JP2002231678A

JP2002231678A - 液処理装置

Info

Publication number: JP2002231678A
Application number: JP2001022262A
Authority: JP
Inventors: Yuji Kamikawa; 裕二上川; Shigeki Arimori; 茂樹有森
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2001-01-30
Filing date: 2001-01-30
Publication date: 2002-08-16

Abstract

(57)【要約】【課題】基板を保持する保持手段が基板を確実に保持
することを可能とし、また、保持手段における基板の搬
入出を容易かつ安全に、しかも正確に行うことができる
液処理装置を提供する。【解決手段】基板に所定の液処理を施す液処理装置、
例えば半導体ウエハの洗浄処理装置１は、開閉可能なホ
ルダー８３とホルダー８３をロックするロックピン８４
ａとを有するロータ３４と、ロータ３４にアクセスして
ウエハＷの搬入出時にホルダー８３を開閉するホルダー
開閉機構８０を具備する。ホルダー開閉機構８０の有す
る押圧シリンダ８１がロックピン８４ａによるホルダー
８３のロック状態を解除し、回転シリンダ８２がホルダ
ー８３の開閉を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハやＬ
ＣＤ基板等の各種基板に対して所定の液処理や乾燥処理
を施す液処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造工程にお
いては、基板としての半導体ウエハ（ウエハ）を所定の
薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し、ウエハからパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョン、エッチング処理後のポリマー等を除去するウエハ
洗浄装置や、窒素（Ｎ_２）ガス等の不活性ガスや揮発性
および親水性の高いＩＰＡ蒸気等によってウエハから液
滴を取り除いてウエハを乾燥させるウエハ乾燥装置が使
用されている。

【０００３】このようなウエハ洗浄装置としては、例え
ば、図１０に示すように、ウエハ洗浄室２０１を形成す
る処理チャンバ２０２を有し、ウエハＷを保持可能かつ
回転可能に設けられたロータ２０５を処理チャンバ２０
２の前方側に形成されたウエハ搬入出口２０３から進退
可能とし、ロータ２０５を処理チャンバ２０２から進出
させた状態で、ロータ２０５と搬送アームのウエハチャ
ック２０９ａ・２０９ｂとの間でウエハＷの受け渡しが
可能となっている構造を有するウエハ洗浄装置２００が
知られている。なお、図１０における参照符号２０７は
ロータ２０５を進出退避させ回転させる駆動機構、２０
８は回転軸、２０４は処理チャンバ２０２の蓋、２０６
はロータ２０５の保持部材である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１０
に示したウエハ洗浄装置２００では、ウエハチャック２
０９ａ・２０９ｂとロータ２０５の保持部材２０６とが
互いに衝突しないように制御しなければならないことか
ら、動作プログラム等が複雑なものとなってしまう問題
がある。

【０００５】また、近年、半導体デバイスの微細高集積
化や量産化に対応して、ウエハの大きさについては２０
０ｍｍφから３００ｍｍφへの大口径化が進んでいる
が、ここで、従来の液処理装置の構造を変えることな
く、ウエハの大きさに適合させてウエハを取り扱う各部
の機構、部材等を大型化すると、液処理装置全体の大型
化は避けられない。そのために、装置構成を変更するこ
とによって液処理装置の大型化をできる限り抑制するこ
とが切望されているが、この場合には、ロータについて
は保持するウエハの重量が大きくなることから、ロータ
の回転中にも確実にウエハを保持することができるよう
に配慮する必要があり、また、ロータへのウエハの搬入
およびロータからのウエハの搬出を容易かつ安全に、し
かも正確に行うことができるように考慮する必要があ
る。

【０００６】本発明はこのような従来技術の問題点に鑑
みてなされたものであって、基板を保持する保持手段が
基板を確実に保持することを可能とした液処理装置を提
供することを目的とする。また、本発明は、液処理に際
して基板を保持する保持手段における基板の搬入出を容
易かつ安全に、しかも正確に行うことができる液処理装
置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば、基板に所定の液処理を施す液処理
装置であって、基板を搬入出する際に開閉されるホルダ
ーおよび前記ホルダーをロックするロック機構とを有
し、複数の基板を所定の間隔で略平行に保持することが
可能な保持手段と、前記保持手段において基板の搬入出
が行われる位置で前記保持手段にアクセスして基板搬入
出時に前記ホルダーを開閉させるホルダー開閉機構と、
前記保持手段に保持された基板に所定の処理液を供給し
て液処理を行うチャンバと、を具備し、前記ホルダー開
閉機構は、前記ロック機構にアクセスして前記ホルダー
のロック状態を解除するロック解除機構と、前記ホルダ
ーにアクセスして前記ホルダーの開閉を行うホルダー駆
動機構とを有することを特徴とする液処理装置、が提供
される。

【０００８】また、本発明によれば、基板に所定の液処
理を施す液処理装置であって、基板を搬入出する際に開
閉されるホルダーおよび前記ホルダーをロックするロッ
ク機構とを有し、複数の基板を所定の間隔で略平行に保
持することが可能な保持手段と、前記保持手段に保持さ
れた基板に所定の処理液を供給して液処理を行うチャン
バと、前記保持手段へ基板を搬入し、また、前記保持手
段から基板を搬出する基板搬送機構と、前記保持手段を
前記基板搬送機構との間で基板の受け渡しが行われる基
板受渡位置と前記チャンバ内において液処理が行われる
液処理位置との間で移動させる保持手段移動機構と、前
記保持手段が前記基板受渡位置にあるときに前記保持手
段にアクセスして基板搬入出時に前記ホルダーを開閉さ
せるホルダー開閉機構と、を具備し、前記ホルダー開閉
機構は、前記ロック機構にアクセスして前記ホルダーの
ロック状態を解除するロック解除機構と、前記ホルダー
にアクセスして前記ホルダーの開閉を行うホルダー駆動
機構と、前記ロック解除機構と前記ホルダー駆動機構を
動作位置と退避位置との間で移動させる移動機構と、を
有することを特徴とする液処理装置、が提供される。

【０００９】さらに、本発明によれば、基板に所定の液
処理を施す液処理装置であって、基板を搬入出する際に
開閉されるホルダーおよび前記ホルダーをロックするロ
ック機構とを有し、複数の基板を所定の間隔で略平行に
保持することが可能な保持手段と、前記保持手段におい
て基板の搬入出が行われる位置で前記保持手段にアクセ
スして基板搬入出時に前記ホルダーを開閉させるホルダ
ー開閉機構と、前記保持手段に保持された基板に所定の
処理液を供給して液処理を行うチャンバと、前記保持手
段を、前記保持手段において基板の受け渡しが行われる
基板受渡位置と前記チャンバ内において液処理が行われ
る液処理位置との間で移動させる保持手段移動機構と、
を有する液処理部、および、基板が収納された搬送容器
の搬入出が行われる容器搬入出部、ならびに、前記搬送
容器と前記保持手段との間での基板の搬送および前記搬
送容器における基板の搬入出ならびに前記保持手段にお
ける基板の搬入出を行う基板搬送機構が配設された基板
搬送部を具備し、前記ホルダー開閉機構は、前記ロック
機構にアクセスして前記ホルダーのロック状態を解除す
るロック解除機構と、前記ホルダーにアクセスして前記
ホルダーの開閉を行うホルダー駆動機構と、前記ロック
解除機構と前記ホルダー駆動機構を動作位置と退避位置
との間で移動させる移動機構と、を有することを特徴と
する液処理装置、が提供される。

【００１０】このような本発明の液処理装置によれば、
保持手段において基板はロックされたホルダーによって
確実に保持されることとなり、例えば、保持手段の回転
中に基板が保持手段から飛び出す等の事故の発生が防止
される。また、ホルダー開閉機構の保持手段へのアクセ
スが容易であることから、保持手段における基板の搬入
出は容易かつ安全に、しかも正確に行うことが可能とな
り、生産性やスループットが向上する。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら本
発明の実施の形態について具体的に説明する。本発明の
液処理装置は、例えば、各種基板を被処理体とする洗浄
処理装置や乾燥処理装置等に適用することができる。そ
こで、本実施形態においては、半導体ウエハ（ウエハ）
の搬入、洗浄、乾燥、搬出をバッチ式に一貫して行うよ
うに構成された洗浄処理装置に本発明を適用した場合に
ついて説明することとする。

【００１２】本実施形態に係る洗浄処理装置１の外観を
示す斜視図を図１に示す。洗浄処理装置１は、複数枚の
ウエハＷを収納可能なフープ（収納容器）Ｆを載置する
ためのフープステージ２ａ〜２ｃが設けられたフープ搬
入出部２と、ウエハＷに対して洗浄処理を実施する洗浄
処理ユニット３と、フープ搬入出部２と洗浄処理ユニッ
ト３との間に設けられ、ウエハＷの搬送を行うウエハ搬
送ユニット４と、洗浄処理のための薬液を貯蔵、供給等
する薬液供給ユニット５と、から主に構成されている。

【００１３】また、洗浄処理装置１に配設された各種の
電動駆動機構や電子制御装置のための電源ボックス６
と、薬液供給ユニット５に貯蔵された薬液等の温度制御
を主に行うための温度制御ボックス７ａと、洗浄処理ユ
ニット３におけるウエハＷの処理プロセスを制御するプ
ロセス制御ボックス（温度制御ボックス７ａの直下に配
設されるが図１に図示せず）とが洗浄処理ユニット３の
上部に設けられており、ウエハ搬送ユニット４の上部に
は、洗浄処理装置１に設けられた各種の表示パネルを制
御する表示ボックス９と、ウエハ搬送ユニット４におけ
るウエハＷの処理プロセスを制御する搬送機構制御ボッ
クス１０が設けられている。そして、薬液供給ユニット
５の上部には各ボックス等からの熱排気を集めて排気す
る熱排気ボックス８が設けられている。

【００１４】次に、洗浄処理装置１の概略構造を示す平
面図を図２に、洗浄処理装置１の概略構造を示す側面図
を図３に、図３の側面図に示された一部の駆動機構を駆
動させた状態を示した側面図を図４にそれぞれ示す。こ
こで、図２から図４においては、フープ搬入出部２、洗
浄処理ユニット３、ウエハ搬送ユニット４、薬液供給ユ
ニット５のみを示し、洗浄処理ユニット３、ウエハ搬送
ユニット４、薬液供給ユニット５の上部に配設された電
源ボックス６その他各種のボックスについては図示して
いない。

【００１５】図２に示すように洗浄処理ユニット３はウ
エハ移載室３ａとチャンバ室３ｂおよびチャンバ室３ｂ
の下方に設けられた図示しないユーティリティ室から構
成されており、図３および図４の洗浄処理ユニット３に
おいては、ウエハ移載室３ａの概略構造が示されてい
る。以下、上記各ユニット等について詳細に説明する。

【００１６】最初にフープ搬入出部２について説明す
る。フープ搬入出部２には３箇所のフープステージ２ａ
〜２ｃが設けられている。このフープステージ２ａ〜２
ｃに載置されるフープＦは、ウエハＷを複数枚、例えば
２５枚を所定間隔で主面が水平になるように収納するこ
とが可能となっており、フープＦの一側面にはウエハＷ
を搬入出するためのウエハ搬入出口が設けられており、
ウエハ搬入出口は蓋体１１により開閉されるようになっ
ている。

【００１７】ウエハ搬送ユニット４とフープ搬入出部２
との間の境界壁１２には窓部１２ａ〜１２ｃが設けられ
ており、フープＦに形成されたウエハ搬入出口の外周部
が窓部１２ａ〜１２ｃを閉塞し、また、蓋体１１が蓋体
開閉機構１５ａ〜１５ｃによって脱着可能な状態となる
ようにして、フープＦはフープステージ２ａ〜２ｃ上に
載置される（図３および図４参照）。

【００１８】続いてウエハ搬送ユニット４について説明
する。境界壁１２の内側（ウエハ搬送ユニット４側）に
は、窓部１２ａ〜１２ｃのそれぞれの位置に、窓部１２
ａ〜１２ｃを開閉するシャッター１３ａ〜１３ｃとシャ
ッター１３ａ〜１３ｃを昇降させる昇降機構１４ａ〜１
４ｃとからなる蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃが配設され
ている。また、ウエハ搬送ユニット４には、ウエハ検査
機構１１０と、ウエハ搬送機構１６と、フィルターファ
ンユニット（ＦＦＵ）２４ａ・２４ｂと、ウエハ搬送ユ
ニット４と洗浄処理ユニット３とを仕切る境界壁２５に
形成された窓部２５ａを開閉するためのシャッター２６
ａとシャッター２６ａの昇降機構２６ｂと、洗浄処理装
置１を操作するための操作パネル４ａが設けられてい
る。

【００１９】蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃは図示しない
吸着パッド等の蓋体把持手段を有しており、これにより
フープＦの蓋体１１をシャッター１３ａ〜１３ｃととも
に昇降させることができるようになっている。フープＦ
がフープステージ２ａ〜２ｃに載置されていないときに
は、シャッター１３ａ〜１３ｃが窓部１２ａ〜１２ｃを
閉塞し、外部からウエハ搬送ユニット４へのパーティク
ル等の侵入が防止される。一方、ウエハＷをフープＦか
ら搬出し、またはフープＦへ搬入する際には、ウエハ搬
送機構１６の搬送アーム１７ａ・１７ｂがフープＦにア
クセスできるように、シャッター１３ａ〜１３ｃおよび
フープＦの蓋体１１が蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃによ
り降下され、窓部１２ａ〜１２ｃは開口した状態とされ
る。

【００２０】ウエハ検査機構１１０は窓部１２ａ〜１２
ｃのそれぞれに対して設けられており、フープＦ内のウ
エハＷの枚数を計測し、また、ウエハＷの収納状態を検
査する。このウエハ検査機構１１０は、例えば、赤外線
レーザを用いた発信部と受信部を有する反射式光センサ
１１１を、モータ１１３を用いてガイド１１２に沿って
Ｚ方向（鉛直方向）にスキャンさせながら、ウエハＷの
端面からの反射光を受信し、フープＦに収納されたウエ
ハＷの枚数や収納状態、例えば、ウエハＷが所定のピッ
チで略平行に１枚ずつ収納されているかどうか、２枚の
ウエハＷが重なって収納されていないかどうか、ウエハ
Ｗが段差ずれして斜めに収納されていないかどうか、ウ
エハＷがフープＦ内の所定位置から飛び出していないか
どうか等を検査することができるようになっている。

【００２１】なお、ウエハ搬送機構１６にウエハ検査機
構１１０を取り付けて、ウエハ検査機構１１０をウエハ
搬送機構１６とともに移動可能な構造とすれば、ウエハ
検査機構１１０は１箇所のみの配設で済ませることが可
能である。また、例えば、ウエハＷの収納枚数を確認す
るセンサと、ウエハＷの収納状態を検査するセンサを別
に設けることもできる。さらに、ウエハ検査機構１１０
を蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃに配設することも可能で
ある。

【００２２】ウエハ搬送ユニット４に配設されたウエハ
搬送機構１６は、リニア駆動機構１９と、ウエハＷを保
持する搬送アーム１７ａ・１７ｂと、搬送アーム１７ａ
・１７ｂをそれぞれ保持する保持部１８ａ・１８ｂと、
搬送アーム１７ａ・１７ｂおよび保持部１８ａ・１８ｂ
がそれぞれ配設されたスライド機構２０ａ・２０ｂと、
スライド機構２０ａ・２０ｂが配置された回転自在なテ
ーブル２１と、テーブル２１を回転させる回転機構２２
と、回転機構２２から上の部分を昇降させる昇降機構２
３と、を有している。

【００２３】リニア駆動機構１９は、Ｘ方向に延在する
ガイド１９ａと、モータ１９ｂとモータ１９ｂによって
回転する枢軸１９ｃを有しており、ガイド１９ａのベー
ス部には排気口１９ｄが形成されている。枢軸１９ｃは
昇降機構２３と噛み合っており、枢軸１９ｃの回転によ
って昇降機構２３がＸ方向に移動できるようになってい
る。

【００２４】ウエハ搬送機構１６には２系統の搬送アー
ム１７ａ・１７ｂが設けられており、こうして、例え
ば、搬送アーム１７ａを未処理のウエハＷを搬送するた
めに用い、搬送アーム１７ｂを洗浄処理済みのウエハＷ
を搬送するために用いることができるようになってい
る。この場合には、１系統の搬送アームのみが配設され
ている場合と比較して、未処理のウエハＷに付着してい
たパーティクル等が搬送アームに付着してさらに処理済
みのウエハＷに付着するといったことが有効に防止され
る。また、２系統の搬送アームを設けることで、洗浄処
理ユニット３との間で処理済みのウエハＷを受け取った
直後に次の未処理のウエハＷを受け渡すことができ、こ
れにより装置の処理可動時間が有効に使えるためスルー
プットを向上させることができる。

【００２５】１個の搬送アーム１７ａは１枚のウエハＷ
を搬送し、かつ、フープＦに収納されている２５枚のウ
エハＷを一度に搬送可能なように、２５個の搬送アーム
１７ａが略平行に所定間隔で保持部１８ａに保持されて
おり、２５個の搬送アーム１７ｂもまた略平行に所定間
隔で保持部１８ｂに保持されている。フープＦまたはロ
ータ３４と搬送アーム１７ａ・１７ｂとの間でウエハＷ
の受け渡しを行う際には、搬送アーム１７ａ・１７ｂを
所定距離ほど上下させる必要があるが、この搬送アーム
１７ａ・１７ｂの昇降動作は昇降機構２３より行うこと
ができる。なお、保持部１８ａ・１８ｂに別途搬送アー
ム１７ａ・１７ｂを上下させる昇降機構を配設してもよ
い。

【００２６】スライド機構２０ａ・２０ｂによって搬送
アーム１７ａ・１７ｂは保持部１８ａ・１８ｂともに搬
送アーム１７ａ・１７ｂの長さ方向にスライド可能とな
っており（図２、図４参照）、またテーブル２１は回転
機構２２によって図２に示すθ方向における水平面内で
の回転ができるように構成されており、さらにリニア駆
動機構１９によって昇降機構２３から上の部分をＸ方向
に移動可能である。こうして、搬送アーム１７ａ・１７
ｂは、フープステージ２ａ〜２ｃに載置されたいずれの
フープＦおよびロータ３４にもアクセスでき、フープス
テージ２ａ〜２ｃに載置されたフープＦとロータ３４と
の間で、ウエハＷを水平状態に保持して搬送することが
できるようになっている。

【００２７】なお、スライド機構２０ａを動作させて、
搬送アーム１７ａおよび保持部１８ａをロータ３４側に
スライドさせた状態は図４に示されている。また、フー
プＦ内のウエハＷの高さ位置と、ロータ３４においてウ
エハＷが保持される高さ位置を合わせることで、昇降機
構２３による搬送アーム１７ａ・１７ｂの高さ合わせの
工程を省略することが可能である。

【００２８】図１に示されるように、ウエハ搬送ユニッ
ト４の天井部には段差が設けられており、天井の低い部
分にはＦＦＵ２４ａが配設され、高い部分にはＦＦＵ２
４ｂが配設されている。ＦＦＵ２４ａ・２４ｂの空気取
り込みはそれぞれ洗浄処理装置１の側面または上面から
行うことができるようになっている。ＦＦＵ２４ａ・２
４ｂからのダウンフローによってウエハ搬送機構１６に
よって裸の状態で搬送されるウエハＷにパーティクル等
が付着することが防止され、また、ウエハ搬送機構１６
の駆動によって生ずるパーティクル等は、ダウンフロー
によってウエハ搬送ユニット４の底部に形成された図示
しない排気口やリニア駆動機構１９のベースに形成され
た排気口１９ｄから排気される。

【００２９】なお、ＦＦＵ２４ａ・２４ｂの下方に図示
しないイオナイザを設けて、ウエハＷの除電を行うこと
もできる。また、窓部１２ａ〜１２ｃが開口している状
態では、ＦＦＵ２４ａからのダウンフローの一部がフー
プＦ内にも流れ込み、フープＦ内にパーティクル等が付
着することが防止される。ここで、フープＦに通気口が
形成されている場合には、フープＦ内に流れ込んだダウ
ンフローはフープＦを通してフープ搬入出部２から排出
されることとなる。

【００３０】ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニット
３とを仕切る境界壁２５には、ウエハＷの搬送のための
窓部２５ａが形成されており、この窓部２５ａは、昇降
機構２６ｂにより昇降自在となっているシャッター２６
ａによって開閉される。シャッター２６ａは洗浄処理装
置１においては、ウエハ搬送ユニット４側に設けられて
いるが、洗浄処理ユニット３側に設けることもできる。
ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニット３との間での
ウエハＷの搬送はこの窓部２５ａを介して行われる。な
お、シャッター２６ａにより、ウエハ搬送ユニット４と
洗浄処理ユニット３の雰囲気が分離できるようになって
いることから、例えば、洗浄処理ユニット３において処
理液が飛散し、または処理液の蒸気が拡散等した場合で
も、ウエハ搬送ユニット４にまで汚染が拡大することが
防止される。

【００３１】続いて、洗浄処理ユニット３について説明
する。図２に示されるように、洗浄処理ユニット３はウ
エハ移載室３ａとチャンバ室３ｂとチャンバ室３ｂの下
方に設けられた図示しないユーティリティ室から構成さ
れている。

【００３２】ウエハ移載室３ａには、ＦＦＵ２４ｃと、
ロータ回転機構２７と、ロータ回転機構２７の姿勢を制
御する姿勢変換機構２８と、ロータ回転機構２７および
姿勢変換機構２８を垂直方向に移動させるＺ軸リニア駆
動機構２９と、Ｚ軸リニア駆動機構２９を水平方向に移
動させるＸ軸リニア駆動機構３０と、姿勢変換機構２８
およびＺ軸リニア駆動機構２９から発生するパーティク
ルがロータ回転機構２７側へ飛散してウエハＷに付着等
することを防止するためのカバー４５と、Ｘ軸リニア駆
動機構３０から発生するパーティクルがロータ回転機構
２７側へ飛散してウエハＷに付着等することを防止する
ためのカバー４６と、ロータ３４にアクセスしてロータ
３４が具備するホルダー８３（後に示す図５参照）の開
閉を行うホルダー開閉機構８０と、が設けられている。

【００３３】また、チャンバ室３ｂには、固定された外
側チャンバ７１ａと水平方向にスライド自在な内側チャ
ンバ７１ｂとからなる二重構造を有するチャンバ７０が
配設されており、ユーティリティ室には、外側チャンバ
７１ａや内側チャンバ７１ｂに供給する処理液の昇圧ポ
ンプや外側チャンバ７１ａや内側チャンバ７１ｂから排
出される処理液等を外部へ導く配管等が配設されてい
る。ウエハ移載室３ａとチャンバ室３ｂとの境界をなす
垂直壁６２ａにはロータ３４をチャンバ７０へ進入／退
出させるためのロータ搬入出口６２ｃが形成されてお
り、このロータ搬入出口６２ｃは図２に示されるように
蓋体６２ｄにより開閉可能となっている。

【００３４】洗浄処理ユニット３について、まずウエハ
移載室３ａ内に配設された各機構について詳細に説明す
る。ロータ回転機構２７は、ウエハＷを所定間隔で主面
を略平行として保持可能なロータ３４と、ロータ３４に
保持されたウエハＷが面内回転するようにロータ３４を
回転させるモータ３１と、姿勢変換機構２８と連結され
る連結部３２と、ロータ３４を外側チャンバ７１ａに挿
入した際に垂直壁６２ａに形成されたロータ搬入出口６
２ｃを閉塞する蓋体３３と、連結部３２と蓋体３３を貫
通してロータ３４とモータ３１とを連結している回転軸
５０と、から構成されている。

【００３５】図５はロータ３４の概略構造を示す斜視図
であり、ロータ３４は、所定の間隔をおいて配置された
一対の円盤３５ａ・３５ｂと、円盤３５ａ・３５ｂ間に
固定されウエハＷを保持するための溝等が所定間隔で形
成された４本の係止部材３６と、開閉可能な２本のホル
ダー８３と、ホルダー８３をロックするロックピン８４
ａと、を有している。

【００３６】また、ホルダー８３は、係止部材３６と同
様にウエハＷを略平行な状態で保持することができるよ
うに溝部が設けられた略棒状の係止部８５と、係止部８
５を挟持して係止部８５に連結された支持部８６ａ・８
６ｂと、円盤３５ａの外側に設けられた突起部８７ａと
を有しており、突起部８７ａには円盤３５ａを貫通して
支持部８６ａと連結された回転部８８ａが設けられてい
る。

【００３７】円盤３５ｂの回転軸５０への固定は、例え
ば、ネジ３５ｃを用いて行うことができ、係止部材３６
は円盤３５ａ・３５ｂの外側からネジ止め等することで
円盤３５ａ・３５ｂ間に固定することができる。ホルダ
ー８３の突起部８７ａに設けられた回転部８８ａを図５
中に示した「開」の方向へ回すと、支持部８６ａにおけ
る回転部８８ａとの連結部分および支持部８６ｂの円盤
３５ｂとの連結部分を回転中心として係止部８５が左右
に大きく開き、ウエハＷのロータ３４内への搬入または
ロータ３４からの搬出を行うことができるようになる。

【００３８】逆に、回転部８８ａを図５中に示した
「閉」の方向へ回すと、支持部８６ａ・８６ｂがロータ
３４の内側に収納されるようにして係止部８５は互いに
接近し、ロータ３４の内部にウエハＷが収納されている
場合には、係止部８５は係止部材３６とともにウエハＷ
を保持する。こうして、ホルダー８３が閉じられた状態
においては、ホルダー８３は係止部材３６と同等の役割
を担う。

【００３９】突起部８７ａに設けられた回転部８８ａを
回転させることができるか否かは、ロックピン８４ａの
状態によって定められている。例えば、ロックピン８４
ａが突出している状態では回転部８８ａを回転させるこ
とができず、ロックピン８４ａが円盤３５ａ側に（ロー
タ３４の内部に向かって）押し込まれている状態にある
ときにのみ回転部８８ａを回転させることができるよう
になっている。なお、このようなロックピン８４ａと回
転部８８ａとの動作連結は突起部８７ａ内に設けられた
図示しない動作連結機構により行われる。

【００４０】このように構成されたホルダー８３の開閉
動作を行う機構がホルダー開閉機構８０である。ホルダ
ー８３の開閉動作は、通常の洗浄工程においては窓部２
５ａを介して搬送アーム１７ａ・１７ｂとロータ３４と
の間でウエハＷの受け渡しが行われるときに限られるこ
とから、ホルダー開閉機構８０は窓部２５ａの上部にお
いて境界壁２５に取り付けられている。

【００４１】ホルダー開閉機構８０は、ロックピン８４
ａにアクセスしてロックピン８４ａを円盤３５ａ側へ押
し込むことができる押圧シリンダ８１と、回転部８８ａ
にアクセスして回転部８８ａを回転駆動させる回転シリ
ンダ８２とを有しており、押圧シリンダ８１と回転シリ
ンダ８２は保持台８９に保持されている。なお、ホルダ
ー開閉機構８０においては、当然に押圧シリンダ８１が
２箇所のロックピン８４ａにアクセスすることができ、
また、回転シリンダ８２も２箇所の回転部８８ａにアク
セスすることができように、押圧シリンダ８１と回転シ
リンダ８２は２個ずつ設けられている。

【００４２】また、ホルダー開閉機構８０は図３に示す
退避位置と図４に示す動作位置との間を回転動作によっ
て移動可能となっている。なお、ホルダー開閉機構８０
の退避位置において境界壁２５にカバー４０が設けられ
ており、ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニット３を
隔離している。このようにホルダー開閉機構８０の退避
位置をウエハ搬送ユニット４側に突出するように設ける
ことにより、洗浄処理ユニット３の省スペース化が実現
される。

【００４３】図４に示されるように、ホルダー開閉機構
８０がロータ３４にアクセスしている状態においては、
押圧シリンダ８１からの押圧力によってロックピン８４
ａが円盤３５ａ側に押し込まれた状態に保持することが
でき、このときには、回転シリンダ８２が回転部８８ａ
にアクセスして回転部８８ａを所定方向に回転させるこ
とができ、こうしてホルダー８３の開閉動作が可能とな
る。なお、図３に示されるようにホルダー開閉機構８０
が退避位置にある場合には、通常、ホルダー８３は閉じ
られて内部にウエハＷが保持された状態となり、ロータ
３４をチャンバ７０内に挿入して所定の洗浄処理を行う
ことが可能となる。

【００４４】ところで、図５に示したロータ３４におい
ては、ホルダー８３は円盤３５ａ側においてのみ開閉動
作が制限されている。つまり、ホルダー８３は、円盤３
５ａ側では支持部８６ａの固定が可能であるが、円盤３
５ｂ側の支持部８６ｂは固定されていない「片持ち型」
の構造となっている。このため、より確実にホルダー８
３を固定すべく、円盤３５ｂ側においても支持部８６ｂ
を固定する「両持ち型」とすると、ホルダー８３の固定
をより確実に行うことができるようになり、好ましい。

【００４５】図６はこのような両持ち型のホルダー８３
ａを有するロータ３４ａの概略構造を示した断面図であ
り、ホルダー８３ａは円盤３５ａ側のみならず、円盤３
５ｂ側にもおいても、円盤３５ｂを貫通して支持部８６
ｂと連結された回転部８８ｂを有する突起部８７ｂと、
回転部８８ｂをロックすることでホルダー８３ａをロッ
クするロックピン８４ｂとが設けられている。また、ロ
ックピン８４ｂにアクセスすることができる押圧シリン
ダ８１ａが円盤３５ｂと対向している蓋体３３に設けら
れている。回転部８８ｂにアクセスする回転シリンダを
設けずに、押圧シリンダ８１ａのみを設ける理由は、回
転部８８ｂがロックピン８４ｂによってロックされた状
態から解除されれば、回転シリンダ８２による回転部８
８ａの回転動作だけでホルダー８３ａの開閉を行うこと
ができるためである。

【００４６】ロータ３４ａにおいては、ホルダー開閉機
構８０の押圧シリンダ８１をロックピン８４ａに、回転
シリンダ８２を回転部８８ａにアクセスさせるととも
に、押圧シリンダ８１ａをロックピン８４ｂにアクセス
させることにより、押圧シリンダ８１・８１ａがそれぞ
れロックピン８４ａ・８４ｂによる回転部８８ａ・８８
ｂのロック状態を解除し、回転シリンダ８２が回転部８
８ａを所定方向に回転させることで、ホルダー８３ａの
開閉が行われる。そして、ホルダー８３ａが閉じられた
状態では、回転部８８ａ・８８ｂはともにロックピン８
４ａ・８４ｂによって回転不可能な状態に保持され、こ
れにより支持部８６ａ・８６ｂは固定されることから、
ロータ３４の場合と比較してより確実にウエハＷを保持
することが可能となる。

【００４７】続いて、ロータ回転機構２７を移動させる
ために設けられた諸機構について説明する。ロータ回転
機構２７の姿勢を制御する姿勢変換機構２８は、回転機
構４２と回転機構４２に取り付けられた回転軸４１とを
有しており、回転軸４１はロータ回転機構２７の連結部
３２に固定されている。回転機構４２によってロータ回
転機構２７全体を、図３または図４に示すようにウエハ
Ｗが水平状態で保持されるような姿勢（縦姿勢）に保持
することができ、また、後に示す図７から図９に示すよ
うにウエハＷが垂直状態で保持されるような姿勢（横姿
勢）に変換して保持することができるようになってい
る。

【００４８】Ｚ軸リニア駆動機構２９は、モータ４３
と、モータ４３の回転駆動力と変位を姿勢変換機構２８
に伝える動力伝達部４４と、ガイド４７と、ガイド４７
を支持する支持体４８と、を有している。姿勢変換機構
２８はガイド４７に沿って移動できるようにガイド４７
と嵌合しており、モータ４３を回転させるとこの回転駆
動力と変位が動力伝達部４４を介して姿勢変換機構２８
に伝えられ、姿勢変換機構２８がロータ回転機構２７と
ともにガイド４７に沿ってＺ方向（垂直方向）に所定距
離移動することができるようになっている。

【００４９】Ｘ軸リニア駆動機構３０は、ガイド４９
と、図示しないモータと、モータに連結されたボールネ
ジ３９ａと、ボールネジ３９ａに噛み合わされた噛み合
わせ部材３９ｂと、ガイド４９に嵌合して噛み合わせ部
材３９ｂと支持体４８とを連結する連結部材３８と、を
有している。モータを回転させることによってボールネ
ジ３９ａが動作し、ボールネジ３９ａの動作に従って噛
み合わせ部材３９ｂはＸ方向に移動する。このとき、連
結部材３８が噛み合わせ部材３９ｂと支持体４８を連結
していることから、連結部材３８と支持体４８もまた噛
み合わせ部材３９ｂとともにＸ方向に移動する。つま
り、噛み合わせ部材３９ｂがＸ方向に移動する際には、
ロータ回転機構２７と姿勢変換機構２８とＺ軸リニア駆
動機構２９が同時にＸ方向に移動するようになってい
る。

【００５０】図７は姿勢変換機構２８とＺ軸リニア駆動
機構２９とＸ軸リニア駆動機構３０を用いてロータ回転
機構２７を移動させるときの形態の一例を示した説明図
である。例えば、ロータ３４にウエハＷを搬入した後に
ロータ３４を外側チャンバ７１ａに進入させる場合に
は、ロータ回転機構２７は連結部３２が位置Ｐ１に位置
して縦姿勢の状態にあり、この状態で、ウエハＷが搬送
アーム１７ａからロータ３４に搬入されるものとする。

【００５１】ウエハＷがロータ３４に収納されたらＺ軸
リニア駆動機構２９を動作させて、ロータ回転機構２７
および姿勢変換機構２８を連結部３２が位置Ｐ２に移動
するように上昇させる。そして位置Ｐ２においては、姿
勢変換機構２８を動作させて、ウエハＷが水平保持から
垂直保持の状態になるように、ロータ回転機構２７全体
を９０°回転させ、ロータ回転機構２７全体を横姿勢の
状態とする。続いて、ロータ回転機構２７を横姿勢の状
態としたまま、連結部３２が位置Ｐ３に移動するように
再びＺ軸リニア駆動機構２９を動作させて、ロータ回転
機構２７を上昇させる。

【００５２】連結部３２が位置Ｐ３に到達したら、次
に、Ｘ軸リニア駆動機構３０を動作させて、連結部３２
の位置を位置Ｐ４まで水平移動させることにより、ロー
タ３４を外側チャンバ７１ａに挿入することができる。
なお、ウエハＷの洗浄処理が終了した後は、ロータ回転
機構２７を前述した移動経路を逆走するように移動さ
せ、洗浄処理が終了したウエハＷを搬送アーム１７ｂを
用いて搬出する。

【００５３】さて、ウエハ移載室３ａの天井部分に設け
られたＦＦＵ２４ｃからは、ウエハ移載室３ａに清浄な
空気（ダウンフロー）が送られ、これにより裸の状態で
取り扱われるウエハＷへのパーティクル等の付着が防止
される。ダウンフローの一部はウエハ移載室３ａの底板
に設けられた図示しない排気口から排気される。なお、
ウエハ移載室３ａとチャンバ室３ｂとの境界部分および
ウエハ移載室３ａとユーティリティ室との境界部分にお
いては図示しない通風口が形成されており、ＦＦＵ２４
ｃから送風されるダウンフローは、チャンバ室３ｂまた
はユーティリティ室を通って排気され、こうして、ウエ
ハ移載室３ａとチャンバ室３ｂとユーティリティ室はそ
れぞれが所定の清浄度に保持されるようになっている。

【００５４】次に、チャンバ室３ｂの内部の構造につい
て説明する。図８と図９はチャンバ室３ｂに配設された
チャンバ７０にロータ回転機構２７の有するロータ３４
が挿入されている状態を示した断面図であり、図８は内
側チャンバ７１ｂを外側チャンバ７１ａの外側に退避さ
せた退避位置にある状態を、図９は内側チャンバ７１ｂ
を外側チャンバ７１ａに収納した処理位置にある状態を
それぞれ示している。なお、図８および図９において
は、ロータ３４の構造は簡略に示されている。

【００５５】外側チャンバ７１ａは、筒状体６１ａと、
筒状体６１ａの一方の端面に配設されたリング部材６２
ｂと、リング部材６２ｂの内周面に配設されたシール機
構６３ｂと、水平方向に多数の処理液吐出口５４が形成
され、筒状体６１ａに取り付けられた処理液吐出ノズル
５３と、処理液吐出ノズル５３を収容するノズルケース
５７と、外側チャンバ７１ａの下部に設けられ、処理液
を排出し、また排気をも行うことができる排気／排液管
６５ａとを有している。なお、筒状体６１ａの他方の端
面は垂直壁６２ａに取り付けられており、垂直壁６２ａ
にはロータ３４が進入／退出可能なロータ搬入出口６２
ｃが形成され、このロータ搬入出口６２ｃは図２に示す
ように蓋体６２ｄにより開閉可能となっている。

【００５６】内側チャンバ７１ｂは、筒状体６１ｂと、
筒状体６１ｂの端面に配設されたリング部材６６ａ・６
６ｂと、リング部材６６ａ・６６ｂの内周面にそれぞれ
２箇所ずつ配設されシール機構６７ａ・６７ｂと、水平
方向に多数の処理液吐出口５６が形成され、筒状体６１
ｂに取り付けられた処理液吐出ノズル５５と、処理液吐
出ノズル５５を収納したノズルケース５８と、内側チャ
ンバ７１ｂの下部に設けられ、処理液を排出するととも
に排気を行うことができる排気／排液管６５ｂと、を有
している。なお、チャンバ室３ｂには、円盤９２ａと、
リング部材９２ｂと、筒状体９１が配設されており、円
盤９２ａには洗浄液吐出ノズル７３ａと排気管７３ｃが
設けられ、筒状体９１にはガス供給ノズル９３と排気管
９４が設けられている。

【００５７】垂直壁６２ａに形成されたロータ搬入出口
６２ｃの外周にあたる部分にはシール機構６３ａが配設
されており、ロータ３４が外側チャンバ７１ａに進入し
た状態では、図８および図９に示されるように、ロータ
搬入出口６２ｃはロータ回転機構２７に設けられた蓋体
３３により閉塞され、蓋体３３の外周面とロータ搬入出
口６２ｃとの間がシール機構６３ａによりシールされ
る。こうして外側チャンバ７１ａから処理液等がウエハ
移載室３ａに飛散することが防止される。

【００５８】なお、垂直壁６２ａのウエハ移載室３ａ側
のロータ搬入出口６２ｃ下部には、ロータ３４を外側チ
ャンバ７１ａから退出させるようにロータ回転機構２７
を移動させた際に、蓋体３３やシール機構６３ａ等に付
着していた洗浄液等がロータ搬入出口６２ｃから液漏れ
することを防止するために、液受け６２ｅが設けられて
おり、これによりウエハ移載室３ａを清浄に保つことが
できるようになっている。また、シール機構６３ａとし
ては、例えば、ゴム製シールリングや所定圧力の空気等
を供給することによって膨張することでシール機能が生
ずるゴム製チューブからなるもの等を用いることがで
き、このようなシール機構はシール機構６３ｂ・６７ａ
・６７ｂについても同様に用いられる。

【００５９】外側チャンバ７１ａを構成する筒状体６１
ａは、リング部材６２ｂ側の外径が垂直壁６２ａ側の外
径よりも大きく設定されており、筒状体６１ａは垂直壁
６２ａ側の下端よりもリング部材６２ｂ側の下端が低く
位置するように勾配を設けて配設されている。こうし
て、処理液吐出ノズル５３からウエハＷに向けて吐出さ
れた各種の処理液は、自然に筒状体６１ａの底面を垂直
壁６２ａ側からリング部材６２ｂ側に流れて、排気／排
液管６５ａを通して外部に排出されるようになってい
る。

【００６０】処理液吐出ノズル５３には、薬液供給ユニ
ット５等の処理液供給源から純水やＩＰＡ、各種薬液と
いった処理液や窒素（Ｎ_２）ガス等の乾燥ガスが供給さ
れて、処理液吐出口５４からロータ３４に保持されたウ
エハＷに向かって、これら処理液等を吐出することがで
きるようになっている。また、処理液吐出ノズル５３
は、図８と図９では１本のみ示されているが、複数個配
設することも可能であり、必ずしも筒状体６１ａの真上
に設けなければならないものでもない。このことは、処
理液吐出ノズル５５についても同様である。

【００６１】内側チャンバを構成する筒状体６１ｂは円
筒状に形成されているが、その下部には処理液を外部に
排出することを容易ならしめるために、筒状体６１ｂか
ら突出し、所定の勾配を有する溝部６９が形成されてい
る。こうして、例えば、内側チャンバ７１ｂが処理位置
にあるときに、処理液吐出ノズル５５からウエハＷに向
かって吐出された処理液は、溝部６９を流れて排気／排
液管６５ｂを通して外部に排出される。なお、処理液吐
出ノズル５５には、薬液供給ユニット５等の処理液供給
源から各種薬液や純水、ＩＰＡといった処理液が供給さ
れて、処理液吐出口５６からロータ３４に保持されたウ
エハＷに向かって、これら処理液等を吐出することがで
きるようになっている。

【００６２】内側チャンバ７１ｂが処理位置にある場合
には、図９に示されるように、リング部材６６ａの内周
面と蓋体３３との間はシール機構６７ａによってシール
され、また、リング部材６６ｂとリング部材６２ｂとの
間がシール機構６３ｂによってシールされ、かつ、リン
グ部材６６ｂと円盤９２ａとの間がシール機構６７ｂに
よってシールされる。こうして、内側チャンバ７１ｂが
処理位置にある場合には、筒状体６１ｂ、リング部材６
６ａ・６６ｂ、円盤９２ａ、蓋体３３によって処理室５
２が形成される。例えば、この処理室５２において、ウ
エハＷに所定の薬液を供給する薬液処理を行うことがで
きる。

【００６３】一方、内側チャンバ７１ｂが退避位置にあ
る図８に示した状態では、リング部材６６ａとリング部
材６２ｂとの間がシール機構６３ｂによってシールさ
れ、かつ、リング部材６６ａと円盤９２ａとの間がシー
ル機構６７ａによってシールされるようになっている。
また、ロータ搬入出口６２ｃは蓋体３３とシール機構６
３ａによって閉塞されていることから、内側チャンバ７
１ｂが退避位置にあるときには、筒状体６１ａ、垂直壁
６２ａ、リング部材６２ｂ、円盤９２ａ、リング部材６
６ａ、蓋体３３から、外側チャンバ７１ａによる処理室
５１が形成される。例えば、処理室５２での薬液処理が
終了した後に、処理室５１において、ウエハＷの水洗処
理、乾燥処理を行うことができる。

【００６４】なお、円盤９２ａに設けられた洗浄液吐出
ノズル７３ａからは、円盤３５ａを洗浄、乾燥するため
の洗浄液や乾燥ガスが吐出可能となっており、また、蓋
体３３に設けられた洗浄液吐出ノズル７３ｂからは円盤
３５ｂを洗浄、乾燥するための洗浄液や乾燥ガスが吐出
可能となっている。さらに、洗浄液吐出ノズル７３ａ・
７３ｂからは、処理室５１・５２を所定のガス雰囲気と
するために、例えば、酸素（Ｏ_２）ガスや二酸化炭素
（ＣＯ_２）ガス等を吐出することも可能であり、円盤９
２ａに設けられた排気管７３ｃからは処理室５１・５２
の排気を行うことができるようになっている。

【００６５】ところで、内側チャンバ７１ｂが退避位置
にある状態では、リング部材６６ａと円盤９２ａとの間
がシールされ、かつ、リング部材６６ｂとリング部材９
２ｂとの間がシール機構６７ｂによってシールされるこ
とで、筒状体９１の外周と筒状体６１ｂの内周との間に
狭い環状空間７２が形成されるようになっている。この
環状空間７２に処理液吐出ノズル５５から洗浄液を吐出
し、その後に筒状体９１において複数箇所に設けられた
ガス供給ノズル９３と処理液吐出ノズル５５から窒素ガ
ス等の乾燥ガスを噴射し、排気管９４と排気／排液管６
５ｂから排気を行うことで、内側チャンバ７１ｂの内周
面の洗浄を行うことができる。このときには、環状空間
７２という狭い空間を利用することで必要な洗浄液の量
が低減される。なお、ガス供給ノズル９３から洗浄液を
吐出するように構成してもよい。

【００６６】薬液供給ユニット５には、例えば、処理液
吐出ノズル５５から吐出される薬液やＩＰＡ等の各種処
理液を貯留するタンクや、タンクから処理液吐出ノズル
５５へ薬液等を送液するポンプ、外部からライン供給さ
れる純水や窒素ガス等と薬液等の切替を行う切替器等が
配設されており、また、引火性気体の漏れ検知センサや
火災検知センサおよび消火ノズル等が配設されている。
なお、これら漏れ検知センサ、火災検知センサ、消火ノ
ズルは、チャンバ室３ｂにも配設されている。

【００６７】次に、フープステージ２ａに載置されたフ
ープＦをフープＦ１とし、フープステージ２ｂに載置さ
れたフープＦをフープＦ２として、これら２個のフープ
Ｆ１・Ｆ２に収納されたウエハＷの洗浄処理を行う場合
を例に、その洗浄処理工程について説明する。ここで、
搬送アーム１７ａを未処理のウエハＷの搬送に、搬送ア
ーム１７ｂを洗浄処理済みのウエハＷの搬送にそれぞれ
用いるものとする。

【００６８】まず、２５枚のウエハＷが所定の間隔で平
行に収納されたフープＦ１・Ｆ２を、フープＦ１・Ｆ２
においてウエハＷの出し入れを行うウエハ搬入出口が窓
部１２ａ・１２ｂと対面するように、それぞれフープス
テージ２ａ・２ｂに載置する。最初にフープＦ１に収納
されたウエハＷを搬送するために、窓部１２ａを開口さ
せてフープＦ１の内部とウエハ搬送ユニット４の内部が
連通した状態とする。その後に、フープＦ１内のウエハ
Ｗの枚数および収納状態の検査をウエハ検査機構１１０
を用いて行う。ここで、ウエハＷの収納状態に異常が検
出された場合にはフープＦ１のウエハＷについては処理
を中断し、例えば、フープＦ２に収納されたウエハＷの
処理に移行する。

【００６９】フープＦ１内のウエハＷの収納状態に異常
が検出されなかった場合には、搬送アーム１７ａがフー
プステージ２ａに載置されたフープＦ１にアクセスでき
る位置へ搬送アーム１７ａを移動させ、次いで、昇降機
構２３により搬送アーム１７ａの高さを調節し、スライ
ド機構２０ａを動作させて搬送アーム１７ａおよび保持
部１８ａをフープステージ２ａ側にスライドさせて搬送
アーム１７ａをフープＦ１内に挿入し、搬送アーム１７
ａにウエハＷを保持させて、搬送アーム１７ａおよび保
持部１８ａを元の位置に戻す。これによりフープＦ１か
らウエハＷが搬出された状態となる。

【００７０】次に、テーブル２１を回転機構２２を動作
させて１８０°回転させつつ、搬送アーム１７ａがロー
タ３４にアクセスできる位置までウエハ搬送機構１６を
移動させて窓部２５ａを開口する。このとき、ウエハ移
載室３ａにおいては、ホルダー開閉機構８０がロータ３
４にアクセスした状態にあり、ウエハＷをロータ３４内
に搬入できるように、押圧シリンダ８１がロックピン８
４ａを円盤３５ａ側に押し込み、かつ、回転シリンダ８
２が回転部８８ａを所定角度回転させて係止部８５が開
いた状態、つまりホルダー８３が開かれた状態とされて
いる。

【００７１】昇降機構２３により高さの調節を行った後
に搬送アーム１７ａおよび保持部１８ａをロータ３４側
にスライドさせてウエハＷをロータ３４内に搬入する。
この状態において、回転シリンダ８２を駆動してホルダ
ー８３を閉じた後に搬送アーム１７ａおよび保持部１８
ａを元の位置に戻し、ホルダー開閉機構８０についても
退避位置へ移動させる。こうしてウエハＷのロータ３４
への搬入は終了する。

【００７２】なお、このような動作を実現するために、
搬送アーム１７ａ（搬送アーム１７ｂについても同様）
の幅は、ホルダー８３が閉じた状態における係止部８５
間の間隔よりも狭くなるように設定され、また、搬送ア
ーム１７ａがウエハＷを確実に保持することができるよ
うに、係止部８５間の間隔もまた適切な間隔に設定され
る。搬送アーム１７ｂについても搬送アーム１７ａと同
様の形状設定がなされる。

【００７３】ロータ３４が外側チャンバ７１ａ内に挿入
され、かつ、ロータ搬入出口６２ｃが蓋体３３によって
閉塞されるように、姿勢変換機構２８、Ｚ軸リニア移動
機構２９、Ｘ軸リニア駆動機構３０を駆動してロータ回
転機構２７を移動させる。ロータ３４が外側チャンバ７
１ａ内の所定位置にある状態となるようにしてロータ回
転機構２７を所定位置で保持し、例えば、内側チャンバ
７１ｂを外側チャンバ７１ａ内の処理位置にスライドさ
せて、シール機構６３ａ・６３ｂ・６７ａ・６７ｂを動
作させて、処理室５２を形成する。なお、予め内側チャ
ンバ７１ｂを処理位置に移動させておき、その後にロー
タ３４を内側チャンバ７１ｂ内に挿入してもよい。

【００７４】処理室５２が形成されたら、モータ３１を
駆動してロータ３４を回転させつつ、処理液吐出ノズル
５５から所定の薬液を供給して薬液処理を行う。次い
で、処理室５２において処理液吐出ノズル５５からＩＰ
Ａを用いた予備洗浄を行い、その後に、内側チャンバ７
１ｂを退避位置に移動させて外側チャンバ７１ａによる
処理室５１を形成してウエハＷを回転させながら処理液
吐出ノズル５３から純水を吐出させて水洗処理を行う
か、または、ＩＰＡによる予備洗浄を行うことなく処理
室５１を形成して水洗処理を行ってもよい。

【００７５】ウエハＷの水洗処理が終了した後は、処理
室５１において窒素ガスによる乾燥処理を行う。また、
退避位置に移動させた内側チャンバ７１ｂについては、
形成された環状空間７２を利用して、処理液吐出ノズル
５５から洗浄液を吐出して内側チャンバ７１ｂを洗浄
し、その後に、ガス供給ノズル９３と処理液吐出ノズル
５５から乾燥ガスを吐出しながら、排気管９４から排気
を行い、内側チャンバ７１ｂを洗浄、乾燥する。こうし
て、内側チャンバ７１ｂを次のロットのウエハＷの薬液
処理に使用することが可能となる。

【００７６】このようにして洗浄処理ユニット３におい
てウエハＷの処理が行われている間に、ウエハ搬送ユニ
ット４においては、ウエハＷを保持していない状態とな
った搬送アーム１７ａをフープステージ２ｂに載置され
たフープＦ２にアクセスさせて、先にフープＦ１からウ
エハＷを搬出した方法と同様の方法を用いてフープＦ２
に収納されているウエハＷを搬出し、さらに、ウエハＷ
を保持していない搬送アーム１７ｂがロータ３４にアク
セスできる状態となるように、ウエハ搬送機構１６を動
作させる。

【００７７】洗浄処理ユニット３において洗浄処理が終
了した後には、ロータ回転機構２７をＸ軸リニア駆動機
構３０等を駆動させて、搬送アーム１７ａ・１７ｂとロ
ータ３４との間でウエハＷの受け渡し可能な位置までロ
ータ３４を戻す。ホルダー開閉機構８０をロータ３４に
アクセスさせるが、ホルダー８３は閉じた状態として窓
部２５ａを開口し、スライド機構２０ｂを動作させて搬
送アーム１７ｂをロータ３４内に挿入する。

【００７８】搬送アーム１７ｂの高さを調節してロータ
３４内で搬送アーム１７ｂがウエハＷを保持した状態と
し、その後にホルダー８３を開いてスライド機構２０ｂ
を動作させ、ロータ３４から洗浄処理済みのウエハＷを
搬出する。続いて、搬送アーム１７ａがロータ３４にア
クセスできるように回転機構２２を動作させてテーブル
２１を１８０°回転させる。これ以降は前述したよう
に、ホルダー８３が開いた状態にあるロータ３４に搬送
アーム１７ａに保持された未処理のウエハＷを搬入し、
ホルダー８３を閉じた後に搬送アーム１７ａを元の位置
へ、また、ホルダー開閉機構８０を退避位置へ移動させ
る。

【００７９】ロータ３４に保持されたフープＦ２のウエ
ハＷについては、前述したフープＦ１のウエハＷと同様
に洗浄処理を施し、この洗浄処理が終了した後にはロー
タ回転機構２７をロータ３４と搬送アーム１７ａ・１７
ｂとの間でウエハＷの受け渡し可能な位置まで移動させ
る。その間に、搬送アーム１７ｂをフープＦ１にアクセ
スさせて洗浄処理の終了したウエハＷをフープＦ１に搬
入して、ウエハ搬送機構１６を搬送アーム１７ｂがロー
タ３４にアクセスできる状態としておく。

【００８０】搬送アーム１７ｂは洗浄処理が終了したフ
ープＦ２のウエハＷをロータ３４から搬出し、このウエ
ハＷをフープＦ２に収納すればフープＦ１・Ｆ２に収納
された全てのウエハＷについての洗浄処理が終了する。
なお、例えば、フープステージ２ｃにウエハＷが収納さ
れたフープＦ３が配置され、フープＦ２のウエハＷの洗
浄処理後に引き続いてフープＦ３のウエハＷについて洗
浄処理を行う場合には、フープＦ２のウエハＷをロータ
３４に搬入し、また、洗浄処理が終了したフープＦ１の
ウエハＷをフープＦ１に収納した後に、搬送アーム１７
ａを用いてフープＦ３に収容されたウエハＷを取り出
し、洗浄処理が終了したフープＦ２のウエハＷをロータ
３４から搬出した後に、搬送アーム１７ａに保持された
フープＦ３のウエハＷをロータ３４に搬入することで、
連続して所定の洗浄処理を行うことができる。

【００８１】以上、本発明の実施の形態について説明し
てきたが、本発明が上記実施の形態に限定されるもので
はない。例えば、本発明の液処理装置は、例えば、所定
の塗布液を塗布する塗布処理やエッチング処理等、各種
の薬液を使用する液処理装置全般に適用することが可能
である。さらに、基板としては半導体ウエハを例に挙げ
たが、これに限らず、液晶表示装置（ＬＣＤ）用基板
等、他の基板であってもよい。

【００８２】

【発明の効果】上述の通り、本発明の液処理装置によれ
ば、保持手段において基板はロックされたホルダーによ
って確実に保持されることから、例えば、保持手段の回
転中に基板が保持手段から飛び出す等の事故の発生が防
止され、歩留まりおよび生産性が向上するという効果が
得られる。また、ホルダーを固定するロック機構は１個
のホルダーに対して２箇所に設けることが可能であり、
この場合には、保持手段におけるホルダーの固定をより
確実に行うことが可能となり、信頼性が高められる。さ
らに、保持手段をチャンバに挿入した際にチャンバに形
成された保持手段の搬入出口を閉塞する蓋体を保持手段
と一体的に設けた場合には、蓋体にホルダーのロックを
解除する機構を設けることができるため、装置の構造を
簡単なものとすることができる。さらにまた、ホルダー
開閉機構の保持手段へのアクセスが容易であり、また、
保持手段へ基板を搬入し、また、保持手段から基板を搬
出する搬送手段の保持手段へのアクセスも容易であるこ
とから、保持手段における基板の搬入出は容易かつ安全
に、しかも正確に行うことが可能となり作業性やスルー
プットが向上するという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液処理装置の一実施形態である洗浄処
理装置の外観を示す斜視図。

【図２】図１記載の洗浄処理装置の平面図。

【図３】図１記載の洗浄処理装置の内部構造を示す側面
図。

【図４】図１記載の洗浄処理装置の内部構造を示す別の
側面図。

【図５】ロータの一実施形態を示す斜視図。

【図６】ロータの別の実施形態を示す断面図。

【図７】ロータ回転機構の移動形態を示す説明図。

【図８】ロータをチャンバに挿入した状態の一形態を示
す断面図。

【図９】ロータをチャンバに挿入した状態の別の形態を
示す断面図。

【図１０】従来のウエハ洗浄装置の構造を示す説明図。

【符号の説明】

１；洗浄処理装置２；フープ搬入出部３；洗浄処理ユニット４；ウエハ搬送ユニット５；薬液供給ユニット１６；ウエハ搬送機構２７；ロータ回転機構３１；モータ３３；蓋体３４・３４ａ；ロータ３５ａ・３５ｂ；円盤３６；係止部材７１ａ；外側チャンバ７１ｂ；内側チャンバ８３・８３ａ；ホルダー８４ａ・８４ｂ；ロックピン８５；係止部８６ａ・８６ｂ；保持部８７ａ・８７ｂ；突起部８８ａ・８８ｂ；回転部８０；ホルダー開閉機構８１・８１ａ；押圧シリンダ８２；回転シリンダＦ；フープＷ；半導体ウエハ（基板）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｋ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板に所定の液処理を施す液処理装置で
あって、基板を搬入出する際に開閉されるホルダーおよび前記ホ
ルダーをロックするロック機構とを有し、複数の基板を
所定の間隔で略平行に保持することが可能な保持手段
と、前記保持手段において基板の搬入出が行われる位置で前
記保持手段にアクセスして基板搬入出時に前記ホルダー
を開閉させるホルダー開閉機構と、前記保持手段に保持された基板に所定の処理液を供給し
て液処理を行うチャンバと、を具備し、前記ホルダー開閉機構は、前記ロック機構にアクセスして前記ホルダーのロック状
態を解除するロック解除機構と、前記ホルダーにアクセスして前記ホルダーの開閉を行う
ホルダー駆動機構とを有することを特徴とする液処理装
置。
【請求項２】基板に所定の液処理を施す液処理装置で
あって、基板を搬入出する際に開閉されるホルダーおよび前記ホ
ルダーをロックするロック機構とを有し、複数の基板を
所定の間隔で略平行に保持することが可能な保持手段
と、前記保持手段に保持された基板に所定の処理液を供給し
て液処理を行うチャンバと、前記保持手段へ基板を搬入し、また、前記保持手段から
基板を搬出する基板搬送機構と、前記保持手段を前記基板搬送機構との間で基板の受け渡
しが行われる基板受渡位置と前記チャンバ内において液
処理が行われる液処理位置との間で移動させる保持手段
移動機構と、前記保持手段が前記基板受渡位置にあるときに前記保持
手段にアクセスして基板搬入出時に前記ホルダーを開閉
させるホルダー開閉機構と、を具備し、前記ホルダー開閉機構は、前記ロック機構にアクセスして前記ホルダーのロック状
態を解除するロック解除機構と、前記ホルダーにアクセスして前記ホルダーの開閉を行う
ホルダー駆動機構と、前記ロック解除機構と前記ホルダー駆動機構を動作位置
と退避位置との間で移動させる移動機構と、を有することを特徴とする液処理装置。
【請求項３】基板に所定の液処理を施す液処理装置で
あって、基板を搬入出する際に開閉されるホルダーおよび前記ホ
ルダーをロックするロック機構とを有し、複数の基板を
所定の間隔で略平行に保持することが可能な保持手段
と、前記保持手段において基板の搬入出が行われる位置で前
記保持手段にアクセスして基板搬入出時に前記ホルダー
を開閉させるホルダー開閉機構と、前記保持手段に保持された基板に所定の処理液を供給し
て液処理を行うチャンバと、前記保持手段を、前記保持手段において基板の受け渡し
が行われる基板受渡位置と前記チャンバ内において液処
理が行われる液処理位置との間で移動させる保持手段移
動機構と、を有する液処理部、および、基板が収納され
た搬送容器の搬入出が行われる容器搬入出部、ならび
に、前記搬送容器と前記保持手段との間での基板の搬送およ
び前記搬送容器における基板の搬入出ならびに前記保持
手段における基板の搬入出を行う基板搬送機構が配設さ
れた基板搬送部を具備し、前記ホルダー開閉機構は、前記ロック機構にアクセスして前記ホルダーのロック状
態を解除するロック解除機構と、前記ホルダーにアクセスして前記ホルダーの開閉を行う
ホルダー駆動機構と、前記ロック解除機構と前記ホルダー駆動機構を動作位置
と退避位置との間で移動させる移動機構と、を有することを特徴とする液処理装置。
【請求項４】前記ホルダー開閉機構は、前記基板搬送
部と前記液処理部とを隔てる壁部に取り付けられ、前記
基板搬送部側に退避可能であることを特徴とする請求項
３に記載の液処理装置。
【請求項５】前記保持手段における基板の搬入出は、
基板を水平状態として行われることを特徴とする請求項
１から請求項４のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項６】前記保持手段は、主面が略平行となるように所定間隔で隔てられた板状部
材と、基板を略平行な状態で保持することができるように溝部
が形成され、前記板状部材の間に設けられた略棒状の係
止部材と、を有し、また、前記ホルダーは、基板を略平行な状態で保持することができるように溝部
が設けられた略棒状の係止部と、前記係止部に連結された保持部と、前記保持部を回転可能な回転部と、を有し、前記ホルダー駆動機構は前記回転部を所定角度回転させ
ることにより前記係止部を開閉させることを特徴とする
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の液処理装
置。
【請求項７】前記保持手段に保持された基板が面内回
転するように前記保持手段を回転させる回転機構と、前記保持手段を前記チャンバに形成された前記保持手段
の搬入出口を通して前記チャンバ内に収納した際に前記
搬入出口を閉塞する蓋体と、を具備し、前記蓋体が前記保持手段と前記回転機構との間に位置す
るようにして、前記保持手段と前記回転機構と前記蓋体
とが一体構造となっていることを特徴とする請求項１か
ら請求項６のいずれか１項に記載の液処理装置。
【請求項８】一体構造を有する前記保持手段と前記蓋
体と前記回転機構とを前記保持手段に保持された基板が
略水平状態または略垂直状態で維持されるように姿勢変
換する姿勢変換機構と、前記姿勢変換機構および一体構造を有する前記保持手段
と前記蓋体と前記回転機構とを移動させて、前記保持手
段を前記チャンバに対して進入退出させる保持手段移動
機構と、を具備することを特徴とする請求項７に記載の液処理装
置。
【請求項９】前記ロック機構は２枚の前記板状部材の
それぞれに設けられ、かつ、前記蓋体に対向した板状部
材に配設されたロック機構にアクセス可能なロック解除
機構が前記蓋体に配設され、前記ホルダー開閉機構は前記蓋体から離れた位置に位置
する板状部材に設けられたホルダーおよびロック機構に
アクセス可能であることを特徴とする請求項７または請
求項８に記載の液処理装置。