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JP2003006859A - Optical information recording method and optical information recording medium - Google Patents

Optical information recording method and optical information recording medium

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Publication number
JP2003006859A
JP2003006859A JP2001183923A JP2001183923A JP2003006859A JP 2003006859 A JP2003006859 A JP 2003006859A JP 2001183923 A JP2001183923 A JP 2001183923A JP 2001183923 A JP2001183923 A JP 2001183923A JP 2003006859 A JP2003006859 A JP 2003006859A
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JP
Japan
Prior art keywords
recording
optical information
information recording
layer
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001183923A
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Japanese (ja)
Other versions
JP2003006859A5 (en
Inventor
Eiko Suzuki
栄子 鈴木
Yoshiyuki Kageyama
喜之 影山
Masato Harigai
眞人 針谷
Hiroko Tashiro
浩子 田代
Yuji Miura
裕司 三浦
Hajime Yuzurihara
肇 譲原
Miki Mizutani
未来 水谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2001183923A priority Critical patent/JP2003006859A/en
Publication of JP2003006859A publication Critical patent/JP2003006859A/en
Publication of JP2003006859A5 publication Critical patent/JP2003006859A5/ja
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明では、従来使用されているマルチパル
ス部の1組のパルス長がTであるという記録ストラテジ
を、より高記録線速までそのまま利用した場合でも良好
な記録が可能な方法を提案するとともに、それに適した
記録媒体を提供することを目的とする。 【解決手段】 記録層の非晶質相と結晶相との可逆的な
相変化を利用し、記録、消去、バイアスの少なくとも3
値のパワーに変調されたレーザー光により非晶質マーク
を形成する光情報記録法であって、少なくともバイアス
パワーの値が記録線速に応じて可変であることを特徴と
する。
(57) Abstract: In the present invention, good recording can be performed even when a conventional recording strategy in which one set of pulse lengths of a multi-pulse section is T is used as it is at a higher recording linear velocity. It is an object of the present invention to propose a method capable of performing the above, and to provide a recording medium suitable for the method. SOLUTION: At least three of recording, erasing and biasing are performed by utilizing a reversible phase change between an amorphous phase and a crystalline phase of a recording layer.
An optical information recording method for forming an amorphous mark using a laser beam modulated to a value power, characterized in that at least a bias power value is variable according to a recording linear velocity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光情報記録に関し、
更に詳しくは、記録、消去、バイアスの少なくとも3値
のパワーに変調されたレーザ光による光情報記録方法及
びそれに使用する相変化型光情報記録媒体に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to optical information recording,
More specifically, the present invention relates to an optical information recording method using a laser beam modulated to at least three-valued power of recording, erasing, and bias, and a phase change type optical information recording medium used therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来技術として特開2000−3131
70号公報には、 ((SbX Te1-X Y Ge1-Y Z 1-Z 0.7≦x≦0.9 0.8≦y<1 0.88≦z<1 M:In及び/又はGa という相変化型光情報記録媒体を用い、マーク長変調方
式による記録方法が開示されている。ここで急冷条件を
作るためにバイアスパワーPbは小さい方が有利である
との考えから、Pb<Peと規定されているが、記録線
速との関係については何ら開示がない。
2. Description of the Related Art As a conventional technique, Japanese Patent Laid-Open No. 2000-3131.
The 70 JP, ((Sb X Te 1- X) Y Ge 1-Y) Z M 1-Z 0.7 ≦ x ≦ 0.9 0.8 ≦ y <1 0.88 ≦ z <1 M A recording method by a mark length modulation method using a phase change type optical information recording medium of: In and / or Ga is disclosed. Here, it is defined that Pb <Pe because it is advantageous that the bias power Pb is small in order to create the quenching condition, but there is no disclosure about the relationship with the recording linear velocity.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】半導体レーザービーム
照射により情報の記録・再生及び消去可能な光記録媒体
には、熱を利用して磁化の反転を行い記録消去する光磁
気記録方式と、結晶と非晶質の可逆的相変化を利用し記
録消去可能な相変化記録方式がある。後者は単一ビーム
オーバーライトが可能であり、ドライブ側の光学系も、
より単純であることを特徴とし、コンピューター関連や
映像音響に関する記録媒体として応用されている。
An optical recording medium capable of recording / reproducing and erasing information by irradiating a semiconductor laser beam has a magneto-optical recording system in which magnetization is reversed by utilizing heat and a crystal is used. There is a phase change recording method that can record and erase by utilizing an amorphous reversible phase change. The latter is capable of single beam overwriting, and the drive side optical system also
It is characterized by being simpler and has been applied as a recording medium for computers and audiovisual.

【0004】記録材料としては、非晶質を形成しやす
く、また、繰り返し記録によっても組成偏析が起きにく
いことからカルコゲンを中心とした各種化合物や共晶近
傍付近の組成が使用されている。実用化されているもの
としてはGeTeとSb2 Te 3 の混合物、及び、Sb
−Sb2 Te3 擬2元系共晶組成にAgやInを添加し
た系がある。
As a recording material, it is easy to form an amorphous material
Moreover, composition segregation does not easily occur even after repeated recording.
Therefore, various compounds centered on chalcogen and close to eutectic
A nearby composition is used. What has been put to practical use
As GeTe and Sb2Te 3Mixture of Sb and Sb
-Sb2Te3Ag and In are added to the pseudo binary eutectic composition.
There is a system.

【0005】相変化記録媒体は、今後、高密度画像記録
への用途が拡大すると予想されるが、そのためには高速
オーバーライトを実現する必要があり、現在、DVD−
ROMと同等の記録密度を有するような相変化型光記録
媒体では、DVD−ROMの再生記録線速の2倍以上で
記録可能な光記録媒体が開発されている。
The use of the phase change recording medium is expected to expand to high density image recording in the future, but for that purpose, it is necessary to realize high speed overwriting, and at present, the DVD-
As a phase-change type optical recording medium having a recording density equivalent to that of a ROM, an optical recording medium capable of recording at twice or more the reproducing / recording linear velocity of a DVD-ROM has been developed.

【0006】結晶相へ非晶質相のマークを記録する記録
方式として従来使用されている方式の例を図1に示し
た。レーザーパワーを記録パワーPw、バイアスパワー
Pb、消去パワーPeの3値に変調して記録・消去を行
う。スペース部ではPeを連続照射することにより既に
記録されているマークを結晶化して消去し、マーク部で
はこれに続いて、PwとPbからなるパルス列を照射す
る。Pwにより記録層は溶融し、その後Pbに変調する
ことにより急冷されるため、溶融領域は非晶質相とな
る。さらにPeに変調することにより、非晶質部の後端
を結晶化し、所定の長さのマークを形成する。
FIG. 1 shows an example of a system which has been conventionally used as a recording system for recording an amorphous phase mark on a crystal phase. Recording / erasing is performed by modulating the laser power into three values of recording power Pw, bias power Pb, and erasing power Pe. In the space portion, Pe is continuously irradiated to crystallize and erase the already recorded mark. In the mark portion, subsequently, a pulse train of Pw and Pb is irradiated. Since the recording layer is melted by Pw and then is rapidly cooled by being modulated to Pb, the melted region becomes an amorphous phase. Further, by modulating to Pe, the rear end of the amorphous portion is crystallized and a mark of a predetermined length is formed.

【0007】マークの時間的な長さをnT(n:整数、
T:基準クロック)と表すとき、nTマークを形成する
ための一番目のパルスと最後のパルスを除いた中間部
(以下、この中間部をマルチパルス部と称する)の一組
のパルスの長さは、従来、(Pwの照射時間)+(Pb
の照射時間)=Tとされることが一般的である。しか
し、記録線速が速くなり、基準クロックTが短くなる
と、一組のパルスのPwの照射時間とPbの照射時間の
比を変えたとしても、Pwの照射時間は短くなっていく
ため、Pwの上限が決まっている場合には記録層は十分
な領域で溶融することができず、所望のマークが形成さ
れないという不具合が生じる。Pwの上限は使用される
LDの性能で規定され、現状では波長660nmのLD
の場合は15〜16mWが上限となっている。これを回
避するためには、上部保護層を厚くする、反射放熱層を
薄くするなどして、従来使用されているディスク構造よ
り断熱構造とすることも考えられるが、熱が逃げにくい
と、隣接するトラック間のクロスイレースが大きくなっ
たり、トラック方向でも前後のマークやスペースの大き
さによって熱的な条件が異なってしまい、ジッターが大
きくなってしまう等の不具合が生じてしまう。また、マ
ルチパルス部の1組のパルス長がTであるという制約を
無くし、新たなストラテジパターンを適用することも考
えられるが、ドライブ側の制御系の開発の容易さを考慮
すると従来の記録ストラテジの延長で、より高記録線速
まで対応できることが望ましい。
The time length of the mark is nT (n: integer,
T: reference clock), a set of pulse lengths of an intermediate portion (hereinafter, this intermediate portion is referred to as a multi-pulse portion) excluding the first pulse and the last pulse for forming the nT mark Conventionally, (Pw irradiation time) + (Pb
(Irradiation time of) = T is generally set. However, if the recording linear velocity becomes faster and the reference clock T becomes shorter, the irradiation time of Pw becomes shorter even if the ratio of the irradiation time of Pw and the irradiation time of Pb of a set of pulses is changed. If the upper limit of is set, the recording layer cannot be melted in a sufficient area, and a desired mark is not formed. The upper limit of Pw is stipulated by the performance of the LD used, and at present, an LD with a wavelength of 660 nm is used.
In the case of, the upper limit is 15 to 16 mW. In order to avoid this, it is conceivable to make the upper protective layer thicker and the reflective heat dissipation layer thinner so as to have a heat insulating structure than the conventionally used disk structure. The cross-erase between the tracks becomes large, and the thermal condition varies depending on the size of the front and rear marks and spaces even in the track direction, resulting in a large jitter. It is also possible to remove the restriction that the pulse length of one set of the multi-pulse part is T and apply a new strategy pattern, but considering the ease of developing the control system on the drive side, the conventional recording strategy is used. It is desirable to be able to support higher recording linear velocities by extending the.

【0008】そこで本発明では、従来使用されているマ
ルチパルス部の1組のパルス長がTであるという記録ス
トラテジを、より高記録線速までそのまま利用した場合
でも良好な記録が可能な方法を提案し、また、それに適
した記録媒体を提供することを目的としている。
Therefore, according to the present invention, there is provided a method capable of excellent recording even when the recording strategy that a set of pulse lengths of the multi-pulse portion which is conventionally used is T is used as it is up to a higher recording linear velocity. The object is to propose and provide a recording medium suitable for it.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、下
記の手段により達成される。請求項1では記録層の非晶
質相と結晶相との可逆的な相変化を利用し、記録、消
去、バイアスの少なくとも3値のパワーに変調されたレ
ーザー光により非晶質マークを形成する光情報記録法で
あって、少なくともバイアスパワーの値が記録線速に応
じて可変であることを最も主要な特徴とする。
The above object of the present invention can be achieved by the following means. According to claim 1, the reversible phase change between the amorphous phase and the crystalline phase of the recording layer is utilized to form the amorphous mark by the laser light modulated to at least three-valued power of recording, erasing and bias. The optical information recording method is characterized by the fact that at least the value of bias power is variable according to the recording linear velocity.

【0010】第二に、上記第一の光情報記録法におい
て、記録線速V1、V2の大きさがV1>V2であると
き、記録線速V1の時のバイアスパワーPb1、記録線
速V2の時のバイアスパワーPb2は、Pb1≧Pb2
であることを主要な特徴とする。
Second, in the first optical information recording method, when the recording linear velocities V1 and V2 are V1> V2, the bias power Pb1 and the recording linear velocity V2 at the recording linear velocity V1 are set. Bias power Pb2 at the time is Pb1 ≧ Pb2
Is the main feature.

【0011】第三に、上記第一乃至第二の光情報記録法
において、記録線速10〜20m/sで記録する場合に
バイアスパワーの値が可変であることを主要な特徴とす
る。
Thirdly, in the above first to second optical information recording methods, the main feature is that the value of the bias power is variable when recording is performed at a recording linear velocity of 10 to 20 m / s.

【0012】第四に、上記第一乃至第三の光情報記録方
法で記録される光情報記録媒体は、記録消去時におい
て、非晶質マーク相が、隣接した結晶相からの結晶成長
による結晶化が進行することにより記録が消去される記
録層を用いることを最も主要な特徴とする。
Fourthly, in the optical information recording medium recorded by the above first to third optical information recording methods, the amorphous mark phase is crystallized by crystal growth from the adjacent crystal phase at the time of recording and erasing. The most main feature is to use a recording layer in which the recording is erased as the recording progresses.

【0013】第五に、上記第四の記録層はSb−Sb2
Te3 擬2元系共晶近傍組成Sb−Te合金をベースと
したものであることを主要な特徴とする。
Fifth, the fourth recording layer is Sb-Sb 2
The main feature is that it is based on a Te 3 pseudo binary eutectic composition Sb-Te alloy.

【0014】第六に、上記第五の記録層の原子比率0.
9以上が下記式で表されることを主要な特徴とする。 式 XαSbβTeγ X はIn又はGa、あるいはInとGaの混合物 α、β、γは原子比率を表し、以下の範囲にある。 0.01≦α≦0.1 0.60≦β≦0.90 γ=1−α−β
Sixth, the atomic ratio of the fifth recording layer is 0.
The main feature is that 9 or more are represented by the following formula. The formula XαSbβTeγ X represents In or Ga, or a mixture of In and Ga α, β, and γ represents an atomic ratio, and is in the following range. 0.01 ≦ α ≦ 0.1 0.60 ≦ β ≦ 0.90 γ = 1-α-β

【0015】第七に、上記第六の記録層は少なくともG
eを含むことを主要な特徴とする。
Seventh, the sixth recording layer has at least G
Its main feature is the inclusion of e.

【0016】第八に、上記第六の記録層は少なくともA
gを含むことを主要な特徴とする。
Eighth, the sixth recording layer has at least A
Its main feature is the inclusion of g.

【0017】第九に、上記第四乃至第八の光情報記録媒
体において、レーザービームの入射方向から順に、少な
くとも、第1保護層、記録層、第2保護層、反射放熱層
が透明基板上に形成され、反射放熱層としてはAg、ま
たは、Ag合金を用いたことを主要な特徴とする。
Ninth, in the fourth to eighth optical information recording media, at least the first protective layer, the recording layer, the second protective layer, and the reflective heat dissipation layer are arranged on the transparent substrate in order from the laser beam incident direction. The main feature is that Ag or an Ag alloy is used as the reflection and heat dissipation layer.

【0018】第十に、上記第九の光記録媒体において、
前記第2保護層は少なくともZnSとSiO2 との混合
物で形成され、第2保護層と反射放熱層との間にSiC
を主成分とする第3保護層を形成したことを主要な特徴
とする。
Tenth, in the above ninth optical recording medium,
The second protective layer is formed of a mixture of at least ZnS and SiO 2, and SiC is provided between the second protective layer and the reflection / heat dissipation layer.
The main feature is that a third protective layer containing as a main component is formed.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】従来は非晶質形成のためにバイア
スパワーPbはゼロに近い値が望ましいとされていた
が、上述した不具合を解消するために、本発明者らは、
記録線速が速い場合にはPbの値を大きくすることによ
りマーク形成に十分な領域が溶融され、かつ、非晶質形
成も妨げないため良好な記録ができることを見出した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Conventionally, it has been said that a bias power Pb value close to zero is desirable for forming an amorphous state. However, in order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have
It has been found that when the recording linear velocity is high, by increasing the value of Pb, a region sufficient for mark formation is melted, and amorphous formation is not hindered, so that good recording can be performed.

【0020】図2に記録線速17m/sで記録した場合
の熱シミュレーション、及び、マーク形状シミュレーシ
ョンの結果を示す。層構成は透明基板上に第1保護層と
して(ZnS)80(SiO2 20を76nm、Sb−S
2 Te3 共晶近傍組成Sb−Te合金をベースとした
記録層を16nm、第2保護層として(ZnS)80(S
iO2 20を10nm、反射放熱層としてSiC(4n
m)+Ag(140nm)をこの順番で積層したものを
想定している。グルーブは考慮していない。これに、波
長660nm,ビーム半径420nmのレーザー光を基
板側から入射し、パワーを変調しながら一定記録線速で
走査したときの光の吸収と熱伝導を数値計算により求
め、図には最高到達温度の分布として等高線のような曲
線で示した。この曲線で示してある中央部が融点に達し
た領域である。マーク形状シミュレーションは、熱シミ
ュレーションの結果を元に、溶融後冷却した部分に非晶
質相が形成され、その後、隣接する結晶相からの結晶成
長によって一部結晶化するというモデルに基づいて行っ
たものである。結晶成長は、300℃程度から徐々に進
行し、約550℃の融点近傍で成長速度が最大となるよ
うに設定した。結晶成長速度等のパラメーターを記録層
材料に合わせて適切に設定すれば、このようなモデル
で、TEM写真で観察できるようなマーク形状をほぼ模
擬できる。
FIG. 2 shows the results of thermal simulation and mark shape simulation when recording was performed at a recording linear velocity of 17 m / s. The layer structure is (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 of 76 nm and Sb-S as the first protective layer on the transparent substrate.
b 2 Te 3 eutectic composition Sb—Te alloy-based recording layer of 16 nm, second protective layer of (ZnS) 80 (S
iO 2) 20 to 10 nm, SiC as a reflective heat dissipation layer (4n
It is assumed that m) + Ag (140 nm) are laminated in this order. Groove is not considered. A laser beam with a wavelength of 660 nm and a beam radius of 420 nm is incident from the substrate side, and the absorption and heat conduction of the light when scanning at a constant recording linear velocity while modulating the power is obtained by numerical calculation, and the figure reaches the maximum. The temperature distribution is shown by a curve like a contour line. The central portion shown by this curve is the region where the melting point is reached. The mark shape simulation was performed based on the model that an amorphous phase is formed in the cooled and melted part based on the result of the thermal simulation, and then partly crystallized by crystal growth from the adjacent crystal phase. It is a thing. The crystal growth gradually proceeded from about 300 ° C., and the growth rate was set to be maximum near the melting point of about 550 ° C. If the parameters such as the crystal growth rate are appropriately set according to the recording layer material, the mark shape that can be observed in the TEM photograph can be almost simulated with such a model.

【0021】図2(a)は、Pb=0.1mWの場合で
ある。Peから続く1番目のパルスは温度が高くなる
が、一旦Pb=0.1mWが照射されて室温近傍まで冷
却した後に続く2番め以降のパルスでは、Pwが照射さ
れても時間が短いためあまり温度が高くならず、溶融領
域が小さい。そのため、形成されるマークは小さく、ま
た、途中で分断してしまっている。
FIG. 2A shows the case where Pb = 0.1 mW. The temperature of the first pulse following Pe rises, but the second and subsequent pulses after irradiation with Pb = 0.1 mW and cooling to near room temperature do not take much time even if Pw is applied. The temperature does not rise and the melting area is small. Therefore, the formed mark is small and is divided in the middle.

【0022】図2(b)は、Pw、Pb、Peの各照射
時間は(a)と同じで、Pb=2mWとした場合のシミ
ュレーション結果である。Pb照射中の温度低下が少な
いために第2パルス以降も短時間で融点以上まで昇温で
きていることがわかる。このため、マークも途中で分断
することなく形成できている。記録層の結晶成長速度に
もよるが、Pbを大きくすることにより、一旦形成され
た非晶質相の一部が結晶化してしまうが、記録線速が速
い場合にはその度合いは小さく、Pbの値を適切に設定
すれば、従来のストラテジパターンの延長で高記録線速
でも加熱不足にならずに十分な変調度で記録が可能にな
る。実際に記録した結果については後述の実施例で示す
が、変調度が大きくなるにつれてジッターも向上し、良
好な記録が行えることがわかった。
FIG. 2B shows a simulation result when the irradiation times of Pw, Pb, and Pe are the same as those in (a) and Pb = 2 mW. It can be seen that, since the temperature drop during Pb irradiation is small, the temperature can be raised to the melting point or higher in a short time even after the second pulse. Therefore, the mark can be formed without being divided. Although depending on the crystal growth rate of the recording layer, a part of the amorphous phase once formed is crystallized by increasing Pb, but when the recording linear velocity is high, the degree is small. If the value of is set appropriately, the conventional strategy pattern can be extended and recording can be performed with sufficient modulation without causing insufficient heating even at high recording linear velocity. The results of actual recording will be shown in Examples described later, but it was found that as the degree of modulation increases, the jitter also improves, and good recording can be performed.

【0023】相変化記録層として実用化されている材料
にはSb−Sb2 Te3 共晶組成近傍Sb−Te合金を
ベースとした記録層の他、GeTeとSb2 Te3 の混
合物をベースとした材料が知られている。記録消去時
に、結晶化は、前者は非晶質相と結晶相との界面からの
結晶成長により進行するのに対し、後者は非晶質相内部
に核が形成された後、核からの結晶成長という形で進行
する。これは、両者のTEM写真の結晶粒の観察から推
測できることである。後者の核生成により結晶化が進行
するタイプの材料を用いた場合にも、高記録線速で記録
する場合にはPbの値を大きくすることにより溶融領域
が広がりより大きなマークが形成でき、変調度を大きく
できるという利点がみられる。しかし、変調度が大きく
なってもジッターはあまり向上しない。これは、結晶成
長でのみ結晶化が進行する場合には、マーク端部の位置
は融点近傍の結晶成長速度でのみ決まるために制御が比
較的容易であるのに対し、核形成から結晶化が進行する
場合には、比較的低温部における核形成確率と比較的高
温部における結晶成長速度、また、それらの履歴に左右
されるためマーク端部の位置を制御するのが難しいため
であると考えられる。従って、記録層材料としては隣接
した結晶相からの結晶成長により結晶化が進行するタイ
プの材料の方が単純なストラテジを適用できる。
Materials practically used as the phase change recording layer include a recording layer based on Sb-Sb 2 Te 3 eutectic composition Sb-Te alloy as a base, and a mixture of GeTe and Sb 2 Te 3 as a base. The materials that have been made are known. During recording and erasing, the crystallization progresses by the crystal growth from the interface between the amorphous phase and the crystalline phase in the former, whereas the latter crystallizes from the nucleus after the nuclei are formed inside the amorphous phase. It progresses in the form of growth. This can be inferred from the observation of crystal grains in both TEM photographs. Even when using the latter type of material in which crystallization progresses due to nucleation, when recording at a high recording linear velocity, by increasing the value of Pb, the melting region can be expanded and a larger mark can be formed. The advantage is that the degree can be increased. However, even if the degree of modulation increases, the jitter does not improve so much. This is because when the crystallization progresses only by crystal growth, the position of the mark edge is determined only by the crystal growth rate near the melting point, so control is relatively easy, whereas crystallization from nucleation occurs. It is thought that it is difficult to control the position of the edge of the mark when proceeding, because it depends on the nucleation probability in the relatively low temperature part, the crystal growth rate in the relatively high temperature part, and their history. To be Therefore, as the recording layer material, a simpler strategy can be applied to the type of material in which crystallization progresses by crystal growth from the adjacent crystal phase.

【0024】隣接した結晶相からの結晶成長により結晶
化が進行するタイプの材料としては、Sb−Sb2 Te
3 共晶近傍組成Sb−Te合金をベースとした系の他に
InとSb2 Te3 の混合物をベースとした系も知られ
ている(Jpn.J.Appl.Phys.、34、1
56(1988)など)。しかし、繰り返し記録特性の
観点からSb−Sb2 Te3 共晶組成近傍Sb−Te合
金をベースとした系を用いる方がよい。
As a type of material in which crystallization progresses by crystal growth from adjacent crystal phases, Sb-Sb 2 Te
A system based on a mixture of In and Sb 2 Te 3 is also known in addition to the system based on Sb—Te alloy having a composition close to 3 eutectic (Jpn. J. Appl. Phys., 34, 1).
56 (1988)). However, from the viewpoint of repetitive recording characteristics, it is better to use a system based on an Sb-Sb 2 Te 3 eutectic composition Sb-Te alloy.

【0025】Sb−Sb2 Te3 擬2元系は、Sb70
30近傍に共晶点を持ち、このSb−Sb2 Te3 擬2
元系共晶近傍組成のSb−Teは繰り返し記録特性に優
れた相変化記録材料である。しかし、非晶質相の安定性
が悪く、70℃50時間程度の保存でマークは全て消失
してしまう。また、Sb−Teのみでディスクを作成
し、記録を試みると、0.267μm/bitの記録密
度では、記録線速によらす、ジッター(ここでは、data
to clock jitter σをTで規格化した値をジッターと
呼ぶ)を10%以下にすることはできず、また、このと
きのモジュレーションも50%以上にはならなかった。
これに対してIn、あるいは、Gaを添加すると0.2
67μm/bitの密度でジッターは10%以下にな
り、モジュレーションも60%以上を確保することが可
能であった。In、あるいはGaには記録感度を向上さ
せる効果があり、記録密度を高くできる。また、結晶化
温度も高める効果もあるため保存安定性も向上する。I
n、あるいはGaを添加した系では70℃50時間の保
存では、ジッターやモジュレーションに変化はみられな
かった。このとき、In、あるいはGaのSb−Teに
対する添加量は1%より少ないと効果は現れず、10%
を越えるとオーバーライト特性が悪くなる、初期結晶化
後の反射率が均一にならないなどの弊害があった。ま
た、高速オーバーライトのためには結晶成長速度も速く
なければならす、適切な結晶成長を持つようにIn、ま
たは、GaとSb、Teの組成比を調整する必要があ
る。In、またはGaが1〜10%の場合、Sbは60
〜90%であれば適切な結晶成長速度を有する良好な特
性のディスクが作成できた。
The Sb-Sb 2 Te 3 pseudo binary system is Sb 70 T
This Sb-Sb 2 Te 3 pseudo-2 has a eutectic point near e 30
Sb-Te having a composition near the eutectic eutectic is a phase change recording material having excellent repetitive recording characteristics. However, the stability of the amorphous phase is poor, and all marks disappear after storage at 70 ° C. for about 50 hours. Further, when a disc is made of only Sb-Te and recording is attempted, at a recording density of 0.267 μm / bit, a jitter (here, data
The value obtained by normalizing to clock jitter σ with T is called jitter) cannot be set to 10% or less, and the modulation at this time is not set to 50% or more.
On the other hand, when In or Ga is added, 0.2
At a density of 67 μm / bit, the jitter was 10% or less, and the modulation could be 60% or more. In or Ga has the effect of improving the recording sensitivity and can increase the recording density. Further, since it also has the effect of increasing the crystallization temperature, storage stability is also improved. I
In the system to which n or Ga was added, there was no change in jitter or modulation after storage at 70 ° C. for 50 hours. At this time, if the addition amount of In or Ga with respect to Sb-Te is less than 1%, the effect does not appear and 10%
If it exceeds, there are problems that the overwrite property is deteriorated and the reflectance after the initial crystallization is not uniform. Further, the crystal growth rate must be high for high-speed overwriting, and it is necessary to adjust the composition ratio of In, Ga, Sb, or Te so as to have appropriate crystal growth. When In or Ga is 1 to 10%, Sb is 60
A disk having good characteristics having an appropriate crystal growth rate could be produced if the content was ˜90%.

【0026】さらに、InあるいはGa−Sb−Teに
対してGeを添加すると保存安定性は一層向上し、Ag
を添加すると初期化が容易になった。ただし、Inある
いはGa−Sb−Teに添加されるAgやGeは、合計
で10%より少なくする必要がある。これより多くなる
と記録感度、及び、オーバーライト特性の低下を招く。
Furthermore, when Ge is added to In or Ga-Sb-Te, the storage stability is further improved, and
The addition facilitated the initialization. However, the total amount of Ag and Ge added to In or Ga-Sb-Te must be less than 10%. If it is more than this range, the recording sensitivity and the overwrite characteristic are deteriorated.

【0027】[実施例]以下に、DVD−ROMと再生
互換のある構造を有する光記録媒体を用いた場合のバイ
アスパワーの効果を示す実施例を示す。 実施例1 光記録媒体の基本的な構成は、直径12cm、厚さ0.
6mm、トラックピッチ0.74μmの案内溝付きポリ
カーボネートディスク基板上に第1保護層、記録層、第
2保護層、反射放熱層を有し、さらに、反射放熱層上に
形成された有機保護膜を介して直径12cm、厚さ0.
6mmのポリカーボネートディスクを接着したものであ
る。基板側からレーザー光を照射して記録再生を行う。
[Embodiment] An embodiment showing the effect of the bias power when an optical recording medium having a structure compatible with a DVD-ROM is used will be described below. Example 1 The basic structure of the optical recording medium is 12 cm in diameter and 0.
The first protective layer, the recording layer, the second protective layer, and the reflection / heat dissipation layer are formed on a polycarbonate disc substrate with a guide groove having a track pitch of 6 mm and a track pitch of 0.74 μm, and an organic protective film formed on the reflection / heat dissipation layer is further provided. With a diameter of 12 cm and a thickness of 0.
A 6 mm polycarbonate disk is adhered. Recording and reproduction is performed by irradiating a laser beam from the substrate side.

【0028】本実施例の場合には、透明基板としてポリ
カーボネートを用い、第1保護層として(ZnS)80
(SiO2 )20を76nm、記録層としてSb−Sb
2 Te3 共晶組成近傍Sb−Te合金をベースとし、G
a、及び、Geを各3原子%ずつ添加したものを17n
m、第2保護層として(ZnS)80(SiO2 20を1
0nm、反射放熱層としてAgを140nm、Agと第
2保護層との間にAgの硫化を防ぐためにSiCを4n
mを、それぞれスパッタリングにより積層した。
In the case of this embodiment, polycarbonate is used as the transparent substrate and (ZnS) 80 is used as the first protective layer.
(SiO 2 ) 20 76 nm, Sb-Sb as a recording layer
2 Te 3 near eutectic composition Based on Sb-Te alloy, G
17n with a and 3 atomic% of Ge added
m, (ZnS) 80 (SiO 2 ) 20 as the second protective layer
0 nm, 140 nm of Ag as a reflection and heat dissipation layer, and 4 n of SiC to prevent sulfuration of Ag between Ag and the second protective layer.
m were laminated by sputtering.

【0029】評価は、波長660nm、NA=0.65
のピックアップヘッドを用い、線密度0.267μm/
bit、EFM+変調方式でランダムパターンを記録
し、ジッターσ/T、及び、変調度を調べることにより
行った。再生は全て3.5m/sで行った。
The evaluation was carried out at a wavelength of 660 nm and NA = 0.65.
Linear density of 0.267 μm /
The random pattern was recorded by the bit and EFM + modulation methods, and the jitter σ / T and the modulation degree were examined. All reproduction was performed at 3.5 m / s.

【0030】比較例 Pb=0.1mWとし、記録線速を変えた場合のジッタ
ー及び変調度を評価した結果を図3に示す。記録ストラ
テジ、Pw、Peは各記録線速で最適となるようにその
都度調整しているが、記録線速が14m/s程度から急
減にジッターが悪化してしまった。変調度も14m/s
程度から急激に小さくなっていることから、加熱不足に
よりマークが書けなくなっているものと推測される。
FIG. 3 shows the results of evaluation of the jitter and the degree of modulation when the recording linear velocity was changed with Pb = 0.1 mW as a comparative example. The recording strategy, Pw, and Pe are adjusted each time so as to be optimal at each recording linear velocity, but the jitter deteriorated from a recording linear velocity of about 14 m / s to a sharp decrease. Modulation rate is also 14m / s
It is presumed that the mark could not be written due to insufficient heating because the size decreased rapidly from the extent.

【0031】実施例2 記録線速7m/s、及び10.5m/sのときPb=
0.1mW、14.5m/sのときPb=0.8mW、
17m/sのとき1.2mW、20m/sのとき1.8
mWとした場合の結果を図4に示す。比較例で見られた
高記録線速側で急激にジッター、モジュレーションが悪
化するという現象が改善されている。高記録線速側でP
bを大きくすることにより、加熱不足を防ぐことができ
たものと推測される。
Example 2 Pb = at a recording linear velocity of 7 m / s and 10.5 m / s
When 0.1 mW and 14.5 m / s, Pb = 0.8 mW,
1.2 mW at 17 m / s, 1.8 at 20 m / s
The result in the case of mW is shown in FIG. The phenomenon that the jitter and the modulation are abruptly deteriorated on the high recording linear velocity side seen in the comparative example is improved. P on the high recording linear velocity side
It is presumed that insufficient heating could be prevented by increasing b.

【0032】また、SbやGaの比率など、記録層組成
が異なる同じ層構成のディスクについても同様の評価を
種々実施した結果、Pbを大きくすると効果があるのは
概ね記録線速が10〜20m/sのときであることがわ
かった。記録線速がこれより遅い場合には、Pbを大き
くすると冷却不足となってしまい、変調度が小さくなっ
てしまうため、Pbは従来通りなるべく0に近い値とす
ることが望ましい。20m/sより速い場合には、Pb
を大きくしても従来のストラテジでは良好な記録が行え
なかった。
Further, as a result of conducting various similar evaluations with respect to disks having the same layer structure having different recording layer compositions such as the ratios of Sb and Ga, it was found that increasing Pb is effective in that the recording linear velocity is approximately 10 to 20 m. It was found that the time was / s. When the recording linear velocity is slower than this, if Pb is increased, cooling becomes insufficient and the modulation degree decreases. Therefore, it is desirable that Pb be as close to 0 as possible. If it is faster than 20 m / s, Pb
Even if the value is increased, good recording cannot be performed with the conventional strategy.

【0033】また、反射放熱層をAl合金とし、第2保
護層の膜厚を20nmとした場合についても評価した
が、Pbを調整して変調度が大きくなる条件であっても
ジッターを10%以下とすることができなかった。これ
は、反射放熱層がAgまたはAg合金の場合に比較して
放熱されにくくなっているため、前後のマークやスペー
スの大きさによって、熱的な条件が異なってしまい、ジ
ッターが大きくなってしまっているものと考えられる。
The evaluation was also made for the case where the reflection / heat dissipation layer was made of Al alloy and the thickness of the second protective layer was set to 20 nm. Jitter was 10% even under the condition that Pb was adjusted to increase the degree of modulation. Could not be: This is because it is more difficult for heat to be dissipated in the reflective heat dissipation layer than in the case of Ag or Ag alloy, and therefore the thermal conditions differ depending on the size of the marks and spaces before and after, and the jitter increases. It is considered that

【0034】反射放熱層としてAg、または、Ag合金
を用い、第2保護層としてZnS−SiO2 を用いる時
には、間にAgの硫化を防止する層が必要である。硫化
防止層としてZnO、SiNxなど数種類の材料を評価
したが、高温加速試験の結果から、SiCが硫化防止層
として優れていることがわかった。
When Ag or Ag alloy is used as the reflection / heat dissipation layer and ZnS-SiO 2 is used as the second protective layer, a layer for preventing sulfuration of Ag is necessary. Several kinds of materials such as ZnO and SiNx were evaluated as the sulfurization preventing layer, and it was found from the results of the high temperature accelerated test that SiC was excellent as the sulfurization preventing layer.

【0035】以上、従来一般的に用いられているマルチ
パルス部の1組のパルス長がTであるという記録ストラ
テジをより高記録線速で適用できるようにする方法やそ
のための媒体について述べたが、これらはマルチパルス
部の1組のパルス長がTであるという場合に限定される
わけではなく、加熱不足により良好な非晶質マークが形
成できない場合には同様に適用してもよい。
In the above, a method and a medium for making it possible to apply a recording strategy in which a set of pulse lengths of a multi-pulse part which has been generally used conventionally is T at a higher recording linear velocity have been described. However, these are not limited to the case where the pulse length of one set of the multi-pulse part is T, and may be similarly applied when a good amorphous mark cannot be formed due to insufficient heating.

【0036】[0036]

【発明の効果】請求項1記載の、記録層の非晶質相と結
晶相との可逆的な相変化を利用し、記録、消去、バイア
スの少なくとも3値のパワーに変調されたレーザー光に
より非晶質マークを形成する光情報記録法で、少なくと
もバイアスパワーの値が記録線速に応じて可変であるこ
とを特徴とする光情報記録方法によれば、従来使用され
ているマルチパルス部の1組のパルス長が基準クロック
であるという記録ストラテジを、より高記録線速までそ
のまま利用した場合でも良好な記録が可能となる。
According to the first aspect of the present invention, the reversible phase change between the amorphous phase and the crystalline phase of the recording layer is utilized, and the laser light modulated into at least three-valued power of recording, erasing and bias is used. In the optical information recording method for forming an amorphous mark, at least the value of the bias power is variable according to the recording linear velocity. Good recording is possible even when the recording strategy in which one set of pulse lengths is the reference clock is used as it is up to a higher recording linear velocity.

【0037】請求項2記載の、請求項1の光情報記録法
において、記録線速V1、V2の大きさがV1>V2で
あるとき、記録線速V1の時のバイアスパワーPb1、
記録線速V2の時のバイアスパワーPb2は、Pb1≧
Pb2であることを特徴とする光情報記録方法によれ
ば、高記録線速になった場合に生じる加熱不足を解消で
きる。
In the optical information recording method according to claim 2, when the recording linear velocities V1 and V2 are V1> V2, the bias power Pb1 at the recording linear velocity V1 is obtained.
The bias power Pb2 at the recording linear velocity V2 is Pb1 ≧
According to the optical information recording method characterized by being Pb2, it is possible to eliminate insufficient heating that occurs when the recording linear velocity is high.

【0038】請求項3記載の、請求項1又は2の光情報
記録法において、記録線速10〜20m/sで記録する
場合にバイアスパワーの値が可変であることを特徴とす
る光情報記録方法によれば、この記録線速でバイアスパ
ワーPbの値を可変とすることで良好なマークを形成で
きる。
In the optical information recording method according to claim 1 or 2, the value of the bias power is variable when recording at a recording linear velocity of 10 to 20 m / s. According to the method, a good mark can be formed by making the value of the bias power Pb variable at this recording linear velocity.

【0039】請求項4記載の、請求項1乃至3のいずれ
か1項記載の光情報記録方法で記録される光情報記録媒
体は、記録消去時において、非晶質マーク相が、隣接し
た結晶相からの結晶成長による結晶化が進行することに
より記録が消去される記録層を用いることを特徴とした
光情報記録媒体によれば、結晶化の制御が容易であるの
で単純なストラテジが適用できる。
The optical information recording medium recorded by the optical information recording method according to any one of claims 1 to 3 has a crystal structure in which amorphous mark phases are adjacent to each other during recording and erasing. According to the optical information recording medium characterized by using the recording layer in which the recording is erased by the progress of the crystallization due to the crystal growth from the phase, the crystallization can be easily controlled, and thus a simple strategy can be applied. .

【0040】請求項5記載の、請求項4記載の記録層は
Sb−Sb2 Te3 擬2元系共晶近傍組成Sb−Te合
金をベースとしたものであることを特徴とする光情報記
録媒体によれば、繰り返し記録性に優れた記録媒体を提
供できる。
The optical recording layer according to claim 5 or 4 is characterized in that the recording layer is based on a Sb-Sb 2 Te 3 pseudo binary eutectic composition Sb-Te alloy. According to the medium, it is possible to provide a recording medium having excellent repeatability.

【0041】請求項6記載の、請求項5記載の記録層の
原子比率0.9以上が下記式で表されることを特徴とす
る光情報記録媒体によれば、高感度で高記録密度が可能
な光記録媒体を提供できる。 式 XαSbβTeγ X はIn又はGa、あるいはInとGaの混合物 α、β、γは原子比率を表し、以下の範囲にある。 0.01≦α≦0.1 0.60≦β≦0.90 γ=1−α−β
According to the optical information recording medium of the sixth aspect, wherein the atomic ratio of the recording layer of 0.9 or more is represented by the following formula, the optical information recording medium has high sensitivity and high recording density. It is possible to provide a possible optical recording medium. The formula XαSbβTeγ X represents In or Ga, or a mixture of In and Ga α, β, and γ represents an atomic ratio, and is in the following range. 0.01 ≦ α ≦ 0.1 0.60 ≦ β ≦ 0.90 γ = 1-α-β

【0042】請求項7記載の、請求項6記載の記録層は
少なくともGeを含むことを特徴とした光情報記録媒体
によれば、非晶質マークの保存安定性に優れた光記録媒
体を提供できる。
According to the optical information recording medium of the seventh and sixth aspects, wherein the recording layer contains at least Ge, an optical recording medium excellent in storage stability of amorphous marks is provided. it can.

【0043】請求項8記載の、請求項6記載の記録層は
少なくともAgを含むことを特徴とした光情報記録媒体
によれば、初期結晶化後の反射率の均一性に優れた光記
録媒体を提供できる。
According to the optical information recording medium of the eighth aspect or the sixth aspect, wherein the recording layer contains at least Ag, the optical recording medium is excellent in the uniformity of the reflectance after the initial crystallization. Can be provided.

【0044】請求項9記載の、レーザービームの入射方
向から順に、少なくとも、第1保護層、記録層、第2保
護層、反射放熱層が透明基板上に形成され、反射放熱層
としてはAg、または、Ag合金を用いたことを特徴と
する請求項4〜8記載の光情報記録媒体によれば、ジッ
ターの小さい光記録媒体を提供できる。
According to a ninth aspect, at least a first protective layer, a recording layer, a second protective layer, and a reflection heat dissipation layer are formed on a transparent substrate in order from the laser beam incident direction, and the reflection heat dissipation layer is Ag, Alternatively, according to the optical information recording medium of claims 4 to 8, characterized in that an Ag alloy is used, an optical recording medium with small jitter can be provided.

【0045】請求項10記載の、前記第2保護層は少な
くともZnSとSiO2 との混合物で形成され、第2保
護層と反射放熱層との間にSiCを主成分とする第3保
護層を形成したことを特徴とする請求項9記載の光記録
媒体によれば、反射放熱層の保存安定性に優れた光記録
媒体を提供できる。
According to a tenth aspect of the present invention, the second protective layer is formed of at least a mixture of ZnS and SiO 2, and a third protective layer containing SiC as a main component is provided between the second protective layer and the reflection / heat dissipation layer. According to the optical recording medium of claim 9, which is formed, it is possible to provide an optical recording medium having excellent storage stability of the reflection / heat dissipation layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来技術で使用されている記録方式の例であ
る。
FIG. 1 is an example of a recording method used in a conventional technique.

【図2】記録線速17m/sで記録した場合の熱シミュ
レーション、及び、マーク形状シミュレーションの結果
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing the results of thermal simulation and mark shape simulation when recording was performed at a recording linear velocity of 17 m / s.

【図3】Pb=0.1mWとし、記録線速を変えた場合
のジッター及び変調度を評価した結果を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing the results of evaluation of jitter and modulation when Pb = 0.1 mW and the recording linear velocity is changed.

【図4】記録線速7m/s、及び10.5m/sのとき
Pb=0.1mW、14.5m/sのときPb=0.8
mW、17m/sのとき1.2mW、20m/sのとき
1.8mWとした場合の結果を示す図である。
FIG. 4 shows Pb = 0.1 mW at a recording linear velocity of 7 m / s and 10.5 m / s and Pb = 0.8 at a recording linear velocity of 14.5 m / s.
It is a figure which shows the result at the time of 1.2 mW in case of mW, 17 m / s, and 1.8 mW in case of 20 m / s.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G11B 7/24 G11B 7/24 535H 535 538E 538 B41M 5/26 X (72)発明者 田代 浩子 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 三浦 裕司 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 譲原 肇 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 (72)発明者 水谷 未来 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 2H111 EA04 EA12 EA23 FA01 FA12 FA14 FA18 FA23 FA25 FA27 FA29 FB05 FB09 FB12 FB17 FB21 FB30 5D029 JA01 LA13 LA17 LB11 MA13 5D090 AA01 CC01 CC14 FF21 KK03Front page continuation (51) Int.Cl. 7 identification code FI theme code (reference) G11B 7/24 G11B 7/24 535H 535 538E 538 B41M 5/26 X (72) Inventor Hiroko Tashiro Nakamagome, Ota-ku, Tokyo 1-3-6 Ricoh Co., Ltd. (72) Inventor Yuji Miura 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo In-house Ricoh Co., Ltd. (72) Hajime Jobara 1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo No. 6 in Ricoh Co., Ltd. (72) Inventor Mirai Mizutani 1-3-6 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo F-term in Ricoh Co., Ltd. (reference) 2H111 EA04 EA12 EA23 FA01 FA12 FA14 FA18 FA23 FA25 FA27 FA29 FB05 FB09 FB12 FB17 FB21 FB30 5D029 JA01 LA13 LA17 LB11 MA13 5D090 AA01 CC01 CC14 FF21 KK03

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 記録層の非晶質相と結晶相との可逆的な
相変化を利用し、記録、消去、バイアスの少なくとも3
値のパワーに変調されたレーザー光により非晶質マーク
を形成する光情報記録法であって、少なくともバイアス
パワーの値が記録線速に応じて可変であることを特徴と
する光情報記録方法。
1. A reversible phase change between an amorphous phase and a crystalline phase of a recording layer is used to record, erase, and bias at least 3.
An optical information recording method for forming an amorphous mark by a laser beam modulated to a value power, wherein at least a bias power value is variable according to a recording linear velocity.
【請求項2】 請求項1記載の光情報記録法において、
記録線速V1、V2の大きさがV1>V2であるとき、
記録線速V1の時のバイアスパワーPb1、記録線速V
2の時のバイアスパワーPb2は、Pb1≧Pb2であ
ることを特徴とする光情報記録方法。
2. The optical information recording method according to claim 1,
When the recording linear velocities V1 and V2 are V1> V2,
Bias power Pb1 at recording linear velocity V1, recording linear velocity V
The optical information recording method is characterized in that the bias power Pb2 at the time of 2 is Pb1 ≧ Pb2.
【請求項3】 請求項1又は2記載の光情報記録法にお
いて、記録線速10〜20m/sで記録する場合にバイ
アスパワーの値が可変であることを特徴とする光情報記
録方法。
3. The optical information recording method according to claim 1, wherein the value of bias power is variable when recording is performed at a recording linear velocity of 10 to 20 m / s.
【請求項4】 請求項1乃至3のいずれか1項記載の光
情報記録方法で記録される光情報記録媒体は、記録消去
時において、非晶質マーク相が、隣接した結晶相からの
結晶成長による結晶化が進行することにより記録が消去
される記録層を用いることを特徴とした光情報記録媒
体。
4. The optical information recording medium recorded by the optical information recording method according to claim 1, wherein the amorphous mark phase is a crystal from an adjacent crystal phase during recording and erasing. An optical information recording medium characterized by using a recording layer in which recording is erased by progress of crystallization due to growth.
【請求項5】 請求項4記載の記録層はSb−Sb2
3 擬2元系共晶近傍組成Sb−Te合金をベースとし
たものであることを特徴とする光情報記録媒体。
5. The recording layer according to claim 4 is Sb-Sb 2 T.
The optical information recording medium, characterized in that the e 3 pseudo binary eutectic vicinity composition Sb-Te alloy is obtained based.
【請求項6】 請求項5記載の記録層の原子比率0.9
以上が下記式1で表されることを特徴とした光情報記録
媒体。 XαSbβTeγ ・・・(1) X はIn又はGa、あるいはInとGaの混合物 α、β、γは原子比率を表し、以下の範囲にある。 0.01≦α≦0.1 0.60≦β≦0.90 γ=1−α−β
6. The atomic ratio of the recording layer according to claim 5, which is 0.9.
An optical information recording medium characterized by the above being represented by the following formula 1. XαSbβTeγ (1) X represents In or Ga, or a mixture of In and Ga α, β, and γ represents an atomic ratio, and is in the following range. 0.01 ≦ α ≦ 0.1 0.60 ≦ β ≦ 0.90 γ = 1-α-β
【請求項7】 請求項6記載の記録層は少なくともGe
を含むことを特徴とした光情報記録媒体。
7. The recording layer according to claim 6 is at least Ge.
An optical information recording medium comprising:
【請求項8】 請求項6記載の記録層は少なくともAg
を含むことを特徴とした光情報記録媒体。
8. The recording layer according to claim 6 is at least Ag.
An optical information recording medium comprising:
【請求項9】 レーザービームの入射方向から順に、少
なくとも、第1保護層、記録層、第2保護層、反射放熱
層が透明基板上に形成され、反射放熱層としてはAg、
または、Ag合金を用いたことを特徴とする請求項4〜
8記載の光情報記録媒体。
9. At least a first protective layer, a recording layer, a second protective layer, and a reflective heat radiation layer are formed on a transparent substrate in order from the laser beam incident direction, and the reflective heat radiation layer is Ag,
Alternatively, an Ag alloy is used.
8. The optical information recording medium described in 8.
【請求項10】 前記第2保護層は少なくともZnSと
SiO2 との混合物で形成され、第2保護層と反射放熱
層との間にSiCを主成分とする第3保護層を形成した
ことを特徴とする請求項9記載の光情報記録媒体。
10. The second protective layer is formed of a mixture of at least ZnS and SiO 2, and a third protective layer containing SiC as a main component is formed between the second protective layer and the reflection / heat dissipation layer. The optical information recording medium according to claim 9, which is characterized in that.
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