[go: up one dir, main page]

JP2002343844A - Wafer handling mechanism - Google Patents

Wafer handling mechanism

Info

Publication number
JP2002343844A
JP2002343844A JP2001142090A JP2001142090A JP2002343844A JP 2002343844 A JP2002343844 A JP 2002343844A JP 2001142090 A JP2001142090 A JP 2001142090A JP 2001142090 A JP2001142090 A JP 2001142090A JP 2002343844 A JP2002343844 A JP 2002343844A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
hand
hand member
handling mechanism
processing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001142090A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Ozeki
亮 大関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaijo Corp
Original Assignee
Kaijo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaijo Corp filed Critical Kaijo Corp
Priority to JP2001142090A priority Critical patent/JP2002343844A/en
Publication of JP2002343844A publication Critical patent/JP2002343844A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Manipulator (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wafer handling mechanism for a wafer processing apparatus of the same degree of an installing area and a manufacturing cost as those of a prior art without contaminating the wafer after processing. SOLUTION: The wafer handling mechanism 10 comprises a hand member 11 for placing the wafer to input and output the wafer and an arm member 16 for supporting the hand member to move the member in the wafer processing apparatus for processing the wafers 30, 31 such as silicon wafers or the like. The hand member has a first hand 11a for placing the forked wafer and a second hand 11b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンウェーハ
等のウェーハを処理するウェーハ処理装置に、前記ウェ
ーハをローディングあるいはアンローディング等、ハン
ドリングするためのウェーハハンドリング機構に関する
ものである。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a wafer handling mechanism for handling a wafer such as a silicon wafer by loading or unloading the wafer in a wafer processing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】メモリー等の半導体装置の製造に用いら
れるシリコンウェーハ等のウェーハは、各種のウェーハ
処理装置により処理される。前記ウェーハ処理装置は、
クリーンルーム内に設置され、且つ作業者からの発塵に
よりウェーハが汚染されるのを防止するために、ウェー
ハを自動で取り扱う自動機として構成されている。例え
ば、前記ウェーハ処理装置内にウェーハをローディング
あるいはウェーハ処理装置内のウェーハを装置外へアン
ローディングするために、図2に示すようなウェーハ3
0を載置するハンド部材21と、ハンド部材21を支持
して移動させる腕部材22とを備えたウェーハハンドリ
ング機構20が用いられている。
2. Description of the Related Art A wafer such as a silicon wafer used for manufacturing a semiconductor device such as a memory is processed by various wafer processing apparatuses. The wafer processing apparatus,
It is installed in a clean room, and is configured as an automatic machine that automatically handles wafers in order to prevent contamination of wafers by dust from workers. For example, in order to load a wafer in the wafer processing apparatus or unload a wafer in the wafer processing apparatus outside the apparatus, a wafer 3 as shown in FIG.
A wafer handling mechanism 20 including a hand member 21 on which the hand member 21 is placed and an arm member 22 for supporting and moving the hand member 21 is used.

【0003】搬送経路から搬送されてきたウェーハ搬送
容器内に収納されたウェーハ30をハンド部材21に載
置して取り出した後、図中で90°反時計回りに腕部材
21と共にハンド部材21が回転して、ウェーハ30を
ウェーハ処理装置内にローディングする。また、ウェー
ハ処理装置内の処理されたウェーハ30をハンド部材2
1に載置した後、腕部材22と共にハンド部材21が9
0°時計回りに回転して、ウェーハ30を装置外にアン
ローディングして処理後のウェーハを搬送するウェーハ
搬送容器内に収納した後、該ウェーハ搬送容器は内部に
ウェーハ30を収納したまま、搬送経路を通って次ぎの
ウェーハ処理装置へ搬送される。
After the wafer 30 stored in the wafer transfer container transferred from the transfer path is placed on the hand member 21 and taken out, the hand member 21 and the arm member 21 are rotated counterclockwise by 90 ° in the figure. By rotating, the wafer 30 is loaded into the wafer processing apparatus. Further, the processed wafer 30 in the wafer processing apparatus is transferred to the hand member 2.
After being placed on 1, the hand member 21 together with the arm member 22
After rotating the wafer 30 clockwise, unloading the wafer 30 out of the apparatus and storing it in the wafer transfer container for transferring the processed wafer, the wafer transfer container transfers the wafer 30 with the wafer 30 stored therein. The wafer is transferred to the next wafer processing apparatus through the route.

【0004】尚、従来のウェーハ処理装置においては、
ウェーハのローディング及びアンローディング用に、同
一のハンド部材21を用いてウェーハをハンドリングす
るウェーハハンドリング機構20が用いられている。
[0004] In a conventional wafer processing apparatus,
For loading and unloading a wafer, a wafer handling mechanism 20 that handles the wafer using the same hand member 21 is used.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のウェーハをハンドリングするウェーハハンドリング
機構では、搬送されてきたウェーハをハンドリングした
ハンド部材で、前記ウェーハ処理装置内で処理されたウ
ェーハをハンドリングするため、処理前のウェーハに付
着していたゴミ等がハンド部材に付着し、そして前記ゴ
ミ等が処理後のウェーハに付着してウェーハを汚染する
という問題点があった。
However, in the conventional wafer handling mechanism for handling a wafer, a hand member for handling a transferred wafer is used for handling a wafer processed in the wafer processing apparatus. There is a problem that dust and the like that have adhered to the wafer before processing adhere to the hand member, and the dust and the like adhere to the wafer after processing and contaminate the wafer.

【0006】また、前記ウェーハ処理装置で処理前のウ
ェーハをハンドリングするハンド部材を有するウェーハ
ハンドリング機構と、処理後のウェーハをハンドリング
するハンド部材を有するウェーハハンドリング機構とを
別々に備えれば、前記ウェーハ汚染の問題は回避できる
が、2組のウェーハハンドリング機構を備えると、従来
よりも広い設置面積が必要であり、且つその製造コスト
は高いという問題点があった。
Further, if the wafer processing apparatus is provided with a wafer handling mechanism having a hand member for handling a wafer before processing and a wafer handling mechanism having a hand member for handling a processed wafer, The problem of contamination can be avoided, but if two sets of wafer handling mechanisms are provided, there is a problem that a larger installation area is required than before and the manufacturing cost is high.

【0007】本発明は前記問題点を解決するためになさ
れたもので、処理後のウェーハを汚染することがなく、
設置面積及び製造コストが従来と同程度であるウェーハ
ハンドリング機構を提供することである。
The present invention has been made to solve the above problems, and does not contaminate a processed wafer.
An object of the present invention is to provide a wafer handling mechanism having an installation area and a manufacturing cost which are almost the same as those in the related art.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、シリコンウェ
ーハ等のウェーハを処理するウェーハ処理装置に、前記
ウェーハを出し入れするための前記ウェーハを載置する
ハンド部材と、前記ハンド部材を支持して移動する腕部
材とを備えたウェーハハンドリング機構であって、前記
ハンド部材が、二股に分かれた前記ウェーハを載置する
第1のハンド部と第2のハンド部とを有する構成である
ものである。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, there is provided a wafer processing apparatus for processing a wafer such as a silicon wafer, a hand member for mounting the wafer for taking in and out the wafer, and a hand member supporting the hand member. A wafer handling mechanism including a moving arm member, wherein the hand member has a first hand portion and a second hand portion for mounting the bifurcated wafer. .

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
一実施形態について説明する。図1は、本発明によるウ
ェーハハンドリング機構の実施形態を示す平面図であ
る。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a wafer handling mechanism according to the present invention.

【0010】図1に示すように、本発明の実施形態のウ
ェーハハンドリング機構10は、シリコンウェーハ等の
ウェーハ30、31を処理するウェーハ処理装置(図示
せず)に、ウェーハ30、31を出し入れするためのウ
ェーハ30、31を載置するハンド部材11と、ハンド
部材11を支持して移動する腕部材16とを備えたウェ
ーハハンドリング機構であって、ハンド部材11が、二
股に分かれたウェーハ30、31を載置する第1のハン
ド部11aと第2のハンド部11bとを有する構成であ
るものである。
As shown in FIG. 1, a wafer handling mechanism 10 according to an embodiment of the present invention moves wafers 30, 31 into and out of a wafer processing apparatus (not shown) for processing wafers 30, 31 such as silicon wafers. A wafer handling mechanism comprising a hand member 11 on which wafers 30 and 31 are placed, and an arm member 16 that supports and moves the hand member 11, wherein the hand member 11 has a bifurcated wafer 30, This is a configuration having a first hand unit 11a and a second hand unit 11b on which the base 31 is placed.

【0011】尚、本実施形態では、前記二股に分かれた
形態として、第1のハンド部11aと第2のハンド部1
1bが、それぞれウェーハ30、31を載置する側を先
端13、14側として、先端13、14側が所定角度、
ここでは90°、開いたL字状に設けられている。
In this embodiment, the first and second hand parts 11a and 11a are divided into two parts.
1b, the side on which the wafers 30 and 31 are mounted is the tip 13, 14 side, the tip 13, 14 side is a predetermined angle,
Here, it is provided in an L-shape that is open at 90 °.

【0012】また、第1のハンド部11aと第2のハン
ド部11bは、所定角度に設定されて一体で形成されて
いてもよいし、別部材で構成され組み合わされていても
よい。また、別部材で構成された第1のハンド部11a
と第2のハンド部11bの前記所定角度が任意に設定可
能であってもよい。また、前記L字状以外に、U字状に
前記のような2組のハンド部を有する構成、3組以上の
ハンド部を有する構成などでもよい。
The first hand portion 11a and the second hand portion 11b may be formed integrally with each other at a predetermined angle, or may be formed as separate members and combined. Also, a first hand portion 11a formed of a separate member
And the predetermined angle of the second hand portion 11b may be arbitrarily settable. Further, in addition to the L-shape, a configuration having two sets of hand parts as described above in a U-shape and a configuration having three or more sets of hand parts may be used.

【0013】ウェーハハンドリング機構10は、例え
ば、基台15に回転可能に腕部16aの一端部が取り付
けられ、腕部16aの他端部に取り付けられた腕部16
bにハンド部材11が回転可能に取り付けられた構成の
ものである。腕部16a、16bは、別部材で構成され
組み合わされたものでもよく、一体で形成されたもので
もよい。尚、腕部の構成数、形状などは適宜選択して設
けられればよい。
The wafer handling mechanism 10 has, for example, one end of an arm 16a rotatably attached to a base 15, and an arm 16 attached to the other end of the arm 16a.
b, the hand member 11 is rotatably mounted. The arms 16a and 16b may be composed of separate members and combined, or may be formed integrally. The number and shape of the arms may be appropriately selected and provided.

【0014】ハンド部材11は、腕部16bに対して必
要に応じて、軸17で設定角度回転して固定されるよう
に構成されている。また、第1のハンド部11aと第2
のハンド部11bは、載置するウェーハ30、31を真
空吸着により吸着固定する等のウェーハ固定機能を備え
ていてもよい。また、ハンド部材11及び/又は腕部材
16は、水平状態で上下動可能に設けられている。
The hand member 11 is configured to be rotated by a predetermined angle about a shaft 17 and fixed to the arm 16b as required. Also, the first hand unit 11a and the second hand unit 11a
The hand part 11b may have a wafer fixing function such as suction-fixing the wafers 30 and 31 to be placed by vacuum suction. Further, the hand member 11 and / or the arm member 16 are provided to be able to move up and down in a horizontal state.

【0015】尚、ハンド部材11が腕部16bに対して
回転せず、腕部16a及び/又は腕部16bにより必要
な回転角度回転して、処理前と処理後のウェーハをハン
ドリングするようにしてもよい。即ち、ハンド部材11
及び/又は腕部材16の回転により、第1のハンド部1
1aと第2のハンド部11bにより、処理前と処理後の
ウェーハを別々にハンドリングできるように構成すれば
よい。
Note that the hand member 11 does not rotate with respect to the arm 16b, but rotates by a necessary rotation angle by the arm 16a and / or the arm 16b so as to handle the wafer before and after processing. Is also good. That is, the hand member 11
And / or rotation of the arm member 16 causes the first hand unit 1
The wafer 1a and the second hand unit 11b may be configured to handle wafers before and after processing separately.

【0016】次に、ウェーハハンドリング機構10によ
るウェーハのハンドリングについて説明する。ウェーハ
搬送容器(図示せず)に収納されて搬送経路を搬送さ
れ、処理を施す面と反対側の面を下にし、前記ウェーハ
搬送容器内の支持棚に載置されているウェーハ30の下
に第1のハンド部11aを挿入した後、第1のハンド部
11aを水平状態で少し上昇させて、前記支持棚からウ
ェーハ30を少し浮かせて取り出せるようにする。
Next, wafer handling by the wafer handling mechanism 10 will be described. The wafer is stored in a wafer transfer container (not shown) and transferred along a transfer path, with the surface opposite to the surface to be processed facing down, under the wafer 30 placed on a support shelf in the wafer transfer container. After inserting the first hand unit 11a, the first hand unit 11a is slightly raised in a horizontal state so that the wafer 30 can be slightly lifted out of the support shelf and taken out.

【0017】次に、腕部16aを、例えば、軸18で9
0°反時計回りに回転して、前記ウェーハ搬送容器から
取り出した後、ウェーハ30を前記ウェーハ処理装置の
処理槽等にローディングする。ローディングの形態は、
前記ウェーハ処理装置に適合したものである。
Next, the arm 16a is moved 9
After being rotated counterclockwise by 0 ° and taken out of the wafer transfer container, the wafer 30 is loaded into a processing tank or the like of the wafer processing apparatus. The form of loading is
It is suitable for the wafer processing apparatus.

【0018】前記ウェーハ処理装置から処理されたウェ
ーハ31をアンローディングする時は、腕部16bに対
して、ハンド部材11を軸17で90°反時計回りに回
転して、第2のハンド部11bの先端14を前記ウェー
ハ処理装置内のウェーハ31側に向ける。ウェーハ31
の下に第2のハンド部11bを挿入した後、第2のハン
ド部11bを水平状態で少し上昇させ、ウェーハ31を
第2のハンド部11b上に載置した後、腕部16aを軸
18で時計回りに90°回転してウェーハ31を移動
し、処理後のウェーハ31を搬送するウェーハ搬送容器
内の支持棚上にウェーハ31を載置する。
When the wafer 31 processed by the wafer processing apparatus is to be unloaded, the hand member 11 is rotated counterclockwise by 90 ° around the arm 17b with respect to the arm 16b to rotate the second hand unit 11b. Is directed toward the wafer 31 in the wafer processing apparatus. Wafer 31
After the second hand 11b is inserted under the second hand 11b, the second hand 11b is slightly raised in a horizontal state, and the wafer 31 is placed on the second hand 11b. The wafer 31 is rotated clockwise by 90 ° to move the wafer 31, and the wafer 31 is placed on a support shelf in a wafer transfer container for transferring the processed wafer 31.

【0019】尚、ウェーハハンドリング機構10は、従
来の、例えば、ウェーハハンドリング機構20のハンド
部材21をハンド部材11に置き換え、ハンド部材11
が前記したように回転して固定されるような機構が備え
られたものでもよい。
The wafer handling mechanism 10 replaces the conventional hand member 21 of the wafer handling mechanism 20 with a hand member 11, for example.
May be provided with a mechanism for rotating and fixing as described above.

【0020】以上示したように、本発明の実施形態のウ
ェーハハンドリング機構10は、ハンド部材11として
2組のハンド部、即ち、第1のハンド部11aと第2の
ハンド部11b、を有しているので、搬送されて来たウ
ェーハとウェーハ処理装置で処理された前記ウェーハを
別々のハンド部でハンドリングできる。また、1組の腕
部16a、16bに2組のハンド部、即ち、第1のハン
ド部11aと第2のハンド部11b、が取り付けられた
構成であるので、その設置面積は従来のウェーハハンド
リング機構の設置面積と同程度である。
As described above, the wafer handling mechanism 10 according to the embodiment of the present invention has two sets of hand units as the hand member 11, that is, the first hand unit 11a and the second hand unit 11b. Therefore, the transferred wafer and the wafer processed by the wafer processing apparatus can be handled by different hand units. Further, since two sets of hand parts, that is, the first hand part 11a and the second hand part 11b are attached to one set of arm parts 16a and 16b, the installation area is the same as the conventional wafer handling. It is about the same as the installation area of the mechanism.

【0021】[0021]

【発明の効果】本発明によれば、搬送されて来た処理前
のウェーハとウェーハ処理装置で処理された処理後の前
記ウェーハを別々のハンド部でハンドリングできるの
で、前記処理後のウェーハの汚染を防止でき、また設置
面積は、従来の場合と同程度であり、且つ製造コストを
従来のものと同程度とすることができるウェーハハンド
リング機構を提供できる。
According to the present invention, the unprocessed wafer that has been transported and the processed wafer that has been processed by the wafer processing apparatus can be handled by separate hand units, so that contamination of the processed wafer can be achieved. Can be prevented, and the installation area can be substantially the same as the conventional case, and the manufacturing cost can be reduced to the same level as the conventional case.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるウェーハハンドリング機構の実施
形態を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a wafer handling mechanism according to the present invention.

【図2】従来のウェーハハンドリング機構の平面図であ
る。
FIG. 2 is a plan view of a conventional wafer handling mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10、20 ウェーハハンドリング機構 11、21 ハンド部材 11a 第1のハンド部 11b 第2のハンド部 13、14 先端 15 基台 16、22 腕部材 16a、16b 腕部 17、18 軸 30、31 ウェーハ 10, 20 Wafer handling mechanism 11, 21 Hand member 11a First hand portion 11b Second hand portion 13, 14 Tip 15 Base 16, 22 Arm member 16a, 16b Arm portion 17, 18 Axis 30, 31 Wafer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シリコンウェーハ等のウェーハを処理す
るウェーハ処理装置に、前記ウェーハを出し入れするた
めの前記ウェーハを載置するハンド部材と、前記ハンド
部材を支持して移動する腕部材とを備えたウェーハハン
ドリング機構であって、 前記ハンド部材が、二股に分かれた前記ウェーハを載置
する第1のハンド部と第2のハンド部とを有する構成で
ある、 ことを特徴とするウェーハハンドリング機構。
1. A wafer processing apparatus for processing a wafer such as a silicon wafer, comprising: a hand member on which the wafer for loading and unloading the wafer is mounted; and an arm member for supporting and moving the hand member. A wafer handling mechanism, wherein the hand member has a first hand portion and a second hand portion on which the bifurcated wafer is placed.
JP2001142090A 2001-05-11 2001-05-11 Wafer handling mechanism Pending JP2002343844A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001142090A JP2002343844A (en) 2001-05-11 2001-05-11 Wafer handling mechanism

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001142090A JP2002343844A (en) 2001-05-11 2001-05-11 Wafer handling mechanism

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002343844A true JP2002343844A (en) 2002-11-29

Family

ID=18988450

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001142090A Pending JP2002343844A (en) 2001-05-11 2001-05-11 Wafer handling mechanism

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002343844A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006013493A (en) * 2004-06-21 2006-01-12 Asml Netherlands Bv Lithography apparatus and device manufacturing method
WO2008155932A1 (en) * 2007-06-19 2008-12-24 Ulvac, Inc. Substrate carrying method
JP2009059741A (en) * 2007-08-30 2009-03-19 Ulvac Japan Ltd Vacuum processing equipment, substrate transfer method
WO2011119503A3 (en) * 2010-03-25 2012-01-19 Applied Materials, Inc. Segmented substrate loading for multiple substrate processing
KR101361818B1 (en) * 2010-08-31 2014-02-13 세메스 주식회사 Method of transferring wafers using wafer transfer robot

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11163090A (en) * 1997-12-02 1999-06-18 Mecs Corp Thin work transfer robot

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11163090A (en) * 1997-12-02 1999-06-18 Mecs Corp Thin work transfer robot

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006013493A (en) * 2004-06-21 2006-01-12 Asml Netherlands Bv Lithography apparatus and device manufacturing method
WO2008155932A1 (en) * 2007-06-19 2008-12-24 Ulvac, Inc. Substrate carrying method
JPWO2008155932A1 (en) * 2007-06-19 2010-08-26 株式会社アルバック Substrate transfer method
US7845897B2 (en) 2007-06-19 2010-12-07 Ulvac, Inc. Method for transporting substrates
JP2009059741A (en) * 2007-08-30 2009-03-19 Ulvac Japan Ltd Vacuum processing equipment, substrate transfer method
WO2011119503A3 (en) * 2010-03-25 2012-01-19 Applied Materials, Inc. Segmented substrate loading for multiple substrate processing
KR101361818B1 (en) * 2010-08-31 2014-02-13 세메스 주식회사 Method of transferring wafers using wafer transfer robot

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4939376B2 (en) Substrate processing equipment
CN100573820C (en) Substrate board treatment
CN105966916B (en) Robot for substrate transfer
JP2002507846A (en) Substrate transfer method with different holding end effectors
JPH11288988A (en) Alignment high-speed processing mechanism
JP4096359B2 (en) Manufacturing equipment for manufacturing objects
JP4463081B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JPH081921B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment
JP2002043395A (en) Wafer transfer system and transfer method thereof
JP4570037B2 (en) Substrate transfer system
JP2002151568A (en) Processing system and transfer method for object to be processed
JP2002343844A (en) Wafer handling mechanism
JP2000091400A (en) Wafer storage cassette
JPH11260890A (en) Transfer device
JP3236724B2 (en) Vacuum processing equipment
JP2004281475A (en) Single wafer transfer device and single wafer transfer method
JPH11251284A (en) Rotary processing device
JP4869097B2 (en) Substrate processing equipment
JP2743274B2 (en) Substrate processing device and substrate transfer device
JP3766177B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate cleaning apparatus
JP3612265B2 (en) Coating and developing equipment
JPH1179390A (en) Semiconductor wafer loading / unloading means
JPH11284046A (en) Wafer carrying device
US20100321679A1 (en) Measurement system and method
JP2004319889A (en) Manufacturing object delivery apparatus and manufacturing object delivery method

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050830

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051018

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060411