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JP2002299041A - Film substrate and organic EL element used for organic EL device - Google Patents

Film substrate and organic EL element used for organic EL device

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Publication number
JP2002299041A
JP2002299041A JP2001097952A JP2001097952A JP2002299041A JP 2002299041 A JP2002299041 A JP 2002299041A JP 2001097952 A JP2001097952 A JP 2001097952A JP 2001097952 A JP2001097952 A JP 2001097952A JP 2002299041 A JP2002299041 A JP 2002299041A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
film
base material
gas barrier
glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001097952A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoji Oishi
知司 大石
Daigoro Kamoto
大五郎 嘉本
Kozo Sakamoto
耕三 坂元
Takumi Ueno
巧 上野
Sukekazu Araya
介和 荒谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2001097952A priority Critical patent/JP2002299041A/en
Publication of JP2002299041A publication Critical patent/JP2002299041A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H10K50/00Organic light-emitting devices
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  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】有機EL素子を表示装置として製品化する際に
必要な封止材には高いガスバリア性が要求される。しか
しながら従来のガスバリア性有機ポリマーや無機材料蒸
着膜はガスバリア性が不十分であり、有機EL装置に用
いるフィルムとして利用できない。 【解決手段】ガスバリア性能の非常に良好な極めて薄い
ガラスを有機樹脂,フィルムで補強したフィルム状基材
をパッシベーション用封止材として用いる。 【効果】酸素及び水蒸気バリヤ性に優れた透明なパッシ
ベーション用フィルム状基材が得られる。これにより得
られるパッシベーション用フィルム状基材は、有機EL
装置の耐劣化用保護膜として利用することができる。
(57) [Summary] A sealing material required for commercializing an organic EL element as a display device requires a high gas barrier property. However, conventional gas barrier organic polymers and inorganic material vapor-deposited films have insufficient gas barrier properties and cannot be used as films for use in organic EL devices. A film-like base material obtained by reinforcing extremely thin glass having very good gas barrier performance with an organic resin and a film is used as a sealing material for passivation. [Effect] A transparent base material for passivation having excellent oxygen and water vapor barrier properties can be obtained. The film-like base material for passivation obtained by this is an organic EL
It can be used as a protective film for deterioration resistance of the device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機EL装置の耐
劣化に有効なガスバリア性を有する有機EL装置に用い
るフィルム及びそれを用いた有機EL素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film used for an organic EL device having a gas barrier property effective for deterioration resistance of the organic EL device, and an organic EL element using the film.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロルミネッセンス(EL)素子
とは、固体蛍光性物質の電界発光またはEL発光と言わ
れる現象を利用した発光デバイスであり、現在無機系材
料を発光体として用いた無機EL素子が実用化され、液
晶ディスプレイのバックライトやフラットディスプレイ
等への応用展開が図られている。現在では、簡素な行程
で低コストで作製が可能と期待されている有機EL素子
の実用化を目指した研究が盛んに行われている。
2. Description of the Related Art An electroluminescent (EL) element is a light emitting device utilizing a phenomenon called electroluminescence or EL emission of a solid fluorescent substance, and an inorganic EL element using an inorganic material as a light emitter at present. It has been put to practical use, and is being applied to liquid crystal display backlights and flat displays. At present, researches for practical use of organic EL elements, which are expected to be able to be manufactured at a low cost with a simple process, are being actively conducted.

【0003】ところが有機EL素子に使用される発光層
や正孔輸送層等の有機固体は一般に水分や酸素に弱く、
素子内に存在する水分や酸素により、ダークスポットの
成長や輝度の低下を招く。従って有機EL素子の信頼性
を保証するためには、有機材料や電極材料への水分及び
酸素の進入を阻止すべく、素子を封止しなければならな
い。
However, organic solids such as a light emitting layer and a hole transport layer used in an organic EL device are generally susceptible to moisture and oxygen.
Moisture and oxygen present in the device cause dark spots to grow and lower the luminance. Therefore, in order to guarantee the reliability of the organic EL element, the element must be sealed in order to prevent moisture and oxygen from entering the organic material and the electrode material.

【0004】有機EL素子の封止方法についてはこれま
でに多数の提案がなされてきた。現在既に実用化されて
いる方法としては、有機EL素子を吸湿材と共に金属封
止する方法、背面電極の外側にガラス板を設けて背面電
極とガラス板の間にシリコーンオイルを封入する方法な
どがある。また、ガスバリア性に優れた有機フィルムや
無機酸化物蒸着膜を有するフィルムで有機EL素子を封
止する方法も多く提案されている。
[0004] A number of proposals have been made on a method of sealing an organic EL element. Methods that have already been put to practical use include a method of metal-sealing the organic EL element together with a moisture absorbing material, a method of providing a glass plate outside the back electrode, and sealing silicone oil between the back electrode and the glass plate. In addition, many methods for sealing an organic EL element with an organic film having excellent gas barrier properties or a film having an inorganic oxide vapor-deposited film have been proposed.

【0005】有機EL素子を封止するフィルムとして
は、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)等
の有機薄膜や、真空蒸着法,スパッタリング法,イオン
プレーティング法等の物理気相成長法(PVD法)や、
プラズマ化学気相成長法,熱化学気相成長法,光化学気
相成長法等の化学気相成長法(CVD法)を利用して、
プラスチック基材上にSiO2 ,Al23,MgO等の
無機酸化物膜を形成した、透明なガスバリア性フィルム
が候補とされている。
As a film for sealing the organic EL element, an organic thin film such as polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) or a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method. And
Using chemical vapor deposition (CVD) methods such as plasma chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, and photochemical vapor deposition,
A transparent gas barrier film in which an inorganic oxide film such as SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO or the like is formed on a plastic substrate has been proposed as a candidate.

【0006】一般の食品包装用として使用されてている
汎用的な有機ポリマーの酸素透過度は数10から数10
0cc/m2day、水蒸気透過度は数10から数100g/
2day であり、ポリクロロトリフルオロエチレン(P
CTFE)等、特にバリア性を強化した分子構造を有す
る有機ポリマーの酸素透過度は数cc/m2day、水蒸気透
過度は数g/m2dayである。
The oxygen permeability of general-purpose organic polymers used for general food packaging is from several tens to several tens.
0 cc / m 2 day, water vapor permeability from several tens to several hundreds g /
m 2 day, polychlorotrifluoroethylene (P
An organic polymer having a molecular structure with enhanced barrier properties, such as CTFE), has an oxygen permeability of several cc / m 2 days and a water vapor permeability of several g / m 2 days.

【0007】一方、PVD法やCVD法を利用して、プ
ラスチック基材上にSiO2 ,Al23,MgO等の無
機酸化物膜を形成したガスバリア性フィルムは緻密であ
り、例えば厚さ30μmPET基材上に蒸着された厚さ
5μmのSiOx膜の酸素透過性は、良好な膜では1cc
/m2day、水蒸気透過性は1g/m2day程度である。特
開平11−80934号ではプラスチック基材表面に蒸
着したAl23膜表面を酸素ガスでプラズマ処理した後
に水酸基を導入することにより、簡素な行程で酸化アル
ミニウムと水酸化アルミニウムの複合薄膜を設け、酸素
透過度1.2cc/m2/day、水蒸気透過度2.0g/m2/d
ay を実現している。特開平11−332979号では
PET基材表面を酸素ガスでプラズマ処理した後に無機
酸化物の蒸着膜を形成したフィルムにより、酸素透過度
0.9cc/m2/day ,水蒸気透過度0.8g/m2/day
を実現している。
On the other hand, a gas barrier film in which an inorganic oxide film such as SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO or the like is formed on a plastic substrate by using a PVD method or a CVD method is dense, for example, having a thickness of 30 μm PET. The oxygen permeability of a 5 μm thick SiOx film deposited on a substrate is 1 cc for a good film.
/ M 2 day, and the water vapor permeability is about 1 g / m 2 day. In JP-A-11-80934, a composite thin film of aluminum oxide and aluminum hydroxide is provided in a simple process by introducing a hydroxyl group after plasma-treating the surface of an Al 2 O 3 film deposited on the surface of a plastic substrate with oxygen gas. , Oxygen permeability 1.2 cc / m 2 / day, water vapor permeability 2.0 g / m 2 / d
ay. In Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-332979, an oxygen permeability of 0.9 cc / m 2 / day and a water vapor permeability of 0.8 g / day are obtained by forming a film of an inorganic oxide vapor deposition film after subjecting a PET substrate surface to a plasma treatment with oxygen gas. m 2 / day
Has been realized.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】有機EL素子を表示装
置として製品化する際に必要とされる封止材には、透明
性と同時に、従来の食品包装用のものと比較して格段に
高いガスバリア性が要求される。しかしながら上述した
ガスバリア性有機フィルムや無機蒸着膜に関しては、い
ずれの報告例でも有機ELの封止用として有効なガスバ
リア性は実現されていない。公知のガスバリア性フィル
ムの厚みを厚くすることにより、有機EL素子封止に十
分なガスバリア性を実現するためには、膜厚を10cm程
度にする必要がある。無機材料蒸着膜のガス透過性もま
た膜厚の増加に伴い減少するが、膜厚が100nm以上
になるとガス透過性は一定値となりそれ以上減少しなく
なるため、無機材料蒸着膜を厚くすることにより有機E
L素子封止に十分なガスバリア性を実現することもまた
困難である。従って単に膜厚を厚くする方法により、従
来のガスバリア性有機ポリマーや無機材料蒸着膜を有機
EL装置に用いる膜として利用することはできない。
The sealing material required for commercializing an organic EL element as a display device is not only highly transparent but also much higher than that for conventional food packaging. Gas barrier properties are required. However, with respect to the above-mentioned gas barrier organic films and inorganic vapor-deposited films, no effective gas barrier properties for sealing organic EL have been realized in any of the reported examples. In order to realize a sufficient gas barrier property for encapsulating an organic EL device by increasing the thickness of a known gas barrier film, the film thickness needs to be about 10 cm. The gas permeability of the inorganic material-deposited film also decreases with an increase in the film thickness. However, when the film thickness exceeds 100 nm, the gas permeability becomes a constant value and does not decrease any more. Organic E
It is also difficult to achieve sufficient gas barrier properties for L element sealing. Therefore, a conventional gas barrier organic polymer or inorganic material vapor-deposited film cannot be used as a film used in an organic EL device by simply increasing the film thickness.

【0009】また有機EL素子の封止方法についても様
々な提案がなされているが、素子の軽量化,薄型化に関
して未だに有効な封止方法は確立されていない。
Although various proposals have been made for a method of sealing an organic EL device, no effective sealing method has yet been established for reducing the weight and thickness of the device.

【0010】本発明の目的は、有機EL素子の保護に十
分なガスバリヤ性を有する有機EL装置に用いるフィル
ム及びそれを用いた有機EL素子構造を提供することで
ある。
An object of the present invention is to provide a film used in an organic EL device having a gas barrier property sufficient for protecting the organic EL device and an organic EL device structure using the film.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、極めて薄いガラスが非
常に高いガスバリア性能を有し、またこれを有機樹脂あ
るいは有機フィルムによりサンドイッチ型に補強したも
のがガラスの脆さを補い、可とう性を持ち、かつ強度も
非常に強くなることを見出し、ガスバリア性と強度の両
者の両立したフィルム状の基材を開発し、本発明に至っ
たものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that extremely thin glass has a very high gas barrier performance, and that the glass is sandwiched by an organic resin or an organic film. Found that the glass reinforced material complements the brittleness of the glass, has flexibility, and has a very strong strength, and develops a film-like base material that has both gas barrier properties and strength. It has been reached.

【0012】この発明は以下のようにして実現が可能な
ものとなる。すなわち、有機樹脂部と無機ガラス部を有
する有機無機ハイブリッド材料から成る有機EL装置に
用いるフィルム状基材であって、該フィルムはガラス基
材が有機樹脂基材で挟まれた構造を有する事を特徴とす
る有機EL装置に用いるフィルム状基材を作製したもの
である。また、有機樹脂部と無機ガラス部を有する有機
無機ハイブリッド材料から成る有機EL装置に用いるフ
ィルム状基材であって、該フィルムはガラス基材が厚さ
400ミクロン以下である事を特徴とする有機EL装置
に用いるフィルム状基材を作製したものである。また、
有機樹脂部と無機ガラス部を有する有機無機ハイブリッ
ド材料から成る有機EL装置に用いるフィルム状基材で
あって、該フィルムはガラス基材を挟む有機樹脂が厚さ
500ミクロン以下である事を特徴とする有機EL装置
に用いるフィルム状基材を作製したものである。また、
有機樹脂部と無機ガラス部を有する有機無機ハイブリッ
ド材料から成る有機EL装置に用いるフィルム状基材で
あって、該フィルムは透明であり、透過率が70%以上
である事を特徴とする有機EL装置に用いるフィルム状
基材を作製したものである。また、上記のようにして作
製した有機EL装置に用いるフィルムを用い、熱ラミネ
ート法または接着剤により片面または両面から封止した
構造を有する有機EL素子を作製したものである。ま
た、作製した有機EL装置に用いるフィルムを用い、熱
ラミネート法または接着剤により片面または両面から封
止し、対向基板レス構造を有する有機EL素子を作製し
たものである。
The present invention can be realized as follows. That is, it is a film-like base material used for an organic EL device composed of an organic-inorganic hybrid material having an organic resin part and an inorganic glass part, and the film has a structure in which a glass base material is sandwiched between organic resin base materials. A film-shaped base material used for a characteristic organic EL device is produced. An organic EL device comprising an organic-inorganic hybrid material having an organic resin portion and an inorganic glass portion, wherein the film substrate has a thickness of 400 μm or less. This is a film-shaped substrate used for an EL device. Also,
A film-like base material used for an organic EL device comprising an organic-inorganic hybrid material having an organic resin part and an inorganic glass part, wherein the film has an organic resin sandwiching the glass base material having a thickness of 500 microns or less. A film-shaped substrate used for an organic EL device to be manufactured is produced. Also,
An organic EL device comprising an organic EL device comprising an organic-inorganic hybrid material having an organic resin portion and an inorganic glass portion, wherein the film is transparent and has a transmittance of 70% or more. This is a film-shaped substrate used for the apparatus. In addition, an organic EL device having a structure in which the film used for the organic EL device manufactured as described above is sealed from one surface or both surfaces by a heat laminating method or an adhesive is manufactured. In addition, an organic EL element having a structure without an opposing substrate was manufactured by using a film used for the manufactured organic EL device and sealing it from one side or both sides by a heat laminating method or an adhesive.

【0013】本発明のフィルムは、極めて薄い厚さ40
0ミクロン以下のガラスを使用する。ガラスは一般的に
知られているように有機高分子などに比べ、化学結合が
強く、また凝集エネルギー密度、自由体積分率も小さい
ためガスバリア性能が非常に良好である。また、透明性
が非常に高いため、光学的な用途には最適である。しか
し、無機物質なため、非常にもろいことが最大の欠点で
ある。ガラスの厚さを増せば強度は高くなるが、重量が
増加し基材の厚みが増すため、軽薄短小の傾向が非常に
強いディスプレイ装置からは敬遠される。このガスバリ
ア性能は良好だが、非常にもろい厚さ400ミクロン以
下の極薄ガラスを有機樹脂,有機フィルムで挟み補強す
ると可とう性を持たせながら強度を強めることができ
る。また、ガラスが中間に介在しているため、ガスバリ
ア性能は非常に良好であり、水蒸気及び酸素の透過度は
0.01g/m2/day 以下である。これはガスバリア特
性の評価機械の標準機であるMOCON社の装置の検出
限界以下の値である。このフィルム状の基材は、熱ラミ
ネート法による非常に簡便な方法により作製できるた
め、性能の良いフィルム状基材を低コストで提供するこ
とができる。また、このフィルム状基材を用いて作製し
た有機ELは、ガスによる発光体の劣化が無いため長寿
命であり、また従来のように缶封止構造が必要でないた
めに極めて薄くかつ軽量なものが得られる。また、この
フィルム状基材は透明なため、従来の光の取り出し方向
とは逆に対向基板レス構造の実現が容易となり、光の取
り出し効率の非常に良いものが得られ、発行輝度の高い
ものが得られる。
The film of the present invention has an extremely thin thickness of 40.
Use glass less than 0 microns. As is generally known, glass has a very good gas barrier performance because it has a stronger chemical bond and a smaller cohesive energy density and free volume fraction than organic polymers and the like. In addition, because of its extremely high transparency, it is optimal for optical applications. However, since it is an inorganic substance, it is the biggest disadvantage that it is very brittle. Increasing the thickness of the glass increases the strength, but increases the weight and the thickness of the base material, and is therefore avoided from being very light, thin and short. Although this gas barrier performance is good, it is possible to increase the strength while having flexibility by reinforcing a very fragile ultra-thin glass having a thickness of 400 μm or less with an organic resin or an organic film. Further, since the glass is interposed in the middle, the gas barrier performance is very good, and the permeability of water vapor and oxygen is 0.01 g / m 2 / day or less. This value is below the detection limit of the MOCON device, which is a standard gas barrier property evaluation machine. Since this film-shaped substrate can be produced by a very simple method using a heat lamination method, a film-shaped substrate having good performance can be provided at low cost. In addition, the organic EL produced using this film-shaped substrate has a long life because there is no deterioration of the luminous body due to gas, and is extremely thin and lightweight because a can-sealing structure is not required unlike conventional ones. Is obtained. In addition, since this film-shaped base material is transparent, it is easy to realize a structure without an opposing substrate, contrary to the conventional light extraction direction, and a very good light extraction efficiency is obtained, and a high emission luminance is obtained. Is obtained.

【0014】本発明による有機EL装置に用いるフィル
ムを用い、ガスバリア性を有する接着剤や熱ラミネート
法等の方法で有機EL装置を片面または両面から封止す
ることにより、軽量で薄型の有機EL装置を得る。本発
明の有機EL装置に用いるフィルムはガスバリア性が高
い上透明であるので、有機EL装置を対向基板レス構造
にすることも可能である。このような構造により、光の
取り出し効率が良好で、輝度の低下の無い高性能の有機
EL装置を提供したものである。
By using the film used for the organic EL device according to the present invention and sealing the organic EL device from one side or both sides by a method such as an adhesive having a gas barrier property or a heat laminating method, a light and thin organic EL device is obtained. Get. Since the film used for the organic EL device of the present invention has high gas barrier properties and is transparent, the organic EL device can have a structure without an opposing substrate. With such a structure, a high-performance organic EL device having good light extraction efficiency and no reduction in luminance is provided.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を更に
詳細に説明する。 <実施例1>本発明による有機EL装置に用いるフィル
ムを作製するにあたり、以下のような方法により作製し
た。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. <Example 1> A film used for an organic EL device according to the present invention was prepared by the following method.

【0016】厚さ50ミクロンの極薄ガラス(ホウ珪酸
系ガラス;B5版サイズ)を有機フィルムである接着剤
のついたPETフィルム(厚さ30ミクロン;A4版サ
イズ)の間に挟み、熱ロールの間を通し熱ラミネートし
た。この際使用する接着剤はガラス,有機フィルムと光
学的な整合性のとれるものを使用した。これにより全体
厚み110ミクロンと非常に薄いが曲げやひねりなどの
負荷に強いフィルム状基材を得た。この膜の透過率は可
視光領域で80%と非常に高い透明性を有する。図1は
このフィルム状基材の構成と作製法である。図中、1:
有機フィルム(30ミクロン),2:極薄ガラス(50ミ
クロン),3:接着層,4:熱ロールである。このフィ
ルム状基材のガスバリア性能を以下の手法により測定し
た。
An ultra-thin glass (borosilicate glass; B5 size) having a thickness of 50 μm is sandwiched between PET films (thickness: 30 μm; A4 size) with an adhesive as an organic film, and heated with a hot roll. And heat laminated. The adhesive used at this time was one that had optical compatibility with glass and organic films. As a result, a film-like base material having a very thin overall thickness of 110 μm but resistant to loads such as bending and twisting was obtained. This film has a very high transmittance of 80% in the visible light region. FIG. 1 shows the structure and production method of this film-shaped substrate. In the figure, 1:
Organic film (30 microns), 2: ultra-thin glass (50 microns), 3: adhesive layer, 4: hot roll. The gas barrier performance of this film-shaped substrate was measured by the following method.

【0017】(1)酸素透過度の測定 上述のように作製したガスバリア性フィルム状基材を使
用し、温度30℃,湿度90%RHの条件で、米国モコ
ン社(mocon)製の酸素透過度測定装置(Oxtran2/2
0)を使用し、圧力差0.1MPa の条件で酸素透過度
を測定した。装置の測定限界は0.01cc/m2/day で
ある。
(1) Measurement of oxygen permeability Using the gas-barrier film-like substrate prepared as described above, at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 90% RH, an oxygen permeability manufactured by Mocon, USA Measuring device (Oxtran 2/2
0), and the oxygen permeability was measured under the condition of a pressure difference of 0.1 MPa. The measurement limit of the device is 0.01 cc / m 2 / day.

【0018】(2)水蒸気透過度の測定 上述のように作製したガスバリア性フィルム状基材を使
用し、温度30℃,湿度90%RHの条件で、米国モコ
ン社(mocon)製の透湿度測定装置(Permatran2/2
0)を使用し、圧力差0.1MPa の条件で水蒸気透過
度を測定した。装置の測定限界は0.01g/m2/day
である。
(2) Measurement of Water Vapor Permeability Using a gas-barrier film-like substrate prepared as described above, at a temperature of 30 ° C. and a humidity of 90% RH, a moisture permeability measurement made by Mocon, USA Equipment (Permatran 2/2
Using 0), the water vapor permeability was measured under the condition of a pressure difference of 0.1 MPa. The measurement limit of the device is 0.01 g / m 2 / day
It is.

【0019】測定結果を表1に示す。Table 1 shows the measurement results.

【0020】本発明によるガスバリ性フィルム状基材
は、酸素透過度、水蒸気透過度とも測定限界以下の値を
示し、極めて良好なガスバリア性能を有することが明ら
かとなった。表1に測定結果を比較試料のデータととも
に示す。
The gas-barrier film-like substrate according to the present invention exhibited values below the measurement limit in both oxygen permeability and water vapor permeability, and it was revealed that the substrate had extremely good gas barrier performance. Table 1 shows the measurement results together with data of comparative samples.

【0021】PET基材(番号1)及びPET基材に無
機材料蒸着膜(SiOx,ITO)を形成したフィルム
(番号2,3)の酸素透過度及び水蒸気透過度に比べ、
本発明のフィルム状基材(番号4)のガスバリア性が極
めて高いことが示された。
Compared to the oxygen permeability and water vapor permeability of the PET substrate (No. 1) and the films (Nos. 2 and 3) in which the inorganic material vapor-deposited film (SiOx, ITO) is formed on the PET substrate.
It was shown that the film-shaped substrate (No. 4) of the present invention had extremely high gas barrier properties.

【0022】[0022]

【表1】表 1 [Table 1] Table 1

【0023】<実施例2>実施例1で作製した高ガスバ
リア性フィルム状基材を用いて、有機EL素子を作製し
た。本実験で用いた有機EL素子は、図2に示すよう
に、ガラス基板5上にTFTアレイ10,金属カソード
6/有機EL層(緑色)7/ITO電極層8を積層した
ものである。大気圧(0.1MPa)窒素雰囲気中のグロ
ーブボックス内にて、有機EL素子(15mm×20mm)
のITO電極上に、大きさ40mm×50mmに作製したパ
ッシベーション用フィルム状基材9を接着剤にて貼り付
けることにより有機EL素子を封止し、EL素子Aとし
た。同様に表1のフィルム1で封止した有機EL素子を
EL素子Bとし、フィルム2で封止した有機EL素子を
EL素子C,フィルム3で風しした有機EL素子をEL
素子Dとし、比較用EL素子とした。
<Example 2> An organic EL device was produced using the high gas barrier film-like substrate produced in Example 1. As shown in FIG. 2, the organic EL device used in this experiment is a device in which a TFT array 10, a metal cathode 6, an organic EL layer (green) 7, and an ITO electrode layer 8 are laminated on a glass substrate 5. Organic EL device (15 mm x 20 mm) in a glove box in a nitrogen atmosphere at atmospheric pressure (0.1 MPa)
The organic EL element was sealed by bonding a passivation film-like base material 9 having a size of 40 mm × 50 mm onto the ITO electrode with an adhesive to obtain EL element A. Similarly, the organic EL element sealed with film 1 in Table 1 is referred to as EL element B, the organic EL element sealed with film 2 is referred to as EL element C, and the organic EL element sealed with film 3 is referred to as EL.
Element D was used as a comparative EL element.

【0024】これらの有機EL素子を、気温50℃,相
対湿度90%の湿潤空気中に設置し、100V,400
Hzの交流電源に接続し、連続点灯してその輝度を測定
した。実験開始直後の輝度を100%とし、輝度の経時
変化を測定した結果を図3に示す。本発明のパッシベー
ション用フィルム状基材で封止したEL素子Aは、他の
比較用EL素子に比べて、輝度の低下率が小さいことが
確認された。すなわち、本発明品を封止用フィルム材料
として作製した有機EL素子は、非常に信頼度の高い高
性能なものであることが明らかとなった。
These organic EL devices were placed in humid air at a temperature of 50 ° C. and a relative humidity of 90%,
Hz and connected to an AC power supply, and the brightness was measured after continuous lighting. FIG. 3 shows the results of measuring the change over time in luminance with the luminance immediately after the start of the experiment as 100%. It was confirmed that the EL element A sealed with the passivation film-shaped substrate of the present invention had a lower luminance reduction rate than other comparative EL elements. In other words, it was clarified that the organic EL device produced using the product of the present invention as a film material for sealing was a highly reliable and high performance device.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明により、酸素及び水蒸気バリヤ性
に優れた透明なパッシベーション用フィルム状基材が得
られる。これにより得られるパッシベーション用フィル
ム状基材は、有機EL装置の耐劣化用保護膜として利用
することができる。また、高性能,高信頼性の有機EL
製品を提供することができる。
According to the present invention, a transparent base material for passivation having excellent oxygen and water vapor barrier properties can be obtained. The film-like base material for passivation thus obtained can be used as a protection film for deterioration resistance of the organic EL device. In addition, high performance and high reliability organic EL
Products can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】パッシベーション用フィルム状基材の構造例及
び作製法。
FIG. 1 is a structural example of a film-like base material for passivation and a manufacturing method thereof.

【図2】図1に記載のパッシベーション用フィルム状基
材を搭載した有機ELの構造例。
FIG. 2 is a structural example of an organic EL on which the film-form substrate for passivation shown in FIG. 1 is mounted.

【図3】本発明によるフィルムで封止した有機EL素子
の輝度の経時変化。
FIG. 3 shows a change over time in luminance of an organic EL device sealed with a film according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…有機フィルム、2…極薄ガラス、3…接着層、4…
熱ロール、5…ガラス基板、6…金属カソード、7…有
機EL層、8…ITO電極、9…パッシベーション用フ
ィルム状基材、10…TFTアレイ。
1: Organic film, 2: Ultra-thin glass, 3: Adhesive layer, 4:
Heat roll, 5: glass substrate, 6: metal cathode, 7: organic EL layer, 8: ITO electrode, 9: film-like base material for passivation, 10: TFT array.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 坂元 耕三 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 上野 巧 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 荒谷 介和 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 Fターム(参考) 3K007 AB11 AB13 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EA01 EB00 FA02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kozo Sakamoto 7-1-1, Omikacho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Inside Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Takumi Ueno 7-1 Omikamachi, Hitachi City, Ibaraki Prefecture No. 1 Hitachi, Ltd., Hitachi Research Laboratory (72) Inventor, Kazukazu Araya 7-1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture F-term, Hitachi, Ltd. Hitachi Research Laboratory F-term (reference) 3K007 AB11 AB13 AB17 AB18 BA06 CA01 CB01 DA01 DB03 EA01 EB00 FA02

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】有機樹脂部と無機ガラス部を有する有機無
機ハイブリッド材料から成る有機EL装置に用いるフィ
ルム状基材であって、該フィルムはガラス基材が有機樹
脂基材で挟まれた構造を有する事を特徴とする有機EL
装置に用いるフィルム状基材。
1. A film-like base material used for an organic EL device comprising an organic-inorganic hybrid material having an organic resin part and an inorganic glass part, wherein the film has a structure in which a glass base material is sandwiched between organic resin base materials. Organic EL characterized by having
Film-shaped substrate used for equipment.
【請求項2】有機樹脂部と無機ガラス部を有する有機無
機ハイブリッド材料から成る有機EL装置に用いるフィ
ルム状基材であって、該フィルムはガラス基材が厚さ40
0ミクロン以下である事を特徴とする有機EL装置に用
いるフィルム状基材。
2. A film-like substrate for use in an organic EL device comprising an organic-inorganic hybrid material having an organic resin portion and an inorganic glass portion, wherein the film has a thickness of 40 mm.
A film-like base material used for an organic EL device, which has a size of 0 micron or less.
【請求項3】有機樹脂部と無機ガラス部を有する有機無
機ハイブリッド材料から成る有機EL装置に用いるフィ
ルム状基材であって、該フィルムはガラス基材を挟む有
機樹脂が厚さ500ミクロン以下である事を特徴とする
有機EL装置に用いるフィルム状基材。
3. A film-like base material for use in an organic EL device comprising an organic-inorganic hybrid material having an organic resin part and an inorganic glass part, wherein the film has an organic resin sandwiching the glass base material having a thickness of 500 μm or less. A film-like substrate used in an organic EL device, which is characterized in that:
【請求項4】有機樹脂部と無機ガラス部を有する有機無
機ハイブリッド材料から成る有機EL装置に用いるフィ
ルム状基材であって、該フィルムは透明であり、透過率
が70%以上である事を特徴とする有機EL装置に用い
るフィルム状基材。
4. A film-like base material for use in an organic EL device comprising an organic-inorganic hybrid material having an organic resin part and an inorganic glass part, wherein the film is transparent and has a transmittance of 70% or more. Characteristic film-shaped substrate used for organic EL devices.
【請求項5】請求項1から4に記載の有機EL装置に用
いるフィルムを用い、熱ラミネート法または接着剤によ
り片面または両面から封止した構造を有する有機EL素
子。
5. An organic EL device having a structure in which the film used for the organic EL device according to claim 1 is sealed from one side or both sides by a heat laminating method or an adhesive.
【請求項6】請求項1から5に記載の有機EL装置に用
いるフィルムを用い、熱ラミネート法または接着剤によ
り片面または両面から封止し、対向基板レス構造を有す
る有機EL素子。
6. An organic EL device having a structure without an opposing substrate, wherein the film used for the organic EL device according to claim 1 is sealed by one side or both sides by a heat laminating method or an adhesive.
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