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JP2003010849A - 二次純水製造装置 - Google Patents

二次純水製造装置

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JP2003010849A
JP2003010849A JP2001200992A JP2001200992A JP2003010849A JP 2003010849 A JP2003010849 A JP 2003010849A JP 2001200992 A JP2001200992 A JP 2001200992A JP 2001200992 A JP2001200992 A JP 2001200992A JP 2003010849 A JP2003010849 A JP 2003010849A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 二次純水製造装置の給水ポンプ、熱交換器、
UV照射装置等を構成する金属材料から発生した金属の
コロイドや微粒子による水質低下の問題がなく、残留イ
オン濃度10ng/L以下の高水質の超純水を安定に得
ることができる二次純水製造装置を提供する。 【解決手段】 二次純水製造装置の給水ポンプ11とU
F膜分離装置15との間に、粒子径5μm以上の微粒子
を除去可能なイオン交換能を有するフィルタ20を設置
する。このフィルタ20で金属コロイドないし微粒子
を、効率的に捕捉して除去すると共に、捕捉された金属
コロイドないし微粒子がイオン化した場合でもフィルタ
20のイオン交換能で吸着して保持することができる。
このため、金属コロイドないし微粒子によるイオンリー
クを防止して、高水質の超純水を安定に得ることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は二次純水製造装置に
係り、特に、二次純水製造装置の給水ポンプや熱交換器
等を構成する金属材料から発生する金属コロイドないし
微粒子を捕捉する手段を有し、これにより高純度の超純
水を製造することができる二次純水製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体のウエハ洗浄水として用いられる
超純水の製造システムの構成例を図2に示す。
【0003】図2に示すように、原水(工業用水、市
水、井水等)は、凝集、加圧浮上(沈殿)、濾過装置等
よりなる前処理装置1で、懸濁物質やコロイド物質が除
去された後、逆浸透膜分離装置、脱気装置及びイオン交
換装置(混床式又は4床5塔式)を備える一次純水製造
装置2で、イオンや有機成分が除去され、一次純水が製
造される。一次純水はサブタンクを経て、二次純水製造
装置(一般に「サブシステム」と称される。)3の給水
ポンプにより、熱交換器、低圧紫外線(UV)酸化装
置、非再生型混床式イオン交換樹脂塔等のイオン交換純
水装置及び限外濾過(UF)膜分離装置に順次通水さ
れ、水の純度がより一層高められ超純水が製造される。
この二次純水製造装置3において、低圧UV酸化装置で
は、低圧UVランプより出される185nmのUVによ
りTOCを有機酸さらにはCOにまで分解する。生成
した有機酸及びCOは後段のイオン交換樹脂で除去さ
れる。UF膜分離装置では、微小粒子が除去されイオン
交換樹脂の流出粒子も除去される。
【0004】二次純水製造装置3からの超純水はユース
ポイントに送給され、余剰の超純水はサブタンクに戻さ
れ、再利用される。
【0005】なお、図2に示す前処理装置1、一次純水
製造装置2及び二次純水製造装置3は、いずれも各装置
の一例であって、各装置の構成は何ら図示のものに限定
されない。二次純水製造装置3は一般に、給水ポンプ、
熱交換器、UV照射装置、イオン交換装置、膜濾過装置
等で構成される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】二次純水製造装置3で
は、給水ポンプ、熱交換器、UV照射装置等において、
その水流接触面を構成する金属材料から、水流の影響、
特に流量の変動の影響で金属(Fe,Cr,Ni,Zn
等)のコロイドないし微粒子状物が発生する。発生した
金属コロイドないし微粒子は、後段のUF膜分離装置等
の膜濾過装置で捕捉されるが、UF膜分離装置の膜面に
捕捉された金属コロイドないし微粒子は経時により徐々
にイオン化して、水中に溶解してくる場合がある。この
場合には、溶解した金属イオンにより、得られる超純水
の残留イオン量が増大し、水質が低下する。
【0007】本発明は上記従来の問題点を解決し、二次
純水製造装置の給水ポンプ、熱交換器、UV照射装置等
から発生した金属のコロイドや微粒子による水質低下の
問題がなく、残留イオン濃度10ng/L(ppt)以
下の高水質の超純水を安定に得ることができる二次純水
製造装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の二次純水製造装
置は、少なくとも上流側に給水ポンプを有し、下流側に
膜濾過装置を有する二次純水製造装置において、該給水
ポンプと膜濾過装置との間に、粒子径5μm以上の微粒
子を除去可能なイオン交換能を有するフィルタを設置し
たことを特徴とする。
【0009】膜濾過装置の前段に、粒子経5μm以上の
微粒子を除去可能なイオン交換能を有するフィルタ(以
下「微粒子除去・イオン交換能フィルタ」と称す場合が
ある。)を設けることにより、給水ポンプ、熱交換器、
UV照射装置等で発生した金属コロイドないし微粒子を
膜濾過装置に流入する前に捕捉して除去することができ
る。また、このフィルタで捕捉された金属コロイドない
し微粒子がイオン化しても、フィルタのイオン交換能で
吸着することができるため、水中へのイオンの溶出を防
止することができる。
【0010】本発明において、二次純水製造装置は、給
水ポンプ、熱交換器、UV照射装置及びUF膜分離装置
をこの順で配置することが好ましい。
【0011】また、微粒子除去・イオン交換能フィルタ
としては、イオン交換基、好ましくはカチオン交換基を
導入した精密濾過(MF)膜が好適である。
【0012】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
【0013】図1は本発明の二次純水製造装置の実施の
形態を示す系統図である。
【0014】この二次純水製造装置で処理される一次純
水は、図2に示す如く、原水(工業用水、市水、井水
等)を凝集、加圧浮上(沈殿)、濾過装置(UF膜濾過
装置又はMF膜濾過装置)等よりなる前処理装置1及び
一次純水製造装置2で処理して得られた一次純水であ
る。
【0015】前処理装置及び一次純水製造装置の構成に
は特に制限はなく、一次純水製造装置としては、逆浸透
(RO)膜分離装置、イオン交換装置、非再生式電気脱
塩装置などの脱塩装置;活性炭、合成吸着樹脂などの吸
着装置;UV酸化装置などのTOC分解装置;膜式脱気
装置、真空式脱気装置、触媒式脱気装置などの脱気装
置;殺菌装置などを任意の順で配置したものを用いるこ
とができる。
【0016】このような一次純水製造装置により、好ま
しくは比抵抗10MΩ・cm以上の一次純水を製造し、
二次純水製造装置に導入する。
【0017】図1に示す二次純水製造装置は、一次純水
をサブタンク10に受け、給水ポンプ11で微粒子除去
・イオン交換能フィルタ20、熱交換器12、低圧UV
酸化装置11、非再生型混床式イオン交換装置14及び
UF膜分離装置15で順次処理し、得られた超純水をユ
ースポイント16に送給し、余剰水をサブタンク10に
戻すものである。
【0018】サブタンク10は通常SUS又はFRP製
である。給水ポンプ11には特に制限はない。熱交換器
12としてはプレート型が一般的であるが何らこれに限
定されるものではない。低圧UV酸化装置13として
は、波長170nm以上、好ましくは180〜200n
mのUVを照射して純水中のTOCを分解するものであ
れば良く、特に制限はない。また、非再生型混床式イオ
ン交換装置14及びUF膜分離装置15としても、特に
制限はなく、通常の二次純水製造装置に用いられている
ものを使用することができる。
【0019】微粒子除去・イオン交換能フィルタ20
は、微粒子5μm以上を微粒子を100%捕捉すること
ができ、かつイオン交換能を有するものであれば良く、
材質、型式等には特に制限はない。微粒子除去・イオン
交換能フィルタ20としては、市販の、イオン交換基を
MF膜等の膜素材に導入したものを用いることができ
る。このフィルタは、MF膜の細孔内にイオン交換基が
存在すること以外は、膜型式等において通常のMF膜フ
ィルタと同様であり、プリーツ型、中空糸型などが市販
されている。フィルタに導入されるイオン交換基はカチ
オン交換基(例えば水素イオン型)でもアニオン交換基
(例えば水酸化イオン型)でも良いが、主に金属イオン
を吸着するためにカチオン交換基が好ましい。
【0020】なお、このフィルタ20は、粒子径0.1
μmまでの極微粒子をも除去し得るUF膜機能を有する
ものであっても良いが、過度に細かい微粒子まで除去す
るフィルタでは、微粒子の除去による水の純度向上の面
からは好ましい反面、通水時の圧力損失が大きくなり、
装置が大型化する問題がある。
【0021】図1の二次純水製造装置では、このような
微粒子除去・イオン交換能フィルタ20を給水ポンプ1
1と熱交換器12との間に設けることにより、給水ポン
プ11等から発生する金属コロイドないし微粒子をその
フィルタ機能で捕捉すると共に、イオン化した金属をそ
のイオン交換能で吸着して保持することにより、後段の
装置への金属及び金属イオンの流出を防止することがで
きる。
【0022】この微粒子除去・イオン交換能フィルタ2
0は定期的に、例えば所定時間の通水毎、或いは所定量
の通水毎に新品と交換するか或いは、圧力損失が所定の
値に上昇した場合に新品と交換する。
【0023】図1に示す二次純水製造装置は、本発明の
実施の形態の一例を示すものであって本発明はその要旨
を超えない限り、何ら図示のものに限定されるものでは
ない。
【0024】例えば、微粒子除去・イオン交換能フィル
タ20は、給水ポンプ11とUF膜分離装置15との間
に設置されていれば良く、図1において、熱交換器12
と低圧UV酸化装置13との間であっても良い。また、
低圧UV酸化装置13と非再生型混床式イオン交換装置
14との間、或いは非再生型混床式イオン交換装置14
とUF膜分離装置15との間に設けられていても良い。
【0025】また、図1に示す如く、微粒子除去・イオ
ン交換能フィルタ20に常時通水が行われるようフィル
タ20を設ける他、給水ポンプ11とUF膜分離装置1
5との間の任意の箇所に、微粒子除去・イオン交換能フ
ィルタ20を有するバイパスラインを設け、製造された
超純水中に金属又は金属イオンのリークが検出されたと
きにのみ、或いは水流の変動があるときにのみ微粒子除
去・イオン交換能フィルタ20に通水して処理を行うよ
うにしても良い。
【0026】更に、二次純水製造装置の装置構成につい
ても何ら図1に示すものに限定されない。一般に二次純
水製造装置は、給水ポンプ、熱交換器、低圧UV酸化装
置又は殺菌装置といったUV照射装置、非再生型混床式
イオン交換装置、UF膜分離装置又はMF膜分離装置等
の膜濾過装置で構成されるが、更に膜式脱気装置、真空
式脱気装置等の脱気装置、RO膜分離装置、電気脱塩装
置等の脱塩装置が設けられていても良い。
【0027】このような本発明の二次純水製造装置によ
れば、金属イオン濃度を5ng/L以下に抑えて残留イ
オン濃度10ng/L以下で比抵抗18.0MΩ・cm
以上の高純度超純水を安定に製造することができ、例え
ばウエハ上の汚染管理基準値として、金属原子(Fe,
Cr,Ni,Zn等)数10atm/cm以下が要
求されるウエハ洗浄機の洗浄水給水ライン等に有効に適
用することができる。
【0028】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
【0029】実施例1 市水を第1段目のRO膜分離装置、第2段目のRO膜分
離装置及びイオン交換樹脂塔に順次通水して処理して得
られた水(比抵抗16.0〜17.0MΩ・cm)を1
容量のFRP製タンクに受け、この水を原水とし
て、図1に示す二次純水製造装置で処理を行った。
【0030】各装置の仕様は次の通りである。 給水ポンプ:帝国ポンプ社製渦巻型ポンプ 微粒子除去・イオン交換能フィルタ:粒子径5μm以上
の微粒子を100%捕捉し得る、スルホン型のカチオン
交換基をH型としたフィルタ 熱交換器:SUS316使用プレート型熱交換器 低圧UV酸化装置:日本フォトサイエンス社製AUV型 混床式イオン交換装置:栗田工業(株)製CC30SS
(イオン交換樹脂量72L) UF膜分離装置:栗田工業(株)製KU型
【0031】原水を3m/hrの一定流量で通水する
安定運転時と、原水を3m/hrで5分間通水した後
2m/hrで15分間通水し、この流量変動を繰り返
す変動運転時(変動運転開始から5時間後及び24時間
後)とのそれぞれについて、各部の水のT−Fe濃度
(イオン状の鉄及び不溶性の鉄を含む全鉄濃度)を測定
し、結果を表1に示した。
【0032】比較例1 実施例1において、微粒子除去・イオン交換能フィルタ
を設けなかったこと以外は同様にして、安定運転時と変
動運転時のそれぞれについて、各部の水のT−Fe濃度
を調べ、結果を表1に示した。
【0033】
【表1】
【0034】表1より次のことが明らかである。
【0035】即ち、微粒子除去・イオン交換能フィルタ
を設けていない比較例1では、給水ポンプから、Feコ
ロイドないし微粒子が発生し、最後段のUF膜分離装置
のUF膜で捕捉される。このため、二次純水製造装置内
でのT−Fe濃度は安定しているが、UF膜からイオン
性のFeが溶出するためUF膜分離装置の出口水(超純
水)の水質は安定せず、特に変動運転時にはT−Fe濃
度が高くなる。
【0036】これに対して、微粒子除去・イオン交換能
フィルタを設けた実施例1では、このフィルタで給水ポ
ンプからのFeコロイドないし微粒子が捕捉され、これ
がイオン化しても水中に溶出することはないため、熱交
換器以降のT−Fe濃度は比較例1に比べて格段に低
く、UF膜分離装置からのFeイオンの溶出の問題もな
いため、UF膜分離装置の出口水(超純水)の水質も著
しく良好で変動運転時でも安定している。
【0037】なお、実施例1で得られた超純水の残留イ
オン濃度は安定運転時も変動運転時も10ng/L以下
であり、比抵抗18.0MΩ・cm以上の高水質の超純
水を得ることができた。
【0038】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の二次純水製
造装置によれば、膜濾過装置の前段に微粒子除去・イオ
ン交換能フィルタを設けることにより、給水ポンプ、熱
交換器、UV照射装置等で発生した金属コロイドないし
微粒子を効率的に捕捉して除去することができ、しか
も、捕捉された金属コロイドないし微粒子がイオン化し
た場合でも、フィルタのイオン交換能で吸着して保持す
ることができるため、水中へのイオンの溶出も防止する
ことができる。
【0039】このため、本発明によればこの金属コロイ
ドないし微粒子によるイオンリークを防止して、残留イ
オン濃度10ng/L以下、比抵抗18.0MΩ・cm
以上の高水質の超純水を、水流の変動等に影響されるこ
となく安定に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の二次純水製造装置の実施の形態を示す
系統図である。
【図2】従来の超純水製造システムを示す系統図であ
る。
【符号の説明】
1 前処理装置 2 一次純水製造装置 3 二次純水製造装置 10 タンク 11 給水ポンプ 12 熱交換器 13 低圧UV酸化装置 14 非再生型混床式イオン交換装置 15 UF膜分離装置 16 ユースポイント 20 微粒子除去・イオン交換能フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 9/00 C02F 9/00 502G 502J 502K 502N 503 503B 504 504B 504E Fターム(参考) 4D006 GA06 GA07 JA53A JA56A JA66A JA67A JA67C KA01 KA72 KB04 KB11 KB14 PA01 PB02 PC02 4D025 AA04 AB21 AB22 AB23 BA08 BB01 DA04 DA10 4D037 AA03 AB11 BA18 CA02 CA03 CA15

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも上流側に給水ポンプを有し、
    下流側に膜濾過装置を有する二次純水製造装置におい
    て、該給水ポンプと膜濾過装置との間に、粒子径5μm
    以上の微粒子を除去可能なイオン交換能を有するフィル
    タを設置したことを特徴とする二次純水製造装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、給水ポンプ、熱交換
    器、紫外線照射装置、非再生型イオン交換装置、及び限
    外濾過膜分離装置をこの順で配置したことを特徴とする
    二次純水製造装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2において、該フィルタが
    イオン交換基を導入した精密濾過膜であることを特徴と
    する二次純水製造装置。
  4. 【請求項4】 請求項3において、該イオン交換基がカ
    チオン交換基であることを特徴とする二次純水製造装
    置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1330592C (zh) * 2003-03-14 2007-08-08 栗田工业株式会社 超纯水制造系统
JP2009112944A (ja) * 2007-11-06 2009-05-28 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置
JP2014217830A (ja) * 2013-04-11 2014-11-20 栗田工業株式会社 超純水製造システム及び超純水製造供給システム
JP2017172932A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 栗田工業株式会社 プレート式熱交換器及び超純水製造装置
WO2020105494A1 (ja) * 2018-11-22 2020-05-28 野村マイクロ・サイエンス株式会社 超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61167404A (ja) * 1985-01-18 1986-07-29 Yuasa Battery Co Ltd 分離モジユ−ル
JPH0217994A (ja) * 1988-07-07 1990-01-22 Toshiba Corp 超純水製造装置
JPH02222763A (ja) * 1989-02-21 1990-09-05 Shinko Pantec Co Ltd 加熱脱気装置を用いた超純水装置
JPH02280819A (ja) * 1989-04-24 1990-11-16 Asahi Chem Ind Co Ltd 多機能モジュール
JPH02293083A (ja) * 1989-05-02 1990-12-04 Asahi Chem Ind Co Ltd 超純水製造方法
JPH03293087A (ja) * 1990-04-11 1991-12-24 Japan Organo Co Ltd 超純水の製造方法
JPH0679273A (ja) * 1992-09-02 1994-03-22 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd 超純水の製造装置
JPH07195073A (ja) * 1994-01-06 1995-08-01 Japan Organo Co Ltd 超純水製造装置の洗浄方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61167404A (ja) * 1985-01-18 1986-07-29 Yuasa Battery Co Ltd 分離モジユ−ル
JPH0217994A (ja) * 1988-07-07 1990-01-22 Toshiba Corp 超純水製造装置
JPH02222763A (ja) * 1989-02-21 1990-09-05 Shinko Pantec Co Ltd 加熱脱気装置を用いた超純水装置
JPH02280819A (ja) * 1989-04-24 1990-11-16 Asahi Chem Ind Co Ltd 多機能モジュール
JPH02293083A (ja) * 1989-05-02 1990-12-04 Asahi Chem Ind Co Ltd 超純水製造方法
JPH03293087A (ja) * 1990-04-11 1991-12-24 Japan Organo Co Ltd 超純水の製造方法
JPH0679273A (ja) * 1992-09-02 1994-03-22 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd 超純水の製造装置
JPH07195073A (ja) * 1994-01-06 1995-08-01 Japan Organo Co Ltd 超純水製造装置の洗浄方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1330592C (zh) * 2003-03-14 2007-08-08 栗田工业株式会社 超纯水制造系统
JP2009112944A (ja) * 2007-11-06 2009-05-28 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造方法及び装置並びに電子部品部材類の洗浄方法及び装置
JP2014217830A (ja) * 2013-04-11 2014-11-20 栗田工業株式会社 超純水製造システム及び超純水製造供給システム
JP2017172932A (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 栗田工業株式会社 プレート式熱交換器及び超純水製造装置
WO2020105494A1 (ja) * 2018-11-22 2020-05-28 野村マイクロ・サイエンス株式会社 超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置
JP2020081957A (ja) * 2018-11-22 2020-06-04 野村マイクロ・サイエンス株式会社 超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置
KR20210091115A (ko) * 2018-11-22 2021-07-21 노무라마이크로사이엔스가부시키가이샤 초순수 제조 장치의 기동 방법 및 초순수 제조 장치
JP7171386B2 (ja) 2018-11-22 2022-11-15 野村マイクロ・サイエンス株式会社 超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置
KR102884193B1 (ko) 2018-11-22 2025-11-10 노무라마이크로사이엔스가부시키가이샤 초순수 제조 장치의 기동 방법 및 초순수 제조 장치

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