JP2002299051A - Semiconductor device and manufacturing mask for semiconductor device - Google Patents
Semiconductor device and manufacturing mask for semiconductor deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置及び半導
体装置製造用マスクに関し、特に有効発光面積の増大に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a mask for manufacturing a semiconductor device, and more particularly to an increase in an effective light emitting area.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、フラットディスプレイパネル
として有機エレクトロルミネセンス(有機EL)素子を
用いた表示パネルが知られている。有機EL素子は陽極
と陰極との間に設けられた有機EL層に電流を供給する
ことで有機EL層を発光させる自然光ディスプレイであ
り、LCDのようにバックライトが不要であることか
ら、次のフラットディスプレイパネルの主流として期待
されている。特に、各画素にスイッチング素子を形成し
たアクティブマトリクス型の有機ELディスプレイで
は、各画素毎に表示データを保持できるため大画面化、
高精細化が可能であり有望視されている。2. Description of the Related Art Hitherto, a display panel using an organic electroluminescence (organic EL) element has been known as a flat display panel. The organic EL element is a natural light display that emits light from the organic EL layer by supplying a current to the organic EL layer provided between the anode and the cathode, and does not require a backlight like an LCD. It is expected as the mainstream of flat display panels. In particular, in an active matrix type organic EL display in which a switching element is formed in each pixel, a large screen can be obtained because display data can be held for each pixel.
High definition is possible and is promising.
【0003】このような有機ELディスプレイにおい
て、発光層である有機EL層は一般に回路基板上にシャ
ドウマスクを用いて蒸着法により形成されている。In such an organic EL display, an organic EL layer as a light emitting layer is generally formed on a circuit board by a vapor deposition method using a shadow mask.
【0004】図9には、従来のカラー有機ELディスプ
レイ1の画素配列が模式的に示されている。有機ELデ
ィスプレイ1は、複数の画素1aがマトリクス状に配置
されて構成される。各画素1aは薄膜トランジスタなど
のスイッチング素子を有し、各画素のスイッチング素子
を行に相当するゲートライン及び列に相当するデータラ
インで駆動し有機EL素子を発光させる。R画素、G画
素及びB画素の配列は任意であるが、例えば図に示され
るようにR画素、G画素、B画素を直線状(列状)に配
置(ストライプ配列)することができる。FIG. 9 schematically shows a pixel arrangement of a conventional color organic EL display 1. The organic EL display 1 includes a plurality of pixels 1a arranged in a matrix. Each pixel 1a has a switching element such as a thin film transistor, and the switching element of each pixel is driven by a gate line corresponding to a row and a data line corresponding to a column to cause the organic EL element to emit light. The arrangement of the R, G, and B pixels is arbitrary. For example, as shown in the figure, the R, G, and B pixels can be arranged linearly (in a row) (stripe arrangement).
【0005】図10には、図9における画素1aの詳細
な平面図が示されており、図11(a)、(b)には、
それぞれ図10におけるA−A断面及びB−B断面が示
されている。両図において、行方向に延びるゲートライ
ン51と列方向に延びるデータライン52に囲まれた領
域が1つの画素領域1aであり、この領域内にnチャネ
ル薄膜トランジスタ13、補助容量70、pチャネル薄
膜トランジスタ42が形成され、さらに薄膜トランジス
タ42のドレインとドレイン電極43dを介し接続され
た有機EL素子65が設けられている。また、薄膜トラ
ンジスタ42のソースはソ−ス電極43sを介して電源
ライン53に接続されている。FIG. 10 is a detailed plan view of the pixel 1a in FIG. 9, and FIGS. 11 (a) and 11 (b)
AA section and BB section in FIG. 10 are shown. In both figures, a region surrounded by a gate line 51 extending in a row direction and a data line 52 extending in a column direction is one pixel region 1a, in which an n-channel thin film transistor 13, an auxiliary capacitor 70, and a p-channel thin film transistor 42 Are formed, and an organic EL element 65 connected to the drain of the thin film transistor 42 via the drain electrode 43d is provided. The source of the thin film transistor 42 is connected to a power supply line 53 via a source electrode 43s.
【0006】薄膜トランジスタ13の能動層9は、ゲー
トライン51から突出したゲート電極11を2回くぐる
パターンとなっており、ダブルゲート構造となってい
る。薄膜トランジスタ13のドレインはドレイン電極1
6を介してデータライン52に接続され、ソースは補助
容量70及びブリッジ構造を介して薄膜トランジスタ4
2のゲート41に接続される。補助容量70は、電源V
scに接続されたSCライン54と能動層9と一体の電
極55から構成される。The active layer 9 of the thin film transistor 13 has a double-gate structure in which the active layer 9 passes through the gate electrode 11 projecting from the gate line 51 twice. The drain of the thin film transistor 13 is the drain electrode 1
6 is connected to the data line 52, and the source is the thin film transistor 4 via the auxiliary capacitor 70 and the bridge structure.
2 gate 41. The auxiliary capacitor 70 is connected to the power supply V
It is composed of an SC line 54 connected to SC and an electrode 55 integrated with the active layer 9.
【0007】上述したように、薄膜トランジスタ42の
ドレインは有機EL素子60に接続される。有機EL素
子60は、薄膜トランジスタ13、42上の平坦化絶縁
膜17に画素毎に形成された陽極(透明電極)61と、
最上層に各画素共通に形成された陰極(金属電極)66
と、陽極61及び陰極66との間に積層された有機層6
5から構成される。陽極61は、ITOなどから構成さ
れ、薄膜トランジスタ42のドレインとドレイン電極4
3dを介して接続される。また、有機層65は、陽極6
1側からホール輸送層62、有機発光層63、電子輸送
層64を順次積層して構成される。有機発光層63は、
R画素、G画素、B画素毎にその材料が異なるが、例え
ばキナクリドン誘導体を含むBeBq2を含んで構成さ
れる。As described above, the drain of the thin film transistor 42 is connected to the organic EL element 60. The organic EL element 60 includes an anode (transparent electrode) 61 formed for each pixel on the flattening insulating film 17 on the thin film transistors 13 and 42;
A cathode (metal electrode) 66 formed on the uppermost layer in common for each pixel
And the organic layer 6 laminated between the anode 61 and the cathode 66
5 is comprised. The anode 61 is made of ITO or the like, and has a drain and a drain electrode 4 of the thin film transistor 42.
Connected via 3d. In addition, the organic layer 65 is
The hole transport layer 62, the organic light emitting layer 63, and the electron transport layer 64 are sequentially laminated from the first side. The organic light emitting layer 63
Although the material is different for each of the R pixel, the G pixel, and the B pixel, the material includes, for example, BeBq2 containing a quinacridone derivative.
【0008】なお、上述した各画素の構成要素は、全て
基板3上に積層形成される。すなわち、基板3上に絶縁
層4が形成され、その上に半導体層9がパターン形成さ
れる。そして、半導体層9上にゲート酸化膜12を介し
てゲート11、41が形成される。ゲート11、41上
には層間絶縁膜15が形成され、この層間絶縁膜15に
形成されたコンタクトホールを介して陽極61と多結晶
シリコンなどからなる能動層9が接続される。Note that all the components of each pixel described above are formed on the substrate 3 in a laminated manner. That is, the insulating layer 4 is formed on the substrate 3, and the semiconductor layer 9 is pattern-formed thereon. Gates 11 and 41 are formed on semiconductor layer 9 with gate oxide film 12 interposed therebetween. An interlayer insulating film 15 is formed on gates 11 and 41, and anode 61 and active layer 9 made of polycrystalline silicon or the like are connected through a contact hole formed in interlayer insulating film 15.
【0009】また、画素毎に形成された透明陽極61の
上に有機EL素子60を形成するためには、図12に示
されるように各画素に対応した開口部2aを有するシャ
ドウマスク2をR画素、G画素、B画素毎に用いて有機
発光層63を蒸着すればよい。そして、陽極61と陰極
66で挟まれた領域に電流が主として供給されるため、
有機発光層63は陽極61に位置決めされて形成され
る。Further, in order to form the organic EL element 60 on the transparent anode 61 formed for each pixel, as shown in FIG. 12, a shadow mask 2 having an opening 2a corresponding to each pixel must be The organic light-emitting layer 63 may be deposited for each pixel, G pixel, and B pixel. Since current is mainly supplied to a region sandwiched between the anode 61 and the cathode 66,
The organic light emitting layer 63 is formed by being positioned on the anode 61.
【0010】このような構成において、ゲートライン5
1に選択信号が出力されると薄膜トランジスタ13がオ
ンし、そのときにデータライン52に印加されているデ
ータ信号の電圧値に応じて補助容量70が充電される。
薄膜トランジスタ42のゲートは、この容量70に充電
された電荷に応じた電圧を受け、電源ライン53から有
機EL素子に供給される電流が制御され、素子は供給さ
れた電流に応じた輝度で発光する。In such a configuration, the gate line 5
When the selection signal is output to 1, the thin film transistor 13 is turned on, and the auxiliary capacitance 70 is charged according to the voltage value of the data signal applied to the data line 52 at that time.
The gate of the thin-film transistor 42 receives a voltage corresponding to the charge charged in the capacitor 70, the current supplied from the power supply line 53 to the organic EL element is controlled, and the element emits light with a luminance corresponding to the supplied current. .
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】このように、従来にお
いては各画素毎に有機発光層63を形成するために図1
2に示されるような各画素に対応した開口部2aを有す
るマスク2を用いており、開口部2aと開口部2aとの
間の距離、すなわち非開口部距離dが小さくマスク2の
強度が小さい問題があった。As described above, in order to form the organic light emitting layer 63 for each pixel in the related art, FIG.
2, a mask 2 having an opening 2a corresponding to each pixel is used, and the distance between the openings 2a, that is, the non-opening distance d is small and the strength of the mask 2 is small. There was a problem.
【0012】また、開口部2aの端部で生じるシャドウ
イングにより、形成される有機発光層63の膜厚が開口
部2aの端部で小さくなり、膜厚が不均一化して発光む
らや膜の劣化、有効発光面積の減少などを招く問題があ
った。Further, due to shadowing occurring at the end of the opening 2a, the film thickness of the organic light emitting layer 63 formed becomes small at the end of the opening 2a, and the film thickness becomes non-uniform. There has been a problem that deterioration and a decrease in the effective light emitting area are caused.
【0013】本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑
みなされたものであり、その目的は、発光層を形成する
ためのマスク強度を増大させること、また、発光むらを
なくし有効発光面積を増大させることができる装置及び
マスクを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has as its object to increase the strength of a mask for forming a light emitting layer, and to increase the effective light emitting area by eliminating uneven light emission. It is an object of the present invention to provide an apparatus and a mask that can be used.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、第1電極及び第2電極との間に設けられ
た発光層とを有する画素を複数個配置して構成される半
導体装置であって、前記第1電極は、前記画素毎に設け
られ、前記発光層は、複数の前記画素のうち隣接する2
つの画素で共通化され、前記隣接する2つの画素の前記
第1電極は、前記画素内において互いに隣接する他の画
素の側に配置されることを特徴とする。In order to achieve the above object, the present invention comprises a plurality of pixels having a light emitting layer provided between a first electrode and a second electrode. In the semiconductor device, the first electrode is provided for each of the pixels, and the light-emitting layer is formed of two adjacent pixels among the plurality of pixels.
One pixel is shared, and the first electrodes of the two adjacent pixels are arranged on the side of another adjacent pixel in the pixel.
【0015】また、本発明は、第1電極及び第2電極
と、第1電極に接続されたスイッチング素子と、前記第
1電極と第2電極との間に設けられた発光層とを有する
画素を複数個配置して構成される半導体装置であって、
前記発光層は、複数の前記画素のうち隣接する2つの画
素で共通化され、前記隣接する2つの画素の前記第1電
極は、平面位置において前記スイッチング素子を介在さ
せずに互いに対向配置されることを特徴とする。According to another aspect of the present invention, there is provided a pixel having a first electrode and a second electrode, a switching element connected to the first electrode, and a light emitting layer provided between the first electrode and the second electrode. A semiconductor device configured by arranging a plurality of
The light emitting layer is shared by two adjacent pixels among a plurality of the pixels, and the first electrodes of the two adjacent pixels are opposed to each other at a plane position without the switching element interposed therebetween. It is characterized by the following.
【0016】ここで、前記隣接する2つの画素の前記ス
イッチング素子は、平面位置において前記対向配置され
た前記第1電極を挟むように前記第1電極の両端部にそ
れぞれ配置されることが好適である。Here, it is preferable that the switching elements of the two adjacent pixels are respectively arranged at both ends of the first electrode so as to sandwich the first electrode which is opposed to each other in a plane position. is there.
【0017】また、前記隣接する2つの画素の前記第1
電極及びスイッチング素子は、前記対向配置の軸を中心
として線対称に配置することができる。Further, the first of the two adjacent pixels is
The electrodes and the switching elements can be arranged symmetrically with respect to the axis of the opposed arrangement.
【0018】また、前記第1電極は、前記対向配置の中
心軸を中心として点対称に配置することができる。Further, the first electrodes can be arranged point-symmetrically with respect to a center axis of the opposed arrangement.
【0019】本装置において、前記隣接する2つの画素
は、同色とすることが好適である。この場合、前記同色
の画素を列状に隣接配置し、前記発光層を前記列状の隣
接する2つの画素間で共通化することができる。また、
前記同色の画素をジグザグ状に配置し、前記発光層を前
記ジグザグ状の隣接する2つの画素間で共通化すること
もできる。前記同色の画素は、R画素、G画素、B画素
の少なくともいずれかとすることができる。In this device, it is preferable that the two adjacent pixels have the same color. In this case, the pixels of the same color can be arranged adjacently in a column, and the light emitting layer can be shared between two adjacent pixels in the column. Also,
The pixels of the same color may be arranged in a zigzag pattern, and the light emitting layer may be shared between two adjacent pixels in the zigzag pattern. The pixel of the same color can be at least one of an R pixel, a G pixel, and a B pixel.
【0020】本装置において、前記発光層は、有機EL
材を含むことができ、これにより有機ELディスプレイ
を得ることができる。In this device, the light emitting layer is an organic EL.
And an organic EL display.
【0021】このように、本発明では隣接する2つの画
素において発光層を共通化する。この際、隣接する2つ
の画素の陽極同士を近接して対向配置するため、発光層
を形成するためのマスクの開口部の間隔を増大させるこ
とができ、これによりマスク強度を上げることができ
る。また、隣接する2つの画素間で発光層を共通化する
ことで、開口部の端数を削減し、開口部端で生じるシャ
ドウイングによる発光層の膜厚減少を抑制して膜厚を均
一化することができる。As described above, in the present invention, the light emitting layer is shared between two adjacent pixels. At this time, since the anodes of two adjacent pixels are arranged close to each other and opposed to each other, the interval between openings of a mask for forming a light emitting layer can be increased, thereby increasing the mask strength. In addition, by sharing the light emitting layer between two adjacent pixels, the number of openings is reduced, and a decrease in the film thickness of the light emitting layer due to shadowing generated at the end of the opening is suppressed to make the film thickness uniform. be able to.
【0022】また、本発明は、上記の半導体装置を製造
するための前記発光層形成用マスクを提供する。このマ
スクは、前記隣接する2つの画素間で共通する開口部を
有し、前記開口部により前記発光層の材料を通過させて
前記発光層を形成することを特徴とする。Further, the present invention provides the light emitting layer forming mask for manufacturing the above semiconductor device. The mask has an opening common to the two adjacent pixels, and the material of the light emitting layer is passed through the opening to form the light emitting layer.
【0023】本発明のマスクにより、開口部の端数を減
少させ、シャドウイングを抑制して発光層を従来以上に
均一に形成することができる。また、隣接する2つの画
素間で開口部を共通化させることで、開口部間の長さも
確保でき、マスク強度を上げることができる。With the mask of the present invention, the number of openings can be reduced, shadowing can be suppressed, and the light emitting layer can be formed more uniformly than before. Further, by sharing the opening between two adjacent pixels, the length between the openings can be secured, and the mask strength can be increased.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の実施
形態について、有機ELディスプレイを例にとり説明す
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, taking an organic EL display as an example.
【0025】図1には、本実施形態に係る有機発光層6
3形成用のシャドウマスク2が示されている。従来にお
いては、各画素に対応して離散的な開口部2aを有して
いるが、本実施形態では隣接する2つの画素間で共通す
る開口部2aを有している。具体的には、ある色、例え
ばR画素に着目すると、R画素群は列方向に直線上に配
置されており、R画素を形成するための開口部2aも列
方向に直線上に配置されているから、隣接する2つの画
素間で開口部2aを共通化させることで、結局図示のよ
うな細長い開口部2aが得られる。開口部2aの幅は従
来と同様であり、長さは従来の略2倍である。開口部2
aの間隔D、すなわち非開口部の長さDは、従来の開口
部間の長さdよりも増大している。これについてはさら
に後述する。開口部2aのピッチは、行方向の同色画素
ピッチに等しい。マスク2の厚さは、従来と同様に50
μm程度とすることができる。G画素用のマスクあるい
はB画素用のマスクについても同様である。FIG. 1 shows an organic light emitting layer 6 according to this embodiment.
The shadow mask 2 for forming 3 is shown. In the related art, a discrete opening 2a is provided for each pixel, but in the present embodiment, an opening 2a common to two adjacent pixels is provided. Specifically, when focusing on a certain color, for example, an R pixel, the R pixel group is arranged on a straight line in the column direction, and the opening 2a for forming the R pixel is also arranged on a straight line in the column direction. Therefore, by making the opening 2a common between two adjacent pixels, an elongated opening 2a as shown in the figure is eventually obtained. The width of the opening 2a is the same as that of the related art, and the length is about twice that of the related art. Opening 2
The interval D of a, that is, the length D of the non-opening portion is larger than the conventional length d between the opening portions. This will be further described later. The pitch of the openings 2a is equal to the same color pixel pitch in the row direction. The thickness of the mask 2 is set to 50
It can be about μm. The same applies to the mask for G pixels or the mask for B pixels.
【0026】このようなマスク2を用いて有機EL材を
蒸着することで、R画素用の有機発光層63、G画素用
の有機発光層63、B画素用の有機発光層63をそれぞ
れ形成する。An organic EL material is deposited using such a mask 2 to form an organic light emitting layer 63 for the R pixel, an organic light emitting layer 63 for the G pixel, and an organic light emitting layer 63 for the B pixel. .
【0027】図2には、図1に示されたマスク2を用い
て有機発光層63を形成した場合の有機ELディスプレ
イの平面図が示されている。なお、図においては説明の
都合上、列方向に隣接する2つの同色画素1a、1bが
示されている。FIG. 2 is a plan view of an organic EL display when an organic light emitting layer 63 is formed using the mask 2 shown in FIG. In the figure, for convenience of description, two same-color pixels 1a and 1b adjacent in the column direction are shown.
【0028】各画素の構成要素は図10と同様であり、
一つの画素には薄膜トランジスタ13、42及び補助容
量70が形成される。これら薄膜トランジスタ13、4
2及び補助容量70をスイッチング素子と総称する。薄
膜トランジスタ13のドレインはデータライン52に接
続され、薄膜トランジスタ13のソースは補助容量70
の一方の電極に接続されるとともに薄膜トランジスタ4
2のゲートに接続され、薄膜トランジスタ13のゲート
はゲートライン51に接続される。また、薄膜トランジ
スタ42のソースは電源ライン53に接続され、ドレイ
ンは透明な陽極61に接続される。The components of each pixel are the same as in FIG.
The thin film transistors 13 and 42 and the storage capacitor 70 are formed in one pixel. These thin film transistors 13, 4
2 and the auxiliary capacitor 70 are collectively referred to as a switching element. The drain of the thin film transistor 13 is connected to the data line 52, and the source of the thin film transistor 13 is
And the thin film transistor 4
2 and the gate of the thin film transistor 13 is connected to the gate line 51. The source of the thin film transistor 42 is connected to the power supply line 53, and the drain is connected to the transparent anode 61.
【0029】しかしながら、本実施形態では、隣接する
2つの画素1a、1bにおいて陽極61の形成位置が互
いに異なっている。すなわち、画素1aにおける陽極6
1の配置は図10と同一であるが、画素1aに隣接する
画素1bにおいては、陽極61は画素1b内において画
素1a側に近接して形成される。そして、画素1bのス
イッチング素子、すなわち薄膜トランジスタ13と補助
容量70と薄膜トランジスタ42は、画素1b内におい
て画素1aから離れた側に形成されて陽極61に接続さ
れる。したがって、画素1aの陽極61と画素1bの陽
極61は対向配置され、画素1aのスイッチング素子と
画素1bのスイッチング素子で画素1aの陽極61と画
素1bの陽極61を挟むような配置となる。より詳しく
は、画素1aにおけるスイッチング素子と陽極61の配
置と、画素1bにおけるスイッチング素子と陽極61の
配置は、図中一点鎖線(画素の境界)を中心として線対
称の関係にある。2つの陽極61間にはスイッチング素
子は介在していない。However, in the present embodiment, the formation position of the anode 61 is different between two adjacent pixels 1a and 1b. That is, the anode 6 in the pixel 1a
The arrangement of 1 is the same as that of FIG. 10, but in the pixel 1b adjacent to the pixel 1a, the anode 61 is formed in the pixel 1b and close to the pixel 1a side. The switching elements of the pixel 1b, that is, the thin film transistor 13, the auxiliary capacitor 70, and the thin film transistor 42 are formed on the side of the pixel 1b remote from the pixel 1a and connected to the anode 61. Therefore, the anode 61 of the pixel 1a and the anode 61 of the pixel 1b are arranged to face each other, and the switching element of the pixel 1a and the switching element of the pixel 1b sandwich the anode 61 of the pixel 1a and the anode 61 of the pixel 1b. More specifically, the arrangement of the switching element and the anode 61 in the pixel 1a and the arrangement of the switching element and the anode 61 in the pixel 1b are in line symmetry with respect to a dashed line (boundary of the pixel) in the drawing. No switching element is interposed between the two anodes 61.
【0030】図3には、従来の隣接する2つの画素1
a、1bの配置が示されている。従来の画素1a、1b
はともにスイッチング素子と陽極61が同一の配置であ
り、画素1bに着目するとスイッチング素子が画素1b
内において画素1a側に存在し、陽極61が画素1aか
ら離れた側にある。そして、画素1aの陽極61と画素
1bの陽極61との間には画素1bの陽極61に接続さ
れるスイッチング素子が介在している。本実施形態と従
来における陽極61及びスイッチング素子の相違は明ら
かであろう。FIG. 3 shows a conventional two adjacent pixels 1.
The arrangement of a and 1b is shown. Conventional pixels 1a, 1b
Both have the same arrangement of the switching element and the anode 61. Focusing on the pixel 1b, the switching element is the pixel 1b.
And the anode 61 is on the side far from the pixel 1a. A switching element connected to the anode 61 of the pixel 1b is interposed between the anode 61 of the pixel 1a and the anode 61 of the pixel 1b. The difference between the present embodiment and the conventional anode 61 and switching element will be apparent.
【0031】このように、本実施形態では、隣接する2
つの画素1a、1bにおいて陽極61同士が近接して配
置され、陽極61に電圧を印加するそれぞれのスイッチ
ング素子が陽極61の両端に配置されている。したがっ
て、本実施形態においては、隣接する2つの陽極61同
士を従来以上に近接して配置することができ、近接配置
した2つの陽極61上に共通に有機発光層63を形成す
ることができる。なお、近接配置された2つの陽極61
間には陽極は存在していないため、有機発光層63が形
成されても発光せず、画素毎に発光する点に変わりはな
い。As described above, in the present embodiment, two adjacent
In each of the pixels 1a and 1b, the anodes 61 are arranged close to each other, and respective switching elements for applying a voltage to the anodes 61 are arranged at both ends of the anode 61. Therefore, in the present embodiment, two adjacent anodes 61 can be arranged closer to each other than before, and the organic light emitting layer 63 can be formed in common on the two anodes 61 arranged close to each other. In addition, two anodes 61 arranged in close proximity
Since there is no anode between them, no light is emitted even when the organic light emitting layer 63 is formed, and the light remains emitted for each pixel.
【0032】図4には、本実施形態及び従来における画
素の陽極配列と開口部2aとの関係が示されている。図
4(a)は従来の関係であり、図4(b)は本実施形態
の関係である。従来においては、図3に示されるように
隣接する2つの画素1a、1bにおける陽極61は互い
に離間してその間にスイッチング素子が介在しているた
め、各陽極61上に有機発光層63を形成すべく開口部
2aの間隔(非開口部長)をdとしているが、本実施形
態では隣接する2つの画素1a、1bにおいて陽極61
同士が対向配置(あるいは近接配置)されているため、
一つの開口部2aで2つの陽極61上に同時に有機発光
層63を形成することができる。そして、隣接する2つ
の画素1a、1bを1組とし、隣接する組同士の距離は
従来以上に増大することになるから(図中矢印を参
照)、結局、本実施形態における開口部2a間の長さD
は、従来の開口部2a間の長さdよりも増大することに
なる。これにより、本実施形態のマスク2は従来のマス
ク2よりも強度が大きくなる。また、隣接する2つの画
素1a、1bの2つの陽極61に対して同一開口部2a
で有機発光層63を共通形成するため、マスク2の開口
部端の数が半減し、シャドウイングによる膜厚減少を防
いで有機発光層63の膜厚を均一化できる。したがっ
て、陽極61と陰極66に挟まれた領域において電流強
度も均一化されるため発光層の劣化も防止でき、また発
光面積を確保できる。FIG. 4 shows the relationship between the arrangement of the anodes of the pixels and the openings 2a in the present embodiment and the related art. FIG. 4A shows a conventional relationship, and FIG. 4B shows a relationship of the present embodiment. Conventionally, as shown in FIG. 3, since the anodes 61 of two adjacent pixels 1a and 1b are separated from each other and a switching element is interposed therebetween, an organic light emitting layer 63 is formed on each anode 61. The distance between the openings 2a (the length of the non-opening) is set to d, but in the present embodiment, the anode 61 is disposed between two adjacent pixels 1a and 1b.
Because they are opposed to each other (or close to each other),
The organic light emitting layer 63 can be simultaneously formed on the two anodes 61 with one opening 2a. Then, two adjacent pixels 1a and 1b are set as one set, and the distance between the adjacent sets is larger than before (see the arrow in the drawing). Length D
Is larger than the conventional length d between the openings 2a. Thus, the strength of the mask 2 of the present embodiment is higher than that of the conventional mask 2. In addition, the same opening 2a is provided for two anodes 61 of two adjacent pixels 1a and 1b.
Since the organic light-emitting layer 63 is formed in common, the number of openings at the ends of the mask 2 is halved, and the thickness of the organic light-emitting layer 63 can be made uniform by preventing a decrease in film thickness due to shadowing. Therefore, the current intensity in the region between the anode 61 and the cathode 66 is also uniform, so that the deterioration of the light emitting layer can be prevented and the light emitting area can be secured.
【0033】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明はこれに限定されるものではなく、種々の変
更が可能である。Although the embodiment of the present invention has been described above, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made.
【0034】例えば、本実施形態では同色画素が列方向
に直線的に配置される場合について説明したが、同色画
素がジグザグ状に配置される例えばデルタ配列の場合に
ついても同様に適用することができる。以下、ジグザグ
配置の場合について説明する。For example, in this embodiment, the case where the same color pixels are arranged linearly in the column direction has been described. However, the present invention can be similarly applied to the case where the same color pixels are arranged in a zigzag shape, for example, in a delta arrangement. . Hereinafter, the case of the zigzag arrangement will be described.
【0035】図5には、ジグザグ配置において有機発光
層63を形成するための本実施形態のマスク2が示され
ている。なお、図6には比較のためジグザグ配置におけ
る従来のマスク2が示されている。図6に示されるよう
に、従来においてはジグザグ状の同色画素配置に対応し
て開口部も列方向にジグザグ状に形成されている。各開
口部を通過した有機EL材がジグザグ配置された同色画
素の陽極61上に形成される。このマスク2の開口部間
の長さdは図12と同様に小さく、マスク2の強度も小
さい。FIG. 5 shows the mask 2 of the present embodiment for forming the organic light emitting layer 63 in a zigzag arrangement. FIG. 6 shows a conventional mask 2 in a zigzag arrangement for comparison. As shown in FIG. 6, conventionally, the openings are also formed in a zigzag manner in the column direction corresponding to the zigzag pixel arrangement of the same color. The organic EL material that has passed through each opening is formed on the anodes 61 of the same color pixels arranged in a zigzag pattern. The length d between the openings of the mask 2 is small as in FIG. 12, and the strength of the mask 2 is also small.
【0036】一方、図5に示される本実施形態のマスク
2では、ジグザグ方向に隣接する2つの画素間で有機発
光層63が共通化されるため、隣接する2つの画素に対
応する開口部も共通化され、細長い一つの開口部とな
る。これにより、図4と同様の原理で、開口部間の距離
Dを従来の長さd以上に確保することができ、マスク2
の強度を増大させることができる。なお、図5において
は、マスク2の開口部はジグザグ上ではなく一方向に斜
めに形成されているが、これは隣接する2つの画素の陽
極同士を互いに対向配置させたことによるものであり、
その詳細については後述する。On the other hand, in the mask 2 of the present embodiment shown in FIG. 5, since the organic light emitting layer 63 is shared between two pixels adjacent in the zigzag direction, the openings corresponding to the two adjacent pixels are also provided. It becomes common and becomes one elongated opening. Thereby, the distance D between the openings can be secured to be equal to or longer than the conventional length d on the basis of the same principle as in FIG.
Can be increased in strength. In FIG. 5, the opening of the mask 2 is formed not in zigzag but in one direction but obliquely. This is because the anodes of two adjacent pixels are arranged to face each other.
The details will be described later.
【0037】図7には、本実施形態におけるジグザグ状
に配置された隣接する2つの画素1a、1bの平面図が
示されている。画素1aはスイッチング素子(薄膜トラ
ンジスタ13、42及び補助容量70)及び陽極61を
有し、画素1bについても同様である。薄膜トランジス
タ13とデータライン52及びゲートライン51との接
続関係、薄膜トランジスタ42と電源ライン53及び陽
極61との接続関係は上述した実施形態と同様であるた
め、図では薄膜トランジスタ13及び42を簡易的にF
ET記号で示している。画素1aの陽極61及び画素1
bの陽極61はともに斜めに形成されており、画素1b
に着目すると、画素1bの陽極61は画素1b内におい
て画素1aの側に配置されて画素1aの陽極61と対向
配置される。また、画素1aと1bの各陽極61は画素
1aと1bの境界部であって各陽極61の対向部の中心
を中心軸として点対称になっている。さらに、両陽極6
1の間に画素1aあるいは画素1bのスイッチング素子
は介在していない。このように、隣接する2つの画素1
aと1bの陽極61同士が対向して近接配置されている
ため、斜め方向の開口部を有するマスク2を用いて有機
発光層63を一体的に形成することができる。そして、
隣接する2つの画素を組とし、隣接する組についても図
7と同様に2つの陽極61が対向配置されて斜めに存在
するため、図5に示されるようなマスク2で有機発光層
63を形成することができる。FIG. 7 is a plan view of two adjacent pixels 1a and 1b arranged in a zigzag pattern in the present embodiment. The pixel 1a has switching elements (thin film transistors 13, 42 and an auxiliary capacitor 70) and an anode 61, and the same applies to the pixel 1b. The connection relationship between the thin film transistor 13 and the data line 52 and the gate line 51 and the connection relationship between the thin film transistor 42 and the power supply line 53 and the anode 61 are the same as those in the above-described embodiment.
This is indicated by the ET symbol. The anode 61 of the pixel 1a and the pixel 1
The anode 61 of the pixel 1b is formed diagonally.
Focusing on, the anode 61 of the pixel 1b is arranged on the side of the pixel 1a in the pixel 1b and is arranged to face the anode 61 of the pixel 1a. The anodes 61 of the pixels 1a and 1b are point-symmetric with respect to the center of the center of the facing part of the anodes 61 at the boundary between the pixels 1a and 1b. Furthermore, both anodes 6
1, no switching element of the pixel 1a or the pixel 1b is interposed. Thus, two adjacent pixels 1
Since the anodes 61 of a and 1b are arranged so as to face each other and are close to each other, the organic light emitting layer 63 can be integrally formed using the mask 2 having an oblique opening. And
As shown in FIG. 7, the two adjacent anodes 61 are arranged opposite to each other and formed diagonally, and the organic light emitting layer 63 is formed with the mask 2 as shown in FIG. can do.
【0038】一方、図8には、従来におけるジグザグ状
に配置された隣接する2つの画素1a、1bの平面図が
示されている。画素1a及び1bはともにスイッチング
素子及び陽極61を有し、画素1bに着目すると陽極6
1は画素1b内において画素1aから離れた側にある。
そして、画素1aの陽極61と画素1bの陽極61間に
は画素1bのスイッチング素子が介在している。陽極6
1が離間して配置されており、その間にスイッチング素
子も介在しているため、陽極61上に有機発光層63を
形成するために図6に示されるようなマスク2が必要と
なる。On the other hand, FIG. 8 shows a plan view of two adjacent pixels 1a and 1b arranged in a conventional zigzag pattern. Each of the pixels 1a and 1b has a switching element and an anode 61.
Numeral 1 is on the side of the pixel 1b remote from the pixel 1a.
The switching element of the pixel 1b is interposed between the anode 61 of the pixel 1a and the anode 61 of the pixel 1b. Anode 6
1 are spaced apart and a switching element is interposed therebetween, so that a mask 2 as shown in FIG. 6 is required to form the organic light emitting layer 63 on the anode 61.
【0039】図7と図8とを対比することで、本実施形
態では陽極61同士が近接して対向配置されているた
め、隣接する2つの画素を1組として隣接する組同士の
距離を従来よりも大きくとれ、したがって図5における
マスク2の開口部間の長さDが従来のdより増大するこ
とが理解されよう。これにより、図5におけるマスク強
度が図6におけるマスク強度よりも増大する。従って、
マスクの厚みを50μm程度に薄くすることができる。
また、本実施形態においても、隣接する2つの画素1
a、1bで有機発光層63が共通化されるため、マスク
2の開口部端の数が半減し、シャドウイングが抑制され
て有機発光層の膜厚が均一化される。By comparing FIG. 7 with FIG. 8, in this embodiment, since the anodes 61 are arranged close to each other and opposed to each other, the distance between the adjacent pairs is set to the conventional value by using two adjacent pixels as one set. It can be understood that the length D between the openings of the mask 2 in FIG. 5 is larger than the conventional length d. Thereby, the mask strength in FIG. 5 becomes larger than the mask strength in FIG. Therefore,
The thickness of the mask can be reduced to about 50 μm.
Also in this embodiment, two adjacent pixels 1
Since the organic light emitting layer 63 is shared by a and 1b, the number of opening ends of the mask 2 is reduced by half, shadowing is suppressed, and the film thickness of the organic light emitting layer is made uniform.
【0040】なお、本実施形態では蒸着により有機発光
層63を形成する場合について説明したが、インクジェ
ット法により形成する場合でも同様に図1に示されたマ
スク2(この場合にはインクを限定領域に滴下するため
の枠として機能する)を用いて有機発光層63を共通化
することができる。In this embodiment, the case where the organic light emitting layer 63 is formed by vapor deposition has been described. However, even when the organic light emitting layer 63 is formed by the ink jet method, the mask 2 shown in FIG. Which functions as a frame for dropping the organic light-emitting layer).
【0041】また、一枚の大型基板に同時に複数のパネ
ルを形成する多面取りの場合、各パネル毎に図1あるい
は図5に示すマスク2を用いることができる。In the case of multi-panel formation in which a plurality of panels are simultaneously formed on one large substrate, the mask 2 shown in FIG. 1 or FIG. 5 can be used for each panel.
【0042】[0042]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
発光層形成用のマスク強度を増大させることができる。As described above, according to the present invention,
The strength of the mask for forming the light emitting layer can be increased.
【0043】また、本発明によれば、発光層の膜厚を均
一化でき、これにより有効発光面積を増大させることが
できる。Further, according to the present invention, the thickness of the light emitting layer can be made uniform, thereby increasing the effective light emitting area.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】 実施形態のマスク平面図である。FIG. 1 is a plan view of a mask according to an embodiment.
【図2】 実施形態の画素平面図である。FIG. 2 is a plan view of a pixel according to the embodiment.
【図3】 従来の画素平面図である。FIG. 3 is a plan view of a conventional pixel.
【図4】 実施形態の画素配置と開口部との関係を示す
説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating a relationship between a pixel arrangement and an opening according to the embodiment.
【図5】 他の実施形態のマスク平面図である。FIG. 5 is a plan view of a mask according to another embodiment.
【図6】 従来のマスク平面図である。FIG. 6 is a plan view of a conventional mask.
【図7】 他の実施形態の画素平面図である。FIG. 7 is a plan view of a pixel according to another embodiment.
【図8】 従来の画素平面図である。FIG. 8 is a plan view of a conventional pixel.
【図9】 画素配置説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram of a pixel arrangement.
【図10】 従来の画素平面図である。FIG. 10 is a plan view of a conventional pixel.
【図11】 図10のA−A断面図(a)及びB−B断
面図(b)である。11 is a sectional view taken along line AA of FIG. 10 and a sectional view taken along line BB of FIG.
【図12】 従来のマスク平面図である。FIG. 12 is a plan view of a conventional mask.
1a、1b 画素、2 マスク、61 陽極、63 有
機発光層。1a, 1b pixel, 2 mask, 61 anode, 63 organic light emitting layer.
フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB02 AB04 AB17 AB18 BA06 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5C094 AA03 AA08 AA10 AA43 AA48 AA55 BA03 BA12 BA27 CA19 CA20 CA24 DA13 DB04 EA04 EA05 EA07 EB02 FA01 FB01 GB10 Continued on the front page F term (reference) 3K007 AB02 AB04 AB17 AB18 BA06 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 5C094 AA03 AA08 AA10 AA43 AA48 AA55 BA03 BA12 BA27 CA19 CA20 CA24 DA13 DB04 EA04 EA05 EA07 EB02 FA01 FB01 GB10
Claims (11)
た発光層とを有する画素を複数個配置して構成される半
導体装置であって、 前記第1電極は、前記画素毎に設けられ、 前記発光層は、複数の前記画素のうち隣接する2つの画
素で共通化され、 前記隣接する2つの画素の前記第1電極は、前記画素内
において互いに隣接する他の画素の側に配置されること
を特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device configured by arranging a plurality of pixels each having a light emitting layer provided between a first electrode and a second electrode, wherein the first electrode is provided for each of the pixels. Wherein the light emitting layer is shared by two adjacent pixels of the plurality of pixels, and the first electrodes of the two adjacent pixels are located on the side of another pixel adjacent to each other in the pixel. A semiconductor device characterized by being arranged.
あって、 前記発光層は、複数の前記画素のうち隣接する2つの画
素で共通化され、 前記隣接する2つの画素の前記第1電極は、平面位置に
おいて前記スイッチング素子を介在させずに互いに対向
配置されることを特徴とする半導体装置。2. A plurality of pixels each comprising: a first electrode and a second electrode; a switching element connected to the first electrode; and a light emitting layer provided between the first electrode and the second electrode. In the semiconductor device configured and arranged, the light emitting layer is shared by two adjacent pixels among a plurality of the pixels, and the first electrodes of the two adjacent pixels are arranged in a planar position. A semiconductor device characterized by being arranged opposite to each other without a switching element.
面位置において前記対向配置された前記第1電極を挟む
ように前記第1電極の両端部にそれぞれ配置されること
を特徴とする半導体装置。3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the switching elements of the two adjacent pixels sandwich both ends of the first electrode so as to sandwich the opposed first electrode in a planar position. A semiconductor device, wherein the semiconductor device is arranged in a semiconductor device.
グ素子は、前記対向配置の軸を中心として線対称に配置
されることを特徴とする半導体装置。4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the first electrodes and the switching elements of the two adjacent pixels are arranged symmetrically with respect to the axis of the opposed arrangement. Semiconductor device.
装置において、 前記隣接する2つの画素は、同色であることを特徴とす
る半導体装置。5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the two adjacent pixels have the same color.
化されることを特徴とする半導体装置。6. The semiconductor device according to claim 5, wherein the pixels of the same color are arranged adjacently in a column, and the light emitting layer is shared by two adjacent pixels in the column. Characteristic semiconductor device.
対称に配置されることを特徴とする半導体装置。7. The semiconductor device according to claim 5, wherein the first electrodes are arranged point-symmetrically about a center axis of the opposed arrangement.
で共通化されることを特徴とする半導体装置。8. The semiconductor device according to claim 5, wherein the pixels of the same color are arranged in a zigzag pattern, and the light emitting layer is shared between two adjacent pixels in the zigzag pattern. Semiconductor device.
装置において、 前記同色の画素は、R画素、G画素、B画素の少なくと
もいずれかであることを特徴とする半導体装置。9. The semiconductor device according to claim 5, wherein said pixels of the same color are at least one of an R pixel, a G pixel, and a B pixel.
体装置において、 前記発光層は、有機エレクトロルミネセンス材を含むこ
とを特徴とする半導体装置。10. The semiconductor device according to claim 1, wherein the light emitting layer includes an organic electroluminescent material.
導体装置を製造するための前記発光層形成用マスクであ
って、 前記隣接する2つの画素間で共通する開口部を有し、 前記開口部により前記発光層の材料を通過させて前記発
光層を形成することを特徴とするマスク。11. The light emitting layer forming mask for manufacturing the semiconductor device according to claim 1, wherein the mask has an opening common to the two adjacent pixels. A mask, wherein a material of the light emitting layer is passed through an opening to form the light emitting layer.
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