JP2002348651A - Ｍｇ含有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法及び製造装置 - Google Patents
Ｍｇ含有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法及び製造装置Info
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- JP2002348651A JP2002348651A JP2001152368A JP2001152368A JP2002348651A JP 2002348651 A JP2002348651 A JP 2002348651A JP 2001152368 A JP2001152368 A JP 2001152368A JP 2001152368 A JP2001152368 A JP 2001152368A JP 2002348651 A JP2002348651 A JP 2002348651A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】Ｍｇ含有溶融亜鉛基めっきにおけるめっき浴上
のガスシール及びガスワイピングに要するガスコストの
低減およびガス供給装置の簡素化。 【解決手段】シールガス及びワイピングガスとして、圧
縮空気から酸素を吸着除去するＰＳＡ方式の窒素ガス製
造法により得られる低純度窒素ガスを使用する。ワイピ
ングガスの酸素濃度は１ｐｐｍ以下、シールガスの酸素
濃度は８ｐｐｍ以下であることが好ましい。低純度窒素
ガスは、空気圧縮機（１１）、空気タンク（１２）、圧
縮空気から酸素を吸着除去する吸着塔（１３）を有する
低純度窒素ガス供給装置からバッファタンク（１４）を
介して溶融めっき装置部のガスワイピング装置（３）及
びシールボックス（４）に供給される。
のガスシール及びガスワイピングに要するガスコストの
低減およびガス供給装置の簡素化。 【解決手段】シールガス及びワイピングガスとして、圧
縮空気から酸素を吸着除去するＰＳＡ方式の窒素ガス製
造法により得られる低純度窒素ガスを使用する。ワイピ
ングガスの酸素濃度は１ｐｐｍ以下、シールガスの酸素
濃度は８ｐｐｍ以下であることが好ましい。低純度窒素
ガスは、空気圧縮機（１１）、空気タンク（１２）、圧
縮空気から酸素を吸着除去する吸着塔（１３）を有する
低純度窒素ガス供給装置からバッファタンク（１４）を
介して溶融めっき装置部のガスワイピング装置（３）及
びシールボックス（４）に供給される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｍｇ含有溶融亜鉛
基めっき鋼板の製造方法及び装置に係り、詳しくは溶融
めっき浴上のシールガス及びワイピングガスとして、安
価な窒素ガスを使用しつつ、この成分系のめっき鋼板に
特有の表面欠陥である縞模様の発生を抑制防止し健全な
表面品質を確保し得るようにしたものである。
基めっき鋼板の製造方法及び装置に係り、詳しくは溶融
めっき浴上のシールガス及びワイピングガスとして、安
価な窒素ガスを使用しつつ、この成分系のめっき鋼板に
特有の表面欠陥である縞模様の発生を抑制防止し健全な
表面品質を確保し得るようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は、連続溶融めっきラインにおい
て、鋼帯（Ｓ）を溶融めっき浴（１）に導入し、浴中ロ
ール（２）を介して垂直上方に連続的に引上げる状態を
示している。（３）は鋼帯表面の溶融めっき層厚（めっ
き目付け量）を調整するガスワイピング装置、（４）は
溶融めっき層を大気雰囲気から隔離するためのシールボ
ックスである。鋼帯の溶融めっき層は、ガスワイピング
装置（３）のノズルから吹付けられるワイピングガスの
吹拭作用により所定のめっき層厚に調整される。
て、鋼帯（Ｓ）を溶融めっき浴（１）に導入し、浴中ロ
ール（２）を介して垂直上方に連続的に引上げる状態を
示している。（３）は鋼帯表面の溶融めっき層厚（めっ
き目付け量）を調整するガスワイピング装置、（４）は
溶融めっき層を大気雰囲気から隔離するためのシールボ
ックスである。鋼帯の溶融めっき層は、ガスワイピング
装置（３）のノズルから吹付けられるワイピングガスの
吹拭作用により所定のめっき層厚に調整される。
【０００３】溶融Ｚｎめっきや溶融Ａｌめっきでは、ワ
イピングガスとして通常空気が使用され、シールボック
ス（４）も必要としないのに対し、Ｍｇ含有溶融亜鉛め
っきにおいては窒素ガスを使用することを要する。空気
によるワイピングを行なうと、溶融めっき層の表面にＭ
ｇ含有酸化皮膜が生成し、その皮膜生成に起因してめっ
き層表面に縞模様（板幅方向に帯状に延在する比較的広
幅の筋が間隔をおいて鋼帯の長手方向に多数発生）が現
れ、製品の表面品質が著しく損なわれるからである。
イピングガスとして通常空気が使用され、シールボック
ス（４）も必要としないのに対し、Ｍｇ含有溶融亜鉛め
っきにおいては窒素ガスを使用することを要する。空気
によるワイピングを行なうと、溶融めっき層の表面にＭ
ｇ含有酸化皮膜が生成し、その皮膜生成に起因してめっ
き層表面に縞模様（板幅方向に帯状に延在する比較的広
幅の筋が間隔をおいて鋼帯の長手方向に多数発生）が現
れ、製品の表面品質が著しく損なわれるからである。
【０００４】上記の縞模様は、通常の溶融Ｚｎめっき、
Ｚｎ-Ａｌめっき、Ａｌめっき等では見られないＭｇ含
有溶融亜鉛基めっき特有の現象である。このためＭｇ含
有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造では、ワイピングガスに
窒素ガスを使用すると共に、ガスワイピング装置（３）
の周囲にシールボックス（４）を設け窒素ガス雰囲気を
形成することにより、溶融めっき層の表面酸化（Ｍｇ含
有酸化皮膜の生成）とそれに伴う縞模様の発生を抑制防
止しているのである。
Ｚｎ-Ａｌめっき、Ａｌめっき等では見られないＭｇ含
有溶融亜鉛基めっき特有の現象である。このためＭｇ含
有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造では、ワイピングガスに
窒素ガスを使用すると共に、ガスワイピング装置（３）
の周囲にシールボックス（４）を設け窒素ガス雰囲気を
形成することにより、溶融めっき層の表面酸化（Ｍｇ含
有酸化皮膜の生成）とそれに伴う縞模様の発生を抑制防
止しているのである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このようにＭｇ含有溶
融亜鉛基めっき操業ではワイピングガス、シールガスと
して窒素ガスを必要とするが、その窒素ガスは高純度で
ある必要はなく、低純度の窒素ガス、例えばワイピング
ガスとして酸素濃度約５vol％以下の窒素ガス、シール
ガスとして酸素濃度約８vol%以下の窒素ガスを適用して
表面欠陥（縞模様）を抑制防止し得ることが知られてい
る（特開平11-140615号公報）。
融亜鉛基めっき操業ではワイピングガス、シールガスと
して窒素ガスを必要とするが、その窒素ガスは高純度で
ある必要はなく、低純度の窒素ガス、例えばワイピング
ガスとして酸素濃度約５vol％以下の窒素ガス、シール
ガスとして酸素濃度約８vol%以下の窒素ガスを適用して
表面欠陥（縞模様）を抑制防止し得ることが知られてい
る（特開平11-140615号公報）。
【０００６】しかし、一般に入手し得る窒素ガスは高純
度であり、例えば深冷分離法、ＣＥ（Cold Evaporatio
n）法、あるいはＰＳＡ（Pressure Swing Absorptio
n）方式の酸素吸着工程と脱酸反応工程からなる製造法
等により得られる窒素ガスは、純度約９９．９９９vol
％（酸素濃度≦約0.0001vol％）と、上記めっき操業に
必要な純度よりはるかに高い。このような高純度窒素ガ
スを使用することは経済的に著しく無駄である。本発明
は、ワイピングガス、シールガスとして、安価な低純度
窒素ガスを用いて表面品質を十分に保証することができ
るＭｇ含有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法及び製造装
置を提供するものである。
度であり、例えば深冷分離法、ＣＥ（Cold Evaporatio
n）法、あるいはＰＳＡ（Pressure Swing Absorptio
n）方式の酸素吸着工程と脱酸反応工程からなる製造法
等により得られる窒素ガスは、純度約９９．９９９vol
％（酸素濃度≦約0.0001vol％）と、上記めっき操業に
必要な純度よりはるかに高い。このような高純度窒素ガ
スを使用することは経済的に著しく無駄である。本発明
は、ワイピングガス、シールガスとして、安価な低純度
窒素ガスを用いて表面品質を十分に保証することができ
るＭｇ含有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法及び製造装
置を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｍｇ含有亜鉛
基めっき浴に鋼帯を連続的に導入し、めっき浴から連続
的に引上げられる鋼帯の溶融めっき層表面をシールガス
で大気雰囲気から隔離すると共に、溶融めっき層表面に
ワイピングガスを吹付けてめっき層厚を調整する溶融亜
鉛基めっき鋼板の製造方法において、ワイピングガス及
びシールガスとして、圧縮空気から酸素を吸着除去する
ＰＳＡ（Pressure Swing Absorption）方式の窒素ガ
ス製造法により得られる低純度窒素ガスを使用すること
を特徴としている。
基めっき浴に鋼帯を連続的に導入し、めっき浴から連続
的に引上げられる鋼帯の溶融めっき層表面をシールガス
で大気雰囲気から隔離すると共に、溶融めっき層表面に
ワイピングガスを吹付けてめっき層厚を調整する溶融亜
鉛基めっき鋼板の製造方法において、ワイピングガス及
びシールガスとして、圧縮空気から酸素を吸着除去する
ＰＳＡ（Pressure Swing Absorption）方式の窒素ガ
ス製造法により得られる低純度窒素ガスを使用すること
を特徴としている。
【０００８】ＰＳＡ方式による窒素ガスの製造法は、圧
縮した空気を吸着塔に導入し、圧力・温度の制御条件下
に酸素を吸着除去して低純度窒素ガスを得る第一段の工
程と、第一段工程で生成した低純度窒素ガスを脱酸塔に
導入し、触媒の存在下に低純度窒素ガス中の酸素を水素
と反応させて水に変換し、生成した水分をドライヤーで
乾燥除去する第二段の工程とからなる。本発明は、第二
段の工程（脱酸反応工程）を省略し、第一段の工程（酸
素吸着除去工程）で得られる低純度窒素ガスをワイピン
グガス及びシールガスとして使用するものである。
縮した空気を吸着塔に導入し、圧力・温度の制御条件下
に酸素を吸着除去して低純度窒素ガスを得る第一段の工
程と、第一段工程で生成した低純度窒素ガスを脱酸塔に
導入し、触媒の存在下に低純度窒素ガス中の酸素を水素
と反応させて水に変換し、生成した水分をドライヤーで
乾燥除去する第二段の工程とからなる。本発明は、第二
段の工程（脱酸反応工程）を省略し、第一段の工程（酸
素吸着除去工程）で得られる低純度窒素ガスをワイピン
グガス及びシールガスとして使用するものである。
【０００９】第一段の処理工程で生成する低純度窒素ガ
スは、一般的には純度約９０vol％超、酸素濃度約１〜
８vol％であり、吸着処理条件によりこの範囲内で任意
の純度・酸素濃度に調整することができる。従ってＭｇ
含有溶融亜鉛基めっきのワイピングガス等として要求さ
れる純度・酸素濃度に調整された低純度窒素ガスを得る
ことは容易である。低純度窒素ガスは、第一・第二の工
程を経由して製造される高純度窒素ガスに比し、第二段
工程が省略されていることにより、ワイピングガス、シ
ールガスとして極めて安価に供給することができる。な
お、低純度窒素ガス中の水素濃度は約３vol％（爆発限
界）以下、ＣＯガス濃度は約５０ｐｐｍ以下（作業環
境）、露点（DP）は約５℃以下（結露防止）であること
が望ましいが、これらは上記第一段工程の処理により容
易かつ十分に充足される。
スは、一般的には純度約９０vol％超、酸素濃度約１〜
８vol％であり、吸着処理条件によりこの範囲内で任意
の純度・酸素濃度に調整することができる。従ってＭｇ
含有溶融亜鉛基めっきのワイピングガス等として要求さ
れる純度・酸素濃度に調整された低純度窒素ガスを得る
ことは容易である。低純度窒素ガスは、第一・第二の工
程を経由して製造される高純度窒素ガスに比し、第二段
工程が省略されていることにより、ワイピングガス、シ
ールガスとして極めて安価に供給することができる。な
お、低純度窒素ガス中の水素濃度は約３vol％（爆発限
界）以下、ＣＯガス濃度は約５０ｐｐｍ以下（作業環
境）、露点（DP）は約５℃以下（結露防止）であること
が望ましいが、これらは上記第一段工程の処理により容
易かつ十分に充足される。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は、ＰＳＡ方式の低純度窒素
ガス供給装置（１０）と連続溶融めっき装置部とを連結
し、低純度窒素ガスをガスワイピング装置（３）及びシ
ールボックス（４）に供給するようにした装置構成の例
を示している。１１は空気圧縮機、１２は圧縮空気タン
ク、１３は吸着塔である。吸着塔（１３）は切替え運転
可能なように２基を並列設置している。１４は、低純度
窒素ガス供給装置（１０）と溶融めっきライン側のガス
ワイピング装置（３）及びシールボックス（４）との間
の圧力変動を吸収するバッファタンクである。低純度窒
素ガスは供給装置（１０）からバファタンク（１４）を
介して適時、連続的に又は断続してガスワイピング装置
（３）及びシールボックス（４）に供給される。
ガス供給装置（１０）と連続溶融めっき装置部とを連結
し、低純度窒素ガスをガスワイピング装置（３）及びシ
ールボックス（４）に供給するようにした装置構成の例
を示している。１１は空気圧縮機、１２は圧縮空気タン
ク、１３は吸着塔である。吸着塔（１３）は切替え運転
可能なように２基を並列設置している。１４は、低純度
窒素ガス供給装置（１０）と溶融めっきライン側のガス
ワイピング装置（３）及びシールボックス（４）との間
の圧力変動を吸収するバッファタンクである。低純度窒
素ガスは供給装置（１０）からバファタンク（１４）を
介して適時、連続的に又は断続してガスワイピング装置
（３）及びシールボックス（４）に供給される。
【００１１】ワイピングガスとして使用される低純度窒
素ガスの酸素濃度の許容上限は、めっきラインの操業条
件により異なる。例えばラインスピードが高速であるほ
ど、めっき層とガスの接触時間は短くなるので、比較的
高い酸素濃度を許容され、他方ガスの吹付け圧力・流量
が高く設定される場合は、めっき層に対する接触ガス量
が多くなるため、より低い酸素濃度が必要となる。また
めっき目付量が厚くなるに伴い縞模様の発生傾向が顕著
化するので、厚目付であるほど、より低い酸素濃度が要
求され、薄目付の場合はそれだけ許容上限が弛められ
る。
素ガスの酸素濃度の許容上限は、めっきラインの操業条
件により異なる。例えばラインスピードが高速であるほ
ど、めっき層とガスの接触時間は短くなるので、比較的
高い酸素濃度を許容され、他方ガスの吹付け圧力・流量
が高く設定される場合は、めっき層に対する接触ガス量
が多くなるため、より低い酸素濃度が必要となる。また
めっき目付量が厚くなるに伴い縞模様の発生傾向が顕著
化するので、厚目付であるほど、より低い酸素濃度が要
求され、薄目付の場合はそれだけ許容上限が弛められ
る。
【００１２】図２は、その一例として、低純度窒素ガス
の酸素濃度（vol％）とめっき目付量（ｇ/ｍ２片面）と
に対する、表面品質の良否（縞模様の有無）の関係を示
している（但し、ライン速度:60ｍ/min、ガス圧力・流
量:0.01MPa・1400Nm３/hr、シールガス:酸素濃度８vol
％の低純度窒素ガス）。図中のマークは縞模様の発生度
合いについて、〇は「極く軽微」、△は「中程度」、×
は「顕著」の各評価を意味している。グラフの下側領域
Ａは健全な表面品質が確保される領域であり、上側領域
Ｂは縞模様発生領域である。
の酸素濃度（vol％）とめっき目付量（ｇ/ｍ２片面）と
に対する、表面品質の良否（縞模様の有無）の関係を示
している（但し、ライン速度:60ｍ/min、ガス圧力・流
量:0.01MPa・1400Nm３/hr、シールガス:酸素濃度８vol
％の低純度窒素ガス）。図中のマークは縞模様の発生度
合いについて、〇は「極く軽微」、△は「中程度」、×
は「顕著」の各評価を意味している。グラフの下側領域
Ａは健全な表面品質が確保される領域であり、上側領域
Ｂは縞模様発生領域である。
【００１３】図示のようにこの例においては、例えばめ
っき目付量が約１８０ｇ/ｍ２(片面)のめっき鋼板を製
造する場合、酸素濃度約１vol%以下の低純度窒素ガスを
使用し、目付量が約７５ｇ/ｍ２(片面)である場合は、
酸素濃度約５．５vol％以下の低純度窒素ガスを使用す
ることによりそれぞれ健全な表面品質が確保される。
っき目付量が約１８０ｇ/ｍ２(片面)のめっき鋼板を製
造する場合、酸素濃度約１vol%以下の低純度窒素ガスを
使用し、目付量が約７５ｇ/ｍ２(片面)である場合は、
酸素濃度約５．５vol％以下の低純度窒素ガスを使用す
ることによりそれぞれ健全な表面品質が確保される。
【００１４】連続溶融めっきラインの実操業は、製品め
っき鋼板の用途・要求特性等に応じた種々の操業条件下
に行なわれ操業条件の設定内容は多岐にわたる。本発明
者等の詳細な実験によれば、ワイピングガスとしての低
純度窒素ガスは、酸素濃度約１vol％以下であれば、広
範囲の操業条件（例えば、ライン速度:４０〜１５０ｍ/
ｍｉｎ,めっき目付量:９０〜２００ｇ/ｍ２(片面)，ワ
イピングガス圧力・流量:０．０１〜０．０３ＭＰａ・
９００〜３０００Ｎｍ３/ｈｒ）において、実質的に縞
模様を付随しない健全な表面品質を保証し得ることが確
認されている。
っき鋼板の用途・要求特性等に応じた種々の操業条件下
に行なわれ操業条件の設定内容は多岐にわたる。本発明
者等の詳細な実験によれば、ワイピングガスとしての低
純度窒素ガスは、酸素濃度約１vol％以下であれば、広
範囲の操業条件（例えば、ライン速度:４０〜１５０ｍ/
ｍｉｎ,めっき目付量:９０〜２００ｇ/ｍ２(片面)，ワ
イピングガス圧力・流量:０．０１〜０．０３ＭＰａ・
９００〜３０００Ｎｍ３/ｈｒ）において、実質的に縞
模様を付随しない健全な表面品質を保証し得ることが確
認されている。
【００１５】もっとも、低純度窒素ガスに要求される酸
素濃度レベル（許容上限濃度）は前述のように操業条件
により異なるのであるから、個々の具体的な操業条件に
対応する酸素濃度レベルに調整された低純度窒素ガスを
使用するようにすれば、ガスコストを可及的に削減しつ
つ要求される表面品質を確保することができ合理的であ
る。例えば、供給装置（Ａ）から送給される低純度窒素
ガスが、その時のめっき操業に要求される酸素濃度を下
回るものである場合は、要求される酸素濃度レベルを損
なわない範囲内で空気を混合してガスワイピング装置に
導入すればよく、このようなエアーミキシングを適宜実
施することにより、ガスコストをより一層削減すること
ができる。
素濃度レベル（許容上限濃度）は前述のように操業条件
により異なるのであるから、個々の具体的な操業条件に
対応する酸素濃度レベルに調整された低純度窒素ガスを
使用するようにすれば、ガスコストを可及的に削減しつ
つ要求される表面品質を確保することができ合理的であ
る。例えば、供給装置（Ａ）から送給される低純度窒素
ガスが、その時のめっき操業に要求される酸素濃度を下
回るものである場合は、要求される酸素濃度レベルを損
なわない範囲内で空気を混合してガスワイピング装置に
導入すればよく、このようなエアーミキシングを適宜実
施することにより、ガスコストをより一層削減すること
ができる。
【００１６】シールガスとして使用される低純度窒素ガ
スについては、ワイピングガスに比し、溶融めっき層の
表面品質に及ぼす影響度は少なく、このためシールガス
の酸素濃度の許容上限は、前記ワイピングガスのそれよ
り弛やかであり、約８vol%以下の酸素濃度レベルであれ
ば、表面品質を損なわず、広範囲のライン操業条件に対
処し得ることも確認されている。
スについては、ワイピングガスに比し、溶融めっき層の
表面品質に及ぼす影響度は少なく、このためシールガス
の酸素濃度の許容上限は、前記ワイピングガスのそれよ
り弛やかであり、約８vol%以下の酸素濃度レベルであれ
ば、表面品質を損なわず、広範囲のライン操業条件に対
処し得ることも確認されている。
【００１７】このように低純度窒素ガスをワイピングガ
ス及びシールガスとすることにより、Ｍｇ含有溶融亜鉛
基めっき鋼板の製造におけるガスコストは、高純度窒素
ガスを使用している従来に比し顕著に低減される。その
コストは、例えば深冷分離法による窒素ガスを使用する
場合の約１／３〜１／４であり、液体窒素の使用と比較
すると約１／１０以下に低減する。
ス及びシールガスとすることにより、Ｍｇ含有溶融亜鉛
基めっき鋼板の製造におけるガスコストは、高純度窒素
ガスを使用している従来に比し顕著に低減される。その
コストは、例えば深冷分離法による窒素ガスを使用する
場合の約１／３〜１／４であり、液体窒素の使用と比較
すると約１／１０以下に低減する。
【００１８】なお、本発明の対象とするＭｇ含有溶融亜
鉛基めっきは、Ｍｇ含有に起因する溶融めっき層の表面
欠陥（縞模様の発生）が問題となるすべての溶融亜鉛基
めっき鋼板の製造に効果的に適用される。めっき組成
は、典型的にはＡｌ:約３〜１７ｗｔ％，Ｍｇ:約１〜５
ｗｔ％を含有し、残部実質的にＺｎからなる組成が基本
組成とされるが、この他に、めっき品質の改善を目的と
して各種元素を適量添加したもの、例えばＴｉ:約０．
００２〜０．１ｗｔ％，Ｂ:約０．００１〜０．０４５
ｗｔ％等を含有する組成を有するもの等も包含される。
鉛基めっきは、Ｍｇ含有に起因する溶融めっき層の表面
欠陥（縞模様の発生）が問題となるすべての溶融亜鉛基
めっき鋼板の製造に効果的に適用される。めっき組成
は、典型的にはＡｌ:約３〜１７ｗｔ％，Ｍｇ:約１〜５
ｗｔ％を含有し、残部実質的にＺｎからなる組成が基本
組成とされるが、この他に、めっき品質の改善を目的と
して各種元素を適量添加したもの、例えばＴｉ:約０．
００２〜０．１ｗｔ％，Ｂ:約０．００１〜０．０４５
ｗｔ％等を含有する組成を有するもの等も包含される。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、Ｍｇ含有溶融亜鉛基め
っき操業におけるガスワイピングおよびガスシールに必
要なガスコストを大幅に削減することができる。またワ
イピングガス及びシールガスとして使用する低純度窒素
ガスの供給装置は、圧縮空気からの酸素吸着除去装置と
して構成されるので、設備構成が簡素であり設置コスト
・メンテナンス等の負担も大幅に軽減される。
っき操業におけるガスワイピングおよびガスシールに必
要なガスコストを大幅に削減することができる。またワ
イピングガス及びシールガスとして使用する低純度窒素
ガスの供給装置は、圧縮空気からの酸素吸着除去装置と
して構成されるので、設備構成が簡素であり設置コスト
・メンテナンス等の負担も大幅に軽減される。
【図１】本発明による低純度窒素ガスでガスワイピング
およびガスシールを行なう装置構成の例を示す模式的説
明図である。
およびガスシールを行なう装置構成の例を示す模式的説
明図である。
【図２】めっき層の表面品質の良否（縞模様発生度合
い）に対する低純度窒素ガス（ワイピングガス）の酸素
濃度と溶融めっき層の目付量の影響を示すグラフであ
る。
い）に対する低純度窒素ガス（ワイピングガス）の酸素
濃度と溶融めっき層の目付量の影響を示すグラフであ
る。
【図３】連続溶融めっきラインにおける溶融めっき装置
部のガスワイピング装置およびシールボックスの配置構
成を示す図である。
部のガスワイピング装置およびシールボックスの配置構
成を示す図である。
１:溶融めっき浴 ２:浴中ロール ３:ガスワイピング装置 ４:シールボックス １０:低純度窒素ガス供給装置 １１:空気圧縮機 １２:空気タンク １３:吸着塔 １４:バッファタンク Ｓ:鋼帯
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K027 AA02 AA05 AA22 AB14 AB43 AC52 AD09 AD23 AE03 AE33 AE36 AE37
Claims (3)
- 【請求項１】 Ｍｇ含有亜鉛基めっき浴に鋼帯を連続的
に導入し、めっき浴から連続的に引上げられる鋼帯の溶
融めっき層表面をシールガスで大気雰囲気から隔離する
と共に、溶融めっき層表面にワイピングガスを吹付けて
めっき層厚を調整する溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法
において、シールガス及びワイピングガスとして、圧縮
空気から酸素を吸着除去するＰＳＡ方式の窒素ガス製造
法により得られる低純度窒素ガスを使用することを特徴
とするＭｇ含有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法。 - 【請求項２】 ワイピングガスの酸素濃度は１ｐｐｍ以
下、シールガスの酸素濃度は８ｐｐｍ以下である請求項
１に記載のＭｇ含有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法。 - 【請求項３】 Ｍｇ含有溶融亜鉛基めっき浴の浴上に配
置されたガスワイピング装置及びシールボックスに対す
る低純度窒素ガス供給装置として、空気圧縮機および圧
縮空気から酸素を吸着除去する吸着塔を備えたＰＳＡ方
式の低純度窒素ガス製造装置が設置され、バッファタン
クを介してガスワイピング装置及びシールボックスに連
結されていることを特徴とするＭｇ含有溶融亜鉛基めっ
き鋼板の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001152368A JP2002348651A (ja) | 2001-05-22 | 2001-05-22 | Ｍｇ含有溶融亜鉛基めっき鋼板の製造方法及び製造装置 |
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