JP2003039003A - 多層塗布装置 - Google Patents
多層塗布装置Info
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- JP2003039003A JP2003039003A JP2001227215A JP2001227215A JP2003039003A JP 2003039003 A JP2003039003 A JP 2003039003A JP 2001227215 A JP2001227215 A JP 2001227215A JP 2001227215 A JP2001227215 A JP 2001227215A JP 2003039003 A JP2003039003 A JP 2003039003A
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- coating
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- coating liquid
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- Materials For Photolithography (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】走行する支持体への同時多層塗布を、層を形成
するはずの塗布液が混じらず、筋の発生も無いように
し、高速化、薄膜化、均一化することを目的とする。 【解決手段】離間した一対のガイドロールに支持体を連
続して案内し、支持体に対して下流側ガイドロールの反
対側かつ該ガイドロール間に設けたコーターヘッドから
支持体に塗布液を塗布する多層塗布装置であって、前記
コーターヘッドは上流リップ部及び一つ以上のスロット
を設けた下流スライドリップ部を備え、該上流リップ部
と該下流スライドリップ部で形成されるスロット部より
支持体に接する第１層の塗布液を塗布し、下流スライド
リップ部上から他の層の塗布液を塗布することを特徴と
する多層塗布装置を提供する。
するはずの塗布液が混じらず、筋の発生も無いように
し、高速化、薄膜化、均一化することを目的とする。 【解決手段】離間した一対のガイドロールに支持体を連
続して案内し、支持体に対して下流側ガイドロールの反
対側かつ該ガイドロール間に設けたコーターヘッドから
支持体に塗布液を塗布する多層塗布装置であって、前記
コーターヘッドは上流リップ部及び一つ以上のスロット
を設けた下流スライドリップ部を備え、該上流リップ部
と該下流スライドリップ部で形成されるスロット部より
支持体に接する第１層の塗布液を塗布し、下流スライド
リップ部上から他の層の塗布液を塗布することを特徴と
する多層塗布装置を提供する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続して走行する
支持体上に、多層塗布を行う塗布装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】エクストルージョンホッパー型あるいは
スライドホッパー型の塗布装置は、高速、薄膜、多層同
時塗布が可能であり、その特徴により写真感光材料や磁
気記録材料等の塗布装置として広く用いられている。 【０００３】エクストルージョンホッパー型コーターを
用いた代表的な塗布方式の例として、コーターヘッドの
上流側及び下流側に一定の間隔をおいて配置された一対
のガイドロールに連続して走行する支持体を案内して、
このガイドロールの間に配置したコーターヘッドから直
接支持体表面へ塗布液を押し出すことにより均一かつ平
滑に、かつ薄く塗布する方式が知られている。この方式
の場合、一対のガイドロールの間に連続的に走行する支
持体に、塗布液を押し出すコーターヘッド先端のリップ
部分を押し付けるように向ける事によって、コーターヘ
ッドのスロットから押し出される塗布液の押し出し量に
対応した塗布圧力と、支持体がコーターヘッドによって
押し付けられ撓む事によって生じる反力とのバランスに
よりコーターヘッドの先端のリップ部分と支持体表面と
の間隔を変化させることにより塗布を行うことが可能と
なるものである。 【０００４】上記塗布方式の応用例として、性能向上の
ために多層塗布が必要となった場合、図３に示すように
複数のスロット部を備えたコーターヘッドによる、同時
多層塗布が行われていた。この事により、一層塗布する
ごとに巻出し/巻取り工程を経る不効率や、その際発生
する膜はがれ、塗布膜の部分的な脱落、ひび割れなどの
トラブルを防ぐことが可能となっていた。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記塗
布方式による同時多層塗布において、高速化、薄膜化、
均一化を達成するためには、走行する支持体にコーター
ヘッドを高い圧力で押し付ける必要があり、そのため
に、層を形成するはずの塗布液が混じり合うトラブルが
発生することがあった。また、下流側リップの液離れが
悪いために筋が発生しやすく、安定塗布のための条件領
域が狭くなっていた。また、これまでの方式では、機械
的精度の影響が大きく、その精度確保に労力を費やすこ
ととなっていた。 【０００６】本発明は、上記課題を解決し、走行する支
持体への同時多層塗布を、高速化、薄膜化、均一化する
ことを目的とする。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明は、離間した一対
のガイドロールに支持体を連続して案内し、支持体に対
して下流側ガイドロールの反対側かつ該ガイドロール間
に設けたコーターヘッドから支持体に塗布液を塗布する
多層塗布装置であって、前記コーターヘッドは上流リッ
プ部及び一つ以上のスロットを設けた下流スライドリッ
プ部を備え、該上流リップ部と該下流スライドリップ部
で形成されるスロット部より支持体に接する第１層の塗
布液を塗布し、下流スライドリップ部上から他の層の塗
布液を塗布することを特徴とする多層塗布装置である。 【０００８】これは、支持体に接する第１層の塗布液は
スロットからの直接塗布によって、確実に支持体に密着
塗布することができるとともに、第２層以降の塗布液は
スライドで塗布されることによって、支持体に接する第
１層の塗布液に第２層以降の塗布液を押し付けることな
く多層塗布ができ、結果、塗布層間の混合を抑制し、ま
た筋等のトラブルも防ぐことを可能にしている。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細な説明を図を
用いて行う。図1は本発明の多層塗布装置の一実施例の
構成を示す側面概略図である。支持体２１はガイドロー
ル１１、１２によってサポートされ、その間のフローテ
ィング部分にコーターヘッド1が配置されている。支持
体２１はガイドロール１１側から進入し、コーターヘッ
ド部分で第一の塗布液２２、第二の塗布液２３を塗布さ
れ、ガイドロール１２を経て退出する。 【００１０】コーターヘッド1は、支持体走行方向に対
し上流側のリップ部分２、下流側のスライドリップ部分
３、図示しない供給系よりコーターヘッド1内部に塗布
液が供給されるべく設けられたマニホールド５、６、マ
ニホールド５からリップ部分に第一の塗布液２２を押し
出す通路であるスロット部分３１、マニホールド6から
スライドリップ部分に第二の塗布液２３を供給するスロ
ット部分３３及びスライド部分３２に区分される。 【００１１】前記マニホールド５、６はその断面が円形
もしくは略円形をしており、かつ支持体２１の幅方向に
同一か略同一の断面形状で延長され、その幅方向の長さ
は支持体２１の幅よりも長いか、もしくは同じ長さに設
定されている。マニホールド５、６の内径は５〜５０ｍ
ｍ程度で、塗布液の性質、粘度等によって最良の大きさ
を設定すればよく、その開口した両端部はシール板等に
より塗布液がコーターヘッド1の外部へ漏れないように
なっている。また、マニホールド５、６への塗布液の供
給は、どちらか少なくとも一方の開口端部から導入して
も良い。 【００１２】第一の塗布液２２は、コーターヘッド1の
外部から供給系を経て、ホースもしくは配管によりマニ
ホールド５へ導入される。マニホールド５内部が塗布液
で満たされると、幅方向に均一な圧力分布と流量分布を
もって、マニホールド５から連通するスロット３１を通
り、上流側リップ２、下流側スライドリップ３、更に支
持体２１によって囲まれた液だまり８を形成しつつ支持
体２１上に塗布される。 【００１３】第二の塗布液２３はコーターヘッド1の外
部から供給系を経て、ホースもしくは配管によりマニホ
ールド６へ導入される。マニホールド６内部が塗布液で
満たされると、幅方向に均一な圧力分布と流量分布をも
って、マニホールド６から連通するスロット３３を通
り、開口部より吐出後スライド部３２を通って、前記第
一の塗布液上に層状に塗布される。 【００１４】塗布膜厚は、吐出される塗布液の流量と支
持体の走行速度によって決定される。また、均一な塗布
のためには、安定した液だまり８を作ることが重要で、
そのためには、塗布液の粘度等の物性、塗布液の吐出圧
力、塗布液の吐出量により、支持体とリップとの距離、
支持体にかかるテンションを最適な条件にする必要があ
る。 【００１５】塗布対象である支持体には、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類、セルローストリアセテート、セルロースジアセテ
ート等のセルロース誘導体、ポリカーボネートなどのプ
ラスチック；Ｃｕ、Ａｌ、Ｚｎ等の金属；パライタ紙、
合成紙、等が適する。厚さは、通常２〜３００μｍ程度
のものである。 【００１６】塗布液の物性においては、第一の塗布液は
液温２０℃での粘度が２〜１０００ｍＰａ・ｓ、塗布厚
さが５〜１００μｍ、第二以降の塗布液は液温２０℃で
の粘度が２〜７００ｍＰａ・ｓ、塗布厚さが５〜１００
μｍの範囲で塗布が可能である。この時、粘度が高すぎ
る場合や塗布厚さが薄すぎると、塗布液が基材に載らな
い部分が生じてまだらになってしまういわゆる「ぬけ」
が発生し、粘度が低すぎる場合や塗布厚さが厚すぎる
と、塗布液の重力で下方に垂れてしまういわゆる「た
れ」が発生してしまうが、実際の粘度や塗布厚さの値
は、塗布液の材料や塗布速度によって左右されるため、
それぞれの値を適正に選ぶ必要がある。 【００１７】ここで、この発明で問題としている高速化
とは、３００〜６００ｍ／ｍｉｎの塗布速度を意味し、
この塗布速度で塗布した場合に本発明はより大きな効果
を示す。 【００１８】尚、塗布層を３層以上にする場合は、図２
に示すように下流側スライドリップ３のスライド部分３
２に、多層にする分だけスロット部分３３を設けること
によって、同時多層塗布を行うことが可能となる。 【００１９】＜実施例＞以下に実施例をあげて本発明を
更に詳細に説明する。 【００２０】図1の装置を用いて二層塗布を行った。支
持体には厚さ５０μｍのポリエステル系フィルムウェブ
を用いた。塗布液の組成は次の通りである。 （１）第一層：塗布厚さ１０〜１５μｍ メチルエチルケトン；５０％ エポキシ系樹脂；５０％ 粘度２００ｍＰａ・ｓ （２）第二層：塗布厚さ１０〜１５μｍ メチルエチルケトン；７０％ エポキシ系樹脂；３０％ 粘度２０ｍＰａ・ｓ 塗布速度は３００ｍ／ｍｉｎで塗布を行った。 【００２１】上記条件で５時間連続塗布を行ったとこ
ろ、ひび割れ、スジ等の欠陥の発生はなく、高速、薄
膜、均一塗布に成功した。 【００２２】＜比較例＞図３においてスロット部を２ヶ
所にした従来型のコーターヘッドを用いて、バックアッ
プロールに抱かれた支持体に上記実施例とほぼ同条件で
塗布を行ったところ、スジや、層混合といった欠陥を解
消する事は出来なかった。 【００２３】 【発明の効果】本発明による同時多層塗布装置により、
従来の方法に比べ機械的精度を必要とせず、塗布速度の
高速化、工程数の短縮による低コスト化を実現出来ると
ともに、層間の塗布液の混合が少なく、想定した膜構成
が確実に行えるようにな効果を奏する。また、液離れの
悪さによって発生する筋等のトラブルが改善された。
支持体上に、多層塗布を行う塗布装置に関する。 【０００２】 【従来の技術】エクストルージョンホッパー型あるいは
スライドホッパー型の塗布装置は、高速、薄膜、多層同
時塗布が可能であり、その特徴により写真感光材料や磁
気記録材料等の塗布装置として広く用いられている。 【０００３】エクストルージョンホッパー型コーターを
用いた代表的な塗布方式の例として、コーターヘッドの
上流側及び下流側に一定の間隔をおいて配置された一対
のガイドロールに連続して走行する支持体を案内して、
このガイドロールの間に配置したコーターヘッドから直
接支持体表面へ塗布液を押し出すことにより均一かつ平
滑に、かつ薄く塗布する方式が知られている。この方式
の場合、一対のガイドロールの間に連続的に走行する支
持体に、塗布液を押し出すコーターヘッド先端のリップ
部分を押し付けるように向ける事によって、コーターヘ
ッドのスロットから押し出される塗布液の押し出し量に
対応した塗布圧力と、支持体がコーターヘッドによって
押し付けられ撓む事によって生じる反力とのバランスに
よりコーターヘッドの先端のリップ部分と支持体表面と
の間隔を変化させることにより塗布を行うことが可能と
なるものである。 【０００４】上記塗布方式の応用例として、性能向上の
ために多層塗布が必要となった場合、図３に示すように
複数のスロット部を備えたコーターヘッドによる、同時
多層塗布が行われていた。この事により、一層塗布する
ごとに巻出し/巻取り工程を経る不効率や、その際発生
する膜はがれ、塗布膜の部分的な脱落、ひび割れなどの
トラブルを防ぐことが可能となっていた。 【０００５】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記塗
布方式による同時多層塗布において、高速化、薄膜化、
均一化を達成するためには、走行する支持体にコーター
ヘッドを高い圧力で押し付ける必要があり、そのため
に、層を形成するはずの塗布液が混じり合うトラブルが
発生することがあった。また、下流側リップの液離れが
悪いために筋が発生しやすく、安定塗布のための条件領
域が狭くなっていた。また、これまでの方式では、機械
的精度の影響が大きく、その精度確保に労力を費やすこ
ととなっていた。 【０００６】本発明は、上記課題を解決し、走行する支
持体への同時多層塗布を、高速化、薄膜化、均一化する
ことを目的とする。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明は、離間した一対
のガイドロールに支持体を連続して案内し、支持体に対
して下流側ガイドロールの反対側かつ該ガイドロール間
に設けたコーターヘッドから支持体に塗布液を塗布する
多層塗布装置であって、前記コーターヘッドは上流リッ
プ部及び一つ以上のスロットを設けた下流スライドリッ
プ部を備え、該上流リップ部と該下流スライドリップ部
で形成されるスロット部より支持体に接する第１層の塗
布液を塗布し、下流スライドリップ部上から他の層の塗
布液を塗布することを特徴とする多層塗布装置である。 【０００８】これは、支持体に接する第１層の塗布液は
スロットからの直接塗布によって、確実に支持体に密着
塗布することができるとともに、第２層以降の塗布液は
スライドで塗布されることによって、支持体に接する第
１層の塗布液に第２層以降の塗布液を押し付けることな
く多層塗布ができ、結果、塗布層間の混合を抑制し、ま
た筋等のトラブルも防ぐことを可能にしている。 【０００９】 【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細な説明を図を
用いて行う。図1は本発明の多層塗布装置の一実施例の
構成を示す側面概略図である。支持体２１はガイドロー
ル１１、１２によってサポートされ、その間のフローテ
ィング部分にコーターヘッド1が配置されている。支持
体２１はガイドロール１１側から進入し、コーターヘッ
ド部分で第一の塗布液２２、第二の塗布液２３を塗布さ
れ、ガイドロール１２を経て退出する。 【００１０】コーターヘッド1は、支持体走行方向に対
し上流側のリップ部分２、下流側のスライドリップ部分
３、図示しない供給系よりコーターヘッド1内部に塗布
液が供給されるべく設けられたマニホールド５、６、マ
ニホールド５からリップ部分に第一の塗布液２２を押し
出す通路であるスロット部分３１、マニホールド6から
スライドリップ部分に第二の塗布液２３を供給するスロ
ット部分３３及びスライド部分３２に区分される。 【００１１】前記マニホールド５、６はその断面が円形
もしくは略円形をしており、かつ支持体２１の幅方向に
同一か略同一の断面形状で延長され、その幅方向の長さ
は支持体２１の幅よりも長いか、もしくは同じ長さに設
定されている。マニホールド５、６の内径は５〜５０ｍ
ｍ程度で、塗布液の性質、粘度等によって最良の大きさ
を設定すればよく、その開口した両端部はシール板等に
より塗布液がコーターヘッド1の外部へ漏れないように
なっている。また、マニホールド５、６への塗布液の供
給は、どちらか少なくとも一方の開口端部から導入して
も良い。 【００１２】第一の塗布液２２は、コーターヘッド1の
外部から供給系を経て、ホースもしくは配管によりマニ
ホールド５へ導入される。マニホールド５内部が塗布液
で満たされると、幅方向に均一な圧力分布と流量分布を
もって、マニホールド５から連通するスロット３１を通
り、上流側リップ２、下流側スライドリップ３、更に支
持体２１によって囲まれた液だまり８を形成しつつ支持
体２１上に塗布される。 【００１３】第二の塗布液２３はコーターヘッド1の外
部から供給系を経て、ホースもしくは配管によりマニホ
ールド６へ導入される。マニホールド６内部が塗布液で
満たされると、幅方向に均一な圧力分布と流量分布をも
って、マニホールド６から連通するスロット３３を通
り、開口部より吐出後スライド部３２を通って、前記第
一の塗布液上に層状に塗布される。 【００１４】塗布膜厚は、吐出される塗布液の流量と支
持体の走行速度によって決定される。また、均一な塗布
のためには、安定した液だまり８を作ることが重要で、
そのためには、塗布液の粘度等の物性、塗布液の吐出圧
力、塗布液の吐出量により、支持体とリップとの距離、
支持体にかかるテンションを最適な条件にする必要があ
る。 【００１５】塗布対象である支持体には、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類、セルローストリアセテート、セルロースジアセテ
ート等のセルロース誘導体、ポリカーボネートなどのプ
ラスチック；Ｃｕ、Ａｌ、Ｚｎ等の金属；パライタ紙、
合成紙、等が適する。厚さは、通常２〜３００μｍ程度
のものである。 【００１６】塗布液の物性においては、第一の塗布液は
液温２０℃での粘度が２〜１０００ｍＰａ・ｓ、塗布厚
さが５〜１００μｍ、第二以降の塗布液は液温２０℃で
の粘度が２〜７００ｍＰａ・ｓ、塗布厚さが５〜１００
μｍの範囲で塗布が可能である。この時、粘度が高すぎ
る場合や塗布厚さが薄すぎると、塗布液が基材に載らな
い部分が生じてまだらになってしまういわゆる「ぬけ」
が発生し、粘度が低すぎる場合や塗布厚さが厚すぎる
と、塗布液の重力で下方に垂れてしまういわゆる「た
れ」が発生してしまうが、実際の粘度や塗布厚さの値
は、塗布液の材料や塗布速度によって左右されるため、
それぞれの値を適正に選ぶ必要がある。 【００１７】ここで、この発明で問題としている高速化
とは、３００〜６００ｍ／ｍｉｎの塗布速度を意味し、
この塗布速度で塗布した場合に本発明はより大きな効果
を示す。 【００１８】尚、塗布層を３層以上にする場合は、図２
に示すように下流側スライドリップ３のスライド部分３
２に、多層にする分だけスロット部分３３を設けること
によって、同時多層塗布を行うことが可能となる。 【００１９】＜実施例＞以下に実施例をあげて本発明を
更に詳細に説明する。 【００２０】図1の装置を用いて二層塗布を行った。支
持体には厚さ５０μｍのポリエステル系フィルムウェブ
を用いた。塗布液の組成は次の通りである。 （１）第一層：塗布厚さ１０〜１５μｍ メチルエチルケトン；５０％ エポキシ系樹脂；５０％ 粘度２００ｍＰａ・ｓ （２）第二層：塗布厚さ１０〜１５μｍ メチルエチルケトン；７０％ エポキシ系樹脂；３０％ 粘度２０ｍＰａ・ｓ 塗布速度は３００ｍ／ｍｉｎで塗布を行った。 【００２１】上記条件で５時間連続塗布を行ったとこ
ろ、ひび割れ、スジ等の欠陥の発生はなく、高速、薄
膜、均一塗布に成功した。 【００２２】＜比較例＞図３においてスロット部を２ヶ
所にした従来型のコーターヘッドを用いて、バックアッ
プロールに抱かれた支持体に上記実施例とほぼ同条件で
塗布を行ったところ、スジや、層混合といった欠陥を解
消する事は出来なかった。 【００２３】 【発明の効果】本発明による同時多層塗布装置により、
従来の方法に比べ機械的精度を必要とせず、塗布速度の
高速化、工程数の短縮による低コスト化を実現出来ると
ともに、層間の塗布液の混合が少なく、想定した膜構成
が確実に行えるようにな効果を奏する。また、液離れの
悪さによって発生する筋等のトラブルが改善された。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の多層塗布装置の一実施例の構成を示す
側面概略図である。 【図２】本発明の多層塗布装置の他の実施例の構成を示
す側面概略図である。 【図３】従来の多層塗布装置の側面概略図である。 【符号の説明】 １・・・コーターヘッド ２・・・上流側リップ ３・・・下流側スライドリップ ５、６・・・マニホールド ８・・・液だまり １１、１２・・・ガイドロール ２１・・・支持体 ２２・・・第一の塗布液 ２３・・・第二の塗布液 ３１、３３・・・スロット部分 ３２・・・スライド部分 １０２・・・下流側リップ
側面概略図である。 【図２】本発明の多層塗布装置の他の実施例の構成を示
す側面概略図である。 【図３】従来の多層塗布装置の側面概略図である。 【符号の説明】 １・・・コーターヘッド ２・・・上流側リップ ３・・・下流側スライドリップ ５、６・・・マニホールド ８・・・液だまり １１、１２・・・ガイドロール ２１・・・支持体 ２２・・・第一の塗布液 ２３・・・第二の塗布液 ３１、３３・・・スロット部分 ３２・・・スライド部分 １０２・・・下流側リップ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】離間した一対のガイドロールに支持体を連
続して案内し、支持体に対して下流側ガイドロールの反
対側かつ該ガイドロール間に設けたコーターヘッドから
支持体に塗布液を塗布する多層塗布装置であって、前記
コーターヘッドは上流リップ部及び一つ以上のスロット
を設けた下流スライドリップ部を備え、該上流リップ部
と該下流スライドリップ部で形成されるスロット部より
支持体に接する第１層の塗布液を塗布し、下流スライド
リップ部上から他の層の塗布液を塗布することを特徴と
する多層塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001227215A JP2003039003A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 多層塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001227215A JP2003039003A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 多層塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003039003A true JP2003039003A (ja) | 2003-02-12 |
Family
ID=19059914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001227215A Pending JP2003039003A (ja) | 2001-07-27 | 2001-07-27 | 多層塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003039003A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014526776A (ja) * | 2012-04-20 | 2014-10-06 | エルジー・ケム・リミテッド | セパレータの製造方法、その方法で形成されたセパレータ、及びそれを含む電気化学素子 |
-
2001
- 2001-07-27 JP JP2001227215A patent/JP2003039003A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014526776A (ja) * | 2012-04-20 | 2014-10-06 | エルジー・ケム・リミテッド | セパレータの製造方法、その方法で形成されたセパレータ、及びそれを含む電気化学素子 |
| US9853268B2 (en) | 2012-04-20 | 2017-12-26 | Lg Chem, Ltd. | Separator and electrochemical device having the same |
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