JP2003034540A - ガラス微粒子堆積体製造装置 - Google Patents
ガラス微粒子堆積体製造装置Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01406—Deposition reactors therefor
-
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- C03B37/0144—Means for after-treatment or catching of worked reactant gases
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応容器内におけるガスの流れを制御し、ス
ス体形成に関与しなかったススなどの浮遊ダスト類が速
やかに排出されるようにしたガラス微粒子堆積体製造装
置を提供すること。 【解決手段】 反応容器内にターゲットロッドに向け拡
開状の仕切構造体が設置され、所定の位置から排気口側
では反応容器の空間部が排気口に向かって一様に狭くな
っていくように構成されており、かつ、反応容器の空間
部が狭くなり始める位置よりもバーナ側の側壁に、前記
仕切構造体の壁面に向けて清浄空気や不活性ガスなどの
ガスを流出させるガス導入口が設けられていることを特
徴とするガラス微粒子堆積体製造装置。
ス体形成に関与しなかったススなどの浮遊ダスト類が速
やかに排出されるようにしたガラス微粒子堆積体製造装
置を提供すること。 【解決手段】 反応容器内にターゲットロッドに向け拡
開状の仕切構造体が設置され、所定の位置から排気口側
では反応容器の空間部が排気口に向かって一様に狭くな
っていくように構成されており、かつ、反応容器の空間
部が狭くなり始める位置よりもバーナ側の側壁に、前記
仕切構造体の壁面に向けて清浄空気や不活性ガスなどの
ガスを流出させるガス導入口が設けられていることを特
徴とするガラス微粒子堆積体製造装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ターゲットロッド
とガラス微粒子合成用バーナーを相対運動させながら、
ターゲットロッド上に径方向にガラス微粒子を堆積させ
るガラス微粒子堆積体の製造装置に関し、特に堆積でき
なかったガラス微粒子を効率よく反応容器外へ排出する
ことができ、良好な品質のガラス微粒子堆積体を得るこ
とができるガラス微粒子堆積体の製造に関する。
とガラス微粒子合成用バーナーを相対運動させながら、
ターゲットロッド上に径方向にガラス微粒子を堆積させ
るガラス微粒子堆積体の製造装置に関し、特に堆積でき
なかったガラス微粒子を効率よく反応容器外へ排出する
ことができ、良好な品質のガラス微粒子堆積体を得るこ
とができるガラス微粒子堆積体の製造に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバプリフォーム等のガラス製品
を製造する際のガラス微粒子堆積体の製造方法の１例を
図７に示す。図７（ａ）は側面方向から、図７（ｂ）は
上方向から見た概略断面図である。図７の装置は、反応
容器４内のターゲットロッド１に対向させて複数のガラ
ス微粒子合成用バーナー２を一定間隔で配置し、回転す
るターゲットロッド１と前記バーナー２の列を相対的に
往復移動させ（図にはターゲットロッド１を上下に往復
運動させる例を示した）、ターゲットロッド１の表面に
ガラス微粒子（スス）を層状に堆積させてガラス微粒子
堆積体（スス体）５を得る装置である。図７において１
８は排気用の清浄空気等のガスを反応容器４内へ導入す
るガス導入口、７はターゲットロッド１を回転させるた
めの回転機構、８はターゲットロッド１を上下運動させ
るための昇降装置、１７は排気口である。
を製造する際のガラス微粒子堆積体の製造方法の１例を
図７に示す。図７（ａ）は側面方向から、図７（ｂ）は
上方向から見た概略断面図である。図７の装置は、反応
容器４内のターゲットロッド１に対向させて複数のガラ
ス微粒子合成用バーナー２を一定間隔で配置し、回転す
るターゲットロッド１と前記バーナー２の列を相対的に
往復移動させ（図にはターゲットロッド１を上下に往復
運動させる例を示した）、ターゲットロッド１の表面に
ガラス微粒子（スス）を層状に堆積させてガラス微粒子
堆積体（スス体）５を得る装置である。図７において１
８は排気用の清浄空気等のガスを反応容器４内へ導入す
るガス導入口、７はターゲットロッド１を回転させるた
めの回転機構、８はターゲットロッド１を上下運動させ
るための昇降装置、１７は排気口である。
【０００３】このような装置を用いてガラス微粒子堆積
体の製造（スス付け）を行う場合、ターゲットロッドあ
るいはガラス微粒子堆積体の表面に堆積しなかったガラ
ス微粒子が反応容器内の特定個所に付着し（特に反応容
器内が高温であることに起因する上昇流のため、反応容
器上部への付着）、それが長時間のスス付けの間に厚く
堆積し、時にははがれ落ちることがある。また、反応容
器内のガスの流れによっては部分的に渦が生じ、いった
ん排出口側に流れたススがスムースに排出されず、スス
体の側に戻るような場合がある。このはがれ落ちたスス
や、滞留したススが堆積中のスス体に付着すると、その
部分にススが余分に堆積して凹凸が生じ、後工程の透明
化工程においてもその状態が残り異常点となる。このよ
うな異常点を残したままファイバ化すると破断したり、
気泡を生じたりして歩留りの低下につながるという問題
がある。
体の製造（スス付け）を行う場合、ターゲットロッドあ
るいはガラス微粒子堆積体の表面に堆積しなかったガラ
ス微粒子が反応容器内の特定個所に付着し（特に反応容
器内が高温であることに起因する上昇流のため、反応容
器上部への付着）、それが長時間のスス付けの間に厚く
堆積し、時にははがれ落ちることがある。また、反応容
器内のガスの流れによっては部分的に渦が生じ、いった
ん排出口側に流れたススがスムースに排出されず、スス
体の側に戻るような場合がある。このはがれ落ちたスス
や、滞留したススが堆積中のスス体に付着すると、その
部分にススが余分に堆積して凹凸が生じ、後工程の透明
化工程においてもその状態が残り異常点となる。このよ
うな異常点を残したままファイバ化すると破断したり、
気泡を生じたりして歩留りの低下につながるという問題
がある。
【０００４】従って図７のような装置を用いてスス体を
製造する場合には、有効に堆積しなかったススを速やか
に反応容器外へ排出することが必要である。特許第２８
０９９０５号公報は、プリフォームの全長の一部分だけ
に沿って移動するバーナを用いてプリフォームの長さに
沿って実質的に均一な特性を有するプリフォームを作製
する方法に関するものであるが、均一性の改善の一手段
として、バーナアレイとプリフォームの領域における空
気流を、プリフォームの長さにわたって比較的均一であ
り、かつプリフォームの長手方向の軸線に対して実質的
に垂直であるように制御することが記載されている。
製造する場合には、有効に堆積しなかったススを速やか
に反応容器外へ排出することが必要である。特許第２８
０９９０５号公報は、プリフォームの全長の一部分だけ
に沿って移動するバーナを用いてプリフォームの長さに
沿って実質的に均一な特性を有するプリフォームを作製
する方法に関するものであるが、均一性の改善の一手段
として、バーナアレイとプリフォームの領域における空
気流を、プリフォームの長さにわたって比較的均一であ
り、かつプリフォームの長手方向の軸線に対して実質的
に垂直であるように制御することが記載されている。
【０００５】上記特許第２８０９９０５号公報の発明で
は、空気流を生じさせるための空気導入口はバーナの両
脇に設置され、そこからプリフォーム（本発明における
スス体に相当）に向けて導入されているが、このような
場合、スス体に当たった空気がスムースに排出口へ流れ
ないで渦を生じ、スス体形成に関与しなかったススが速
やかに排出されないおそれがある。また、この発明では
反応容器内での上昇流による反応容器上面へのススの付
着の問題については特に配慮されていない。
は、空気流を生じさせるための空気導入口はバーナの両
脇に設置され、そこからプリフォーム（本発明における
スス体に相当）に向けて導入されているが、このような
場合、スス体に当たった空気がスムースに排出口へ流れ
ないで渦を生じ、スス体形成に関与しなかったススが速
やかに排出されないおそれがある。また、この発明では
反応容器内での上昇流による反応容器上面へのススの付
着の問題については特に配慮されていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術における問題点に鑑み、反応容器内におけるガ
スの流れを制御し、スス体形成に関与しなかったススな
どの浮遊ダスト類が速やかに排出されるようにしたガラ
ス微粒子堆積体製造装置を提供することを目的とする。
従来技術における問題点に鑑み、反応容器内におけるガ
スの流れを制御し、スス体形成に関与しなかったススな
どの浮遊ダスト類が速やかに排出されるようにしたガラ
ス微粒子堆積体製造装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
する手段として、次の（１）〜（６）に示す構成を採る
ものである。 （１）反応容器内に支持され回転するターゲットロッド
に対向させて複数本のガラス微粒子合成用バーナを配置
し、前記ターゲットロッドとガラス微粒子合成用バーナ
とをターゲットロッドの回転軸に平行に相対的に往復運
動させ、前記バーナで合成されるガラス微粒子をターゲ
ットロッドの表面に一層ずつ順次堆積させてガラス微粒
子堆積体を製造する装置であって、反応容器のバーナと
相対する側の壁面に排気口が設けられており、該排気口
の両側から反応容器の側壁に達する、ターゲットロッド
に向け拡開状の壁面を有する仕切構造体が反応容器内を
たて方向に仕切るように設けられており、該仕切構造体
の壁面の夾角θが９０°以下で、前記反応容器側壁又は
前記仕切構造体までの距離の短い方をＬ、ガラス微粒子
堆積体の外径をｄとしたときにＬ＞ｄであり、かつ、反
応容器側壁の前記仕切構造体の取付け部よりバーナ側
で、バーナ中心軸とターゲットロッドの回転軸を含む平
面に対して対称な位置に、前記仕切構造体のガス導入口
側の壁面に向けてガスを流出させるガス導入口が設けら
れていることを特徴とするガラス微粒子堆積体製造装
置。
する手段として、次の（１）〜（６）に示す構成を採る
ものである。 （１）反応容器内に支持され回転するターゲットロッド
に対向させて複数本のガラス微粒子合成用バーナを配置
し、前記ターゲットロッドとガラス微粒子合成用バーナ
とをターゲットロッドの回転軸に平行に相対的に往復運
動させ、前記バーナで合成されるガラス微粒子をターゲ
ットロッドの表面に一層ずつ順次堆積させてガラス微粒
子堆積体を製造する装置であって、反応容器のバーナと
相対する側の壁面に排気口が設けられており、該排気口
の両側から反応容器の側壁に達する、ターゲットロッド
に向け拡開状の壁面を有する仕切構造体が反応容器内を
たて方向に仕切るように設けられており、該仕切構造体
の壁面の夾角θが９０°以下で、前記反応容器側壁又は
前記仕切構造体までの距離の短い方をＬ、ガラス微粒子
堆積体の外径をｄとしたときにＬ＞ｄであり、かつ、反
応容器側壁の前記仕切構造体の取付け部よりバーナ側
で、バーナ中心軸とターゲットロッドの回転軸を含む平
面に対して対称な位置に、前記仕切構造体のガス導入口
側の壁面に向けてガスを流出させるガス導入口が設けら
れていることを特徴とするガラス微粒子堆積体製造装
置。
【０００８】（２）前記排気口が複数個設けられてお
り、それぞれの排気口の排気量を調整する手段が設けら
れていることを特徴とする前記（１）のガラス微粒子堆
積体製造装置。 （３）前記反応容器の上方に反応容器の上側内面に平行
で、かつターゲットロッドの把持部よりも上方にあるよ
うな平面状ガス流を流出させるガス導入口が設けられて
いることを特徴とする前記（１）又は（２）のガラス微
粒子堆積体製造装置。 （４）前記排気口の少なくとも一部又は一個が、ガラス
微粒子合成用バーナがセットされている位置よりも高い
位置になるように設置されていることを特徴とする前記
（１）〜（３）のいずれか１つのガラス微粒子堆積体製
造装置。 （５）前記反応容器の上側内面が排気口が設けられる壁
面側に向かって一定割合で高さが高くなる傾斜面で形成
されており、かつ、排気口の少なくとも一つは排気口が
設けられる壁面の最上部に設けられていることを特徴と
する前記（４）のガラス微粒子堆積体製造装置。 （６）前記ガス導入口に供給するガスを加熱する手段が
設けられていることを特徴とする前記（１）〜（５）の
いずれか１つのガラス微粒子堆積体製造装置。
り、それぞれの排気口の排気量を調整する手段が設けら
れていることを特徴とする前記（１）のガラス微粒子堆
積体製造装置。 （３）前記反応容器の上方に反応容器の上側内面に平行
で、かつターゲットロッドの把持部よりも上方にあるよ
うな平面状ガス流を流出させるガス導入口が設けられて
いることを特徴とする前記（１）又は（２）のガラス微
粒子堆積体製造装置。 （４）前記排気口の少なくとも一部又は一個が、ガラス
微粒子合成用バーナがセットされている位置よりも高い
位置になるように設置されていることを特徴とする前記
（１）〜（３）のいずれか１つのガラス微粒子堆積体製
造装置。 （５）前記反応容器の上側内面が排気口が設けられる壁
面側に向かって一定割合で高さが高くなる傾斜面で形成
されており、かつ、排気口の少なくとも一つは排気口が
設けられる壁面の最上部に設けられていることを特徴と
する前記（４）のガラス微粒子堆積体製造装置。 （６）前記ガス導入口に供給するガスを加熱する手段が
設けられていることを特徴とする前記（１）〜（５）の
いずれか１つのガラス微粒子堆積体製造装置。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明をさ
らに詳細に説明する。図１及び図２は本発明の装置の１
例を模式的に示す図であり、図１は側面方向から、図２
は上方向から見た概略断面図である。また、図３は仕切
構造体の取付け位置を説明する概略断面図である。この
装置は図７に示した従来技術の装置と基本的な構成は同
じであり、同一の部位については同一の記号を付し、一
部説明を省略する。なお、図１及び図２中の矢印はガス
の流出方向を示している。
らに詳細に説明する。図１及び図２は本発明の装置の１
例を模式的に示す図であり、図１は側面方向から、図２
は上方向から見た概略断面図である。また、図３は仕切
構造体の取付け位置を説明する概略断面図である。この
装置は図７に示した従来技術の装置と基本的な構成は同
じであり、同一の部位については同一の記号を付し、一
部説明を省略する。なお、図１及び図２中の矢印はガス
の流出方向を示している。
【００１０】図１及び図２の装置において、断面が長方
形の反応容器４のバーナ２と相対する壁面に排気口１
０、１１が設けられている。この排気口１０、１１の両
側から反応容器４の側壁１９に達する、ターゲットロッ
ド１に向け拡開状の壁面を有する仕切構造体１６が、反
応容器４内をたて方向に仕切るようにほぼ垂直に設けら
れている。仕切構造体１６の壁面の夾角θは９０°以
下、好ましくは３０°〜９０°とする。図中のＡは仕切
構造体１６の壁面が反応容器４の側壁１９に接する位置
を示している。
形の反応容器４のバーナ２と相対する壁面に排気口１
０、１１が設けられている。この排気口１０、１１の両
側から反応容器４の側壁１９に達する、ターゲットロッ
ド１に向け拡開状の壁面を有する仕切構造体１６が、反
応容器４内をたて方向に仕切るようにほぼ垂直に設けら
れている。仕切構造体１６の壁面の夾角θは９０°以
下、好ましくは３０°〜９０°とする。図中のＡは仕切
構造体１６の壁面が反応容器４の側壁１９に接する位置
を示している。
【００１１】仕切構造体１６の取付け方法は、図３に示
すようにターゲットロッド１の中心から反応容器側壁１
９又は仕切構造体１６の壁面までの距離の短い方をＬと
したときに、Ｌがガラス微粒子体形態５の外径ｄよりも
大きくなるようにする（Ｌ＞ｄ）。図３（ａ）はＬがタ
ーゲットロッド１と仕切構造体１６の壁面までの距離で
ある場合を、図３（ｂ）はＬがターゲットロッド１と反
応容器４の側壁１９との距離である場合を示している。
この仕切構造体１６により反応容器４内の空間部形状
は、仕切構造体１６が側壁１９に接する位置から排気口
側では、一定の割合で狭くなるように構成されている。
すようにターゲットロッド１の中心から反応容器側壁１
９又は仕切構造体１６の壁面までの距離の短い方をＬと
したときに、Ｌがガラス微粒子体形態５の外径ｄよりも
大きくなるようにする（Ｌ＞ｄ）。図３（ａ）はＬがタ
ーゲットロッド１と仕切構造体１６の壁面までの距離で
ある場合を、図３（ｂ）はＬがターゲットロッド１と反
応容器４の側壁１９との距離である場合を示している。
この仕切構造体１６により反応容器４内の空間部形状
は、仕切構造体１６が側壁１９に接する位置から排気口
側では、一定の割合で狭くなるように構成されている。
【００１２】図１、２の例では、仕切構造体１６は反応
容器４の上面から下面までを仕切る一対の板状体で構成
されているが、この仕切構造体１６は必ずしも反応容器
４内の上面から下面までの全部を仕切る必要はなく、特
にガスの流れが緩やかな反応容器４の下部では仕切構造
体１６が存在しない部分があってもよい。また、反応容
器４内に仕切構造体１６を設置する代わりに、反応容器
４の形状自体を仕切構造体１６と同様の形状としてもよ
い。
容器４の上面から下面までを仕切る一対の板状体で構成
されているが、この仕切構造体１６は必ずしも反応容器
４内の上面から下面までの全部を仕切る必要はなく、特
にガスの流れが緩やかな反応容器４の下部では仕切構造
体１６が存在しない部分があってもよい。また、反応容
器４内に仕切構造体１６を設置する代わりに、反応容器
４の形状自体を仕切構造体１６と同様の形状としてもよ
い。
【００１３】また、側壁１９の仕切構造体１６が接する
位置よりバーナ設置面側に、ガラス微粒子堆積体の形成
に使用されなかったガラス微粒子を円滑に排出させるた
めのガス（清浄な空気あるいはＮ2 などの不活性ガス）
を導入するガス導入口１３が、バーナ２の中心軸とター
ゲットロッド１の回転軸を含む平面に対して対称な位置
に設置されている。ガス導入口１３はガスが、仕切構造
体１６の該ガス導入口側の壁面方向に流出するように設
置される。ガス導入口１３の取付け位置は、側壁１９の
仕切構造体１６が接する位置よりバーナ設置面側とする
が、なるべく仕切構造体１６に近い位置とする方が排気
効率がよいという実験結果が得られている。
位置よりバーナ設置面側に、ガラス微粒子堆積体の形成
に使用されなかったガラス微粒子を円滑に排出させるた
めのガス（清浄な空気あるいはＮ2 などの不活性ガス）
を導入するガス導入口１３が、バーナ２の中心軸とター
ゲットロッド１の回転軸を含む平面に対して対称な位置
に設置されている。ガス導入口１３はガスが、仕切構造
体１６の該ガス導入口側の壁面方向に流出するように設
置される。ガス導入口１３の取付け位置は、側壁１９の
仕切構造体１６が接する位置よりバーナ設置面側とする
が、なるべく仕切構造体１６に近い位置とする方が排気
効率がよいという実験結果が得られている。
【００１４】反応容器４内ではターゲットロッド１の全
長にわたってバーナ２から排気口１０の方向になるべく
均一な気流を形成する必要があるので、ガス導入口１３
は、少なくともターゲットロッド１の全長にわたってタ
ーゲットロッド１に垂直な方向に均一にガスを流出でき
る構造とするのが望ましい。ガス導入口は、複数のガス
噴出孔をターゲットロッド１の長さ方向に並べて設置し
たり、ターゲットロッド１の長さ方向に長いスリット状
のものとするなど、任意の形式を採ることができるが、
好ましい態様として、同一方向にガスを噴出する多数の
ガス流出孔を設けたガス導入管の形とし、ターゲットロ
ッド１の回転軸に平行で、かつガス流出孔が仕切構造体
１６の方向を向くように設置する態様がある。いずれの
形式においても、個々のガス流出孔から流出するガスの
流速は３０ｍ／分以上とするのが望ましい。
長にわたってバーナ２から排気口１０の方向になるべく
均一な気流を形成する必要があるので、ガス導入口１３
は、少なくともターゲットロッド１の全長にわたってタ
ーゲットロッド１に垂直な方向に均一にガスを流出でき
る構造とするのが望ましい。ガス導入口は、複数のガス
噴出孔をターゲットロッド１の長さ方向に並べて設置し
たり、ターゲットロッド１の長さ方向に長いスリット状
のものとするなど、任意の形式を採ることができるが、
好ましい態様として、同一方向にガスを噴出する多数の
ガス流出孔を設けたガス導入管の形とし、ターゲットロ
ッド１の回転軸に平行で、かつガス流出孔が仕切構造体
１６の方向を向くように設置する態様がある。いずれの
形式においても、個々のガス流出孔から流出するガスの
流速は３０ｍ／分以上とするのが望ましい。
【００１５】排気口１０、１１は、反応容器４のターゲ
ットロッド１を挟んでバーナ２と相対する壁面に設けら
れており、その構造は複数の排気口がたて方向に並んだ
形、たて方向に連続したスリット状のものなど任意の構
造とすることができるが、バーナの数に対応した数ある
いはそれ以上の複数個設けるのが好ましい。
ットロッド１を挟んでバーナ２と相対する壁面に設けら
れており、その構造は複数の排気口がたて方向に並んだ
形、たて方向に連続したスリット状のものなど任意の構
造とすることができるが、バーナの数に対応した数ある
いはそれ以上の複数個設けるのが好ましい。
【００１６】バーナ２で合成されるガラス微粒子は、何
も外乱が作用しない場合にはガラス微粒子合成時に発生
する熱により、図４に斜線部で示したように反応容器４
の上方に向かっていく傾向がある。これは加熱されたガ
ス（空気）が上方に向かう流れにガラス微粒子が巻き込
まれるためである。このことから、排気口の少なくとも
一つはバーナが取り付けられている位置よりも上方に設
置することが必要である。
も外乱が作用しない場合にはガラス微粒子合成時に発生
する熱により、図４に斜線部で示したように反応容器４
の上方に向かっていく傾向がある。これは加熱されたガ
ス（空気）が上方に向かう流れにガラス微粒子が巻き込
まれるためである。このことから、排気口の少なくとも
一つはバーナが取り付けられている位置よりも上方に設
置することが必要である。
【００１７】また、反応容器４の側壁１９に設置される
ガス導入口１３に加えて、図１及び図２に示すように反
応容器４の上方に反応容器４の上側内面に平行で、かつ
ターゲットロッド１の把持部６よりも上方にあるような
平面状ガス流を流出させるガス導入口９を設けるのが好
ましい。ガス導入口９の構造、ガス流出量はガス導入口
１３と同様とすればよい。図１及び図２の例におけるガ
ス導入口９は、多数のガス流出孔を設けたガス導入管
を、反応容器４の上部に反応容器４の上側内面とバーナ
２が設置されている壁面に平行で、かつガス流出孔が側
壁１９に平行な方向を向くように設置したものである。
ガス導入口１３に加えて、図１及び図２に示すように反
応容器４の上方に反応容器４の上側内面に平行で、かつ
ターゲットロッド１の把持部６よりも上方にあるような
平面状ガス流を流出させるガス導入口９を設けるのが好
ましい。ガス導入口９の構造、ガス流出量はガス導入口
１３と同様とすればよい。図１及び図２の例におけるガ
ス導入口９は、多数のガス流出孔を設けたガス導入管
を、反応容器４の上部に反応容器４の上側内面とバーナ
２が設置されている壁面に平行で、かつガス流出孔が側
壁１９に平行な方向を向くように設置したものである。
【００１８】更に反応容器上部の構造は、図５に示すよ
うに反応容器４の上側内面が排気口１０、１１が設けら
れる壁面側に向かって一定割合で高さが高くなる傾斜面
で形成されており、かつ、排気口の少なくとも一つは図
５の排気口１１のように排気口が設けられる壁面の最上
部に設けられた構造とするのが好ましい。図４に示した
ようにバーナ２で合成されたガラス微粒子は上方に向か
って流れるが、反応容器４の上側内面が排気口１１側に
向かって徐々に高さが高くなっていることで、反応容器
４の上部で滞留することがなく、反応容器４内をよりク
リーンな状態に保つことができる。
うに反応容器４の上側内面が排気口１０、１１が設けら
れる壁面側に向かって一定割合で高さが高くなる傾斜面
で形成されており、かつ、排気口の少なくとも一つは図
５の排気口１１のように排気口が設けられる壁面の最上
部に設けられた構造とするのが好ましい。図４に示した
ようにバーナ２で合成されたガラス微粒子は上方に向か
って流れるが、反応容器４の上側内面が排気口１１側に
向かって徐々に高さが高くなっていることで、反応容器
４の上部で滞留することがなく、反応容器４内をよりク
リーンな状態に保つことができる。
【００１９】図１及び２の装置において、ガス排出口９
及び１０にはそれぞれ圧力調整用ガス導入口１２が設け
られており、それぞれの排気口の排気量を調整できるよ
うになっている。また、ガス導入口へ供給するガスを加
熱する手段を設けておき、温度を高めたガスを導入する
ようにすれば、反応容器内に温度の低いガスが入り、温
度分布に変化が生じてガラス微粒子堆積層に割れや剥離
が発生するのを防止することができる。
及び１０にはそれぞれ圧力調整用ガス導入口１２が設け
られており、それぞれの排気口の排気量を調整できるよ
うになっている。また、ガス導入口へ供給するガスを加
熱する手段を設けておき、温度を高めたガスを導入する
ようにすれば、反応容器内に温度の低いガスが入り、温
度分布に変化が生じてガラス微粒子堆積層に割れや剥離
が発生するのを防止することができる。
【００２０】図１の構成の装置において、ガス導入口９
から流出するガスは横向き又は下向きのガス流となる。
バーナ２で合成されるガラス微粒子は、反応容器４内の
温度が高いので上昇するが、下向きのガス流がそれを抑
え、さらに、横向きのガス流が上昇してきたガラス微粒
子を吹き飛ばすので、反応容器の上部にガラス微粒子が
付着しにくくなる。そのため、反応容器の上部に付着し
たガラス微粒子が剥離して、製造中のガラス微粒子堆積
体の表面に落ちてきてガラス微粒子堆積体の品質を劣化
させるのを防止することができる。
から流出するガスは横向き又は下向きのガス流となる。
バーナ２で合成されるガラス微粒子は、反応容器４内の
温度が高いので上昇するが、下向きのガス流がそれを抑
え、さらに、横向きのガス流が上昇してきたガラス微粒
子を吹き飛ばすので、反応容器の上部にガラス微粒子が
付着しにくくなる。そのため、反応容器の上部に付着し
たガラス微粒子が剥離して、製造中のガラス微粒子堆積
体の表面に落ちてきてガラス微粒子堆積体の品質を劣化
させるのを防止することができる。
【００２１】次に上方向から見た反応容器４の断面を模
式的に示す説明図である図６により、本発明の装置にお
ける内壁構造の設定の基礎となった試験結果を説明す
る。図６において、断面が長方形の反応容器４のバーナ
２と相対する壁面に排気口１０が設けられている。この
排気口１０の両側から、反応容器４の側壁１９に達し、
反応容器４内を仕切る一対の板状体からなる仕切構造体
１６が設けられている。また、前記側壁１９のバーナ２
の中心軸とターゲットロッド１の回転軸を含む平面に対
して対称な位置に、一対のガス導入口１３がターゲット
ロッド１の回転軸に平行なたて方向に取付けられてい
る。
式的に示す説明図である図６により、本発明の装置にお
ける内壁構造の設定の基礎となった試験結果を説明す
る。図６において、断面が長方形の反応容器４のバーナ
２と相対する壁面に排気口１０が設けられている。この
排気口１０の両側から、反応容器４の側壁１９に達し、
反応容器４内を仕切る一対の板状体からなる仕切構造体
１６が設けられている。また、前記側壁１９のバーナ２
の中心軸とターゲットロッド１の回転軸を含む平面に対
して対称な位置に、一対のガス導入口１３がターゲット
ロッド１の回転軸に平行なたて方向に取付けられてい
る。
【００２２】図６（ａ）は、Ｌ＞ｄであるが仕切構造体
１６の夾角θが９０°を超えている例である。このよう
な構造の場合、ガス導入口１３から仕切構造体１６のガ
ス導入口１３が取付けられている側の壁面に向けてガス
を流出させると、ガスの一部が渦を巻く形となり、浮遊
するススなどがガラス微粒子堆積体５の方向に戻る現象
が生じ、円滑な排気が困難であった。
１６の夾角θが９０°を超えている例である。このよう
な構造の場合、ガス導入口１３から仕切構造体１６のガ
ス導入口１３が取付けられている側の壁面に向けてガス
を流出させると、ガスの一部が渦を巻く形となり、浮遊
するススなどがガラス微粒子堆積体５の方向に戻る現象
が生じ、円滑な排気が困難であった。
【００２３】これに対し図６（ｄ）のように、仕切構造
体１６の夾角θを９０°以下とし、かつＬ＞ｄとした場
合には、ガス導入口１３から仕切構造体１６のガス導入
口１３が取付けられている側の壁面に向けて流出させた
ガスは、一様に排気口１０の方向に流れ渦を生じること
がなく、浮遊するスス等は円滑に排気された。
体１６の夾角θを９０°以下とし、かつＬ＞ｄとした場
合には、ガス導入口１３から仕切構造体１６のガス導入
口１３が取付けられている側の壁面に向けて流出させた
ガスは、一様に排気口１０の方向に流れ渦を生じること
がなく、浮遊するスス等は円滑に排気された。
【００２４】また、図６（ｂ）に示したように、仕切構
造体１６の排気口１０側の夾角θが９０°以下であり、
Ｌ＞ｄであっても、仕切構造体１６の壁面を外側に折り
曲げた場合には、その位置で側壁１９側に渦状の流れが
生じ、円滑な排気ができなかった。さらに、図６（ｃ）
に示すように、仕切構造体１６の夾角θが９０°以下で
あり、Ｌ＞ｄであっても、一方のガス導入口１３からの
ガスを、仕切構造体１６の他方のガス導入口１３が取付
けられている側の壁面に向けて流出させると、中央部付
近に渦状の流れが生じ、浮遊するスス等の円滑な排気は
困難であった。
造体１６の排気口１０側の夾角θが９０°以下であり、
Ｌ＞ｄであっても、仕切構造体１６の壁面を外側に折り
曲げた場合には、その位置で側壁１９側に渦状の流れが
生じ、円滑な排気ができなかった。さらに、図６（ｃ）
に示すように、仕切構造体１６の夾角θが９０°以下で
あり、Ｌ＞ｄであっても、一方のガス導入口１３からの
ガスを、仕切構造体１６の他方のガス導入口１３が取付
けられている側の壁面に向けて流出させると、中央部付
近に渦状の流れが生じ、浮遊するスス等の円滑な排気は
困難であった。
【００２５】なお、ここまでガラス微粒子合成用バーナ
とターゲットロッドを上下方向に相対移動させるたて型
の反応装置を主体に説明したが、本発明の構成は横型の
反応装置にも適用可能である。
とターゲットロッドを上下方向に相対移動させるたて型
の反応装置を主体に説明したが、本発明の構成は横型の
反応装置にも適用可能である。
【００２６】
【実施例】以下、実施例により本発明の方法をさらに具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。 （実施例１）図１及び図２に示した構成の反応容器４
（断面はたて１０００ｍｍ、横７００ｍｍの長方形）を
使用してガラス微粒子堆積体を作製した。バーナ２は２
００ｍｍ間隔で３本設置し、排気口１０はバーナと同じ
間隔で３個とし、一番下の排気口が中間のバーナと同じ
高さになるように設置し、反応容器の最上部には排気口
１１を設けた。仕切構造体１６は一対の板状体をたて方
向に設置する形式とし、夾角θは８０°とした。この場
合はＬはターゲットロッド１と反応容器側壁１９との距
離で２５０ｍｍである。
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。 （実施例１）図１及び図２に示した構成の反応容器４
（断面はたて１０００ｍｍ、横７００ｍｍの長方形）を
使用してガラス微粒子堆積体を作製した。バーナ２は２
００ｍｍ間隔で３本設置し、排気口１０はバーナと同じ
間隔で３個とし、一番下の排気口が中間のバーナと同じ
高さになるように設置し、反応容器の最上部には排気口
１１を設けた。仕切構造体１６は一対の板状体をたて方
向に設置する形式とし、夾角θは８０°とした。この場
合はＬはターゲットロッド１と反応容器側壁１９との距
離で２５０ｍｍである。
【００２７】ガス導入口１３としては、側壁１９の、仕
切構造体１６が側壁１９に接する位置に最も近い位置
に、仕切構造体１６のそれぞれのガス導入管が設置され
る側の壁面の中間に向けた直径１ｍｍのガス流出孔を５
ｍｍピッチで３００個設けたガス導入管を２組、ガラス
微粒子堆積体５の存在範囲をカバーするように設置し
た。また、反応容器４の上部にはガス導入口９として、
直径１ｍｍのガス流出孔を５ｍｍピッチで１５０個設け
たガス導入管を、ガス流出孔が反応容器４の上側内面に
平行で、かつターゲットロッド１の把持部６よりも上方
にあるような平面状ガス流を流出させる方向を向くよう
に設置した。
切構造体１６が側壁１９に接する位置に最も近い位置
に、仕切構造体１６のそれぞれのガス導入管が設置され
る側の壁面の中間に向けた直径１ｍｍのガス流出孔を５
ｍｍピッチで３００個設けたガス導入管を２組、ガラス
微粒子堆積体５の存在範囲をカバーするように設置し
た。また、反応容器４の上部にはガス導入口９として、
直径１ｍｍのガス流出孔を５ｍｍピッチで１５０個設け
たガス導入管を、ガス流出孔が反応容器４の上側内面に
平行で、かつターゲットロッド１の把持部６よりも上方
にあるような平面状ガス流を流出させる方向を向くよう
に設置した。
【００２８】合成条件としては、バーナ２から合計で１
２リットル／分のガラス原料ガス、水素ガス、酸素ガス
及びアルゴンガスを供給し、ガス導入口９及び１３へ
は、各ガス流出孔当たりの流量が１リットル／分となる
ように室温の清浄空気を導入した。なお、反応容器４の
容積は３０００リットルであり、総排気量は３０００リ
ットル／分とした。この条件で長さ６００ｍｍ、直径２
００ｍｍのガラス微粒子堆積体を作製した結果、反応容
器内部へガラス微粒子が付着し、それが落下することは
無く、１０本中１本に室温の空気導入の影響とみられる
割れが認められた他は、良好な形状・外観のガラス微粒
子堆積体が得られた。割れのないガラス微粒子堆積体を
高温に保った炉により透明化したところ、異常点や不整
のない良好な母材を得ることができた。
２リットル／分のガラス原料ガス、水素ガス、酸素ガス
及びアルゴンガスを供給し、ガス導入口９及び１３へ
は、各ガス流出孔当たりの流量が１リットル／分となる
ように室温の清浄空気を導入した。なお、反応容器４の
容積は３０００リットルであり、総排気量は３０００リ
ットル／分とした。この条件で長さ６００ｍｍ、直径２
００ｍｍのガラス微粒子堆積体を作製した結果、反応容
器内部へガラス微粒子が付着し、それが落下することは
無く、１０本中１本に室温の空気導入の影響とみられる
割れが認められた他は、良好な形状・外観のガラス微粒
子堆積体が得られた。割れのないガラス微粒子堆積体を
高温に保った炉により透明化したところ、異常点や不整
のない良好な母材を得ることができた。
【００２９】（比較例１）断面が図６の（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）の構成の反応容器を使用した他は実施例
１と同様に操作し、ガラス微粒子堆積体を作製したとこ
ろ、製造中に反応容器内に付着したガラス微粒子の落下
が認められた。得られたガラス微粒子堆積体の表面に凸
状の点が多数発生しており、これを高温に保った炉によ
り透明化したところ、凸状の点が内部に異物を含んだ状
態や気泡になっており、１０本作製した母材のすべてが
不良品であった。
（ｂ）、（ｃ）の構成の反応容器を使用した他は実施例
１と同様に操作し、ガラス微粒子堆積体を作製したとこ
ろ、製造中に反応容器内に付着したガラス微粒子の落下
が認められた。得られたガラス微粒子堆積体の表面に凸
状の点が多数発生しており、これを高温に保った炉によ
り透明化したところ、凸状の点が内部に異物を含んだ状
態や気泡になっており、１０本作製した母材のすべてが
不良品であった。
【００３０】（実施例２）反応容器上部の構造を図５に
示す構造とした（反応容器上側内面の傾斜角度α＝２０
°）他は実施例１と同様に操作し、ガラス微粒子堆積体
を作製した。この場合も反応容器内部へ付着したガラス
微粒子が落下すること無く、良好な形状・外観のガラス
微粒子堆積体が得られた。このガラス微粒子堆積体を高
温に保った炉により透明化したところ異常点や不整のな
い良好な母材を得ることができた。
示す構造とした（反応容器上側内面の傾斜角度α＝２０
°）他は実施例１と同様に操作し、ガラス微粒子堆積体
を作製した。この場合も反応容器内部へ付着したガラス
微粒子が落下すること無く、良好な形状・外観のガラス
微粒子堆積体が得られた。このガラス微粒子堆積体を高
温に保った炉により透明化したところ異常点や不整のな
い良好な母材を得ることができた。
【００３１】（実施例３）反応容器内に導入する清浄空
気をあらかじめ２００℃に加熱しておいた他は実施例１
と同様に操作し、ガラス微粒子堆積体を作製した。１０
本作製したガラス微粒子堆積体に全く割れは認められ
ず、これらのガラス微粒子堆積体を高温に保った炉によ
り透明化したところ、異常点や不整のない良好な母材を
得ることができた。
気をあらかじめ２００℃に加熱しておいた他は実施例１
と同様に操作し、ガラス微粒子堆積体を作製した。１０
本作製したガラス微粒子堆積体に全く割れは認められ
ず、これらのガラス微粒子堆積体を高温に保った炉によ
り透明化したところ、異常点や不整のない良好な母材を
得ることができた。
【００３２】（実施例４）反応容器内面の形状を、図２
の夾角θを変えることによって変化させ、ガラス微粒子
堆積体を作製した。合成条件は実施例１と同様とした。
θを２０°から１１０°まで変化させた結果、θ＜３０
°の範囲においては堆積体と壁面との距離を大きくでき
ないため小径のガラス微粒子堆積体しか得ることができ
ず、非効率的であった。また、θ＞９０°においては排
気効率が悪く、ガラス微粒子堆積面に異常点の発生がみ
られた。３０°≦θ≦９０°の範囲で作製したガラス微
粒子堆積体及びそれを透明化した母材はいずれも品質良
好であった。
の夾角θを変えることによって変化させ、ガラス微粒子
堆積体を作製した。合成条件は実施例１と同様とした。
θを２０°から１１０°まで変化させた結果、θ＜３０
°の範囲においては堆積体と壁面との距離を大きくでき
ないため小径のガラス微粒子堆積体しか得ることができ
ず、非効率的であった。また、θ＞９０°においては排
気効率が悪く、ガラス微粒子堆積面に異常点の発生がみ
られた。３０°≦θ≦９０°の範囲で作製したガラス微
粒子堆積体及びそれを透明化した母材はいずれも品質良
好であった。
【００３３】
【発明の効果】本発明の装置によれば、反応容器内にお
けるガスの流れを円滑にし、ガラス微粒子堆積体の形成
に関与しなかった余剰のガラス微粒子などの浮遊ダスト
類が効率よく速やかに排出され、反応容器内にガラス微
粒子が堆積しないため、異常点が無く、良好なガラス微
粒子堆積体を得ることができる。また、加熱したガスを
導入することにより、低温のガス導入による割れの発生
を抑制することができる。
けるガスの流れを円滑にし、ガラス微粒子堆積体の形成
に関与しなかった余剰のガラス微粒子などの浮遊ダスト
類が効率よく速やかに排出され、反応容器内にガラス微
粒子が堆積しないため、異常点が無く、良好なガラス微
粒子堆積体を得ることができる。また、加熱したガスを
導入することにより、低温のガス導入による割れの発生
を抑制することができる。
【図１】本発明の装置の１例を模式的に示す、側面方向
から見た概略断面図。
から見た概略断面図。
【図２】本発明の装置の１例を模式的に示す、上方向か
ら見た概略断面図。
ら見た概略断面図。
【図３】本発明における仕切構造体の取付け位置を説明
する概略断面図。
する概略断面図。
【図４】バーナで合成されるガラス微粒子の反応容器内
での流れを示す説明図。
での流れを示す説明図。
【図５】本発明の装置の他の１例を模式的に示す、側面
方向から見た概略断面図。
方向から見た概略断面図。
【図６】反応容器内への仕切構造体の設置状態とガスの
流れの状態を示す説明図。
流れの状態を示す説明図。
【図７】従来のガラス微粒子堆積体製造装置の１例を模
式的に示す、側面方向及び上方向から見た概略断面図。
式的に示す、側面方向及び上方向から見た概略断面図。
１ ターゲットロッド ２ バーナ ３ シード棒
４ 反応容器 ５ ガラス微粒子堆積体 ６ 把持部 ７ 回転機
構 ８ 昇降装置 ９ ガス導入口 １０ 排気口 １１ 排気口 １２ 圧力調整用ガス導入口 １３ ガス導入口
１６ 仕切構造体 １７ 排気口 １８ ガス導入口 １９ 側壁
４ 反応容器 ５ ガラス微粒子堆積体 ６ 把持部 ７ 回転機
構 ８ 昇降装置 ９ ガス導入口 １０ 排気口 １１ 排気口 １２ 圧力調整用ガス導入口 １３ ガス導入口
１６ 仕切構造体 １７ 排気口 １８ ガス導入口 １９ 側壁
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 大石 敏弘
神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電
気工業株式会社横浜製作所内
Ｆターム(参考） 4G014 AH19
Claims (6)
- 【請求項１】 反応容器内に支持され回転するターゲッ
トロッドに対向させて複数本のガラス微粒子合成用バー
ナを配置し、前記ターゲットロッドとガラス微粒子合成
用バーナとをターゲットロッドの回転軸に平行に相対的
に往復運動させ、前記バーナで合成されるガラス微粒子
をターゲットロッドの表面に一層ずつ順次堆積させてガ
ラス微粒子堆積体を製造する装置であって、反応容器の
バーナと相対する側の壁面に排気口が設けられており、
該排気口の両側から反応容器の側壁に達する、ターゲッ
トロッドに向け拡開状の壁面を有する仕切構造体が反応
容器内をたて方向に仕切るように設けられており、該仕
切構造体の壁面の夾角θが９０°以下で、前記反応容器
側壁又は前記仕切構造体までの距離の短い方をＬ、ガラ
ス微粒子堆積体の外径をｄとしたときにＬ＞ｄであり、
かつ、反応容器側壁の前記仕切構造体の取付け部よりバ
ーナ側で、バーナ中心軸とターゲットロッドの回転軸を
含む平面に対して対称な位置に、前記仕切構造体のガス
導入口側の壁面に向けてガスを流出させるガス導入口が
設けられていることを特徴とするガラス微粒子堆積体製
造装置。 - 【請求項２】 前記排気口が複数個設けられており、そ
れぞれの排気口の排気量を調整する手段が設けられてい
ることを特徴とする請求項１に記載のガラス微粒子堆積
体製造装置。 - 【請求項３】 前記反応容器の上方に反応容器の上側内
面に平行で、かつターゲットロッドの把持部よりも上方
にあるような平面状ガス流を流出させるガス導入口が設
けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の
ガラス微粒子堆積体製造装置。 - 【請求項４】 前記排気口の少なくとも一部又は一個
が、ガラス微粒子合成用バーナがセットされている位置
よりも高い位置になるように設置されていることを特徴
とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス微粒
子堆積体製造装置。 - 【請求項５】 前記反応容器の上側内面が排気口が設け
られる壁面側に向かって一定割合で高さが高くなる傾斜
面で形成されており、かつ、排気口の少なくとも一つは
排気口が設けられる壁面の最上部に設けられていること
を特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラ
ス微粒子堆積体製造装置。 - 【請求項６】 前記ガス導入口に供給するガスを加熱す
る手段が設けられていることを特徴とする請求項１〜５
のいずれか１項に記載のガラス微粒子堆積体製造装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001218173A JP2003034540A (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | ガラス微粒子堆積体製造装置 |
| CN02126175.XA CN1238284C (zh) | 2001-07-18 | 2002-07-18 | 生产玻璃颗粒附着物的设备 |
| DE10232714A DE10232714B4 (de) | 2001-07-18 | 2002-07-18 | Einrichtung zur Herstellung eines Glasteilchenniederschlages |
| US10/197,536 US20030015004A1 (en) | 2001-07-18 | 2002-07-18 | Apparatus for producing glass particles deposit |
| US11/069,039 US20050199014A1 (en) | 2001-07-18 | 2005-03-02 | Apparatus for producing glass particles deposit |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001218173A JP2003034540A (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | ガラス微粒子堆積体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003034540A true JP2003034540A (ja) | 2003-02-07 |
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ID=19052395
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| US (1) | US20030015004A1 (ja) |
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| CN (1) | CN1238284C (ja) |
| DE (1) | DE10232714B4 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005092803A1 (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
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| JP4423068B2 (ja) * | 2004-03-03 | 2010-03-03 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用多孔質母材の製造方法及びガラス母材 |
| JP4748758B2 (ja) * | 2004-03-18 | 2011-08-17 | 信越化学工業株式会社 | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
| JP2012193057A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
| WO2016074750A1 (en) | 2014-11-13 | 2016-05-19 | Gerresheimer Glas Gmbh | Glass forming machine particle filter, a plunger unit, a blow head, a blow head support and a glass forming machine adapted to or comprising said filter |
| CN108395092B (zh) * | 2018-05-24 | 2021-05-11 | 成都富通光通信技术有限公司 | 一种制备光纤预制棒的多喷灯沉积方法 |
| CN116062983B (zh) * | 2023-02-17 | 2024-08-20 | 长飞光纤光缆股份有限公司 | 一种具有稳定气流场的沉积腔 |
| CN116062985B (zh) * | 2023-02-17 | 2024-08-20 | 长飞光纤光缆股份有限公司 | 一种用于外部气相沉积法的活动喷灯 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57100934A (en) * | 1980-12-12 | 1982-06-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Manufacturing of optical fiber preform |
| FR2572389B1 (fr) * | 1984-10-31 | 1986-12-26 | Lyonnaise Transmiss Optiques | Dispositif de depoussierage d'atmosphere autour d'un tube |
| JPS62171939A (ja) * | 1986-01-27 | 1987-07-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 多孔質光フアイバ母材の製造装置 |
| US4684384A (en) * | 1986-02-27 | 1987-08-04 | Corning Glass Works | Conveyor deposition method and apparatus for making optical fiber preforms |
| US5238479A (en) * | 1989-08-28 | 1993-08-24 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for producing porous glass preform for optical fiber |
| US5116400A (en) * | 1990-09-20 | 1992-05-26 | Corning Incorporated | Apparatus for forming a porous glass preform |
| JP3386354B2 (ja) * | 1997-12-03 | 2003-03-17 | 信越化学工業株式会社 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び製造装置 |
| US6301936B1 (en) * | 1998-06-17 | 2001-10-16 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Apparatus for manufacturing porous glass preform |
| KR100568894B1 (ko) * | 1998-10-21 | 2006-04-10 | 스미토모덴키고교가부시키가이샤 | 다공질 유리 모재 제조 장치 및 제조 방법 |
| KR100651146B1 (ko) * | 1999-07-02 | 2006-11-28 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유리 모재를 제조하는 장치 및 그 방법 |
| FR2812288B1 (fr) * | 2000-07-31 | 2003-01-31 | Cit Alcatel | Procede et dispositif de fabrication d'une preforme de fibre optique |
-
2001
- 2001-07-18 JP JP2001218173A patent/JP2003034540A/ja active Pending
-
2002
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005092803A1 (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | 多孔質ガラス母材の製造装置 |
| US7987686B2 (en) | 2004-03-29 | 2011-08-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Manufacturing apparatus of porous glass base material |
| KR101261095B1 (ko) * | 2004-03-29 | 2013-05-03 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 다공질 유리 모재의 제조 장치 |
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