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JP2003078068A - Wiring board and electronic device using the same - Google Patents

Wiring board and electronic device using the same

Info

Publication number
JP2003078068A
JP2003078068A JP2001262738A JP2001262738A JP2003078068A JP 2003078068 A JP2003078068 A JP 2003078068A JP 2001262738 A JP2001262738 A JP 2001262738A JP 2001262738 A JP2001262738 A JP 2001262738A JP 2003078068 A JP2003078068 A JP 2003078068A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode pad
conductor
mounting portion
wiring
wiring board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001262738A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Fukunaga
英樹 福永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2001262738A priority Critical patent/JP2003078068A/en
Publication of JP2003078068A publication Critical patent/JP2003078068A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H10W70/655
    • H10W74/15
    • H10W90/724
    • H10W90/734

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電極パッド間隔が狭くなっても、信号の伝送
損失が殆どなく、所望の電気的特性が得られる高密度配
線の配線基板を提供する。 【解決手段】 複数の絶縁層1bを積層して成る絶縁基
板1の主面上の所定領域に設けられた電子部品7の搭載
部7aと、搭載部7a内の周辺側に電子部品7の接続端
子に対応して複数列に略等間隔で配列された電極パッド
4と、搭載部7aより絶縁基板1の周辺側に向かって被
着形成され、各電極パッド4に接続されるとともに搭載
部7aの中央側の電極パッド4bからは最も周辺側に配
列された第1列の電極パッド4a間を通して引き出され
ている引き出し線5とを具備する配線基板において、引
き出し線5は、搭載部7aの中央側の電極パッド4bか
ら隣接する列の電極パッド4との間および第1列の電極
パッド4aの外側の領域でそれぞれ貫通導体3aを介し
て下層の配線導体2aに接続されて引き出されている。
(57) Abstract: Provided is a high-density wiring board in which signal transmission loss hardly occurs and desired electrical characteristics can be obtained even when an electrode pad interval is reduced. SOLUTION: A mounting portion 7a of an electronic component 7 provided in a predetermined region on a main surface of an insulating substrate 1 formed by laminating a plurality of insulating layers 1b, and connection of the electronic component 7 to a peripheral side in the mounting portion 7a. Electrode pads 4 arranged in a plurality of rows corresponding to the terminals at substantially equal intervals, and are formed by being attached from the mounting portion 7a to the peripheral side of the insulating substrate 1 and connected to each electrode pad 4 and mounted on the mounting portion 7a. And a lead line 5 drawn out from the center side electrode pad 4b between the first row of electrode pads 4a arranged on the most peripheral side, the lead line 5 is located at the center of the mounting portion 7a. In the region between the electrode pad 4b on the side and the electrode pad 4 in the adjacent row and in the region outside the electrode pad 4a in the first row, they are connected to the lower layer wiring conductor 2a via the through conductor 3a and are drawn out.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シングルチップパ
ッケージ(SCP)やマルチチップパッケージ(MC
P)等の高密度配線用の電子部品収納用パッケージとし
ての配線基板およびこれを用いた電子装置に関する。
The present invention relates to a single chip package (SCP) and a multi-chip package (MC).
The present invention relates to a wiring board as a package for housing electronic components for high-density wiring such as P) and an electronic device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在の電子機器は、移動体通信機器に代
表されるように小型・薄型・軽量・高性能・高機能・高
品質・高信頼性が要求されてきており、このような電子
機器に搭載される電子装置も小型・高密度化が要求され
るようになってきている。そのため、電子装置を構成す
る配線基板にも小型化・薄型化・多端子化が求められて
きており、それを実現するために信号導体層等の導体層
の幅を細くするとともにその間隔を狭くし、さらに導体
層の多層化・導体層間を接続する貫通導体の小径化によ
り高密度配線化が図られている。
2. Description of the Related Art Today's electronic devices are required to be small, thin, lightweight, high-performance, high-performance, high-quality and highly reliable, as represented by mobile communication devices. Electronic devices mounted on equipment are also required to be smaller and have higher density. Therefore, wiring boards that make up electronic devices are also required to be smaller, thinner, and have multiple terminals.To achieve this, the width of conductor layers such as signal conductor layers must be narrowed and the distance between them must be narrowed. In addition, higher density wiring is achieved by further increasing the number of conductor layers and the diameter of the through conductor connecting the conductor layers.

【0003】このような高密度配線が可能な配線基板と
して、ビルドアップ法を採用して製作された配線基板が
知られている。ビルドアップ法とは、例えば、ガラスク
ロスやアラミド不布織等の補強材に耐熱性や耐薬品性を
有するエポキシ樹脂に代表される熱硬化性樹脂を含浸さ
せて複合化した絶縁基板上に、間に配線導体を挟んでエ
ポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂から成る接着材を塗布して
絶縁層を形成するとともに絶縁層を加熱硬化させた後、
配線導体上部の絶縁層にレーザで径が30〜200μm程度
の貫通孔を穿設し、しかる後、絶縁層表面を化学粗化
し、さらに無電解銅めっき法および電解銅めっき法を用
いて貫通孔側面および貫通孔底面の配線導体上に導体膜
を被着して貫通導体を形成するとともに絶縁層表面に貫
通導体と接続する配線導体を形成し、さらに、絶縁層や
貫通導体・配線導体の形成を複数回繰り返すことにより
配線基板を製作する方法である。
A wiring board manufactured by adopting a build-up method is known as a wiring board capable of such high-density wiring. The build-up method, for example, on a composite insulating substrate by impregnating a reinforcing material such as glass cloth or aramid non-woven fabric with a thermosetting resin typified by an epoxy resin having heat resistance and chemical resistance, After the wiring conductor is sandwiched in between, an adhesive made of a thermosetting resin such as epoxy resin is applied to form an insulating layer, and after the insulating layer is heat-cured,
A laser is used to form a through hole with a diameter of approximately 30 to 200 μm in the insulating layer above the wiring conductor, after which the surface of the insulating layer is chemically roughened, and the through hole is formed using electroless copper plating and electrolytic copper plating. A conductor film is formed on the wiring conductors on the side surface and the bottom surface of the through hole to form a through conductor, and a wiring conductor to be connected to the through conductor is formed on the surface of the insulating layer, and further, an insulating layer and a through conductor / wiring conductor are formed. This is a method of manufacturing a wiring board by repeating the above procedure a plurality of times.

【0004】そしてこのような配線基板は、その表面の
半導体素子等の電子部品の搭載部に導出する貫通導体上
に形成された電極パッドに、電子部品の下面に形成され
た各電極を半田バンプ等の導電性接合材を介して接続す
ることにより電子装置となる。
In such a wiring board, each electrode formed on the lower surface of the electronic component is solder-bumped on the electrode pad formed on the through conductor leading to the mounting portion of the electronic component such as a semiconductor element on the surface thereof. An electronic device is obtained by connecting through a conductive bonding material such as.

【0005】しかしながら、電子部品が高密度化してそ
の電極数が増加するにつれて、配線基板表面の電子部品
の搭載部に導出する貫通導体を形成することが困難とな
ってきている。このため、貫通導体をその表面が配線基
板表面の電子部品の搭載部の外側に導出するように形成
するとともに、電子部品の搭載部に形成された電極パッ
ドと貫通導体とを引き出し線で接続することが行なわれ
ている。
However, as the density of electronic parts increases and the number of electrodes thereof increases, it is becoming difficult to form the through conductors leading to the mounting parts of the electronic parts on the surface of the wiring board. Therefore, the through conductor is formed so that its surface is led out to the outside of the electronic component mounting portion on the surface of the wiring board, and the electrode pad formed in the electronic component mounting portion and the through conductor are connected by a lead wire. Is being done.

【0006】しかしながら、このような配線基板におい
ても、電子部品のより高密度・多端子化にともない、そ
れに接続される電極パッドも複数列に等間隔で配列され
た多点格子状となり、その結果、全ての電極パッドに引
き出し線を接続することが困難であるという問題点を有
していた。これは、多点格子状に形成された電極パッド
のうち中央側に位置する電極パッド用の引き出し線を、
外側に位置する電極パッド間のギャップを通して電子部
品の搭載部の外側に導出するためであり、電極パッドの
配列数が増加すると最も外側の電極パッド間のギャップ
に多数の引き出し線を通すことができなくなることによ
るものである。
However, in such a wiring board as well, with the increase in the density and the number of terminals of electronic parts, the electrode pads connected thereto also have a multi-point grid pattern in which they are arranged in a plurality of rows at equal intervals. However, there is a problem that it is difficult to connect the lead lines to all the electrode pads. This is the lead wire for the electrode pad located on the center side among the electrode pads formed in the multi-point grid pattern,
This is to lead out to the outside of the electronic component mounting part through the gaps between the electrode pads located on the outer side, and as the number of arrayed electrode pads increases, many lead wires can pass through the gaps between the outermost electrode pads. It is due to disappearance.

【0007】このような問題点を解決するために、特開
2001−127192号公報には、中央側に位置する電極パッド
の引き出し線のうち電極パッド間のギャップに形成され
る部分のみを細線化することが提案されている。
In order to solve such a problem, Japanese Patent Laid-Open No.
In 2001-127192, it is proposed to thin only the portion of the lead line of the electrode pad located on the center side, which is formed in the gap between the electrode pads.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開20
01−127192号公報に記載された配線基板では、電子部品
の高密度化・多端子化がさらに進み、引き出し線をより
細線化・微細化した場合には、引き出し線の電気抵抗が
大きくなり信号の伝送損失が増大して、所望の電気特性
が得られなくなってしまうという問題点を有していた。
また、逆に電気的特性を優先して配線幅を太くすると、
前述したように電極パッド間に通すことのできる引き出
し線本数が減少し、配線が不可能になるという問題点を
有していた。
[Problems to be Solved by the Invention]
In the wiring board described in the publication No. 01-127192, the density of electronic components and the increase in the number of terminals are further advanced, and when the lead wire is made finer and finer, the electric resistance of the lead wire increases and the signal However, there is a problem in that the desired electrical characteristics cannot be obtained due to the increased transmission loss.
On the contrary, if the wiring width is widened by giving priority to the electrical characteristics,
As described above, there is a problem in that the number of lead lines that can be passed between the electrode pads is reduced and wiring becomes impossible.

【0009】本発明は、上記従来技術における問題点に
鑑み完成されたものであり、その目的は、電極パッド数
が増加しても電極パッドの引き出し線幅を細くすること
なく、したがって、信号の伝送損失が低い高密度配線パ
ターンの配線基板およびこれを用いた電子装置を提供す
ることにある。
The present invention has been completed in view of the above problems in the prior art, and an object of the present invention is not to reduce the lead-out line width of the electrode pad even if the number of electrode pads is increased. An object is to provide a wiring board having a high-density wiring pattern with low transmission loss and an electronic device using the same.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の配線基板は、複
数の絶縁層を積層して成る絶縁基板の主面上の所定領域
に設けられた電子部品の搭載部と、この搭載部内の周辺
側に電子部品の接続端子に対応して複数列に略等間隔で
配列された電極パッドと、搭載部より絶縁基板の周辺側
に向かって被着形成され、各電極パッドに接続されると
ともに搭載部の中央側の電極パッドからは最も周辺側に
配列された第1列の電極パッド間を通して引き出されて
いる引き出し線とを具備する配線基板において、引き出
し線が搭載部の中央側の電極パッドから隣接する列の電
極パッドとの間および第1列の電極パッドの外側の領域
でそれぞれ貫通導体を介して下層の配線導体に接続され
て引き出されていることを特徴とするものである。
A wiring board of the present invention comprises a mounting portion for electronic parts provided in a predetermined region on a main surface of an insulating substrate formed by laminating a plurality of insulating layers, and a periphery inside the mounting portion. Electrode pads arranged in a plurality of rows at approximately equal intervals corresponding to the connection terminals of the electronic component on the side, and formed by being attached from the mounting portion toward the peripheral side of the insulating substrate, connected to each electrode pad, and mounted A lead-out line extending from the electrode pad on the center side of the mounting portion through the first row of electrode pads arranged on the most peripheral side, wherein the lead-out line extends from the electrode pad on the center side of the mounting portion. It is characterized in that it is connected to the wiring conductor in the lower layer and led out through the through conductor in the area between the electrode pad in the adjacent row and the area outside the electrode pad in the first row, respectively.

【0011】また、本発明の配線基板は、上記構成にお
いて、下層の配線導体の幅を第1列の電極パッドから絶
縁基板の周辺側における引き出し線の幅以上としている
ことを特徴とするものである。
Further, the wiring board of the present invention is characterized in that, in the above structure, the width of the wiring conductor in the lower layer is set to be equal to or more than the width of the lead wire on the peripheral side of the insulating board from the electrode pad in the first row. is there.

【0012】さらに、本発明の電子装置は、上記の配線
基板の搭載部に電子部品を搭載し、この電子部品の各接
続端子とこれに対応する各電極パッドとを電気的に接続
していることを特徴とするものである。
Further, in the electronic device of the present invention, an electronic component is mounted on the mounting portion of the wiring board, and each connection terminal of this electronic component and each corresponding electrode pad are electrically connected. It is characterized by that.

【0013】本発明の配線基板によれば、引き出し線を
電子部品の搭載部の中央側の電極パッドから隣接する列
の電極パッドとの間および第1列の電極パッドの外側の
領域でそれぞれ貫通導体を介して下層の配線導体に接続
して引き出すことから、電極パッド数が増加したとして
も引き出し線本数が減少し配線が不可能になることはな
く、高密度配線が可能な配線基板とすることができる。
According to the wiring board of the present invention, the lead wire is penetrated between the electrode pad on the central side of the mounting portion of the electronic component and the electrode pad of the adjacent row and in the area outside the electrode pad of the first row. Since it is connected to the wiring conductor in the lower layer via a conductor and is drawn out, even if the number of electrode pads increases, the number of lead lines does not decrease and wiring becomes impossible, and a wiring board that enables high-density wiring is provided. be able to.

【0014】また、本発明の配線基板によれば、下層の
配線導体の幅を第1列の電極パッドから絶縁基板の周辺
側における引き出し線の幅以上としたことから、引き出
し線を配線基板表面の電極パッド間のギャップを通るよ
うに細線化して引き出す場合に較べて引き出し線の電気
抵抗を大きく低減することができ、その結果、信号の伝
送損失が小さい配線基板とすることができる。
Further, according to the wiring board of the present invention, the width of the wiring conductor in the lower layer is set to be equal to or more than the width of the lead wire on the peripheral side of the insulating substrate from the electrode pad in the first row. The electrical resistance of the lead wire can be greatly reduced as compared with the case where the lead wire is thinned so as to pass through the gap between the electrode pads, and as a result, a wiring board with a small signal transmission loss can be obtained.

【0015】さらに、本発明の電子装置によれば、上記
の配線基板の搭載部に電子部品を搭載し、上記電子部品
の各接続端子とこれに対応する各電極パッドとを電気的
に接続したことから、配線が高密度であるとともに信号
の伝送特性に優れた電子部品とすることができる。
Further, according to the electronic device of the present invention, an electronic component is mounted on the mounting portion of the wiring board, and each connection terminal of the electronic component and each corresponding electrode pad are electrically connected. Therefore, it is possible to provide an electronic component having a high-density wiring and excellent signal transmission characteristics.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に、本発明を添付の図面に基づ
いて詳細に説明する。図1は、本発明を半導体素子を搭
載するための配線基板およびこれに半導体素子を搭載し
た電子装置に適用した場合の実施の形態の一例を示す断
面図であり、図2は配線基板の部分平面図である。これ
らの図において、1は絶縁基板、2は配線導体、3aは
貫通導体、4は電極パッド、5は引き出し線であり、主
にこれらで本発明の配線基板6が構成され、この配線基
板6に電子部品としての半導体素子7を搭載することに
より本発明の電子装置8と成る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention will now be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment in which the present invention is applied to a wiring board for mounting a semiconductor element and an electronic device mounting a semiconductor element on the wiring board, and FIG. 2 is a portion of the wiring board. It is a top view. In these drawings, 1 is an insulating substrate, 2 is a wiring conductor, 3a is a penetrating conductor, 4 is an electrode pad, and 5 is a lead wire. These mainly constitute the wiring substrate 6 of the present invention. The electronic device 8 of the present invention is obtained by mounting the semiconductor element 7 as an electronic component on the.

【0017】絶縁基板1は、電子部品7を支持する支持
部材としての機能を有し、縦・横の長さが5〜50mm程
度であり、本例では、板状の芯体絶縁層1aと、この上
下面に被着した複数の絶縁層1bとから形成されてい
る。
The insulating substrate 1 has a function as a supporting member for supporting the electronic component 7 and has a length and width of about 5 to 50 mm. In this example, the insulating substrate 1 has a plate-like core body insulating layer 1a. , A plurality of insulating layers 1b adhered to the upper and lower surfaces thereof.

【0018】芯体絶縁層1aは、絶縁基体1に強度を付
与するとともにソリを防止する機能を有し、ガラス繊維
を縦横に織り込んだガラスクロスにエポキシ樹脂やビス
マレイミドトリアジン樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸させ
て成り、その上下面には銅・ニッケル・金等の薄膜から
なる配線導体2が被着形成されている。また、芯体絶縁
層1aは、その上面から下面にかけて直径が0.1〜1.0m
m程度の複数のスルーホール11を有しており、そして、
そのスルーホール11の内壁には銅膜から成るスルーホー
ル導体12が被着形成されており、上下面の配線導体2が
スルーホール導体12を介して電気的に接続されている。
The core insulating layer 1a has a function of imparting strength to the insulating substrate 1 and preventing warping, and a glass cloth in which glass fibers are woven lengthwise and widthwise is thermosettable with epoxy resin or bismaleimide triazine resin. A wiring conductor 2 is formed by impregnating a resin, and a wiring conductor 2 made of a thin film of copper, nickel, gold or the like is adhered and formed on the upper and lower surfaces thereof. Further, the core insulating layer 1a has a diameter of 0.1 to 1.0 m from the upper surface to the lower surface.
has a plurality of through holes 11 of about m, and
A through-hole conductor 12 made of a copper film is adhered to the inner wall of the through-hole 11, and the wiring conductors 2 on the upper and lower surfaces are electrically connected via the through-hole conductor 12.

【0019】このような芯体絶縁層1aは、ガラスクロ
スに未硬化の熱硬化性樹脂を含浸させたシートを熱硬化
させた後、これに上面から下面にかけてドリル加工を施
すことにより製作される。また、配線導体2は、芯体絶
縁層1a用の未硬化シートの上下全面に厚みが3〜50μ
mの銅膜を被着しておくとともにこの銅膜をシートの硬
化後にエッチング加工することにより所定のパターンに
形成される。さらに、スルーホール導体12は、芯体絶縁
層1aにスルーホール11をドリル等を用いて穿設した
後、このスルーホール11の内周壁に周知のめっき法によ
り厚みが3〜50μm程度の銅めっき膜を析出させること
により形成される。
The core insulating layer 1a is manufactured by thermosetting a sheet in which glass cloth is impregnated with an uncured thermosetting resin, and then drilling the sheet from the upper surface to the lower surface. . The wiring conductor 2 has a thickness of 3 to 50 μm on the entire upper and lower surfaces of the uncured sheet for the core insulating layer 1a.
A copper film having a thickness of m is deposited, and the copper film is etched after curing the sheet to form a predetermined pattern. Further, the through-hole conductor 12 is formed by forming the through-hole 11 in the core insulating layer 1a by using a drill or the like, and then plating the inner peripheral wall of the through-hole 11 with copper having a thickness of about 3 to 50 μm by a known plating method. It is formed by depositing a film.

【0020】また、芯体絶縁層1aは、そのスルーホー
ル11の内部にエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン
樹脂等の熱硬化性樹脂から成る樹脂柱13が充填されてい
る。樹脂柱13は、スルーホール11を塞ぐことによりスル
ーホール11の直上および直下に絶縁層1bを形成可能と
するためのものであり、未硬化のペースト状の熱硬化性
樹脂をスルーホール11内にスクリーン印刷法により充填
し、これを熱硬化させた後、その上下面を略平坦に研磨
することにより形成される。そして、この樹脂柱13を含
む芯体絶縁層1aの上下面に絶縁層1bが積層されてい
る。
Further, the core insulating layer 1a is filled with a resin column 13 made of a thermosetting resin such as an epoxy resin or a bismaleimide triazine resin inside the through hole 11. The resin column 13 is for closing the through hole 11 so that the insulating layer 1b can be formed directly above and directly below the through hole 11, and an uncured paste-like thermosetting resin is placed inside the through hole 11. It is formed by filling by a screen printing method, thermally curing it, and polishing the upper and lower surfaces thereof to be substantially flat. The insulating layer 1b is laminated on the upper and lower surfaces of the core insulating layer 1a including the resin columns 13.

【0021】芯体絶縁層1aの上下面に積層された絶縁
層1bは、エポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹
脂等の熱硬化性樹脂から成り、それぞれの厚みが10〜80
μm程度であり、各層の上面から下面にかけて直径が20
〜100μmの貫通孔3を有している。これらの絶縁層1
bは、配線導体2を高密度に配線するための絶縁間隔を
提供するためのものである。そして、上層の配線導体2
と下層の配線導体2とを貫通孔3の内壁に形成された銅
膜から成る貫通導体3aを介して電気的に接続すること
により高密度配線を立体的に形成可能としている。
The insulating layers 1b laminated on the upper and lower surfaces of the core insulating layer 1a are made of a thermosetting resin such as an epoxy resin or a bismaleimide triazine resin, and each has a thickness of 10 to 80.
It is about μm, and the diameter is 20 from the upper surface to the lower surface of each layer.
It has a through hole 3 of ˜100 μm. These insulating layers 1
b is to provide an insulation interval for wiring the wiring conductors 2 at high density. Then, the upper wiring conductor 2
By electrically connecting the wiring conductor 2 and the lower layer wiring conductor 2 through the through conductor 3a formed of a copper film formed on the inner wall of the through hole 3, a high-density wiring can be three-dimensionally formed.

【0022】このような絶縁層1bは、従来周知のドク
ターブレード法を採用して形成した、絶縁層1bと成る
未硬化の熱硬化性樹脂フィルムを配線導体2を被着した
芯体絶縁層1aの上下面に貼着し、これを熱硬化させる
とともに炭酸ガスレーザやUVレーザ・エキシマレーザ
等のレーザ加工により貫通孔3を形成し、さらに、絶縁
層1b上に配線導体2を、貫通孔3内部に貫通導体3a
を形成した後、同様にして上層の絶縁層1bを順次積み
重ねることによって積層される。
Such an insulating layer 1b is formed by a conventionally known doctor blade method, and the uncured thermosetting resin film to be the insulating layer 1b is attached to the core conductor insulating layer 1a. To the upper and lower surfaces, heat-curing the same, and forming the through holes 3 by laser processing such as carbon dioxide laser, UV laser, excimer laser, etc., and further forming the wiring conductors 2 on the insulating layer 1b and the inside of the through holes 3. Through conductor 3a
After forming, the upper insulating layer 1b is sequentially stacked in the same manner to be laminated.

【0023】なお、絶縁層1bは、例えばエポキシ樹脂
と熱可塑性樹脂・エラストマー・無機絶縁性フィラーに
溶剤等を添加した混合物を混練して液状ワニスを得、こ
の液状ワニスをポリエチレンテレフタレート(PET)
製離型シート上に塗布し、60〜100℃の温度で乾燥する
ことによりフィルム状に成形される。
The insulating layer 1b is obtained by kneading, for example, a mixture of an epoxy resin, a thermoplastic resin, an elastomer, and an inorganic insulating filler to which a solvent is added to obtain a liquid varnish, and the liquid varnish is polyethylene terephthalate (PET).
The composition is applied on a release sheet and dried at a temperature of 60 to 100 ° C to form a film.

【0024】また、配線導体2および貫通導体3aは、
絶縁層1bの表面および貫通孔3内部を過マンガン酸塩
類水溶液等の粗化液に浸漬し粗化した後、無電解めっき
用のパラジウム触媒の水溶液中に浸漬し絶縁層1bの表
面および貫通孔3内部にパラジウム触媒を付着させ、し
かる後、硫酸銅・ロッセル塩・ホルマリン・EDTAナ
トリウム塩・安定剤等から成る無電解銅めっき液に約30
分間浸漬して1〜2μm程度の無電解銅めっきを析出さ
せ、つぎに、無電解銅めっき上に耐めっき樹脂層を被着
し露光・現像により配線導体2のパターン形状に、電解
銅めっきを被着させるための開口部を形成し、さらに、
硫酸・硫酸銅5水和物・塩素・光沢剤等から成る電解銅
めっき液に数A/dm2の電流を印加しながら数時間浸
漬することにより開口部に電解銅めっきを被着した後、
水酸化ナトリウムで耐めっき樹脂層を剥離し、そして、
耐めっき樹脂層を剥離したことにより露出する無電解銅
めっきを硫酸・過酸化水素水等の硫酸系水溶液によりエ
ッチング除去し、しかる後、無電解銅めっき層を除去す
ることにより形成される。
The wiring conductor 2 and the through conductor 3a are
The surface of the insulating layer 1b and the inside of the through hole 3 are immersed in a roughening solution such as an aqueous solution of permanganate to roughen, and then immersed in an aqueous solution of a palladium catalyst for electroless plating to expose the surface of the insulating layer 1b and the through hole. 3 Palladium catalyst is attached to the inside, and after that, about 30 is added to the electroless copper plating solution consisting of copper sulfate, Rossell salt, formalin, EDTA sodium salt, stabilizer, etc.
Immerse for a minute to deposit electroless copper plating of about 1 to 2 μm, then deposit a plating resistant resin layer on the electroless copper plating, and expose and develop the pattern shape of the wiring conductor 2 to electrolytic copper plating. Forming an opening for deposition,
After electrolytic copper plating is applied to the openings by immersing in an electrolytic copper plating solution containing sulfuric acid, copper sulfate pentahydrate, chlorine, brightener, etc. for several hours while applying a current of several A / dm 2 .
Strip the anti-plating resin layer with sodium hydroxide, and
The electroless copper plating exposed by peeling off the plating resistant resin layer is removed by etching with a sulfuric acid-based aqueous solution such as sulfuric acid / hydrogen peroxide solution, and then the electroless copper plating layer is removed.

【0025】なお、配線導体2および貫通導体3aの厚
みは、高速の信号を伝達させるという観点からは3μm
以上であることが好ましく、配線導体2および貫通導体
3aを絶縁層1bに被着形成する際に配線導体2および
貫通導体3aに大きな応力を残留させず、配線導体2お
よび貫通導体3aが絶縁層1bから剥離しにくいものと
するためには50μm以下としておくことが好ましい。
The thickness of the wiring conductor 2 and the through conductor 3a is 3 μm from the viewpoint of transmitting a high speed signal.
It is preferable that the wiring conductor 2 and the penetrating conductor 3a are adhered to the insulating layer 1b by applying no large stress to the wiring conductor 2 and the penetrating conductor 3a when the wiring conductor 2 and the penetrating conductor 3a are adhered to the insulating layer 1b. In order to make it difficult to peel from 1b, it is preferable to set it to 50 μm or less.

【0026】そして、絶縁層1bの一方の最外層表面の
電子部品の搭載部7aに形成された配線導体2の一部
は、電子部品7の各電極に例えば鉛−錫から成る導体バ
ンプ9を介して接合される電子部品の接続用の電極パッ
ド4および引き出し線5を形成し、また、絶縁層1bの
他方の最外層表面に形成された配線導体2の一部は、外
部電気回路基板の各電極(図示せず)に例えば鉛−錫か
ら成る導体バンプ9を介して接続される。
Then, a part of the wiring conductor 2 formed on the electronic component mounting portion 7a on the outermost surface of one side of the insulating layer 1b has a conductor bump 9 made of, for example, lead-tin on each electrode of the electronic component 7. A part of the wiring conductor 2 which forms the electrode pad 4 and the lead wire 5 for connection of the electronic component to be joined via the outermost layer of the insulating layer 1b is formed on the surface of the external electric circuit board. Each electrode (not shown) is connected via a conductor bump 9 made of, for example, lead-tin.

【0027】なお、電極パッド4および引き出し線5の
露出する表面には、その酸化腐蝕を防止するとともに導
体バンプ9との接続を良好とするために、半田との濡れ
性が良好で耐腐蝕性に優れたニッケル・金等のめっき層
が被着されている。
The exposed surfaces of the electrode pads 4 and the lead lines 5 have good wettability with solder and corrosion resistance in order to prevent their oxidation and corrosion and to improve the connection with the conductor bumps 9. Excellent plating layer of nickel, gold, etc. is deposited.

【0028】また、電子部品の搭載部7aに形成される
電極パッド4は、その直径が50〜300μm程度であり、
複数列に等間隔で配列された多点格子状に、また、引き
出し線5は、その幅が20〜100μm程度であり、電極パ
ッド4から絶縁基板1の周辺側に向かって、被着形成さ
れている。
The electrode pad 4 formed on the electronic component mounting portion 7a has a diameter of about 50 to 300 μm.
The lead lines 5 are arranged in a plurality of rows at equal intervals, and the lead lines 5 have a width of about 20 to 100 μm and are formed by deposition from the electrode pads 4 toward the peripheral side of the insulating substrate 1. ing.

【0029】そして、引き出し線5は、搭載部7aの中
央側の電極パッド4bからは最も周辺側に配列された第
1列の電極パッド4a間を通して引き出されているとと
もに、搭載部7aの中央側の電極パッド4bから隣接す
る列の電極パッド4a・4bとの間および第1列の電極
パッド4aの外側の領域でそれぞれ貫通導体3を介して
下層の配線導体2aに接続されて引き出されている。ま
た、本発明においてはこのことが重要である。
The lead wire 5 is led out from the electrode pad 4b on the center side of the mounting portion 7a through the first row of electrode pads 4a arranged on the most peripheral side, and at the center side of the mounting portion 7a. Between the electrode pad 4b and the electrode pad 4a, 4b in the adjacent row and in the region outside the electrode pad 4a in the first row are respectively connected to the wiring conductor 2a in the lower layer via the penetrating conductor 3 and are drawn out. . This is also important in the present invention.

【0030】本発明の配線基板6によれば、引き出し線
5を搭載部7aの中央側の電極パッド4bからは最も周
辺側に配列された第1列の電極パッド4a間を通して引
き出すとともに、搭載部7aの中央側の電極パッド4b
から隣接する列の電極パッド4a・4bとの間および第
1列の電極パッド4aの外側の領域でそれぞれ貫通導体
3を介して下層の配線導体2aに接続して引き出してい
ることから、電極パッド4の数が増加したとしても配線
が不可能になることはなく、高密度配線が可能な配線基
板6とすることができる。また、引き出し線5の幅を第
1列の電極パッド4a間で微細化・細線化する必要がな
いことから、引き出し線5の電気抵抗が増加して信号の
伝送特性が低下することもない。
According to the wiring board 6 of the present invention, the lead wire 5 is drawn from the electrode pad 4b on the center side of the mounting portion 7a through the first row of electrode pads 4a arranged on the most peripheral side, and the mounting portion is also formed. Electrode pad 4b on the central side of 7a
From the electrode pad 4a, 4b in the adjacent column and in the area outside the electrode pad 4a in the first column, the electrode pad is connected to the wiring conductor 2a in the lower layer via the penetrating conductor 3 and is drawn out. Wiring does not become impossible even if the number of 4 is increased, and the wiring board 6 capable of high-density wiring can be obtained. In addition, since it is not necessary to make the width of the lead wire 5 finer or thinner between the electrode pads 4a of the first row, the electrical resistance of the lead wire 5 does not increase and the signal transmission characteristics do not deteriorate.

【0031】また、本発明の配線基板6においては、下
層の配線導体2aの幅を第1列の電極パッド4aから絶
縁基板1の周辺側における引き出し線5の幅以上とする
ことが好ましい。下層の配線導体2aの幅を第1列の電
極パッド4aから絶縁基板1の周辺側における引き出し
線5の幅以上とすることにより、引き出し線5を配線基
板1表面の第1列の電極パッド4a間のギャップを通る
ように細線化して引き出す場合に較べて引き出し線5の
電気抵抗を大きく低減することができ、その結果、信号
の伝送損失がより小さな配線基板6とすることができ
る。
Further, in the wiring board 6 of the present invention, it is preferable that the width of the wiring conductor 2a in the lower layer is equal to or larger than the width of the lead wire 5 on the peripheral side of the insulating substrate 1 from the electrode pad 4a in the first row. By setting the width of the wiring conductor 2a in the lower layer to be equal to or larger than the width of the lead wire 5 on the peripheral side of the insulating substrate 1 from the electrode pad 4a of the first row, the lead wire 5 is formed on the surface of the wiring substrate 1 in the first row of electrode pads 4a. The electrical resistance of the lead wire 5 can be greatly reduced as compared with the case where the lead wire 5 is drawn out by thinning it so as to pass through the gap between them, and as a result, the wiring board 6 with a smaller signal transmission loss can be obtained.

【0032】なお、引き出し線5においては、図2の部
分平面図に示すように、下層の配線導体2a以外の部分
は絶縁基体1の表面に形成されている。また、本例で
は、下層の配線導体2aを、絶縁基体1の表面に形成さ
れた引き出し線5と1層の絶縁層1bを隔てて形成した
場合を示しているが、電極パッド4の数量によっては、
下層の配線導体2aを絶縁基体1の表面に形成された引
き出し線5と2層以上の絶縁層1bを隔てて形成しても
よい。さらに、下層の配線導体2aを複数の絶縁層1b
上に形成してもよい。
In the lead wire 5, as shown in the partial plan view of FIG. 2, the portion other than the lower layer wiring conductor 2a is formed on the surface of the insulating base 1. In this example, the lower layer wiring conductor 2a is formed by separating the lead wire 5 formed on the surface of the insulating substrate 1 from the single insulating layer 1b, but depending on the number of electrode pads 4. Is
The lower-layer wiring conductor 2a may be formed by separating the lead wire 5 formed on the surface of the insulating substrate 1 from the two or more insulating layers 1b. Further, the wiring conductor 2a in the lower layer is connected to the plurality of insulating layers 1b.
It may be formed on top.

【0033】また、電極パッド4・引き出し線5・下層
の配線導体2a・引き出し線5と下層の配線導体2aと
を接続する貫通導体3aは、絶縁層1bに配線導体2お
よび貫通導体3aを形成する際に、あらかじめ所定の位
置に形成しておけばよい。
The penetrating conductor 3a connecting the electrode pad 4, the lead wire 5, the lower layer wiring conductor 2a, and the lead wire 5 to the lower layer wiring conductor 2a forms the wiring conductor 2 and the penetrating conductor 3a on the insulating layer 1b. When performing, it may be formed in a predetermined position in advance.

【0034】そして、引き出し線5の搭載部7aの外側
に形成された一部を、絶縁層1bに形成した貫通導体3
a・配線導体2、および芯体絶縁層1aに形成したスル
ーホール導体12・配線導体2を介して配線基板6の他方
の表面に形成された外部電気回路との接続用電極パッド
に電気的に接続することにより、本発明の配線基板6と
成る。
Then, a part of the lead wire 5 formed outside the mounting portion 7a of the lead wire 5 is formed on the insulating layer 1b as a through conductor 3.
a. The wiring conductor 2, and the through-hole conductor 12 formed in the core insulating layer 1a, and the electrode pad for connection with the external electric circuit formed on the other surface of the wiring board 6 via the wiring conductor 2 electrically. By connecting, the wiring board 6 of the present invention is formed.

【0035】かくして、本発明の配線基板6によれば、
上記構成としたことから、電極パッド数4が増加したと
しても配線が不可能になることはなく、高密度配線が可
能な配線基板6とすることができる。また、引き出し線
7の幅を第1列の電極パッド4a間で微細化・細線化す
る必要がないことから、引き出し線7の電気抵抗が増加
して信号の伝送特性が低下することのない配線基板6と
することができる。
Thus, according to the wiring board 6 of the present invention,
Due to the above-mentioned configuration, even if the number of electrode pads 4 increases, wiring is not impossible, and the wiring board 6 capable of high-density wiring can be obtained. In addition, since it is not necessary to make the width of the lead wire 7 finer or thinner between the electrode pads 4a of the first row, the wiring is such that the electric resistance of the lead wire 7 does not increase and the signal transmission characteristic does not deteriorate. It can be the substrate 6.

【0036】なお、本発明の配線基板6は上述の実施例
に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない
範囲であれば種々の変更は可能であり、例えば、上述の
例では絶縁層1bを芯体絶縁層1aの上下面に積層し、
この絶縁層1b上に配線導体2を形成したが、絶縁層1
bを芯体絶縁層1aの片面のみに積層してもよい。ま
た、上述の例では、絶縁基板1を芯体絶縁層1aに絶縁
層1bを積層して成るものとしたが、絶縁基板1を芯体
絶縁層1aのみで構成してもよい。
The wiring board 6 of the present invention is not limited to the above-mentioned embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. Layer 1b is laminated on the upper and lower surfaces of the core insulating layer 1a,
The wiring conductor 2 was formed on the insulating layer 1b.
b may be laminated only on one surface of the core insulating layer 1a. Further, in the above-mentioned example, the insulating substrate 1 is formed by laminating the insulating layer 1b on the core insulating layer 1a, but the insulating substrate 1 may be composed of only the core insulating layer 1a.

【0037】次に、本発明の電子装置8は、配線基板6
の電子部品7の搭載部7aに電子部品7を搭載し、電子
部品7の各電極とこれに対応する各電極パッド4とを導
体バンプ9を介して電気的に接続することにより形成さ
れる。
Next, the electronic device 8 of the present invention includes the wiring board 6
The electronic component 7 is mounted on the mounting portion 7a of the electronic component 7, and the electrodes of the electronic component 7 and the corresponding electrode pads 4 are electrically connected via the conductor bumps 9.

【0038】導体バンプ9は、電極パッド4上に鉛−錫
・錫−亜鉛・錫−銀−ビスマス合金等の導電材料より形
成されている。このような導体バンプ9は次に述べる方
法により形成される。まず、配線基板6表面に、電極パ
ッド4上に開口を有するソルダーレジスト層14を従来周
知のスクリーン印刷法を用いて被着する。ソルダーレジ
スト層14は、厚みが10〜50μmであり、例えばアクリル
変性エポキシ樹脂等の感光性樹脂と開始剤とから成る混
合物に30〜70重量%のシリカやタルク等の無機粉末フィ
ラーを含有させた絶縁材料から成り、隣接する電極パッ
ド4同士が導体バンプ9により電気的に短絡することを
防止するとともに、電極パッド4と絶縁基板1との接合
強度を向上させる機能を有する。次に、導体バンプ9が
例えば鉛−錫から成る半田の場合、鉛−錫から成る半田
ペーストをソルダーレジスト層14の開口の露出した電極
パッド4上にスクリーン印刷で充填し、リフロー炉を通
すことにより電極パッド4上に半球状に固着形成され
る。なお、配線基板6の表面に露出した電極パッド4の
表面にニッケル・金等の良導電性で耐食性に優れた金属
をめっき法により1〜20μmの厚みに被着させておく
と、露出した電極パッド4の酸化腐食を有効に防止する
ことができるとともに電極パッド4と導体バンプ4との
接続を良好となすことができる。
The conductor bump 9 is formed on the electrode pad 4 by a conductive material such as lead-tin, tin-zinc, tin-silver-bismuth alloy. Such a conductor bump 9 is formed by the method described below. First, a solder resist layer 14 having openings on the electrode pads 4 is applied to the surface of the wiring board 6 by using a conventionally known screen printing method. The solder resist layer 14 has a thickness of 10 to 50 μm, and contains a mixture of a photosensitive resin such as an acrylic modified epoxy resin and an initiator and 30 to 70% by weight of an inorganic powder filler such as silica or talc. It is made of an insulating material and has a function of preventing adjacent electrode pads 4 from being electrically short-circuited by the conductor bumps 9 and improving the bonding strength between the electrode pads 4 and the insulating substrate 1. Next, when the conductor bump 9 is, for example, a solder made of lead-tin, a solder paste made of lead-tin is screen-printed on the exposed electrode pad 4 of the solder resist layer 14 and passed through a reflow oven. As a result, it is fixedly formed on the electrode pad 4 in a hemispherical shape. The surface of the electrode pad 4 exposed on the surface of the wiring board 6 is coated with a metal such as nickel and gold having excellent conductivity and corrosion resistance to a thickness of 1 to 20 μm by plating. Oxidation and corrosion of the pad 4 can be effectively prevented, and the connection between the electrode pad 4 and the conductor bump 4 can be made good.

【0039】しかる後、電極パッド4に電子部品7の各
電極を導体バンプ9を介して接合して電子部品7を搭載
するとともに配線基板6と電子部品7とをアンダーフィ
ル材15で接着固定し、さらに、この電子部品7を図示し
ない蓋体やポッティング樹脂により封止することによっ
て電子装置8と成り、配線基板6の電子部品7の搭載部
7aと反対側の電極パッドを外部電気回路基板の配線導
体(図示せず)に電気的に接続することにより本発明の
電子装置8が外部電気回路基板に実装されることとな
る。
Thereafter, each electrode of the electronic component 7 is bonded to the electrode pad 4 via the conductor bump 9 to mount the electronic component 7, and the wiring board 6 and the electronic component 7 are bonded and fixed with the underfill material 15. Further, by sealing the electronic component 7 with a lid or potting resin (not shown), an electronic device 8 is formed, and the electrode pad on the opposite side of the mounting portion 7a of the electronic component 7 of the wiring board 6 from the external electric circuit board is formed. By electrically connecting to a wiring conductor (not shown), the electronic device 8 of the present invention is mounted on the external electric circuit board.

【0040】なお、ソルダーレジスト層14は、感光性樹
脂と光開始剤と無機粉末フィラーとから成る未硬化樹脂
フィルムあるいは熱硬化性樹脂と無機粉末フィラーとか
ら成る未硬化樹脂ワニスを塗布するか、未硬化樹脂フィ
ルムをラミネートした後、露光・現像により開口部を形
成し、これをUV硬化および熱硬化させることにより被
着される。
The solder resist layer 14 is formed by applying an uncured resin film made of a photosensitive resin, a photoinitiator and an inorganic powder filler, or an uncured resin varnish made of a thermosetting resin and an inorganic powder filler, or After laminating the uncured resin film, an opening is formed by exposure and development, and UV curing and heat curing are performed to apply the film.

【0041】かくして、本発明の電子装置8によれば、
上記の配線基板6の搭載部7aに電子部品7を搭載し、
上記電子部品7の各接続端子とこれに対応する各電極パ
ッド4とを電気的に接続したことから、配線が高密度で
あるとともに信号の伝送特性に優れた電子装置とするこ
とができる。
Thus, according to the electronic device 8 of the present invention,
The electronic component 7 is mounted on the mounting portion 7a of the wiring board 6 described above,
Since each connection terminal of the electronic component 7 and each corresponding electrode pad 4 are electrically connected, it is possible to provide an electronic device having a high density of wiring and excellent signal transmission characteristics.

【0042】なお、本発明の配線基板および電子装置は
上述の実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨
を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可能であること
は言うまでもない。
Needless to say, the wiring board and the electronic device of the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明の配線基板によれば、引き出し線
を電子部品の搭載部の中央側の電極パッドから隣接する
列の電極パッドとの間および第1列の電極パッドの外側
の領域でそれぞれ貫通導体を介して下層の配線導体に接
続して引き出すことから、電極パッド数が増加したとし
ても配線が不可能になることはなく、高密度配線が可能
な配線基板とすることができる。
According to the wiring board of the present invention, the lead wire is provided between the electrode pad on the central side of the mounting portion of the electronic component and the electrode pad of the adjacent row and in the area outside the electrode pad of the first row. Since the wiring conductors are connected to the lower-layer wiring conductors via the through conductors and drawn out, wiring is not impossible even if the number of electrode pads is increased, and a wiring board capable of high-density wiring can be obtained.

【0044】また、本発明の配線基板によれば、下層の
配線導体の幅を第1列の電極パッドから絶縁基板の周辺
側における引き出し線の幅以上としたことから、引き出
し線を配線基板表面の電極パッド間のギャップを通るよ
うに細線化して引き出す場合に較べて引き出し線の電気
抵抗を大きく低減することができ、その結果、信号の伝
送損失が小さい配線基板とすることができる。
Further, according to the wiring board of the present invention, the width of the wiring conductor in the lower layer is set to be equal to or more than the width of the lead wire on the peripheral side of the insulating substrate from the electrode pad in the first row. The electrical resistance of the lead wire can be greatly reduced as compared with the case where the lead wire is thinned so as to pass through the gap between the electrode pads, and as a result, a wiring board with a small signal transmission loss can be obtained.

【0045】さらに、本発明の電子装置によれば、上記
の配線基板の搭載部に電子部品を搭載し、上記電子部品
の各接続端子とこれに対応する各電極パッドとを電気的
に接続したことから、配線が高密度であるとともに信号
の伝送特性に優れた電子部品とすることができる。
Further, according to the electronic device of the present invention, an electronic component is mounted on the mounting portion of the wiring board, and each connection terminal of the electronic component and each electrode pad corresponding thereto are electrically connected. Therefore, it is possible to provide an electronic component having a high-density wiring and excellent signal transmission characteristics.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の配線基板および電子装置の実施の形態
の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a wiring board and an electronic device of the present invention.

【図2】本発明の配線基板の部分平面図である。FIG. 2 is a partial plan view of the wiring board of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・・・・・絶縁基板 1a・・・・・・・・芯体絶縁層 1b・・・・・・・・絶縁層 2・・・・・・・・・配線導体 2a・・・・・・・・下層の配線導体 3・・・・・・・・・貫通孔 3a・・・・・・・・貫通導体 4・・・・・・・・・電極パッド 4a・・・・・・・・第1列の電極パッド 4b・・・・・・・・中央側の電極パッド 5・・・・・・・・・引き出し線 6・・・・・・・・・配線基板 7・・・・・・・・・電子部品 7a・・・・・・・・電子部品の搭載部 8・・・・・・・・・電子装置 1 ... Insulating substrate 1a --- Insulation layer for core 1b ... ・ ・ ・ Insulating layer 2 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Wiring conductor 2a ... ・ ・ ・ Wiring conductor in the lower layer 3 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Through hole 3a ... Penetration conductor 4 ... Electrode pad 4a ... the first row of electrode pads 4b ..... the electrode pad on the center side 5 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Leader line 6 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Wiring board 7 ・ ・ ・ ・ ・ ・ Electronic parts 7a ... Electronic component mounting part 8 ... Electronic device

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の絶縁層を積層して成る絶縁基板の
主面上の所定領域に設けられた電子部品の搭載部と、該
搭載部内の周辺側に前記電子部品の接続端子に対応して
複数列に略等間隔で配列された電極パッドと、前記搭載
部より前記絶縁基板の周辺側に向かって被着形成され、
前記各電極パッドに接続されるとともに前記搭載部の中
央側の電極パッドからは最も周辺側に配列された第1列
の電極パッド間を通して引き出されている引き出し線と
を具備する配線基板において、前記引き出し線は、前記
搭載部の中央側の電極パッドから隣接する列の電極パッ
ドとの間および前記第1列の電極パッドの外側の領域で
それぞれ貫通導体を介して下層の配線導体に接続されて
引き出されていることを特徴とする配線基板。
1. A mounting portion for an electronic component provided in a predetermined area on a main surface of an insulating substrate formed by laminating a plurality of insulating layers, and a connection terminal of the electronic component on a peripheral side in the mounting portion. And electrode pads arranged in a plurality of rows at substantially equal intervals, and are formed by being adhered from the mounting portion toward the peripheral side of the insulating substrate,
A wiring board connected to each of the electrode pads and extending from the electrode pad on the center side of the mounting portion through the first row of electrode pads arranged on the most peripheral side, The lead-out line is connected to the wiring conductor of the lower layer through the through conductors between the electrode pad on the center side of the mounting portion and the electrode pad of the adjacent column and in the region outside the electrode pad of the first column, respectively. A wiring board that is pulled out.
【請求項2】 前記下層の配線導体の幅を前記第1列の
電極パッドから前記絶縁基板の周辺側における前記引き
出し線の幅以上としていることを特徴とする請求項1記
載の配線基板。
2. The wiring board according to claim 1, wherein the width of the wiring conductor in the lower layer is equal to or larger than the width of the lead line on the peripheral side of the insulating substrate from the electrode pad in the first row.
【請求項3】 請求項1または請求項2記載の配線基板
の前記搭載部に電子部品を搭載し、該電子部品の各接続
端子とこれに対応する各前記電極パッドとを電気的に接
続していることを特徴とする電子装置。
3. An electronic component is mounted on the mounting portion of the wiring board according to claim 1 or 2, and each connection terminal of the electronic component is electrically connected to each corresponding electrode pad. An electronic device characterized in that
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