JP2003005175A - 半透過型液晶表示装置 - Google Patents
半透過型液晶表示装置Info
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- JP2003005175A JP2003005175A JP2001193740A JP2001193740A JP2003005175A JP 2003005175 A JP2003005175 A JP 2003005175A JP 2001193740 A JP2001193740 A JP 2001193740A JP 2001193740 A JP2001193740 A JP 2001193740A JP 2003005175 A JP2003005175 A JP 2003005175A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】透過モードにて顕著な透過率が向上し、コント
ラストが改善され、色再現性が高く、色純度が高くな
り、反射モードと透過モードの色再現性の両立度を向上
させる。 【解決手段】半透過型液晶表示装置17において、ガラ
ス基板2上に凸部を多数配列した凸状配列群18を形成
し、その上に光通過孔26を有する半透過膜19を被覆
し、さらにカラーフィルタ6、オーバーコート層7、透
明電極8とを形成している。また、ガラス基板3上に透
明電極10と、配向膜11とを順次形成している。そし
て、凸状配列群18の膜厚を0.4〜2.0μmに設定
するとともに、半透過膜19の光通過孔26を形成した
部位に対応する凸状配列群18の樹脂部分を切欠いて切
欠部pを設ける。
ラストが改善され、色再現性が高く、色純度が高くな
り、反射モードと透過モードの色再現性の両立度を向上
させる。 【解決手段】半透過型液晶表示装置17において、ガラ
ス基板2上に凸部を多数配列した凸状配列群18を形成
し、その上に光通過孔26を有する半透過膜19を被覆
し、さらにカラーフィルタ6、オーバーコート層7、透
明電極8とを形成している。また、ガラス基板3上に透
明電極10と、配向膜11とを順次形成している。そし
て、凸状配列群18の膜厚を0.4〜2.0μmに設定
するとともに、半透過膜19の光通過孔26を形成した
部位に対応する凸状配列群18の樹脂部分を切欠いて切
欠部pを設ける。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半透過型液晶表示装
置に関するものである。 【0002】 【従来の技術】近年、バックライトを使用しない反射型
液晶表示装置の技術が開発されており、薄型、軽量およ
び低消費電力化に優れている。 【0003】反射型液晶表示装置には、後方に配設した
基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設し
た基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と(特開平8
−201802号参照)、後方に配設した基板に対し凹
凸形状の光反射層を形成した散乱反射型とがあるが(特
開平4−243226号参照)、双方の型ともにバック
ライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用してい
る。 【0004】たとえば、TNモードやSTNモードの散
乱反射型液晶表示装置1を図25に示す。 【0005】対向するコモン側のガラス基板2とセグメ
ント側のガラス基板3において、ガラス基板2の上にフ
ォトリソ工程により透明樹脂からなるほぼ半球状の凸部
を多数ランダムに配列してなる凸状配列群4を形成し、
この凸状配列群4上にAlなどの金属からなる光反射膜
5を被覆し、さらに凸状配列群4上に画素ごとに配した
カラーフィルタ6を形成し、カラーフィルタ6の上にオ
ーバーコート層7と透明電極8と配向膜9とを順次形成
している。 【0006】また、ガラス基板3においては、その上に
多数平行に配列した透明電極10と配向膜11とを順次
形成している。 【0007】そして、ガラス基板2とガラス基板3とを
液晶12を介してシール部材13により貼り合わせる。
さらにガラス基板3の外側に第1位相差フィルム14と
第2位相差フィルム15と偏光板16とを順次形成す
る。 【0008】上記構成の液晶表示装置1においては、太
陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板1
6、第2位相差フィルム15、第1位相差フィルム14
およびガラス基板3を通過し、液晶12、カラーフィル
タ6などを通して光反射膜5に到達し、光反射膜5にて
光反射され、その反射光が出射される。 【0009】上記構成の反射型液晶表示装置以外に、携
帯情報端末などにおいて、屋外・屋内の双方に使用でき
るSTN型の半透過型液晶表示装置が開発されている。 【0010】この半透過型液晶表示装置によれば、太陽
光、蛍光灯などの外部照明によって反射型の装置として
用いたり、あるいはバックライトを内部照明として装着
して透過型の装置として使用するが、双方の機能を併せ
もたせるために、半透過膜を使用している(特開平8−
292413号参照)。さらにアクティブマトリックス
型半透過型液晶表示装置に同様な目的で半透過膜を使用
することが提案されている(特開平7−318929号
参照)。 【0011】かかる半透過型液晶表示装置においても、
後方に配設した基板の面上に半透過膜を設け、前方に配
設した基板の外側に光散乱板を設けたことで機能分離型
となしたものが知られている。 【0012】また、これら半透過型液晶表示装置に設け
た半透過膜は、アルミニウムなどの金属を蒸着したもの
であって、それをハーフミラーとして使用し、そして、
この金属膜でもって反射型の装置(反射モード)として
用いる場合には反射膜として、他方、透過型の装置(透
過モード)として用いる場合には透過膜として機能させ
ている。 【0013】さらに、かかるハーフミラーの半透過膜を
使用すると、反射率と透過率の双方の機能をともに向上
させることがむずかしいという課題があり、この課題を
解消するために、光透過用ホールを設けた反射膜を上記
の半透過膜として使用した半透過型液晶表示装置が提案
されている(特許第2878231号参照)。 【0014】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような機能分離型の半透過型液晶表示装置においては、
光散乱板(前方散乱フィルムなど)を前方の基板の外側
に配設しているので、とくに反射型の装置として用いた
場合には、周囲光が装置に入射する際に、入射光は進行
方向に散乱すると同時に、光散乱板によって散乱される
光(後方散乱)が生じるという課題がある。 【0015】このような後方散乱は各画素に対するON
/OFFに限らず、常に発生し、そのためにOFFのと
きには後方散乱により黒輝度が高くなり、画質に像ボケ
が発生し、コントラストが低下していた。 【0016】また、上記のような散乱反射型の液晶表示
装置1においては、フォトリソ工程により凸状配列群4
を形成するに際し、再現性と量産性を高めるために各凸
部を隔離させるが、その反面、各凸部の間に平坦部が存
在し、この平坦部上にも光反射膜5が被覆され、これに
より、凸状配列群4の平坦度が上がり、正反射成分が増
大し、その結果、光散乱性が低下していた。 【0017】この課題を解消するために、ふたたびフォ
トリソ工程でもって平坦部上に凸部を設けたり、あるい
は凸状配列群4上に樹脂を被覆して滑らかにする技術が
提案されているが、そのような工程を加えることで生産
コストが上がっていた。 【0018】その上、半透過型液晶表示装置に用いる半
透過膜については、反射性と透過性との双方を高める技
術がいまだ完成されておらず、さらに開発が望まれてい
た。 【0019】しかも、半透過型液晶表示装置は、反射モ
ードでは入射光はカラーフィルタを2回通過するのに対
し、透過モードでは入射光は1回のみの通過となるが、
反射領域および透過領域の双方ともカラーフィルタ(着
色層)の膜厚は一定であることで、透過モード時におけ
るパネル表示の色純度が、反射モードより劣化し、淡い
色合いになっていた。 【0020】本発明者は、かかる課題を解消するため
に、特願平11−363399号において、内部散乱反
射板を用いた半透過型液晶表示装置を提案した。 【0021】この半透過型液晶表示装置によれば、基板
上に多数の透明樹脂からなる凸状配列群を形成し、この
凸状配列群上に光半透過膜を被覆するが、光半透過膜を
光通過孔を有する金属膜にて形成し、そして、前方散乱
フィルムを取り除いたことで、それに起因する後方散乱
が解消され、高コントラスト化および高視野角を達成し
た画質が実現できた。 【0022】しかしながら、透過モードにおいて、バッ
クライトによる入射光は、光通過孔を通る際に透明樹脂
を通過し、その樹脂の透過率によって光減衰し、いまだ
満足し得る程度にまで、透過モードにおける色純度の低
下が改善されていないことが判明した。 【0023】そこで、光半透過膜の光通過孔を形成した
部位に対応する凸状配列群の樹脂部分を切欠く技術が考
えられるが、これにより、平坦性が損なわれやすくな
り、その結果、配向膜の平坦性も劣化することがあるこ
とがわかった。 【0024】したがって本発明の目的は反射型の表示モ
ード時において後方散乱によるコントラストの低下をな
くした半透過型液晶表示装置を提供することにある。 【0025】本発明の他の目的は、凸状配列群の膜厚を
限定することにより、液晶の配向性の劣化を防ぎ、その
結果、高色純度および高画質を達成した半透過型液晶表
示装置を提供することにある。 【0026】本発明の他の目的は透過モードにて凸状配
列群による光透過性の低下を防ぐなどして、高色純度お
よび高画質を達成した半透過型液晶表示装置を提供する
ことにある。 【0027】本発明のさらに他の目的は凸状配列群によ
る光散乱性を向上させることで、視野角を広くし、これ
によって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性の半
透過型液晶表示装置を提供することにある。 【0028】また、本発明の他の目的は生産コストを下
げて、かかる高性能かつ高信頼性の半透過型液晶表示装
置を提供することにある。 【0029】さらにまた、本発明の目的は、凸状配列群
の上に形成する半透過膜を改善することで、かかる目的
を優位に達成した半透過型液晶表示装置を提供すること
にある。 【0030】 【課題を解決するための手段】本発明の半透過型液晶表
示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を
ランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群
上に半透過膜を被覆し、この光半透過膜上に透明電極と
配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に
透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間
にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素
を配列せしめてなる装置構成であって、前記光半透過膜
が光通過孔を有する金属膜にて形成し、さらに前記凸状
配列群の膜厚を0.4〜2.0μmに設定するととも
に、光半透過膜の光通過孔を形成した部位に対応する透
明樹脂製凸部の樹脂部分を切欠いたことを特徴とする。 【0031】 【発明の実施の形態】以下、本発明を図でもって詳述す
る。半透過型液晶表示装置 図1と図2によりカラー表示用の半透過型液晶表示装置
17を説明する。図1は半透過型液晶表示装置17の断
面概略図であり、図2はその要部である光透過膜を形成
した一方部材の拡大断面図である。なお、図25に示す
従来の液晶表示装置1と同一箇所には同一符号を付す。 【0032】2はコモン側のガラス基板(寸法300×
360mm、0.5mm厚)、3はセグメント側のガラ
ス基板(寸法300×360mm、0.5mm厚)であ
って、前記一方部材については、ガラス基板2の一方主
面上に透明樹脂からなるほぼ半球状の凸部(たとえば、
円直径:10μm、高さ:0.4μm)を多数配列する
ことで、前記液晶表示装置1と同じようなランダム性の
凸状配列群18を形成し、この凸状配列群18上に光通
過孔を有する金属膜にて形成した前記光半透過膜である
半透過膜19を被覆している。なお、半透過膜19の密
着性を高めるために、SiO2層をたとえば50〜30
0Åの厚みでもってその下に形成してもよい。 【0033】上記半透過膜19によれば、光通過孔を有
する金属膜にて形成するが、この光通過孔を形成した部
位に対応する凸部の樹脂部分を切欠くことで、切欠部p
を形成する。 【0034】この半透過膜19にはクロムやアルミニウ
ム、銀などの金属膜にて遮光性を具備させるとともに、
膜面に前記光通過孔を形成する。このような光通過孔は
その形状に対応したフォトリソ用マスクを使用し、フォ
トリソ技術により形成する。すなわち、金属膜が形成さ
れた膜面に感光性レジストを塗布し、フォトリソ用マス
クを用いて露光し、その後、現像、エッチング、剥離の
各工程を経て形成する。 【0035】そして、このように半透過膜19を被覆し
た凸状配列群18上に画素ごとに配したカラーフィルタ
6を形成している。カラーフィルタ6は顔料分散方式、
すなわちあらかじめ顔料(赤、緑、青)により調合され
た感光性レジストを基板上に塗布し、フォトリソグラフ
ィにより形成している。さらにアクリル系樹脂からなる
オーバーコート層7と、多数平行にストライプ状配列し
たITOからなる透明電極8とを形成している。この透
明電極8上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂か
らなる配向膜9を形成している。また、各カラーフィル
タ6間にはクロム金属もしくは感光性レジストのブラッ
クマトリックスを形成してもよい。 【0036】なお、配向膜9は透明電極8上に直に成膜
形成しているが、配向膜9と透明電極8との間に樹脂や
SiO2などからなる絶縁膜を介在させてもよく、ま
た、オーバーコート層7は設けなくてもよい。さらに半
透過膜19を被覆した凸状配列群18上に樹脂やSiO
2からなる平滑膜を形成し、この平滑膜上に画素ごとに
配したカラーフィルタ6を形成してもよい。 【0037】他方部材については、ガラス基板3上に多
数平行にストライプ状配列したITOからなる透明電極
10と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からな
る配向膜11とを順次形成している。透明電極10と配
向膜11との間に樹脂やSiO2からなる絶縁層を介在
させてもよい。 【0038】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を、たとえば200〜260°の角度でツイストされ
たカイラルネマチック液晶からなる液晶12を介してシ
ール部材13により貼り合わせる。また、両部材間には
液晶12の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配
している。 【0039】さらにガラス基板3の外側にポリカーボネ
イトなどからなる第1位相差フィルム14と第2位相差
フィルム15とヨウ素系の偏光板16とを順次形成す
る。これらの配設については、アクリル系の材料からな
る粘着材を塗布することで貼り付ける。 【0040】上記構成の液晶表示装置17においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板1
5、第2位相差フィルム14、第1位相差フィルム13
およびガラス基板3を通過し、液晶12、カラーフィル
タ6などを通して半透過膜19に到達し、半透過膜19
にて光反射され、反射モードとして、その反射光が出射
される。 【0041】かくして本発明の液晶表示装置17におい
ても、光散乱板を使用しないことで、従来のような後方
散乱という課題が解消され、その結果、反射型表示モー
ドのOFF時の明るさが低減し、コントラストが向上し
た。 【0042】そして、この液晶表示装置17では、ガラ
ス基板2の外側にポリカーボネイトなどからなる位相差
フィルム(図示せず)とヨウ素系の偏光板(図示せず)
とを順次形成し、さらにバックライト(B/L)を配設
することで、透過型表示モードになる。 【0043】〔一方部材の形成方法〕ガラス基板2上の
凸状配列群18の形成方法を図3〜図14により述べ
る。 【0044】図3と図4は凸状配列群18の形成工程
図、図5は凸状配列群18を形成するためのフォトマス
クの平面図、図6は他のフォトマスクの平面図である。
また、図7は現像時間と凸状配列群の凹凸高低差との関
係を示し、図8は現像時間の違いによる光感光性樹脂層
の形状変化を示す。さらに図9〜図12は半透過膜の構
成を示す。図13はカラーフィルタ6の形成工程図であ
り、図14は光通過孔を形成した半透過膜19におい
て、反射モードと透過モードに適用する場合の双方の領
域を示す。 【0045】まず、図3と図4に示す工程図でもって凸
状配列群18の形成方法を述べる。 【0046】以下、(a)工程〜(h)工程の順にした
がって形成する。 【0047】(a)工程 アクリル系樹脂を主成分とし、溶媒としてジエチレング
リコールメチルエチルエーテルを使用した光感光性樹脂
(商品:PC405H・JSR株式会社製)をスピンコ
ート塗布する。この樹脂の膜厚はスピンナ回転数により
制御でき、本例ではスピンナ回転数を1000rpmに
して1.5μm程度の厚さのポジ型光感光性樹脂を塗布
した。凸状配列群18の膜厚は、この工程のスピンナ回
転数で調整することができる。 【0048】(b)工程 上記のように塗布された基板を、たとえば90℃の温度
で2分間、ホットプレートによりプリベークした。 【0049】(c)工程 次にフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。この
露光は基板の法線方向にUVを用いて全面露光する。 【0050】このフォトリソ用マスクを図5または図6
に示す。フォトマスク20はガラス基板21上にCr金
属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット22(たと
えば6μm径)をランダム状態に配置したものであり、
画像表示面が5.7インチサイズである場合、一表示面
に対応するガラス基板21上には約5000万個のスポ
ットが配置される。 【0051】また、スポットは円状以外に、図6に示す
フォトマスク23のように、たとえば四角形、五角形、
六角形、さらにそれ以上の多角形スポット24であって
もよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じない
ように円形にするのがよい。そして、このスポット形状
とほぼ同一形状の凸部が形成される。 【0052】このようにフォトリソ用マスクを用いてU
V露光をおこなうが、そのマスク20、23のスポット
22、24において、それぞれの端部付近では、UVが
広がることで、後述する現像後の凸部では角部がなくな
っている。 【0053】(d)工程 (c)工程である露光を経た後、現像をおこなう。現像
液としては、たとえばJSR株式会社製のPD523A
D(濃度0.05%)を使用する。そして、現像時間を
変えることで現像の進行を加減することができるが、現
像を適度に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の
端部が接続され、連続的に繋がる。 【0054】図7および図8により現像の進行程度によ
る凸部の状態を示す。図7において、現像時間による凹
凸高低差を示し、横軸は現像時間(秒)であり、縦軸は
凹凸高低差(μm)であり、黒点は測定データである。 【0055】現像時間が約25秒までは時間の増大する
にしたがって凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約
25秒を超えると、ガラス基板2が露出され、現像によ
る深度が一定になることで凹凸高低差の変動が非常に小
さくなっている。 【0056】図8においては、測定データである黒点の
うち(a)と(b)と(c)について、それぞれのガラ
ス基板2上の凸状配列群の断面形状を示す。 【0057】たとえば、現像時間を20秒にすればよい
が、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリ
ベーク条件等により適宜変えればよい。 【0058】(e)工程 (c)の露光工程においては、多数の凸部をランダムに
並べた凸状配列群18を形成するためであるが、本工程
においては、凸状配列群18に対し、前記光通過孔を形
成した部位に対応する透明樹脂の凸部の樹脂部分に切欠
部pを形成するために、同様にフォトリソ用マスクを用
いてUV露光をおこなう。 【0059】(f)工程 (e)の露光工程を経た後、(d)工程と同様に現像を
おこない、切欠部pを形成する。 【0060】また、(c)および(e)の露光工程を連
続しておこない、現像工程を一括してもよい。すなわ
ち、凸状配列群18の凸部である凹凸形状の形成と、欠
陥部pを一度の現像工程で形成できる。 【0061】(g)工程 この加熱処理でもって、たとえば低温(130℃、2
分)にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させ
る。このような熱ダレを利用することで、さらに滑らか
な表面性状にしている。 【0062】(h)工程 次のポストべークでもって、たとえば高温(200℃、
30分)にて全体を硬化させる。 【0063】このように(g)工程によって若干溶解さ
せて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整
をおこない、ついで(h)工程により硬化させる。 【0064】(i)工程 最後に凸状配列群18上にスパッタリングや蒸着法でも
ってクロムやアルミニウム、銀などの金属からなる半透
過膜19を、たとえば厚み1000Åの金属膜をスパッ
タリンングとフォトリソ法とを組合せて形成し、次いで
カラーフィルタ6を塗布形成する。 【0065】なお、上述した凸状配列群18の形成工程
においては、凸状配列群18を形成するための(c)の
露光工程と(d)の現像工程を経た後に、切欠部pを形
成すべく(e)の露光工程と(f)の現像工程をおこな
ったが、これに代えて、さきに切欠部pを形成すべく
(e)の露光工程と(f)の現像工程をおこない、次い
で凸状配列群18を形成するための(c)の露光工程と
(d)の現像工程をおこなってもよい。 【0066】また、(c)および(e)の露光工程を連
続しておこない、そして、現像工程を一括してもよく、
このようにして凹凸形状形成と欠陥部pを一度の現像工
程で形成できる。 【0067】以上の各工程(a)〜(i)を経て得られ
た半透過膜19が被覆された凸状配列群18によれば、
熱溶融により凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合
う各凸部が接続されている。 【0068】そして、半透過型液晶表示装置17におい
ては、凸状配列群18の隣り合う各凸部を接続させるの
がよく、これによって各凸部の間に平坦部が存在しなく
なって、凸状配列群18の平坦度が低下し、正反射成分
が減少し、光散乱性が改善され、その結果、視野角が広
くなった。なお、部分的にわずかに非接続部分があって
も光散乱性に影響がない。 【0069】また、凸状配列群18を形成するに当た
り、(g)工程の加熱処理(表面形状が大きく変化しな
い程度の熱溶融工程)を除外して、その他の各工程
(a)〜(f)、(h)、(i)でもって形成してもよ
い。 【0070】このように(g)工程が除かれた形成方法
によって半透過膜19が被覆された凸状配列群18を設
けた場合には、熱溶融しないことで、凸部形状は上面に
若干平坦部が存在するが、上記のように凸状配列群18
の平坦度は低下し、同様に正反射成分が減少し、これに
よって光散乱性が改善され、視野角が広くなった。 【0071】以下、この(i)工程に関する半透過膜1
9とカラーフィルタ6とを、さらに述べる。 【0072】半透過膜19について 図9〜図12にてパターニングした半透過膜19の形状
を示す。 【0073】半透過膜19は金属膜と光通過孔でもって
光透過性と光反射性の双方の特性を具備しており、しか
も、2枚の偏光板の間に挟んだ時に位相差を生じないよ
うにするとよい。 【0074】この半透過膜19を示す図9〜図12によ
れば、図9(A)は半透過膜19の拡大平面図であり、
同図(B)は一画素の拡大平面図である。図10〜図1
2は他の半透過膜19の一画素の拡大平面図である。 【0075】図9(A)に示すように、各画素にはそれ
ぞれほぼ同じ構成の光通過孔26を形成している。そし
て、図9(B)に示すように個々の画素は光通過孔26
をなす透過領域と、金属膜25が形成される反射領域
と、隣接する画素との隙間となる画素間領域とからな
る。 【0076】半透過膜19はクロムやアルミニウム、銀
などの遮光性のある金属膜25でもって形成し、さらに
金属膜25の面内に光通過孔26を形成するが、この金
属膜25自体に光反射膜としての機能もある。そして、
光通過孔26の面積比率により光透過性と光反射性の双
方の機能を具備させる。たとえば、反射領域と透過領域
との面積比率は75:25にするよい。この比率は、金
属膜をスパッタリング法にて成膜した後のフォトリソ法
において、マスク設計をおこなうことで得られる。 【0077】このような半透過膜19に使用している金
属膜は、その膜厚を300Å以上にするとよく、これに
よって遮光性と光反射性の双方の機能をもたせることが
できる。 【0078】また、光通過孔26の面積を大きくすれ
ば、透過型表示モードに適した構成になり、その面積を
小さくすれば、反射型表示モ−ドに適した構成になる。 【0079】上記半透過膜19の一画素は、図9(B)
に示すような光通過孔26の形状以外に、さまざまな形
状と光通過孔26を形成してもよく、たとえば、図10
〜図12にて示す。図10の画素と図14の画素におい
ては、画素領域内を2分し、一方を反射領域となし、他
方を透過領域としている。図12の画素では円形の透過
領域を形成している。 【0080】また、図9(B)および図10〜図12に
て示す各画素において、反射領域を透過領域に、透過領
域を反射領域というように逆に構成してもよい。 【0081】カラーフィルタ6について 上記のようにパターニングした半透過膜9を形成した
後、図13に示す工程でもってカラーフィルタ6を塗布
形成する。 【0082】同図において、(イ)〜(チ)の各工程順
に形成する。以下、各工程を述べる。なお、前述にした
がって、(イ)と(ロ)の各工程にて凸状配列群18を
形成し、(ハ)の工程にて半透過膜9を形成する。 【0083】(イ)工程 ガラス基板上に光感光性樹脂をスピンナーにて塗布し、
フォトリソ工程により、凹凸構造を形成する。 【0084】本例ではスピンナ回転数1000rpmに
対して1.5μm前後の厚さのポジ型光感光性樹脂を塗
布した。また、フォトリソ工程により、凸部の直径は1
0μm前後、凹凸高低差は0.4μm前後の凹凸形状を
作製した。 【0085】(ロ)工程 この工程にて、各画素に一定の面積で凹凸樹脂を取り除
くが、フォトリソ工程でおこなう。 【0086】(イ)の露光工程と(ロ)の露光工程を連続し
ておこない、そして、現像工程を一括してもよく、この
ようにして凹凸形状形成と欠陥部pを一度の現像工程で
形成できる。 【0087】このように(イ)と(ロ)の各工程を経る
ことで、凸状配列群18を形成する。 【0088】(ハ)工程 この工程でもって半透過膜19を形成する。 【0089】まず、金属膜を全面にわたって被着する。
たとえば、本例では、金属膜がAl膜であり、その膜厚
を1000Åにてスパッタリングした。そして、(ロ)工
程により作製した欠陥部pに対応する部位に存在する金
属膜の部分をフォトリソにより取り除き、光通過孔26
を形成する。 【0090】各画素にはそれぞれほぼ同じ構成の光透過
孔26が形成されるが、個々の画素には光透過孔26を
なす透過領域と、金属膜25が形成されている反射領域
とからなる。そして、透過領域と反射領域との面積比率
を最適に規定することで、液晶表示装置としての光透過
性と光反射性の双方の機能を具備する。たとえば、反射
領域と透過領域の面積比率は75:25がよく、この比
率は凹凸樹脂および金属膜のフォトリソにおいて、その
際のマスク設計をおこなうことで得られる。 【0091】(ニ)工程 顔料分散方式にしたがって、ブラックマトリクス樹脂を
塗布し、フォトリソ工程にて所定の部位に配設する。こ
のブラックマトリクスは、画素間の反射光の光漏れを防
ぐために形成するが、このブラックマトリクスでもって
コントラストが増加する。 【0092】(ホ)工程 顔料分散方式にしたがって、赤顔料により調合された感
光性レジストを基板上に塗布し、次いでフォトリソグラ
フィにて所定に部位に配設する。図13にてRed
(赤)形成と記す。 【0093】(ヘ)工程 Green(緑)形成として、緑顔料により調合された
感光性レジストを基板上に塗布し、次いでフォトリソグ
ラフィにて所定に部位に配設する。 【0094】(ト)工程 Blue(青)形成として、青顔料により調合された感
光性レジストを基板上に塗布し、次いでフォトリソグラ
フィにて所定に部位に配設する。 【0095】(チ)工程 アクリル系樹脂を塗布することで、オーバーコート層7
を被覆する。 【0096】かくして上記工程により得られたカラーフ
ィルタ基板においては、図3の要部断面図にて示すよう
に、カラーフィルタ塗布面をフラットに形成すると、切
欠部pでのカラーフルタの膜厚はそれ以外での膜厚dよ
り凸部の樹脂高さの分だけ大きくなる。たとえば、それ
以外のカラーフィルタ膜厚をdとすると、切欠部pのカ
ラーフィルタ膜厚は1.5d以上にするとよい。 【0097】そして、本発明によれば、上記工程により
得られたカラーフィルタ基板を用いて、図1に示すよう
な本発明の液晶表示装置17が得られる。 【0098】次に本発明者は、図18に示す如くカラー
フィルタ基板を作製し、これでもって図1に示す構成の
液晶表示装置17を作製し、光学特性を測定した。同図
aは比較例のカラーフィルタ基板であり、同図bは本発
明のカラーフィルタ基板である。 【0099】双方とも前述した工程によりガラス基板2
の上にアクリル系樹脂からなる凸部の凸状配列群18を
形成し、その上に厚み1000Åのアルミニウム金属膜
にて半透過膜19を被覆し、さらにカラーフィルタ6と
アクリル系樹脂からなるオーバーコート層7とを順次塗
布形成する。 【0100】ただし、双方との間において、本発明の液
晶表示装置にて、切欠部pを形成する以外に、構成上の
差はない。 【0101】また、d=0.8μmにすることで、反射
領域のカラーフィルタ膜厚を0.8μmにして、透過領
域のカラーフィルタ膜厚を1.6μmにしている。よっ
て、凸状配列群の厚みを平均にて0.8μmにしてい
る。 【0102】そして、これらの液晶表示装置に対し、そ
れぞれ図19に示すように光学特性を測定した。同図a
は反射モードを測定する場合を、同図bは透過モードを
測定する場合を示す。 【0103】反射モードの場合、液晶パネルの上部から
光(C光源)を入射させ、液晶パネルを駆動させた際(白
表示、黒表示、RGB表示(Red、Green、Bl
ue表示)の反射光の反射率、コントラストおよび色域
面積(色再現性)を測定した。 【0104】また、透過モードの場合は、測定対象下部
から光(C光源)を入射させ、液晶パネルを駆動させた際
の透過率、コントラストおよび色域面積を測定した。 【0105】ちなみに、図20にて色域面積の定義を示
すが、色域面積は各RGBの色度点を囲んだ面積であっ
て、この面積が大きくなることに伴い、色再現性が高く
なり、色純度の高いパネル表示が得られる。 【0106】以上のような評価手法にて表1と表2に示
すように、本発明の半透過型液晶表示装置と、比較例で
ある従来の半透過型液晶表示装置の光学特性が得られ
た。 【0107】 【表1】 【0108】表1においては、Ron、Tonは、それ
ぞれ白表示した場合の反射率、透過率であり、Rof
f、Toffは、それぞれ黒表示した場合の反射率、透
過率であり、さらにコントラストも示す。 【0109】表1に示す結果から明らかなとおり、本発
明の液晶表示装置は、従来の液晶表示装置に比べて、透
過モードにて顕著な効果が得られ、従来であれば、2.
45%であることに対し、本発明では2.78%に大き
くなり、約1.13倍に増大している。さらにコントラ
ストについても、反射モードおよび透過モードともに大
きくなっている。 【0110】参考までに、アクリル系樹脂からなる凸部
の凸状配列群18に対する分光特性を図17に示す。同
図の横軸は波長であり、縦軸は透過率(%)である。 【0111】このように凸状配列群を光通過すること
で、約10%程度光吸収が生じる。したがって、本発明
によれば、凸状配列群による光吸収がなく、これによっ
て透過率が増加している。 【0112】また、表1から明らかなとおり、本発明の
液晶表示装置によれば、従来のものと比べて、色域面積
が大きく、これによって色再現性が高く、色純度の高い
パネル表示が得られたことがわかる。 【0113】図15に本発明の液晶表示装置のRGB色
度図を示し、図16に従来の液晶表示装置のRGB色度
図を示す。これらRGB色度および色域面積を比較した
結果、従来では反射モードと透過モードの色域面積が大
きく異なっているのに対し、本発明では反射モードと透
過モードの色域面積がほぼ等しく、色再現性の両立度が
向上している。 【0114】本発明者は、上記の結果について、次のよ
うに考える。すなわち、カラーフィルタの膜厚をdとし
た場合に、従来における入射光のカラーフィルタ通過距
離は、反射モード時は2dであるのに対し、透過モード
はdとなるが、入射光のカラーフィルタ通過距離と色再
現性は比例の関係にあることで、従来の場合、反射・透
過のモードによりカラーフィルタの通過距離が異なるこ
とに起因し、両モードによる色再現性に差が生じ、とく
に透過モードでは、カラーフィルタの通過距離が短いた
めに、色再現性が劣化したと考える。本発明者が表示の
目視観察による評価を行なっても、色が淡く感じられた
ことを確認している。 【0115】一方、本発明の液晶表示装置によれば、透
過領域におけるカラーフィルタ膜厚が反射領域カラーフ
ィルタの膜厚の約2倍程度になっているため、入射光の
カラーフィルタ通過距離は、反射モード、透過モードと
もに2dとなり、これにより、透過モードの色再現性は
向上し、反射モードの色再現性と同等になり、その結
果、両モードによる色再現性に差が生じないと考える。 【0116】このように本発明による液晶表示装置にお
いては、反射モードと透過モードの色再現性の両立度を
向上させることができた。 【0117】また、本発明の液晶表示装置17において
は、半透過膜19を光通過孔26が形成された金属膜2
5にて形成したことで、反射型表示モードにて使用する
場合には、金属膜25に到達した光を反射させ、これに
よって反射性能をもっとも高めることができた。しか
も、透過型表示モードの使用においても、半透過膜19
にて光吸収されることなく、光通過孔26を通過するだ
けであり、そのためにもっとも透過性能を高めることが
できた。 【0118】次に本発明者は凸状配列群18の平均膜厚
と配向膜9の平坦性との関係を検討する。 【0119】ガラス基板2上に前述した工程を経ること
で、アクリル系樹脂からなる半球状の凸部を多数配列し
てなる凸状配列群18を形成し、この凸状配列群18上
に光通過孔を有する金属膜(厚み1000Åのアルミニ
ウム金属膜)にて形成した半透過膜19を被覆し、そし
て、前述した工程でもって、この半透過膜19を被覆し
た凸状配列群18上に画素ごとに配したカラーフィルタ
6を形成し、さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコ
ート層7(膜厚2.2μm)と、多数平行にストライプ
状配列したITOからなる透明電極8(膜厚0.1μ
m)と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からな
る配向膜9(膜厚0.04μm)を形成している。 【0120】このような構成において、まず図21に
て、凹凸樹脂膜厚と凹凸段差の定義を示す。 【0121】凹凸樹脂(凸状配列群18)の膜厚は、光
感光性樹脂のレジスト塗布膜厚によって決まり、その凹
凸段差は、凹凸形状の形成の際の現像工程でもって決定
する。前述した通り、反射領域のカラーフィルタ膜厚を
dとした場合、透過領域のカラーフィルタ膜厚は1.5
d以上が望ましいと考えると、凹凸樹脂膜厚は大きい方
が有利となる。 【0122】しかしながら、この凹凸樹脂膜厚が大きく
なるに伴い、オーバーコート層7の塗布後の表面段差が
大きくなり、この段差が、ITO/配向膜形成後の配向
膜表面の平坦性に影響し、配向膜の平坦性が確保できな
くなる。 【0123】したがって、オーバーコート層7の表面段
差が0.3μmを超える場合、配向膜の平坦性が確保で
きなくなり、液晶分子の配向不良およびセルギャップム
ラから、表示特性の低下につながる可能性があること
で、オーバーコート層7の表面段差を0.3μm以下に
抑えることが望ましい。 【0124】そこで、配向膜の平坦性が確保できる条件
を見出すために、図22にて凹凸樹脂(凸状配列群1
8)の膜厚とオーバーコート層表面段差の関係を示し
た。 【0125】オーバーコート層7(OC)の表面段差を
0.3μm以下にするためには、凹凸樹脂を2.0μm
以下にするとよいが、これによって反射領域と透過領域
の段差が小さくなり、その結果、配向膜の平坦性に問題
が無くなる。 【0126】図23に凹凸樹脂膜厚による散乱特性を示
す。また、図24に、凹凸樹脂膜厚による視角性ΔSA
を示した。ΔSAは、凹凸形状から決定される視角性の
パラメータであり、この値が大きい程、広い範囲で高い
反射率を得ることができ、広視野角パネル表示が実現で
きる。目視によるパネル視野角評価では、ΔSAは50
°以上を必要とすることを確認した。 【0127】図24に示す結果から明らかなとおり、Δ
SAを50°以上にするためには、凹凸樹脂膜厚を0.
4μm以上にするとよい。この凹凸樹脂(凸状配列群1
8)の膜厚が0.4μm未満では、ΔSAが急激に低下
している。これは、凹凸樹脂膜厚と凹凸段差がほぼ同じ
になるため、凹凸形状表面に、ガラス基板表面が剥き出
しになる領域が存在し始めるためである。よって、視角
特性面においては、凹凸樹脂膜厚は0.4μm以上が望
ましい。 【0128】以上の考察の総合評価を、表2にまとめ
た。 【0129】 【表2】 【0130】この表によれば、信頼性(図23)と特性面
(図24.25)の評価を×〜◎で表現し、総合的に見た
時の、最適な凹凸樹脂膜厚を選定している。 【0131】以上の結果から明らかなとおり、配向膜の
平坦性および特性面において最適となる膜厚を検討する
と、凹凸樹脂(凸状配列群18)の膜厚は0.4〜2.
0μmの範囲にするとよいことがわかった。 【0132】ちなみに、本実施例においては、凹凸樹脂
膜厚を1.0μmにしているため、反射領域と透過領域
の段差は小さく、配向膜の平坦性に与える影響は無い。 【0133】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々
の変更や改善などは何ら差し支えない。 【0134】たとえば、上記の実施形態においては、S
TN型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置で
もって説明しているが、その他にモノクロのSTN型単
純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、ある
いはTN型単純マトリックスタイプの液晶表示装置であ
っても、さらに双安定型の液晶表示装置でも同様な作用
効果が得られる。 【0135】 【発明の効果】以上のとおり、本発明の半透過型液晶表
示装置においては、基板上に凸状配列群を形成し、この
凸状配列群上に光通過孔を有する金属膜にて形成した光
半透過膜を被覆し、そして、凸状配列群の膜厚を0.4
〜2.0μmに設定するとともに、光半透過膜の光通過
孔を形成した部位に対応する透明樹脂製凸部の樹脂部分
を切欠いたことで、透過モードにて顕著な透過率が向上
し、さらにコントラストについても、反射モードと透過
モードともに大きくなり、しかも、色域面積が大きくな
って、色再現性が高く、色純度が高くなり、反射モード
と透過モードの色再現性の両立度を向上させることがで
きた。 【0136】また、本発明の半透過型液晶表示装置にお
いては、基板上に多数の透明樹脂製凸部をランダムに並
べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に半透過膜
を被覆したことで、光散乱板を取り除くことができ、こ
れによって従来の後方散乱が解消され、反射型表示モー
ドのOFF時の明るさが低減し、その結果、コントラス
トが向上した高性能な半透過型液晶表示装置が提供でき
た。 【0137】さらにまた、本発明においては、凸状配列
群を構成する各凸部において、隣り合う各凸部が接続さ
れることで、光散乱性能が向上し、視野角が広くなり、
これによって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性
の半透過型液晶表示装置が提供できた。 【0138】しかも、このように各凸部を接続させるに
際し、現像の進行を適度に止めることで容易に達成さ
れ、これによって生産コストを下げることができた。 【0139】その上、本発明の半透過型液晶表示装置に
よれば、半透過膜を光通過孔が形成された金属膜にて形
成したことで、反射型表示モードにて使用する場合に
は、金属膜にて最大の反射性能が得られ、一方の透過型
表示モードにおいても、半透過膜にて光吸収されないこ
とで、最大に透過性能が得られ、これによって双方の機
能を最大に活用することができ、反射型表示モードにて
使用する場合でもOFF時の明るさをもっとも低減で
き、その結果、コントラストがもっとも向上した高性能
な半透過型液晶表示装置が提供できた。
置に関するものである。 【0002】 【従来の技術】近年、バックライトを使用しない反射型
液晶表示装置の技術が開発されており、薄型、軽量およ
び低消費電力化に優れている。 【0003】反射型液晶表示装置には、後方に配設した
基板の面上に鏡面にした光反射層を設け、前方に配設し
た基板の外側に散乱板を設けた機能分離型と(特開平8
−201802号参照)、後方に配設した基板に対し凹
凸形状の光反射層を形成した散乱反射型とがあるが(特
開平4−243226号参照)、双方の型ともにバック
ライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用してい
る。 【0004】たとえば、TNモードやSTNモードの散
乱反射型液晶表示装置1を図25に示す。 【0005】対向するコモン側のガラス基板2とセグメ
ント側のガラス基板3において、ガラス基板2の上にフ
ォトリソ工程により透明樹脂からなるほぼ半球状の凸部
を多数ランダムに配列してなる凸状配列群4を形成し、
この凸状配列群4上にAlなどの金属からなる光反射膜
5を被覆し、さらに凸状配列群4上に画素ごとに配した
カラーフィルタ6を形成し、カラーフィルタ6の上にオ
ーバーコート層7と透明電極8と配向膜9とを順次形成
している。 【0006】また、ガラス基板3においては、その上に
多数平行に配列した透明電極10と配向膜11とを順次
形成している。 【0007】そして、ガラス基板2とガラス基板3とを
液晶12を介してシール部材13により貼り合わせる。
さらにガラス基板3の外側に第1位相差フィルム14と
第2位相差フィルム15と偏光板16とを順次形成す
る。 【0008】上記構成の液晶表示装置1においては、太
陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板1
6、第2位相差フィルム15、第1位相差フィルム14
およびガラス基板3を通過し、液晶12、カラーフィル
タ6などを通して光反射膜5に到達し、光反射膜5にて
光反射され、その反射光が出射される。 【0009】上記構成の反射型液晶表示装置以外に、携
帯情報端末などにおいて、屋外・屋内の双方に使用でき
るSTN型の半透過型液晶表示装置が開発されている。 【0010】この半透過型液晶表示装置によれば、太陽
光、蛍光灯などの外部照明によって反射型の装置として
用いたり、あるいはバックライトを内部照明として装着
して透過型の装置として使用するが、双方の機能を併せ
もたせるために、半透過膜を使用している(特開平8−
292413号参照)。さらにアクティブマトリックス
型半透過型液晶表示装置に同様な目的で半透過膜を使用
することが提案されている(特開平7−318929号
参照)。 【0011】かかる半透過型液晶表示装置においても、
後方に配設した基板の面上に半透過膜を設け、前方に配
設した基板の外側に光散乱板を設けたことで機能分離型
となしたものが知られている。 【0012】また、これら半透過型液晶表示装置に設け
た半透過膜は、アルミニウムなどの金属を蒸着したもの
であって、それをハーフミラーとして使用し、そして、
この金属膜でもって反射型の装置(反射モード)として
用いる場合には反射膜として、他方、透過型の装置(透
過モード)として用いる場合には透過膜として機能させ
ている。 【0013】さらに、かかるハーフミラーの半透過膜を
使用すると、反射率と透過率の双方の機能をともに向上
させることがむずかしいという課題があり、この課題を
解消するために、光透過用ホールを設けた反射膜を上記
の半透過膜として使用した半透過型液晶表示装置が提案
されている(特許第2878231号参照)。 【0014】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような機能分離型の半透過型液晶表示装置においては、
光散乱板(前方散乱フィルムなど)を前方の基板の外側
に配設しているので、とくに反射型の装置として用いた
場合には、周囲光が装置に入射する際に、入射光は進行
方向に散乱すると同時に、光散乱板によって散乱される
光(後方散乱)が生じるという課題がある。 【0015】このような後方散乱は各画素に対するON
/OFFに限らず、常に発生し、そのためにOFFのと
きには後方散乱により黒輝度が高くなり、画質に像ボケ
が発生し、コントラストが低下していた。 【0016】また、上記のような散乱反射型の液晶表示
装置1においては、フォトリソ工程により凸状配列群4
を形成するに際し、再現性と量産性を高めるために各凸
部を隔離させるが、その反面、各凸部の間に平坦部が存
在し、この平坦部上にも光反射膜5が被覆され、これに
より、凸状配列群4の平坦度が上がり、正反射成分が増
大し、その結果、光散乱性が低下していた。 【0017】この課題を解消するために、ふたたびフォ
トリソ工程でもって平坦部上に凸部を設けたり、あるい
は凸状配列群4上に樹脂を被覆して滑らかにする技術が
提案されているが、そのような工程を加えることで生産
コストが上がっていた。 【0018】その上、半透過型液晶表示装置に用いる半
透過膜については、反射性と透過性との双方を高める技
術がいまだ完成されておらず、さらに開発が望まれてい
た。 【0019】しかも、半透過型液晶表示装置は、反射モ
ードでは入射光はカラーフィルタを2回通過するのに対
し、透過モードでは入射光は1回のみの通過となるが、
反射領域および透過領域の双方ともカラーフィルタ(着
色層)の膜厚は一定であることで、透過モード時におけ
るパネル表示の色純度が、反射モードより劣化し、淡い
色合いになっていた。 【0020】本発明者は、かかる課題を解消するため
に、特願平11−363399号において、内部散乱反
射板を用いた半透過型液晶表示装置を提案した。 【0021】この半透過型液晶表示装置によれば、基板
上に多数の透明樹脂からなる凸状配列群を形成し、この
凸状配列群上に光半透過膜を被覆するが、光半透過膜を
光通過孔を有する金属膜にて形成し、そして、前方散乱
フィルムを取り除いたことで、それに起因する後方散乱
が解消され、高コントラスト化および高視野角を達成し
た画質が実現できた。 【0022】しかしながら、透過モードにおいて、バッ
クライトによる入射光は、光通過孔を通る際に透明樹脂
を通過し、その樹脂の透過率によって光減衰し、いまだ
満足し得る程度にまで、透過モードにおける色純度の低
下が改善されていないことが判明した。 【0023】そこで、光半透過膜の光通過孔を形成した
部位に対応する凸状配列群の樹脂部分を切欠く技術が考
えられるが、これにより、平坦性が損なわれやすくな
り、その結果、配向膜の平坦性も劣化することがあるこ
とがわかった。 【0024】したがって本発明の目的は反射型の表示モ
ード時において後方散乱によるコントラストの低下をな
くした半透過型液晶表示装置を提供することにある。 【0025】本発明の他の目的は、凸状配列群の膜厚を
限定することにより、液晶の配向性の劣化を防ぎ、その
結果、高色純度および高画質を達成した半透過型液晶表
示装置を提供することにある。 【0026】本発明の他の目的は透過モードにて凸状配
列群による光透過性の低下を防ぐなどして、高色純度お
よび高画質を達成した半透過型液晶表示装置を提供する
ことにある。 【0027】本発明のさらに他の目的は凸状配列群によ
る光散乱性を向上させることで、視野角を広くし、これ
によって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性の半
透過型液晶表示装置を提供することにある。 【0028】また、本発明の他の目的は生産コストを下
げて、かかる高性能かつ高信頼性の半透過型液晶表示装
置を提供することにある。 【0029】さらにまた、本発明の目的は、凸状配列群
の上に形成する半透過膜を改善することで、かかる目的
を優位に達成した半透過型液晶表示装置を提供すること
にある。 【0030】 【課題を解決するための手段】本発明の半透過型液晶表
示装置は、基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部を
ランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群
上に半透過膜を被覆し、この光半透過膜上に透明電極と
配向層とを順次積層してなる一方部材と、透明基板上に
透明電極と配向層とを順次積層してなる他方部材との間
にネマチック型液晶を介在させてマトリックス状に画素
を配列せしめてなる装置構成であって、前記光半透過膜
が光通過孔を有する金属膜にて形成し、さらに前記凸状
配列群の膜厚を0.4〜2.0μmに設定するととも
に、光半透過膜の光通過孔を形成した部位に対応する透
明樹脂製凸部の樹脂部分を切欠いたことを特徴とする。 【0031】 【発明の実施の形態】以下、本発明を図でもって詳述す
る。半透過型液晶表示装置 図1と図2によりカラー表示用の半透過型液晶表示装置
17を説明する。図1は半透過型液晶表示装置17の断
面概略図であり、図2はその要部である光透過膜を形成
した一方部材の拡大断面図である。なお、図25に示す
従来の液晶表示装置1と同一箇所には同一符号を付す。 【0032】2はコモン側のガラス基板(寸法300×
360mm、0.5mm厚)、3はセグメント側のガラ
ス基板(寸法300×360mm、0.5mm厚)であ
って、前記一方部材については、ガラス基板2の一方主
面上に透明樹脂からなるほぼ半球状の凸部(たとえば、
円直径:10μm、高さ:0.4μm)を多数配列する
ことで、前記液晶表示装置1と同じようなランダム性の
凸状配列群18を形成し、この凸状配列群18上に光通
過孔を有する金属膜にて形成した前記光半透過膜である
半透過膜19を被覆している。なお、半透過膜19の密
着性を高めるために、SiO2層をたとえば50〜30
0Åの厚みでもってその下に形成してもよい。 【0033】上記半透過膜19によれば、光通過孔を有
する金属膜にて形成するが、この光通過孔を形成した部
位に対応する凸部の樹脂部分を切欠くことで、切欠部p
を形成する。 【0034】この半透過膜19にはクロムやアルミニウ
ム、銀などの金属膜にて遮光性を具備させるとともに、
膜面に前記光通過孔を形成する。このような光通過孔は
その形状に対応したフォトリソ用マスクを使用し、フォ
トリソ技術により形成する。すなわち、金属膜が形成さ
れた膜面に感光性レジストを塗布し、フォトリソ用マス
クを用いて露光し、その後、現像、エッチング、剥離の
各工程を経て形成する。 【0035】そして、このように半透過膜19を被覆し
た凸状配列群18上に画素ごとに配したカラーフィルタ
6を形成している。カラーフィルタ6は顔料分散方式、
すなわちあらかじめ顔料(赤、緑、青)により調合され
た感光性レジストを基板上に塗布し、フォトリソグラフ
ィにより形成している。さらにアクリル系樹脂からなる
オーバーコート層7と、多数平行にストライプ状配列し
たITOからなる透明電極8とを形成している。この透
明電極8上に一定方向にラビングしたポリイミド樹脂か
らなる配向膜9を形成している。また、各カラーフィル
タ6間にはクロム金属もしくは感光性レジストのブラッ
クマトリックスを形成してもよい。 【0036】なお、配向膜9は透明電極8上に直に成膜
形成しているが、配向膜9と透明電極8との間に樹脂や
SiO2などからなる絶縁膜を介在させてもよく、ま
た、オーバーコート層7は設けなくてもよい。さらに半
透過膜19を被覆した凸状配列群18上に樹脂やSiO
2からなる平滑膜を形成し、この平滑膜上に画素ごとに
配したカラーフィルタ6を形成してもよい。 【0037】他方部材については、ガラス基板3上に多
数平行にストライプ状配列したITOからなる透明電極
10と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からな
る配向膜11とを順次形成している。透明電極10と配
向膜11との間に樹脂やSiO2からなる絶縁層を介在
させてもよい。 【0038】そして、上記構成の一方部材および他方部
材を、たとえば200〜260°の角度でツイストされ
たカイラルネマチック液晶からなる液晶12を介してシ
ール部材13により貼り合わせる。また、両部材間には
液晶12の厚みを一定にするためにスペーサを多数個配
している。 【0039】さらにガラス基板3の外側にポリカーボネ
イトなどからなる第1位相差フィルム14と第2位相差
フィルム15とヨウ素系の偏光板16とを順次形成す
る。これらの配設については、アクリル系の材料からな
る粘着材を塗布することで貼り付ける。 【0040】上記構成の液晶表示装置17においては、
太陽光、蛍光灯などの外部照明による入射光は偏光板1
5、第2位相差フィルム14、第1位相差フィルム13
およびガラス基板3を通過し、液晶12、カラーフィル
タ6などを通して半透過膜19に到達し、半透過膜19
にて光反射され、反射モードとして、その反射光が出射
される。 【0041】かくして本発明の液晶表示装置17におい
ても、光散乱板を使用しないことで、従来のような後方
散乱という課題が解消され、その結果、反射型表示モー
ドのOFF時の明るさが低減し、コントラストが向上し
た。 【0042】そして、この液晶表示装置17では、ガラ
ス基板2の外側にポリカーボネイトなどからなる位相差
フィルム(図示せず)とヨウ素系の偏光板(図示せず)
とを順次形成し、さらにバックライト(B/L)を配設
することで、透過型表示モードになる。 【0043】〔一方部材の形成方法〕ガラス基板2上の
凸状配列群18の形成方法を図3〜図14により述べ
る。 【0044】図3と図4は凸状配列群18の形成工程
図、図5は凸状配列群18を形成するためのフォトマス
クの平面図、図6は他のフォトマスクの平面図である。
また、図7は現像時間と凸状配列群の凹凸高低差との関
係を示し、図8は現像時間の違いによる光感光性樹脂層
の形状変化を示す。さらに図9〜図12は半透過膜の構
成を示す。図13はカラーフィルタ6の形成工程図であ
り、図14は光通過孔を形成した半透過膜19におい
て、反射モードと透過モードに適用する場合の双方の領
域を示す。 【0045】まず、図3と図4に示す工程図でもって凸
状配列群18の形成方法を述べる。 【0046】以下、(a)工程〜(h)工程の順にした
がって形成する。 【0047】(a)工程 アクリル系樹脂を主成分とし、溶媒としてジエチレング
リコールメチルエチルエーテルを使用した光感光性樹脂
(商品:PC405H・JSR株式会社製)をスピンコ
ート塗布する。この樹脂の膜厚はスピンナ回転数により
制御でき、本例ではスピンナ回転数を1000rpmに
して1.5μm程度の厚さのポジ型光感光性樹脂を塗布
した。凸状配列群18の膜厚は、この工程のスピンナ回
転数で調整することができる。 【0048】(b)工程 上記のように塗布された基板を、たとえば90℃の温度
で2分間、ホットプレートによりプリベークした。 【0049】(c)工程 次にフォトリソ用マスクを用いて露光をおこなう。この
露光は基板の法線方向にUVを用いて全面露光する。 【0050】このフォトリソ用マスクを図5または図6
に示す。フォトマスク20はガラス基板21上にCr金
属や酸化鉄などからなる多数の円状スポット22(たと
えば6μm径)をランダム状態に配置したものであり、
画像表示面が5.7インチサイズである場合、一表示面
に対応するガラス基板21上には約5000万個のスポ
ットが配置される。 【0051】また、スポットは円状以外に、図6に示す
フォトマスク23のように、たとえば四角形、五角形、
六角形、さらにそれ以上の多角形スポット24であって
もよいが、見る方向によって散乱特性に違いが生じない
ように円形にするのがよい。そして、このスポット形状
とほぼ同一形状の凸部が形成される。 【0052】このようにフォトリソ用マスクを用いてU
V露光をおこなうが、そのマスク20、23のスポット
22、24において、それぞれの端部付近では、UVが
広がることで、後述する現像後の凸部では角部がなくな
っている。 【0053】(d)工程 (c)工程である露光を経た後、現像をおこなう。現像
液としては、たとえばJSR株式会社製のPD523A
D(濃度0.05%)を使用する。そして、現像時間を
変えることで現像の進行を加減することができるが、現
像を適度に止めることで、隣り合う各凸部間にて双方の
端部が接続され、連続的に繋がる。 【0054】図7および図8により現像の進行程度によ
る凸部の状態を示す。図7において、現像時間による凹
凸高低差を示し、横軸は現像時間(秒)であり、縦軸は
凹凸高低差(μm)であり、黒点は測定データである。 【0055】現像時間が約25秒までは時間の増大する
にしたがって凹凸高低差が大きくなるが、現像時間が約
25秒を超えると、ガラス基板2が露出され、現像によ
る深度が一定になることで凹凸高低差の変動が非常に小
さくなっている。 【0056】図8においては、測定データである黒点の
うち(a)と(b)と(c)について、それぞれのガラ
ス基板2上の凸状配列群の断面形状を示す。 【0057】たとえば、現像時間を20秒にすればよい
が、この現像時間もレジスト塗布量、現像液濃度、プリ
ベーク条件等により適宜変えればよい。 【0058】(e)工程 (c)の露光工程においては、多数の凸部をランダムに
並べた凸状配列群18を形成するためであるが、本工程
においては、凸状配列群18に対し、前記光通過孔を形
成した部位に対応する透明樹脂の凸部の樹脂部分に切欠
部pを形成するために、同様にフォトリソ用マスクを用
いてUV露光をおこなう。 【0059】(f)工程 (e)の露光工程を経た後、(d)工程と同様に現像を
おこない、切欠部pを形成する。 【0060】また、(c)および(e)の露光工程を連
続しておこない、現像工程を一括してもよい。すなわ
ち、凸状配列群18の凸部である凹凸形状の形成と、欠
陥部pを一度の現像工程で形成できる。 【0061】(g)工程 この加熱処理でもって、たとえば低温(130℃、2
分)にて表面形状が大きく変化しない程度に熱溶融させ
る。このような熱ダレを利用することで、さらに滑らか
な表面性状にしている。 【0062】(h)工程 次のポストべークでもって、たとえば高温(200℃、
30分)にて全体を硬化させる。 【0063】このように(g)工程によって若干溶解さ
せて表面形状をなめらかにして、凹凸形状に対し微調整
をおこない、ついで(h)工程により硬化させる。 【0064】(i)工程 最後に凸状配列群18上にスパッタリングや蒸着法でも
ってクロムやアルミニウム、銀などの金属からなる半透
過膜19を、たとえば厚み1000Åの金属膜をスパッ
タリンングとフォトリソ法とを組合せて形成し、次いで
カラーフィルタ6を塗布形成する。 【0065】なお、上述した凸状配列群18の形成工程
においては、凸状配列群18を形成するための(c)の
露光工程と(d)の現像工程を経た後に、切欠部pを形
成すべく(e)の露光工程と(f)の現像工程をおこな
ったが、これに代えて、さきに切欠部pを形成すべく
(e)の露光工程と(f)の現像工程をおこない、次い
で凸状配列群18を形成するための(c)の露光工程と
(d)の現像工程をおこなってもよい。 【0066】また、(c)および(e)の露光工程を連
続しておこない、そして、現像工程を一括してもよく、
このようにして凹凸形状形成と欠陥部pを一度の現像工
程で形成できる。 【0067】以上の各工程(a)〜(i)を経て得られ
た半透過膜19が被覆された凸状配列群18によれば、
熱溶融により凸部が滑らかな形状になり、さらに隣り合
う各凸部が接続されている。 【0068】そして、半透過型液晶表示装置17におい
ては、凸状配列群18の隣り合う各凸部を接続させるの
がよく、これによって各凸部の間に平坦部が存在しなく
なって、凸状配列群18の平坦度が低下し、正反射成分
が減少し、光散乱性が改善され、その結果、視野角が広
くなった。なお、部分的にわずかに非接続部分があって
も光散乱性に影響がない。 【0069】また、凸状配列群18を形成するに当た
り、(g)工程の加熱処理(表面形状が大きく変化しな
い程度の熱溶融工程)を除外して、その他の各工程
(a)〜(f)、(h)、(i)でもって形成してもよ
い。 【0070】このように(g)工程が除かれた形成方法
によって半透過膜19が被覆された凸状配列群18を設
けた場合には、熱溶融しないことで、凸部形状は上面に
若干平坦部が存在するが、上記のように凸状配列群18
の平坦度は低下し、同様に正反射成分が減少し、これに
よって光散乱性が改善され、視野角が広くなった。 【0071】以下、この(i)工程に関する半透過膜1
9とカラーフィルタ6とを、さらに述べる。 【0072】半透過膜19について 図9〜図12にてパターニングした半透過膜19の形状
を示す。 【0073】半透過膜19は金属膜と光通過孔でもって
光透過性と光反射性の双方の特性を具備しており、しか
も、2枚の偏光板の間に挟んだ時に位相差を生じないよ
うにするとよい。 【0074】この半透過膜19を示す図9〜図12によ
れば、図9(A)は半透過膜19の拡大平面図であり、
同図(B)は一画素の拡大平面図である。図10〜図1
2は他の半透過膜19の一画素の拡大平面図である。 【0075】図9(A)に示すように、各画素にはそれ
ぞれほぼ同じ構成の光通過孔26を形成している。そし
て、図9(B)に示すように個々の画素は光通過孔26
をなす透過領域と、金属膜25が形成される反射領域
と、隣接する画素との隙間となる画素間領域とからな
る。 【0076】半透過膜19はクロムやアルミニウム、銀
などの遮光性のある金属膜25でもって形成し、さらに
金属膜25の面内に光通過孔26を形成するが、この金
属膜25自体に光反射膜としての機能もある。そして、
光通過孔26の面積比率により光透過性と光反射性の双
方の機能を具備させる。たとえば、反射領域と透過領域
との面積比率は75:25にするよい。この比率は、金
属膜をスパッタリング法にて成膜した後のフォトリソ法
において、マスク設計をおこなうことで得られる。 【0077】このような半透過膜19に使用している金
属膜は、その膜厚を300Å以上にするとよく、これに
よって遮光性と光反射性の双方の機能をもたせることが
できる。 【0078】また、光通過孔26の面積を大きくすれ
ば、透過型表示モードに適した構成になり、その面積を
小さくすれば、反射型表示モ−ドに適した構成になる。 【0079】上記半透過膜19の一画素は、図9(B)
に示すような光通過孔26の形状以外に、さまざまな形
状と光通過孔26を形成してもよく、たとえば、図10
〜図12にて示す。図10の画素と図14の画素におい
ては、画素領域内を2分し、一方を反射領域となし、他
方を透過領域としている。図12の画素では円形の透過
領域を形成している。 【0080】また、図9(B)および図10〜図12に
て示す各画素において、反射領域を透過領域に、透過領
域を反射領域というように逆に構成してもよい。 【0081】カラーフィルタ6について 上記のようにパターニングした半透過膜9を形成した
後、図13に示す工程でもってカラーフィルタ6を塗布
形成する。 【0082】同図において、(イ)〜(チ)の各工程順
に形成する。以下、各工程を述べる。なお、前述にした
がって、(イ)と(ロ)の各工程にて凸状配列群18を
形成し、(ハ)の工程にて半透過膜9を形成する。 【0083】(イ)工程 ガラス基板上に光感光性樹脂をスピンナーにて塗布し、
フォトリソ工程により、凹凸構造を形成する。 【0084】本例ではスピンナ回転数1000rpmに
対して1.5μm前後の厚さのポジ型光感光性樹脂を塗
布した。また、フォトリソ工程により、凸部の直径は1
0μm前後、凹凸高低差は0.4μm前後の凹凸形状を
作製した。 【0085】(ロ)工程 この工程にて、各画素に一定の面積で凹凸樹脂を取り除
くが、フォトリソ工程でおこなう。 【0086】(イ)の露光工程と(ロ)の露光工程を連続し
ておこない、そして、現像工程を一括してもよく、この
ようにして凹凸形状形成と欠陥部pを一度の現像工程で
形成できる。 【0087】このように(イ)と(ロ)の各工程を経る
ことで、凸状配列群18を形成する。 【0088】(ハ)工程 この工程でもって半透過膜19を形成する。 【0089】まず、金属膜を全面にわたって被着する。
たとえば、本例では、金属膜がAl膜であり、その膜厚
を1000Åにてスパッタリングした。そして、(ロ)工
程により作製した欠陥部pに対応する部位に存在する金
属膜の部分をフォトリソにより取り除き、光通過孔26
を形成する。 【0090】各画素にはそれぞれほぼ同じ構成の光透過
孔26が形成されるが、個々の画素には光透過孔26を
なす透過領域と、金属膜25が形成されている反射領域
とからなる。そして、透過領域と反射領域との面積比率
を最適に規定することで、液晶表示装置としての光透過
性と光反射性の双方の機能を具備する。たとえば、反射
領域と透過領域の面積比率は75:25がよく、この比
率は凹凸樹脂および金属膜のフォトリソにおいて、その
際のマスク設計をおこなうことで得られる。 【0091】(ニ)工程 顔料分散方式にしたがって、ブラックマトリクス樹脂を
塗布し、フォトリソ工程にて所定の部位に配設する。こ
のブラックマトリクスは、画素間の反射光の光漏れを防
ぐために形成するが、このブラックマトリクスでもって
コントラストが増加する。 【0092】(ホ)工程 顔料分散方式にしたがって、赤顔料により調合された感
光性レジストを基板上に塗布し、次いでフォトリソグラ
フィにて所定に部位に配設する。図13にてRed
(赤)形成と記す。 【0093】(ヘ)工程 Green(緑)形成として、緑顔料により調合された
感光性レジストを基板上に塗布し、次いでフォトリソグ
ラフィにて所定に部位に配設する。 【0094】(ト)工程 Blue(青)形成として、青顔料により調合された感
光性レジストを基板上に塗布し、次いでフォトリソグラ
フィにて所定に部位に配設する。 【0095】(チ)工程 アクリル系樹脂を塗布することで、オーバーコート層7
を被覆する。 【0096】かくして上記工程により得られたカラーフ
ィルタ基板においては、図3の要部断面図にて示すよう
に、カラーフィルタ塗布面をフラットに形成すると、切
欠部pでのカラーフルタの膜厚はそれ以外での膜厚dよ
り凸部の樹脂高さの分だけ大きくなる。たとえば、それ
以外のカラーフィルタ膜厚をdとすると、切欠部pのカ
ラーフィルタ膜厚は1.5d以上にするとよい。 【0097】そして、本発明によれば、上記工程により
得られたカラーフィルタ基板を用いて、図1に示すよう
な本発明の液晶表示装置17が得られる。 【0098】次に本発明者は、図18に示す如くカラー
フィルタ基板を作製し、これでもって図1に示す構成の
液晶表示装置17を作製し、光学特性を測定した。同図
aは比較例のカラーフィルタ基板であり、同図bは本発
明のカラーフィルタ基板である。 【0099】双方とも前述した工程によりガラス基板2
の上にアクリル系樹脂からなる凸部の凸状配列群18を
形成し、その上に厚み1000Åのアルミニウム金属膜
にて半透過膜19を被覆し、さらにカラーフィルタ6と
アクリル系樹脂からなるオーバーコート層7とを順次塗
布形成する。 【0100】ただし、双方との間において、本発明の液
晶表示装置にて、切欠部pを形成する以外に、構成上の
差はない。 【0101】また、d=0.8μmにすることで、反射
領域のカラーフィルタ膜厚を0.8μmにして、透過領
域のカラーフィルタ膜厚を1.6μmにしている。よっ
て、凸状配列群の厚みを平均にて0.8μmにしてい
る。 【0102】そして、これらの液晶表示装置に対し、そ
れぞれ図19に示すように光学特性を測定した。同図a
は反射モードを測定する場合を、同図bは透過モードを
測定する場合を示す。 【0103】反射モードの場合、液晶パネルの上部から
光(C光源)を入射させ、液晶パネルを駆動させた際(白
表示、黒表示、RGB表示(Red、Green、Bl
ue表示)の反射光の反射率、コントラストおよび色域
面積(色再現性)を測定した。 【0104】また、透過モードの場合は、測定対象下部
から光(C光源)を入射させ、液晶パネルを駆動させた際
の透過率、コントラストおよび色域面積を測定した。 【0105】ちなみに、図20にて色域面積の定義を示
すが、色域面積は各RGBの色度点を囲んだ面積であっ
て、この面積が大きくなることに伴い、色再現性が高く
なり、色純度の高いパネル表示が得られる。 【0106】以上のような評価手法にて表1と表2に示
すように、本発明の半透過型液晶表示装置と、比較例で
ある従来の半透過型液晶表示装置の光学特性が得られ
た。 【0107】 【表1】 【0108】表1においては、Ron、Tonは、それ
ぞれ白表示した場合の反射率、透過率であり、Rof
f、Toffは、それぞれ黒表示した場合の反射率、透
過率であり、さらにコントラストも示す。 【0109】表1に示す結果から明らかなとおり、本発
明の液晶表示装置は、従来の液晶表示装置に比べて、透
過モードにて顕著な効果が得られ、従来であれば、2.
45%であることに対し、本発明では2.78%に大き
くなり、約1.13倍に増大している。さらにコントラ
ストについても、反射モードおよび透過モードともに大
きくなっている。 【0110】参考までに、アクリル系樹脂からなる凸部
の凸状配列群18に対する分光特性を図17に示す。同
図の横軸は波長であり、縦軸は透過率(%)である。 【0111】このように凸状配列群を光通過すること
で、約10%程度光吸収が生じる。したがって、本発明
によれば、凸状配列群による光吸収がなく、これによっ
て透過率が増加している。 【0112】また、表1から明らかなとおり、本発明の
液晶表示装置によれば、従来のものと比べて、色域面積
が大きく、これによって色再現性が高く、色純度の高い
パネル表示が得られたことがわかる。 【0113】図15に本発明の液晶表示装置のRGB色
度図を示し、図16に従来の液晶表示装置のRGB色度
図を示す。これらRGB色度および色域面積を比較した
結果、従来では反射モードと透過モードの色域面積が大
きく異なっているのに対し、本発明では反射モードと透
過モードの色域面積がほぼ等しく、色再現性の両立度が
向上している。 【0114】本発明者は、上記の結果について、次のよ
うに考える。すなわち、カラーフィルタの膜厚をdとし
た場合に、従来における入射光のカラーフィルタ通過距
離は、反射モード時は2dであるのに対し、透過モード
はdとなるが、入射光のカラーフィルタ通過距離と色再
現性は比例の関係にあることで、従来の場合、反射・透
過のモードによりカラーフィルタの通過距離が異なるこ
とに起因し、両モードによる色再現性に差が生じ、とく
に透過モードでは、カラーフィルタの通過距離が短いた
めに、色再現性が劣化したと考える。本発明者が表示の
目視観察による評価を行なっても、色が淡く感じられた
ことを確認している。 【0115】一方、本発明の液晶表示装置によれば、透
過領域におけるカラーフィルタ膜厚が反射領域カラーフ
ィルタの膜厚の約2倍程度になっているため、入射光の
カラーフィルタ通過距離は、反射モード、透過モードと
もに2dとなり、これにより、透過モードの色再現性は
向上し、反射モードの色再現性と同等になり、その結
果、両モードによる色再現性に差が生じないと考える。 【0116】このように本発明による液晶表示装置にお
いては、反射モードと透過モードの色再現性の両立度を
向上させることができた。 【0117】また、本発明の液晶表示装置17において
は、半透過膜19を光通過孔26が形成された金属膜2
5にて形成したことで、反射型表示モードにて使用する
場合には、金属膜25に到達した光を反射させ、これに
よって反射性能をもっとも高めることができた。しか
も、透過型表示モードの使用においても、半透過膜19
にて光吸収されることなく、光通過孔26を通過するだ
けであり、そのためにもっとも透過性能を高めることが
できた。 【0118】次に本発明者は凸状配列群18の平均膜厚
と配向膜9の平坦性との関係を検討する。 【0119】ガラス基板2上に前述した工程を経ること
で、アクリル系樹脂からなる半球状の凸部を多数配列し
てなる凸状配列群18を形成し、この凸状配列群18上
に光通過孔を有する金属膜(厚み1000Åのアルミニ
ウム金属膜)にて形成した半透過膜19を被覆し、そし
て、前述した工程でもって、この半透過膜19を被覆し
た凸状配列群18上に画素ごとに配したカラーフィルタ
6を形成し、さらにアクリル系樹脂からなるオーバーコ
ート層7(膜厚2.2μm)と、多数平行にストライプ
状配列したITOからなる透明電極8(膜厚0.1μ
m)と、一定方向にラビングしたポリイミド樹脂からな
る配向膜9(膜厚0.04μm)を形成している。 【0120】このような構成において、まず図21に
て、凹凸樹脂膜厚と凹凸段差の定義を示す。 【0121】凹凸樹脂(凸状配列群18)の膜厚は、光
感光性樹脂のレジスト塗布膜厚によって決まり、その凹
凸段差は、凹凸形状の形成の際の現像工程でもって決定
する。前述した通り、反射領域のカラーフィルタ膜厚を
dとした場合、透過領域のカラーフィルタ膜厚は1.5
d以上が望ましいと考えると、凹凸樹脂膜厚は大きい方
が有利となる。 【0122】しかしながら、この凹凸樹脂膜厚が大きく
なるに伴い、オーバーコート層7の塗布後の表面段差が
大きくなり、この段差が、ITO/配向膜形成後の配向
膜表面の平坦性に影響し、配向膜の平坦性が確保できな
くなる。 【0123】したがって、オーバーコート層7の表面段
差が0.3μmを超える場合、配向膜の平坦性が確保で
きなくなり、液晶分子の配向不良およびセルギャップム
ラから、表示特性の低下につながる可能性があること
で、オーバーコート層7の表面段差を0.3μm以下に
抑えることが望ましい。 【0124】そこで、配向膜の平坦性が確保できる条件
を見出すために、図22にて凹凸樹脂(凸状配列群1
8)の膜厚とオーバーコート層表面段差の関係を示し
た。 【0125】オーバーコート層7(OC)の表面段差を
0.3μm以下にするためには、凹凸樹脂を2.0μm
以下にするとよいが、これによって反射領域と透過領域
の段差が小さくなり、その結果、配向膜の平坦性に問題
が無くなる。 【0126】図23に凹凸樹脂膜厚による散乱特性を示
す。また、図24に、凹凸樹脂膜厚による視角性ΔSA
を示した。ΔSAは、凹凸形状から決定される視角性の
パラメータであり、この値が大きい程、広い範囲で高い
反射率を得ることができ、広視野角パネル表示が実現で
きる。目視によるパネル視野角評価では、ΔSAは50
°以上を必要とすることを確認した。 【0127】図24に示す結果から明らかなとおり、Δ
SAを50°以上にするためには、凹凸樹脂膜厚を0.
4μm以上にするとよい。この凹凸樹脂(凸状配列群1
8)の膜厚が0.4μm未満では、ΔSAが急激に低下
している。これは、凹凸樹脂膜厚と凹凸段差がほぼ同じ
になるため、凹凸形状表面に、ガラス基板表面が剥き出
しになる領域が存在し始めるためである。よって、視角
特性面においては、凹凸樹脂膜厚は0.4μm以上が望
ましい。 【0128】以上の考察の総合評価を、表2にまとめ
た。 【0129】 【表2】 【0130】この表によれば、信頼性(図23)と特性面
(図24.25)の評価を×〜◎で表現し、総合的に見た
時の、最適な凹凸樹脂膜厚を選定している。 【0131】以上の結果から明らかなとおり、配向膜の
平坦性および特性面において最適となる膜厚を検討する
と、凹凸樹脂(凸状配列群18)の膜厚は0.4〜2.
0μmの範囲にするとよいことがわかった。 【0132】ちなみに、本実施例においては、凹凸樹脂
膜厚を1.0μmにしているため、反射領域と透過領域
の段差は小さく、配向膜の平坦性に与える影響は無い。 【0133】なお、本発明は上記実施形態例に限定され
るものでなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々
の変更や改善などは何ら差し支えない。 【0134】たとえば、上記の実施形態においては、S
TN型単純マトリックスタイプのカラー液晶表示装置で
もって説明しているが、その他にモノクロのSTN型単
純マトリックスタイプの液晶表示装置であっても、ある
いはTN型単純マトリックスタイプの液晶表示装置であ
っても、さらに双安定型の液晶表示装置でも同様な作用
効果が得られる。 【0135】 【発明の効果】以上のとおり、本発明の半透過型液晶表
示装置においては、基板上に凸状配列群を形成し、この
凸状配列群上に光通過孔を有する金属膜にて形成した光
半透過膜を被覆し、そして、凸状配列群の膜厚を0.4
〜2.0μmに設定するとともに、光半透過膜の光通過
孔を形成した部位に対応する透明樹脂製凸部の樹脂部分
を切欠いたことで、透過モードにて顕著な透過率が向上
し、さらにコントラストについても、反射モードと透過
モードともに大きくなり、しかも、色域面積が大きくな
って、色再現性が高く、色純度が高くなり、反射モード
と透過モードの色再現性の両立度を向上させることがで
きた。 【0136】また、本発明の半透過型液晶表示装置にお
いては、基板上に多数の透明樹脂製凸部をランダムに並
べた凸状配列群を形成し、この凸状配列群上に半透過膜
を被覆したことで、光散乱板を取り除くことができ、こ
れによって従来の後方散乱が解消され、反射型表示モー
ドのOFF時の明るさが低減し、その結果、コントラス
トが向上した高性能な半透過型液晶表示装置が提供でき
た。 【0137】さらにまた、本発明においては、凸状配列
群を構成する各凸部において、隣り合う各凸部が接続さ
れることで、光散乱性能が向上し、視野角が広くなり、
これによって良好な表示特性をもつ高性能かつ高信頼性
の半透過型液晶表示装置が提供できた。 【0138】しかも、このように各凸部を接続させるに
際し、現像の進行を適度に止めることで容易に達成さ
れ、これによって生産コストを下げることができた。 【0139】その上、本発明の半透過型液晶表示装置に
よれば、半透過膜を光通過孔が形成された金属膜にて形
成したことで、反射型表示モードにて使用する場合に
は、金属膜にて最大の反射性能が得られ、一方の透過型
表示モードにおいても、半透過膜にて光吸収されないこ
とで、最大に透過性能が得られ、これによって双方の機
能を最大に活用することができ、反射型表示モードにて
使用する場合でもOFF時の明るさをもっとも低減で
き、その結果、コントラストがもっとも向上した高性能
な半透過型液晶表示装置が提供できた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半透過型液晶表示装置の断面概略図で
ある。 【図2】本発明の半透過型液晶表示装置の要部拡大断面
図である。 【図3】(a)〜(e)は本発明の半透過型液晶表示装
置に係る凸状配列群の形成工程図である。 【図4】(f)〜(i)は本発明の半透過型液晶表示装
置に係る凸状配列群の形成工程図である。 【図5】凸状配列群を形成するためのフォトマスクの平
面図である。 【図6】凸状配列群を形成するための他のフォトマスク
の平面図である。 【図7】凸状配列群を形成する際の現像時間と凸状配列
群の凹凸高低差との関係を示す線図である。 【図8】凸状配列群を形成する際の現像時間の違いによ
る光感光性樹脂層の形状変化を示す図である。 【図9】(A)は半透過膜の拡大平面図であり、(B)
は各画素の拡大平面図である。 【図10】画素の拡大平面図である。 【図11】画素の拡大平面図である。 【図12】画素の拡大平面図である。 【図13】(イ)〜(チ)は本発明の半透過型液晶表示
装置に係るカラーフィルタの形成工程図である。 【図14】本発明の半透過型液晶表示装置に係るカラー
フィルタ基板の断面概略図である。 【図15】本発明の液晶表示装置のRGB色度図を示
す。 【図16】従来の液晶表示装置のRGB色度図を示す。 【図17】凸状配列群に対する分光特性を示す線図であ
る。 【図18】aは従来のカラーフィルタ基板の拡大断面図
であり、bは本発明に係るカラーフィルタ基板の拡大断
面図である。 【図19】aは反射モードの測定方法を示す説明図であ
り、bは透過モードの測定方法を示す説明図である。 【図20】色域面積の定義を示す説明図である。 【図21】凹凸樹脂(凸状配列群)膜厚と凹凸段差の定
義を示す断面説明図である。 【図22】凹凸樹脂(凸状配列群)の膜厚と配向膜平坦
性の関係を示す線図である。 【図23】凹凸樹脂(凸状配列群)の膜厚による散乱特
性を示す線図である。 【図24】凹凸樹脂(凸状配列群)の膜厚と視角性ΔS
Aとの関係を示す線図である。 【図25】従来の半透過型液晶表示装置の断面概略図で
ある。 【符号の説明】 2、3…ガラス基板 18…凸状配列群 6…カラーフィルタ 7…オーバーコート層 8、10…透明電極 9、11…配向膜 12…液晶 13…シール部材 14…第1位相差フィルム 15…第2位相差フィルム 16…偏光板 17…半透過型液晶表示装置 19…半透過膜 26…光通過孔 p…切欠部
ある。 【図2】本発明の半透過型液晶表示装置の要部拡大断面
図である。 【図3】(a)〜(e)は本発明の半透過型液晶表示装
置に係る凸状配列群の形成工程図である。 【図4】(f)〜(i)は本発明の半透過型液晶表示装
置に係る凸状配列群の形成工程図である。 【図5】凸状配列群を形成するためのフォトマスクの平
面図である。 【図6】凸状配列群を形成するための他のフォトマスク
の平面図である。 【図7】凸状配列群を形成する際の現像時間と凸状配列
群の凹凸高低差との関係を示す線図である。 【図8】凸状配列群を形成する際の現像時間の違いによ
る光感光性樹脂層の形状変化を示す図である。 【図9】(A)は半透過膜の拡大平面図であり、(B)
は各画素の拡大平面図である。 【図10】画素の拡大平面図である。 【図11】画素の拡大平面図である。 【図12】画素の拡大平面図である。 【図13】(イ)〜(チ)は本発明の半透過型液晶表示
装置に係るカラーフィルタの形成工程図である。 【図14】本発明の半透過型液晶表示装置に係るカラー
フィルタ基板の断面概略図である。 【図15】本発明の液晶表示装置のRGB色度図を示
す。 【図16】従来の液晶表示装置のRGB色度図を示す。 【図17】凸状配列群に対する分光特性を示す線図であ
る。 【図18】aは従来のカラーフィルタ基板の拡大断面図
であり、bは本発明に係るカラーフィルタ基板の拡大断
面図である。 【図19】aは反射モードの測定方法を示す説明図であ
り、bは透過モードの測定方法を示す説明図である。 【図20】色域面積の定義を示す説明図である。 【図21】凹凸樹脂(凸状配列群)膜厚と凹凸段差の定
義を示す断面説明図である。 【図22】凹凸樹脂(凸状配列群)の膜厚と配向膜平坦
性の関係を示す線図である。 【図23】凹凸樹脂(凸状配列群)の膜厚による散乱特
性を示す線図である。 【図24】凹凸樹脂(凸状配列群)の膜厚と視角性ΔS
Aとの関係を示す線図である。 【図25】従来の半透過型液晶表示装置の断面概略図で
ある。 【符号の説明】 2、3…ガラス基板 18…凸状配列群 6…カラーフィルタ 7…オーバーコート層 8、10…透明電極 9、11…配向膜 12…液晶 13…シール部材 14…第1位相差フィルム 15…第2位相差フィルム 16…偏光板 17…半透過型液晶表示装置 19…半透過膜 26…光通過孔 p…切欠部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】基板の一方主面上に多数の透明樹脂製凸部
をランダムに並べた凸状配列群を形成し、この凸状配列
群上に光通過孔を有する金属膜にて形成した光半透過膜
を被覆し、この光半透過膜上に透明電極と配向層とを順
次積層してなる一方部材と、透明基板上に透明電極と配
向層とを順次積層してなる他方部材との間にネマチック
型液晶を介在させてマトリックス状に画素を配列せしめ
てなる半透過型液晶表示装置であって、前記凸状配列群
の膜厚を0.4〜2.0μmに設定するとともに、光半
透過膜の光通過孔を形成した部位に対応する透明樹脂製
凸部の樹脂部分を切欠いたことを特徴とする半透過型液
晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001193740A JP2003005175A (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 半透過型液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001193740A JP2003005175A (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 半透過型液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003005175A true JP2003005175A (ja) | 2003-01-08 |
Family
ID=19031965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001193740A Pending JP2003005175A (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 半透過型液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003005175A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006018205A (ja) * | 2003-07-23 | 2006-01-19 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、表示装置、電気光学装置および電子機器 |
| WO2006008901A1 (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US7663585B2 (en) | 2004-05-18 | 2010-02-16 | Funai Electric Co., Ltd. | Television apparatus having liquid crystal display |
-
2001
- 2001-06-26 JP JP2001193740A patent/JP2003005175A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006018205A (ja) * | 2003-07-23 | 2006-01-19 | Seiko Epson Corp | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、表示装置、電気光学装置および電子機器 |
| US7663585B2 (en) | 2004-05-18 | 2010-02-16 | Funai Electric Co., Ltd. | Television apparatus having liquid crystal display |
| WO2006008901A1 (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-26 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| JPWO2006008901A1 (ja) * | 2004-06-23 | 2008-05-01 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US7903206B2 (en) | 2004-06-23 | 2011-03-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and producing method thereof with reflection and transmission display and a color filter having a color reproduction range |
| JP4781268B2 (ja) * | 2004-06-23 | 2011-09-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040630 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040810 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041012 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20041214 |