JP2002323630A - Method and apparatus for manufacturing optical circuit by liquid ejector - Google Patents
Method and apparatus for manufacturing optical circuit by liquid ejectorInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 短い時間、安いコストで光回路を作製するこ
とができる光回路の製造方法およびその装置を提供する
こと。
【解決手段】 基板に液体 好ましくは紫外線硬化性透
明樹脂で光導波路となる線を描くことを特徴とする光回
路を作製する方法および装置。ノズルから液体を基板に
向けて吐出し、ノズルまたは基板を移動させて光導波
路、好ましくは回路パターンとなる線を描くこと、好ま
しくはその後、紫外線を照射して硬化する、必要により
それを被覆するように透明樹脂薄膜層を有する基板全体
に光導波路より大きい屈折率を有する透明樹脂薄膜層を
形成する。必要によりノズルを２重にしその円周部分か
らそれぞれ液体を吐出できる構造のものとしたこと、中
心から屈折率が高く紫外線の照射によって透明度の高い
固化物に硬化する液体を吐出させ、その周囲から屈折率
が低く紫外線の照射によって硬化する液体を吐出させ
て、中心部分は屈折率が高く、外周部は屈折率が低い光
ファイバ状の線を吐出させてする。
(57) [Problem] To provide an optical circuit manufacturing method and apparatus capable of manufacturing an optical circuit in a short time at a low cost. A method and apparatus for producing an optical circuit, characterized by drawing a line to be an optical waveguide with a liquid, preferably an ultraviolet-curable transparent resin, on a substrate. A liquid is ejected from the nozzle toward the substrate, and the nozzle or the substrate is moved to draw a line that becomes an optical waveguide, preferably a circuit pattern. As described above, a transparent resin thin film layer having a larger refractive index than the optical waveguide is formed on the entire substrate having the transparent resin thin film layer. If necessary, the nozzle is doubled so that the liquid can be discharged from the circumference of the nozzle. The liquid that has a high refractive index from the center and hardens to a highly transparent solidified substance by irradiation with ultraviolet rays is discharged from the center, A liquid having a low refractive index and being cured by irradiation with ultraviolet rays is discharged, and an optical fiber line having a high refractive index at the center portion and a low refractive index at the outer peripheral portion is discharged.
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光を用いた通信機
器、光を用いた各種機器、制御装置、配線等を主な利用
分野とする光信号を伝達する光配線および合波、分波を
始め各種の光信号を処理する光回路を液体吐出機を用い
て製造する方法および装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical wiring for transmitting optical signals, and multiplexing and demultiplexing, which are mainly used for communication equipment using light, various equipment using light, a control device, wiring and the like. And a method and apparatus for manufacturing an optical circuit for processing various optical signals using a liquid ejector.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の光回路の作製方法は、半導体集積
回路の作製方法を用いていた。例えばシリコン基板の上
に石英膜を形成し、これを半導体集積回路作製プロセス
で用いられる光露光装置でパターンを作製し、真空槽の
中で反応性エッチングプロセスを経て光回路パターンを
作製する。また、高分子系の光回路の作製も石英膜が高
分子膜に変わるだけでその作製方法は上記と同じ半導体
集積回路の作製方法である。2. Description of the Related Art A conventional method for manufacturing an optical circuit uses a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit. For example, a quartz film is formed on a silicon substrate, a pattern is formed on the quartz film using a light exposure apparatus used in a semiconductor integrated circuit manufacturing process, and an optical circuit pattern is formed through a reactive etching process in a vacuum chamber. Further, the production method of a polymer-based optical circuit is the same as that of the above-described semiconductor integrated circuit, except that the quartz film is changed to a polymer film.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の作
製方法は、作製に要する時間が長く、コストも極めて高
いという欠点があった。また、製造装置に関しては各プ
ロセスの製造装置を揃えるために莫大な費用を要し、ま
た、従来の半導体集積回路の作製方法に用いたプロセス
では一度回路パターンを決めてフォトマスクを作製する
とその変更には新たなフォトマスクを作製しなくてはな
らず、回路パターンの変更は容易でなかった。そこで、
本発明は、短い時間、安いコストで光回路を作製するこ
とができる光回路の製造方法およびその装置を提供する
ことを目的とする。より詳細には、本発明は、半導体集
積回路作成プロセスで用いられる光露光プロセス、真空
層による反応性エッチングプロセス等高コストで時間の
要するプロセスを用いないで、短い時間、安いコストで
光回路を作製することができる光回路の製造方法および
その装置を提供することを目的とする。However, the above-mentioned conventional manufacturing method has the drawback that the time required for the manufacturing is long and the cost is extremely high. In addition, manufacturing equipment requires enormous costs to prepare the manufacturing equipment for each process, and in the process used in the conventional method of manufacturing a semiconductor integrated circuit, once a circuit pattern is determined and a photomask is manufactured, the change is made. In this case, a new photomask had to be manufactured, and it was not easy to change the circuit pattern. Therefore,
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an optical circuit and an apparatus therefor, which can manufacture an optical circuit in a short time at a low cost. More specifically, the present invention provides an optical circuit at a short time and at a low cost without using a high-cost and time-consuming process such as a light exposure process used in a semiconductor integrated circuit manufacturing process and a reactive etching process using a vacuum layer. It is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing an optical circuit that can be manufactured.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は、基板に液体、
好ましくは紫外線硬化性透明樹脂で光導波路となる線を
描くことを特徴とする光回路を作製する方法を要旨とし
ている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for forming a liquid on a substrate.
A gist of the present invention is a method of manufacturing an optical circuit, which is preferably characterized by drawing a line to be an optical waveguide with an ultraviolet-curable transparent resin.
【０００５】ノズルから液体を基板に向けて吐出し、ノ
ズルまたは基板を移動させて光導波路、好ましくは回路
パターンとなる線を描くことを特徴としており、その場
合、本発明は、ノズルから液体を基板に向けて吐出し、
ノズルまたは基板を移動させて、基板に液体、好ましく
は紫外線硬化性透明樹脂で光導波路、好ましくは回路パ
ターンとなる線を描くことを特徴とする光回路を作製す
る方法である。A liquid is discharged from a nozzle toward a substrate, and the nozzle or the substrate is moved to draw a line serving as an optical waveguide, preferably a circuit pattern. Discharge toward the substrate,
This is a method for producing an optical circuit characterized by drawing an optical waveguide, preferably a circuit pattern line, with a liquid, preferably an ultraviolet-curable transparent resin, on a substrate by moving a nozzle or a substrate.
【０００６】光導波路となる線を描いた後、紫外線を照
射して硬化しており、その場合、本発明は、基板に液
体、好ましくは紫外線硬化性透明樹脂で光導波路、好ま
しくは回路パターンとなる線を描き、より具体的にはノ
ズルから液体を基板に向けて吐出し、ノズルまたは基板
を移動させて、基板に液体、好ましくは紫外線硬化性透
明樹脂で光導波路、好ましくは回路パターンとなる線を
描き、その後、紫外線を照射して硬化することを特徴と
する光回路を作製する方法である。After drawing a line to be an optical waveguide, the substrate is cured by irradiating ultraviolet rays. In this case, the present invention relates to a method of forming an optical waveguide, preferably a circuit pattern, on a substrate using a liquid, preferably an ultraviolet-curable transparent resin. Draw a line, more specifically, eject the liquid from the nozzle toward the substrate, move the nozzle or the substrate, the liquid to the substrate, preferably an optical waveguide with ultraviolet-curable transparent resin, preferably a circuit pattern This is a method for producing an optical circuit characterized by drawing a line and then irradiating with ultraviolet light to cure the line.
【０００７】上記の線を描く側に透明樹脂薄膜層を有す
る基板を用いており、好ましくは上記の線を紫外線を照
射して硬化した後、それを被覆するように基板全体に透
明樹脂薄膜層を形成するか、あるいはそれに沿って透明
樹脂薄膜層で覆っており、さらに好ましくは透明樹脂薄
膜層が光導波路より大きい屈折率を有しており、その場
合、本発明は、線を描く側に透明樹脂薄膜層を有する基
板に液体、好ましくは紫外線硬化性透明樹脂で光導波
路、好ましくは回路パターンとなる線を描き、より具体
的にはノズルから液体を基板の透明樹脂薄膜層に向けて
吐出し、ノズルまたは基板を移動させて、基板の透明樹
脂薄膜層に液体、好ましくは紫外線硬化性透明樹脂で光
導波路、好ましくは回路パターンとなる線を描き、その
後、紫外線を照射して硬化すること、さらに好ましくは
硬化後、それを被覆するように基板全体に透明樹脂薄膜
層を形成するか、あるいはそれに沿って透明樹脂薄膜層
で覆うこと、さらに好ましくは透明樹脂薄膜層が光導波
路より大きい屈折率を有していることを特徴とする光回
路を作製する方法である。A substrate having a transparent resin thin film layer on the side where the above-mentioned lines are drawn is used. Preferably, the above-mentioned lines are cured by irradiating ultraviolet rays, and then the entire surface of the substrate is covered with the transparent resin thin-film layer so as to cover it. Or covered along with the transparent resin thin film layer, more preferably the transparent resin thin film layer has a refractive index larger than the optical waveguide, in which case, the present invention, on the line drawing side Draw a line to be an optical waveguide, preferably a circuit pattern, with a liquid, preferably an ultraviolet-curable transparent resin, on a substrate having a transparent resin thin film layer, and more specifically, discharge the liquid from a nozzle toward the transparent resin thin film layer of the substrate. Then, by moving the nozzle or the substrate, a liquid is drawn on the transparent resin thin film layer of the substrate, preferably a line which becomes an optical waveguide, preferably a circuit pattern with an ultraviolet-curable transparent resin, and thereafter, is irradiated with ultraviolet light. Curing, more preferably, after curing, forming a transparent resin thin film layer on the entire substrate so as to cover it, or covering it with a transparent resin thin film layer, more preferably the transparent resin thin film layer is an optical waveguide This is a method for producing an optical circuit having a higher refractive index.
【０００８】ノズルを２重にしその円周部分からそれぞ
れ液体を吐出できる構造のものとしており、好ましくは
中心から屈折率が高く紫外線の照射によって透明度の高
い固化物に硬化する液体を吐出させ、その周囲から屈折
率が低く紫外線の照射によって透明度の高い固化物に硬
化する液体を吐出させて、中心部分は屈折率が高く、外
周部は屈折率が低い光ファイバ状の線を吐出させてして
おり、その場合、本発明は、２重にしその円周部分から
それぞれ液体を吐出できる構造のノズルから液体を基板
に向けて吐出し、好ましくは中心から屈折率が高く紫外
線の照射によって透明度の高い固化物に硬化する液体を
吐出させ、その周囲から屈折率が低く紫外線の照射によ
って透明度の高い固化物に硬化する液体を吐出させて、
中心部分は屈折率が高く、外周部は屈折率が低い光ファ
イバ状の線を吐出させ、ノズルまたは基板を移動させ
て、基板に液体、好ましくは紫外線硬化性透明樹脂で光
導波路、好ましくは回路パターンとなる線を描くことを
特徴としており、好ましくはその後、紫外線を照射して
硬化することを特徴とする光回路を作製する方法であ
る。[0008] The nozzle is doubled so that the liquid can be ejected from the circumference thereof. Preferably, a liquid having a high refractive index and being hardened into a solidified material having high transparency by irradiation of ultraviolet rays is ejected from the center. By discharging a liquid that hardens into a solidified material with low refractive index and high transparency by irradiating ultraviolet rays from the surroundings, an optical fiber line with a high refractive index at the center and a low refractive index at the outer periphery is discharged at the center. In such a case, the present invention discharges the liquid toward the substrate from a nozzle having a structure capable of discharging the liquid from the circumferential portion thereof, and preferably has a high refractive index from the center and high transparency by irradiation with ultraviolet rays. The liquid that cures to the solidified material is discharged, and the liquid that cures to the solidified material that has a low refractive index and high transparency by irradiation with ultraviolet rays is discharged from around the liquid,
The central part has a high refractive index, and the outer peripheral part discharges an optical fiber line having a low refractive index, moves the nozzle or the substrate, and applies a liquid, preferably an ultraviolet-curable transparent resin, to the substrate, an optical waveguide, preferably a circuit. A method for producing an optical circuit characterized by drawing a line serving as a pattern, and preferably curing the film by irradiating ultraviolet rays thereafter.
【０００９】また、本発明は、ノズルから液体を吐出す
る装置と基板を載せるステージと紫外線照射装置からな
り、ノズルから紫外線の照射によって透明度の高い固化
物に硬化する液体を液体を基板に向けて吐出し、ノズル
または基板を移動させて光導波路を描いた後、紫外線を
照射して光回路を作製できる光回路製造装置を要旨とし
ている。Further, the present invention comprises a device for discharging liquid from a nozzle, a stage on which a substrate is mounted, and an ultraviolet irradiation device, and directs the liquid, which is cured to a highly transparent solidified substance by irradiation of ultraviolet light from the nozzle, toward the substrate. The gist of the present invention is an optical circuit manufacturing apparatus capable of manufacturing an optical circuit by discharging, moving a nozzle or a substrate to draw an optical waveguide, and then irradiating ultraviolet rays.
【００１０】ノズルを２重にしその円周部分からそれぞ
れ液体を吐出できる構造のものとしており、その場合、
本発明は、２重にしその円周部分からそれぞれ液体を吐
出できる構造のものとしたノズルから液体を吐出する装
置と基板を載せるステージと紫外線照射装置からなり、
ノズルから紫外線の照射によって透明度の高い固化物に
硬化する液体を基板に向けて吐出し、ノズルまたは基板
を移動させて光導波路を描いた後、紫外線を照射して光
回路を作製できる光回路製造装置である。[0010] The nozzle has a double structure so that liquid can be ejected from the circumference thereof.
The present invention comprises a device for discharging liquid from a nozzle having a structure capable of discharging liquid from a circumferential portion thereof, and a stage for mounting a substrate and an ultraviolet irradiation device,
An optical circuit manufacturing that discharges a liquid that hardens to a highly transparent solidified substance by irradiating ultraviolet light from a nozzle toward a substrate, moves the nozzle or substrate, draws an optical waveguide, and then irradiates ultraviolet light to produce an optical circuit Device.
【００１１】[0011]
【発明の実施形態】本出願人らは、基板上にペースト状
の各種材料をパターンに塗布することのできる液体吐出
装置を開発し（特願平１０−３０２５２２、特願平１０
−３０９１７９、特願平１０−３７３６４１、特願平１
１−１２８９１６、特願平１１−１４９６４７、特願平
１１−１５４０００など）、きわめて細密な塗布を可能
にした。これらの液体吐出装置は、電子計算機の記憶装
置に記憶されたプログラムにしたがって駆動制御される
ピストンまたは空気圧によって、シリンジ内の液体をノ
ズルから定量吐出させて描画するものであり、本発明
は、このような液体吐出装置の有する利点を生かし、光
回路の作製に適用すべく改良を施し、上記従来技術の問
題点を解決した。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present applicants have developed liquid ejecting apparatuses capable of applying various paste-like materials on a substrate in a pattern (Japanese Patent Application Nos. 10-302522 and 10-302).
309179, Japanese Patent Application No. 10-373641, Japanese Patent Application No. 1
1-1128916, Japanese Patent Application No. 11-149647, Japanese Patent Application No. 11-154000, etc.), and extremely fine coating was enabled. These liquid discharge devices are designed to discharge a fixed amount of liquid in a syringe from a nozzle by a piston or air pressure that is driven and controlled according to a program stored in a storage device of an electronic computer, and to perform drawing. Taking advantage of the advantages of such a liquid ejection apparatus, the present invention has been improved so as to be applied to the production of an optical circuit, and the above-mentioned problems of the prior art have been solved.
【００１２】基板に光導波路となる線を描く液体、すな
わち、ノズルから基板に向けて吐出する液体は、紫外線
の照射によって透明度の高い固化物、光導波路すなわち
に硬化する材料の透明度の良い液体であればよく、その
ような性質を有する紫外線硬化型高分子材料を液化した
液体を用いる。上記の液体で光導波路となる線を描く基
板は、線を描く側に透明樹脂薄膜層を有し、また、線を
描いた後、紫外線を照射して硬化した後、それを被覆す
るように基板全体に透明樹脂薄膜層を形成する。これら
の透明樹脂薄膜層も紫外線硬化型高分子材料を用いて形
成する。基板に塗布する透明樹脂薄膜層厚さは２０〜５
０μｍ程度である。光導波路を形成した固化物と透明樹
脂薄膜層を形成した固化物の屈折率の関係などについて
説明する。紫外線硬化型高分子材料は屈折率の制御が可
能である。コアおよびクラッドの屈折率をｎ1，ｎ2とす
ると、ｎ1＜ｎ2が条件である。すなわち、透明樹脂薄膜
層が光導波路より大きい屈折率を有する。さらに非屈折
率差Δ＝（ｎ1 2・ｎ2 2）／２ｎ1 2を０．３以上が望まし
い。Δが大きければ曲げに対する光損失が少なくなり、
より小さな光回路を形成できる。The liquid which draws a line serving as an optical waveguide on the substrate, that is, the liquid discharged from the nozzle toward the substrate is a solidified substance having a high transparency by irradiation of ultraviolet rays, or a liquid having a high transparency which is a material hardened into the optical waveguide, ie, the optical waveguide. A liquid obtained by liquefying an ultraviolet curable polymer material having such properties is used. The substrate for drawing a line that becomes an optical waveguide with the above liquid has a transparent resin thin film layer on the side where the line is drawn, and after drawing the line, irradiates with ultraviolet light and cures, so as to cover it. A transparent resin thin film layer is formed on the entire substrate. These transparent resin thin film layers are also formed using an ultraviolet curable polymer material. The thickness of the transparent resin thin film layer applied to the substrate is 20 to 5
It is about 0 μm. The relationship between the refractive index of the solidified material on which the optical waveguide is formed and the refractive index of the solidified material on which the transparent resin thin film layer is formed will be described. UV-curable polymer materials can control the refractive index. Assuming that the refractive indices of the core and the clad are n 1 and n 2 , n 1 <n 2 is a condition. That is, the transparent resin thin film layer has a higher refractive index than the optical waveguide. Further non-refractive index difference Δ = (n 1 2 · n 2 2) / 2n 1 2 0.3 or more. If Δ is large, the optical loss for bending is reduced,
A smaller optical circuit can be formed.
【００１３】本発明の好ましい態様は以下のとおりであ
る。 （１）ノズルから紫外線の照射によって硬化する透明度
の良い液体を基板に向けて吐出し、ノズルまたは基板を
移動させて光導波路を描いた後、紫外線を照射して光回
路を作製する方法であることを特徴とする。 （２）紫外線の照射によって硬化する透明度の良い液体
を用い、上記（１）の方法で光導波路を作製した後、そ
の光導波路を最初に塗布した液体を再塗布し、紫外線を
用いて硬化させて光回路を作製する方法であることを特
徴とする。 （３）紫外線の照射によって硬化する透明
度の良い液体を用い、上記（１）の方法で光回路パター
ンを作製した後、最初に塗布した液体を用いて請求項１
の方法で前記光回路パターンの上に沿って吐出させて覆
い、紫外線を用いて硬化させて光回路を作製する方法で
あることを特徴とする。The preferred embodiments of the present invention are as follows. (1) A method in which a liquid having good transparency that is cured by irradiation of ultraviolet rays from a nozzle is discharged toward a substrate, and the nozzle or the substrate is moved to draw an optical waveguide, and then ultraviolet rays are irradiated to produce an optical circuit. It is characterized by the following. (2) An optical waveguide is prepared by the method of (1) above using a liquid having a high degree of transparency which is cured by irradiation with ultraviolet light, and the liquid in which the optical waveguide is first applied is re-applied and cured using ultraviolet light. In which an optical circuit is manufactured. (3) An optical circuit pattern is prepared by the method of (1) using a liquid having good transparency which is cured by irradiation with ultraviolet light, and then the liquid applied first is used.
The method is characterized in that the optical circuit is formed by discharging along the optical circuit pattern by the method described above and covering the same, followed by curing using ultraviolet light.
【００１４】上記の（１）〜（３）の方法を実施するた
めの装置の好ましい態様は、ノズルから液体を吐出する
装置と基板を載せるステージと紫外線照射装置からな
り、ノズルから紫外線の照射によって硬化する透明度の
良い液体を液体を基板に向けて吐出し、ノズルまたは基
板を移動させて光導波路を描いた後、紫外線を照射して
光回路を作製できる光回路製造装置であることを特徴と
する。この光回路製造装置の好ましい具体的態様につい
て説明する。Ｘ軸モータおよびＹ軸モータの回転が直線
運動に変換されることによりＸＹ平面を自由に移動可能
であるテーブルに載置された基板は、液体が吐出される
ノズルの先端と対向しており、シリンジに貯留される液
体で基板上に所望する形状に塗布描画が可能である。一
端にノズルが接続された液体を貯留するシリンジのもう
一端は、圧送チューブを介して液体吐出機（ディスペン
サー）と連通している。液体吐出機は、所望圧力を所望
時間だけシリンジ７にエアーを供給し、シリンジ７の液
体に推進力を与えることができる。シリンジと紫外線照
射器は、Ｚ軸モータが回転に応じて上下方向に移動可能
である。所望形状に塗布描画した後に、紫外線照射器が
照射する紫外線を、描画パターンの始点から終点まで順
次照射させて液材を硬化させる。A preferred embodiment of the apparatus for carrying out the above methods (1) to (3) comprises an apparatus for discharging liquid from a nozzle, a stage on which a substrate is mounted, and an ultraviolet irradiation apparatus. An optical circuit manufacturing apparatus that discharges a liquid with good transparency to be cured toward a substrate, draws an optical waveguide by moving a nozzle or a substrate, and then irradiates ultraviolet rays to produce an optical circuit. I do. Preferred specific embodiments of the optical circuit manufacturing apparatus will be described. The substrate placed on the table that can freely move on the XY plane by converting the rotation of the X-axis motor and the Y-axis motor into linear motion is opposed to the tip of the nozzle from which the liquid is discharged, The liquid stored in the syringe can be applied and drawn on a substrate in a desired shape. The other end of the syringe, which has one end connected to the nozzle and stores the liquid, communicates with a liquid discharger (dispenser) via a pressure feeding tube. The liquid discharger can supply air to the syringe 7 at a desired pressure for a desired time to give a propulsive force to the liquid in the syringe 7. The syringe and the ultraviolet irradiator can move up and down according to the rotation of the Z-axis motor. After coating and drawing in a desired shape, the liquid material is cured by sequentially irradiating ultraviolet rays emitted from an ultraviolet irradiator from the start point to the end point of the drawing pattern.
【００１５】また、本発明の好ましい別の態様は以下の
とおりである。 （４）ノズルを２重にしその円周部分からそれぞれ液体
を吐出できる構造とし、中心から屈折率が高く紫外線の
照射によって硬化する透明度の良い液体を吐出させ、そ
の周囲から屈折率が低く紫外線の照射によって硬化する
透明度のよう液体を吐出させて、中心部分は屈折率が高
く、外周部は屈折率が低い光ファイバ状の線を吐出させ
て作製し、ノズルまたは基板を移動させて光導波路を描
いた後、紫外線を照射して光回路を作製する方法である
ことを特徴とする。Another preferred embodiment of the present invention is as follows. (4) A structure in which the nozzle is doubled so that liquid can be ejected from the circumferential portion thereof, and a liquid having a high refractive index and a high degree of transparency which is cured by irradiation with ultraviolet rays is ejected from the center, and a liquid crystal having a low refractive index and a low refractive index from the periphery The liquid is ejected like transparency that is hardened by irradiation, the center part has a high refractive index, and the outer part is made by ejecting an optical fiber wire with a low refractive index, and the nozzle or substrate is moved to form an optical waveguide. The method is characterized in that an optical circuit is manufactured by irradiating ultraviolet light after drawing.
【００１６】上記（４）の方法を実施するための装置の
好ましい態様は、二重にしたノズルから液体を吐出する
装置と基板を載せるステージと紫外線照射装置からな
り、ノズルから紫外線の照射によって硬化する透明度の
良い液体を基板に向けて吐出し、ノズルまたは基板を移
動させて光導波回路を描いた後、紫外線を照射して光回
路を作製できる光回路製造装置であることを特徴とす
る。この光回路製造装置の好ましい具体的態様について
説明する。液体吐出機の先端にコアとグラッドを同時に
描画する２重ノズルが組み込まれる。２重ノズルは内側
ノズル吐出口と外側のノズル吐出口よりなり、中心とそ
の円周部分からそれぞれ液体を吐出できる構造としたも
のである。なお、内側ノズルは、屈折率が低く紫外線の
照射によって硬化する透明度の良い液体を吐出させる液
体吐出機に接続され、外側ノズルは、屈折率が高く紫外
線の照射によって硬化する透明度の良い液体を吐出させ
る液体吐出機に接続されている。 上記のノズルを用
い、内側のノズルからは屈折率が低く紫外線の照射によ
って硬化する透明度の良い液体を、その周囲から屈折率
が高く紫外線の照射によって硬化する透明度の良い液体
を吐出させ、中心部分が屈折率の低く外側が屈折率が高
い光ファイバ状の線によって、基板上に所望のパターン
を形成し、その後紫外線を照射して硬化させて光回路を
作製する。A preferred embodiment of the apparatus for carrying out the above method (4) comprises an apparatus for discharging liquid from a double nozzle, a stage on which a substrate is mounted, and an ultraviolet irradiation apparatus, which is cured by irradiation of ultraviolet light from the nozzle. An optical circuit manufacturing apparatus is capable of producing an optical circuit by discharging a liquid having high transparency toward a substrate, moving a nozzle or a substrate to draw an optical waveguide circuit, and then irradiating ultraviolet rays. Preferred specific embodiments of the optical circuit manufacturing apparatus will be described. A double nozzle for simultaneously drawing the core and the grad is incorporated at the tip of the liquid discharger. The double nozzle has an inner nozzle discharge port and an outer nozzle discharge port, and has a structure capable of discharging liquid from the center and the circumference thereof. The inner nozzle is connected to a liquid discharger that discharges a liquid having a low refractive index and having good transparency that is cured by irradiation with ultraviolet rays, and the outer nozzle is a liquid that has a high refractive index and discharges a liquid having good transparency that is cured by irradiation with ultraviolet light. Connected to the liquid ejector to be operated. Using the above nozzle, a liquid with a high transparency that is cured by irradiation with ultraviolet light with a low refractive index is discharged from the inner nozzle, and a liquid with a high transparency that is cured by irradiation with ultraviolet light with a high refractive index is discharged from the surrounding area, and the central portion is discharged. An optical circuit is formed by forming a desired pattern on a substrate with an optical fiber line having a low refractive index and a high refractive index on the outside, and then irradiating with ultraviolet light to cure the pattern.
【００１７】[0017]
【作用】紫外線の照射によって硬化する透明度の良い液
体を基板に均一に塗布し、紫外線を照射して硬化させて
層を形成し、次に、液体塗布装置用いて、屈折率が前記
の液体より大きい紫外線の照射によって硬化する透明度
の良い液体によって、上記層上に光回路パターン状に塗
布し、紫外線を照射して光回路パターンを形成し、さら
に、最初に塗布した液体を用いて請求項１の方法で前記
光回路パターンの上に沿って吐出させて覆い、紫外線を
用いて硬化させて光回路を作製すると、上下の層部分と
光回路構成部分とは光の屈折率の異なる光回路が得られ
る。A liquid having a high degree of transparency, which is cured by irradiation with ultraviolet rays, is uniformly applied to a substrate, and the layer is formed by irradiating with ultraviolet rays and cured to form a layer. An optical circuit pattern is formed on the layer by applying a liquid having a high degree of transparency, which is cured by irradiation of large ultraviolet rays, and an ultraviolet light is applied to form an optical circuit pattern. Further, the liquid applied first is used. When the optical circuit is formed by discharging and covering along the optical circuit pattern by the method described above, and curing using ultraviolet light, the upper and lower layer portions and the optical circuit component portion have different optical refractive indices. can get.
【００１８】[0018]
【実施例】以下本発明の詳細を実施例にもとづいて説明
する。本発明はこれらの実施例によって何ら限定される
ことはない。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of the present invention will be described below based on embodiments. The present invention is not limited by these examples.
【００１９】実施例１ 図１は本発明の好ましい態様の（１）の方法によって作
製した光回路の概略図であり、図中、１は基板、２は基
板１の上に形成された屈折率の高い紫外線硬化液体によ
る薄膜（紫外線を照射して固化済み）、３は屈折率の低
い紫外線硬化液体が液体吐出機によって形成された光導
波路（紫外線を照射して固化済み）、４は光導波路３を
被覆するように形成された屈折率の高い紫外線硬化液体
による薄膜（紫外線を照射して固化済み）である。Example 1 FIG. 1 is a schematic view of an optical circuit manufactured by the method (1) according to a preferred embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a substrate, and 2 is a refractive index formed on the substrate 1. 3 is an optical waveguide formed by a liquid discharger of an ultraviolet curable liquid having a low refractive index (solidified by irradiating ultraviolet light); 4 is an optical waveguide 3 is a thin film (solidified by irradiating ultraviolet rays) of an ultraviolet-curable liquid having a high refractive index and formed so as to cover 3.
【００２０】上記の光回路を製造するには、まず、基板
上に屈折率の高い紫外線硬化液体をスピンコーターで均
一に塗布し、これに紫外線装置で紫外線を均一に照射
し、固化させる。次に液体吐出機をによって線幅３０〜
５０ミクロンの光導波路を屈曲率の低い紫外線硬化液体
を用いて光導波路を描く。描いた光導波路に紫外線装置
で紫外線を一様に照射し、固化させる。なお、光導波路
を描く場合、液体吐出機を動かして描けば良い。あるい
は液体吐出機を固定し、基板１を固定したステージを動
かしても良い。In order to manufacture the above-mentioned optical circuit, first, an ultraviolet curable liquid having a high refractive index is uniformly applied on a substrate by a spin coater, and the applied liquid is uniformly irradiated with ultraviolet light by an ultraviolet device to be solidified. Next, a line width of 30 to
An optical waveguide of 50 μm is drawn using an ultraviolet curable liquid having a low bending rate. The drawn optical waveguide is uniformly irradiated with ultraviolet rays by an ultraviolet ray device and solidified. In addition, when drawing an optical waveguide, it suffices to draw by moving a liquid discharger. Alternatively, the liquid ejector may be fixed, and the stage on which the substrate 1 is fixed may be moved.
【００２１】このようにして作成した光導波路は導入し
た光を光導波路外へ漏洩することなく光の導入部から出
口まで伝達できるものであり、また、上記の例は線幅が
光導波路３０〜５０ミクロンであるため、伝達する光は
マルチモードとなる。線幅基板１０ミクロン以下にすれ
ばシングルモードの光の伝達が可能である。The optical waveguide thus produced can transmit the introduced light from the light introduction portion to the exit without leaking the introduced light to the outside of the optical waveguide. Since it is 50 microns, the transmitted light is multi-mode. If the line width substrate is set to 10 μm or less, single mode light can be transmitted.
【００２２】実施例２ 図２は本発明の好ましい態様の（２）の方法によって作
製した光回路の概略図であり、図中、１は基板、２は基
板１の上に形成された屈折率の高い紫外線硬化液体によ
る薄膜（紫外線を照射して固化済み）、３は屈折率の低
い紫外線硬化液体が液体吐出機によって形成された光導
波路（紫外線を照射して固化済み）、５は光導波路３の
みを被覆するように形成された屈折率の高い紫外線硬化
液体による被覆（紫外線を照射して固化済み）である。Example 2 FIG. 2 is a schematic view of an optical circuit manufactured by the method (2) in a preferred embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a substrate, and 2 is a refractive index formed on the substrate 1. 3 is an optical waveguide formed by a liquid discharger of an ultraviolet curable liquid having a low refractive index (solidified by irradiating ultraviolet light), 5 is an optical waveguide This is a coating with a high-refractive-index ultraviolet-curable liquid formed so as to cover only No. 3 (solidified by irradiation with ultraviolet light).
【００２３】上記の光回路を製造するには、まず、基板
上に屈折率の高い紫外線硬化液体をスピンコーターで均
一に塗布し、これに紫外線装置で紫外線を均一に照射
し、固化させる。次に液体吐出機をによって線幅３０〜
５０ミクロンの光導波路を屈曲率の低い紫外線硬化液体
を用いて光導波路を描く。描いた光導波路に紫外線装置
で紫外線を一様に照射し、固化させる。さらに、液体吐
出機によって光導波路３の外径（光導波路３０〜５０ミ
クロン）より大きく薄膜２００〜５００ミクロンで形成
し、紫外線装置で紫外線を一様に照射し、固化させる。In order to manufacture the above-mentioned optical circuit, first, an ultraviolet curable liquid having a high refractive index is uniformly applied on a substrate by a spin coater, and the liquid is uniformly irradiated with ultraviolet light by an ultraviolet device to be solidified. Next, a line width of 30 to
An optical waveguide of 50 μm is drawn using an ultraviolet curable liquid having a low bending rate. The drawn optical waveguide is uniformly irradiated with ultraviolet rays by an ultraviolet ray device and solidified. Further, a thin film having a thickness of 200 to 500 microns larger than the outer diameter of the optical waveguide 3 (optical waveguide 30 to 50 microns) is formed by a liquid discharger, and ultraviolet light is uniformly irradiated and solidified by an ultraviolet device.
【００２４】性能的には実施例１と同様に導入した光を
光導波路外へ漏洩することなく光の導入部から出口まで
伝達する。また、この例のの特徴は光導波路部分が盛り
上がっているため、目視により光導波路部分を認識でき
ることである。この例の場合も伝達する光はマルチモー
ドとなるが、光導波路３の線幅を基板１０ミクロン以下
にすればシングルモードの光の伝達が可能である。In terms of performance, the light introduced is transmitted from the light introduction portion to the exit without leaking out of the optical waveguide as in the first embodiment. Further, the feature of this example is that the optical waveguide portion can be visually recognized because the optical waveguide portion is raised. Also in this example, the light to be transmitted is multi-mode, but single-mode light can be transmitted if the line width of the optical waveguide 3 is 10 μm or less.
【００２５】実施例３ 図３は、光回路作成装置の概略図で、図１、２における
光導波路３、及び図２におけるグラッド部分５を製造す
る装置であり、液体吐出機（ディスペンサ）６、シリン
ジ１９、シリンジ１９に接続されたノズル７、紫外線照
射器８、ディスペンサの駆動及び制御装置９、紫外線照
射器の電源１０、テーブル１１とを備えており、一端に
ノズル７が接続された液体を貯留するシリンジ１９のも
う一端は、圧送チューブ２１を介して液体吐出機６と連
通しており、液体吐出機６は、所望圧力を所望時間だけ
シリンジ７内にエアーを供給し、シリンジ７内の液体に
推進力を与えることができるように構成されている。Embodiment 3 FIG. 3 is a schematic view of an optical circuit forming apparatus, which is an apparatus for manufacturing the optical waveguide 3 in FIGS. 1 and 2 and the gladd portion 5 in FIG. The apparatus includes a syringe 19, a nozzle 7 connected to the syringe 19, an ultraviolet irradiator 8, a drive and control device 9 for a dispenser, a power supply 10 for an ultraviolet irradiator, and a table 11. The other end of the stored syringe 19 communicates with the liquid discharger 6 via a pressure feeding tube 21. The liquid discharger 6 supplies air to the syringe 7 at a desired pressure for a desired time, and It is configured so that a propulsive force can be applied to the liquid.
【００２６】図３中７は、指示板１８の支持体に取り付
けられたノズルであり、同８は、支持体のノズル近傍に
設けられ、ノズルから基板上に吐出された液体を硬化さ
せるための紫外線照射装置であり、紫外線を照射するた
めの光源としては、殺菌灯、紫外線用蛍光灯、カーボン
アーク、キセノンランプ、複写用高圧水銀灯、超高圧水
銀灯、メタルハライドランプ等を用いることができる。In FIG. 3, reference numeral 7 denotes a nozzle attached to the support of the indicator plate 18, and reference numeral 8 denotes a nozzle provided near the nozzle of the support for curing the liquid discharged from the nozzle onto the substrate. This is an ultraviolet irradiation device, and as a light source for irradiating ultraviolet light, a germicidal lamp, a fluorescent lamp for ultraviolet light, a carbon arc, a xenon lamp, a high-pressure mercury lamp for copying, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like can be used.
【００２７】テーブル１１は、基板１をＸおよびＹ方向
に動かすことができるテーブル、１２、１３は各々Ｘお
よびＹ方向へテーブルを移動させるモータ、１４はモー
タ１２、１３の駆動および制御装置、１５は液体吐出機
およびノズルの位置を調整する駆動モータ、１６は駆動
モータ１５の駆動および制御装置である。１７はすべて
の駆動および制御装置を制御する電子計算機、１８は液
体吐出機の指示板である。A table 11 is a table capable of moving the substrate 1 in the X and Y directions, 12 and 13 are motors for moving the table in the X and Y directions, 14 is a drive and control device for the motors 12 and 13, Is a drive motor for adjusting the positions of the liquid discharger and the nozzle, and 16 is a drive and control device for the drive motor 15. Reference numeral 17 denotes an electronic computer for controlling all the drive and control devices, and reference numeral 18 denotes an indicator of the liquid discharger.
【００２８】上記テーブル１１は、架台上にはＸ軸テー
ブル部が固定されており、このＸ軸テーブル部上には、
上面に基板を載置するステージを構成したＹ軸テーブル
部がＸ軸方向に移動可能に搭載され、これらＸ軸および
Ｙ軸テーブル部は制御装置によって制御駆動されて、Ｘ
軸テーブル部が駆動されるとＹ軸テーブル部がＸ軸方向
に往復移動し、Ｙ軸テーブル部が駆動されるとワーク載
置面はＹ軸方向に往復移動し、制御装置でＸ軸およびＹ
軸テーブル部をそれぞれ任意の距離だけ移動させると、
基板をステージに平行な水平面内で任意の方向、位置に
移動することができるものである。The table 11 has an X-axis table fixed on a gantry. On the X-axis table,
A Y-axis table section constituting a stage for mounting a substrate on the upper surface is mounted movably in the X-axis direction. These X-axis and Y-axis table sections are controlled and driven by a control device, and
When the axis table is driven, the Y-axis table reciprocates in the X-axis direction. When the Y-axis table is driven, the work mounting surface reciprocates in the Y-axis direction.
When each axis table is moved by any distance,
The substrate can be moved to an arbitrary direction and position in a horizontal plane parallel to the stage.
【００２９】なお、指示板１８にＺ軸テーブルを取付
け、このＺ軸テーブルにノズルや距離センサーとしての
変位計を設け、このＺ軸テーブルを制御装置によって制
御駆動されるようにすると、Ｚ軸テーブルを任意の距離
だけ移動させて、吐出ノズル先端と基板表面との距離を
調整できるようになっている。また、光回路作成装置は
Ｚ軸モータ２０を備えており、シリンジ１９と紫外線照
射器８の上下方向位置を調節動可能に構成してある。When a Z-axis table is mounted on the indicating plate 18, a nozzle and a displacement meter as a distance sensor are provided on the Z-axis table, and the Z-axis table is controlled and driven by a control device. Can be moved by an arbitrary distance to adjust the distance between the tip of the discharge nozzle and the substrate surface. Further, the optical circuit creation device includes a Z-axis motor 20, and is configured to be able to adjust the vertical position of the syringe 19 and the ultraviolet irradiator 8.
【００３０】上記のように構成された光回路作成装置
は、図４に示す制御回路によって、電子計算機１７に記
憶された描画パターンにもとづき制御手段が、液体吐出
機６、Ｘ軸モータ１２、Ｙ軸モータ１３、及び、Ｚ軸モ
ータ２０を制御して、所望のパターンを描画する。すな
わち、上記構成の光回路作成装置は、Ｘ軸モータ１２お
よびＹ軸モータ１３の回転が直線運動に変換されること
によりＸＹ平面を自由に移動可能であるテーブル１１に
載置された基板１は、液体が吐出されるノズル７の先端
と対向しており、シリンジ１９に貯留される液体で基板
１上に所望する形状に塗布描画する。In the optical circuit forming apparatus configured as described above, the control means shown in FIG. 4 controls the liquid discharger 6, the X-axis motor 12, and the Y-axis based on the drawing pattern stored in the computer 17. The axis motor 13 and the Z-axis motor 20 are controlled to draw a desired pattern. That is, the optical circuit creation device having the above-described configuration is configured such that the substrate 1 placed on the table 11 that can freely move on the XY plane by converting the rotation of the X-axis motor 12 and the Y-axis motor 13 into linear motion is The liquid is stored in the syringe 19 and faces the tip of the nozzle 7 from which the liquid is discharged.
【００３１】次に上記装置を用いて、光回路を形成する
手順を説明する。予め屈折率の高い紫外線硬化液体をス
ピンコーターで均一に塗布し、紫外線照射により硬化さ
せて形成した、基板基板をテーブル基板に固定する。電
子計算機に予め記憶させた光回路パターンにより、テー
ブルを移動させ、液体吐出機（ディスペンサ）から紫外
線の照射によって硬化する透明度の良い液体を移動スピ
ードにより吐出量を制御しながら吐出させ、光回路パタ
ーンを描き、紫外線を照射して固化させる。なお、光回
路パターンを描く際、テーブルの移動速度及びノズルか
ら吐出する液体の吐出量を制御することにより、光回路
パターンのどの場所でも線幅が一定であるようにする。Next, a procedure for forming an optical circuit using the above device will be described. A substrate substrate formed by applying a UV-curable liquid having a high refractive index uniformly in advance by a spin coater and curing by UV irradiation is fixed to a table substrate. The table is moved by the optical circuit pattern stored in the electronic computer in advance, and the liquid discharger (dispenser) discharges a highly transparent liquid that is hardened by the irradiation of ultraviolet rays while controlling the discharge amount according to the moving speed. Is drawn and solidified by irradiating ultraviolet rays. When drawing the optical circuit pattern, the line width is constant at any position of the optical circuit pattern by controlling the moving speed of the table and the discharge amount of the liquid discharged from the nozzles.
【００３２】また、液体吐出機のノズルノズル７を交換
することにより形成される線幅を変えることができた。
ノズルノズル７の吐出径を光導波路３０〜５０ミクロン
とすると実施例１の光導波路光導波路３を形成できた。
さらにのずるノズル７の吐出径を薄膜２００〜５００ミ
クロンとしたものを併用すると実施例２で示した光導波
路部３、４を形成できた。Further, the line width formed by replacing the nozzle 7 of the liquid discharger could be changed.
When the discharge diameter of the nozzle 7 was 30 to 50 microns, the optical waveguide 3 of Example 1 could be formed.
The optical waveguide portions 3 and 4 shown in Example 2 could be formed by using a thin nozzle having a discharge diameter of 200 to 500 μm.
【００３３】[0033]
【発明の効果】以上説明したように、従来の半導体集積
回路作製プロセスで用いられる光露光プロセス、真空層
による反応性エッチングプロセス等高コストで時間の要
するプロセスを用いないで紫外線の照射によって硬化す
る透明度の良い液体をノズルから吐出させて紫外線を照
射して硬化させることにより光回路を作製する製造方法
およびその装置を提供できることから、低コスト、短時
間で光回路を作製できる利点および回路パターンの変更
も簡単で低コスト、短時間でできる利点がある。As described above, curing is performed by irradiation with ultraviolet rays without using a high-cost and time-consuming process such as a light exposure process and a reactive etching process using a vacuum layer used in a conventional semiconductor integrated circuit manufacturing process. Since it is possible to provide a manufacturing method and an apparatus for manufacturing an optical circuit by discharging a liquid having good transparency from a nozzle and irradiating and curing ultraviolet rays, an apparatus for manufacturing an optical circuit can be provided at low cost and in a short time. There is an advantage that the change can be made easily, at low cost, and in a short time.
【図１】光回路の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an optical circuit.
【図２】光回路の別の構成図である。FIG. 2 is another configuration diagram of an optical circuit.
【図３】液体吐出装置の正面図である。FIG. 3 is a front view of the liquid ejection device.
【図４】液体吐出装置の制御回路図である。FIG. 4 is a control circuit diagram of the liquid ejection apparatus.
１ 基板 ２ 薄膜 ３ 光導波路 ４ 薄膜 ５ 被覆 ６ 液体吐出機（ディスペンサ） ７ ノズル ８ 紫外線照射器 １１ テーブル １２ Ｘ軸モータ １３ Ｙ軸モータ １８ 指示棒（指示板） １９ シリンジ ２０ Ｚ軸モータ ２１ 圧送チューブ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Thin film 3 Optical waveguide 4 Thin film 5 Coating 6 Liquid discharger (dispenser) 7 Nozzle 8 Ultraviolet irradiator 11 Table 12 X-axis motor 13 Y-axis motor 18 Pointer (pointer) 19 Syringe 20 Z-axis motor 21 Pressure tube
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石井 芳一 東京都新宿区西新宿二丁目１番１号 エ ヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株 式会社内 (72)発明者 生島 和正 東京都三鷹市下連雀８−７−４ 武蔵エン ジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 2H047 KA05 PA02 PA21 PA28 QA05 TA43 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Yoshikazu Ishii 2-1-1 Nishi Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo NTT Advanced Technology Corporation (72) Inventor Kazumasa Ikushima Mitaka, Tokyo 8-7-4 Ichishita Renjaku Musashi Engineering Co., Ltd. F-term (reference) 2H047 KA05 PA02 PA21 PA28 PA28 QA05 TA43
Claims (13)
とを特徴とする光回路を作製する方法。1. A method for manufacturing an optical circuit, comprising drawing a line to be an optical waveguide with a liquid on a substrate.
項１の光回路を作製する方法。2. The method for producing an optical circuit according to claim 1, wherein the liquid is a UV-curable transparent resin.
ノズルまたは基板を移動させて光導波路となる線を描く
ことを特徴とする請求項１または２の光回路を作製する
方法。3. A liquid is discharged from the nozzle toward the substrate,
3. The method for manufacturing an optical circuit according to claim 1, wherein a line serving as an optical waveguide is drawn by moving a nozzle or a substrate.
１、２または３の光回路を作製する方法。4. The method according to claim 1, wherein the optical waveguide is a circuit pattern.
照射して硬化する請求項１ないし４のいずれかの光回路
を作製する方法。5. The method for producing an optical circuit according to claim 1, wherein a line to be an optical waveguide is drawn, and then cured by irradiating ultraviolet rays.
する基板を用いる請求項１ないし５のいずれかの光回路
を作製する方法。6. The method for producing an optical circuit according to claim 1, wherein a substrate having a transparent resin thin film layer on the side where the line is drawn is used.
後、それを被覆するように基板全体に透明樹脂薄膜層を
形成する請求項６の光回路を作製する方法。7. The method of manufacturing an optical circuit according to claim 6, wherein the line is cured by irradiating the line with ultraviolet light, and then a transparent resin thin film layer is formed on the entire substrate so as to cover the line.
後、それに沿って透明樹脂薄膜層で覆う請求項６の光回
路を作製する方法。8. The method of manufacturing an optical circuit according to claim 6, wherein the line is cured by irradiating the line with ultraviolet rays, and then covered with a transparent resin thin film layer along the line.
折率を有する請求項６、７または８の光回路を作製する
方法。9. The method for producing an optical circuit according to claim 6, wherein the transparent resin thin film layer has a refractive index larger than that of the optical waveguide.
れぞれ液体を吐出できる構造のものとした請求項３、４
または５の光回路を作製する方法。10. A structure in which nozzles are doubled so that liquid can be ejected from a circumferential portion thereof.
Or a method of manufacturing the optical circuit of 5.
よって透明度の高い固化物に硬化する液体を吐出させ、
その周囲から屈折率が低く紫外線の照射によって硬化す
る液体を吐出させて、中心部分は屈折率が高く、外周部
は屈折率が低い光ファイバ状の線を吐出させてする請求
項１０の光回路を作製する方法。11. A liquid having a high refractive index and being cured into a solidified substance having a high transparency by irradiation with ultraviolet rays from a center,
11. The optical circuit according to claim 10, wherein a liquid having a low refractive index and hardened by irradiation of ultraviolet rays is discharged from the periphery thereof, and an optical fiber line having a high refractive index is discharged at a central portion and a low refractive index is discharged at an outer peripheral portion. How to make.
を載せるステージと紫外線照射装置からなり、ノズルか
ら紫外線の照射によって透明度の高い固化物に硬化する
液体を液体を基板に向けて吐出し、ノズルまたは基板を
移動させて光導波路を描いた後、紫外線を照射して光回
路を作製できる光回路製造装置。12. A device for discharging a liquid from a nozzle, a stage on which a substrate is mounted, and an ultraviolet irradiation device, and discharges a liquid, which hardens into a highly transparent solidified substance by irradiation of ultraviolet light from the nozzle, toward the substrate, Alternatively, an optical circuit manufacturing apparatus capable of manufacturing an optical circuit by irradiating ultraviolet rays after drawing an optical waveguide by moving a substrate.
円周部分からそれぞれ液体を吐出できる構造のものとし
た請求項１２の光回路製造装置。13. The optical circuit manufacturing apparatus according to claim 12, wherein the nozzles have a structure in which the nozzles are doubled so that liquid can be ejected from respective circumferential portions thereof.
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|---|---|---|---|
| JP2001127480A JP2002323630A (en) | 2001-04-25 | 2001-04-25 | Method and apparatus for manufacturing optical circuit by liquid ejector |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002323630A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2933205A1 (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-01 | Commissariat Energie Atomique | IMPROVED METHOD FOR MAKING LIQUID-FILLED ENCLOSURES AND CLOSED BY A MEMBRANE |
| CN102819064A (en) * | 2011-06-09 | 2012-12-12 | 富士康(昆山)电脑接插件有限公司 | Manufacturing method of waveguides |
| JP2012252333A (en) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Hon Hai Precision Industry Co Ltd | Method for producing optical waveguide |
| US9063410B2 (en) | 2008-04-04 | 2015-06-23 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Method for making micron or submicron cavities |
| US9116269B2 (en) | 2010-07-21 | 2015-08-25 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Microstructure with walls of determined optical property and method for making microstructures |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0682643A (en) * | 1992-07-30 | 1994-03-25 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Extrusion of polymer wageguide to surface |
| JPH1114856A (en) * | 1997-06-26 | 1999-01-22 | Fuji Xerox Co Ltd | Optical transmission line forming method, optical transmission line forming device, optical circuit, and signal processor |
| JP2002014250A (en) * | 2000-06-28 | 2002-01-18 | Toppan Printing Co Ltd | Method for manufacturing optical wiring layer and optical / electrical wiring board |
| JP2002258089A (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | Optical waveguide manufacturing method and manufacturing apparatus |
-
2001
- 2001-04-25 JP JP2001127480A patent/JP2002323630A/en active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0682643A (en) * | 1992-07-30 | 1994-03-25 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Extrusion of polymer wageguide to surface |
| JPH1114856A (en) * | 1997-06-26 | 1999-01-22 | Fuji Xerox Co Ltd | Optical transmission line forming method, optical transmission line forming device, optical circuit, and signal processor |
| JP2002014250A (en) * | 2000-06-28 | 2002-01-18 | Toppan Printing Co Ltd | Method for manufacturing optical wiring layer and optical / electrical wiring board |
| JP2002258089A (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Hitachi Ltd | Optical waveguide manufacturing method and manufacturing apparatus |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9063410B2 (en) | 2008-04-04 | 2015-06-23 | Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives | Method for making micron or submicron cavities |
| FR2933205A1 (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-01 | Commissariat Energie Atomique | IMPROVED METHOD FOR MAKING LIQUID-FILLED ENCLOSURES AND CLOSED BY A MEMBRANE |
| WO2010003821A3 (en) * | 2008-06-27 | 2010-03-04 | Commissariat A L'energie Atomique | Improved method for making enclosures filled with liquid and sealed by a membrane |
| CN102089679A (en) * | 2008-06-27 | 2011-06-08 | 原子能与替代能源委员会 | Improved method for making enclosures filled with liquid and sealed by a membrane |
| US8477406B2 (en) | 2008-06-27 | 2013-07-02 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Method for making enclosures filled with liquid and closed by a membrane |
| CN102089679B (en) * | 2008-06-27 | 2013-09-18 | 依视路国际有限公司 | Improved method for making enclosures filled with liquid and sealed by a membrane |
| US9116269B2 (en) | 2010-07-21 | 2015-08-25 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Microstructure with walls of determined optical property and method for making microstructures |
| JP2012252333A (en) * | 2011-06-03 | 2012-12-20 | Hon Hai Precision Industry Co Ltd | Method for producing optical waveguide |
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