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JP2003092469A - Multilayer wiring board, base material for multilayer wiring, and method of manufacturing the same - Google Patents

Multilayer wiring board, base material for multilayer wiring, and method of manufacturing the same

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Publication number
JP2003092469A
JP2003092469A JP2002188639A JP2002188639A JP2003092469A JP 2003092469 A JP2003092469 A JP 2003092469A JP 2002188639 A JP2002188639 A JP 2002188639A JP 2002188639 A JP2002188639 A JP 2002188639A JP 2003092469 A JP2003092469 A JP 2003092469A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin film
copper foil
multilayer wiring
conductive paste
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002188639A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Reiji Higuchi
令史 樋口
Shoji Ito
彰二 伊藤
Satoru Nakao
知 中尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP2002188639A priority Critical patent/JP2003092469A/en
Priority to TW091115224A priority patent/TW569653B/en
Priority to US10/190,496 priority patent/US6768064B2/en
Priority to KR10-2002-0039998A priority patent/KR100522385B1/en
Priority to CNB021261636A priority patent/CN1301045C/en
Publication of JP2003092469A publication Critical patent/JP2003092469A/en
Priority to US10/832,436 priority patent/US6914200B2/en
Priority to US10/832,433 priority patent/US7122746B2/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビア・オン・ビアやチップ・オン・ビアが可
能であり、また高密度実装が可能でかつ可撓性のあるF
PCを容易に多層化することができる多層配線板、多層
配線用基材及びその製造方法を得ることを目的とする。 【解決手段】 本発明に係る多層配線用基材は、接着性
を有する樹脂フィルム(1)の一方の面に銅箔(2)が
貼り付けられ、前記銅箔(2)及び樹脂フィルム(1)
を貫通するように貫通孔(7)が形成された銅張樹脂フ
ィルム(10)と、この銅張樹脂フィルム(10)の貫
通孔(7)に、前記銅箔側から先端(8b)が前記接着
剤層側に突出するようにスクリーン印刷により埋め込ま
れた導電ペースト(8)とを備えてなる。
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide via-vias or chip-on-vias, and to provide high-density mounting and a flexible F
It is an object of the present invention to obtain a multilayer wiring board, a substrate for multilayer wiring, and a method for manufacturing the same, which can easily form a multilayer PC. SOLUTION: In the multilayer wiring substrate according to the present invention, a copper foil (2) is adhered to one surface of an adhesive resin film (1), and the copper foil (2) and the resin film (1) are bonded together. )
A copper-clad resin film (10) in which a through-hole (7) is formed so as to penetrate through the copper-clad resin film (10); A conductive paste (8) embedded by screen printing so as to protrude toward the adhesive layer side.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、複数のプリント
配線板が積み上げられて多層化された多層配線板、それ
に用いられる多層配線用基材及びその製造方法に関する
ものであり、特に、フリップチップ実装(Flip Chip Mo
unting)などの高密度実装が可能でかつ可撓性を有する
多層配線板、多層配線用基材及びその製造方法に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer wiring board in which a plurality of printed wiring boards are stacked to form a multilayer structure, a multilayer wiring substrate used for the multilayer wiring board, and a method for manufacturing the same. (Flip Chip Mo
The present invention relates to a flexible multilayer wiring board capable of high-density mounting such as unting), a multilayer wiring substrate, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】フレキシブルプリント回路(以下、FP
Cと呼ぶ)は、可塑性を確保するため、厚さの薄い樹脂
フィルムを用いて構成される。そのため、FPCの場
合、本質的に多層配線構造の基板(多層配線板)の製造
が非常に困難であった。しかし、近年、FPCの高密度
実装化が進むにつれて、フリップチップ実装における引
き出し部の確保など、FPCにおいても多層配線化が必
要とされてきている。そこで、片面又は両面に回路パタ
ーンが形成された複数枚のFPCの間にガラエポのプリ
プレグなどを介して張り合わせ、全層を一括してドリル
などで穴あけし、スルーホールめっき等を用いて層間接
続を行うことにより多層配線化されたFPCが製造され
ている。
2. Description of the Related Art Flexible printed circuits (hereinafter referred to as FP
C) is formed by using a thin resin film in order to ensure plasticity. Therefore, in the case of FPC, it is very difficult to manufacture a substrate (multilayer wiring board) having a multilayer wiring structure. However, in recent years, along with the progress of high-density mounting of FPCs, it has become necessary to make multilayer wiring in FPCs, such as securing a lead portion in flip-chip mounting. Therefore, a plurality of FPCs with circuit patterns formed on one or both sides are laminated with a glass epoxy prepreg, etc., and all layers are collectively drilled, and through-hole plating is used to connect the layers. By doing so, a multi-layered FPC is manufactured.

【0003】しかし、このようなスルーホールめっきに
よる従来の多層配線板の製造方法では、めっき後もスル
ーホールの中央に穴ができるため、ビアホールの上に別
のビアホールを形成する、いわゆるビア・オン・ビア
や、ビアホールの上にチップを搭載する、いわゆるチッ
プ・オン・ビアが不可能であった。そのため、従来の多
層配線板の製造方法では、チップ直下から引き出し線を
引き出すことができないことや、必要以上に面積を占有
するため、高密度実装の妨げになっていた。
However, in the conventional method of manufacturing a multilayer wiring board by such through-hole plating, since a hole is formed in the center of the through-hole even after plating, another via hole is formed on the via hole, that is, so-called via-on.・ The so-called chip-on-via that mounts a chip on a via or via hole was impossible. Therefore, in the conventional method for manufacturing a multilayer wiring board, it is impossible to draw out the lead line from directly under the chip, and the area is occupied more than necessary, which hinders high-density mounting.

【0004】一方、ビア・オン・ビアが可能なリジッド
な多層配線板としては、例えば、多層配線板の各層間の
接続に導電ペーストを使用したALIVH(Any Layer
Interstitial Via Hole;松下電器産業株式会社の登録
商標)基板が知られている。ALIVH基板は、未硬化
樹脂基板に貫通孔を開け、その貫通孔に導電ペーストを
充填した後、銅箔(Cu箔)を張り合わせて、圧着させ
ながら樹脂を硬化させることにより層間を接続し、銅箔
のエッチングにより回路パターンを形成することを繰り
返して導体層を積み上げて多層化するようにしたもので
ある。
On the other hand, as a rigid multilayer wiring board capable of via-on-via, for example, ALIVH (Any Layer) using a conductive paste for connection between layers of the multilayer wiring board is used.
Interstitial Via Hole; a registered trademark of Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) Substrate is known. The ALIVH substrate has a through hole formed in an uncured resin substrate, filled with a conductive paste in the through hole, and then a copper foil (Cu foil) is attached to the substrate, and the resin is cured while being pressure-bonded to connect the layers to each other. The circuit pattern is repeatedly formed by etching the foil to stack conductor layers to form a multilayer structure.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記したAL
IVHのような多層配線板の製造方法では、導電ペース
トにより層間接続を行うので、ビア・オン・ビアは可能
であるが、この多層配線板の製造方法をFPCに適用し
ようとした場合、厚さの薄いポリイミドなどの樹脂フィ
ルムに穴を開け、また導電ペーストで穴を埋めなければ
ならず、多層配線されたFPCの製造が非常に困難であ
る。なぜなら、厚さの薄い樹脂フィルムでは、穴開け時
に、樹脂フィルムの歪みやドリルの巻き込みにより、穴
の位置、寸法などが変化してしまい、導電ペーストの印
刷や各層のアライメント精度が得られなくなる問題が生
じてしまうからである。
However, the above-mentioned AL
In a method for manufacturing a multilayer wiring board such as IVH, via-on-via is possible because interlayer connection is performed by using a conductive paste. However, when this method for manufacturing a multilayer wiring board is applied to an FPC, the thickness is Since it is necessary to make a hole in a thin resin film such as polyimide and to fill the hole with a conductive paste, it is very difficult to manufacture an FPC having a multilayer wiring. This is because, in the case of thin resin film, when drilling holes, due to distortion of the resin film and the inclusion of a drill, the positions and dimensions of the holes will change, and the printing of conductive paste and the alignment accuracy of each layer cannot be obtained. Is caused.

【0006】また、ALIVHを始めとした導電ペース
トにより層間接続を行う多層配線板の製造方法では、ビ
ア・オン・ビアは可能であるが、銅箔と導電ペーストの
電気特性を低下させないように、銅箔と導電ペーストと
を接続することは容易ではなく、各社独自の方法で行っ
ている。即ち、一般に、ビア・オン・ビアの層間接続を
する場合、ビアの導電ペーストと導電ペーストの間に銅
箔を挟むことにより、銅箔と導電ペーストを接続する。
このとき、銅箔と導電ペーストの電気特性を低下させな
いようにするため、銅箔に導電ペーストを突き刺すよう
に張り合わせている。
Further, in the method for manufacturing a multilayer wiring board in which interlayer connection is made by a conductive paste such as ALIVH, via-on-via is possible, but in order not to deteriorate the electrical characteristics of the copper foil and the conductive paste, It is not easy to connect the copper foil and the conductive paste, and each company uses its own method. That is, generally, in the case of via-on-via interlayer connection, the copper foil is connected to the conductive paste by sandwiching the copper foil between the conductive paste of the via.
At this time, in order to prevent the electrical characteristics of the copper foil and the conductive paste from deteriorating, the copper foil is laminated so as to pierce the conductive paste.

【0007】しかし、FPCの樹脂フィルムに用いられ
るポリイミドのように、熱プレス時に基板厚が減少しな
い材料を用いる場合には、そのような導電ペーストの突
起による銅箔への突き刺し効果は低下してしまう。その
結果、電気特性を低下させずに銅箔と導電ペーストを接
続するのは困難である。
However, when a material whose substrate thickness does not decrease during hot pressing, such as polyimide used for FPC resin film, is used, the effect of sticking the copper paste by the projection of such a conductive paste decreases. I will end up. As a result, it is difficult to connect the copper foil and the conductive paste without deteriorating the electrical characteristics.

【0008】さらに、貫通孔に導電ペーストの埋め込み
を行う場合、導電ペーストを押し込むように印刷するた
め、導電ペーストの印刷面側が少し窪んだように印刷さ
れる。そのため、導電ペーストで穴埋めした基板同士を
張り合わせても、導電ペースト同士の十分な電気接続性
を確保することはできないという問題があった。
Further, when the conductive paste is embedded in the through hole, the conductive paste is printed so as to be pressed in, so that the printed surface of the conductive paste is slightly recessed. Therefore, even if the substrates filled with the conductive paste are bonded together, there is a problem that sufficient electrical connectivity between the conductive pastes cannot be secured.

【0009】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたものであり、ビア・オン・ビアやチップ
・オン・ビアが可能であり、また高密度実装が可能でか
つ可撓性のあるFPCを容易に多層化することができる
多層配線板、多層配線用基材及びその製造方法を得るこ
とを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and enables via-on-via and chip-on-via, and enables high-density mounting and flexibility. An object of the present invention is to obtain a multilayer wiring board, a multilayer wiring base material and a method for manufacturing the same, which can easily form a multilayered FPC.

【0010】この発明の他の目的は、多層配線用基材の
貼り合わせ時に配線板全体に均一に力を加えることがで
き、それにより、確実な張り合わせを達成することがで
き、より良い電気接続性が得られる多層配線板を得るこ
とである。
Another object of the present invention is to uniformly apply a force to the entire wiring board at the time of adhering the multi-layer wiring base material, whereby a reliable bonding can be achieved and a better electrical connection can be achieved. Is to obtain a multi-layer wiring board that can obtain good properties.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明に係る多層配線用
基材は、接着性を有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔
が貼り付けられ、前記銅箔及び樹脂フィルムを貫通する
ように貫通孔が形成された銅張樹脂フィルムと、この銅
張樹脂フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記
樹脂フィルム側に突出するようにスクリーン印刷により
埋め込まれた導電ペーストとを備えてなることを特徴と
する。
A substrate for multi-layer wiring according to the present invention has a copper foil attached to one surface of a resin film having adhesiveness, and penetrates so as to penetrate the copper foil and the resin film. A copper-clad resin film having holes formed therein, and a through-hole of the copper-clad resin film, and a conductive paste embedded by screen printing so that the tip projects from the copper foil side to the resin film side. It is characterized by

【0012】本発明に係る多層配線用基材の製造方法
は、接着性を有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼
り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅箔及び樹脂フ
ィルムを貫通する貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔
に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フィルム側に突出す
るようにスクリーン印刷により導電ペーストを埋め込む
工程とを備えてなることを特徴とする。
In the method for producing a multilayer wiring substrate according to the present invention, the copper foil and the resin film are penetrated into a copper-clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film. The method is characterized by including a step of forming a through hole and a step of embedding a conductive paste in the through hole by screen printing so that a tip of the through hole projects from the copper foil side toward the resin film side.

【0013】また、本発明に係る他の多層配線用基材の
製造方法は、接着性を有する樹脂フィルムの一方の面に
銅箔が貼り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅箔を
エッチングして所定の回路パターンを形成する工程と、
前記回路パターンが形成された銅張樹脂フィルムの前記
樹脂フィルム側にマスク層を形成する工程と、前記銅
箔、樹脂フィルム及びマスク材を貫通する貫通孔を形成
する工程と、前記貫通孔に、前記銅箔側からスクリーン
印刷により導電ペーストを埋め込む工程と、前記マスク
材を除去する工程とを備えてなることを特徴とする。
Another method of manufacturing a multilayer wiring substrate according to the present invention is to etch a copper clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film, by etching the copper foil. And forming a predetermined circuit pattern,
A step of forming a mask layer on the resin film side of the copper clad resin film on which the circuit pattern is formed, a step of forming a through hole penetrating the copper foil, the resin film and a mask material, and the through hole, It is characterized by comprising a step of embedding a conductive paste by screen printing from the copper foil side and a step of removing the mask material.

【0014】本発明の多層配線用基板及びその製造方法
によれば、樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼り付けら
れた銅張樹脂フィルムに貫通孔を形成し、導電ペースト
を埋め込むようにしているので、樹脂フィルム単独で貫
通孔を形成し、導電ペーストを埋め込む場合に比べ、厚
みが厚くなる分だけ貫通孔が形成し易く、また、導電ペ
ーストも埋め込みやすくなる。この場合、導電ペースト
を、例えば銅箔の貫通孔の開口部周辺にはみ出るように
貫通孔に埋め込むようにすれば、銅箔と導電ペーストと
の電気接続性を向上させることができる。
According to the multilayer wiring substrate and the method of manufacturing the same of the present invention, the through holes are formed in the copper clad resin film in which the copper foil is attached to one surface of the resin film, and the conductive paste is embedded. Therefore, as compared with a case where the resin film alone is used to form the through-hole and the conductive paste is embedded, the through-hole can be formed more easily as the thickness increases, and the conductive paste can be embedded more easily. In this case, if the conductive paste is embedded in the through hole so as to protrude around the opening of the through hole of the copper foil, the electrical connectivity between the copper foil and the conductive paste can be improved.

【0015】本発明に係る多層配線板は、上述した多層
配線用基材を、導電ペーストの先端が隣接する多層配線
用基材の銅箔又は導電ペーストと接続されるように複数
積層してなることを特徴とする。
A multilayer wiring board according to the present invention is formed by laminating a plurality of the above-mentioned multilayer wiring base materials such that the tip of the conductive paste is connected to the copper foil or the conductive paste of the adjacent multilayer wiring base material. It is characterized by

【0016】本発明に係る多層配線板の製造方法は、上
述した多層配線用基材を、前記導電ペーストの先端が隣
接する多層配線用基材の銅箔又は導電ペーストと接続さ
れるように複数積層して前記接着性を有する樹脂フィル
ムによって貼り合わせるようにしたことを特徴とする。
In the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention, a plurality of the above-mentioned multilayer wiring base materials are connected so that the tip of the conductive paste is connected to the copper foil or the conductive paste of the adjacent multilayer wiring base material. It is characterized in that they are laminated and bonded together by the resin film having the adhesive property.

【0017】本発明の多層配線板及びその製造方法によ
れば、多層配線用基材の導電ペーストを、銅張樹脂フィ
ルムの貫通孔に、先端が樹脂フィルム側に突出するよう
に、銅箔側からスクリーン印刷によって埋め込むように
しているので、多層配線用基材を複数積層した場合、導
電ペーストの先端が隣接する多層配線用基材の銅箔又は
導電ペーストに確実に接続され、多層配線板として構成
した場合に、層間の電気接続性を格段に向上させること
ができる。特に銅箔を介さない導電ペースト同士の直接
接続は、電気的接続性の向上に寄与する。
According to the multilayer wiring board and the method for manufacturing the same of the present invention, the conductive paste of the multilayer wiring substrate is applied to the through hole of the copper clad resin film so that the tip projects toward the resin film side. Since it is embedded by screen printing from multiple layers, when multiple layers of multilayer wiring base materials are stacked, the tip of the conductive paste is surely connected to the adjacent copper foil or conductive paste of the multilayer wiring base material, and as a multilayer wiring board. When configured, the electrical connectivity between layers can be significantly improved. In particular, the direct connection between the conductive pastes not via the copper foil contributes to the improvement of electrical connectivity.

【0018】なお、接着性を有する樹脂フィルムとして
は、例えば熱可塑性ポリイミド等の熱可塑性樹脂を使用
することができる。この場合、多層配線用基材を積層
し、加熱することにより、多層配線用基材間が可塑状態
となった樹脂フィルムによって密に結合されることにな
り、導電ペーストと隣接する多層配線用基材の銅箔及び
導電ペーストとを更に確実に接続することが可能にな
る。また、この場合、多層配線用基材を貼り合わせると
同時に導電ペーストを本硬化させるようにすれば、導電
ペーストの部分に無理な負荷がかからず、スムーズな電
気的接続を確保することができる。
As the adhesive resin film, for example, a thermoplastic resin such as thermoplastic polyimide can be used. In this case, by laminating the multilayer wiring base material and heating it, the multilayer wiring base materials are tightly coupled by the plasticized resin film, and the conductive paste and the adjacent multilayer wiring base material are connected. The copper foil of the material and the conductive paste can be connected more reliably. Further, in this case, if the conductive paste is main-cured at the same time as the multilayer wiring base material is bonded, an unnecessary load is not applied to the conductive paste portion, and smooth electrical connection can be secured. .

【0019】また、多層配線用基材の積層に際しては、
最外層に位置する銅箔が、それが貼り付けられた樹脂フ
ィルムに埋め込まれることが望ましい。即ち、通常、こ
の種の配線板では、回路の酸化防止や半田等のIC等と
の接続部材との密着性を考慮して金等のメッキを行う
が、回路がむき出しである場合、配線パターンの側面も
含めた回路全体にメッキをしなければならず、多くの金
を必要とする。また、配線パターンの側面にメッキされ
るため、回路幅が広がり、微細回路の形成が困難になる
のみならず、回路間の金属不純物等のコンタミネーシヨ
ンによる絶縁不良の発生率も高くなる。また、配線パタ
ーン間が狭いと、メッキ液の液周りが悪くなるため、均
一なメッキも困難になる。
When laminating the multilayer wiring substrate,
It is desirable that the copper foil located in the outermost layer be embedded in the resin film to which it is attached. That is, usually, in this type of wiring board, gold or the like is plated in consideration of the oxidation prevention of the circuit and the adhesion to the connection member with the IC such as solder, but when the circuit is exposed, the wiring pattern The whole circuit including the side of must be plated, and much gold is required. In addition, since the side surface of the wiring pattern is plated, the circuit width is widened, making it difficult to form a fine circuit and increasing the incidence of insulation failure due to the contamination of metal impurities between circuits. Further, if the space between the wiring patterns is narrow, the liquid around the plating solution is deteriorated, which makes uniform plating difficult.

【0020】この点、最外層に位置する銅箔が樹脂フィ
ルムに埋め込まれることにより、配線パターンの側面へ
のメッキが行われなくなり、金の使用量の低減、回路の
微細化、メッキ液の液周りの改善及びコンタミネーショ
ンによる絶縁不良の発生防止を図ることが可能になる。
In this respect, since the copper foil located in the outermost layer is embedded in the resin film, the side surface of the wiring pattern is not plated, the amount of gold used is reduced, the circuit is miniaturized, and the plating solution is used. It is possible to improve the surroundings and prevent the occurrence of insulation failure due to contamination.

【0021】本発明に係る多層配線用基材は、接着性を
有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼り付けられる
と共に、前記銅箔、及び樹脂フィルムを貫通するように
貫通孔が形成された銅張樹脂フィルムと、この銅張樹脂
フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フ
ィルムより突出するように埋め込まれた導電ペーストと
を備えてなることを特徴とする。
In the multilayer wiring substrate according to the present invention, a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film, and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film. And a conductive paste embedded in a through hole of the copper-clad resin film such that a tip of the copper-clad resin film protrudes from the copper foil side beyond the resin film.

【0022】本発明に係る多層配線用基材の製造方法
は、接着性を有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼
り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅箔、及び樹脂
フィルムを貫通する貫通孔を形成する工程と、前記貫通
孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フィルムより突出
するように導電ペーストを埋め込む工程とを備えてなる
ことを特徴とする。
In the method for producing a multilayer wiring substrate according to the present invention, the copper foil and the resin film are penetrated into a copper clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film. And a step of embedding a conductive paste in the through hole such that the tip of the through hole protrudes from the copper foil side from the resin film.

【0023】本発明に係る多層配線用基材は、接着性を
有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼り付けられる
と共に、前記銅箔、及び樹脂フィルムを貫通するように
貫通孔が形成された銅張樹脂フィルムと、この銅張樹脂
フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フ
ィルムより突出すると共に後端が前記銅箔と同じ高さと
なるように埋め込まれた導電ペーストとを備えてなるこ
とを特徴とする。
In the multilayer wiring substrate according to the present invention, a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film, and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film. A copper-clad resin film and a through-hole of the copper-clad resin film, and a conductive paste embedded so that the front end protrudes from the resin film from the copper foil side and the rear end is at the same height as the copper foil. It is characterized by comprising.

【0024】本発明に係る多層配線用基材は、接着性を
有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼り付けられる
と共に、前記銅箔、及び樹脂フィルムを貫通するように
貫通孔が形成された銅張樹脂フィルムと、この銅張樹脂
フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フ
ィルムより突出すると共に前記銅箔の貫通孔の開口部周
辺にはみ出るようにスクリーン印刷により埋め込まれた
導電ペーストとを備えてなることを特徴とする。
In the multilayer wiring substrate according to the present invention, a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film, and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film. The copper-clad resin film and the through-hole of the copper-clad resin film are embedded by screen printing so that the tip projects from the copper foil side and protrudes around the opening of the through-hole of the copper foil from the copper foil side. And a conductive paste.

【0025】本発明に係る多層配線板は、接着性を有す
る樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼り付けられると共
に、前記銅箔、及び樹脂フィルムを貫通するように貫通
孔が形成された銅張樹脂フィルムと、この銅張樹脂フィ
ルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フィル
ムより突出すると共に前記銅箔の貫通孔の開口部周辺に
はみ出るようにスクリーン印刷により埋め込まれた導電
ペーストとを備えてなる第1の多層配線用基材と、接着
性を有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼り付けら
れると共に、前記銅箔、及び樹脂フィルムを貫通するよ
うに貫通孔が形成された銅張樹脂フィルムと、この銅張
樹脂フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹
脂フィルムより突出すると共に後端が前記銅箔と同じ高
さとなるように埋め込まれた導電ペーストとを備えてな
る第2の多層配線用基材とを有し、前記第2の多層配線
用基材が最外層に前記第1の多層配線用基材が最外層以
外の内層になると共に前記導電ペーストの先端が隣接す
る多層配線用基材の銅箔又は導電ペーストと接続される
ように多層配線用基材を複数積層してなることを特徴と
する。
In the multilayer wiring board according to the present invention, a copper foil is attached to one surface of a resin film having adhesiveness, and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film. Tension resin film and a through hole of the copper clad resin film, a conductive member embedded by screen printing so that the tip projects from the resin film from the copper foil side and protrudes around the opening of the through hole of the copper foil. A first multilayer wiring substrate including a paste, and a copper foil is attached to one surface of a resin film having adhesiveness, and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film. The formed copper-clad resin film and the through hole of this copper-clad resin film are embedded so that the front end protrudes from the resin film from the copper foil side and the rear end is at the same height as the copper foil. A second multi-layer wiring base material comprising an embedded conductive paste, wherein the second multi-layer wiring base material is the outermost layer and the first multi-layer wiring base material is other than the outermost layer. It is characterized in that a plurality of multi-layer wiring base materials are laminated so as to be an inner layer and the tip of the conductive paste is connected to the copper foil or the conductive paste of the adjacent multi-layer wiring base material.

【0026】本発明に係る多層配線板の製造方法は、前
記第2の多層配線用基材が最外層に前記第1の多層配線
用基材が最外層以外の内層になると共に、前記導電ペー
ストの先端が隣接する多層配線用基材の銅箔又は導電ペ
ーストと接続されるように多層配線用基材を複数積層し
て前記樹脂フィルムによって貼り合わせるようにしたこ
とを特徴とする。
In the method for manufacturing a multilayer wiring board according to the present invention, the second multilayer wiring substrate is the outermost layer, the first multilayer wiring substrate is an inner layer other than the outermost layer, and the conductive paste is used. Is laminated with a plurality of multi-layer wiring base materials such that the tip ends of the multi-layer wiring base materials are connected to the copper foil or the conductive paste of the adjacent multi-layer wiring base material, and the multi-layer wiring base materials are attached to each other by the resin film.

【0027】本発明による多層配線用基材および多層配
線板の製造方法によれば、最外層(最上層)の上面は、
銅箔の上面と導電ペーストの後端部すなわち印刷面側と
が同じ高さで連続して全く平らとなっているので、貼り
合わせ時に配線板全体に均一に力を加えることができ、
それにより、確実な張り合わせを達成することができ、
より良い電気接続性が得られる。
According to the method for manufacturing a multilayer wiring substrate and a multilayer wiring board according to the present invention, the upper surface of the outermost layer (uppermost layer) is
Since the upper surface of the copper foil and the rear end portion of the conductive paste, that is, the printing surface side are continuously flat at the same height, it is possible to apply a uniform force to the entire wiring board at the time of bonding,
As a result, reliable bonding can be achieved,
Better electrical connectivity is obtained.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態について説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Preferred embodiments of the present invention will be described below.

【0029】図1は、本発明の一実施形態に係る多層配
線板を構成する多層配線用基材を製造工程順に示す断面
図、図2及び図3は、本発明の一実施形態に係る多層配
線板を製造工程順に示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a multilayer wiring base material constituting a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps, and FIGS. 2 and 3 are multilayer views according to an embodiment of the present invention. It is sectional drawing which shows a wiring board in order of a manufacturing process.

【0030】多層配線用基材20は、多層配線板を構成
するための多層配線用の接続材であり、片面銅張樹脂フ
ィルムからなるFPCを基本として構成されている。即
ち、多層配線用基材20は、図1(i)に示すように、
熱可塑性ポリイミド(TPI)等の接着性を有する樹脂
フィルム1の一方の面に銅箔2が貼り付けられた銅張樹
脂フィルム10と、この銅張樹脂フィルム10に形成さ
れた貫通孔7(図1(g)参照)に埋め込まれたインナ
ービアホールを形成する導電ペースト8とから構成され
ている。銅箔2は、エッチング等により所定の回路パタ
ーンを形成している。導電ペースト8は、銅箔2側から
スクリーン印刷等により埋め込まれ、銅箔2の開口部の
周辺部にはみ出し、先端部が樹脂フィルム1側から突出
している。
The multi-layer wiring base material 20 is a connection material for multi-layer wiring for constructing a multi-layer wiring board, and is basically composed of an FPC made of a single-sided copper clad resin film. That is, as shown in FIG.
A copper clad resin film 10 in which a copper foil 2 is attached to one surface of a resin film 1 having adhesiveness such as thermoplastic polyimide (TPI), and a through hole 7 formed in the copper clad resin film 10 (see FIG. 1 (g)), and a conductive paste 8 forming an inner via hole embedded therein. The copper foil 2 has a predetermined circuit pattern formed by etching or the like. The conductive paste 8 is embedded by screen printing or the like from the copper foil 2 side, protrudes into the peripheral portion of the opening of the copper foil 2, and the tip portion projects from the resin film 1 side.

【0031】多層配線板は、図1(i)のような構造の
多層配線用基材を複数層(図2及び図3では3層)積み
上げて構成される。図2及び図3に示すように、多層配
線板では、多層配線用基材の貫通孔7に導電ペースト8
が充填(穴埋め)されているため、ビア・オン・ビアに
より各層間の接続が可能となる。また、図1(i)に示
すように、導電ペースト8は、印刷面と反対面側(裏
側)に突起が形成されるように印刷される。導電ペース
ト8の突起の高さは、窪みの大きさにもよるが、10μ
m前後が好ましい。
The multilayer wiring board is constructed by stacking a plurality of layers (three layers in FIGS. 2 and 3) of a multilayer wiring base material having a structure as shown in FIG. 1 (i). As shown in FIGS. 2 and 3, in the multilayer wiring board, the conductive paste 8 is provided in the through hole 7 of the multilayer wiring substrate.
Is filled (filled with holes), it is possible to connect between the layers by via-on-via. In addition, as shown in FIG. 1I, the conductive paste 8 is printed so that a protrusion is formed on the side opposite to the printed surface (back side). The height of the protrusion of the conductive paste 8 depends on the size of the depression, but is 10 μm.
Around m is preferable.

【0032】このように、ビア・オン・ビアの層間接続
を行う際、従来技術で説明したような導電ペースト8と
導電ペースト8の間に銅箔を挟む構成ではなく、直接、
導電ペースト8同士を接続している。
As described above, when the via-on-via interlayer connection is performed, the conductive paste 8 is not directly sandwiched between the conductive pastes 8 as described in the prior art, but directly.
The conductive pastes 8 are connected to each other.

【0033】また、図1(h)に示すように、導電ペー
スト8は、穴埋め印刷時に、その印刷面側が銅箔2の穴
開け部5からはみ出すように銅箔2の表面まで(但し、
表面より少し窪むこともあるが)穴埋めされるので、導
電ペースト8の印刷面側の端部が、銅箔2の穴開け部5
の側面及び周縁と接触している。
Further, as shown in FIG. 1 (h), the conductive paste 8 reaches the surface of the copper foil 2 (however, at the time of hole filling printing, the printing surface side thereof protrudes from the perforated portion 5 of the copper foil 2).
Since the holes are filled up (although it may be slightly recessed from the surface), the end of the conductive paste 8 on the printed surface side is the hole 5 of the copper foil 2.
Is in contact with the side and peripheral edges of the.

【0034】次に、図1から図3に基づいて、本発明の
多層配線板の製造工程(製造方法)について説明する。
Next, the manufacturing process (manufacturing method) of the multilayer wiring board of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

【0035】(1)多層配線用基材の製造工程(図1) まず、図1(a)に示すように、30〜100μm厚の
熱可塑性ポリイミド(TPI)からなる樹脂フィルム1
の一方の面に、5〜18μm厚の銅箔2が張り付けられ
た片面銅張樹脂フィルム10を用意又は作製する。
(1) Manufacturing Process of Multilayer Wiring Substrate (FIG. 1) First, as shown in FIG. 1A, a resin film 1 made of thermoplastic polyimide (TPI) having a thickness of 30 to 100 μm.
The one-sided copper-clad resin film 10 in which the copper foil 2 having a thickness of 5 to 18 μm is attached to one surface of the one is prepared or produced.

【0036】次に、図1(b)に示すように、樹脂フィ
ルム1に張り付けられた銅箔2上に、ドライフィルム
(レジスト)4を真空ラミネータ又はロールラミネータ
でラミネートする。次に、図1(c)に示すように、回
路パターンをドライフィルム4上に露光し、その後、現
像する。
Next, as shown in FIG. 1B, a dry film (resist) 4 is laminated on the copper foil 2 attached to the resin film 1 with a vacuum laminator or a roll laminator. Next, as shown in FIG. 1C, the circuit pattern is exposed on the dry film 4 and then developed.

【0037】次に、図1(d)に示すように、ドライフ
ィルム4をマスクとして銅箔2をエッチングすることに
より、所定の回路パターンを形成する。このとき、後で
貫通孔7を穴開けする部分である穴開け部5も同時にエ
ッチングして形成しておく。次に、図1(e)に示すよ
うに、銅箔2上のドライフィルム4を剥離し、図1
(f)に示すように、樹脂フィルム1の銅箔2とは反対
側の面にマスク材として10〜50μmのマスキングテ
ープ6を張り付ける。マスキングテープ6としては、P
ETなどを用いることができる。また、マスキングテー
プの他に離型処理されたフィルムを用いてもよい。
Next, as shown in FIG. 1D, the copper foil 2 is etched using the dry film 4 as a mask to form a predetermined circuit pattern. At this time, the punching portion 5 which is a portion for punching the through hole 7 later is also formed by etching at the same time. Next, as shown in FIG. 1E, the dry film 4 on the copper foil 2 is peeled off,
As shown in (f), a masking tape 6 of 10 to 50 μm is attached as a mask material to the surface of the resin film 1 opposite to the copper foil 2. As the masking tape 6, P
ET or the like can be used. In addition to the masking tape, a release-treated film may be used.

【0038】次に、図1(g)に示すように、CO2 レ
ーザなどでレーザ光を穴開け部5に照射することによ
り、マスキングテープ6ごと樹脂フィルム1に0.05
〜0.3mmφの貫通孔7を開ける。尚、貫通孔7の穴
開けは、レーザ照射に限るものではなく、ドリルなどに
よって穴開けしても構わない。
Next, as shown in FIG. 1 (g), the masking tape 6 and the resin film 1 together with the masking tape 6 are exposed to 0.05% by irradiating the perforated portion 5 with a laser beam such as a CO2 laser.
A through hole 7 with a diameter of 0.3 mm is opened. The drilling of the through holes 7 is not limited to laser irradiation, but drilling may be used.

【0039】次に、図1(h)に示すように、貫通孔7
に導電ペースト8をスクリーン印刷して穴埋めする。こ
のとき、導電ペースト8は、穴開け部5からはみ出るよ
うに、穴開け部5(貫通孔7)の穴径よりも大きい径、
例えば穴径に対して1.1〜2.0倍程度の大きさの径
でスクリーン印刷される。これにより銅箔2のランド部
2aと面方向に接続されたつば部8aが形成される。
尚、導電ペースト8としては、Ag、Cu、C、Agコ
ートCuペーストなどの導電性を示すものであれば用い
ることが可能である。
Next, as shown in FIG. 1H, the through hole 7
Conductive paste 8 is screen-printed on the substrate to fill in the holes. At this time, the conductive paste 8 has a diameter larger than the hole diameter of the punched portion 5 (through hole 7) so as to protrude from the punched portion 5.
For example, screen printing is performed with a diameter that is about 1.1 to 2.0 times the hole diameter. As a result, the brim portion 8a connected to the land portion 2a of the copper foil 2 in the surface direction is formed.
As the conductive paste 8, it is possible to use Ag, Cu, C, Ag-coated Cu paste, or any other conductive paste.

【0040】次に、オーブンによって80℃で1時間程
度加熱して、導電ペースト8を仮硬化させ、図1(i)
に示すように、マスキングテープ6を剥がすと、印刷面
と反対面側に樹脂フィルム1から突出した導電ペースト
8の突起部8bが形成される。これにより、多層配線用
基材20が完成する。
Next, by heating in an oven at 80 ° C. for about 1 hour, the conductive paste 8 is temporarily hardened, and then, as shown in FIG.
As shown in FIG. 6, when the masking tape 6 is peeled off, the protrusion 8b of the conductive paste 8 protruding from the resin film 1 is formed on the side opposite to the printing surface. As a result, the multilayer wiring substrate 20 is completed.

【0041】(2)多層配線板のプレス工程(図2及び
図3) 図2(a),(b),(c)に示すように、各多層配線
用基材(3つの多層配線用基材)20a,20b,20
cには、それぞれ、複数の回路パターン及び貫通孔7が
形成されている。また、貫通孔7には、導電ペースト8
が充填されている。
(2) Step of pressing multilayer wiring board (FIGS. 2 and 3) As shown in FIGS. 2 (a), (b), and (c), each multilayer wiring base material (three multilayer wiring substrates Material) 20a, 20b, 20
A plurality of circuit patterns and through holes 7 are formed in each of c. In addition, the conductive paste 8 is provided in the through hole 7.
Is filled.

【0042】図3(a)に示すように、各多層配線用基
材20a〜20c及び最外層の銅箔9とを熱プレスによ
り一括して張り合わせ、図3(b)に示すように、最外
層の銅箔9上に回路を形成することにより、本実施形態
の多層配線板30が完成される。熱プレスによる各多層
配線用基材20a〜20c及び銅箔2の張り合わせは、
280℃程度に加熱し、9MPa程度でプレスして、接
着性と流動性を持った熱可塑性ポリイミドの樹脂フィル
ム1内に銅箔2の回路パターンと導電ペースト8のつば
部8aとを埋め込むことによって行われる。このとき、
銅箔9と反対側の最外層の銅箔2と導電ペースト8のつ
ば部8aも、その高さ分が樹脂フィルム1内に埋め込ま
れる。また、同時に各多層配線用基材20a〜20cの
導電ペースト8同士を熱プレスにて押し固めながら本硬
化させる。これにより、多層配線用基材20a〜20c
及び銅箔9が一体化される。
As shown in FIG. 3 (a), each of the multilayer wiring substrates 20a to 20c and the outermost copper foil 9 are bonded together by hot pressing, and as shown in FIG. By forming a circuit on the outer layer copper foil 9, the multilayer wiring board 30 of the present embodiment is completed. The lamination of the multilayer wiring substrates 20a to 20c and the copper foil 2 by hot pressing is
By heating at about 280 ° C. and pressing at about 9 MPa, the circuit pattern of the copper foil 2 and the brim portion 8a of the conductive paste 8 are embedded in the resin film 1 of thermoplastic polyimide having adhesiveness and fluidity. Done. At this time,
The outermost copper foil 2 on the opposite side of the copper foil 9 and the brim 8a of the conductive paste 8 are also embedded in the resin film 1 by the height. At the same time, the conductive pastes 8 of the multilayer wiring base materials 20a to 20c are simultaneously hardened by hot pressing while being hardened. Thereby, the multilayer wiring base materials 20a to 20c
And the copper foil 9 are integrated.

【0043】この実施の形態によれば、多層配線用基材
20a〜20cの貫通孔7に導電ペースト8が穴埋めさ
れているため、ビア・オン・ビアにより各層間の接続が
可能となり、また、印刷面と反対面側(裏側)に導電ペ
ースト8の突起部8bが形成されているため、ビア・オ
ン・ビアによる層間接続を行う際に、導電ペースト8の
印刷面側がその突起部8aと密着し、電気接続性の良い
導電ペースト8同士の接続を容易に行うことが可能とな
る。
According to this embodiment, since the conductive paste 8 is filled in the through holes 7 of the multilayer wiring base materials 20a to 20c, it is possible to connect the layers by using the via-on-via method. Since the protruding portion 8b of the conductive paste 8 is formed on the side opposite to the printed surface (back side), the printed surface side of the conductive paste 8 is in close contact with the protruding portion 8a when performing interlayer connection by via-on-via. However, it becomes possible to easily connect the conductive pastes 8 having good electrical connectivity.

【0044】また、貫通孔7の穴埋め印刷時に、導電ペ
ースト8は、その印刷面側が銅箔2の穴開け部5からは
み出すように穴埋めされるので、導電ペースト8の印刷
面側のつば部8aが、銅箔2の穴開け部5の側面及び周
縁と確実に接触し、その結果、銅箔2と導電ペースト8
の電気接続性を低下させずに、銅箔2と導電ペースト8
とを接続することが可能となる。
Further, at the time of the filling printing of the through holes 7, the conductive paste 8 is filled so that the printing surface side thereof protrudes from the punched portion 5 of the copper foil 2, so that the brim portion 8a on the printing surface side of the conductive paste 8 is formed. Reliably contact the side surface and the peripheral edge of the perforated portion 5 of the copper foil 2, and as a result, the copper foil 2 and the conductive paste 8
Copper foil 2 and conductive paste 8 without deteriorating the electrical connectivity of
It becomes possible to connect and.

【0045】また、多層配線用基材の製造の過程で、銅
張樹脂フィルム10を用いているので、サンプルの固
定、穴開け、穴埋め工程における位置寸法の精度が維持
されるとともに取り扱いも容易となり、その結果、製造
作業の労力も軽減される。即ち、従来では、可撓性のあ
る厚さの薄い樹脂フィルム(ポリイミドフィルム)のま
ま、サンプルの固定、穴開け、穴埋め工程を行わなけれ
ばならなかったが、この実施の形態では、樹脂フィルム
1に銅箔2を張り付けた後、サンプルの固定、穴開け、
穴埋め工程を行うことができるので、穴開け及び導電ペ
ースト8の充填が容易になる。
Further, since the copper clad resin film 10 is used in the process of manufacturing the base material for multilayer wiring, the accuracy of the positional dimension in the process of fixing, drilling and filling holes of the sample is maintained and the handling becomes easy. As a result, the labor of manufacturing work is also reduced. That is, in the past, the sample fixing, drilling, and hole filling steps had to be performed with the resin film (polyimide film) having flexibility and thin thickness, but in this embodiment, the resin film 1 After sticking the copper foil 2 on, fix the sample, make a hole,
Since the hole filling step can be performed, it becomes easy to make holes and fill the conductive paste 8.

【0046】図4〜図6は、本発明の多層配線板にIC
を実装する場合、又は本発明の多層配線板をインターポ
ーザ(再配置基板)として使用する場合の接続端子構造
の例を示す断面図である。
4 to 6 show the multilayer wiring board of the present invention and an IC.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a connection terminal structure in the case of mounting the substrate or using the multilayer wiring board of the present invention as an interposer (rearrangement substrate).

【0047】図4では、同図(a)に示す多層配線板3
0に電解又は無電解金メッキを行って、同図(b)に示
すように導電ペースト8及び銅箔9の外部露出部分にメ
ッキ層11を形成し、更にその上に同図(c)に示すよ
うに、半田バンプ12を印刷により形成している。な
お、メッキは、金メッキの他、ニッケル−金メッキ等、
ハンダ印刷可能なものであれば、どのようなメッキでも
よい。
In FIG. 4, the multilayer wiring board 3 shown in FIG.
0 is subjected to electrolytic or electroless gold plating to form a plating layer 11 on the externally exposed portions of the conductive paste 8 and the copper foil 9 as shown in FIG. 2B, and further shown in FIG. As described above, the solder bumps 12 are formed by printing. In addition to the gold plating, the plating may be nickel-gold plating, etc.
Any plating may be used as long as it can be solder-printed.

【0048】図5では、同図(a)に示す多層配線板3
0の導電ペースト8の外部露出部分に、更に同図(b)
に示すように、導電ペーストを印刷により上塗りしてバ
ンプ13を形成している。
In FIG. 5, the multilayer wiring board 3 shown in FIG.
(B) in the exposed portion of the conductive paste 8 of FIG.
As shown in, the bumps 13 are formed by overcoating the conductive paste by printing.

【0049】図6では、同図(a)に示す多層配線板3
0の導電ペースト8の外部露出部分側の面の少なくとも
接続端子部周辺に、同図(b)に示すように、異方性導
電膜16を貼った例である。
In FIG. 6, the multilayer wiring board 3 shown in FIG.
This is an example in which an anisotropic conductive film 16 is attached to at least the periphery of the connection terminal portion on the surface of the conductive paste 8 of No. 0 on the externally exposed portion side, as shown in FIG.

【0050】このように、本発明では、高密度実装が可
能でかつ可撓性のある多層配線構造のFPCを提供でき
るので、この多層配線板のFPCを電子機器に用いるこ
とにより、電子機器の小型化を図ることができ、また曲
線のある製品の高性能化、例えば、腕時計のベルト部分
に高密度実装されたプリント回路を組み込ませることな
どが可能である。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a flexible FPC having a multilayer wiring structure capable of high-density mounting. Therefore, by using the FPC of this multilayer wiring board in an electronic device, It is possible to achieve miniaturization and to improve the performance of curved products, for example, to incorporate a high-density printed circuit in the belt portion of a wristwatch.

【0051】次に、図7,図8,図9、図10を参照し
て、本発明による多層配線用基材および多層配線板のさ
らに他の実施形態について説明する。
Next, still another embodiment of the multilayer wiring substrate and multilayer wiring board according to the present invention will be described with reference to FIGS. 7, 8, 9 and 10.

【0052】この実施形態は、スクリーン印刷を使用し
て貫通孔の開口部周辺にはみ出る様に導電ペーストを埋
め込んで充填した第1の多層配線用基材と、スクリーン
印刷を使用せずに銅箔と同じ高さまで導電ペーストを埋
め込んで充填した第2の多層配線用基材との2種類の多
層配線用基材を用意し、その2種類の多層配線用基材を
合わせて多層配線板を形成するようにしたものである。
少し詳しく説明すると、上記第2の多層配線用基材を最
外層に用い、上記第1の多層配線用基材を内層の内の少
なくとも1層に用いて多層配線板を形成するようにして
いる。
In this embodiment, a first multi-layer wiring substrate filled with a conductive paste so as to protrude around the opening of a through hole by using screen printing and a copper foil without using screen printing. Prepare two types of multilayer wiring base materials including a second multilayer wiring base material that is filled with conductive paste up to the same height as the above, and form the multilayer wiring board by combining the two types of multilayer wiring base materials. It is something that is done.
More specifically, the second multilayer wiring base material is used as the outermost layer, and the first multilayer wiring base material is used as at least one of the inner layers to form a multilayer wiring board. .

【0053】次に、上記第1の多層配線用基材について
図7を参照して説明する。
Next, the first multilayer wiring substrate will be described with reference to FIG.

【0054】上記第1の多層配線用基材20は、多層配
線板を構成するための多層配線用の接続材であり、片面
銅張樹脂フィルムからなるFPCを基本として構成され
ている。即ち、多層配線用基材20は、図7(j)に示
すように、熱可塑性ポリイミド(TPI)等の接着性を
有する樹脂フィルム1の一方の面に銅箔2が貼り付けら
れた銅張樹脂フィルム10と、この銅張樹脂フィルム1
0に形成された貫通孔7(図7(g)参照)に埋め込ま
れたインナービアホールを形成する導電ペースト12と
から構成されている。銅箔2は、エッチング等により所
定の回路パターンを形成している。導電ペースト12
は、銅箔2側からスクリーン印刷等により埋め込まれ、
銅箔2の開口部の周辺部につば部12aとしてはみ出す
と共に、導電ペースト12の印刷面側が平らになってお
り、先端部が突起12bとして樹脂フィルム1側から突
出している。
The first multi-layer wiring substrate 20 is a multi-layer wiring connecting material for constructing a multi-layer wiring board, and is basically composed of an FPC made of a single-sided copper-clad resin film. That is, as shown in FIG. 7 (j), the multilayer wiring substrate 20 is a copper-clad material in which a copper foil 2 is attached to one surface of a resin film 1 having adhesiveness such as thermoplastic polyimide (TPI). Resin film 10 and this copper-clad resin film 1
And a conductive paste 12 forming an inner via hole embedded in the through hole 7 (see FIG. 7 (g)) formed in No. 0. The copper foil 2 has a predetermined circuit pattern formed by etching or the like. Conductive paste 12
Is embedded by screen printing from the copper foil 2 side,
In addition to protruding as a brim portion 12a in the peripheral portion of the opening of the copper foil 2, the printed surface side of the conductive paste 12 is flat, and the tip end portion protrudes from the resin film 1 side as a protrusion 12b.

【0055】ここで、上記実施形態では、樹脂フィルム
1として可撓性すなわち屈曲性を有する材料を使用した
が、樹脂フィルム1としてガラスエポキシプリプレグあ
るいはアラミドエポキシプリプレグのようなリジット材
料を使用することもできる。
In the above embodiment, a material having flexibility, that is, flexibility is used as the resin film 1, but a rigid material such as glass epoxy prepreg or aramid epoxy prepreg may be used as the resin film 1. it can.

【0056】なお、上記樹脂フィルム1の他の材料とし
ては、BTレジン,PPO,PPE等が使用可能であ
る。
As another material of the resin film 1, BT resin, PPO, PPE or the like can be used.

【0057】多層配線板は、図7(j)のような構造の
第1の多層配線用基材を内層に複数層(図9及び図10
において上の最外層から第1、第2、第3層とした場
合、第2、第3層)積み上げて構成される。図9及び図
10に示すように、多層配線板では、多層配線用基材の
貫通孔7に導電ペースト12、14が充填(穴埋め)さ
れているため、ビア・オン・ビアにより各層間の接続が
可能となる。
The multilayer wiring board has a plurality of layers (FIGS. 9 and 10) in which the first multilayer wiring base material having the structure shown in FIG.
In the case of the first, second, and third layers starting from the outermost layer above, the second and third layers are stacked. As shown in FIGS. 9 and 10, in the multilayer wiring board, since the conductive pastes 12 and 14 are filled (filled) in the through holes 7 of the multilayer wiring base material, the connection between the layers is made via-on-via. Is possible.

【0058】このように、ビア・オン・ビアの層間接続
を行う際、従来技術で説明したような導電ペースト12
と導電ペースト12の間に銅箔を挟む構成ではなく、直
接、導電ペースト12同士を接続している。
As described above, when the via-on-via interlayer connection is performed, the conductive paste 12 as described in the prior art is used.
Instead of sandwiching the copper foil between the conductive paste 12 and the conductive paste 12, the conductive pastes 12 are directly connected to each other.

【0059】次に、図7に基づいて、上記第1の多層配
線用基材の製造工程について説明する。
Next, with reference to FIG. 7, a manufacturing process of the first multilayer wiring base material will be described.

【0060】まず、図7(a)に示すように、30〜1
00μm厚の熱可塑性ポリイミドからなる接着性を有す
る樹脂フィルム1の一方の面に、5〜18μm厚の銅箔
2が張り付けられた片面銅張樹脂フィルム10を用意又
は作製する。
First, as shown in FIG.
A single-sided copper-clad resin film 10 in which a copper foil 2 having a thickness of 5 to 18 μm is attached to one surface of a resin film 1 having an adhesive property made of a thermoplastic polyimide having a thickness of 00 μm is prepared or produced.

【0061】次に、図7(b)に示すように、樹脂フィ
ルム1に張り付けられた銅箔2上に、ドライフィルム
(レジスト)4を真空ラミネータ又はロールラミネータ
でラミネートする。次に、図7(c)に示すように、回
路パターンをドライフィルム4上に露光し、その後、現
像する。
Next, as shown in FIG. 7B, a dry film (resist) 4 is laminated on the copper foil 2 attached to the resin film 1 with a vacuum laminator or a roll laminator. Next, as shown in FIG. 7C, the circuit pattern is exposed on the dry film 4 and then developed.

【0062】次に、図7(d)に示すように、ドライフ
ィルム4をマスクとして銅箔2をエッチングすることに
より、所定の回路パターンを形成する。このとき、後で
貫通孔7を穴開けする部分である穴開け部5も同時にエ
ッチングして形成しておく。次に、図7(e)に示すよ
うに、銅箔2上のドライフィルム4を剥離し、図7
(f)に示すように、樹脂フィルム1の表面にマスク材
として10〜50μmのマスキングテープ6を張り付け
る。マスキングテープ6としては、PETなどを用いる
ことができる。
Next, as shown in FIG. 7D, the copper foil 2 is etched using the dry film 4 as a mask to form a predetermined circuit pattern. At this time, the punching portion 5 which is a portion for punching the through hole 7 later is also formed by etching at the same time. Next, as shown in FIG. 7E, the dry film 4 on the copper foil 2 is peeled off,
As shown in (f), a masking tape 6 having a thickness of 10 to 50 μm is attached to the surface of the resin film 1 as a mask material. PET or the like can be used as the masking tape 6.

【0063】次に、図7(g)に示すように、CO2 レ
ーザなどでレーザ光を穴開け部5に照射することによ
り、マスキングテープ6ごと樹脂フィルム1に0.05
〜0.3mmφの貫通孔7を開ける。尚、貫通孔7の穴
開けは、レーザ照射に限るものではなく、ドリルなどに
よって穴開けしても構わない。
Next, as shown in FIG. 7 (g), the masking tape 6 together with the resin film 1 is exposed to 0.05% by irradiating the perforated portion 5 with a laser beam with a CO2 laser or the like.
A through hole 7 of to 0.3 mm phi. The drilling of the through holes 7 is not limited to laser irradiation, but drilling may be used.

【0064】ここでは、CO2 レーザで穴開け部5に貫
通孔7を開けているが、この様にすることによってより
小さな穴(50〜250ミクロン)を開けることができ
る。すなわち、穴開け部5を形成しないで銅箔2と共に
貫通孔7を開けようとした場合、上記CO2 レーザ(穴
開け可能範囲:50〜250ミクロン)では困難であ
り、ドリル(穴開け可能範囲:200ミクロン以上)に
よって大きな穴(200ミクロン以上)を開けるしかな
かった。なお、UV−YAGレーザやエクサイマレーザ
のような他のレーザによって小さな穴を開けることもで
きるがコストが非常に高くなり現実的ではなかった。
Although the through hole 7 is made in the hole making portion 5 with the CO 2 laser here, a smaller hole (50 to 250 μm) can be made by doing so. That is, when the through hole 7 is to be formed together with the copper foil 2 without forming the hole 5, it is difficult to use the CO2 laser (hole capable of drilling: 50 to 250 microns) and a drill (hole capable of drilling: Large holes (more than 200 microns) could only be made with more than 200 microns. It should be noted that although it is possible to make a small hole by using another laser such as a UV-YAG laser or an excimer laser, the cost becomes very high, which is not realistic.

【0065】なお、ここで、上記貫通孔7は、銅箔2ご
と貫通させたものであるので、銅箔2を残して後述する
導電ペースト12を埋め込んだ場合に生じるところのボ
イドが入りやすい、レーザ穴あけ時に発生するスミアの
除去が困難となる等の欠点がない。
Here, since the through hole 7 is penetrated together with the copper foil 2, voids are likely to be formed when the conductive paste 12 described later is embedded with the copper foil 2 left. There are no drawbacks such as difficulty in removing smear generated during laser drilling.

【0066】次に、図7(h)(i)に示すように、上
記銅箔2及びマスク33上に導電ペースト12を載せ、
ウレタンやシリコーン等のスキージ32を矢印Aの方向
に移動させて印刷することにより貫通孔7に導電ペース
ト12を穴埋めするが、このとき、貫通孔7の樹脂フィ
ルム1側の出口に導電ペースト12を留めておくために
シリコーンあるいはフッ素加工処理された通気性のある
離型紙31を敷いておく。
Next, as shown in FIGS. 7H and 7I, the conductive paste 12 is placed on the copper foil 2 and the mask 33,
The conductive paste 12 is filled in the through holes 7 by moving a squeegee 32 such as urethane or silicone in the direction of arrow A for printing. At this time, the conductive paste 12 is placed at the exit of the through holes 7 on the resin film 1 side. A silicone or fluorine-treated breathable release paper 31 is laid to hold it.

【0067】ここで、上記離型紙31が通気性を有して
いる理由としては、導電ペースト12の埋め込み時に空
気が逃げるためである。また、上記離型紙31の少なく
とも上面がシリコーンあるいはフッ素加工処理されてい
る理由としては、上記離型紙31と接触した導電ペース
ト12が離型紙31からはがれやすくするためであり、
後で離型紙31をはがす時に導電ペースト12が貫通孔
7から脱落しないようにするためである。
Here, the reason why the release paper 31 has air permeability is that air escapes when the conductive paste 12 is embedded. Further, the reason why at least the upper surface of the release paper 31 is treated with silicone or fluorine is that the conductive paste 12 in contact with the release paper 31 is easily peeled off from the release paper 31,
This is to prevent the conductive paste 12 from falling off the through hole 7 when the release paper 31 is later peeled off.

【0068】このとき、導電ペースト12は、穴開け部
5からはみ出るように、穴開け部5(貫通孔7)の穴径
よりも1〜5割程度の大きい径でスクリーン印刷され
る。これにより銅箔2のランド部2aと面方向に接続さ
れたつば部12aが形成される。また、この時、導電ペ
ースト12の印刷面側が平らになっている。
At this time, the conductive paste 12 is screen-printed with a diameter of about 10 to 50% larger than the diameter of the hole 5 (through hole 7) so as to protrude from the hole 5. As a result, a flange portion 12a connected to the land portion 2a of the copper foil 2 in the surface direction is formed. At this time, the printed surface side of the conductive paste 12 is flat.

【0069】尚、導電ペースト12としては、Ag、C
u、C、AgコートCuペーストなどの導電性を示すも
のであれば用いることが可能である。
As the conductive paste 12, Ag, C
Any material that exhibits conductivity, such as u, C, or Ag-coated Cu paste, can be used.

【0070】次に、離型紙31をはがし、オーブンによ
って80℃で1時間程度加熱して、導電ペースト12を
仮硬化させ、図7(j)に示すように、マスキングテー
プ6を剥がすと、印刷面と反対面側に樹脂フィルム1か
ら突出した導電ペースト12の突起部12bが形成され
る。これにより、第1の多層配線用基材20が完成す
る。
Next, the release paper 31 is peeled off, heated in an oven at 80 ° C. for about 1 hour to temporarily cure the conductive paste 12, and the masking tape 6 is peeled off as shown in FIG. A protrusion 12b of the conductive paste 12 protruding from the resin film 1 is formed on the surface opposite to the surface. As a result, the first multilayer wiring substrate 20 is completed.

【0071】次に、上記第2の多層配線用基材について
図8を参照して説明する。
Next, the second multilayer wiring substrate will be described with reference to FIG.

【0072】上記第2の多層配線用基材20’は、多層
配線板を構成するための多層配線用の接続材であり、片
面銅張樹脂フィルムからなるFPCを基本として構成さ
れている。即ち、多層配線用基材20’は、図8(j)
に示すように、熱可塑性ポリイミド(TPI)等の接着
性を有する樹脂フィルム1の一方の面に銅箔2が貼り付
けられた銅張樹脂フィルム10と、この銅張樹脂フィル
ム10に形成された貫通孔7(図8(g)参照)に埋め
込まれたインナービアホールを形成する導電ペースト1
4とから構成されている。銅箔2aは、エッチング等に
より所定の回路パターンを形成している。導電ペースト
14は、銅箔2a側から印刷により埋め込まれ、銅箔2
aの上面2cと同じ高さとなると共に、導電ペースト1
4の後端部すなわち印刷面側14cが平らになってお
り、先端部が突起14bとして樹脂フィルム1側から突
出している。すなわち、図8(j)に示すように、銅箔
22aの上面2cと導電ペースト14の印刷面側14c
とが同じ高さで連続して全く平らとなっている。
The second base material 20 'for multilayer wiring is a connecting material for multilayer wiring for forming a multilayer wiring board, and is basically composed of an FPC made of a single-sided copper clad resin film. That is, the multilayer wiring substrate 20 'is shown in FIG.
As shown in, a copper clad resin film 10 in which a copper foil 2 is attached to one surface of a resin film 1 having adhesiveness such as thermoplastic polyimide (TPI), and the copper clad resin film 10 are formed. Conductive paste 1 for forming inner via holes embedded in through holes 7 (see FIG. 8G)
4 and. The copper foil 2a has a predetermined circuit pattern formed by etching or the like. The conductive paste 14 is embedded by printing from the copper foil 2a side,
It has the same height as the upper surface 2c of a and the conductive paste 1
4 has a flat rear end, that is, the printing surface side 14c, and a front end protruding from the resin film 1 side as a protrusion 14b. That is, as shown in FIG. 8 (j), the upper surface 2c of the copper foil 22a and the printing surface side 14c of the conductive paste 14c.
And are continuously flat at the same height.

【0073】ここで、上記実施形態では、樹脂フィルム
1として可撓性すなわち屈曲性を有する材料を使用した
が、樹脂フィルム1としてガラスエポキシプリプレグあ
るいはアラミドエポキシプリプレグのようなリジット材
料を使用することもできる。
Here, in the above embodiment, a material having flexibility, that is, flexibility is used as the resin film 1, but a rigid material such as glass epoxy prepreg or aramid epoxy prepreg may be used as the resin film 1. it can.

【0074】なお、上記樹脂フィルム1の材料として
は、他にBTレジン,PPO,PPE等が使用可能であ
る。
As the material of the resin film 1, BT resin, PPO, PPE, etc. may be used.

【0075】多層配線板は、図8(j)のような構造の
第2の多層配線用基材を最外層に(図10及び図11に
おいて上の最外層から第1、第2、第3層とした場合、
第1層)積み上げて構成される。図10及び図11に示
すように、多層配線板では、多層配線用基材の貫通孔7
に導電ペースト12、14が充填(穴埋め)されている
ため、ビア・オン・ビアにより各層間の接続が可能とな
る。
In the multilayer wiring board, the second multilayer wiring substrate having the structure as shown in FIG. 8 (j) is used as the outermost layer (from the uppermost outer layer to the first, second and third layers in FIGS. 10 and 11). If it is a layer,
The first layer) is constructed by stacking. As shown in FIGS. 10 and 11, in the multilayer wiring board, the through hole 7 of the multilayer wiring base material is used.
Since the conductive pastes 12 and 14 are filled in (filled in), the layers can be connected by the via-on-via method.

【0076】次に、図8に基づいて、上記第2の多層配
線用基材の製造工程について説明する。
Next, the manufacturing process of the second base material for multilayer wiring will be described with reference to FIG.

【0077】まず、図8(a)に示すように、30〜1
00μm厚の熱可塑性ポリイミドからなる樹脂フィルム
1の一方の面に、5〜18μm厚の銅箔2が張り付けら
た片面銅張樹脂フィルム10を用意又は作製する。
First, as shown in FIG.
A one-sided copper-clad resin film 10 in which a copper foil 2 having a thickness of 5 to 18 μm is attached to one surface of a resin film 1 made of a thermoplastic polyimide having a thickness of 00 μm is prepared or produced.

【0078】次に、図8(b)に示すように、樹脂フィ
ルム1に張り付けられた銅箔2上に、ドライフィルム
(レジスト)4を真空ラミネータ又はロールラミネータ
でラミネートする。次に、図8(c)に示すように、貫
通孔7の穴開け部分のパターンをドライフィルム4上に
露光し、その後、現像する。この時、残ったドライフィ
ルム4aは、穴開け部5以外の部分が連続する様に現像
される。
Next, as shown in FIG. 8B, a dry film (resist) 4 is laminated on the copper foil 2 attached to the resin film 1 with a vacuum laminator or a roll laminator. Next, as shown in FIG. 8C, the pattern of the perforated portion of the through hole 7 is exposed on the dry film 4 and then developed. At this time, the remaining dry film 4a is developed so that the portion other than the perforated portion 5 is continuous.

【0079】次に、図8(d)に示すように、ドライフ
ィルム4aをマスクとして銅箔2をエッチングすること
により、所定の穴開け部5を有するの銅箔2aを形成す
る。このとき、後で貫通孔7を穴開けする部分である穴
開け部5も同時にエッチングして形成しておく。これに
より、図9(a)に示す様に、銅箔2aが導電ペースト
14以外の部分で連続するように形成される。
Next, as shown in FIG. 8D, the copper foil 2 is etched by using the dry film 4a as a mask to form a copper foil 2a having a predetermined perforation 5. At this time, the punching portion 5 which is a portion for punching the through hole 7 later is also formed by etching at the same time. As a result, as shown in FIG. 9A, the copper foil 2a is formed so as to be continuous in a portion other than the conductive paste 14.

【0080】次に、図8(e)に示すように、銅箔2a
上のドライフィルム4aを剥離し、図8(f)に示すよ
うに、樹脂フィルム1の表面にマスク材として10〜5
0μmのマスキングテープ6を張り付ける。マスキング
テープ6としては、PETなどを用いることができる。
Next, as shown in FIG. 8 (e), the copper foil 2a
The upper dry film 4a is peeled off, and as shown in FIG.
Stick the masking tape 6 of 0 μm. PET or the like can be used as the masking tape 6.

【0081】次に、図8(g)に示すように、CO2 レ
ーザなどでレーザ光を穴開け部5に照射することによ
り、マスキングテープ6ごと樹脂フィルム1に0.05
〜0.3mmφの貫通孔7を開ける。
Next, as shown in FIG. 8 (g), the masking tape 6 together with the masking tape 6 is applied to the resin film 1 by irradiating laser light to the perforated portion 5 with a CO2 laser or the like.
A through hole 7 with a diameter of 0.3 mm is opened.

【0082】この様に、穴開け部5を形成してから貫通
孔7を開ける様にしているので前述した如く小さな孔が
開けられる。
As described above, since the through hole 7 is formed after the hole forming portion 5 is formed, a small hole can be formed as described above.

【0083】なお、ここで、上記貫通孔7は、銅箔2ご
と貫通させたものであるので、銅箔2を残して後述する
導電ペースト12を埋め込んだ場合に生じるところのボ
イドが入りやすい、レーザ穴あけ時に発生するスミアの
除去が困難となる等の欠点がない。
Here, since the through hole 7 is penetrated together with the copper foil 2, voids are easily formed when the conductive paste 12 described below is embedded while leaving the copper foil 2. There are no drawbacks such as difficulty in removing smear generated during laser drilling.

【0084】次に、図8(h)(i)に示すように、上
記銅箔2上に導電ペースト14を載せ、ウレタンやシリ
コーン等のスキージ32を矢印Aの方向に移動させて印
刷することにより貫通孔7に導電ペースト14を穴埋め
するが、このとき、貫通孔7の樹脂フィルム1側の出口
に導電ペースト14を留めておくためのシリコーンある
いはフッ素加工処理された通気性のある離型紙31を敷
いておく。
Next, as shown in FIGS. 8H and 8I, the conductive paste 14 is placed on the copper foil 2 and a squeegee 32 such as urethane or silicone is moved in the direction of arrow A for printing. The conductive paste 14 is filled in the through holes 7 by means of a silicone or fluorinated release paper 31 for retaining the conductive paste 14 at the exit of the through holes 7 on the resin film 1 side. Lay out.

【0085】ここで、上記離型紙31が通気性を有して
いる理由としては、導電ペースト14の埋め込み時に空
気が逃げるためである。また、上記離型紙31の少なく
とも上面がシリコーンあるいはフッ素加工処理されてい
る理由としては、上記離型紙31と接触した導電ペース
ト14が離型紙31からはがれやすくするためであり、
後で離型紙31をはがす時に導電ペースト14が貫通孔
7から脱落しないようにするためである。
Here, the reason why the release paper 31 has air permeability is that air escapes when the conductive paste 14 is embedded. Further, the reason why at least the upper surface of the release paper 31 is treated with silicone or fluorine is that the conductive paste 14 in contact with the release paper 31 is easily peeled off from the release paper 31,
This is to prevent the conductive paste 14 from falling off the through hole 7 when the release paper 31 is later peeled off.

【0086】このとき、導電ペースト14は、図8
(j)に示すように、銅箔22aの上面2cと導電ペー
スト14の後端部すなわち印刷面側14cとが同じ高さ
で連続して全く平らになっている。
At this time, the conductive paste 14 is formed as shown in FIG.
As shown in (j), the upper surface 2c of the copper foil 22a and the rear end portion of the conductive paste 14, that is, the printing surface side 14c are continuous at the same height and are completely flat.

【0087】尚、導電ペースト14としては、Ag、C
u、C、AgコートCuペーストなどの導電性を示すも
のであれば用いることが可能である。
As the conductive paste 14, Ag, C
Any material that exhibits conductivity, such as u, C, or Ag-coated Cu paste, can be used.

【0088】次に、離型紙31をはがし、オーブンによ
って80℃で1時間程度加熱して、導電ペースト14を
仮硬化させ、図8(i)に示すように、マスキングテー
プ6を剥がすと、印刷面と反対面側に樹脂フィルム1か
ら突出した導電ペースト14の突起部14bが形成され
る。これにより、第2の多層配線用基材20’が完成す
る。
Next, the release paper 31 is peeled off, heated in an oven at 80 ° C. for about 1 hour to temporarily cure the conductive paste 14, and the masking tape 6 is peeled off as shown in FIG. A protrusion 14b of the conductive paste 14 protruding from the resin film 1 is formed on the surface opposite to the surface. As a result, the second multilayer wiring substrate 20 'is completed.

【0089】なお、図9に上記第2の多層線用基材2
0’の製造工程の変形例を示す。
The second multilayer wire base material 2 shown in FIG.
The modification of the manufacturing process of 0'is shown.

【0090】この変形例は、銅箔2に穴開け部5を形成
しないで銅箔2ともどもに貫通孔7を開ける様にしたも
のである。この様にすれば、穴開け部5の形成工程が省
略でき、製造工程を短かくできる長所がある。
In this modification, the through hole 7 is formed in both the copper foil 2 without forming the hole 5 in the copper foil 2. By doing so, there is an advantage that the forming process of the perforated portion 5 can be omitted and the manufacturing process can be shortened.

【0091】すなわち、図9(a)に示すように、30
〜100μm厚の熱可塑性ポリイミドからなる樹脂フィ
ルム1の一方の面に、5〜18μm厚の銅箔2が張り付
けられた片面銅張樹脂フィルム10を用意又は作製す
る。
That is, as shown in FIG.
A single-sided copper-clad resin film 10 in which a copper foil 2 having a thickness of 5 to 18 μm is attached to one surface of a resin film 1 made of a thermoplastic polyimide having a thickness of to 100 μm is prepared or produced.

【0092】次に、図9(b)に示すように、ドリルに
より、銅箔2およびマスキングテープ6ごと樹脂フィル
ム1に0.2mmφ以上の貫通孔7を開ける。
Next, as shown in FIG. 9B, a through hole 7 of 0.2 mmφ or more is made in the resin film 1 together with the copper foil 2 and the masking tape 6 by a drill.

【0093】次に、図9(c)(d)に示すように、上
記銅箔2上に導電ペースト14を載せ、ウレタンやシリ
コーン等のスキージ32を矢印Aの方向に移動させて印
刷することにより貫通孔7に導電ペースト14を穴埋め
するが、このとき、貫通孔7の樹脂フィルム1側の出口
に導電ペースト14を留めておくためのシリコーンある
いはフッ素加工処理された通気性のある離型紙31を敷
いておく。
Next, as shown in FIGS. 9C and 9D, the conductive paste 14 is placed on the copper foil 2, and a squeegee 32 such as urethane or silicone is moved in the direction of arrow A for printing. The conductive paste 14 is filled in the through holes 7 by means of a silicone or fluorinated release paper 31 for retaining the conductive paste 14 at the exit of the through holes 7 on the resin film 1 side. Lay out.

【0094】ここで、上記離型紙31が通気性を有して
いる理由としては、導電ペースト14の埋め込み時に空
気が逃げるためである。また、上記離型紙31の少なく
とも上面がシリコーンあるいはフッ素加工処理されてい
る理由としては、上記離型紙31と接触した導電ペース
ト14が離型紙31からはがれやすくするためであり、
後で離型紙31をはがす時に導電ペースト14が貫通孔
7から脱落しないようにするためである。
Here, the reason why the release paper 31 has air permeability is that air escapes when the conductive paste 14 is embedded. Further, the reason why at least the upper surface of the release paper 31 is treated with silicone or fluorine is that the conductive paste 14 in contact with the release paper 31 is easily peeled off from the release paper 31,
This is to prevent the conductive paste 14 from falling off the through hole 7 when the release paper 31 is later peeled off.

【0095】尚、導電ペースト14としては、Ag、C
u、C、AgコートCuペーストなどの導電性を示すも
のであれば用いることが可能である。
As the conductive paste 14, Ag, C
Any material that exhibits conductivity, such as u, C, or Ag-coated Cu paste, can be used.

【0096】次に、離型紙31をはがし、オーブンによ
って80℃で1時間程度加熱して、導電ペースト14を
仮硬化させ、図9(e)に示すように、マスキングテー
プ6を剥がすと、印刷面と反対面側に樹脂フィルム1か
ら突出した導電ペースト14の突起部14bが形成され
る。これにより、第2の多層配線用基材20’が完成す
る。
Next, the release paper 31 is peeled off, heated in an oven at 80 ° C. for about 1 hour to temporarily cure the conductive paste 14, and the masking tape 6 is peeled off as shown in FIG. A protrusion 14b of the conductive paste 14 protruding from the resin film 1 is formed on the surface opposite to the surface. As a result, the second multilayer wiring substrate 20 'is completed.

【0097】次に、上記第1および第2の多層配線用基
材20,20’を合わせた多層配線板の製造プレス工程
について図10及び図11を参照して説明する。
Next, the manufacturing and pressing step of the multilayer wiring board in which the first and second multilayer wiring base materials 20 and 20 'are combined will be described with reference to FIGS.

【0098】図10に示すように、この多層配線板は、
最外層(最上層)に図8(j)あるいは9(e)に示し
た第2の多層配線用基材20’を配置し、それ以外の層
(内層)に図7(j)に示した第1の多層配線用基材2
0を合わせるようにしている。そして、それぞれの層に
は、複数の回路パターン及び貫通孔7が形成されてお
り、貫通孔7には、導電ペースト12、14が充填され
ている。
As shown in FIG. 10, this multilayer wiring board is
The second multilayer wiring substrate 20 ′ shown in FIG. 8 (j) or 9 (e) is arranged in the outermost layer (uppermost layer), and the other layers (inner layers) are shown in FIG. 7 (j). First multilayer wiring substrate 2
I am trying to match 0. A plurality of circuit patterns and through holes 7 are formed in each layer, and the through holes 7 are filled with conductive pastes 12 and 14.

【0099】図11(a)に示すように、上記第1およ
び第2の多層配線用基材20、20‘及び最下層の銅箔
9上を熱プレスにより一括あるいは順次して張り合わ
せ、図11(b)に示すように、最下層の銅箔9上に回
路を形成することにより、本実施形態の多層配線板が完
成される。
As shown in FIG. 11 (a), the first and second multilayer wiring base materials 20 and 20 'and the lowermost copper foil 9 are bonded together by heat pressing in a batch or sequentially, As shown in (b), the multilayer wiring board of the present embodiment is completed by forming a circuit on the lowermost copper foil 9.

【0100】ここで、図11(a)に示すように、最外
層(最上層)の上面は、銅箔22aの上面2cと導電ペ
ースト14の後端部すなわち印刷面側14cとが同じ高
さで連続して全く平らとなっているので、熱プレス時に
配線板全体に均一に力を加えることができる。それによ
り、確実な張り合わせを達成することができ、より良い
電気接続性が得られる。
Here, as shown in FIG. 11 (a), the upper surface of the outermost layer (uppermost layer) has the same height as the upper surface 2c of the copper foil 22a and the rear end portion of the conductive paste 14, that is, the printing surface side 14c. Since it is completely flat and continuous, it is possible to uniformly apply force to the entire wiring board during hot pressing. Thereby, reliable bonding can be achieved and better electrical connectivity is obtained.

【0101】上記熱プレスによる各多層配線用基材2
0、20‘及び銅箔2の張り合わせは、280℃程度に
加熱し、9MPa程度でプレスして、接着性と流動性を
持った熱可塑性ポリイミドの樹脂フィルム1内に銅箔2
の回路パターンと導電ペースト12のつば部12aとを
埋め込むことによって行われる。このとき、同時に各多
層配線用基材20、20’の導電ペースト12、14同
士を熱プレスにて押し固めながら本硬化させる。
Substrates 2 for multi-layer wiring by the hot pressing
The 0, 20 'and the copper foil 2 are laminated to each other by heating at about 280 ° C. and pressing at about 9 MPa to form the copper foil 2 in the resin film 1 of thermoplastic polyimide having adhesiveness and fluidity.
It is performed by embedding the circuit pattern and the brim portion 12a of the conductive paste 12. At this time, at the same time, the conductive pastes 12 and 14 of the multilayer wiring base materials 20 and 20 'are simultaneously hardened while being pressed by a hot press.

【0102】そして、最後に、図11(b)に示すよう
に、最外層の銅箔2aをエッチング等により削って回路
形成し、さらに最外層の回路の銅箔2aおよび導電ペー
スト14の電気的接続面積を大きくするために金属層1
5(Au,Ni,Hg,Ag,Rh,Pdなど導電性を
示すものなら何でも良いが、ビアの上にICなどを実装
する場合は、酸化やボンディング性を考えてAuが望ま
しい)をメッキする。
Finally, as shown in FIG. 11B, the outermost copper foil 2a is shaved by etching or the like to form a circuit, and the copper foil 2a of the outermost circuit and the conductive paste 14 are electrically connected. Metal layer 1 to increase the connection area
5 (Au, Ni, Hg, Ag, Rh, Pd, etc., as long as they show conductivity, but when mounting an IC or the like on the via, Au is preferable in consideration of oxidation and bonding) .

【0103】以上のように、この実施の形態によれば、
第1および第2の多層配線用基材20、20‘の貫通孔
7に導電ペースト12、14が穴埋めされているため、
ビア・オン・ビアにより各層間の接続が可能となり、ま
た、導電ペースト12、14の突起部12b、14bが
形成されているため、ビア・オン・ビアによる層間接続
を行う際に、電気接続性の良い導電ペースト12、14
同士の接続を容易に行うことが可能となる。
As described above, according to this embodiment,
Since the conductive pastes 12 and 14 are filled in the through holes 7 of the first and second multilayer wiring base materials 20 and 20 ′,
Via-on-via enables connection between layers, and since the projections 12b and 14b of the conductive pastes 12 and 14 are formed, electrical connectivity is achieved during via-on-via interlayer connection. Good conductive paste 12, 14
It becomes possible to easily connect each other.

【0104】また、貫通孔7の穴埋め印刷時に、第1の
多層配線用基材20の導電ペースト12は、その印刷面
側が銅箔2の穴開け部5からはみ出すように穴埋めされ
るので、導電ペースト12の印刷面側のつば部12a
が、銅箔2の穴開け部5の側面及び周縁と確実に接触
し、その結果、銅箔2と導電ペースト12の電気接続性
を低下させずに、銅箔2と導電ペースト12とを接続す
ることが可能となる。
Further, at the time of the filling printing of the through hole 7, the conductive paste 12 of the first multilayer wiring base material 20 is filled so that the printed surface side thereof protrudes from the punched portion 5 of the copper foil 2, so that the conductive Slit portion 12a on the printing surface side of paste 12
Reliably contacts the side surface and the peripheral edge of the perforated portion 5 of the copper foil 2, and as a result, connects the copper foil 2 and the conductive paste 12 without deteriorating the electrical connectivity between the copper foil 2 and the conductive paste 12. It becomes possible to do.

【0105】また、多層配線用基材の製造の過程で、銅
張樹脂フィルム10を用いているので、サンプルの固
定、穴開け、穴埋め工程における位置寸法の精度が維持
されるとともに取り扱いも容易となり、その結果、製造
作業の労力も軽減される。即ち、従来では、可撓性のあ
る厚さの薄い樹脂フィルム(ポリイミドフィルム)1の
まま、サンプルの固定、穴開け、穴埋め工程を行わなけ
ればならなかったが、この実施の形態では、樹脂フィル
ム1に銅箔2を張り付けた後、サンプルの固定、穴開
け、穴埋め工程を行うことができるので、穴開け及び導
電ペースト12の充填が容易になる。
Further, since the copper-clad resin film 10 is used in the process of manufacturing the base material for multilayer wiring, the accuracy of the positional dimension in the process of fixing, drilling and filling holes of the sample is maintained and the handling becomes easy. As a result, the labor of manufacturing work is also reduced. That is, in the past, the sample fixing, drilling, and hole filling steps had to be performed with the flexible and thin resin film (polyimide film) 1 being used, but in this embodiment, the resin film is used. After the copper foil 2 is attached to the substrate 1, the sample can be fixed, punched, and filled, so that the punching and the filling of the conductive paste 12 can be easily performed.

【0106】また、上記多層配線用基材を用意し、それ
を組み合わせて一括して張り合わせるだけで所望の多層
配線板が形成できるので、プレス工程で多層配線用基材
を加工する必要がなく多層配線板のプレス工程が簡単に
なる。
Further, since it is possible to form a desired multilayer wiring board simply by preparing the above-mentioned multilayer wiring base material, and combining and bonding them together, it is not necessary to process the multilayer wiring base material in the pressing step. The pressing process of the multilayer wiring board is simplified.

【0107】なお、前記図1(i),7(j),8
(j),9(e)に示した多層配線用基板20,20
‘における貫通孔7および導電ペースト8,12,14
の平面から見た形状(図1(i),7(j),8
(j),9(e)の上から見た形状)は通常円形状とな
っているがこれに限定されず他の形状でもよい。
The above-mentioned FIGS. 1 (i), 7 (j), 8
(J) and 9 (e) for the multilayer wiring substrate 20, 20
Through hole 7 and conductive paste 8, 12, 14 in
Shape seen from the plane (Fig. 1 (i), 7 (j), 8
The shapes of (j) and 9 (e when viewed from above) are usually circular, but the shape is not limited to this and other shapes may be used.

【0108】[0108]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、接着性
を有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼り付けられ
た銅張樹脂フィルムに貫通孔を形成し、導電ペーストを
埋め込むようにしているので、樹脂フィルム単独で貫通
孔を形成し、導電ペーストを埋め込む場合に比べ、厚み
が厚くなる分だけ貫通孔が形成し易く、また、導電ペー
ストも埋め込みやすくなる。
As described above, according to the present invention, a through hole is formed in a copper clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film, and a conductive paste is embedded therein. Therefore, as compared with the case where the through hole is formed by the resin film alone and the conductive paste is embedded, the through hole can be formed more easily as the thickness increases, and the conductive paste can be embedded more easily.

【0109】また、本発明によれば、多層配線用基材の
導電ペーストを、銅張樹脂フィルムの貫通孔に、先端が
樹脂フィルム側に突出するように、銅箔側からスクリー
ン印刷によって埋め込むようにしているので、多層配線
用基材を複数積層した場合、導電ペーストの先端が隣接
する多層配線用基材の銅箔又は導電ペーストに確実に接
続され、多層配線板として構成した場合に、層間の電気
接続性を格段に向上させることができる。特に銅箔を介
さない導電ペースト同士の直接接続は、電気的接続性の
向上に寄与する。
Further, according to the present invention, the conductive paste of the multilayer wiring substrate is embedded in the through hole of the copper clad resin film by screen printing from the copper foil side so that the tip projects toward the resin film side. Therefore, when a plurality of multilayer wiring base materials are laminated, the tip of the conductive paste is securely connected to the adjacent copper foil or conductive paste of the multilayer wiring base material, and when the multilayer wiring board is configured, The electrical connectivity of can be significantly improved. In particular, the direct connection between the conductive pastes not via the copper foil contributes to the improvement of electrical connectivity.

【0110】以上のことから、本発明によれば、ビア・
オン・ビアやチップ・オン・ビアが可能であり、また高
密度実装が可能でかつ可撓性のあるFPCを容易に多層
配線化することができるという効果を奏する。
From the above, according to the present invention, the via
On-via and chip-on-via are possible, high-density mounting is possible, and flexible FPCs can be easily multilayered.

【0111】また、本発明によれば、最外層(最上層)
の上面は、銅箔の上面と導電ペーストの後端部すなわち
印刷面側とが同じ高さで連続して全く平らとなっている
ので、熱プレス時に配線板全体に均一に力を加えること
ができる。それにより、確実な張り合わせを達成するこ
とができ、より良い電気接続性が得られる。
Further, according to the present invention, the outermost layer (uppermost layer)
Since the upper surface of the copper foil and the rear end of the conductive paste, that is, the printing surface side, are continuously flat at the same height, it is possible to apply a uniform force to the entire wiring board during hot pressing. it can. Thereby, reliable bonding can be achieved and better electrical connectivity is obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る多層配線板を構成す
る多層配線用基材を製造工程順に示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a multilayer wiring base material forming a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図2】本発明の一実施形態に係る多層配線板を製造工
程順に示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図3】本発明の一実施形態に係る多層配線板を製造工
程順に示す断面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a multilayer wiring board according to an embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図4】本発明に係る多層配線板の接続端子構造の一例
を示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a connection terminal structure of a multilayer wiring board according to the present invention.

【図5】本発明に係る多層配線板の接続端子構造の他の
例を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing another example of the connection terminal structure of the multilayer wiring board according to the present invention.

【図6】本発明に係る多層配線板の接続端子構造の更に
他の例を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing still another example of the connection terminal structure of the multilayer wiring board according to the present invention.

【図7】本発明の他の実施形態に係る多層配線板を構成
する第1の多層配線用基材を製造工程順に示す断面図で
ある。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a first multilayer wiring base material forming a multilayer wiring board according to another embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図8】本発明の他の実施形態に係る多層配線板を構成
する第2の多層配線用基材を製造工程順に示す断面図で
ある。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing a second multilayer wiring base material forming a multilayer wiring board according to another embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図9】本発明の他の実施形態に係る多層配線板を構成
する第2の多層配線用基材を製造工程順に示す断面図で
ある。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a second multilayer wiring base material forming a multilayer wiring board according to another embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図10】本発明の他の実施形態に係る多層配線板を製
造工程順に示す断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a multilayer wiring board according to another embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.

【図11】本発明の他の実施形態に係る多層配線板を製
造工程順に示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a multilayer wiring board according to another embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…樹脂フィルム、2…銅箔、4…ドライフィルム、5
…穴開け部、6…マスキングテープ、7…貫通孔、8…
導電ペースト、9…銅箔、10…銅張樹脂フィルム、1
1…メッキ層、12…半田バンプ、13…バンプ、16
…異方性導電膜、20,20a〜20c…多層配線用基
材、30…多層配線板。
1 ... Resin film, 2 ... Copper foil, 4 ... Dry film, 5
… Perforated part, 6… Masking tape, 7… Through hole, 8…
Conductive paste, 9 ... Copper foil, 10 ... Copper clad resin film, 1
1 ... Plating layer, 12 ... Solder bump, 13 ... Bump, 16
... anisotropic conductive film, 20, 20a to 20c ... base material for multilayer wiring, 30 ... multilayer wiring board.

フロントページの続き (72)発明者 中尾 知 千葉県佐倉市六崎1440 株式会社フジクラ 佐倉事業所内 Fターム(参考) 5E317 AA24 BB03 BB12 BB14 BB19 BB22 CC17 CC25 GG11 GG14 GG16 5E346 AA12 AA15 AA32 AA43 CC10 CC32 CC39 DD02 DD32 EE06 EE07 EE15 FF18 FF22 GG06 GG15 GG22 GG28 HH07 HH25 HH33 Continued front page    (72) Inventor Satoshi Nakao             1440 Rokuzaki, Sakura City, Chiba Prefecture Fujikura Ltd.             Sakura office F-term (reference) 5E317 AA24 BB03 BB12 BB14 BB19                       BB22 CC17 CC25 GG11 GG14                       GG16                 5E346 AA12 AA15 AA32 AA43 CC10                       CC32 CC39 DD02 DD32 EE06                       EE07 EE15 FF18 FF22 GG06                       GG15 GG22 GG28 HH07 HH25                       HH33

Claims (27)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の面
に銅箔が貼り付けられ、前記銅箔及び樹脂フィルムを貫
通するように貫通孔が形成された銅張樹脂フィルムと、 この銅張樹脂フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端
が前記樹脂フィルム側に突出するようにスクリーン印刷
により埋め込まれた導電ペーストとを備えてなることを
特徴とする多層配線用基材。
1. A copper clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film, and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film, and the copper clad resin. A substrate for multi-layer wiring, comprising a conductive paste embedded in a through hole of the film by screen printing so that a tip of the film projects from the copper foil side to the resin film side.
【請求項2】 前記導電ペーストは、前記銅箔の貫通孔
の開口部周辺にはみ出るように前記貫通孔に埋め込まれ
ていることを特徴とする請求項1記載の多層配線用基
材。
2. The multi-layer wiring substrate according to claim 1, wherein the conductive paste is embedded in the through hole so as to protrude around the opening of the through hole of the copper foil.
【請求項3】 前記樹脂フィルムは、熱可塑性接着剤か
らなることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の多
層配線用基材。
3. The multilayer wiring substrate according to claim 1, wherein the resin film is made of a thermoplastic adhesive.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項記載の多層
配線用基材を、前記導電ペーストの先端が隣接する多層
配線用基材の銅箔又は導電ペーストと接続されるように
複数積層してなる多層配線板。
4. A plurality of the multi-layer wiring base materials according to claim 1, wherein a tip of the conductive paste is connected to a copper foil or a conductive paste of an adjacent multi-layer wiring base material. A multilayer wiring board made by stacking.
【請求項5】 最外層に位置する銅箔が、それが貼り付
けられた樹脂フィルムに埋め込まれていることを特徴と
する請求項4記載の多層配線板。
5. The multilayer wiring board according to claim 4, wherein the outermost copper foil is embedded in the resin film to which the copper foil is attached.
【請求項6】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の面
に銅箔が貼り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅箔
及び樹脂フィルムを貫通する貫通孔を形成する工程と、 前記貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フィルム
側に突出するようにスクリーン印刷により導電ペースト
を埋め込む工程とを備えてなることを特徴とする多層配
線用基材の製造方法。
6. A step of forming a through hole penetrating the copper foil and the resin film in a copper clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of a resin film having adhesiveness, and the through hole. And a step of embedding a conductive paste by screen printing so that the tip of the copper foil is projected to the resin film side, the method for manufacturing a multilayer wiring substrate.
【請求項7】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の面
に銅箔が貼り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅箔
をエッチングして所定の回路パターンを形成する工程
と、 前記回路パターンが形成された銅張樹脂フィルムの前記
樹脂フィルム側にマスク層を形成する工程と、 前記銅箔、樹脂フィルム及びマスク材を貫通する貫通孔
を形成する工程と、 前記貫通孔に、前記銅箔側からスクリーン印刷により導
電ペーストを埋め込む工程と、 前記マスク材を除去する工程とを備えてなることを特徴
とする多層配線用基材の製造方法。
7. A step of forming a predetermined circuit pattern by etching the copper foil on a copper-clad resin film having a copper foil attached to one surface of an adhesive resin film, the circuit pattern comprising: A step of forming a mask layer on the resin film side of the formed copper clad resin film, a step of forming a through hole penetrating the copper foil, the resin film and a mask material, the through hole, the copper foil side A method for manufacturing a base material for multilayer wiring, comprising: a step of embedding a conductive paste by screen printing, and a step of removing the mask material.
【請求項8】 請求項1〜3のいずれか1項記載の多層
配線用基材を、前記導電ペーストの先端が隣接する多層
配線用基材の銅箔又は導電ペーストと接続されるように
複数積層して前記接着性を有する樹脂フィルムで貼り合
わせるようにしたことを特徴とする多層配線板の製造方
法。
8. A plurality of the multilayer wiring base materials according to claim 1 are connected so that the tip of the conductive paste is connected to a copper foil or a conductive paste of an adjacent multilayer wiring base material. A method for manufacturing a multilayer wiring board, comprising laminating and laminating with a resin film having the adhesive property.
【請求項9】 前記多層配線用基材を貼り合わせると同
時に導電ペーストを本硬化させるようにしたことを特徴
とする請求項8記載の多層配線板の製造方法。
9. The method of manufacturing a multilayer wiring board according to claim 8, wherein the conductive paste is fully cured at the same time when the multilayer wiring base material is attached.
【請求項10】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられると共に、前記銅箔及び樹脂フ
ィルムを貫通するように貫通孔が形成された銅張樹脂フ
ィルムと、 この銅張樹脂フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端
が前記樹脂フィルムより突出するように埋め込まれた導
電ペーストとを備えてなることを特徴とする多層配線用
基材。
10. A copper-clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film, and the copper-clad resin film. A substrate for multilayer wiring, comprising: a conductive paste embedded in a through hole of a resin film so that a tip of the resin film protrudes from the copper foil side of the resin film.
【請求項11】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅
箔及び樹脂フィルムを貫通する貫通孔を形成する工程
と、 前記貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フィルム
より突出するように導電ペーストを埋め込む工程とを備
えてなることを特徴とする多層配線用基材の製造方法。
11. A step of forming a through hole penetrating the copper foil and the resin film in a copper clad resin film having a copper foil attached to one surface of an adhesive resin film, and the through hole And a step of embedding a conductive paste so that a tip of the conductive paste is projected from the copper foil side from the resin film.
【請求項12】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられると共に、前記銅箔及び樹脂フ
ィルムを貫通するように貫通孔が形成された銅張樹脂フ
ィルムと、 この銅張樹脂フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端
が前記樹脂フィルムより突出すると共に後端が前記銅箔
と同じ高さとなるように埋め込まれた導電ペーストとを
備えてなることを特徴とする多層配線用基材。
12. A copper-clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film, and the copper-clad resin film. The through hole of the resin film, comprising a conductive paste embedded so that the front end protrudes from the copper foil side from the resin film and the rear end is flush with the copper foil. Base material for wiring.
【請求項13】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられると共に、前記銅箔及び樹脂フ
ィルムを貫通するように貫通孔が形成された銅張樹脂フ
ィルムと、 この銅張樹脂フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端
が前記樹脂フィルムより突出すると共に前記銅箔の貫通
孔の開口部周辺にはみ出るようにスクリーン印刷により
埋め込まれた導電ペーストとを備えてなることを特徴と
する多層配線用基材。
13. A copper-clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film, and the copper-clad resin film. In the through hole of the resin film, the tip comprises a conductive paste embedded by screen printing so that the tip protrudes from the resin film from the resin film side and protrudes around the opening of the through hole of the copper foil. Characteristic multi-layer wiring substrate.
【請求項14】 請求項12に記載の多層配線用基材
を、前記導電ペーストの先端が隣接する多層配線用基材
の銅箔又は導電ペーストと接続されるように多層配線用
基材を複数積層してなる多層配線板の最外層に用いるこ
とを特徴とする多層配線板。
14. The multilayer wiring base material according to claim 12, wherein a plurality of the multilayer wiring base materials are connected so that a tip of the conductive paste is connected to a copper foil or a conductive paste of an adjacent multilayer wiring base material. A multilayer wiring board, which is used as an outermost layer of a laminated multilayer wiring board.
【請求項15】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられると共に、前記銅箔及び樹脂フ
ィルムを貫通するように貫通孔が形成された銅張樹脂フ
ィルムと、この銅張樹脂フィルムの貫通孔に、前記銅箔
側から先端が前記樹脂フィルムより突出すると共に前記
銅箔の貫通孔の開口部周辺にはみ出るようにスクリーン
印刷により埋め込まれた導電ペーストとを備えてなる第
1の多層配線用基材と、 接着性を有する樹脂フィルムの一方の面に銅箔が貼り付
けられると共に、前記銅箔及び樹脂フィルムを貫通する
ように貫通孔が形成された銅張樹脂フィルムと、この銅
張樹脂フィルムの貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記
樹脂フィルムより突出すると共に後端が前記銅箔と同じ
高さとなるように埋め込まれた導電ペーストとを備えて
なる第2の多層配線用基材とを有し、 前記第2の多層配線用基材が最外層に前記第1の多層配
線用基材が最外層以外の内層になると共に前記導電ペー
ストの先端が隣接する多層配線用基材の銅箔又は導電ペ
ーストと接続されるように多層配線用基材を複数積層し
てなることを特徴とする多層配線板。
15. A copper-clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film, and the copper-clad resin film. A conductive paste embedded in the through hole of the resin film by screen printing so that the tip projects from the copper foil side from the resin film and protrudes around the opening of the through hole of the copper foil; A multilayer wiring substrate, and a copper clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of a resin film having adhesiveness, and a through hole is formed so as to penetrate the copper foil and the resin film, In the through hole of this copper-clad resin film, a conductive paste embedded so that the front end protrudes from the resin film from the copper foil side and the rear end is flush with the copper foil. And a second base material for multilayer wiring, wherein the second base material for multilayer wiring is an outermost layer, the first base material for multilayer wiring is an inner layer other than the outermost layer, and A multilayer wiring board, wherein a plurality of multilayer wiring base materials are laminated so that their tips are connected to the copper foil or the conductive paste of the adjacent multilayer wiring base material.
【請求項16】 請求項15に記載の前記第2の多層配
線用基材が最外層に前記第1の多層配線用基材が最外層
以外の内層になると共に、前記導電ペーストの先端が隣
接する多層配線用基材の銅箔又は導電ペーストと接続さ
れるように多層配線用基材を複数積層して前記樹脂フィ
ルムによって貼り合わせるようにしたことを特徴とする
多層配線板の製造方法。
16. The second multilayer wiring base material according to claim 15 is an outermost layer, the first multilayer wiring base material is an inner layer other than the outermost layer, and the tip of the conductive paste is adjacent to the outermost layer. A method for manufacturing a multilayer wiring board, comprising stacking a plurality of multilayer wiring base materials so as to be connected to a copper foil or a conductive paste of the multilayer wiring base material, and adhering the multilayer wiring base materials with the resin film.
【請求項17】 前記多層配線用基材を貼り合わせると
同時に導電ペーストを本硬化させるようにしたことを特
徴とする請求項16記載の多層配線板の製造方法。
17. The method of manufacturing a multilayer wiring board according to claim 16, wherein the conductive paste is main-cured at the same time as the multilayer wiring base material is bonded.
【請求項18】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅
箔及び樹脂フィルムを貫通する貫通孔を形成する工程
と、 前記貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フィルム
より突出すると共に後端が前記銅箔と同じ高さとなるよ
うに導電ペーストを埋め込む工程とを備えてなることを
特徴とする多層配線用基材の製造方法。
18. A step of forming a through hole penetrating the copper foil and the resin film in a copper clad resin film having a copper foil attached to one surface of an adhesive resin film, And a step of embedding a conductive paste so that the front end projects from the copper foil side from the resin film and the rear end is flush with the copper foil. Method.
【請求項19】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅
箔をエッチングして所定の回路パターンを形成する工程
と、 前記回路パターンが形成された銅張樹脂フィルムの前記
樹脂フィルム側にマスク層を形成する工程と、 前記銅箔、樹脂フィルム、及びマスク材を貫通する貫通
孔を形成する工程と、前記貫通孔に、前記銅箔側から後
端が前記銅箔と同じ高さとなるように導電ペーストを埋
め込む工程と、 前記導電ペーストの先端が前記樹脂フィルムより突出す
るように前記マスク材を除去する工程とを備えてなるこ
とを特徴とする多層配線用基材の製造方法。
19. A step of forming a predetermined circuit pattern by etching the copper foil on a copper-clad resin film having a copper foil attached to one surface of an adhesive resin film, the circuit pattern comprising: A step of forming a mask layer on the resin film side of the formed copper clad resin film, a step of forming a through hole penetrating the copper foil, a resin film, and a mask material; and a copper foil in the through hole. And a step of embedding a conductive paste so that the rear end is at the same height as the copper foil from the side, and a step of removing the mask material so that the front end of the conductive paste protrudes from the resin film. A method for producing a characteristic multilayer wiring substrate.
【請求項20】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅
箔、及び樹脂フィルムを貫通する貫通孔を形成する工程
と、 前記貫通孔に、前記銅箔側から先端が前記樹脂フィルム
より突出すると共に後端が前記銅箔の貫通孔の開口部周
辺にはみ出るようにスクリーン印刷により導電ペースト
を埋め込む工程とを備えてなることを特徴とする多層配
線用基材の製造方法。
20. A step of forming a through hole penetrating the copper foil and the resin film in a copper clad resin film in which a copper foil is attached to one surface of an adhesive resin film, and the through hole. In addition, a step of embedding a conductive paste by screen printing so that the front end projects from the copper foil side from the resin film and the rear end protrudes around the opening of the through hole of the copper foil. A method for manufacturing a base material for multilayer wiring.
【請求項21】 接着性を有する樹脂フィルムの一方の
面に銅箔が貼り付けられた銅張樹脂フィルムに、前記銅
箔をエッチングして所定の回路パターンを形成する工程
と、 前記回路パターンが形成された銅張樹脂フィルムの前記
樹脂フィルム側にマスク層を形成する工程と、 前記銅箔、樹脂フィルム、及びマスク材を貫通する貫通
孔を形成する工程と、前記貫通孔に、前記銅箔側からス
クリーン印刷により前記銅箔の貫通孔の開口部周辺には
み出るように導電ペーストを埋め込む工程と、 前記導電ペーストの先端が前記樹脂フィルムより突出す
るように前記マスク材を除去する工程とを備えてなるこ
とを特徴とする多層配線用基材の製造方法。
21. A step of forming a predetermined circuit pattern by etching the copper foil on a copper clad resin film having a copper foil adhered to one surface of an adhesive resin film, the circuit pattern comprising: A step of forming a mask layer on the resin film side of the formed copper clad resin film, a step of forming a through hole penetrating the copper foil, a resin film, and a mask material; and a copper foil in the through hole. A step of embedding a conductive paste by screen printing from the side so as to protrude around the opening of the through hole of the copper foil; and a step of removing the mask material so that the tip of the conductive paste projects from the resin film. A method of manufacturing a base material for multilayer wiring, comprising:
【請求項22】 前記樹脂フィルムが可撓性を有する材
料からなることを特徴とする請求項10,12,13の
いずれか1つに記載の多層配線用基材。
22. The multi-layer wiring substrate according to claim 10, wherein the resin film is made of a flexible material.
【請求項23】 前記樹脂フィルムがリジット材料から
なることを特徴とする請求項10,12,13のいずれ
か1つに記載の多層配線用基材。
23. The multi-layer wiring substrate according to claim 10, wherein the resin film is made of a rigid material.
【請求項24】 前記樹脂フィルムが可撓性を有する材
料からなることを特徴とする請求項14に記載の多層配
線板。
24. The multilayer wiring board according to claim 14, wherein the resin film is made of a flexible material.
【請求項25】 前記樹脂フィルムがリジット材料から
なることを特徴とする請求項14に記載の多層配線板。
25. The multilayer wiring board according to claim 14, wherein the resin film is made of a rigid material.
【請求項26】 前記樹脂フィルムが可撓性を有する材
料からなることを特徴とする請求項11,18,19,
20,21のいずれか1つに記載の多層配線用基材の製
造方法。
26. The resin film is made of a flexible material, 11, 18, 19,
20. A method for manufacturing a base material for multilayer wiring according to any one of 20 and 21.
【請求項27】 前記樹脂フィルムがリジット材料から
なることを特徴とする請求項11,18,19,20,
21のいずれか1つに記載の多層配線用基材の製造方
法。
27. The resin film according to claim 11, 18, 19, or 20, wherein the resin film is made of a rigid material.
22. The method for manufacturing a base material for multilayer wiring according to any one of 21.
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