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JP2003012601A - Alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid and polymer by using the same or composition for photosensitive material - Google Patents

Alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid and polymer by using the same or composition for photosensitive material

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JP2003012601A
JP2003012601A JP2001196970A JP2001196970A JP2003012601A JP 2003012601 A JP2003012601 A JP 2003012601A JP 2001196970 A JP2001196970 A JP 2001196970A JP 2001196970 A JP2001196970 A JP 2001196970A JP 2003012601 A JP2003012601 A JP 2003012601A
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JP
Japan
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fluorine
acid
bis
dicarboxylic acid
formula
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Kazuhiko Maeda
一彦 前田
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Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid or its derivative, further a polymer by using the above alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid and an acid-instable compound for achieving a low dielectric property and high transparency, and among them, to provide a fluorine- containing polybenzoxazole as a low dielectric polymer equipped with a high heat resistance, or a fluorine-containing polyhydroxyamide as its precursor. SOLUTION: This fluorine-containing polymer is obtained by polymerizing a fluorine-containing dicarboxylic acid expressed by the formula (1), or its amide-forming compound or ester-forming derivative.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な脂環式含フ
ッ素ジカルボン酸またはその誘導体、さらには該脂環式
含フッ素ジカルボン酸またはその誘導体を用いた重合体
に関する。特に含フッ素ポリベンゾオキサゾールまたは
その前駆体である含フッ素ポリヒドロキシアミド、さら
にそれらの重合体を有機溶剤に溶解したコーティング用
組成物、または該脂環式含フッ素ジカルボン酸を酸不安
定基化した化合物などに関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel alicyclic fluorinated dicarboxylic acid or a derivative thereof, and further to a polymer using the alicyclic fluorinated dicarboxylic acid or a derivative thereof. In particular, fluorine-containing polybenzoxazole or a fluorine-containing polyhydroxyamide which is a precursor thereof, a coating composition in which a polymer thereof is dissolved in an organic solvent, or the alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid is acid-labile group-ized. Regarding compounds and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にジカルボン酸は、ポリエステル、
ポリアミド、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリベンゾ
オキサゾールなどの縮合または付加重合用モノマーとし
て使用される。得られた重合体は主として分子内に環状
構造を有するため、引っ張り強度、曲げ強度などの機械
的強度が大きく、熱分解温度、熱変形温度などの熱的安
定性に優れる等の多くの特徴がある。特に、ポリベンゾ
オキサゾールはポリイミドと並ぶ高性能エンジニアリン
グプラスチックとして位置づけられている。その基本骨
格および製造方法については特公昭42−19271号
公報などによって知られている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Generally, dicarboxylic acids are polyesters,
It is used as a monomer for condensation or addition polymerization of polyamide, urethane resin, epoxy resin, polybenzoxazole and the like. Since the obtained polymer mainly has a cyclic structure in the molecule, it has many mechanical strengths such as high mechanical strength such as tensile strength and bending strength, and excellent thermal stability such as thermal decomposition temperature and thermal deformation temperature. is there. In particular, polybenzoxazole is positioned as a high-performance engineering plastic along with polyimide. Its basic skeleton and manufacturing method are known from Japanese Examined Patent Publication No. 42-19271.

【0003】これらの樹脂についてはエンジニアリング
プラスチック、耐熱性コーティング材料、電子材料、電
子部品材料、光学材料などの様々な応用がなされてる
が、特に半導体や光学用部材への用途を想定すると、通
信機器の発達とともに高速処理用、高周波用などのニー
ズが増加していることから、その結果として、低誘電率
性や高透明性が求められている。また低熱膨張係数であ
ることも重要なポイントとされている。このような低誘
電率を付与させるための手段や高透明性を与える手段と
しては電子密度を低下させる含フッ素重合体が活発に研
究されている。
These resins are used in various applications such as engineering plastics, heat resistant coating materials, electronic materials, electronic component materials, and optical materials. Especially, assuming that they are used as semiconductors and optical members, communication equipment will be used. Since the needs for high-speed processing, high-frequency applications, etc. are increasing with the development of, as a result, low dielectric constant and high transparency are required. It is also important to have a low coefficient of thermal expansion. As a means for imparting such a low dielectric constant and a means for imparting high transparency, fluoropolymers which reduce electron density have been actively studied.

【0004】特に高耐熱性の重合体の観点からすると、
ポリベンゾオキサゾールはポリイミドと比較してもカル
ボニル基を持たない環状構造であることから分極が小さ
く誘電率が低くなることが期待されており、例えばフッ
素を導入したポリベンゾオキサゾールでは誘電率がポリ
イミドよりも大幅に小さくなる。フッ素の導入は、同時
に、耐水性改良や新たな機能性、例えば光学的、電気的
性質を高めることも含フッ素のポリベンゾオキサゾール
において報告されている(特開昭62−207332号
公報、特開平3−290434号公報など)。
From the viewpoint of a polymer having high heat resistance,
Since polybenzoxazole has a cyclic structure that does not have a carbonyl group compared to polyimide, it is expected that the polarization will be small and the dielectric constant will be low. For example, polybenzoxazole containing fluorine will have a dielectric constant lower than that of polyimide. Will also be significantly smaller. At the same time, the introduction of fluorine has been reported in polybenzoxazole containing fluorine to improve water resistance and enhance new functionality such as optical and electrical properties (JP-A-62-207332, JP-A-62-332332). 3-290434, etc.).

【0005】しかしながら、従来の含フッ素ポリベンゾ
オキサゾールではかなり誘電率が低下するもののますま
す進歩する将来の半導体用途に対して充分に対応可能な
ものではない。さらに透明性に関して言えば、応用的見
地から見て、例えばフォトレジスト分野では紫外線領域
から真空紫外線であるF2レーザー波長(157nm)
に至るまでその用途に応じて幅広い波長域での高い透明
性が要求されているが、全芳香族タイプの含フッ素ポリ
マーでは十分な透明性を発揮させることができない。ま
た、一方で光導波路分野において1.55ミクロンの通
信波長での高度な透明性も要求されている。
However, although the conventional fluorine-containing polybenzoxazole has a considerably lowered dielectric constant, it is not sufficiently adaptable to future semiconductor applications that will continue to progress. In terms of transparency, from an application point of view, for example, in the photoresist field, the F 2 laser wavelength (157 nm) from the ultraviolet region to vacuum ultraviolet rays is used.
Up to the above, high transparency in a wide wavelength range is required depending on the application, but a wholly aromatic type fluoropolymer cannot exhibit sufficient transparency. On the other hand, in the field of optical waveguides, high transparency at a communication wavelength of 1.55 microns is also required.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は低誘電性、高
透明性を達成するため、新規な脂環式含フッ素ジカルボ
ン酸、またはその誘導体、さらには該脂環式含フッ素ジ
カルボン酸またはその誘導体を用いた重合体及び酸不安
定性化合物の提供を目的とする。中でも、高耐熱性を具
備した低誘電性ポリマーとして含フッ素ポリベンゾオキ
サゾールまたはその前駆体である含フッ素ポリヒドロキ
シアミドを提供する。
DISCLOSURE OF THE INVENTION In order to achieve low dielectric properties and high transparency, the present invention provides a novel alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid or derivative thereof, and further the alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid or its derivative. It is an object to provide a polymer using a derivative and an acid labile compound. Above all, a fluorine-containing polybenzoxazole or a fluorine-containing polyhydroxyamide which is a precursor thereof is provided as a low dielectric polymer having high heat resistance.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため、新規のジカルボン酸の開発に鋭意検
討したところ、分子中にフッ素原子および脂環基を導入
する新規なモノマーを見出し、かつその重合体を種々検
討することで、これまでにない誘電率の低下、透明性の
向上を実現し、本発明を完成するに至った。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention have made earnest studies on the development of a new dicarboxylic acid, and as a result, a new monomer having a fluorine atom and an alicyclic group introduced into the molecule. The present invention has been accomplished and various investigations have been made on the polymer to realize the unprecedented reduction in dielectric constant and improvement in transparency, and the present invention has been completed.

【0008】すなわち、本発明は、 1.式(1)で表される含フッ素ジカルボン酸である。That is, the present invention is 1. It is a fluorine-containing dicarboxylic acid represented by the formula (1).

【0009】[0009]

【化5】 [Chemical 5]

【0010】2.また、本発明は、一般式(1)または
そのアミド形成性誘導体あるいはエステル形成性誘導体
を用いて重合した含フッ素重合体である。 3.また、本発明は、一般式(2)、
2. Further, the present invention is a fluorine-containing polymer polymerized by using the general formula (1) or its amide-forming derivative or ester-forming derivative. 3. In addition, the present invention provides the general formula (2),

【0011】[0011]

【化6】 [Chemical 6]

【0012】(式中、Xは芳香環を含む4価の有機基で
あり、2組のNとOはそれぞれ五員環を形成するように
Xの芳香環に互いにオルト位に結合している。)で表さ
れる構成単位を含む含フッ素ポリベンゾオキサゾールで
ある。 4.また、Xが一般式(3)、
(In the formula, X is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and two sets of N and O are bonded to the aromatic ring of X in the ortho position to form a five-membered ring. ) Is a fluorine-containing polybenzoxazole containing a structural unit represented by. 4. In addition, X is the general formula (3),

【0013】[0013]

【化7】 [Chemical 7]

【0014】(式中、各芳香環は互いにオルト位に未結
合手を有し、芳香環の水素原子はハロゲン(フッ素、塩
素、臭素およびヨウ素)で置換していてもよい。)で表
される有機基である上記一般式(2)の含フッ素ポリベ
ンゾオキサゾールである。 5.また、本発明は、一般式(4)、
(In the formula, each aromatic ring has a dangling bond at the ortho position, and the hydrogen atom of the aromatic ring may be substituted with halogen (fluorine, chlorine, bromine and iodine)). Is a fluorine-containing polybenzoxazole of the above-mentioned general formula (2) which is an organic group. 5. Further, the present invention provides the general formula (4),

【0015】[0015]

【化8】 [Chemical 8]

【0016】(式中、Xは一般式(2)におけるXと同
じ)で表される含フッ素ポリヒドロキシアミドである。 6.また、上記2〜4のいずれかに記載の重合体を有機
溶剤に溶解したコーティング用組成物である。 7.また、上記記載の一般式(1)のジカルボン酸の少
なくとも一方のカルボン酸を酸不安定基により修飾した
感光性材料用組成物である。
A fluorine-containing polyhydroxyamide represented by the formula (wherein X is the same as X in the general formula (2)). 6. Moreover, it is a composition for coating which melt | dissolved the polymer in any one of said 2-4 in the organic solvent. 7. Further, it is a composition for a photosensitive material, which is obtained by modifying at least one carboxylic acid of the dicarboxylic acid represented by the general formula (1) described above with an acid labile group.

【0017】本発明は式(1)で表される脂環式含フッ
素ジカルボン酸、すなわち2,2−ビス−(4−カルボ
キシシクロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパン及びそ
の応用に関するものである。
The present invention relates to an alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid represented by the formula (1), that is, 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane and its application.

【0018】[0018]

【化9】 [Chemical 9]

【0019】さらに、一般式(1)に示すジカルボン酸
を出発原料にした重合体あるいは酸不安定性化合物に関
する。本発明で使用できる一般式(1)の2,2−ビス
−(4−カルボキシシクロヘキシル)−ヘキサフルオロ
プロパンの製造方法は特に限定されないが、簡便には芳
香族化合物である2,2−ビス(4−カルボキシフェニ
ル)−ヘキサフルオロプロパンを原料とし、有機溶媒と
触媒の存在下、水素を低圧から高圧にて導入することで
製造することができる。この場合、一般的な環水添によ
る方法が好ましく適用される。
Further, it relates to a polymer or an acid labile compound obtained by using the dicarboxylic acid represented by the general formula (1) as a starting material. The method for producing 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane of the general formula (1) that can be used in the present invention is not particularly limited, but 2,2-bis (which is an aromatic compound is simply used. It can be produced by using 4-carboxyphenyl) -hexafluoropropane as a raw material and introducing hydrogen at low pressure to high pressure in the presence of an organic solvent and a catalyst. In this case, a general ring hydrogenation method is preferably applied.

【0020】また本発明による重合体は一般式(1)で
表される2,2−ビス−(4−カルボキシシクロヘキシ
ル)−ヘキサフルオロプロパンまたはその誘導体を用い
て製造され、その重合体としては特に限定されないが、
ポリエステル、ポリアミド、ウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、ポリケトン、ポリベンゾオキサゾールおよびその前
駆体であるポリヒドロキシアミドなどやポリアミドイミ
ド、ポリエステルイミドなどこれらの数種の縮合反応を
併用した共重合体が挙げられる。中でも、ポリベンゾオ
キサゾールは高い耐熱性を具備した電子材料、光学材料
として幅広い応用が期待できる。
Further, the polymer according to the present invention is produced by using 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane represented by the general formula (1) or a derivative thereof. But not limited to
Examples of the copolymers include polyesters, polyamides, urethane resins, epoxy resins, polyketones, polybenzoxazoles and their precursors such as polyhydroxyamides, and polyamideimides and polyesterimides, which are used in combination with several condensation reactions of these. Among them, polybenzoxazole can be expected to have a wide range of applications as electronic materials and optical materials having high heat resistance.

【0021】本発明の含フッ素重合体その製造方法は限
定されないが、下記式
The method for producing the fluoropolymer of the present invention is not limited, but the following formula

【0022】[0022]

【化10】 [Chemical 10]

【0023】で表される 2,2−ビス−(4−カルボ
キシシクロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパンまたは
そのジカルボン酸から合成されたアミドまたはエステル
形成性誘導体を含む酸成分をモノマーとして用い、その
反応性官能基と反応し得る対モノマーと縮合、付加重
合、重付加などの機構で重合される。したがって、ポリ
エステルを合成する場合は対モノマーとしてジオール化
合物が用いられ、ポリアミドを合成する場合は対モノマ
ーとしてジアミン化合物が用いられ、ウレタン樹脂を合
成する場合は対モノマーとしてジイソシアネートやジオ
ール化合物が用いられ、エポキシ樹脂を合成する場合は
対モノマーとしてジグリシジル化合物が用いられる。本
発明に使用できるこれらの対モノマーの構造は特に制限
されるものではなく、公知の化合物を使用することがで
きる。
An acid component containing an amide or an ester-forming derivative synthesized from 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane or its dicarboxylic acid represented by It is polymerized by a mechanism such as condensation, addition polymerization and polyaddition with a counter monomer capable of reacting with a group. Therefore, when synthesizing a polyester, a diol compound is used as a counter monomer, when synthesizing a polyamide, a diamine compound is used as a counter monomer, and when synthesizing a urethane resin, a diisocyanate or a diol compound is used as a counter monomer, When synthesizing an epoxy resin, a diglycidyl compound is used as a counter monomer. The structures of these counter-monomers that can be used in the present invention are not particularly limited, and known compounds can be used.

【0024】本発明の含フッ素ポリベンゾオキサゾール
を製造するのに用いられる式(1)の脂環式含フッ素ジ
カルボン酸またはそのアミド形成性誘導体を用いさえす
れば、それ以外の酸成分またはそのアミド形成誘導体を
共重合することも可能である。すなわち、その併用でき
るジカルボン酸化合物としては、シュウ酸、マロン酸、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベ
リン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボ
ン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、3,
3’−ジカルボキシルジフェニルエーテル、3,4’−
ジカルボキシルジフェニルエーテル、4,4’−ジカル
ボキシルジフェニルエーテル、3,3’−ジカルボキシ
ルジフェニルメタン、3,4’−ジカルボキシルジフェ
ニルメタン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルメタ
ン、3,3’−ジカルボキシルジフェニルジフルオロメ
タン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルジフルオロ
メタン、4,4’−ジカルボキシルジフェニルジフルオ
ロメタン、3,3’−ジカルボキシルジフェニルスルホ
ン、3,4’−ジカルボキシルジフェニルスルホン、
4,4’−ジカルボキシルジフェニルスルホン、3,
3’−ジカルボキシルジフェニルスルフィド、3,4’
−ジカルボキシルジフェニルスルフィド、4,4’−ジ
カルボキシルジフェニルスルフィド、3,3’−ジカル
ボキシルジフェニルケトン、3,4’−ジカルボキシル
ジフェニルケトン、4,4’−ジカルボキシルジフェニ
ルケトン、2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)プ
ロパン、2,2−ビス(3,4’−ジカルボキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3,4’
−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、
2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、1,3−ビス(3−カルボキシフェノキ
シ)ベンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシフェノキ
シ)ベンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシフェノキ
シ)ベンゼン、3,3’−(1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、3,4’−
(1,4−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))
ビス安息香酸、4,4’−(1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、2,2−ビ
ス(4−(3−カルボキシフェノキシ)フェニル)プロ
パン、2,2−ビス(4−(4−カルボキシフェノキ
シ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−カ
ルボキシフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(4−(4−カルボキシフェノキシ)
フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(3−
カルボキシフェノキシ)フェニル)スルフィド、ビス
(4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニル)スルフ
ィド、ビス(4−(3−カルボキシフェノキシ)フェニ
ル)スルホン、ビス(4−(4−カルボキシフェノキ
シ)フェニル)スルホン、5−(パーフルオロノネニル
オキシ)イソフタル酸、4−(パーフルオロノネニルオ
キシ)フタル酸、2−(パーフルオロノネニルオキシ)
テレフタル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオロノネ
ニルオキシ)イソフタル酸などのパーフルオロノネニル
オキシ基含有のジカルボン酸、5−(パーフルオロヘキ
セニルオキシ)イソフタル酸、4−(パーフルオロヘキ
セニルオキシ)フタル酸、2−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)テレフタル酸、4−メトキシ−5−(パーフ
ルオロヘキセニルオキシ)イソフタル酸などのパーフル
オロヘキセニルオキシ基含有のジカルボン酸、等の芳香
族ジカルボン酸が例示できる。
As long as the alicyclic fluorine-containing dicarboxylic acid of the formula (1) or its amide-forming derivative used for producing the fluorine-containing polybenzoxazole of the present invention is used, the other acid component or its amide is used. It is also possible to copolymerize the forming derivative. That is, as the dicarboxylic acid compound that can be used in combination, oxalic acid, malonic acid,
Aliphatic dicarboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, 3,
3'-dicarboxyl diphenyl ether, 3,4'-
Dicarboxyl diphenyl ether, 4,4'-dicarboxyl diphenyl ether, 3,3'-dicarboxyl diphenylmethane, 3,4'-dicarboxyl diphenylmethane, 4,4'-dicarboxyl diphenylmethane, 3,3'-dicarboxyl diphenyldifluoromethane 3,4'-dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 4,4'-dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 3,3'-dicarboxyldiphenylsulfone, 3,4'-dicarboxyldiphenylsulfone,
4,4'-dicarboxyldiphenyl sulfone, 3,
3'-dicarboxyl diphenyl sulfide, 3,4 '
-Dicarboxyl diphenyl sulfide, 4,4'-dicarboxyl diphenyl sulfide, 3,3'-dicarboxyl diphenyl ketone, 3,4'-dicarboxyl diphenyl ketone, 4,4'-dicarboxyl diphenyl ketone, 2,2- Bis (3-carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,4'-dicarboxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxyphenyl) Hexafluoropropane, 2,2-bis (3,4 '
-Dicarboxyphenyl) hexafluoropropane,
2,2-bis (4-carboxyphenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (4-carboxy) Phenoxy) benzene, 3,3 '-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisbenzoic acid, 3,4'-
(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene))
Bisbenzoic acid, 4,4 ′-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisbenzoic acid, 2,2-bis (4- (3-carboxyphenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4-carboxyphenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (3-carboxyphenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4- (4-carboxyphenoxy))
Phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (3-
Carboxyphenoxy) phenyl) sulfide, bis (4- (4-carboxyphenoxy) phenyl) sulfide, bis (4- (3-carboxyphenoxy) phenyl) sulfone, bis (4- (4-carboxyphenoxy) phenyl) sulfone, 5 -(Perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, 2- (perfluorononenyloxy)
Dicarboxylic acids containing a perfluorononenyloxy group such as terephthalic acid, 4-methoxy-5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4- (perfluorohexenyloxy) Aromatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acids containing a perfluorohexenyloxy group such as phthalic acid, 2- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, and 4-methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid can be exemplified.

【0025】また本発明の含フッ素ポリベンゾオキサゾ
ールの製造に用いられるジカルボン酸のアミド形成性誘
導体としては、該ジカルボン酸のジクロライド、ジブロ
マイド等の酸ハロゲン化物、該ジカルボン酸のジメチル
エステル、ジエチルエステル等のジアルキルエステル等
が挙げられる。
Examples of the amide-forming derivative of dicarboxylic acid used for producing the fluorine-containing polybenzoxazole of the present invention include dihalides of the dicarboxylic acid, acid halides such as dibromide, dimethyl ester and diethyl ester of the dicarboxylic acid. And the like dialkyl ester and the like.

【0026】該ポリベンゾオキサゾールとは、一般式
(2)、
The polybenzoxazole is represented by the general formula (2),

【0027】[0027]

【化11】 [Chemical 11]

【0028】(式中、Xは芳香環を含む4価の有機基で
あり、2組のNとOはそれぞれ五員環を形成するように
Xの芳香環に互いにオルト位に結合している。)で表さ
れる構成単位を含む含フッ素ポリベンゾオキサゾールお
よびその前駆体である一般式(4)、
(In the formula, X is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and two sets of N and O are bonded to the aromatic ring of X in the ortho position to form a five-membered ring. ) Fluorine-containing polybenzoxazole containing a structural unit represented by the formula (4) and its precursor (4),

【0029】[0029]

【化12】 [Chemical 12]

【0030】(式中、Xは一般式(2)におけるXと同
じ)で表される含フッ素ポリヒドロキシアミドである。
A fluorine-containing polyhydroxyamide represented by the formula (wherein X is the same as X in the general formula (2)).

【0031】本発明の含フッ素ポリベンゾオキサゾール
は一般式(2)で表される構成単位からなるかまたは該
構成単位が1〜100モル%の範囲のポリマーである。
一般式(2)で表される構成単位が1モル%以下の場合
は、それから得られた膜の誘電率が充分低くはならず好
ましくない。
The fluorinated polybenzoxazole of the present invention is a polymer which comprises a structural unit represented by the general formula (2) or has a structural unit of 1 to 100 mol%.
When the constitutional unit represented by the general formula (2) is 1 mol% or less, the dielectric constant of the film obtained therefrom is not sufficiently low, which is not preferable.

【0032】一般式(2)におけるXは芳香環を含む4
価の有機基であれば特にその構造に限定されないが、一
般式
X in the general formula (2) includes an aromatic ring-containing 4
The structure is not particularly limited as long as it is a valent organic group,

【0033】[0033]

【化13】 [Chemical 13]

【0034】または、下記一般式で示される基が例示で
きる。
Alternatively, the groups represented by the following general formula can be exemplified.

【0035】[0035]

【化14】 [Chemical 14]

【0036】ここで、式中のYはそれぞれ独立に単結
合、−O−、−S−、−SO2−、−CO−、−CH
2−、−C(CH32−、−CF2−、−C(CF32
であり、m、nはそれぞれ0〜3の整数である。これら
の一般式中のベンゼン環は、適宜、低級アルキル基、塩
素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換されていても
よい。ここでmが0、nが1のものが特に好ましく、例
えば下記一般式(3)の置換基が例示できる。これらの
一般式中のベンゼン環は、適宜、低級アルキル基、塩
素、臭素、フッ素等のハロゲン原子で置換されていても
よい。
Here, each Y in the formula is independently a single bond, --O--, --S--, --SO 2- , --CO--, --CH.
2 -, - C (CH 3 ) 2 -, - CF 2 -, - C (CF 3) 2 -
And m and n are each an integer of 0 to 3. The benzene ring in these general formulas may be appropriately substituted with a lower alkyl group or a halogen atom such as chlorine, bromine or fluorine. Here, it is particularly preferable that m is 0 and n is 1, and examples thereof include the substituents represented by the following general formula (3). The benzene ring in these general formulas may be appropriately substituted with a lower alkyl group or a halogen atom such as chlorine, bromine or fluorine.

【0037】[0037]

【化15】 [Chemical 15]

【0038】一方ポリベンゾオキサゾールを合成する場
合の対モノマーとしては、一般式(5)、
On the other hand, as a countermonomer in the case of synthesizing polybenzoxazole, the general formula (5),

【0039】[0039]

【化16】 [Chemical 16]

【0040】(式中、R1、R2、R3、R4はそれぞれ独
立に、水素またはトリアルキルシリル基であり、Xは一
般式(2)に同じである。)で表されるビス(アミノフ
ェノール)化合物が好的に使用される。すなわちその反
応によって得られる前駆体、すなわち、一般式(2)、
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently hydrogen or a trialkylsilyl group, and X is the same as in the general formula (2).) (Aminophenol) compounds are preferably used. That is, the precursor obtained by the reaction, that is, the general formula (2),

【0041】[0041]

【化17】 [Chemical 17]

【0042】(式中、Xは一般式(2)におけるXと同
じ)で表される含フッ素ポリヒドロキシアミドを閉環反
応させることでポリベンゾオキサゾールが得られる。
Polybenzoxazole is obtained by subjecting the fluorine-containing polyhydroxyamide represented by the formula (wherein X is the same as X in the general formula (2)) to a ring-closing reaction.

【0043】この場合、使用できるアミド形成性誘導体
としては、該ジカルボン酸のジクロライド、ジブロマイ
ド等の酸ハロゲン化物、該ジカルボン酸のジメチルエス
テル、ジエチルエステル等のジアルキルエステル等が使
用できる。本発明の含フッ素ポリベンゾオキサゾールで
は、2,2−ビス−(4−カルボキシシクロヘキシル)
−ヘキサフルオロプロパンまたはそのアミド形成性誘導
体は、使用する全ジカルボン酸中5〜100%程度が好
ましく、5%未満の場合は誘電率が充分低くならず、ま
た吸水性も高くなるので好ましくない。
In this case, as the amide-forming derivative that can be used, an acid halide such as dichloride or dibromide of the dicarboxylic acid, or a dialkyl ester such as dimethyl ester or diethyl ester of the dicarboxylic acid can be used. The fluorine-containing polybenzoxazole of the present invention includes 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl)
Hexafluoropropane or an amide-forming derivative thereof is preferably about 5 to 100% of the total dicarboxylic acid used, and if it is less than 5%, the dielectric constant is not sufficiently lowered and the water absorption is also increased, which is not preferable.

【0044】続いて、本発明の含フッ素ポリベンゾオキ
サゾールについて説明する。本発明の含フッ素ポリベン
ゾオキサゾールにおいて2,2−ビス−(4−カルボキ
シシクロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパンまたはそ
のアミド形成性誘導体と対モノマーとして使用できるビ
ス(アミノフェノール)系化合物を具体的に例示するな
らば、2,4−ジアミノ−1,5−ベンゼンジオール、
3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニ
ル、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシビフ
ェニル、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)
ケトン、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)
スルフィド、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニ
ル)エーテル、ビス(3−ヒドロキシ−4−アミノフェ
ニル)スルホン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ヒドロ
キシ−4−アミノフェニル)プロパン、ビス(3−ヒド
ロキシ−4−アミノフェニル)メタン、2,2−ビス
(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−アミ
ノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(3−アミ
ノ−4−ヒドロキシフェニル)ジフルオロメタン等が挙
げられ、さらには一般式(5)中のXとしてCF2、C
3を少なくとも含有する種々のアミノフェノール化合
物も使用できる。これらのうち、誘電率の低下や耐水性
の向上などを効率的に実現するためには一般式(5)で
示される前記ビス(アミノフェノール)化合物中、X内
にヘキサフルオロイソプロピリデン基を有する化合物な
ど、特に一般式(3)、
Next, the fluorine-containing polybenzoxazole of the present invention will be described. Specific examples of the bis (aminophenol) -based compounds that can be used as a counter monomer with 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane or its amide-forming derivative in the fluorine-containing polybenzoxazole of the present invention are illustrated. Then, 2,4-diamino-1,5-benzenediol,
3,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-diamino-4,4'-dihydroxybiphenyl, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl)
Ketone, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl)
Sulfide, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) ether, bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) sulfone, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) propane, bis (3-hydroxy-4-aminophenyl) methane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis ( 3-hydroxy-4-aminophenyl) hexafluoropropane, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) difluoromethane and the like can be mentioned, and further CF 2 and C as X in the general formula (5).
Various aminophenol compounds containing at least F 3 can also be used. Of these, in order to efficiently realize a decrease in dielectric constant and an improvement in water resistance, the bis (aminophenol) compound represented by the general formula (5) has a hexafluoroisopropylidene group in X. Compounds such as general formula (3),

【0045】[0045]

【化18】 [Chemical 18]

【0046】(式中、各芳香環は互いにオルト位に未結
合手を有し、芳香環の水素原子はハロゲン(フッ素、塩
素、臭素およびヨウ素)で置換していてもよい。)で表
される有機基を有する化合物が好適である。
(In the formula, each aromatic ring has a dangling bond at the ortho position, and the hydrogen atom of the aromatic ring may be substituted with halogen (fluorine, chlorine, bromine and iodine)). Compounds having an organic group are preferred.

【0047】また、前記した一般式(5)で表わされる
ビス(アミノフェノール)化合物のうちR,R2
3,R4がトリアルキルシリル基で表わされるビス(ア
ミノフェノール)化合物のトリアルキルシリル化物も重
合反応性を高める目的で使用できる。これらのビス(ア
ミノフェノール)化合物は、マクロモレキュールズ(M
acromolecules)第21巻2305頁(1
988年)以下に示される様な3,3′−ビス(トリメ
チルシロキシ)−4,4′−ビス(トリメチルシリルア
ミノ)ビフェニルの製造法に準拠して調整することがで
きる。例えば、4,4′−ジアミノ−3,3′−ジヒド
ロキシビフェニルのテトラヒドロフラン溶液中でトリエ
チルアミンの存在下、トリアルキルシリルクロライドを
反応させて、3,3′−ビス(トリアルキルシロキシ)
−4,4′−ビス(トリアルキルシリルアミノ)ビフェ
ニルを得ることができる。
Among the bis (aminophenol) compounds represented by the above general formula (5), R 1 , R 2 ,
A trialkylsilyl compound of a bis (aminophenol) compound in which R 3 and R 4 are each represented by a trialkylsilyl group can also be used for the purpose of increasing the polymerization reactivity. These bis (aminophenol) compounds are macromolecules (M
acromolecules, vol. 21, p. 2305 (1
(1988) can be adjusted according to the method for producing 3,3′-bis (trimethylsiloxy) -4,4′-bis (trimethylsilylamino) biphenyl as shown below. For example, 3,4'-diamino-3,3'-dihydroxybiphenyl in tetrahydrofuran solution is reacted with trialkylsilyl chloride in the presence of triethylamine to give 3,3'-bis (trialkylsiloxy).
It is possible to obtain -4,4'-bis (trialkylsilylamino) biphenyl.

【0048】本発明の含フッ素ポリベンゾオキサゾール
およびその前駆体である含フッ素ポリヒドロキシアミド
は前記酸成分と前記アミノフェノール化合物を反応させ
ることで製造することができる。この重合反応の方法、
条件については特に制限されない。例えば、酸成分とア
ミノフェノール成分を150℃以上で相互に溶解(溶
融)させて無溶媒で反応させる方法、酸成分とアミノフ
ェノール成分を有機溶媒中またはポリリン酸中高温(好
ましくは150℃以上)で反応させる方法でほとんどま
たは完全に閉環したポリベンゾオキサゾールが得られ
る。また、酸成分とアミノフェノール成分を−20〜8
0℃の温度で有機溶媒中にて反応させることで閉環して
いないかまたは部分的にしか閉環していない一般式
(4)で表される前駆体の含フッ素ポリヒドロキシアミ
ドを得る方法などが採用される。また、塩化リチウムや
塩化カルシウムなどの無機塩類や塩基類を重合反応系に
添加すると、アミノフェノール成分の分子内水素結合を
抑制し、酸性分とアミノフェノールのアミノ基を選択的
に反応させ、重合反応性を高めることもできる。
The fluorine-containing polybenzoxazole of the present invention and the fluorine-containing polyhydroxyamide which is a precursor thereof can be produced by reacting the acid component with the aminophenol compound. This polymerization method,
The conditions are not particularly limited. For example, a method in which an acid component and an aminophenol component are mutually dissolved (melted) at 150 ° C or higher and reacted without a solvent, an acid component and an aminophenol component are heated in an organic solvent or polyphosphoric acid at high temperature (preferably 150 ° C or higher). By the method of reacting with, a polybenzoxazole which is almost or completely ring-closed is obtained. In addition, the acid component and the aminophenol component are -20 to 8
A method of obtaining a precursor fluorine-containing polyhydroxyamide represented by the general formula (4) which is not ring-closed or only partially ring-closed by reacting in an organic solvent at a temperature of 0 ° C. Adopted. When inorganic salts or bases such as lithium chloride or calcium chloride are added to the polymerization reaction system, the intramolecular hydrogen bond of the aminophenol component is suppressed, and the acidic component and the amino group of aminophenol are selectively reacted to polymerize. Reactivity can also be increased.

【0049】前駆体である含フッ素ポリヒドロキシアミ
ドまたは部分的に閉環した含フッ素ポリヒドロキシアミ
ドは100℃以上、好ましくは150℃以上の温度で、
必要に応じて無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香
酸などの酸無水物、ジシクロヘキシルカルボジイミドな
どの閉環剤、さらにピリジン、イソキノリン、トリメチ
ルアミン、アミノピリジン、イミダゾールなどの閉環触
媒を適宜添加して、閉環させることでポリベンゾオキサ
ゾールとすることができる。
The fluorine-containing polyhydroxyamide or the partially ring-closed fluorine-containing polyhydroxyamide which is a precursor has a temperature of 100 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher,
If necessary, an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, or benzoic anhydride, a ring-closing agent such as dicyclohexylcarbodiimide, and a ring-closing catalyst such as pyridine, isoquinoline, trimethylamine, aminopyridine, or imidazole are appropriately added to close the ring. As a result, polybenzoxazole can be obtained.

【0050】本発明による含フッ素重合体の重合反応に
使用できる有機溶媒としては原料の両成分が溶解すれば
特に限定されないが、N,N−ジメチルホルムアミド、
N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、フェノール、o−クレゾール、N−メチル−2−ピ
ロリドン、スルホラン、m−クレゾール、p−クレゾー
ル、3−クロロフェノール、4−クロロフェノール、γ
−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラ
クトン、γ−カプロラクトン、ε−カプロラクトン、α
−メチル−γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネー
ト、プロピレンカーボネート、トリエチレングリコー
ル、アセトフェノン、1,3−ジメチル−2−イミダゾ
リジノンなどが使用可能である。さらに両原料成分の溶
解性を損なわない範囲であれば、その他の有機溶媒、例
えば、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、2−メチルセロソルブアセテート、エ
チルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテー
ト、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、ジブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールメチルアセテート、テトラヒドロ
フラン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、メチル
イソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルエチルケトン、アセトン、ブタノール、エ
タノール、キシレン、トルエン、クロルベンゼン、ター
ペン、ミネラルスピリット、石油ナフサ系溶媒など特に
限定することなく使用できる。
The organic solvent that can be used in the polymerization reaction of the fluoropolymer according to the present invention is not particularly limited as long as both components of the raw materials are dissolved, but N, N-dimethylformamide,
N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, phenol, o-cresol, N-methyl-2-pyrrolidone, sulfolane, m-cresol, p-cresol, 3-chlorophenol, 4-chlorophenol, γ
-Butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, γ-caprolactone, ε-caprolactone, α
-Methyl-γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, triethylene glycol, acetophenone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone and the like can be used. Further, as long as the solubility of both raw material components is not impaired, other organic solvents, for example, butyl acetate, ethyl acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, 2-methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, ethyl acetate, acetic acid. Butyl, isobutyl acetate, dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether,
Propylene glycol methyl acetate, tetrahydrofuran, dimethoxyethane, diethoxyethane, methyl isobutyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, butanol, ethanol, xylene, toluene, chlorobenzene, terpenes, mineral spirits, petroleum naphtha-based solvents, etc. It can be used without doing.

【0051】またこれらの重合反応に際して酸成分とし
てジハライドを使用する場合、ピリジン、トエチルアミ
ン、ジメチルアニリンなどのアミン系ハロゲントラップ
剤を使用することができる。
When a dihalide is used as an acid component in these polymerization reactions, an amine-based halogen trapping agent such as pyridine, toethylamine and dimethylaniline can be used.

【0052】また前記トリアルキルシリル基含有成分を
使用する場合は、重合後にトリアルキルシリル基を含有
する重合体となるが、この場合は重合体をメタノールま
たは水に添加してトリアルキルシリル基をOH基に変換
することができる。
When the above-mentioned trialkylsilyl group-containing component is used, a polymer containing a trialkylsilyl group is obtained after polymerization. In this case, the polymer is added to methanol or water to add the trialkylsilyl group. It can be converted into an OH group.

【0053】本発明にかかる含フッ素重合体は、それぞ
れ、ジメチルアセトアミドに溶解するものは、該溶媒に
0.1g/dlの濃度で溶解し、オストワルド粘度計に
より30℃で測定した還元粘度が0.01dl/g以
上、特に0.3dl/g以上のものが好ましい。
Each of the fluoropolymers according to the present invention, which is soluble in dimethylacetamide, is dissolved in the solvent at a concentration of 0.1 g / dl, and the reduced viscosity measured at 30 ° C. by an Ostwald viscometer is 0. It is preferably 0.01 dl / g or more, particularly 0.3 dl / g or more.

【0054】本発明の含フッ素重合体は有機溶媒に溶解
したワニス状態、または粉末状態、フィルム状態、固体
状態で使用に供することが可能である。ワニスで使用す
る場合は、ガラス、シリコンウエーハ、金属、金属酸化
物、セラミックス、樹脂などの基材上にスピンコート、
スプレーコート、フローコート、含浸コート、ハケ塗り
など通常用いられる方法で塗布することができる。この
前駆体は分子中にフェノール性酸性基を有しアルカリ水
溶性を示すことから、この前駆体のフェノール性ヒドロ
キシ基をあらかじめ酸不安定基やアミン不安定基で保護
したり、光、電子線、X線等で反応し硬化し得る官能基
を導入することで、ポジ型またはネガ型のレジストや感
光性材料として使用することもできる。例えば、ポジ型
として用いる場合は、酸不安定基を分解する目的で光酸
発生剤や光アミン発生剤等を添加することで容易に成し
遂げられる。それにより、半導体、基板、光デバイス、
マイクロマシーン、電子機器などの分野で使用できる。
The fluoropolymer of the present invention can be used in a varnish state dissolved in an organic solvent, a powder state, a film state or a solid state. When used in varnish, glass, silicon wafer, metal, metal oxide, ceramics, spin coating on a substrate such as resin,
It can be applied by a commonly used method such as spray coating, flow coating, impregnation coating, and brush coating. Since this precursor has a phenolic acidic group in its molecule and is soluble in alkali water, it is necessary to protect the phenolic hydroxy group of this precursor with an acid labile group or an amine labile group in advance, or to use light or electron beams. By introducing a functional group capable of reacting and curing with X-rays, etc., it can be used as a positive or negative resist or a photosensitive material. For example, when it is used as a positive type, it can be easily accomplished by adding a photoacid generator or a photoamine generator for the purpose of decomposing an acid labile group. As a result, semiconductors, substrates, optical devices,
It can be used in fields such as micromachines and electronic devices.

【0055】また本発明によると一般式(1)のジカル
ボン酸の少なくとも一方のカルボン酸を、分岐状又は環
状のアルキル基、例えばt―ブチル基やとしたりや何ら
かのスペーサーを介してtert−ブトキシカルボニル
基、tert−ブトキシカルボニルメチル基等のtBOC化
合物などの酸不安定基を付与させることでポジ型フォト
レジストにおける溶解性制御材料として使用することが
できる。この場合の酸不安定基としては通常の化学増幅
型フォトレジストで使用されるものはすべて適用可能で
ある。
According to the present invention, at least one carboxylic acid of the dicarboxylic acid of the general formula (1) is substituted with a branched or cyclic alkyl group such as t-butyl group or tert-butoxycarbonyl via a spacer. Group, or an acid labile group such as a tBOC compound such as a tert-butoxycarbonylmethyl group can be used as a solubility control material in a positive photoresist. As the acid labile group in this case, all those used in a general chemically amplified photoresist can be applied.

【0056】本発明の酸不安定基含有の化合物は芳香族
を使用していないこと、及びフッ素含有量が高いことか
らg線、i線はもちろんのこと、248nm、193n
m、157nmやそれ以下の波長領域においても優れた
透明性を有しており、フォトレジスト樹脂に混合して高
性能な化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物とするこ
とが可能である。さらに本発明の一般式(1)のジカル
ボン酸またはその一方のカルボン酸を酸分解性置換基を
付与させた化合物を側鎖に含有したフッ素樹脂を合成
し、その樹脂を上記の各種波長帯におけるフォトレジス
ト樹脂として使用することも可能である。
Since the compound containing an acid labile group of the present invention does not use aromatic compounds and has a high fluorine content, not only g line and i line but also 248 nm, 193 n
It has excellent transparency even in a wavelength range of m, 157 nm or less, and can be mixed with a photoresist resin to form a high-performance chemically amplified positive photoresist composition. Further, a fluororesin containing a compound having an acid-decomposable substituent added to the dicarboxylic acid of the general formula (1) or one of the carboxylic acids of the present invention in the side chain is synthesized, and the resin is used in the above various wavelength bands. It can also be used as a photoresist resin.

【0057】[0057]

【実施例】以下、本発明を実施例をもって説明するが、
本発明はこれらの実施例によって限定されるものではな
い。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.
The invention is not limited by these examples.

【0058】[実施例1]2,2−ビス(4−カルボキ
シフェニル)−ヘキサフルオロプロパン200gを原料
としヘキサフルオロイソプロピルアルコール500mlと
ともに1Lオートクレーブに仕込み、次いで、Pt−C
を触媒として17g添加した。
[Example 1] 200 g of 2,2-bis (4-carboxyphenyl) -hexafluoropropane was used as a raw material and charged into a 1 L autoclave together with 500 ml of hexafluoroisopropyl alcohol, and then Pt-C was added.
Was added as a catalyst.

【0059】撹拌停止状態で、水素により反応器内を置
換した後、バス温を徐々に上げ、内温100℃前後に調
節しながら水素圧1.0MPaで還元反応を行った。水素
の吸収は2hrでほぼ終了したため、反応器を氷冷し、徐
々に反応器内の水素をパージした。反応液はろ過によ
り、触媒のPt−Cを除去した後、蒸留によって生成物
を単離したところ約30gの生成物が得られた。得られ
た化合物のIRスペクトルを図1に示す。これにより、
一般式(1)の2,2−ビス−(4−カルボキシシクロ
ヘキシル)−ヘキサフルオロプロパンであることが判明
した。
After the inside of the reactor was replaced with hydrogen while stirring was stopped, the bath temperature was gradually raised and the reduction reaction was carried out at a hydrogen pressure of 1.0 MPa while adjusting the internal temperature to about 100 ° C. Since the absorption of hydrogen was almost completed in 2 hours, the reactor was cooled with ice and the hydrogen in the reactor was gradually purged. The reaction solution was filtered to remove Pt-C as the catalyst, and the product was isolated by distillation to obtain about 30 g of the product. The IR spectrum of the obtained compound is shown in FIG. This allows
It was found to be 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane of the general formula (1).

【0060】[実施例2]ビスフェノールAF[2,2
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサフルオロプ
ロパン]6.7g(0.02モル)、ピリジン 3.5
g、ジメチルアセトアミド37gを撹拌装置の付いたガ
ラスライニング製オートクレーブに仕込み、均一に混合
した後、実施例1で得られた2,2−ビス−(4−カル
ボキシシクロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパンのジ
酸クロライド8.5g(0.02モル)を20分かけて
少量ずつ添加した。その間、内温が10℃になるように
制御した。その後、室温にて5時間重合を進行させ、次
いで反応溶液を過剰のメタノール中に滴下し、ポリマー
を沈殿させた。沈殿したポリマーをろ別、メタノール洗
浄を繰り返した後、50℃で乾燥し、含フッ素ポリエス
テル12gを得た。ジメチルアセトアミドに0.1g/
dlの濃度で溶解し、オストワルド粘度計により30℃
で測定した還元粘度は0.50dl/gであった。得ら
れたポリマーをジメチルアセトアミドに溶解し、ガラス
板上に展開してフィルム化したところ、透明性の高い強
靱なフィルムであった。
[Example 2] Bisphenol AF [2, 2]
-Bis (4-hydroxyphenyl) -hexafluoropropane] 6.7 g (0.02 mol), pyridine 3.5
g, and 37 g of dimethylacetamide were charged into a glass-lined autoclave equipped with a stirrer and uniformly mixed, and then the diacid of 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane obtained in Example 1 was obtained. 8.5 g (0.02 mol) of chloride was added portionwise over 20 minutes. During that time, the internal temperature was controlled to be 10 ° C. Then, the polymerization was allowed to proceed at room temperature for 5 hours, and then the reaction solution was added dropwise to excess methanol to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration and washed with methanol repeatedly, and then dried at 50 ° C. to obtain 12 g of fluorine-containing polyester. 0.1g / in dimethylacetamide
Dissolve at a concentration of dl, 30 ℃ by Ostwald viscometer
The reduced viscosity was 0.50 dl / g. When the obtained polymer was dissolved in dimethylacetamide and spread on a glass plate to form a film, it was a tough film having high transparency.

【0061】[実施例3]撹拌装置の付いたガラスライ
ニング製オートクレーブに2,2−ビス(3−アミノ−
4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン7.
00g(0.02mol)、ピリジン 3.5g、ジメチル
アセトアミド37gを仕込み、撹拌しながら内温1℃に
冷却した。2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシ
フェニル)ヘキサフルオロプロパンが溶解したところで
実施例1で得られた2,2−ビス−(4−カルボキシシ
クロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパンのジ酸クロラ
イド8.5g(0.02モル)を20分かけて少量ずつ
添加し、30分間反応させて冷却をやめ、添加後5時間
重合を進行させた。次いで反応溶液を過剰のメタノール
中に滴下し、ポリマーを沈殿させた。沈殿したポリマー
をろ別、メタノール洗浄を繰り返した後、50℃で乾燥
し、含フッ素ポリヒドロキシアミドを得た。ジメチルア
セトアミドに0.1g/dlの濃度で溶解し、オストワ
ルド粘度計により30℃で測定した還元粘度は0.70
dl/gであった。得られた含フッ素ポリヒドロキシア
ミドは
Example 3 A glass-lined autoclave equipped with a stirrer was charged with 2,2-bis (3-amino-).
4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane 7.
00 g (0.02 mol), pyridine 3.5 g, and dimethylacetamide 37 g were charged, and the internal temperature was cooled to 1 ° C. with stirring. 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane dissolved therein, 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane diacid chloride 8 obtained in Example 1 0.5 g (0.02 mol) was added little by little over 20 minutes, reacted for 30 minutes to stop cooling, and after the addition, polymerization was allowed to proceed for 5 hours. Then, the reaction solution was dropped into excess methanol to precipitate the polymer. The precipitated polymer was separated by filtration and washed with methanol repeatedly, and then dried at 50 ° C. to obtain a fluorine-containing polyhydroxyamide. It was dissolved in dimethylacetamide at a concentration of 0.1 g / dl, and the reduced viscosity measured by an Ostwald viscometer at 30 ° C. was 0.70.
It was dl / g. The obtained fluorinated polyhydroxyamide is

【0062】[0062]

【化19】 [Chemical 19]

【0063】の構造単位からなる重合体であった。It was a polymer comprising the structural unit of.

【0064】次いで得られた含フッ素ポリヒドロキシア
ミドはジメチルアセトアミドに20重量%の濃度になる
ように再溶解し、溶媒キャスト法でガラス板上に膜厚3
5ミクロンの均一なフィルムを得た。次いで150℃、
230℃、300℃で順次30分加熱することで脱水縮
合させ、透明性の高い含フッ素ポリベンゾオキサゾール
を得た。得られた含フッ素ポリベンゾオキサゾールは
Next, the obtained fluorine-containing polyhydroxyamide was redissolved in dimethylacetamide to a concentration of 20% by weight, and a film having a thickness of 3 was formed on a glass plate by a solvent casting method.
A uniform film of 5 microns was obtained. Then 150 ℃,
It was dehydrated and condensed by heating at 230 ° C. and 300 ° C. for 30 minutes in sequence to obtain highly transparent fluorine-containing polybenzoxazole. The obtained fluorine-containing polybenzoxazole is

【0065】[0065]

【化20】 [Chemical 20]

【0066】の構造単位からなる重合体である。It is a polymer comprising the structural unit of.

【0067】また、得られた含フッ素ポリベンゾオキサ
ゾールの誘電率の測定を行ったところ1MHzで2.2
5であった。またこのフィルムの線熱膨張係数を測定し
たところ50〜300℃の平均値として2×10-5/℃
であった。
The dielectric constant of the obtained fluorine-containing polybenzoxazole was measured and found to be 2.2 at 1 MHz.
It was 5. The linear thermal expansion coefficient of this film was measured and found to be 2 × 10 −5 / ° C. as an average value of 50 to 300 ° C.
Met.

【0068】[実施例4]実施例1と同様にして、撹拌
装置の付いたガラスライニング製オートクレーブに3,
3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル
4.32g(0.02mol)、ピリジン3.5g、ジメ
チルアセトアミド30gを仕込み、撹拌しながら内温1
℃に冷却した。3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジ
アミノビフェニルが溶解したところで実施例1で得られ
た2,2−ビス−(4−カルボキシシクロヘキシル)−
ヘキサフルオロプロパンのジ酸クロライド8.5g
(0.02モル)を20分かけて少量ずつ添加し、30
分間反応させて冷却をやめ、添加後5時間重合を進行さ
せた。次いで反応溶液を過剰のメタノール中に滴下し、
ポリマーを沈殿させた。沈殿したポリマーをろ別、メタ
ノール洗浄を繰り返した後、50℃で乾燥し、含フッ素
ポリヒドロキシアミドを得た。ジメチルアセトアミドに
0.1g/dlの濃度で溶解し、オストワルド粘度計に
より30℃で測定した還元粘度は0.75dl/gであ
った。得られた含フッ素ポリヒドロキシアミドは
Example 4 In the same manner as in Example 1, a glass-lined autoclave equipped with a stirrer was used.
3'-Dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl 4.32 g (0.02 mol), pyridine 3.5 g, and dimethylacetamide 30 g were charged, and the internal temperature was 1 while stirring.
Cooled to ° C. When 2,3'-dihydroxy-4,4'-diaminobiphenyl was dissolved, 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -obtained in Example 1 was obtained.
Hexafluoropropane diacid chloride 8.5g
(0.02 mol) in small portions over 20 minutes, 30
The reaction was carried out for 1 minute, the cooling was stopped, and the polymerization was allowed to proceed for 5 hours after the addition. Then, the reaction solution was dropped into excess methanol,
The polymer was precipitated. The precipitated polymer was separated by filtration and washed with methanol repeatedly, and then dried at 50 ° C. to obtain a fluorine-containing polyhydroxyamide. It was dissolved in dimethylacetamide at a concentration of 0.1 g / dl, and the reduced viscosity measured by an Ostwald viscometer at 30 ° C. was 0.75 dl / g. The obtained fluorinated polyhydroxyamide is

【0069】[0069]

【化21】 [Chemical 21]

【0070】の構造単位からなる重合体であった。It was a polymer comprising the structural unit of.

【0071】得られた含フッ素ポリヒドロキシアミドは
ジメチルアセトアミドに20重量%の濃度になるように
再溶解し、溶媒キャスト法、ガラス板上に膜厚34ミク
ロンの均一なフィルムを得た。次いで150℃、230
℃、300℃で順次30分加熱することで脱水縮合さ
せ、含フッ素ポリベンゾオキサゾールを得た。得られた
含フッ素ポリベンゾオキサゾールは
The resulting fluorine-containing polyhydroxyamide was redissolved in dimethylacetamide to a concentration of 20% by weight, and solvent casting was performed to obtain a uniform film having a thickness of 34 μm on a glass plate. Then 150 ° C, 230
The mixture was dehydrated and condensed by sequentially heating at 30 ° C. and 300 ° C. for 30 minutes to obtain fluorine-containing polybenzoxazole. The obtained fluorine-containing polybenzoxazole is

【0072】[0072]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0073】の構造単位からなる重合体であった。It was a polymer composed of the structural unit of.

【0074】また、得られた含フッ素ポリベンゾオキサ
ゾールの誘電率の測定を行ったところ1MHzで2.5
であった。またこのフィルムの線熱膨張係数を測定した
ところ50〜300℃の平均値として1.8×10-5
℃であった。
The dielectric constant of the obtained fluorine-containing polybenzoxazole was measured and found to be 2.5 at 1 MHz.
Met. The linear thermal expansion coefficient of this film was measured and found to be an average value of 50 to 300 ° C. of 1.8 × 10 −5 /
It was ℃.

【0075】[実施例5]t−ブタノール20g、ピリ
ジン 3.5g、ジメチルアセトアミド37gを撹拌装
置の付いたガラスライニング製オートクレーブに仕込
み、均一に混合した後、実施例1で得られた2,2−ビ
ス−(4−カルボキシシクロヘキシル)−ヘキサフルオ
ロプロパンのジ酸クロライド8.5g(0.02モル)
を20分かけて少量ずつ添加した。その後、室温にて5
時間エステル化反応を進行させた。反応終了後、蒸留に
より2,2−ビス−(4−カルボキシシクロヘキシル)
−ヘキサフルオロプロパンのジ−t−ブチル化物を9.
3g得た。この化合物はフォトレジスト用現像液である
2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシドに不
溶であった。
Example 5 20 g of t-butanol, 3.5 g of pyridine, and 37 g of dimethylacetamide were placed in a glass-lined autoclave equipped with a stirrer and uniformly mixed, and then 2,2 obtained in Example 1 was used. -Bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane diacid chloride 8.5 g (0.02 mol)
Was added in small portions over 20 minutes. Then, at room temperature, 5
The esterification reaction was allowed to proceed for a period of time. After completion of the reaction, 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) was obtained by distillation.
The di-t-butylated product of hexafluoropropane
3 g was obtained. This compound was insoluble in 2.38% tetramethylammonium hydroxide, which is a photoresist developing solution.

【0076】次に、名称2,2−ビス−(4−カルボキ
シシクロヘキシル)−ヘキサフルオロプロパンのジ−t
−ブチル化物を10%、トリフルオロメタンスルフォン
酸トリフェニルスルフォニウムを0.1%の濃度になる
ように酢酸ブチルに溶解させ、248nmのKrFレー
ザーを照射させた。その後、溶媒を蒸発させたところ、
現像液である2.38%テトラメチルアンモニウムヒド
ロキシドであった。したがって、本化合物はフォトレジ
スト用添加物として使用可能であることがわかった。
Next, the di-t of the name 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane
-Butylated product was dissolved in butyl acetate to a concentration of 10% and triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate at a concentration of 0.1%, and irradiated with a 248 nm KrF laser. After that, when the solvent was evaporated,
The developer was 2.38% tetramethylammonium hydroxide. Therefore, it was found that this compound can be used as an additive for photoresists.

【0077】[0077]

【発明の効果】本発明の含フッ素ポリベンゾオキサゾー
ルは機械的強度、熱的安定性などの特性を維持したま
ま、低誘電率かつ低熱膨張係数を示すため、電気・電子
部品の絶縁材や光学部品のコーティング材として有用で
ある。
The fluorine-containing polybenzoxazole of the present invention exhibits a low dielectric constant and a low coefficient of thermal expansion while maintaining the properties such as mechanical strength and thermal stability, and therefore, it can be used as an insulating material for optical and electronic parts or as an optical material. It is useful as a coating material for parts.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は2,2−ビス−(4−カルボキシシクロ
ヘキシル)−ヘキサフルオロプロパンの赤外線吸収スペ
クトルである。
FIG. 1 is an infrared absorption spectrum of 2,2-bis- (4-carboxycyclohexyl) -hexafluoropropane.

フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AB16 AB17 AC08 BE07 CC20 4H006 AA01 AB46 AB84 BJ20 BM10 BM71 BS20 4J031 BA06 BA07 BA09 BA11 BB01 BB02 BB03 BD13 BD22 4J043 PA01 PC145 PC146 QB15 QB16 QB28 QB33 QB47 QB58 QB68 RA04 RA05 RA23 RA24 RA52 SA06 SA11 SA54 SA71 SA78 SA85 TA11 TA12 TA47 TA70 TB01 UA042 UA122 UA132 UA142 UA152 UB012 UB062 UB122 UB152 UB292 UB302 UB402 ZB03 ZB22Continued front page    F-term (reference) 2H025 AB16 AB17 AC08 BE07 CC20                 4H006 AA01 AB46 AB84 BJ20 BM10                       BM71 BS20                 4J031 BA06 BA07 BA09 BA11 BB01                       BB02 BB03 BD13 BD22                 4J043 PA01 PC145 PC146 QB15                       QB16 QB28 QB33 QB47 QB58                       QB68 RA04 RA05 RA23 RA24                       RA52 SA06 SA11 SA54 SA71                       SA78 SA85 TA11 TA12 TA47                       TA70 TB01 UA042 UA122                       UA132 UA142 UA152 UB012                       UB062 UB122 UB152 UB292                       UB302 UB402 ZB03 ZB22

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】式(1)で表される含フッ素ジカルボン
酸。 【化1】
1. A fluorinated dicarboxylic acid represented by the formula (1). [Chemical 1]
【請求項2】請求項1記載の式(1)で表される含フッ
素ジカルボン酸またはそのアミド形成体あるいはエステ
ル形成性誘導体を用いて重合した含フッ素重合体。
2. A fluorine-containing polymer obtained by polymerizing the fluorine-containing dicarboxylic acid represented by the formula (1) according to claim 1 or an amide-forming compound or ester-forming derivative thereof.
【請求項3】一般式(2) 【化2】 (式中、Xは芳香環を含む4価の有機基であり、2組の
NとOはそれぞれ五員環を形成するようにXの芳香環に
互いにオルト位に結合している。)で表される構成単位
を含む含フッ素ポリベンゾオキサゾール。
3. A general formula (2): (In the formula, X is a tetravalent organic group containing an aromatic ring, and two sets of N and O are ortho to each other in the aromatic ring of X so as to form a five-membered ring.). A fluorine-containing polybenzoxazole containing a structural unit represented.
【請求項4】Xが一般式(3)、 【化3】 (式中、各芳香環は互いにオルト位に未結合手を有し、
芳香環の水素原子はハロゲン(フッ素、塩素、臭素およ
びヨウ素)で置換していてもよい。)で表される有機基
である請求項3記載の含フッ素ポリベンゾオキサゾー
ル。
4. X is represented by the general formula (3): (In the formula, each aromatic ring has a dangling bond at the ortho position,
The hydrogen atom of the aromatic ring may be substituted with halogen (fluorine, chlorine, bromine and iodine). 4. The fluorinated polybenzoxazole according to claim 3, which is an organic group represented by
【請求項5】一般式(4)、 【化4】 (式中、Xは請求項2記載の一般式(2)におけるXと
同じ)で表される含フッ素ポリヒドロキシアミド。
5. A compound represented by the general formula (4): (In the formula, X is the same as X in the general formula (2) described in claim 2) A fluorine-containing polyhydroxyamide.
【請求項6】請求項2〜4のいずれかに記載の重合体を
有機溶剤に溶解したコーティング用組成物。
6. A coating composition in which the polymer according to any one of claims 2 to 4 is dissolved in an organic solvent.
【請求項7】請求項1に記載の一般式(1)のジカルボ
ン酸の少なくとも一方のカルボン酸を酸不安定基により
修飾した感光性材料用組成物。
7. A composition for a photosensitive material, wherein at least one carboxylic acid of the dicarboxylic acid of the general formula (1) according to claim 1 is modified with an acid labile group.
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