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JP2002331628A - Polyimide sheet molding and method for producing the same - Google Patents

Polyimide sheet molding and method for producing the same

Info

Publication number
JP2002331628A
JP2002331628A JP2001141524A JP2001141524A JP2002331628A JP 2002331628 A JP2002331628 A JP 2002331628A JP 2001141524 A JP2001141524 A JP 2001141524A JP 2001141524 A JP2001141524 A JP 2001141524A JP 2002331628 A JP2002331628 A JP 2002331628A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polyimide
thermocompression
film
polyimide sheet
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001141524A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomohiko Yamamoto
智彦 山本
Takuji Takahashi
卓二 高橋
Katsuzo Kato
勝三 加藤
Toshihiko Abu
俊彦 阿武
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP2001141524A priority Critical patent/JP2002331628A/en
Publication of JP2002331628A publication Critical patent/JP2002331628A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】ポリイミドシ−トの厚みが大きく耐熱性に優れ
かつ成型可能なTAB用スペ−サ−フィルムとして好適
なポリイミドシ−ト成形体およびその製造方法を提供す
る。 【解決手段】3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物またはその誘導体と4,4’−ジアミ
ノジフェニルエ−テルとを必須成分として得られるポリ
イミドフィルムの複数枚を耐熱性ポリイミド層の両面に
熱圧着性ポリイミド層を有する熱圧着性熱圧着性多層ポ
リイミドフィルムで積層され、厚みが150μm以上の
ポリイミドシ−トの両端部が加工されてなるポリイミド
シ−ト成形体。
(57) Abstract: Provided is a polyimide sheet molded article having a large thickness and excellent heat resistance and suitable as a moldable TAB spacer film, and a method for producing the same. A polyimide film obtained by using 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and 4,4'-diaminodiphenyl ether as essential components is heat-resistant. A polyimide sheet molded article obtained by laminating a thermocompression-bonding thermocompression-bonding multilayer polyimide film having a thermocompression-bonding polyimide layer on both sides of a polyimide layer and processing both ends of a polyimide sheet having a thickness of 150 μm or more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、耐熱性に優れたポリ
イミドシ−ト成形体およびその製造方法に関するもので
あり、更に詳しくはポリイミドシ−トが実用レベルの接
着力を有し、耐熱性に優れた高剛性のTAB用スペ−サ
−フィルムとして好適なポリイミドシ−ト成形体および
その製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyimide sheet molded article having excellent heat resistance and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a polyimide sheet having a practical level of adhesive strength and heat resistance. The present invention relates to a polyimide sheet molded article suitable as a highly rigid spacer film for TAB and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、TAB用フィルムキャリアテ−プ
の製造工程におけるスペ−サ−フィルムは、樹脂コ−ト
面の傷つき防止、パタ−ン加工後のピン変形の防止など
製品の保護のため使用されている。このスペ−サ−フィ
ルムは、フィルムキャリアテ−プと同じ幅(35mm、
48mm、70mm)で両端部がフィルムキャリアテ−
プのスプロケットホ−ルに合致するようにエンボス加工
がされている。スペ−サ−フィルム材料は主として、ポ
リエステルフィルム、ポリ−p−フェニレンスルフィド
フィルムおよびポリイミドフィルムなどからなり、目的
によって使い分けられている。製品の搬送、移送には、
通常180μmのポリエステルフィルムが使用されてい
る。ポリイミドフィルムは半田レジストやメッキレジス
ト、電気絶縁保護膜の塗布工程および加熱キュア工程な
ど器材が120℃乃至180℃の高温度になる時に使用
される。
2. Description of the Related Art Conventionally, a spacer film in a process of manufacturing a TAB film carrier tape is used for protecting a product such as preventing a resin coat surface from being damaged and preventing pin deformation after pattern processing. It is used. This spacer film has the same width as a film carrier tape (35 mm,
48mm, 70mm) and film carrier tape at both ends
Embossed to match the sprocket hole of the wheel. The spacer film material is mainly composed of a polyester film, a poly-p-phenylene sulfide film, a polyimide film, and the like, and is properly used depending on the purpose. For product transportation and transfer,
Usually, a polyester film of 180 μm is used. The polyimide film is used when the temperature of the equipment reaches a high temperature of 120 ° C. to 180 ° C., such as a step of applying a solder resist, a plating resist, and an electric insulating protective film, and a step of heating and curing.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】これに対して、ポリイ
ミドフィルムは、ポリエステルフィルムより薄い厚さ1
25μmのものが使用されているため「腰」が弱く中央
部が凹部型に変形し、樹脂コ−ト面を傷をつけたり、パ
タ−ン加工したピンに接触しピンピッチ不揃いやピン変
形の問題が発生している。またフィルムが薄いため繰り
返し使用した場合すぐに変形し耐久性に欠ける問題もあ
る。このため、電子機器の高密度化が進む中で、最近は
広幅の70mmでデバイスホ−ルの大きいファインパタ
−ンのものが要求されており、ポリイミドフィルムで成
型可能な厚いスペ−サ−フィルムが提案されている。
On the other hand, a polyimide film has a thickness 1 thinner than a polyester film.
Since the 25-μm type is used, the waist is weak and the central part is deformed into a concave shape, causing damage to the resin coat surface, contact with the patterned pins, irregularities in the pin pitch and the problem of pin deformation. It has occurred. In addition, since the film is thin, the film is easily deformed when used repeatedly and lacks durability. For this reason, as the densification of electronic equipment is progressing, recently, a fine pattern having a wide width of 70 mm and a large device hole is required, and a thick spacer film which can be molded with a polyimide film is required. Proposed.

【0004】しかしながら、ポリイミドフィルムは、厚
いものを製造するのが極めて困難であり、現在、厚さ1
25μmまでのものしか上市されていないのが実状であ
る。このため、ポリイミドフィルムをエポキシ樹脂接着
剤で積層したポリイミドテ−プによって厚みを大きくす
ることが検討されているが、現在、実用できるようなも
のはまだ上市されていない。その理由は、エンボス加工
が可能でしかも剛性が大きくて接着強度が大きいポリイ
ミドテ−プが見出されていないことと、この点を改善し
てもエポキシ樹脂接着剤の耐熱性に問題があるためであ
る。
[0004] However, it is extremely difficult to produce a thick polyimide film.
In fact, only those with a size of up to 25 μm are on the market. For this reason, it has been studied to increase the thickness by using a polyimide tape obtained by laminating a polyimide film with an epoxy resin adhesive, but a practically usable one has not yet been put on the market. The reason is that there is no polyimide tape which can be embossed and has high rigidity and high adhesive strength, and even if this point is improved, there is a problem in the heat resistance of the epoxy resin adhesive. It is.

【0005】この発明の目的は、従来技術の有する問題
点を解決するためのものであって、その目的とするとこ
ろは、ポリイミドシ−トの厚みが大きく耐熱性に優れか
つ成型可能なオ−ルポリイミドのTAB用スペ−サ−フ
ィルムとして好適なポリイミドシ−ト成形体およびその
製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to solve the problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a polyimide sheet having a large thickness, excellent heat resistance, and a moldable mold. It is an object of the present invention to provide a polyimide sheet molded article suitable as a spacer film for TAB of polyimide and a method for producing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明は、3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物または
その誘導体と4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルと
を必須成分として得られるポリイミドフィルムの複数枚
を、耐熱性ポリイミド層の両面に熱圧着性ポリイミド層
を有する熱圧着性多層ポリイミドフィルムで積層され、
厚みが150μm以上のポリイミドシ−トの両端部が加
工されてなるポリイミドシ−ト成形体に関する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is directed to a 3, 3 ',
A plurality of polyimide films obtained by using 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and 4,4'-diaminodiphenyl ether as essential components are heat-bonded to both surfaces of a heat-resistant polyimide layer. Laminated with a thermocompression-bondable multilayer polyimide film having a polyimide layer,
The present invention relates to a polyimide sheet molded body obtained by processing both ends of a polyimide sheet having a thickness of 150 μm or more.

【0007】また、この発明は、3,3’,4,4’−
ビフェニルテトラカルボン酸二無水物またはその誘導体
と4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルとを必須成分
として得られるポリイミドフィルムの複数枚を、耐熱性
ポリイミド層の両面に熱圧着性ポリイミド層を有する熱
圧着性多層ポリイミドフィルムで積層して得られる、厚
みが150μm以上のポリイミドシ−トの両端部を加熱
加工するポリイミドシ−ト成形体の製造方法に関する。
[0007] Further, the present invention relates to 3,3 ', 4,4'-
A plurality of polyimide films obtained by using biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and 4,4′-diaminodiphenyl ether as essential components are prepared by heating a polyimide film having a thermocompression-bonding polyimide layer on both sides of a heat-resistant polyimide layer. The present invention relates to a method for producing a polyimide sheet molded body obtained by laminating a polyimide sheet having a thickness of 150 μm or more, which is obtained by laminating with a pressure-bondable multilayer polyimide film.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下にこの発明の好ましい態様を
列記する。 1)ポリイミドシ−トが300Kgf/mm以上の引
張弾性率を有する前記のポリイミドシ−ト成形体。 2)ポリイミドシ−トについての引張弾性率×厚みの計
算値が40Kgf/mm以上、好ましくは70Kgf/
mm以上である前記のポリイミドシ−ト成形体。 3)加工がエンボス加工である上記のポリイミドシ−ト
成形体。 4)TAB用スペ−サ−用である前記のポリイミドシ−
ト成形体。 5)ポリイミドフィルムが、コロナ放電処理あるいはプ
ラズマ放電処理などの表面処理法によって表面処理され
たものである前記のポリイミドシ−ト成形体の製造方
法。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be listed below. 1) The above-mentioned molded polyimide sheet having a tensile modulus of 300 kgf / mm 2 or more. 2) The calculated value of tensile modulus × thickness of the polyimide sheet is 40 kgf / mm or more, preferably 70 kgf / mm.
mm or more. 3) The above-mentioned polyimide sheet molded body whose processing is embossing. 4) The above polyimide series for a TAB spacer
Molded body. 5) The method for producing a polyimide sheet molded article, wherein the polyimide film has been subjected to a surface treatment such as a corona discharge treatment or a plasma discharge treatment.

【0009】この発明においては加工を加えるポリイミ
ドフィルムとして、3,3’,4,4’−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物またはその誘導体と4,4’−
ジアミノジフェニルエ−テルとを必須成分として得られ
るポリイミドフィルムを使用する。
In the present invention, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and 4,4'-
A polyimide film obtained by using diaminodiphenyl ether as an essential component is used.

【0010】この発明におけるポリイミドシ−トの構造
としては、例えば次の組み合わせを挙げることができ
る。この中でPIFはポリイミドフィルムを、PIF−
Aは熱圧着性多層ポリイミドフィルムを意味する。 1)PIF/PIF−A/PIF 2)PIF/PIF−A/PIF/PIF−A/PIF この発明においては、耐熱性が問題にならない場合に
は、これらの組み合わせに他の層、例えばエポキシ樹脂
接着剤層を付加したものであってもよい。
The structure of the polyimide sheet according to the present invention includes, for example, the following combinations. Among them, PIF is a polyimide film, PIF-
A means a thermocompression-bondable multilayer polyimide film. 1) PIF / PIF-A / PIF 2) PIF / PIF-A / PIF / PIF-A / PIF In the present invention, when heat resistance is not a problem, these layers may be combined with another layer, for example, epoxy resin. An adhesive layer may be added.

【0011】前記のポリイミドフィルムは、好適にはガ
ラス転移温度(Tg)が270〜330℃であり、エン
ボス加工による加熱加工の凹凸形状が維持される。ポリ
イミドフィルムは好適には厚みが75〜125μmであ
り、好適には幅広のポリイミドフィルム原反を切断して
幅を約35mm、約48mm、約70mmまたは約96
mmとし、フィルムキャリアテ−プと略同じ幅にする。
The above-mentioned polyimide film preferably has a glass transition temperature (Tg) of 270 to 330 ° C., and maintains the uneven shape of the heat processing by embossing. The polyimide film preferably has a thickness of 75 to 125 μm, and preferably has a width of about 35 mm, about 48 mm, about 70 mm, or about 96 mm by cutting a wide polyimide film raw material.
mm and the width is substantially the same as the film carrier tape.

【0012】前記のポリイミドフィルムは、好適には
3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物と4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルとから得
られる。3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物の一部をピロメリット酸二無水物あるいは
3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物で置き換えてもよい。ポリイミドフィルムとし
て、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物またはその誘導体とp−フェニレンジアミンと
から得られるポリイミドフィルムを使用すると、エンボ
ス加工が困難であり仮に加熱温度を高くしてエンボス加
工したとしてもその形状が長時間保持されずTAB用ス
ペ−サ−フィルムとして好ましくない。
The above-mentioned polyimide film is preferably obtained from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether. Part of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride may be replaced by pyromellitic dianhydride or 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride . When a polyimide film obtained from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and p-phenylenediamine is used as the polyimide film, embossing is difficult and the heating temperature is increased. Even if embossing is performed, the shape is not retained for a long time, which is not preferable as a spacer film for TAB.

【0013】前記のポリイミドフィルムは、例えば前記
の芳香族ジアミンおよび3,3’,4,4’−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物をN−メチル−2−ピロリ
ドン、N,N−ジメチルアセトアミドなどの有機溶媒中
で重合させて得られたポリアミック酸溶液に無機フィラ
−および有機リン化合物を加えた溶液組成物をド−プと
して使用し、ステンレス鏡面、ベルト面等の支持体面上
に流延塗布し、100〜200℃で乾燥し、得られた自
己支持性フィルムを300〜500℃の温度(表面温度
計で測定した表面温度)まで加熱して(好適にはこの温
度で1〜60分間加熱して)乾燥およびイミド化して、
ポリイミドフィルムを製造することができる。
The above-mentioned polyimide film can be prepared by, for example, converting the above-mentioned aromatic diamine and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride into N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide or the like. A solution composition in which an inorganic filler and an organic phosphorus compound are added to a polyamic acid solution obtained by polymerization in an organic solvent is used as a dope, and the solution composition is cast onto a support surface such as a mirror surface of a stainless steel or a belt surface. , Dried at 100-200 ° C, and the resulting self-supporting film is heated to a temperature of 300-500 ° C (surface temperature measured by a surface thermometer) (preferably heated at this temperature for 1-60 minutes). T) dried and imidized,
A polyimide film can be manufactured.

【0014】この発明においては、耐熱性ポリイミド層
の両面に熱圧着性ポリイミド層を有する熱圧着性多層ポ
リイミドフィルムを使用する。前記の熱圧着性多層ポリ
イミドフィルムとしては、熱圧着性とともに線膨張係数
(50〜200℃)(MD)が30×10-6cm/cm
/℃以下であるものが好ましく、引張弾性率(MD、A
STM−D882)が300kgf/mm2以上である
ものが好ましい。
In the present invention, a thermocompression-bondable multilayer polyimide film having a thermocompression-bondable polyimide layer on both sides of a heat-resistant polyimide layer is used. The thermocompression-bondable multilayer polyimide film has a thermal expansion property and a linear expansion coefficient (50 to 200 ° C.) (MD) of 30 × 10 −6 cm / cm.
/ ° C or lower is preferable, and the tensile modulus (MD, A
(STM-D882) is preferably 300 kgf / mm 2 or more.

【0015】前記の熱圧着性多層ポリイミドフィルム
は、好適には共押出し−流延製膜法(単に、多層押出法
ともいう。)によって耐熱性ポリイミドの前駆体溶液と
その両面の熱圧着性ポリイミド前駆体溶液とを積層し、
乾燥、イミド化して熱圧着性多層ポリイミドフィルムを
得る方法、あるいは前記の耐熱性ポリイミドの前駆体溶
液を支持体上に流延塗布し、乾燥したゲルフィルムの両
面に熱圧着性ポリイミド前駆体溶液を塗布し、乾燥、イ
ミド化して熱圧着性多層ポリイミドフィルムを得る方法
によって得ることができる。上記のいずれの方法におい
ても、熱圧着性ポリイミドの前駆体層を250〜420
℃の最高加熱温度で乾燥、イミド化することが好まし
い。特に、共押出し−流延法によって得られる自己支持
性フィルムを250〜420℃の最高加熱温度で乾燥、
イミド化したものが好ましい。
The above-mentioned thermocompression-bondable multilayer polyimide film is preferably prepared by a coextrusion-casting film forming method (also referred to simply as a multilayer extrusion method) and a heat-resistant polyimide precursor solution and thermocompression-bondable polyimide on both surfaces thereof. Laminating the precursor solution,
Drying, a method of obtaining a thermocompression-bondable multilayer polyimide film by imidization, or the precursor solution of the heat-resistant polyimide is applied by casting onto a support, and the thermocompression-bondable polyimide precursor solution is applied to both sides of the dried gel film. It can be obtained by a method of applying, drying and imidizing to obtain a thermocompression-bondable multilayer polyimide film. In any of the above methods, the precursor layer of the thermocompression-bondable polyimide is formed in a thickness of 250 to 420.
It is preferable to dry and imidize at the maximum heating temperature of ° C. In particular, the self-supporting film obtained by the coextrusion-casting method is dried at a maximum heating temperature of 250 to 420 ° C,
Those imidized are preferred.

【0016】前記の熱圧着性多層ポリイミドフィルムの
基体層としての耐熱性ポリイミドは、好適には3,
3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
(以下単にs−BPDAと略記することもある。)とパ
ラフェニレンジアミン(以下単にPPDと略記すること
もある。)と場合によりさらに4,4’−ジアミノジフ
ェニルエ−テル(以下単にDADEと略記することもあ
る。)とから製造される。
The heat-resistant polyimide as the base layer of the thermocompression-bondable multilayer polyimide film is preferably 3,
3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter may be simply abbreviated as s-BPDA) and paraphenylenediamine (hereinafter may be simply abbreviated as PPD), and optionally 4 more. , 4'-diaminodiphenyl ether (hereinafter sometimes abbreviated simply as DADE).

【0017】また、基体層としての耐熱性ポリイミド
は、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物とピロメリット酸二無水物とパラフェニレンジ
アミンと4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルとから
製造される。また、基体層としての耐熱性ポリイミド
は、ピロメリット酸二無水物とパラフェニレンジアミン
および4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルとから製
造される。この場合DADE/PPD(モル比)は90
/10〜10/90であることが好ましい。
The heat-resistant polyimide used as the base layer includes 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, pyromellitic dianhydride, paraphenylenediamine, and 4,4'-diaminodiphenyl. It is manufactured from ether. The heat-resistant polyimide as the base layer is produced from pyromellitic dianhydride, paraphenylenediamine and 4,4'-diaminodiphenyl ether. In this case, DADE / PPD (molar ratio) is 90
It is preferably / 10 to 10/90.

【0018】さらに、基体層としての耐熱性ポリイミド
は、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物(BTDA)およびピロメリット酸二無水
物(PMDA)とパラフェニレンジアミン(PPD)お
よび4,4’−ジアミノジフェニルエ−テル(DAD
E)とから製造される。この場合、酸二無水物中BTD
Aが20〜90モル%、PMDAが10〜80モル%、
ジアミン中PPDが30〜90モル%、DADEが10
〜70モル%であることが好ましい。
Further, the heat-resistant polyimide used as the base layer includes 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) and pyromellitic dianhydride (PMDA) and paraphenylenediamine (PPD). ) And 4,4'-diaminodiphenyl ether (DAD)
E). In this case, BTD in acid dianhydride
A is 20 to 90 mol%, PMDA is 10 to 80 mol%,
30 to 90 mol% of PPD and 10 of DADE in diamine
It is preferably about 70 mol%.

【0019】また、上記の基体層としての耐熱性ポリイ
ミドとしては、単独のポリイミドフィルムの場合にガラ
ス転移温度が300℃以上か確認不可能であるものが好
ましく、特に線膨張係数(50〜200℃)(MD)が
5×10-6〜20×10-6cm/cm/℃であるものが
好ましい。また、引張弾性率(MD、ASTM−D88
2)は300kgf/mm2以上であるものが好まし
い。この基体層ポリイミドの合成は、最終的に各成分の
割合が前記範囲内であればランダム重合、ブロック重
合、あるいはあらかじめ2種類のポリアミック酸を合成
しておき両ポリアミック酸溶液を混合後反応条件下で混
合して均一溶液とする、いずれの方法によっても達成さ
れる。
As the above-mentioned heat-resistant polyimide as the base layer, it is preferable that the glass transition temperature cannot be confirmed to be 300 ° C. or more when a single polyimide film is used. In particular, the linear expansion coefficient (50 to 200 ° C.) ) (MD) is preferably 5 × 10 −6 to 20 × 10 −6 cm / cm / ° C. In addition, the tensile modulus (MD, ASTM-D88
2) is preferably 300 kgf / mm 2 or more. In the synthesis of the substrate layer polyimide, if the proportion of each component is finally within the above range, random polymerization, block polymerization, or synthesis of two kinds of polyamic acids in advance, mixing of both polyamic acid solutions, and then reaction conditions To obtain a homogeneous solution.

【0020】この発明における熱圧着層としての熱圧着
性ポリイミドとしては、種々の公知の熱可塑性ポリイミ
ドから選択することができ、好適には1,3−ビス(4
−アミノフェノキシ)ベンゼン(以下、TPERと略記
することもある。)と2,3,3’,4’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物(以下、a−BPDAと略記
することもある。)および/または3,3’,4,4’
−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物とから製造され
る。また、前記の熱圧着層としての熱圧着性ポリイミド
として、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)−2,
2−ジメチルプロパン(DANPG)と4,4’−オキ
シジフタル酸二無水物(ODPA)およびa−BPDA
とから製造される。あるいは、4,4’−オキシジフタ
ル酸二無水物(ODPA)およびピロメリット酸二無水
物と1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼンと
から製造される。
The thermocompression-bondable polyimide as the thermocompression-bonding layer in the present invention can be selected from various known thermoplastic polyimides, and is preferably 1,3-bis (4
-Aminophenoxy) benzene (hereinafter sometimes abbreviated as TPER), 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter sometimes abbreviated as a-BPDA) and / Or 3, 3 ', 4, 4'
-Biphenyltetracarboxylic dianhydride. Further, as the thermocompression bonding polyimide as the thermocompression bonding layer, 1,3-bis (4-aminophenoxy) -2,
2-dimethylpropane (DANPG), 4,4'-oxydiphthalic dianhydride (ODPA) and a-BPDA
And manufactured from. Alternatively, it is produced from 4,4′-oxydiphthalic dianhydride (ODPA) and pyromellitic dianhydride and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene.

【0021】また、熱圧着性ポリイミドの物性を損なわ
ない範囲で他のジアミン、例えば4,4’−ジアミノジ
フェニルエ−テル、4,4’−ジアミノベンゾフェノ
ン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビ
ス(4−アミノフェニル)プロパン、1,4−ビス(4
−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−
アミノフェニル)ジフェニルエ−テル、4,4’−ビス
(4−アミノフェニル)ジフェニルメタン、4,4’−
ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルエ−テル、
4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェニルメ
タン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパンなどの複
数のベンゼン環を有する柔軟な芳香族ジアミン、1,4
−ジアミノブタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,8
−ジアミノオクタン、1,10−ジアミノデカン、1,
12−ジアミノドデカンなどの脂肪族ジアミン、ビス
(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンなど
のジアミノジシロキサンによって置き換えられてもよ
い。他の芳香族ジアミンの使用割合は全ジアミンに対し
て20モル%以下、特に10モル%以下であることが好
ましい。また、脂肪族ジアミンおよびジアミノジシロキ
サンの使用割合は全ジアミンに対して20モル%以下で
あることが好ましい。この割合を越すと熱圧着性ポリイ
ミドの耐熱性が低下する。前記の熱圧着性ポリイミドの
アミン末端を封止するためにジカルボン酸無水物、例え
ば、無水フタル酸およびその置換体、ヘキサヒドロ無水
フタル酸およびその置換体、無水コハク酸およびその置
換体など、特に、無水フタル酸を使用してもよい。
Other diamines such as 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 2,4 2-bis (4-aminophenyl) propane, 1,4-bis (4
-Aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-
Aminophenyl) diphenyl ether, 4,4′-bis (4-aminophenyl) diphenylmethane, 4,4′-
Bis (4-aminophenoxy) diphenyl ether,
4,4'-bis (4-aminophenoxy) diphenylmethane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoro Flexible aromatic diamines having multiple benzene rings such as propane, 1,4
-Diaminobutane, 1,6-diaminohexane, 1,8
-Diaminooctane, 1,10-diaminodecane, 1,
It may be replaced by an aliphatic diamine such as 12-diaminododecane, or a diaminodisiloxane such as bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane. The proportion of other aromatic diamines used is preferably at most 20 mol%, particularly at most 10 mol%, based on all diamines. The proportion of the aliphatic diamine and diaminodisiloxane used is preferably 20 mol% or less based on the total diamine. Exceeding this ratio lowers the heat resistance of the thermocompression bonding polyimide. In order to block the amine end of the thermocompression-bondable polyimide, dicarboxylic anhydrides, for example, phthalic anhydride and its substitution products, hexahydrophthalic anhydride and its substitution products, succinic anhydride and its substitution products, and the like, Phthalic anhydride may be used.

【0022】前記の熱圧着性ポリイミドを得る際に、前
記の有機溶媒中、ジアミン(アミノ基のモル数として)
の使用量が酸無水物の全モル数(テトラ酸二無水物とジ
カルボン酸無水物の酸無水物基としての総モルとして)
に対する比として、好ましくは0.92〜1.1、特に
0.98〜1.1、そのなかでも特に0.99〜1.1
であり、ジカルボン酸無水物の使用量がテトラカルボン
酸二無水物の酸無水物基モル量に対する比として、好ま
しくは0.05以下であるような割合の各成分を反応さ
せることができる。
When the thermocompression-bondable polyimide is obtained, a diamine (as the number of moles of amino group) is used in the organic solvent.
Is the total number of moles of the acid anhydride (as the total moles of the acid anhydride groups of the tetraacid dianhydride and the dicarboxylic anhydride)
Is preferably 0.92 to 1.1, particularly 0.98 to 1.1, and particularly preferably 0.99 to 1.1.
Each component can be reacted in such a ratio that the amount of the dicarboxylic anhydride used is preferably 0.05 or less as a ratio to the molar amount of the acid anhydride group of the tetracarboxylic dianhydride.

【0023】また、ポリアミック酸のゲル化を制限する
目的でリン系安定剤、例えば亜リン酸トリフェニル、リ
ン酸トリフェニル等をポリアミック酸重合時に固形分
(ポリマ−)濃度に対して0.01〜1%の範囲で添加
することができる。また、イミド化促進の目的で、ド−
プ液中に塩基性有機化合物を添加することができる。例
えば、イミダゾ−ル、2−イミダゾ−ル、1,2−ジメ
チルイミダゾ−ル、2−フェニルイミダゾ−ル、ベンズ
イミダゾ−ル、イソキノリン、置換ピリジンなどをポリ
アミック酸に対して0.05〜10重量%、特に0.1
〜2重量%の割合で使用することができる。これらは比
較的低温でポリイミドフィルムを形成するため、イミド
化が不十分となることを避けるために使用することがで
きる。
For the purpose of limiting the gelling of the polyamic acid, a phosphorus-based stabilizer such as triphenyl phosphite, triphenyl phosphate or the like is used in an amount of 0.01 to 0.01% with respect to the solid content (polymer) concentration during the polymerization of the polyamic acid. It can be added in the range of 11%. Further, for the purpose of accelerating imidization,
A basic organic compound can be added to the solution. For example, imidazole, 2-imidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-phenylimidazole, benzimidazole, isoquinoline, substituted pyridine and the like are added in an amount of 0.05 to 10% by weight based on polyamic acid. %, Especially 0.1
22% by weight. Since these form a polyimide film at a relatively low temperature, they can be used to avoid insufficient imidization.

【0024】また、接着強度の安定化の目的で、熱圧着
性ポリイミド原料ド−プに有機アルミニウム化合物、無
機アルミニウム化合物または有機錫化合物を添加しても
よい。例えば水酸化アルミニウム、アルミニウムトリア
セチルアセトナ−トなどをポリアミック酸に対してアル
ミニウム金属として1ppm以上、特に1〜1000p
pmの割合で添加することができる。
For the purpose of stabilizing the adhesive strength, an organic aluminum compound, an inorganic aluminum compound or an organic tin compound may be added to the thermocompression-bondable polyimide raw material dope. For example, aluminum hydroxide, aluminum triacetylacetonate, or the like is 1 ppm or more, particularly 1 to 1000 p
pm.

【0025】前記のポリアミック酸製造に使用する有機
溶媒は、耐熱性ポリイミドおよび熱圧着性ポリイミドの
いずれに対しても、N−メチル−2−ピロリドン、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、N,N−ジエチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、ヘキサメチルホスホルアミド、N−メチルカプ
ロラクタム、クレゾ−ル類などが挙げられる。これらの
有機溶媒は単独で用いてもよく、2種以上を併用しても
よい。
The organic solvent used in the production of the polyamic acid is N-methyl-2-pyrrolidone, N,
N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoramide, N-methylcaprolactam, cresols and the like. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0026】前記の熱圧着性多層ポリイミドフィルム
は、好適には前記の基体層ポリイミドを与える押出し物
層の両面に、熱圧着性ポリイミドを与えるポリアミック
酸の溶液あるいはポリイミド溶液を積層して多層フィル
ム状物を形成して乾燥後、熱圧着性ポリイミドのガラス
転移温度(Tg)以上で劣化が生じる温度以下の温度、
好適には250〜420℃の温度(表面温度計で測定し
た表面温度)まで加熱して(好適にはこの温度で1〜6
0分間加熱して)乾燥およびイミド化して製造すること
ができる。
The above-mentioned thermocompression-bondable multilayer polyimide film is preferably formed by laminating a polyamic acid solution or a polyimide solution that provides a thermocompression-bondable polyimide on both surfaces of the extruded material layer that provides the base layer polyimide. After the product is formed and dried, the temperature is not higher than the glass transition temperature (Tg) of the thermocompression-bondable polyimide and lower than the temperature at which deterioration occurs.
It is preferably heated to a temperature of 250 to 420 ° C. (surface temperature measured by a surface thermometer) (preferably 1 to 6
It can be prepared by drying and imidization (heating for 0 minutes).

【0027】この発明における熱圧着性ポリイミドは、
前記の酸成分とジアミン成分とを使用することによっ
て、好適にはガラス転移温度が190〜275℃であっ
て、ガラス転移温度以上で300℃以下の範囲内の温度
で溶融せず、かつ弾性率(通常、275℃での弾性率が
50℃での弾性率の0.001〜0.5倍程度)を保持
しているものが好ましい。
The thermocompression-bondable polyimide according to the present invention comprises:
By using the acid component and the diamine component, the glass transition temperature is preferably 190 to 275 ° C., the glass transition temperature is not higher than the glass transition temperature and 300 ° C. or lower, and the elastic modulus is not higher. (Usually, the elastic modulus at 275 ° C. is about 0.001 to 0.5 times the elastic modulus at 50 ° C.) is preferable.

【0028】この発明の熱圧着性多層ポリイミドフィル
ムは、基体層ポリイミドのフィルムの厚さが10〜40
μmであることが好ましく、熱圧着性ポリイミド層の厚
さが2〜10μm、特に3〜6μmであるものが好まし
い。
The thermocompression-bondable multilayer polyimide film of the present invention has a base layer polyimide film thickness of 10 to 40.
It is preferable that the thickness of the thermocompression bonding polyimide layer is 2 to 10 μm, particularly 3 to 6 μm.

【0029】この発明において、複数のポリイミドフィ
ルムを熱圧着性多層ポリイミドフィルムで積層して厚み
が150μm以上のポリイミドシ−トとする。
In the present invention, a polyimide sheet having a thickness of 150 μm or more is formed by laminating a plurality of polyimide films with a thermocompression-bondable multilayer polyimide film.

【0030】この発明において、ポリイミドフィルムの
表面が、低温プラズマ処理、常圧プラズマ処理などの放
電処理が接着性改良のために施されていることが好まし
い。前記の常圧プラズマ処理とは、Ar、N2、He、
CO2、空気、水蒸気などの雰囲気中で放電処理する方
法をいう。処理の条件は、処理装置、処理ガスの種類、
流量、電源の周波数などによって異なるが、それぞれに
おいて適宜最適条件を使用すればよい。
In the present invention, it is preferable that the surface of the polyimide film is subjected to a discharge treatment such as a low-temperature plasma treatment or a normal-pressure plasma treatment for improving the adhesion. The normal pressure plasma treatment includes Ar, N 2 , He,
It refers to a method of performing discharge treatment in an atmosphere such as CO 2 , air, and steam. The processing conditions are: processing equipment, type of processing gas,
Although it differs depending on the flow rate, the frequency of the power supply, and the like, optimal conditions may be appropriately used in each case.

【0031】また、低温プラズマ処理は、減圧下で行な
うことができ、その方法としては、特に限定されない
が、例えば複数の2列に配置させた棒状電極の対極電極
を有する放電処理装置内に被処理基材を通過させて、処
理ガスを0.1〜300Torr、に調整した状態で電
極間に直流あるいは交流の高電圧を印加して放電を行
い、前記処理ガスのプラズマを発生させ、該プラズマに
基材表面をさらして処理する方法を採用することができ
る。
The low-temperature plasma treatment can be performed under reduced pressure, and the method is not particularly limited. For example, the low-temperature plasma treatment is carried out in a discharge treatment apparatus having a plurality of rod-shaped counter electrodes arranged in two rows. After passing through the processing substrate, the processing gas is discharged by applying a high voltage of DC or AC between the electrodes in a state where the processing gas is adjusted to 0.1 to 300 Torr, and a plasma of the processing gas is generated. A method in which the surface of the base material is exposed to water and treated.

【0032】前記の低温プラズマ処理の条件としては、
処理装置、処理ガスの種類、圧力、電源の周波数などに
よって異なるが、適宜最適条件を使用すればよい。上記
処理ガスとしては、特に限定されないが、Ar、C
、N2、He、CO2、空気、水蒸気、O2などを単
独であるいは混合して用いることができる。コロナ放電
処理は、低温プラズマ処理と比較して接着性向上の効果
が小さいので、処理条件を選択する必要がある。
The conditions for the low-temperature plasma treatment are as follows:
Although it differs depending on the processing apparatus, the type of processing gas, the pressure, the frequency of the power supply, and the like, optimal conditions may be appropriately used. The processing gas is not particularly limited.
F 4 , N 2 , He, CO 2 , air, steam, O 2 and the like can be used alone or in combination. Corona discharge treatment has a smaller effect of improving adhesiveness than low-temperature plasma treatment, so it is necessary to select treatment conditions.

【0033】次に、この発明の一例であるTAB用スペ
−サ−フィルムを製造する場合の一例について詳細に説
明する。すなわち、放電処理したポリイミドフィルムの
処理面を内側にして、その間に前記の熱圧着性多層ポリ
イミドフィルムを挟んで、熱圧着性ポリイミドのガラス
転移温度以上、好適には熱圧着性ポリイミドのガラス転
移より70〜150℃程度高い温度で連続的または断続
的に1〜60分間で熱圧着する。
Next, an example of manufacturing a spacer film for TAB which is an example of the present invention will be described in detail. In other words, with the treated surface of the discharge-treated polyimide film inside, sandwiching the thermocompression-bonding multilayer polyimide film therebetween, the glass transition temperature of the thermocompression-bondable polyimide or more, preferably from the glass transition temperature of the thermocompression-bondable polyimide. Thermocompression bonding is performed continuously or intermittently at a temperature as high as about 70 to 150 ° C. for 1 to 60 minutes.

【0034】圧着の温度および圧力の条件としては、熱
圧着性ポリイミドの種類、膜厚などによって適宜選択す
ることができる。また、加熱圧着の方法は、ヒ−トプレ
ス、加熱ロ−ルなど製造工程により、好ましいものを選
択することができる。
The conditions for the temperature and pressure for the pressure bonding can be appropriately selected depending on the kind and the film thickness of the thermocompression-bondable polyimide. Further, a preferred method of the heat press bonding can be selected according to a manufacturing process such as a heat press and a heating roll.

【0035】この発明においては、前記のようにして得
られる厚みが150μm以上のポリイミドシ−ト、好適
には中心部(平坦部)が室温で約450gf/cm以上
の90°剥離強度を有し、300Kgf/mm以上の
引張弾性率を有し、引張弾性率×厚みの計算値が40K
gf/mm以上、特に40Kgf/mm以上で95Kg
f/mm以下あるポリイミドシ−トの両端部をエンボス
加工などの加熱加工して、ポリイミドシ−ト成形体とす
る。前記のエンボス加工は、好適には150〜250℃
で行うことができる。
In the present invention, a polyimide sheet having a thickness of 150 μm or more, preferably a central portion (flat portion) having a 90 ° peel strength of about 450 gf / cm or more at room temperature is obtained. , Having a tensile modulus of 300 kgf / mm 2 or more, and the calculated value of tensile modulus × thickness is 40
95 kg at gf / mm or more, especially 40 kgf / mm or more
Heat treatment such as embossing is applied to both ends of the polyimide sheet having a thickness of f / mm or less to obtain a polyimide sheet molded body. The embossing is preferably performed at 150 to 250 ° C.
Can be done with

【0036】[0036]

【実施例】以下、この発明を実施例に基づいて詳細に説
明するが、この発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、以下の説明で、耐熱性は次の方法で評価およ
び測定したものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to embodiments, but the present invention is not limited to these embodiments. In the following description, heat resistance was evaluated and measured by the following method.

【0037】参考例 耐熱性ポリイミド製造用ド−プの合成例1 攪拌機、窒素導入管を備えた反応容器に、N−メチル−
2−ピロリドンを加え、さらに、パラフェニレンジアミ
ン(PPD)と3,3’,4,4’−ビフェニルテトラ
カルボン酸二無水物(s−BPDA)とを1000:9
98のモル比でモノマ−濃度が18%(重量%、以下同
じ)になるように加えた。添加終了後50℃を保ったま
ま3時間反応を続けた。得られたポリアミック酸溶液は
褐色粘調液体であり、25℃における溶液粘度は約15
00ポイズであった。この溶液をド−プとして使用し
た。
REFERENCE EXAMPLE Synthesis Example 1 of Dope for Heat-Resistant Polyimide Production
2-Pyrrolidone was added, and paraphenylenediamine (PPD) and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-BPDA) were further added at 1000: 9.
At a molar ratio of 98, the monomer concentration was 18% (% by weight, the same applies hereinafter). After completion of the addition, the reaction was continued for 3 hours while maintaining the temperature at 50 ° C. The obtained polyamic acid solution is a brown viscous liquid, and the solution viscosity at 25 ° C. is about 15
It was 00 poise. This solution was used as a dope.

【0038】熱圧着性ポリイミド製造用ド−プの合成−
1 攪拌機、窒素導入管を備えた反応容器に、N−メチル−
2−ピロリドンを加え、さらに、1,3−ビス(4−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン(TPE−R)と3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−
BPDA)と2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物(a−BPDA)とを1000:80
0:200のモル比でモノマ−濃度が18%になるよう
に、またトリフェニルホスフェ−トをモノマ−重量に対
して0.1%加えた。添加終了後25℃を保ったまま1
時間反応を続けた。25℃における溶液粘度は約700
ポイズであった。この溶液をド−プとして使用した。
Synthesis of Dope for Production of Thermocompression Bondable Polyimide
1 In a reaction vessel equipped with a stirrer and a nitrogen inlet tube, add N-methyl-
2-Pyrrolidone was added, and 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (TPE-R) and 3,3 ′,
4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (s-
BPDA) and 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA) at 1000: 80.
Triphenyl phosphate was added in an amount of 0.1% based on the weight of the monomer so that the monomer concentration became 18% at a molar ratio of 0: 200. After completion of addition, keep 25 ° C for 1
The reaction was continued for hours. Solution viscosity at 25 ° C. is about 700
Poise. This solution was used as a dope.

【0039】熱圧着性多層ポリイミドフィルムの製造 前記の基体層ポリイミド製造用ド−プと熱圧着性ポリイ
ミド製造用ド−プとを三層押出し成形用ダイス(マルチ
マニホ−ルド型ダイス)を設けた製膜装置を使用し、三
層押出ダイスから金属製支持体上に流延し、140℃の
熱風で連続的に乾燥し、固化フィルムを形成した。この
固化フィルムを支持体から剥離した後加熱炉で200℃
から320℃まで徐々に昇温して溶媒の除去、イミド化
を行い長尺状の熱圧着性多層ポリイミドフィルムを巻き
取りロ−ルに巻き取った。得られた熱圧着性多層ポリイ
ミドフィルムは、各層の厚みが4μm/17μm/4μ
mであり、線膨張係数(50〜200℃)が、MD:1
9ppm/℃、TD:16ppm/℃、平均:17pp
m/℃であり、引張弾性率が714kg/mm2で、耐
熱性ポリイミドのガラス転移温度は400℃以下の温度
で確認されず、熱圧着層ポリイミドはガラス転移温度が
241℃であった。
Production of thermocompression-bondable multilayer polyimide film The above-mentioned base layer polyimide production dope and thermocompression-bondable polyimide production dope were provided with a three-layer extrusion molding die (multi-manifold die). Using a membrane device, the mixture was cast from a three-layer extrusion die onto a metal support and dried continuously with hot air at 140 ° C. to form a solidified film. After the solidified film is peeled from the support, the film is heated at 200 ° C.
Then, the temperature was gradually raised to 320 ° C. to remove the solvent and imidize, and a long thermocompression-bondable multilayer polyimide film was taken up on a take-up roll. The obtained thermocompression-bondable multilayer polyimide film has a thickness of each layer of 4 μm / 17 μm / 4 μm.
m, and the coefficient of linear expansion (50 to 200 ° C.) is MD: 1.
9 ppm / ° C, TD: 16 ppm / ° C, average: 17 pp
m / ° C., the tensile elastic modulus was 714 kg / mm 2 , the glass transition temperature of the heat-resistant polyimide was not confirmed at a temperature of 400 ° C. or lower, and the polyimide of the thermocompression bonding layer had a glass transition temperature of 241 ° C.

【0040】実施例1 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物と4,4’−ジアミノジフェニルエ−テルとから得
られたポリイミドフィルム:ユ−ピレックス75R(厚
み75μm)を次の条件でプラズマ放電処理した。 プラズマ放電条件 1.酸素を90%含有する雰囲気、流量3L/min、
250Torr、6000W、10分 2.酸素を100%含有する雰囲気、流量3L/mi
n、250Torr、6000W、10分
Example 1 Polyimide film obtained from 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether: Upilex 75R (thickness 75 μm) Was subjected to a plasma discharge treatment under the following conditions. Plasma discharge conditions Atmosphere containing 90% oxygen, flow rate 3 L / min,
1. 250 Torr, 6000 W, 10 minutes Atmosphere containing 100% oxygen, flow rate 3L / mi
n, 250 Torr, 6000 W, 10 minutes

【0041】得られた表面処理した各々が幅250mm
のユ−ピレックス75Rおよび幅210mmの熱圧着性
ポリイミドフィルムを次の条件で積層してポリイミドシ
−トを得た。 接着条件:40kg/cm2、360℃、1.5cm/
分 得られたポリイミドシ−トは、90°剥離強度が700
gf/cmで、厚みが173μmで、引張弾性率が43
0Kgf/mmで、弾性率×厚みの計算値が59Kg
f/mmであった。このポリイミドシ−トを200℃で
エンボス加工して、ポリイミドシ−ト加工品を得た。こ
のポリイミドシ−ト加工品は、剛性を有しながらねじれ
が無く、TAB用スペ−サ−フィルムとして好適に使用
できた。
Each of the obtained surface-treated pieces has a width of 250 mm.
No. 75x and a thermocompression bonding polyimide film having a width of 210 mm were laminated under the following conditions to obtain a polyimide sheet. Adhesion conditions: 40 kg / cm2, 360 ° C, 1.5 cm /
The obtained polyimide sheet has a 90 ° peel strength of 700.
gf / cm, a thickness of 173 μm, and a tensile modulus of 43
At 0 Kgf / mm 2 , the calculated value of elastic modulus × thickness is 59 kg.
f / mm. This polyimide sheet was embossed at 200 ° C. to obtain a polyimide sheet processed product. This polyimide sheet processed product was rigid and free from twisting, and could be suitably used as a spacer film for TAB.

【0042】比較例1 3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無
水物とp−フェニレンジアミンとから得られたポリイミ
ドフィルム:幅35mmのユ−ピレックス75S(厚み
75μm)を使用した他は実施例1と同様にして、ポリ
イミドシ−トを得た。得られたポリイミドシ−トは、9
0°剥離強度が495gf/cmで、厚みが173μm
で、引張弾性率が786Kgf/mmで、弾性率×厚
みの計算値が136Kgf/mmであった。このポリイ
ミドシ−トを200℃でエンボス加工を行ったが、充分
な凹凸が得られず、TAB用スペ−サ−フィルムとして
使用不可能であった。
Comparative Example 1 Polyimide film obtained from 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and p-phenylenediamine: UPILEX 75S (thickness: 75 μm) having a width of 35 mm was used. Otherwise in the same manner as in Example 1, a polyimide sheet was obtained. The resulting polyimide sheet is 9
0 ° peel strength is 495 gf / cm and thickness is 173 μm
The tensile modulus was 786 kgf / mm 2 and the calculated value of elastic modulus × thickness was 136 kgf / mm. This polyimide sheet was embossed at 200 ° C., but no sufficient unevenness was obtained, and it could not be used as a TAB spacer film.

【0043】[0043]

【発明の効果】この発明によれば、耐熱性に優れ高剛性
で成型が可能な厚いTAB用スペ−サ−フィルムとして
好適なポリイミドシ−ト加工品を安定して提供すること
ができる。
According to the present invention, it is possible to stably provide a polyimide sheet processed product which is excellent in heat resistance and has high rigidity and is suitable as a thick spacer film for TAB.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明が適用されるTAB用スペ−サ
−フィルムの平面概略図およびその断面概略図である。
FIG. 1 is a schematic plan view and a schematic cross-sectional view of a spacer film for TAB to which the present invention is applied.

【図2】図2は、本発明、実施例1で得られたポリイミ
ドシート加工品を適用したTAB用スペ−サ−フィルム
の端部エンボス加工部分の断面概略図(多層フィルム構
造)である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view (multilayer film structure) of an end embossed portion of a TAB spacer film to which a processed polyimide sheet obtained in Example 1 of the present invention is applied.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08J 7/00 CFG C08J 7/00 CFG // C08L 79:08 C08L 79:08 Z (72)発明者 阿武 俊彦 山口県宇部市大字小串1978番地の10 宇部 興産株式会社宇部ケミカル工場内 Fターム(参考) 4F073 AA01 BA31 BB01 CA01 CA21 4F100 AK49A AK49B AK49C BA03 BA06 BA10B BA10C DA01 EC032 EJ393 EJ551 EJ581 EJ611 EJ641 GB90 JJ03A JK02 JK07 JL01 JL12B JL12C 4J043 PA02 QB15 QB26 RA35 SA06 SB01 TA22 TB01 UA131 UA132 UB121 UB402 XA16 XA17 XA19 YA06 ZA32 ZB11──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08J 7/00 CFG C08J 7/00 CFG // C08L 79:08 C08L 79:08 Z (72) Inventor Abu Toshihiko Ube City, Ube City, Ube City, Kobe, 1978, 10 Ube Industries, Ltd. Ube Chemical Factory F-term (reference) JL12B JL12C 4J043 PA02 QB15 QB26 RA35 SA06 SB01 TA22 TB01 UA131 UA132 UB121 UB402 XA16 XA17 XA19 YA06 ZA32 ZB11

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物またはその誘導体と4,4’−ジアミ
ノジフェニルエ−テルとを必須成分として得られるポリ
イミドフィルムの複数枚を、耐熱性ポリイミド層の両面
に熱圧着性ポリイミド層を有する熱圧着性多層ポリイミ
ドフィルムで積層され、厚みが150μm以上のポリイ
ミドシ−トの両端部が加工されてなるポリイミドシ−ト
成形体。
1. A polyimide film obtained by using 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and 4,4′-diaminodiphenyl ether as essential components. A polyimide sheet molded article obtained by laminating a thermocompression-bondable multilayer polyimide film having a thermocompression-bondable polyimide layer on both sides of a heat-resistant polyimide layer and processing both ends of a polyimide sheet having a thickness of 150 μm or more.
【請求項2】ポリイミドシ−トが300Kgf/mm
以上の引張弾性率を有する請求項1に記載のポリイミド
シ−ト成形体。
2. A polyimide sheet having a thickness of 300 kgf / mm 2
The molded polyimide sheet according to claim 1, which has the above tensile modulus.
【請求項3】ポリイミドシ−トについての引張弾性率×
厚みの計算値が40Kgf/mm以上、好ましくは70
Kgf/mm以上である請求項1に記載のポリイミドシ
−ト成形体。
3. Tensile modulus of polyimide sheet ×
The calculated value of the thickness is 40 kgf / mm or more, preferably 70 kgf / mm or more.
The molded polyimide sheet according to claim 1, which has a Kgf / mm or more.
【請求項4】加工がエンボス加工である請求項1に記載
のポリイミドシ−ト成形体。
4. The polyimide sheet molded article according to claim 1, wherein the processing is embossing.
【請求項5】TAB用スペ−サ−用である請求項1に記
載のポリイミドシ−ト成形体。
5. The polyimide sheet molded article according to claim 1, which is used for a spacer for TAB.
【請求項6】3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物またはその誘導体と4,4’−ジアミ
ノジフェニルエ−テルとを必須成分として得られるポリ
イミドフィルムの複数枚を、耐熱性ポリイミド層の両面
に熱圧着性ポリイミド層を有する熱圧着性多層ポリイミ
ドフィルムで積層して得られる、厚みが150μm以上
のポリイミドシ−トの両端部を加熱加工するポリイミド
シ−ト成形体の製造方法。
6. A polyimide film obtained by using 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride or a derivative thereof and 4,4′-diaminodiphenyl ether as essential components, comprising: A polyimide sheet molded body obtained by laminating a thermocompression-bonding multilayer polyimide film having a thermocompression-bonding polyimide layer on both sides of a heat-resistant polyimide layer and heating both ends of a polyimide sheet having a thickness of 150 μm or more. Production method.
【請求項7】ポリイミドフィルムが、コロナ放電処理あ
るいはプラズマ放電処理などの表面処理法によって表面
処理されたものである請求項6に記載のポリイミドシ−
ト成形体の製造方法。
7. The polyimide film according to claim 6, wherein the polyimide film has been subjected to a surface treatment such as a corona discharge treatment or a plasma discharge treatment.
Method for manufacturing molded articles.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010167566A (en) * 2009-01-20 2010-08-05 Du Pont Toray Co Ltd Polyimide sheet
JP2012522863A (en) * 2009-04-03 2012-09-27 ドゥーサン コーポレイション Polyamic acid solution, polyimide resin, and flexible metal foil-clad laminate using the same

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JP2012522863A (en) * 2009-04-03 2012-09-27 ドゥーサン コーポレイション Polyamic acid solution, polyimide resin, and flexible metal foil-clad laminate using the same

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