JP2002353285A - ウェーハのハンドリング方法、ウェーハのハンドリング装置、およびウェーハステージ - Google Patents
ウェーハのハンドリング方法、ウェーハのハンドリング装置、およびウェーハステージInfo
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 工程数削減を可能とするとともにハンドリン
グによる歩留まり低減を抑制することができるウェーハ
のハンドリング方法、ハンドリング装置、およびウェー
ハステージを提供する。 【解決手段】 ウェーハWが搭載されると該ウェーハW
を所定位置に搬送する搬送手段40を備えるウェーハの
ハンドリング装置1に、気相エピタキシャル成長後のウ
ェーハWをサセプタから取り出して直接搭載する。そし
て、該搭載したウェーハWを、搬送手段40により、所
定の収納容器80に収納させる。
グによる歩留まり低減を抑制することができるウェーハ
のハンドリング方法、ハンドリング装置、およびウェー
ハステージを提供する。 【解決手段】 ウェーハWが搭載されると該ウェーハW
を所定位置に搬送する搬送手段40を備えるウェーハの
ハンドリング装置1に、気相エピタキシャル成長後のウ
ェーハWをサセプタから取り出して直接搭載する。そし
て、該搭載したウェーハWを、搬送手段40により、所
定の収納容器80に収納させる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハのハンド
リング方法、ハンドリング装置、およびウェーハステー
ジに関する。
リング方法、ハンドリング装置、およびウェーハステー
ジに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば、気相エピタキシャル成長
後のウェーハW(図7(a)参照)は、図6(c)およ
び図6(d)に示すように、ウェーハWが収納される複
数のスロット91(数が多いため、図面上、一部のみ符
号を付した)を有する収納容器90に収納して、例えば
出荷までの間、一時的に保管を行っていた。ここで、こ
の収納容器90は、例えば、ポリプロピレンからなる半
透明の樹脂成型品である。気相エピタキシャル成長直後
の熱い(例えば、約300℃の)ウェーハWを直接収納
容器90に入れると、収納容器90が熱変形するため、
サセプタより取り出したウェーハWを、一旦、図7の
(a)に示すように冷却台100上に載置し、所定時間
冷却してから収納容器90に収納する。ここで、気相エ
ピタキシャル成長後のウェーハWをサセプタから取り出
すためには、例えば、ベルヌーイチャック70(図8)
を用いる。図8に示すように、ベルヌーイチャック70
は、円盤状の吸着板71の上面中央部から外周部へガス
を流出させ、ベルヌーイ効果によりウェーハWを非接触
状態で吸着保持するものである(なお、図8に示すの
は、吸着保持した状態ではない)。そして、ベルヌーイ
チャック70により吸着保持したウェーハWを、収納容
器90(図6(d))のスロット91に挿入することは
実際的に不可能である。このため、ベルヌーイチャック
70を用いてウェーハWをサセプタ110から取り出す
場合は、収納容器90が熱変形する可能性が無くとも、
ウェーハWを直接収納容器90に収納することはできな
い。また、図7の(b)に示すように、ウェーハWを冷
却台100から持ち上げて収納容器90に収納する作業
は、エアピンセット75等を用いて裏面側からウェーハ
Wを保持し、この保持したウェーハWを収納容器90の
スロット91に挿入して行う。以上のようにして、1バ
ッチ分(例えば、16枚程度)のウェーハWを収納容器
90に収納するためには、例えば、4〜5分程度の作業
時間を要する。
後のウェーハW(図7(a)参照)は、図6(c)およ
び図6(d)に示すように、ウェーハWが収納される複
数のスロット91(数が多いため、図面上、一部のみ符
号を付した)を有する収納容器90に収納して、例えば
出荷までの間、一時的に保管を行っていた。ここで、こ
の収納容器90は、例えば、ポリプロピレンからなる半
透明の樹脂成型品である。気相エピタキシャル成長直後
の熱い(例えば、約300℃の)ウェーハWを直接収納
容器90に入れると、収納容器90が熱変形するため、
サセプタより取り出したウェーハWを、一旦、図7の
(a)に示すように冷却台100上に載置し、所定時間
冷却してから収納容器90に収納する。ここで、気相エ
ピタキシャル成長後のウェーハWをサセプタから取り出
すためには、例えば、ベルヌーイチャック70(図8)
を用いる。図8に示すように、ベルヌーイチャック70
は、円盤状の吸着板71の上面中央部から外周部へガス
を流出させ、ベルヌーイ効果によりウェーハWを非接触
状態で吸着保持するものである(なお、図8に示すの
は、吸着保持した状態ではない)。そして、ベルヌーイ
チャック70により吸着保持したウェーハWを、収納容
器90(図6(d))のスロット91に挿入することは
実際的に不可能である。このため、ベルヌーイチャック
70を用いてウェーハWをサセプタ110から取り出す
場合は、収納容器90が熱変形する可能性が無くとも、
ウェーハWを直接収納容器90に収納することはできな
い。また、図7の(b)に示すように、ウェーハWを冷
却台100から持ち上げて収納容器90に収納する作業
は、エアピンセット75等を用いて裏面側からウェーハ
Wを保持し、この保持したウェーハWを収納容器90の
スロット91に挿入して行う。以上のようにして、1バ
ッチ分(例えば、16枚程度)のウェーハWを収納容器
90に収納するためには、例えば、4〜5分程度の作業
時間を要する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上に
説明したような従来の方法では、サセプタから取り出し
たウェーハWを、一旦、冷却台100に載置する工程が
必要になるため、その分だけ工程数が多く、作業時間に
ロスがある。また、ウェーハWを冷却台100から収納
容器90に移し替える作業は、エアピンセット75等を
用いて作業者のハンドリングにより行われるので、エア
ピンセット75の汚れがウェーハWに付着したり、エア
ピンセット75がウェーハWの主表面に接触して傷を付
けたり、エアピンセット75により保持したウェーハW
をスロット91に挿入する際にウェーハWどうしを擦り
合わせてしまったりすることにより歩留まりが低減す
る。
説明したような従来の方法では、サセプタから取り出し
たウェーハWを、一旦、冷却台100に載置する工程が
必要になるため、その分だけ工程数が多く、作業時間に
ロスがある。また、ウェーハWを冷却台100から収納
容器90に移し替える作業は、エアピンセット75等を
用いて作業者のハンドリングにより行われるので、エア
ピンセット75の汚れがウェーハWに付着したり、エア
ピンセット75がウェーハWの主表面に接触して傷を付
けたり、エアピンセット75により保持したウェーハW
をスロット91に挿入する際にウェーハWどうしを擦り
合わせてしまったりすることにより歩留まりが低減す
る。
【0004】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたもので、工程数の削減により作業時間
の短縮を可能とするとともにハンドリングによる歩留ま
り低減を抑制することのできるウェーハのハンドリング
方法、ハンドリング装置、およびウェーハステージを提
供することを目的とする。
るためになされたもので、工程数の削減により作業時間
の短縮を可能とするとともにハンドリングによる歩留ま
り低減を抑制することのできるウェーハのハンドリング
方法、ハンドリング装置、およびウェーハステージを提
供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のウェーハのハンドリング方法は、ウェーハ
が搭載されると該ウェーハを所定位置に搬送する搬送手
段を備えるウェーハのハンドリング装置に、気相エピタ
キシャル成長後のウェーハをサセプタから取り出して直
接搭載し、該搭載したウェーハを、前記搬送手段により
収納容器に収納させることを特徴としている。ここで、
収納容器は、例えば、複数枚のウェーハを所定間隔で保
持するものである。
め、本発明のウェーハのハンドリング方法は、ウェーハ
が搭載されると該ウェーハを所定位置に搬送する搬送手
段を備えるウェーハのハンドリング装置に、気相エピタ
キシャル成長後のウェーハをサセプタから取り出して直
接搭載し、該搭載したウェーハを、前記搬送手段により
収納容器に収納させることを特徴としている。ここで、
収納容器は、例えば、複数枚のウェーハを所定間隔で保
持するものである。
【0006】本発明のウェーハのハンドリング方法によ
れば、気相エピタキシャル成長後のウェーハをサセプタ
から取り出してハンドリング装置に直接搭載するだけ
で、その後は、ハンドリング装置の搬送手段により所定
の収納容器に自動的に収納させることができる。従っ
て、作業者がエアピンセット等を用いてウェーハを冷却
台から収納容器に移し替えるハンドリングを行う必要が
ないので、ウェーハの移し替え作業に伴う歩留まりの低
下を抑制できるとともに、作業時間を短縮することがで
きる。
れば、気相エピタキシャル成長後のウェーハをサセプタ
から取り出してハンドリング装置に直接搭載するだけ
で、その後は、ハンドリング装置の搬送手段により所定
の収納容器に自動的に収納させることができる。従っ
て、作業者がエアピンセット等を用いてウェーハを冷却
台から収納容器に移し替えるハンドリングを行う必要が
ないので、ウェーハの移し替え作業に伴う歩留まりの低
下を抑制できるとともに、作業時間を短縮することがで
きる。
【0007】また、本発明のウェーハのハンドリング方
法は、複数枚のウェーハを所定の載置位置順でサセプタ
に載置して気相エピタキシャル成長を行った後、所定の
順序でサセプタからウェーハを取り出し、この取出しの
順序でウェーハを前記ハンドリング装置に搭載すると、
前記収納容器内でのウェーハの並びが、サセプタに載置
されていたときの載置位置順となるように、前記搬送手
段が前記収納容器にウェーハを順次収納していくことが
好ましい。
法は、複数枚のウェーハを所定の載置位置順でサセプタ
に載置して気相エピタキシャル成長を行った後、所定の
順序でサセプタからウェーハを取り出し、この取出しの
順序でウェーハを前記ハンドリング装置に搭載すると、
前記収納容器内でのウェーハの並びが、サセプタに載置
されていたときの載置位置順となるように、前記搬送手
段が前記収納容器にウェーハを順次収納していくことが
好ましい。
【0008】このようなウェーハのハンドリング方法に
よれば、作業者が、取り出しに都合の良い所定の順序で
サセプタからウェーハを取り出しては、この順序でハン
ドリング装置に搭載するといった作業を繰り返すだけ
で、搬送手段により、ウェーハが自動的に収納容器に収
納される。しかも、搬送手段は、収納容器内でのウェー
ハの並びが、サセプタに載置されていたときの載置位置
順となるように、ウェーハを収納容器の所定の位置(所
定のスロット)に収納していくので、収納容器へのウェ
ーハ収納後においても、サセプタでの搭載位置順でウェ
ーハを管理できる。
よれば、作業者が、取り出しに都合の良い所定の順序で
サセプタからウェーハを取り出しては、この順序でハン
ドリング装置に搭載するといった作業を繰り返すだけ
で、搬送手段により、ウェーハが自動的に収納容器に収
納される。しかも、搬送手段は、収納容器内でのウェー
ハの並びが、サセプタに載置されていたときの載置位置
順となるように、ウェーハを収納容器の所定の位置(所
定のスロット)に収納していくので、収納容器へのウェ
ーハ収納後においても、サセプタでの搭載位置順でウェ
ーハを管理できる。
【0009】また、本発明のウェーハのハンドリング装
置は、ウェーハが搭載されると該ウェーハをセンタリン
グしてウェーハ支持部で支持するセンタリング手段と、
前記ウェーハ支持部のウェーハを所定位置に搬送する搬
送手段と、を備えることを特徴としている。
置は、ウェーハが搭載されると該ウェーハをセンタリン
グしてウェーハ支持部で支持するセンタリング手段と、
前記ウェーハ支持部のウェーハを所定位置に搬送する搬
送手段と、を備えることを特徴としている。
【0010】本発明のウェーハのハンドリング装置によ
れば、ハンドリング装置のセンタリング手段にウェーハ
を搭載するだけで、このウェーハは自動的にセンタリン
グされてウェーハ支持部で支持される。さらに、ウェー
ハ支持部で一旦支持されたウェーハは、引き続き、搬送
手段により自動的に所定位置に搬送される。つまり、セ
ンタリング手段にウェーハを搭載すると、該センタリン
グ手段によりウェーハが自動的にセンタリングされるの
で、例えば、ウェーハ支持部に支持された段階でのウェ
ーハの位置ずれに基づき補正を行って搬送する必要がな
い。
れば、ハンドリング装置のセンタリング手段にウェーハ
を搭載するだけで、このウェーハは自動的にセンタリン
グされてウェーハ支持部で支持される。さらに、ウェー
ハ支持部で一旦支持されたウェーハは、引き続き、搬送
手段により自動的に所定位置に搬送される。つまり、セ
ンタリング手段にウェーハを搭載すると、該センタリン
グ手段によりウェーハが自動的にセンタリングされるの
で、例えば、ウェーハ支持部に支持された段階でのウェ
ーハの位置ずれに基づき補正を行って搬送する必要がな
い。
【0011】また、本発明のウェーハステージは、ウェ
ーハを下方に摺動案内しつつ該ウェーハをセンタリング
するために、下方に向かうにつれて小径となるように形
成された環状の傾斜部と、センタリングされたウェーハ
を支持するウェーハ支持部と、を備えることを特徴とし
ている。
ーハを下方に摺動案内しつつ該ウェーハをセンタリング
するために、下方に向かうにつれて小径となるように形
成された環状の傾斜部と、センタリングされたウェーハ
を支持するウェーハ支持部と、を備えることを特徴とし
ている。
【0012】本発明のウェーハステージによれば、該ウ
ェーハステージにウェーハを搭載すると、このウェーハ
は重力に従って傾斜面により下方に摺動案内されて自動
的にセンタリングされ、ウェーハ支持部に支持された状
態となる。つまり、ウェーハをウェーハ支持部乃至傾斜
面に搭載するだけでウェーハをセンタリングさせること
ができる。このウェーハステージは、ウェーハのハンド
リング装置のセンタリング手段として好適に用いられ
る。なお、傾斜面およびウェーハ支持部は耐熱性材から
なることが望ましく、この場合、気相エピタキシャル成
長直後のウェーハが搭載されても熱変形せず、搭載前に
ウェーハを冷却する必要が無くなり、作業時間を短縮で
きる。
ェーハステージにウェーハを搭載すると、このウェーハ
は重力に従って傾斜面により下方に摺動案内されて自動
的にセンタリングされ、ウェーハ支持部に支持された状
態となる。つまり、ウェーハをウェーハ支持部乃至傾斜
面に搭載するだけでウェーハをセンタリングさせること
ができる。このウェーハステージは、ウェーハのハンド
リング装置のセンタリング手段として好適に用いられ
る。なお、傾斜面およびウェーハ支持部は耐熱性材から
なることが望ましく、この場合、気相エピタキシャル成
長直後のウェーハが搭載されても熱変形せず、搭載前に
ウェーハを冷却する必要が無くなり、作業時間を短縮で
きる。
【0013】また、本発明のウェーハステージは、ウェ
ーハを吸着保持する吸着保持具を用いてウェーハステー
ジにウェーハを搭載する際に、前記吸着保持具の側方移
動を規制する移動規制部をさらに備えることが好まし
く、前記移動規制部によって側方移動を規制された吸着
保持具によりウェーハを吸着解除すると、該ウェーハ
が、前記ウェーハ支持部または前記傾斜面に落下するよ
うに構成される。ここで、吸着保持具は、例えば、ウェ
ーハを非接触浮遊状態で吸着保持するベルヌーイチャッ
クである。
ーハを吸着保持する吸着保持具を用いてウェーハステー
ジにウェーハを搭載する際に、前記吸着保持具の側方移
動を規制する移動規制部をさらに備えることが好まし
く、前記移動規制部によって側方移動を規制された吸着
保持具によりウェーハを吸着解除すると、該ウェーハ
が、前記ウェーハ支持部または前記傾斜面に落下するよ
うに構成される。ここで、吸着保持具は、例えば、ウェ
ーハを非接触浮遊状態で吸着保持するベルヌーイチャッ
クである。
【0014】この構成のウェーハステージによれば、移
動規制部により吸着保持具を位置決めした状態でウェー
ハを吸着解除させることができるので、ウェーハがウェ
ーハ支持面および傾斜面を逸れてしまうことがなく、ウ
ェーハを、確実にウェーハ支持部または傾斜面に落下さ
せることができる。そして、ウェーハ支持部に落下する
場合は、そのままの状態でセンタリングがなされてお
り、傾斜部に落下する場合は、該傾斜面により下方に摺
動案内される状態を経てセンタリングされ、ウェーハ支
持部により支持された状態となる。つまり、いずれにし
ても、結果的にウェーハがセンタリングされた状態とな
る。
動規制部により吸着保持具を位置決めした状態でウェー
ハを吸着解除させることができるので、ウェーハがウェ
ーハ支持面および傾斜面を逸れてしまうことがなく、ウ
ェーハを、確実にウェーハ支持部または傾斜面に落下さ
せることができる。そして、ウェーハ支持部に落下する
場合は、そのままの状態でセンタリングがなされてお
り、傾斜部に落下する場合は、該傾斜面により下方に摺
動案内される状態を経てセンタリングされ、ウェーハ支
持部により支持された状態となる。つまり、いずれにし
ても、結果的にウェーハがセンタリングされた状態とな
る。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る実施の形態について説明する。本発明に係るウェー
ハのハンドリング方法は、エピタキシャル成長後のウェ
ーハをサセプタから取り出してハンドリング装置に直接
搭載し、該搭載したウェーハを、ハンドリング装置が備
える搬送手段により、所定の収納容器に収納させること
を主な特徴としている。このようなハンドリング方法に
ついて詳細に説明する前に、先ず、このハンドリング方
法に適用して有用なハンドリング装置1(図1)の構成
について説明する。
係る実施の形態について説明する。本発明に係るウェー
ハのハンドリング方法は、エピタキシャル成長後のウェ
ーハをサセプタから取り出してハンドリング装置に直接
搭載し、該搭載したウェーハを、ハンドリング装置が備
える搬送手段により、所定の収納容器に収納させること
を主な特徴としている。このようなハンドリング方法に
ついて詳細に説明する前に、先ず、このハンドリング方
法に適用して有用なハンドリング装置1(図1)の構成
について説明する。
【0016】〔ウェーハのハンドリング装置の説明〕図
1に示すように、本発明に係るウェーハのハンドリング
装置1は、搭載されるウェーハW(図3参照)をセンタ
リングするウェーハステージ(センタリング手段)20
と、該ウェーハステージ20から収納容器80内へウェ
ーハを搬送する搬送ハンド(搬送手段)40と、収納容
器80を支持する支持部50と、各種操作を行うための
操作パネル60と、各種動作制御等を行う制御部(図示
略)と、これらの各構成要素が設けられた本体部10
と、を備えて概略構成されている。このうち、本体部1
0は、架台部13と、この架台部13上に互いに離間し
て設けられた第1ケース部11及び第2ケース部12
と、を備えて構成されている。以下、ハンドリング装置
1について、詳細に説明する。
1に示すように、本発明に係るウェーハのハンドリング
装置1は、搭載されるウェーハW(図3参照)をセンタ
リングするウェーハステージ(センタリング手段)20
と、該ウェーハステージ20から収納容器80内へウェ
ーハを搬送する搬送ハンド(搬送手段)40と、収納容
器80を支持する支持部50と、各種操作を行うための
操作パネル60と、各種動作制御等を行う制御部(図示
略)と、これらの各構成要素が設けられた本体部10
と、を備えて概略構成されている。このうち、本体部1
0は、架台部13と、この架台部13上に互いに離間し
て設けられた第1ケース部11及び第2ケース部12
と、を備えて構成されている。以下、ハンドリング装置
1について、詳細に説明する。
【0017】<ウェーハステージ(センタリング手段)
の説明>図1に示すように、ウェーハステージ20は、
第1ケース部11の上面に設けられている。図2に示す
ように、ウェーハステージ20は、そのステージ本体2
1が第1部分21a及び第2部分21bに分かれた分割
構造をなしている。これら第1及び第2部分21a,2
1bは、互いに所定距離離間した状態で、板状の連結部
材22により連結されている。なお、ステージ本体21
が分割構造をなして第1及び第2部分21a,21bが
互いに離間しているのは、後述するように、搬送ハンド
40の移動領域を確保するためであり、これら第1及び
第2部分21a,21bの相互の間隔は、搬送ハンド4
0の幅よりも広く設定されている。また、第1及び第2
部分21a,21bどうしを連結した連結部材22に
も、搬送ハンド40の移動領域確保のために切り欠き部
22aが形成されている。
の説明>図1に示すように、ウェーハステージ20は、
第1ケース部11の上面に設けられている。図2に示す
ように、ウェーハステージ20は、そのステージ本体2
1が第1部分21a及び第2部分21bに分かれた分割
構造をなしている。これら第1及び第2部分21a,2
1bは、互いに所定距離離間した状態で、板状の連結部
材22により連結されている。なお、ステージ本体21
が分割構造をなして第1及び第2部分21a,21bが
互いに離間しているのは、後述するように、搬送ハンド
40の移動領域を確保するためであり、これら第1及び
第2部分21a,21bの相互の間隔は、搬送ハンド4
0の幅よりも広く設定されている。また、第1及び第2
部分21a,21bどうしを連結した連結部材22に
も、搬送ハンド40の移動領域確保のために切り欠き部
22aが形成されている。
【0018】ウェーハステージ20のステージ本体21
は、(空白部分があるものの総体として)下方に向かう
につれて小径となるように形成された環状の円滑な傾斜
面(傾斜部)23と、この傾斜面23と連続した平坦面
(傾斜面23と同様、空白部分があるものの総体として
1つの平坦面)に形成されたウェーハ支持面(ウェーハ
支持部)24と、を備えている。このうち、傾斜面23
は、当該ウェーハステージ20に搭載されたウェーハW
を下方に摺動案内しつつセンタリングするためのもので
あり、ウェーハ支持面24は、センタリングされたウェ
ーハWを支持するものである。ここで、傾斜面23の上
端部の内径は、ウェーハWの直径よりも十分大きく(例
えば、10mm以上大きく)設定され、傾斜面23の下
端部の内径およびウェーハ支持面24の直径(これら内
径と直径は共に等しい)は、ウェーハWの直径とほぼ等
しいか、又は僅かに大きく設定されている。
は、(空白部分があるものの総体として)下方に向かう
につれて小径となるように形成された環状の円滑な傾斜
面(傾斜部)23と、この傾斜面23と連続した平坦面
(傾斜面23と同様、空白部分があるものの総体として
1つの平坦面)に形成されたウェーハ支持面(ウェーハ
支持部)24と、を備えている。このうち、傾斜面23
は、当該ウェーハステージ20に搭載されたウェーハW
を下方に摺動案内しつつセンタリングするためのもので
あり、ウェーハ支持面24は、センタリングされたウェ
ーハWを支持するものである。ここで、傾斜面23の上
端部の内径は、ウェーハWの直径よりも十分大きく(例
えば、10mm以上大きく)設定され、傾斜面23の下
端部の内径およびウェーハ支持面24の直径(これら内
径と直径は共に等しい)は、ウェーハWの直径とほぼ等
しいか、又は僅かに大きく設定されている。
【0019】ウェーハステージ20の本体部21は、例
えばフッ素樹脂からなり、例えば300℃以上の高温に
耐える耐熱性を有するものである。さらに、連結部材2
2は、例えばアルミニウム等の金属製のものであり、ス
テージ本体21の下面全域を覆う状態で、該下面の複数
箇所に固定されている。このため、連結部材22によ
り、ステージ本体21の変形が防止されている。
えばフッ素樹脂からなり、例えば300℃以上の高温に
耐える耐熱性を有するものである。さらに、連結部材2
2は、例えばアルミニウム等の金属製のものであり、ス
テージ本体21の下面全域を覆う状態で、該下面の複数
箇所に固定されている。このため、連結部材22によ
り、ステージ本体21の変形が防止されている。
【0020】ここで、ウェーハステージ20へのウェー
ハWの搭載は、例えば、図3に示すように、例えば、ベ
ルヌーイチャック(吸着保持具)70を用いて行われ
る。なお、吸着板71とウェーハWとの間には高速のガ
ス流が形成されているため、ウェーハWが吸着板71に
接触することがないようになっている。また、ベルヌー
イチャック70は、吸着板71に沿わせてウェーハWを
非接触浮遊状態で吸着保持するものであるため、ウェー
ハWは、吸着された状態でも吸着板71に対し主面方向
に若干移動する場合がある。このようなベルヌーイチャ
ック70により吸着したウェーハWを、ウェーハステー
ジ20のウェーハ支持面24乃至傾斜面23に搭載する
には、先ず、ウェーハWをウェーハステージ20の上方
に移動させ、次いで、ベルヌーイチャック70による吸
着状態を解除し、ウェーハWを短い距離落下させる。
ハWの搭載は、例えば、図3に示すように、例えば、ベ
ルヌーイチャック(吸着保持具)70を用いて行われ
る。なお、吸着板71とウェーハWとの間には高速のガ
ス流が形成されているため、ウェーハWが吸着板71に
接触することがないようになっている。また、ベルヌー
イチャック70は、吸着板71に沿わせてウェーハWを
非接触浮遊状態で吸着保持するものであるため、ウェー
ハWは、吸着された状態でも吸着板71に対し主面方向
に若干移動する場合がある。このようなベルヌーイチャ
ック70により吸着したウェーハWを、ウェーハステー
ジ20のウェーハ支持面24乃至傾斜面23に搭載する
には、先ず、ウェーハWをウェーハステージ20の上方
に移動させ、次いで、ベルヌーイチャック70による吸
着状態を解除し、ウェーハWを短い距離落下させる。
【0021】ただし、吸着保持具70は、作業者が手作
業で操作するものであるため、万一手元がブレてしまう
と、ウェーハWがウェーハステージ20のウェーハ支持
面24および傾斜面23を逸れて床等に落下してしまう
可能性がある。このことを防止するため、本発明のウェ
ーハステージ20は、ベルヌーイチャック70から当該
ウェーハステージ20にウェーハWを搭載する際に、手
元がブレてしまうことを防止するために、ベルヌーイチ
ャック70の側方移動を規制する移動規制部25(図3
等)を備えている。すなわち、図3に示すように、移動
規制部25は、傾斜面23の外周に沿うように、本体部
21の上面に設けられている。ここで、移動規制部25
の位置は、該移動規制部25により側方移動を規制され
たベルヌーイチャック70により吸着解除してウェーハ
Wを落下させると、該ウェーハWが、ウェーハ支持面2
4または傾斜面23に落下するような位置に設定されて
いる。なお、図3に示すように、吸着板71は、ウェー
ハの直径よりも十分大きく(例えば、10mm以上大き
く)設定されている。従って、吸着板71を移動規制部
25に当接させた際に、吸着板71に対しウェーハが主
面方向に若干移動したとしても、ウェーハWが移動規制
部25に触れてしまわないようになっている。また、上
記のように、傾斜面23の上端部は、ウェーハの直径よ
りも10mm以上大きく設定されている。しかも、傾斜
面23の上端部は、吸着板71の直径よりも大きな内径
を有する。従って、移動規制部25により吸着板71を
移動規制した状態で、この吸着板71に対しウェーハが
若干移動した際にウェーハを落下させたとしても、落下
するウェーハを確実に傾斜面23で捕捉することができ
る構成となっている。
業で操作するものであるため、万一手元がブレてしまう
と、ウェーハWがウェーハステージ20のウェーハ支持
面24および傾斜面23を逸れて床等に落下してしまう
可能性がある。このことを防止するため、本発明のウェ
ーハステージ20は、ベルヌーイチャック70から当該
ウェーハステージ20にウェーハWを搭載する際に、手
元がブレてしまうことを防止するために、ベルヌーイチ
ャック70の側方移動を規制する移動規制部25(図3
等)を備えている。すなわち、図3に示すように、移動
規制部25は、傾斜面23の外周に沿うように、本体部
21の上面に設けられている。ここで、移動規制部25
の位置は、該移動規制部25により側方移動を規制され
たベルヌーイチャック70により吸着解除してウェーハ
Wを落下させると、該ウェーハWが、ウェーハ支持面2
4または傾斜面23に落下するような位置に設定されて
いる。なお、図3に示すように、吸着板71は、ウェー
ハの直径よりも十分大きく(例えば、10mm以上大き
く)設定されている。従って、吸着板71を移動規制部
25に当接させた際に、吸着板71に対しウェーハが主
面方向に若干移動したとしても、ウェーハWが移動規制
部25に触れてしまわないようになっている。また、上
記のように、傾斜面23の上端部は、ウェーハの直径よ
りも10mm以上大きく設定されている。しかも、傾斜
面23の上端部は、吸着板71の直径よりも大きな内径
を有する。従って、移動規制部25により吸着板71を
移動規制した状態で、この吸着板71に対しウェーハが
若干移動した際にウェーハを落下させたとしても、落下
するウェーハを確実に傾斜面23で捕捉することができ
る構成となっている。
【0022】このようなウェーハステージ20によれ
ば、移動規制部25により側方移動を規制されたベルヌ
ーイチャック70からウェーハWを落下させると、該ウ
ェーハWがウェーハ支持面24に落下する場合は、落下
後、既にセンタリングされた状態となる一方、傾斜面2
3に落下する場合は、該傾斜面23により下方に摺動案
内される状態を経てセンタリングされ、ウェーハ支持面
24により支持された状態となる。つまり、いずれにし
ても結果的に、ウェーハWはウェーハ支持面24上にセ
ンタリングされた状態となる。
ば、移動規制部25により側方移動を規制されたベルヌ
ーイチャック70からウェーハWを落下させると、該ウ
ェーハWがウェーハ支持面24に落下する場合は、落下
後、既にセンタリングされた状態となる一方、傾斜面2
3に落下する場合は、該傾斜面23により下方に摺動案
内される状態を経てセンタリングされ、ウェーハ支持面
24により支持された状態となる。つまり、いずれにし
ても結果的に、ウェーハWはウェーハ支持面24上にセ
ンタリングされた状態となる。
【0023】このようなウェーハステージ20は、例え
ば図4に示すような支持台30上に載置されることで、
支持台30上に起立した位置決め用ボス31,32によ
り位置決めされる。さらに、このように位置決めされた
ウェーハステージ20は、支持台30の両側に設けられ
た固定用ネジ33,33により側部が締め付けられるこ
とで、支持台30上に固定されている。なお、この支持
台30にも、搬送ハンド40の移動領域を確保するため
の切り欠き部30aが形成されている。
ば図4に示すような支持台30上に載置されることで、
支持台30上に起立した位置決め用ボス31,32によ
り位置決めされる。さらに、このように位置決めされた
ウェーハステージ20は、支持台30の両側に設けられ
た固定用ネジ33,33により側部が締め付けられるこ
とで、支持台30上に固定されている。なお、この支持
台30にも、搬送ハンド40の移動領域を確保するため
の切り欠き部30aが形成されている。
【0024】ここで、支持台30および該支持台30上
のウェーハステージ20は、第1ケース部11内に設け
られた、例えばエアシリンダー等の昇降機構(図示略)
の駆動により昇降される構成となっている。これは、後
述のように、ウェーハステージ20のウェーハ支持面2
4から搬送ハンド40にウェーハWを受け渡す動作を行
うためである。
のウェーハステージ20は、第1ケース部11内に設け
られた、例えばエアシリンダー等の昇降機構(図示略)
の駆動により昇降される構成となっている。これは、後
述のように、ウェーハステージ20のウェーハ支持面2
4から搬送ハンド40にウェーハWを受け渡す動作を行
うためである。
【0025】なお、ウェーハステージ20は、第1ケー
ス部11の上面の、例えば、第2ケース部12寄りの位
置に設けられており、これにより、ウェーハステージ2
0から収納容器80へのウェーハWの搬送距離が極力短
くなる構成とされている。
ス部11の上面の、例えば、第2ケース部12寄りの位
置に設けられており、これにより、ウェーハステージ2
0から収納容器80へのウェーハWの搬送距離が極力短
くなる構成とされている。
【0026】<搬送ハンド(搬送手段)の説明>図1、
図3、および図4に示すように、搬送ハンド40は、搬
送本体部41と、この搬送本体部41から前方に延出す
るように設けられ、搬送の際にウェーハWを保持するハ
ンド部42とを備えて概略構成されている。このうちハ
ンド部42の先端側には、ウェーハWを吸着するための
吸引口43が設けられ、この吸引口43より吸引するこ
とで、ウェーハWがハンド部42の先端側に吸着保持さ
れる構成となっている。なお、ハンド部42には、耐熱
温度の高い(例えば、300℃以上)材質(例えば、フ
ッ素樹脂等)のコーティングがなされている。このよう
な搬送ハンド40のハンド部42は、ウェーハステージ
20のステージ本体21の第1部分21aと第2部分2
1bとの間に配されている。また、搬送ハンド40は、
支持部50上の収納容器80に向かう方向(図1(a)
の矢印A方向)、および該収納容器80から遠ざかる方
向(同じく矢印B方向)に進退可能となっている。すな
わち、第1ケース部11の内部には、例えばエアシリン
ダー等の移動機構(図示略)が設けられていて、この移
動機構と搬送ハンド40とは、第1ケース部11上面に
形成された開口部11a(図1(a)および図3に一部
のみ図示)を介して連結されている。そして、移動機構
の駆動により、搬送ハンド40がAあるいはB方向に進
(A方向)退(B方向)する構成となっている。
図3、および図4に示すように、搬送ハンド40は、搬
送本体部41と、この搬送本体部41から前方に延出す
るように設けられ、搬送の際にウェーハWを保持するハ
ンド部42とを備えて概略構成されている。このうちハ
ンド部42の先端側には、ウェーハWを吸着するための
吸引口43が設けられ、この吸引口43より吸引するこ
とで、ウェーハWがハンド部42の先端側に吸着保持さ
れる構成となっている。なお、ハンド部42には、耐熱
温度の高い(例えば、300℃以上)材質(例えば、フ
ッ素樹脂等)のコーティングがなされている。このよう
な搬送ハンド40のハンド部42は、ウェーハステージ
20のステージ本体21の第1部分21aと第2部分2
1bとの間に配されている。また、搬送ハンド40は、
支持部50上の収納容器80に向かう方向(図1(a)
の矢印A方向)、および該収納容器80から遠ざかる方
向(同じく矢印B方向)に進退可能となっている。すな
わち、第1ケース部11の内部には、例えばエアシリン
ダー等の移動機構(図示略)が設けられていて、この移
動機構と搬送ハンド40とは、第1ケース部11上面に
形成された開口部11a(図1(a)および図3に一部
のみ図示)を介して連結されている。そして、移動機構
の駆動により、搬送ハンド40がAあるいはB方向に進
(A方向)退(B方向)する構成となっている。
【0027】ここで、ウェーハステージ20のウェーハ
支持面24上のウェーハWを搬送ハンド40のハンド部
42に受け渡す動作について説明する。先ず、ウェーハ
ステージ20にウェーハWを搭載する際には、予め、ウ
ェーハステージ20の昇降機構の駆動によって、ウェー
ハ支持面24の鉛直位置がハンド部42の上面よりも高
くされている。これは、ウェーハステージ20に搭載し
たウェーハWがハンド部42に衝突することにより、セ
ンタリング動作が阻害されてしまうことを防止するため
である。従って、この状態でウェーハステージ20にウ
ェーハWが搭載されてセンタリングされると、このウェ
ーハWよりも下側にハンド部42が位置した状態とな
る。さらに、この状態から、ウェーハステージ20の昇
降機構の駆動により、ウェーハステージ20が徐々に下
降すると、やがて、ウェーハがハンド部42の先端側の
上面に支持された状態に移行する。この際、ハンド部4
2は、支持したウェーハを吸引口43で吸着して保持す
る。これにて、ウェーハ支持面24からハンド部42へ
のウェーハの受け渡しが完了する。
支持面24上のウェーハWを搬送ハンド40のハンド部
42に受け渡す動作について説明する。先ず、ウェーハ
ステージ20にウェーハWを搭載する際には、予め、ウ
ェーハステージ20の昇降機構の駆動によって、ウェー
ハ支持面24の鉛直位置がハンド部42の上面よりも高
くされている。これは、ウェーハステージ20に搭載し
たウェーハWがハンド部42に衝突することにより、セ
ンタリング動作が阻害されてしまうことを防止するため
である。従って、この状態でウェーハステージ20にウ
ェーハWが搭載されてセンタリングされると、このウェ
ーハWよりも下側にハンド部42が位置した状態とな
る。さらに、この状態から、ウェーハステージ20の昇
降機構の駆動により、ウェーハステージ20が徐々に下
降すると、やがて、ウェーハがハンド部42の先端側の
上面に支持された状態に移行する。この際、ハンド部4
2は、支持したウェーハを吸引口43で吸着して保持す
る。これにて、ウェーハ支持面24からハンド部42へ
のウェーハの受け渡しが完了する。
【0028】<収納容器の支持部の説明>収納容器80
を支持する支持部50は、第2ケース部12より第1ケ
ース部側に向けて延出された台状のものであり、その上
面部により収納容器80を支持するようになっている。
第2ケース部12内部には、支持部50の昇降機構(図
示略)が設けられ、この昇降機構と支持部50とは、第
2ケース部12の側面に形成された開口部(図示略)を
介して連結され、従って、昇降機構が駆動することによ
り、この駆動が支持部50に伝達されて支持部50が昇
降するようになっている。なお、支持部50の昇降機構
は、例えば、パルスモータと、このパルスモータの駆動
力を支持部50に伝達するためのボールネジとを備えて
概略構成されたものである。また、第2ケース部12と
第1ケース部11とが離間配置されたことにより、支持
部50および収納容器80の移動領域が確保されてい
る。
を支持する支持部50は、第2ケース部12より第1ケ
ース部側に向けて延出された台状のものであり、その上
面部により収納容器80を支持するようになっている。
第2ケース部12内部には、支持部50の昇降機構(図
示略)が設けられ、この昇降機構と支持部50とは、第
2ケース部12の側面に形成された開口部(図示略)を
介して連結され、従って、昇降機構が駆動することによ
り、この駆動が支持部50に伝達されて支持部50が昇
降するようになっている。なお、支持部50の昇降機構
は、例えば、パルスモータと、このパルスモータの駆動
力を支持部50に伝達するためのボールネジとを備えて
概略構成されたものである。また、第2ケース部12と
第1ケース部11とが離間配置されたことにより、支持
部50および収納容器80の移動領域が確保されてい
る。
【0029】<収納容器の説明>図6の(a)、(b)
等に示すように、収納容器80は、少なくとも一方側が
開口した箱形の容器であり、該開口側からウェーハを収
納するためのスロット81(数が多いため図面上、一部
のみ符号を付した)が複数形成されている。ここで、各
スロット81にウェーハWが収納されると、これらウェ
ーハWは、互いの主面方向が平行となり、かつ、互いの
中心が直線状に並ぶように、互いに所定間隔に配された
状態となる(図5(a)参照)。このような収納容器8
0は、例えば、フッ素樹脂等の耐熱性材からなり、例え
ば、300℃以上の高温にも耐えうる。また、収納容器
80の前記開口側の周縁部には、例えば、2つずつのボ
ス82と、嵌入穴83が形成されている。これらボス8
2および嵌入穴83は、収納容器80を、該収納容器8
0と概略等しい形状の収納容器90(従来の技術参照)
と互いの開口側で突き合わせた際に、収納容器90側の
嵌入穴93およびボス92と嵌め合わせて収納容器9
0,80どうしを相互に位置決めするためのものであ
る。このような収納容器80,90どうしの位置決め機
構は、後述するように、収納容器80から収納容器90
へのウェーハWの移し替え作業を行う際に用いられる。
等に示すように、収納容器80は、少なくとも一方側が
開口した箱形の容器であり、該開口側からウェーハを収
納するためのスロット81(数が多いため図面上、一部
のみ符号を付した)が複数形成されている。ここで、各
スロット81にウェーハWが収納されると、これらウェ
ーハWは、互いの主面方向が平行となり、かつ、互いの
中心が直線状に並ぶように、互いに所定間隔に配された
状態となる(図5(a)参照)。このような収納容器8
0は、例えば、フッ素樹脂等の耐熱性材からなり、例え
ば、300℃以上の高温にも耐えうる。また、収納容器
80の前記開口側の周縁部には、例えば、2つずつのボ
ス82と、嵌入穴83が形成されている。これらボス8
2および嵌入穴83は、収納容器80を、該収納容器8
0と概略等しい形状の収納容器90(従来の技術参照)
と互いの開口側で突き合わせた際に、収納容器90側の
嵌入穴93およびボス92と嵌め合わせて収納容器9
0,80どうしを相互に位置決めするためのものであ
る。このような収納容器80,90どうしの位置決め機
構は、後述するように、収納容器80から収納容器90
へのウェーハWの移し替え作業を行う際に用いられる。
【0030】ここで、ウェーハWを、搬送ハンド40に
より搬送して収納容器80に収納させる動作について説
明する。先ず、予め、収納容器80を、その開口側が搬
送ハンド40側を向くようにして支持部50上に載置し
ておく。この状態で、ハンド部42の先端側でウェーハ
Wを保持した搬送ハンド40が矢印A方向に前進する
と、やがてウェーハWが収納容器80のスロット81内
に挿入され、完全に挿入されたところで搬送ハンド40
の移動が停止される。次いで、支持台50および収納容
器80の昇降機構の駆動により、収納容器80が僅かに
(例えば、数mm程度)上昇するとともに、ハンド部4
2の吸引口43による吸引が解除される。すると、ハン
ド部42でウェーハWを保持した状態から収納容器80
のスロット内81でウェーハWを保持した状態に移行す
る。これにて、ハンド部42により収納容器80にウェ
ーハを収納する動作が完了する。なお、以上の動作にお
いて、ウェーハWを収納容器80のスロット81に向け
て搬送する際には、ウェーハWを挿入すべきスロット8
1の鉛直位置が、ハンド部42に保持されたウェーハW
と略等しくなるように、予め昇降機構の駆動により収納
容器80の鉛直位置が調節される。
より搬送して収納容器80に収納させる動作について説
明する。先ず、予め、収納容器80を、その開口側が搬
送ハンド40側を向くようにして支持部50上に載置し
ておく。この状態で、ハンド部42の先端側でウェーハ
Wを保持した搬送ハンド40が矢印A方向に前進する
と、やがてウェーハWが収納容器80のスロット81内
に挿入され、完全に挿入されたところで搬送ハンド40
の移動が停止される。次いで、支持台50および収納容
器80の昇降機構の駆動により、収納容器80が僅かに
(例えば、数mm程度)上昇するとともに、ハンド部4
2の吸引口43による吸引が解除される。すると、ハン
ド部42でウェーハWを保持した状態から収納容器80
のスロット内81でウェーハWを保持した状態に移行す
る。これにて、ハンド部42により収納容器80にウェ
ーハを収納する動作が完了する。なお、以上の動作にお
いて、ウェーハWを収納容器80のスロット81に向け
て搬送する際には、ウェーハWを挿入すべきスロット8
1の鉛直位置が、ハンド部42に保持されたウェーハW
と略等しくなるように、予め昇降機構の駆動により収納
容器80の鉛直位置が調節される。
【0031】以上説明したように、本発明のウェーハの
ハンドリング装置1を用いると、該ハンドリング装置1
のウェーハステージ20にウェーハWを搭載する作業を
行うだけで、先ず、このウェーハWは、ウェーハ支持面
24上にセンタリングされ、このセンタリングされたウ
ェーハWは、搬送ハンド40により収納容器80のスロ
ット81内に自動的に収納される。そして、この作業の
繰り返しにより、所定枚数のウェーハWを収納容器80
に収納させることができる。
ハンドリング装置1を用いると、該ハンドリング装置1
のウェーハステージ20にウェーハWを搭載する作業を
行うだけで、先ず、このウェーハWは、ウェーハ支持面
24上にセンタリングされ、このセンタリングされたウ
ェーハWは、搬送ハンド40により収納容器80のスロ
ット81内に自動的に収納される。そして、この作業の
繰り返しにより、所定枚数のウェーハWを収納容器80
に収納させることができる。
【0032】なお、ハンドリング装置1の制御部(図示
略)は、CPUと、このCPUによる制御用プログラム
や制御用データ等を記憶したROMと、CPUの作業領
域及び各種データ(後述する収納パターンに関するデー
タ等)の記憶領域を有するRAMとを備えて構成され、
該ハンドリング装置1の各構成要素の動作は、CPUの
制御下で行われる。
略)は、CPUと、このCPUによる制御用プログラム
や制御用データ等を記憶したROMと、CPUの作業領
域及び各種データ(後述する収納パターンに関するデー
タ等)の記憶領域を有するRAMとを備えて構成され、
該ハンドリング装置1の各構成要素の動作は、CPUの
制御下で行われる。
【0033】ところで、一度のエピタキシャル成長を行
う際にウェーハを載置する座ぐりには、予め管理上のナ
ンバーが定められている。換言すれば、ウェーハには、
バッチ毎に座ぐりのナンバーに対応する管理上のナンバ
ーが定められている。これは、各ウェーハが、サセプタ
上の、どの位置でエピタキシャル成長されたものである
のか(各ウェーハの履歴)を、エピタキシャル成長後も
把握できるようにするためである。このため、エピタキ
シャル成長後、ウェーハを収納容器80内(さらには、
後述するように収納容器90内)に収納した段階でも、
ウェーハが前記ナンバー順に並ぶことが望ましい。しか
しながら、エピタキシャル成長後にサセプタからウェー
ハを取出す作業は、取出しに都合の良い所定の順序(前
記ナンバーの順序とは異なる)で行うことが効率的であ
る。
う際にウェーハを載置する座ぐりには、予め管理上のナ
ンバーが定められている。換言すれば、ウェーハには、
バッチ毎に座ぐりのナンバーに対応する管理上のナンバ
ーが定められている。これは、各ウェーハが、サセプタ
上の、どの位置でエピタキシャル成長されたものである
のか(各ウェーハの履歴)を、エピタキシャル成長後も
把握できるようにするためである。このため、エピタキ
シャル成長後、ウェーハを収納容器80内(さらには、
後述するように収納容器90内)に収納した段階でも、
ウェーハが前記ナンバー順に並ぶことが望ましい。しか
しながら、エピタキシャル成長後にサセプタからウェー
ハを取出す作業は、取出しに都合の良い所定の順序(前
記ナンバーの順序とは異なる)で行うことが効率的であ
る。
【0034】ここで、サセプタへのウェーハの並べ方の
具体例を説明する。例えば、いわゆるバレル型の気相成
長装置では、側面が複数の傾斜面により構成され、各傾
斜面には、ウェーハを載置するための座ぐりが上下に複
数(例えば、2〜3つ程度)並んで設けられたサセプタ
が用いられ、このサセプタの各座ぐりにウェーハを傾斜
状態で立てかけて載置して、エピタキシャル成長が行わ
れる。この場合、先ず、サセプタの所定の傾斜面に形成
された上側の座ぐりから、順次、下側の座ぐりへと、前
記ナンバー順に1枚ずつのウェーハWを載置し、次い
で、隣の傾斜面にも同様にウェーハWを載置し、・・・
といったことを全傾斜面で繰り返すことで、1バッチ分
のウェーハWが所定の載置位置順でサセプタ上に並べら
れる。
具体例を説明する。例えば、いわゆるバレル型の気相成
長装置では、側面が複数の傾斜面により構成され、各傾
斜面には、ウェーハを載置するための座ぐりが上下に複
数(例えば、2〜3つ程度)並んで設けられたサセプタ
が用いられ、このサセプタの各座ぐりにウェーハを傾斜
状態で立てかけて載置して、エピタキシャル成長が行わ
れる。この場合、先ず、サセプタの所定の傾斜面に形成
された上側の座ぐりから、順次、下側の座ぐりへと、前
記ナンバー順に1枚ずつのウェーハWを載置し、次い
で、隣の傾斜面にも同様にウェーハWを載置し、・・・
といったことを全傾斜面で繰り返すことで、1バッチ分
のウェーハWが所定の載置位置順でサセプタ上に並べら
れる。
【0035】次に、サセプタからウェーハWを取り出す
のに都合の良い順序の具体例を説明する。この順序は、
例えば、ウェーハWの品質を考慮した順序である。具体
的には、例えば、いわゆるバレル型の気相成長装置の場
合、ある傾斜面について、例えば、下側にもウェーハW
がある状態で上側のウェーハWを先に取り出してしまう
と、サセプタの表面に付着していたパーティクルがベル
ヌーイチャックから噴出されるガスにより剥離して下側
のウェーハW上に落下し、ウェーハWの品質に悪影響を
与えてしまう可能性がある。このことを避けるため、ウ
ェーハWの取出しは、例えば下側のウェーハを先、上側
のウェーハを後にし、ある傾斜面のウェーハを全て取り
出した後にその隣の傾斜面のウェーハを取り出すことに
より、サセプタの周囲を一巡する順序で行う。つまり、
この取出しの順序は、サセプタに載置されていたときの
載置位置順(つまり前記ナンバー順)と異なる。
のに都合の良い順序の具体例を説明する。この順序は、
例えば、ウェーハWの品質を考慮した順序である。具体
的には、例えば、いわゆるバレル型の気相成長装置の場
合、ある傾斜面について、例えば、下側にもウェーハW
がある状態で上側のウェーハWを先に取り出してしまう
と、サセプタの表面に付着していたパーティクルがベル
ヌーイチャックから噴出されるガスにより剥離して下側
のウェーハW上に落下し、ウェーハWの品質に悪影響を
与えてしまう可能性がある。このことを避けるため、ウ
ェーハWの取出しは、例えば下側のウェーハを先、上側
のウェーハを後にし、ある傾斜面のウェーハを全て取り
出した後にその隣の傾斜面のウェーハを取り出すことに
より、サセプタの周囲を一巡する順序で行う。つまり、
この取出しの順序は、サセプタに載置されていたときの
載置位置順(つまり前記ナンバー順)と異なる。
【0036】そして、サセプタから取り出したウェーハ
Wをハンドリング装置1のウェーハステージ20に搭載
する作業は、この取出しの順序で行うのが都合がよい。
なぜなら、搭載の順序を取出しの順序と異ならせるため
には、ウェーハを一旦どこかに置く必要があり、不都合
であるからである。従って、ウェーハWは、ウェーハス
テージ20への搭載の順序(つまり、前記ナンバーと異
なる順序)で搬送ハンド40により搬送されて収納容器
80に収納される。従って、仮に、ウェーハを収納容器
80のスロット81に、例えば、上側又は下側から順に
収納させていくこととすると、収納容器80内でのウェ
ーハWの並びが、前記ナンバーと異なる並びになってし
まう。この場合、後工程でのウェーハWの管理が煩雑に
なって、管理ミスに繋がりかねない。
Wをハンドリング装置1のウェーハステージ20に搭載
する作業は、この取出しの順序で行うのが都合がよい。
なぜなら、搭載の順序を取出しの順序と異ならせるため
には、ウェーハを一旦どこかに置く必要があり、不都合
であるからである。従って、ウェーハWは、ウェーハス
テージ20への搭載の順序(つまり、前記ナンバーと異
なる順序)で搬送ハンド40により搬送されて収納容器
80に収納される。従って、仮に、ウェーハを収納容器
80のスロット81に、例えば、上側又は下側から順に
収納させていくこととすると、収納容器80内でのウェ
ーハWの並びが、前記ナンバーと異なる並びになってし
まう。この場合、後工程でのウェーハWの管理が煩雑に
なって、管理ミスに繋がりかねない。
【0037】そこで、ウェーハのハンドリング装置1で
は、エピタキシャル成長を行った後、取り出しに都合の
良い所定の順序でサセプタからウェーハWを取り出し、
この取出しの順序でウェーハWをウェーハステージ20
に搭載すると、収納容器80内でのウェーハWの並び
が、サセプタに載置されていたときの載置位置順となる
ように、搬送ハンド40がウェーハを収納容器80に収
納するように構成されている。
は、エピタキシャル成長を行った後、取り出しに都合の
良い所定の順序でサセプタからウェーハWを取り出し、
この取出しの順序でウェーハWをウェーハステージ20
に搭載すると、収納容器80内でのウェーハWの並び
が、サセプタに載置されていたときの載置位置順となる
ように、搬送ハンド40がウェーハを収納容器80に収
納するように構成されている。
【0038】具体的には、例えば、バレル型の気相成長
装置を用いる場合で、サセプタの傾斜面に上中下3枚の
ウェーハWを並べて載置する場合に、この傾斜面に載置
されるウェーハWのナンバーが、仮に、上側から順に
、、だとする。この場合、エピタキシャル成長後
のサセプタからの取出しの順序は、下側から→→
の順序となるので、ウェーハステージ20に搭載され、
引き続き収納容器80に収納される順序も、同様に→
→の順序となる。従って、これら3枚のウェーハW
を、収納容器80内で上側から順に並べるためには、先
ず、ナンバーのウェーハWを、収納容器80のスロッ
ト81のうち上側から3番目のスロット81に収納さ
せ、次いで、ナンバーのウェーハWを同2番目のスロ
ット81に、さらに、ナンバーのウェーハWを同1番
目のスロット81に収納させるような制御が行われる。
ここで、ナンバーのウェーハWの搬送の際には、上側
から3番目のスロット81がウェーハWと同じ鉛直位置
となるように支持部50が昇降し、次いで、ナンバー
のウェーハWの搬送の際には、上側から2番目のスロッ
ト81がウェーハWと同じ鉛直位置となるように支持部
50が昇降し、次いで、ナンバーのウェーハWの搬送
の際には、上側から1番目のスロット81がウェーハW
と同じ鉛直位置となるように支持部50が昇降する。な
お、ここでの説明では、1つの傾斜面についての説明に
終わったが、その次はナンバーのウェーハWであり、
6番目のスロット81に収納される。そして、各傾斜面
に関しても同様に、収納容器80内でのウェーハWの並
びを、ウェーハWの搬送の順序に対して補正する制御が
なされる。
装置を用いる場合で、サセプタの傾斜面に上中下3枚の
ウェーハWを並べて載置する場合に、この傾斜面に載置
されるウェーハWのナンバーが、仮に、上側から順に
、、だとする。この場合、エピタキシャル成長後
のサセプタからの取出しの順序は、下側から→→
の順序となるので、ウェーハステージ20に搭載され、
引き続き収納容器80に収納される順序も、同様に→
→の順序となる。従って、これら3枚のウェーハW
を、収納容器80内で上側から順に並べるためには、先
ず、ナンバーのウェーハWを、収納容器80のスロッ
ト81のうち上側から3番目のスロット81に収納さ
せ、次いで、ナンバーのウェーハWを同2番目のスロ
ット81に、さらに、ナンバーのウェーハWを同1番
目のスロット81に収納させるような制御が行われる。
ここで、ナンバーのウェーハWの搬送の際には、上側
から3番目のスロット81がウェーハWと同じ鉛直位置
となるように支持部50が昇降し、次いで、ナンバー
のウェーハWの搬送の際には、上側から2番目のスロッ
ト81がウェーハWと同じ鉛直位置となるように支持部
50が昇降し、次いで、ナンバーのウェーハWの搬送
の際には、上側から1番目のスロット81がウェーハW
と同じ鉛直位置となるように支持部50が昇降する。な
お、ここでの説明では、1つの傾斜面についての説明に
終わったが、その次はナンバーのウェーハWであり、
6番目のスロット81に収納される。そして、各傾斜面
に関しても同様に、収納容器80内でのウェーハWの並
びを、ウェーハWの搬送の順序に対して補正する制御が
なされる。
【0039】なお、ハンドリング装置1には、使用する
サセプタの種類や、ウェーハの取り出し順に応じて、予
め、幾つかの収納パターンが記憶され、これらの収納パ
ターンのうち、所望の収納パターンを選択して用いるこ
とができる構成となっている。さらに、ハンドリング装
置1は、収納パターンを適宜変更可能に構成されてい
る。このような収納パターンの選択、および変更作業
は、操作パネル60を操作することによって行うことが
できる。
サセプタの種類や、ウェーハの取り出し順に応じて、予
め、幾つかの収納パターンが記憶され、これらの収納パ
ターンのうち、所望の収納パターンを選択して用いるこ
とができる構成となっている。さらに、ハンドリング装
置1は、収納パターンを適宜変更可能に構成されてい
る。このような収納パターンの選択、および変更作業
は、操作パネル60を操作することによって行うことが
できる。
【0040】〔ウェーハのハンドリング方法の説明〕次
に、以上説明したウェーハのハンドリング装置1を用い
た、本発明に係るウェーハのハンドリング方法について
詳細に説明する。
に、以上説明したウェーハのハンドリング装置1を用い
た、本発明に係るウェーハのハンドリング方法について
詳細に説明する。
【0041】先ず、気相エピタキシャル成長後のサセプ
タ上のウェーハWを1枚、ベルヌーイチャック70によ
り吸着してサセプタより取り出し、ハンドリング装置1
のウェーハステージ20に搭載する。この搭載の際、ベ
ルヌーイチャック70の吸着板71を、ウェーハステー
ジ20の移動規制部25により側方移動を規制した状態
でウェーハWを吸着解除する。すると、ウェーハWはウ
ェーハステージ20のウェーハ支持面24上にセンタリ
ングされる。次いで、ウェーハステージ20が下降開始
し、やがて、ウェーハWが、ウェーハ支持面24により
支持された状態から、搬送ハンド40のハンド部42の
先端側で支持された状態に移行し、ウェーハステージ2
0の下降が終了する。また、ここで、ウェーハWがハン
ド部42に支持された状態に移行する際に、吸引口43
が吸引開始し、ウェーハWがハンド部42の先端側に吸
着保持される。次いで、搬送ハンド40が図1の矢印A
方向に前進開始する。やがて、ウェーハWが収納容器8
0の所定のスロット81に完全に挿入されると、搬送ハ
ンド40の前進が終了する。さらに、収納容器80が僅
かに上昇することでウェーハWを下側からスロット81
により保持した状態になるとともに、吸引口43による
吸引が解除される。これによりウェーハWのスロット8
1への収納が完了する。次いで、搬送ハンド40が後退
し、図1の(a)の状態に復帰する。以後同様に、サセ
プタよりウェーハWを1枚ずつ取り出してはウェーハス
テージ20に搭載し、搬送ハンド40により収納容器8
0に収納させる、といった作業を繰り替えることによ
り、1バッチ分のウェーハWを収納容器80に収納させ
ることができる。しかも、収納容器80内でのウェーハ
の並びを、サセプタに載置されていたときの載置位置順
とすることができる。
タ上のウェーハWを1枚、ベルヌーイチャック70によ
り吸着してサセプタより取り出し、ハンドリング装置1
のウェーハステージ20に搭載する。この搭載の際、ベ
ルヌーイチャック70の吸着板71を、ウェーハステー
ジ20の移動規制部25により側方移動を規制した状態
でウェーハWを吸着解除する。すると、ウェーハWはウ
ェーハステージ20のウェーハ支持面24上にセンタリ
ングされる。次いで、ウェーハステージ20が下降開始
し、やがて、ウェーハWが、ウェーハ支持面24により
支持された状態から、搬送ハンド40のハンド部42の
先端側で支持された状態に移行し、ウェーハステージ2
0の下降が終了する。また、ここで、ウェーハWがハン
ド部42に支持された状態に移行する際に、吸引口43
が吸引開始し、ウェーハWがハンド部42の先端側に吸
着保持される。次いで、搬送ハンド40が図1の矢印A
方向に前進開始する。やがて、ウェーハWが収納容器8
0の所定のスロット81に完全に挿入されると、搬送ハ
ンド40の前進が終了する。さらに、収納容器80が僅
かに上昇することでウェーハWを下側からスロット81
により保持した状態になるとともに、吸引口43による
吸引が解除される。これによりウェーハWのスロット8
1への収納が完了する。次いで、搬送ハンド40が後退
し、図1の(a)の状態に復帰する。以後同様に、サセ
プタよりウェーハWを1枚ずつ取り出してはウェーハス
テージ20に搭載し、搬送ハンド40により収納容器8
0に収納させる、といった作業を繰り替えることによ
り、1バッチ分のウェーハWを収納容器80に収納させ
ることができる。しかも、収納容器80内でのウェーハ
の並びを、サセプタに載置されていたときの載置位置順
とすることができる。
【0042】次に、収納容器80内に1バッチ分のウェ
ーハWを収納させた後は、収納容器80から収納容器9
0へのウェーハWの移し替えを行う。すなわち、先ず、
図5の(a)に示すように、収納容器80の上側から、
開口部どうしを突き合わせるようにして収納容器90を
被せる。この際、収納容器80のボス82は収納容器9
0の嵌入穴93に、また、収納容器90のボス92は収
納容器80の嵌入穴83に、互いに嵌入させ、収納容器
80,90どうしを相互に位置決めする。そして、この
ように位置決めした状態のまま、図5の(b)に示すよ
うに、収納容器80,90を一体的にひっくり返すと、
収納容器80の各スロット81に収納されていたウェー
ハWが、それぞれ側方にスライドする結果、収納容器9
0の対応するスロット91に収納された状態となる。従
って、収納容器90内でのウェーハWの並びは、収納容
器80内でのウェーハWの並びと同じになる(サセプタ
に載置されていたときの載置位置順とも同じ)。これに
て、収納容器80から収納容器90へのウェーハWの移
し替えが完了する。なお、このように、ウェーハWを収
納容器80から収納容器90に移し替えるのは、ポリプ
ロピレン製の収納容器90の方が、フッ素樹脂製の収納
容器80よりも軽量なため取り扱いが容易であるのに加
えて、安価なため数量を確保し易いからである。
ーハWを収納させた後は、収納容器80から収納容器9
0へのウェーハWの移し替えを行う。すなわち、先ず、
図5の(a)に示すように、収納容器80の上側から、
開口部どうしを突き合わせるようにして収納容器90を
被せる。この際、収納容器80のボス82は収納容器9
0の嵌入穴93に、また、収納容器90のボス92は収
納容器80の嵌入穴83に、互いに嵌入させ、収納容器
80,90どうしを相互に位置決めする。そして、この
ように位置決めした状態のまま、図5の(b)に示すよ
うに、収納容器80,90を一体的にひっくり返すと、
収納容器80の各スロット81に収納されていたウェー
ハWが、それぞれ側方にスライドする結果、収納容器9
0の対応するスロット91に収納された状態となる。従
って、収納容器90内でのウェーハWの並びは、収納容
器80内でのウェーハWの並びと同じになる(サセプタ
に載置されていたときの載置位置順とも同じ)。これに
て、収納容器80から収納容器90へのウェーハWの移
し替えが完了する。なお、このように、ウェーハWを収
納容器80から収納容器90に移し替えるのは、ポリプ
ロピレン製の収納容器90の方が、フッ素樹脂製の収納
容器80よりも軽量なため取り扱いが容易であるのに加
えて、安価なため数量を確保し易いからである。
【0043】以上のような実施の形態によれば、作業者
は、気相エピタキシャル成長後のウェーハWをサセプタ
から取り出してハンドリング装置1のウェーハステージ
20に直接搭載するだけでよく、後は、ハンドリング装
置1の搬送ハンド40により所定の収納容器80に自動
的に収納させることができる。その後は、収納容器80
内のウェーハWを、一括して収納容器90に容易に移し
替えることができる。従って、作業者がエアピンセット
を用いてウェーハWを冷却台から収納容器90に移し替
えるハンドリング作業を行う必要がないので、その移し
替え作業に伴う様々な問題を解消できる。具体的には、
従来、ウェーハ表面上のキズまたは汚れによる歩留まり
の低減が1.51%であったのが、ハンドリング装置1
を用いることにより1.16%に抑制された。また、従
来のように冷却台に広げてウェーハを載置し、そのウェ
ーハを冷却台から収納容器に移し替える工程が不要とな
り工程数を削減でき、作業時間を短縮できる。具体的に
は、従来、1バッチ分(例えば、ウェーハ16枚分)の
作業時間が従来平均256秒であったのが、ハンドリン
グ装置1を用いることにより195秒に短縮された。
は、気相エピタキシャル成長後のウェーハWをサセプタ
から取り出してハンドリング装置1のウェーハステージ
20に直接搭載するだけでよく、後は、ハンドリング装
置1の搬送ハンド40により所定の収納容器80に自動
的に収納させることができる。その後は、収納容器80
内のウェーハWを、一括して収納容器90に容易に移し
替えることができる。従って、作業者がエアピンセット
を用いてウェーハWを冷却台から収納容器90に移し替
えるハンドリング作業を行う必要がないので、その移し
替え作業に伴う様々な問題を解消できる。具体的には、
従来、ウェーハ表面上のキズまたは汚れによる歩留まり
の低減が1.51%であったのが、ハンドリング装置1
を用いることにより1.16%に抑制された。また、従
来のように冷却台に広げてウェーハを載置し、そのウェ
ーハを冷却台から収納容器に移し替える工程が不要とな
り工程数を削減でき、作業時間を短縮できる。具体的に
は、従来、1バッチ分(例えば、ウェーハ16枚分)の
作業時間が従来平均256秒であったのが、ハンドリン
グ装置1を用いることにより195秒に短縮された。
【0044】また、複数枚のウェーハWを所定の載置位
置順でサセプタに載置してエピタキシャル成長を行った
後、取り出しに都合の良い所定の順序でサセプタからウ
ェーハWを取り出し、この取出しの順序でウェーハWを
ウェーハステージ20に搭載すると、収納容器80内で
のウェーハWの並びが、サセプタに載置されていたとき
の載置位置順となるように、搬送ハンド40がウェーハ
を収納容器80に収納していくので、後工程でのウェー
ハWの管理が容易となる。
置順でサセプタに載置してエピタキシャル成長を行った
後、取り出しに都合の良い所定の順序でサセプタからウ
ェーハWを取り出し、この取出しの順序でウェーハWを
ウェーハステージ20に搭載すると、収納容器80内で
のウェーハWの並びが、サセプタに載置されていたとき
の載置位置順となるように、搬送ハンド40がウェーハ
を収納容器80に収納していくので、後工程でのウェー
ハWの管理が容易となる。
【0045】なお、上記の実施の形態では、本発明に係
るウェーハステージ20をハンドリング装置1の構成の
一つとして適用する例について説明したが、この例に限
らず、ウェーハステージ20を単体としてウェーハWの
センタリング用に用いても良い。なお、この場合、本体
部21を分割構造にする必要はない。さらに、ウェーハ
ステージ20を下降させることで、ウェーハWをウェー
ハステージ20から搬送ハンド40に受け渡す例につい
て説明したが、これに限らず、該受け渡しは、ウェーハ
ステージ20(のウェーハ支持面24)を、搬送ハンド
40(のハンド部42)に対し相対的に下降させること
で行えば良い。つまり、該受け渡しを、搬送ハンド40
を上昇させることで行っても良い。また、搬送ハンド4
0から収納容器80にウェーハを受け渡す動作について
も同様のことが言えるのは勿論である。
るウェーハステージ20をハンドリング装置1の構成の
一つとして適用する例について説明したが、この例に限
らず、ウェーハステージ20を単体としてウェーハWの
センタリング用に用いても良い。なお、この場合、本体
部21を分割構造にする必要はない。さらに、ウェーハ
ステージ20を下降させることで、ウェーハWをウェー
ハステージ20から搬送ハンド40に受け渡す例につい
て説明したが、これに限らず、該受け渡しは、ウェーハ
ステージ20(のウェーハ支持面24)を、搬送ハンド
40(のハンド部42)に対し相対的に下降させること
で行えば良い。つまり、該受け渡しを、搬送ハンド40
を上昇させることで行っても良い。また、搬送ハンド4
0から収納容器80にウェーハを受け渡す動作について
も同様のことが言えるのは勿論である。
【0046】
【発明の効果】本発明に係るウェーハのハンドリング方
法および装置によれば、作業者は、気相エピタキシャル
成長後のウェーハをサセプタから取り出してハンドリン
グ装置に直接搭載するだけでよく、後は、ハンドリング
装置の搬送手段により所定の収納容器に自動的に収納さ
せることができる。従って、従来のように冷却台に広げ
てウェーハを載置し、該ウェーハを冷却台から収納容器
に移し替えるといった工程が不要となり、作業時間を短
縮できるとともにハンドリングによる歩留まり低減を抑
制することができる。
法および装置によれば、作業者は、気相エピタキシャル
成長後のウェーハをサセプタから取り出してハンドリン
グ装置に直接搭載するだけでよく、後は、ハンドリング
装置の搬送手段により所定の収納容器に自動的に収納さ
せることができる。従って、従来のように冷却台に広げ
てウェーハを載置し、該ウェーハを冷却台から収納容器
に移し替えるといった工程が不要となり、作業時間を短
縮できるとともにハンドリングによる歩留まり低減を抑
制することができる。
【0047】また、本発明に係るウェーハのウェーハス
テージによれば、該ウェーハステージにウェーハを搭載
すると、ウェーハがウェーハ支持部を逸れた場合であっ
ても、このウェーハは重力に従って傾斜面により下方に
摺動案内されて自動的にセンタリングされ、ウェーハ支
持部に支持された状態となる。つまり、ウェーハをウェ
ーハ支持部乃至傾斜面に搭載するだけでウェーハをセン
タリングさせることができる。
テージによれば、該ウェーハステージにウェーハを搭載
すると、ウェーハがウェーハ支持部を逸れた場合であっ
ても、このウェーハは重力に従って傾斜面により下方に
摺動案内されて自動的にセンタリングされ、ウェーハ支
持部に支持された状態となる。つまり、ウェーハをウェ
ーハ支持部乃至傾斜面に搭載するだけでウェーハをセン
タリングさせることができる。
【図1】本発明に係るウェーハのハンドリング装置を示
す図であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。
す図であり、(a)は平面図、(b)は側面図である。
【図2】図1のハンドリング装置が備えるセンタリング
手段(ウェーハステージ)を示す斜視図である。
手段(ウェーハステージ)を示す斜視図である。
【図3】吸着保持具からセンタリング手段(ウェーハス
テージ)にウェーハを搭載する状態を示す斜視図であ
る。
テージ)にウェーハを搭載する状態を示す斜視図であ
る。
【図4】図1のハンドリング装置が備える搬送手段を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図5】一方の容器から他方の容器にウェーハを移し替
える作業を示す一連の斜視図である。
える作業を示す一連の斜視図である。
【図6】(a)および(b)は、テフロン(商標登録)
製の収納容器(所定の収納容器)を示す図である。
(c)および(d)は、ポリプロピレン製の収納容器を
示す図である。
製の収納容器(所定の収納容器)を示す図である。
(c)および(d)は、ポリプロピレン製の収納容器を
示す図である。
【図7】従来の技術を説明するための図であり、このう
ち(a)は、冷却台上にウェーハを載置した状態を示す
斜視図、(b)は冷却台からエアピンセットによりウェ
ーハを移し替える作業を示す側断面図である。
ち(a)は、冷却台上にウェーハを載置した状態を示す
斜視図、(b)は冷却台からエアピンセットによりウェ
ーハを移し替える作業を示す側断面図である。
【図8】ベルヌーイチャックによりウェーハをサセプタ
から取り出す作業を示す斜視図である。
から取り出す作業を示す斜視図である。
1 ハンドリング装置(ウェーハのハンドリング装
置) 20 ウェーハステージ(センタリング手段) 23 傾斜面(傾斜部) 24 ウェーハ支持面(ウェーハ支持部) 25 移動規制部 40 搬送ハンド(搬送手段) 70 ベルヌーイチャック(吸着保持具) 80 収納容器 W ウェーハ
置) 20 ウェーハステージ(センタリング手段) 23 傾斜面(傾斜部) 24 ウェーハ支持面(ウェーハ支持部) 25 移動規制部 40 搬送ハンド(搬送手段) 70 ベルヌーイチャック(吸着保持具) 80 収納容器 W ウェーハ
Claims (7)
- 【請求項1】 ウェーハが搭載されると該ウェーハを所
定位置に搬送する搬送手段を備えるウェーハのハンドリ
ング装置に、気相エピタキシャル成長後のウェーハをサ
セプタから取り出して直接搭載し、該搭載したウェーハ
を、前記搬送手段により収納容器に収納させることを特
徴とするウェーハのハンドリング方法。 - 【請求項2】 複数枚のウェーハを所定の載置位置順で
サセプタに載置して気相エピタキシャル成長を行った
後、所定の順序でサセプタからウェーハを取り出し、こ
の取出しの順序でウェーハを前記ハンドリング装置に搭
載すると、前記収納容器内でのウェーハの並びが、サセ
プタに載置されていたときの載置位置順となるように、
前記搬送手段が前記収納容器にウェーハを順次収納して
いくことを特徴とする請求項1記載のウェーハのハンド
リング方法。 - 【請求項3】 ウェーハが搭載されると該ウェーハをセ
ンタリングしてウェーハ支持部で支持するセンタリング
手段と、 前記ウェーハ支持部のウェーハを所定位置に搬送する搬
送手段と、を備えることを特徴とするウェーハのハンド
リング装置。 - 【請求項4】 前記センタリング手段は、 ウェーハを下方に摺動案内しつつセンタリングするため
に、下方に向かうにつれて小径となるように形成された
環状の傾斜部と、 センタリングされたウェーハを支持するウェーハ支持部
と、を備えることを特徴とする請求項3記載のウェーハ
のハンドリング装置。 - 【請求項5】 前記センタリング手段は、 ウェーハを吸着保持する吸着保持具を用いて該センタリ
ング手段にウェーハを搭載する際に、前記吸着保持具の
側方移動を規制する移動規制部をさらに備えることを特
徴とする請求項4記載のウェーハのハンドリング装置。 - 【請求項6】 ウェーハを下方に摺動案内しつつ該ウェ
ーハをセンタリングするために、下方に向かうにつれて
小径となるように形成された環状の傾斜部と、 センタリングされたウェーハを支持するウェーハ支持部
と、を備えることを特徴とするウェーハステージ。 - 【請求項7】 ウェーハを吸着保持する吸着保持具を用
いてウェーハステージにウェーハを搭載する際に、前記
吸着保持具の側方移動を規制する移動規制部をさらに備
えることを特徴とする請求項6記載のウェーハステー
ジ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001160903A JP2002353285A (ja) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | ウェーハのハンドリング方法、ウェーハのハンドリング装置、およびウェーハステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001160903A JP2002353285A (ja) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | ウェーハのハンドリング方法、ウェーハのハンドリング装置、およびウェーハステージ |
Publications (1)
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|---|---|
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Family Applications (1)
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Country Status (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022518017A (ja) * | 2019-01-18 | 2022-03-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ウエハ処理ツール及びその方法 |
-
2001
- 2001-05-29 JP JP2001160903A patent/JP2002353285A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022518017A (ja) * | 2019-01-18 | 2022-03-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ウエハ処理ツール及びその方法 |
| US12142513B2 (en) | 2019-01-18 | 2024-11-12 | Applied Materials, Inc. | Wafer processing tools and methods thereof |
| JP7609787B2 (ja) | 2019-01-18 | 2025-01-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ウエハ処理ツール及びその方法 |
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