereinafter, the antistatic hard coat film will be described separately for each constituent element, and will be specifically described with reference to the drawings as appropriate.

【0021】1.基材フィルム 帯電防止性ハードコートフィルムにおける基材フィルム
の種類としては、ポリエチレンテレフタレート(PE
T)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタ
レート(PEN)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピ
レン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリメチル
メタクリレート(PMMA)、ポリサルホン(PS
U)、ポリアクリロニトリル(PAN)、トリアセチル
セルロース(TAC)等の透明樹脂フィルムを挙げるこ
とができる。これらの基材フィルムのうち、特に汎用性
が高く、透明性や機械的強度にも優れていることから、
ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネートからな
る透明樹脂フィルムを使用することが好ましい。
1. Base film The type of base film in the antistatic hard coat film is polyethylene terephthalate (PE
T), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polymethylmethacrylate (PMMA), polysulfone (PS)
U), polyacrylonitrile (PAN), triacetyl cellulose (TAC), and other transparent resin films can be mentioned. Of these substrate films, particularly versatile, because of their excellent transparency and mechanical strength,
It is preferable to use a transparent resin film made of polyethylene terephthalate or polycarbonate.

【0022】また、基材フィルムの厚さを6〜500μ
mの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、基
材フィルムの厚さが6μm未満の値となると、機械的強
度が著しく低下する場合があるためであり、一方、基材
の厚さが500μmを超えると、光透過性が低下して、
表示画像の視認性が不十分になる場合があるためであ
る。したがって、機械的強度や光透過性のバランスがよ
り良好となることから、基材フィルムの厚さを20〜2
50μmの範囲内の値とすることがより好ましい。
The thickness of the base film is 6 to 500 μm.
A value within the range of m is preferable. The reason for this is that if the thickness of the base material film is less than 6 μm, the mechanical strength may be significantly reduced, while if the thickness of the base material exceeds 500 μm, the light transmittance is reduced. do it,
This is because the visibility of the displayed image may be insufficient. Therefore, the balance of the mechanical strength and the light transmission becomes better, so that the thickness of the base film is 20 to 2
It is more preferable to set the value within the range of 50 μm.

【0023】また、基材フィルムの表面に、プライマー
層を設けることが好ましい。この理由は、プライマー層
を設けることにより、基材フィルムと、ハードコート層
を構成する電離放射線硬化性樹脂からなる硬化物との間
の密着力を向上させて、ハードコート層、ひいては、帯
電防止層による耐擦傷性をさらに向上させることができ
るためである。ここで、プライマー層の構成材料として
は、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
エステル樹脂、シリコーン樹脂等の一種単独または二種
以上の組み合わせが挙げられる。
A primer layer is preferably provided on the surface of the base film. The reason for this is that by providing the primer layer, the adhesion between the base film and the cured product of the ionizing radiation curable resin that constitutes the hard coat layer is improved, and the hard coat layer, and by extension, the antistatic property. This is because the scratch resistance of the layer can be further improved. Here, examples of the constituent material of the primer layer include urethane resin, acrylic resin, epoxy resin, polyester resin, and silicone resin, which may be used alone or in combination of two or more.

【0024】また、プライマー層の厚さを1〜20μm
の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、プラ
イマー層の厚さが1μm未満となると、プライマー効果
が発現しない場合があるためである。一方、プライマー
層の厚さが20μmを超えると、帯電防止性ハードコー
トフィルムを構成した場合に、画像の視認性が低下する
場合があるためである。したがって、プライマー効果
と、画像の視認性とのバランスがより良好となるため、
プライマー層の厚さを3〜15μmの範囲内の値とする
ことがより好ましい。
The thickness of the primer layer is 1 to 20 μm.
It is preferable that the value is within the range. The reason for this is that the primer effect may not be exhibited when the thickness of the primer layer is less than 1 μm. On the other hand, if the thickness of the primer layer is more than 20 μm, the visibility of the image may be deteriorated when the antistatic hard coat film is formed. Therefore, since the balance between the primer effect and the visibility of the image becomes better,
It is more preferable to set the thickness of the primer layer to a value within the range of 3 to 15 μm.

【0025】また、基材フィルムの表面に、微細な凹
凸、例えば0.1〜5μmの凹凸を設けることが好まし
い。すなわち、基材フィルムと、ハードコート層との間
の密着性を向上させるとともに、基材フィルムによる防
眩効果を発揮させるために、微細な凹凸を設ける表面処
理を施すことが好ましい。このような微細な凹凸を設け
る表面処理の方法としては、例えば、基材フィルムに対
するサンドブラスト法や溶剤処理法など、あるいはコロ
ナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾ
ン・紫外線照射処理などの酸化処理などが挙げられる。
Further, it is preferable to provide fine irregularities, for example, irregularities of 0.1 to 5 μm on the surface of the base film. That is, in order to improve the adhesiveness between the base film and the hard coat layer and to exert the antiglare effect by the base film, it is preferable to perform a surface treatment for providing fine irregularities. As a method of surface treatment for providing such fine irregularities, for example, a sandblast method or a solvent treatment method for a base film, or a corona discharge treatment, a chromic acid treatment, a flame treatment, a hot air treatment, an ozone / ultraviolet irradiation treatment, etc. And the like.

【0026】また、基材フィルムの裏面に、粘着剤層を
設けることが好ましい。この理由は、このように粘着剤
層を設けると、建物や車両の窓ガラス、その他、耐擦傷
性や耐磨耗性、あるいは帯電防止性を要求している被着
物に対して、任意に貼着することが可能となるためであ
る。ここで、粘着剤としては、天然ゴム、合成ゴム、ア
クリル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、ウレタン系
樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。また、粘着剤
には、更に必要に応じて粘着付与剤、充填剤、軟化剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、架橋剤等を配合することが
できる。なお、粘着剤の厚さを、通常5〜100μmの
範囲内の値とすることが好ましく、10〜50μmの範
囲内の値とすることがより好ましい。
Further, it is preferable to provide an adhesive layer on the back surface of the base film. The reason for this is that if such an adhesive layer is provided, it can be attached arbitrarily to window glass of buildings and vehicles and other adherends requiring abrasion resistance, abrasion resistance, or antistatic properties. This is because it is possible to wear them. Here, examples of the adhesive include natural rubber, synthetic rubber, acrylic resin, polyvinyl ether resin, urethane resin, and silicone resin. Further, the adhesive may further include a tackifier, a filler, a softener,
Antioxidants, ultraviolet absorbers, cross-linking agents and the like can be added. The thickness of the pressure-sensitive adhesive is usually preferably in the range of 5 to 100 μm, more preferably 10 to 50 μm.

【0027】2.ハードコート層 (1)電離放射線硬化性樹脂 主剤 ハードコート層を構成する電離放射線硬化性樹脂(放射
線硬化性透明樹脂と称する場合がある。)の主剤の種類
としては、特に制限はなく、従来公知のものの中から選
択できる。例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)ア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリ
レート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アク
リレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ
(メタ)アクリレート、EO変性リン酸ジ(メタ)アクリレ
ート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、
イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ(メタ)アクリレート、ジベンタエリスリ
トールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、PO変性トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチ
ル)イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリ
スリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレ
ート、ポリオールアクリレート等の一種単独、あるいは
二種以上の組み合わせが挙げられる。
2. Hard Coat Layer (1) Main Agent of Ionizing Radiation Curable Resin The main agent of the ionizing radiation curable resin (may be referred to as a radiation curable transparent resin) constituting the hard coat layer is not particularly limited and is conventionally known. You can choose from those. For example, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) ) Acrylate, neopentyl glycol dihydroxypivalate
(Meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone-modified dicyclopentenyl di
(Meth) acrylate, EO-modified di (meth) acrylate phosphate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate,
Isocyanurate di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, diventaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri
(Meth) acrylate, PO-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, dipentaerythritol penta
(Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa
Examples thereof include (meth) acrylates, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyester acrylates, polyol acrylates, and the like, or a combination of two or more thereof.

【0028】硬化剤 また、硬化剤(硬化触媒を含む。)としては、例えば、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエ
ーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノ
ン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノ
ン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニ
ル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4−
(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2(ヒドロキシ
−2−プロプル)ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニ
ルベンゾフェノン、4,4'−ジエチルアミノベンゾフェ
ノン、ジクロロベンゾフェノン、2−メチルアントラキ
ノン、2−エチルアントラキノン、2−タ−シャリ−ブ
チルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−
メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2
−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサン
トン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメ
チルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p−
ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。こ
れらは一種を単独で用いてもよいし、あるいは二種以上
を組み合わせて用いてもよい。
As the curing agent (including a curing catalyst), for example,
Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenyl Acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one , 4-
(2-Hydroxyethoxy) phenyl-2 (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-ta- Shari-butyl anthraquinone, 2-amino anthraquinone, 2-
Methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2
-Chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzyldimethylketal, acetophenonedimethylketal, p-
Examples thereof include dimethylamine benzoate. These may be used alone or in combination of two or more.

【0029】また、溶剤を蒸発させる際に加熱しても、
分解や劣化が少ない硬化剤として、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィ(GPC)により測定される数平均
分子量が、500〜1,000程度のオリゴマータイプ
の硬化剤を好ましく用いることができる。このようなオ
リゴマータイプの硬化剤としては、具体的に、ポリ[2-
ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェニル]
プロパノン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1-
ビニルーフェニル)]プロパノン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2
-エチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェニル]プロパノ
ン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2-エチル-1-[4-ビニル-フェニ
ル]プロパノン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-(1
-メチルビニル)フェニル]ブタノン]、ポリ[2-ヒドロキ
シ-2-メチル-1-[4-(1-メチル-フェニル)]ブタノン]、ポ
リ[2-ヒドロキシ-2-エチル-1-[4-(1-メチルビニル)フェ
ニル]ブタノン]、ポリ[2-ヒドロキシ-2-エチル-1-[4-ビ
ニル-フェニル]ブタノン]、等が挙げられる。
In addition, even if the solvent is heated during evaporation,
As a curing agent with less decomposition or deterioration, an oligomer type curing agent having a number average molecular weight of about 500 to 1,000 measured by gel permeation chromatography (GPC) can be preferably used. Specific examples of such an oligomer type curing agent include poly [2-
Hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl]
Propanone], poly [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-
Vinyl-phenyl)] propanone], poly [2-hydroxy-2]
-Ethyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone], poly [2-hydroxy-2-ethyl-1- [4-vinyl-phenyl] propanone], poly [2-hydroxy-2-methyl] -1- [4- (1
-Methylvinyl) phenyl] butanone], poly [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methyl-phenyl)] butanone], poly [2-hydroxy-2-ethyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] butanone], poly [2-hydroxy-2-ethyl-1- [4-vinyl-phenyl] butanone], and the like.

【0030】また、ハードコート剤の調製の際に、
(A)成分の電離放射線硬化性樹脂の主剤100重量部
に対し、(B)成分の硬化剤の添加量を0.5〜30重
量部の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、
かかる(B)成分の硬化剤の添加量が0.5重量部未満
の値となると、電離放射線硬化性樹脂の硬化が不十分と
なる場合があるためである。一方、かかる(B)成分の
硬化剤の添加量が30重量部を超えると、電離放射線硬
化性樹脂の硬化性の制御が困難となったり、貯蔵安定性
が低下したりする場合があるためである。したがって、
(A)成分の電離放射線硬化性樹脂の主剤100重量部
に対し、(B)成分の硬化剤の添加量を1〜20重量部
の範囲内の値とすることがより好ましい。
When preparing the hard coat agent,
It is preferable that the addition amount of the curing agent of the component (B) be a value within the range of 0.5 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main component of the ionizing radiation curable resin of the component (A). The reason for this is
This is because if the amount of the curing agent as the component (B) added is less than 0.5 part by weight, the curing of the ionizing radiation curable resin may be insufficient. On the other hand, if the addition amount of the curing agent as the component (B) exceeds 30 parts by weight, it may be difficult to control the curability of the ionizing radiation-curable resin or the storage stability may decrease. is there. Therefore,
More preferably, the amount of the curing agent as the component (B) added is set to a value within the range of 1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main component of the ionizing radiation curable resin as the component (A).

【0031】(2)厚さ また、ハードコート層の厚さを2〜20μmの範囲内の
値とすることが好ましい。この理由は、かかるハードコ
ート層の厚さが2μm未満の値となると、テーバー磨耗
硬度が著しく高い値となる場合があるためである。一
方、かかるハードコート層の厚さが20μmを超える
と、カールが大きくなる場合があるためである。したが
って、テーバー磨耗硬度やカールの発生を考慮して、ハ
ードコート層の厚さを5〜15μmの範囲内の値とする
ことがより好ましい。
(2) Thickness The thickness of the hard coat layer is preferably set to a value within the range of 2 to 20 μm. The reason for this is that if the thickness of the hard coat layer is less than 2 μm, the Taber abrasion hardness may be extremely high. On the other hand, if the thickness of the hard coat layer exceeds 20 μm, the curl may increase. Therefore, it is more preferable to set the thickness of the hard coat layer to a value within the range of 5 to 15 μm in consideration of the Taber abrasion hardness and the occurrence of curl.

【0032】(3)フィラー また、ハードコート層を構成する電離放射線硬化性樹脂
中に、防眩性や耐擦傷性を向上させるために、各種フィ
ラーを含有させて、フィラー入りハードコート層とする
ことが好ましい。例えば、好ましいフィラーとしては、
シリカ粒子、ポリエステル粒子、ポリスチレン粒子、ア
クリル樹脂粒子等の一種単独、または二種以上の組み合
わせを挙げることができる。
(3) Filler Further, in order to improve antiglare property and scratch resistance, the ionizing radiation curable resin constituting the hard coat layer contains various fillers to form a hard coat layer containing a filler. It is preferable. For example, as a preferable filler,
Examples thereof include silica particles, polyester particles, polystyrene particles, acrylic resin particles, and the like, or a combination of two or more kinds.

【0033】3.帯電防止層 (1)電離放射線硬化性樹脂 帯電防止層を構成するのに使用する電離放射線硬化性樹
脂としては、ハードコート層に使用したのと同様の電離
放射線硬化性樹脂を使用することが好ましい。この理由
は、このように構成すると、帯電防止層と、ハードコー
ト層との間の密着力が向上し、結果として、帯電防止層
においても、優れた耐擦傷性を得ることができるためで
ある。
3. Antistatic Layer (1) Ionizing Radiation Curable Resin As the ionizing radiation curable resin used to form the antistatic layer, it is preferable to use the same ionizing radiation curable resin as that used for the hard coat layer. . The reason for this is that when configured in this manner, the adhesion between the antistatic layer and the hard coat layer is improved, and as a result, excellent anti-scratch resistance can also be obtained in the antistatic layer. .

【0034】(2)帯電防止粒子 種類 また、帯電防止粒子(導電性粒子)の種類としては、錫
ドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化錫、酸化
錫、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモン等の一種単独
または二種以上の組み合わせが挙げられる。これらのう
ち、電離放射線硬化性樹脂中に、より均一に混合分散で
きることから、酸化錫や錫ドープ酸化インジウムを使用
することがより好ましい。
(2) Types of Antistatic Particles As the types of antistatic particles (conductive particles), tin-doped indium oxide, antimony-doped tin oxide, tin oxide, zinc antimonate, antimony pentoxide, etc. may be used alone or. A combination of two or more kinds can be mentioned. Of these, tin oxide and tin-doped indium oxide are more preferably used because they can be more uniformly mixed and dispersed in the ionizing radiation curable resin.

【0035】平均粒径 また、帯電防止粒子の平均粒径を0.01〜2μmの範
囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる帯
電防止粒子の平均粒径が0.01μm未満の値となる
と、粒子の重なりが多数生じて、全光線透過率の値が著
しく低下する場合があり、また、隣接する帯電防止粒子
間の電気抵抗が高くなり、結果として、表面抵抗率の値
が大きくなる場合があるためである。一方、かかる帯電
防止粒子の平均粒径が2μmを超えると、沈降等が生じ
やすくなって、取り扱いが困難となったり、あるいは、
表面平滑性が低下したりする場合があるためである。し
たがって、全光線透過率や、帯電防止粒子の取り扱い性
とのバランスがより良好となることから、帯電防止粒子
の平均粒径を0.05〜1μmの範囲内の値とすること
がより好ましく、0.1〜0.5μmの範囲内の値とす
ることがさらに好ましい。
Average particle size Further, it is preferable that the average particle size of the antistatic particles is set to a value within the range of 0.01 to 2 μm. The reason for this is that when the average particle diameter of such antistatic particles is less than 0.01 μm, a large number of particles are overlapped with each other, and the value of total light transmittance may be significantly reduced. This is because the electrical resistance between particles becomes high, and as a result, the surface resistivity value may become large. On the other hand, when the average particle diameter of the antistatic particles exceeds 2 μm, sedimentation or the like is likely to occur, which makes the handling difficult, or
This is because the surface smoothness may decrease. Therefore, it is more preferable to set the average particle size of the antistatic particles to a value within the range of 0.05 to 1 μm, because the total light transmittance and the handling property of the antistatic particles are better balanced. It is more preferable to set the value within the range of 0.1 to 0.5 μm.

【0036】添加量 また、帯電防止粒子の添加量を、帯電防止層の全体量に
対して、50〜90重量%の範囲内の値とすることが好
ましい。この理由は、かかる帯電防止粒子の添加量が5
0重量%未満の値となると、隣接する帯電防止粒子間の
電気抵抗が高くなり、結果として、表面抵抗率の値が大
きくなる場合があるためである。一方、かかる帯電防止
粒子の添加量が90重量%を超えると、粒子の重なりが
多数生じて、全光線透過率の値が著しく低下する場合が
あるためである。したがって、表面抵抗率と、全光線透
過率とのバランスがより良好となることから、帯電防止
粒子の添加量を、帯電防止層の全体量に対して、55〜
85重量%の範囲内の値とすることがより好ましく、6
0〜80重量%の範囲内の値とすることがさらに好まし
い。
Addition Amount The addition amount of antistatic particles is preferably set to a value within the range of 50 to 90% by weight based on the total amount of the antistatic layer. The reason is that the addition amount of such antistatic particles is 5
This is because when the value is less than 0% by weight, the electric resistance between adjacent antistatic particles becomes high, and as a result, the surface resistivity value may become large. On the other hand, if the addition amount of the antistatic particles exceeds 90% by weight, a large number of particles are overlapped with each other and the value of total light transmittance may be significantly reduced. Therefore, since the balance between the surface resistivity and the total light transmittance is better, the addition amount of the antistatic particles is 55-55 with respect to the total amount of the antistatic layer.
More preferably, the value is within the range of 85% by weight, and 6
It is more preferable to set the value within the range of 0 to 80% by weight.

【0037】粉体抵抗 また、帯電防止粒子の粉体抵抗(体積抵抗)を1,00
0Ω・cm以下の値とすることが好ましい。この理由
は、かかる帯電防止粒子の粉体抵抗が1,000Ω・c
mを超えた値となると、隣接する帯電防止粒子間の電気
抵抗が高くなり、結果として、表面抵抗率の値が大きく
なったり、あるいは、所定の表面抵抗率を得るために、
多量に添加しなければならず、全光線透過率が低下する
場合があるためである。
Powder resistance Further, the powder resistance (volume resistance) of the antistatic particles is set to 100
The value is preferably 0 Ω · cm or less. The reason is that the powder resistance of the antistatic particles is 1,000 Ω · c.
When the value exceeds m, the electric resistance between the adjacent antistatic particles becomes high, and as a result, the value of the surface resistivity becomes large, or in order to obtain a predetermined surface resistivity,
This is because a large amount must be added, and the total light transmittance may decrease.

【0038】(3)厚さ また、本発明において、帯電防止層の厚さを0.03〜
2μmの範囲内の値とすることを特徴とする。この理由
は、かかる帯電防止層の厚さが0.03μm未満の値と
なると、テーバー磨耗硬度が著しく高い値となったり、
表面抵抗率の値が高くなるためである。また、帯電防止
層の厚さが0.03μm未満の値となると、ヘイズ値に
ついても、値が高くなる場合があるためである。一方、
かかる帯電防止層の厚さが2μmを超えると、帯電防止
粒子の沈降等が生じやすくなって、表面平滑性が低下し
たりする場合があるためである。したがって、テーバー
磨耗硬度や表面抵抗率の値を考慮して、帯電防止層の厚
さを0.03〜1μmの範囲内の値とすることがより好
ましい。
(3) Thickness In the present invention, the thickness of the antistatic layer is 0.03 to.
It is characterized in that the value is within a range of 2 μm. The reason for this is that when the thickness of the antistatic layer is less than 0.03 μm, the Taber abrasion hardness becomes extremely high,
This is because the surface resistivity value becomes high. Further, when the thickness of the antistatic layer is a value less than 0.03 μm, the haze value may be increased in some cases. on the other hand,
This is because when the thickness of the antistatic layer exceeds 2 μm, sedimentation of the antistatic particles is likely to occur and the surface smoothness may deteriorate. Therefore, it is more preferable to set the thickness of the antistatic layer to a value within the range of 0.03 to 1 μm in consideration of the values of Taber abrasion hardness and surface resistivity.

【0039】ここで、図1(A)〜(C)を参照して、
帯電防止層14の厚さと、帯電防止層14における帯電
防止粒子10および電離放射線硬化性樹脂11の関係を
説明する。図1(A)は、帯電防止層14の厚さと、帯
電防止粒子10の平均粒子径とが、実質的に同等であっ
て、電離放射線硬化性樹脂11の厚さについても、帯電
防止粒子10の平均粒子径とほぼ同等の値である。した
がって、帯電防止粒子は、実質的に単層に配列し、隣接
する帯電防止粒子同士が、横方向には電気的に接触する
ものの、上下方向の重なり合いは少なくなる。すなわ
ち、帯電防止層での光吸収が少なくなり、全光線透過率
の値が大きくなるとともに、表面抵抗率の値も低くな
る。また、適度の量の電離放射線硬化性樹脂が帯電防止
粒子の粒子の周囲に存在する一方、下層のハードコート
層とも十分に密着することができるので、優れた耐擦傷
性が得られるとともに、テーバー磨耗硬度の値が著しく
低下する。また、図1(B)は、帯電防止層14の厚さ
が比較的薄くなった場合を想定しており、電離放射線硬
化性樹脂11の厚さが、帯電防止粒子10の平均粒子径
よりも小さい場合である。したがって、この場合も、帯
電防止粒子は、実質的に単層に配列し、隣接する帯電防
止粒子同士が、横方向には電気的に接触するため、表面
抵抗率や全光線透過率については、許容範囲の値が得ら
れる。さらにまた、図1(C)は、帯電防止層14の厚
さが比較的厚くなった場合を想定しており、電離放射線
硬化性樹脂11の厚さが、帯電防止粒子10の平均粒子
径よりも大きい場合である。したがって、帯電防止粒子
は、上下方向にも重なる場合が生じ、全光線透過率や、
表面抵抗率が若干低下する。一方、帯電防止粒子の周囲
に存在する電離放射線硬化性樹脂が多くなるため、帯電
防止粒子を強固に固定したり、下層のハードコート層と
も十分に密着したりすることが容易になるので、優れた
耐擦傷性が得られる一方、テーバー磨耗硬度の値を著し
く低下させることができる。
Here, referring to FIGS. 1A to 1C,
The relationship between the thickness of the antistatic layer 14 and the antistatic particles 10 and the ionizing radiation curable resin 11 in the antistatic layer 14 will be described. In FIG. 1A, the thickness of the antistatic layer 14 and the average particle diameter of the antistatic particles 10 are substantially equal, and the thickness of the ionizing radiation curable resin 11 is also the same. It is a value almost equal to the average particle diameter of. Therefore, the antistatic particles are arranged substantially in a single layer, and the adjacent antistatic particles are in electrical contact with each other in the lateral direction, but the overlapping in the vertical direction is small. That is, light absorption in the antistatic layer is reduced, the total light transmittance is increased, and the surface resistivity is decreased. Further, while an appropriate amount of ionizing radiation curable resin is present around the particles of the antistatic particles, it can also sufficiently adhere to the lower hard coat layer, so that excellent scratch resistance can be obtained and the Taber can be obtained. The value of wear hardness is significantly reduced. Further, FIG. 1B assumes that the thickness of the antistatic layer 14 is relatively thin, and the thickness of the ionizing radiation curable resin 11 is larger than the average particle diameter of the antistatic particles 10. For small cases. Therefore, also in this case, the antistatic particles are arranged substantially in a single layer, and adjacent antistatic particles are in electrical contact with each other in the lateral direction, so that for the surface resistivity and the total light transmittance, Allowable values are obtained. Furthermore, FIG. 1C assumes that the thickness of the antistatic layer 14 is relatively large, and the thickness of the ionizing radiation curable resin 11 is larger than the average particle diameter of the antistatic particles 10. Is also large. Therefore, the antistatic particles may overlap in the vertical direction, and the total light transmittance,
The surface resistivity is slightly reduced. On the other hand, since the amount of the ionizing radiation curable resin existing around the antistatic particles is large, it is easy to firmly fix the antistatic particles or sufficiently adhere to the lower hard coat layer, which is excellent. While abrasion resistance is obtained, the Taber abrasion hardness value can be significantly reduced.

【0040】(4)配置 また、ハードコート層を挟んで、上下方向に帯電防止層
を積層配置することが好ましい。このように構成し、し
かも上下方向に存在する帯電防止層を電気接続部材(ア
ースを含む。)で導通させることにより、さらに優れた
帯電防止効果を得ることができる。なお、下方に配置し
た帯電防止層の構成は、上述したように、上方に配置し
た帯電防止層の構成と同様とすることもできるし、ある
いは、上方に配置した帯電防止層の構成と異ならせるこ
とも可能である。
(4) Arrangement It is also preferable to stack and dispose the antistatic layer in the vertical direction with the hard coat layer sandwiched therebetween. With such a structure, and by electrically connecting the antistatic layer existing in the vertical direction by the electric connection member (including ground), a further excellent antistatic effect can be obtained. The structure of the antistatic layer disposed below may be the same as the structure of the antistatic layer disposed above as described above, or may be different from that of the antistatic layer disposed above. It is also possible.

【0041】(5)パターン また、図2(A)〜(C)に示すように、帯電防止層1
4をパターン化することが好ましい。ここで、図2
(A)は、ハードコート層16上に、帯電防止層14を
ライン状にパターン化した例である。また、図2(B)
は、帯電防止層14をライン状にパターン化するととも
に、ハードコート層16の内部に一部または全部を埋設
して、表面を平滑化した例である。そして、図2(B)
では、ライン状の帯電防止層14の末端に、各ラインを
導通させるための共通電極30を設けて、帯電防止層1
4の表面抵抗率を低下させた例である。また、図2
(C)は、ライン状の帯電防止層14と、直交するよう
に、別のライン状の帯電防止層31を設け、全体とし
て、格子状パターンとした例である。このように帯電防
止層14をパターン化することにより、優れた表面抵抗
値を維持したまま、帯電防止層の面積を低下させること
ができる。したがって、帯電防止層の面積を低下させる
にしたがって、全光線透過率の値を著しく高めることが
できる。
(5) Pattern Also, as shown in FIGS. 2A to 2C, the antistatic layer 1
4 is preferably patterned. Here, FIG.
(A) is an example in which the antistatic layer 14 is linearly patterned on the hard coat layer 16. In addition, FIG. 2 (B)
Is an example in which the antistatic layer 14 is patterned in a line shape, and a part or all of the hard coat layer 16 is embedded to smooth the surface. And FIG. 2 (B)
Then, the common electrode 30 for conducting each line is provided at the end of the line-shaped antistatic layer 14, and the antistatic layer 1
4 is an example in which the surface resistivity of No. 4 is lowered. Also, FIG.
(C) is an example in which another line-shaped antistatic layer 31 is provided so as to be orthogonal to the line-shaped antistatic layer 14 to form a grid pattern as a whole. By patterning the antistatic layer 14 in this way, the area of the antistatic layer can be reduced while maintaining an excellent surface resistance value. Therefore, as the area of the antistatic layer is reduced, the value of total light transmittance can be significantly increased.

【0042】ここで、具体的に、帯電防止層の別な平面
パターン例を、図3の(A)〜(D)に示す。図3
(A)および(B)に示されるように、横方向のライン
状パターンや縦方向のライン状パターンとすることによ
り、所定の帯電防止効果を維持したまま、帯電防止層の
面積を定量的に低下させることができる。また、このよ
うにパターン化すると、液晶表示装置等の走査線の方向
と一致させることが容易であるため、表示画像をより鮮
明に認識することができる。また、図3(C)に示され
るように、格子状(ひし形)パターンとすることによ
り、端部において、アースを取り易いという利点を得る
ことができる。さらにまた、図3(D)に示されるよう
に、同心円状パターンと、横方向のライン状パターンの
組み合わせとすることにより、液晶表示装置等の表示画
面を、所定の視野角をもって眺めた場合であっても、表
示画像をより鮮明に認識することができる。
Here, specifically, another example of the plane pattern of the antistatic layer is shown in FIGS. Figure 3
As shown in (A) and (B), by using a horizontal line-shaped pattern or a vertical line-shaped pattern, the area of the antistatic layer can be quantitatively maintained while maintaining a predetermined antistatic effect. Can be lowered. Further, by patterning in this way, it is easy to match the direction of the scanning line of the liquid crystal display device or the like, and thus the display image can be recognized more clearly. Further, as shown in FIG. 3C, the lattice-shaped (diamond-shaped) pattern has an advantage that it is easy to ground at the end. Furthermore, as shown in FIG. 3D, a combination of a concentric circular pattern and a horizontal line pattern allows a display screen of a liquid crystal display device or the like to be viewed with a predetermined viewing angle. Even if there is, the displayed image can be recognized more clearly.

【0043】(6)表面抵抗率 また、帯電防止層の表面抵抗率(表面抵抗)を1×10
4〜1×1010Ω・cmの範囲内の値とすることが好ま
しい。この理由は、かかる帯電防止層の表面抵抗率が1
×104Ω・cm未満の値とするためには、帯電防止粒
子の添加量を多くしなければならず、帯電防止粒子同士
の重なりが多数生じて、全光線透過率の値が著しく低下
する場合があるためである。一方、かかる帯電防止層の
表面抵抗率が1×1010Ω・cmより高くなると、帯電
防止効果が低下して、通常の液晶表示装置等の画面に対
する埃等の付着を有効に防止することが困難となる場合
があるためである。したがって、全光線透過率と、帯電
防止効果とのバランスがより良好となることから、帯電
防止層の表面抵抗率を5×104〜5×109Ω・cmの
範囲内の値とすることがより好ましい。
(6) Surface resistivity Further, the surface resistivity (surface resistance) of the antistatic layer is 1 × 10.
It is preferable to set the value within the range of 4 to 1 × 10 10 Ω · cm. This is because the antistatic layer has a surface resistivity of 1
In order to obtain a value of less than × 10 4 Ω · cm, the amount of antistatic particles to be added must be increased, and many antistatic particles are overlapped with each other, resulting in a marked decrease in the total light transmittance. This is because there are cases. On the other hand, when the surface resistivity of the antistatic layer is higher than 1 × 10 10 Ω · cm, the antistatic effect is lowered, and it is possible to effectively prevent dust and the like from adhering to the screen of a normal liquid crystal display device. This is because it may be difficult. Therefore, since the balance between the total light transmittance and the antistatic effect is better, the surface resistivity of the antistatic layer should be a value within the range of 5 × 10 4 to 5 × 10 9 Ω · cm. Is more preferable.

【0044】一方、液晶表示装置がIPS液晶駆動方法
を採用している場合には、帯電防止層の表面抵抗率を1
×104〜5×108Ω・cmの範囲内の値とすることが
好ましい。この理由は、かかる帯電防止層の表面抵抗率
が5×108Ω・cmより高くなると、平面方向での液
晶駆動に支障が生じる場合があるためである。したがっ
て、液晶表示装置がIPS液晶駆動方法を採用している
場合には、帯電防止層の表面抵抗率を5×104〜3×
108Ω・cmの範囲内の値とすることがより好まし
く、1×105〜1×108Ω・cmの範囲内の値とする
ことがさらに好ましい。
On the other hand, when the liquid crystal display device employs the IPS liquid crystal driving method, the surface resistivity of the antistatic layer is 1
It is preferable to set the value within the range of × 10 4 to 5 × 10 8 Ω · cm. The reason for this is that if the surface resistivity of the antistatic layer is higher than 5 × 10 8 Ω · cm, the liquid crystal drive in the planar direction may be hindered. Therefore, when the liquid crystal display device adopts the IPS liquid crystal driving method, the surface resistivity of the antistatic layer is 5 × 10 4 to 3 ×.
A value within the range of 10 8 Ω · cm is more preferable, and a value within the range of 1 × 10 5 to 1 × 10 8 Ω · cm is further preferable.

【0045】4.ハードコートフィルムの特性 (1)テーバー磨耗硬度 本発明において、JIS K5400に準拠して測定さ
れる帯電防止性ハードコートフィルムのテーバー磨耗硬
度を25以下の値とすることを特徴とする。この理由
は、かかるテーバー磨耗硬度が25を超えると、耐擦傷
性が著しく低下する場合があるためである。したがっ
て、耐擦傷性や帯電防止性がより向上することから、帯
電防止性ハードコートフィルムのテーバー磨耗硬度を2
2以下の値とすることがより好ましい。なお、かかる帯
電防止性ハードコートフィルムのテーバー磨耗硬度につ
いても、後述する実施例1に記載の方法により測定する
ことができる。
4. Characteristics of Hard Coat Film (1) Taber Abrasion Hardness In the present invention, the Taber abrasion hardness of the antistatic hard coat film measured according to JIS K5400 is set to a value of 25 or less. The reason for this is that if the Taber abrasion hardness exceeds 25, the scratch resistance may be significantly reduced. Therefore, since the abrasion resistance and the antistatic property are further improved, the Taber abrasion hardness of the antistatic hard coat film is 2
A value of 2 or less is more preferable. The Taber abrasion hardness of the antistatic hard coat film can also be measured by the method described in Example 1 described later.

【0046】(2)全光線透過率 また、帯電防止性ハードコートフィルムの全光線透過率
を80〜99%の範囲内の値とすることが好ましい。こ
の理由は、かかる全光線透過率が80%未満となると、
帯電防止性ハードコートフィルムの視認性が低下する場
合があるためである。一方、かかる全光線透過率が99
%を超えると、帯電防止特性や耐擦傷性が相対的に低下
する場合があるためである。したがって、帯電防止性ハ
ードコートフィルムの視認性と帯電防止特性とのバラン
スがより良好となることから、帯電防止性ハードコート
フィルムにおける全光線透過率を83〜98%の範囲内
の値とすることがより好ましい。なお、かかる帯電防止
性ハードコートフィルムの全光線透過率は、後述する実
施例1に記載の方法により測定することができる。
(2) Total light transmittance Further, it is preferable to set the total light transmittance of the antistatic hard coat film to a value within the range of 80 to 99%. The reason is that when the total light transmittance is less than 80%,
This is because the visibility of the antistatic hard coat film may decrease. On the other hand, the total light transmittance is 99
This is because if it exceeds%, the antistatic property and the scratch resistance may relatively decrease. Therefore, since the balance between the visibility and the antistatic property of the antistatic hard coat film becomes better, the total light transmittance of the antistatic hard coat film is set to a value within the range of 83 to 98%. Is more preferable. The total light transmittance of the antistatic hard coat film can be measured by the method described in Example 1 described later.

【0047】(3)ヘイズ値 帯電防止性ハードコートフィルムのヘイズ値を0.1〜
5%の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、
かかるヘイズ値が0.1%未満の値となると、帯電防止
粒子の添加量が過度に制限され、帯電防止特性が不十分
となる場合があるためである。一方、かかるヘイズ値が
5%を超えると、光透過性が相対的に低下し、視認性が
低下する場合があるためである。したがって、帯電防止
特性と、光透過性とのバランスがより良好となるため、
かかるヘイズ値を0.1〜4%の範囲内の値とすること
がより好ましい。なお、かかるヘイズ値は、後述する実
施例1に記載の方法により測定することができる。
(3) Haze value The haze value of the antistatic hard coat film is 0.1 to 0.1%.
A value within the range of 5% is preferable. The reason for this is
This is because if the haze value is less than 0.1%, the amount of antistatic particles added may be excessively limited, and the antistatic properties may be insufficient. On the other hand, when the haze value exceeds 5%, the light transmittance may be relatively reduced and the visibility may be reduced. Therefore, the balance between the antistatic property and the light transmittance becomes better,
It is more preferable to set such a haze value within a range of 0.1 to 4%. The haze value can be measured by the method described in Example 1 described later.

【0048】[第2の実施形態]第2の実施形態は、以
下の第1の工程と、第2の工程と、を含むことを特徴と
する帯電防止性ハードコートフィルムの製造方法であ
る。 第1の工程:電離放射線を照射し、電離放射線硬化性樹
脂からなるハードコート層を基材フィルム上に形成する
工程である。 第2の工程:(B)電離放射線を照射し、平均粒子径が
0.01〜2μmの帯電防止粒子を含む電離放射線硬化
性樹脂からなる厚さ0.03〜2μmの帯電防止層をハ
ードコート層上に形成するとともに、JIS K540
0に準拠して測定されるハードコートフィルムのテーバ
ー磨耗硬度を25以下の値とする第2の工程である。
[Second Embodiment] A second embodiment is a method for producing an antistatic hard coat film, which comprises the following first step and second step. First step: a step of irradiating ionizing radiation to form a hard coat layer made of an ionizing radiation curable resin on a base film. Second step: (B) irradiating with ionizing radiation to hard coat an antistatic layer having a thickness of 0.03 to 2 μm made of an ionizing radiation curable resin containing antistatic particles having an average particle size of 0.01 to 2 μm. Formed on a layer and JIS K540
This is a second step in which the Taber abrasion hardness of the hard coat film measured in accordance with 0 is set to a value of 25 or less.

【0049】1.第1の工程 (1)ハードコート剤の調製工程 配合材料を均一に混合し、ハードコート層形成用のハー
ドコート剤を調製する工程である。かかるハードコート
剤の調製は、以下に示すような(A)電離放射線硬化性
樹脂の主剤と、(B)電離放射線硬化性樹脂の硬化剤
(硬化触媒を含む。)と、(C)溶剤と、を均一に混合
することにより行われることが好ましい。
1. First Step (1) Preparation Step of Hard Coat Agent This is a step of uniformly mixing the compounding materials to prepare a hard coat agent for forming a hard coat layer. The hard coat agent is prepared by using (A) an ionizing radiation-curable resin main agent as described below, (B) an ionizing radiation-curable resin curing agent (including a curing catalyst), and (C) a solvent. Is preferably mixed uniformly.

【0050】(A)成分 第1の実施形態において説明した(A)成分の電離放射
線硬化性樹脂(透明樹脂)と同様の内容とすることがで
きる。
Component (A) The same content as that of the ionizing radiation curable resin (transparent resin) of the component (A) described in the first embodiment can be used.

【0051】(B)成分 第1の実施形態において説明した(B)成分の硬化剤と
同様の内容とすることができる。
Component (B) The content can be the same as that of the curing agent of component (B) described in the first embodiment.

【0052】(C)成分 (C)成分の溶剤としては、例えば、メチルアルコー
ル、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチ
ルアルコール、ペンチルアルコール、エチルセロソル
ブ、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、
シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、酢酸エチル、
酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、および
水等が挙げられる。上記溶剤は二種以上を組み合わせて
も良い。特に、アクリルモノマー等の電離放射線硬化性
樹脂を容易に溶解できることから、メチルアルコール、
エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルア
ルコール、ペンチルアルコール等のアルコール類を使用
することが好ましい。
Component (C) Examples of the solvent for the component (C) include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, pentyl alcohol, ethyl cellosolve, benzene, toluene, Xylene, ethylbenzene,
Cyclohexane, ethylcyclohexane, ethyl acetate,
Examples thereof include butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, water and the like. Two or more kinds of the above solvents may be combined. In particular, methyl alcohol, because it can easily dissolve ionizing radiation curable resins such as acrylic monomers,
It is preferable to use alcohols such as ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol and pentyl alcohol.

【0053】その他 ハードコート剤には、所望により消泡剤やレベリング剤
などの公知の添加剤を配合することができる。
In addition to the hard coat agent, known additives such as a defoaming agent and a leveling agent may be added, if desired.

【0054】(2)ハードコート剤の塗布工程 次いで、図4(A)および(B)に示すように、基材フ
ィルム18を準備し、その上に、(1)で調整されたハ
ードコート剤50を、硬化後の膜厚が2〜20μmの範
囲内の値となるように塗工し、好ましくは5〜15μm
の範囲内の値とすることである。また、塗工層の厚さ
は、ハードコート剤の固形分濃度及び硬化後のハードコ
ート層の密度から、必要なハードコート剤の塗工量を算
出することにより制御することができる。なお、ハード
コート剤の塗工方法についても特に制限されるものでは
ないが、公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコー
ト法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート
法などを用いることができる。
(2) Application Step of Hard Coating Agent Next, as shown in FIGS. 4 (A) and 4 (B), a base film 18 is prepared, and the hard coating agent prepared in (1) is applied thereon. 50 is applied so that the film thickness after curing is in the range of 2 to 20 μm, preferably 5 to 15 μm.
The value should be within the range. Further, the thickness of the coating layer can be controlled by calculating the required coating amount of the hard coating agent from the solid content concentration of the hard coating agent and the density of the hard coating layer after curing. The method for applying the hard coat agent is not particularly limited, and known methods such as bar coating method, knife coating method, roll coating method, blade coating method and die coating method can be used.

【0055】(3)硬化工程 次いで、図4(C)に示すように、本発明においては、
加熱工程を経て、溶剤を蒸発させたハードコート剤の塗
工物(電離放射線硬化性樹脂)50に対して、電離放射
線R、例えば紫外線や電子線を照射して硬化させるが、
半硬化状態のハードコート層16を形成することが好ま
しい。すなわち、このように実施すると、帯電防止層を
硬化形成する際に、ハードコート層と、帯電防止層との
界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹脂とを反
応させることができるためである。したがって、帯電防
止層の機械的強度をより向上させることができるととも
に、所定の耐擦傷性を効果的に得ることができる。ま
た、このように実施すると、帯電防止層を硬化させる際
に、周囲の酸素による反応阻害が生じたとしても、ハー
ドコート層内に残留している開始剤を効果的に利用し
て、帯電防止層を十分に硬化させることができるためで
ある。
(3) Curing Step Next, as shown in FIG. 4 (C), in the present invention,
The coating (ionizing radiation curable resin) 50 of the hard coat agent obtained by evaporating the solvent through the heating step is irradiated with ionizing radiation R, for example, ultraviolet ray or electron beam to be cured,
It is preferable to form the hard coat layer 16 in a semi-cured state. That is, when it is carried out in this manner, each of the ionizing radiation curable resins can react at the interface between the hard coat layer and the antistatic layer when the antistatic layer is cured and formed. Therefore, the mechanical strength of the antistatic layer can be further improved, and a predetermined scratch resistance can be effectively obtained. Further, by carrying out in this way, even when the reaction inhibition due to the ambient oxygen occurs when the antistatic layer is cured, the initiator remaining in the hard coat layer is effectively utilized to prevent the antistatic This is because the layer can be sufficiently cured.

【0056】また、半硬化状態のハードコート層を形成
するにあたり、例えば、紫外線を照射した場合、電離放
射線硬化性樹脂に対する照射量を100mJ/cm2
満の値とすることが好ましい。この理由は、紫外線照射
量が100mJ/cm2以上の値になると、ハードコー
ト層の硬化が進みすぎて、ハードコート層と、帯電防止
層との界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹脂
とを反応させることが困難となる場合があるためであ
る。ただし、ハードコート層を全く硬化させない場合に
は、帯電防止層を構成するための電離放射線硬化性樹脂
を均一な厚さに積層することが困難となったり、次工程
でのハードコート層の硬化収縮が過度に大きくなったり
する場合があるためである。したがって、半硬化状態の
ハードコート層を形成するにあたり、紫外線照射量を5
0〜90mJ/cm2の範囲内の値とすることがより好
ましく、60〜80mJ/cm2の範囲内の値とするこ
とがさらに好ましい。なお、半硬化状態のハードコート
層を形成するにあたり、使用する放射線照射装置(紫外
線照射装置)の種類についても特に制限はなく、例えば
高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、ヒュージョンHランプなどを用いた紫外線照射装置
や、電子線照射装置を使用することができる。
In forming the semi-cured hard coat layer, for example, when ultraviolet rays are radiated, it is preferable that the amount of irradiation of the ionizing radiation-curable resin is less than 100 mJ / cm 2 . The reason for this is that when the ultraviolet irradiation dose reaches a value of 100 mJ / cm 2 or more, the hard coat layer is excessively hardened, so that the ionizing radiation curable resin is hardened at the interface between the hard coat layer and the antistatic layer. This is because it may be difficult to react. However, if the hard coat layer is not cured at all, it becomes difficult to laminate the ionizing radiation curable resin for forming the antistatic layer to a uniform thickness, or the hard coat layer is cured in the next step. This is because the contraction may become excessively large. Therefore, when forming a hard coat layer in a semi-cured state, the amount of UV irradiation should be 5
The value within the range of 0 to 90 mJ / cm 2 is more preferable, and the value within the range of 60 to 80 mJ / cm 2 is further preferable. There is no particular limitation on the type of radiation irradiation device (ultraviolet irradiation device) used for forming the semi-cured hard coat layer. For example, a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fusion H lamp, etc. are used. The ultraviolet irradiator and the electron beam irradiator that have been used can be used.

【0057】2.第2の工程 (1)帯電防止剤の調製工程 かかる帯電防止剤の調製は、(a)電離放射線硬化性樹
脂(透明硬化性樹脂)の主剤と、(b)電離放射線硬化
性樹脂の硬化剤(硬化触媒を含む。)と、(c)溶剤
と、(d)帯電防止粒子とを均一に混合することにより
行われることが好ましい。
2. Second Step (1) Preparation Step of Antistatic Agent Such an antistatic agent is prepared by (a) a main agent of an ionizing radiation curable resin (transparent curable resin) and (b) a curing agent of an ionizing radiation curable resin. It is preferable to carry out by uniformly mixing (including a curing catalyst), (c) a solvent, and (d) antistatic particles.

【0058】(2)帯電防止剤の塗布工程 次いで、図4(D)に示すように、半硬化状態のハード
コート層16の上に、調整された帯電防止剤52を、ハ
ードコート剤の塗布工程と同様に、例えばバーコート
法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート
法、ダイコート法などを用いて、塗布することが好まし
い。
(2) Step of Applying Antistatic Agent Next, as shown in FIG. 4D, the adjusted antistatic agent 52 is applied onto the hard coat layer 16 in a semi-cured state. Similar to the step, it is preferable to apply by using, for example, a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method or the like.

【0059】(3)硬化工程1 次いで、図4(E)に示すように、電離放射線Rを照射
して、半硬化状態のハードコート層16の硬化を進める
とともに、帯電防止層14を同時に硬化させて形成する
ことが好ましい。すなわち、半硬化のハードコート層と
ともに、帯電防止層を形成する際の紫外線照射量は、帯
電防止性ハードコートフィルムにおけるテーバー磨耗硬
度や表面抵抗に、強い影響を与える。そのため、優れた
テーバー磨耗硬度、例えば、25以下のテーバー磨耗硬
度を得るためには、紫外線照射量を500mJ/cm2
上の値とすることが有効である。
(3) Curing Step 1 Next, as shown in FIG. 4 (E), ionizing radiation R is irradiated to cure the hard coat layer 16 in a semi-cured state and simultaneously cure the antistatic layer 14. It is preferable to form it. That is, the irradiation amount of ultraviolet rays when the antistatic layer is formed together with the semi-cured hard coat layer has a strong influence on the Taber abrasion hardness and surface resistance of the antistatic hard coat film. Therefore, in order to obtain excellent Taber abrasion hardness, for example, Taber abrasion hardness of 25 or less, it is effective to set the ultraviolet ray irradiation amount to a value of 500 mJ / cm 2 or more.

【0060】(4)硬化工程2 また、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる際に、図5
(A)に示すように、半硬化のハードコート層16と、
硬化前の帯電防止層52を準備した後、図5(B)に示
すように、フォトマスク55を介して、電離放射線Rを
照射することが好ましい。このように実施すると、図5
(C)に示すように、パターン化した帯電防止層56の
形成が極めて容易となるためである。ただし、フォトマ
スク55を介して、電離放射線Rを照射しただけでは、
半硬化のハードコート層16の硬化が不十分となる場合
がある。そのため、図示しないが、図5(C)に示す状
態の後に、電離放射線Rを再度照射することがより好ま
しい。
(4) Curing Step 2 In curing the ionizing radiation curable resin, as shown in FIG.
As shown in (A), a semi-cured hard coat layer 16;
After preparing the antistatic layer 52 before curing, it is preferable to irradiate the ionizing radiation R through the photomask 55 as shown in FIG. When carried out in this way, FIG.
This is because, as shown in (C), formation of the patterned antistatic layer 56 becomes extremely easy. However, if only the ionizing radiation R is radiated via the photomask 55,
The semi-cured hard coat layer 16 may be insufficiently cured. Therefore, although not shown, it is more preferable to irradiate the ionizing radiation R again after the state shown in FIG.

【0061】[0061]

【実施例】以下、帯電防止性ハードコートフィルムを想
定した実施例を参照しながら、さらに本発明を詳細に説
明する。ただし、言うまでも無いが、実施例は本発明の
一態様を示すものであり、本発明の範囲は実施例の記載
に制限されるものでは無い。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples assuming antistatic hard coat films. However, needless to say, the examples show one aspect of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the description of the examples.

【0062】[実施例1] 1.帯電防止性ハードコートフィルムの作製 (1)ハードコート用塗布液の調製 攪拌機付きの容器内に、ハードコート用塗布液の配合材
料を下記割合で収容した後、攪拌機を用いて均一に混合
し、固形分濃度50%のハードコート用塗布液を調製し
た。 硬化剤含有紫外線硬化型アクリル系ハードコート剤 セイカビームEXF−01L(NS)(大日精化工業(株)製) (固形分濃度100%) 100重量部 イソブチルアルコール 100重量部
[Example 1] 1. Preparation of antistatic hard coat film (1) Preparation of coating liquid for hard coat In a container equipped with a stirrer, the compounding materials of the coating liquid for hard coat were stored in the following proportions, and then uniformly mixed using a stirrer, A coating liquid for hard coat having a solid content concentration of 50% was prepared. UV-curable acrylic hard coating agent containing curing agent Seika Beam EXF-01L (NS) (manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd.) (solid content concentration 100%) 100 parts by weight Isobutyl alcohol 100 parts by weight

【0063】(2)半硬化状態のハードコート層の形成 得られたハードコート用塗布液を、基材である厚さ50
μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、硬化
後の厚さが5μmになるようにバーコーターを用いて塗
布した。その後、ハードコート用塗布液からなる塗工物
を、オーブン内で、80℃、1分間の条件で乾燥した。
次いで、ハードコート用塗布液からなる塗工物に対し
て、紫外線照射装置UB042−5AM/w(アイグラ
フィック社製)を用いて、80mJ/cm2の照射量と
なるように紫外線を照射し、半硬化状態のハードコート
層とした。
(2) Formation of Semi-Hardened Hard Coat Layer The coating solution for hard coat thus obtained was applied to a substrate having a thickness of 50.
It was coated on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 5 μm using a bar coater so that the thickness after curing was 5 μm. After that, the coated article made of the coating solution for hard coat was dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute.
Then, using a UV irradiator UB042-5AM / w (manufactured by Eye Graphic Co., Ltd.), an ultraviolet ray is applied to the coating material made of the coating liquid for hard coat so that the irradiation amount is 80 mJ / cm 2 . The hard coat layer was in a semi-cured state.

【0064】(3)帯電防止層の形成 攪拌機付きの容器内に、帯電防止層用塗布液の配合材料
を下記割合で収容した後、攪拌機を用いて均一に混合
し、固形分濃度3%の帯電防止層用塗布液を調製した。 硬化剤含有紫外線硬化型アクリル系ハードコート剤 セイカビームEXF−01L(NS)(大日精化工業(株)製) (固形分濃度100%) 100重量部 粒径0.1μmアンチモンドープ酸化錫のイソブチルアルコール分散溶液 SN−100P(石原テクノ(株)製) (固形分濃度30%) 1000重量部 イソブチルアルコール 12233重量部
(3) Formation of Antistatic Layer After containing the compounding materials of the coating liquid for antistatic layer in the following ratio in a container equipped with a stirrer, they were uniformly mixed using a stirrer to obtain a solid content concentration of 3%. A coating liquid for antistatic layer was prepared. UV-curable acrylic hard coating agent containing curing agent Seika Beam EXF-01L (NS) (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) (solid content concentration 100%) 100 parts by weight Particle diameter 0.1 μm Isobutyl alcohol of antimony-doped tin oxide Dispersion solution SN-100P (manufactured by Ishihara Techno Co., Ltd.) (concentration of solid content: 30%) 1000 parts by weight Isobutyl alcohol 12233 parts by weight

【0065】次いで、バーコーターを用いて帯電防止層
用塗布液を塗布し、さらに得られた塗工物を、オーブン
内で、80℃、1分間の条件で乾燥した。次いで、紫外
線照射装置を用いて、700mJ/cm2の照射量とな
るように紫外線を照射し、半硬化状態のハードコート層
の硬化を進めるとともに、帯電防止層用の塗工物を硬化
させて形成した。このようにして、帯電防止性ハードコ
ートフィルムを作製したが、ハードコート層の厚さは5
μm、帯電防止層の厚さは0.1μmであった。
Next, the coating liquid for antistatic layer was applied using a bar coater, and the obtained coating product was dried in an oven at 80 ° C. for 1 minute. Then, by using an ultraviolet irradiation device, ultraviolet rays are irradiated so that the irradiation amount is 700 mJ / cm 2 , and the hard coat layer in a semi-cured state is cured, and the coating material for the antistatic layer is cured. Formed. In this way, an antistatic hard coat film was produced, and the thickness of the hard coat layer was 5
μm, and the thickness of the antistatic layer was 0.1 μm.

【0066】2.帯電防止性ハードコートフィルムの評
価 (1)耐擦傷性(テーバー磨耗硬度) 得られた帯電防止性ハードコートフィルムを、JIS
K5400に準拠してテーバー磨耗硬度を測定した。す
なわち、以下の条件で、耐磨耗試験を行い、耐磨耗試験
の前後でのヘイズ値(JIS K6714準拠測定)の
差を測定し、テーバー磨耗硬度とした。 磨耗輪:CS−10F 荷重 :250g 回転数:100回
2. Evaluation of antistatic hard coat film (1) Scratch resistance (Taber abrasion hardness)
The Taber abrasion hardness was measured according to K5400. That is, a wear resistance test was performed under the following conditions, and the difference in haze value (measured in accordance with JIS K6714) before and after the wear resistance test was measured to obtain Taber wear hardness. Wear wheel: CS-10F Load: 250g Rotation speed: 100 times

【0067】(2)表面抵抗率 得られた帯電防止性ハードコートフィルムの表面抵抗率
を、(株)アドバンテスト社製デジタルエレクトロメー
タに連結した平行電極を用いて測定した。
(2) Surface Resistivity The surface resistivity of the obtained antistatic hard coat film was measured using a parallel electrode connected to a digital electrometer manufactured by Advantest Corporation.

【0068】(3)全光線透過率 得られた帯電防止性ハードコートフィルムの全光線透過
率を、JIS K6714に準拠して、ヘイズメーター
(日本電色工業株式会社製)により測定した。
(3) Total Light Transmittance The total light transmittance of the obtained antistatic hard coat film was measured by a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) according to JIS K6714.

【0069】(4)初期ヘイズ値 得られた帯電防止性ハードコートフィルムのヘイズ値
を、JIS K6714に準拠し、初期ヘイズ値をヘイ
ズメーター(日本電色工業株式会社製)により測定し
た。
(4) Initial haze value The haze value of the obtained antistatic hard coat film was measured according to JIS K6714, and the initial haze value was measured by a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

【0070】(5)スチールウール硬度 得られた帯電防止性ハードコートフィルムの表面を#0
000のスチールウールで擦りつけた後、外観を観察し
て、以下の基準からスチールウール硬度を評価した。 ○:顕著な外観変化が観察されなかった。 ×:傷の発生あるいは色調の変化が観察された。
(5) Steel wool hardness The surface of the obtained antistatic hard coat film is # 0.
After rubbing with 000 steel wool, the appearance was observed and the steel wool hardness was evaluated according to the following criteria. ◯: No noticeable change in appearance was observed. X: Occurrence of scratches or change in color tone was observed.

【0071】[実施例2〜4および比較例1〜2]表1
に示すように帯電防止層の厚さや、第1の工程における
紫外線照射量を変えたほかは、実施例1と同様に帯電防
止性ハードコートフィルムを作製して、評価した。得ら
れた結果を表1に示す。
[Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 and 2] Table 1
An antistatic hard coat film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the antistatic layer and the ultraviolet irradiation amount in the first step were changed as shown in FIG. The results obtained are shown in Table 1.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】[0073]

【発明の効果】本発明の帯電防止性ハードコートフィル
ムによれば、優れた帯電防止性が得られる一方、優れた
視認性や耐擦傷性についても得られるようになった。し
たがって、このような帯電防止性ハードコートフィルム
は、例えば液晶表示装置やIPS液晶表示装置用のハー
ドコートフィルムとして、あるいは各種ディスプレイの
保護用フィルムなどとして使用されることが期待でき
る。
EFFECT OF THE INVENTION According to the antistatic hard coat film of the present invention, not only excellent antistatic property but also excellent visibility and scratch resistance can be obtained. Therefore, such an antistatic hard coat film can be expected to be used, for example, as a hard coat film for liquid crystal display devices and IPS liquid crystal display devices, or as a protective film for various displays.

【0074】また、本発明の帯電防止性ハードコートフ
ィルムの製造方法によれば、優れた帯電防止性が得られ
る一方、優れた視認性や耐擦傷性についても得られる帯
電防止性ハードコートフィルムを、効率的に製造するこ
とができるようになった。
Further, according to the method for producing an antistatic hard coat film of the present invention, an antistatic hard coat film is obtained which is excellent in antistatic property and is also excellent in visibility and scratch resistance. , Can be manufactured efficiently.

【0075】[0075]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の帯電防止性ハードコートフィルム等
の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of an antistatic hard coat film or the like of the present invention.

【図2】 本発明の帯電防止性ハードコートフィルムの
斜視断面図である。
FIG. 2 is a perspective sectional view of an antistatic hard coat film of the present invention.

【図3】 パターン化された帯電防止層の平面図であ
る。
FIG. 3 is a plan view of a patterned antistatic layer.

【図4】 本発明の帯電防止性ハードコートフィルムの
製造例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a production example of the antistatic hard coat film of the present invention.

【図5】 本発明のパターン化された帯電防止層を有す
る帯電防止性ハードコートフィルムの製造例を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing a production example of an antistatic hard coat film having a patterned antistatic layer of the present invention.

【図6】 従来の帯電防止性ハードコートフィルムを説
明するために供する図である。
FIG. 6 is a view provided for explaining a conventional antistatic hard coat film.

【図7】 従来の帯電防止性ハードコートフィルムの製
造方法を説明するために供する図である。
FIG. 7 is a diagram provided for explaining a conventional method for producing an antistatic hard coat film.

【0076】[0076]

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 帯電防止粒子 11 電離放射線硬化性樹脂 14 帯電防止層 16 ハードコート層 18 基材フィルム 20、22、24、25、26、27 帯電防止性ハー
ドコートフィルム 30 共通電極 31 帯電防止層 55 フォトマスク
10 Antistatic Particles 11 Ionizing Radiation Curable Resin 14 Antistatic Layer 16 Hard Coat Layer 18 Base Film 20, 22, 24, 25, 26, 27 Antistatic Hard Coat Film 30 Common Electrode 31 Antistatic Layer 55 Photomask

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Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材フィルム上に、(A)電離放射線硬
化性樹脂からなるハードコート層と、(B)平均粒子径
が0.01〜2μmの帯電防止粒子を含む電離放射線硬
化性樹脂からなる厚さ0.03〜2μmの帯電防止層
と、を順次に含む帯電防止性ハードコートフィルムであ
って、JIS K5400に準拠して測定されるテーバ
ー磨耗硬度を25以下の値とすることを特徴とする帯電
防止性ハードコートフィルム。
1. A hard coat layer comprising (A) an ionizing radiation curable resin and (B) an ionizing radiation curable resin containing antistatic particles having an average particle size of 0.01 to 2 μm on a substrate film. An antistatic hard coat film sequentially including an antistatic layer having a thickness of 0.03 to 2 μm, and having a Taber abrasion hardness of 25 or less measured according to JIS K5400. Antistatic hard coat film to be.
【請求項2】 前記帯電防止粒子の平均粒子径と、前記
帯電防止層の厚さとが実質的に等しいことを特徴とする
請求項1に記載の帯電防止性ハードコートフィルム。
2. The antistatic hard coat film according to claim 1, wherein the average particle diameter of the antistatic particles and the thickness of the antistatic layer are substantially equal to each other.
【請求項3】 前記帯電防止粒子の添加量を、帯電防止
層の全体量に対して、50〜90重量%の範囲内の値と
することを特徴とする請求項1または2に記載の帯電防
止性ハードコートフィルム。
3. The charging according to claim 1, wherein the addition amount of the antistatic particles is set to a value within a range of 50 to 90% by weight with respect to the total amount of the antistatic layer. Preventive hard coat film.
【請求項4】 前記帯電防止層が、パターニングしてあ
ることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載
の帯電防止性ハードコートフィルム。
4. The antistatic hard coat film according to claim 1, wherein the antistatic layer is patterned.
【請求項5】 前記ハードコート層と、帯電防止層との
界面において、それぞれの電離放射線硬化性樹脂が反応
していることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項
に記載の帯電防止性ハードコートフィルム。
5. The charging according to any one of claims 1 to 4, wherein each of the ionizing radiation curable resins reacts at the interface between the hard coat layer and the antistatic layer. Preventive hard coat film.
【請求項6】 前記ハードコート層を、防眩ハードコー
ト層とすることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一
項に記載の帯電防止性ハードコートフィルム。
6. The antistatic hard coat film according to any one of claims 1 to 5, wherein the hard coat layer is an antiglare hard coat layer.
【請求項7】 IPS液晶表示装置の表面に使用してな
る請求項1〜6のいずれか一項に記載の帯電防止性ハー
ドコートフィルム。
7. The antistatic hard coat film according to claim 1, which is used on the surface of an IPS liquid crystal display device.
【請求項8】 (A)電離放射線を照射し、電離放射線
硬化性樹脂からなるハードコート層を基材フィルム上に
形成する第1の工程と、(B)電離放射線を照射し、平
均粒子径が0.01〜2μmの帯電防止粒子を含む電離
放射線硬化性樹脂からなる厚さ0.03〜2μmの帯電
防止層をハードコート層上に形成し、JIS K540
0に準拠して測定されるハードコートフィルムのテーバ
ー磨耗硬度を25以下の値とする第2の工程と、を含む
ことを特徴とする帯電防止性ハードコートフィルムの製
造方法。
8. A first step of (A) irradiating with ionizing radiation to form a hard coat layer made of an ionizing radiation-curable resin on a substrate film, and (B) irradiating with ionizing radiation to obtain an average particle diameter. Is formed on the hard coat layer with a thickness of 0.03 to 2 μm, which is made of an ionizing radiation curable resin containing antistatic particles of 0.01 to 2 μm, according to JIS K540.
And a second step of setting the Taber abrasion hardness of the hard coat film measured according to 0 to a value of 25 or less, a method for producing an antistatic hard coat film.
【請求項9】 前記第1の工程において、電離放射線の
照射によりハードコート層を半硬化の状態で形成し、前
記第2の工程において、電離放射線の照射により帯電防
止層を硬化させて形成するとともに、ハードコート層を
さらに硬化させることを特徴とする請求項8に記載の帯
電防止性ハードコートフィルムの製造方法。
9. The hard coat layer is formed in a semi-cured state by irradiation with ionizing radiation in the first step, and is formed by curing the antistatic layer by irradiation with ionizing radiation in the second step. Along with this, the hard coat layer is further cured, and the method for producing an antistatic hard coat film according to claim 8.
【請求項10】 前記第1の工程における電離放射線の
照射量を100mJ/cm2未満の値とするとともに、
前記第2の工程における電離放射線の照射量を500m
J/cm2以上の値とすることを特徴とする請求項8ま
たは9に記載の帯電防止性ハードコートフィルムの製造
方法。
10. The dose of ionizing radiation in the first step is set to a value of less than 100 mJ / cm 2 , and
The dose of ionizing radiation in the second step is 500 m
The method for producing an antistatic hard coat film according to claim 8 or 9, wherein the value is J / cm 2 or more.
【請求項11】 前記第2の工程を、窒素中において実
施することを特徴とする請求項8〜10のいずれか一項
に記載の帯電防止性ハードコートフィルムの製造方法。
11. The method for producing an antistatic hard coat film according to claim 8, wherein the second step is performed in nitrogen.
【請求項12】 前記第2の工程において、前記電離放
射線をパターン露光することを特徴とする請求項8〜1
1のいずれか一項に記載の帯電防止性ハードコートフィ
ルムの製造方法。
12. The patterning exposure of the ionizing radiation in the second step.
2. The method for producing an antistatic hard coat film according to any one of 1.
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