JP2002350117A - 形状計測装置及び形状計測方法 - Google Patents
形状計測装置及び形状計測方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】観察物体に高段差の部分と微小な形状変化部分
の両方が存在する場合でも、観察物体の凹凸の反転等を
伴うことなく正確に形状を計測することができ、煩雑な
操作を伴わず、簡素な装置構成で計測可能な形状計測装
置及び形状計測方法を提供する。 【解決手段】複数の波長を選択可能な光源装置1と、微
分干渉顕微鏡と、干渉画像を形成する2つの光の相対的
な位相量を変化させる位相変化装置2と、撮像装置29
と、少なくとも2つの波長で観察物体の位相分布画像を
形成し、形成された位相分布画像の各点の値を選択され
た波長間で比較する演算装置30とを有している。
の両方が存在する場合でも、観察物体の凹凸の反転等を
伴うことなく正確に形状を計測することができ、煩雑な
操作を伴わず、簡素な装置構成で計測可能な形状計測装
置及び形状計測方法を提供する。 【解決手段】複数の波長を選択可能な光源装置1と、微
分干渉顕微鏡と、干渉画像を形成する2つの光の相対的
な位相量を変化させる位相変化装置2と、撮像装置29
と、少なくとも2つの波長で観察物体の位相分布画像を
形成し、形成された位相分布画像の各点の値を選択され
た波長間で比較する演算装置30とを有している。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はICパターンや金属
表面の凹凸形状及び段差量を定量的に計測するための形
状計測装置及び形状計測方法に関する。
表面の凹凸形状及び段差量を定量的に計測するための形
状計測装置及び形状計測方法に関する。
【0002】
【従来の技術】干渉顕微鏡は、干渉計の持つ高精度な高
さ測定特性と顕微鏡の持つ高分解能観察特性の両方の特
徴を備えており、この特徴を生かして、シリコンウエハ
ー上に形成されたICパターンの高さ測定や磁気ディス
ク等の金属表面に形成された微細な段差の測定に広く用
いられている。そして、干渉顕微鏡の中でも、特に微分
干渉顕微鏡は、偏光干渉を利用した共通光路型の干渉計
を構成していることから、振動等の外乱に対し測定が影
響を受け難いという特性を持っている。
さ測定特性と顕微鏡の持つ高分解能観察特性の両方の特
徴を備えており、この特徴を生かして、シリコンウエハ
ー上に形成されたICパターンの高さ測定や磁気ディス
ク等の金属表面に形成された微細な段差の測定に広く用
いられている。そして、干渉顕微鏡の中でも、特に微分
干渉顕微鏡は、偏光干渉を利用した共通光路型の干渉計
を構成していることから、振動等の外乱に対し測定が影
響を受け難いという特性を持っている。
【0003】ところで、この種の微分干渉顕微鏡に干渉
計測の高精度計測方法である縞走査法(位相シフト法)
を組合せて、高精度な段差計測を実現した形状計測方法
が特開平5−232384号公報に開示されている。ま
た、微分干渉顕微鏡とレーザー走査型顕微鏡を組合せて
高分解能化した例が、特開平9−14928号公報に開
示されている。このように、微分干渉顕微鏡に干渉計測
方法を組合せることにより、高精度な高さ計測と高分解
能観察の両方を実現することが出来る。
計測の高精度計測方法である縞走査法(位相シフト法)
を組合せて、高精度な段差計測を実現した形状計測方法
が特開平5−232384号公報に開示されている。ま
た、微分干渉顕微鏡とレーザー走査型顕微鏡を組合せて
高分解能化した例が、特開平9−14928号公報に開
示されている。このように、微分干渉顕微鏡に干渉計測
方法を組合せることにより、高精度な高さ計測と高分解
能観察の両方を実現することが出来る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の干渉計
測方法は、観察物体の表面で入射光が正反射すると仮定
されており、観察物体面上の段差は極めて小さいとして
計測を行うようにしている。このため、観察物体面上に
形成されている段差等の形状変化が大きくなると従来の
干渉計測方法では高度な計測が難しくなる。
測方法は、観察物体の表面で入射光が正反射すると仮定
されており、観察物体面上の段差は極めて小さいとして
計測を行うようにしている。このため、観察物体面上に
形成されている段差等の形状変化が大きくなると従来の
干渉計測方法では高度な計測が難しくなる。
【0005】この問題点については、特開平9−149
28号公報にも開示されている。微分干渉顕微鏡で段差
が大きい物体を観察すると、段差量によってエッジ部分
のコントラストが反転することがある。よって、微分干
渉顕微鏡を用いて段差量が大きい物体を計測すると凹凸
が反転した結果が得られることになる。特開平9−14
928号公報に記載のものは、段差量が大きくなった場
合における段差による反射光の変化と観察物体表面の反
射率の変化とが区別しにくくなる点を改善している。し
かし、段差量が大きい物体を計測した時に凹凸が反転す
ることを改善する方法については示されていない。ま
た、干渉計測で物体の段差等を反射光を用いて計測する
場合、その段差量がλ/2を超えると光路長差が往復で
λを超え、正確な計測が出来なくなる。微分干渉顕微鏡
においても段差量がλ/2を超えると同様に正確な計測
が行えなくなる。また、段差量がλ/4を超えると、画
像のコントラストが反転し、凹凸の判定が難しくなり、
正確な計測を行うことができなくなる。
28号公報にも開示されている。微分干渉顕微鏡で段差
が大きい物体を観察すると、段差量によってエッジ部分
のコントラストが反転することがある。よって、微分干
渉顕微鏡を用いて段差量が大きい物体を計測すると凹凸
が反転した結果が得られることになる。特開平9−14
928号公報に記載のものは、段差量が大きくなった場
合における段差による反射光の変化と観察物体表面の反
射率の変化とが区別しにくくなる点を改善している。し
かし、段差量が大きい物体を計測した時に凹凸が反転す
ることを改善する方法については示されていない。ま
た、干渉計測で物体の段差等を反射光を用いて計測する
場合、その段差量がλ/2を超えると光路長差が往復で
λを超え、正確な計測が出来なくなる。微分干渉顕微鏡
においても段差量がλ/2を超えると同様に正確な計測
が行えなくなる。また、段差量がλ/4を超えると、画
像のコントラストが反転し、凹凸の判定が難しくなり、
正確な計測を行うことができなくなる。
【0006】段差量が大きくなると発生するこれらの問
題点については、特開平9−236404号公報で詳し
く示され、その改善方法についても開示されている。特
開平9−236404号公報で開示されている方法を用
いることにより、λ/2以上の段差を計測することが可
能になる。しかし、特開平9−236404号公報に開
示されている方法では、従来の干渉計測と同様に、観察
物体の表面で光は正反射されると仮定して段差量を干渉
色から計測しており、観察物体の表面での光の回折につ
いては考慮されていないため、観察物体の表面に微細な
形状変化がある場合には、干渉色の変化が鈍くなり、正
確な計測を行うことが難しくなる。更に、この方法で
は、事前に干渉色と段差量との関係を求めておく必要が
あることや、分光器を用いて計測することなどから、測
定操作の煩雑化や装置の大型化を伴うことになる。
題点については、特開平9−236404号公報で詳し
く示され、その改善方法についても開示されている。特
開平9−236404号公報で開示されている方法を用
いることにより、λ/2以上の段差を計測することが可
能になる。しかし、特開平9−236404号公報に開
示されている方法では、従来の干渉計測と同様に、観察
物体の表面で光は正反射されると仮定して段差量を干渉
色から計測しており、観察物体の表面での光の回折につ
いては考慮されていないため、観察物体の表面に微細な
形状変化がある場合には、干渉色の変化が鈍くなり、正
確な計測を行うことが難しくなる。更に、この方法で
は、事前に干渉色と段差量との関係を求めておく必要が
あることや、分光器を用いて計測することなどから、測
定操作の煩雑化や装置の大型化を伴うことになる。
【0007】本発明は、以上のような問題点に鑑みてな
されたものであり、観察物体に高段差の部分と微小な形
状変化部分の両方が存在する場合でも、観察物体の凹凸
の反転等を伴うことなく正確に形状を計測することがで
き、煩雑な操作を伴わず、簡素な装置構成で計測可能な
形状計測装置及び形状計測方法を提供することを目的と
している。
されたものであり、観察物体に高段差の部分と微小な形
状変化部分の両方が存在する場合でも、観察物体の凹凸
の反転等を伴うことなく正確に形状を計測することがで
き、煩雑な操作を伴わず、簡素な装置構成で計測可能な
形状計測装置及び形状計測方法を提供することを目的と
している。
【0008】
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するため、本第1の発明による形状計測装置は、複数
の波長を選択可能な光源装置と、微分干渉顕微鏡と、干
渉画像を形成する2つの光の相対的な位相量を変化させ
る位相変化装置と、撮像装置と、少なくとも2つの波長
で観察物体の位相分布画像を形成し、形成された位相分
布画像の各点の値を選択された波長間で比較する演算装
置とを有することを特徴とする。
成するため、本第1の発明による形状計測装置は、複数
の波長を選択可能な光源装置と、微分干渉顕微鏡と、干
渉画像を形成する2つの光の相対的な位相量を変化させ
る位相変化装置と、撮像装置と、少なくとも2つの波長
で観察物体の位相分布画像を形成し、形成された位相分
布画像の各点の値を選択された波長間で比較する演算装
置とを有することを特徴とする。
【0009】また、本第2の発明による形状計測装置
は、複数の波長を選択可能な光源装置と、微分干渉顕微
鏡と、干渉画像を形成する2つの光の相対的な位相量を
変化させる位相変化装置と、撮像装置と、少なくとも2
つの波長で位相変化装置による位相変化量が略同じで符
号の異なる2つの微分干渉画像を撮像し、撮像した2つ
の微分干渉画像から差画像を形成し、形成された差画像
の各点の値を選択された波長間で比較する演算装置とを
有することを特徴とする。
は、複数の波長を選択可能な光源装置と、微分干渉顕微
鏡と、干渉画像を形成する2つの光の相対的な位相量を
変化させる位相変化装置と、撮像装置と、少なくとも2
つの波長で位相変化装置による位相変化量が略同じで符
号の異なる2つの微分干渉画像を撮像し、撮像した2つ
の微分干渉画像から差画像を形成し、形成された差画像
の各点の値を選択された波長間で比較する演算装置とを
有することを特徴とする。
【0010】また、本第3の発明による形状計測装置
は、複数の波長を選択可能な光源装置と、微分干渉顕微
鏡と、干渉画像を形成する2つの光の相対的な位相量を
変化させる位相変化装置と、撮像装置と、少なくとも2
つの波長で位相変化装置による位相変化量が略同じで符
号の異なる2つの微分干渉画像を撮像し、撮像した2つ
の微分干渉画像から差画像及び和画像を形成し、形成さ
れた差画像と和画像のいずれかまたは両方の画像におけ
る各点の値を選択された波長間で比較する演算装置とを
有することを特徴とする。
は、複数の波長を選択可能な光源装置と、微分干渉顕微
鏡と、干渉画像を形成する2つの光の相対的な位相量を
変化させる位相変化装置と、撮像装置と、少なくとも2
つの波長で位相変化装置による位相変化量が略同じで符
号の異なる2つの微分干渉画像を撮像し、撮像した2つ
の微分干渉画像から差画像及び和画像を形成し、形成さ
れた差画像と和画像のいずれかまたは両方の画像におけ
る各点の値を選択された波長間で比較する演算装置とを
有することを特徴とする。
【0011】また、本第4の発明による形状計測方法
は、少なくとも2つの波長を選択する過程と、干渉画像
を収得する過程と、干渉画像を形成する光の相対的な位
相量を変化させる過程と、選択された波長毎に干渉画像
を位相分布画像に変換する過程と、変換された位相分布
画像の各点の値を選択された波長間で比較演算する過程
とを有することを特徴とする。
は、少なくとも2つの波長を選択する過程と、干渉画像
を収得する過程と、干渉画像を形成する光の相対的な位
相量を変化させる過程と、選択された波長毎に干渉画像
を位相分布画像に変換する過程と、変換された位相分布
画像の各点の値を選択された波長間で比較演算する過程
とを有することを特徴とする。
【0012】また、本第5の発明による形状計測方法
は、少なくとも2つの波長を選択する過程と、干渉画像
を収得する過程と、干渉画像を形成する光の相対的な位
相量を変化させる過程と、位相変化量が略同じで符号の
異なる2つの干渉画像から差画像を形成する過程と、形
成された差画像における各点の値を選択された波長間で
比較する過程と、干渉画像を観察物体の位相分布画像に
変換する過程を有することを特徴とする。
は、少なくとも2つの波長を選択する過程と、干渉画像
を収得する過程と、干渉画像を形成する光の相対的な位
相量を変化させる過程と、位相変化量が略同じで符号の
異なる2つの干渉画像から差画像を形成する過程と、形
成された差画像における各点の値を選択された波長間で
比較する過程と、干渉画像を観察物体の位相分布画像に
変換する過程を有することを特徴とする。
【0013】また、本第6の発明による形状計測方法
は、少なくとも2つの波長を選択する過程と、干渉画像
を収得する過程と、干渉画像を形成する光の相対的な位
相量を変化させる過程と、位相変化量が略同じで符号の
異なる2つの干渉画像から差画像と和画像を形成する過
程と、形成された差画像と和画像のいずれかまたは両方
の画像における各点の値を選択された波長間で比較する
過程と、差画像と和画像から観察物体の位相分布画像を
形成する過程を有することを特徴とする。
は、少なくとも2つの波長を選択する過程と、干渉画像
を収得する過程と、干渉画像を形成する光の相対的な位
相量を変化させる過程と、位相変化量が略同じで符号の
異なる2つの干渉画像から差画像と和画像を形成する過
程と、形成された差画像と和画像のいずれかまたは両方
の画像における各点の値を選択された波長間で比較する
過程と、差画像と和画像から観察物体の位相分布画像を
形成する過程を有することを特徴とする。
【0014】微分干渉顕微鏡および位相差顕微鏡で観察
される観察物体の位相分布に比例する強度分布は、観察
物体で回折されることなく透過又は反射した光と、観察
物体で回折された光とが干渉したものである。観察物体
面に光が入射したときの、入射光と、透過光又は反射光
と、回折光との関係は、図1に示すように3つのベクト
ルで表すことができる。ここで、Φは観察物体の位相量
を表している。
される観察物体の位相分布に比例する強度分布は、観察
物体で回折されることなく透過又は反射した光と、観察
物体で回折された光とが干渉したものである。観察物体
面に光が入射したときの、入射光と、透過光又は反射光
と、回折光との関係は、図1に示すように3つのベクト
ルで表すことができる。ここで、Φは観察物体の位相量
を表している。
【0015】微分干渉像および位相差像は、透過光又は
反射光と、回折光との積で表すことができるので、Φが
πに近づくと、透過光又は反射光と、回折光との積は0
に近づくことになり、微分干渉像および位相差像は現れ
なくなる。更に、Φがπを超えると、透過光又は反射光
と、回折光との積は負の値になり、像の強度分布が反転
することになる。
反射光と、回折光との積で表すことができるので、Φが
πに近づくと、透過光又は反射光と、回折光との積は0
に近づくことになり、微分干渉像および位相差像は現れ
なくなる。更に、Φがπを超えると、透過光又は反射光
と、回折光との積は負の値になり、像の強度分布が反転
することになる。
【0016】観察物体に段差がある場合、段差に相当す
る位相量は観察する波長により値が変わってくる。よっ
て、複数の波長を用いて観察物体の位相量を計測し、得
られた位相量Φを比較することで、Φがπ以下である
か、π近傍の値であるか、πを超えているかを判定(以
下、位相量πの判定と呼ぶ)することができる。位相を
計測する際に特開平5−232384号公報に開示され
ているように位相変化装置を用いて縞走査法を行うこと
により、位相量Φの値を正確に計測することができ、位
相量πの判定をより正確に行うことができる。更に、こ
の判定結果を用いることにより、段差の凹凸の判定を正
確に行うことができるので、観察物体の位相量が大きい
場合でも、正確な位相分布を求めることができる。
る位相量は観察する波長により値が変わってくる。よっ
て、複数の波長を用いて観察物体の位相量を計測し、得
られた位相量Φを比較することで、Φがπ以下である
か、π近傍の値であるか、πを超えているかを判定(以
下、位相量πの判定と呼ぶ)することができる。位相を
計測する際に特開平5−232384号公報に開示され
ているように位相変化装置を用いて縞走査法を行うこと
により、位相量Φの値を正確に計測することができ、位
相量πの判定をより正確に行うことができる。更に、こ
の判定結果を用いることにより、段差の凹凸の判定を正
確に行うことができるので、観察物体の位相量が大きい
場合でも、正確な位相分布を求めることができる。
【0017】本発明者は、微分干渉顕微鏡及び位相差顕
微鏡の結像特性について解析を行い、その結果を特開平
8−94936号公報、特開平9−15504号公報及
び特開平9−105864号公報等に開示している。
微鏡の結像特性について解析を行い、その結果を特開平
8−94936号公報、特開平9−15504号公報及
び特開平9−105864号公報等に開示している。
【0018】通常の縞走査法では、位相変化装置で0、
π/2、π、3π/2の4つの位相シフト量を付加して
計測を行う。本発明者が解析した結果、位相変化装置を
介して与える位相シフト量が値が等しく符号の異なる±
Θの2つの値であっても、その±Θ位相をシフトした2
つの干渉画像の差演算を行うことにより、従来の縞走査
法と同様に位相成分を分離抽出することができる。よっ
て、複数の波長で観察物体の差画像を形成し、差画像中
の各点で各波長の値を比較することにより、位相量πの
判定を行うことができる。
π/2、π、3π/2の4つの位相シフト量を付加して
計測を行う。本発明者が解析した結果、位相変化装置を
介して与える位相シフト量が値が等しく符号の異なる±
Θの2つの値であっても、その±Θ位相をシフトした2
つの干渉画像の差演算を行うことにより、従来の縞走査
法と同様に位相成分を分離抽出することができる。よっ
て、複数の波長で観察物体の差画像を形成し、差画像中
の各点で各波長の値を比較することにより、位相量πの
判定を行うことができる。
【0019】また、位相変化装置で与える位相シフト量
の値が等しく符号の異なる±Θの2つの干渉画像の和演
算を行うことにより、干渉画像から強度成分を分離抽出
することができる。段差の位相量がπに近い値のときに
は、強度画像における段差のエッジ部分の強度が略0と
見なすことができるくらいまで急激に低下する。従っ
て、強度成分つまり和画像を波長毎に比較することによ
っても、位相量πの判定を行うことができる。
の値が等しく符号の異なる±Θの2つの干渉画像の和演
算を行うことにより、干渉画像から強度成分を分離抽出
することができる。段差の位相量がπに近い値のときに
は、強度画像における段差のエッジ部分の強度が略0と
見なすことができるくらいまで急激に低下する。従っ
て、強度成分つまり和画像を波長毎に比較することによ
っても、位相量πの判定を行うことができる。
【0020】また、和画像を形成することにより、段差
のエッジ部分以外の場所の反射率情報を得ることができ
る。エッジ部分以外の反射率情報を求め、その反射率情
報を用いてエッジ部分を補完することにより、観察物体
に反射率変化がある場合でも位相量πの正確な判定を行
うことができる。
のエッジ部分以外の場所の反射率情報を得ることができ
る。エッジ部分以外の反射率情報を求め、その反射率情
報を用いてエッジ部分を補完することにより、観察物体
に反射率変化がある場合でも位相量πの正確な判定を行
うことができる。
【0021】また、差画像と和画像のいずれかを用いる
ことにより、位相量πの判定を行うことができる。さら
に、差画像と和画像の両方を用いることにより、より正
確に位相量πを判定することができ、正確な凹凸判定が
可能になる。
ことにより、位相量πの判定を行うことができる。さら
に、差画像と和画像の両方を用いることにより、より正
確に位相量πを判定することができ、正確な凹凸判定が
可能になる。
【0022】観察物体の表面形状を正確に計測するため
には、形状の変化が大きい場合でもその凹凸判定を正確
に行うことができるようにする必要がある。従って、本
第1の発明で示すように、先ず、撮像装置が付いた微分
干渉顕微鏡に位相変化装置を付加し、縞走査法等の手法
により正確な形状が計測できるようにする。更に光源か
ら複数の波長を選択可能な光源装置を用いることによ
り、複数の波長で形状計測を可能にする。そして、複数
の波長で計測した観察物体の形状に対応する位相分布画
像を波長間で比較する装置を付加することにより、位相
量がπを超えているか否かの判定を行うことが可能にな
り、正確な凹凸判定を行なうことができ、正確な形状計
測が可能になる。
には、形状の変化が大きい場合でもその凹凸判定を正確
に行うことができるようにする必要がある。従って、本
第1の発明で示すように、先ず、撮像装置が付いた微分
干渉顕微鏡に位相変化装置を付加し、縞走査法等の手法
により正確な形状が計測できるようにする。更に光源か
ら複数の波長を選択可能な光源装置を用いることによ
り、複数の波長で形状計測を可能にする。そして、複数
の波長で計測した観察物体の形状に対応する位相分布画
像を波長間で比較する装置を付加することにより、位相
量がπを超えているか否かの判定を行うことが可能にな
り、正確な凹凸判定を行なうことができ、正確な形状計
測が可能になる。
【0023】また、本第2の発明のように、位相変化装
置で±Θ位相量をシフトした2つの画像から形成された
差画像を複数の波長で比較する装置を用いれば、正確な
凹凸判定を行なうことができ、正確な形状計測が可能に
なる。また、この場合、位相変化装置による位相シフト
量が±Θの2つの状態だけで足りるので、計測時間を短
縮化することができる等の効果もある。
置で±Θ位相量をシフトした2つの画像から形成された
差画像を複数の波長で比較する装置を用いれば、正確な
凹凸判定を行なうことができ、正確な形状計測が可能に
なる。また、この場合、位相変化装置による位相シフト
量が±Θの2つの状態だけで足りるので、計測時間を短
縮化することができる等の効果もある。
【0024】また、本第3の発明のように、2つの微分
干渉画像から和画像を形成することによっても凹凸の判
定を行うことが可能になる。更に、2つの微分干渉画像
から形成された差画像と和画像の両方を用いることによ
り、観察物体の反射率や透過率の変化を補正することが
可能になり、より正確な形状計測が可能になる。なお、
上記本発明の形状測定装置は、微分干渉顕微鏡に固有の
技術ではなく、位相差顕微鏡等の干渉効果を利用して位
相分布を可視化するタイプの顕微鏡全てに適応できる。
干渉画像から和画像を形成することによっても凹凸の判
定を行うことが可能になる。更に、2つの微分干渉画像
から形成された差画像と和画像の両方を用いることによ
り、観察物体の反射率や透過率の変化を補正することが
可能になり、より正確な形状計測が可能になる。なお、
上記本発明の形状測定装置は、微分干渉顕微鏡に固有の
技術ではなく、位相差顕微鏡等の干渉効果を利用して位
相分布を可視化するタイプの顕微鏡全てに適応できる。
【0025】また、本第4の発明から本第6の発明で示
すような過程を有する形状計測手法を用いることによ
り、干渉効果により位相分布を可視化する干渉顕微鏡の
画像から観察物体の形状を正確に計測することが可能に
なる。
すような過程を有する形状計測手法を用いることによ
り、干渉効果により位相分布を可視化する干渉顕微鏡の
画像から観察物体の形状を正確に計測することが可能に
なる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図を用い
て説明する。先ず、本発明に適用可能な落射型の微分干
渉顕微鏡の具体的な装置構成と効果を説明する。図2は
落射型微分干渉顕微鏡の概略構成図である。図2の顕微
鏡では、光源21から射出された光が、照明光学系の光
路内に配置された偏光子22を介して偏光角が45°の
直線偏光となり、更にハーフミラー23で反射された光
がノマルスキープリズム24に入射する。ノマルスキー
プリズム24を透過した光は、互いに直交する2つの直
線偏光に分割され、更に、対物レンズ25を介して観察
物体面26の上で分離された2点として集光される。こ
の分離された2点の光は、観察物体面26で反射された
後、対物レンズ25、ノマルスキープリズム24を再び
透過して、2つの直線偏光成分が合波され、更に、ハー
フミラー23を透過した光が結像光学系の光路内に配置
された検光子27を透過することにより2つの偏光成分
が干渉して結像光学系の像面上に微分干渉像を形成す
る。形成された微分干渉像は、接眼レンズ(図示省略)
を介して、目視観察したり、又はCCDカメラ29等の
撮像素子で撮像しコンピュータ30等で解析を行う。な
お、図中、28は結像レンズ、31はレンズ、32は視
野絞り明るさ絞りなどの絞りである。
て説明する。先ず、本発明に適用可能な落射型の微分干
渉顕微鏡の具体的な装置構成と効果を説明する。図2は
落射型微分干渉顕微鏡の概略構成図である。図2の顕微
鏡では、光源21から射出された光が、照明光学系の光
路内に配置された偏光子22を介して偏光角が45°の
直線偏光となり、更にハーフミラー23で反射された光
がノマルスキープリズム24に入射する。ノマルスキー
プリズム24を透過した光は、互いに直交する2つの直
線偏光に分割され、更に、対物レンズ25を介して観察
物体面26の上で分離された2点として集光される。こ
の分離された2点の光は、観察物体面26で反射された
後、対物レンズ25、ノマルスキープリズム24を再び
透過して、2つの直線偏光成分が合波され、更に、ハー
フミラー23を透過した光が結像光学系の光路内に配置
された検光子27を透過することにより2つの偏光成分
が干渉して結像光学系の像面上に微分干渉像を形成す
る。形成された微分干渉像は、接眼レンズ(図示省略)
を介して、目視観察したり、又はCCDカメラ29等の
撮像素子で撮像しコンピュータ30等で解析を行う。な
お、図中、28は結像レンズ、31はレンズ、32は視
野絞り明るさ絞りなどの絞りである。
【0027】次に、この種の微分干渉顕微鏡を本発明に
適用した形状計測装置の実施例について説明する。図3
は図2の落射型微分干渉顕微鏡に本発明を用いた形状計
測装置の一実施例を示す構成概略図である。本実施例の
形状計測装置では、図2における光源21の代わりに、
複数の波長を選択して発光することができる波長選択光
源装置1が用いられており、波長選択光源装置1から発
光可能な複数の波長から特定の第1の波長と第2の波長
の光を選択して観察に用いることができるようになって
いる。また、図2における照明光学系の光路内に配置さ
れた偏光子22の代わりに位相変化装置2を配置し、ノ
マルスキープリズム24に入射する偏光に対し任意のリ
ターデーション量を与えることができるようになってい
る。結像光学系の像面上もしくはその共役面上にはCC
Dカメラ29が配置され、また、CCDカメラ29から
の映像信号はコンピュータ30に取り込むことができる
ようになっている。
適用した形状計測装置の実施例について説明する。図3
は図2の落射型微分干渉顕微鏡に本発明を用いた形状計
測装置の一実施例を示す構成概略図である。本実施例の
形状計測装置では、図2における光源21の代わりに、
複数の波長を選択して発光することができる波長選択光
源装置1が用いられており、波長選択光源装置1から発
光可能な複数の波長から特定の第1の波長と第2の波長
の光を選択して観察に用いることができるようになって
いる。また、図2における照明光学系の光路内に配置さ
れた偏光子22の代わりに位相変化装置2を配置し、ノ
マルスキープリズム24に入射する偏光に対し任意のリ
ターデーション量を与えることができるようになってい
る。結像光学系の像面上もしくはその共役面上にはCC
Dカメラ29が配置され、また、CCDカメラ29から
の映像信号はコンピュータ30に取り込むことができる
ようになっている。
【0028】このような構成において、先ず、波長選択
光源装置1で第1の波長の光を選択し、位相変化装置2
を調整してノマルスキープリズム24に入射する偏光の
リターデーション量がΘとなるようにし、微分干渉画像
をCCDカメラ29で撮像してその画像をコンピュータ
30に転送し、コンピュータ30内部の記憶領域に記憶
させておく。次に、位相変化装置2を調整してノマルス
キープリズム24に入射する偏光のリターデーション量
が−Θになるようにし、微分干渉画像をCCDカメラ2
9で撮像してその画像をコンピュータ30に転送し、コ
ンピュータ30内部の記憶領域に記憶させておく。次
に、コンピュータ30内部の演算処理部を介してデータ
格納部に保持された2つの画像データを用いて、像面上
の座標に対応したピクセル単位で引き算を行い、差画像
を形成する。更に、ピクセル単位で和演算を行い、和画
像を形成する。形成された差画像を、微分干渉顕微鏡の
応答特性OTFを用いたデコンボリューション処理又は
積分処理を行うことにより、第1の波長における観察物
体の位相分布画像を形成し、コンピュータ30のディス
プレー上に表示する。
光源装置1で第1の波長の光を選択し、位相変化装置2
を調整してノマルスキープリズム24に入射する偏光の
リターデーション量がΘとなるようにし、微分干渉画像
をCCDカメラ29で撮像してその画像をコンピュータ
30に転送し、コンピュータ30内部の記憶領域に記憶
させておく。次に、位相変化装置2を調整してノマルス
キープリズム24に入射する偏光のリターデーション量
が−Θになるようにし、微分干渉画像をCCDカメラ2
9で撮像してその画像をコンピュータ30に転送し、コ
ンピュータ30内部の記憶領域に記憶させておく。次
に、コンピュータ30内部の演算処理部を介してデータ
格納部に保持された2つの画像データを用いて、像面上
の座標に対応したピクセル単位で引き算を行い、差画像
を形成する。更に、ピクセル単位で和演算を行い、和画
像を形成する。形成された差画像を、微分干渉顕微鏡の
応答特性OTFを用いたデコンボリューション処理又は
積分処理を行うことにより、第1の波長における観察物
体の位相分布画像を形成し、コンピュータ30のディス
プレー上に表示する。
【0029】次に、波長選択光源装置1で第1の波長よ
り長い第2の波長の光を選択し第1の波長と略強度が同
じになるように調節し、第1の波長の場合と同様にリタ
ーデーション量が±Θの微分干渉画像をCCDカメラ2
9で撮像し、コンピュータ30内部の記憶領域に記憶さ
せ、演算処理部を介して差画像と和画像を形成し、差画
像から第2の波長における観察物体の位相分布画像を形
成し、コンピュータ30のディスプレー上に表示する。
り長い第2の波長の光を選択し第1の波長と略強度が同
じになるように調節し、第1の波長の場合と同様にリタ
ーデーション量が±Θの微分干渉画像をCCDカメラ2
9で撮像し、コンピュータ30内部の記憶領域に記憶さ
せ、演算処理部を介して差画像と和画像を形成し、差画
像から第2の波長における観察物体の位相分布画像を形
成し、コンピュータ30のディスプレー上に表示する。
【0030】ここで、段差量(位相分布)の変化に伴っ
て相対強度が波長によってどのように変化するかを図4
に示す。図4からわかるように、各波長の相対強度は段
差量の変化に伴って正弦波状に変化する点では同じであ
るが、相対強度が最大になる位置が異なる。この相対強
度が最大値になる位置の段差量は、位相変化が1/2波
長である場合に相当する。例えば、短い波長(実線)に
おいて相対強度が0.2の場合の段差量は、約18と約
120である。従って、これだけでは、位相変化が1/
2波長以下の段差量18であるのか、或いは、1/2波
長以上の段差量120であるのかを判断することができ
ない。しかしながら、長い波長(破線)においては、段
差量が18の場合は短い波長(実線)に比べて相対強度
が小さく、段差量が120の場合は短い波長に比べて相
対強度が大きい。このように、同じ段差量を異なる波長
で比較すれば、相対強度の大小関係からその段差量、即
ち、位相変化量が1/2波長以下の段差量であるのか、
或いは、1/2波長以上の段差量であるのかを判断する
ことができる。
て相対強度が波長によってどのように変化するかを図4
に示す。図4からわかるように、各波長の相対強度は段
差量の変化に伴って正弦波状に変化する点では同じであ
るが、相対強度が最大になる位置が異なる。この相対強
度が最大値になる位置の段差量は、位相変化が1/2波
長である場合に相当する。例えば、短い波長(実線)に
おいて相対強度が0.2の場合の段差量は、約18と約
120である。従って、これだけでは、位相変化が1/
2波長以下の段差量18であるのか、或いは、1/2波
長以上の段差量120であるのかを判断することができ
ない。しかしながら、長い波長(破線)においては、段
差量が18の場合は短い波長(実線)に比べて相対強度
が小さく、段差量が120の場合は短い波長に比べて相
対強度が大きい。このように、同じ段差量を異なる波長
で比較すれば、相対強度の大小関係からその段差量、即
ち、位相変化量が1/2波長以下の段差量であるのか、
或いは、1/2波長以上の段差量であるのかを判断する
ことができる。
【0031】上記の点を考慮して、次に、第1の波長に
おける観察物体の位相分布画像から第2の波長における
観察物体の位相分布画像の引き算を行い、位相判定画像
Aを形成する。なお、引き算は、差画像を形成する場合
と同様に像面上の座標に対応したピクセル単位で行う。
そして、形成された位相判定画像Aにおいて値が正にな
る部分、値が略0の部分、値が負になる部分の3つに分
類する。
おける観察物体の位相分布画像から第2の波長における
観察物体の位相分布画像の引き算を行い、位相判定画像
Aを形成する。なお、引き算は、差画像を形成する場合
と同様に像面上の座標に対応したピクセル単位で行う。
そして、形成された位相判定画像Aにおいて値が正にな
る部分、値が略0の部分、値が負になる部分の3つに分
類する。
【0032】ここで、位相判定画像Aにおいて値が負に
なる部分は、第1の波長において1/4波長以上1/2
波長以下の位相変化を持ち、位相分布情報と観察物体形
状とで凹凸の反転を伴わない部分である。他方、位相判
定画像Aにおいて値が正になる部分は、第1の波長にお
いて1/2波長以上の位相変化を持ち、位相分布情報と
観察物体形状とで凹凸の反転を伴う部分である。よっ
て、この部分は凹凸の反転に伴う補正を必要とする。ま
た、位相判定画像Aにおいて値が略0となる部分は、本
来は位相(形状)の変化がない部分である。しかし、第
1の波長において1/4波長以下の低段差部分は、波長
の違いによる位相の変化が小さいために位相判定画像A
における値が略0であるとみなすことができる。従っ
て、この部分も位相分布情報と観察物体形状とで凹凸の
反転を伴わない部分に含めることができる。
なる部分は、第1の波長において1/4波長以上1/2
波長以下の位相変化を持ち、位相分布情報と観察物体形
状とで凹凸の反転を伴わない部分である。他方、位相判
定画像Aにおいて値が正になる部分は、第1の波長にお
いて1/2波長以上の位相変化を持ち、位相分布情報と
観察物体形状とで凹凸の反転を伴う部分である。よっ
て、この部分は凹凸の反転に伴う補正を必要とする。ま
た、位相判定画像Aにおいて値が略0となる部分は、本
来は位相(形状)の変化がない部分である。しかし、第
1の波長において1/4波長以下の低段差部分は、波長
の違いによる位相の変化が小さいために位相判定画像A
における値が略0であるとみなすことができる。従っ
て、この部分も位相分布情報と観察物体形状とで凹凸の
反転を伴わない部分に含めることができる。
【0033】位相判定画像Aの画像から、コンピュータ
30内部の演算処理部を介して第1の波長の位相分布画
像の各点ごとに凹凸の反転による補正の有無の情報を付
加し、和画像のデータと第1の波長の波長データとを用
いて観察物体の形状を再生し、形成した画像をコンピュ
ータ30のディスプレー上に表示する。
30内部の演算処理部を介して第1の波長の位相分布画
像の各点ごとに凹凸の反転による補正の有無の情報を付
加し、和画像のデータと第1の波長の波長データとを用
いて観察物体の形状を再生し、形成した画像をコンピュ
ータ30のディスプレー上に表示する。
【0034】そして、以上のような、波長選択光源装置
1における波長の選択、位相変化装置2によるリターデ
ーション量の制御、画像の取り込みと各差画像の形成、
差画像から位相分布画像への変換と位相判定画像の形
成、凹凸判定情報と位相分画像から観察物体の形状への
変換の各処理をコンピュータ30で行うことにより、微
分干渉顕微鏡を用いた形状測定装置を構成することがで
きる。
1における波長の選択、位相変化装置2によるリターデ
ーション量の制御、画像の取り込みと各差画像の形成、
差画像から位相分布画像への変換と位相判定画像の形
成、凹凸判定情報と位相分画像から観察物体の形状への
変換の各処理をコンピュータ30で行うことにより、微
分干渉顕微鏡を用いた形状測定装置を構成することがで
きる。
【0035】なお、位相判定画像は、上述の位相判定画
像Aのように第1の波長における観察物体の位相分布画
像と第2の波長における観察物体の位相分布画像から形
成することができるが、これ以外に、第1の波長と第2
の波長の各差画像から形成することもできる。
像Aのように第1の波長における観察物体の位相分布画
像と第2の波長における観察物体の位相分布画像から形
成することができるが、これ以外に、第1の波長と第2
の波長の各差画像から形成することもできる。
【0036】位相判定画像Aを形成する場合と同様に、
第1の波長の差画像から第2の波長の差画像を引き算し
て形成した画像を位相判定画像Bとする。そして、位相
判定画像Bについても位相判定画像Aと同様に、値が正
になる部分、値が略0の部分、値が負になる部分の3つ
に分類する。
第1の波長の差画像から第2の波長の差画像を引き算し
て形成した画像を位相判定画像Bとする。そして、位相
判定画像Bについても位相判定画像Aと同様に、値が正
になる部分、値が略0の部分、値が負になる部分の3つ
に分類する。
【0037】ここで、位相判定画像Bにおいて値が正に
なる部分は、第1の波長において1/2波長以上の位相
変化を持ち、位相分布情報と観察物体形状とで凹凸の反
転を伴う部分である。よって、この部分は凹凸の反転に
伴う補正を必要とする。他方、位相判定画像Bにおいて
値が負になる部分は第1の波長において1/4波長以上
1/2波長以下の位相変化を持ち、位相分布情報と観察
物体形状とで凹凸の反転を伴わない部分である。また、
位相判定画像Bにおいて値が略0となる部分は、本来は
位相(形状)の変化がない部分である。しかし、第1の
波長において1/4波長以下の低投差部分は、波長の違
いによる位相の変化が小さいために位相判定画像Bにお
ける値が略0であるとみなすことができる。従って、こ
の部分も位相分布情報と観察物体形状とで凹凸の反転を
伴わない部分に含めることができる。
なる部分は、第1の波長において1/2波長以上の位相
変化を持ち、位相分布情報と観察物体形状とで凹凸の反
転を伴う部分である。よって、この部分は凹凸の反転に
伴う補正を必要とする。他方、位相判定画像Bにおいて
値が負になる部分は第1の波長において1/4波長以上
1/2波長以下の位相変化を持ち、位相分布情報と観察
物体形状とで凹凸の反転を伴わない部分である。また、
位相判定画像Bにおいて値が略0となる部分は、本来は
位相(形状)の変化がない部分である。しかし、第1の
波長において1/4波長以下の低投差部分は、波長の違
いによる位相の変化が小さいために位相判定画像Bにお
ける値が略0であるとみなすことができる。従って、こ
の部分も位相分布情報と観察物体形状とで凹凸の反転を
伴わない部分に含めることができる。
【0038】位相判定画像Bの画像から、コンピュータ
30内部の演算処理部を介して第1の波長の位相分布画
像の各点ごとに凹凸の反転による補正の有無の情報を付
加し、和画像のデータと第1の波長の波長データとを用
いて観察物体の形状を再生し、形成した画像をコンピュ
ータ30のディスプレー上に表示する。
30内部の演算処理部を介して第1の波長の位相分布画
像の各点ごとに凹凸の反転による補正の有無の情報を付
加し、和画像のデータと第1の波長の波長データとを用
いて観察物体の形状を再生し、形成した画像をコンピュ
ータ30のディスプレー上に表示する。
【0039】以上、第1の波長と第2の波長のそれぞれ
の位相分布画像又は差画像を引算することにより、位相
判定画像を形成する例について説明したが、位相判定画
像は、上記の例以外に、第1の波長と第2の波長のそれ
ぞれの位相分布画像の比を計算することによっても形成
することができる。その場合は、それぞれの位相分布画
像の比が1以上になる場合と1以下になる場合とで凹凸
の判定を行うことができる。また、第1の波長と第2の
波長の各差画像の比を用いても同様に位相判定画像を形
成することができる。
の位相分布画像又は差画像を引算することにより、位相
判定画像を形成する例について説明したが、位相判定画
像は、上記の例以外に、第1の波長と第2の波長のそれ
ぞれの位相分布画像の比を計算することによっても形成
することができる。その場合は、それぞれの位相分布画
像の比が1以上になる場合と1以下になる場合とで凹凸
の判定を行うことができる。また、第1の波長と第2の
波長の各差画像の比を用いても同様に位相判定画像を形
成することができる。
【0040】次に、本実施例に用いる位相変化装置の構
成例を図5(a)〜(d)に示す。なお、図5(a)〜(d)では、
図3に示すように、位相変化装置2を照明光学系の光路
内に配置する場合についての構成例を示すこととする。
なお、位相変化装置2は、結像光学系の光路内の検光子
27と配置を入れ替えてもよく、その場合も照明光学系
の光路内に配置する場合と同等の効果を得ることができ
る。
成例を図5(a)〜(d)に示す。なお、図5(a)〜(d)では、
図3に示すように、位相変化装置2を照明光学系の光路
内に配置する場合についての構成例を示すこととする。
なお、位相変化装置2は、結像光学系の光路内の検光子
27と配置を入れ替えてもよく、その場合も照明光学系
の光路内に配置する場合と同等の効果を得ることができ
る。
【0041】図5(a)に示す位相変化装置2は、λ/4
板3を固定し、光軸を中心として回転可能な偏光子4に
モータ5等の駆動装置をつけて、回転制御出来るように
構成されており、偏光子4の回転角に対応してリターデ
ーション量を変化させることができるようになってい
る。なお、図5(a)の構成例では、λ/4板3を固定
し、偏光子4を回転させるようにしているが、λ/4板
3にモータを付けて回転制御できるようにし、偏光子4
を固定して構成しても同等の効果を得ることができる。
板3を固定し、光軸を中心として回転可能な偏光子4に
モータ5等の駆動装置をつけて、回転制御出来るように
構成されており、偏光子4の回転角に対応してリターデ
ーション量を変化させることができるようになってい
る。なお、図5(a)の構成例では、λ/4板3を固定
し、偏光子4を回転させるようにしているが、λ/4板
3にモータを付けて回転制御できるようにし、偏光子4
を固定して構成しても同等の効果を得ることができる。
【0042】図5(b)に示す位相変化装置2は、λ/4
板3及び偏光子4を固定するとともに、λ/4板3と偏
光子4との間に液晶素子6を配置し、液晶制御装置7を
介して液晶素子6に印加する電圧を変化させることによ
って液晶素子6を透過した偏光の振動方向を回転させ
て、リターデーション量を変化させることができるよう
に構成されている。
板3及び偏光子4を固定するとともに、λ/4板3と偏
光子4との間に液晶素子6を配置し、液晶制御装置7を
介して液晶素子6に印加する電圧を変化させることによ
って液晶素子6を透過した偏光の振動方向を回転させ
て、リターデーション量を変化させることができるよう
に構成されている。
【0043】図5(c)に示す位相変化装置2は、図5(b)
に示す構成例からλ/4板3をなくし、代わりにλ/4
板3の機能をノマルスキープリズムに持たせている。図
5(d)に示す位相変化装置2は、図5(c)に示す構成例の
液晶素子6の代わりに電気光学素子8を配置し、制御装
置9を介して電気光学素子8に与える電気特性を変える
ことによりリターデーション量を変化させることができ
るように構成されている。
に示す構成例からλ/4板3をなくし、代わりにλ/4
板3の機能をノマルスキープリズムに持たせている。図
5(d)に示す位相変化装置2は、図5(c)に示す構成例の
液晶素子6の代わりに電気光学素子8を配置し、制御装
置9を介して電気光学素子8に与える電気特性を変える
ことによりリターデーション量を変化させることができ
るように構成されている。
【0044】次に、本実施例に用いる波長選択光源の構
成例を図6(a)〜(d)に示す。図6(a)に示す波長選択光
源装置1は、白色光源10と干渉フィルター11を組み
合せて構成されており、選択した波長に対応した干渉フ
ィルター11を交換することによって光源の波長を変化
させて、所望の波長を選択することができるようになっ
ている。なお、干渉フィルター11を交換する以外に、
干渉フィルターを傾斜させて干渉フィルター11の光軸
とのなす角を変えることにより、干渉フィルター11を
透過する波長をシフトさせて、光源の波長を変えること
ができるようにしてもよい。
成例を図6(a)〜(d)に示す。図6(a)に示す波長選択光
源装置1は、白色光源10と干渉フィルター11を組み
合せて構成されており、選択した波長に対応した干渉フ
ィルター11を交換することによって光源の波長を変化
させて、所望の波長を選択することができるようになっ
ている。なお、干渉フィルター11を交換する以外に、
干渉フィルターを傾斜させて干渉フィルター11の光軸
とのなす角を変えることにより、干渉フィルター11を
透過する波長をシフトさせて、光源の波長を変えること
ができるようにしてもよい。
【0045】図6(b)に示す波長選択光源装置1は、白
色光源10と液晶素子6とを組合せて、液晶制御装置7
を介して液晶素子6に印加する電圧を変えることによ
り、液晶素子6を透過する波長を変えることで、所望の
波長を選択することができるようになっている。
色光源10と液晶素子6とを組合せて、液晶制御装置7
を介して液晶素子6に印加する電圧を変えることによ
り、液晶素子6を透過する波長を変えることで、所望の
波長を選択することができるようになっている。
【0046】図6(c)に示す波長選択光源装置1は、複
数の単色光源(レーザー、LEDなど)12,12’
と、複数の単色光源12,12’の光軸の交わる位置に
配置されたダイクロイックミラー13とを組合せて、制
御装置15を介してそれぞれの単色光源12,12’を
スイッチングするか、単色光源12,12’の前方にシ
ャッター14,14’を配置し、制御装置15を介して
シャッター14,14’の開閉のタイミングを制御する
ことにより所望の波長を選択することができるようにな
っている。
数の単色光源(レーザー、LEDなど)12,12’
と、複数の単色光源12,12’の光軸の交わる位置に
配置されたダイクロイックミラー13とを組合せて、制
御装置15を介してそれぞれの単色光源12,12’を
スイッチングするか、単色光源12,12’の前方にシ
ャッター14,14’を配置し、制御装置15を介して
シャッター14,14’の開閉のタイミングを制御する
ことにより所望の波長を選択することができるようにな
っている。
【0047】図6(d)に示す波長選択光源装置1は、光
源に半導体レーザ16を用いて、制御装置17を介して
半導体レーザ16の駆動電流を制御することにより、半
導体レーザの発振波長を変化させて所望の波長を選択す
ることができるようになっている。また、光源として複
数の発光素子を持つLED16’を用いて、発光する素
子を選択することにより、所望の波長を選択することが
できるようにしてもよい。
源に半導体レーザ16を用いて、制御装置17を介して
半導体レーザ16の駆動電流を制御することにより、半
導体レーザの発振波長を変化させて所望の波長を選択す
ることができるようになっている。また、光源として複
数の発光素子を持つLED16’を用いて、発光する素
子を選択することにより、所望の波長を選択することが
できるようにしてもよい。
【0048】なお、図6(c)または(d)に示すような構成
の波長選択光源1を用いる場合には、図7に示すような
レーザ走査型顕微鏡の構成を採用することが望ましい。
その場合、図3の構成における照明光学系の光路内にビ
ーム走査装置を配置してレーザビームが観察物体面上を
走査できるようにする。また、図3に示す検光子27の
代わりに偏光ビームスプリッター(PBS)33を用い
ると共に、PBS33で分割された光路内に2つのディ
テクター34,35を配置し、それぞれのディテクター
34,35からの信号の差信号と和信号を検出するよう
にする。また、位相変化装置2を介して差信号と和信号
の両方が最大になるようにノマルスキープリズム24に
入射する偏光状態の制御を行うようにする。
の波長選択光源1を用いる場合には、図7に示すような
レーザ走査型顕微鏡の構成を採用することが望ましい。
その場合、図3の構成における照明光学系の光路内にビ
ーム走査装置を配置してレーザビームが観察物体面上を
走査できるようにする。また、図3に示す検光子27の
代わりに偏光ビームスプリッター(PBS)33を用い
ると共に、PBS33で分割された光路内に2つのディ
テクター34,35を配置し、それぞれのディテクター
34,35からの信号の差信号と和信号を検出するよう
にする。また、位相変化装置2を介して差信号と和信号
の両方が最大になるようにノマルスキープリズム24に
入射する偏光状態の制御を行うようにする。
【0049】その他、本発明の形状計測装置における波
長選択を行う方法としては、図6に示すような波長選択
光源を用いた構成に限定されるものではなく、図8に示
すように、CCDカメラ36,37の前方にダイクロイ
ックミラー(DM)38を配置し、この複数のCCDカ
メラ36,37で微分干渉画像を撮像することによって
も所望の波長を選択したのと同等の効果を奏することが
可能である。この場合、図3に示す波長選択光源1の代
わりに、白色に近い広帯域な波長の光源21’を用い
る。
長選択を行う方法としては、図6に示すような波長選択
光源を用いた構成に限定されるものではなく、図8に示
すように、CCDカメラ36,37の前方にダイクロイ
ックミラー(DM)38を配置し、この複数のCCDカ
メラ36,37で微分干渉画像を撮像することによって
も所望の波長を選択したのと同等の効果を奏することが
可能である。この場合、図3に示す波長選択光源1の代
わりに、白色に近い広帯域な波長の光源21’を用い
る。
【0050】また、ダイクロイックミラー38を配置し
CCDカメラを複数用いる代わりに、CCDカメラとし
て、RGBの3色を独立して撮像できる3CCDタイプ
のカメラを一つ用いて、映像信号からRGBのそれぞれ
の信号を分離するようにすることによっても、図8に示
す構成と同等の効果を奏することができる。従って、3
CCDタイプのカメラを用いると、装置構成をより簡素
化することができる。
CCDカメラを複数用いる代わりに、CCDカメラとし
て、RGBの3色を独立して撮像できる3CCDタイプ
のカメラを一つ用いて、映像信号からRGBのそれぞれ
の信号を分離するようにすることによっても、図8に示
す構成と同等の効果を奏することができる。従って、3
CCDタイプのカメラを用いると、装置構成をより簡素
化することができる。
【0051】以上説明したように、本発明の形状計測装
置及び形状計測方法は、特許請求の範囲に記載された発
明の他に、次に示すような特徴も備えている。
置及び形状計測方法は、特許請求の範囲に記載された発
明の他に、次に示すような特徴も備えている。
【0052】(1)複数の波長を選択可能な光源装置
と、微分干渉顕微鏡と、干渉画像を形成する2つの光の
相対的な位相量を変化させる位相変化装置と、撮像装置
と、少なくとも2つの波長で位相変化装置による位相変
化量が略同じで符号の異なる2つの微分干渉画像を撮像
し、撮像した2つの微分干渉画像から差画像を形成し、
形成された差画像の各点の値を選択された波長間で比較
する演算装置とを有することを特徴とする形状計測装
置。
と、微分干渉顕微鏡と、干渉画像を形成する2つの光の
相対的な位相量を変化させる位相変化装置と、撮像装置
と、少なくとも2つの波長で位相変化装置による位相変
化量が略同じで符号の異なる2つの微分干渉画像を撮像
し、撮像した2つの微分干渉画像から差画像を形成し、
形成された差画像の各点の値を選択された波長間で比較
する演算装置とを有することを特徴とする形状計測装
置。
【0053】(2)複数の波長を選択可能な光源装置
と、微分干渉顕微鏡と、干渉画像を形成する2つの光の
相対的な位相量を変化させる位相変化装置と、撮像装置
と、少なくとも2つの波長で位相変化装置による位相変
化量が略同じで符号の異なる2つの微分干渉画像を撮像
し、撮像した2つの微分干渉画像から差画像及び和画像
を形成し、形成された差画像と和画像のいずれかまたは
両方の画像における各点の値を選択された波長間で比較
する演算装置とを有することを特徴とする形状計測装
置。
と、微分干渉顕微鏡と、干渉画像を形成する2つの光の
相対的な位相量を変化させる位相変化装置と、撮像装置
と、少なくとも2つの波長で位相変化装置による位相変
化量が略同じで符号の異なる2つの微分干渉画像を撮像
し、撮像した2つの微分干渉画像から差画像及び和画像
を形成し、形成された差画像と和画像のいずれかまたは
両方の画像における各点の値を選択された波長間で比較
する演算装置とを有することを特徴とする形状計測装
置。
【0054】(3)少なくとも2つの波長を選択する過
程と、干渉画像を収得する過程と、干渉画像を形成する
光の相対的な位相量を変化させる過程と、位相変化量が
ほほ同じで符号の異なる2つの干渉画像から差画像を形
成する過程と、形成された差画像における各点の値を選
択された波長間で比較する過程と、干渉画像を観察物体
の位相分布画像に変換する過程を有する形状計測方法。
程と、干渉画像を収得する過程と、干渉画像を形成する
光の相対的な位相量を変化させる過程と、位相変化量が
ほほ同じで符号の異なる2つの干渉画像から差画像を形
成する過程と、形成された差画像における各点の値を選
択された波長間で比較する過程と、干渉画像を観察物体
の位相分布画像に変換する過程を有する形状計測方法。
【0055】(4)少なくとも2つの波長を選択する過
程と、干渉画像を収得する過程と、干渉画像を形成する
光の相対的な位相量を変化させる過程と、位相変化量が
ほぼ同じで符号の異なる2つの干渉画像から差画像と和
画像を形成する過程と、形成された差画像と和画像のい
ずれかまたは両方の画像における各点の値を選択された
波長間で比較する過程と、差画像と和画像から観察物体
の位相分布画像を形成する過程を有する形状計測方法。
程と、干渉画像を収得する過程と、干渉画像を形成する
光の相対的な位相量を変化させる過程と、位相変化量が
ほぼ同じで符号の異なる2つの干渉画像から差画像と和
画像を形成する過程と、形成された差画像と和画像のい
ずれかまたは両方の画像における各点の値を選択された
波長間で比較する過程と、差画像と和画像から観察物体
の位相分布画像を形成する過程を有する形状計測方法。
【0056】
【発明の効果】本発明によれば、少なくとも2つの波長
を選択し、干渉顕微鏡の画像から位相分布を形成し、そ
の位相分布を波長間で比較することで、位相変化がλ/
2を超えているか否かの判定を行うようにしたので、λ
/2を超えたときに発生する凹凸の反転を検出すること
ができ、観察物体において段差の大きい部分と微小な形
状変化部分の両方が存在していた場合でも、凹凸の反転
等を伴わず正確に形状を計測することが可能になる。
を選択し、干渉顕微鏡の画像から位相分布を形成し、そ
の位相分布を波長間で比較することで、位相変化がλ/
2を超えているか否かの判定を行うようにしたので、λ
/2を超えたときに発生する凹凸の反転を検出すること
ができ、観察物体において段差の大きい部分と微小な形
状変化部分の両方が存在していた場合でも、凹凸の反転
等を伴わず正確に形状を計測することが可能になる。
【図1】観察物体面に光が入射したときの、入射光と、
透過光又は反射光と、回折光との関係を示す説明図であ
る。
透過光又は反射光と、回折光との関係を示す説明図であ
る。
【図2】落射型微分干渉顕微鏡の概略構成図である。
【図3】図2の落射型微分干渉顕微鏡に本発明を用いた
形状計測装置の一実施例を示す構成概略図である。
形状計測装置の一実施例を示す構成概略図である。
【図4】本実施例の形状計測装置においてそれぞれの波
長を選択した場合における段差量(位相分布)の変化に
対する相対強度の変化特性を示すグラフである。
長を選択した場合における段差量(位相分布)の変化に
対する相対強度の変化特性を示すグラフである。
【図5】本実施例に用いる位相変化装置の概略構成図で
ある。
ある。
【図6】本実施例に用いる波長選択光源の概略構成図で
ある。
ある。
【図7】本発明の他の実施例に係る形状計測装置の概略
構成図である。
構成図である。
【図8】本発明のさらに他の実施例に係る形状計測装置
の概略構成図である。
の概略構成図である。
1 光源 2 位相変化装置 3 λ/4板 4 偏光子 5 モータ 6 液晶素子 7 液晶制御装置 8 電気光学素子 9 制御装置 10 白色光源 11 干渉フィルター 12,12’ レーザ又はLED 13 ダイクロイックミラー 14,14’ シャッター 15 制御装置 16 半導体レーザ 16’ 多発光LED 17 制御装置 21,21’ 光源 22 偏光子 23 ハーフミラー 24 ノマルスキープリズム 25 対物レンズ 26 標本 27 検光子 28 結像レンズ 29 CCDカメラ 30 コンピュータ 31 レンズ 32 絞り 33 偏光ビームスプリッタ(PBS) 34 第1のディテクタ 35 第2のディテクタ 36 第1のCCDカメラ 37 第2のCCDカメラ 38 ダイクロイックミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F064 AA09 CC04 FF01 GG13 GG22 GG33 GG38 GG41 GG59 HH01 2F065 AA54 BB17 DD03 FF50 FF51 GG23 HH08 HH18 JJ03 JJ26 LL20 LL22 LL37 MM26 QQ25 QQ27 2H052 AA05 AC04 AC10 AC30 AF03 AF14 AF25
Claims (2)
- 【請求項1】 複数の波長を選択可能な光源装置と、微
分干渉顕微鏡と、干渉画像を形成する2つの光の相対的
な位相量を変化させる位相変化装置と、撮像装置と、少
なくとも2つの波長で観察物体の位相分布画像を形成
し、形成された位相分布画像の各点の値を選択された波
長間で比較する演算装置とを有することを特徴とする形
状計測装置。 - 【請求項2】 少なくとも2つの波長を選択する過程
と、干渉画像を収得する過程と、干渉画像を形成する光
の相対的な位相量を変化させる過程と、選択された波長
毎に干渉画像を位相分布画像に変換する過程と、変換さ
れた位相分布画像の各点の値を選択された波長間で比較
演算する過程とを有する形状計測方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001161187A JP2002350117A (ja) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | 形状計測装置及び形状計測方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001161187A JP2002350117A (ja) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | 形状計測装置及び形状計測方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002350117A true JP2002350117A (ja) | 2002-12-04 |
Family
ID=19004504
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001161187A Withdrawn JP2002350117A (ja) | 2001-05-29 | 2001-05-29 | 形状計測装置及び形状計測方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002350117A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003075134A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-12 | Univ Kanazawa | 光干渉を用いた形状測定方法および形状測定装置 |
| JP2005010296A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-01-13 | Olympus Corp | 蛍光顕微鏡 |
| JP2005218379A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Olympus Corp | 培養細胞の状態計測方法及び計測装置 |
| JP2005309415A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-11-04 | Olympus Corp | 光学顕微鏡と光学的観察方法 |
| JP2006292487A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
| JP2007294051A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | ホログラム再生波面補正方法および装置 |
| JP2008506144A (ja) * | 2004-07-09 | 2008-02-28 | チップマン テクノロジーズ オイ | 顕微鏡用照明システム |
| JP2008111726A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-05-15 | Olympus Corp | 3次元位相計測方法とそれに使われる微分干渉顕微鏡 |
| JP2009288005A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Asml Netherlands Bv | 検査方法および装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セルおよびデバイス製造方法 |
| US7852459B2 (en) | 2007-02-02 | 2010-12-14 | Asml Netherlands B.V. | Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method |
| JPWO2010021090A1 (ja) * | 2008-08-20 | 2012-01-26 | パナソニック株式会社 | 距離推定装置、距離推定方法、プログラム、集積回路およびカメラ |
| JP2012060131A (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Asml Netherlands Bv | アライメント測定システム、リソグラフィ装置、およびリソグラフィ装置においてのアライメントを決定する方法 |
| JP2014081199A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Yokogawa Electric Corp | 分光器を利用した変位センサ、分光特性測定装置、色測定装置、面状測定対象物品質監視装置、変位測定方法、分光特性測定方法および色測定方法 |
| JP2015061020A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
| CN119833421A (zh) * | 2024-12-05 | 2025-04-15 | 深圳中科飞测科技股份有限公司 | 大尺寸晶圆形貌测量装置及测量方法 |
-
2001
- 2001-05-29 JP JP2001161187A patent/JP2002350117A/ja not_active Withdrawn
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003075134A (ja) * | 2001-09-04 | 2003-03-12 | Univ Kanazawa | 光干渉を用いた形状測定方法および形状測定装置 |
| JP2005010296A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-01-13 | Olympus Corp | 蛍光顕微鏡 |
| JP2005218379A (ja) * | 2004-02-06 | 2005-08-18 | Olympus Corp | 培養細胞の状態計測方法及び計測装置 |
| JP2005309415A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-11-04 | Olympus Corp | 光学顕微鏡と光学的観察方法 |
| JP2008506144A (ja) * | 2004-07-09 | 2008-02-28 | チップマン テクノロジーズ オイ | 顕微鏡用照明システム |
| JP2006292487A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
| JP2007294051A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | ホログラム再生波面補正方法および装置 |
| JP2008111726A (ja) * | 2006-10-30 | 2008-05-15 | Olympus Corp | 3次元位相計測方法とそれに使われる微分干渉顕微鏡 |
| US7852459B2 (en) | 2007-02-02 | 2010-12-14 | Asml Netherlands B.V. | Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method |
| JP2009288005A (ja) * | 2008-05-28 | 2009-12-10 | Asml Netherlands Bv | 検査方法および装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セルおよびデバイス製造方法 |
| JPWO2010021090A1 (ja) * | 2008-08-20 | 2012-01-26 | パナソニック株式会社 | 距離推定装置、距離推定方法、プログラム、集積回路およびカメラ |
| JP2012060131A (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Asml Netherlands Bv | アライメント測定システム、リソグラフィ装置、およびリソグラフィ装置においてのアライメントを決定する方法 |
| JP2014132695A (ja) * | 2010-09-13 | 2014-07-17 | Asml Netherlands Bv | アライメント測定システム、リソグラフィ装置、およびリソグラフィ装置においてのアライメントを決定する方法 |
| US9046385B2 (en) | 2010-09-13 | 2015-06-02 | Asml Netherlands B.V. | Alignment measurement system, lithographic apparatus, and a method to determine alignment in a lithographic apparatus |
| US9280057B2 (en) | 2010-09-13 | 2016-03-08 | Asml Netherlands B.V. | Alignment measurement system, lithographic apparatus, and a method to determine alignment of in a lithographic apparatus |
| JP2014081199A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Yokogawa Electric Corp | 分光器を利用した変位センサ、分光特性測定装置、色測定装置、面状測定対象物品質監視装置、変位測定方法、分光特性測定方法および色測定方法 |
| JP2015061020A (ja) * | 2013-09-20 | 2015-03-30 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
| CN119833421A (zh) * | 2024-12-05 | 2025-04-15 | 深圳中科飞测科技股份有限公司 | 大尺寸晶圆形貌测量装置及测量方法 |
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|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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