JP2003059003A - 磁気記録再生方法及びその方法に用いる磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高いデータ転送速度の条件下であっても、磁
気記録媒体に高密度記録でき、ＭＲヘッドで再生した場
合に充分な記録再生特性を得ることのできる磁気記録再
生方法の提供、及びその磁気記録再生方法に用いること
のできる磁気記録媒体の提供。 【解決手段】 磁気記録媒体に磁気記録された信号を磁
気抵抗ヘッド（ＭＲヘッド）により再生する磁気記録再
生方法であって、前記磁気記録媒体は、非磁性支持体の
少なくとも一方の面に実質的に非磁性である下層と、六
方晶フェライト強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層とを
この順に有し、かつ、前記六方晶フェライト強磁性粉末
の平均板径が１５〜４０ｎｍ、平均板厚が４〜１５ｎｍ
であり、前記磁性層の抗磁力Ｈｃが１４３．３〜３１
８．４ｋＡ／ｍ（１８００〜４０００Ｏｅ）である磁気
記録媒体であり、前記磁気記録された信号は、最大記録
周波数が１０〜８０ＭＨｚである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に磁
気記録された信号をＭＲヘッドで再生する磁気記録再生
方法と、該磁気記録再生方法に用いる磁気記録媒体に関
する。特に本発明は、実質的に非磁性の下層と六方晶フ
ェライト強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順
に有する高密度記録用の磁気記録媒体に磁気記録された
信号をＭＲヘッドにより再生する磁気記録再生方法及び
その方法に用いる磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録ディスクの分野では、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピー（登録
商標）ディスクはパーソナルコンピュータに標準搭載さ
れようになった。しかし、扱うデータ容量が急激に増加
している今日において、その容量は充分ではなく、フロ
ッピーディスクの大容量化が望まれている。上記フロッ
ピーディスクの大容量化の要請に応えるため、最近では
薄層磁性層と機能性非磁性層とからなるディスク状磁気
記録媒体が提唱され、１００ＭＢクラスのフロッピーデ
ィスクの開発が行われている。このような特徴を有する
ディスク状磁気記録媒体としては、例えば特開平５−１
０９０６１号公報及び特開平５−２９０３５４号公報を
挙げることができる。すなわち、特開平５−１０９０６
１号公報には、抗磁力Ｈｃが１１１ｋＡ／ｍ（１４００
Ｏｅ）以上で厚さ０．５μｍ以下の磁性層と導電性粒
子を含む非磁性層とを有する構成が開示されている。ま
た、特開平５−２９０３５４号公報には、磁性層厚が
０．５μｍ以下で、磁性層厚の厚み変動を±１５％以内
とし、表面電気抵抗を規定した構成が開示されている。

【０００３】一方、磁気記録テープの分野においても近
年、ミニコンピュータ、パーソナルコンピュータ、ワー
クステーションなどのオフィスコンピュータの普及に伴
って、外部記憶媒体としてコンピュータデータを記録す
るための磁気記録テープ（いわゆるバックアップテー
プ）の研究が盛んに行われている。このような用途の磁
気記録テープの実用化に際しては、特にコンピュータの
小型化、情報処理能力の増大と相俟って、記録の大容量
化、小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要
求される。また磁気記録テープの使用環境の広がりによ
る幅広い環境条件下（特に、変動の激しい温湿度条件下
など）での使用、データ保存に対する信頼性、さらには
高速での繰り返し使用による多数回走行におけるデータ
の安定した記録、読み出し等の性能に対する信頼性など
も従来に増して要求されるようになっている。

【０００４】従来から、デジタル信号記録システムにお
いて使用される磁気記録テープは、システムごとに決め
られており、いわゆるＤＬＴ型、３４８０型、３４９０
型、３５９０型、ＱＩＣ型、Ｄ８型又はＤＤＳ型対応の
磁気記録テープが知られている。そしてどのシステムに
おいても、用いられる磁気記録テープは非磁性支持体の
一方の面に膜厚が２．０〜３．０μｍと比較的厚い単層
構造の強磁性粉末と結合剤とを含む磁性層が設けられて
おり、また磁性層とは反対側の面には、巻き乱れの防止
や良好な走行耐久性を保つためのバックコート層が設け
られている。しかし一般に上記のように比較的厚い単層
構造の磁性層においては、出力が低下するという厚み損
失の問題がある。

【０００５】このような磁性層の厚み損失による再生出
力の低下を改良するために、磁性層を薄層化することが
知られており、例えば、特開平５ー１８２１７８号公報
には非磁性支持体上に無機質粉末を含み、結合剤に分散
してなる下層非磁性層と該非磁性層が湿潤状態にある内
に強磁性粉末を結合剤に分散してなる１．０μｍ以下の
厚みの上層磁性層を設けた磁気記録媒体が開示されてい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、磁気記
録ディスク又は磁気記録テープの急速な大容量化、高密
度化に伴い、上記のような技術を以ってしても満足でき
る特性を得ることが難しくなってきた。特に線記録密度
を高め、かつ、高周波数で記録を行うことで、高容量化
と高データ転送速度を両立しようとすると従来の媒体で
は充分な記録再生特性を得ることが困難である。かくし
て本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、本発
明の目的は、高いデータ転送速度の条件下であっても、
磁気記録媒体に高密度記録でき、ＭＲヘッドで再生した
場合に充分な記録再生特性を得ることのできる磁気記録
再生方法の提供することにある。また、本発明の別の目
的は、前記磁気記録再生方法に用いることを特徴とする
磁気記録媒体媒体を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、電磁変換
特性が良好で、特に高周波数で磁気記録された信号を磁
気抵抗ヘッド（以下、ＭＲヘッドという。）により再生
する場合に非常に優れた電磁変換特性を有する磁気記録
媒体を得る方法を鋭意検討した。その結果、所定の要件
を満たす磁気記録媒体に磁気記録された所定の周波数を
有する信号をＭＲヘッドで再生すれば、これまでの技術
では得られなかった、優れた高密度特性を得ることがで
きる方法を見出し、本発明を完成するに至った。

【０００８】すなわち、本発明は、磁気記録媒体に磁気
記録された信号を磁気抵抗ヘッド（ＭＲヘッド）により
再生する磁気記録再生方法であって、前記磁気記録媒体
は、非磁性支持体の少なくとも一方の面に実質的に非磁
性である下層と、六方晶フェライト強磁性粉末及び結合
剤を含む磁性層とをこの順に有し、かつ、前記六方晶フ
ェライト強磁性粉末の平均板径が１５〜４０ｎｍ、平均
板厚が４〜１５ｎｍであり、前記磁性層の抗磁力Ｈｃが
１４３．３〜３１８．４ｋＡ／ｍ（１８００〜４０００
Ｏｅ）である磁気記録媒体であり、前記磁気記録され
た信号の最大記録周波数が１０〜８０ＭＨｚであること
を特徴とする前記方法に関する。

【０００９】また、本発明の方法の好ましい態様として
は、次のようなものが挙げられる。 （１）六方晶フェライト強磁性粉末の平均板径が２０〜
３５ｎｍ、平均板厚が７〜１２ｎｍであって、磁性層の
抗磁力Ｈｃが１５９．２〜２７８．６ｋＡ／ｍ（２００
０〜３５００ Ｏｅ）である磁気記録再生方法。 （２）前記磁気記録媒体がテープ状磁気記録媒体であ
り、前記六方晶フェライト強磁性粉末の角形比が０．６
〜０．９である磁気記録再生方法。 （３）前記磁気記録媒体がディスク状磁気記録媒体であ
り、前記六方晶フェライト強磁性粉末の角形比が０．４
５〜０．６５である磁気記録再生方法。

【００１０】また本発明は、非磁性支持体の少なくとも
一方の面に実質的に非磁性である下層と、六方晶フェラ
イト強磁性粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有
し、かつ、前記六方晶フェライト強磁性粉末の平均板径
が１５〜４０ｎｍ、平均板厚が４〜１５ｎｍであり、前
記磁性層の抗磁力Ｈｃが１４３．３〜３１８．４ｋＡ／
ｍ（１８００〜４０００ Ｏｅ）である磁気録媒体媒体
であって、１０〜８０ＭＨｚの最大記録周波数を有する
信号を磁気記録し、該磁気記録された信号を磁気抵抗ヘ
ッド（ＭＲヘッド）により再生する磁気記録再生方法に
用いることを特徴とする磁気記録媒体に関する。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録再生方法
及びその方法に用いる磁気記録媒体についてさらに詳細
に説明する。

【００１２】本発明では、１０〜８０ＭＨｚの最大記録
周波数で磁気記録媒体に磁気記録する。磁気記録媒体に
磁気記録される信号は、最大記録周波数が１０〜８０Ｍ
Ｈｚであり、１５〜６０ＭＨｚであることが好ましく、
２０〜４０ＭＨｚであることがさらに好ましい。磁気記
録される信号の最大記録周波数が１０〜８０ＭＨｚの範
囲内にあれば、磁気記録媒体に磁気記録された当該信号
をＭＲヘッドで再生した場合に優れた高密度特性が得ら
れる。すなわち、磁気記録される最大記録周波数を１０
ＭＨｚ以上とすることで、データ転送速度の高速化を図
ることができる。また、磁気記録される最大記録周波数
を８０ＭＨｚ以下とすることにより、六方晶フェライト
強磁性粉末の磁気粘性の影響を抑えることができ、良好
な磁気記録を実現することができる。この場合の磁気記
録媒体とＭＲヘッドの相対速度は、一般には３ｍ／ｓ以
上であり、好ましくは１０ｍ／ｓ以上である。この相対
速度は磁気記録ディスクではディスク回転速度、磁気記
録テープではテープ搬送速度又はシリンダ回転速度によ
り制御される。

【００１３】本発明の方法では磁性体として六方晶フェ
ライト強磁性粉末を用いる。六方晶フェライトは、非常
に高い抗磁力Ｈｃを有し、化学安定性、耐蝕性、高硬度
に起因する耐摩擦性に優れている。したがって、六方晶
フェライト強磁性粉末を用いた磁気記録媒体であれば、
高密度化に伴う磁気スペースシングの減少のニーズにも
合致し、薄膜化の実現、並びに高Ｃ／Ｎ及び分解能を期
待できる。

【００１４】本発明で用いられる六方晶フェライト強磁
性粉末の平均板径は、１５〜４０ｎｍの範囲であり、２
０〜３５ｎｍであることが好ましく、２０〜３０ｎｍで
あることがさらに好ましい。また、六方晶フェライト強
磁性粉末の板厚は、４〜１５ｎｍであり、７〜１２ｎｍ
であることが好ましく、７〜１０ｎｍであることがさら
に好ましい。六方晶フェライト強磁性粉末の平均板径が
１５ｎｍより小さいと、熱揺らぎのため安定な磁化が望
めない。一方、平均板径が４０ｎｍ以下であれば、ノイ
ズが高くなったり、充填度が低くなったることもなく高
密度磁気記録に好適である。また、六方晶フェライト強
磁性粉末の板厚が７ｎｍ以上であれば、充分な配向性を
得ることができ、板厚が１５ｎｍ以下であれば、粒子間
のスタッキングによりノイズが大きくなることもない。
そして、六方晶フェライト強磁性粉末の平均板径及び板
厚が上記範囲内にあれば、磁気異方性を維持することが
できるため、抗磁力Ｈｃが低下することがない。

【００１５】本発明における六方晶フェライト強磁性粉
末を含む磁性層の抗磁力（Ｈｃ）は、１４３．３〜３１
８．４ｋＡ／ｍ（１８００〜４０００ Ｏｅ）である
が、好ましくは１５９．２〜２７８．６ｋＡ／ｍ（２０
００〜３５００ Ｏｅ）であり、さらに好ましくは１７
５．１〜２３８．８ｋＡ／ｍ（２２００〜３０００ Ｏ
ｅ）である。磁性層の抗磁力Ｈｃが上記範囲以内にあれ
ば、記録減磁を受けて出力が低下することもなく、ま
た、ＭＲヘッドによる記録もスムーズに行え、かつ出力
の低下を防ぐことができる。

【００１６】デープ状磁気記録媒体の場合、角形比（Ｓ
Ｑ）は０．６〜０．９であることが好ましい。角形比が
０．６以上であれば再生出力を大きくできるため好まし
い。角形比（ＳＱ）の上限値は特に制限されないが、
０．９以下であればバリウムフェライトのスタッキング
によるノイズ増加を抑えることができるため好ましい。
また、ディスク状磁気記録媒体ではランダム配向を行う
場合、角形比（ＳＱ）が０．４５〜０．６５であること
が好ましく、角形比（ＳＱ）がディスク内で等方化され
ていることが好ましい。また円周配向を行う場合は、角
形比（ＳＱ）は円周方向に磁気テープ記録媒体と同じく
０．６〜０．９であることが好ましい。

【００１７】本発明の方法は、磁気記録媒体に磁気記録
された信号をＭＲヘッドにより再生する。本発明の方法
に用いられるＭＲヘッドには特に制限はなく、例えばＧ
ＭＲヘッドやＴＭＲヘッドを用いることもできる。ま
た、磁気記録に用いるヘッドについては特に制限はない
が、飽和磁化量が１．０Ｔ以上であり、１．５Ｔ以上で
あることが好ましい。

【００１８】次に本発明で用いられる磁気記録媒体の磁
性層、下層、非磁性支持体、層構成、製法及び物理特性
についてさらに詳細に説明する。

【００１９】［磁性層］ ＜六方晶フェライト微粉末＞本発明の磁性層に含まれる
六方晶フェライト強磁性粉末には、例えば、バリウムフ
ェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、
カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等があ
る。より具体的には、マグネトプランバイト型のバリウ
ムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネル
で粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライ
ト、さらに一部にスピネル相を含有したマグネトプラン
バイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェ
ライト等が挙げられる。その他、所定の原子以外にＡ
ｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍ
ｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔ
ａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般に
は、Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ
−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、
Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を
使用できる。また原料・製法によっては特有の不純物を
含有するものもある。

【００２０】六方晶フェライトの粒子サイズは、六角板
の平均粒径で１５〜４０ｎｍ、好ましくは２０〜３５ｎ
ｍである。また平均板径は、前記のとおり１５〜４０ｎ
ｍ、好ましくは２０〜３５ｎｍ、より好ましくは２０〜
３０ｎｍである。また平均板厚は、前記のとおり４〜１
５ｎｍ、好ましくは７〜１２ｎｍ、より好ましくは７〜
１０ｎｍである。板状比（板径／板厚）は、１〜１０で
あり、２〜５であることが好ましい。板状比が１〜１０
であれば、磁性層で高充填性を保持しながら充分な配向
性が得られ、かつ、粒子間のスタッキングによりノイズ
増大を抑えることができる。また、上記粒子サイズの範
囲内におけるＢＥＴ法による比表面積は１０〜２００ｍ
²／ｇである。この比表面積は、概ね粒子板径と板厚か
らの計算値と符号する。

【００２１】六方晶フェライト粒子の粒子板径・板厚の
分布は、通常狭いほど好ましい。粒子板径・板厚を数値
化することは困難であるが、粒子ＴＥＭ写真より５００
粒子を無作為に測定することで比較することができる。
粒子板径・板厚の分布は正規分布ではない場合が多い
が、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すと、σ
／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布
をシャープにするには、粒子生成反応系をできるだけ均
一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すこ
とも行われている。例えば、酸溶液中で超微細粒子を選
別的に溶解する方法等も知られている。

【００２２】六方晶フェライト粒子の抗磁力（Ｈｃ）
は、１４３．３〜３１８．４ｋＡ／ｍ（１８００〜４０
００ Ｏｅ）であるが、好ましくは１５９．２〜２７
８．６ｋＡ／ｍ（２０００〜３５００ Ｏｅ）であり、
さらに好ましくは１７５．１〜２３８．８ｋＡ／ｍ（２
２００〜３０００ Ｏｅ）である。抗磁力（Ｈｃ）は、
粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素
の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。

【００２３】六方晶フェライト粒子の飽和磁化（σｓ）
は４０〜８０ｅｍｕ／ｇである。飽和磁化（σｓ）は高
い方が好ましいが、微粒子になるほど小さくなる傾向が
ある。飽和磁化（σｓ）の改良のため、マグネトプラン
バイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること
や、含有元素の種類と添加量の選択等がよく知られてい
る。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能であ
る。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポ
リマーに合った物質で処理することも行われている。表
面処理剤としては、無機化合物及び有機化合物が使用さ
れる。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の酸化物又
は水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカ
ップリング剤が代表例である。添加量は磁性体の質量に
対して０．１〜１０質量％である。磁性体のｐＨも分散
に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーに
より最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から
６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分
散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが
通常０．０１〜２．０％が選ばれる。

【００２４】六方晶フェライト強磁性粉末の製法として
は、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物
とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライ
ト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質
体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリ
ウムフェライト結晶粉体を得ガラス結晶化法。バリウ
ムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生
成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・
乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱
反応法。バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカ
リで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以
下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得
る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。六方晶
フェライト強磁性粉末は、必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ
又はこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわな
い。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表
面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ
／ｍ²以下になり好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮ
ａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場
合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２
００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは
少ない。

【００２５】＜結合剤＞本発明の磁性層に用いられる結
合剤は、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂やこれらの混合物である。熱可塑性樹脂として
は、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜
１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のもので
ある。このような熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化
ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、
アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、ア
クリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステ
ル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラー
ル、ビニルアセタール、ビニルエーテル等を構成単位と
して含む重合体又は共重合体、ポリウレタン樹脂、各種
ゴム系樹脂を挙げることができる。

【００２６】また、熱硬化性樹脂又は反応型樹脂として
は、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエス
テルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウ
レタンとポリイソシアネートの混合物等を挙げることが
できる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及び反応型樹脂に
ついては、いずれも朝倉書店発行の「プラスチックハン
ドブック」に詳細に記載されている。

【００２７】また、電子線硬化型樹脂を各層に使用する
と、塗膜強度が向上し耐久性が改善されるだけでなく、
表面が平滑し電磁変換特性もさらに向上する。これらの
例とその製造方法については、特開昭６２−２５６２１
９号公報に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独又
は組み合わせて使用できるが、好ましいものとして塩化
ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢
酸ビニル無水マレイン酸共重合体から選ばれる少なくと
も１種とポリウレタン樹脂の組み合せ、又はこれらにポ
リイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。

【００２８】前記ポリウレタン樹脂の構造は、ポリエス
テルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエ
ーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポ
リウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタ
ン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが
使用できる。ここに示したすべての結合剤について、よ
り優れた分散性と耐久性を得るためには、必要に応じて
−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ(ＯＭ)
₂、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ(ＯＭ)₂（以上につき、Ｍは水素原子又
はアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂、−Ｎ⁺Ｒ
₃（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮな
どから選ばれる少なくとも１つ以上の極性基を共重合又
は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。こ
のような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、
好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００２９】結合剤の具体例としては、例えば、ユニオ
ンカーバイト社製 ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、Ｖ
ＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、Ｖ
ＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、Ｐ
ＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製 ＭＰＲ−ＴＡ、
ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、Ｍ
ＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−
ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８
１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製
ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１０
０、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタ
ン社製 ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０
４、大日本インキ社製 パンデックスＴ−５１０５、Ｔ
−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、
Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東
洋紡社製 バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ
−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製
ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３０
０、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製ＭＸ
５００４、三洋化成社製 サンプレンＳＰ−１５０、旭
化成社製 サランＦ３１０、Ｆ２１０などを挙げること
ができる。

【００３０】本発明の磁性層に用いられる結合剤の添加
量は、六方晶フェライト強磁性粉末の質量に対して５〜
５０質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲
である。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は、５〜３０質
量％、ポリウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０質量
％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれ
らを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微
量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合には、ポリウ
レタンのみ又はポリウレタンとイソシアネートのみを使
用することも可能である。本発明において、ポリウレタ
ンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、
好ましくは０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００
％、破断応力は０．４９〜９８ＭＰａ（０．０５〜１０
ｋｇ／ｍｍ²）、降伏点は０．４９〜９８ＭＰａ（０．
０５〜１０ｋｇ／ｍｍ²）が好ましい。

【００３１】本発明で用いる磁気記録媒体は、下層及び
磁性層の二層以上からなる。したがって、結合剤量、結
合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、
ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂量、磁性
層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に
述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層、各磁性層
とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最
適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用
できる。例えば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性
層表面の擦傷を減らすためには磁性層の結合剤量を増量
することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを
良好にするためには、下層の結合剤量を多くして柔軟性
を持たせることができる。

【００３２】本発明で使用可能なポリイソシアネートと
しては、例えば、トリレンジイソシアネート、４−４’
−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
チレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフ
ェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート
類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコール
との生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生
成したポリイソシアネート等を挙げることができる。こ
れらのイソシアネート類の市販されている商品名として
は、日本ポリウレタン社製 コロネートＬ、コロネート
ＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリ
オネートＭＲミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製 タケ
ネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネー
トＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社
製デスモジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュ
ールＮデスモジュールＨＬ等がありこれらを単独又は硬
化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合
せで各層とも用いることができる。

【００３３】本発明における磁性層には、必要に応じて
添加剤を加えることができる。添加剤としては、カーボ
ンブラック、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴
剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤などを挙げることが
できる。

【００３４】＜カーボンブラック＞本発明における磁性
層には、必要に応じてカーボンブラックを添加すること
ができる。磁性層で使用可能なカーボンブラックとして
は、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラ
ック、アセチレンブラック等を挙げることができる。比
表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４
００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５〜３００ｍμ、ｐＨは
２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．
１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。

【００３５】本発明に用いられるカーボンブラックの具
体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、９０
５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ
ーボン社製 ＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３
５、三菱化成工業社製 ＃２４００Ｂ、＃２３００、＃
９００、＃１０００、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロ
ンビアンカーボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、Ｒ
ＡＶＥＮ１５０、５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ
−Ｐ、日本ＥＣ社製 ケッチェンブラックＥＣなどが挙
げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理し
たり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部を
グラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボン
ブラックは単独又は組み合せで使用することができる。
カーボンブラックを使用する場合、磁性体の質量に対し
て０．１〜３０質量％で用いることが好ましい。カーボ
ンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性
付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ
ーボンブラックにより異なる。したがって本発明で使用
されるこれらのカーボンブラックは、磁性層及び下層で
その種類、量、組み合せを変え、粒子サイズ、吸油量、
電導度、ＰＨなどの先に示した諸特性を基に目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で
最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用できる
カーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カ
ーボンブラック協会編 を参考にすることができる。

【００３６】＜研磨剤＞さらに磁性層中には、磁性層の
機械的強度を高め、かつ、磁気ヘッドの目詰まりを防ぐ
ために研磨材を含有することができる。本発明に用いら
れる研磨剤は、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α
−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、
炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、
窒化ホウ素など、主としてモース硬度６以上の公知の材
料が単独又は組み合せで使用される。また、これらの研
磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理し
たもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分
以外の化合物又は元素が含まれる場合もあるが、主成分
が９０％以上であれば効果に変わりはない。これら研磨
剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましく、特に電
磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が
好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒
子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨
剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも
可能である。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率
は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０
ｍ²／ｇが好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は、針状、球状、サイコロ状のいずれでもよいが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００３７】研磨剤の具体例としては、住友化学社製
ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−
３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩ
Ｔ−５５、ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩ
Ｔ１００、レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢ
Ｍ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製 ＷＡ１０００
０、上村工業社製 ＵＢ２０、日本化学工業社製 Ｇ−
５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社
製 ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製ベータラン
ダムウルトラファイン、昭和鉱業社製 Ｂ−３などを挙
げることができる。これらの研磨剤は、必要に応じ下層
に添加することもできる。下層に添加することで表面形
状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりするこ
とができる。これら磁性層、下層の添加する研磨剤の粒
径、量はむろん最適値に設定すべきものである。

【００３８】＜その他の添加剤＞本発明の磁性層には、
その他、二硫化モリブデン、二硫化タングステングラフ
ァイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、
極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ
素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有
エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル
燐酸エステル及びそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エ
ステル及びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテ
ル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐
酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、
フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカ
ップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アル
キル硫酸エステル及びそのアルカリ金属塩、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）及びこれらの金属塩（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）、又は炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜
２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分
岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ
（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわな
い）とからなるモノ脂肪酸エステル又はジ脂肪酸エステ
ル又はトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物
のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜
２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンな
どの添加剤を添加することができる。

【００３９】これらの具体例としては、脂肪酸では、カ
プリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パ
ルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エ
ライジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸などが挙げられる。エステル類では、ブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコールなどが挙げられる。
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加
体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミ
ド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複
素環類、ホスホニウム又はスルホニウム類等のカチオン
系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸
エステル基、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオ
ン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベダ
イン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの
界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書
株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑
剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主
成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化
物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分
は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下
である。

【００４０】本発明で使用される上記潤滑剤、界面活性
剤は、個々に異なる物理的作用を有するものであり、そ
の種類、量、及び相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比
率は目的に応じ最適に定められるべきものである。例え
ば、下層と磁性層とで融点の異なる脂肪酸を用いて表面
へのにじみ出しを制御したり、沸点、融点や極性の異な
るエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御したり、
界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させ
たり、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向
上させたり、などが考えられ、無論ここに示した例のみ
に限られるものではない。一般には潤滑剤の総量として
磁性体又は非磁性粉体に対し、０．１〜５０質量％、好
ましくは２〜２５質量％の範囲で選択される。

【００４１】また本発明で用いられる添加剤のすべて又
はその一部は、磁性層用塗料及び下層用塗料製造のどの
工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に磁
性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練
工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後
に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時又は逐次
塗布で、添加剤の一部又は全部を塗布することにより目
的が達成される場合がある。また、目的によってはカレ
ンダーした後、又はスリット終了後、磁性層表面に潤滑
剤を塗布することもできる。

【００４２】本発明で用いられる有機溶剤は公知のもの
が使用できる。本発明で用いられる有機溶媒は、任意の
比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ
ール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブ
チルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシク
ロヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エ
チル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメ
チルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキ
サン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することが
できる。

【００４３】これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋で
はなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分
解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は
磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好まし
い。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面
張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）
を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成
の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らない
ことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程
度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１
５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。ま
た、溶解パラメータは８〜１１であることが好ましい。

【００４４】［下層］次に下層に関する詳細な内容につ
いて説明する。本発明の磁気記録媒体における下層は、
実質的に非磁性である。なお、本明細書において「実質
的に非磁性である下層」とは、記録に関与しない程度に
磁性を持っていても良いという意味であり、非磁性層と
同義である。本発明の下層に用いられる無機粉末は、非
磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金
属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の
無機質化合物から選択することができる。無機化合物と
しては、例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β
−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイ
ト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバ
イト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネ
シウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホ
ウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫
酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組み合せ
で使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、
機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化
亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、さらに好ましいの
は二酸化チタン、α酸化鉄である。

【００４５】これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００
５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異
なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末で
も粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもでき
る。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは
０．０１〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状
金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下
が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長が
０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がさらに好
ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌであり、好
ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の
含水率は０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量
％、さらに好ましくは０．３〜１．５質量％である。非
磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１
０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１
００ｍ²／ｇであり、好ましくは５〜８０ｍ²／ｇであ
り、さらに好ましくは１０〜７０ｍ²／ｇである。非磁
性粉末の結晶子サイズは０．００４〜１μｍが好まし
く、０．０４〜０．１μｍがさらに好ましい。ＤＢＰ
（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍ
ｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、
さらに好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。非
磁性粉末の比重は１〜１２であり、好ましくは３〜６で
ある。非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板
状のいずれでもよい。モース硬度は４〜１０が好まし
い。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２
０μｍｏｌ／ｍ²であり、好ましくは２〜１５μｍｏｌ
／ｍ²、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²である。
ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの非磁
性粉末の表面にはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ
₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ ₂Ｏ₃で表面処理する
ことが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、さらに好ましい
のはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。これらは組み
合わせて使用してもよいし、単独で用いることもでき
る。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いて
もよいし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリ
カで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもでき
る。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても
構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００４６】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、例えば、昭和電工製 ナノタイト、
住友化学製 ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社
製αヘマタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、
ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００
ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製
酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−
５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５
５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７
１、Ｅ３００、Ｅ３０３、チタン工業製 酸化チタンＳ
ＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−
６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製 ＭＴ−１０
０Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００Ｈ
Ｄ、堺化学製 ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１
０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製 ＤＥＦＩＣ−
Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製 ＡＳ２ＢＭ、
ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製 １００Ａ、５００Ａ、及
びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁
性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。

【００４７】本発明の下層にはさらにカーボンブラック
を混合させることができる。カーボンブラックを混合さ
せることにより、公知の効果である表面電気抵抗（Ｒ
ｓ）を下げ、光透過率を小さくすると共に、所望のマイ
クロビッカース硬度を得ることができる。また、下層に
カーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果を
もたらすことも可能である。カーボンブラックの種類
は、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラ
ック、アセチレンブラック等を用いることができる。下
層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下の
ような特性を最適化すべきであり、併用することでより
効果が得られることがある。

【００４８】下層のカーボンブラックの比表面積は、１
００〜５００ｍ²／ｇであり、好ましくは１５０〜４０
０ｍ²／ｇである。またＤＢＰ吸油量は、２０〜４００
ｍｌ／１００ｇであり、好ましくは３０〜４００ｍｌ／
１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は５〜８０
ｍμ、好ましく１０〜５０ｍμ、さらに好ましくは１０
〜４０ｍμである。カーボンブラックのｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１
ｇ／ｍｌが好ましい。

【００４９】本発明に用いられるカーボンブラックの具
体的な例としては、キャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８０
０、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱
化成工業社製 ＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５
０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５
０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−
２３０、＃４０００、＃４０１０、コンロンビアカーボ
ン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８
００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５
００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２
５５、１２５０、アクゾー社製 ケッチェンブラックＥ
Ｃなどが挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあ
らかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカー
ボンブラックは上記無機質粉末に対して５０質量％を越
えない範囲、非磁性層総質量の４０％を越えない範囲で
使用できる。これらのカーボンブラックは単独又は組み
合せで使用することができる。本発明で使用できるカー
ボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カー
ボンブラック協会編）を参考にすることができる。

【００５０】下層には有機質粉末を目的に応じて添加す
ることもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉
末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、
フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン
系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹
脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹
脂も使用することができる。その製法は、特開昭６２−
１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に
記されているようなものが使用できる。

【００５１】下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加
剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用でき
る。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加
量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用でき
る。

【００５２】［バックコート層］一般に、コンピュータ
データ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディ
オテープに比較して繰り返し走行性が強く要求される。
このような高い走行耐久性を維持させるために、バック
コート層には、カーボンブラックと無機粉末が含有され
ていることが好ましい。

【００５３】＜カーボンブラック＞カーボンブラック
は、平均粒子サイズの異なる二種類のものを組み合わせ
て使用することが好ましい。この場合、平均粒子サイズ
が１０〜２０ｎｍ（ｍμ）の微粒子状カーボンブラック
と平均粒子サイズが２３０〜３００ｎｍ（ｍμ）の粗粒
子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好
ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラ
ックの添加により、バックコート層の表面電気抵抗を低
く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録
装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信
号に使用しているものが多くあるため、このような場合
には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効にな
る。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤
の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄
与する。一方、粒子サイズが２３０〜３００ｎｍ（ｍ
μ）の粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤として
の機能を有しており、またバック層の表面に微小突起を
形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄
与する。しかし粗粒子状カーボンブラックは、過酷な走
行系では、テープ摺動により、バックコート層からの脱
落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を
有している。

【００５４】微粒子状カーボンブラックの具体的な商品
としては、以下のものを挙げることができる。ＲＡＶＥ
Ｎ２０００Ｂ（１８ｎｍ(ｍμ)）、ＲＡＶＥＮ１５００
Ｂ（１７ｎｍ(ｍμ)）(以上、コロンビアカーボン社
製)、ＢＰ８００（１７ｎｍ(ｍμ)）（キャボット社
製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ(ｍμ)）、ＰＲ
ＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ(ｍμ)）、ＰＲＩＮＴＥＸ８
５（１６ｎｍ(ｍμ)）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ
(ｍμ)）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ
(ｍμ)）（三菱化成工業（株）製）。

【００５５】また粗粒子カーボンブラックの具体的な商
品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ(ｍ
μ)）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２
７５ｎｍ(ｍμ)）(コロンビアカーボン社製)を挙げるこ
とができる。

【００５６】バックコート層において、平均粒子サイズ
の異なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍ
(ｍμ)の微粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎ
ｍ(ｍμ)の粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量
比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあ
ることが好ましく、９５：５〜８５：１５の範囲である
ことがさらに好ましい。

【００５７】バックコート層中のカーボンブラック（二
種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量
は、結合剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量
部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲
である。

【００５８】＜無機粉末＞無機粉末は、硬さの異なる二
種類のものを併用することが好ましい。具体的には、モ
ース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９
の硬質無機粉末とを使用することが好ましい。モース硬
度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加することで、繰り
返し走行による摩擦係数の安定化を図ることができる。
しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られ
ることもない。またこの無機粉末の平均粒子サイズは、
３０〜５０ｎｍ（ｍμ）の範囲にあることが好ましい。
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例え
ば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び
酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あ
るいは二種以上を組み合わせて使用することができる。
これらの中では、特に、炭酸カルシウムが好ましい。バ
ックコート層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボンブ
ラック１００質量部に対して１０〜１４０質量部の範囲
にあることが好ましく、３５〜１００質量部であること
がさらに好ましい。

【００５９】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バックコート層の強度が強化され、走
行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラ
ックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺
動に対しても劣化が少なく、強いバックコート層とな
る。またこの無機粉末の添加により、適度の研磨力が付
与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減
する。特に軟質無機粉末（中でも、炭酸カルシウム）と
併用すると、表面の粗いガイドポールに対しての摺動特
性が向上し、バックコート層の摩擦係数の安定化も図る
ことができる。硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが
８０〜２５０ｎｍ（ｍμ）であることが好ましく、１０
０〜２１０ｎｍ（ｍμ）であることがさらに好ましい。

【００６０】モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末とし
ては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化ク
ロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）を挙げることができる。これらの粉末
は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用して
も良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナ
が好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラッ
ク１００質量部に対して通常３〜３０質量部であり、好
ましくは、３〜２０質量部である。

【００６１】バックコート層に前記軟質無機粉末と硬質
無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉
末との硬さの差が２以上（さらに好ましくは２．５以
上、特に３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機
粉末とを選択して使用することが好ましい。

【００６２】バックコート層には、前記それぞれ特定の
平均粒子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無
機粉末と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボ
ンブラックとが含有されていることが好ましい。特に、
この組み合せにおいて、軟質無機粉末として炭酸カルシ
ウムが含有されていることが好ましい。

【００６３】バックコート層には、潤滑剤を含有させる
ことができる。潤滑剤は、前述した下層あるいは磁性層
に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選
択して使用できる。バックコート層において、潤滑剤
は、結合剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範
囲で添加される。

【００６４】［非磁性支持体］本発明に用いられる非磁
性支持体は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン
類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポ
リアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフ
ォン、ポリアラミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオ
キサゾールなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエ
チレンナフタレート、ポリアミドなどの高強度支持体を
用いることが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベー
ス面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７号
公報に示されるような積層タイプの支持体を用いること
もできる。これらの非磁性支持体には、あらかじめコロ
ナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵
処理などを行ってもよい。また本発明の非磁性支持体と
してアルミ又はガラス基板を適用することも可能であ
る。

【００６５】本発明の目的を達成するには、非磁性支持
体としてＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で
測定した中心面平均表面粗さはＳＲａは８．０ｎｍ以
下、好ましくは４．０ｎｍ以下、さらに好ましくは２．
０ｎｍ以下のものを使用する必要がある。これらの非磁
性支持体は、単に中心面平均表面粗さが小さいだけでは
なく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好まし
い。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加さ
れるフィラーの大きさと量により自由にコントロールさ
れるものである。これらのフィラーとしては一例として
はＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリ
ル系などの有機微粉末が挙げられる。支持体の最大高さ
ＳＲ_maxは１μｍ以下、十点平均粗さＳＲzは０．５μｍ
以下、中心面山高さはＳＲpは０．５μｍ以下、中心面
谷深さＳＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳrは
１０％以上、９０％以下、平均波長Ｓλaは５μｍ以
上、３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と
耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィ
ラーにより任意にコントロールできるものであり、０．
０１〜１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ²あたり
０〜２０００個の範囲でコントロールすることができ
る。

【００６６】本発明に用いられる非磁性支持体のＦ−５
値は好ましくは４９〜４９０ＭＰａ（５〜５０ｋｇ／ｍ
ｍ２、また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好
ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８
０℃３０分での熱収縮率は好ましくは０．５％以下、さ
らに好ましくは０．１％以下である。破断強度は４９〜
９８０ＭＰａ（５〜１００ｋｇ／ｍｍ²）、弾性率は
０．９８〜１９．６ＧＰａ（１００〜２０００ｋｇ／ｍ
ｍ²）、が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１０^-8／
℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度
膨張係数は１０^-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０
^-5／ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機
械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差
でほぼで等しいことが好ましい。

【００６７】［層構成］本発明で用いられる磁気記録媒
体の厚み構成は、非磁性支持体が２〜１００μｍであ
り、好ましくは２〜８０μｍである。コンピュータテー
プの非磁性支持体は、３．０〜６．５μｍ（好ましく
は、３．０〜６．０μｍ、さらに好ましくは、４．０〜
５．５μｍ）の範囲の厚さのものが使用される。

【００６８】本発明で用いられる磁気記録媒体は、非磁
性支持体と下層又は磁性層の間に密着性向上のための下
塗り層を設けてもかまわない。下塗り層の厚みは０．０
１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍであ
る。本発明で用いられる磁気記録媒体は、非磁性支持体
の両面に非磁性層及び磁性層を有する両面磁性層ディス
ク状媒体であっても、片面のみに設けてもかまわない。
この場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すため
に下層、磁性層側と反対側にバックコート層を設けても
かまわない。この厚みは０．１〜４μｍ、好ましくは
０．３〜２．０μｍである。これらの下塗り層、バック
コート層は公知のものが使用できる。

【００６９】磁性層の厚みは、高密度記録の磁気記録方
式や磁気ヘッドから要求される性能に整合するように
０．０１〜０．３μｍの薄層に選択されるが、好ましく
は０．０３〜０．２μｍ、さらに好ましくは０．０５〜
０．１５μｍである。磁性層の厚み変動率は±２０％以
内が好ましく、さらに好ましくは±５％以内である。磁
性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもか
まわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。

【００７０】下層の厚みは、０．２〜５．０μｍ、好ま
しくは０．３〜３．０μｍ、さらに好ましくは１．０〜
２．５μｍである。なお、本発明の下層は、実質的に非
磁性であればその効果を発揮するものであり、たとえば
不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んで
も、本発明の効果を示すものであり、本発明と実質的に
同一の構成と見なすことができることは言うまでもな
い。実質的に非磁性とは、具体的には下層の残留磁束密
度が５０Ｔ・ｍ（５００Ｇ）以下、又は抗磁力Ｈｃが３
９．８ｋＡ／ｍ（５００ Ｏｅ）以下であることを示
し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力をもたないことを
示す。

【００７１】［製法］本発明で用いられる磁気記録媒体
の磁性層用塗料を製造する工程は、少なくとも混練工
程、分散工程、及びこれらの工程の前後に必要に応じて
設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階
以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる
六方晶フェライト強磁性粉体、非磁性粉体、結合剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初又は途中で添加しても
かまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割
して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混
練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程
で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するた
めには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用い
ることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニ
ーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をも
つものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合
は磁性体又は非磁性粉体と結合剤のすべて又はその一部
（但し、全結合剤の３０％以上が好ましい）及び磁性体
１００質量部に対し１５〜５００質量部の範囲で混練処
理される。これらの混練処理の詳細については特開平１
−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に
記載されている。また、磁性層用液及び下層用液を分散
させるには、ガラスビーズを用ることができる。このよ
うなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジル
コニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適
である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化し
て用いられる。分散機は公知のものを使用することがで
きる。

【００７２】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。 （１）磁性層用塗料の塗布で一般的に用いられるグラビ
ア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョ
ン塗布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェッ
ト状態のうちに特公平１−４６１８６号公報や特開昭６
０−２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公
報に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗
布装置により磁性層を塗布する方法。 （２）特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７
９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示さ
れているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つ
の塗布ヘッドにより磁性層及び下層をほぼ同時に塗布す
る方法。 （３）特開平２−１７４９６５号公報に開示されている
バックアップロール付きエクストルージョン塗布装置に
より磁性層及び下層をほぼ同時に塗布する方法。

【００７３】なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−
９５１７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に開
示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液
にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の
粘度については、特開平３−８４７１号公報に開示され
ている数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を
実現するには、下層を塗布し乾燥させたのち、その上に
磁性層を設ける逐次重層塗布を用いてもむろんかまわ
ず、本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗
布欠陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上さ
せるためには、前述の同時重層塗布を用いることが好ま
しい。

【００７４】ディスク状磁気記録媒体の場合、配向装置
を用いずに無配向であっても充分に等方的な配向性が得
られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置
すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知の
ランダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配
向とは強磁性金属微粉末の場合、一般的には面内２次元
ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて３次元ラン
ダムとすることもできる。六方晶フェライトの場合は一
般的に面内及び垂直方向の３次元ランダムになりやすい
が、面内２次元ランダムとすることも可能である。また
異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とするこ
とで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもでき
る。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。
またスピンコートを用い、演習配向しても良い。

【００７５】テープ状磁気記録媒体の場合は、コバルト
磁石やソレノイドを用いて長手方向に配向する。乾燥風
の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位
置を制御できる様にすることが好ましく、塗布速度は２
０〜１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ま
しい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行う
こともできる。

【００７６】カレンダ処理ロールとして、エポキシ、ポ
リイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性の
あるプラスチックロール又は金属ロールで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロールどうしで処理す
ることが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上
であり、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力
は、好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ以上、さらに好ましく
は３００ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００７７】［物理特性］本発明に用いられる磁気記録
媒体の磁性層の飽和磁束密度は１００〜３００Ｔ・ｍ
（１０００〜３０００Ｇ）である。また磁性層の抗磁力
（Ｈｃ）は、１４３．３〜３１８．４ｋＡ／ｍ（１８０
０〜４０００ Ｏｅ）であるが、好ましくは１５９．２
〜２７８．６ｋＡ／ｍ（２０００〜３５００ Ｏｅ）で
ある。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤ及びＳ
ＦＤｒは０．６以下、さらに好ましくは０．２以下であ
る。

【００７８】本発明で用いられる磁気記録媒体のヘッド
に対する摩擦係数は、温度−１０〜４０℃、湿度０〜９
５％の範囲において０．５以下であり、好ましくは０．
３以下である。また、表面固有抵抗は、好ましくは磁性
面１０⁴〜１０¹²Ω／ｓｑ、帯電位は−５００Ｖ〜＋５
００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性
率は、面内各方向で好ましくは０．９８〜１９．６ＧＰ
ａ（１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ²）、破断強度は、好
ましくは９８〜６８６ＭＰａ（１０〜７０ｋｇ／ｍ
ｍ²）、磁気記録媒体の弾性率は、面内各方向で好まし
くは０．９８〜１４．７ＧＰａ（１００〜１５００ｋｇ
／ｍｍ²）、残留のびは、好ましくは０．５％以下、１
００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、好ましくは
１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、最も好まし
くは０．１％以下である。

【００７９】磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測
定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０〜
１２０℃が好ましく、下層のそれは０〜１００℃が好ま
しい。損失弾性率は１×１０⁷〜８×１０⁸Ｐａ（１×１
０⁸〜８×１０⁹ｄｙｎｅ／ｃｍ²）の範囲にあることが
好ましく、損失正接は０．２以下であることが好まし
い。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。
これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％
以内でほぼ等しいことが好ましい。

【００８０】磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは
１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²
以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性下層、磁性
層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２
０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには
小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保し
た方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視さ
れるディスク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は
好ましいことが多い。

【００８１】磁性層のＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法で
測定した中心面表面粗さＲａは、４．０ｎｍ以下であ
り、好ましくは３．０ｎｍ以下であり、さらに好ましく
は２．０ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＳＲ
_maxは、０．５μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．３
μｍ以下、中心面山高さＳＲｐは０．３μｍ以下、中心
面谷深さＳＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒ
は２０〜８０％、平均波長Ｓλａは５〜３００μｍが好
ましい。磁性層の表面突起は０．０１〜１μｍの大きさ
のものを０〜２０００個の範囲で任意に設定することが
可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適
化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによ
る表面性のコントロールや磁性層に添加する粉体の粒径
と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコン
トロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とす
ることが好ましい。

【００８２】本発明の磁気記録媒体における下層と磁性
層と間では、目的に応じ下層と磁性層でこれらの物理特
性を変えることができるのは容易に推定されることであ
る。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上
させると同時に下層の弾性率を磁性層より低くして磁気
記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。

【００８３】

【実施例】以下に本発明を実施例によりさらに具体的に
説明する。なお、ここに示す成分、割合、操作、順序等
は本発明の精神から逸脱しない範囲において変更し得る
もので有ることは、本業界に携わるものにとっては容易
に理解されることである。したがって本発明は下記の実
施例に制限されるべきものではない。また、実施例中の
「部」特に示さない限り質量部を示す。

【００８４】 （実施例１〜１７及び比較例１〜９）磁性層用塗料 バリウムフェライト磁性粉 １００部 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ 9.10、Ｃｏ 0.20、Ｚｎ 0.77 抗磁力Ｈｃ：１８３ｋＡ／ｍ（２３００ Ｏｅ） 比表面積：５５ｍ²／ｇ 飽和磁化σs：５８Ａ・ｍ²／ｋｇ（５８ｅｍｕ／ｇ） 板径：２５ｎｍ 板厚：８ｎｍ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ４部 α−アルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） ８部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 １部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部

【００８５】下層用塗料 非磁性粉体 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ヘマタイト ８０部 長軸長 ０．０８μm ＢＥＴ法による比表面積 ６０ｍ²／ｇ ｐＨ ９ 表面処理剤Ａｌ₂Ｏ₃ ８質量％ カーボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） １５部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（塩化ビニル共重合体） １４部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ４部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート ８部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部

【００８６】製法１（ディスク：Ｗ／Ｄ） 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニーダで混練
したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた分
散液にポリイソシアネートを下層用塗布液に１０部、磁
性層用塗布液に１０部を加え、さらにそれぞれにシクロ
ヘキサノン４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフ
ィルターを用いて濾過し、下層形成用及び磁性層形成用
塗布液をそれぞれ調製した。得られた下層用塗布液を、
乾燥後の厚さが１．５μｍになるように、厚さ６２μｍ
で中心面平均表面粗さが１．８ｎｍのポリエチレンナフ
タレート支持体上に塗布し一度乾燥させ、カレンダ処理
を行った後、さらにその上に磁性層の厚さが０．８μｍ
になるようにブレード方式により磁性層を塗布、周波数
５０Ｈｚ、磁場強度２５Ｔ・ｍ（２５０Ｇ）また周波数
５０Ｈｚ、１２Ｔ・ｍ（１２０Ｇ）の２つの磁場強度交
流磁場発生装置の中を通過されランダム配向処理を行
い、乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００
ｋｇ／ｃｍにて処理を行い、３．７吋に打ち抜き表面研
磨処理施した。なおバリウムフェライト磁性体を用いる
場合は、上記配向方法以外に垂直配向を施すことが可能
である。また、必要に応じ、ディスク形状に打ち抜いた
後、高温でのサーモ処理（通常５０℃〜９０℃）を行っ
て塗布層の硬化処理を促進させたり、研磨テープでバー
ニッシュ処理を行って表面の突起を削るなどの後処理を
行ったりしてもよい。また非磁性層のカレンダ処理を行
わない方法をとることもできる。

【００８７】製法２（ディスク：スピンコート） 下層及び磁性層用塗料のそれぞれについて、各成分をニ
ーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。
得られた分散液にポリイソシアネートを下層用塗布液に
１０部、磁性層用塗布液に１０部を加え、さらにそれぞ
れにシクロヘキサノン４０部を加え、１μｍの平均孔径
を有するフィルターを用いて濾過し、下層形成用及び磁
性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。得られた下層
用塗布液を、乾燥後の厚さが１．５μｍになるように、
厚さ６２μｍで中心面平均表面粗さが１．８ｎｍのポリ
エチレンナフタレート支持体上にスピンコート塗布し一
度乾燥させたのち、さらにその上に磁性層の厚さが０．
０８μｍになるようにスピンコートにより磁性層を塗
布、６００Ｔ・ｍ（６０００Ｇ）の同極対抗Ｃｏ磁石に
より円周方向に配向処理を行った。これを製法１と同様
な圧力が得られるバッチ方式の圧延処理を行うことで表
面を平滑化した。これ以降については製法１と同様に行
った。また、下層をスピンコート塗布し非磁性層が未乾
燥のうちにその上に磁性層をスピンコートする塗布する
方式を用いることもできる。スピンコート方式を用いる
ことで、記録方向の残留磁化量が大きくなるばかりでな
く、バリウムフェライトの垂直磁化成分を低減させ再生
波形の対称性を良好にすることができる。

【００８８】上記の磁性層用塗料と下層用塗料より製法
１を用いてフレキシブルディスクを作成し、これをサン
プルＡ１（実施例１）とした。バリウムフェライト磁性
体の板厚と板径を変えた以外はＡ１と同様にして得られ
たサンプルをＡ２（実施例２）、Ａ３（実施例３）、Ａ
４（実施例４）、Ａ５（実施例５）、Ｂ１（比較例
１）、Ｂ２（比較例２）、Ｂ３（比較例３）とした。次
に磁気特性（抗磁力Ｈｃ及び角形比ＳＱ）を振動試料型
磁束計（東英工業社製）を用いてＨｍ７９６ｋＡ／ｍ
（１０ｋＯｅ）で測定した。バリウムフェライト磁性体
の抗磁力（Ｈｃ）を１１９．４ｋＡ／ｍ（１５００ Ｏ
ｅ）、１４３．２ｋＡ／ｍ（１８００ Ｏｅ）、１６
０．８ｋＡ／ｍ（２０２０ Ｏｅ）、２４２．８ｋＡ
（３０５０ Ｏｅ）、２７８．６ｋＡ／ｍ（３５００ Ｏ
ｅ）、３０２．５ｋＡ／ｍ（３８００ Ｏｅ）、３５
８．２ｋＡ／ｍ（４５００ Ｏｅ）と変えた以外、Ａ１
と同様にして得られたサンプルをそれぞれＢ４（比較例
４）、Ａ６（実施例６）、Ａ７（実施例７）、Ａ８（実
施例８）、Ａ９（実施例９）、Ａ１０（実施例１０）、
Ｂ５（比較例５）とした。製法２を用いた以外はＡ１
（実施例１）と同様にいて得られたサンプルをＡ１１
（実施例１１）とした。またＡ１１の対向磁石の磁場を
８００Ｔ・ｍ（８０００Ｇ）としたサンプルをＡ１２
（実施例１２）とした。ヘッドを取り付けたスピンスタ
ンドに上記の各ディスクサンプルをセットし、測定する
半径位置において媒体とヘッドの相対速度が４ｍ／ｓに
なるように回転速度を調整する。

【００８９】次に１０ＭＨｚの矩形波信号をインダクテ
ィブヘッドでディスク上に記録し、ＡＭＲヘッドで再生
し信号の出力を測定、さらに０〜２０ＭＨｚの範囲のノ
イズを積分し、その比をＳＮとした。次に、サンプルＡ
１について、矩形波信号の周波数を５ＭＨｚ（比較例
６）、２０ＭＨｚ（実施例１３）、５０ＭＨｚ（実施例
１４）、８０ＭＨｚ（実施例１５）とし、矩形波信号の
間隔が１０ＭＨｚと同じになるように回転速度を変え
て、以下同様にしてＳＮを測定した。サンプルＢ１につ
いては矩形波信号の周波数を５ＭＨｚとし、矩形波信号
の間隔が１０ＭＨｚと同じになるように回転速度を変え
て、以下同様にしてＳＮを測定した（比較例７）。次に
サンプルＡ１について、再生ヘッドを記録に用いたイン
ダクティブヘッド（比較例８）、ＧＭＲヘッド（実施例
１６）とＴＭＲヘッド（実施例１７）として、サンプル
Ｂ１については再生ヘッドを記録に用いたインダクティ
ブヘッド（比較例９）で、同様に１０ＭＨｚの矩形波信
号のＳＮを測定した。これらの結果を表１に示した。

【００９０】 （実施例１８〜３４及び比較例１０〜１８）バックコート層用塗料 微粒子状カーボンブラック粉末 １００部 （キャボット社製 ＢＰ−８００、平均粒子サイズ：１７ｎｍ(ｍμ)） 粗粒子状カーボンブラック粉末 １０部 （カーンカルブ社製 サーマルブラック、 平均粒子サイズ：２７０ｎｍ(ｍμ)） 炭酸カルシウム（軟質無機粉末） ８０部 （白石工業（株）製 白艶華Ｏ、平均粒子サイズ：４０ｎｍ(ｍμ)、 モース硬度：３） α−アルミナ（硬質無機粉末） ５部 （平均粒子サイズ：２００ｎｍ(ｍμ)、モース硬度：９） ニトロセルロース樹脂 １４０部 ポリウレタン樹脂 １５部 ポリイソシアネート ４０部 ポリエステル樹脂 ５部 分散剤：オレイン酸銅 ５部 銅フタロシアニン ５部 硫酸バリウム ５部 メチルエチルケトン ２２００部 酢酸ブチル ３００部 トルエン ６００部

【００９１】上記バックコート層を形成する各成分を連
続ニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させ
た。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィル
ターを用いて濾過し、バックコート層形成用塗布液を調
製した。

【００９２】製法３（コンピュータテープ：Ｗ／Ｗ） 実施例１〜１７で用いた塗料と同じ塗料について、各成
分をニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散さ
せた。得られた分散液にポリイソシアネートを下層用塗
布液には２．５部、磁性層用塗布液には３部を加え、さ
らにそれぞれにシクロヘキサノン４０部を加え、１μｍ
の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層形
成用及び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。得
られた下層用塗布液を、乾燥後の厚さが１．７μｍにな
るようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．
０８μｍになるように、厚さ４．４μｍで中心面平均表
面粗さが２ｎｍのアラミド支持体（商品名：ミクトロ
ン）上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあ
るうちに４００Ｔ・ｍ（４０００Ｇ）の磁力を持つコバ
ルト磁石と４００Ｔ・ｍ（４０００Ｇ）の磁力を持つソ
レノイドにより配向させた。乾燥後、金属ロールのみか
ら構成される７段のカレンダーで温度８５℃にて分速２
００ｍ／ｍｉｎで処理を行い、その後、乾燥後の厚みが
０．５μｍとなるように上記バックコート層を塗布し
た。３．８ｍｍの幅にスリットし、スリット品の送り出
し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレ
ードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリ
ーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行った。

【００９３】実施例１の磁性層用塗料と下層用塗料より
製法３を用いてテープ状磁気記録媒体を作成した。これ
をサンプルＡ１３（実施例１８）とした。バリウムフェ
ライト磁性体の板厚と板径を変えた以外はＡ１３と同様
にして得られたサンプルをＡ１４（実施例１９）、Ａ１
５（実施例２０）、Ａ１６（実施例２１）、Ａ１７（実
施例２２）、Ｂ６（比較例１０）、Ｂ７（比較例１
１）、Ｂ８（比較例１２）とした。次に磁気特性（磁性
層の抗磁力Ｈｃ及び角形比ＳＱ）を振動試料型磁束計
（東英工業社製）を用いてＨｍ７９６ｋＡ／ｍ（１０ｋ
Ｏｅ）で測定した。バリウムフェライト磁性体の抗磁力
（Ｈｃ）を１１９．４ｋＡ／ｍ（１５００ Ｏｅ）、１
４３．３ｋＡ／ｍ（１８００ Ｏｅ）、１６０．８ｋＡ
／ｍ（２０２０Ｏｅ）、２４２．８ｋＡ（３０５０ Ｏ
ｅ）、２７８．６ｋＡ／ｍ（３５００ Ｏｅ）、３０
２．５ｋＡ／ｍ（３８００ Ｏｅ）、３５８．２ｋＡ／
ｍ（４５００Ｏｅ）と変えた以外は、Ａ１３と同様にし
て得られたサンプルをそれぞれＢ９（比較例１３）、Ａ
１８（実施例２３）、Ａ１９（実施例２４）、Ａ２０
（実施例２５）、Ａ２１（実施例２６）、Ａ２２（実施
例２７）、Ｂ１０（比較例１４）とした。６００Ｔ・ｍ
（６０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と６００Ｔ・
ｍ（６０００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向さ
せた以外はＡ１３と同様にして得られたサンプルをＡ２
３（実施例２８）、８００Ｔ・ｍ（８０００Ｇ）の磁力
を持つコバルト磁石と８００Ｔ・ｍ（８０００Ｇ）の磁
力を持つソレノイドにより配向させた以外はＡ１３と同
様にして得られたサンプルをＡ２４（実施例２９）とし
た。また、４００Ｔ・ｍ（４０００Ｇ）の磁力を持つコ
バルト磁石で配向させた以外はＡ１３と同様にして得ら
れたサンプルをＡ２５（実施例３０）とし、４００Ｔ・
ｍ（４０００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向さ
せた以外はＡ１３と同様にして得られたサンプルをＡ２
６（実施例３１）とした。

【００９４】ヘッドを取り付けたドラムテスターに上記
の各ディスクサンプルをセットし、媒体とヘッドの相対
速度が４ｍ／ｓになるように回転速度を調整した。次に
１０ＭＨｚの矩形波信号をインダクティブヘッドでディ
スク上に記録し、回転型のＡＭＲヘッドで再生し信号の
出力を測定し、さらに０〜２０ＭＨｚの範囲のノイズを
積分し、その比をＳＮとした。次に、サンプルＡ１３に
ついて、矩形波信号の最大記録周波数を５ＭＨｚ（比較
例１５）、２０ＭＨｚ（実施例３２）、５０ＭＨｚ（実
施例３３）、８０ＭＨｚ（実施例３４）とし、矩形波信
号の間隔が１０ＭＨｚと同じになるように回転速度を変
えて、以下同様にしてＳＮを測定した。サンプルＢ６に
ついては矩形波信号の最大周波数を５ＭＨｚ（比較例１
６）とし、矩形波信号の間隔が１０ＭＨｚと同じになる
ように回転速度を変えて、以下同様にしてＳＮを測定し
た。次にサンプルＡ１３、Ｂ６について、再生ヘッドを
記録に用いたインダクティブヘッドにして同様に１０Ｍ
Ｈｚの矩形波信号のＳＮを測定した（比較例１７，１
８）。これらの結果を表２に示した。

【００９５】

【表１】

【００９６】

【表２】

【００９７】表１より、ディスク状磁気記録媒体におい
て実施例１〜５（サンプルＡ１〜５）と比較例１〜３
（サンプルＢ１〜３）を比較すると、本発明の範囲内の
平均板径及び板厚を有するバリウムフェライト強磁性体
が特に優れたＳＮ比を示すことが分かる。また、実施例
１、実施例６〜１０（サンプルＡ１、Ａ６〜１０）と比
較例４及び５（サンプルＢ４及びＢ５）を比較すると、
本発明の範囲内の抗磁力Ｈｃを有する磁性層が特に優れ
たＳＮ比を示すことが分かる。また、比較例６と実施例
１、１３〜１５とを比較すると、磁性層における信号の
線記録密度を一定にし記録周波数を変更した場合には、
１０ＭＨｚ以上８０ＭＨｚ以下の最大記録周波数で特に
優れたＳＮ比を示すことが分かる。また２種類のサンプ
ル（Ａ１とＢ１）を用いてバリウムフェライトの平均板
径及び板厚と、磁性層の最大記録周波数との関係を比較
すると（実施例１、比較例１、６及び７）、バリウムフ
ェライトの平均板径及び板厚と、磁性層の最大記録周波
数のいずれもが本発明の範囲内である実施例１が最も優
れたＳＮ比を示すことが分かる。さらに、再生ヘッドの
相違については、実施例１、１６、１７及び比較例８よ
り、ＭＲヘッド（ＡＭＲヘッド、ＧＭＲヘッドＴＭＲヘ
ッド）を使用する方が、インダクティブヘッドを使用し
た場合よりも優れたＳＮ比が得られることが分かる。

【００９８】なお、バックコート層を有するコンピュー
タテープの場合（実施例１８〜３４及び比較例１０〜１
８）ついても、実施例１〜１７及び比較例１〜９と同様
の結果を得ることができた（表２参照）。

【００９９】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の磁気
記録再生方法であれば、高いデータ転送速度の条件下で
あっても、磁気記録媒体に高密度記録でき、ＭＲヘッド
で再生した場合に充分な記録再生特性を得ることができ
る。また、本発明の磁気記録媒体であれば、本発明の磁
気記録再生方法に用いるのに最適な磁気記録媒体を提供
することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野口 仁 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社小田原工場内 Ｆターム(参考） 5D006 BA06 BA08 BA19 5D091 AA01 AA08 CC05 DD03 GG01 HH20

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気記録媒体に磁気記録された信号を磁
   気抵抗ヘッド（ＭＲヘッド）により再生する磁気記録再
   生方法であって、 前記磁気記録媒体は、非磁性支持体の少なくとも一方の
   面に実質的に非磁性である下層と、六方晶フェライト強
   磁性粉末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有し、か
   つ、前記六方晶フェライト強磁性粉末の平均板径が１５
   〜４０ｎｍ、平均板厚が４〜１５ｎｍであり、 前記磁性層の抗磁力Ｈｃが１４３．３〜３１８．４ｋＡ
   ／ｍ（１８００〜４０００ Ｏｅ）である磁気記録媒体
   であり、 前記磁気記録された信号の最大記録周波数が１０〜８０
   ＭＨｚであることを特徴とする前記方法。
2. 【請求項２】 非磁性支持体の少なくとも一方の面に実
   質的に非磁性である下層と、六方晶フェライト強磁性粉
   末及び結合剤を含む磁性層とをこの順に有し、かつ、前
   記六方晶フェライト強磁性粉末の平均板径が１５〜４０
   ｎｍ、平均板厚が４〜１５ｎｍであり、 前記磁性層の抗磁力Ｈｃが１４３．３〜３１８．４ｋＡ
   ／ｍ（１８００〜４０００ Ｏｅ）である磁気録媒体媒
   体であって、 １０〜８０ＭＨｚの最大記録周波数を有する信号を磁気
   記録し、該磁気記録された信号を磁気抵抗ヘッド（ＭＲ
   ヘッド）により再生する磁気記録再生方法に用いること
   を特徴とする磁気記録媒体。