JP2003075110A - Shape measuring device - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は、被測定物の表面が非常に滑
らかで、被測定物の表面に焦点合わせすることが非常に
困難な形態を有していたとしても、容易に焦点合わせが
可能で、効率良く被測定物の形状を測定することが可能
な形状測定装置を得ることを目的とする。
【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明の態
様では、被測定物4の各表面上の任意位置における位置
座標を測定し、被測定物4の形状を測定する形状測定装
置において、焦点調節が可能でかつチャート像を被測定
物4に対して投影する照明光学系L1―L4と、その照
明光学系から投影されたチャート像が被測定物4表面に
合焦されているか観察するための観察光学系L4−L6
と、その被測定物4をその照明光学系に対して少なくと
も2次元的に相対的に移動可能なステージ5とを備え、
前記照明光学系からのチャート像が被測定物表面に合焦
したときの調整量と前記ステージの位置から被測定物上
の任意位置における位置座標を測定することを特徴とす
る。
(57) [Problem] To provide an object of the present invention, even if the surface of an object to be measured has a very smooth surface and it is very difficult to focus on the surface of the object to be measured. It is an object of the present invention to provide a shape measuring device that can easily focus and efficiently measure the shape of an object to be measured. According to an aspect of the present invention, there is provided a shape measuring apparatus that measures a position coordinate at an arbitrary position on each surface of an object to be measured and measures a shape of the object to be measured. Illumination optical systems L1 to L4 capable of adjusting the focus and projecting the chart image onto the object 4 and observing whether the chart image projected from the illumination optical system is focused on the surface of the object 4 Optical system L4-L6 for
And a stage 5 capable of moving the DUT 4 at least two-dimensionally with respect to the illumination optical system,
A position coordinate at an arbitrary position on the measured object is measured from an adjustment amount when the chart image from the illumination optical system is focused on the surface of the measured object and the position of the stage.
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被測定物の形状測
定に関し、特に被測定物の表面が鏡面状態である場合で
も、被測定物の形状を高精度に測定できるものである。
【0002】
【従来の技術】非常に精密に被測定物の3次元形状を計
測する手法としては、従来から多種多様に提案されてい
る。特に、有名なのは、プローブを移動させて、プロー
ブが被測定物と接触した位置を検出することで、3次元
形状を測定する方法や、結像光学系により被測定物の像
を観察し、その像の結像状態から被測定物の3次元形状
を測定する方法がある。
【0003】しかしながら、前者のプローブを用いた方
法によれば、装置が複雑になり、安易にその様な装置を
得ることができない。また、接触による被測定物の変形
や傷つきの原因となる。
【0004】後者の方法は工業顕微鏡などの焦点深度の
小さい光学系を用い、被測定物の表面に合焦するように
焦点合わせをすることで、その視野内における高さ方向
の位置を検出することが可能となる。したがって、プロ
ーブを用いた方法よりも容易に製造現場などに導入しや
すいのが一つの特徴である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、被測定
物が鏡面であったり、またガラスの様に透明であったり
すると、焦点合わせは非常に困難なものになる。また、
傾斜した部分を測定する場合は、照明光がその傾斜部分
で異なる方向に反射されるので、焦点合わせを行う光学
系に入射されにくくなる。
【0006】したがって、本発明の目的は、被測定物の
表面が非常に滑らかで、被測定物の表面に焦点合わせす
ることが非常に困難な形態を有していたとしても、容易
に焦点合わせが可能で、効率良く被測定物の形状を測定
することが可能な形状測定装置を得ることを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の態様では、被測定物の各表面上の任意位置
における位置座標を測定し、被測定物の形状を測定する
形状測定装置において、焦点調節が可能でかつチャート
像を被測定物に対して投影する照明光学系と、その照明
光学系から投影されたチャート像が被測定物表面に合焦
されているか観察するための観察光学系と、その被測定
物をその照明光学系に対して少なくとも2次元的に相対
的に移動可能なステージとを備え、前記照明光学系から
のチャート像が被測定物表面に合焦したときの調整量と
前記ステージの位置から被測定物上の任意位置における
位置座標を測定することを特徴とする。
【0008】上述の態様によれば、被測定物を2次元的
に移動可能なステージに配置し、この被測定物にチャー
ト像を投影する。そして、投影したチャート像が被測定
物の表面に合焦するように、観察光学系でチャート像を
確認しながら、照明光学系の焦点合わせを行う。焦点合
わせする場合は、被測定物の表面を観察せず、チャート
像を観察しながら合焦の有無を確認できるので非常に迅
速に焦点合わせが行える。そして、焦点合わせしたとき
の調整量とステージの位置から、被測定物の任意の部分
について位置座標を得ることが可能となり、測定を任意
の複数の位置で行うことで被測定物の形状に関わるデー
タを得ることが可能となる。
【0009】次に、本発明の実施の形態にて、本発明を
詳しく説明する。しかしながら、本発明はこれに限られ
るものではない。
【0010】
【発明の実施の形態】次に、図1を用いて本発明の実施
の形態である形状測定装置について説明する。図1は、
本発明の形状測定装置の概略構成図である。この形状測
定装置には、光源1と、チャート2と、ハーフミラー3
と、XYステージ5と、焦点合わせ機構8と、測定面に
おける位置を表示する位置表示手段9からなる。そし
て、XYステージ5上に被測定物4を設置している。
【0011】そして、照明光学系として、L1からL4
までのレンズを備え、観察光学系としてL4からL6ま
でのレンズを備えている。なお、L4は照明光学系およ
び観察光学系のどちらにも共通に使用されるレンズであ
り、対物レンズである。なお、これらの光学系は、一般
に工業顕微鏡に用いられるレンズ構成と同じものであ
り、これらの光学系は工業顕微鏡に通常用いられる鏡筒
に納められている。そして、焦点合わせができるように
鏡筒自身が上下方向に可動である。
【0012】また、本実施形態の形状測定装置は、照明
光学系の中にチャートパターンマスク2が挿入されてい
る。一方、観察光学系の光路中には、標線チャート7が
備えられている。
【0013】なお、本実施形態におけるチャートパター
ンマスク2は光軸を中心に十文字のパターンを適用し
た。そして、チャートパターンマスク2は、被測定物4
と光学的に共役な位置に配置している。一方、標線チャ
ート7も観察光学系中の被測定物4の表面と共役な位置
に配置している。
【0014】この様な構成を有した形状測定装置では、
まず、最初に被測定物4の任意の位置を照明光学系の光
軸中心と一致させる。そして、光源1を駆動して発光さ
せ、照明光学系によりチャートパターンを被測定物に投
影する。そして、被測定物に投影された像を観察光学系
により測定者が観察する。
【0015】このとき、チャートパターンの投影像が被
測定物4の表面上で合焦していないときには、観察光学
系でチャートパターンを観察したときにボケた状態にな
っている。そこで、焦点合わせ機構8を使ってチャート
パターンが鮮明になるように焦点距離調整を行う。そし
て、チャートパターンの投影像が観察光学系で鮮明に観
察できるように、観察光学系によりチャートパターンを
観察しながら、焦点位置調整を行う。
【0016】なお、XYステージに取り付けられた図示
しないエンコーダからの信号と、焦点合わせ機構8に取
り付けられた図示しないエンコーダからの信号とが、位
置表示手段9に入力されているので、焦点位置調整が完
了したら、位置表示手段9に表示されたXY位置情報及
び合焦距離情報を読み取る。この両者の情報から、被測
定物4の表面上の位置を測定することができる。
【0017】この様な測定方法を被測定物4の任意の複
数の位置において行うことにより、被測定物4の面形状
を測定することが可能となる。また、被測定物4の表面
が鏡面であったり透明な面であっても、その表面で結像
した像を観察光学系で観察しているので、被測定物4の
表面が観察できるような状態で無くとも、合焦位置を検
出することが可能となる。
【0018】ところで、このような形状測定装置では、
チャートパターンは非常に弱いコントラストで測定者の
眼球6に到達する。そのため、本実施の形態では図2に
示す暗視野チャートパターンを用いた。図2(a)及び
(b)はチャートパターンの一例を示している。図2
(a)は、光束通過部分に該当する部分の殆どを遮光す
るもので、十文字に細い透過部分を形成したものであ
る。この様にすることで、合焦時に細い十文字の光る線
が浮き上がってくる様に見えるため、非常に見やすく合
焦が可能となる。なお、図2(b)に示すように、縦方
向と横方向の線状のパターンを形成しておいてもかまわ
ない。
【0019】なお、本発明における形状測定装置の使用
方法は、これだけに限られない。他にも、凹面鏡又は凸
面鏡の焦点距離検出(曲率半径)や凹面鏡や凸面鏡の芯
だし、透明な光学素子同士の距離を検出することにも使
える。ただし、凸面鏡では対物レンズの作動距離より大
きい曲率半径は測定できない。
【0020】前者の凹及び凸面鏡の焦点距離を計測する
場合には、本発明における形状測定装置を用いて凹又は
凸面鏡の反射面に投影したチャートパターンが合焦する
ように、照明光学系の位置調節を行い、合焦位置を測定
する。次に、照明光学系で結像する像がほぼ凹又は凸面
鏡の焦点位置に来るように、照明光学系を移動する。そ
して、観察光学系でチャートパターン像を見ながら、そ
の像が合焦するまで、照明光学系の位置調節を行い、合
焦位置を測定する。最後に、チャートパターンを凹又は
凸面鏡の鏡面に結像させたときの合焦位置と、凹又は凸
面鏡の焦点位置にチャートパターンを合焦させたときの
位置の差を出すことによって、その凹又は凸面鏡の焦点
距離を正確に得ることが可能となる。
【0021】また、次に凹又は凸面鏡の芯だしを行う場
合には、凹面鏡の側面をV字形状の断面を有する冶具の
上に置く。そして、先の焦点距離を計測する際に行った
ように、凹面鏡の焦点位置に、本発明の形状測定装置の
照明光学系から投影されるチャートパターンの像を結像
させる。次に、凹又は凸面鏡の側面を先の冶具のV字の
部分と接触させながら凹面鏡を回転させる。凹又は凸面
鏡を回転させたとき、観察光学系によりチャートパター
ンの像が常に同じ位置で観察できるか否かで、光軸中心
と凹又は凸面鏡の外周面の中心とが一致しているか否か
計測することが可能となる。
【0022】また、本発明における形状測定装置の用途
として、次の使用形態に利用可能である。例えば、1つ
の被検物に複数の凹又は凸面鏡が配置されている場合、
その凹又は凸面鏡の光軸の軸間距離を測ることができ
る。最初に基準となるべき、凹又は凸面鏡の焦点位置に
照明光学系から投影されたチャートパターンの像を結像
させる。この空間像を観察光学系で捉え、チャートパタ
ーンの像が鮮明に見えるように焦点合わせを行った後、
照明光学系によるチャートパターンの像と観察光学系の
パターンマスクの像を完全に重ね合わせる。完全に重な
ると、凹又は凸面鏡の光軸と測定装置の光軸が重なるこ
とになるので、XYステージの位置をエンコーダで読み
取る。次に軸間距離を測るべき凹又は凸面鏡の焦点位置
へXYステージを駆動し、移動する。この位置で最初に
基準となるべき凹又は凸面鏡の焦点位置で行ったのと同
様の方法で焦点の位置を捉える。このときの位置データ
の差を検出することで二つの凹又は凸面鏡の光軸の距離
を測ることが出来る。
【0023】
【発明の効果】このように、特許請求の範囲に記載され
た本発明によれば、形状測定を行う被測定物の面状態が
透明または鏡面であっても、被測定物の面上における各
座標位置を計測することが可能となる。したがって、被
測定物の面の正確な形状データを得ることができる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to shape measurement of an object to be measured, and more particularly, to heightening the shape of the object to be measured even when the surface of the object to be measured is a mirror surface. It can be measured with high accuracy. 2. Description of the Related Art Various methods have been proposed for measuring a three-dimensional shape of an object to be measured very precisely. In particular, it is well-known that a method of measuring a three-dimensional shape by moving a probe and detecting a position where the probe is in contact with the object to be measured or an image of the object to be measured by an imaging optical system is used. There is a method of measuring a three-dimensional shape of an object to be measured from an image formation state of an image. However, according to the former method using a probe, the device becomes complicated, and such a device cannot be easily obtained. In addition, the contact may cause deformation or damage of the measured object. In the latter method, an optical system having a small depth of focus such as an industrial microscope is used to perform focusing so as to focus on the surface of an object to be measured, thereby detecting a position in the field of view in the height direction. It becomes possible. Therefore, one feature is that it can be easily introduced into a manufacturing site or the like more easily than a method using a probe. [0005] However, if the object to be measured has a mirror surface or is transparent like glass, focusing becomes very difficult. Also,
When measuring a tilted portion, the illumination light is reflected in different directions by the tilted portion, so that it is difficult for the illumination light to enter an optical system for focusing. Accordingly, it is an object of the present invention to easily focus on a surface of an object to be measured even if the surface of the object to be measured has a very smooth shape and it is very difficult to focus on the surface of the object to be measured. It is an object of the present invention to obtain a shape measuring device capable of efficiently measuring the shape of an object to be measured. In order to solve the above problems, according to an aspect of the present invention, a position coordinate at an arbitrary position on each surface of a measured object is measured, and a shape of the measured object is measured. An illumination optical system that can adjust the focus and projects a chart image onto an object to be measured, and observes whether the chart image projected from the illumination optical system is focused on the surface of the object to be measured. And a stage capable of moving the object under measurement at least two-dimensionally relative to the illumination optical system, and a chart image from the illumination optical system is placed on the surface of the object to be measured. The position coordinates at an arbitrary position on the object to be measured are measured from the adjustment amount at the time of focusing and the position of the stage. According to the above-described embodiment, the object to be measured is arranged on the stage which can move two-dimensionally, and the chart image is projected on the object to be measured. Then, the illumination optical system is focused while confirming the chart image with the observation optical system so that the projected chart image is focused on the surface of the measured object. In the case of focusing, focusing can be performed very quickly because the presence or absence of focus can be confirmed while observing the chart image without observing the surface of the object to be measured. Then, from the adjustment amount at the time of focusing and the position of the stage, it is possible to obtain position coordinates for an arbitrary portion of the object to be measured. Data can be obtained. Next, the present invention will be described in detail in embodiments of the present invention. However, the present invention is not limited to this. Next, a shape measuring apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG.
It is a schematic structure figure of the shape measuring device of the present invention. The shape measuring device includes a light source 1, a chart 2, a half mirror 3
And an XY stage 5, a focusing mechanism 8, and position display means 9 for displaying a position on a measurement surface. Then, the DUT 4 is set on the XY stage 5. Then, as an illumination optical system, L1 to L4
, And lenses L4 to L6 as an observation optical system. L4 is a lens commonly used for both the illumination optical system and the observation optical system, and is an objective lens. These optical systems have the same lens configuration as those generally used for industrial microscopes, and these optical systems are housed in a lens barrel normally used for industrial microscopes. The lens barrel itself is vertically movable so that focusing can be performed. Further, in the shape measuring apparatus of the present embodiment, the chart pattern mask 2 is inserted in the illumination optical system. On the other hand, a mark chart 7 is provided in the optical path of the observation optical system. The chart pattern mask 2 in this embodiment employs a cross-shaped pattern centered on the optical axis. Then, the chart pattern mask 2 is
It is arranged at a position optically conjugate to the above. On the other hand, the marked line chart 7 is also arranged at a position conjugate with the surface of the DUT 4 in the observation optical system. In the shape measuring apparatus having such a configuration,
First, an arbitrary position of the DUT 4 is matched with the center of the optical axis of the illumination optical system. Then, the light source 1 is driven to emit light, and the chart pattern is projected on the measured object by the illumination optical system. Then, the measurer observes the image projected on the object to be measured by the observation optical system. At this time, when the projected image of the chart pattern is not focused on the surface of the DUT 4, the chart pattern is blurred when the chart pattern is observed by the observation optical system. Therefore, the focal length is adjusted using the focusing mechanism 8 so that the chart pattern becomes clear. Then, the focus position is adjusted while observing the chart pattern by the observation optical system so that the projected image of the chart pattern can be clearly observed by the observation optical system. Since a signal from an encoder (not shown) attached to the XY stage and a signal from an encoder (not shown) attached to the focusing mechanism 8 are input to the position display means 9, focus position adjustment is performed. Is completed, the XY position information and the focusing distance information displayed on the position display means 9 are read. From these two pieces of information, the position on the surface of the DUT 4 can be measured. By performing such a measurement method at a plurality of arbitrary positions of the DUT 4, the surface shape of the DUT 4 can be measured. In addition, even if the surface of the DUT 4 is a mirror surface or a transparent surface, since the image formed on the surface is observed by the observation optical system, the surface of the DUT 4 can be observed. Even if it is not in the state, the in-focus position can be detected. By the way, in such a shape measuring device,
The chart pattern reaches the eyeball 6 of the measurer with very low contrast. Therefore, in the present embodiment, the dark field chart pattern shown in FIG. 2 is used. FIGS. 2A and 2B show an example of a chart pattern. FIG.
(A) shields most of the portion corresponding to the light beam passing portion, and forms a transparent portion that is thin in a cross. By doing so, a thin cross-shaped shining line appears to emerge at the time of focusing, and focusing can be performed very easily. Note that, as shown in FIG. 2B, a linear pattern in a vertical direction and a horizontal direction may be formed. The method of using the shape measuring device according to the present invention is not limited to this. In addition, it can also be used to detect the focal length (curvature radius) of a concave mirror or a convex mirror, to detect the center of a concave mirror or a convex mirror, and to detect the distance between transparent optical elements. However, a convex mirror cannot measure a radius of curvature larger than the working distance of the objective lens. When measuring the focal length of the concave and convex mirrors, the position of the illumination optical system is adjusted so that the chart pattern projected on the reflecting surface of the concave or convex mirror using the shape measuring apparatus of the present invention is focused. Adjust and measure the focus position. Next, the illumination optical system is moved so that the image formed by the illumination optical system is substantially at the focal position of the concave or convex mirror. Then, while observing the chart pattern image with the observation optical system, the position of the illumination optical system is adjusted until the image is focused, and the focus position is measured. Finally, the difference between the in-focus position when the chart pattern is imaged on the mirror surface of the concave or convex mirror and the position when the chart pattern is focused on the focal position of the concave or convex mirror is obtained. It is possible to accurately obtain the focal length of the convex mirror. When the concave or convex mirror is to be centered next, the side surface of the concave mirror is placed on a jig having a V-shaped cross section. Then, as performed when measuring the focal length, an image of the chart pattern projected from the illumination optical system of the shape measuring apparatus of the present invention is formed at the focal position of the concave mirror. Next, the concave mirror is rotated while the side surface of the concave or convex mirror is in contact with the V-shaped portion of the jig. When the concave or convex mirror is rotated, whether the center of the optical axis coincides with the center of the outer peripheral surface of the concave or convex mirror is measured by whether or not the image of the chart pattern can always be observed at the same position by the observation optical system. It is possible to do. Further, the shape measuring apparatus according to the present invention can be used in the following usage forms. For example, when a plurality of concave or convex mirrors are arranged in one subject,
The distance between the optical axes of the concave or convex mirrors can be measured. First, an image of a chart pattern projected from the illumination optical system is formed at a focal position of a concave or convex mirror to be a reference. After capturing this aerial image with the observation optical system and focusing so that the image of the chart pattern is clearly visible,
The image of the chart pattern of the illumination optical system and the image of the pattern mask of the observation optical system are completely overlapped. If they completely overlap, the optical axis of the concave or convex mirror and the optical axis of the measuring device will overlap, so the position of the XY stage is read by the encoder. Next, the XY stage is driven and moved to the focal position of the concave or convex mirror to measure the distance between the axes. At this position, the position of the focal point is captured in the same manner as that performed first at the focal position of the concave or convex mirror to be used as a reference. By detecting the difference between the position data at this time, the distance between the optical axes of the two concave or convex mirrors can be measured. As described above, according to the present invention described in the claims, even if the surface state of the object to be measured for shape measurement is transparent or mirror-finished, the surface of the object It becomes possible to measure each coordinate position on the upper part. Therefore, it is possible to obtain accurate shape data of the surface of the object to be measured.
【図面の簡単な説明】
【図1】:本発明の実施の形態に係る形状測定装置の概
略構成図である。
【図2】:本発明の実施の形態の形状測定装置に使用さ
れたチャートパターンマスクの構成を示した図である。
【符号の説明】
1…光源
2…チャートパターンマスク
3…ハーフミラー
4…被測定物
5…XYステージ
6…測定者の眼球
7…標線チャート
8…焦点合わせ機構
9…位置表示手段BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a shape measuring device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a chart pattern mask used in the shape measuring apparatus according to the embodiment of the present invention. [Description of Signs] 1 ... Light source 2 ... Chart pattern mask 3 ... Half mirror 4 ... Measurement object 5 ... XY stage 6 ... Measurer's eyeball 7 ... Marked line chart 8 ... Focusing mechanism 9 ... Position display means
Claims (1)
位置座標を測定し、前記被測定物の形状を測定する形状
測定装置において、 焦点調節が可能でかつチャート像を前記被測定物に対し
て投影する照明光学系と、前記照明光学系から投影され
たチャート像が前記被測定物表面に合焦されているか観
察するための観察光学系と、前記被測定物を前記照明光
学系に対して2次元的に相対的に移動可能なステージと
を備え、前記照明光学系からのチャート像が前記被測定
物表面に合焦したときの調整量と前記ステージの位置か
ら被測定物上の任意位置における位置座標を測定するこ
とを特徴とする形状測定装置。Claims: 1. A shape measuring apparatus for measuring position coordinates at an arbitrary position on each surface of an object to be measured and measuring the shape of the object to be measured, wherein a focus adjustment is possible and a chart image is provided. An illumination optical system for projecting the object to be measured, an observation optical system for observing whether a chart image projected from the illumination optical system is focused on the surface of the object to be measured, and the object to be measured A stage that is movable two-dimensionally relative to the illumination optical system, and an adjustment amount and a position of the stage when a chart image from the illumination optical system is focused on the surface of the object to be measured. A shape measuring device for measuring a position coordinate at an arbitrary position on an object to be measured.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001271591A JP2003075110A (en) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | Shape measuring device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2001271591A JP2003075110A (en) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | Shape measuring device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003075110A true JP2003075110A (en) | 2003-03-12 |
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ID=19097080
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP2001271591A Pending JP2003075110A (en) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | Shape measuring device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003075110A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008164572A (en) * | 2007-01-05 | 2008-07-17 | Nikon Corp | Measuring apparatus and measuring method |
-
2001
- 2001-09-07 JP JP2001271591A patent/JP2003075110A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008164572A (en) * | 2007-01-05 | 2008-07-17 | Nikon Corp | Measuring apparatus and measuring method |
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