JP2002302540A - 芳香族ポリエステルの製造方法 - Google Patents
芳香族ポリエステルの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 アセトキシ安息香酸類、ジアセトキシ芳香族
ジオール類およびベンゼンジカルボン酸類から流動開始
温度の高い芳香族ポリエステルを容易に製造し得る方法
を提供する。 【解決手段】 アセトキシ安息香酸類（Ｉ） 、ジアセトキシ芳香族ジオール類（II） およびベンゼンジカルボン酸類（III） をイミダゾール類（IV） の存在下に共重合させて芳香族ポリエステルを製造す
る。イミダゾール類（IV）はＸ4がアルキル基であり、
さらにはＸ5、Ｘ6およびＸ7が水素原子であることが好
ましい。アセトキシ安息香酸類（Ｉ）、ジアセトキシ芳
香族ジオール類（II）およびで示されるベンゼンジカル
ボン酸類（III）の合計使用量１００質量部あたり通常
０．００１質量部以上のイミダゾール類（IV）を使用す
る。共重合させたのち通常は固相重合させる。
ジオール類およびベンゼンジカルボン酸類から流動開始
温度の高い芳香族ポリエステルを容易に製造し得る方法
を提供する。 【解決手段】 アセトキシ安息香酸類（Ｉ） 、ジアセトキシ芳香族ジオール類（II） およびベンゼンジカルボン酸類（III） をイミダゾール類（IV） の存在下に共重合させて芳香族ポリエステルを製造す
る。イミダゾール類（IV）はＸ4がアルキル基であり、
さらにはＸ5、Ｘ6およびＸ7が水素原子であることが好
ましい。アセトキシ安息香酸類（Ｉ）、ジアセトキシ芳
香族ジオール類（II）およびで示されるベンゼンジカル
ボン酸類（III）の合計使用量１００質量部あたり通常
０．００１質量部以上のイミダゾール類（IV）を使用す
る。共重合させたのち通常は固相重合させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、芳香族ポリエステ
ルの製造方法に関する。
ルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】芳香族ポリエステルは、耐熱性に優れた
熱可塑性樹脂として有用である。かかる芳香族ポリエス
テルの製造方法として、アセトキシ安息香酸類、ジアセ
トキシ芳香族ジオール類およびベンゼンジカルボン酸類
を無触媒で共重合させる方法が知られている。共重合に
よって得られた共重合物を粉末とし、これを加熱する固
相重合によって、重合度が高められて、目的の芳香族ポ
リエステルを得ることができる。
熱可塑性樹脂として有用である。かかる芳香族ポリエス
テルの製造方法として、アセトキシ安息香酸類、ジアセ
トキシ芳香族ジオール類およびベンゼンジカルボン酸類
を無触媒で共重合させる方法が知られている。共重合に
よって得られた共重合物を粉末とし、これを加熱する固
相重合によって、重合度が高められて、目的の芳香族ポ
リエステルを得ることができる。
【０００３】しかし、かかる従来の製造方法で得られた
芳香族ポリエステルは、その流動開始温度が必ずしも高
いものではなかった。流動開始温度の高い芳香族ポリエ
ステルを得るには、固相重合における加熱温度を高くす
ることも考えられるが、これでは粉末同士が互いに固着
し易いという問題がある。粉末同士が固着すると、固相
重合後の取扱いが困難である。
芳香族ポリエステルは、その流動開始温度が必ずしも高
いものではなかった。流動開始温度の高い芳香族ポリエ
ステルを得るには、固相重合における加熱温度を高くす
ることも考えられるが、これでは粉末同士が互いに固着
し易いという問題がある。粉末同士が固着すると、固相
重合後の取扱いが困難である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
アセトキシ安息香酸類、ジアセトキシ芳香族ジオール類
およびベンゼンジカルボン酸類から流動開始温度の高い
芳香族ポリエステルを容易に製造し得る方法を開発する
べく鋭意検討した結果、イミダゾール類の存在下に共重
合させた共重合物は、比較的低い温度での固相重合によ
って流動開始温度の高い歩行族ポリエステルに導かれ、
しかも固相重合において粉末同士が互いに固着しにくい
ことを見出し、本発明に至った。
アセトキシ安息香酸類、ジアセトキシ芳香族ジオール類
およびベンゼンジカルボン酸類から流動開始温度の高い
芳香族ポリエステルを容易に製造し得る方法を開発する
べく鋭意検討した結果、イミダゾール類の存在下に共重
合させた共重合物は、比較的低い温度での固相重合によ
って流動開始温度の高い歩行族ポリエステルに導かれ、
しかも固相重合において粉末同士が互いに固着しにくい
ことを見出し、本発明に至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、式
（Ｉ） 〔式中、Ｘ1はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｘは０〜２の整数を示す。〕で示されるア
セトキシ安息香酸類、式（II） 〔式中、Ｘ2はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｙは０〜２の整数を示し、ｎは１または２
を示す。〕で示されるジアセトキシ芳香族ジオール類お
よび式（III） 〔式中、Ｘ3はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｚは０〜２の整数を示す。〕で示されるベ
ンゼンジカルボン酸類を式（IV） 〔式中、Ｘ4〜Ｘ7はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、ヒドロキシメチル基、シアノアルキル基、カルボキ
シル基、アミノアルキル基、フェニル基、ベンジル基ま
たはフォルミル基を示す。〕で示されるイミダゾール類
の存在下に共重合させることを特徴とする芳香族ポリエ
ステルの製造方法を提供するものである。
（Ｉ） 〔式中、Ｘ1はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｘは０〜２の整数を示す。〕で示されるア
セトキシ安息香酸類、式（II） 〔式中、Ｘ2はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｙは０〜２の整数を示し、ｎは１または２
を示す。〕で示されるジアセトキシ芳香族ジオール類お
よび式（III） 〔式中、Ｘ3はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｚは０〜２の整数を示す。〕で示されるベ
ンゼンジカルボン酸類を式（IV） 〔式中、Ｘ4〜Ｘ7はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、ヒドロキシメチル基、シアノアルキル基、カルボキ
シル基、アミノアルキル基、フェニル基、ベンジル基ま
たはフォルミル基を示す。〕で示されるイミダゾール類
の存在下に共重合させることを特徴とする芳香族ポリエ
ステルの製造方法を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】式（Ｉ）で示されるアセトキシ安
息香酸類において、Ｘ1におけるアルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基などの炭素数１〜５程度のアルキル基などが、
ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子など
がそれぞれ挙げられる。ｘは０〜２の整数であるが、ｘ
が２である場合にＸ1は互いに同一であってもよいし、
異なっていてもよい。ｘは０であることが好ましい。
息香酸類において、Ｘ1におけるアルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基などの炭素数１〜５程度のアルキル基などが、
ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子など
がそれぞれ挙げられる。ｘは０〜２の整数であるが、ｘ
が２である場合にＸ1は互いに同一であってもよいし、
異なっていてもよい。ｘは０であることが好ましい。
【０００７】かかるアセトキシ安息香酸類（Ｉ）として
は、例えば４−アセトキシ安息香酸、４−アセトキシ−
２−メチル安息香酸、４−アセトキシ−３−メチル安息
香酸、４−アセトキシ−２−フェニル安息香酸、４−ア
セトキシ−３−フェニル安息香酸、４−アセトキシ−２
−クロロ安息香酸、４−アセトキシ−３−クロロ安息香
酸、４−アセトキシ−２−メチル−３−フェニル安息香
酸、４−アセトキシ−３−メチル−２−フェニル安息香
酸、４−アセトキシ−３−クロロ−２−メチル安息香
酸、４−アセトキシ−２−クロロ−３−メチル安息香
酸、４−アセトキシ−３−クロロ−２−フェニル安息香
酸、４−アセトキシ−２−クロロ−３−フェニル安息香
酸などのアセチル基とカルボキシル基とが互いにパラ位
でベンゼン環に導入されているパラアセトキシ安息香酸
類が挙げられる。かかるアセトキシ安息香酸類は、それ
ぞれ単独で、または２種以上を組合わせて用いられる。
は、例えば４−アセトキシ安息香酸、４−アセトキシ−
２−メチル安息香酸、４−アセトキシ−３−メチル安息
香酸、４−アセトキシ−２−フェニル安息香酸、４−ア
セトキシ−３−フェニル安息香酸、４−アセトキシ−２
−クロロ安息香酸、４−アセトキシ−３−クロロ安息香
酸、４−アセトキシ−２−メチル−３−フェニル安息香
酸、４−アセトキシ−３−メチル−２−フェニル安息香
酸、４−アセトキシ−３−クロロ−２−メチル安息香
酸、４−アセトキシ−２−クロロ−３−メチル安息香
酸、４−アセトキシ−３−クロロ−２−フェニル安息香
酸、４−アセトキシ−２−クロロ−３−フェニル安息香
酸などのアセチル基とカルボキシル基とが互いにパラ位
でベンゼン環に導入されているパラアセトキシ安息香酸
類が挙げられる。かかるアセトキシ安息香酸類は、それ
ぞれ単独で、または２種以上を組合わせて用いられる。
【０００８】式（II）で示されるジアセトキシ芳香族ジ
オール類において、Ｘ2におけるアルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基などの炭素数１〜５程度のアルキル基などが、
ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子など
がそれぞれ挙げられる。ｙは０〜２の整数であるが、ｙ
が２である場合にＸ2は互いに同一であってもよいし、
異なっていてもよい。ｙは０であることが好ましい。ｎ
は１または２であるが、ｎが２である場合、２つのベン
ゼン環の一方に置換基Ｘ1が導入され、他方にはＸ2が導
入されていなくてもよいし、両方に置換基Ｘ2が導入さ
れていてもよい。ｎは１であることが好ましい。
オール類において、Ｘ2におけるアルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基などの炭素数１〜５程度のアルキル基などが、
ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子など
がそれぞれ挙げられる。ｙは０〜２の整数であるが、ｙ
が２である場合にＸ2は互いに同一であってもよいし、
異なっていてもよい。ｙは０であることが好ましい。ｎ
は１または２であるが、ｎが２である場合、２つのベン
ゼン環の一方に置換基Ｘ1が導入され、他方にはＸ2が導
入されていなくてもよいし、両方に置換基Ｘ2が導入さ
れていてもよい。ｎは１であることが好ましい。
【０００９】かかるジアセトキシ芳香族ジオール類（I
I）としては、例えば式（２１） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるジアセトキシヒドロキノン類、式（２
２） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるジアセトキシレゾルシノール類、式
（２３） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるジアセトキシビフェニル類などが挙げ
られる。
I）としては、例えば式（２１） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるジアセトキシヒドロキノン類、式（２
２） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるジアセトキシレゾルシノール類、式
（２３） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるジアセトキシビフェニル類などが挙げ
られる。
【００１０】ジアセトキシヒドロキノン類（２１）とし
ては、例えば１，４−ジアセトキシメチルベンゼン、
１，４−ジアセトキシ−２−メチルベンゼン、１，４−
ジアセトキシ−２−クロロベンゼン、１，４−ジアセト
キシ−２−メチル−３−フェニルベンゼン、１，４−ジ
アセトキシ−３−メチル−２−フェニルベンゼン、１，
４−ジアセトキシ−２−クロロ−３−メチルベンゼン、
１，４−ジアセトキシ−３−クロロ−２−メチルベンゼ
ン、１，４−ジアセトキシ−２−クロロ−３−フェニル
ベンゼン、１，４−ジアセトキシ−３−クロロ−２−フ
ェニルベンゼンなどが挙げられる。
ては、例えば１，４−ジアセトキシメチルベンゼン、
１，４−ジアセトキシ−２−メチルベンゼン、１，４−
ジアセトキシ−２−クロロベンゼン、１，４−ジアセト
キシ−２−メチル−３−フェニルベンゼン、１，４−ジ
アセトキシ−３−メチル−２−フェニルベンゼン、１，
４−ジアセトキシ−２−クロロ−３−メチルベンゼン、
１，４−ジアセトキシ−３−クロロ−２−メチルベンゼ
ン、１，４−ジアセトキシ−２−クロロ−３−フェニル
ベンゼン、１，４−ジアセトキシ−３−クロロ−２−フ
ェニルベンゼンなどが挙げられる。
【００１１】ジアセトキシレゾルシノール類（２２）と
しては、例えば１，３−ジアセトキシベンゼン、１，３
−ジアセトキシ−２−メチルベンゼン、１，３−ジアセ
トキシ−２−フェニルベンゼン、１，３−ジアセトキシ
−２−クロロベンゼン、１，３−ジアセトキシ−２−メ
チル−４−フェニルベンゼン、１，３−ジアセトキシ−
２，４−ジメチルベンゼン、１，３−ジアセトキシ−２
−クロロ−４−メチルベンゼン、１，３−ジアセトキシ
−４−クロロ−２−メチルベンゼン、１，３−ジアセト
キシ−２−クロロ−４−フェニルベンゼン、１，３−ジ
アセトキシ−４−クロロ−２−フェニルベンゼンなどが
挙げられる。
しては、例えば１，３−ジアセトキシベンゼン、１，３
−ジアセトキシ−２−メチルベンゼン、１，３−ジアセ
トキシ−２−フェニルベンゼン、１，３−ジアセトキシ
−２−クロロベンゼン、１，３−ジアセトキシ−２−メ
チル−４−フェニルベンゼン、１，３−ジアセトキシ−
２，４−ジメチルベンゼン、１，３−ジアセトキシ−２
−クロロ−４−メチルベンゼン、１，３−ジアセトキシ
−４−クロロ−２−メチルベンゼン、１，３−ジアセト
キシ−２−クロロ−４−フェニルベンゼン、１，３−ジ
アセトキシ−４−クロロ−２−フェニルベンゼンなどが
挙げられる。
【００１２】ジアセトキシビフェニル類（２３）として
は、例えば４，４’−ジアセトキシビフェニル、４，
４’−ジアセトキシ−２−メチルビフェニル、４，４’
−ジアセトキシ−５−クロロビフェニル、４，４’−ジ
アセトキシ−３−フェニルビフェニル、４，４’−ジア
セトキシ−２−メチル−５’−ビフェニルなどが挙げら
れる。
は、例えば４，４’−ジアセトキシビフェニル、４，
４’−ジアセトキシ−２−メチルビフェニル、４，４’
−ジアセトキシ−５−クロロビフェニル、４，４’−ジ
アセトキシ−３−フェニルビフェニル、４，４’−ジア
セトキシ−２−メチル−５’−ビフェニルなどが挙げら
れる。
【００１３】かかるジアセトキシ芳香族ジオール類（I
I）はそれぞれ単独で用いることができる。また、２種
以上を組合わせて用いることもでき、例えばジアセトキ
シヒドロキノン類（２１）を２種以上組合わせて用いて
もよいし、ジアセトキシレゾルシノール類（２２）を２
種以上組合わせて用いてもよいし、ジアセトキシビフェ
ニル類（２３）を２種以上組合わせて用いてもよく、ジ
アセトキシヒドロキノン類（２１）とジアセトキシレゾ
ルシノール類（２２）とを組合わせて用いてもよいし、
ジアセトキシヒドロキノン類（２１）とジアセトキシレ
ゾルシノール類（２２）とジアセトキシビフェニル類
（２３）とを組合わせて用いてもよい。
I）はそれぞれ単独で用いることができる。また、２種
以上を組合わせて用いることもでき、例えばジアセトキ
シヒドロキノン類（２１）を２種以上組合わせて用いて
もよいし、ジアセトキシレゾルシノール類（２２）を２
種以上組合わせて用いてもよいし、ジアセトキシビフェ
ニル類（２３）を２種以上組合わせて用いてもよく、ジ
アセトキシヒドロキノン類（２１）とジアセトキシレゾ
ルシノール類（２２）とを組合わせて用いてもよいし、
ジアセトキシヒドロキノン類（２１）とジアセトキシレ
ゾルシノール類（２２）とジアセトキシビフェニル類
（２３）とを組合わせて用いてもよい。
【００１４】式（III）で示されるベンゼンジカルボン
酸類において、Ｘ3におけるアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基などの炭素数１〜５程度のアルキル基などが、ハロ
ゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子などがそ
れぞれ挙げられる。ｚは０〜２の整数であるが、ｚが２
である場合にＸ3は互いに同一であってもよいし、異な
っていてもよい。ｚは０であることが好ましい。
酸類において、Ｘ3におけるアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基などの炭素数１〜５程度のアルキル基などが、ハロ
ゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子などがそ
れぞれ挙げられる。ｚは０〜２の整数であるが、ｚが２
である場合にＸ3は互いに同一であってもよいし、異な
っていてもよい。ｚは０であることが好ましい。
【００１５】かかるベンゼンジカルボン酸類（III）と
しては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２−メチ
ルテレフタル酸、２−フェニルテレフタル酸、２−クロ
ロテレフタル酸、２−メチル−３−フェニルテレフタル
酸、２−メチル−３−フェニルテレフタル酸、２−クロ
ロ−３−メチルテレフタル酸、３−クロロ−２−メチル
テレフタル酸、２−クロロ−３−フェニルテレフタル
酸、３−クロロ−２−フェニルテレフタル酸などのよう
な２つのカルボニル基が互いにパラ位でベンゼン環に導
入されているテレフタル酸類が挙げられる。かかるベン
ゼンジカルボン酸類（III）はそれぞれ単独で、または
２種以上を組合わせて用いられる。
しては、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、２−メチ
ルテレフタル酸、２−フェニルテレフタル酸、２−クロ
ロテレフタル酸、２−メチル−３−フェニルテレフタル
酸、２−メチル−３−フェニルテレフタル酸、２−クロ
ロ−３−メチルテレフタル酸、３−クロロ−２−メチル
テレフタル酸、２−クロロ−３−フェニルテレフタル
酸、３−クロロ−２−フェニルテレフタル酸などのよう
な２つのカルボニル基が互いにパラ位でベンゼン環に導
入されているテレフタル酸類が挙げられる。かかるベン
ゼンジカルボン酸類（III）はそれぞれ単独で、または
２種以上を組合わせて用いられる。
【００１６】かかるアセトキシ安息香酸類（Ｉ）、アセ
トキシ芳香族ジオール類（II）およびベンゼンジカルボ
ン酸類（III）の使用量は、目的とする芳香族ポリエス
テルによって適宜選択され、例えばアセトキシ安息香酸
類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類（II）およびベ
ンゼンジカルボン酸類（III）の合計使用量に対してモ
ル分率で、アセトキシ安息香酸類（Ｉ）が２０％以上８
０％以下、アセトキシ芳香族ジオール類（II）が１０％
以上４０％以下、ベンゼンジカルボン酸類（III）が１
０％以上４０％以下程度である。
トキシ芳香族ジオール類（II）およびベンゼンジカルボ
ン酸類（III）の使用量は、目的とする芳香族ポリエス
テルによって適宜選択され、例えばアセトキシ安息香酸
類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類（II）およびベ
ンゼンジカルボン酸類（III）の合計使用量に対してモ
ル分率で、アセトキシ安息香酸類（Ｉ）が２０％以上８
０％以下、アセトキシ芳香族ジオール類（II）が１０％
以上４０％以下、ベンゼンジカルボン酸類（III）が１
０％以上４０％以下程度である。
【００１７】アセトキシ安息香酸類（Ｉ）は、式（Ｉ−
１） 〔式中、Ｘ1およびｘはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示される安息香酸類を無水酢酸と反応させて得
ることができる。ジアセトキシ芳香族ジオール類（II）
は、式（II−１） 〔式中、Ｘ2、ｙおよびｎはそれぞれ前記と同じ意味を
示す。〕で示される芳香族ジオール類を無水酢酸と反応
させて得ることができる。ジアセトキシヒドロキノン類
（２１）は、式（２１−１） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるヒドロキノン類を無水酢酸と反応させ
て得ることができる。ジアセトキシレゾルシノール類
（２２）は、式（２２−１） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるレゾルシノール類を無水酢酸と反応さ
せて得ることができる。ジアセトキシビフェニル類（２
３）は、式（２３−１） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるビフェニル類を無水酢酸と反応させて
得ることができる。
１） 〔式中、Ｘ1およびｘはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示される安息香酸類を無水酢酸と反応させて得
ることができる。ジアセトキシ芳香族ジオール類（II）
は、式（II−１） 〔式中、Ｘ2、ｙおよびｎはそれぞれ前記と同じ意味を
示す。〕で示される芳香族ジオール類を無水酢酸と反応
させて得ることができる。ジアセトキシヒドロキノン類
（２１）は、式（２１−１） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるヒドロキノン類を無水酢酸と反応させ
て得ることができる。ジアセトキシレゾルシノール類
（２２）は、式（２２−１） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるレゾルシノール類を無水酢酸と反応さ
せて得ることができる。ジアセトキシビフェニル類（２
３）は、式（２３−１） 〔式中、Ｘ2およびｙはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示されるビフェニル類を無水酢酸と反応させて
得ることができる。
【００１８】安息香酸類（Ｉ−１）および芳香族ジオー
ル類（II−１）はそれぞれ個別に無水錯酸類と反応させ
てもよいし、これらが混合された状態で無水酢酸と反応
させてもよく、例えば安息香酸類（Ｉ−１）、芳香族ジ
オール類（II−１）および無水酢酸を混合する方法によ
って、アセトキシ安息香酸類（Ｉ）およびジアセトキシ
芳香族ジオール類（II）を同時に製造することができ
る。
ル類（II−１）はそれぞれ個別に無水錯酸類と反応させ
てもよいし、これらが混合された状態で無水酢酸と反応
させてもよく、例えば安息香酸類（Ｉ−１）、芳香族ジ
オール類（II−１）および無水酢酸を混合する方法によ
って、アセトキシ安息香酸類（Ｉ）およびジアセトキシ
芳香族ジオール類（II）を同時に製造することができ
る。
【００１９】無水酢酸の使用量は、安息香酸類（Ｉ−
１）および芳香族ジオール類（II−１）の水酸基の合計
に対して、通常は１モル倍以上、好ましくは１．１モル
倍以上であり、通常は１．５モル倍以下、好ましくは
１．２モル倍以下である。
１）および芳香族ジオール類（II−１）の水酸基の合計
に対して、通常は１モル倍以上、好ましくは１．１モル
倍以上であり、通常は１．５モル倍以下、好ましくは
１．２モル倍以下である。
【００２０】反応は通常、無溶媒で行われ、反応温度は
通常１００℃以上、好ましくは１３０℃以上であり、通
常は２００℃以下であり、好ましくは１６０℃以下であ
る。反応に際して反応系内にベンゼンジカルボン酸類
（III）が存在していてもよい。ベンゼンジカルボン酸
類（III）は無水酢酸と実質的には反応しないので、反
応後の反応混合物には用いたベンゼンジカルボン酸類
（III）が含まれることになる。
通常１００℃以上、好ましくは１３０℃以上であり、通
常は２００℃以下であり、好ましくは１６０℃以下であ
る。反応に際して反応系内にベンゼンジカルボン酸類
（III）が存在していてもよい。ベンゼンジカルボン酸
類（III）は無水酢酸と実質的には反応しないので、反
応後の反応混合物には用いたベンゼンジカルボン酸類
（III）が含まれることになる。
【００２１】反応は、ピリジン、トリエチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、４−アミノジメチルピリジ
ンなどの３級アミン類の存在下に行なわれることが、着
色成分の副生が少ない点で好ましい。３級アミン類を用
いる場合、その使用量は安息香酸類（Ｉ−１）、芳香族
ジオール類（II−１）、ベンゼンジカルボン酸類（II
I）および無水酢酸の合計使用量に対して通常は０．０
００１質量倍以上、好ましくは０．０００３質量倍以上
であり、通常は０．００１質量倍以下、好ましくは０．
００５質量倍以下である。
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、４−アミノジメチルピリジ
ンなどの３級アミン類の存在下に行なわれることが、着
色成分の副生が少ない点で好ましい。３級アミン類を用
いる場合、その使用量は安息香酸類（Ｉ−１）、芳香族
ジオール類（II−１）、ベンゼンジカルボン酸類（II
I）および無水酢酸の合計使用量に対して通常は０．０
００１質量倍以上、好ましくは０．０００３質量倍以上
であり、通常は０．００１質量倍以下、好ましくは０．
００５質量倍以下である。
【００２２】反応後の反応混合物には、アセトキシ安息
香酸類（Ｉ）およびアセトキシ芳香族ジオール類（II）
が含まれており、ベンゼンジカルボン酸類（III）を用
いた場合には、さらに該ベンゼンジカルボン酸類（II
I）が含まれている。
香酸類（Ｉ）およびアセトキシ芳香族ジオール類（II）
が含まれており、ベンゼンジカルボン酸類（III）を用
いた場合には、さらに該ベンゼンジカルボン酸類（II
I）が含まれている。
【００２３】本発明の製造方法は、かかるアセトキシ安
息香酸類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類（II）お
よびベンゼンジカルボン酸類（III）をイミダゾール類
（IV）の存在下に反応させる。
息香酸類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類（II）お
よびベンゼンジカルボン酸類（III）をイミダゾール類
（IV）の存在下に反応させる。
【００２４】式（IV）で示されるイミダゾール類におい
て、Ｘ4〜Ｘ7で示されるアルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素数
１〜４程度のアルキル基などが、シアノアルキル基とし
ては、例えばシアノエチル基などの炭素数１〜４程度の
アルキル基にシアノ基が導入された置換基などが、アミ
ノアルキル基としては、例えばアミノエチル基などの炭
素数１〜４程度のアルキル基にアミノ基が導入された置
換基などがそれぞれ挙げられる。
て、Ｘ4〜Ｘ7で示されるアルキル基としては、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの炭素数
１〜４程度のアルキル基などが、シアノアルキル基とし
ては、例えばシアノエチル基などの炭素数１〜４程度の
アルキル基にシアノ基が導入された置換基などが、アミ
ノアルキル基としては、例えばアミノエチル基などの炭
素数１〜４程度のアルキル基にアミノ基が導入された置
換基などがそれぞれ挙げられる。
【００２５】Ｘ4がアルキル基であるイミダゾール類
は、得られる芳香族ポリエステルの流動開始温度をより
高くし得る点で、好ましく、さらに好ましくはＸ4がア
ルキル基であり、Ｘ5、Ｘ6およびＸ7が水素原子であ
る。
は、得られる芳香族ポリエステルの流動開始温度をより
高くし得る点で、好ましく、さらに好ましくはＸ4がア
ルキル基であり、Ｘ5、Ｘ6およびＸ7が水素原子であ
る。
【００２６】かかるイミダゾール類（IV）としては、例
えばイミダゾール、１−メチルイミダゾール、１−エチ
ルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−フェニ
ルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、２−
フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾ
ール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、
４，５−イミダゾールジカルボン酸、１−アミノエチル
−２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾー
ル、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、４−フ
ォルミルイミダゾールなどが挙げられる。
えばイミダゾール、１−メチルイミダゾール、１−エチ
ルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−フェニ
ルイミダゾール、２，４−ジメチルイミダゾール、２−
フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾ
ール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、
４，５−イミダゾールジカルボン酸、１−アミノエチル
−２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾー
ル、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、４−フ
ォルミルイミダゾールなどが挙げられる。
【００２７】イミダゾール類（IV）の使用量は、アセト
キシ安息香酸類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類
（II）およびベンゼンジカルボン酸類（III）の合計使
用量１００質量部あたり通常は０．００１質量部以上、
好ましくは０．００２質量部以上、さらに好ましくは
０．０２質量部以上であり、通常は１質量部以下、好ま
しくは０．５質量部以下である。
キシ安息香酸類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類
（II）およびベンゼンジカルボン酸類（III）の合計使
用量１００質量部あたり通常は０．００１質量部以上、
好ましくは０．００２質量部以上、さらに好ましくは
０．０２質量部以上であり、通常は１質量部以下、好ま
しくは０．５質量部以下である。
【００２８】共重合させるには、例えばアセトキシ安息
香酸類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類（II）、ベ
ンゼンジカルボン酸類（III）およびイミダゾール類（I
V）を混合すればよい。安息香酸類（Ｉ−１）および芳
香族ジオール類（II−１）を無水酢酸と反応させる方法
によってアセトキシ安息香酸類（Ｉ）およびアセトキシ
芳香族ジオール類（II）を製造した場合には、これらア
セトキシ安息香酸類（Ｉ）およびアセトキシ芳香族ジオ
ール類（II）は反応後の反応混合部物から取り出すこと
なく用いることができ、例えば該反応混合物にイミダゾ
ール類（IV）およびベンゼンジカルボン酸類（III）を
加えればよい。共重合温度は通常２００℃以上、好まし
くは２５０℃以上であり、通常４００℃以下、好ましく
は３２０℃以下である。
香酸類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類（II）、ベ
ンゼンジカルボン酸類（III）およびイミダゾール類（I
V）を混合すればよい。安息香酸類（Ｉ−１）および芳
香族ジオール類（II−１）を無水酢酸と反応させる方法
によってアセトキシ安息香酸類（Ｉ）およびアセトキシ
芳香族ジオール類（II）を製造した場合には、これらア
セトキシ安息香酸類（Ｉ）およびアセトキシ芳香族ジオ
ール類（II）は反応後の反応混合部物から取り出すこと
なく用いることができ、例えば該反応混合物にイミダゾ
ール類（IV）およびベンゼンジカルボン酸類（III）を
加えればよい。共重合温度は通常２００℃以上、好まし
くは２５０℃以上であり、通常４００℃以下、好ましく
は３２０℃以下である。
【００２９】共重合させることによって酢酸が発生する
が、かかる酢酸を系外に導きながら共重合させることが
好ましい。また、共重合の終点は、酢酸の発生の終了に
よって容易に知ることができ、酢酸が発生しなくなるま
で共重合させればよい。共重合は比較的短時間で終了す
る。
が、かかる酢酸を系外に導きながら共重合させることが
好ましい。また、共重合の終点は、酢酸の発生の終了に
よって容易に知ることができ、酢酸が発生しなくなるま
で共重合させればよい。共重合は比較的短時間で終了す
る。
【００３０】共重合させたのち、得られた共重合物を通
常は、さらに固相重合させる。固相重合させるには、例
えば得られた共重合物を冷却固化し粉末としたのち、固
相状態のまま加熱すればよい。冷却固化し粉末とするに
は、例えば冷却固化した後に粉砕すればよい。粉末の粒
子径は、例えば０．１ｍｍ以上３ｍｍ以下程度である。
固相状態のままの加熱は、共重合物の融点よりも低い温
度の範囲で行なわれ、通常は１５０℃以上、好ましくは
２００℃以上、通常は４００℃以下、好ましくは３３０
℃以下の温度範囲に加熱すればよい。加熱されることに
よって、共重合物は固相状態、即ち粉末状態のまま更に
重合して、その重合度が高くなり、目的の芳香族ポリエ
ステルに導かれる。
常は、さらに固相重合させる。固相重合させるには、例
えば得られた共重合物を冷却固化し粉末としたのち、固
相状態のまま加熱すればよい。冷却固化し粉末とするに
は、例えば冷却固化した後に粉砕すればよい。粉末の粒
子径は、例えば０．１ｍｍ以上３ｍｍ以下程度である。
固相状態のままの加熱は、共重合物の融点よりも低い温
度の範囲で行なわれ、通常は１５０℃以上、好ましくは
２００℃以上、通常は４００℃以下、好ましくは３３０
℃以下の温度範囲に加熱すればよい。加熱されることに
よって、共重合物は固相状態、即ち粉末状態のまま更に
重合して、その重合度が高くなり、目的の芳香族ポリエ
ステルに導かれる。
【００３１】かくして得られる芳香族ポリエステルは、
式（Ｉ）で示されるアセトキシ安息香酸類、前記式（I
I）で示されるジアセトキシ芳香族ジオール類および前
記式（III）で示されるベンゼンジカルボン酸類が前記
式（IV）で示されるイミダゾール類の存在下に共重合さ
れてなるものであり、式（Ｉ−２） 〔式中、Ｘ1およびｘはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示される構造単位、式（II−２） 〔式中、Ｘ2、ｙおよびｎはそれぞれ前記と同じ意味を
示す。〕で示される構造単位および式（III−３） 〔式中、Ｘ3およびｚはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示される構造単位からなる。ここで式（Ｉ−
２）で示される構造単位はアセトキシ安息香酸類（Ｉ）
から導かれる構造単位であり、式（II−２）で示される
構造単位はアセトキシ芳香族ジオール類（II）から導か
れる構造単位であり、式（III−２）で示される構造単
位はベンゼンジカルボン酸類（III）から導かれる構造
単位である。
式（Ｉ）で示されるアセトキシ安息香酸類、前記式（I
I）で示されるジアセトキシ芳香族ジオール類および前
記式（III）で示されるベンゼンジカルボン酸類が前記
式（IV）で示されるイミダゾール類の存在下に共重合さ
れてなるものであり、式（Ｉ−２） 〔式中、Ｘ1およびｘはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示される構造単位、式（II−２） 〔式中、Ｘ2、ｙおよびｎはそれぞれ前記と同じ意味を
示す。〕で示される構造単位および式（III−３） 〔式中、Ｘ3およびｚはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示される構造単位からなる。ここで式（Ｉ−
２）で示される構造単位はアセトキシ安息香酸類（Ｉ）
から導かれる構造単位であり、式（II−２）で示される
構造単位はアセトキシ芳香族ジオール類（II）から導か
れる構造単位であり、式（III−２）で示される構造単
位はベンゼンジカルボン酸類（III）から導かれる構造
単位である。
【００３２】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、アセトキシ
安息香酸類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類（II）
およびベンゼンジカルボン酸類（III）から流動開始温
度の高い芳香族ポリエステルを容易に得ることができ
る。
安息香酸類（Ｉ）、アセトキシ芳香族ジオール類（II）
およびベンゼンジカルボン酸類（III）から流動開始温
度の高い芳香族ポリエステルを容易に得ることができ
る。
【００３３】
【実施例】以下、実施例によって本発明をより詳細に説
明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるも
のではない。
明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるも
のではない。
【００３４】実施例１ パラヒドロキシ安息香酸６６３ｇ（４．８モル）、ヒド
ロキノン２２６．５ｇ（２．０４モル）、レゾルシノー
ル１６９．８ｇ（１．５６モル）およびテレフタル酸５
９８．６ｇ（３．６モル）、無水酢酸１４０８．８ｇ
（１３．８モル）およびピリジン１．５３３ｇを重合槽
に仕込み、１５分間攪拌した後、攪拌しながら昇温速度
１℃／１分で昇温した。１４５℃となったところで、同
温度を１時間保持して、パラアセトキシ安息香酸、ジア
セトキシヒドロキノン、ジアセトキシレゾルシノールお
よびテレフタル酸の混合物を得た。
ロキノン２２６．５ｇ（２．０４モル）、レゾルシノー
ル１６９．８ｇ（１．５６モル）およびテレフタル酸５
９８．６ｇ（３．６モル）、無水酢酸１４０８．８ｇ
（１３．８モル）およびピリジン１．５３３ｇを重合槽
に仕込み、１５分間攪拌した後、攪拌しながら昇温速度
１℃／１分で昇温した。１４５℃となったところで、同
温度を１時間保持して、パラアセトキシ安息香酸、ジア
セトキシヒドロキノン、ジアセトキシレゾルシノールお
よびテレフタル酸の混合物を得た。
【００３５】得られた混合物に同温度で１−メチルイミ
ダゾール１．４９７ｇを加えたのち、昇温速度１℃／分
で３１０℃まで昇温した。昇温を開始した後、４０分
後、７０分後、１００分後までの酢酸の合計生成量（パ
ラヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノンおよびレゾルシノ
ールの使用量に対するモル分率で示す。）を図１に示し
た。３１０℃まで昇温したのち直ちに室温まで冷却し
て、固形物を得た。得られた固形物を常温で粗粉砕機を
用いて粉砕し、その後、窒素雰囲気下、２６０℃で１０
時間保温して、芳香族ポリエステル（粉末状）を得た。
フローテスター〔「ＣＦＴ−５００型」、島津製作所
製〕を用いて、上記で得た芳香族ポリエステルを４℃／
分の昇温速度で加熱しながら、９．８１ＭＰａの圧力で
内径１ｍｍ、長さ１０ｍｍのノズルから押出す際の溶融
粘度が４８００Ｐａ・ｓを示す温度を流動開始温度とし
た。結果を第１表に示す。
ダゾール１．４９７ｇを加えたのち、昇温速度１℃／分
で３１０℃まで昇温した。昇温を開始した後、４０分
後、７０分後、１００分後までの酢酸の合計生成量（パ
ラヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノンおよびレゾルシノ
ールの使用量に対するモル分率で示す。）を図１に示し
た。３１０℃まで昇温したのち直ちに室温まで冷却し
て、固形物を得た。得られた固形物を常温で粗粉砕機を
用いて粉砕し、その後、窒素雰囲気下、２６０℃で１０
時間保温して、芳香族ポリエステル（粉末状）を得た。
フローテスター〔「ＣＦＴ−５００型」、島津製作所
製〕を用いて、上記で得た芳香族ポリエステルを４℃／
分の昇温速度で加熱しながら、９．８１ＭＰａの圧力で
内径１ｍｍ、長さ１０ｍｍのノズルから押出す際の溶融
粘度が４８００Ｐａ・ｓを示す温度を流動開始温度とし
た。結果を第１表に示す。
【００３６】比較例１ １−メチルイミダゾールを加えなかった以外は実施例１
と同様に操作して、昇温を開始した。昇温を開始した
後、４０分後、７０分後、１００分後までの酢酸の合計
流出量（パラヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノンおよび
レゾルシノールの使用量に対するモル分率で示す。）を
図１に示した。３１０℃まで昇温したのち直ちに室温ま
で冷却して、固形物を得、芳香族ポリエステル（粉末
状）を得、実施例１と同様にして評価した。結果を第１
表に示す。
と同様に操作して、昇温を開始した。昇温を開始した
後、４０分後、７０分後、１００分後までの酢酸の合計
流出量（パラヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノンおよび
レゾルシノールの使用量に対するモル分率で示す。）を
図１に示した。３１０℃まで昇温したのち直ちに室温ま
で冷却して、固形物を得、芳香族ポリエステル（粉末
状）を得、実施例１と同様にして評価した。結果を第１
表に示す。
【００３７】実施例２ パラヒドロキシ安息香酸の使用量を９９４．５ｇ（７．
２モル）とし、ヒドロキノンの使用量を６６．１ｇ
（０．６モル）とし、レゾルシノールの使用量を１９
８．２ｇ（１．８モル）とし、テレフタル酸の使用量を
３９８．７ｇ（２．４モル）とし、１−メチルイミダゾ
ールの使用量を０．０７５ｇとする以外は実施例１と同
様に操作して、固形物を得、芳香族ポリエステル（粉末
状）を得、実施例１と同様にして評価した。結果を第１
表に示す。
２モル）とし、ヒドロキノンの使用量を６６．１ｇ
（０．６モル）とし、レゾルシノールの使用量を１９
８．２ｇ（１．８モル）とし、テレフタル酸の使用量を
３９８．７ｇ（２．４モル）とし、１−メチルイミダゾ
ールの使用量を０．０７５ｇとする以外は実施例１と同
様に操作して、固形物を得、芳香族ポリエステル（粉末
状）を得、実施例１と同様にして評価した。結果を第１
表に示す。
【００３８】実施例３ １−メチルイミダゾールの使用量を０．３０１ｇとする
以外は実施例２と同様に操作して、固形物を得、芳香族
ポリエステル（粉末状）を得、実施例１と同様にして評
価した。結果を第１表に示す。
以外は実施例２と同様に操作して、固形物を得、芳香族
ポリエステル（粉末状）を得、実施例１と同様にして評
価した。結果を第１表に示す。
【００３９】実施例４ １−メチルイミダゾールの使用量を０．７５３ｇとする
以外は実施例２と同様に操作して、固形物を得、芳香族
ポリエステル（粉末状）を得、実施例１と同様にして評
価した。結果を第１表に示す。
以外は実施例２と同様に操作して、固形物を得、芳香族
ポリエステル（粉末状）を得、実施例１と同様にして評
価した。結果を第１表に示す。
【００４０】実施例５ １−メチルイミダゾールの使用量を１．５０６ｇとする
以外は実施例２と同様に操作して、固形物を得、芳香族
ポリエステル（粉末状）を得、実施例１と同様にして評
価した。結果を第１表に示す。
以外は実施例２と同様に操作して、固形物を得、芳香族
ポリエステル（粉末状）を得、実施例１と同様にして評
価した。結果を第１表に示す。
【００４１】比較例２ １−メチルイミダゾールを使用しない以外は実施例２と
同様に操作して、固形物を得、芳香族ポリエステル（粉
末状）を得、実施例１と同様にして評価した。結果を第
１表に示す。
同様に操作して、固形物を得、芳香族ポリエステル（粉
末状）を得、実施例１と同様にして評価した。結果を第
１表に示す。
【００４２】
【表１】
【００４３】実施例１〜５および比較例１、２で得た各
芳香族ポリエステルについて、１−メチルイミダゾール
（ＮＭＩ）の添加量と流動開始温度との関係を図２に示
す。
芳香族ポリエステルについて、１−メチルイミダゾール
（ＮＭＩ）の添加量と流動開始温度との関係を図２に示
す。
【００４４】実施例６ パラヒドロキシ安息香酸６６３ｇ（４．８モル）、ヒド
ロキノン１２５．５ｇ（１．１４モル）、４，４’−ジ
ヒドロキシビフェニル１５４．２ｇ（０．８３モル）、
レゾルシノール１７９．７ｇ（１．６３モル）、テレフ
タル酸５９８．１ｇ（３．６モル）、無水酢酸１３４
７．６ｇ（１３．２モル）およびピリジン１．５３３ｇ
を重合槽に仕込み、１５分間攪拌した後、攪拌しながら
昇温した。１４５℃となったところで、同温度を１時間
保持して、パラアセトキシ安息香酸、ジアセトキシヒド
ロキノン、４，４’−ジアセトキシビフェニルおよびテ
レフタル酸の混合物を得た。
ロキノン１２５．５ｇ（１．１４モル）、４，４’−ジ
ヒドロキシビフェニル１５４．２ｇ（０．８３モル）、
レゾルシノール１７９．７ｇ（１．６３モル）、テレフ
タル酸５９８．１ｇ（３．６モル）、無水酢酸１３４
７．６ｇ（１３．２モル）およびピリジン１．５３３ｇ
を重合槽に仕込み、１５分間攪拌した後、攪拌しながら
昇温した。１４５℃となったところで、同温度を１時間
保持して、パラアセトキシ安息香酸、ジアセトキシヒド
ロキノン、４，４’−ジアセトキシビフェニルおよびテ
レフタル酸の混合物を得た。
【００４５】得られた混合物に同温度で１−メチルイミ
ダゾール１．５６３ｇを加えたのち、昇温速度１℃／分
で３１０℃まで昇温した。昇温を開始した後、４０分
後、７０分後、１００分後までの酢酸の合計生成量（パ
ラヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノン、４，４’−ジヒ
ドロキシビフェニルおよびレゾルシノールの合計使用量
に対するモル分率で示す。）を図３に示した。３１０℃
まで昇温したのち直ちに室温まで冷却して、固形物を得
た。
ダゾール１．５６３ｇを加えたのち、昇温速度１℃／分
で３１０℃まで昇温した。昇温を開始した後、４０分
後、７０分後、１００分後までの酢酸の合計生成量（パ
ラヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノン、４，４’−ジヒ
ドロキシビフェニルおよびレゾルシノールの合計使用量
に対するモル分率で示す。）を図３に示した。３１０℃
まで昇温したのち直ちに室温まで冷却して、固形物を得
た。
【００４６】得られた固形物を常温で粗粉砕機を用いて
粉砕し、その後、窒素雰囲気下、２３０℃で１０時間保
温して、芳香族ポリエステル（粉末状）を得た。この芳
香族ポリエステルの流動開始温度を実施例１と同様にし
て測定した結果を第２表に示す。
粉砕し、その後、窒素雰囲気下、２３０℃で１０時間保
温して、芳香族ポリエステル（粉末状）を得た。この芳
香族ポリエステルの流動開始温度を実施例１と同様にし
て測定した結果を第２表に示す。
【００４７】比較例３ １−メチルイミダゾールを加えなかった以外は実施例６
と同様に操作して、昇温を開始した。昇温を開始した
後、４０分後、７０分後、１００分後までの酢酸の合計
流出量（パラヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノン、４，
４’−ジヒドロキシビフェニルおよびレゾルシノールの
合計使用量に対するモル分率で示す。）を図３に示し
た。３１０℃まで昇温したのち直ちに室温まで冷却し
て、固形物を得、芳香族ポリエステル（粉末状）を得、
実施例１と同様にして評価した。結果を第２表に示す。
と同様に操作して、昇温を開始した。昇温を開始した
後、４０分後、７０分後、１００分後までの酢酸の合計
流出量（パラヒドロキシ安息香酸、ヒドロキノン、４，
４’−ジヒドロキシビフェニルおよびレゾルシノールの
合計使用量に対するモル分率で示す。）を図３に示し
た。３１０℃まで昇温したのち直ちに室温まで冷却し
て、固形物を得、芳香族ポリエステル（粉末状）を得、
実施例１と同様にして評価した。結果を第２表に示す。
【００４８】
【表２】
【図１】実施例１および比較例１における昇温中の系内
の温度（℃）と酢酸の合計生成量（パラヒドロキシ安息
香酸、ヒドロキノンおよびレゾルシノールの合計使用量
に対するモル分率）との関係を示す図であり、横軸に系
内の温度（℃）を、縦軸に合計生成量（％）をそれぞれ
示す。
の温度（℃）と酢酸の合計生成量（パラヒドロキシ安息
香酸、ヒドロキノンおよびレゾルシノールの合計使用量
に対するモル分率）との関係を示す図であり、横軸に系
内の温度（℃）を、縦軸に合計生成量（％）をそれぞれ
示す。
【図２】実施例１〜５および比較例１〜２で得た芳香族
ポリエステルについて、１−メチルイミダゾール（ＮＭ
Ｉ）の添加量（ｇ）と流動開始温度との関係を示す図で
あり、横軸はＮＭＩの添加量（ｇ）を、縦軸は流動開始
温度（℃）をそれぞれ示す。
ポリエステルについて、１−メチルイミダゾール（ＮＭ
Ｉ）の添加量（ｇ）と流動開始温度との関係を示す図で
あり、横軸はＮＭＩの添加量（ｇ）を、縦軸は流動開始
温度（℃）をそれぞれ示す。
【図３】実施例６および比較例３における昇温中の系内
の温度（℃）と酢酸の合計生成量（パラヒドロキシ安息
香酸、ヒドロキノン、レゾルシノールおよび４，４’−
ジヒドロキシビフェニルの合計使用量に対するモル分
率）との関係を示す図であり、横軸に系内の温度（℃）
を、縦軸に合計生成量（％）をそれぞれ示す。
の温度（℃）と酢酸の合計生成量（パラヒドロキシ安息
香酸、ヒドロキノン、レゾルシノールおよび４，４’−
ジヒドロキシビフェニルの合計使用量に対するモル分
率）との関係を示す図であり、横軸に系内の温度（℃）
を、縦軸に合計生成量（％）をそれぞれ示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原田 博史 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住 友化学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4J029 AA06 AB01 AB04 AC02 AE01 BB04A BB04B BB05A BB09A BB09B BB10A BB10B CB05A CB05B CB06A CB06B CG05X CG08X EB04A EB04B EB05A EB05B EE05 JC263 KE08 KE12 KF09
Claims (11)
- 【請求項１】式（Ｉ） 〔式中、Ｘ1はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｘは０〜２の整数を示す。〕で示されるア
セトキシ安息香酸類、式（II） 〔式中、Ｘ2はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｙは０〜２の整数を示し、ｎは１または２
を示す。〕で示されるジアセトキシ芳香族ジオール類お
よび式（III） 〔式中、Ｘ3はアルキル基、フェニル基またはハロゲン
原子を示し、ｚは０〜２の整数を示す。〕で示されるベ
ンゼンジカルボン酸類を式（IV） 〔式中、Ｘ4〜Ｘ7はそれぞれ独立に水素原子、アルキル
基、ヒドロキシメチル基、シアノアルキル基、カルボキ
シル基、アミノアルキル基、フェニル基、ベンジル基ま
たはフォルミル基を示す。〕で示されるイミダゾール類
の存在下に共重合させることを特徴とする芳香族ポリエ
ステルの製造方法。 - 【請求項２】式（II）におけるｎが１である請求項１に
記載の製造方法。 - 【請求項３】式（Ｉ）で示されるアセトキシ安息香酸類
は、式（Ｉ−１） 〔式中、Ｘ1およびｘはそれぞれ前記と同じ意味を示
す。〕で示される安息香酸類を無水酢酸と反応させて
得、式（II）で示されるジアセトキシ芳香族ジオール類
は、式（II−１） 〔式中、Ｘ2、ｙおよびｎはそれぞれ前記と同じ意味を
示す。〕で示される芳香族ジオール類を無水酢酸と反応
させて得る、請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項４】式（IV）におけるＸ4がアルキル基である
請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項５】式（IV）におけるＸ5、Ｘ6およびＸ7が水
素原子である請求項４に記載の製造方法。 - 【請求項６】式（IV）で示されるイミダゾール類の使用
量が、式（Ｉ）で示されるアセトキシ安息香酸類、式
（II）で示されるジアセトキシ芳香族ジオール類および
式（III）で示されるベンゼンジカルボン酸類の合計使
用量１００質量部あたり０．００１質量部以上である請
求項１に記載の製造方法。 - 【請求項７】共重合させたのち、固相重合させる請求項
１に記載の製造方法。 - 【請求項８】前記式（Ｉ）で示されるアセトキシ安息香
酸類、前記式（II）で示されるジアセトキシ芳香族ジオ
ール類および前記式（III）で示されるベンゼンジカル
ボン酸類が前記式（IV）で示されるイミダゾール類の存
在下に共重合されてなることを特徴とする芳香族ポリエ
ステル。 - 【請求項９】式（IV）におけるＸ4がアルキル基である
請求項８に記載の芳香族ポリエステル。 - 【請求項１０】式（IV）におけるＸ5、Ｘ6およびＸ7が
水素原子である請求項９に記載の芳香族ポリエステル。 - 【請求項１１】共重合されたのち、固相重合されてなる
請求項８に記載の芳香族ポリエステル。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2001248654A JP2002302540A (ja) | 2001-02-05 | 2001-08-20 | 芳香族ポリエステルの製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2001028005 | 2001-02-05 | ||
| JP2001-28005 | 2001-02-05 | ||
| JP2001248654A JP2002302540A (ja) | 2001-02-05 | 2001-08-20 | 芳香族ポリエステルの製造方法 |
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|---|---|
| JP2002302540A true JP2002302540A (ja) | 2002-10-18 |
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| JP2001248654A Pending JP2002302540A (ja) | 2001-02-05 | 2001-08-20 | 芳香族ポリエステルの製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2002302540A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8492500B2 (en) | 2011-07-29 | 2013-07-23 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing liquid-crystalline polyester |
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- 2001-08-20 JP JP2001248654A patent/JP2002302540A/ja active Pending
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