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JP2002359315A - Manufacturing method of heat conductive substrate - Google Patents

Manufacturing method of heat conductive substrate

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JP2002359315A
JP2002359315A JP2002059938A JP2002059938A JP2002359315A JP 2002359315 A JP2002359315 A JP 2002359315A JP 2002059938 A JP2002059938 A JP 2002059938A JP 2002059938 A JP2002059938 A JP 2002059938A JP 2002359315 A JP2002359315 A JP 2002359315A
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JP
Japan
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film
conductive substrate
metal plate
lead frame
thermosetting resin
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JP2002059938A
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Japanese (ja)
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Tetsuya Tsumura
哲也 津村
Shizuo Furuyama
静夫 古山
Tsuneaki Miyaoka
常明 宮岡
Hajime Yamamoto
始 山本
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電気的に独立絶縁の必要な部分であるランド
を確実に位置決めでき、熱硬化樹脂組成物による汚染が
防止できる熱電導性基板の製造方法を提供することを目
的とするものである。 【解決手段】 レジスト14によりパターンを形成した
導電性金属板11に、端子板と回路形成部を形成した
後、回路形成部にマスキング16を行って半田めっき1
5を施し、マスキング16を除去した後、電気的に独立
絶縁の必要な部分を接続しているつなぎ桟17と回路形
成部のパターン加工を行い、レジスト14の印刷面にフ
ィルム18を貼付した後、つなぎ桟17をフィルム18
と共に打抜き除去してリードフレーム12を形成し、リ
ードフレーム12の回路形成部に熱硬化樹脂組成物21
および放熱用金属板23を積層し、加熱加圧して硬化さ
せる。
(57) [Problem] To provide a method of manufacturing a thermoconductive substrate capable of reliably positioning a land, which is a part that needs to be electrically isolated independently, and preventing contamination by a thermosetting resin composition. It is assumed that. SOLUTION: After forming a terminal plate and a circuit forming portion on a conductive metal plate 11 having a pattern formed by a resist 14, a masking 16 is performed on the circuit forming portion to perform solder plating 1.
5 and removing the masking 16, patterning of the connecting bar 17 and the circuit forming portion that electrically connect the portions that need to be electrically isolated, and attaching the film 18 to the printed surface of the resist 14 , Connecting splice 17 to film 18
And the lead frame 12 is formed by punching and removing, and the thermosetting resin composition 21
The heat-dissipating metal plate 23 is laminated, and cured by heating and pressing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子機器における
高電力回路などに使用される、リードフレームや熱硬化
樹脂組成物などで構成された熱伝導性基板(高放熱性基
板)の製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a thermally conductive substrate (high heat dissipation substrate) composed of a lead frame, a thermosetting resin composition, or the like, which is used for a high power circuit in an electronic device. Things.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の高性能化、小型化の要
求にともない、半導体の高密度や高機能化が要求されて
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, with the demand for higher performance and smaller size of electronic devices, higher density and higher function of semiconductors are required.

【0003】これにより、それらを実装するための回路
基板もまた小型高密度の構造が必要であり、その結果、
熱硬化樹脂に無機の熱伝導性フィラーを充填した熱硬化
樹脂組成物を、本体、配線、電極あるいは取出端子を構
成するリードフレームや、別個の放熱用金属板と一体化
した、加熱加圧成形による熱伝導性基板が提案されてい
た。
[0003] As a result, the circuit board for mounting them also requires a small and high-density structure.
Heat and pressure molding, in which a thermosetting resin composition in which a thermosetting resin is filled with an inorganic heat conductive filler is integrated with a lead frame that constitutes a main body, wiring, electrodes or extraction terminals, or a separate metal plate for heat radiation Has proposed a thermally conductive substrate.

【0004】従来における熱伝導性基板の製造方法につ
いて、図7の側断面図および平面図を用いて説明する。
すなわち図7において、1は熱硬化樹脂に熱伝導性フィ
ラーを充填したシート形状などの熱硬化樹脂組成物であ
る。
A conventional method of manufacturing a heat conductive substrate will be described with reference to a side sectional view and a plan view of FIG.
That is, in FIG. 7, reference numeral 1 denotes a thermosetting resin composition in the form of a sheet in which a thermosetting resin is filled with a thermally conductive filler.

【0005】2はエッチングやプレスなどにより端子や
回路形成部など所定パターンおよび位置決め用孔4が加
工および設けられ、銅やその合金などの導電性金属板で
なる回路形成用導体(リードフレーム)、3は金型など
における加熱部を有する下加圧体6の動作面に設けら
れ、前記孔4に対応する円筒状の突起である。そして、
5は下加圧体6に対応し加熱部を有する移動自在な上加
圧体である。
[0005] Reference numeral 2 denotes a predetermined pattern and a positioning hole 4 such as a terminal and a circuit forming portion which are processed and provided by etching or pressing, etc., and a circuit forming conductor (lead frame) made of a conductive metal plate such as copper or an alloy thereof; Reference numeral 3 denotes a cylindrical projection corresponding to the hole 4 provided on the operation surface of the lower pressurizing member 6 having a heating portion in a mold or the like. And
Reference numeral 5 denotes a movable upper pressing body having a heating unit corresponding to the lower pressing body 6.

【0006】製造方法について説明すると、まず図7
(b)に示すように、回路形成用導体2(リードフレー
ム)に設けられた孔4に、下加圧体6の動作面に配置し
た突起3を挿入して、回路形成用導体2を位置決めしな
がら下加圧体6の上面に載置する。
The manufacturing method will be described first.
As shown in (b), the projections 3 arranged on the operating surface of the lower pressure body 6 are inserted into the holes 4 provided in the circuit forming conductor 2 (lead frame) to position the circuit forming conductor 2. While being placed on the upper surface of the lower pressure body 6.

【0007】続いて図7(a)に示すように、熱硬化樹
脂組成物1を回路形成用導体2の回路部分に積層した
後、上加圧体5を降下させて加熱加圧して熱硬化樹脂組
成物1の硬化を完成させ、熱硬化樹脂組成物1と回路形
成用導体2を一体化するのである。その後、必要であれ
ば所定の電子部品やデバイスを実装して熱伝導性基板を
完成させるものであった。
[0007] Subsequently, as shown in FIG. 7 (a), after the thermosetting resin composition 1 is laminated on the circuit portion of the circuit-forming conductor 2, the upper pressurizing body 5 is lowered and heated and pressed to perform thermosetting. The curing of the resin composition 1 is completed, and the thermosetting resin composition 1 and the circuit-forming conductor 2 are integrated. Thereafter, if necessary, predetermined electronic components and devices are mounted to complete the heat conductive substrate.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の熱伝導性基板の製造方法では、熱硬化樹脂組成物1
が加熱加圧される際に軟化して流動する。その軟化と流
動により発生する回路形成用導体2のずれや移動を防止
するために、2箇所の孔4と突起3により嵌合して位置
決めおよび規制する必要があった。
However, in the conventional method for manufacturing a heat conductive substrate, the thermosetting resin composition 1 is used.
Softens and flows when heated and pressurized. In order to prevent the circuit-forming conductor 2 from shifting or moving due to the softening and the flow, it is necessary to fit the two holes 4 and the projections 3 for positioning and regulation.

【0009】すなわち、前記のためには孔4および突起
3も2箇所以上が必要であり、複数の回路形成用導体2
を熱硬化樹脂組成物1と成形する際には、下加圧体6に
多数の突起3を配置しなければならず、装置が複雑で高
価となる。
That is, for the above, the holes 4 and the projections 3 also need to be provided at two or more places.
When molding with the thermosetting resin composition 1, a large number of projections 3 must be arranged on the lower pressure body 6, and the apparatus becomes complicated and expensive.

【0010】また、電気的に独立絶縁の必要な部分であ
るランドや回路形成用導体2が小型の場合には、孔4を
設けることが困難であるという課題を有していた。
[0010] Further, when the land or the circuit forming conductor 2 which is a part which needs to be electrically isolated independently is small, it is difficult to provide the hole 4.

【0011】本発明は前記課題を解決しようとするもの
であり、簡単な構成で、電気的に独立絶縁の必要な部分
であるランドや、小型の回路形成用導体でも確実に位置
決めおよび規制ができ、熱硬化樹脂組成物のにじみや付
着による汚染が防止できる熱伝導性基板の製造方法を提
供することを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is to solve the above-mentioned problem, and it is possible to reliably position and regulate a land, which is a part that needs to be electrically isolated independently, or a small conductor for forming a circuit, with a simple structure. It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a heat conductive substrate which can prevent contamination due to bleeding or adhesion of a thermosetting resin composition.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明の熱伝導性基板の製造方法は、レジストにより
パターンを形成した導電性金属板に端子部と回路形成部
の加工形成を行った後、前記回路形成部にマスキングを
施してめっき処理を行い、続いてマスキングを除去し、
電気的に独立絶縁の必要な部分を機械的に接続するつな
ぎ桟および回路形成部の所定パターン加工を行い、そし
てレジスト印刷面にフィルムを貼付した後、つなぎ桟を
フィルムとともに打抜き除去してリードフレームを形成
し、前記リードフレームの回路形成部に熱硬化樹脂組成
物あるいは熱硬化樹脂組成物および放熱用金属板を積層
し、加熱加圧して硬化させてなる方法としたものであ
り、確実な位置決めや規制、および熱硬化樹脂組成物に
よるにじみや付着による汚染の防止が可能となる。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a thermally conductive substrate, comprising: forming a terminal portion and a circuit forming portion on a conductive metal plate having a pattern formed by a resist; After that, the plating is performed by applying masking to the circuit forming portion, and subsequently removing the masking,
Performs a predetermined pattern processing of the connecting bars and the circuit forming part that mechanically connect the parts that need to be electrically isolated independently, and after attaching the film to the resist printing surface, punches out the connecting bars together with the film and removes the lead frame. Is formed by laminating a thermosetting resin composition or a thermosetting resin composition and a metal plate for heat radiation on the circuit forming portion of the lead frame, and curing by heating and pressing. And regulation and prevention of contamination due to bleeding or adhesion by the thermosetting resin composition.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、レジストによりパターンを形成した導電性金属板に
端子部と回路形成部の加工形成を行った後、前記回路形
成部にマスキングを施してめっき処理を行い、続いてマ
スキングを除去し、電気的に独立絶縁の必要な部分を機
械的に接続するつなぎ桟および回路形成部の所定パター
ン加工を行い、そしてレジスト印刷面にフィルムを貼付
した後、つなぎ桟をフィルムとともに打抜き除去してリ
ードフレームを形成し、前記リードフレームの回路形成
部に熱硬化樹脂組成物あるいは熱硬化樹脂組成物および
放熱用金属板を積層し、加熱加圧して硬化させてなる熱
伝導性基板の製造方法としたものであり、電気的に独立
絶縁の必要な部分であるランドの位置決めと、熱硬化樹
脂組成物による汚染を防止するという作用を有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS According to the first aspect of the present invention, after forming a terminal portion and a circuit forming portion on a conductive metal plate having a pattern formed with a resist, the circuit forming portion is masked. The plating process is performed, followed by removing the masking, performing a predetermined pattern processing of a connecting bar and a circuit forming portion for mechanically connecting portions that need electrically independent insulation, and applying a film on the resist printing surface. After sticking, the connecting bar is punched and removed together with the film to form a lead frame, and a thermosetting resin composition or a thermosetting resin composition and a metal plate for heat dissipation are laminated on the circuit forming portion of the lead frame, and heated and pressed. The method is a method of manufacturing a thermally conductive substrate that is hardened by curing. It has the effect of preventing.

【0014】請求項2に記載の発明は、レジストにより
パターンを形成した導電性金属板の回路形成部にマスキ
ングを施してめっき処理を行い、続いてマスキングを除
去し、端子部、電気的に独立絶縁の必要な部分を機械的
に接続するつなぎ桟および回路形成部の所定パターンを
加工してリードフレームを形成する請求項1に記載の熱
伝導性基板の製造方法としたものであり、打抜き加工の
工程が削減できるという作用を有する。
According to a second aspect of the present invention, a circuit forming portion of a conductive metal plate on which a pattern is formed by using a resist is subjected to a plating process by performing a masking process. 2. A method for manufacturing a thermally conductive substrate according to claim 1, wherein a lead frame is formed by processing a predetermined pattern of a connecting bar and a circuit forming portion for mechanically connecting portions requiring insulation. Has the effect of reducing the number of steps.

【0015】請求項3に記載の発明は、70〜95重量
部の無機質フィラーと、5〜30重量部の少なくとも熱
硬化樹脂、硬化剤および硬化促進剤でなり、半硬化ある
いは部分硬化状態で可撓性を有するシート形状の熱硬化
樹脂組成物を使用してなる請求項1あるいは2に記載の
熱伝導性基板の製造方法としたものであり、生産工程時
間の短縮とメンテナンスが容易になるという作用を有す
る。
The invention according to claim 3 comprises 70 to 95 parts by weight of an inorganic filler and 5 to 30 parts by weight of at least a thermosetting resin, a curing agent and a curing accelerator, and can be used in a semi-cured or partially cured state. The method for producing a heat conductive substrate according to claim 1 or 2, wherein the thermosetting resin composition in the form of a sheet having flexibility is used, which shortens the production process time and facilitates maintenance. Has an action.

【0016】請求項4に記載の発明は、マスキングフィ
ルムの貼付あるいはレジストの塗布によるマスキングを
してなる請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製
造方法としたものであり、不要箇所への半田めっきの施
しを防止するという作用を有する。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a heat conductive substrate according to the first or second aspect, wherein the masking is performed by applying a masking film or applying a resist. Has the effect of preventing the application of solder plating.

【0017】請求項5に記載の発明は、レジスト印刷面
にフィルムを貼付した後、つなぎ桟をフィルムとともに
打抜き除去し、その後前記フィルムを除去したリードフ
レームの回路形成部に熱硬化樹脂組成物あるいは熱硬化
樹脂組成物および放熱用金属板を積層し、加熱加圧して
硬化させてなる請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基
板の製造方法としたものであり、放熱性が向上し高電力
回路が可能になるという作用を有する。
According to a fifth aspect of the present invention, after attaching a film to a resist-printed surface, a connecting bar is punched and removed together with the film, and then the thermosetting resin composition or The method for producing a heat conductive substrate according to claim 1 or 2, wherein the thermosetting resin composition and the metal plate for heat radiation are laminated, and cured by heating and pressing. It has the effect of enabling a circuit.

【0018】請求項6に記載の発明は、導電性金属板を
プレス加工、エッチング加工あるいはレーザ加工により
リードフレームを形成してなる請求項1あるいは2に記
載の熱伝導性基板の製造方法としたものであり、所定の
パターンを有するリードフレームを形成できるという作
用を有する。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein a lead frame is formed by pressing, etching or laser processing a conductive metal plate. And has an effect that a lead frame having a predetermined pattern can be formed.

【0019】請求項7に記載の発明は、形成用の金型あ
るいは熱プレス機により、リードフレームと熱硬化樹脂
組成物あるいは熱硬化樹脂組成物および放熱用金属板を
積層して加熱加圧し硬化させてなる請求項1あるいは2
に記載の熱伝導性基板の製造方法としたものであり、モ
ジュール化され高放熱性の熱伝導性基板が構成できると
いう作用を有する。
According to a seventh aspect of the present invention, a lead frame and a thermosetting resin composition or a thermosetting resin composition and a heat-dissipating metal plate are laminated by a forming die or a hot press machine, and cured by heating and pressing. Claim 1 or 2 which is made to
The method has a function of forming a heat conductive substrate which is modularized and has high heat dissipation.

【0020】請求項8に記載の発明は、ニッケル下地め
っきと半田めっきによるめっき処理を施してなる請求項
1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方法としたも
のであり、対環境性の向上と後工程による実装が確実に
できるという作用を有する。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein the plating process is performed by nickel plating and solder plating. This has the effect that the improvement and the mounting in the post-process can be reliably performed.

【0021】請求項9に記載の発明は、導電性金属板と
して銅あるいはその合金材を使用してなる請求項1ある
いは2に記載の熱伝導性基板の製造方法としたものであ
り、機械的強度、電気的特性および熱伝導性が向上する
という作用を有する。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein copper or an alloy thereof is used as the conductive metal plate. It has the effect of improving strength, electrical properties and thermal conductivity.

【0022】請求項10に記載の発明は、回路形成部に
マスキングを行わずにリードフレーム全体にめっき処理
を施し、ブラスト処理で回路形成部のめっきを除去して
なる請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方
法としたものであり、めっき除去面を粗面化できるとい
う作用を有する。
According to a tenth aspect of the present invention, the entire lead frame is plated without masking the circuit forming portion, and the plating of the circuit forming portion is removed by blasting. The method has the function of roughening the plating-removed surface.

【0023】請求項11に記載の発明は、あらかじめ端
子部を加工形成した導電性金属板にレジストによるパタ
ーンを形成する請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基
板の製造方法としたものであり、端子部の共用化および
電気的特性チェックなどに活用できるという作用を有す
る。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein a pattern made of a resist is formed on a conductive metal plate on which terminals have been formed in advance. , And can be used for sharing terminals and checking electrical characteristics.

【0024】請求項12に記載の発明は、導電性金属板
への打抜き加工の方向をレジスト印刷面側としてなる請
求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方法とし
たものであり、打抜きバリによりレジストの流動を防止
できるという作用を有する。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein the direction of the punching process on the conductive metal plate is the resist printing surface side. Punching burrs have the effect of preventing resist flow.

【0025】請求項13に記載の発明は、少なくとも片
面側が粗面化された導電性金属板を使用してなる請求項
1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方法としたも
のであり、マスキングの剥離性、半田めっきあるいは熱
硬化樹脂組成物の密着性が向上するという作用を有す
る。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein a conductive metal plate having at least one surface roughened is used. It has the effect of improving the releasability of masking and the adhesion of the solder plating or thermosetting resin composition.

【0026】請求項14に記載の発明は、フィルムをレ
ジスト印刷面に貼付してなる請求項1あるいは2に記載
の熱伝導性基板の製造方法としたものであり、熱硬化樹
脂組成物のにじみや付着による汚染を防止するという作
用を有する。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided the method for producing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein the film is attached to a resist-printed surface. And has the effect of preventing contamination due to adhesion.

【0027】請求項15に記載の発明は、位置決め箇所
を除いてリードフレーム全体にフィルムを貼付してなる
請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方法と
したものであり、リードフレームにおける表面の保護が
できるという作用を有する。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein a film is adhered to the entire lead frame except for a positioning portion. Has the effect that the surface can be protected.

【0028】請求項16に記載の発明は、電気的に独立
絶縁の必要な部分に対する位置決めを、貼付したフィル
ムにより行ってなる請求項1あるいは2に記載の熱伝導
性基板の製造方法としたものであり、双方による機械的
な位置決め手段が不要になるという作用を有する。
According to a sixteenth aspect of the present invention, there is provided the method for manufacturing a thermally conductive substrate according to the first or second aspect, wherein the positioning with respect to the portion that needs to be electrically isolated is performed by the attached film. This has the effect of eliminating the need for mechanical positioning means.

【0029】本発明の請求項17に記載の発明は、フィ
ルムを貼付した導電性金属板に対し、上記フィルムを貼
付した面と反対面から打抜きによりつなぎ桟とフィルム
を除去してリードフレームを形成する請求項1あるいは
2に記載の熱伝導性基板の製造方法であり、打抜きによ
るバリはフィルム面側に発生し、同時に導電性金属板と
の貼付面に有していたフィルムの接着剤も打抜き方向の
フィルム面側に移動することとなり、この結果としと配
線パターン間に上記接着剤の侵入を防いで熱硬化樹脂組
成物で充満された状態となって配線パターンの定形性が
高まり、また空気は配線パターンや熱硬化樹脂組成物よ
りなる熱伝導シート間からスムーズに脱気することがで
きるので、配線パターンから熱伝導シートを介しての放
熱用金属板への熱伝導性が高まる。
According to a seventeenth aspect of the present invention, a connecting frame and a film are removed from a conductive metal plate to which a film is attached by punching from a surface opposite to a surface to which the film is attached to form a lead frame. 3. The method for producing a thermally conductive substrate according to claim 1, wherein burrs due to punching are generated on a film surface side, and at the same time, an adhesive of the film which is provided on a surface to be bonded to the conductive metal plate is also punched. In the direction of the film surface side, and as a result, the above-mentioned adhesive is prevented from entering between the wiring patterns and is filled with the thermosetting resin composition, thereby increasing the formability of the wiring patterns and increasing the airflow. Can smoothly deaerate from between the wiring pattern and the heat conductive sheet made of the thermosetting resin composition, so the heat from the wiring pattern to the metal plate for heat radiation through the heat conductive sheet Guide is enhanced.

【0030】以下、本発明の実施の形態における熱伝導
性基板の製造方法について図1〜図6を用いて説明す
る。
Hereinafter, a method of manufacturing a heat conductive substrate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0031】なお、従来の技術で説明した構成部品につ
いては同一の符号を付与し、詳細な説明は簡略化する。
The same reference numerals are given to the components described in the related art, and the detailed description will be simplified.

【0032】まず、電子機器における高電力回路などに
使用される、放熱性の優れた熱伝導性基板(高放熱性基
板)の構成例について説明する。
First, a description will be given of a configuration example of a heat conductive substrate (high heat dissipation substrate) having excellent heat dissipation, which is used for a high power circuit or the like in an electronic device.

【0033】図6において、21はシート形状の熱硬化
樹脂組成物である。この熱硬化樹脂組成物21は、例え
ば70〜95重量部の無機質フィラーと、5〜30重量
部の少なくとも熱硬化樹脂、硬化剤および硬化促進剤よ
りなり、半硬化あるいは部分硬化状態で可撓性を有し
て、少なくとも膜厚が0.8〜2mm、好ましくは0.
8〜1.6mmとなるように、ドクターブレード法、コ
ーター法、押出し成形法あるいは圧延法により形成して
いる。
In FIG. 6, reference numeral 21 denotes a sheet-shaped thermosetting resin composition. The thermosetting resin composition 21 is composed of, for example, 70 to 95 parts by weight of an inorganic filler and 5 to 30 parts by weight of at least a thermosetting resin, a curing agent and a curing accelerator, and is flexible in a semi-cured or partially cured state. Having a thickness of at least 0.8 to 2 mm, preferably 0.1 to 2 mm.
It is formed by a doctor blade method, a coater method, an extrusion molding method or a rolling method so as to have a thickness of 8 to 1.6 mm.

【0034】22はプレス加工、エッチング加工あるい
はレーザ加工などにより所定のパターンや形状に加工形
成された回路形成用導体(リードフレーム)であり、ア
ルミニウム、銅、銀、鉄あるいはそれらの合金材などで
なる導電性および熱伝導性金属板の少なくとも図6の上
面を、密着性を良くするために粗面化し、その後図6の
下面側にソルダーレジストの印刷および熱あるいは紫外
線硬化により後工程で搭載する電子部品用などのために
所定パターンを形成している。
Reference numeral 22 denotes a circuit forming conductor (lead frame) formed into a predetermined pattern or shape by pressing, etching, laser processing, or the like, and is made of aluminum, copper, silver, iron, or an alloy thereof. At least the upper surface of FIG. 6 of the conductive and heat conductive metal plate is roughened to improve adhesion, and then mounted on the lower surface of FIG. 6 in a later step by printing a solder resist and heat or ultraviolet curing. A predetermined pattern is formed for an electronic component or the like.

【0035】23は放熱用金属板であり、熱伝導性の優
れた鉄、銅、アルミニウム、アルマイト処理されたアル
ミニウムあるいはそれらの合金などの金属材を、所定形
状に加工して形成している。
Reference numeral 23 denotes a heat-dissipating metal plate which is formed by processing a metal material having excellent thermal conductivity, such as iron, copper, aluminum, anodized aluminum, or an alloy thereof, into a predetermined shape.

【0036】20は回路形成用導体22の不要部を切断
除去し、かつ折り曲げ加工などにより形成された外部と
の接続用などの端子である。
Reference numeral 20 denotes a terminal for cutting and removing an unnecessary portion of the circuit forming conductor 22 and for connecting to the outside formed by bending or the like.

【0037】そして、回路形成用導体22の上面に、シ
ート形状の熱硬化樹脂組成物21と放熱用金属板23を
積層して搭載あるいは貼付し、加熱加圧して硬化を完了
した後、さらに端子20を前記の方法で構成し、所定の
熱伝導性基板を形成するのである。
Then, a sheet-shaped thermosetting resin composition 21 and a heat-dissipating metal plate 23 are laminated and mounted or adhered on the upper surface of the circuit-forming conductor 22, and after heating and pressing to complete the curing, the terminal is further added. 20 is formed by the above-described method, and a predetermined heat conductive substrate is formed.

【0038】次に図1、図2を用いて、本発明の熱伝導
性基板の製造方法における実施の形態について説明す
る。図1において、11はアルミニウム、銅、銀、鉄あ
るいはそれらの合金材などでなり、少なくとも片面を密
着性の向上を図るために粗面化した熱伝導性でもある導
電性金属板(基材)、14は導電性金属板11(基材)
の片面の所定箇所に印刷される電気的絶縁性、耐熱およ
び耐薬品性に優れたレジストである。
Next, an embodiment of a method for manufacturing a heat conductive substrate according to the present invention will be described with reference to FIGS. In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a conductive metal plate (substrate) made of aluminum, copper, silver, iron, or an alloy thereof, and having at least one surface roughened to improve adhesion. , 14 are conductive metal plates 11 (base material)
Is a resist which is printed on a predetermined portion of one side and has excellent electrical insulation, heat resistance and chemical resistance.

【0039】13はプレスやエッチングあるいはレーザ
加工などにより形成された加工孔であり、所定パターン
を基材11に加工して本体となるリードフレーム12を
形成する。そして15はニッケル下地めっきの上に施す
半田めっきであり、リードフレーム12の所定箇所に施
される。
Reference numeral 13 denotes a processing hole formed by pressing, etching, laser processing, or the like, and a predetermined pattern is processed on the base material 11 to form a lead frame 12 serving as a main body. Reference numeral 15 denotes a solder plating applied on the nickel base plating, which is applied to a predetermined portion of the lead frame 12.

【0040】16はリードフレーム12の下面の回路形
成部に、マスキングフィルムの貼付あるいはレジストの
塗布などにより設けたマスキングであり、17はリード
フレーム12に形成される電気的に独立絶縁の必要な部
分であるランドを機械的に接続させるつなぎ桟である。
Reference numeral 16 denotes masking provided on the circuit forming portion on the lower surface of the lead frame 12 by pasting a masking film or applying a resist, and 17 denotes a portion formed on the lead frame 12 and requiring electrically independent insulation. This is a connecting bar that mechanically connects the lands.

【0041】18は耐熱、耐薬品性に優れて物理的形状
の変化が少ない樹脂材などでなり、片面が粘着自在なフ
ィルムである。
Reference numeral 18 denotes a film which is made of a resin material which is excellent in heat resistance and chemical resistance and has little change in physical shape, and which can be adhered on one side.

【0042】製造方法について説明すると、まず図1
(a)に示すリードフレーム12となる導電性金属板1
1(基材)の片面(上面)に、図1(b)に示すように
所定箇所にレジスト14によるパターンを印刷し、熱あ
るいは紫外線により硬化させる。
The manufacturing method will be described.
(A) Conductive metal plate 1 serving as lead frame 12 shown in FIG.
On one surface (upper surface) of 1 (substrate), a pattern of a resist 14 is printed at a predetermined position as shown in FIG. 1B, and cured by heat or ultraviolet rays.

【0043】続いて図1(c)に示すように、プレス打
抜きやレーザ加工などにより加工孔13を設けて端子部
と回路形成部を有するリードフレーム12となす。そし
て、図1(d)に示すように、リードフレーム12の裏
面(レジスト14が印刷されていない面)の回路形成部
にマスキング16を行った後、ニッケル下地めっきと半
田メッキ15をリードフレーム12の全体に施す。
Subsequently, as shown in FIG. 1C, a processing hole 13 is provided by press punching, laser processing, or the like to form a lead frame 12 having a terminal portion and a circuit forming portion. Then, as shown in FIG. 1D, after masking 16 is performed on the circuit forming portion on the back surface (the surface on which the resist 14 is not printed) of the lead frame 12, nickel base plating and solder plating 15 are applied to the lead frame 12. Apply to the whole.

【0044】なお、加工孔13の切断面にも前記のニッ
ケル下地めっきと半田めっき15が施されていることに
なる。
Incidentally, the cut surface of the processing hole 13 is also provided with the nickel base plating and the solder plating 15 described above.

【0045】次に図1(e)に示すように、マスキング
16を除去した後、回路形成部における所定パターンの
加工を前記と同じ方法にて行う。なおその際、打抜き方
向はレジスト14の印刷された面方向とし、さらにリー
ドフレーム12に形成される電気的に独立絶縁の必要な
部分であるランドを、機械的に接続させるつなぎ桟17
の部分も同時に形成する。
Next, as shown in FIG. 1E, after removing the masking 16, processing of a predetermined pattern in the circuit forming portion is performed by the same method as described above. At this time, the punching direction is the surface direction on which the resist 14 is printed, and the connecting bar 17 for mechanically connecting the lands formed on the lead frame 12 and requiring electrically independent insulation is used.
Is also formed at the same time.

【0046】続いて図2(f)に示すように、リードフ
レーム12のレジスト印刷面(上面)における回路形成
部にフィルム18を貼付する。その後、図2(g)およ
び図2(g)の要部(A部)詳細図である図2(j)に
示すように前記つなぎ桟17部分をフィルム18ととも
にフィルム18を貼付した面とは反対面から打抜いて除
去する。
Subsequently, as shown in FIG. 2F, a film 18 is attached to the circuit forming portion on the resist printing surface (upper surface) of the lead frame 12. Then, as shown in FIG. 2 (g) and FIG. 2 (j) which is a detailed view of the main part (A part) of FIG. Punch and remove from opposite side.

【0047】その際、前記電気的に独立絶縁の必要な部
分であるランドは、本体のリードフレーム12とは切り
離されて分離するのであるが、貼付したフィルム18に
より所定位置を保持している。
At this time, the lands, which are parts that need to be electrically isolated independently, are separated from the lead frame 12 of the main body and are separated from each other.

【0048】また、図2(j)に示すように、打抜きに
よるバリはフィルム18面側に発生し、同時にリードフ
レーム12との貼付面に有していたフィルム18の接着
剤も打抜き方向のフィルム18面側に移動することとな
る。
As shown in FIG. 2 (j), burrs due to the punching are generated on the film 18 side, and at the same time, the adhesive of the film 18 on the bonding surface with the lead frame 12 is also removed from the film 18 in the punching direction. It moves to the 18th side.

【0049】次に図2(h)に示すように、シート形状
などの熱硬化樹脂組成物21と放熱用金属板23を積層
し、前記フィルム18を貼付したまま形成用の金型ある
いは熱プレス機などにより、加熱加圧して硬化させて一
体化する。
Next, as shown in FIG. 2 (h), a thermosetting resin composition 21 in a sheet shape or the like and a metal plate 23 for heat radiation are laminated, and a die or a hot press for forming is formed while the film 18 is adhered. It is cured by heating and pressing with a machine and integrated.

【0050】この時、フィルム18の接着剤はフィルム
18側(フィルム表面側)に移動しているので、この結
果として配線パターン間に上記接着剤の侵入を防いで熱
硬化樹脂組成物21で充満された状態となって配線パタ
ーンの定形性が高まる。また、空気は配線パターンや熱
硬化樹脂組成物21よりなる熱伝導シート間からスムー
ズに脱気することができるので、配線パターンから熱伝
導シートを介しての放熱用金属板23への熱伝導性が高
まることとなる。
At this time, since the adhesive of the film 18 has moved to the film 18 side (the film surface side), as a result, the adhesive is prevented from entering between the wiring patterns and is filled with the thermosetting resin composition 21. As a result, the formality of the wiring pattern is increased. Further, since air can be smoothly degassed from between the wiring pattern and the heat conductive sheet made of the thermosetting resin composition 21, the heat conductivity from the wiring pattern to the metal plate 23 for heat dissipation through the heat conductive sheet is reduced. Will increase.

【0051】続いて図2(i)に示すように、フィルム
18を剥離して除去した後、必要であれば所定の電子部
品やデバイスを実装して所定の熱伝導性基板を完成させ
るのである。
Subsequently, as shown in FIG. 2 (i), after peeling and removing the film 18, predetermined electronic components and devices are mounted if necessary to complete a predetermined heat conductive substrate. .

【0052】次に図3、図4を用いて、本発明の熱伝導
性基板の製造方法における他の実施の形態について説明
する。まず図3(a)に示すリードフレーム12となる
導電性金属板11(基材)の片面(上面)に、図3
(b)に示すように所定箇所にレジスト14によるパタ
ーンを印刷し、熱あるいは紫外線により硬化させる。
Next, another embodiment of the method for manufacturing a heat conductive substrate of the present invention will be described with reference to FIGS. First, one side (upper surface) of a conductive metal plate 11 (base material) serving as a lead frame 12 shown in FIG.
As shown in FIG. 2B, a pattern of the resist 14 is printed at a predetermined position and is cured by heat or ultraviolet rays.

【0053】続いて図3(c)に示すようにリードフレ
ーム12となる導電性金属板11(基材)の裏面(レジ
スト14が印刷されていない面)の回路形成部分にマス
キング16を行った後、ニッケル下地めっきと半田めっ
き15を導電性金属板11(基材)の全体に施す。
Subsequently, as shown in FIG. 3C, masking 16 was performed on the circuit forming portion on the back surface (the surface on which the resist 14 was not printed) of the conductive metal plate 11 (substrate) to be the lead frame 12. Thereafter, nickel base plating and solder plating 15 are applied to the entire conductive metal plate 11 (base material).

【0054】次に図4(d)に示すように、マスキング
16を除去して回路形成部における所定パターン、端子
部、および電気的に独立絶縁の必要な部分であるランド
を機械的に接続させるつなぎ桟17を、プレス打抜きや
レーザ加工により加工孔13を設けて形成し、端子部と
回路形成部を有するリードフレーム12となす。
Next, as shown in FIG. 4D, the masking 16 is removed to mechanically connect a predetermined pattern, a terminal portion, and a land, which is a portion that needs to be electrically isolated independently, in the circuit forming portion. The connecting bar 17 is formed by forming a processing hole 13 by press punching or laser processing to form a lead frame 12 having a terminal portion and a circuit forming portion.

【0055】なお、加工孔13の切断面には前記のニッ
ケル下地めっきと半田めっき15は施されておらず、さ
らに打抜き方向はレジスト14の印刷された面方向とし
ている。
The cut surface of the processing hole 13 is not coated with the nickel base plating and the solder plating 15, and the punching direction is the surface direction on which the resist 14 is printed.

【0056】続いて図3(e)に示すように、リードフ
レーム12のレジスト印刷面(上面)における回路形成
部にフィルム18を貼付する。その後、図4(f)およ
び図4(f)の要部(B部)詳細図である図4(i)に
示すように、前記つなぎ桟17部分をフィルム18とと
もにフィルム18を貼付した面とは反対面から打抜いて
除去する。
Subsequently, as shown in FIG. 3E, a film 18 is attached to a circuit forming portion on the resist printing surface (upper surface) of the lead frame 12. Then, as shown in FIG. 4 (f) and FIG. 4 (i) which is a detailed view of a main part (part B) of FIG. 4 (f), the connecting bar 17 is attached to the surface on which the film 18 is attached together with the film 18. Is punched out from the opposite side and removed.

【0057】なお、前記で説明したように電気的に独立
絶縁の必要な部分であるランドは、フィルム18により
所定位置に保持されている。
As described above, the lands, which are parts that need to be electrically isolated independently, are held at predetermined positions by the film 18.

【0058】また、図4(i)に示すように、打抜きに
よるバリはフィルム18面側に発生し、同時にリードフ
レーム12との貼付面に有していたフィルム18の接着
剤も打抜き方向のフィルム18面側に移動することとな
る。
As shown in FIG. 4 (i), burrs due to the punching are generated on the film 18 side, and at the same time, the adhesive of the film 18 on the bonding surface with the lead frame 12 is also removed from the film 18 in the punching direction. It moves to the 18th side.

【0059】次に図4(g)に示すように、シート形状
などの熱硬化樹脂組成物21と放熱用金属板23を積層
し、前記フィルム18を貼付したまま形成用の金型ある
いは熱プレス機などにより、加熱加圧して硬化させて一
体化する。
Next, as shown in FIG. 4 (g), a thermosetting resin composition 21 in a sheet shape or the like and a heat dissipation metal plate 23 are laminated, and a mold or a hot press is formed while the film 18 is adhered. It is cured by heating and pressing with a machine and integrated.

【0060】この時、フィルム18の接着剤はフィルム
18側(フィルム表面側)に移動しているので、この結
果として配線パターン間に上記接着剤の侵入を防いで熱
硬化樹脂組成物21で充満された状態となって配線パタ
ーンの定形性が高まる。また、空気は配線パターンや熱
硬化樹脂組成物21よりなる熱伝導シート間からスムー
ズに脱気することができるので、配線パターンから熱伝
導シートを介して放熱用金属板23への熱伝導性が高ま
ることとなる。
At this time, since the adhesive of the film 18 has moved to the film 18 side (the film surface side), as a result, the adhesive is prevented from entering between the wiring patterns and is filled with the thermosetting resin composition 21. As a result, the formality of the wiring pattern is increased. In addition, since air can be smoothly degassed from between the wiring pattern and the heat conductive sheet made of the thermosetting resin composition 21, the heat conductivity from the wiring pattern to the metal plate 23 for heat dissipation via the heat conductive sheet is reduced. Will increase.

【0061】続いて図4(h)に示すように、フィルム
18を剥離して除去した後、必要であれば所定の電子部
品やデバイスを実装して所定の熱伝導性基板を完成させ
るのである。
Subsequently, as shown in FIG. 4H, after the film 18 is peeled and removed, if necessary, predetermined electronic components and devices are mounted to complete a predetermined heat conductive substrate. .

【0062】もし端子部の打抜き断面部にもめっき処理
が必要な場合には、図1、図2で説明した方法を、ま
た、その必要が無い場合には図3、図4で説明した方法
を選択すればよいのである。
If the plating process is also required for the punched cross section of the terminal portion, the method described with reference to FIGS. 1 and 2 is used. If the plating process is not required, the method described with reference to FIGS. You just have to select

【0063】なお、図5は回路形成部および端子部が加
工形成されたリードフレームの例を示す平面図であり、
電気的に独立絶縁の必要な部分であるランド19は、つ
なぎ桟17によりリードフレーム12と機械的に接続さ
れているのである。
FIG. 5 is a plan view showing an example of a lead frame on which a circuit forming portion and a terminal portion are formed.
The land 19, which needs to be electrically insulated, is mechanically connected to the lead frame 12 by the connecting bar 17.

【0064】そして、24は端子部における外部との接
続用などの端子、25は熱伝導性基板を形成するために
設けた2個の位置決め用孔である。
Reference numeral 24 denotes a terminal for connection with the outside in the terminal portion, and 25 denotes two positioning holes provided for forming a heat conductive substrate.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上のように本発明による熱伝導性基板
の製造方法によれば、フィルムにより電気的に独立絶縁
の必要な部分であるランドや、金型あるいは熱プレス機
に突起や孔などの位置合せ手段を設ける必要がなく、前
記ランドを精度良く確実に位置決めすることができ、ま
たフィルムにより熱硬化樹脂組成物の溶融や流動による
前記ランドへのにじみや付着による汚染を防止できると
いう効果を有する。
As described above, according to the method of manufacturing a heat conductive substrate according to the present invention, a land, which needs to be electrically insulated by a film, a projection or a hole in a mold or a hot press machine. The positioning of the land can be accurately and reliably performed, and the film can prevent contamination or bleeding or adhesion to the land due to melting or flowing of the thermosetting resin composition. Having.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)〜(e)はそれぞれ本発明の一実施の形
態における熱伝導性基板の製造方法を説明する製造工程
FIGS. 1A to 1E are manufacturing process diagrams illustrating a method for manufacturing a thermally conductive substrate according to an embodiment of the present invention.

【図2】(f)〜(j)はそれぞれ本発明の一実施の形
態における熱伝導性基板の製造方法を説明する製造工程
FIGS. 2 (f) to (j) are manufacturing process diagrams illustrating a method for manufacturing a thermally conductive substrate according to an embodiment of the present invention.

【図3】(a)〜(c)は同他の実施の形態における熱
伝導性基板の製造方法を説明する製造工程図
FIGS. 3A to 3C are manufacturing process diagrams illustrating a method for manufacturing a thermally conductive substrate according to another embodiment.

【図4】(d)〜(i)は同他の実施の形態における熱
伝導性基板の製造方法を説明する製造工程図
FIGS. 4D to 4I are manufacturing process diagrams illustrating a method for manufacturing a thermally conductive substrate according to another embodiment.

【図5】同リードフレームの構成例における平面図FIG. 5 is a plan view of a configuration example of the lead frame.

【図6】同熱伝導性基板(高放熱性基板)の構成例にお
ける側断面図
FIG. 6 is a side sectional view of a configuration example of the heat conductive substrate (high heat dissipation substrate).

【図7】(a)(b)は従来の熱伝導性基板の製造方法
を説明する側断面図と平面図
7A and 7B are a side sectional view and a plan view for explaining a conventional method for manufacturing a heat conductive substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,21 熱硬化樹脂組成物 2,12,22 回路形成用導体(リードフレーム) 3 突起 4 孔 5 上加圧体 6 下加圧体 11 導電性金属板(基材) 13 加工孔 14 レジスト 15 半田めっき 16 マスキング 17 つなぎ桟 18 フィルム 19 ランド 23 放熱用金属板 24 端子 25 位置決め用孔 1,21 Thermosetting resin composition 2,12,22 Conductor for circuit formation (lead frame) 3 Protrusion 4 Hole 5 Upper pressing body 6 Lower pressing body 11 Conductive metal plate (base material) 13 Processing hole 14 Resist 15 Solder plating 16 Masking 17 Connecting bar 18 Film 19 Land 23 Metal plate for heat dissipation 24 Terminal 25 Positioning hole

フロントページの続き (72)発明者 宮岡 常明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 山本 始 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内Continued on the front page (72) Inventor Tsuneaki Miyaoka 1006 Kadoma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 レジストによりパターンを形成した導電
性金属板に端子部と回路形成部の加工形成を行った後、
前記回路形成部にマスキングを施してめっき処理を行
い、続いてマスキングを除去し、電気的に独立絶縁の必
要な部分を機械的に接続するつなぎ桟および回路形成部
の所定パターン加工を行い、そしてレジスト印刷面にフ
ィルムを貼付した後、つなぎ桟をフィルムとともに打抜
き除去してリードフレームを形成し、前記リードフレー
ムの回路形成部に熱硬化樹脂組成物あるいは熱硬化樹脂
組成物および放熱用金属板を積層し、加熱加圧して硬化
させてなる熱伝導性基板の製造方法。
After forming a terminal portion and a circuit forming portion on a conductive metal plate having a pattern formed by a resist,
The circuit forming portion is subjected to a plating process by masking, subsequently removing the masking, performing a predetermined pattern processing of a connecting bar and a circuit forming portion that mechanically connects a necessary portion of the electrically independent insulation, and After affixing the film on the resist printing surface, the connecting bar is punched and removed together with the film to form a lead frame, and a thermosetting resin composition or a thermosetting resin composition and a metal plate for heat radiation are formed on the circuit forming portion of the lead frame. A method for manufacturing a heat conductive substrate, which is formed by laminating and curing by heating and pressing.
【請求項2】 レジストによりパターンを形成した導電
性金属板の回路形成部にマスキングを施してめっき処理
を行い、続いてマスキングを除去し、端子部、電気的に
独立絶縁の必要な部分を機械的に接続するつなぎ桟およ
び回路形成部の所定パターンを加工してリードフレーム
を形成する請求項1に記載の熱伝導性基板の製造方法。
2. A circuit forming portion of a conductive metal plate on which a pattern is formed by a resist is subjected to a plating process by performing masking, and subsequently, the masking is removed, and the terminal portion, a portion which needs to be electrically independent insulated, is machined. The method according to claim 1, wherein a lead frame is formed by processing a predetermined pattern of a connecting bar and a circuit forming portion to be electrically connected.
【請求項3】 70〜95重量部の無機質フィラーと、
5〜30重量部の少なくとも熱硬化樹脂、硬化剤および
硬化促進剤でなり、半硬化あるいは部分硬化状態で可撓
性を有するシート形状の熱硬化樹脂組成物を使用してな
る請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方
法。
3. An inorganic filler of 70 to 95 parts by weight,
3. A sheet-shaped thermosetting resin composition comprising 5 to 30 parts by weight of at least a thermosetting resin, a curing agent and a curing accelerator and having flexibility in a semi-cured or partially cured state. 3. The method for producing a thermally conductive substrate according to item 1.
【請求項4】 マスキングフィルムの貼付あるいはレジ
ストの塗布によるマスキングをしてなる請求項1あるい
は2に記載の熱伝導性基板の製造方法。
4. The method for producing a thermally conductive substrate according to claim 1, wherein masking is performed by applying a masking film or applying a resist.
【請求項5】 レジスト印刷面にフィルムを貼付した
後、つなぎ桟をフィルムとともに打抜き除去し、その後
前記フィルムを除去したリードフレームの回路形成部に
熱硬化樹脂組成物あるいは熱硬化樹脂組成物および放熱
用金属板を積層し、加熱加圧して硬化させてなる請求項
1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方法。
5. After affixing the film to the resist printing surface, the connecting bar is punched and removed together with the film, and then the thermosetting resin composition or the thermosetting resin composition and the heat radiation are formed on the circuit forming portion of the lead frame from which the film has been removed. The method for producing a thermally conductive substrate according to claim 1 or 2, wherein the metal plates are laminated and cured by heating and pressing.
【請求項6】 導電性金属板をプレス加工、エッチング
加工あるいはレーザ加工によりリードフレームを形成し
てなる請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造
方法。
6. The method for manufacturing a thermally conductive substrate according to claim 1, wherein the lead frame is formed by pressing, etching, or laser processing the conductive metal plate.
【請求項7】 形成用の金型あるいは熱プレス機によ
り、リードフレームと熱硬化樹脂組成物あるいは熱硬化
樹脂組成物および放熱用金属板を積層して加熱加圧し硬
化させてなる請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板
の製造方法。
7. A lead frame and a thermosetting resin composition or a thermosetting resin composition and a heat-dissipating metal plate are laminated by a forming die or a hot press machine, and heated and pressed to be cured. 3. The method for producing a thermally conductive substrate according to item 2.
【請求項8】 ニッケル下地めっきと半田めっきによる
めっき処理を施してなる請求項1あるいは2に記載の熱
伝導性基板の製造方法。
8. The method for producing a thermally conductive substrate according to claim 1, wherein a plating process is performed by nickel plating and solder plating.
【請求項9】 導電性金属板として銅あるいはその合金
材を使用してなる請求項1あるいは2に記載の熱伝導性
基板の製造方法。
9. The method according to claim 1, wherein copper or an alloy thereof is used as the conductive metal plate.
【請求項10】 回路形成部にマスキングを行わずにリ
ードフレーム全体にめっき処理を施し、ブラスト処理で
回路形成部のめっきを除去してなる請求項1あるいは2
に記載の熱伝導性基板の製造方法。
10. The circuit forming portion according to claim 1, wherein plating is applied to the entire lead frame without masking the circuit forming portion, and plating of the circuit forming portion is removed by blasting.
3. The method for producing a thermally conductive substrate according to item 1.
【請求項11】 あらかじめ端子部を加工形成した導電
性金属板にレジストによるパターンを形成する請求項1
あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方法。
11. A resist pattern is formed on a conductive metal plate having a terminal portion processed and formed in advance.
Alternatively, the method for producing a heat conductive substrate according to 2.
【請求項12】 導電性金属板への打抜き加工の方向を
レジスト印刷面側としてなる請求項1あるいは2に記載
の熱伝導性基板の製造方法。
12. The method for manufacturing a heat conductive substrate according to claim 1, wherein the direction of the punching process on the conductive metal plate is the resist printing surface side.
【請求項13】 少なくとも片面側が粗面化された導電
性金属板を使用してなる請求項1あるいは2に記載の熱
伝導性基板の製造方法。
13. The method for producing a heat conductive substrate according to claim 1, wherein a conductive metal plate having at least one surface roughened is used.
【請求項14】 フィルムをレジスト印刷面に貼付して
なる請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方
法。
14. The method for producing a thermally conductive substrate according to claim 1, wherein a film is attached to a resist printing surface.
【請求項15】 位置決め箇所を除いてリードフレーム
全体にフィルムを貼付してなる請求項1あるいは2に記
載の熱伝導性基板の製造方法。
15. The method according to claim 1, wherein a film is attached to the entire lead frame except for the positioning portion.
【請求項16】 電気的に独立絶縁の必要な部分に対す
る位置決めを、貼付したフィルムにより行ってなる請求
項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方法。
16. The method for manufacturing a heat conductive substrate according to claim 1, wherein the positioning with respect to a portion requiring electrically independent insulation is performed by using an attached film.
【請求項17】 フィルムを貼付した導電性金属板に対
し、上記フィルムを貼付した面と反対面から打抜きによ
りつなぎ桟とフィルムを除去してリードフレームを形成
する請求項1あるいは2に記載の熱伝導性基板の製造方
法。
17. The heat-generating device according to claim 1, wherein the connecting frame and the film are removed from the surface of the conductive metal plate to which the film is attached by punching from the surface opposite to the surface to which the film is attached, thereby forming a lead frame. A method for manufacturing a conductive substrate.
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