JP2003034686A - 4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法 - Google Patents
4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法Info
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Abstract
的穏和な条件で且つ高い収率で4−ヒドロキシメチル−
γ−ブチロラクトン類を製造する。 【解決手段】 式(2) 【化1】 (式中、R1〜R7は、それぞれ水素原子又は炭素数1
以上6以下の分岐構造を有していてもよいアルキル基を
表し、R8は、水素原子又は炭素数1以上4以下のアシ
ル基を表す。)で表される4−ヒドロキシメチル−γ−
ブチロラクトン類は、式(1) 【化2】 (式中、R1〜R7は、前記定義した通りである。)の
4−ペンテン酸類を、炭素数1以上4以下のカルボン酸
の存在下で過酸化水素と反応させることにより製造でき
る。
Description
うる4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の製
造方法に関する。
料、医農薬中間体、あるいは機能化学品原料として有用
な4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の製造
方法としては、例えば、以下に説明するものが知られて
いる。
は、4−ペンテン酸エステル類と臭素又は塩素とを反応
させ、得られた付加生成物を加熱処理し、更に塩基性剤
を反応させて4,5−エポキシペンタン酸類を合成し、
得られた4,5−エポキシペンタン酸類に酸性物質を作
用させることにより4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロ
ラクトン類を製造する方法が開示されている。
4−ペンテン酸エステル類を過酸化水素及びギ酸、酢酸
又はプロピオン酸と反応させることにより4−ヒドロキ
シメチル−γ−ブチロラクトン類を製造する方法が開示
されている。
6, 51, 5429には、4−ペンテン酸アミド類を(CF3)2C(O
H)2、過酸化水素と反応させた後、水を作用させること
により3,3−ジメチル−4−ヒドロキシメチル−γ−
ブチロラクトンを製造する方法が記載されている。
hemical 142 (1999) 333には、4−ペンテン酸類、過酸
化水素と触媒量のメチルトリオキソレニウムを反応させ
ることにより4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクト
ン類を製造する方法が記載されている。
は、4,5−ジアシロキシペンタナールをN−オキシラ
ジカルの存在下に次亜塩素酸塩で酸化し、得られた化合
物を加溶媒分解することにより4−ヒドロキシメチル−
γ−ブチロラクトンを製造する方法が開示されている。
の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の製造
方法には、更に改善すべき問題点が存在する。
業上取り扱いが容易ではないハロゲンを等モル使用する
必要がある。そのため、特別な反応装置や、反応廃ガス
の処理などに注意を払う必要があり、4−ヒドロキシメ
チル−γ−ブチロラクトン類の工業的製造方法としては
不向きである。
用性が高く、操作も容易であるが、全工程を通した収率
が90.6%と低いという問題がある。
が容易ではない含フッ素化合物を使用しており、(i)
の場合と同様に、4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラ
クトン類の工業的製造方法としては不向きである。
である4−ペンテン酸類に対して5モル%使用してお
り、また、溶媒として塩化メチレンを使用するため、工
業的に製造するにはコスト面に問題があり、人体及び地
球環境に対する悪影響が懸念される。
の次亜塩素酸ナトリウム水溶液を使用する必要があり、
工業的製造方法としては容積効率が低い。また、原料で
ある4,5−ジアシロキシペンタナールの製造には、ヒ
ドロホルミル化などの高圧反応設備が必要であり、原料
の入手が必ずしも容易であるとは言えない。
に鑑み、工業上容易に入手しうる化合物から、比較的穏
和な条件で且つ高収率で4−ヒドロキシメチル−γ−ブ
チロラクトン類を製造できるようにすることを目的とす
る。
易に入手しうる遊離カルボキシル基を有する4−ペンテ
ン酸類を、カルボン酸の存在下で過酸化水素により酸化
反応させることにより、4−ヒドロキシメチル−γ−ブ
チロラクトン類を比較的穏和な条件で且つ高収率で製造
できることを見出し、本発明を完成させた。
又は炭素数1以上6以下の分岐構造を有していてもよい
アルキル基を表し、R8は、水素原子又は炭素数1以上
4以下のアシル基を表す。)で表される4−ヒドロキシ
メチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法において、式
(1)
である。)の4−ペンテン酸類を、炭素数1以上4以下
のカルボン酸の存在下で過酸化水素と反応させることに
より式(2)の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラク
トン類を得ることを特徴とする製造方法を提供する。
又は炭素数1以上6以下の分岐構造を有していてもよい
アルキル基を表す。)で表される4−ヒドロキシメチル
−γ−ブチロラクトン類の製造方法において、式(1)
る。)の4−ペンテン酸類を、炭素数1以上4以下のカ
ルボン酸の存在下で過酸化水素と反応させることによ
り、式(3)
り、R9は炭素数1以上4以下のアシル基を表す。)で
表される4−アシロキシメチル−γ−ブチロラクトン類
と、式(4)の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラク
トン類の混合物を取得し、得られた混合物中の式(3)
の4−アシロキシメチル−γ−ブチロラクトン類につい
ては、更に塩基性もしくは酸性条件下で加溶媒分解を行
うことにより式(4)の4−ヒドロキシメチル−γ−ブ
チロラクトン類に変換することを特徴とする製造方法を
提供する。
炭素数1以上6以下の分岐構造を有していてもよいアル
キル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル
基、ヘキシル基、シクロヘキシル基を表し、R8は水素
原子又は炭素数1以上4以下のアシル基、例えばホルミ
ル基、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル
基、ブチロイル基を表す。)で表される4−ヒドロキシ
メチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法について説明
する。
チロラクトン類は、式(1)
である。)の4−ペンテン酸類を、炭素数1以上4以下
のカルボン酸の存在下で過酸化水素により酸化させるこ
とにより製造する。
1〜R7は、式(2)において定義した通りであり、従
って、式(1)の4−ペンテン酸類の具体例としては、
4−ペンテン酸、2−メチル−4−ペンテン酸、2,2
−ジメチル−4−ペンテン酸、3,3−ジメチル−4−
ペンテン酸、4−メチル−4−ペンテン酸、5,5−ジ
メチル−4−ペンテン酸等が挙げられる。
法で製造することが可能であり、例えば、Tetrahedron
Letters, 2543(1977)に開示されている方法により、一
旦アルキルエステルを合成し、加溶媒分解することによ
り得ることができる。このように製造された式(1)の
4−ペンテン酸類は、本発明の製造方法の原料としてそ
のまま用いても、溶媒と共に用いてもよい。使用可能な
溶媒としては、水、メタノール、エタノール、ギ酸エチ
ル、酢酸エチルなどが挙げられる。溶媒を使用する場
合、その使用量は容積効率を考慮すると、式(1)の4
−ペンテン酸類に対して0.1容積倍以上、5倍以下が
好ましい。
えば90%以上の純度に精製されたものを使用してもよ
いし、前工程から得られた液をそのまま使用してもよ
い。工程の簡略化及び容積効率を考慮すると、前工程か
ら溶媒のみを除去した状態で使用することも可能であ
る。ただし、過酸化水素との反応効率を考慮して、塩基
性物質の混入を極力防いだ状態で使用することが望まし
い。塩基性物質の混入を防ぐ手段として、例えば、式
(1)の4−ペンテン酸類のトルエン溶液を、塩酸など
の酸によりpHを1〜3にした水溶液で洗浄することな
どが挙げられる。
下のカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、
イソプロピオン酸、ブチル酸等が挙げられる。これらの
中でも、容積効率の高さ、入手の容易性などの点からギ
酸、酢酸が好ましい。
手可能であればどのような形態で使用しても差し支えな
い。例えば、95%以上の純度のカルボン酸を使用する
こともできるし、水により希釈したカルボン酸(76%
ギ酸水溶液など)を使用することもできる。これらのカ
ルボン酸は単独で用いてもかまわないし、2種類以上混
合して用いてもかまわない。
上使用する場合はモル数の総和)は、少なすぎると反応
が進行しなくなり、多すぎると容積効率が低下する場合
があるので、式(1)の4−ペンテン酸類に対して、好
ましくは2モル倍以上、10モル倍以下、より好ましく
は1.5モル倍以上、10モル倍以下である。
としては、工業的に入手容易なものであればどのような
形態で使用しても差し支えない。例えば、約30%水溶
液を使用することができる。
応原料が残り、目的物精製操作が煩雑となり、多すぎる
と後工程で過酸化物の処理操作が煩雑になる場合がある
ので、式(1)の4−ペンテン酸類に対し、好ましくは
0.9モル倍以上2モル倍以下、より好ましくは0.9
モル倍以上、1.5モル倍以下である。
酸化水素による式(1)の4−ペンテン酸類の酸化反応
の反応様式は、特に制限されず、公知の方法をとること
ができる。本反応は発熱反応であるため、操作に注意す
る必要がある。また、反応の形式は撹拌による混合が好
ましい。
数1以上4以下のカルボン酸と過酸化水素とを予め反応
槽に仕込み、式(1)の4−ペンテン酸類を反応槽に滴
下する方法、炭素数1以上4以下のカルボン酸と式
(1)の4−ペンタン酸類とを予め反応槽に仕込み、過
酸化水素を滴下する方法などが挙げられる。
十分に進行せず、高すぎると副反応の割合が増加する傾
向があるので、好ましくは20℃以上、80℃以下であ
る。
る式(2)の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクト
ン類が得られる。
基を表す場合、そのアシル基は、反応工程で使用した炭
素数1以上4以下のカルボン酸由来のものである。ま
た、R 8が水素原子を表す場合、その水素原子は、式
(1)の4−ペンテン酸類、炭素数1〜4のカルボン酸
もしくは過酸化水素水由来のものである。
ドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の具体例として
は、4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン、4−
ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトンのギ酸エステ
ル、4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトンの酢酸
エステル、4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン
のプロピオン酸エステル、4−ヒドロキシメチル−γ−
ブチロラクトンのイソプロピオン酸エステル、4−ヒド
ロキシメチル−γ−ブチロラクトンの酪酸エステル、2
−メチル−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクト
ン、2−メチル−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラ
クトンのギ酸エステル、2−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−γ−ブチロラクトンの酢酸エステル、2,2−ジ
メチル−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン、
2,2−ジメチル−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロ
ラクトンのギ酸エステル、2,2−ジメチル−4−ヒド
ロキシメチル−γ−ブチロラクトンの酢酸エステル、
3,3−ジメチル−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロ
ラクトン、3,3−ジメチル−4−ヒドロキシメチル−
γ−ブチロラクトンのギ酸エステル、3,3−ジメチル
−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトンの酢酸エ
ステル、4−メチル−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチ
ロラクトン、4−メチル−4−ヒドロキシメチル−γ−
ブチロラクトンのギ酸エステル、4−メチル−4−ヒド
ロキシメチル−γ−ブチロラクトンの酢酸エステル、
5,5−ジメチル−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロ
ラクトン、5,5−ジメチル−4−ヒドロキシメチル−
γ−ブチロラクトンのギ酸エステル、5,5−ジメチル
−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトンの酢酸エ
ステルが挙げられる。
γ−ブチロラクトン類は、反応液を公知の手段(蒸留、
晶析、カラムクロマトグラフィ等)により精製単離する
ことが好ましい。この場合、精製操作を行う前に化学的
方法などの公知の方法で過酸化物を除去しておくことが
好ましい。
を、炭素数1以上4以下のカルボン酸の存在下で過酸化
水素で酸化すると、式(4)
ある。)で表される、分子中にフリーの水酸基を有する
有する4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類
と、式(3)
り、R9は炭素数1以上4以下のカルボン酸に由来する
アシル基、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニ
ル基、イソプロピオニル基、ブチロイル基を表す。)の
4−アシロキシメチル−γ−ブチロラクトン類との混合
物が得られる場合がある。ここで、式(4)の化合物が
目的化合物として必要な場合には、以下のように製造す
る。
γ−ブチロラクトン類は、まず、式(1)の4−ペンテ
ン酸類を、炭素数1以上4以下のカルボン酸の存在下で
過酸化水素と酸化反応させることにより、式(3)で表
される4−アシロキシメチル−γ−ブチロラクトン類
と、式(4)の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラク
トン類の混合物を取得し、次に、得られた混合物中の式
(3)の4−アシロキシメチル−γ−ブチロラクトン類
については、更に塩基性もしくは酸性条件下で加溶媒分
解を行うことにより式(4)の4−ヒドロキシメチル−
γ−ブチロラクトン類に変換することにより製造する。
製造方法で説明した酸化反応と同様に実施することがで
きる。
γ−ブチロラクトン類の加溶媒分解反応は、酸化反応で
得られた、式(4)の化合物が混入したままの混合物に
対して行ってもかまわないし、その混合物から分離精製
した式(3)の化合物に対して行ってもよい。ここで、
精製は、目的に応じて、例えば純度95%以上にまで高
度に精製してもよく、単に、混合物から水やカルボン酸
を除去するだけの精製でもよい。
容積効率向上を目的として水及び炭素数1以上4以下の
カルボン酸を除去してから行うことが望ましい。また、
操作の安全性から、この加溶媒分解操作を行う前に化学
的処理、例えば、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カ
リウム、チオ硫酸ナトリウムなどの添加処理、二酸化マ
ンガン、活性炭等に担持された白金触媒との混合処理、
活性炭などに担持されたパラジウム触媒との混合処理な
どの公知の処理方法で過酸化物を除去しておくことが好
ましい。
条件で行うことが可能である。
の具体例としては例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムエトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、カリ
ウムt−ブトキシドなどが挙げられる。
ロキシメチル−γ−ブチロラクトン類に対して、通常1
〜5モルである。塩基性条件で行った場合には、カルボ
ン酸塩が生成するので、この化合物を酸性物質で処理す
ることで精製時の損失を少なくできる。使用可能な酸性
物質の具体例としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸、p
−トルエンスルホン酸などが挙げられる。酸性物質の使
用量は使用した塩基性物質に対して通常1当量(中和に
必要な量)以上、2当量以下である。
質の具体例としては例えば、塩酸、硫酸、リン酸、p−
トルエンスルホン酸などが挙げられる。酸性物質の使用
量は式(3)4−アシロキシメチル−γ−ブチロラクト
ン類に対して通常0.0001モル倍以上、10モル倍
以下であり、好ましくは0.005モル倍以上1.2モ
ル倍以下である。
ことができる。使用できる溶媒は、R9で表されるアシ
ル部位と反応してカルボン酸、カルボン酸エステルなど
への変換に使用される場合もある。使用可能な溶媒とし
て水もしくは炭素数1以上4以下のアルコール、ヘキサ
ン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メ
チレン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジイソプロピ
ルエーテル等が挙げられる。これらは単独で用いても2
成分以上混合して用いてもかまわない。上記の溶媒のう
ち、水、メタノール、エタノールを少なくとも溶媒の1
成分として使用することが好ましい。
ましく、60℃以上、120℃以下で行うことがより好
ましい。
望により減圧下、あるいは加圧下で実施することができ
る。また、加溶媒分解により得られたR9由来のカルボ
ン酸、もしくはエステル化合物を反応系中から除去(例
えば、蒸留除去)させながら反応を実施してよい。
−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類は、通常、
中和操作を実施した後、反応混合物を蒸留するか、ある
いは有機溶媒などにより抽出し、溶媒を除去することで
単離される。
ロキシメチル−γ−ブチロラクトン類、もしくは式
(4)の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類
は、種々核酸類を合成するための原料や、医農薬中間
体、機能化学品原料として有用である。また、これらの
化合物は、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、5−ノルボルネンカルボン酸エステルなどの
エステルに誘導でき、レジスト材料などにも使用でき
る。
るが、本発明はかかる実施例によりなんら制限されるも
のではない。
解)還流冷却管をそなえた内容積1リットルの3口フラ
スコに、3,3−ジメチル−4−ペンテン酸メチルを1
61g(1.13モル)と、17重量%水酸化ナトリウ
ム水溶液を300g(水酸化ナトリウムとして1.25
モル)とを投入し、50℃で4時間、更に70℃で4時
間攪拌した。
(塩酸として1.38モル)入れ、トルエン100mL
で水層を3回抽出した。得られたトルエン層を合わせて
エバポレーターで濃縮し、151gの濃縮液を得た。こ
の濃縮液をガスクロマトグラフィー(カラム:G−20
5(化学物質評価研究機構)、20メートル、100℃
(0分保持)、10℃/分で昇温、最終温度250℃)
で分析したところ、3,3−ジメチル−4−ペンテン酸
の含有率が93.8%であることが確認できた(3,3
−ジメチル−4−ペンテン酸として141g、1.10
モル、反応収率97%)。
ロラクトン合成)還流冷却管をそなえた1リットル3口
フラスコに、参考例1で得られた3,3−ジメチル−4
−ペンテン酸を146g(3,3−ジメチル−4−ペン
テン酸として137g、1.07モル)と、純度88%
ギ酸147g(2.81モル)とを投入し撹拌した。内
温を45℃まで昇温させ、そこへ純度35%過酸化水素
水116.2g(過酸化水素として14.7g、1.2
0モル)を5時間かけて滴下した。このとき、内温を4
5℃〜60℃の間にキープした。
保ち6時間反応を追い込んだ。この時の内液をガスクロ
マトグラフィーにて分析したところ、原料である3,3
−ジメチル−4−ペンテン酸が0.4g確認できた(転
化率99.7%)。また、3,3−ジメチル−4−ヒド
ロキシメチル−γ−ブチロラクトンのギ酸エステルが5
1.6g(0.30モル、収率28.0%)、3,3−
ジメチル−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン
108g(0.75モル、収率70.3%)観測され
た。
化物を分解し、反応に使用したギ酸、水をエバポレータ
ーで留去した。残液に対して水を100g加え、酢酸エ
チル200gで2回抽出を行い、得られた有機層を合わ
せて再びエバポレーターで溶媒除去をおこなった。
mL3口フラスコに入れて、p−トルエンスルホン酸
0.6g、メタノール130g(4.1モル)加えた。
内温を65℃にセットし、メタノールと生成するギ酸メ
チルを共に留去した。メタノールを130g(4.1モ
ル)加えて、メタノール、ギ酸メチルを留去する操作を
さらに3回行い、3,3−ジメチル−4−ヒドロキシメ
チル−γ−ブチロラクトンのギ酸エステルの加溶媒分解
を行った。最終的にメタノールをほぼ完全に留去して、
缶液を166g得た。この缶液をガスクロマトグラフィ
ーにて分析したところ3,3−ジメチル−4−ヒドロキ
シメチル−γ−ブチロラクトンのギ酸エステルが0.1
g(4ミリモル、収率0.04%)、3,3−ジメチル
−4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン151g
(1.05モル、収率97.8%)観測された。
99.3%の3,3−ジメチル−4−ヒドロキシメチル
−γ−ブチロラクトンを149g(収率96.0%)得
た(沸点118℃/0.5kPa(0.4mmH
g))。
3,3−ジメチル−4−ペンテン酸の代わりに4−ペン
テン酸(アルドリッチ社試薬)を26.7g(0.26
7モル)使用し、その他の薬品を1/4スケールにする
こと以外は実施例1と同様の操作で反応を行った。
したところ原料である4−ペンテン酸は0.2g確認で
きた(転化率99.3%)。また、4−ヒドロキシメチ
ル−γ−ブチロラクトンのギ酸エステルが15.4g
(0.107モル、収率39.9%)、4−ヒドロキシ
メチル−γ−ブチロラクトンが17.73g(0.15
3モル、収率57.3%)確認できた。
化物を分解し、反応に使用したギ酸、水をエバポレータ
ーで留去した。
mL3口フラスコに投入し、更にp−トルエンスルホン
酸0.5gとメタノール40g(1.25モル)とを加
えた。内温を65℃にセットし、メタノールと生成する
ギ酸メチルを共に留去した。メタノールを40g(1.
25モル)加えて、メタノール及びギ酸メチルを留去す
る操作をさらに3回行い、4−ヒドロキシメチル−γ−
ブチロラクトンのギ酸エステルの加溶媒分解を行った。
最終的にメタノールをほぼ完全に留去して、缶液を蒸留
により精製したところ純度99.1%の4−ヒドロキシ
メチル−γ−ブチロラクトンを27.8g(0.237
モル、収率89.0%)得た(沸点115〜118℃/
0.9kPa(0.7mmHg))。
キシメチル−γ−ブチロラクトン及びその誘導体を、工
業上容易に入手しうる原料を用いて、比較的穏和な条件
で実施することにより、高い収率で製造することができ
るので、本発明は4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラ
クトン類の製造方法として好適である。
Claims (2)
- 【請求項1】 式(2) 【化1】 (式中、R1〜R7は、それぞれ水素原子又は炭素数1
以上6以下の分岐構造を有していてもよいアルキル基を
表し、R8は、水素原子又は炭素数1以上4以下のアシ
ル基を表す。)で表される4−ヒドロキシメチル−γ−
ブチロラクトン類の製造方法において、式(1) 【化2】 (式中、R1〜R7は、前記定義した通りである。)の
4−ペンテン酸類を、炭素数1以上4以下のカルボン酸
の存在下で過酸化水素と反応させることにより式(2)
の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類を得る
ことを特徴とする製造方法。 - 【請求項2】 式(4) 【化3】 (式中、R1〜R7は、それぞれ水素原子又は炭素数1
以上6以下の分岐構造を有していてもよいアルキル基を
表す。)で表される4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロ
ラクトン類の製造方法において、式(1) 【化4】 (式中、R1〜R7は前記定義の通りである。)の4−
ペンテン酸類を、炭素数1以上4以下のカルボン酸の存
在下で過酸化水素と反応させることにより、式(3) 【化5】 (式中、R1〜R7は前記定義の通りであり、R9は炭
素数1以上4以下のアシル基を表す。)で表される4−
アシロキシメチル−γ−ブチロラクトン類と、式(4)
の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の混合
物を取得し、得られた混合物中の式(3)の4−アシロ
キシメチル−γ−ブチロラクトン類については、更に塩
基性もしくは酸性条件下で加溶媒分解を行うことにより
式(4)の4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン
類に変換することを特徴とする製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001218642A JP2003034686A (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | 4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001218642A JP2003034686A (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | 4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法 |
Publications (1)
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| JP2003034686A true JP2003034686A (ja) | 2003-02-07 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001218642A Pending JP2003034686A (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | 4−ヒドロキシメチル−γ−ブチロラクトン類の製造方法 |
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| JP (1) | JP2003034686A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5877875A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-05-11 | デイナミ−ト・ノ−ベル・アクチエンゲゼルシヤフト | 3,4−ジヒドロ−α−ピロンの製法、及びラクトン及び置換ラクトン並びにそれらの製法 |
-
2001
- 2001-07-18 JP JP2001218642A patent/JP2003034686A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5877875A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-05-11 | デイナミ−ト・ノ−ベル・アクチエンゲゼルシヤフト | 3,4−ジヒドロ−α−ピロンの製法、及びラクトン及び置換ラクトン並びにそれらの製法 |
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