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JP2003092371A - Electronic components and their manufacturing method - Google Patents

Electronic components and their manufacturing method

Info

Publication number
JP2003092371A
JP2003092371A JP2001283264A JP2001283264A JP2003092371A JP 2003092371 A JP2003092371 A JP 2003092371A JP 2001283264 A JP2001283264 A JP 2001283264A JP 2001283264 A JP2001283264 A JP 2001283264A JP 2003092371 A JP2003092371 A JP 2003092371A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electronic component
conductor
substrate
central conductor
wiring electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001283264A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Keiji Onishi
慶治 大西
Akihiko Nanba
昭彦 南波
Katsunori Moritoki
克典 守時
Kunihiro Fujii
邦博 藤井
Takashi Inoue
孝 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001283264A priority Critical patent/JP2003092371A/en
Publication of JP2003092371A publication Critical patent/JP2003092371A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板表面に配線電極が形成された電子部品に
おいて、耐湿信頼性が劣化するという課題を有してい
た。 【解決手段】 基板101と、少なくとも基板101の
一方表面に形成された配線電極102とを備えた電子部
品であって、配線電極102が、中心導体103と、中
心導体103の少なくとも一部を覆うように形成され中
心導体よりも耐食性の優れた導電材料によりなる被覆導
体104とからなることを特徴とする。
(57) [Summary] An electronic component having a wiring electrode formed on a substrate surface has a problem that moisture resistance reliability is deteriorated. The electronic component includes a substrate (101) and a wiring electrode (102) formed on at least one surface of the substrate (101), wherein the wiring electrode (102) covers a central conductor (103) and at least a part of the central conductor (103). And a coated conductor 104 formed of a conductive material having a higher corrosion resistance than the center conductor.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、移動体通信機器や
携帯情報端末などに代表される電子機器に使用され、基
板表面に金属薄膜からなる配線電極を備えた半導体や圧
電振動デバイスなどの電子部品、およびその製造方法に
関し、特に、移動体通信機器の無線回路部に使用される
弾性表面波デバイスおよびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used in electronic equipment represented by mobile communication equipment and personal digital assistants, and is used in electronic equipment such as semiconductors and piezoelectric vibrating devices having wiring electrodes made of a metal thin film on the surface of a substrate. More particularly, the present invention relates to a surface acoustic wave device used in a wireless circuit section of a mobile communication device and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】移動体通信機器や携帯情報端末、パーソ
ナルコンピュータなど、各種電子機器の小型化、デジタ
ル化、動作周波数の高周波化にともない、機器を構成す
る電子部品の小型化、短配線化が強く求められている。
また、機器の小型化、部品点数削減の観点から、複数の
電子部品を統合、集積した複合電子部品への要望も高ま
っており、電子部品個々の低コスト化、小型化、低背化
への要望はますます高まっている。
2. Description of the Related Art As various electronic devices such as mobile communication devices, personal digital assistants, personal computers, etc. are miniaturized, digitalized, and the operating frequency is increased, the electronic parts constituting the devices are downsized and the wiring is shortened. There is a strong demand.
In addition, from the viewpoint of downsizing equipment and reducing the number of parts, there is an increasing demand for composite electronic parts that integrate and integrate multiple electronic parts, and the cost, size, and height of individual electronic parts are being reduced. The demand is ever increasing.

【0003】このような要望に対して、半導体デバイス
などの電子部品では従来のワイヤボンディング技術を用
いたパッケージ構造から、各種フリップチップ実装技術
を用いたCSP(チップサイズパッケージ)構造の電子
部品が実用化されている。また、基板表面に振動領域を
有する弾性表面波デバイスや、水晶や圧電セラミックを
用いた圧電バルク波デバイスにおいても、前記半導体デ
バイスなどと同様に、従来のワイヤボンディング技術を
用いた実装方式から、例えば金バンプを用いたフリップ
チップ実装技術が利用されるようになり、小型、低背の
電子部品が供されるようになってきた。
In response to such demands, in electronic parts such as semiconductor devices, electronic parts having a CSP (chip size package) structure using various flip-chip mounting technologies are practically used, instead of a package structure using conventional wire bonding technology. Has been converted. Further, also in a surface acoustic wave device having a vibrating region on the substrate surface, or a piezoelectric bulk wave device using a crystal or a piezoelectric ceramic, similar to the semiconductor device and the like, from a mounting method using a conventional wire bonding technique, for example, Flip-chip mounting technology using gold bumps has come to be used, and small and low-profile electronic components have come to be provided.

【0004】しかしながら、前記実装技術の進歩だけで
は、特に低背化、低コスト化への要望に対して、十分に
対応できないため、樹脂成形によるパッケージや、電子
部品を構成する素子(基板)をダイレクトに回路基板に
実装するベアチップ実装方式なども提案されている。こ
れらの動向は、従来は素子が湿度などの外部環境に敏感
であるため、ハーメチックシールが必須とされていた弾
性表面波デバイスなどの振動部を有する電子部品におい
ても同様であり、樹脂パッケージなどの簡易型パッケー
ジ構造や樹脂封止構造の電子部品が提案されている。
However, the advancement of the mounting technology alone cannot sufficiently meet the demands for the reduction of the height and the reduction of the cost. Therefore, a package formed by resin molding or an element (substrate) forming an electronic component is required. A bare chip mounting method for directly mounting on a circuit board has also been proposed. These trends are the same for electronic components having a vibrating part such as a surface acoustic wave device, for which a hermetic seal was indispensable because the element is conventionally sensitive to the external environment such as humidity. Electronic components having a simple package structure or a resin sealing structure have been proposed.

【0005】以下に、図面を用いて従来の電子部品につ
いて詳細に説明する。図10は、前記従来の樹脂封止構
造の電子部品を示す断面図である。また、図11は、前
記従来の電子部品の配線電極部の断面図であり、図10
とは天地逆に示してある。図10および図11におい
て、201は基板、202は配線電極、203は引き出
し電極、204は保護膜、205は導電性突起、206
は回路基板、207は封止樹脂である。
A conventional electronic component will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 10 is a sectional view showing an electronic component having the conventional resin sealing structure. Further, FIG. 11 is a cross-sectional view of a wiring electrode portion of the conventional electronic component, and FIG.
And are shown upside down. 10 and 11, 201 is a substrate, 202 is a wiring electrode, 203 is an extraction electrode, 204 is a protective film, 205 is a conductive protrusion, and 206 is a conductive film.
Is a circuit board, and 207 is a sealing resin.

【0006】基板201として、半導体デバイスなどの
電子部品では、SiやGaAs、SiGeに代表される
半導体基板が使用される。また、弾性表面波デバイスな
どの圧電振動部品においては、タンタル酸リチウムやニ
オブ酸リチウム、水晶、圧電セラミックなどの圧電基板
が主に使用される。配線電極202は、電極抵抗が小さ
くファインパターンの形成が容易なAl合金が使用さ
れ、近年ではさらに抵抗率の小さいCu電極も半導体分
野では使用されるようになってきた。
As the substrate 201, a semiconductor substrate typified by Si, GaAs, or SiGe is used in electronic parts such as semiconductor devices. Further, in piezoelectric vibrating components such as surface acoustic wave devices, piezoelectric substrates such as lithium tantalate, lithium niobate, quartz, and piezoelectric ceramics are mainly used. For the wiring electrode 202, an Al alloy having a small electrode resistance and capable of easily forming a fine pattern is used, and in recent years, a Cu electrode having a smaller resistivity has also been used in the semiconductor field.

【0007】前記配線電極の表面は、外部との電気接続
を行う引き出し電極203部を除いて、電極材料の腐
食、外来導電性異物による配線電極202間の短絡防止
のため、保護膜204により被覆保護されている。保護
膜204としては、一般に、窒化珪素や酸化珪素などの
無機薄膜や、ポリイミドなどの有機膜が使用される。引
き出し電極203には、外部との電気接続を行うため、
AuバンプやCuメッキバンプ、半田バンプなどの導電
性突起205が形成される。そして、前記導電性突起2
05を介して、回路基板206と電気接続が行われる。
The surface of the wiring electrode is covered with a protective film 204 to prevent corrosion of the electrode material and a short circuit between the wiring electrodes 202 due to foreign conductive foreign matter, except for the lead electrode 203 portion for electrically connecting to the outside. Protected. As the protective film 204, an inorganic thin film such as silicon nitride or silicon oxide, or an organic film such as polyimide is generally used. The extraction electrode 203 is electrically connected to the outside,
Conductive protrusions 205 such as Au bumps, Cu plated bumps, and solder bumps are formed. Then, the conductive protrusion 2
Electrical connection is made with the circuit board 206 via 05.

【0008】基板201と回路基板206の間には、封
止樹脂207が充填されており、前記基板と回路基板と
の接着強度を補強すると共に、外部からの異物、水分の
浸入を防止している。また、弾性表面波デバイスなどの
電子部品では、配線電極202の周囲に振動空間が必要
であるため、前記封止樹脂207は基板201の周囲に
配される。
A sealing resin 207 is filled between the board 201 and the circuit board 206 to reinforce the adhesive strength between the board and the circuit board and prevent foreign matter and moisture from entering from the outside. There is. Further, in an electronic component such as a surface acoustic wave device, a vibrating space is required around the wiring electrode 202, so the sealing resin 207 is arranged around the substrate 201.

【0009】以上のように、樹脂封止構造の電子部品を
実現することにより、小型、低背の電子部品を低コスト
で実現することが可能となっていた。また、基板表面
を、保護膜204と、封止樹脂207で保護することに
より、一定の信頼性を確保することが可能となってい
た。
As described above, by realizing an electronic component having a resin-sealed structure, it has been possible to realize a small-sized and low-profile electronic component at low cost. Further, by protecting the substrate surface with the protective film 204 and the sealing resin 207, it has been possible to secure a certain degree of reliability.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の電子部品の場合には、耐湿信頼性を確保するため
に、ミクロンオーダの窒化珪素や酸化珪素などの無機保
護膜や、ポリイミドなどの有機系保護膜を形成する必要
があった。このため、前記保護膜204を形成する際に
生じる配線電極への残留応力が大きくなり、ストレスマ
イグレーションが発生するなど、配線電極の信頼性を損
なうといった課題を有していた。また、引き出し電極2
03部には、導電性突起を形成するための開口部を設け
る必要があり、前記保護膜をパターニングする工程が必
要となり、製造工程が複雑になっていた。
However, in the case of the above-mentioned conventional electronic parts, in order to secure the moisture resistance reliability, an inorganic protective film such as micron-order silicon nitride or silicon oxide, or an organic based film such as polyimide is used. It was necessary to form a protective film. Therefore, there is a problem that reliability of the wiring electrode is impaired because residual stress to the wiring electrode generated when the protective film 204 is formed becomes large and stress migration occurs. In addition, the extraction electrode 2
It is necessary to provide an opening for forming the conductive protrusion in the 03rd part, which requires a step of patterning the protective film, which complicates the manufacturing process.

【0011】また、配線電極202に絶縁性保護膜20
4を形成した前記従来の電子部品の場合には、外部から
の電圧印加等により、容易に前記絶縁性保護膜が絶縁破
壊に至るという課題を有していた。絶縁保護膜の破壊
は、微少領域であったとしても、配線電極の耐湿性を大
幅に低下させることになり、電子部品としての耐湿信頼
性を十分に確保することが困難となっていた。特に、焦
電性を有するタンタル酸リチウムなどの圧電基板を用い
た弾性表面波デバイスの場合には、環境温度の変化によ
り、配線電極間で放電が起こり絶縁性保護膜を破壊する
という課題を有していた。このため、保護膜による配線
電極の耐湿性確保は困難となっていた。
The insulating protective film 20 is formed on the wiring electrode 202.
In the case of the conventional electronic component in which No. 4 is formed, there is a problem that the insulating protective film easily causes dielectric breakdown due to voltage application from the outside. Even if the insulating protective film is destroyed in a very small area, the moisture resistance of the wiring electrode is significantly reduced, and it is difficult to sufficiently secure the moisture resistance reliability as an electronic component. Particularly, in the case of a surface acoustic wave device using a piezoelectric substrate such as lithium tantalate having pyroelectricity, there is a problem that a discharge occurs between wiring electrodes due to a change in environmental temperature and the insulating protective film is destroyed. Was. Therefore, it has been difficult to secure the moisture resistance of the wiring electrode by the protective film.

【0012】また、弾性表面波デバイスなどにおいて
は、前記保護膜を形成することで基板表面で励振される
弾性振動が阻害され、電気特性が大きく変動する。この
ため、製造歩留まりが低下する、あるいは電気特性にお
ける所望の特性を実現することが困難となるなどの課題
を有していた。一方、電気特性に影響を与えないよう
に、保護膜を薄くすると、配線電極の断面形状によって
は、配線電極側面の保護性が低下し、耐湿信頼性を十分
に確保することが困難となっていた。また、配線電極を
陽極酸化法により、薄い酸化物で一様に配線電極表面を
被覆する方法も提案されているが、配線電極の抵抗が高
くなるという課題を有していた。
Further, in a surface acoustic wave device or the like, the formation of the protective film hinders elastic vibration excited on the surface of the substrate, resulting in large fluctuations in electrical characteristics. For this reason, there are problems such as a decrease in manufacturing yield and difficulty in achieving desired electrical characteristics. On the other hand, if the protective film is made thin so as not to affect the electrical characteristics, the protection of the side surface of the wiring electrode may be reduced depending on the cross-sectional shape of the wiring electrode, making it difficult to ensure sufficient moisture resistance reliability. It was Further, a method has been proposed in which the wiring electrode surface is uniformly coated with a thin oxide by an anodic oxidation method, but there is a problem that the resistance of the wiring electrode increases.

【0013】本発明は、前記従来の課題を解決するもの
であり、配線電極が基板表面に形成された、半導体デバ
イスや、弾性表面波デバイス、バルク波デバイスなどの
圧電デバイスなどに代表される電子部品において、配線
電極上に厚い保護膜を形成せずとも、信頼性、特に耐湿
信頼性に優れた電子部品とその製造方法を提供すること
を目的とする。
The present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and is represented by an electronic device represented by a semiconductor device, a surface acoustic wave device, a piezoelectric device such as a bulk wave device, in which wiring electrodes are formed on the substrate surface. It is an object of the present invention to provide an electronic component having excellent reliability, particularly moisture resistance reliability, and a method for manufacturing the same, without forming a thick protective film on a wiring electrode.

【0014】また、引き出し電極部に開口部を形成する
必要がなく、製造工程を簡略化し、製造原価を低減する
ことができる電子部品とその製造方法を提供することを
目的とする。
It is another object of the present invention to provide an electronic component and a method for manufacturing the same, which can simplify the manufacturing process and reduce the manufacturing cost because it is not necessary to form an opening in the extraction electrode part.

【0015】また、保護膜の形成に起因する残留応力に
よるストレスマイグレーションを抑制し、配線電極に劣
化のない電子部品を提供すると共に、静電気などの外部
からの電圧印加に対しても電極損傷がなく、信頼性の高
い電子部品とその製造方法を提供することを目的とす
る。
Further, it is possible to suppress the stress migration due to the residual stress due to the formation of the protective film, to provide an electronic component without deterioration of the wiring electrode, and to prevent the electrode from being damaged even when an external voltage such as static electricity is applied. An object of the present invention is to provide a highly reliable electronic component and its manufacturing method.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の電子部品は、基板と、少なくとも前記基板
の一方表面に形成された配線電極とを備えた電子部品で
あって、前記配線電極が、中心導体と、前記中心導体の
少なくとも一部を覆うように形成された被覆導体とから
なることを特徴としている。
In order to achieve the above object, an electronic component of the present invention is an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate. It is characterized in that the wiring electrode is composed of a central conductor and a coated conductor formed so as to cover at least a part of the central conductor.

【0017】また、本発明の電子部品は、中心導体が、
AlまたはAlを主成分とする合金からなることを特徴
としている。
In the electronic component of the present invention, the center conductor is
It is characterized by being made of Al or an alloy containing Al as a main component.

【0018】また、本発明の電子部品は、中心導体が、
金属層と、Al層またはAlを主成分とする合金層との
積層構造からなることを特徴としている。さらに、前記
金属層が、Tiからなることを特徴としている。
In the electronic component of the present invention, the central conductor is
It is characterized by having a laminated structure of a metal layer and an Al layer or an alloy layer containing Al as a main component. Further, the metal layer is made of Ti.

【0019】また、本発明の電子部品は、中心導体が、
Alを主成分とする合金からなり、B、Mg、Si、S
c、Ti、V、Cr、Mn、Zr、Nb、Mo、Hf、
Taから選ばれる少なくとも1種を添加元素として含有
することを特徴としている。さらに、前記中心導体は、
Liを添加元素として含有することを特徴としている。
In the electronic component of the present invention, the central conductor is
It consists of an alloy containing Al as its main component, and contains B, Mg, Si, and S.
c, Ti, V, Cr, Mn, Zr, Nb, Mo, Hf,
It is characterized by containing at least one selected from Ta as an additional element. Further, the central conductor is
It is characterized by containing Li as an additional element.

【0020】また、本発明の電子部品は、中心導体が、
AlまたはAlを主成分とする合金からなり、被覆導体
が、前記中心導体を構成する元素の窒化物または複合窒
化物からなることを特徴としている。
In the electronic component of the present invention, the central conductor is
It is characterized in that it is made of Al or an alloy containing Al as a main component, and that the coated conductor is made of a nitride or a composite nitride of the element forming the central conductor.

【0021】また、本発明の電子部品は、中心導体が、
Alを主成分とする合金からなり、被覆導体が、前記中
心導体を構成する少なくとも1つの添加元素を、前記中
心導体よりも多く含有することを特徴としている。
In the electronic component of the present invention, the central conductor is
The coated conductor is made of an alloy containing Al as a main component, and the coated conductor contains at least one additional element forming the central conductor in a larger amount than that in the central conductor.

【0022】また、本発明の電子部品は、被覆導体の抵
抗率が、中心導体の抵抗率よりも大きいことを特徴とし
ている。
Further, the electronic component of the present invention is characterized in that the resistivity of the coated conductor is higher than that of the central conductor.

【0023】また、本発明の電子部品は、特に、電子部
品が弾性表面波デバイスであることを特徴としている。
The electronic component of the present invention is particularly characterized in that the electronic component is a surface acoustic wave device.

【0024】また、本発明の電子部品は、配線電極上
に、保護膜を備えたことを特徴としている。さらに、前
記保護膜の厚さが300nm以下であることを特徴とし
ている。
The electronic component of the present invention is characterized in that a protective film is provided on the wiring electrodes. Furthermore, the thickness of the protective film is 300 nm or less.

【0025】また、前記目的を達成するために、本発明
の電子部品の製造方法は、基板と、少なくとも前記基板
の一方表面に形成され、中心導体と被覆導体とからなる
配線電極とを備えた電子部品の製造方法において、少な
くとも、前記基板に中心導体を形成する工程と、前記中
心導体が形成された基板を、窒素中において熱処理する
ことにより、少なくとも前記中心導体の周縁部を窒化さ
せることにより、金属窒化膜からなる被覆導体を形成す
る工程とを備えたことを特徴としている。
In order to achieve the above object, the method of manufacturing an electronic component of the present invention includes a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate and including a center conductor and a coated conductor. In a method of manufacturing an electronic component, at least a step of forming a central conductor on the substrate, and heat treating the substrate on which the central conductor is formed in nitrogen to nitride at least a peripheral portion of the central conductor. And a step of forming a coated conductor made of a metal nitride film.

【0026】また、本発明の電子部品の製造方法は、基
板と、少なくとも前記基板の一方表面に形成され、中心
導体と被覆導体とからなる配線電極とを備えた電子部品
の製造方法において、少なくとも、前記基板に中心導体
を形成する工程と、前記中心導体が形成された基板を、
窒素中もしくはそれに準ずる還元性雰囲気中もしくは減
圧下において熱処理することにより、前記中心導体の添
加元素を周縁部に偏析させることにより、前記中心導体
の少なくとも一部を覆うように、中心導体とは異なる合
金組成を有する被覆導体を形成する工程とを備えたこと
を特徴としている。
Further, the method of manufacturing an electronic component of the present invention includes at least a method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode which is formed on at least one surface of the substrate and includes a center conductor and a coating conductor. A step of forming a central conductor on the substrate, and a substrate on which the central conductor is formed,
Different from the central conductor so as to cover at least a part of the central conductor by segregating the additive element of the central conductor to the peripheral portion by heat treatment in nitrogen or a reducing atmosphere similar thereto or under reduced pressure. And a step of forming a coated conductor having an alloy composition.

【0027】さらに、本発明の電子部品の製造方法は、
被覆導体を形成する工程において、さらにレーザを照射
する工程を備えたことを特徴としている。
Furthermore, the method of manufacturing an electronic component of the present invention is
The step of forming the coated conductor is characterized by further including a step of irradiating a laser.

【0028】また、本発明の電子部品の製造方法は、基
板と、少なくとも前記基板の一方表面に形成され、中心
導体と被覆導体とからなる配線電極とを備えた電子部品
の製造方法において、少なくとも、前記基板に中心導体
を形成する工程と、前記中心導体が形成された基板に窒
素イオンを注入することにより、少なくとも前記中心導
体の周縁部を窒化させることにより金属窒化膜からなる
被覆導体を形成する工程とを備えたことを特徴としてい
る。
Further, the method of manufacturing an electronic component of the present invention comprises at least a method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate and including a center conductor and a coating conductor. Forming a central conductor on the substrate, and implanting nitrogen ions into the substrate on which the central conductor is formed, thereby nitriding at least a peripheral portion of the central conductor to form a coated conductor made of a metal nitride film. It is characterized by including the step of performing.

【0029】また、本発明の電子部品の製造方法は、特
に、電子部品が弾性表面波デバイスであることを特徴と
している。
The method of manufacturing an electronic component of the present invention is characterized in that the electronic component is a surface acoustic wave device.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図1から図9を用いて詳細に説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. 1 to 9.

【0031】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1における電子部品の配線電極部の構造を示す断面
図である。図1において、101は基板、102は配線
電極であり、前記配線電極102は、中心導体103と
被覆導体104とからなる。以下に、本実施の形態にお
ける電子部品の配線電極部の構造およびその製造方法に
ついて、図面を用いて詳細に説明する。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of an electronic component according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 1, 101 is a substrate, 102 is a wiring electrode, and the wiring electrode 102 is composed of a central conductor 103 and a coated conductor 104. The structure of the wiring electrode portion of the electronic component and the manufacturing method thereof according to the present embodiment will be described below in detail with reference to the drawings.

【0032】基板101の一方表面に、通常のフォトリ
ソグラフィ手法により配線電極の中心導体103が形成
されている。基板101としては、半導体デバイスなど
の電子部品では、SiやGaAsなどの半導体基板を用
いることができる。また、弾性表面波デバイスなどの圧
電振動部品では、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウ
ム、水晶などの圧電単結晶基板を用いることができる。
なお、本発明は基板材料にかかわらず同様の効果を有す
るものであり、特に基板材料、電子部品の機能を限定す
るものではない。さらに、前記基板上に機能性薄膜が形
成された電子部品であっても同様の効果を有する。
The center conductor 103 of the wiring electrode is formed on one surface of the substrate 101 by a usual photolithography technique. As the substrate 101, a semiconductor substrate such as Si or GaAs can be used for an electronic component such as a semiconductor device. Further, in a piezoelectric vibrating component such as a surface acoustic wave device, a piezoelectric single crystal substrate such as lithium tantalate, lithium niobate, or crystal can be used.
The present invention has the same effect regardless of the substrate material, and does not particularly limit the functions of the substrate material and the electronic component. Further, the same effect can be obtained even in an electronic component in which a functional thin film is formed on the substrate.

【0033】そして、前記中心導体103を覆うようし
て、被覆導体104が形成されている。被覆導体104
は、基板101と中心導体103との界面を除いて、中
心導体の周囲を覆うように形成される。被覆導体を形成
する材料を、中心導体を形成するAlやCuなどに比べ
て耐食性に優れた(腐食電位が貴な)、例えばTiやT
aなどの金属とすることで、耐湿信頼性に優れた電子部
品を提供することができる。
A coated conductor 104 is formed so as to cover the central conductor 103. Coated conductor 104
Is formed so as to cover the periphery of the center conductor except for the interface between the substrate 101 and the center conductor 103. The material forming the coated conductor is more excellent in corrosion resistance (corrosion potential is noble) than that of Al or Cu forming the central conductor, for example, Ti or T
By using a metal such as a, it is possible to provide an electronic component having excellent moisture resistance reliability.

【0034】耐食性に優れた金属種としては、上述のT
iやTaに加えて、PtやAuなどが挙げられる。これ
らの材料を直接、配線電極の周囲を被覆するように形成
することは、フォトリソグラフィ手法を繰り返し行うこ
とにより、原理的には可能である。しかしながら、製造
方法が煩雑となり、電子部品の製造原価を押し上げる大
きな要因となる。また、配線電極の微細化が急速に進展
している昨今、サブミクロンオーダの配線電極に対し
て、このような被覆導体を直接形成することは実用的で
あるとは言えない。また、弾性表面波デバイスのよう
に、配線電極の膜厚や線幅の変動が電気特性に大きな影
響を与える場合には、特性変動の制御が困難であり実用
的ではない。従って、本実施の形態においては、後述の
ように、中心導体103の窒化物を被覆導体104と
し、配線電極102を形成した。
As the metal species having excellent corrosion resistance, the above-mentioned T
In addition to i and Ta, Pt, Au, etc. may be mentioned. In principle, it is possible to form these materials so as to directly cover the periphery of the wiring electrode by repeating the photolithography technique. However, the manufacturing method becomes complicated, which is a major factor in increasing the manufacturing cost of electronic components. In addition, with the recent progress in miniaturization of wiring electrodes, it is not practical to directly form such coated conductors on wiring electrodes on the order of submicrons. Further, when the variation of the film thickness or the line width of the wiring electrode has a great influence on the electrical characteristics like the surface acoustic wave device, it is difficult to control the variation of the characteristics and it is not practical. Therefore, in this embodiment, as described later, the nitride of the central conductor 103 is used as the coated conductor 104 to form the wiring electrode 102.

【0035】一般に、前記樹脂封止構造の電子部品の様
に、基板および配線電極の周辺に樹脂が介在している場
合には、前記樹脂中に不純物として不可避的に含まれる
塩素イオンや臭素イオン、有機酸イオンなどにより、樹
脂中を浸透する水分は酸性を示す場合が多い。従って、
被覆導体としては、特に酸性領域における腐食電位が貴
でることが要求される。なお、腐食電位は、当該電極材
料のアノード分極測定を行うことにより、定性的に判断
することができる。
Generally, when a resin is present around the substrate and the wiring electrodes as in the case of the electronic component having the resin-sealed structure, chlorine ions or bromine ions unavoidably contained as impurities in the resin. In many cases, water permeating the resin is acidic due to organic acid ions. Therefore,
The coated conductor is required to have a high corrosion potential, especially in an acidic region. The corrosion potential can be qualitatively determined by measuring the anodic polarization of the electrode material.

【0036】図2に、タンタル酸リチウム基板上に形成
したAl薄膜および、Ti薄膜、Ta薄膜(膜の厚さは
約300nm)の、0.3%NaCl水溶液を硫酸によ
りpH=3に調製した溶液中におけるアノード分極測定
の結果を示す。分極測定は、窒素バブリングにより十分
に溶存酸素を除去した後、掃引速度0.5mV/秒、常
温で、参照電極にAg/AgCl電極を、対向電極にP
t電極を用いて行った。(なお、以下に示すアノード分
極測定の結果は、全て同じ条件で行った。)図2から分
かるように、Alに比べて、TiやTaが非常に耐食性
に優れていることが分かる。なお、これらの結果は、電
極表面の状態に大きく依存するため、定量的な判断は単
純にはできない。また、図2におけるAl薄膜の曲線
は、0V付近でAl薄膜の溶解により、基板の露出が確
認されたため、それ以降の電流密度は必ずしも正確な値
ではない。
In FIG. 2, a 0.3% NaCl aqueous solution of an Al thin film, a Ti thin film, and a Ta thin film (film thickness is about 300 nm) formed on a lithium tantalate substrate was adjusted to pH = 3 with sulfuric acid. The result of anodic polarization measurement in a solution is shown. Polarization measurement was carried out by sufficiently removing dissolved oxygen by nitrogen bubbling, then sweeping at 0.5 mV / sec at room temperature, and using Ag / AgCl electrode as a reference electrode and P as a counter electrode.
It was performed using a t-electrode. (Note that the results of the anodic polarization measurement shown below were all performed under the same conditions.) As can be seen from FIG. 2, it is found that Ti and Ta have extremely excellent corrosion resistance as compared with Al. Since these results largely depend on the state of the electrode surface, quantitative judgment cannot be made simply. Further, in the curve of the Al thin film in FIG. 2, the exposure of the substrate was confirmed by the dissolution of the Al thin film near 0 V, so that the current density after that was not always an accurate value.

【0037】これらの結果は、実際の電子部品として前
記電極を用いた弾性表面波デバイスを作製し、耐湿試験
を行った結果と一致することを次のように確認してい
る。弾性表面波デバイスとして、900MHz帯のラダ
ー型フィルタを、上記各種電極材料を用いて、タンタル
酸リチウム基板上に形成した。電極の導電率、密度、弾
性定数等が異なるため、電気特性に差異が生じるが、耐
湿性評価には十分であった。前記弾性表面波デバイスを
樹脂封止し、85℃、相対湿度85%の条件で耐湿性試
験を行った。Al電極の場合には、数百時間から損失の
増大が確認された。
It has been confirmed as follows that these results are in agreement with the results of a moisture resistance test in which a surface acoustic wave device using the electrode as an actual electronic component was manufactured. As a surface acoustic wave device, a 900 MHz band ladder type filter was formed on a lithium tantalate substrate by using the above various electrode materials. Since the electric conductivity, the density, the elastic constant, and the like of the electrodes are different, the electric characteristics are different, but they are sufficient for the moisture resistance evaluation. The surface acoustic wave device was resin-sealed, and a humidity resistance test was performed under the conditions of 85 ° C. and relative humidity of 85%. In the case of the Al electrode, an increase in loss was confirmed from several hundred hours.

【0038】一方、TaおよびTiを用いた電極の場合
には、2000時間経過後も、損失の劣化は見られず、
電極表面の劣化等も観察されなかった。なお、TaやT
iを用いた弾性表面波デバイスは、電極抵抗による損失
が大きく、実用に適するものではないため本発明に至っ
たものである。なお、本実施の形態では、電子部品とし
て弾性表面波デバイスを用いて、耐湿性の評価を行って
いるが、これは、配線電極腐食の電気特性に及ぼす影響
が顕著であると考えたからである。
On the other hand, in the case of an electrode using Ta and Ti, deterioration of loss was not observed even after 2000 hours,
No deterioration of the electrode surface was observed. In addition, Ta and T
The surface acoustic wave device using i has a large loss due to electrode resistance and is not suitable for practical use, and thus has reached the present invention. In the present embodiment, the surface acoustic wave device is used as the electronic component to evaluate the moisture resistance, because it is considered that the influence of the corrosion of the wiring electrode on the electrical characteristics is significant. .

【0039】このように、配線電極を耐湿性に優れたT
iやTaなどの金属で形成することは、一般に電気抵抗
が大きいため、電子部品には使用するのが困難である。
また、Auなどの金属は電気抵抗の点では優れている
が、材料コストが高いことと、ファインパターンの形成
が困難であるなどの点で、実用上好ましくない。また、
弾性表面波デバイスの場合には、配線電極の密度が小さ
いことも望まれるため、上記金属種を配線電極として使
用することは事実上困難となっている。
As described above, the wiring electrode is made of T excellent in moisture resistance.
Forming a metal such as i or Ta generally has a large electric resistance, and thus is difficult to use for an electronic component.
Further, although metals such as Au are excellent in electrical resistance, they are not preferable in practice because of high material cost and difficulty in forming fine patterns. Also,
In the case of a surface acoustic wave device, it is also desired that the wiring electrodes have a low density, so that it is practically difficult to use the above metal species as the wiring electrodes.

【0040】そこで、本実施の形態では、以下に示す製
造方法により、被覆導体を形成した。この方法によれ
ば、フォトリソグラフィ手法の繰り返しをすることな
く、また、電極材料の密度が小さい配線電極を形成する
ことができる。
Therefore, in the present embodiment, the coated conductor is formed by the following manufacturing method. According to this method, it is possible to form a wiring electrode having a low density of electrode material without repeating the photolithography technique.

【0041】まず、基板101上に前述と同様にして、
Alからなる配線電極を形成する。次に、前記配線電極
が形成された基板を、窒素中にて熱処理を行うことによ
り、前記配線電極の表層を窒化し、窒化Al(AlN)
層を形成する。このようにして、窒化されていないAl
からなる中心導体103と、非常に薄いAlNからなる
被覆導体104とからなる配線電極102が形成され
る。
First, on the substrate 101, in the same manner as described above,
A wiring electrode made of Al is formed. Next, the substrate on which the wiring electrode is formed is heat-treated in nitrogen to nitride the surface layer of the wiring electrode, thereby forming a nitrided Al (AlN) layer.
Form the layers. In this way, unnitrided Al
The wiring electrode 102 is formed of the central conductor 103 made of and a coating conductor 104 made of very thin AlN.

【0042】図3に、タンタル酸リチウム基板上に形成
したAl薄膜および、窒化処理(窒素中、300℃、2
時間)したAl薄膜の、0.3%NaCl水溶液を硫酸
によりpH=3に調製した溶液中におけるアノード分極
測定の結果を示す。この結果から、被覆導体を中心導体
を構成するAlの窒化膜とすることで、耐湿性が改善さ
れることが分かる。
FIG. 3 shows an Al thin film formed on a lithium tantalate substrate and a nitriding treatment (in nitrogen, 300 ° C., 2 ° C.).
The results of anodic polarization measurement of a solution of an Al thin film subjected to time) in a 0.3% NaCl aqueous solution adjusted to pH = 3 with sulfuric acid are shown. From this result, it is understood that the moisture resistance is improved by using the Al nitride film forming the central conductor as the coated conductor.

【0043】熱処理時の雰囲気は、4N(99.99
%)以上の高純度の窒素雰囲気が好ましいが、酸素分圧
が十分低ければ、特に問題はない。また、窒素と水素な
どの還元性ガス、または窒素とアルゴンなどの不活性ガ
スとの混合ガス雰囲気であってもよい。また、熱処理温
度に関しても特に規定はない。これは、電極材料が経た
工程(成膜工程、パターニング工程など)によりその表
面状態が異なるため、一概に規定することはできないた
めである。例えば、本実施の形態におけるAl電極の場
合には200℃程度以上で表面の窒化を確認することが
でき、耐湿性の改善効果が認められた。但し、より高温
での熱処理により、緻密な窒化膜を形成することがで
き、耐湿信頼性の高い電子部品を得ることができる。
The atmosphere during the heat treatment is 4N (99.99).
%) Or higher purity nitrogen atmosphere is preferable, but there is no particular problem as long as the oxygen partial pressure is sufficiently low. Also, a reducing gas such as nitrogen and hydrogen, or a mixed gas atmosphere of nitrogen and an inert gas such as argon may be used. Further, there is no particular regulation regarding the heat treatment temperature. This is because the surface condition of the electrode material varies depending on the process (film forming process, patterning process, etc.) that the electrode material has undergone, and therefore cannot be specified unconditionally. For example, in the case of the Al electrode according to the present embodiment, nitriding of the surface could be confirmed at about 200 ° C. or higher, and the effect of improving the moisture resistance was confirmed. However, by heat treatment at a higher temperature, a dense nitride film can be formed, and an electronic component having high moisture resistance reliability can be obtained.

【0044】また、電子部品の特性上、高温での熱処理
が不可能である場合には、雰囲気ガスの圧力を高めるこ
とにより、良好な窒化膜を得ることができる。例えば、
3気圧の窒素中、150℃以上での熱処理においても、
Al電極の表面窒化が確認された。また、中心導体を窒
化する工程において、レーザを照射しても良い。これに
より、低温で良好な窒化膜を形成することができる。ま
た、基板への損傷が特に問題とならない場合には、中心
導体の表層を窒化させるために、窒素イオンを注入して
も良い。
When heat treatment at a high temperature is not possible due to the characteristics of electronic parts, a good nitride film can be obtained by increasing the pressure of atmospheric gas. For example,
Even in heat treatment at 150 ° C or higher in nitrogen at 3 atm,
Surface nitriding of the Al electrode was confirmed. Further, laser may be irradiated in the step of nitriding the central conductor. As a result, a good nitride film can be formed at a low temperature. If damage to the substrate does not cause any particular problem, nitrogen ions may be implanted to nitride the surface layer of the central conductor.

【0045】窒化膜の膜厚については、前述の製造方法
によれば、処理時間にもよるが、数nm〜10nm程度
と非常に薄く形成することができる。このため、配線電
極としての抵抗率はさほど上昇せず、電気特性に影響を
与えることなく信頼性を向上させることできる。また、
配線電極の表面形状、特に側面の形状によらず、中心導
体の周囲を一様に被覆導体である窒化膜を形成すること
ができるため、特に被覆導体を厚く形成せずとも、配線
電極側面の被覆状態が良好で、耐湿信頼性に優れた電子
部品を得ることができる。半導体などの電子部品におい
ては、被覆導体を厚く形成しても問題ない場合もある
が、弾性表面波デバイスなどでは、極薄の被覆導体を形
成することができる本発明による製造方法が好ましい。
これにより、特性変動が小さく製造歩留まりの高い電子
部品を得ることができる。
With respect to the film thickness of the nitride film, according to the above-mentioned manufacturing method, it can be formed very thin, about several nm to 10 nm, though it depends on the processing time. Therefore, the resistivity of the wiring electrode does not increase so much, and the reliability can be improved without affecting the electrical characteristics. Also,
Since it is possible to form a nitride film that is a covered conductor uniformly around the central conductor regardless of the surface shape of the wiring electrode, particularly the shape of the side surface, the side surface of the wiring electrode can be formed without forming a thick covered conductor. It is possible to obtain an electronic component having a good coating state and excellent moisture resistance reliability. In electronic parts such as semiconductors, there may be no problem even if the coated conductor is formed thick, but in the surface acoustic wave device or the like, the manufacturing method according to the present invention that can form an extremely thin coated conductor is preferable.
As a result, it is possible to obtain an electronic component having a small characteristic variation and a high manufacturing yield.

【0046】また、本実施の形態では、酸性領域中での
耐湿信頼性について説明したが、例えば、中性付近(p
H=6〜8)および、アルカリ性領域(pH=8以上)
においても同様の効果を確認している。
Further, in the present embodiment, the moisture resistance reliability in the acidic region has been described, but for example, in the vicinity of neutral (p
H = 6-8) and alkaline region (pH = 8 or more)
The same effect is confirmed in.

【0047】以上のように、基板と、少なくとも前記基
板の一方表面に形成された配線電極とを備えた電子部品
であって、前記配線電極が、中心導体と、前記中心導体
の少なくとも一部を覆うように形成された被覆導体とか
らなることを特徴とする電子部品により、耐湿信頼性に
優れた電子部品を得ることができる。また、引き出し電
極を配線電極と同様の構造にした場合においても、被覆
導体が導電性を有するため、導電性突起を形成するため
に従来必要であった保護膜への開口部の形成工程をなく
すことができ、製造コストを抑制することができる。
As described above, in the electronic component including the substrate and the wiring electrode formed on at least one surface of the substrate, the wiring electrode includes the central conductor and at least a part of the central conductor. An electronic component having a covered conductor formed so as to cover the electronic component is excellent in moisture resistance reliability. Even when the extraction electrode has the same structure as the wiring electrode, the coating conductor has conductivity, so that the step of forming an opening in the protective film, which is conventionally necessary for forming the conductive protrusion, is eliminated. Therefore, the manufacturing cost can be suppressed.

【0048】また、導電性材料により、中心電極を被覆
することにより、外部からの電圧印加があった場合にお
いても、被覆層が絶縁破壊することがないため、従来の
絶縁保護膜に比べ、信頼性の高い電子部品を得ることが
できる。
Further, by covering the center electrode with a conductive material, the covering layer does not cause dielectric breakdown even when a voltage is applied from the outside, so that it is more reliable than the conventional insulating protective film. A highly reliable electronic component can be obtained.

【0049】また、中心導体はAlであることが好まし
く、被覆導体は、前記中心導体を構成するAlの窒化物
からなることが好ましい。これにより、常温近傍におい
て安定で緻密な窒化膜(AlN)を形成することができ
る。また、極薄の被覆導体を形成することができ、配線
電極の電極抵抗を劣化させることなく、良好かつ特性変
動の小さい電子部品を得ることができる。
The center conductor is preferably Al, and the coated conductor is preferably made of an Al nitride constituting the center conductor. As a result, a stable and dense nitride film (AlN) can be formed near room temperature. Further, it is possible to form an extremely thin covered conductor, and it is possible to obtain an electronic component which is good and whose characteristic fluctuation is small without deteriorating the electrode resistance of the wiring electrode.

【0050】また、被覆導体の抵抗率は、中心導体の抵
抗率よりも大きいことが好ましい。これにより、配線電
極における電流分布が中心導体に集中し、電気特性劣化
のない電子部品を提供することができる。特に、電子部
品が弾性表面波デバイスである場合には、電気特性に及
ぼす被覆導体の影響が小さいため、従来の電気特性を損
なうことなく、耐湿信頼性に優れた電子部品を提供する
ことができる。また、AlN膜は非常に硬度、弾性定数
が大きいため、弾性波の粘性損失を低減することがで
き、低損失化にも寄与する。
The resistivity of the coated conductor is preferably higher than that of the central conductor. As a result, the current distribution in the wiring electrode is concentrated on the central conductor, and it is possible to provide an electronic component without deterioration in electrical characteristics. In particular, when the electronic component is a surface acoustic wave device, the influence of the coated conductor on the electrical characteristics is small, so that it is possible to provide an electronic component having excellent moisture resistance reliability without impairing the conventional electrical characteristics. . Further, since the AlN film has a very large hardness and elastic constant, it is possible to reduce the viscous loss of elastic waves, which also contributes to lowering the loss.

【0051】なお、本実施の形態では、保護膜を形成し
ていないが、耐湿性を配線電極の構造で確保しているた
め、図9に示すように、従来に比べて非常に薄い保護膜
を形成することにより、導電性異物による配線電極間の
短絡を防止することができる。このため、従来の電子部
品の場合に課題となったストレスマイグレーションの影
響を大幅に抑制することができ、信頼性の高い電子部品
を得ることができる。また、前記保護膜は300nm以
下であることが好ましい。これにより、弾性表面波デバ
イスなどの弾性振動を利用した電子部品においても、特
性劣化を実用レベルまで小さくすることができる。
Although the protective film is not formed in the present embodiment, since the moisture resistance is ensured by the structure of the wiring electrode, as shown in FIG. 9, the protective film is much thinner than the conventional one. By forming the, it is possible to prevent a short circuit between the wiring electrodes due to a conductive foreign substance. Therefore, the influence of stress migration, which is a problem in the case of the conventional electronic component, can be significantly suppressed, and an electronic component with high reliability can be obtained. The protective film preferably has a thickness of 300 nm or less. As a result, it is possible to reduce characteristic deterioration to a practical level even in an electronic component using elastic vibration such as a surface acoustic wave device.

【0052】また、前記電子部品を得るために、基板
と、少なくとも前記基板の一方表面に形成された配線電
極とを備えた電子部品の製造方法において、少なくと
も、前記基板に配線電極を形成する工程と、前記配線電
極が形成された基板を、窒素中において熱処理すること
により、少なくとも前記配線電極の周縁部を窒化させる
ことにより被覆導体を形成する工程とを備えたことを特
徴とする電子部品の製造方法により、信頼性の高い電子
部品を提供することができる。
Further, in the method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate to obtain the electronic component, at least a step of forming a wiring electrode on the substrate And a step of forming a covered conductor by nitriding at least a peripheral portion of the wiring electrode by heat-treating the substrate on which the wiring electrode is formed in nitrogen. The manufacturing method can provide a highly reliable electronic component.

【0053】また、被覆導体を形成する工程において、
さらにレーザを照射する工程を備えることが好ましい。
これにより、より低温で良好な窒化膜を形成することが
でき、熱による電子部品への悪影響を低減することがで
きる。
In the step of forming the coated conductor,
Further, it is preferable to include a step of irradiating a laser.
As a result, a favorable nitride film can be formed at a lower temperature, and the adverse effect of heat on electronic components can be reduced.

【0054】また、基板と、少なくとも前記基板の一方
表面に形成され、中心導体と被覆導体とからなる配線電
極とを備えた電子部品の製造方法において、少なくと
も、前記基板に中心導体を形成する工程と、前記中心導
体が形成された基板に窒素イオンを注入することによ
り、少なくとも前記中心導体の周縁部を窒化させること
により金属窒化膜からなる被覆導体を形成する工程とを
備えたことを特徴とする電子部品の製造方法によって
も、同様の効果を実現することができる。
In the method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate and including a central conductor and a coated conductor, at least a step of forming the central conductor on the substrate And a step of forming a coated conductor made of a metal nitride film by nitriding at least a peripheral portion of the central conductor by implanting nitrogen ions into the substrate on which the central conductor is formed. The same effect can be realized by the manufacturing method of the electronic component.

【0055】(実施の形態2)次に、本発明の実施の形
態2における電子部品およびその製造方法について説明
する。実施の形態1と同様に、基板101の一方表面
に、通常のフォトリソグラフィ手法により配線電極の中
心導体103が形成されている。そして、前記中心導体
103を覆うようして、被覆導体104が形成されてい
る。被覆導体104は、基板101と中心導体103と
の界面を除いて、中心導体の周囲を覆うように形成され
る。
(Second Embodiment) Next, an electronic component and a method of manufacturing the same according to a second embodiment of the present invention will be described. Similar to the first embodiment, the center conductor 103 of the wiring electrode is formed on one surface of the substrate 101 by a normal photolithography method. A covering conductor 104 is formed so as to cover the central conductor 103. The covered conductor 104 is formed so as to cover the periphery of the center conductor except for the interface between the substrate 101 and the center conductor 103.

【0056】本実施の形態では、基板101上にAlを
主成分とするAl合金からなる配線電極を形成する。次
に、前記配線電極が形成された基板を、窒素中にて熱処
理を行うことにより、前記配線電極の表層を窒化する。
このようにして、窒化されていないAl合金からなる中
心導体103と、非常に薄い複合窒化物(Al−X−
N:Xは添加合金元素)からなる被覆導体104とから
なる配線電極102が形成される。
In this embodiment, a wiring electrode made of an Al alloy containing Al as a main component is formed on the substrate 101. Next, the substrate on which the wiring electrodes are formed is heat-treated in nitrogen to nitride the surface layer of the wiring electrodes.
In this way, the central conductor 103 made of an unnitrided Al alloy and a very thin composite nitride (Al-X-
The wiring electrode 102 including the coated conductor 104 made of N: X is an additive alloy element is formed.

【0057】ここで、添加合金元素としては、常温にお
いて安定な窒化物を形成するB、Mg、Si、Sc、T
i、V、Cr、Mn、Zr、Nb、Mo、Hf、Taか
ら選ばれる元素であることが好ましい。これにより、A
lと添加元素との安定複合窒化物を形成することが可能
であり、その結果、耐湿性に優れた被覆導体を形成する
ことが可能となる。
Here, as the additive alloy element, B, Mg, Si, Sc and T which form a stable nitride at room temperature.
An element selected from i, V, Cr, Mn, Zr, Nb, Mo, Hf, and Ta is preferable. This gives A
It is possible to form a stable composite nitride of 1 and an additional element, and as a result, it is possible to form a coated conductor having excellent moisture resistance.

【0058】図4は、添加合金元素として、Ti(3w
t%)を用いた場合の、アノード分極曲線を示したもの
である。図4から分かるように、純Alに比べて、Ti
を3%添加することにより、耐湿性の改善効果があるこ
とが分かる。しかし、合金薄膜の溶出により基板の露出
が観察された。一方、前記Al−Ti電極を3気圧の加
圧炉にて窒化処理(300℃、2時間)したところ、非
常に耐湿性のある被覆導体が形成されていることが分か
る。このような結果は、前記他の合金元素を添加した場
合にも確認された。
FIG. 4 shows Ti (3w) as an additive alloy element.
t%) is used to show the anodic polarization curve. As can be seen from FIG. 4, compared to pure Al, Ti
It can be seen that there is an effect of improving the moisture resistance by adding 3%. However, the exposure of the substrate was observed due to the elution of the alloy thin film. On the other hand, when the Al—Ti electrode was subjected to a nitriding treatment (300 ° C., 2 hours) in a pressure furnace at 3 atm, it was found that a coated conductor having extremely high moisture resistance was formed. Such a result was also confirmed when the other alloying elements were added.

【0059】また、添加合金元素の含有量を多くしてい
くと、耐湿性は向上するが、抵抗率が増大するという課
題がある。しかしながら、本実施の形態では、熱処理を
することにより、中心導体のAl合金の抵抗率は低下
し、実用上問題がないことが確認された。図5は、本実
施の形態における弾性表面波フィルタの周波数特性の一
例を示したものである。添加合金元素としてTiを添加
することにより、抵抗率の増大により、挿入損失が劣化
するが、窒化熱処理をすることにより特性が回復してい
ることが分かる。このように、窒化処理をする工程にお
いて、熱処理を施すことにより、電気特性が良好であ
り、信頼性に優れた電子部品を得ることができる。な
お、合金元素の添加量に関しては、添加する元素により
その挙動が異なるため、また、電子部品の用途によって
も、配線電極に対する抵抗率や弾性定数等の要望範囲が
異なるため、一概に規定することはできない。
Further, if the content of the additive alloy element is increased, the moisture resistance is improved, but there is a problem that the resistivity is increased. However, in the present embodiment, it was confirmed that the heat treatment causes the resistivity of the Al alloy of the central conductor to decrease, and there is no practical problem. FIG. 5 shows an example of frequency characteristics of the surface acoustic wave filter according to the present embodiment. It can be seen that by adding Ti as an additional alloying element, the insertion loss is deteriorated due to the increase in resistivity, but the characteristics are recovered by the nitriding heat treatment. As described above, by performing the heat treatment in the step of performing the nitriding treatment, it is possible to obtain an electronic component having good electrical characteristics and excellent reliability. Regarding the amount of alloying elements added, the behavior differs depending on the element to be added, and the required range for the resistivity and elastic constant for the wiring electrodes also differs depending on the application of the electronic component. I can't.

【0060】なお、Al合金を中心導体として用いる場
合には、それ自体が純Alに比べて良好な耐湿性を備え
るため、特に中心導体の周囲全面を被覆導体で覆う必要
はなく、図6に示すように、中心導体の周囲の一部を覆
うだけでも良い。また、添加合金元素の種類、添加量に
よっては、中心導体は必ずしも単相とはならない。この
ため、窒化膜である被覆導体の厚さを均一にすることは
困難であるが、耐湿性に何ら影響を与えるものではな
い。
When an Al alloy is used as the central conductor, since it has better moisture resistance than pure Al, it is not necessary to cover the entire circumference of the central conductor with a coated conductor. As shown, it may cover only a part of the periphery of the center conductor. Further, the central conductor does not necessarily have a single phase depending on the type and the amount of the added alloy element. For this reason, it is difficult to make the thickness of the coated conductor, which is a nitride film, uniform, but it does not affect the moisture resistance at all.

【0061】また、本実施の形態における電子部品にお
いては、配線電極の添加合金元素として、さらにLiを
添加元素として含有することが好ましい。中心導体とし
てAl合金を使用する場合には、一般に、配線電極の密
度が大きくなる。特に、電子部品が弾性表面波デバイス
の場合には、配線電極による質量付加効果が特性に大き
く影響するため、高密度金属を配線電極として使用する
と、膜厚管理が困難となり、製造歩留まりの低下を招
く。合金添加元素としてのLiは、その密度低減効果が
大きく、前記安定窒化物を形成する金属を含むAl合金
に添加することで、配線電極の密度を低下させるのに大
きな効果を発する。これにより、成膜時の膜厚管理が容
易となり、歩留まりの改善に寄与することができる。
Further, in the electronic component of the present embodiment, it is preferable that Li is further contained as an additive alloy element of the wiring electrode. When an Al alloy is used as the central conductor, the density of wiring electrodes generally increases. In particular, when the electronic component is a surface acoustic wave device, the mass addition effect of the wiring electrode greatly affects the characteristics. Therefore, if a high-density metal is used as the wiring electrode, it becomes difficult to control the film thickness, and the manufacturing yield decreases. Invite. Li as an alloy addition element has a large effect of reducing its density, and when added to an Al alloy containing a metal that forms the stable nitride, it has a great effect of reducing the density of the wiring electrode. As a result, it becomes easy to control the film thickness during film formation, which can contribute to the improvement of the yield.

【0062】以上のように、基板と、少なくとも前記基
板の一方表面に形成された配線電極とを備えた電子部品
であって、前記配線電極が、中心導体と、前記中心導体
の少なくとも一部を覆うように形成された被覆導体とか
らなることを特徴とする電子部品により、耐湿信頼性に
優れた電子部品を得ることができる。また、引き出し電
極を配線電極と同様の構造にした場合においても、被覆
導体が導電性を有するため、導電性突起を形成するため
に従来必要であった保護膜への開口部の形成工程をなく
すことができ、製造コストを抑制することができる。
As described above, in the electronic component provided with the substrate and the wiring electrode formed on at least one surface of the substrate, the wiring electrode includes the central conductor and at least a part of the central conductor. An electronic component having a covered conductor formed so as to cover the electronic component is excellent in moisture resistance reliability. Even when the extraction electrode has the same structure as the wiring electrode, the coating conductor has conductivity, so that the step of forming an opening in the protective film, which is conventionally necessary for forming the conductive protrusion, is eliminated. Therefore, the manufacturing cost can be suppressed.

【0063】また、導電性材料により、中心電極を被覆
することにより、外部からの電圧印加があった場合にお
いても、被覆層が絶縁破壊することがないため、従来の
絶縁保護膜に比べ、信頼性の高い電子部品を得ることが
できる。
Further, by covering the center electrode with a conductive material, the covering layer does not cause dielectric breakdown even when a voltage is applied from the outside, so that it is more reliable than the conventional insulating protective film. A highly reliable electronic component can be obtained.

【0064】また、中心導体はAlを主成分とする合金
であることが好ましく、被覆導体は、前記中心導体を構
成するAlを主成分とする合金の複合窒化物からなるこ
とが好ましい。また、添加合金元素としては、常温にお
いて安定な窒化物を形成するB、Mg、Si、Sc、T
i、V、Cr、Mn、Zr、Nb、Mo、Hf、Taか
ら選ばれる元素であることが好ましい。これにより、常
温近傍において安定で緻密な複合窒化膜を形成すること
ができる。また、本発明の実施の形態1と同様、極薄の
被覆導体を形成することができ、配線電極の電極抵抗を
劣化させることなく、良好かつ特性変動の小さい電子部
品を得ることができる。
Further, the central conductor is preferably an alloy containing Al as a main component, and the coated conductor is preferably composed of a composite nitride of an alloy containing Al as a main component constituting the central conductor. Further, as the additive alloy element, B, Mg, Si, Sc and T which form a stable nitride at room temperature.
An element selected from i, V, Cr, Mn, Zr, Nb, Mo, Hf, and Ta is preferable. As a result, a stable and dense composite nitride film can be formed near room temperature. Further, as in the first embodiment of the present invention, it is possible to form an extremely thin covered conductor, and it is possible to obtain a good electronic component with small characteristic fluctuations without deteriorating the electrode resistance of the wiring electrode.

【0065】また、前記合金を中心導体として使用する
ことで、配線電極自体の耐電力性が向上するため、弾性
表面波共用器など耐電力性を要求されるデバイスにも適
用することが可能である。このように、耐湿性と耐電力
性を兼ね備えた配線電極とすることで、従来ハーメチッ
クシールが必須であった弾性表面波共用器においても、
樹脂封止構造の電子部品が実現できる。
Further, since the power resistance of the wiring electrode itself is improved by using the alloy as the center conductor, it can be applied to a device requiring power resistance such as a surface acoustic wave duplexer. is there. In this way, by using a wiring electrode having both moisture resistance and power resistance, even in a surface acoustic wave duplexer where a hermetic seal is conventionally required,
An electronic component having a resin-sealed structure can be realized.

【0066】また、被覆導体の抵抗率は、中心導体の抵
抗率よりも大きいことが好ましい。これにより、配線電
極における電流分布が中心導体に集中し、電気特性劣化
のない電子部品を提供することができる。特に、電子部
品が弾性表面波デバイスである場合には、電気特性に及
ぼす被覆導体の影響が小さいため、従来の電気特性を損
なうことなく、耐湿信頼性に優れた電子部品を提供する
ことができる。また、Al−X−N系複合窒化膜(Xは
添加合金元素)は非常に硬度、弾性定数が大きいため、
弾性波の粘性損失を低減することができ、低損失化にも
寄与する。
Further, the resistivity of the coated conductor is preferably higher than that of the central conductor. As a result, the current distribution in the wiring electrode is concentrated on the central conductor, and it is possible to provide an electronic component without deterioration in electrical characteristics. In particular, when the electronic component is a surface acoustic wave device, the influence of the coated conductor on the electrical characteristics is small, so that it is possible to provide an electronic component having excellent moisture resistance reliability without impairing the conventional electrical characteristics. . Further, since the Al-X-N-based composite nitride film (X is an additive alloy element) has a very large hardness and elastic constant,
Viscous loss of elastic waves can be reduced, which also contributes to low loss.

【0067】なお、本実施の形態では、保護膜を形成し
ていないが、耐湿性を配線電極の構造で確保しているた
め、従来に比べて非常に薄い保護膜を形成することによ
り、導電性異物による配線電極間の短絡を防止すること
ができる。このため、従来の電子部品の場合に課題とな
ったストレスマイグレーションの影響を大幅に抑制する
ことができ、信頼性の高い電子部品を得ることができ
る。また、前記保護膜は300nm以下であることが好
ましい。これにより、弾性表面波デバイスなどの弾性振
動を利用した電子部品においても、特性劣化を実用レベ
ルまで小さくすることができる。
Although the protective film is not formed in this embodiment, since the moisture resistance is ensured by the structure of the wiring electrode, the conductive film is formed by forming a protective film which is much thinner than the conventional one. It is possible to prevent a short circuit between the wiring electrodes due to a foreign substance. Therefore, the influence of stress migration, which is a problem in the case of the conventional electronic component, can be significantly suppressed, and an electronic component with high reliability can be obtained. The protective film preferably has a thickness of 300 nm or less. As a result, it is possible to reduce characteristic deterioration to a practical level even in an electronic component using elastic vibration such as a surface acoustic wave device.

【0068】また、前記電子部品を得るために、基板
と、少なくとも前記基板の一方表面に形成された配線電
極とを備えた電子部品の製造方法において、少なくと
も、前記基板に配線電極を形成する工程と、前記配線電
極が形成された基板を、窒素中において熱処理すること
により、少なくとも前記配線電極の周縁部を窒化させる
ことにより被覆導体を形成する工程とを備えたことを特
徴とする電子部品の製造方法により、信頼性の高い電子
部品を提供することができる。
In the method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate to obtain the electronic component, at least a step of forming a wiring electrode on the substrate And a step of forming a covered conductor by nitriding at least a peripheral portion of the wiring electrode by heat-treating the substrate on which the wiring electrode is formed in nitrogen. The manufacturing method can provide a highly reliable electronic component.

【0069】また、被覆導体を形成する工程において、
さらにレーザを照射する工程を備えることが好ましい。
これにより、より低温で良好な窒化膜を形成することが
でき、熱による電子部品への悪影響を低減することがで
きる。
In the step of forming the coated conductor,
Further, it is preferable to include a step of irradiating a laser.
As a result, a favorable nitride film can be formed at a lower temperature, and the adverse effect of heat on electronic components can be reduced.

【0070】また、基板と、少なくとも前記基板の一方
表面に形成され、中心導体と被覆導体とからなる配線電
極とを備えた電子部品の製造方法において、少なくと
も、前記基板に中心導体を形成する工程と、前記中心導
体が形成された基板に窒素イオンを注入することによ
り、少なくとも前記中心導体の周縁部を窒化させること
により金属窒化膜からなる被覆導体を形成する工程とを
備えたことを特徴とする電子部品の製造方法によって
も、同様の効果を実現することができる。
In the method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate and including a central conductor and a covering conductor, at least a step of forming the central conductor on the substrate And a step of forming a coated conductor made of a metal nitride film by nitriding at least a peripheral portion of the central conductor by implanting nitrogen ions into the substrate on which the central conductor is formed. The same effect can be realized by the manufacturing method of the electronic component.

【0071】(実施の形態3)図7は、本発明の実施の
形態3における電子部品の配線電極部の構造を示す断面
図である。図3において、101は基板、102は配線
電極であり、前記配線電極102は、中心導体103と
被覆導体104とからなる。また、中心導体103は、
AlまたはAlを主成分とする合金からなる第1の金属
層103aと、前記第1の金属層よりも膜厚が薄い第2
の金属層103bとの積層構造からなる。以下に、本発
明の実施の形態3における電子部品およびその製造方法
について説明する。
(Third Embodiment) FIG. 7 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of an electronic component according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 3, 101 is a substrate, 102 is a wiring electrode, and the wiring electrode 102 is composed of a central conductor 103 and a coated conductor 104. Further, the central conductor 103 is
A first metal layer 103a made of Al or an alloy containing Al as a main component, and a second metal layer 103a having a thickness smaller than that of the first metal layer.
Of the metal layer 103b. The electronic component and the method for manufacturing the same according to the third embodiment of the present invention will be described below.

【0072】基板101の一方表面に、通常のフォトリ
ソグラフィ手法により、第1の金属層103aと第2の
金属層103bとの積層構造よりなる配線電極の中心導
体103が形成されている。そして、前記中心導体10
3を覆うようして、被覆導体104が形成されている。
被覆導体104は、基板101と中心導体103との界
面を除いて、中心導体の周囲を覆うように形成される。
On one surface of the substrate 101, the center conductor 103 of the wiring electrode having a laminated structure of the first metal layer 103a and the second metal layer 103b is formed by the usual photolithography technique. Then, the central conductor 10
The covered conductor 104 is formed so as to cover the conductor 3.
The covered conductor 104 is formed so as to cover the periphery of the center conductor except for the interface between the substrate 101 and the center conductor 103.

【0073】本実施の形態では、第1の金属層103a
として厚さ30nmのTiを用いた。また、第2の金属
層103bとしてAlを主成分とするAl−1wt%T
i合金を用いた。なお、第1の金属層として、B、M
g、Si、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Zr、Nb、
Mo、Hf、Taなど、安定な窒化物を形成する元素を
用いることが好ましいが、特に規定はない。さらには、
第2の金属層よりも腐食電位が貴であるTiやTaなど
の金属を用い、前記第2の金属層の上部にも積層するこ
とが好ましい。これにより、さらに耐湿信頼性に優れた
電子部品を得ることができる。また、第2の金属層とし
ては、Alや前記安定窒化物を形成する金属を含む合金
であれば良い。
In this embodiment mode, the first metal layer 103a is formed.
As the material, Ti having a thickness of 30 nm was used. Further, Al-1 wt% T containing Al as a main component as the second metal layer 103b.
i alloy was used. In addition, as the first metal layer, B, M
g, Si, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Zr, Nb,
It is preferable to use an element such as Mo, Hf, or Ta that forms a stable nitride, but there is no particular limitation. Moreover,
It is preferable to use a metal such as Ti or Ta, which has a higher corrosion potential than the second metal layer, and to stack the metal on the second metal layer. As a result, it is possible to obtain an electronic component having further excellent moisture resistance reliability. The second metal layer may be an alloy containing Al or a metal forming the stable nitride.

【0074】本実施の形態では、第2の金属層103b
は、その上下を第1の金属層103aにより挟むように
して形成されている。なお、本実施の形態では、3層構
造の中心導体を用いているが、積層数に特に制約はな
い。基板101と第2の金属層103bとの間に下地電
極としてTiからなる第1の金属層を形成することで、
第2の金属層であるAl合金電極の結晶配向性が良好と
なり、前記第2の金属層の側面部において、均質な被覆
導体104が形成できる。
In this embodiment mode, the second metal layer 103b is used.
Are formed so that the upper and lower sides thereof are sandwiched by the first metal layer 103a. Although the central conductor having a three-layer structure is used in this embodiment, the number of layers is not particularly limited. By forming a first metal layer made of Ti as a base electrode between the substrate 101 and the second metal layer 103b,
The crystal orientation of the Al alloy electrode, which is the second metal layer, becomes good, and the homogeneous covered conductor 104 can be formed on the side surface portion of the second metal layer.

【0075】なお、同様の効果をもたらすものとして、
第1の金属層にCr、Ta、Zr、Mo等を用いても良
い。これは、中心導体を形成するドライエッチング工程
において、電極側面のエッチングレートが均一となるた
め、電極側面の凹凸が抑制されることが一因として挙げ
られる。これにより、前記実施の形態1と同様に、中心
導体の窒化物からなる被覆導体を形成した場合に、信頼
性の高い電子部品を得ることができる。
Incidentally, as a similar effect,
Cr, Ta, Zr, Mo or the like may be used for the first metal layer. This is because, in the dry etching step of forming the center conductor, the etching rate on the side surface of the electrode becomes uniform, so that unevenness on the side surface of the electrode is suppressed. As a result, as in the case of the first embodiment, a highly reliable electronic component can be obtained when the coated conductor made of the nitride of the central conductor is formed.

【0076】なお、本実施の形態では、Tiを第1の金
属層として用いているが、これは、基板101と配線電
極との密着力を向上させる効果も併せ持っている。ま
た、第1の金属層を第2の金属層の上部にも形成するこ
とで、より耐湿信頼性に優れた電子部品を得ることがで
きる。
Although Ti is used as the first metal layer in this embodiment, it also has the effect of improving the adhesion between the substrate 101 and the wiring electrode. Further, by forming the first metal layer also on the second metal layer, it is possible to obtain an electronic component having more excellent moisture resistance reliability.

【0077】被覆導体104は、前記配線電極が形成さ
れた基板を、窒素中にて熱処理を行うことにより、前記
配線電極の表層を窒化することにより形成されている。
即ち、中心導体の側面には非常に薄い複合窒化物(Al
−X−N:Xは添加合金元素)が、また、中心導体の上
部には第1の金属層の窒化膜(本実施の形態ではTi
N)が形成される。
The covered conductor 104 is formed by heat-treating the substrate on which the wiring electrode is formed in nitrogen to nitride the surface layer of the wiring electrode.
That is, a very thin compound nitride (Al
-X-N: X is an additive alloy element, and a nitride film of the first metal layer (Ti in the present embodiment) is formed on the center conductor.
N) is formed.

【0078】以上のように、基板と、少なくとも前記基
板の一方表面に形成された配線電極とを備えた電子部品
であって、前記配線電極が、第1の金属層と第2の金属
層との積層構造からなる中心導体と、前記中心導体の少
なくとも一部を覆うように形成された被覆導体とからな
ることを特徴とする電子部品により、耐湿信頼性に優れ
た電子部品を得ることができる。また、引き出し電極を
配線電極と同様の構造にした場合においても、被覆導体
が導電性を有するため、導電性突起を形成するために従
来必要であった保護膜への開口部の形成工程をなくすこ
とができ、製造コストを抑制することができる。
As described above, in the electronic component including the substrate and the wiring electrode formed on at least one surface of the substrate, the wiring electrode includes the first metal layer and the second metal layer. An electronic component having excellent moisture resistance reliability can be obtained by an electronic component characterized by comprising a central conductor having a laminated structure of and a coated conductor formed so as to cover at least a part of the central conductor. . Even when the extraction electrode has the same structure as the wiring electrode, the coating conductor has conductivity, so that the step of forming an opening in the protective film, which is conventionally necessary for forming the conductive protrusion, is eliminated. Therefore, the manufacturing cost can be suppressed.

【0079】また、導電性材料により、中心電極を被覆
することにより、外部からの電圧印加があった場合にお
いても、被覆層が絶縁破壊することがないため、従来の
絶縁保護膜に比べ、信頼性の高い電子部品を得ることが
できる。
Further, by covering the center electrode with a conductive material, the covering layer does not cause dielectric breakdown even when a voltage is applied from the outside, so that it is more reliable than the conventional insulating protective film. A highly reliable electronic component can be obtained.

【0080】また、第1の金属層はTiであることが好
ましい、これにより、配向性に優れた第2の金属層を形
成することができ、より信頼性の高い電子部品を得るこ
とができる。また、中心電極の上部にも第1の金属層を
形成することにより、より信頼性の高い電子部品を得る
ことができる。この場合には、第1の金属層として、前
記第2の金属層よりも腐食電位が貴である金属、例え
ば、TiやTaなどを用いることが好ましい。
Further, it is preferable that the first metal layer is Ti, which makes it possible to form the second metal layer having excellent orientation and obtain a more reliable electronic component. . Further, by forming the first metal layer on the center electrode as well, a more reliable electronic component can be obtained. In this case, it is preferable to use, as the first metal layer, a metal having a higher corrosion potential than that of the second metal layer, such as Ti or Ta.

【0081】また、中心導体はAlを主成分とする合金
であることが好ましく、被覆導体は、前記中心導体を構
成するAlを主成分とする合金の複合窒化物からなるこ
とが好ましい。また、添加合金元素としては、常温にお
いて安定な窒化物を形成するB、Mg、Si、Sc、T
i、V、Cr、Mn、Zr、Nb、Mo、Hf、Taか
ら選ばれる元素であることが好ましい。これにより、常
温近傍において安定で緻密な複合窒化膜を形成すること
ができる。また、本発明の実施の形態1と同様、極薄の
被覆導体を形成することができ、配線電極の電極抵抗を
劣化させることなく、良好かつ特性変動の小さい電子部
品を得ることができる。
The center conductor is preferably an alloy containing Al as a main component, and the coated conductor is preferably composed of a composite nitride of an alloy containing Al as a main component that constitutes the center conductor. Further, as the additive alloy element, B, Mg, Si, Sc and T which form a stable nitride at room temperature.
An element selected from i, V, Cr, Mn, Zr, Nb, Mo, Hf, and Ta is preferable. As a result, a stable and dense composite nitride film can be formed near room temperature. Further, as in the first embodiment of the present invention, it is possible to form an extremely thin covered conductor, and it is possible to obtain a good electronic component with small characteristic fluctuations without deteriorating the electrode resistance of the wiring electrode.

【0082】また、被覆導体の抵抗率は、中心導体の抵
抗率よりも大きいことが好ましい。これにより、配線電
極における電流分布が中心導体に集中し、電気特性劣化
のない電子部品を提供することができる。特に、電子部
品が弾性表面波デバイスである場合には、電気特性に及
ぼす被覆導体の影響が小さいため、従来の電気特性を損
なうことなく、耐湿信頼性に優れた電子部品を提供する
ことができる。また、Al−X−N系複合窒化膜(Xは
添加合金元素)は非常に硬度、弾性定数が大きいため、
弾性波の粘性損失を低減することができ、低損失化にも
寄与する。
The resistivity of the coated conductor is preferably higher than that of the central conductor. As a result, the current distribution in the wiring electrode is concentrated on the central conductor, and it is possible to provide an electronic component without deterioration in electrical characteristics. In particular, when the electronic component is a surface acoustic wave device, the influence of the coated conductor on the electrical characteristics is small, so that it is possible to provide an electronic component having excellent moisture resistance reliability without impairing the conventional electrical characteristics. . Further, since the Al-X-N-based composite nitride film (X is an additive alloy element) has a very large hardness and elastic constant,
Viscous loss of elastic waves can be reduced, which also contributes to low loss.

【0083】なお、本実施の形態では、保護膜を形成し
ていないが、耐湿性を配線電極の構造で確保しているた
め、従来に比べて非常に薄い保護膜を形成することによ
り、導電性異物による配線電極間の短絡を防止すること
ができる。このため、従来の電子部品の場合に課題とな
ったストレスマイグレーションの影響を大幅に抑制する
ことができ、信頼性の高い電子部品を得ることができ
る。また、前記保護膜は300nm以下であることが好
ましい。これにより、弾性表面波デバイスなどの弾性振
動を利用した電子部品においても、特性劣化を実用レベ
ルまで小さくすることができる。
Although the protective film is not formed in the present embodiment, since the moisture resistance is ensured by the structure of the wiring electrode, the conductive film is formed by forming a protective film which is much thinner than the conventional one. It is possible to prevent a short circuit between the wiring electrodes due to a foreign substance. Therefore, the influence of stress migration, which is a problem in the case of the conventional electronic component, can be significantly suppressed, and an electronic component with high reliability can be obtained. The protective film preferably has a thickness of 300 nm or less. As a result, it is possible to reduce characteristic deterioration to a practical level even in an electronic component using elastic vibration such as a surface acoustic wave device.

【0084】また、前記電子部品を得るために、基板
と、少なくとも前記基板の一方表面に形成された配線電
極とを備えた電子部品の製造方法において、少なくと
も、前記基板に配線電極を形成する工程と、前記配線電
極が形成された基板を、窒素中において熱処理すること
により、少なくとも前記配線電極の周縁部を窒化させる
ことにより被覆導体を形成する工程とを備えたことを特
徴とする電子部品の製造方法により、信頼性の高い電子
部品を提供することができる。
In the method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate in order to obtain the electronic component, at least a step of forming a wiring electrode on the substrate And a step of forming a covered conductor by nitriding at least a peripheral portion of the wiring electrode by heat-treating the substrate on which the wiring electrode is formed in nitrogen. The manufacturing method can provide a highly reliable electronic component.

【0085】また、被覆導体を形成する工程において、
さらにレーザを照射する工程を備えることが好ましい。
これにより、より低温で良好な窒化膜を形成することが
でき、熱による電子部品への悪影響を低減することがで
きる。
In the step of forming the coated conductor,
Further, it is preferable to include a step of irradiating a laser.
As a result, a favorable nitride film can be formed at a lower temperature, and the adverse effect of heat on electronic components can be reduced.

【0086】また、基板と、少なくとも前記基板の一方
表面に形成され、中心導体と被覆導体とからなる配線電
極とを備えた電子部品の製造方法において、少なくと
も、前記基板に中心導体を形成する工程と、前記中心導
体が形成された基板に窒素イオンを注入することによ
り、少なくとも前記中心導体の周縁部を窒化させること
により金属窒化膜からなる被覆導体を形成する工程とを
備えたことを特徴とする電子部品の製造方法によって
も、同様の効果を実現することができる。
In a method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate and including a central conductor and a covering conductor, at least a step of forming the central conductor on the substrate And a step of forming a coated conductor made of a metal nitride film by nitriding at least a peripheral portion of the central conductor by implanting nitrogen ions into the substrate on which the central conductor is formed. The same effect can be realized by the manufacturing method of the electronic component.

【0087】(実施の形態4)図8は、本発明の実施の
形態4における電子部品の配線電極部の構造を示す断面
図である。図8において、101は基板、102は配線
電極であり、前記配線電極102は、中心導体103と
被覆導体104とからなる。以下に、本発明の実施の形
態4における電子部品およびその製造方法について説明
する。
(Fourth Embodiment) FIG. 8 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of an electronic component according to a fourth embodiment of the present invention. In FIG. 8, 101 is a substrate, 102 is a wiring electrode, and the wiring electrode 102 is composed of a central conductor 103 and a coated conductor 104. Hereinafter, an electronic component and a manufacturing method thereof according to the fourth embodiment of the present invention will be described.

【0088】実施の形態1と同様に、基板101の一方
表面に、通常のフォトリソグラフィ手法により配線電極
の中心導体103が形成されている。そして、前記中心
導体103を覆うようして、被覆導体104が形成され
ている。被覆導体104は、基板101と中心導体10
3との界面を除いて、中心導体の周囲を覆うように形成
される。
Similar to the first embodiment, the center conductor 103 of the wiring electrode is formed on one surface of the substrate 101 by the usual photolithography technique. A covering conductor 104 is formed so as to cover the central conductor 103. The coated conductor 104 includes the substrate 101 and the central conductor 10.
It is formed so as to cover the periphery of the center conductor except for the interface with 3.

【0089】まず、基板101上にAlを主成分とする
Al合金からなる配線電極を形成する。次に、前記配線
電極が形成された基板を、窒素中もしくは還元性雰囲
気、もしくは減圧下にて熱処理を行う。これにより、A
l合金からなる中心導体103の添加合金元素は、前記
中心導体中を拡散し、前記中心導体の表層に偏析する。
その結果、添加合金元素の含有量が、中心導体のそれよ
りも多い被覆導体104が形成される。本実施の形態で
は、Tiを10wt%含有するAl合金を中心導体を用
いた。例えば、減圧下において熱処理(300℃、2時
間)することにより、過飽和にAl中に固溶しているT
iは表層または、基板と中心導体との界面へと拡散し、
TiリッチなAl合金が表層に形成される。一方で、中
心導体のTi含有量は低下すると同時に、その抵抗率も
小さくなる。その結果、従来と電気特性において遜色の
ない電子部品を得ることができる。
First, a wiring electrode made of an Al alloy containing Al as a main component is formed on the substrate 101. Next, the substrate on which the wiring electrodes are formed is heat-treated in nitrogen, a reducing atmosphere, or under reduced pressure. This gives A
The additional alloying element of the central conductor 103 made of an L alloy diffuses in the central conductor and segregates on the surface layer of the central conductor.
As a result, the coated conductor 104 in which the content of the additional alloy element is higher than that of the central conductor is formed. In this embodiment, the center conductor is made of an Al alloy containing 10 wt% of Ti. For example, by performing heat treatment (300 ° C., 2 hours) under reduced pressure, T which is supersaturated in solid solution in Al is obtained.
i diffuses to the surface layer or the interface between the substrate and the central conductor,
A Ti-rich Al alloy is formed on the surface layer. On the other hand, the Ti content of the central conductor decreases, and at the same time, its resistivity also decreases. As a result, it is possible to obtain an electronic component that is comparable in electrical characteristics to the conventional one.

【0090】添加合金元素としては、特に規定はない
が、窒素中で熱処理する場合には、配線電極表面の窒化
も期待できる、常温において安定な窒化物を形成する
B、Mg、Si、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Zr、
Nb、Mo、Hf、Taから選ばれる元素であることが
好ましい。これにより、Alと添加元素との安定複合窒
化物を形成することが可能であり、その結果、耐湿性に
優れた被覆導体を形成することが可能となる。
The additive alloy element is not particularly limited, but when heat-treated in nitrogen, nitriding of the surface of the wiring electrode can be expected, and B, Mg, Si, Sc, which forms a stable nitride at room temperature, Ti, V, Cr, Mn, Zr,
An element selected from Nb, Mo, Hf and Ta is preferable. As a result, it is possible to form a stable composite nitride of Al and an additional element, and as a result, it is possible to form a coated conductor having excellent moisture resistance.

【0091】また、本実施の形態における電子部品にお
いては、配線電極の添加合金元素として、さらにLiを
添加元素として含有することが好ましい。中心導体とし
てAl合金を使用する場合には、一般に、配線電極の密
度が大きくなる。特に、電子部品が弾性表面波デバイス
の場合には、配線電極による質量付加効果が特性に大き
く影響するため、高密度金属を配線電極として使用する
と、膜厚管理が困難となり、製造歩留まりの低下を招
く。合金添加元素としてのLiは、その密度低減効果が
大きく、前記安定窒化物を形成する金属を含むAl合金
に添加することで、配線電極の密度を低下させるのに大
きな効果を発する。これにより、成膜時の膜厚管理が容
易となり、歩留まりの改善に寄与することができる。
In addition, in the electronic component of the present embodiment, it is preferable that Li is further contained as an additive alloy element of the wiring electrode. When an Al alloy is used as the central conductor, the density of wiring electrodes generally increases. In particular, when the electronic component is a surface acoustic wave device, the mass addition effect of the wiring electrode greatly affects the characteristics. Therefore, if a high-density metal is used as the wiring electrode, it becomes difficult to control the film thickness, and the manufacturing yield decreases. Invite. Li as an alloy addition element has a large effect of reducing its density, and when added to an Al alloy containing a metal that forms the stable nitride, it has a great effect of reducing the density of the wiring electrode. As a result, it becomes easy to control the film thickness during film formation, which can contribute to the improvement of the yield.

【0092】以上のように、基板と、少なくとも前記基
板の一方表面に形成された配線電極とを備えた電子部品
であって、前記配線電極が、中心導体と、前記中心導体
の少なくとも一部を覆うように形成され、前記中心導体
の添加合金元素を、前記中心導体よりも多く含む合金か
らなる被覆導体とからなることを特徴とする電子部品に
より、耐湿信頼性に優れた電子部品を得ることができ
る。また、引き出し電極を配線電極と同様の構造にした
場合においても、被覆導体が導電性を有するため、導電
性突起を形成するために従来必要であった保護膜への開
口部の形成工程をなくすことができ、製造コストを抑制
することができる。
As described above, in the electronic component including the substrate and the wiring electrode formed on at least one surface of the substrate, the wiring electrode includes the central conductor and at least a part of the central conductor. An electronic component excellent in moisture resistance reliability is obtained by an electronic component formed so as to cover the central conductor and comprising a coated conductor made of an alloy containing more of the additional alloy element of the central conductor than the central conductor. You can Even when the extraction electrode has the same structure as the wiring electrode, the coating conductor has conductivity, so that the step of forming an opening in the protective film, which is conventionally necessary for forming the conductive protrusion, is eliminated. Therefore, the manufacturing cost can be suppressed.

【0093】また、本実施の形態のように導電性材料に
より、中心電極を被覆することにより、外部からの電圧
印加があった場合においても、被覆層が絶縁破壊するこ
とがないため、従来の絶縁保護膜に比べ、信頼性の高い
電子部品を得ることができる。
Further, by covering the center electrode with a conductive material as in the present embodiment, even when a voltage is applied from the outside, the covering layer does not cause dielectric breakdown, so that the conventional As compared with the insulating protective film, a highly reliable electronic component can be obtained.

【0094】また、中心導体はAlを主成分とする合金
であることが好ましく、添加合金元素としては、常温に
おいて安定な窒化物を形成するB、Mg、Si、Sc、
Ti、V、Cr、Mn、Zr、Nb、Mo、Hf、Ta
から選ばれる元素であることが好ましい。これにより、
窒素中での熱処理により、常温近傍において安定で緻密
な複合窒化膜を形成することができる。また、本発明の
実施の形態1と同様、極薄の被覆導体を形成することが
でき、配線電極の電極抵抗を劣化させることなく、良好
かつ特性変動の小さい電子部品を得ることができる。
Further, the central conductor is preferably an alloy containing Al as a main component, and the additive alloy elements include B, Mg, Si, Sc, which form a stable nitride at room temperature.
Ti, V, Cr, Mn, Zr, Nb, Mo, Hf, Ta
It is preferable that the element is selected from This allows
By heat treatment in nitrogen, a stable and dense composite nitride film can be formed near room temperature. Further, as in the first embodiment of the present invention, it is possible to form an extremely thin covered conductor, and it is possible to obtain a good electronic component with small characteristic fluctuations without deteriorating the electrode resistance of the wiring electrode.

【0095】また、被覆導体の抵抗率は、中心導体の抵
抗率よりも大きいことが好ましい。これにより、配線電
極における電流分布が中心導体に集中し、電気特性劣化
のない電子部品を提供することができる。特に、電子部
品が弾性表面波デバイスである場合には、電気特性に及
ぼす被覆導体の影響が小さいため、従来の電気特性を損
なうことなく、耐湿信頼性に優れた電子部品を提供する
ことができる。また、Al−X−N系複合窒化膜(Xは
添加合金元素)は非常に硬度、弾性定数が大きいため、
弾性波の粘性損失を低減することができ、低損失化にも
寄与する。
The resistivity of the coated conductor is preferably higher than that of the central conductor. As a result, the current distribution in the wiring electrode is concentrated on the central conductor, and it is possible to provide an electronic component without deterioration in electrical characteristics. In particular, when the electronic component is a surface acoustic wave device, since the influence of the coated conductor on the electrical characteristics is small, it is possible to provide an electronic component having excellent moisture resistance reliability without impairing the conventional electrical characteristics. . Further, since the Al-X-N-based composite nitride film (X is an additive alloy element) has a very large hardness and elastic constant,
Viscous loss of elastic waves can be reduced, which also contributes to low loss.

【0096】なお、本実施の形態では、保護膜を形成し
ていないが、耐湿性を配線電極の構造で確保しているた
め、従来に比べて非常に薄い保護膜を形成することによ
り、導電性異物による配線電極間の短絡を防止すること
ができる。このため、従来の電子部品の場合に課題とな
ったストレスマイグレーションの影響を大幅に抑制する
ことができ、信頼性の高い電子部品を得ることができ
る。また、前記保護膜は300nm以下であることが好
ましい。これにより、弾性表面波デバイスなどの弾性振
動を利用した電子部品においても、特性劣化を実用レベ
ルまで小さくすることができる。
Although the protective film is not formed in this embodiment, since the moisture resistance is ensured by the structure of the wiring electrode, the conductive film is formed by forming a protective film which is much thinner than the conventional one. It is possible to prevent a short circuit between the wiring electrodes due to a foreign substance. Therefore, the influence of stress migration, which is a problem in the case of the conventional electronic component, can be significantly suppressed, and an electronic component with high reliability can be obtained. The protective film preferably has a thickness of 300 nm or less. As a result, it is possible to reduce characteristic deterioration to a practical level even in an electronic component using elastic vibration such as a surface acoustic wave device.

【0097】また、前記電子部品を得るために、基板
と、少なくとも前記基板の一方表面に形成され、中心導
体と被覆導体とからなる配線電極とを備えた電子部品の
製造方法において、少なくとも、前記基板に中心導体を
形成する工程と、前記中心導体が形成された基板を、窒
素中もしくはそれに準ずる還元性雰囲気中もしくは減圧
下において熱処理することにより、前記中心導体の添加
元素を周縁部に偏析させることにより、前記中心導体の
少なくとも一部を覆うように、中心導体とは異なる合金
組成を有する被覆導体を形成する工程とを備えたことを
特徴とする電子部品の製造方法により、信頼性の高い電
子部品を提供することができる。
Further, in order to obtain the electronic component, in a method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate and including a central conductor and a covering conductor, at least the above The step of forming a central conductor on the substrate and the substrate on which the central conductor is formed are heat treated in nitrogen or a reducing atmosphere equivalent thereto or under reduced pressure to segregate the additive element of the central conductor to the peripheral portion. The method for manufacturing an electronic component is characterized by a step of forming a coated conductor having an alloy composition different from that of the central conductor so as to cover at least a part of the central conductor. Electronic parts can be provided.

【0098】[0098]

【発明の効果】以上の実施の形態の説明より明らかなよ
うに、本発明の電子部品は、基板と、少なくとも前記基
板の一方表面に形成された配線電極とを備えた電子部品
であって、前記配線電極が、中心導体と、前記中心導体
の少なくとも一部を覆うように形成された被覆導体とを
備えたことを特徴としている。
As is apparent from the above description of the embodiments, the electronic component of the present invention is an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate, It is characterized in that the wiring electrode includes a central conductor and a coated conductor formed so as to cover at least a part of the central conductor.

【0099】また、前記電子部品を得るために、基板
と、少なくとも前記基板の一方表面に形成された配線電
極とを備えた電子部品の製造方法において、少なくと
も、前記基板に配線電極を形成する工程と、前記配線電
極が形成された基板を、窒素中もしくはそれに準ずる還
元性雰囲気中において熱処理することにより、前記配線
電極の添加元素を周縁部に偏析させることにより、前記
配線電極の少なくとも一部を覆うように被覆導体を形成
する工程とを備えた電子部品の製造方法を特徴としてい
る。
Further, in the method of manufacturing an electronic component including a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate to obtain the electronic component, at least a step of forming a wiring electrode on the substrate And by heat-treating the substrate on which the wiring electrode is formed in nitrogen or a reducing atmosphere similar thereto, by segregating the additive element of the wiring electrode to the peripheral portion, at least a part of the wiring electrode is formed. And a step of forming a covered conductor so as to cover the electronic part.

【0100】これにより、配線電極が基板表面に形成さ
れた、半導体デバイスや、弾性表面波デバイスなどの圧
電デバイスなどに代表される電子部品において、信頼
性、特に耐湿性に優れた電子部品とその製造方法を提供
することが可能となる。また、ストレスマイグレーショ
ンによる電極の劣化を防止することができる。さらに、
静電気などの外部からの電圧印加に対しても電極損傷が
なく、信頼性の高い電子部品を提供することが可能とな
る。
As a result, in an electronic component represented by a semiconductor device, a piezoelectric device such as a surface acoustic wave device, or the like in which wiring electrodes are formed on the surface of the substrate, an electronic component excellent in reliability, particularly moisture resistance, and It becomes possible to provide a manufacturing method. Further, it is possible to prevent deterioration of the electrode due to stress migration. further,
It is possible to provide a highly reliable electronic component without electrode damage even when an external voltage such as static electricity is applied.

【0101】また、配線電極上に厚い保護膜を形成せず
とも、信頼性、特に耐湿信頼性に優れた電子部品とその
製造方法を提供することができる。
Further, it is possible to provide an electronic component excellent in reliability, particularly moisture resistance reliability, and a manufacturing method thereof, without forming a thick protective film on the wiring electrode.

【0102】また、集合基板(ウエハ)の状態で本発明
の製造方法を適用することで、前記集合基板を分割する
ダイシング工程において、切削水による配線電極の腐食
を防止することができ、信頼性の高い電子部品を得るこ
とができる。
Further, by applying the manufacturing method of the present invention in the state of the collective substrate (wafer), it is possible to prevent the corrosion of the wiring electrodes due to the cutting water in the dicing step of dividing the collective substrate, and to improve the reliability. It is possible to obtain high-quality electronic components.

【0103】また、引き出し電極部に開口部を形成する
必要がなく、製造工程を簡略化し、製造原価を低減する
ことができる電子部品とその製造方法を提供することが
できる。
Further, there is no need to form an opening in the lead electrode portion, and it is possible to provide an electronic component and a manufacturing method thereof, which can simplify the manufacturing process and reduce the manufacturing cost.

【0104】また、耐湿信頼性に優れた電子部品を提供
することで、樹脂封止構造などの簡易パッケージ構造の
ように、ハーメチックシールをせずとも耐湿信頼性に優
れた電子部品を提供することができ、電子部品の低コス
ト化、低背化、小型化を実現することができる。
Further, by providing an electronic component having excellent moisture resistance reliability, it is possible to provide an electronic component having excellent moisture resistance reliability without a hermetic seal such as a simple package structure such as a resin sealing structure. It is possible to realize cost reduction, height reduction, and size reduction of electronic parts.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1における電子部品の配線
電極部の構造を示す断面図
FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of an electronic component according to a first embodiment of the present invention.

【図2】AlおよびTa、Tiのアノード分極曲線を示
す図
FIG. 2 is a diagram showing anodic polarization curves of Al, Ta, and Ti.

【図3】Alおよび窒化処理したAlのアノード分極曲
線を示す図
FIG. 3 is a diagram showing anodic polarization curves of Al and nitrided Al.

【図4】AlおよびAl−Ti合金、窒化処理したAl
−Ti合金のアノード分極曲線を示す図
FIG. 4 Al and Al-Ti alloy, nitriding Al
-A diagram showing an anode polarization curve of a Ti alloy

【図5】本発明の実施の形態2における弾性表面波フィ
ルタの周波数特性を示す図
FIG. 5 is a diagram showing frequency characteristics of a surface acoustic wave filter according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態2における電子部品の配線
電極部の構造を示す断面図
FIG. 6 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of an electronic component according to a second embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態3における電子部品の配線
電極部の構造を示す断面図
FIG. 7 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of an electronic component according to a third embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態4における電子部品の配線
電極部の構造を示す断面図
FIG. 8 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of an electronic component according to a fourth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態1における他の電子部品の
配線電極部の構造を示す断面図
FIG. 9 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of another electronic component according to the first embodiment of the present invention.

【図10】従来の電子部品の構造を示す断面図FIG. 10 is a sectional view showing a structure of a conventional electronic component.

【図11】従来の電子部品の配線電極部の構造を示す断
面図
FIG. 11 is a sectional view showing a structure of a wiring electrode portion of a conventional electronic component.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101,201 基板 102,202 配線電極 103 中心導体 103a 第1の金属層 103b 第2の金属層 104 被覆導体 203 引き出し電極 105,204 保護膜 205 導電性突起 206 回路基板 207 封止樹脂 101,201 substrate 102, 202 wiring electrodes 103 central conductor 103a First metal layer 103b Second metal layer 104 coated conductor 203 Extraction electrode 105,204 protective film 205 conductive protrusion 206 circuit board 207 Sealing resin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 守時 克典 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 藤井 邦博 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 井上 孝 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Katsunori Moritoki             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Kunihiro Fujii             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd. (72) Inventor Takashi Inoue             1006 Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Matsushita Electric             Sangyo Co., Ltd.

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、少なくとも前記基板の一方表面
に形成された配線電極とを備えた電子部品であって、前
記配線電極が、中心導体と、前記中心導体の少なくとも
一部を覆うように形成された被覆導体とからなることを
特徴とする電子部品。
1. An electronic component comprising a substrate and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate, wherein the wiring electrode covers a central conductor and at least a part of the central conductor. An electronic component comprising a formed coated conductor.
【請求項2】 中心導体が、AlまたはAlを主成分と
する合金からなることを特徴とする請求項1に記載の電
子部品。
2. The electronic component according to claim 1, wherein the central conductor is made of Al or an alloy containing Al as a main component.
【請求項3】 中心導体が、AlまたはAlを主成分と
する合金からなる第1の金属層と、前記第1の金属層よ
りも膜厚が薄い第2の金属層との積層構造からなること
を特徴とする請求項1に記載の電子部品。
3. The center conductor has a laminated structure of a first metal layer made of Al or an alloy containing Al as a main component, and a second metal layer having a thickness smaller than that of the first metal layer. The electronic component according to claim 1, wherein:
【請求項4】 第2の金属層が、Tiからなることを特
徴とする請求項3に記載の電子部品。
4. The electronic component according to claim 3, wherein the second metal layer is made of Ti.
【請求項5】 中心導体が、Alを主成分とする合金か
らなり、B、Mg、Si、Sc、Ti、V、Cr、M
n、Zr、Nb、Mo、Hf、Taから選ばれる少なく
とも1種を添加元素として含有することを特徴とする請
求項1に記載の電子部品。
5. The center conductor is made of an alloy containing Al as a main component, and B, Mg, Si, Sc, Ti, V, Cr, M.
The electronic component according to claim 1, further comprising at least one selected from n, Zr, Nb, Mo, Hf, and Ta as an additive element.
【請求項6】 中心導体が、Alを主成分とする合金か
らなり、さらにLiを添加元素として含有することを特
徴とする請求項5に記載の電子部品。
6. The electronic component according to claim 5, wherein the central conductor is made of an alloy containing Al as a main component and further contains Li as an additional element.
【請求項7】 中心導体が、AlまたはAlを主成分と
する合金からなり、被覆導体が、前記中心導体を構成す
る元素の窒化物または複合窒化物からなることを特徴と
する請求項1に記載の電子部品。
7. The center conductor is made of Al or an alloy containing Al as a main component, and the coated conductor is made of a nitride or a composite nitride of the elements forming the center conductor. Electronic components listed.
【請求項8】 中心導体が、Alを主成分とする合金か
らなり、被覆導体が、前記中心導体を構成する少なくと
も1つの添加元素を、前記中心導体よりも多く含有する
ことを特徴とする請求項1に記載の電子部品。
8. The central conductor is made of an alloy containing Al as a main component, and the coated conductor contains at least one additional element constituting the central conductor in an amount larger than that of the central conductor. Item 1. The electronic component according to Item 1.
【請求項9】 被覆導体の抵抗率が、中心導体の抵抗率
よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の電子部
品。
9. The electronic component according to claim 1, wherein the resistivity of the coated conductor is higher than the resistivity of the central conductor.
【請求項10】 電子部品が弾性表面波デバイスである
ことを特徴とする請求項1に記載の電子部品。
10. The electronic component according to claim 1, wherein the electronic component is a surface acoustic wave device.
【請求項11】 配線電極上に、保護膜を備えたことを
特徴とする請求項1に記載の電子部品。
11. The electronic component according to claim 1, further comprising a protective film on the wiring electrode.
【請求項12】 保護膜の厚さが300nm以下である
ことを特徴とする請求項11に記載の電子部品。
12. The electronic component according to claim 11, wherein the protective film has a thickness of 300 nm or less.
【請求項13】 基板と、少なくとも前記基板の一方表
面に形成され、中心導体と被覆導体とからなる配線電極
とを備えた電子部品の製造方法において、少なくとも、
前記基板に中心導体を形成する工程と、前記中心導体が
形成された基板を、窒素中において熱処理することによ
り、少なくとも前記中心導体の周縁部を窒化させること
により、金属窒化膜からなる被覆導体を形成する工程と
を備えたことを特徴とする電子部品の製造方法。
13. A method of manufacturing an electronic component, comprising: a substrate; and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate and comprising a central conductor and a coated conductor, at least:
A step of forming a central conductor on the substrate, and a substrate on which the central conductor is formed are heat-treated in nitrogen to nitride at least a peripheral portion of the central conductor, thereby forming a coated conductor made of a metal nitride film. The manufacturing method of the electronic component characterized by the above-mentioned.
【請求項14】 基板と、少なくとも前記基板の一方表
面に形成され、中心導体と被覆導体とからなる配線電極
とを備えた電子部品の製造方法において、少なくとも、
前記基板に中心導体を形成する工程と、前記中心導体が
形成された基板を、窒素中もしくはそれに準ずる還元性
雰囲気中もしくは減圧下において熱処理することによ
り、前記中心導体の添加元素を周縁部に偏析させること
により、前記中心導体の少なくとも一部を覆うように、
中心導体とは異なる合金組成を有する被覆導体を形成す
る工程とを備えたことを特徴とする電子部品の製造方
法。
14. A method of manufacturing an electronic component, comprising: a substrate; and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate, the wiring electrode including a central conductor and a coated conductor,
The step of forming a central conductor on the substrate and the substrate on which the central conductor is formed are heat-treated in nitrogen or a reducing atmosphere equivalent thereto or under reduced pressure to segregate the additive element of the central conductor to the peripheral portion. By covering at least a part of the central conductor,
And a step of forming a coated conductor having an alloy composition different from that of the central conductor.
【請求項15】 被覆導体を形成する工程において、さ
らにレーザを照射する工程を備えたことを特徴とする請
求項13または14に記載の電子部品の製造方法。
15. The method of manufacturing an electronic component according to claim 13, further comprising the step of irradiating a laser in the step of forming the coated conductor.
【請求項16】 基板と、少なくとも前記基板の一方表
面に形成され、中心導体と被覆導体とからなる配線電極
とを備えた電子部品の製造方法において、少なくとも、
前記基板に中心導体を形成する工程と、前記中心導体が
形成された基板に窒素イオンを注入することにより、少
なくとも前記中心導体の周縁部を窒化させることにより
金属窒化膜からなる被覆導体を形成する工程とを備えた
ことを特徴とする電子部品の製造方法。
16. A method of manufacturing an electronic component, comprising: a substrate; and a wiring electrode formed on at least one surface of the substrate and comprising a central conductor and a coated conductor, at least:
Forming a central conductor on the substrate, and implanting nitrogen ions into the substrate on which the central conductor is formed to nitride at least the peripheral portion of the central conductor to form a coated conductor made of a metal nitride film. A method for manufacturing an electronic component, comprising:
【請求項17】 電子部品が弾性表面波デバイスである
ことを特徴とする請求項13、14、16のいずれかに
記載の電子部品の製造方法。
17. The method for manufacturing an electronic component according to claim 13, wherein the electronic component is a surface acoustic wave device.
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JP2010287899A (en) * 2003-03-31 2010-12-24 Canon Inc Circuit board manufacturing method, circuit board, and liquid ejection device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010287899A (en) * 2003-03-31 2010-12-24 Canon Inc Circuit board manufacturing method, circuit board, and liquid ejection device
JP2007042805A (en) * 2005-08-02 2007-02-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd WIRING BOARD, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND SEMICONDUCTOR DEVICE

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