JP2003035678A - 欠陥検出光学系および表面欠陥検査装置 - Google Patents
欠陥検出光学系および表面欠陥検査装置Info
- Publication number
- JP2003035678A JP2003035678A JP2001222995A JP2001222995A JP2003035678A JP 2003035678 A JP2003035678 A JP 2003035678A JP 2001222995 A JP2001222995 A JP 2001222995A JP 2001222995 A JP2001222995 A JP 2001222995A JP 2003035678 A JP2003035678 A JP 2003035678A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- light
- light receiving
- receiving elements
- detection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
陥を精度よく区別して検出することができる欠陥検出光
学系および表面欠陥検査装置を提供することにある。 【解決手段】この発明は、配列されたn個の受光素子を
有し主走査方向に対して直角な方向に沿った結像が受光
素子の配列方向となる受光系を設け、n個の受光素子の
配列方向のそれぞれ受光素子の検出信号において、凹部
欠陥あるいは凸部欠陥について上限ピークと下限ピーク
とを得る。そして、受光素子の配列方向における上限ピ
ークと下限ピークとの関係に応じて凹部欠陥か、凸部欠
陥かを判定して欠陥を検出する。
Description
および表面欠陥検査装置に関し、詳しくは、磁気ディス
クあるいはそのガラス基板(ガラスサブストレート)あ
るいはウエハ等の面板の表面欠陥検査装置において、面
板表面の凹凸欠陥について凹部欠陥と凸部欠陥を精度よ
く区別して検出することができるような欠陥検出光学系
および表面欠陥検査装置に関する。
されるハード磁気ディスクは、素材としての基板ディス
ク(サブストレート)、または磁気膜が塗布された磁気
ディスク(便宜上これらを総称して磁気ディスクまたは
単にディスクという)の段階で、表面に存在する欠陥と
その大きさとがそれぞれ検査される。近年、ディスクの
大きさは、3.3インチか、これ以下のものが主流とな
り、その記録密度もGMRヘッドの採用により飛躍的に
伸びている。この種のディスクでは、アルミサブストレ
ートから、より熱膨張率の小さなガラスディスクが使用
され、その厚さも、0.6mm〜0.8mm程度と薄い
ものである。
しては、凹部欠陥と凸部欠陥のサイズを良好に検出する
ために、感度較正用ディスクを用いて投光系のレーザビ
ームの投射角度や、受光系の受光角度、受光器に加圧す
る電圧、受光器から検出信号を受けて欠陥を検出する信
号処理回路に内蔵されたアンプのゲイン、ノイズ除去用
の閾値電圧、レーザ光源のレーザ出力など、検出感度に
関係する各要素についてそれぞれ最適に設定する。感度
較正用ディスクは、大きさが既知の皿状欠陥や、ピット
欠陥、スクラッチ欠陥などサンプルとしての欠陥を持つ
実際のディスクあるいは特定の高さの突起を持つ実際の
ディスクをサンプルとして使用することで行われてい
る。この種の発明として出願人による特開平10−32
5713号「表面欠陥検査方法および検査装置」の出願
がある。
は、受光器により検出された反射光あるいは散乱光のレ
ベルと基準レベルとを比較することにより凹部欠陥ある
いは凸部欠陥(異物を含め)等を検出しているため、検
出する凹凸欠陥の大きさの検出が受光レベルで代用さ
れ、正確なものとならない。
上が要求されている。しかし、前記のような技術では、
精度の高い分類ができない問題が生じる。そこで、凹部
欠陥と凸部欠陥とを精度よく検出する技術として、受光
器をAPD多素子からなる配列センサとして、これの手
前に千鳥状の縞パターンを素子対応に設けて隣接受光素
子の受光量の差から凹部欠陥と凸部欠陥とを検出する技
術を特願平11−358769号「欠陥検出光学系およ
び表面欠陥検査装置」としてこの出願人が出願済みであ
り、また、千鳥の縞パターンを用いない技術として特願
2000−397091号「欠陥検出光学系および表面
欠陥検査装置」もこの出願人が出願済みである。
術では、凹部欠陥と凸部欠陥とで異なる波形の検出信号
を得るために、APD多素子からなる配列センサを2列
並列して配置することが必要である。そして、2列のう
ちの左右どちらの受光素子が先に受光して検出信号を発
生するかにより凹部欠陥と凸部欠陥とを区分している。
高い精度で各種の欠陥を検出するために、受光器の素子
数は十数個から数十個配列される。そのため、前記の先
行技術では、幅方向に隣接素子同士からの信号を受ける
回路が多数必要となる欠点がある。この発明の目的は、
このような従来技術の問題点を解決するものであって、
面板表面の凹凸欠陥について凹部欠陥と凸部欠陥を精度
よく区別して検出することができる欠陥検出光学系およ
び表面欠陥検査装置を提供することにある。
るためのこの発明の欠陥検出光学系および表面欠陥検査
装置の特徴は、主走査方向に対して直角な方向に幅のあ
る光ビームを照射して面板を相対的に走査する投光系
と、受光器が配列されたn個(ただしnは2以上の整
数)の受光素子を有し面板の走査位置の映像をn個の受
光素子に結像しかつ直角な方向に沿った結像が配列方向
となる受光系とを備え、ある走査位置でのn個の受光素
子のn個の検出信号のうちの上限ピーク値と下限ピーク
値との差が所定値以上あるときに、受光素子の配列方向
における上限ピークと下限ピークとの関係に応じて凹部
欠陥か、凸部欠陥かを判定してこれらの欠陥を検出する
ものである。
に、配列されたn個の受光素子を有し、主走査方向に対
して直角な方向に沿った結像が受光素子の配列方向とな
る受光系を設けることで凹部欠陥あるいは凸部欠陥を検
出する。そのような凹部欠陥あるいは凸部欠陥は、それ
ぞれのレンズ効果によりn個の受光素子の配列方向にお
いて走査位置の映像の反射光に粗密が現れる。この粗密
の状態は、n個の受光素子の配列方向のそれぞれ受光素
子の検出信号において、上限ピークと下限ピークとを発
生させる。
のn個の検出信号のうちの上限ピーク値と下限ピーク値
との差が所定値以上あるときに、凹部欠陥あるいは凸部
欠陥であるとして、受光素子の配列方向における上限ピ
ークと下限ピークとの関係に応じて凹部欠陥か、凸部欠
陥かを判定して欠陥を検出することができる。その結
果、面板表面の凹凸欠陥について凹部欠陥と凸部欠陥を
精度よく区別して検出する。
置の一実施例のブロック図であり、図2は、検出光学系
における図面において紙面に平行な方向(θ方向)と図
面において紙面に垂直な一方向(R方向)との投受光系
の展開説明図、図3は、検査領域の受光面での結像映像
とAPDアレーセンサの関係との説明図、図4は、ピー
ク差検出回路の説明図、図5は、凹部欠陥の正反射光の
レンズ効果による粗密の状態の説明図、そして、図6
は、図5におけるレンズ効果における検出波形の説明図
である。図1において、100は、表面欠陥検査装置で
あり、50は、その検出光学系である。51は、検出光
学系50の投光系であり、投光系51は、レーザ光源5
11よりのレーザビームLTをビームエキスパンダ51
2で受け、図面において紙面に垂直な一方向(R方向)
にレーザビームを拡大することで、焦点位置を手前にず
らせる。ここで拡大されたビームは、シリンドリカルレ
ンズ513、フォーカスシングレンズ514を経て、半
径R方向のビームウエストにオフセットΔd(図2
(a)参照)だけ焦点位置を手前にずらされてディスク
1の表面に集束する。これにより楕円形にビームスポッ
トSpが拡大する(図2(b)参照)
1は、回転機構のスピンドル(図示せず)に装着されて
モータの駆動により回転する。ディスク1は、その半径
方向(Rの方向)に一致するX軸方向移動する。このX
軸方向の移動によりスポットSPは、ディスク1のRの
方向に移動し、これによりディスク1の表面がスパイラ
ル状に走査される。この場合、走査時間をできるだけ短
くするために、スポットSPは、下側に図2(b)とし
て示すように短径と長径を有する楕円形とされ、長径を
走査方向に対して直角に設定して走査幅を広くする方法
が採られる。
(ディスク回転方向、すなわちθ方向)では、シリンド
リカルレンズ513を経た光ビームは、図示するように
フォーカシングレンズ514を経てディスク1の表面に
検査点Sに点状に集束される(図2(b)の◆点参
照)。その投射角は、図2(b)に示すように、θ方向
ではディスク1上の法線に対して約30゜である。そし
て、検査点Sは、紙面に垂直な方向(R方向)では、一
定の幅W(例えば、約150μm〜約200μm)の光
となり、この幅Wが結像面での受光素子の配列範囲をカ
バーする長さになっている。
を有していて、このレンズによりディスク1の検査点S
からの正反射光を受光して、それを平行光にして結像レ
ンズ522へと導く。結像レンズ522は、APDアレ
ーセンサ523の受光面に検査点Sの映像を結像させ
る。APDアレーセンサ523は、図3に示すように、
受光素子がディスク1の半径R方向(図面1の紙面に垂
直な方向)の結像に沿ってn個(例えば、23個)配列
されたものである。このAPDアレーセンサ523に
は、前記した幅W(約150μm〜約200μm)が受
光素子の配列長約120μmの範囲をカバーするように
検査点Sの映像が結像する。このとき、各素子の配列方
向の各受光素子の幅としては、例えば、受光素子上で
0.5mmであり、ディスク1の表面上では、5μm程
度である。
向)と紙面に垂直な一方向(R方向)とを説明する投受
光系の展開説明図であり、上側が紙面に平行なθ方向で
あり、下側が紙面に垂直なR方向である。図2(a)に
図示するように、θ方向では、レーザ光源511よりの
レーザビームLTは、ビームエキスパンダ512,シリ
ンドリカルレンズ513を経てフォーカシングレンズ5
14によりディスク1の表面を焦点として検査点Sにス
ポット(図2(b)の◆点参照)として集束される。検
査点Sからの正反射光は、高解像度集光レンズ521、
結像レンズ522を経てAPDアレーセンサ523の各
受光素子により受光される。
に、半径R方向では、レーザ光源511よりのレーザビ
ームLTは、ビームエキスパンダ512,シリンドリカ
ルレンズ513を経てフォーカシングレンズ514によ
りディスク1の表面からオフセットΔdだけ手前の位置
を焦点として検査点Sに楕円形に幅Wをもって集束させ
る(図2(b)参照)。検査点Sからの正反射光は、高
解像度集光レンズ521、結像レンズ522を経てAP
Dアレーセンサ523の各受光素子523a,523
b,523c,〜,523nの配列方向に沿って検査点
Sの映像が受光される。
たAPDアレーセンサ523の各受光素子523a〜5
23nのそれぞれから得られる検出信号(出力信号)
は、欠陥検出部400に入力される。ここで欠陥Fとそ
の深さあるいは高さに関係するデータが生成される。そ
れらの欠陥データがMPU411とメモリ412等とか
らなるデータ処理装置410に入力される。そして、デ
ータ処理装置410において、欠陥Fの面積が算出さ
れ、深さあるいは高さとともに算出された面積に応じて
大きさが分類される。そして、それらの結果がディスク
1における欠陥の位置とともにプリンタ(PR)45に
よりプリントアウトされる。また、それらは、ディスプ
レイ(CRT)413等にディスク上の位置とともに表
示され、カウント値も別途表示される。
3nが出力する検出信号と半径R方向のオフセットΔd
(図2(a)参照)との関係について図5を参照して説
明する。検出する凹部欠陥あるいは凸部欠陥には、その
大きさと検査点Sとの関係で反射光に欠陥によるレンズ
効果が現れる。そこで、このレンズ効果が現れるように
オフセットΔdが決定される。例えば、100μm〜2
00μmの大きさの凹部欠陥を検出が主体となるとすれ
ば、検査点Sに楕円形の長径が前記のように200μm
程度になるようにオフセットΔdを設定する。
523nには、図3のように、R方向において検査領域
Sの結像映像が各素子の受光領域の内側でその中心が中
央部になり、受光領域からはみ出さないように結像され
る。すなわち、検査領域Sの結像映像の幅が各受光素子
の幅Dか、これよりも小さい。そこで、欠陥が検出され
ていないときには、このような受光状態となり、検出信
号は、最大レベルにある。凹部欠陥あるいは凸部欠陥
は、周辺部は傾斜面となっているので、先の特願200
0−397091号「欠陥検出光学系および表面欠陥検
査装置」で説明したように、凹部欠陥あるいは凸部欠陥
が検出されたときにはそれぞれの欠陥の周辺部にある傾
斜面からの反射光を走査光が欠陥に入るときと欠陥から
出るときとで受ける。そこで、欠陥の周辺部にある傾斜
面では、検査領域Sの結像映像が図3において右側ある
いは左側に振れる。振れたときには、各受光素子の検出
信号は、振れの状態に応じてそのレベルが低下する。そ
の結果、凹部欠陥あるいは凸部欠陥が検出されたときに
は2つのピークを持つ検出信号が発生する。この2つの
ピークの距離とレベルとにより、欠陥の大きさと深さあ
るいは高さとが検出できる。
では、検出信号は図3の状態になる。このときの凹部欠
陥と受光素子523a〜523nとの関係は、先の欠陥
のレンズ効果により、図5に示すような関係にある。す
なわち、凹部欠陥Fは、受光した光を凹ミラー若しくは
凸レンズと同様に集束され、反射する作用がある。そこ
で、検査点S全体と凹部欠陥Fとの関係を受光素子の配
列方向で考えてみると、凹部欠陥Fを通る反射光と凹部
欠陥Fの周囲からの反射光とにより、反射光全体は、受
光素子の配列方向において内側に密になり外側が粗にな
る、粗密が現れる。図では、光軸Lに凹部欠陥Fの中心
がほぼ一致しているので、受光素子523a〜523n
のうち中央部付近の受光素子の受光レベルが大きくな
り、周辺部の受光素子の受光レベルが低下する。その結
果、受光素子523a〜523nの検出信号について素
子配列方向を軸として各検出信号のレベルを採取したと
きには、図6(a)に示すような、高い上限ピークの両
側に基準レベルからみてこれよりも多少低い下限ピーク
が2つある波形が発生する。この検出波形は、凹部欠陥
Fの中心が光軸Lからずれていても、配列方向に多少シ
フトするだけで上限と下限のピークがある波形の特徴は
あまり変わらないが、凹部欠陥あるいは凸部欠陥の大き
さが検査領域Sの幅よりも大きく、その一部が検査領域
Sに入った場合、あるいは検査領域Sの幅より小さい凹
部欠陥あるいは凸部欠陥でその一部が検査領域Sに入っ
た場合には、2つある下限ピークのうち1つが欠落す
る。
欠陥とは逆に外側が密になり内側が粗になる。その結
果、図6(b)に示すような高い下限ピークの両側に基
準レベルからみてこれよりも多少低い上限ピークが2つ
ある逆極性の波形が発生する。もちろん、凹部欠陥ある
いは凸部欠陥がないところでは、受光素子の配列方向に
採った検出信号のレベルについての波形は多少の凹凸は
あるが、実質的にはほぼ平坦なものとなる。この平坦な
領域の検出信号のレベルが図6(a),(b)の波形グ
ラフの横軸において+DCとして示すレベルであり、こ
れが検出基準レベルとなる。そこで、各受光素子の検出
信号のレベルを受光素子の配列方向に採った信号から凹
部欠陥あるいは凸部欠陥の検出とそれの区分けが可能に
なる。その区分け検出について説明する。
a,523b,…523nのそれぞれの前記のような検
出信号は、それぞれに対応して設けられた反転アンプ4
01a,401b,…401nで反転増幅されて正極性
のピーク信号となり、上限/下限ピーク検出・サンプル
ホールド回路402a,402b,…402nにそれぞ
れ入力される。ここで、凹部欠陥あるいは凸部欠陥の両
側側面傾斜部分からの反射光を受けて2つのピークを持
つ検出信号がそれぞれ各受光素子(各検出チャネル)対
応に検出される。検出されたピーク値は、A/D変換回
路(A/D)403a,403b,…403nでそれぞ
れにA/D変換されてそれぞれの変換値が欠陥メモリ4
04に記憶される。さらに、凹部欠陥の底面からの反射
光および凸部欠陥の上面からの反射光を受けて上限と下
限のピークを持つ検出信号がそれぞれ各受光素子(各検
出チャネル)対応に検出される。なお、上限/下限ピー
ク検出・サンプルホールド回路402a〜402nは、
前記した図6(a),(b)の波形グラフの横軸におい
て+DCとして示す検出基準レベルを基準としてこれを
越えた上限ピークを検出し、これ未満になったときに下
限ピークの検出をする。なお、上限/下限ピーク検出・
サンプルホールド回路402a〜402nは、クロック
発生回路406からクロックCLKを受けてこれに応じ
てピーク値をサンプル値としてホールドする。
出力は、欠陥検出回路405aとピーク差検出回路40
5bとに入力される。欠陥検出回路405aは、それぞ
れヒステリシスコンパレータを有していて、反転アンプ
401a〜401nの出力をOR条件で所定値Vthと比
較していずれかの反転アンプの出力のレベルが所定値以
上に立上がったときに欠陥検出信号DETを発生して、
そのアンプの出力のレベルが一定値以下に立下がったと
きに(ピーク値近傍に対応)欠陥検出信号DETが停止
する。このDETの停止時の立下がり(後縁)を書込み
制御信号WRとして欠陥メモリ404に送出する。ま
た、この書込み制御信号WRは、少し遅延されてリセッ
ト信号RSとして各上限/下限ピーク検出・サンプルホ
ールド回路402a〜402nへと入力されて、それま
での値がリセットされる。その結果、欠陥検出信号DE
Tが発生してこれが終了する時点までの期間におけるピ
ーク値が各A/D403a〜403nから欠陥メモリ4
04へと送出されて欠陥データとして記憶される。この
ときのレベルは、凹部欠陥についてはその深さを表し、
凸部欠陥については、その高さを表すことになる。ま
た、ピーク間の距離は、欠陥の大きさに対応している。
(a)および(b)に示す波形の検出信号を検出するも
のである。ピーク差検出回路405bは、欠陥検出回路
405aからの検出信号DETと各反転アンプ401a
〜401nの出力とを受けて、欠陥検出回路405aの
検出信号DETが発生してから少し遅延して一定期間の
間動作して(遅延回路、タイマ回路は図示せず)各反転
アンプ401a〜401nの出力の差が一定値以上のと
きに検出信号を発生して、書込み制御信号Cを欠陥メモ
リ404に送出する。この書込み制御信号Cは、先の書
込み制御信号WRと同様に、少し遅延されてリセット信
号RSとして各上限/下限ピーク検出・サンプルホール
ド回路402a〜402nへと入力されて、それまでの
値がリセットされる。ピーク差検出回路405bが少し
遅延して一定期間の間動作することで、凹部欠陥の底面
あるいは凸部欠陥の上面での検出信号の発生タイミング
に合わせることができる。これにより上限/下限ピーク
検出・サンプルホールド回路402a〜402nでホー
ルドされた凹部欠陥の底部あるいは凸部欠陥の上面部で
の各受光素子の検出信号の上限と下限のピーク値のデー
タが欠陥メモリ404に記憶される。
ように、2つのコンパレータ405c,405dと、こ
の2つのコンパレータ405c,405dの検出出力を
受けるアンド回路405eとからなる。コンパレータ4
05cは、各反転アンプ401a〜401nのOR条件
の出力と図6の閾値THhとを比較して閾値THhを超えたと
きに検出信号Aを発生する。コンパレータ405dは、
各反転アンプ401a〜401nのOR条件の出力を反
転した信号をインバータ405fを介して受けてこの反
転信号と図6の閾値THLと比較して閾値THLより低下した
ときに検出信号Bを発生する。アンド回路405eは、
検出信号AとBが発生したときに、検出信号Cを発生す
る。この検出信号Cにより図6(a)および(b)に示
す波形を検出するものである。
ールド回路402a〜402nでホールドされ、A/D
変換された欠陥データは、R,θの位置データともに欠
陥メモリ404の更新されたアドレスに記憶される。こ
のアドレスは書込みの都度更新される。R,θの位置座
標データは走査位置座標生成回路407により生成され
る。なお、書込み制御信号WRは、欠陥検出信号DET
の立下がりではなく、上限・下限ピーク値検出のタイミ
ングで上限/下限ピーク検出・サンプルホールド回路4
02(上限/下限ピーク検出・サンプルホールド回路4
02a〜402nの代表として)から発生するようにし
てもよい。
エンコーダ23からディスク1の回転基準位置を示すイ
ンデックス信号と回転に応じた角度信号θとを受け、さ
らにデータ処理装置410から現在の半径R方向の座標
位置Rとを受けて前記のR,θの位置座標データを生成
して欠陥メモリ404に位置データとして送出する。そ
の結果、欠陥メモリ404は、欠陥の深さあるいは高さ
に応じた検出信号のレベル値と1つの凹部欠陥あるいは
凸部欠陥について2つの検出信号が発生したそれぞれの
位置とを欠陥検出の都度それぞれに記憶する。なお、ク
ロック発生回路406は、A/D403a〜403n、
上限/下限ピーク検出・サンプルホールド回路402a
〜402n、データ処理装置410等にクロックCLK
を送出する。
算出と大きさ分類について説明する。図1において、デ
ータ処理装置410は、MPU411とメモリ412、
CRTディスプレイ413、インタフェース414等に
より構成され、これらがバス415により相互に接続さ
れている。そして、ディスク1の螺旋走査が終了した時
点で、MPU411により欠陥メモリ404から得られ
る欠陥データがインタフェース414、バス415を介
してメモり412に読込まれ記憶される。そして、メモ
リ412には、凹凸欠陥検出・判定プログラム412
a、検出信号間距離算出プログラム412bと、連続性
判定処理プログラム412c、欠陥面積算出プログラム
412d、欠陥大きさ分類プログラム412e、そして
高さ/深さ分類プログラム412f等が格納されてい
る。また、インタフェース414を介して接続されたH
DD(ハードディスク装置)等の外部記憶装置416に
は分類のための各種のデータファイルが格納されてい
る。
は、MPU411により実行されて、これの実行により
MPU411は、同じR,θの位置座標におけるn個の
受光素子523a,523b,…523nの検出された
ピーク値を読み出して、上限ピーク値と下限ピーク値の
差が所定の基準値Vp以上のものを、図6(a)の凹部
欠陥あるいは図6(b)の凸部欠陥として抽出する。な
お、反転アンプ401a〜401nを通して検出してい
るので、ここでは、検出波形が反転して、図6(a)の
検出波形が凸部欠陥となり、図6(b)の検出波形が凹
部欠陥となる。ただし、欠陥がある位置と検査領域Sと
の関係で図5の関係は、欠陥Fが図面の上下方向にずれ
る。そのため、検出波形も図6(a),(b)の波形が
上下にずれ、上限ピーク1個と下限ピークが1個の場合
も存在する。そこで、まず、n個の受光素子の配列にお
いて上限ピーク2個とその間に下限ピークが1個あるも
のを図6(a)の凹部欠陥とし、下限ピーク2個とその
間に上限ピークが1個あるものを図6(b)の凸部欠陥
と判定する。さらに、上限ピーク1個と下限ピーク1個
の場合には、中央のピーク値が両側よりも大きいので、
2つのピークの波高値の絶対値を比較してより高い方の
ピークを真値とし、それが上限か下限かによって、凹凸
の判定をする。図6(a),(b)の特性に従い、その
反転信号によれば真値が上限のときに凸部欠陥となり、
真値が下限のときに凹部欠陥となる。すなわち、上限ピ
ーク1個と下限ピーク1個の場合を除いては、受光素子
の配列方向における上限ピークと下限ピークとの関係に
応じて凹部欠陥か、凸部欠陥かを判定する。そして、そ
のデータを検出されたR,θの位置座標とそれぞれの凹
部欠陥か凸部欠陥かの判定結果のフラグとをとともにメ
モリ412に記憶する。
bで図6(a)および(b)に示す波形の検出信号を検
出して、さらにプログラム処理でも前記の波形に対応す
る検出信号を抽出する2段階検出をしている。これは、
ピーク差検出回路405bの検出レベルを多少甘くし
て、その中からプログラム処理でより高い精度で凹部欠
陥あるは凸部欠陥を選択することで検出精度を上げかつ
プログラム処理のロードを低減するためである。ピーク
差検出回路405bの検出精度が高ければ、上限ピーク
値と下限ピーク値の差が所定の基準値Vp以上のものを
抽出する処理は不要である。この場合、ピーク差検出回
路405bの検出信号Cを欠陥データとともに欠陥メモ
リ404に記憶しておき、検出信号Cに応じて得られた
欠陥データについて凹部欠陥か、凸部欠陥かを判定すれ
ばよい。また、逆に、ディスクの全面で反転アンプ40
1a,401b,…401nの検出信号を直接A/D4
03a〜403nに入力してA/D変換したデータにつ
いて欠陥メモリ404に検出位置座標とともに記憶する
ようにして、凹凸欠陥検出・判定プログラム412aを
実行して凹部欠陥と凸部欠陥の判定をしてもよい。この
場合には、欠陥検出回路405aとピーク差検出回路4
05b、そして上限/下限ピーク検出・サンプルホール
ド回路402a〜402nとは不要になる。ただし、デ
ータ処理装置410の処理ロードが大きくなる。
は、MPU411により実行されて、これの実行により
MPU411は、欠陥メモリ404の欠陥データをメモ
リ412に読込み、隣接する2つのピーク値の検出座標
から距離Lを算出して、その距離Lが基準値S以内のと
きには、1つの欠陥についてのデータと判定する。さら
に、2つのピーク値について検出された座標値から、さ
らにその中心座標を算出して、算出した距離L(欠陥の
長さに対応)とその中心座標値とを順次記憶する。そし
て、次の欠陥データについて隣接するピーク値について
同様な処理を行い、この処理が終了した時点で、連続性
判定処理プログラム412cをコールする。なお、基準
値Sを超えているときには、その1つを欠陥データとし
て長さゼロでその座標値を中心座標として記憶する。
PU411により実行されて、これの実行によりMPU
411は、欠陥データすべてについて距離Lが算出され
た時点で、連続性判定処理として、中心座標と長さ(距
離L)と受光素子1つの検出幅(この実施例では5μm
程度)とにより上下左右の5μm幅で距離Lが重なるか
否かの判定を行い、隣接する欠陥データとの間で欠陥の
連続性の判定をする。そして、連続するものをグルーピ
ングして1つの欠陥データとしてディスクの最内周ある
いは最外周から順次検出された欠陥順に番号を付して記
憶し、欠陥面積算出プログラム412dをコールする。
なお、ここでの欠陥検出は、欠陥の大きさに応じてR方
向に配列した受光素子の検出が同じθ方向の座標で1個
あるいは複数個発生するので、前記の欠陥の連続性は、
θ方向の検出座標が前記の欠陥の距離Lの範囲内に入
り、かつ、R方向の座標が隣接する欠陥を連続するもの
と判定することで可能である。そこで、R方向に沿っ
て、前記Lの幅でθ方向で同じ検出座標のある欠陥を辿
ることで連続性の判定をしてもよい。このようにすれば
連続性の判定はより簡単になる。
応して欠陥を検出するので、欠陥のR方向の検出座標
は、欠陥メモリ404に記憶されている欠陥検出位置の
R方向の座標を、さらにn個の受光素子の位置に対応し
て細分化して捉えることができる。そこで、R方向の検
出座標としてn個の受光素子の検出位置を加えてn倍の
位置精度にする。これによりR方向の欠陥検出の分解能
を各受光素子対応にまで向上させることができる。な
お、R方向においてn個のうち隣接する複数の受光素子
が1つの欠陥を検出しているときには、複数の受光素子
の中央にある受光素子の位置をその欠陥のR方向の検出
座標とする。
U411により実行されて、これの実行によりMPU4
11は、面積算出処理として、グルーピングされた1つ
の欠陥についてその面積を算出する。なお、2つの検出
信号にはならない、1つのピークの欠陥は、面積を5μ
mとして孤立欠陥とし、R方向に連続性のないものは、
長さL×5μmにより面積を算出する。そして、欠陥大
きさ分類プログラム412eをコールする。欠陥大きさ
分類プログラム412eは、MPU411により実行さ
れて、これの実行によりMPU411は、前記のように
して算出された面積について大きさ分類の判定処理とし
て、分類基準に従って、特大、大、中、小、極小の5段
階に分類して欠陥番号に対応させて分類結果を記憶す
る。その後に、高さ/深さ分類プログラム412fをコ
ールする。
PU411により実行されて、MPU411は、欠陥番
号順にメモリ412に記憶された欠陥メモリ404の欠
陥データの値(グルーピングされた1つの欠陥における
検出信号のピーク値の絶対値からなる値)の平均値を算
出して、この平均値を高さあるいは深さとして大、中、
小に分類して欠陥番号に対応してメモリ412に記憶す
る。なお、1つの欠陥に複数の欠陥データがないときに
は、平均値は採らない。ほとんどの欠陥データは、1つ
の凹部欠陥、凸部欠陥について2つか、それ以上のピー
ク値を持つ欠陥データとなるので、各欠陥は、平均値に
より深さ、高さを算出することができ、これらの検出精
度は向上する。なお、以上の処理は、順次各プログラム
が実行されていく単純なものであるので、フローチャー
トでの説明は割愛する。
クの検査面に照射する照射光としてレーザビームの例を
挙げているが、レーザビームを用いる場合には、特に、
S偏光レーザビームを用いるとよい。しかし、この発明
は、このレーザビームに限定されるものではなく、照射
光としては白色光であってもよいことはもちろんであ
る。また、実施例では、ディスクの表面欠陥検査装置を
中心に説明しているが、この発明は、ディスクに限定さ
れるものではなく、ウエハやLCD基板等の検査にも適
用できることはもちろんである。さらに、実施例では、
Rθ方向の走査で説明しているが、走査は、XYの二次
元走査であってもよいことはもちろんである。
受光素子を有し主走査方向に対して直角な方向に沿った
結像が受光素子の配列方向となる受光系を設け、n個の
受光素子の配列方向のそれぞれ受光素子の検出信号にお
いて、凹部欠陥あるいは凸部欠陥について上限ピークと
下限ピークとを得る。そして、受光素子の配列方向にお
ける上限ピークと下限ピークとの関係に応じて凹部欠陥
か、凸部欠陥かを判定して欠陥を検出する。その結果、
面板表面の凹凸欠陥について凹部欠陥と凸部欠陥を精度
よく区別して検出することができる。
の一実施例のブロック図である。
に平行な方向(θ方向)と図面において紙面に垂直な一
方向(R方向)との投受光系の展開説明図である。
Dアレーセンサの関係との説明図である。
る粗密の状態の説明図である。
波形の説明図である。
1…レーザ光源、512…ビームエキスパンダ、513
…シリンドリカルレンズ、514…フォーカスシングレ
ンズ、521…高解像度集光レンズ、522…結像レン
ズ、523…APDアレーセンサ、52…受光系、40
0…欠陥検出部、401a,401b,401n…反転
アンプ、402a,402b,402n…上限/下限ピ
ーク検出・サンプルホールド回路、403a,403
b,403n…A/D変換回路(A/D)、404…欠
陥メモリ、405a…欠陥検出回路、406…クロック
発生回路、407…走査位置座標生成回路、410…デ
ータ処理装置、411…MPU、45…プリンタ(P
R)、412…メモリ、412a…凹凸欠陥検出・判定
プログラム412a、412b…検出信号間距離算出プ
ログラム、412c…連続性判定処理プログラム、41
2d…欠陥面積算出プログラム、412f…高さ/深さ
分類プログラム、413…CRTディスプレイ、414
…インタフェース、415…バス、416…外部記憶装
置、100…表面欠陥検査装置、LT…レーザビーム、
SP…ビームスポット。
Claims (7)
- 【請求項1】面板の表面を光ビームにより走査し、前記
光ビームによる前記表面からの反射光を受光器により受
光してこの受光器が欠陥検出のための検出信号を発生す
る欠陥検出光学系において、 主走査方向に対して直角な方向に幅のある前記光ビーム
を照射して前記面板を相対的に走査する投光系と、前記
受光器が配列されたn個(ただしnは2以上の整数)の
受光素子を有し前記面板の走査位置の映像を前記n個の
受光素子に結像しかつ前記直角な方向に沿った結像が前
記配列方向となる受光系とを備え、ある走査位置での前
記n個の受光素子のn個の前記検出信号のうちの上限ピ
ーク値と下限ピーク値との差が所定値以上あるときに、
前記受光素子の配列方向における上限ピークと下限ピー
クとの関係に応じて凹部欠陥か、凸部欠陥かを判定して
これらの欠陥を検出することを特徴とする欠陥検出光学
系。 - 【請求項2】前記面板はディスクであり、前記上限ピー
クと前記下限ピークとの関係は、前記受光素子の配列方
向での位置関係であり、前記結像は長円あるいは楕円の
形状であって、その長径が前記受光素子の配列方向に対
応し、前記主走査方向の前記結像の幅が前記受光素子の
幅か、これよりも小さいことを特徴とする請求項1記載
の欠陥検出光学系。 - 【請求項3】前記ディスクはガラスサブストレートであ
り、前記走査は螺旋走査である請求項2記載の欠陥検出
光学系。 - 【請求項4】面板の表面を光ビームにより走査し、前記
光ビームによる前記表面からの反射光を受光器により受
光してこの受光器が欠陥検出のための信号を発生する表
面欠陥検出装置において、 主走査方向に対して直角な方向に幅のある前記光ビーム
を照射して前記面板を相対的に走査する投光系と、前記
受光器が配列されたn個(ただしnは2以上の整数)の
受光素子を有し前記面板の走査位置の映像を前記n個の
受光素子に結像しかつ前記直角な方向に沿った結像が前
記配列方向となる受光系とを備え、ある走査位置での前
記n個の受光素子のn個の検出信号のうちの上限ピーク
値と下限ピーク値との差が所定値以上あるときに、前記
受光素子の配列方向における前記上限ピークと前記下限
ピークとの関係に応じて凹部欠陥か、凸部欠陥かを判定
してこれらの欠陥を検出することを特徴とする表面欠陥
検出装置。 - 【請求項5】前記面板はディスクであり、前記結像は長
円あるいは楕円の形状であって、その長径が前記受光素
子の配列方向に対応し、前記主走査方向の前記結像の幅
が前記受光素子の幅か、これよりも小さいことを特徴と
する請求項4記載の表面欠陥検査装置。 - 【請求項6】さらに、前記ディスクの走査位置の情報を
発生する位置座標発生回路と、n個の各前記受光素子か
らのn個の受光信号をそれぞれ増幅するn個のアンプ
と、これらn個の前記アンプから得られたそれぞれの前
記検出信号をそれぞれ受けて前記上限ピーク値と前記下
限ピーク値をホールドするn個のサンプリングホールド
回路と、ホールドされたそれぞれの前記ピーク値をそれ
ぞれ受けてそれぞれをA/D変換するn個のA/D変換
回路と、これらn個のA/D変換回路から前記ピーク値
のデジタル値を受けそして前記位置座標発生回路から前
記走査位置の情報を受けるデータ処理装置とを有し、こ
のデータ処理装置において、凹部欠陥か、凸部欠陥かの
いずれを判定する請求項5記載の表面欠陥検査装置。 - 【請求項7】前記ディスクはガラスサブストレートであ
り、前記走査は螺旋走査である請求項6記載の表面欠陥
検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001222995A JP3964166B2 (ja) | 2001-07-24 | 2001-07-24 | 表面欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001222995A JP3964166B2 (ja) | 2001-07-24 | 2001-07-24 | 表面欠陥検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003035678A true JP2003035678A (ja) | 2003-02-07 |
| JP3964166B2 JP3964166B2 (ja) | 2007-08-22 |
Family
ID=19056399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001222995A Expired - Fee Related JP3964166B2 (ja) | 2001-07-24 | 2001-07-24 | 表面欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3964166B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008111830A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-05-15 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスクの周面欠陥検出方法および検出装置 |
| JP2009139248A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検出光学系および欠陥検出画像処理を搭載した表面欠陥検査装置 |
| KR20190021605A (ko) * | 2017-08-23 | 2019-03-06 | 삼성전자주식회사 | 휴대 단말의 커버 글래스의 광학적 특성을 확인하는 검사 장치 및 커버 글래의 광학적 특성의 확인 방법 |
-
2001
- 2001-07-24 JP JP2001222995A patent/JP3964166B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008111830A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-05-15 | Hitachi High-Technologies Corp | ディスクの周面欠陥検出方法および検出装置 |
| JP2009139248A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検出光学系および欠陥検出画像処理を搭載した表面欠陥検査装置 |
| US8018585B2 (en) | 2007-12-07 | 2011-09-13 | Hitachi High-Technologies Corporation | Surface defect inspecting apparatus with defect detection optical system and defect-detected image processing |
| KR20190021605A (ko) * | 2017-08-23 | 2019-03-06 | 삼성전자주식회사 | 휴대 단말의 커버 글래스의 광학적 특성을 확인하는 검사 장치 및 커버 글래의 광학적 특성의 확인 방법 |
| KR102358582B1 (ko) * | 2017-08-23 | 2022-02-04 | 삼성전자 주식회사 | 휴대 단말의 커버 글래스의 광학적 특성을 확인하는 검사 장치 및 커버 글래의 광학적 특성의 확인 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3964166B2 (ja) | 2007-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6509966B2 (en) | Optical system for detecting surface defect and surface defect tester using the same | |
| US6617603B2 (en) | Surface defect tester | |
| US6603542B1 (en) | High sensitivity optical inspection system and method for detecting flaws on a diffractive surface | |
| US5818592A (en) | Non-contact optical glide tester | |
| JP3614741B2 (ja) | 欠陥検出光学系および表面欠陥検査装置 | |
| JPH0862150A (ja) | ディスク欠陥検査装置 | |
| JPH01143945A (ja) | テープ欠陥検出方法 | |
| JP4384737B2 (ja) | 高速欠陥分析用の検査装置 | |
| JP2009139248A (ja) | 欠陥検出光学系および欠陥検出画像処理を搭載した表面欠陥検査装置 | |
| JPH0330085B2 (ja) | ||
| JP2000275182A (ja) | 円盤状記録媒体の検査装置及び検査方法 | |
| JP4084580B2 (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JP4215220B2 (ja) | 表面検査方法及び表面検査装置 | |
| JP3964166B2 (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JP3881530B2 (ja) | 表面欠陥検査装置 | |
| JPH06148088A (ja) | ハードディスクの欠陥検出方法 | |
| JP2019106402A (ja) | 基板検査装置、表面検査方法及びコンピュータプログラム | |
| JPH08287588A (ja) | ディスク判別装置 | |
| JP6460953B2 (ja) | 光学式表面検査装置及び光学式表面検査方法 | |
| JP3277400B2 (ja) | 光ディスク欠陥検査装置 | |
| JP2006275783A (ja) | 角度測定装置 | |
| JP3218726B2 (ja) | 異物検査装置 | |
| JP2000121333A (ja) | 外観検査装置及び外観検査方法 | |
| JP3631069B2 (ja) | ディスク表面欠陥検査装置 | |
| JP2620263B2 (ja) | 寸法計測装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040415 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060315 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060425 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20060516 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060623 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20060623 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061107 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20061122 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061122 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070522 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070523 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100601 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120601 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120601 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130601 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |