JP2002324978A - Multilayer wiring board - Google Patents
Multilayer wiring boardInfo
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- H10W90/724—
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- Laminated Bodies (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多層配線基板において、配線の高密度化の要
求や半田耐熱性・絶縁性・高周波伝送特性・温度サイク
ル耐性の要求を満足できない。
【解決手段】 複数の絶縁層1を間に金属箔から成る配
線導体2を挟んで積層するとともに、絶縁層1を挟んで
上下に位置する配線導体2間を絶縁層1に形成された貫
通導体3を介して電気的に接続して成る多層配線基板4
であって、絶縁層1は、液晶ポリマー層5の上下面に、
それぞれポリフェニレンエーテル系有機物により60〜80
体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第1層6aと、40
〜60体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第2層6b
と、20〜40体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第3層
6cとを順次積層して成る被覆層6を形成して成る。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a multilayer wiring board that cannot satisfy the demands for higher wiring density and the requirements for solder heat resistance, insulation properties, high frequency transmission characteristics, and temperature cycle resistance. SOLUTION: A plurality of insulating layers 1 are laminated with a wiring conductor 2 made of metal foil interposed therebetween, and a through conductor formed in the insulating layer 1 between wiring conductors 2 located vertically above and below the insulating layer 1. Multilayer wiring board 4 electrically connected via
And the insulating layer 1 is formed on the upper and lower surfaces of the liquid crystal polymer layer 5,
60 to 80, depending on the polyphenylene ether organic material
A first layer 6a composed of a volume% of inorganic insulating powder;
2nd layer 6b formed by bonding ~ 60% by volume of inorganic insulating powder
And a third layer 6c formed by bonding 20 to 40% by volume of inorganic insulating powder to form a coating layer 6.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】 本発明は、各種AV機器や
家電機器・通信機器・コンピュータやその周辺機器等の
電子機器に使用される多層配線基板に関するものであ
り、特に絶縁層の一部に液晶ポリマー層を用いた多層配
線基板に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multi-layer wiring board used for electronic devices such as various AV devices, home appliances, communication devices, computers and their peripheral devices, and more particularly to a liquid crystal device having a part of an insulating layer. The present invention relates to a multilayer wiring board using a polymer layer.
【0002】[0002]
【従来の技術】 従来、半導体素子等の能動部品や容量
素子・抵抗素子等の受動部品を多数搭載して所定の電子
回路を構成した混成集積回路を形成するための多層配線
基板は、通常、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させ
て成る絶縁層にドリルによって上下に貫通孔を形成し、
この貫通孔内部および絶縁層表面に複数の配線導体を形
成した配線基板を、多数層積層することによって形成さ
れている。2. Description of the Related Art Conventionally, a multilayer wiring board for forming a hybrid integrated circuit in which a predetermined electronic circuit is formed by mounting a large number of active parts such as semiconductor elements and passive parts such as capacitance elements and resistance elements is usually used. Through holes are formed up and down by drilling in an insulating layer made of glass cloth impregnated with epoxy resin,
It is formed by laminating a large number of wiring boards each having a plurality of wiring conductors formed inside the through holes and on the surface of the insulating layer.
【0003】一般に、現在の電子機器は、移動体通信機
器に代表されるように小型・薄型・軽量・高性能・高機
能・高品質・高信頼性が要求されており、このような電
子機器に搭載される混成集積回路等の電子部品も小型・
高密度化が要求されるようになってきており、このよう
な高密度化の要求に応えるために、電子部品を構成する
多層配線基板も、配線導体の微細化や絶縁層の薄層化・
貫通孔の微細化が必要となってきている。このため、近
年、貫通孔を微細化するために、ドリル加工より微細加
工が可能なレーザ加工が用いられるようになってきた。In general, current electronic devices are required to be small, thin, lightweight, high-performance, high-function, high-quality, and high-reliability, as typified by mobile communication devices. Electronic components such as hybrid integrated circuits mounted on
In order to respond to such demands for higher densities, multilayer wiring boards that make up electronic components are also required to have finer wiring conductors and thinner insulating layers.
It is becoming necessary to miniaturize the through holes. For this reason, in recent years, laser processing that can perform finer processing than drill processing has been used in order to make through holes finer.
【0004】しかしながら、ガラスクロスにエポキシ樹
脂を含浸させて成る絶縁層は、ガラスクロスをレーザに
より穿設加工することが困難なために貫通孔の微細化に
は限界があり、また、ガラスクロスの厚みが不均一のた
めに均一な孔径の貫通孔を形成することが困難であると
いう問題点を有していた。However, an insulating layer formed by impregnating a glass cloth with an epoxy resin has a limitation in miniaturizing a through-hole because it is difficult to pierce the glass cloth with a laser. There is a problem that it is difficult to form a through-hole having a uniform diameter due to the uneven thickness.
【0005】このような問題点を解決するために、アラ
ミド樹脂繊維で製作した不織布にエポキシ樹脂を含浸さ
せて成る絶縁基材や、ポリイミドフィルムにエポキシ系
接着剤を塗布して成る絶縁基材を絶縁層に用いた多層配
線基板が提案されている。In order to solve such a problem, an insulating base made by impregnating a nonwoven fabric made of aramid resin fiber with an epoxy resin or an insulating base made by applying an epoxy-based adhesive to a polyimide film are used. A multilayer wiring board used for an insulating layer has been proposed.
【0006】しかしながら、アラミド不織布やポリイミ
ドフィルムを用いた絶縁基材は吸湿性が高く、吸湿した
状態で半田リフローを行なうと半田リフローの熱により
吸湿した水分が気化してガスが発生し、絶縁層間で剥離
してしまう等の問題点を有していた。However, an insulating substrate using an aramid nonwoven fabric or a polyimide film has high hygroscopicity. If solder reflow is performed in a state of absorbing moisture, the moisture absorbed by the heat of the solder reflow vaporizes to generate gas, and an insulating interlayer is generated. With the problem of peeling.
【0007】このような問題点を解決するために、多層
配線基板の絶縁層の材料として液晶ポリマーを用いるこ
とが検討されている。液晶ポリマーから成る層は、剛直
な分子で構成されているとともに分子同士がある程度規
則的に並んだ構成をしており分子間力が強いことから、
高耐熱性・高弾性率・高寸法安定性・低吸湿性を示し、
ガラスクロスのような強化材を用いる必要がなく、ま
た、微細加工性にも優れるという特徴を有している。さ
らに、高周波領域においても、低誘電率・低誘電正接で
あり高周波特性に優れるという特徴を有している。In order to solve such problems, use of a liquid crystal polymer as a material for an insulating layer of a multilayer wiring board has been studied. The layer composed of the liquid crystal polymer is composed of rigid molecules and has a structure in which molecules are regularly arranged to some extent, and has a strong intermolecular force.
Shows high heat resistance, high elastic modulus, high dimensional stability, low moisture absorption,
There is no need to use a reinforcing material such as glass cloth, and it has features of being excellent in fine workability. Furthermore, even in a high-frequency region, it has a characteristic that it has a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, and has excellent high-frequency characteristics.
【0008】このような液晶ポリマーの特徴を活かし、
特開平8-97565号公報には、第1の液晶ポリマーを含む
回路層間に第1の液晶ポリマーの融点よりも低い融点を
有する第2の液晶ポリマーを含む接着剤層を挿入して成
る多層プリント回路基板が提案されており、また、特開
2000-269616号公報には熱可塑性液晶ポリマーフィルム
と金属箔とをエポキシ系接着剤を用いて接着した高周波
回路基板が提案されている。[0008] Utilizing the characteristics of such a liquid crystal polymer,
Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-97565 discloses a multi-layer printing method in which an adhesive layer containing a second liquid crystal polymer having a melting point lower than that of the first liquid crystal polymer is inserted between circuit layers containing the first liquid crystal polymer. A circuit board has been proposed.
JP-A-2000-269616 proposes a high-frequency circuit board in which a thermoplastic liquid crystal polymer film and a metal foil are bonded using an epoxy-based adhesive.
【0009】しかしながら、特開平8-97565号公報に提
案された多層プリント回路基板は、回路層を間に液晶ポ
リマーを含む接着剤層を挿入して熱圧着により接着する
際、液晶ポリマー分子が剛直で動き難いために回路層表
面の微細な凹部に入ることができず、その結果、十分な
アンカー効果を発揮することができず、回路層と接着剤
層との密着性が悪く高温バイアス試験で絶縁不良が発生
してしまうという問題点を有していた。[0009] However, in the multilayer printed circuit board proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-97565, the liquid crystal polymer molecules are rigid when the circuit layers are bonded by thermocompression bonding by inserting an adhesive layer containing a liquid crystal polymer therebetween. It is difficult to move, and it is not possible to enter the fine recesses on the surface of the circuit layer, as a result, it is not possible to exert a sufficient anchor effect, the adhesion between the circuit layer and the adhesive layer is poor, There is a problem that insulation failure occurs.
【0010】また、特開2000-269616号公報に提案され
た高周波回路基板は、エポキシ系接着剤の誘電率が液晶
ポリマーの誘電率と大きく異なることから、積層時の加
圧によって生じるわずかな厚みばらつきにより、高周波
領域、特に100MHz以上の周波数領域においては伝送
特性が低下してしまうという問題点を有していた。The high-frequency circuit board proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-269616 has a small thickness caused by pressure during lamination since the dielectric constant of an epoxy-based adhesive is significantly different from that of a liquid crystal polymer. Due to the variation, there is a problem that transmission characteristics are degraded in a high frequency region, particularly in a frequency region of 100 MHz or higher.
【0011】このような問題点を解決するために、本願
出願人は、特願2001−53834において、液晶ポリマー層
の上下面にポリフェニレンエーテル系有機物から成る被
覆層を形成して成る絶縁層を複数積層した多層配線基板
を提案した。In order to solve such a problem, the applicant of the present invention disclosed in Japanese Patent Application No. 2001-53834 a plurality of insulating layers formed by forming a coating layer made of a polyphenylene ether organic material on the upper and lower surfaces of a liquid crystal polymer layer. A laminated multilayer wiring board was proposed.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】 しかしながら液晶ポ
リマー層の上下面にポリフェニレンエーテル系有機物か
ら成る被覆層を形成して成る絶縁層を複数積層して成る
多層配線基板は、被覆層の熱膨張係数と液晶ポリマー層
の熱膨張係数とが異なるために、急激な温度変化をとも
なう温度サイクル試験においては被覆層にクラックが生
じ易いという傾向があった。また、被覆層に無機絶縁粉
末を高密度に充填し被覆層の熱膨張係数を液晶ポリマー
層の熱膨脹係数と略一致させて温度サイクル試験におけ
るクラックを防止するという方法もあるが、この場合、
被覆層と配線導体との密着性が悪くなり配線導体を被着
形成することができなくなるとともに、絶縁層同士を接
着する際、絶縁層を形成する被覆層同士の密着性が悪く
なって絶縁層間で剥離して絶縁性が低下してしまい易い
という傾向があった。However, a multilayer wiring board comprising a plurality of insulating layers formed by forming a coating layer made of a polyphenylene ether-based organic material on the upper and lower surfaces of a liquid crystal polymer layer has a thermal expansion coefficient of the coating layer. Since the thermal expansion coefficient of the liquid crystal polymer layer is different, cracks tend to occur in the coating layer in a temperature cycle test involving a rapid temperature change. There is also a method of preventing the cracks in the temperature cycle test by filling the coating layer with the inorganic insulating powder at a high density and making the thermal expansion coefficient of the coating layer substantially coincide with the thermal expansion coefficient of the liquid crystal polymer layer.
The adhesion between the coating layer and the wiring conductor is deteriorated, so that the wiring conductor cannot be adhered and formed. In addition, when the insulation layers are bonded to each other, the adhesion between the coating layers forming the insulation layer is deteriorated, and the insulation layer is formed. , And the insulating property is liable to be deteriorated.
【0013】本発明はかかる従来技術の問題点に鑑み案
出されたものであり、その目的は、高密度な配線を有す
るとともに、半田耐熱性・絶縁性・高周波伝送特性・温
度サイクル性に優れた多層配線基板を提供することに有
る。The present invention has been devised in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has as its object the purpose of having high-density wiring, and being excellent in solder heat resistance, insulation, high-frequency transmission characteristics, and temperature cycle characteristics. To provide a multi-layer wiring board.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】 本発明の多層配線基板
は、複数の絶縁層を間に金属箔から成る配線導体を挟ん
で積層するとともに、絶縁層を挟んで上下に位置する配
線導体間を絶縁層に形成された貫通導体を介して電気的
に接続して成る多層配線基板であって、絶縁層は、液晶
ポリマー層の上下面に、それぞれポリフェニレンエーテ
ル系有機物により60〜80体積%の無機絶縁粉末を結合し
て成る第1層と、40〜60体積%の無機絶縁粉末を結合し
て成る第2層と、20〜40体積%の無機絶縁粉末を結合し
て成る第3層とを順次積層して成る被覆層を形成して成
ることを特徴とするものである。Means for Solving the Problems A multilayer wiring board according to the present invention has a structure in which a plurality of insulating layers are laminated with a wiring conductor made of a metal foil interposed therebetween, and a wiring conductor positioned above and below the insulating layer is interposed between the insulating layers. A multilayer wiring board electrically connected via a through conductor formed on an insulating layer, wherein the insulating layer is formed on the upper and lower surfaces of a liquid crystal polymer layer by a polyphenylene ether-based organic material, each of which is 60 to 80% inorganic. A first layer formed by combining insulating powder, a second layer formed by combining 40 to 60% by volume of inorganic insulating powder, and a third layer formed by combining 20 to 40% by volume of inorganic insulating powder. It is characterized by forming a coating layer formed by sequentially laminating.
【0015】また、本発明の多層配線基板は、ポリフェ
ニレンエーテル系有機物が熱硬化性に変成したポリフェ
ニレンエーテルであることを特徴とするものである。Further, the multilayer wiring board of the present invention is characterized in that the polyphenylene ether-based organic substance is a polyphenylene ether modified to be thermosetting.
【0016】本発明の多層配線基板によれば、絶縁層
を、液晶ポリマー層の上下面に、それぞれポリフェニレ
ンエーテル系有機物により60〜80体積%の無機絶縁粉末
を結合して成る第1層と、40〜60体積%の無機絶縁粉末
を結合して成る第2層と、20〜40体積%の無機絶縁粉末
を結合して成る第3層とを順次積層して成る被覆層を形
成して成るものとしたことから、被覆層において液晶ポ
リマー層と接する第1層の熱膨脹係数が液晶ポリマー層
の熱膨脹係数と近似し、この結果、急激な温度変化をと
もなう温度サイクル試験においても被覆層にクラックが
発生することはなく、信頼性の高い多層配線基板とする
ことができる。また、第3層の無機絶縁粉末含有量を20
〜40体積%と少ないものとしたことから、被覆層と配線
導体との密着性が悪くなって被覆層に配線導体を被着形
成することができなくなったり、絶縁層同士を接着する
際、絶縁層を形成する被覆層同士の密着性が悪くなって
絶縁層間で剥離して絶縁性が低下してしまうということ
もない。According to the multilayer wiring board of the present invention, the insulating layer is formed on the upper and lower surfaces of the liquid crystal polymer layer by bonding a 60-80% by volume of inorganic insulating powder with a polyphenylene ether organic material. A coating layer is formed by sequentially laminating a second layer composed of 40 to 60% by volume of inorganic insulating powder and a third layer composed of 20 to 40% by volume of inorganic insulating powder. As a result, the thermal expansion coefficient of the first layer in contact with the liquid crystal polymer layer in the coating layer approximates the thermal expansion coefficient of the liquid crystal polymer layer. As a result, cracks occur in the coating layer even in a temperature cycle test involving a rapid temperature change. It does not occur and a highly reliable multilayer wiring board can be obtained. Further, the content of the inorganic insulating powder in the third layer is set to 20.
4040% by volume, the adhesion between the coating layer and the wiring conductor deteriorates, making it impossible to form the wiring conductor on the coating layer. It does not occur that the adhesion between the coating layers forming the layer is deteriorated and the insulating properties are reduced due to separation between the insulating layers.
【0017】さらに、本発明の多層配線基板によれば、
ポリフェニレンエーテル系有機物を熱硬化性ポリフェニ
レンエーテルとしたことから、硬化後のポリフェニレン
エーテル系有機物から成る被覆層の溶融変形が小さいも
のとなり、絶縁層を順次積層して多層配線基板を形成す
る際の加熱・加圧による貫通導体と配線導体との位置ず
れが生じにくい導通信頼性に優れた多層配線基板とする
ことができる。Further, according to the multilayer wiring board of the present invention,
Since the polyphenylene ether-based organic material is a thermosetting polyphenylene ether, the coating layer made of the cured polyphenylene ether-based organic material has a small melting deformation, and is heated when the insulating layers are sequentially laminated to form a multilayer wiring board. -It is possible to provide a multilayer wiring board with excellent conduction reliability in which displacement between the through conductor and the wiring conductor due to pressure is less likely to occur.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】 次に本発明の多層配線基板を添
付の図面に基づいて詳細に説明する。Next, a multilayer wiring board of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
【0019】図1は、本発明の多層配線基板に半導体素
子を搭載して成る混成集積回路の実施の形態の一例を示
す断面図であり、また、図2は、図1に示す多層配線基
板の要部拡大断面図である。これらの図において1は絶
縁層、2は配線導体、3は貫通導体で、主にこれらで本
発明の多層配線基板4が構成されている。なお、本例で
は、絶縁層1を4層積層して成る多層配線基板4を示し
ている。FIG. 1 is a sectional view showing an example of an embodiment of a hybrid integrated circuit in which a semiconductor element is mounted on a multilayer wiring board according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing the multilayer wiring board shown in FIG. 3 is an enlarged sectional view of a main part of FIG. In these figures, reference numeral 1 denotes an insulating layer, 2 denotes a wiring conductor, and 3 denotes a through conductor, and these mainly constitute a multilayer wiring board 4 of the present invention. In this example, a multi-layer wiring board 4 formed by laminating four insulating layers 1 is shown.
【0020】絶縁層1は、液晶ポリマー層5と、その表
面に被着形成されたポリフェニレンエーテル系有機物に
より無機絶縁粉末を結合して成る被覆層6とから構成さ
れており、多層配線基板4に搭載される電子部品7や配
線導体2の支持体としての機能を有する。The insulating layer 1 is composed of a liquid crystal polymer layer 5 and a coating layer 6 formed by bonding an inorganic insulating powder with a polyphenylene ether-based organic substance adhered to the surface of the liquid crystal polymer layer 5. It has a function as a support for the mounted electronic component 7 and the wiring conductor 2.
【0021】なお、ここで液晶ポリマーとは、溶融時に
液晶状態あるいは光学的に複屈折する性質を有するポリ
マーを指し、一般に溶液状態で液晶性を示すリオトロピ
ック液晶ポリマーや溶融時に液晶性を示すサーモトロピ
ック液晶ポリマー、あるいは、熱変形温度で分類される
1型・2型・3型すべての液晶ポリマーを含むものであ
る。また、ポリフェニレンエーテル系有機物とは、ポリ
フェニレンエーテル樹脂やポリフェニレンエーテルに種
々の官能基が結合した樹脂、あるいはこれらの誘導体・
重合体を意味するものである。Here, the liquid crystal polymer refers to a polymer having a liquid crystal state or an optically birefringent property when melted, and generally a lyotropic liquid crystal polymer which exhibits liquid crystallinity in a solution state or a thermotropic liquid crystal polymer which exhibits liquid crystallinity when melted. It includes a liquid crystal polymer or a liquid crystal polymer of all types 1, 2, and 3 classified by heat distortion temperature. The polyphenylene ether-based organic material is a polyphenylene ether resin or a resin in which various functional groups are bonded to polyphenylene ether, or a derivative or a derivative thereof.
It means a polymer.
【0022】また、液晶ポリマーは、温度サイクル信頼
性・半田耐熱性・加工性の観点からは200〜400℃の温
度、特に250〜350℃の温度に融点を有するものが好まし
く、さらに、層としての物性を損なわない範囲内で、熱
安定性を改善するための酸化防止剤や耐光性を改善する
ための紫外線吸収剤等の光安定剤、難燃性を改善するた
めのハロゲン系もしくはリン酸系の難燃性剤、アンチモ
ン系化合物やホウ酸亜鉛・メタホウ酸バリウム・酸化ジ
ルコニウム等の難燃助剤、潤滑性を改善するための高級
脂肪酸や高級脂肪酸エステル・高級脂肪酸金属塩・フル
オロカーボン系界面活性剤等の滑剤、機械的強度を向上
するための酸化アルミニウム・酸化珪素・酸化チタン・
酸化バリウム・酸化ストロンチウム・酸化ジルコニウム
・酸化カルシウム・ゼオライト・窒化珪素・窒化アルミ
ニウム・炭化珪素・チタン酸カリウム・チタン酸バリウ
ム・チタン酸ストロンチウム・チタン酸カルシウム・ホ
ウ酸アルミニウム・スズ酸バリウム・ジルコン酸バリウ
ム・ジルコン酸ストロンチウム等の充填材を含有しても
よい。Further, the liquid crystal polymer preferably has a melting point at a temperature of 200 to 400 ° C., particularly 250 to 350 ° C., from the viewpoint of temperature cycle reliability, solder heat resistance and workability. Light stabilizers such as an antioxidant for improving thermal stability and an ultraviolet absorber for improving light resistance, and a halogen or phosphoric acid for improving flame retardancy, as long as the physical properties of the compound are not impaired. -Based flame retardants, antimony-based compounds, flame-retardant aids such as zinc borate, barium metaborate, and zirconium oxide; higher fatty acids and higher fatty acid esters to improve lubricity; higher fatty acid metal salts; and fluorocarbon-based interfaces Lubricants such as activators, aluminum oxide / silicon oxide / titanium oxide /
Barium oxide, strontium oxide, zirconium oxide, calcium oxide, zeolite, silicon nitride, aluminum nitride, silicon carbide, potassium titanate, barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum borate, barium stannate, barium zirconate -It may contain a filler such as strontium zirconate.
【0023】なお、上記の充填材等の粒子形状は、略球
状・針状・フレーク状等があり、充填性の観点からは略
球状が好ましい。また、粒子径は、通常0.1〜15μm程
度であり、液晶ポリマー層5の厚みよりも小さい。The particle shape of the above-mentioned filler and the like includes a substantially spherical shape, a needle shape, a flake shape and the like, and a substantially spherical shape is preferred from the viewpoint of filling properties. The particle size is usually about 0.1 to 15 μm, which is smaller than the thickness of the liquid crystal polymer layer 5.
【0024】さらに、液晶ポリマー層5は、ポリフェニ
レンエーテル系有機物により無機絶縁粉末を結合して成
る被覆層6との密着性を高めるために、その表面をバフ
研磨・ブラスト研磨・ブラシ研磨・プラズマ処理・コロ
ナ処理・紫外線処理・薬品処理等の方法を用いて中心線
表面粗さRaが0.05〜5μmの値となるように粗化して
おくことが好ましい。中心線表面粗さRaは、半田リフ
ローの際に液晶ポリマー層5と被覆層6との剥離を防止
するという観点からは0.05μm以上であることが好まし
く、表面に被覆層6を形成する際に空気のかみ込みを防
止するという観点からは5μm以下であることが好まし
い。Further, the surface of the liquid crystal polymer layer 5 is buffed, blasted, brushed, and plasma-treated in order to improve the adhesion with the coating layer 6 formed by binding an inorganic insulating powder with a polyphenylene ether-based organic substance. -It is preferable that the surface is roughened using a method such as corona treatment, ultraviolet treatment, or chemical treatment so that the center line surface roughness Ra has a value of 0.05 to 5 µm. The center line surface roughness Ra is preferably 0.05 μm or more from the viewpoint of preventing separation of the liquid crystal polymer layer 5 and the coating layer 6 during solder reflow. When the coating layer 6 is formed on the surface, From the viewpoint of preventing air entrapment, the thickness is preferably 5 μm or less.
【0025】また、ポリフェニレンエーテル系有機物に
より無機絶縁粉末を結合して成る被覆層6は、絶縁層1
に配線導体2を被着形成する際の接着剤の機能を有する
とともに、絶縁層1同士を積層する際の接着剤の役目を
果たす。The coating layer 6 formed by binding the inorganic insulating powder with a polyphenylene ether-based organic material forms the insulating layer 1
Has a function of an adhesive when the wiring conductor 2 is adhered and formed, and also functions as an adhesive when the insulating layers 1 are laminated.
【0026】被覆層6は、ポリフェニレンエーテル樹脂
やその誘導体、または、これらのポリマーアロイ等のポ
リフェニレンエーテル系有機物を20〜80体積%含有して
おり、とりわけ熱サイクル信頼性や積層時の位置精度の
観点からは、アリル変性ポリフェニレンエーテル等の熱
硬化性ポリフェニレンエーテルを含有することが好まし
い。The coating layer 6 contains 20 to 80% by volume of a polyphenylene ether-based organic material such as a polyphenylene ether resin or a derivative thereof, or a polymer alloy thereof. From the viewpoint, it is preferable to contain a thermosetting polyphenylene ether such as an allyl-modified polyphenylene ether.
【0027】なお、ポリフェニレンエーテル系有機物の
含有量が20体積%未満であると、混練性が低下する傾向
にあり、また、80体積%を超えると、液晶ポリマー層5
表面に被覆層6を形成する際に、被覆層6の厚みバラツ
キが大きくなる傾向がある。従って、ポリフェニレンエ
ーテル系有機物の含有量は、20〜80体積%の範囲が好ま
しい。If the content of the polyphenylene ether-based organic substance is less than 20% by volume, the kneadability tends to decrease, and if it exceeds 80% by volume, the liquid crystal polymer layer 5
When the coating layer 6 is formed on the surface, the thickness variation of the coating layer 6 tends to increase. Therefore, the content of the polyphenylene ether-based organic substance is preferably in the range of 20 to 80% by volume.
【0028】また、被覆層6は、液晶ポリマー層5との
接着性や配線導体2・貫通導体3との密着性を良好にす
るという観点からは、重合反応可能な官能基を2個以上
有する多官能性モノマーあるいは多官能性重合体等の添
加剤を含有することが好ましく、例えば、トリアリルシ
アヌレートやトリアリルイソシアヌレートおよびこれら
の重合体等を含有することが好ましい。The coating layer 6 has two or more functional groups capable of performing a polymerization reaction from the viewpoint of improving the adhesiveness to the liquid crystal polymer layer 5 and the adhesiveness to the wiring conductor 2 and the through conductor 3. It is preferable to contain an additive such as a polyfunctional monomer or a polyfunctional polymer. For example, it is preferable to contain triallyl cyanurate, triallyl isocyanurate, and a polymer thereof.
【0029】さらに、被覆層6は、液晶ポリマー層の上
下面に、それぞれポリフェニレンエーテル系有機物によ
り60〜80体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第1層6
aと、40〜60体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第2
層6bと、20〜40体積%の無機絶縁粉末を結合して成る
第3層6cとを順次積層して形成されている。また、本
発明においてはこのことが重要である。Further, the coating layer 6 comprises a first layer 6 formed by bonding 60 to 80% by volume of an inorganic insulating powder to the upper and lower surfaces of a liquid crystal polymer layer with a polyphenylene ether organic material.
a and 40 to 60% by volume of an inorganic insulating powder.
It is formed by sequentially laminating a layer 6b and a third layer 6c formed by bonding 20 to 40% by volume of inorganic insulating powder. This is important in the present invention.
【0030】本発明の多層配線基板4においては、被覆
層6を上記のような構成としたことから、第1層6aの
熱膨脹係数が液晶ポリマー層5の熱膨脹係数と近似し、
この結果、急激な温度変化をともなう温度サイクル試験
においても被覆層6にクラックが発生することがないも
のとすることができる。また、第3層6cの無機絶縁粉
末含有量を20〜40体積%と少ないものとしたことから、
被覆層6と配線導体2との密着性が悪くなって被覆層6
に配線導体2を被着形成することができなくなったり、
絶縁層1同士を接着する際、絶縁層1を形成する被覆層
6同士の密着性が悪くなって絶縁層1間で剥離して絶縁
性が低下してしまうということもない。In the multilayer wiring board 4 of the present invention, since the covering layer 6 is configured as described above, the thermal expansion coefficient of the first layer 6a approximates the thermal expansion coefficient of the liquid crystal polymer layer 5,
As a result, cracks can be prevented from occurring in the coating layer 6 even in a temperature cycle test involving a rapid temperature change. Further, since the content of the inorganic insulating powder in the third layer 6c is as small as 20 to 40% by volume,
The adhesion between the coating layer 6 and the wiring conductor 2 becomes poor, and the coating layer 6
The wiring conductor 2 cannot be formed on the
When the insulating layers 1 are bonded to each other, there is no possibility that the adhesion between the coating layers 6 forming the insulating layer 1 is deteriorated and the insulating layers 1 are separated and the insulating property is not deteriorated.
【0031】また、第1層6aの厚みは、被覆層6の厚
みをTとしたときに被覆層6の熱膨張係数を液晶ポリマ
ー層5の熱膨張係数と近似させるという観点からは0.2
T以上が好ましく、配線導体2を被覆層6に良好に埋設
するという観点からは0.3T未満が好ましい。また、第
2層6bの厚みは、第1層6aと第3層6cの熱膨張係
数の差によって生じる応力を緩和するという観点からは
0.4T以上が好ましく、第1層6aの熱膨張係数を液晶
ポリマー層5に近似させるという効果および第3層6c
の接着性を十分に発揮させるという観点からは0.6T以
下が好ましい。第3層6cの厚みは配設された配線導体
2との接着性を良好にするという観点からは0.2T以上
が好ましく、厚み方向の熱膨張による断線を防止すると
いう観点からは0.3T未満が好ましい。The thickness of the first layer 6a is 0.2 from the viewpoint that the thermal expansion coefficient of the coating layer 6 is approximated to that of the liquid crystal polymer layer 5 when the thickness of the coating layer 6 is T.
T or more is preferable, and from the viewpoint of satisfactorily embedding the wiring conductor 2 in the coating layer 6, it is preferably less than 0.3T. In addition, the thickness of the second layer 6b is determined from the viewpoint of reducing the stress caused by the difference in the coefficient of thermal expansion between the first layer 6a and the third layer 6c.
0.4T or more is preferable, the effect of approximating the thermal expansion coefficient of the first layer 6a to the liquid crystal polymer layer 5 and the effect of the third layer 6c
0.6T or less is preferable from the viewpoint of sufficiently exhibiting the adhesiveness of the above. The thickness of the third layer 6c is preferably 0.2T or more from the viewpoint of improving the adhesion to the disposed wiring conductor 2, and is preferably less than 0.3T from the viewpoint of preventing disconnection due to thermal expansion in the thickness direction. preferable.
【0032】さらに、第1層6aの無機絶縁粉末の含有
量は、液晶ポリマー層5の熱膨張係数と近似させるとい
う観点からは60体積%以上であることが好ましく、液晶
ポリマー層5および第2層6bとの接着性を良好にする
という観点からは80体積%以下であることが好ましい。
また、第2層6bの無機絶縁粉末の含有量は、第1層6
aとの熱膨張係数の差によって生じる応力を緩和すると
いう観点からは40体積%以上であることが好ましく、第
3層6cとの熱膨張係数の差によって生じる応力を緩和
するという観点からは60体積%以下であることが好まし
い。第3層6cの無機絶縁粉末の含有量は、絶縁層1を
積層する際の加圧過程において樹脂流れを防止するとい
う観点からは20体積%以上であることが好ましく、配線
導体2との接着性および第3層6c同士の接着性を良好
にするという観点からは40体積%以下であることが好ま
しい。Further, the content of the inorganic insulating powder in the first layer 6a is preferably not less than 60% by volume from the viewpoint of approximating the coefficient of thermal expansion of the liquid crystal polymer layer 5; From the viewpoint of improving the adhesion to the layer 6b, the content is preferably 80% by volume or less.
The content of the inorganic insulating powder in the second layer 6 b is
It is preferably 40% by volume or more from the viewpoint of relaxing the stress caused by the difference in thermal expansion coefficient from the third layer 6c, and from the viewpoint of relaxing the stress caused by the difference in the thermal expansion coefficient from the third layer 6c. It is preferable that the content is not more than% by volume. The content of the inorganic insulating powder in the third layer 6c is preferably 20% by volume or more from the viewpoint of preventing resin flow during the pressurization process when the insulating layer 1 is laminated. The content is preferably 40% by volume or less from the viewpoint of improving the properties and the adhesion between the third layers 6c.
【0033】このような被覆層6の厚みTは、10μm未
満であると第3層6cの厚みが2μm未満と薄くなりす
ぎて配線導体2との接着性が低下する傾向にあり、ま
た、100μmを超えると第3層6cが20μmを超える厚
さとなり絶縁層1を積層する際に第3層6c部で樹脂流
れを生じやすくなり位置ズレが生じる傾向にある。従っ
て、被覆層6の厚みTは10〜100μmの範囲であること
が好ましい。When the thickness T of the coating layer 6 is less than 10 μm, the thickness of the third layer 6 c becomes too thin as less than 2 μm, and the adhesiveness to the wiring conductor 2 tends to be reduced. If the thickness exceeds 3, the thickness of the third layer 6c exceeds 20 μm, and when the insulating layer 1 is laminated, resin flow is likely to occur in the third layer 6c, which tends to cause misalignment. Therefore, the thickness T of the coating layer 6 is preferably in the range of 10 to 100 μm.
【0034】また、被覆層6の無機絶縁粉末は、例えば
酸化アルミニウムや酸化珪素・酸化チタン・酸化バリウ
ム・酸化ストロンチウム・酸化ジルコニウム・酸化カル
シウム・ゼオライト・窒化珪素・窒化アルミニウム・炭
化珪素・チタン酸カリウム・チタン酸バリウム・チタン
酸ストロンチウム・チタン酸カルシウム・ホウ酸アルミ
ニウム・スズ酸バリウム・ジルコン酸バリウム・ジルコ
ン酸ストロンチウム等が用いられる。The inorganic insulating powder of the coating layer 6 is, for example, aluminum oxide, silicon oxide, titanium oxide, barium oxide, strontium oxide, zirconium oxide, calcium oxide, zeolite, silicon nitride, aluminum nitride, silicon carbide, potassium titanate. Barium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum borate, barium stannate, barium zirconate, strontium zirconate, etc. are used.
【0035】なお、上記の無機絶縁粉末の形状は、略球
状・針状・フレーク状等があり、充填性の観点からは、
略球状が好ましい。また、粒子径は、0.1〜15μm程度
であり、被覆層6の厚みよりも小さい。The shape of the above-mentioned inorganic insulating powder has a substantially spherical shape, a needle shape, a flake shape, and the like.
A substantially spherical shape is preferred. The particle diameter is about 0.1 to 15 μm, which is smaller than the thickness of the coating layer 6.
【0036】また、被覆層6は、その弾性率を調整する
ためのゴム成分や熱安定性を改善するための酸化防止
剤、耐光性を改善するための紫外線吸収剤等の光安定
剤、難燃性を改善するためのハロゲン系もしくはリン酸
系の難燃性剤、アンチモン系化合物やホウ酸亜鉛・メタ
ホウ酸バリウム・酸化ジルコニウム等の難燃助剤、潤滑
性を改善するための高級脂肪酸や高級脂肪酸エステルや
高級脂肪酸金属塩・フルオロカーボン系界面活性剤等の
滑剤、充填材との親和性を高めこれらの接合性向上と機
械的強度を高めるためのシラン系カップリング剤やチタ
ネート系カップリング剤等のカップリング剤を含有して
もよい。The coating layer 6 is made of a light stabilizer such as a rubber component for adjusting the elastic modulus, an antioxidant for improving thermal stability, and an ultraviolet absorber for improving light resistance. Halogen or phosphoric acid-based flame retardants to improve flammability, antimony compounds and flame-retardant aids such as zinc borate, barium metaborate, zirconium oxide, higher fatty acids to improve lubricity, Lubricants such as higher fatty acid esters, higher fatty acid metal salts and fluorocarbon surfactants, silane-based coupling agents and titanate-based coupling agents to improve affinity with fillers and improve their bonding properties and mechanical strength And the like.
【0037】このような絶縁層1は、例えば粒径が0.1
〜15μm程度の酸化珪素等の無機絶縁粉末に、乾燥後の
無機絶縁粉末の含有量が60〜80体積%となるように熱硬
化性ポリフェニレンエーテル樹脂および溶剤・可塑剤・
分散剤等を添加して得たペーストを液晶ポリマー層5の
上下表面に従来周知のドクタブレード法等のシート成型
法を採用して被覆層6の一部となる第1層6aを形成
し、あるいは上記のペースト中に液晶ポリマー層5を浸
漬し垂直に引き上げることによって液晶ポリマー層5の
表面に第1層6aを形成し、これを40〜100℃の温度で
5分〜3時間加熱・乾燥することにより絶縁層1表面に
第1層6aを被着させ、引き続いて、無機絶縁粉末の含
有量が40〜60体積%の第2層6bと含有量が20〜40体積
%の第3層6cとを第1層6aと同様の方法により順次
形成することにより製作される。あるいは、粒径が0.1
〜15μm程度の酸化珪素等の無機絶縁粉末に、乾燥後の
無機絶縁粉末の含有量が40〜60体積%となるように熱硬
化性ポリフェニレンエーテル樹脂および溶剤・可塑剤・
分散剤等を添加して粘度をせん断速度1000s-1において1
000〜3000Pa・sとしたペーストを液晶ポリマー層5の上
下表面に従来周知のドクタブレード法等のシート成型法
を採用して被覆層6を塗布し、30〜50℃で15〜60分の1
次乾燥後、60〜100℃で15〜60分の2次乾燥を行うこと
により、無機絶縁粉末の沈降によって液晶ポリマー層5
側に無機絶縁粉末の含有量が60〜80体積%である第1層
6a、その上に無機絶縁粉末の含有量が40〜60体積%で
ある第2層6b、さらにその上に無機絶縁粉末の含有量
が20〜40体積%である第3層6cを一度に形成すること
も可能である。この場合の第1層6a、第2層6bおよ
び第3層6cは、それぞれの厚み・無機絶縁粉末含有量
をペーストの粘度や乾燥温度・乾燥時間を調整すること
により所望の厚み・含有量とすることができる。The insulating layer 1 has a particle size of, for example, 0.1
A thermosetting polyphenylene ether resin and a solvent, a plasticizer, etc., so that the content of the inorganic insulating powder after drying is 60 to 80% by volume in an inorganic insulating powder such as silicon oxide of about 15 μm or so.
A paste obtained by adding a dispersant or the like is formed on the upper and lower surfaces of the liquid crystal polymer layer 5 by using a sheet forming method such as a conventionally known doctor blade method to form a first layer 6a to be a part of the coating layer 6, Alternatively, the first layer 6a is formed on the surface of the liquid crystal polymer layer 5 by immersing the liquid crystal polymer layer 5 in the above paste and vertically pulling it up, and heating and drying at a temperature of 40 to 100 ° C. for 5 minutes to 3 hours. Then, the first layer 6a is deposited on the surface of the insulating layer 1, and subsequently, the second layer 6b having an inorganic insulating powder content of 40 to 60% by volume and the third layer 6 having a content of 20 to 40% by volume. 6c is sequentially formed by the same method as the first layer 6a. Alternatively, the particle size is 0.1
A thermosetting polyphenylene ether resin and a solvent, a plasticizer, etc., so that the content of the inorganic insulating powder after drying is about 40 to 60% by volume in an inorganic insulating powder such as silicon oxide of about 15 μm or so.
Add a dispersant, etc. to increase the viscosity at a shear rate of 1000 s -1
The paste having a thickness of 000 to 3000 Pa · s is coated on the upper and lower surfaces of the liquid crystal polymer layer 5 by using a sheet forming method such as a doctor blade method which is well known in the art.
After the secondary drying, the secondary drying is performed at 60 to 100 ° C. for 15 to 60 minutes, and the liquid crystal polymer layer 5
On the side, a first layer 6a having a content of inorganic insulating powder of 60 to 80% by volume, a second layer 6b having a content of inorganic insulating powder of 40 to 60% by volume, and an inorganic insulating powder thereon It is also possible to form the third layer 6c having a content of 20 to 40% by volume at a time. In this case, the first layer 6a, the second layer 6b, and the third layer 6c have the desired thickness and content by adjusting the thickness and the content of the inorganic insulating powder by adjusting the viscosity of the paste and the drying temperature and the drying time. can do.
【0038】なお、絶縁層1は高耐熱性・低吸湿性・高
寸法安定性を確保するという観点からは、液晶ポリマー
層5の厚みを被覆層6の厚みTの1〜20倍としておくこ
とが好ましい。The thickness of the liquid crystal polymer layer 5 should be 1 to 20 times the thickness T of the coating layer 6 from the viewpoint of ensuring high heat resistance, low moisture absorption, and high dimensional stability. Is preferred.
【0039】また、絶縁層1には、上下面の少なくとも
1つの面に配線導体2が被着形成されている。配線導体
2は、その厚みが2〜30μm程度で銅・金等の良導電性
の金属箔から成り、多層配線基板4に搭載される電子部
品7を外部電気回路(図示せず)に電気的に接続する機
能を有する。The wiring conductor 2 is formed on at least one of the upper and lower surfaces of the insulating layer 1. The wiring conductor 2 has a thickness of about 2 to 30 μm and is made of a highly conductive metal foil such as copper or gold, and electrically connects the electronic components 7 mounted on the multilayer wiring board 4 to an external electric circuit (not shown). It has the function of connecting to
【0040】このような配線導体2は、絶縁層1を複数
層積層する際、配線導体2の周囲にボイドが発生するこ
とを防止するという観点から、被覆層6に少なくとも配
線導体2の表面と被覆層6の表面とが平坦となるように
埋設されていることが好ましい。また、配線導体2を被
覆層6に埋設する際に、被覆層6の乾燥状態での気孔率
を3〜40体積%としておくと、配線導体2周囲の被覆層
6の樹脂盛り上がりを生じさせず平坦化することができ
るとともに配線導体2と被覆層6の間に挟まれる空気の
排出を容易にして気泡の巻き込みを防止することができ
る。なお、乾燥状態での気孔率が40体積%を超えると、
複数層積層した絶縁層1を加圧・加熱硬化した後に、被
覆層6内に気孔が残存してしまい、この気孔が空気中の
水分を吸着して被覆層6の絶縁性を低下させてしまうお
それがあるので、被覆層6の乾燥状態での気孔率を3〜
40体積%の範囲としておくことが好ましい。In order to prevent the occurrence of voids around the wiring conductor 2 when a plurality of insulating layers 1 are laminated, such a wiring conductor 2 has at least the surface of the wiring conductor 2 on the covering layer 6. It is preferable that the surface of the coating layer 6 is buried so as to be flat. When the porosity of the coating layer 6 in the dry state is set to 3 to 40% by volume when the wiring conductor 2 is embedded in the coating layer 6, the resin swelling of the coating layer 6 around the wiring conductor 2 does not occur. The flattening can be performed, and the air trapped between the wiring conductor 2 and the coating layer 6 can be easily discharged to prevent air bubbles from being trapped. When the porosity in the dry state exceeds 40% by volume,
After pressurizing and heating and curing the laminated insulating layer 1, pores remain in the coating layer 6, and the pores adsorb moisture in the air and reduce the insulating property of the coating layer 6. Since there is a possibility that the porosity of the coating layer 6 in a dry state is 3 to
It is preferable to set the range to 40% by volume.
【0041】このような被覆層6の乾燥状態での気孔率
は、被覆層6を液晶ポリマー層5の表面上に塗布し乾燥
する際に、乾燥温度や昇温速度等の乾燥条件を適宜調整
することにより気孔率を所望の値とすることができる。The porosity of the coating layer 6 in the dry state can be adjusted by appropriately controlling the drying conditions such as the drying temperature and the heating rate when the coating layer 6 is applied on the surface of the liquid crystal polymer layer 5 and dried. By doing so, the porosity can be set to a desired value.
【0042】また、配線導体2は、被覆層6との密着性
の観点から、配線導体2の下面が被覆層6の第2層6b
または第3層6cに位置するように埋設されることが好
ましい。配線導体2の下面が被覆層6の第1層6aに位
置する場合、第1層6aは、その無機絶縁粉末の含有量
が60〜80体積%と多いために、配線導体2との密着性に
劣り、被覆層6と配線導体2との界面で剥離を生じる傾
向にある。従って、配線導体2は、その下面が被覆層6
の第2層6bまたは第3層6cに位置することが重要
で、特に、第3層6cに位置することが好ましい。The lower surface of the wiring conductor 2 is formed on the second layer 6 b of the coating layer 6 from the viewpoint of the adhesion to the coating layer 6.
Alternatively, it is preferable to be buried so as to be located in the third layer 6c. When the lower surface of the wiring conductor 2 is located on the first layer 6 a of the coating layer 6, the first layer 6 a has a high content of the inorganic insulating powder of 60 to 80% by volume, so that the adhesion to the wiring conductor 2 is large. At the interface between the coating layer 6 and the wiring conductor 2. Therefore, the lower surface of the wiring conductor 2 has the coating layer 6.
It is important to be located on the second layer 6b or the third layer 6c, and particularly preferably located on the third layer 6c.
【0043】さらに、絶縁層1に配設された配線導体2
の幅方向の断面形状を、絶縁層1側の底辺の長さが対向
する底辺の長さよりも短い台形状とするとともに、絶縁
層1側の底辺と側辺との成す角度を95〜150°とするこ
とが好ましい。絶縁層1に配設された配線導体2の幅方
向の断面形状を、絶縁層1側の底辺の長さが対向する底
辺の長さよりも短い台形状とするとともに、絶縁層1側
の底辺と側辺との成す角度を95〜150°とすることによ
り、配線導体2を被覆層6に埋設する際に、配線導体2
を被覆層6に容易に埋設することができる。なお、気泡
をかみ込むことなく埋設するという観点からは、絶縁層
1側の底辺と側辺との成す角度を95°以上とすることが
好ましく、配線導体2を微細化するという観点からは15
0°以下とすることが好ましい。Further, the wiring conductor 2 provided on the insulating layer 1
Has a trapezoidal shape in which the length of the base on the insulating layer 1 side is shorter than the length of the opposing base, and the angle between the base and the side on the insulating layer 1 side is 95 to 150 °. It is preferable that The cross-sectional shape in the width direction of the wiring conductor 2 disposed on the insulating layer 1 is trapezoidal in which the length of the base on the side of the insulating layer 1 is shorter than the length of the opposite base, and the width of the base on the side of the insulating layer 1 By setting the angle between the side and the side at 95 to 150 °, when the wiring conductor 2 is embedded in the coating layer 6, the wiring conductor 2
Can be easily embedded in the coating layer 6. In addition, from the viewpoint of burying without entrapping air bubbles, it is preferable that the angle between the bottom side and the side of the insulating layer 1 is 95 ° or more, and from the viewpoint of miniaturizing the wiring conductor 2, it is 15 °.
Preferably, it is 0 ° or less.
【0044】このような配線導体2は、絶縁層1となる
前駆体シートに、公知のフォトレジストを用いたサブト
ラクティブ法によりパターン形成した例えば銅から成る
金属箔を転写法等により被着形成することにより形成さ
れる。先ず、支持体と成るフィルム上に銅から成る金属
箔を接着剤を介して接着した金属箔転写用フィルムを用
意し、次に、フィルム上の金属箔を公知のフォトレジス
トを用いたサブトラクティブ法を使用してパターン状に
エッチングする。この時、パターンの表面側の側面は、
フィルム側の側面に較べてエッチング液に接する時間が
長いためにエッチングされやすく、パターンの幅方向の
断面形状を台形状とすることができる。なお、台形の形
状は、エッチング液の濃度やエッチング時間を調整する
ことにより短い底辺と側辺とのなす角度を95〜150°の
台形状とすることができる。そして、この金属箔転写用
フィルムを絶縁層1と成る前駆体シートに積層し、温度
が100〜200℃で圧力が0.5〜10MPaの条件で10分〜1
時間ホットプレスした後、支持体と成るフィルムを剥離
除去して金属箔を絶縁層1と成る前駆体シート表面に転
写させることにより、台形状の上底側がポリフェニレン
エーテル系有機物から成る被覆層6に埋設された配線導
体2を形成することができる。Such a wiring conductor 2 is formed by depositing a metal foil made of, for example, copper, which is patterned by a subtractive method using a known photoresist, on a precursor sheet to be the insulating layer 1 by a transfer method or the like. It is formed by this. First, a metal foil transfer film is prepared by bonding a metal foil made of copper on a film serving as a support with an adhesive, and then the metal foil on the film is subjected to a subtractive method using a known photoresist. Is used to etch in a pattern. At this time, the side surface on the front side of the pattern
Since the contact time with the etching solution is longer than that of the side surface on the film side, etching is easy, and the cross-sectional shape in the width direction of the pattern can be trapezoidal. The trapezoidal shape can be formed into a trapezoidal shape in which the angle between the short base and the side is 95 to 150 ° by adjusting the concentration of the etching solution and the etching time. Then, this metal foil transfer film is laminated on a precursor sheet to be the insulating layer 1, and the temperature is 100 to 200 ° C. and the pressure is 0.5 to 10 MPa for 10 minutes to 1 hour.
After hot pressing for a period of time, the film serving as the support is peeled off and the metal foil is transferred to the surface of the precursor sheet serving as the insulating layer 1, so that the trapezoidal upper and lower sides become the coating layer 6 made of a polyphenylene ether-based organic material. The buried wiring conductor 2 can be formed.
【0045】なお、配線導体2の下面の位置は、金属箔
転写時のホットプレスの圧力を調整することにより被覆
層6の所望の領域に配置することができる。また、配線
導体2は被覆層6との密着性を高めるためにその表面に
バフ研磨・ブラスト研磨・ブラシ研磨・薬品処理等の処
理で表面を粗化しておくことが好ましい。The position of the lower surface of the wiring conductor 2 can be arranged in a desired area of the coating layer 6 by adjusting the pressure of the hot press during the transfer of the metal foil. The surface of the wiring conductor 2 is preferably roughened by a process such as buffing, blasting, brushing, or chemical treatment in order to enhance the adhesion to the coating layer 6.
【0046】また、絶縁層1には、直径が20〜150μm
程度の貫通導体3が形成されている。貫通導体3は、絶
縁層1を挟んで上下に位置する配線導体2を電気的に接
続する機能を有し、絶縁層1にレーザにより穿設加工を
施すことにより貫通孔を形成した後、この貫通孔に銅・
銀・金・半田等から成る導電性ペーストを従来周知のス
クリーン印刷法により埋め込むことにより形成される。The insulating layer 1 has a diameter of 20 to 150 μm.
The through conductor 3 is formed to a degree. The through conductor 3 has a function of electrically connecting the wiring conductors 2 positioned above and below the insulating layer 1, and after forming a through hole by drilling the insulating layer 1 with a laser, Copper /
It is formed by embedding a conductive paste made of silver, gold, solder or the like by a conventionally known screen printing method.
【0047】本発明の多層配線基板4によれば、絶縁層
1を液晶ポリマー層5の上下面に無機絶縁粉末をポリフ
ェニレンエーテル系有機物により結合して成る被覆層6
を形成して成るものとしたことから、液晶ポリマー層5
とポリフェニレンエーテル系有機物から成る被覆層6の
誘電率が低くてほぼ等しいことから、100MHz以上の
高周波領域における伝送特性に優れるとともに、積層の
際にわずかな厚みばらつきが生じても高周波領域におけ
る伝送特性の低下を生じることのない高周波伝送特性に
優れた多層配線基板4とすることでき、また、液晶ポリ
マー層5が高耐熱性・高弾性率・高寸法安定性・低吸湿
性であり、ガラスクロスのような強化材を用いなくとも
絶縁層1を構成することが可能となり、その結果、レー
ザによる穿設加工が容易となり微細で均一な貫通孔を形
成できる。According to the multilayer wiring board 4 of the present invention, the insulating layer 1 is formed on the upper and lower surfaces of the liquid crystal polymer layer 5 by coating the inorganic insulating powder with a polyphenylene ether organic material.
Formed from the liquid crystal polymer layer 5
And the coating layer 6 made of a polyphenylene ether-based organic material has a low dielectric constant and is almost equal to each other, so that it has excellent transmission characteristics in a high-frequency region of 100 MHz or more, and even if a slight thickness variation occurs during lamination, the transmission characteristics in a high-frequency region The liquid crystal polymer layer 5 has high heat resistance, high elastic modulus, high dimensional stability, low moisture absorption, and glass cloth. It is possible to form the insulating layer 1 without using a reinforcing material as described above, and as a result, drilling with a laser is facilitated and fine and uniform through holes can be formed.
【0048】このような多層配線基板4は、上述したよ
うな方法で製作した絶縁層1と成る前駆体シートの所望
の位置に貫通導体3を形成した後、パターン形成した例
えば銅の金属箔を、温度が100〜200℃で圧力が0.5〜10
MPaの条件で10分〜1時間ホットプレスして転写し、
これらを積層して最終的に温度が150〜300℃で圧力が0.
5〜10MPaの条件で30分〜24時間ホットプレスして完
全硬化させることにより製作される。In such a multilayer wiring board 4, after forming the through conductor 3 at a desired position on the precursor sheet to be the insulating layer 1 manufactured by the method described above, a patterned metal foil of, for example, copper is formed. , Temperature is 100 ~ 200 ℃ and pressure is 0.5 ~ 10
Transfer by hot pressing under the condition of MPa for 10 minutes to 1 hour,
These are laminated and finally the temperature is 150-300 ° C and the pressure is 0.
It is manufactured by hot-pressing under conditions of 5 to 10 MPa for 30 minutes to 24 hours to completely cure.
【0049】かくして、本発明の多層配線基板4によれ
ば、絶縁層1を、液晶ポリマー層5の上下面に、それぞ
れポリフェニレンエーテル系有機物により60〜80体積%
の無機絶縁粉末を結合して成る第1層6aと、40〜60体
積%の無機絶縁粉末を結合して成る第2層6bと、20〜
40体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第3層6cとを
順次積層して成る被覆層6を形成して成るものとしたこ
とから、被覆層6において液晶ポリマー層5と接する第
1層6aの熱膨脹係数が液晶ポリマー層5の熱膨脹係数
と近似し、この結果、急激な温度変化をともなう温度サ
イクル試験においても被覆層6にクラックが発生するこ
とはなく、信頼性の高い多層配線基板4とすることがで
きる。また、第3層6cの無機絶縁粉末含有量を20〜40
体積%と少ないものとしたことから、被覆層6と配線導
体2との密着性が悪くなって被覆層6に配線導体2を被
着形成することができなくなったり、絶縁層1同士を接
着する際、絶縁層1を形成する被覆層6同士の密着性が
悪くなって絶縁層1間で剥離して絶縁性が低下してしま
うということもない。Thus, according to the multilayer wiring board 4 of the present invention, the insulating layer 1 is formed on the upper and lower surfaces of the liquid crystal polymer layer 5 by 60-80% by volume of a polyphenylene ether organic material.
A first layer 6a formed by combining inorganic insulating powders of the following, a second layer 6b formed by combining 40 to 60% by volume of inorganic insulating powder,
Since the coating layer 6 is formed by sequentially laminating a third layer 6c formed by bonding 40% by volume of inorganic insulating powder, the first layer in contact with the liquid crystal polymer layer 5 in the coating layer 6 is formed. 6a is close to the thermal expansion coefficient of the liquid crystal polymer layer 5. As a result, no cracks occur in the coating layer 6 even in a temperature cycle test involving a rapid temperature change, and the highly reliable multilayer wiring board 4 It can be. Further, the content of the inorganic insulating powder in the third layer 6c is set to 20 to 40.
Since the volume% is small, the adhesion between the coating layer 6 and the wiring conductor 2 is deteriorated, so that the wiring conductor 2 cannot be formed on the coating layer 6 or the insulating layers 1 are bonded to each other. In this case, the adhesion between the coating layers 6 forming the insulating layer 1 is not deteriorated, and the insulating properties are not degraded due to the separation between the insulating layers 1.
【0050】なお、本発明の多層配線基板4は上述の実
施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱し
ない範囲であれば種々の変更は可能であり、例えば、上
述の実施例では4層の絶縁層1を積層することによって
多層配線基板4を製作したが、2層や3層、あるいは5
層以上の絶縁層1を積層して多層配線基板4を製作して
もよい。また、本発明の多層配線基板4の上下表面に、
1層や2層、あるいは3層以上の有機樹脂を主成分とす
る絶縁層から成るビルドアップ層やソルダーレジスト層
を形成してもよい。The multilayer wiring board 4 of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. Manufactured the multilayer wiring board 4 by laminating the four insulating layers 1;
The multilayer wiring board 4 may be manufactured by laminating more than one insulating layer 1. Further, on the upper and lower surfaces of the multilayer wiring board 4 of the present invention,
One, two, or three or more build-up layers or solder resist layers composed of an insulating layer mainly containing an organic resin may be formed.
【0051】[0051]
【実施例】 次に本発明の多層配線基板を、以下のサ
ンプルを製作して評価した。(実施例) 先ず、熱硬
化性ポリフェニレンエーテル樹脂に平均粒径が0.6μm
の球状溶融シリカをその含有量が乾燥状態で70体積%と
なるように加え、これに溶剤としてトルエン、さらに有
機樹脂の硬化を促進させるための触媒を添加し、1時間
混合してペーストを調整した。次に、融点が320℃の液
晶ポリマー層の表面をプラズマ処理して厚さが35μmで
中心線表面粗さRaが0.10μmの液晶ポリマー層を用意
し、この液晶ポリマー層の上面に上記ペーストをドクタ
ーブレード法により塗布し、厚さ約10μmの乾燥状態の
熱硬化性ポリフェニレンエーテルから成る第1層を形成
した。そして、この上に球状溶融シリカ含有量が乾燥状
態で50体積%となるように調整したペーストを同様の方
法で塗布し厚さ約20μmの第2層を形成した。さらに、
この上に球状溶融シリカ含有量が乾燥状態で30体積%と
なるように調整したペーストを同様の方法で塗布し厚さ
約10μmの第3層を形成した。また、この液晶ポリマー
層の下面にも同様に第1層、第2層、第3層を製作し、
絶縁層となる前駆体シートを得た。EXAMPLES Next, the following samples were manufactured and evaluated for the multilayer wiring board of the present invention. (Example) First, a thermosetting polyphenylene ether resin has an average particle size of 0.6 μm.
Is added so that the content becomes 70% by volume in a dry state, and toluene is added as a solvent, and a catalyst for accelerating the curing of the organic resin is added thereto, and mixed for 1 hour to prepare a paste. did. Next, the surface of the liquid crystal polymer layer having a melting point of 320 ° C. is subjected to plasma treatment to prepare a liquid crystal polymer layer having a thickness of 35 μm and a center line surface roughness Ra of 0.10 μm, and the above paste is applied to the upper surface of the liquid crystal polymer layer. It was applied by a doctor blade method to form a first layer of thermosetting polyphenylene ether in a dry state having a thickness of about 10 μm. Then, a paste adjusted so that the spherical fused silica content was 50% by volume in a dry state was applied thereon in the same manner to form a second layer having a thickness of about 20 μm. further,
A paste adjusted to have a spherical fused silica content of 30% by volume in a dry state was applied thereon by the same method to form a third layer having a thickness of about 10 μm. Similarly, a first layer, a second layer, and a third layer are manufactured on the lower surface of the liquid crystal polymer layer.
A precursor sheet to be an insulating layer was obtained.
【0052】次に、この前駆体シートに、CO2レーザ
により直径65μmの貫通孔を形成し、この貫通孔に銅粉
末と有機バインダを含有する導体ペーストをスクリーン
印刷により埋め込むことにより貫通導体を形成した。Next, a through hole having a diameter of 65 μm was formed in the precursor sheet by a CO 2 laser, and a conductive paste containing copper powder and an organic binder was embedded in the through hole by screen printing to form a through conductor. did.
【0053】さらに、回路状に形成した厚さ12μmの銅
箔が付いた転写用支持フィルムと、貫通導体が形成され
た絶縁層となる前駆体シートとを位置合わせして真空積
層機により3MPaの圧力で30秒加圧した後、転写用支
持フィルムを剥離して配線導体を前駆体シート上に埋設
した。最後に、この配線導体が形成された前駆体シート
を4枚重ね合わせ、3MPaの圧力・200℃の温度で5
時間加熱処理して完全硬化させて多層配線基板を得た。Further, a transfer supporting film having a 12 μm-thick copper foil formed in a circuit shape and a precursor sheet to be an insulating layer having a through conductor formed thereon are aligned with each other, and are subjected to 3 MPa by a vacuum laminator. After applying pressure for 30 seconds, the transfer support film was peeled off, and the wiring conductor was embedded on the precursor sheet. Finally, four precursor sheets on which the wiring conductors are formed are superimposed, and a pressure of 3 MPa and a temperature of 200 ° C.
A heating treatment was performed for a period of time to complete the curing, thereby obtaining a multilayer wiring board.
【0054】また、絶縁性の評価を行うためのテスト基
板は、配線幅50μm、配線間隔50μmの櫛歯状パターン
の配線導体を多層配線基板内に形成し、また、温度サイ
クル耐性の評価を行うためのテスト基板は、その内部に
多層配線基板の絶縁層を介して位置する上下の2層の配
線導体と両者を電気的に接続する貫通導体とでビアチェ
ーンを形成したものとした。In a test board for evaluating insulation, a wiring conductor having a comb-tooth pattern with a wiring width of 50 μm and a wiring interval of 50 μm is formed in a multilayer wiring board, and the temperature cycle resistance is evaluated. The test board used for this test had a via chain formed of two upper and lower wiring conductors located inside the insulating layer of the multilayer wiring board and through conductors electrically connecting the two.
【0055】(比較例1)比較例1用として用いた多層
配線基板は、液晶ポリマー層に球状溶融シリカ含有量が
乾燥状態で50体積%となるよう調整したペーストをドク
ターブレード法により塗布することにより厚さ40μmの
被覆層を形成すること以外は、実施例1と同様の方法で
製作した。(Comparative Example 1) The multilayer wiring board used for Comparative Example 1 was prepared by applying a paste adjusted so that the spherical fused silica content was 50% by volume in a dry state to a liquid crystal polymer layer by a doctor blade method. The procedure was performed in the same manner as in Example 1 except that a coating layer having a thickness of 40 μm was formed.
【0056】なお、比較例1用として用いた多層配線基
板の被覆層の厚みは40μmであり、液晶ポリマー層と被
覆層との界面から10μmの範囲内においてはシリカ含有
量は51体積%であり、10〜30μmの範囲内においては50
体積%であり、また、30〜40μmの範囲内においては49
体積%であり、被覆層のシリカ含有量はほぼ均一であっ
た。The thickness of the coating layer of the multilayer wiring board used for Comparative Example 1 was 40 μm, and the silica content was 51% by volume within a range of 10 μm from the interface between the liquid crystal polymer layer and the coating layer. , Within the range of 10-30 μm
% By volume, and 49% in the range of 30 to 40 μm.
% By volume, and the silica content of the coating layer was almost uniform.
【0057】(比較例2)比較例2用として用いた多層
配線基板は、液晶ポリマー層に球状溶融シリカ含有量が
乾燥状態で70体積%となるよう調整したペーストをドク
ターブレード法により塗布することにより厚さ40μmの
被覆層を形成すること以外は、実施例1と同様の方法で
製作した。Comparative Example 2 The multilayer wiring board used for Comparative Example 2 was prepared by applying a paste adjusted so that the content of spherical fused silica was 70% by volume in a dry state to a liquid crystal polymer layer by a doctor blade method. The procedure was performed in the same manner as in Example 1 except that a coating layer having a thickness of 40 μm was formed.
【0058】なお、比較例2用として用いた多層配線基
板の被覆層の厚みは40μmであり、液晶ポリマー層と被
覆層との界面から10μmの範囲内においてはシリカ含有
量は72体積%であり、10〜30μmの範囲内においては70
体積%であり、また、30〜40μmの範囲内においては68
体積%であり、被覆層のシリカ含有量はほぼ均一であっ
た。The thickness of the coating layer of the multilayer wiring board used for Comparative Example 2 was 40 μm, and the silica content was 72% by volume within a range of 10 μm from the interface between the liquid crystal polymer layer and the coating layer. , 70 in the range of 10-30 μm
% By volume, and 68% within the range of 30 to 40 μm.
% By volume, and the silica content of the coating layer was almost uniform.
【0059】絶縁性の評価は、試料を温度が130℃、相
対湿度が85%の条件で、印加電圧5.5Vの高温バイアス
試験を行い、300時間後の配線導体間の絶縁抵抗を測定
し、試験前後の変化量を比較することにより評価した。
また、温度サイクル耐性の評価は、試料を温度が-55℃
の条件で30分、125℃の条件で30分を1サイクルとする
温度サイクル試験を行い、2000サイクル後のビアチェー
ンの導通抵抗を測定し、試験前後の変化量を比較するこ
とにより評価した。The insulation was evaluated by subjecting the sample to a high-temperature bias test with an applied voltage of 5.5 V at a temperature of 130 ° C. and a relative humidity of 85%, and measuring the insulation resistance between the wiring conductors after 300 hours. Evaluation was made by comparing the amount of change before and after the test.
In addition, the evaluation of temperature cycle resistance was performed by setting the sample to -55 ° C.
A temperature cycle test was performed with one cycle of 30 minutes at 125 ° C. and 30 minutes at 125 ° C., the conduction resistance of the via chain after 2,000 cycles was measured, and the amount of change before and after the test was evaluated.
【0060】表1に絶縁性の評価結果を、表2に温度サ
イクル耐性の評価結果を示す。Table 1 shows the evaluation results of the insulation properties, and Table 2 shows the evaluation results of the temperature cycle resistance.
【0061】[0061]
【表1】 [Table 1]
【0062】[0062]
【表2】 [Table 2]
【0063】表1からは、比較例2の多層配線基板が高
温バイアス試験300時間後の絶縁抵抗が2.9×105Ωと極
端に低くなり、耐熱性に劣ることがわかった。また、表
2からは、比較例1の多層配線基板が温度サイクル試験
2000サイクル後の導通抵抗の変化率が21%となり、温度
サイクル耐性に劣ることがわかった。From Table 1, it was found that the multilayer wiring board of Comparative Example 2 had an extremely low insulation resistance of 2.9 × 10 5 Ω after 300 hours of the high-temperature bias test, and was inferior in heat resistance. Table 2 shows that the multilayer wiring board of Comparative Example 1 was subjected to the temperature cycle test.
The rate of change of the conduction resistance after 2000 cycles was 21%, indicating that the temperature cycle resistance was poor.
【0064】それらに対して本発明の多層配線基板は、
高温バイアス試験300時間後でも絶縁抵抗は2.3×1010Ω
と大きく、また、温度サイクル試験2000サイクル後でも
変化率が3%と小さいという優れたものであった。On the other hand, the multilayer wiring board of the present invention
2.3 × 10 10 Ω insulation resistance even after 300 hours of high temperature bias test
And the rate of change was as small as 3% even after 2000 cycles of the temperature cycle test.
【0065】[0065]
【発明の効果】本発明の多層配線基板によれば、絶縁層
を、液晶ポリマー層の上下面に、それぞれポリフェニレ
ンエーテル系有機物により60〜80体積%の無機絶縁粉末
を結合して成る第1層と、40〜60体積%の無機絶縁粉末
を結合して成る第2層と、20〜40体積%の無機絶縁粉末
を結合して成る第3層とを順次積層して成る被覆層を形
成して成るものとしたことから、被覆層において液晶ポ
リマー層と接する第1層の熱膨脹係数が液晶ポリマー層
の熱膨脹係数と近似し、この結果、急激な温度変化をと
もなう温度サイクル試験においても被覆層にクラックが
発生することはなく、信頼性の高い多層配線基板とする
ことができる。また、第3層の無機絶縁粉末含有量を20
〜40体積%と少ないものとしたことから、被覆層と配線
導体との密着性が悪くなって被覆層に配線導体を被着形
成することができなくなったり、絶縁層同士を接着する
際、絶縁層を形成する被覆層同士の密着性が悪くなって
絶縁層間で剥離して絶縁性が低下してしまうということ
もない。According to the multilayer wiring board of the present invention, the insulating layer is formed on the upper and lower surfaces of the liquid crystal polymer layer by bonding a 60-80% by volume of inorganic insulating powder with a polyphenylene ether organic material. And a second layer formed by combining 40 to 60% by volume of inorganic insulating powder, and a third layer formed by combining 20 to 40% by volume of inorganic insulating powder to form a coating layer. Therefore, the thermal expansion coefficient of the first layer in contact with the liquid crystal polymer layer in the coating layer approximates the thermal expansion coefficient of the liquid crystal polymer layer. As a result, even in a temperature cycle test involving a sudden temperature change, Cracks do not occur and a highly reliable multilayer wiring board can be obtained. Further, the content of the inorganic insulating powder in the third layer is set to 20.
4040% by volume, the adhesion between the coating layer and the wiring conductor deteriorates, making it impossible to form the wiring conductor on the coating layer. It does not occur that the adhesion between the coating layers forming the layer is deteriorated and the insulating properties are reduced due to separation between the insulating layers.
【0066】さらに、本発明の多層配線基板によれば、
ポリフェニレンエーテル系有機物を熱硬化性ポリフェニ
レンエーテルとしたことから、硬化後のポリフェニレン
エーテル系有機物から成る被覆層の溶融変形が小さいも
のとなり、絶縁層を順次積層して多層配線基板を形成す
る際の加熱・加圧による貫通導体と配線導体との位置ず
れが生じにくい導通信頼性に優れた多層配線基板とする
ことができる。Further, according to the multilayer wiring board of the present invention,
Since the polyphenylene ether-based organic material is a thermosetting polyphenylene ether, the coating layer made of the cured polyphenylene ether-based organic material has a small melting deformation, and is heated when the insulating layers are sequentially laminated to form a multilayer wiring board. -It is possible to provide a multilayer wiring board with excellent conduction reliability in which displacement between the through conductor and the wiring conductor due to pressure is less likely to occur.
【図1】本発明の多層配線基板に半導体素子を搭載して
成る混成集積回路の実施の形態の一例を示す断面図であ
る。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a hybrid integrated circuit in which a semiconductor element is mounted on a multilayer wiring board of the present invention.
【図2】 本発明の多層配線基板の要部拡大断面図であ
る。FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of the multilayer wiring board of the present invention.
1・・・・・絶縁層 2・・・・・配線導体 3・・・・・貫通導体 4・・・・・多層配線基板 5・・・・・液晶ポリマー層 6・・・・・被覆層 6a・・・・第1層 6b・・・・第2層 6c・・・・第3層 T・・・・・被覆層の厚み 1 ... insulating layer 2 ... wiring conductor 3 ... through conductor 4 ... multilayer wiring board 5 ... liquid crystal polymer layer 6 ... coating layer 6a: first layer 6b: second layer 6c: third layer T: thickness of coating layer
フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AA20 AK01A AK54B AK54C AK54D AK54E AS00A BA05 BA06 BA07 BA10C BA27 CA30B CA30C CA30D CA30E EH46 GB43 JG04 JJ03 YY00B YY00C YY00D YY00E 5E346 AA12 AA15 AA43 CC02 CC08 CC32 DD02 DD12 DD32 EE02 EE08 EE14 FF01 FF18 Continued on the front page F-term (reference) 4F100 AA20 AK01A AK54B AK54C AK54D AK54E AS00A BA05 BA06 BA07 BA10C BA27 CA30B CA30C CA30D CA30E EH46 GB43 JG04 JJ03 YY00B YY00C YY00D YY00E 5E346 AA02 CC
Claims (2)
導体を挟んで積層するとともに、前記絶縁層を挟んで上
下に位置する前記配線導体間を前記絶縁層に形成された
貫通導体を介して電気的に接続して成る多層配線基板で
あって、前記絶縁層は、液晶ポリマー層の上下面に、そ
れぞれポリフェニレンエーテル系有機物により60〜8
0体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第1層と、40
〜60体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第2層と、
20〜40体積%の無機絶縁粉末を結合して成る第3層
とを順次積層して成る被覆層を形成して成ることを特徴
とする多層配線基板。1. A plurality of insulating layers are laminated with a wiring conductor made of a metal foil interposed therebetween, and a through conductor formed in the insulating layer is formed between the wiring conductors located above and below the insulating layer. A multi-layer wiring board electrically connected to each other via a liquid crystal polymer layer, wherein the insulating layer is formed on the upper and lower surfaces of the liquid crystal polymer layer by a polyphenylene ether-based organic material.
A first layer formed by bonding 0% by volume of an inorganic insulating powder;
A second layer formed by bonding 無機 60% by volume of an inorganic insulating powder;
A multilayer wiring board comprising a coating layer formed by sequentially laminating a third layer formed by bonding 20 to 40% by volume of an inorganic insulating powder.
熱硬化性に変成したポリフェニレンエーテルであること
を特徴とする請求項1記載の多層配線基板。2. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the polyphenylene ether-based organic substance is a thermosetting polyphenylene ether.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001126385A JP2002324978A (en) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | Multilayer wiring board |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001126385A JP2002324978A (en) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | Multilayer wiring board |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family Applications (1)
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| JP2001126385A Pending JP2002324978A (en) | 2001-02-28 | 2001-04-24 | Multilayer wiring board |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010153571A (en) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Shinko Electric Ind Co Ltd | Wiring board and manufacturing method therefor |
-
2001
- 2001-04-24 JP JP2001126385A patent/JP2002324978A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2010153571A (en) * | 2008-12-25 | 2010-07-08 | Shinko Electric Ind Co Ltd | Wiring board and manufacturing method therefor |
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