JP2002220224A - 保存安定性に優れた多孔質シリカ形成用の前駆体溶液、および多孔質シリカの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】光機能材料、電子機能材料などに応用できる、
均一で規則的配列の細孔を有する多孔質シリカを形成す
るための長期安定な前駆体溶液、ならびに該前駆体溶液
を用いる多孔質シリカの製造方法を提供すること。 【解決手段】アルコキシシラン類と触媒と界面活性剤と
からなる溶液に含有される水を、アルコキシシラン類の
アルコキシ基１モルに対して０．２９モル以下にした前
駆体溶液を調製し、また、この溶液を用いて、均一で規
則的配列の細孔を有する多孔質シリカを製造する。 【効果】 均一で規則的配列の細孔を有する多孔質シリ
カ膜を形成するための長期安定な前駆体溶液、ならびに
該前駆体溶液を用いる多孔質シリカの製造方法を提供す
ることが可能となった。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の技術分野】本発明は、光機能材料、電子機能材
料などに応用できる多孔質シリカ形成用の前駆体溶液、
ならびにこの前駆体溶液を用いる多孔質シリカの製造方
法に関する。

【０００２】

【発明の技術的背景】近年、ＬＳＩ等の半導体素子の配
線は高密度化の一途をたどっており、それに伴い、半導
体素子等における多層配線構造用の層間絶縁体には、誘
電率のより低い物質が求められている。誘電率を下げる
方法として、有機物の添加などが検討されているが、耐
熱性を考慮すれば、誘電率が１である空気を中に取り込
んだ多孔質材料が有望と考えられており、強度の大きい
シリカを多孔質化することが検討されている。

【０００３】従来、均一な細孔を持つ多孔質シリカとし
ては、Ａ型、Ｙ型をはじめとするゼオライトが良く知ら
れていたが、近年、均一なメソ孔を有する多孔質シリカ
が見出された。この均一なメソ細孔を有する多孔質シリ
カは、従来のゼオライト等に比べ、大きい細孔を持つこ
とから、触媒担体、分離吸着剤、燃料電池、センサーへ
の利用とともに、層間絶縁体への応用も検討され始めて
いる。

【０００４】このような均一なメソ細孔を持つシリカ
は、細孔が不揃いである多孔質シリカと比較して、強度
的に優れており、また、従来のゼオライトのような均一
なミクロ孔を有するシリカと比較して、空隙率を大きく
とれるため、結果として誘電率をより低くできるという
優位性を有している。従来の、不均一な細孔の多孔質シ
リカ膜の調製例としては、ＷＯ９８/４９７２１号、Ｗ
Ｏ９９/０３９２６号が知られている。これらの場合に
は、ゾル−ゲル法を利用して多孔質シリカ膜を調製して
おり、細孔の形成が溶媒やポリマーの消失に起因してい
るため、細孔は不均一となっている。

【０００５】均一な細孔のシリカ多孔質膜の調製例とし
ては、特開平９−１９４２９８号公報が知られている。
この場合には、一部加水分解、脱水縮合したシリカ層
が、界面活性剤が形成する棒状ミセルを包囲し、加水分
解、脱水縮合を完了するため、形成される細孔は、１〜
２ｎｍの均一なものとなる。しかし、このような細孔を
形成させるためには、棒状ミセルを安定に形成できるよ
うに、また、部分的に加水分解、脱水縮合したシリカ層
が、棒状ミセルを包囲するために、水の添加時期および
量を制御する必要がある。すなわち、特開平９−１９４
２９８号公報では、まず、アルコキシシラン類の溶液
に、加水分解、脱水縮合に必要な量の水を添加した後、
一定の時間内に界面活性剤の溶液を添加している。ま
た、界面活性剤を添加した後に、密閉容器内で長時間反
応させると、混合物がゲル化し、得られる複合体が非晶
質になるため注意が必要であるとの記載のように、溶液
の安定性が長時間持続しないため、液調製から製膜まで
を一連の作業として行わなければならない。従って、均
一な細孔の形成は層間絶縁体としては有利であるが、プ
ロセスを連続にし、また、製膜までの調製時間を制御す
る必要がある。

【０００６】この製造プロセスを時間に制限されないよ
うにするため、特開２０００−４４８７５号公報では、
金属キレート化合物を原料液に共存させることにより、
一部が加水分解、脱水縮合した状態で長期保存しても、
多孔質材料ができるように原料液の安定性を高めてい
る。しかしながら、このような調製方法では、細孔の規
則的配列は得られない。また、細孔の大きさも均一とは
言い難く、満足のいく強度を得ることはできない。さら
に、この場合には、基板に塗布しただけでは加水分解、
脱水縮合を完了するまでには至らず、後の加熱工程で硬
化を行わなければならない。

【０００７】

【発明の目的】本発明は、光機能材料、電子機能材料な
どに応用できる規則的配列の均一な細孔を有する多孔質
シリカを形成するための長期安定な前駆体溶液、ならび
に該前駆体溶液を用いる多孔質シリカの製造方法を提供
することを目的とする。

【０００８】

【発明の概要】上記目的を達成すべく鋭意検討した結
果、アルコキシシラン類と界面活性剤とを触媒の存在下
で予め均一に混合しておいても、この混合溶液に含まれ
る水をアルコキシシラン類のアルコキシ基１モルに対し
て０．２９モル以下に制限しておけば、この溶液の状態
で長期に保存することが可能であり、製膜する前に、こ
の溶液にアルコキシシラン類のアルコキシ基１モルに対
して、１モル以上の水を加えるだけで、規則的配列の均
一な細孔を有する多孔質シリカを形成できることがわか
った。

【０００９】従来、アルコキシシラン類と界面活性剤と
を触媒の存在下で混合したままでは、規則的配列を形成
する条件を保つことが困難であるため、長期保存はなさ
れていなかった。本発明によれば、上記混合溶液の水の
含有量を制御することにより、一液で、規則的配列の均
一な細孔を有する多孔質シリカの原料溶液を長期保存す
ることを可能にした。

【００１０】すなわち、本発明に係る規則的配列の均一
な細孔を有する多孔質シリカ形成用の保存安定性に優れ
た前駆体溶液は、アルコキシシラン類と触媒と界面活性
剤とを含んでなる溶液に含有される水を、アルコキシシ
ラン類のアルコキシ基１モルに対して０．２９モル以下
にしたことを特徴とする。

【００１１】アルコキシシラン類は、一般式 （ＺＯ）
_4-nＳｉＲ_n（式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｚは炭素
数１〜４のアルキル基を示し、Ｒはフッ素原子、（ＣＨ
₂）_a（ＣＦ₂）_b（Ｏ（ＣＦ₂）_c）_dＸ（式中、Ｘはフッ
素原子、ＯＣＦ₃、ＯＣＦ（ＣＦ₃）₂、ＯＣ（ＣＦ₃）₃
を示し、ａ＝０〜３、ｂ＝０〜３、ｃ＝１〜３、ｄ＝０
〜３である。）、Ｃ₆Ｈ_eＦ_(5―e)（式中、ｅ＝０〜４で
ある。）で表されるフッ素含有官能基、アルキル基、フ
ェニル基などを示す）、または、（ＺＯ）₃ＳｉＹＳｉ
（ＯＺ）₃（式中、Ｚは炭素数１〜４のアルキル基を示
し、Ｙはアルキル基由来のメチレン基、フェニル基由来
のフェニレン基などを示す）からなる群から選択される
少なくとも一種類のアルコキシシランであることが好ま
しい。

【００１２】界面活性剤は、ポリアルキレンオキサイド
構造を有する化合物であることが好ましい。界面活性剤
のモル数は、アルコキシシラン類のモル数の和に対し
て、０．００３〜０．０４倍の範囲であることが好まし
い。また、本発明の規則的配列の均一な細孔を有する多
孔質シリカの製造方法は、該前駆体溶液のアルコキシシ
ラン類のアルコキシ基１モルに対し、１モル以上の水を
添加した後、この混合溶液を乾燥し、界面活性剤を除去
することを特徴とする。

【００１３】この方法で製造される規則的配列の均一な
細孔を有する多孔質シリカは、厚さ０．０１μｍ〜１μ
ｍのフィルムであることを特徴とする。また、前記方法
で製造される多孔質シリカの細孔の平均径は１．３ｎｍ
〜５ｎｍの範囲であり、Ｘ線回折法により細孔が六方晶
系の規則的配列を有することを特徴とする。

【００１４】

【発明の具体的説明】以下、本発明をより具体的に説明
する。アルコキシシラン類と触媒と界面活性剤とを含ん
でなる溶液であって、この溶液に含有される水を、アル
コキシシラン類のアルコキシ基１モルに対して０．２９
モル以下、好ましくは０．２７モル以下に制御した、規
則的配列の均一な細孔を有する多孔質シリカ膜形成用の
保存安定性に優れた前駆体溶液は、各成分が均一に混合
されていれば、調製方法には特に制限はない。

【００１５】アルコキシシラン類は一般式 （ＺＯ）₄
Ｓｉ（式中、Ｚはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ
−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基を示す）、（ＺＯ）_4-n
ＳｉＲ_n（式中、ｎは１〜３の整数を示し、Ｚはメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基を示し、Ｒはフッ素原子、（ＣＨ₂）_a（ＣＦ₂）
_b（Ｏ（ＣＦ₂）_c）_dＸ（式中、Ｘはフッ素原子、ＯＣＦ
₃、ＯＣＦ（ＣＦ₃）₂、ＯＣ（ＣＦ₃）₃を示し、ａ＝０
〜３、ｂ＝０〜３、ｃ＝１〜３、ｄ＝０〜３であ
る。）、Ｃ₆Ｈ_eＦ_(5―e)（式中、ｅ＝０〜４である。）
で表されるフッ素含有官能基、アルキル基、フェニル基
を示す）、（ＺＯ）₃ＳｉＹＳｉ（ＯＺ）₃（式中、Ｚは
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅ
ｃ−ブチル基を示し、Ｙはアルキル基由来のメチレン
基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、
１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、フェニル基
由来のフェニレン基、ジエチルフェニレン基、ビニル基
由来のビニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ア
ミド基由来のアミド基、２〜３級アミノ由来のジメチル
アミノ基、トリメチルアミノ基を示す）からなる群から
選択される少なくとも一種類のアルコキシシランが用い
られる。

【００１６】また、無水、あるいは含水であっても、溶
液の含有水がアルコキシシラン類のアルコキシ基１モル
に対して０．２９モル、好ましくは０．２７モルを超え
ない範囲であれば、前駆体溶液に溶媒を共存させること
も可能である。使用可能な溶媒としては、メタノール、
エタノール、１−プロパノール等の１級アルコール、２
−プロパノール、２−ブタノール等の２級アルコール、
ターシャリーブチルアルコール等の３級アルコール、ア
セトン、アセトニトリル等が挙げられる。溶媒は、１種
単独でまたは２種以上の組み合わせで使用することがで
きる。

【００１７】触媒は無水物が好ましいが、触媒を添加す
ることにより、溶液の含有水が、アルコキシシラン類の
アルコキシ基１モルに対して０．２９モル、好ましくは
０．２７モルを超えなければ、含水物であっても構わな
い。触媒としては、酸性触媒、たとえば、塩酸、臭化水
素酸、硫酸等が用いられる。

【００１８】界面活性剤としては、ポリアルキレンオキ
サイド構造を有する化合物の使用が好ましい。ポリアル
キレンオキサイド構造としては、ポリエチレンオキシド
構造、ポリプロピレンオキシド構造、ポリテトラメチレ
ンオキシド構造、ポリブチレンオキシド構造などが挙げ
られる。具体的には、ポリオキシエチレンポリオキシプ
ロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンポリ
オキシプロピレンアルキルエーテル、ポリエチレンアル
キルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテルなどのエーテル型化合物、ポリオキシエチレング
リセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリエチレンソルビトール脂肪酸エ
ステル、ソルビタン脂肪酸エステル、プロピレングリコ
ール脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステルなどのエー
テルエステル型化合物などを挙げることができる。

【００１９】使用する界面活性剤とアルコキシシラン類
とのモル比を変えることにより、得られる多孔質シリカ
の結晶構造を制御することができる。界面活性剤のモル
数がアルコキシシラン類のモル数の和に対して、０．０
０３〜０．０４倍の範囲が好ましく、０．００５〜０．
０３倍の範囲がより好ましい。界面活性剤のモル数がこ
の範囲内にあると、シリカは過不足無く自己組織化に寄
与できるため多孔質性が低下することもなく、また、層
状構造のような六方晶系以外の結晶構造が形成されるこ
とで、界面活性剤除去により、均一な細孔の規則的な構
造が崩壊するなどの不都合も生じない。

【００２０】本発明によるアルコキシシラン類と触媒と
界面活性剤とからなる溶液に含有される水を、アルコキ
シシラン類のアルコキシ基１モルに対して０．２９モル
以下に制御した前駆体溶液は、大気に触れない状態で保
存すれば安定であり、前駆体溶液を調製して数日経過し
た後でも、この溶液を用いてシリカの形成を行った場合
には、細孔が規則的に配列した多孔質シリカを得ること
ができる。

【００２１】本発明による規則的配列の均一な細孔を有
する多孔質シリカの製造方法は、まず、この前駆体溶液
に、アルコキシシラン類が最終的に加水分解、脱水縮合
を完了するように、アルコキシシラン類のアルコキシ基
１モルに対して、１モル以上の水を添加する。次に水を
添加した前駆体溶液を、均一にするため、室温で１時間
程度攪拌した後、多孔質シリカ形成に用いる。

【００２２】前駆体溶液に添加する水の量は、アルコキ
シシラン類のアルコキシ基１モルに対して１モル以上で
あれば問題ない。１モルに満たない場合には、アルコキ
シシラン類の加水分解、脱水縮合が十分に完了せず、細
孔の規則性が十分に得られない恐れがある。規則的配列
の均一な細孔を有する多孔質シリカをフィルムに形成す
る場合に、使用する基材としては、一般的に用いられる
ものであれば、何れのものも使用できる。たとえば、ガ
ラス、石英、シリコンウエハー、ステンレス等が挙げら
れる。また、板状、皿状等の何れの形状であってもよ
い。

【００２３】また、基材に塗布する方法としては、たと
えば、スピンコート法、キャスティング法、ディップコ
ート法等の一般的な方法が挙げられる。スピンコート法
の場合、スピナー上に基材を置き、この基材上に試料を
滴下し５００〜１００００ｒｐｍで回転させることによ
り、均一な膜厚の多孔質シリカ膜が得られる。得られた
多孔質シリカは、自立した状態でも、基材に固着した状
態でも、光機能材料、電子機能材料として応用できる。
また、多孔質シリカ膜は透明にすることができる。

【００２４】乾燥は、溶媒を除去することができれば特
に制限はなく、雰囲気は空気中、不活性雰囲気中、真空
中のいずれでもよい。界面活性剤の除去は、溶媒抽出、
あるいは焼成等の方法が採られる。焼成の場合は、界面
活性剤が完全になくなる温度、時間が採られるが、雰囲
気は空気中、不活性雰囲気中、真空中のいずれでもよ
い。

【００２５】

【実施例】以下、実施例を用いてさらに本発明を詳細に
説明する。

【００２６】

【実施例１】テトラエトキシシラン１０．０ｇ、トリエ
トキシフルオロシラン０．５ｇおよびエタノール５０mL
を混合し攪拌した。３６％塩酸０．０９ｇおよび水０．
８７ｇを添加し、さらに攪拌した。このときの水はアル
コキシシラン類のアルコキシ基１モルに対して０．２６
モルであった。次いで、エタノール５０ｍＬに溶解した
ポリエチレンオキシドブロック−ポリプロピレンオキシ
ドブロック−ポリエチレンオキシドブロック共重合体
２．８ｇを混合した。攪拌後、透明、均一な前駆体溶液
が得られた。この前駆体溶液を密栓容器に移し、２４時
間放置した。放置後の前駆体溶液に、水１０ｇを添加
し、１時間攪拌した後、噴霧乾燥し、乾燥粉体を得た。
得られた粉体はＸ線回折法により面間隔６．５ｎｍの周
期的なヘキサゴナル配列の構造を有していることがわか
った。焼成後の粉体は、Ｘ線回折法により、面間隔５．
５ｎｍの周期的な構造を保持していることがわかった。

【００２７】

【実施例２】実施例１と同様にして、２４時間放置した
前駆体溶液に水１０ｇを添加し、１時間攪拌した。この
溶液をガラス板表面上に数滴のせ、１０秒間、２０００
ｒｐｍで回転させ、ガラス板表面にフィルムを調製し
た。得られたフィルムは、Ｘ線回折法により、面間隔
６．５ｎｍの周期的なヘキサゴナル配列の構造を有して
いることがわかった。焼成後のフィルムはＸ線回折法に
より、実施例１と同様の面間隔５．５ｎｍの周期的な構
造を保持していることがわかった。得られたフィルム
を、膜厚計により測定した結果、０．２μmの均一な膜
厚を有することがわかった。

【００２８】

【実施例３】３６％塩酸０．０９ｇおよび水０．８７ｇ
に変えて、塩化水素ガス０．０４ｇをテトラエトキシシ
ラン１０．０ｇ、トリエトキシフルオロシラン０．５ｇ
およびエタノール５０ｍＬを混合攪拌した溶液に吹き込
んだ以外は、実施例２と同様にして前駆体溶液を調製し
た。このときの前駆体溶液中の水は、アルコキシシラン
類のアルコキシ基１モルに対して０．００１５モルであ
った。

【００２９】この前駆体溶液からフィルムを調製した。
得られたフィルムは、Ｘ線回折法により、面間隔６．７
ｎｍの周期的なヘキサゴナル配列の構造を有しているこ
とがわかった。焼成後のフィルムは、Ｘ線回折法によ
り、実施例１と同様の面間隔５．８ｎｍの周期的な構造
を保持していることがわかった。得られたフィルムを、
膜厚計により測定した結果、０．２μｍの均一な膜厚を
持つことがわかった。

【００３０】

【比較例１】水の量を０．８７ｇから１．４ｇに変えて
添加すること以外は、実施例１と同様の操作を行った。
このときの水は、アルコキシシラン類のアルコキシ基１
モルに対して０．４０モルであった。噴霧乾燥して得ら
れた粉体は、Ｘ線回折法により面間隔６．５ｎｍのヘキ
サゴナル配列構造を有していたが、回折ピークはブロー
ドで、強度は実施例１に比較して半分程度となり、構造
規則性が弱くなっていることがわかった。焼成後も、構
造規則性は弱くなったままであった。

【００３１】

【比較例２】比較例１と同様の操作を行い、噴霧乾燥を
せずに、ガラス板表面にフィルムを調製した。Ｘ線回折
法より、調製したフィルムは、比較例１と同様にヘキサ
ゴナル構造を有していたが、回折ピークはブロードで、
強度は実施例２に比較して半分程度となり、規則性が弱
くなっていることがわかった。焼成後も、構造規則性は
弱くなったままであった。

【００３２】

【比較例３】水の量を０．８７ｇから１０ｇに変えて、
添加すること以外は実施例１と同様の操作を行った。こ
のときの水は、アルコキシシラン類のアルコキシ基１モ
ルに対して２．８０モルであった。噴霧乾燥して得られ
た粉体はＸ線回折法では、もはや明確なピークは得られ
なかった。

【００３３】

【比較例４】メチルトリエトキシシラン２５．４ｇ、メ
トキシプロピオン酸メチル６９．２ｇ、テトライソプロ
ポキシチタン／アセト酢酸エチル錯体２．５ｇの混合溶
液を６０℃に加熱しながら、γ−ブチロラクトン／水
（重量比４．５８）混合物２８．１ｇを１時間で滴下し
た。このときの水は、アルコキシシラン類のアルコキシ
基１モルに対して１．９７モルであった。混合物の滴下
終了後、さらに６０℃で１時間反応させ、ポリシロキサ
ンゾルを得た。このゾル１５ｇとポリエチレンオキシド
ブロック−ポリプロピレンオキシドブロック−ポリエチ
レンオキシドブロック共重合体（三洋化成社製ニュポー
ルＰＥ６１）１ｇとを混合し、得られた溶液をガラス板
面上にスピンコートし、フィルムを調製した。得られた
フィルムは、Ｘ線回折法では、明確なピークはなく、構
造規則性は見られなかった。

【００３４】

【発明の効果】光機能材料、電子機能材料などに応用で
きる、均一で規則的配列の細孔を有する多孔質シリカを
形成するための長期安定な前駆体溶液、ならびに該前駆
体溶液を用いる多孔質シリカの製造方法を提供すること
が可能になった。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 窪 田 武 司 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 蔵 野 義 人 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 (72)発明者 村 上 雅 美 千葉県袖ヶ浦市長浦580−32 三井化学株 式会社内 Ｆターム(参考） 4G073 BD01 BD11 BD18 CZ54 FB42 FC01 FC18 FD13 FD21 UA02 UA06 UB11 UB12 4J002 CH021 DD017 DE028 DG047 EX036 HA05 4J035 BA12 BA16 CA061 LB20

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルコキシシラン類と触媒と界面活性剤
   とを含んでなる溶液であって、この溶液に含有される水
   を、アルコキシシラン類のアルコキシ基１モルに対して
   ０．２９モル以下にしたことを特徴とする規則的配列の
   均一な細孔を有する多孔質シリカ形成用の保存安定性に
   優れた前駆体溶液。
2. 【請求項２】 アルコキシシラン類が、一般式 （Ｚ
   Ｏ）_4-nＳｉＲ_n（式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｚは
   炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒはフッ素原子、
   （ＣＨ₂）_a（ＣＦ₂）_b（Ｏ（ＣＦ₂）_c）_dＸ（式中、Ｘ
   はフッ素原子、ＯＣＦ₃、ＯＣＦ（ＣＦ₃）₂、ＯＣ（Ｃ
   Ｆ₃）₃を示し、ａ＝０〜３、ｂ＝０〜３、ｃ＝１〜３、
   ｄ＝０〜３である。）、Ｃ₆Ｈ_eＦ_(5―e)（式中、ｅ＝０
   〜４である。）で表されるフッ素含有官能基、アルキル
   基、フェニル基を示す）、または、（ＺＯ）₃ＳｉＹＳ
   ｉ（ＯＺ）₃（式中、Ｚは炭素数１〜４のアルキル基を
   示し、Ｙはアルキル基由来のメチレン基、エチレン基、
   トリメチレン基、テトラメチレン基、１，２−ブチレン
   基、１，３−ブチレン基、フェニル基由来のフェニレン
   基、ジエチルフェニレン基、ビニル基由来のビニレン
   基、プロペニレン基、ブテニレン基、アミド基由来のア
   ミド基、２〜３級アミノ由来のジメチルアミノ基、トリ
   メチルアミノ基を示す）からなる群から選択される少な
   くとも1種類のアルコキシシランであることを特徴とす
   る請求項１に記載の前駆体溶液。
3. 【請求項３】 界面活性剤がポリアルキレンオキサイド
   構造を有する化合物である請求項１または２に記載の前
   駆体溶液。
4. 【請求項４】 界面活性剤のモル数がアルコキシシラン
   類のモル数の和に対して、０．００３〜０．０４倍の範
   囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記
   載の前駆体溶液。
5. 【請求項５】 請求項１記載の前駆体溶液に、アルコキ
   シシラン類のアルコキシ基１モルに対し、１モル以上の
   水を添加した後、この混合溶液を乾燥し、界面活性剤を
   除去することによって、規則的配列の均一な細孔を形成
   することを特徴とする多孔質シリカの製造方法。
6. 【請求項６】 規則的配列の均一な細孔を有する多孔質
   シリカが０．０１μｍ〜１μｍの厚さのフィルムである
   ことを特徴とする請求項５に記載の多孔質シリカの製造
   方法。
7. 【請求項７】 多孔質シリカの細孔の平均径が１．３ｎ
   ｍ〜５ｎｍの範囲であり、Ｘ線回折法により細孔が六方
   晶系の規則的配列を有することを特徴とする請求項５ま
   たは６に記載の多孔質シリカの製造方法。